KR20220051304A - Composition, method for manufacturing antenna and molded article - Google Patents

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KR20220051304A
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아츠미 야마베
도모야 호소다
와타루 가사이
다카시 사토
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에이지씨 가부시키가이샤
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Abstract

유전 특성 및 접착성이 우수한 기체에 사출 성형 또는 압축 성형할 수 있는 조성물, 이러한 조성물로 성형된 기체를 구비하는 고성능 안테나의 제조 방법, 및 상기 성형물로 성형된 성형품의 제공.
본 발명의 조성물은, 테트라플루오로에틸렌에 기초하는 단위를 함유하는 열용융성의 폴리머를 포함하고, 유전 정접이 0.05 이하인 기체를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용된다. 또, 본 발명의 안테나의 제조 방법은, 상기 조성물을 사용한, 사출 성형에 의한 안테나 패턴을 보유하는 성형부를 구비한 안테나의 제조 방법 또는 압축 성형에 의한 안테나 패턴을 덮는 정합층을 구비한 안테나의 제조 방법이다.
A composition capable of injection molding or compression molding into a substrate having excellent dielectric properties and adhesion, a method for manufacturing a high-performance antenna comprising a substrate molded from the composition, and a molded article molded from the molded product.
The composition of the present invention is used in order to form a gas having a dielectric loss tangent of 0.05 or less by injection molding or compression molding containing a heat-meltable polymer containing units based on tetrafluoroethylene. Further, in the method for manufacturing an antenna of the present invention, the method for manufacturing an antenna having a molding part having an antenna pattern by injection molding using the above composition or manufacturing an antenna with a matching layer covering the antenna pattern by compression molding way.

Description

조성물, 안테나의 제조 방법 및 성형품Composition, method for manufacturing antenna and molded article

본 발명은, 소정의 열용융성의 폴리머를 포함하는 조성물, 그리고 이러한 조성물을 사용한 안테나의 제조 방법 및 성형품에 관한 것이다. The present invention relates to a composition comprising a polymer having a predetermined heat melting property, and to a method for manufacturing an antenna using such a composition and a molded article.

휴대전화, 스마트 폰 등의 휴대 통신 기기의 소형화에 수반하여, 그것에 탑재되는 안테나 (칩 안테나) 의 소형화가 진행되고 있다.With miniaturization of portable communication devices, such as mobile phones and smart phones, the miniaturization of the antenna (chip antenna) mounted in it is progressing.

이러한 소형의 안테나는, 통상, 도전체로 구성된 안테나 패턴과, 이 안테나 패턴을 보유하고, 수지 등의 유전체로 구성된 기체 (유전 기체) 를 가지고 있다 (특허문헌 1 참조). Such a small antenna usually has an antenna pattern made of a conductor, and a base (dielectric base) having the antenna pattern and made of a dielectric material such as resin (refer to Patent Document 1).

특허문헌 1 에서는, 안테나 패턴을 인서트 부품으로 하고, 유전체를 사출 성형하여 기체를 형성해, 안테나 패턴과 기체가 일체화된 소형의 안테나를 제조하고 있다. In Patent Document 1, an antenna pattern is used as an insert part, a dielectric is injection molded to form a base, and a small antenna in which the antenna pattern and the base are integrated is manufactured.

국제 공개 2013/137404호International Publication No. 2013/137404

안테나의 추가적인 고성능화 (안테나 이득의 향상) 의 관점에서는, 유전 특성이 우수한 유전체가 필요로 된다. 그러나, 본 발명자들의 검토에 의하면, 특허문헌 1 의 유전체 (유전 기체) 로는 여전히 충분하지 않았다. 또, 특허문헌 1 에서는, 안테나 패턴과 유전 기체를 일체화하고 있지만, 그들 간의 접착성도 충분하지 않았다.From the viewpoint of further increasing the performance of the antenna (improving the antenna gain), a dielectric excellent in dielectric properties is required. However, according to the examination of the present inventors, the dielectric material (dielectric base) of patent document 1 was still not enough. Further, in Patent Document 1, although the antenna pattern and the dielectric substrate are integrated, the adhesiveness between them is not sufficient.

본 발명자들은, 이들 점을 개선하기 위하여 예의 검토했다. 그 결과, 소정의 열용융성의 폴리머를 포함하면, 전기 특성 및 접착성이 우수하여, 사출 성형 또는 압축 성형에 적합한 조성물을 조제할 수 있는 점을 찾아냈다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly examined in order to improve these points. As a result, it was found that, when a predetermined heat-melting polymer was included, it was excellent in electrical properties and adhesiveness, and a composition suitable for injection molding or compression molding could be prepared.

본 발명은, 접착성이 우수한 유전 정접이 낮은 기체를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성할 수 있는 조성물, 이러한 조성물로 형성된 기체를 구비하는 고성능 안테나의 제조 방법, 및 상기 성형물로 성형된 성형품의 제공을 목적으로 한다.The present invention provides a composition capable of forming a gas having a low dielectric loss tangent excellent in adhesiveness by injection molding or compression molding, a method for manufacturing a high-performance antenna having a gas formed from the composition, and a molded article molded from the molded product is intended for

본 발명은, 하기의 양태를 갖는다. The present invention has the following aspects.

<1> 테트라플루오로에틸렌에 기초하는 단위를 함유하는 열용융성의 폴리머를 포함하고, 유전 정접이 0.05 이하인 기체를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는, 조성물. <1> A composition comprising a heat-fusible polymer containing units based on tetrafluoroethylene and used for forming a gas having a dielectric loss tangent of 0.05 or less by injection molding or compression molding.

<2> 상기 기체가, 안테나의 성형부 또는 정합층인, 상기 <1> 의 조성물. <2> The composition according to <1>, wherein the base is a molding part or matching layer of an antenna.

<3> 상기 기체가, 안테나의 성형부 또는 정합층이며, 상기 성형부 또는 상기 정합층의 두께가 1 cm 이하인, 상기 <1> 또는 <2> 의 조성물. <3> The composition according to <1> or <2>, wherein the base is a molded part or matching layer of the antenna, and the thickness of the molded part or the matching layer is 1 cm or less.

<4> 추가로, 유전율이 1.5 이상인 유전체 필러를 포함하고, 상기 기체의 유전율이 1.5 초과인, 상기 <1> ~ <3> 중 어느 하나의 조성물.<4> The composition according to any one of <1> to <3>, further comprising a dielectric filler having a dielectric constant of 1.5 or more, and wherein the dielectric constant of the substrate is greater than 1.5.

<5> 상기 유전체 필러가, 평균 입자경 2 ㎛ 이하의 구상 필러, 또는 길이 30 ㎛ 이하 또한 직경 2 ㎛ 이하의 섬유상 필러인, 상기 <4> 의 조성물.<5> The composition according to <4>, wherein the dielectric filler is a spherical filler having an average particle diameter of 2 µm or less, or a fibrous filler having a length of 30 µm or less and a diameter of 2 µm or less.

<6> 상기 조성물에서 차지하는 상기 열용융성의 폴리머의 비율에 대한 상기 유전체 필러의 비율의 질량으로의 비가, 1/10 ~ 1/1 인, 상기 <4> 또는 <5> 의 조성물.<6> The composition according to <4> or <5>, wherein the ratio to the mass of the ratio of the dielectric filler to the ratio of the heat-meltable polymer in the composition is 1/10 to 1/1.

<7> 상기 열용융성의 폴리머가, 퍼플루오로(알킬비닐에테르), 헥사플루오로프로필렌 또는 플루오로알킬에틸렌에 기초하는 단위를 함유하는, 상기 <1> ~ <6> 중 어느 하나의 조성물.<7> The composition according to any one of <1> to <6>, wherein the heat-fusible polymer contains a unit based on perfluoro(alkylvinyl ether), hexafluoropropylene, or fluoroalkylethylene.

<8> 추가로, 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하는, 상기 <1> ~ <7> 중 어느 하나의 조성물.<8> The composition according to any one of <1> to <7>, further comprising polytetrafluoroethylene.

<9> 추가로, 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하고, 상기 조성물에서 차지하는 상기 열용융성의 폴리머의 비율에 대한 상기 폴리테트라플루오로에틸렌의 질량으로의 비가 1 이하이며, 상기 기체를 사출 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는, 상기 <1> ~ <8> 중 어느 하나의 조성물. <9> Further, it contains polytetrafluoroethylene, and the ratio of the mass of the polytetrafluoroethylene to the ratio of the heat-fusible polymer in the composition is 1 or less, and the gas is injected by injection molding. The composition in any one of said <1>-<8> used in order to form.

<10> 추가로, 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하고, 상기 조성물에서 차지하는 상기 열용융성의 폴리머의 비율에 대한 상기 폴리테트라플루오로에틸렌의 질량으로의 비가 1 이상이며, 상기 기체를 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는, 상기 <1> ~ <9> 중 어느 하나의 조성물. <10> Further, it contains polytetrafluoroethylene, and the ratio of the mass of the polytetrafluoroethylene to the ratio of the heat-fusible polymer in the composition is 1 or more, and the gas is subjected to compression molding by compression molding. The composition in any one of said <1>-<9> used in order to form.

<11> 안테나 패턴과, 유전 정접이 0.05 이하이며, 상기 안테나 패턴을 보유하는 성형부를 구비하는 안테나의 제조 방법으로서, 상기 <1> ~ <10> 중 어느 하나의 조성물을, 상기 성형부에 대응하는 형상을 갖는 형 내에 사출하여 상기 성형부를 형성할 때에, 상기 성형형 내에 상기 안테나 패턴을 배치한 상태로 하거나, 상기 성형부를 형성한 후, 상기 성형부와 상기 안테나 패턴을 조립하는, 안테나의 제조 방법.<11> A method for manufacturing an antenna comprising an antenna pattern and a molded part having a dielectric loss tangent of 0.05 or less, the antenna pattern comprising the composition according to any one of <1> to <10> corresponding to the molded part When the molding part is formed by injection into a mold having a shape of Way.

<12> 안테나 패턴과, 유전 정접이 0.05 이하이며, 상기 안테나 패턴을 덮는 정합층을 구비하는 안테나의 제조 방법으로서, 상기 <1> ~ <8> 및 <10> 중 어느 하나의 조성물을, 상기 정합층에 대응하는 형상을 갖는 형 내에 공급 및 압축하여 정합층을 형성한 후, 상기 정합층과 상기 안테나 패턴을 조립하는, 안테나의 제조 방법. <12> A method for manufacturing an antenna comprising an antenna pattern and a matching layer having a dielectric loss tangent of 0.05 or less and covering the antenna pattern, comprising the composition according to any one of <1> to <8> and <10>, A method of manufacturing an antenna, comprising: forming a matching layer by supplying and compressing it into a mold having a shape corresponding to the matching layer, and then assembling the matching layer and the antenna pattern.

<13> 상기 정합층의 상기 안테나 패턴과 반대 측의 면에, 추가로 금속층을 형성하는, 상기 <12> 의 제조 방법.<13> The manufacturing method according to <12>, wherein a metal layer is further formed on a surface of the matching layer opposite to the antenna pattern.

<14> 상기 <1> ~ <10> 중 어느 하나의 조성물로부터, 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성된 성형품.<14> A molded article formed from the composition in any one of <1> to <10> by injection molding or compression molding.

<15> 상기 성형품이 안테나인, 상기 <14> 의 성형품. <15> The molded article according to <14>, wherein the molded article is an antenna.

본 발명에 의하면, 접착성이 우수한 유전 정접이 낮은 기체의 성형에 적합한, 사출 성형 또는 압축 성형용의 조성물, 및 고성능인 안테나가 얻어진다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composition for injection molding or compression molding suitable for shaping|molding of the base|substrate with low dielectric loss tangent excellent in adhesiveness, and a high-performance antenna are obtained.

이하의 용어는, 이하의 의미를 갖는다.The following terms have the following meanings.

「열용융성의 폴리머」란, 용융 유동성을 나타내는 폴리머를 의미하고, 하중 49 N 의 조건하, 폴리머의 용융 온도보다 20 ℃ 이상 높은 온도에 있어서, 용융 흐름 속도가 0.1 ~ 1000 g/10 분이 되는 온도가 존재하는 폴리머를 의미한다. "Heat meltable polymer" means a polymer exhibiting melt fluidity, and under a load of 49 N, a temperature at which the melt flow rate is 0.1 to 1000 g/10 min at a temperature 20° C. or more higher than the melting temperature of the polymer. means the polymer in which it exists.

「용융 흐름 속도 (MFR)」란, JIS K 7210 : 1999 (ISO 1133 : 1997) 에 규정된, 폴리머의 멜트 매스 플로우 레이트를 의미한다. The "melt flow rate (MFR)" means the melt mass flow rate of a polymer as stipulated in JIS K 7210: 1999 (ISO 1133: 1997).

「폴리머의 용융 온도 (융점)」는, 시차주사 열량 측정 (DSC) 법으로 측정한 폴리머의 융해 피크의 최대값에 대응하는 온도이다. The "melting temperature (melting point) of a polymer" is a temperature corresponding to the maximum value of the melting peak of a polymer measured by the differential scanning calorimetry (DSC) method.

「조성물의 용융 점도」는, JIS K 7199 : 1999 (ISO1 1443 : 1995) 에 준거하여 측정된 전단 속도 1000/초에 있어서의 값이다. The "melt viscosity of the composition" is a value at a shear rate of 1000/sec measured in accordance with JIS K 7199:1999 (ISO1 1443: 1995).

「평균 입자경」은, 대상으로 하는 입자 (파우더, 필러 등) 를 수중에 분산시키고, 레이저 회절·산란식의 입도 분포 측정 장치 (호리바 제작소사 제조, LA-920 측정기) 를 사용한 레이저 회절·산란법에 의해 분석하여 구해진다. 즉, 레이저 회절·산란법에 의해 입자의 입도 분포를 측정하고, 입자의 집단의 전체 체적을 100 % 로 하여 누적 커브를 구하고, 그 누적 커브 상에서 누적 체적이 50 % 가 되는 점이 평균 입자경 (D50) 이다. 또한, 입자의 집단의 전체 체적을 100 % 로 하여 누적 커브를 구하고, 그 누적 커브 상에서 누적 체적이 10 % 가 되는 점을, D10 으로 한다."Average particle diameter" is a laser diffraction/scattering method by dispersing target particles (powder, filler, etc.) in water, and using a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device (LA-920 measuring instrument, manufactured by Horiba, Ltd.) is analyzed and obtained by That is, the particle size distribution of the particles is measured by the laser diffraction/scattering method, a cumulative curve is obtained with the total volume of the particle population being 100%, and the point where the cumulative volume is 50% on the cumulative curve is the average particle diameter (D50) am. Further, a cumulative curve is obtained with the total volume of the particle population being 100%, and the point at which the cumulative volume is 10% on the cumulative curve is defined as D10.

「10 점 평균 조도 (Rzjis)」 는, JIS B 0601 : 2013 의 부속서 JA 에서 규정된 값이다."10-point average roughness (Rzjis)" is a value prescribed by Annex JA of JIS B 0601:2013.

본 발명에 있어서의 「유전율」은, 비유전율이라고도 불리는, 진공의 유전율에 대한 상대적인 유전율을 의미한다. The "permittivity" in this invention means the relative permittivity with respect to the permittivity of vacuum, also called relative permittivity.

폴리머에 있어서의 「단위」는, 중합 반응에 의해 모노머로부터 직접 형성된 원자단이어도 되고, 중합 반응에 의해 얻어진 폴리머를 소정의 방법으로 처리하여, 구조의 일부가 변환된 원자단이어도 된다. 폴리머에 포함되는, 모노머 A 에 기초하는 단위를, 간단히 「모노머 A 단위」라고도 기재한다. The "unit" in the polymer may be an atomic group formed directly from a monomer by a polymerization reaction, or an atomic group in which a part of the structure is converted by treating the polymer obtained by the polymerization reaction by a predetermined method. A unit based on the monomer A contained in the polymer is also simply described as a “monomer A unit”.

본 발명의 조성물은, 테트라플루오로에틸렌 (TFE) 에 기초하는 단위를 함유하는 열용융성의 폴리머 (이하, 「F 폴리머」라고도 기재한다.) 를 포함하고, 유전 정접이 0.05 이하인 기체 (유전 기체) 를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용된다.The composition of the present invention contains a heat-fusible polymer (hereinafter also referred to as "F polymer") containing units based on tetrafluoroethylene (TFE), and a gas having a dielectric loss tangent of 0.05 or less (dielectric base) It is used to form by injection molding or compression molding.

본 발명에 있어서의 F 폴리머는, 양호한 열용융성을 나타내고, 그 용융 점도가 소정의 범위에 수속하기 때문에, 사출 성형 또는 압축 성형에 있어서, 고밀도로 충전 성형되기 쉽다. 그 결과, 형성되는 기체 중에 기포 (공기층) 가 형성되기 어려워, 기포의 존재에 의한 유전 특성의 저하가 억제되었다고 생각된다. 또, 조성물이, 유전체 필러 등의 필러를 포함하는 경우에는, 필러가 균일 또한 안정 분산하기 쉬워진다. 그 결과, 낮은 유전 정접을 발현하는 기체를 형성할 수 있었다고 추찰된다. Since the F polymer in the present invention exhibits good thermal meltability and its melt viscosity converges within a predetermined range, it is easily filled and molded at a high density in injection molding or compression molding. As a result, it is thought that it is difficult to form a bubble (air layer) in the base|substrate to be formed, and the fall of the dielectric characteristic by presence of a bubble was suppressed. In addition, when the composition contains a filler such as a dielectric filler, the filler tends to be uniformly and stably dispersed. As a result, it is presumed that a gas exhibiting a low dielectric loss tangent could be formed.

본 발명에 있어서의 기체의 유전 정접은, 0.05 이하이다. 기체의 유전 정접으로서는 0.04 이하가 바람직하고, 0.03 이하가 보다 바람직하다. 그 하한은, 통상, 0.001 이다.The dielectric loss tangent of the substrate in the present invention is 0.05 or less. The dielectric loss tangent of the substrate is preferably 0.04 or less, and more preferably 0.03 or less. The lower limit is usually 0.001.

또, 본 발명에 있어서의 기체의 유전율로서는, 1.5 초과가 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하다. 또한, 3 이상이 바람직하고, 4 이상이 특히 바람직하다. 그 상한은, 통상, 10 이다. 본 발명에 있어서의 기체는, 유전율이 1.5 초과이며, 또한, 유전 정접이 0.05 이하인 것이 바람직하고, 유전율이 2 이상이며, 또한, 유전 정접이 0.05 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서의 유전율과 유전 정접은, 각각 20 GHz 로 측정되는 값이다.Moreover, as a dielectric constant of the base|substrate in this invention, more than 1.5 is preferable and 2 or more are more preferable. Moreover, 3 or more are preferable and 4 or more are especially preferable. The upper limit is usually 10. The substrate in the present invention preferably has a dielectric constant greater than 1.5 and a dielectric loss tangent of 0.05 or less, more preferably a dielectric constant of 2 or more, and a dielectric loss tangent of 0.05 or less. In addition, the dielectric constant and dielectric loss tangent in this specification are values measured at 20 GHz, respectively.

본 발명에 있어서의 기체는, 특히, 안테나의 성형부 또는 정합층으로서 사용하여, 안테나 성능을 향상시키기 위해서 바람직하게 사용할 수 있다. 이러한 안테나는, 높은 성능 (안테나 이득) 을 발휘하기 쉽다.The substrate in the present invention can be preferably used in order to improve antenna performance, particularly by using it as a molding part or matching layer of an antenna. Such an antenna tends to exhibit high performance (antenna gain).

여기서, 안테나의 성형부는, 도전체로 구성된 안테나 패턴을 보유하는 부재 (보유 부재) 가 바람직하다. 안테나의 정합층이란, 안테나 패턴에 흐르는 전류의 감쇠를 억제하기 위해서, 안테나 패턴을 덮도록 형성되는 층이다.Here, it is preferable that the shaping|molding part of an antenna is a member (holding member) which holds the antenna pattern comprised from a conductor. The matching layer of the antenna is a layer formed so as to cover the antenna pattern in order to suppress attenuation of the current flowing through the antenna pattern.

안테나의 성형부 및 정합층의 두께는, 각각, 1 cm 이하가 바람직하고, 0.5 mm 이하가 보다 바람직하고, 0.01 mm 이하가 더욱 바람직하다. 본 발명의 조성물은, 성형성이 우수하고, 이러한 얇은 유전 특성이 우수한, 성형부 또는 정합층을 형성할 수 있다. Each of the thicknesses of the shaping portion of the antenna and the matching layer is preferably 1 cm or less, more preferably 0.5 mm or less, and still more preferably 0.01 mm or less. The composition of the present invention is excellent in moldability and can form a molded part or matching layer having such thin dielectric properties.

본 발명에 있어서의 F 폴리머는, TFE 에 기초하는 단위 (TFE 단위) 를 함유하는, 열용융성의 폴리머이다. F 폴리머는, TFE 의 호모폴리머여도 되고, TFE 와, TFE 와 공중합 가능한 다른 모노머 (코모노머) 의 코폴리머여도 된다. 요컨대, 열용융성을 나타내는 것이면, F 폴리머는 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE) 이어도 된다.The F polymer in the present invention is a heat-meltable polymer containing a TFE-based unit (TFE unit). The F polymer may be a homopolymer of TFE, or a copolymer of TFE and another monomer (comonomer) copolymerizable with TFE. In other words, the polymer F may be polytetrafluoroethylene (PTFE) as long as it exhibits thermal meltability.

F 폴리머는, 폴리머를 구성하는 전체 단위에 대해, TFE 단위를 90 ~ 100 몰% 갖는 것이 바람직하다. The F polymer preferably has 90 to 100 mol% of TFE units with respect to all units constituting the polymer.

F 폴리머의 불소 함유량은, 70 ~ 76 질량% 가 바람직하고, 72 ~ 76 질량% 가 보다 바람직하다. 상기 범위의 불소 함유량의 F 폴리머를 사용하면, 기체의 유전 특성의 향상 (특히, 저유전 정접화) 이 도모된다.The fluorine content of the F polymer is preferably 70 to 76 mass%, more preferably 72 to 76 mass%. When the F polymer having a fluorine content in the above range is used, the dielectric properties of the substrate are improved (particularly, the dielectric loss tangent is reduced).

F 폴리머로서는, TFE 와 에틸렌의 코폴리머 (ETFE), TFE 와 프로필렌의 코폴리머, TFE 와 퍼플루오로(알킬비닐에테르) (PAVE) 의 코폴리머 (PFA), TFE 와 헥사플루오로프로필렌 (HFP) 의 코폴리머 (FEP), TFE 와 플루오로알킬에틸렌 (FAE) 의 코폴리머, TFE 와 클로로트리플루오로에틸렌 (CTFE) 의 코폴리머를 들 수 있다. 또한, 이들 코폴리머는, 추가로 다른 코모노머에 기초하는 단위를 함유하고 있어도 된다.As F polymer, TFE and ethylene copolymer (ETFE), TFE and propylene copolymer, TFE and perfluoro(alkylvinyl ether) (PAVE) copolymer (PFA), TFE and hexafluoropropylene (HFP) a copolymer of (FEP), a copolymer of TFE and fluoroalkylethylene (FAE), and a copolymer of TFE and chlorotrifluoroethylene (CTFE). Moreover, these copolymers may contain the unit based on another comonomer further.

F 폴리머는, TFE 단위와, PAVE 단위, HFP 단위 또는 FAE 단위를 함유하는 것이 바람직하다.The F polymer preferably contains TFE units and PAVE units, HFP units or FAE units.

PAVE 로서는, CF2=CFOCF3, CF2=CFOCF2CF3, CF2=CFOCF2CF2CF3 (PPVE), CF2=CFOCF2CF2CF2CF3, CF2=CFO(CF2)8F 를 들 수 있다. As PAVE, CF 2 =CFOCF 3 , CF 2 =CFOCF 2 CF 3 , CF 2 =CFOCF 2 CF 2 CF 3 (PPVE), CF 2 =CFOCF 2 CF 2 CF 2 CF 3 , CF 2 =CFO(CF 2 ) 8 F is mentioned.

FAE 로서는, CH2=CH(CF2)2F, CH2=CH(CF2)3F, CH2=CH(CF2)4F, CH2=CF(CF2)3H, CH2=CF(CF2)4H 를 들 수 있다. As FAE, CH 2 =CH(CF 2 ) 2 F, CH 2 =CH(CF 2 ) 3 F, CH 2 =CH(CF 2 ) 4 F, CH 2 =CF(CF 2 ) 3 H, CH 2 = CF(CF 2 ) 4 H .

F 폴리머의 용융 점도는, 380 ℃ 에 있어서 1 × 102 ~ 1 × 106 Pa·s 가 바람직하고, 300 ℃ 에 있어서 1 × 102 ~ 1 × 106 Pa·s 가 보다 바람직하다. 이 경우, 보다 저온에서 기체를 사출 형성하기 쉬워진다.The melt viscosity of the F polymer is preferably 1×10 2 to 1×10 6 Pa·s at 380°C, and more preferably 1×10 2 to 1×10 6 Pa·s at 300°C. In this case, it becomes easier to injection-form the gas at a lower temperature.

F 폴리머의 용융 온도는, 260 ~ 320 ℃ 가 바람직하고, 285 ~ 320 ℃ 가 보다 바람직하다. 이 경우, 유전체 필러의 변질, 열화를 바람직하게 방지할 수 있다.260-320 degreeC is preferable and, as for the melting temperature of F polymer, 285-320 degreeC is more preferable. In this case, deterioration and deterioration of the dielectric filler can be preferably prevented.

F 폴리머의 MFR 은, 20 g/10 분 이하가 바람직하고, 10 g/10 분 이하가 보다 바람직하다. 이 경우, 보다 복잡한 형상의 기체를 형성하기 쉬워진다.20 g/10 min or less is preferable and, as for MFR of F polymer, 10 g/10 min or less is more preferable. In this case, it becomes easy to form the base|substrate of a more complicated shape.

조성물의 용융 점도는, 전단 속도 1000/초에 있어서 50 ~ 1000 Pa·s 가 바람직하고, 75 ~ 750 Pa·s 가 바람직하다. 이 경우도, 보다 복잡한 형상의 기체를 형성하기 쉬워진다.The melt viscosity of the composition is preferably 50 to 1000 Pa·s and preferably 75 to 750 Pa·s at a shear rate of 1000/sec. Also in this case, it becomes easy to form the base|substrate of a more complicated shape.

F 폴리머의 바람직한 구체예로서는, 변성 PTFE, FEP, PFA 를 들 수 있다. 또한, 변성 PTFE 란, TFE 와 극미량의 코모노머 (HFP, PAVE, FAE 등) 의 코폴리머 등이며, 열용융성을 나타내는 PTFE 이다.Preferred specific examples of the F polymer include modified PTFE, FEP, and PFA. In addition, the modified PTFE is a copolymer of TFE and a trace amount of a comonomer (HFP, PAVE, FAE, etc.), etc., It is PTFE which shows heat meltability.

F 폴리머로서는, 극성 관능기를 갖는 F 폴리머가 바람직하다. 극성 관능기는, F 폴리머 중의 모노머 단위에 포함되어 있어도 되고, 폴리머의 주사슬의 말단기에 포함되어 있어도 된다. 후자의 폴리머로서는, 중합 개시제, 연쇄 이동제 등에서 유래하는 말단기로서 극성 관능기를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 또, F 폴리머를 플라스마 처리나 전리선 처리하여 얻어지는, 극성 관능기를 갖는 F 폴리머도 들 수 있다.As the F polymer, an F polymer having a polar functional group is preferable. The polar functional group may be contained in the monomer unit in the F polymer, or may be contained in the terminal group of the main chain of the polymer. Examples of the latter polymer include polymers having a polar functional group as a terminal group derived from a polymerization initiator, a chain transfer agent, and the like. Moreover, the F polymer which has a polar functional group obtained by plasma-treating or ionizing F-polymer is also mentioned.

극성 관능기를 갖는 F 폴리머는, 극성 관능기를 갖는 모노머 단위 (이하, 「극성 단위」라고도 기재한다.) 를 갖는 F 폴리머가 바람직하다. 중합에 의해 극성 단위가 되는, 극성 관능기를 갖는 모노머를, 이하, 「극성 모노머」라고도 기재한다.The F polymer having a polar functional group is preferably an F polymer having a monomer unit having a polar functional group (hereinafter, also referred to as a “polar unit”). The monomer which has a polar functional group used as a polar unit by polymerization is also described hereafter as "polar monomer".

극성 관능기로서는, 수산기 함유기, 카르보닐기 함유기, 아세탈기 및 포스포노기 (-OP(O)OH2) 가 바람직하고, 다른 부재 (안테나 패턴 등) 와의 접착성을 보다 높이는 관점에서, 카르보닐기 함유기가 보다 바람직하다. As the polar functional group, a hydroxyl group-containing group, a carbonyl group-containing group, an acetal group and a phosphono group (-OP(O)OH 2 ) are preferable. more preferably.

수산기 함유기로서는, 알코올성 수산기를 함유하는 기가 바람직하고, -CF2CH2OH, -C(CF3)2OH 및 1,2-글리콜기 (-CH(OH)CH2OH) 가 보다 바람직하다.As the hydroxyl group-containing group, a group containing an alcoholic hydroxyl group is preferable, and -CF 2 CH 2 OH, -C(CF 3 ) 2 OH and a 1,2-glycol group (-CH(OH)CH 2 OH) are more preferable. .

카르보닐기 함유기는, 카르보닐기 (>C(O)) 를 포함하는 기이며, 카르보닐기 함유기로서는, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 아미드기, 이소시아네이트기, 카르바메이트기 (-OC(O)NH2), 산 무수물 잔기 (-C(O)OC(O)-), 이미드 잔기 (-C(O)NHC(O)- 등) 및 카보네이트기 (-OC(O)O-) 가 바람직하다.The carbonyl group-containing group is a group containing a carbonyl group (>C(O)), and examples of the carbonyl group-containing group include a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an amide group, an isocyanate group, a carbamate group (-OC(O)NH 2 ), and an acid anhydride. Preference is given to residues (-C(O)OC(O)-), imide residues (-C(O)NHC(O)-, etc.) and carbonate groups (-OC(O)O-).

카르보닐기 함유기를 갖는 모노머로서는, 무수 이타콘산, 무수 시트라콘산, 5-노르보르넨-2,3-디카르복실산 무수물 (별칭 : 무수 하이믹산. 이하, 「NAH」라고도 기재한다.) 및 무수 말레산이 더욱 바람직하다.Examples of the monomer having a carbonyl group-containing group include itaconic anhydride, citraconic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride (alias: hymic anhydride; hereinafter also referred to as “NAH”) and anhydride Maleic acid is more preferred.

극성 관능기를 갖는 F 폴리머의 바람직한 구체예로서는, TFE 단위와, HFP 단위, PAVE 단위 또는 FAE 단위와, 극성 관능기를 갖는 단위를 갖는 F 폴리머를 들 수 있다.Preferred specific examples of the F polymer having a polar functional group include F polymers having a TFE unit, an HFP unit, a PAVE unit or a FAE unit, and a unit having a polar functional group.

F 폴리머는, 폴리머를 구성하는 전체 단위에 대해, TFE 단위를 90 ~ 99 몰%, HFP 단위, PAVE 에 단위 또는 FAE 단위를 0.5 ~ 9.97 몰%, 극성 단위를 0.01 ~ 3 몰%, 각각 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 F 폴리머의 구체예로서는, 국제 공개 제2018/16644호에 기재된 폴리머를 들 수 있다. F polymer contains 90 to 99 mol% of TFE units, 0.5 to 9.97 mol% of units or FAE units in HFP units, PAVE units, 0.01 to 3 mol% of polar units, respectively, with respect to all units constituting the polymer it is preferable As a specific example of such F polymer, the polymer described in International Publication No. 2018/16644 is mentioned.

F 폴리머가 극성 관능기 (특히, 카르보닐기 함유기) 를 갖는 경우, 기체의 다른 부재 (안테나 패턴 등) 에 대한 접착성이 보다 향상된다.When the F polymer has a polar functional group (especially a carbonyl group-containing group), the adhesiveness of the substrate to other members (antenna pattern, etc.) is further improved.

본 발명의 조성물은, 추가로, F 폴리머 이외의 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE) 을 포함하는 것이 바람직하다. F 폴리머 이외의 PTFE 로서는, 비열용융성의 PTFE 가 바람직하다. 이러한 PTFE 는, 저분자량 PTFE, 전자선 처리된 PTFE, γ 선 처리된 PTFE 가 바람직하다. It is preferable that the composition of the present invention further contains polytetrafluoroethylene (PTFE) other than the F polymer. As PTFE other than F polymer, non-heat-melting PTFE is preferable. As for this PTFE, low molecular-weight PTFE, electron-beam-treated PTFE, and gamma-ray-treated PTFE are preferable.

기체를 사출 성형에 의해 형성하기 위해서 사용하는 조성물에서 차지하는, F 폴리머에 대한 PTFE 의 질량으로의 비는, 1 이하가 바람직하고, 0.5 이하가 보다 바람직하고, 0.25 이하가 더욱 바람직하다. 상기 비는, 통상, 0.1 이상이다. 이 경우, PTFE 에 대해 F 폴리머가 충분량 포함되어, 사출 성형에 의해 F 폴리머가 고도로 충전된 기체를 형성하기 쉽다.1 or less is preferable, 0.5 or less are more preferable, and, as for the ratio to the mass of PTFE with respect to F polymer which occupies in the composition used for forming a base|substrate by injection molding, 0.25 or less are still more preferable. The said ratio is 0.1 or more normally. In this case, the F polymer is contained in a sufficient amount with respect to PTFE, and it is easy to form a gas highly filled with the F polymer by injection molding.

기체를 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용하는 조성물에서 차지하는, F 폴리머에 대한 PTFE 의 질량으로의 비는, 1 이상이 바람직하고, 1.5 이상이 보다 바람직하고, 2 이상이 더욱 바람직하다. 상기 비의 상한은, 통상, 5 이다. 이 경우, F 폴리머에 대해 PTFE 가 충분량 포함되어, 압축 성형성이 우수한 PTFE 의 물성이 발현하기 쉬울 뿐만 아니라, 밀착 접착성이 우수한 기체를 형성하기 쉽다.1 or more is preferable, and, as for the ratio to the mass of PTFE with respect to F polymer which occupies in the composition used for forming a base|substrate by compression molding, 1.5 or more are more preferable, and 2 or more are still more preferable. The upper limit of the said ratio is 5 normally. In this case, PTFE is contained in a sufficient amount with respect to the F polymer, and not only the physical properties of PTFE excellent in compression moldability are easily expressed, but also a base material excellent in adhesiveness is easily formed.

본 발명의 조성물에 있어서의 F 폴리머의 형상은, 입상인 것이 바람직하다. It is preferable that the shape of F polymer in the composition of this invention is granular.

기체를 사출 성형에 의해 형성하기 위해서 사용하는 조성물에 있어서의 F 폴리머의 형상은, 펠릿상인 것이 바람직하고, 3 ~ 5 mm 의 괴상인 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 사출 성형성을 저해하기 어려워, F 폴리머가 고도로 충전된 기체를 형성하기 쉽다.It is preferable that the shape of the F polymer in the composition used in order to form a base|substrate by injection molding is pellet shape, and it is more preferable that it is a 3-5 mm block shape. In this case, it is difficult to impair the injection moldability, and it is easy to form a base in which the F polymer is highly filled.

기체를 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용하는 조성물에 있어서의 F 폴리머의 형상은, 파우더상인 것이 바람직하다. 파우더상인 경우, 그 체적 기준 누적 10 % 직경은 0.1 ~ 10 ㎛, 체적 기준 누적 50 % 직경은 0.3 ~ 50 ㎛ 인 것이, 각각 바람직하다. 이 경우, 밀착 접착성이 우수한 기체를 형성하기 쉽다.It is preferable that the shape of the F polymer in the composition used in order to form a base|substrate by compression molding is powdery. In the case of powder, it is preferable that the cumulative 10% diameter by volume is 0.1 to 10 μm, and the cumulative 50% diameter by volume is 0.3 to 50 μm, respectively. In this case, it is easy to form the base|substrate excellent in adhesiveness.

본 발명의 조성물은, 추가로, 유전체 필러를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the composition of the present invention further contains a dielectric filler.

유전체 필러의 25 ℃ 에 있어서의 유전율로서는, 1.5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하다. 또한, 18 이상이 바람직하고, 25 이상이 특히 바람직하다. 유전율의 상한은, 통상, 1000 이다. 상기 범위의 유전율을 갖는 유전체 필러를 사용하면, 기체에 우수한 유전 특성 (고유전율 및 저유전 정접) 을 용이하게 부여할 수 있다. 본 발명의 조성물은 유전율이 1.5 이상인 유전체 필러를 포함하고, 유전율이 1.5 초과 또한 유전 정접이 0.05 이하인 기체를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물은, 유전율이 6 이상인 유전체 필러를 포함하고, 유전율이 2 이상 또한 유전 정접이 0.05 이하인 기체를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는 것이 보다 바람직하다.As a dielectric constant at 25 degreeC of a dielectric filler, 1.5 or more are preferable and 6 or more are more preferable. Moreover, 18 or more are preferable and 25 or more are especially preferable. The upper limit of the dielectric constant is usually 1000. When a dielectric filler having a dielectric constant in the above range is used, excellent dielectric properties (high dielectric constant and low dielectric loss tangent) can be easily imparted to the substrate. It is preferable that the composition of the present invention contains a dielectric filler having a dielectric constant of 1.5 or more, and is preferably used for forming a gas having a dielectric constant of more than 1.5 and a dielectric loss tangent of 0.05 or less by injection molding or compression molding. In addition, it is more preferable that the composition of the present invention is used to form a gas having a dielectric constant of 6 or more and a dielectric constant of 2 or more and a dielectric loss tangent of 0.05 or less by injection molding or compression molding including a dielectric filler of 6 or more.

이러한 유전체 필러에는, 유기 유전체 필러 및 무기 유전체 필러의 어느 것이나 사용할 수 있다.As such a dielectric filler, either an organic dielectric filler or an inorganic dielectric filler can be used.

유기 유전체 필러로서는, 경화성 수지의 경화물이나 비경화성 수지로 이루어지는 필러를 들 수 있다. 경화성 수지나 비경화성 수지로서는, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리이미드 전구체인 폴리아믹산, 아크릴 수지, 페놀 수지, 액정성 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 다관능 시안산에스테르 수지, 다관능 말레이미드-시안산에스테르 수지, 다관능성 말레이미드 수지, 비닐에스테르 수지, 우레아 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 멜라민-우레아 공축합 수지, 스티렌 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리술폰, 폴리알릴술폰, 방향족 폴리아미드 수지, 방향족 폴리에테르아미드, 폴리페닐렌술파이드, 폴리알릴에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌에테르, 폴리벤즈아졸, 아라미드, 폴리에틸렌을 들 수 있다.Examples of the organic dielectric filler include a cured product of a curable resin and a filler made of a non-curable resin. Examples of curable resins and non-curable resins include epoxy resins, polyimide resins, polyamic acids that are polyimide precursors, acrylic resins, phenol resins, liquid crystalline polyester resins, polyolefin resins, modified polyphenylene ether resins, and polyfunctional cyanate ester resins. , polyfunctional maleimide-cyanoic acid ester resin, polyfunctional maleimide resin, vinyl ester resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, melamine-urea cocondensation resin, styrene resin, polycarbonate resin, Polyarylate resin, polysulfone, polyallyl sulfone, aromatic polyamide resin, aromatic polyetheramide, polyphenylene sulfide, polyallyl ether ketone, polyamideimide, polyphenylene ether, polybenzazole, aramid, polyethylene can

무기 유전체로서는, 마그네슘, 규소, 티탄, 아연, 칼슘, 스트론튬, 지르코늄, 바륨, 주석, 네오디뮴, 사마륨, 비스무트, 납, 란탄, 리튬 및 탄탈로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 금속 원소를 포함하는 금속 산화물, 및, 유리가 바람직하다.As the inorganic dielectric, a metal containing at least one metal element selected from the group consisting of magnesium, silicon, titanium, zinc, calcium, strontium, zirconium, barium, tin, neodymium, samarium, bismuth, lead, lanthanum, lithium and tantalum Oxides and glass are preferred.

무기 유전체의 구체예로서는, 티탄산바륨, 지르콘산티탄산납, 티탄산납, 산화지르코늄, 산화티탄, 탄탈산비스무트스트론튬, 니오브산비스무트스트론튬, 티탄산비스무트를 들 수 있다.Specific examples of the inorganic dielectric include barium titanate, lead zirconate titanate, lead titanate, zirconium oxide, titanium oxide, bismuth strontium tantalate, bismuth strontium niobate, and bismuth titanate.

또, 유전체 필러로서는, 무기 유전체 필러를 유기 유전체의 피복층으로 피복하여 이루어지는 복합 필러여도 되고, 유기 유전체 필러에 무기 유전체의 미립자가 분산된 복합 필러여도 된다.Further, the dielectric filler may be a composite filler formed by covering the inorganic dielectric filler with a coating layer of an organic dielectric, or may be a composite filler in which inorganic dielectric particles are dispersed in the organic dielectric filler.

또, 유전체 필러는, 무기 유전체의 세라믹 (소결체) 이어도 된다.Further, the dielectric filler may be an inorganic dielectric ceramic (sintered body).

유전율이 1.5 ~ 18 인 저유전율 세라믹 필러로서는, 알루미나, 탄산칼슘 및 포스테라이트의 소결체의 분말을 들 수 있다.Examples of the low dielectric constant ceramic filler having a dielectric constant of 1.5 to 18 include powders of a sintered body of alumina, calcium carbonate and forsterite.

유전율이 100 ~ 200 인 고유전율 세라믹 필러로서는, 루틸형 산화티탄 및 티탄산칼슘의 소결체의 분말을 들 수 있다.As a high dielectric constant ceramic filler with a dielectric constant of 100-200, the powder of the sintered compact of a rutile type titanium oxide and a calcium titanate is mentioned.

세라믹스 필러를 사용할 때는, 얻어지는 사출 성형에 의해 얻어지는 기체의 유전 이방성을 억제하는 관점에서, 저유전율 세라믹의 분말과 고유전율 세라믹의 분말을 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 세라믹의 분말에서 차지하는 후자의 분말의 비율은, 50 체적% 이하가 바람직하다. 또한, 얻어지는 기체 중의 세라믹스 필러의 배열의 관점에서, 전자의 분말의 입경이 1 ~ 7 ㎛, 후자의 분말의 입경이 0.1 ~ 2 ㎛ 인 것이 바람직하고, 전자의 분말의 입경이 후자의 분말의 입경보다 큰 것이 바람직하다.When using a ceramic filler, it is preferable to use together the powder of a low dielectric constant ceramic and the powder of a high dielectric constant ceramic from a viewpoint of suppressing the dielectric anisotropy of the base|substrate obtained by the injection molding obtained. In this case, the ratio of the latter powder to the ceramic powder is preferably 50% by volume or less. Further, from the viewpoint of arrangement of ceramic fillers in the obtained substrate, it is preferable that the particle diameter of the former powder is 1 to 7 µm, the particle diameter of the latter powder is 0.1 to 2 µm, and the particle size of the former powder is the particle size of the latter powder A larger one is preferred.

유전체 필러의 형상은, 입상이어도 되고, 비입상 (인편상, 층상) 이어도 되고, 섬유상이어도 된다.The shape of the dielectric filler may be granular, non-granular (scaly, layered), or fibrous.

입상의 유전체 필러로서는, 구상의 무기 산화물 필러를 들 수 있고, 그 구체예로서는, 실란 커플링제로 표면 처리된 평균 입자경 1 ㎛ 이하의 실리카 필러 (아드마텍스사 제조의 「아드마파인」시리즈 등), 디카프르산프로필렌글리콜 등의 에스테르로 표면 처리된 평균 입자경 0.1 ㎛ 이하의 산화아연 (사카이 화학 공업 주식회사 제조의 「FINEX」시리즈 등), 평균 입자경 0.5 ㎛ 이하 또한 최대 입자경 1 ㎛ 미만의 구상 용융 실리카 (덴카사 제조의 SFP 그레이드 등), 다가 알코올 및 무기물로 피복 처리된 평균 입자경 0.5 ㎛ 이하의 루틸형 산화티탄 (이시하라 산업사 제조의 「타이페이크」시리즈 등), 알킬실란으로 표면 처리된 평균 입자경 0.1 ㎛ 이하의 루틸형 산화티탄 (테이카사 제조의 「JMT」시리즈 등) 을 들 수 있다. Examples of the granular dielectric filler include spherical inorganic oxide fillers, and specific examples thereof include silica fillers having an average particle diameter of 1 µm or less, surface-treated with a silane coupling agent (“Admapine” series manufactured by Admatex, etc.) , zinc oxide with an average particle diameter of 0.1 μm or less (“FINEX” series manufactured by Sakai Chemical Industries, Ltd., etc.) surface-treated with an ester such as propylene glycol dicaprate, spherical fused silica with an average particle diameter of 0.5 μm or less and a maximum particle diameter of less than 1 μm (SFP grade manufactured by Denka Corporation, etc.), rutile titanium oxide with an average particle diameter of 0.5 μm or less coated with a polyhydric alcohol and inorganic material (“Taipeik” series manufactured by Ishihara Industrial Co., Ltd., etc.), surface-treated with an average particle diameter of 0.1 and rutile-type titanium oxide ("JMT" series manufactured by Teika Corporation, etc.) of micrometers or less.

인편상인 유전체 필러의 구체예로서는, 인편상의 질화붕소 필러를 들 수 있다. 그 입자경은 30 ~ 100 ㎛ 가 바람직하고, 그 애스펙트비는 10 ~ 100 이 바람직하다. As a specific example of a flaky dielectric filler, a flaky boron nitride filler is mentioned. The particle diameter is preferably 30 to 100 µm, and the aspect ratio is preferably 10 to 100.

섬유상 필러가 유기 유전체인 경우, 그 섬유 길이는 0.5 ~ 10 mm 이며, 그 섬유 직경은 5 ~ 20 ㎛ 인 것이, 각각이 바람직하다.When the fibrous filler is an organic dielectric, the fiber length is 0.5 to 10 mm, and the fiber diameter is preferably 5 to 20 µm, respectively.

이러한 섬유상 필러의 구체예로서는, 폴리벤즈아졸 섬유, 파라아라미드 섬유, 폴리아릴레이트 섬유, 고분자량 폴리에틸렌을 들 수 있다. Specific examples of such a fibrous filler include polybenzazole fibers, para-aramid fibers, polyarylate fibers, and high molecular weight polyethylene.

섬유상 필러가 유리 섬유인 경우, 그 섬유 길이는 10 ㎛ ~ 5 mm 가 바람직하다. 또, 그 단면 형상은, 진원형, 고치형, 타원형, 반원형, 다각형, 별형 중 어느 것이어도 되고, 진원형이 바람직하다. 또한, 애스펙트비 (섬유의 길이 방향에 수직인 단면의 직경에 대한 섬유 길이의 비) 는, 10 ~ 600 이 바람직하다.When the fibrous filler is glass fiber, the fiber length is preferably 10 µm to 5 mm. Further, the cross-sectional shape may be any of a perfect circle, a cocoon, an ellipse, a semicircle, a polygon, and a star, and a perfect circle is preferable. Further, the aspect ratio (ratio of the fiber length to the diameter of the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the fiber) is preferably 10 to 600.

치밀 또한 균일하게 유전체 필러가 분산되어, 유전 특성이 보다 우수한 기체가 얻어지는 관점에서, 유전체 필러로서, 미세 구조를 갖는 유전체 필러를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use a dielectric filler having a microstructure as the dielectric filler from the viewpoint of densely and uniformly dispersing the dielectric filler to obtain a substrate having superior dielectric properties.

이러한 미세 구조를 갖는 무기 필러의 바람직한 양태로서는, 평균 입자경 2 ㎛ 이하의 구상 필러, 및, 길이 30 ㎛ 이하 또한 직경 2 ㎛ 이하의 섬유상 필러를 들 수 있다. As a preferable aspect of the inorganic filler which has such a microstructure, a spherical filler with an average particle diameter of 2 micrometers or less, and 30 micrometers or less in length, and a fibrous filler with a diameter of 2 micrometers or less are mentioned.

전자의 유전체 필러의 평균 입자경은, 0.05 ~ 5 ㎛ 가 바람직하고, 0.1 ~ 3 ㎛ 가 보다 바람직하다. 이 경우, 유전체 필러는, 용융 상태의 사출 성형 재료 및 기체 중에 있어서 보다 균일하게 분산하기 쉬워진다.0.05-5 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter of the former dielectric filler, 0.1-3 micrometers is more preferable. In this case, the dielectric filler tends to be more uniformly dispersed in the molten injection molding material and the substrate.

후자의 유전체 필러에 있어서, 길이는 섬유 길이이며, 직경은 섬유 직경이다. 섬유 길이는, 1 ~ 30 ㎛ 가 바람직하고, 10 ~ 20 ㎛ 가 보다 바람직하다. 섬유 직경은, 0.1 ~ 1 ㎛ 가 바람직하고, 0.3 ~ 0.6 ㎛ 가 보다 바람직하다. In the latter dielectric filler, the length is the fiber length and the diameter is the fiber diameter. 1-30 micrometers is preferable and, as for the fiber length, 10-20 micrometers is more preferable. 0.1-1 micrometer is preferable and, as for a fiber diameter, 0.3-0.6 micrometer is more preferable.

조성물에서 차지하는 F 폴리머에 대한 유전체 필러의 질량으로의 비는, 1/10 ~ 1/1 이 바람직하고, 1/8 ~ 1/2 가 보다 바람직하고, 1/6 ~ 1/3 이 더욱 바람직하다. 이 경우, 기체의 유전 특성이 보다 향상되기 쉽다.The ratio of the mass of the dielectric filler to the F polymer in the composition is preferably 1/10 to 1/1, more preferably 1/8 to 1/2, and still more preferably 1/6 to 1/3. . In this case, the dielectric properties of the substrate are more likely to be improved.

조성물에서 차지하는 F 폴리머의 구체적인 비율은, 10 ~ 80 질량% 가 바람직하고, 25 ~ 75 질량% 가 보다 바람직하고, 50 ~ 70 질량% 가 더욱 바람직하다.The specific proportion of the F polymer in the composition is preferably 10 to 80 mass%, more preferably 25 to 75 mass%, still more preferably 50 to 70 mass%.

또, 조성물에서 차지하는 유전체 필러의 구체적인 비율은, 20 ~ 90 질량% 가 바람직하고, 25 ~ 75 질량% 가 보다 바람직하고, 30 ~ 50 질량% 가 더욱 바람직하다. Further, the specific proportion of the dielectric filler in the composition is preferably 20 to 90% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, and still more preferably 30 to 50% by mass.

또, 본 발명의 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 틱소트로픽성 부여제, 소포제, 실란 커플링제, 탈수제, 가소제, 내후제, 산화 방지제, 열안정제, 활제, 대전 방지제, 증백제, 착색제, 도전제, 이형제, 표면 처리제, 점도 조절제, 난연제를 포함하고 있어도 된다.In addition, the composition of the present invention is a thixotropic agent, an antifoaming agent, a silane coupling agent, a dehydrating agent, a plasticizer, a weathering agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a lubricant, an antistatic agent, It may contain a whitening agent, a coloring agent, a electrically conductive agent, a mold release agent, a surface treatment agent, a viscosity modifier, and a flame retardant.

본 발명의 조성물로부터 제조되는 기체의 용도로서는, 안테나, 커넥터, 소켓, 릴레이 부품, 코일 보빈, 광 픽업, 발진자, 프린트 배선판, 컴퓨터 관련 부품 등의 전기·전자 부품, IC 트레이, 웨이퍼 캐리어 등의 반도체 제조 프로세스 관련 부품, VTR, 텔레비전, 다리미, 에어콘, 스테레오, 청소기, 냉장고, 취반기, 조명 기구 등의 가정 전기 제품용 부품, 램프 리플렉터, 램프 홀더 등의 조명 기구용 부품, 콤팩트 디스크, 레이저 디스크 (등록상표), 스피커 등의 음향 제품용 부품, 광 케이블용 페룰, 전화기, 팩시밀리, 모뎀 등의 통신 기기용 부품, 분리조, 히터 홀더 등의 복사기 관련 부품, 임펠러, 팬 기어, 기어, 베어링, 모터 부품 및 케이스 등의 기계 부품, 자동차용 기구 부품, 엔진 부품, 엔진룸 내 부품, 전장 부품, 내장 부품 등의 자동차용 부품, 마이크로파 조리용 냄비, 내열 식기 등의 조리용 기구, 플로어재, 벽재 등의 단열·방음용 부재, 빔, 기둥 등의 지지 부재, 지붕재 등의 건축 자재 또는 토목 건축용 부재, 항공기, 우주기, 우주 기기용 부품, 원자로 등의 방사선 시설 부재, 해양 시설 부재, 세정용 지그, 광학 기기 부품, 밸브류, 파이프류, 노즐류, 필터류, 막, 의료용 기기 부품, 센서류 부품, 위생 비품 등을 들 수 있다.Examples of uses for the substrate produced from the composition of the present invention include electrical/electronic components such as antennas, connectors, sockets, relay components, coil bobbins, optical pickups, oscillators, printed wiring boards, computer-related components, and semiconductors such as IC trays and wafer carriers. Manufacturing process-related parts, parts for household appliances such as VTRs, televisions, irons, air conditioners, stereos, vacuum cleaners, refrigerators, cookers, and lighting fixtures, parts for lighting fixtures such as lamp reflectors and lamp holders, compact discs, laser discs ( (registered trademark), parts for sound products such as speakers, ferrules for optical cables, parts for communication devices such as telephones, facsimiles, and modems, parts related to copiers such as separation tanks and heater holders, impellers, fan gears, gears, bearings, motors Mechanical parts such as parts and cases, automobile instrument parts, engine parts, engine room parts, electronic parts, automobile parts such as interior parts, microwave cooking pots, cooking utensils such as heat-resistant tableware, floor materials, wall materials, etc. of insulation and soundproofing members, support members such as beams and columns, building materials such as roofing materials or civil construction materials, aircraft, space aircraft, space equipment components, radiation facility members such as nuclear reactors, marine facility members, cleaning jigs, Optical device parts, valves, pipes, nozzles, filters, membranes, medical device parts, sensor parts, sanitary equipment, etc. are mentioned.

그 중에서도, 본 발명에 있어서의 기체의 용도로서는, 안테나 (특히, 소형 안테나) 가 바람직하다. 이러한 안테나의 구체예로서는, I : 안테나 패턴과, 유전율이 2 이상 또한 유전 정접이 0.05 이하이며, 안테나 패턴을 보유하는 성형부를 구비하는 안테나 (전자의 안테나), 및, II : 안테나 패턴과, 유전율이 2 이상 또한 유전 정접이 0.05 이하이며, 안테나 패턴을 덮는 정합층을 구비하는 안테나 (후자의 안테나) 를 들 수 있다.Among them, an antenna (especially a small antenna) is preferable for the use of the base in the present invention. Specific examples of such an antenna include: I: an antenna pattern, an antenna having a dielectric constant of 2 or more and a dielectric loss tangent of 0.05 or less, and a molded part having an antenna pattern (the former antenna), and II: an antenna pattern and a dielectric constant 2 or more and an antenna having a dielectric loss tangent of 0.05 or less and including a matching layer covering the antenna pattern (the latter antenna).

전자의 안테나는, 본 발명의 조성물을, 성형부에 대응하는 형상을 갖는 형 내에 사출하여, 성형부를 형성하여 제조하는 것이 바람직하다.The former antenna is preferably manufactured by injecting the composition of the present invention into a mold having a shape corresponding to the molded part to form the molded part.

이때, 안테나는, 기체와 안테나 패턴을 별개로 제작한 후, 조립하는 (끼워넣는) 아우터 성형에 의해 제조해도 되고, 성형형 내에 안테나 패턴을 배치한 상태에서, 성형형 내에 성형용 재료를 사출하는 인서트 성형에 의해 제조해도 되고, 후자의 인서트 성형에 의해 제조하는 것이 바람직하다.At this time, the antenna may be manufactured by outer molding in which the body and the antenna pattern are separately produced and then assembled (inserted), or in a state in which the antenna pattern is arranged in the molding die, the molding material is injected into the molding die. You may manufacture by insert molding, and it is preferable to manufacture by the latter insert molding.

인서트 성형에 의하면, 안테나 패턴과 기체가 고도로 접착된 안테나가 얻어진다. 이러한 안테나는, 성능이 우수함과 함께, 내구성도 양호하다.According to the insert molding, an antenna in which the antenna pattern and the base are highly adhered is obtained. Such an antenna is excellent in performance and also has good durability.

사출 성형 시의 가열 온도는, F 폴리머의 융점 이상의 온도로 설정하면 되고, 구체적으로는, 300 ~ 400 ℃ 가 바람직하고, 320 ~ 380 ℃ 가 보다 바람직하다.What is necessary is just to set the heating temperature at the time of injection molding to the temperature more than melting|fusing point of F polymer, Specifically, 300-400 degreeC is preferable and 320-380 degreeC is more preferable.

또, 안테나는, 안테나 패턴을 1 개만 가지고 있어도 되고, 2 개 이상 가지고 있어도 된다.Moreover, an antenna may have only one antenna pattern, and may have it two or more.

후자의 안테나는, 본 발명의 조성물을, 정합층에 대응하는 형상을 갖는 형 내에 공급 및 압축하여 정합층을 형성한 후, 정합층과 안테나 패턴을 조립하는 (끼워넣는) 아우터 성형에 의해 제조하는 것이 바람직하다. The latter antenna is manufactured by supplying and compressing the composition of the present invention into a mold having a shape corresponding to the matching layer to form a matching layer, and then assembling (inserting) the matching layer and the antenna pattern. it is preferable

상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 조성물로부터 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성된 성형품은, 유전 특성이 우수하여, 안테나로서 유용하다.As described above, the molded article formed by injection molding or compression molding from the composition of the present invention has excellent dielectric properties and is useful as an antenna.

본 발명에 의해 얻어지는 안테나의 표면 (기체의 안테나 패턴과 반대 측의 면 (이하, 「안테나 표면」이라고도 기재한다.)) 에는, 추가로 금속층을 형성해도 된다. 금속층은, 기상 성막법에 의해 형성해도 되고, 금속 도금법에 의해 형성해도 된다.A metal layer may be further formed on the surface of the antenna obtained by the present invention (the surface on the opposite side to the antenna pattern of the base body (hereinafter also referred to as "antenna surface")). A metal layer may be formed by the vapor-phase film-forming method, and may be formed by the metal plating method.

금속층을 구성하는 금속으로서는, 구리, 구리 합금, 스테인리스강, 니켈, 니켈 합금 (42 합금도 포함한다), 알루미늄, 알루미늄 합금을 들 수 있다.Examples of the metal constituting the metal layer include copper, copper alloy, stainless steel, nickel, nickel alloy (including alloy 42), aluminum, and aluminum alloy.

금속층의 두께는, 1 ~ 50 ㎛ 가 바람직하고, 10 ~ 25 ㎛ 가 보다 바람직하다. 이러한 두께의 금속층이면, 안테나 전체의 휨을 억제하면서, 각종 용도에 사용하기 쉽다.1-50 micrometers is preferable and, as for the thickness of a metal layer, 10-25 micrometers is more preferable. If it is a metal layer of such a thickness, it is easy to use for various uses, suppressing the curvature of the whole antenna.

또, 전자의 방법에 의하면, 균일하고 또한 안테나 표면과의 밀착성이 우수한 금속층을 형성하기 쉽다. 기상 성막법으로서는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 레이저 어블레이션법을 들 수 있고, 스퍼터링법이 바람직하다.Moreover, according to the former method, it is easy to form the metal layer which is uniform and excellent in adhesiveness with the antenna surface. As a vapor-phase film-forming method, a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, the ion plating method, and the laser ablation method are mentioned, A sputtering method is preferable.

금속층은, 폴리머층 측의 부분 (제 1 부분) 을 기상 성막법에 의해 형성하고, 나머지 부분 (제 2 부분) 을 전기 도금 등에 의해 형성해도 된다.The metal layer may form the polymer layer side part (1st part) by the vapor-phase film-forming method, and may form the remaining part (2nd part) by electroplating etc.

특히, 금속층은, 제 1 부분을 기상 성막법 (특히, 스퍼터링법) 에 의해 형성하고, 제 2 부분을 전해 도금법에 의해 형성하는 것이 바람직하다.In particular, as for the metal layer, it is preferable to form a 1st part by the vapor-phase film-forming method (especially sputtering method), and to form a 2nd part by the electrolytic plating method.

구체적으로는, 금속층은, 스퍼터링법에 의해 nm 오더의 제 1 부분을 형성하고, 이 제 1 부분을 시드층으로 하여, 전해 도금법에 의해 ㎛ 오더까지 성장시켜 형성하는 것이 바람직하다.Specifically, it is preferable to form the metal layer by forming a first portion of the nm order by sputtering, using this first portion as a seed layer, and growing it to the micrometer order by electrolytic plating.

또한, 제 1 부분에 있어서는, 금속의 결정 구조가 기둥상 구조를 형성하고 있는 것이 바람직하다.Moreover, in a 1st part, it is preferable that the metal crystal structure forms the columnar structure.

안테나 표면의 10 점 표면 조도는, 0.1 ㎛ 이상이 바람직하고, 1 ㎛ 이상이 보다 바람직하다. 상기의 10 점 표면 조도는, 20 ㎛ 이하가 바람직하다. 안테나 표면이, 이러한 표면 조도이면, 안테나 표면에 금속층을 강고하게 접착 적층시키기 쉽다. 본 발명에 있어서의 안테나 표면을 형성하는 기체는, 본 발명의 조성물로부터 사출 성형법 또는 압축 성형법에 의해 형성되기 때문에, 그 표면 조도는, 이러한 원하는 범위로 제어하기 쉽다.0.1 micrometer or more is preferable and, as for the 10-point surface roughness of the antenna surface, 1 micrometer or more is more preferable. As for said 10-point surface roughness, 20 micrometers or less are preferable. If the surface of the antenna has such a surface roughness, it is easy to firmly adhere and laminate the metal layer to the surface of the antenna. Since the base forming the antenna surface in the present invention is formed from the composition of the present invention by an injection molding method or a compression molding method, the surface roughness thereof can be easily controlled within such a desired range.

또, 본 발명의 조성물이, 유전체 필러, 특히 금속 산화물을 포함하는 유전 필러를 포함하면, 안테나 표면에 금속층을 강고하게 접착 적층하기 쉽다. In addition, when the composition of the present invention contains a dielectric filler, particularly a dielectric filler containing a metal oxide, the metal layer is easily adhered and laminated to the antenna surface.

안테나 표면에 금속층을 형성한 안테나는, 또한 에칭 처리에 제공하여 상기 금속층에 전송 회로를 형성해도 되고, 땜납 처리에 제공하여 가공해도 된다. 안테나 표면의 금속층이 강고하게 접착 적층되어, 내열성 (땜납 리플로성) 과 내약품성이 우수하기 때문에, 이들 처리에 있어서, 금속층과 안테나가 박리되기 어렵다.An antenna in which a metal layer is formed on the surface of the antenna may be further subjected to etching to form a transmission circuit in the metal layer, or may be subjected to soldering to be processed. Since the metal layer on the surface of the antenna is firmly adhered and laminated and is excellent in heat resistance (solder reflow property) and chemical resistance, in these treatments, the metal layer and the antenna are hardly peeled off.

금속층의 안테나 표면에 대한 박리 강도는, 3 N/cm 이상이 바람직하고, 5 N/cm 이상이 보다 바람직하고, 10 N/cm 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 박리 강도의 상한은, 통상, 25 N/cm 이다.3 N/cm or more is preferable, as for the peeling strength with respect to the antenna surface of a metal layer, 5 N/cm or more is more preferable, 10 N/cm or more is still more preferable. In addition, the upper limit of peeling strength is 25 N/cm normally.

또한, 박리 강도란, 금속층이 형성된 안테나 표면을 직사각형상 (길이 100 mm, 폭 10 mm) 으로 잘라내고, 길이 방향의 일단으로부터 50 mm 의 위치를 고정하고, 인장 속도 50 mm/분, 길이 방향의 편단 (片端) 으로부터 잘라냄편에 대해 90°로, 안테나 표면과 금속층을 박리시켰을 때에 가해지는 최대 하중 (N/cm) 이다.In addition, the peeling strength means that the surface of the antenna on which the metal layer is formed is cut into a rectangular shape (length 100 mm, width 10 mm), a position of 50 mm from one end in the longitudinal direction is fixed, a tensile speed of 50 mm/min, This is the maximum load (N/cm) applied when the surface of the antenna and the metal layer are peeled off at 90° with respect to the piece cut from one end.

이상, 본 발명의 조성물, 안테나의 제조 방법 및 성형품에 대해 설명했지만, 본 발명은, 상기 서술한 실시형태의 구성에 한정되지 않는다.As mentioned above, although the composition of this invention, the manufacturing method of an antenna, and a molded article were demonstrated, this invention is not limited to the structure of the above-mentioned embodiment.

예를 들어, 본 발명의 조성물 및 성형품은, 상기 실시형태의 구성에 있어서, 다른 임의의 구성을 추가로 가져도 되고, 동일한 기능을 발휘하는 임의의 구성과 치환되어 있어도 된다.For example, in the structure of the said embodiment, the composition and molded article of this invention may further have another arbitrary structure, and may be substituted with arbitrary structures which exhibit the same function.

또, 본 발명의 안테나의 제조 방법은, 상기 실시형태의 구성에 있어서, 다른 임의의 공정을 추가로 가져도 되고, 동일한 작용을 일으키는 임의의 공정과 치환되어 있어도 된다.Moreover, in the structure of the said embodiment, the manufacturing method of the antenna of this invention may further have other arbitrary processes, and may substitute arbitrary processes which generate|occur|produce the same effect|action.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

1. F 폴리머 1. F polymer

F 폴리머 1 : TFE 단위, PPVE 단위 및 NAH 단위를, 이 순서로 98.0 몰%, 1.9 몰%, 0.1 몰% 포함하고, 극성 관능기를 갖는 폴리머 (융점 : 300 ℃, 용융 점도 : 1 × 103 Pa·s, MFR : 8 g/10 분) F Polymer 1: TFE unit, PPVE unit and NAH unit, in this order, containing 98.0 mol%, 1.9 mol%, 0.1 mol%, a polymer having a polar functional group (melting point: 300 ° C, melt viscosity: 1 × 10 3 Pa s, MFR: 8 g/10 min)

2. 유전체 필러 2. Dielectric Filler

필러 1 : 티탄산바륨 섬유 (섬유 길이 : 20 ㎛, 섬유 직경 1.5 ㎛) Filler 1: barium titanate fiber (fiber length: 20 μm, fiber diameter 1.5 μm)

필러 2 : 유리 섬유 (횡단면 형상 : 원형, 섬유 길이 : 3 mm, 섬유 직경 11 ㎛, 닛토 방적 주식회사 제조의 「CS-3J-256」) Filler 2: Glass fiber (Cross-sectional shape: circular shape, fiber length: 3 mm, fiber diameter 11 µm, "CS-3J-256" manufactured by Nitto Spinning Co., Ltd.)

필러 3 : 질화붕소 필러 (인편상, 입자경 : 35 mm, 애스펙트비 : 30, 덴카사 제조의 「XGP」) Filler 3: boron nitride filler (scaly, particle diameter: 35 mm, aspect ratio: 30, "XGP" manufactured by Denka Corporation)

필러 4 : 폴리벤즈아졸 섬유 (섬유 길이 : 1 mm, 섬유 직경 : 12 ㎛, 토요보사 제조의 「자일론」) Filler 4: polybenzazole fiber (fiber length: 1 mm, fiber diameter: 12 µm, “Xylon” manufactured by Toyobo Corporation)

필러 5 : 구상 실리카 필러 (아미노 실란 커플링제에 의한 표면 처리품, 평균 입자경 : 0.5 ㎛, 아드마텍스사 제조의 「아드마파인 SO-C2」)Filler 5: spherical silica filler (surface-treated product with an aminosilane coupling agent, average particle diameter: 0.5 µm, "Admapine SO-C2" manufactured by Admatex Co., Ltd.)

3. 조성물 3. Composition

조성물 1 : 66 질량부의 F 폴리머 1 과 34 질량부의 필러 1 을, 340 ℃ 의 실린더 온도로 설정한 2 축 압출기를 사용하여, 용융 혼련하고, 헤드 구멍을 통해 사상으로 성형하고, 또한 수중에서 냉각한 후, φ2 × 5 mm 정도로 컷하여 얻어진 펠릿 Composition 1: 66 parts by mass of F polymer 1 and 34 parts by mass of filler 1 were melt-kneaded using a twin-screw extruder set at a cylinder temperature of 340° C. Then, the pellet obtained by cutting to about φ2 × 5 mm

조성물 2 : 66 질량부의 F 폴리머 1 의 파우더 (평균 입자경 : 20 ㎛) 와 34 질량부의 필러 1 을, 드라이 블렌드하여 얻어진 파우더 Composition 2: Powder obtained by dry blending 66 parts by mass of F polymer 1 powder (average particle diameter: 20 µm) and 34 parts by mass of filler 1

조성물 3 : 70 질량부의 F 폴리머 1 의 파우더 (평균 입자경 : 50 ㎛) 와 10 질량부의 필러 2 와 20 질량부의 필러 3 을 사용한 것 이외에는, 조성물 1 과 동일하게 하여 얻어진 펠릿 Composition 3: Pellets obtained in the same manner as in Composition 1 except that 70 parts by mass of F polymer 1 powder (average particle diameter: 50 µm), 10 parts by mass of filler 2 and 20 parts by mass of filler 3 were used.

조성물 4 : 90 질량부의 F 폴리머 1 의 파우더 (평균 입자경 : 50 ㎛) 와 10 질량부의 필러 4 를, 라보 플라스토밀 장치를 사용하여 용융 혼련하여 얻어진 펠릿 Composition 4: Pellets obtained by melt-kneading 90 parts by mass of F polymer 1 powder (average particle diameter: 50 µm) and 10 parts by mass of filler 4 using a Labo plastomer apparatus.

조성물 5 : 60 질량부의 F 폴리머 1 의 파우더 (평균 입자경 : 50 ㎛) 와 40 질량부의 필러 5 를, 라보 플라스토밀 장치를 사용하여 용융 혼련하여 얻어진 펠릿 Composition 5: Pellets obtained by melt-kneading 60 parts by mass of F polymer 1 powder (average particle diameter: 50 µm) and 40 parts by mass of filler 5 using a Labo plastomer apparatus.

조성물 6 : 90 질량부의 F 폴리머 1 의 파우더 (평균 입자경 : 50 ㎛) 와 10 질량부의 필러 3 을 사용한 것 이외에는, 조성물 1 과 동일하게 하여 얻어진 펠릿Composition 6: Pellets obtained in the same manner as in Composition 1 except that 90 parts by mass of F polymer 1 powder (average particle diameter: 50 µm) and 10 parts by mass of filler 3 were used.

4. 조성물의 성형예 4. Molding example of composition

이하, 기체의 유전율 및 유전 정접은, 측정기로서 네트워크 애널라이저를 사용하여, 공동 공진기 섭동법 (측정 주파수 : 20 GHz) 에 의해 측정했다.Hereinafter, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the substrate were measured by the cavity resonator perturbation method (measurement frequency: 20 GHz) using a network analyzer as a measuring instrument.

4-1. 사출 성형예 4-1. injection molding example

조성물 3 을 사출 성형기에 투입하고, 320 ℃ 에서 용융한 후, 금속제의 성형형의 φ3 mm 의 사이드 게이트에 사출 성형하여, 시트부를 갖는 기체 (유전 기체) 를 얻었다. 이 금속층을 갖는 기체는, 유전율이 3.0 이며, 유전 정접은 0.0019 였다.After injecting|throwing-in the composition 3 and melting|fusing at 320 degreeC, it injection-molded in the side gate of (phi)3mm of the metal molding die, and the base|substrate (dielectric base|substrate) which has a sheet|seat part was obtained. The substrate having this metal layer had a dielectric constant of 3.0 and a dielectric loss tangent of 0.0019.

조성물 3 대신에 조성물 4 를 사용한 것 이외에는, 상기와 동일하게 하여, 기체를 얻었다. 그 유전율은 2.3 이며, 유전 정접은 0.0016 이며, 선팽창 계수는 79 ppm/℃ 였다. A base was obtained in the same manner as above except that the composition 4 was used instead of the composition 3. The dielectric constant was 2.3, the dielectric loss tangent was 0.0016, and the coefficient of linear expansion was 79 ppm/°C.

조성물 3 대신에 조성물 5 를 사용한 것 이외에는, 상기와 동일하게 하여, 기체를 얻었다. 그 유전율은 2.6 이며, 유전 정접은 0.0010 이며, 선팽창 계수는 134 ppm/℃ 였다.A base was obtained in the same manner as above except that composition 5 was used instead of composition 3. The permittivity was 2.6, the dielectric loss tangent was 0.0010, and the coefficient of linear expansion was 134 ppm/°C.

조성물 3 대신에 조성물 6 을 사용한 것 이외에는, 상기와 동일하게 하여, 기체를 얻었다. 그 유전율은 2.3 이며, 유전 정접은 0.0010 이며, 선팽창 계수는 200 ppm/℃ 이하였다.A base was obtained in the same manner as above except that the composition 6 was used instead of the composition 3. The dielectric constant was 2.3, the dielectric loss tangent was 0.0010, and the coefficient of linear expansion was 200 ppm/°C or less.

5. 안테나의 제조예 5. Antenna manufacturing example

5-1. 사출 성형에 의한 안테나의 제조예 5-1. An example of manufacturing an antenna by injection molding

조성물 1 을 사출 성형기에 투입하고, 320 ℃ 에서 용융한 후, 구리박제의 안테나 패턴이 인서트된 금속제의 성형형의 φ3 mm 의 사이드 게이트에 사출 성형하여, 안테나 패턴과, 그것을 보유하는 기체 (유전 기체) 를 구비하는 안테나를 얻었다.The composition 1 is put into an injection molding machine, melted at 320° C., and then injection molded into a φ3 mm side gate of a metal molding mold into which an antenna pattern made of copper foil is inserted, and an antenna pattern and a base having it (dielectric gas) ) to obtain an antenna having

기체의 유전율은 4.0 이며, 유전 정접은 0.03 이었다. 또, 안테나에 있어서, 안테나 패턴과 기체의 계면은, 밀착성이 높아, 강고하게 접착되어 있었다. The dielectric constant of the substrate was 4.0, and the dielectric loss tangent was 0.03. Further, in the antenna, the interface between the antenna pattern and the base had high adhesiveness and was strongly adhered.

5-2. 압축 성형에 의한 안테나의 제조예 5-2. An example of manufacturing an antenna by compression molding

조성물 2 를 압축 성형기에 투입하고, 온도 380 ℃, 압축 압력 17 MPa 의 조건으로 압축 성형하여, 안테나 패턴을 덮는 형상을 갖는 정합층 (두께 0.03 cm 의 정제상, 유전율 : 4.0, 유전 정접 : 0.03) 을 형성했다. 이 정합층을 안테나 패턴에 끼워넣어, 정합층을 구비하는 안테나를 얻었다.The composition 2 is put into a compression molding machine, and is compression molded under the conditions of a temperature of 380° C. and a compression pressure of 17 MPa, and a matching layer having a shape covering the antenna pattern (tablet shape with a thickness of 0.03 cm, dielectric constant: 4.0, dielectric loss tangent: 0.03) has formed This matching layer was sandwiched in the antenna pattern to obtain an antenna including the matching layer.

5-3. 금속층의 형성예 5-3. Formation example of metal layer

상기 「5-1」에서 얻어진 안테나에 있어서의 기체의 표면 (안테나 패턴과 반대 측의 면) 에, 진공 스퍼터링 장치를 사용하여, 니켈크롬 합금층 (두께 : 20 nm, 니켈 함유량 80 %, 크롬 함유량 20 %) 과 구리층 (두께 : 100 nm) 을 이 순서로 형성했다. 또한, 황산구리 도금에 의해, 시드 구리층 상에 구리층 (두께 : 16 ㎛) 을 형성하여, 안테나의 표면에 금속층을 형성했다. 이 금속층은 안테나 표면에 강고하게 접착되어 있고, 그것에 전송 회로를 형성할 때의 내열성 (땜납 리플로성) 이 우수하였다. A nickel-chromium alloy layer (thickness: 20 nm, nickel content 80%, chromium content) on the surface (surface opposite to the antenna pattern) of the base of the antenna obtained in "5-1" above using a vacuum sputtering device 20%) and a copper layer (thickness: 100 nm) were formed in this order. Further, a copper layer (thickness: 16 µm) was formed on the seed copper layer by copper sulfate plating, and a metal layer was formed on the surface of the antenna. This metal layer was firmly adhered to the surface of the antenna, and was excellent in heat resistance (solder reflow property) when a transmission circuit was formed thereon.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

본 발명의 조성물은, 사출 성형성 또는 압축 성형성이 우수하고, 전기·전자 부품을 비롯한 각종 부품 (부재), 특히 안테나의 기체의 제조에 바람직하게 사용할 수 있다.The composition of the present invention is excellent in injection moldability or compression moldability, and can be suitably used for production of various parts (members) including electric and electronic parts, especially antenna bases.

또한, 2019년 8월 29일에 출원된 일본 특허 출원 2019-157041호 및 2019년 10월 11일에 출원된 일본 특허 출원 2019-187947호의 명세서, 특허 청구 범위 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하고, 본 발명의 명세서의 개시로서, 받아들이는 것이다.In addition, the entire contents of the specification, claims, and abstract of Japanese Patent Application No. 2019-157041 filed on August 29, 2019 and Japanese Patent Application No. 2019-187947 filed on October 11, 2019 are incorporated herein by reference, , is to be taken as a disclosure of the specification of the present invention.

Claims (15)

테트라플루오로에틸렌에 기초하는 단위를 함유하는 열용융성의 폴리머를 포함하고, 유전 정접이 0.05 이하인 기체를 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는, 조성물. A composition comprising a heat-fusible polymer containing units based on tetrafluoroethylene and used for forming a gas having a dielectric loss tangent of 0.05 or less by injection molding or compression molding. 제 1 항에 있어서,
상기 기체가, 안테나의 성형부 또는 정합층인, 조성물.
The method of claim 1,
The composition, wherein the base is a molded part or matching layer of the antenna.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기체가, 안테나의 성형부 또는 정합층이며, 상기 성형부 또는 상기 정합층의 두께가 1 cm 이하인, 조성물.
3. The method of claim 1 or 2,
The composition, wherein the base is a molding part or a matching layer of the antenna, and the thickness of the molding part or the matching layer is 1 cm or less.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 유전율이 1.5 이상인 유전체 필러를 포함하고, 상기 기체의 유전율이 1.5 초과인, 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
further comprising a dielectric filler having a dielectric constant of 1.5 or greater, wherein the dielectric constant of the substrate is greater than 1.5.
제 4 항에 있어서,
상기 유전체 필러가, 평균 입자경 2 ㎛ 이하의 구상 필러, 또는 길이 30 ㎛ 이하 또한 직경 2 ㎛ 이하의 섬유상 필러인, 조성물.
5. The method of claim 4,
The composition wherein the dielectric filler is a spherical filler having an average particle diameter of 2 µm or less, or a fibrous filler having a length of 30 µm or less and a diameter of 2 µm or less.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 조성물에서 차지하는 상기 열용융성의 폴리머의 비율에 대한 상기 유전체 필러의 비율의 질량으로의 비가, 1/10 ~ 1/1 인, 조성물.
6. The method according to claim 4 or 5,
The composition, wherein the ratio of the ratio of the dielectric filler to the ratio of the heat-meltable polymer in the composition to the mass is 1/10 to 1/1.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열용융성의 폴리머가, 퍼플루오로(알킬비닐에테르), 헥사플루오로프로필렌 또는 플루오로알킬에틸렌에 기초하는 단위를 함유하는, 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The composition wherein the heat-meltable polymer contains units based on perfluoro(alkylvinylether), hexafluoropropylene or fluoroalkylethylene.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하는, 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Further comprising polytetrafluoroethylene.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하고, 상기 조성물에서 차지하는 상기 열용융성의 폴리머의 비율에 대한 상기 폴리테트라플루오로에틸렌의 질량으로의 비가 1 이하이며, 상기 기체를 사출 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는, 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Further, it contains polytetrafluoroethylene, and the ratio of the mass of the polytetrafluoroethylene to the ratio of the heat-fusible polymer in the composition is 1 or less, in order to form the base by injection molding used, the composition.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하고, 상기 조성물에서 차지하는 상기 열용융성의 폴리머의 비율에 대한 상기 폴리테트라플루오로에틸렌의 질량으로의 비가 1 이상이며, 상기 기체를 압축 성형에 의해 형성하기 위해서 사용되는, 조성물.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Further, it contains polytetrafluoroethylene, and the ratio of the mass of the polytetrafluoroethylene to the ratio of the heat-fusible polymer occupied in the composition is 1 or more, and in order to form the gas by compression molding used, the composition.
안테나 패턴과, 유전 정접이 0.05 이하이며, 상기 안테나 패턴을 보유하는 성형부를 구비하는 안테나의 제조 방법으로서, 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을, 상기 성형부에 대응하는 형상을 갖는 형 내에 사출하여 상기 성형부를 형성할 때에, 상기 성형형 내에 상기 안테나 패턴을 배치한 상태로 하거나, 상기 성형부를 형성한 후, 상기 성형부와 상기 안테나 패턴을 조립하는, 안테나의 제조 방법. 10. A method of manufacturing an antenna comprising an antenna pattern and a molded part having a dielectric loss tangent of 0.05 or less, wherein the composition according to any one of claims 1 to 9 is applied to a shape corresponding to the molded part. When the molding part is formed by injection into a mold having 안테나 패턴과, 유전 정접이 0.05 이하이며, 상기 안테나 패턴을 덮는 정합층을 구비하는 안테나의 제조 방법으로서, 제 1 항 내지 제 8 항 및 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을, 상기 정합층에 대응하는 형상을 갖는 형 내에 공급 및 압축하여 정합층을 형성한 후, 상기 정합층과 상기 안테나 패턴을 조립하는, 안테나의 제조 방법. 11. A method for manufacturing an antenna comprising an antenna pattern and a matching layer having a dielectric loss tangent of 0.05 or less and covering the antenna pattern, wherein the composition according to any one of claims 1 to 8 and 10 is added to the matching layer. A method of manufacturing an antenna, comprising: forming a matching layer by supplying and compressing it into a mold having a shape corresponding to , and then assembling the matching layer and the antenna pattern. 제 12 항에 있어서,
상기 정합층의 상기 안테나 패턴과 반대 측의 면에, 추가로 금속층을 형성하는, 안테나의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
A method of manufacturing an antenna, further comprising forming a metal layer on a surface of the matching layer opposite to the antenna pattern.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물로부터, 사출 성형 또는 압축 성형에 의해 형성된 성형품. A molded article formed from the composition according to any one of claims 1 to 10 by injection molding or compression molding. 제 14 항에 있어서,
상기 성형품이 안테나인, 성형품.
15. The method of claim 14,
The molded article is an antenna.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130137404A (en) 2012-06-07 2013-12-17 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crsytal composition, method for forming optical isotropic phase of liqui cyrstal and liquid crystal display device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0787291B2 (en) * 1987-03-23 1995-09-20 富士通テン株式会社 Manufacturing method of in-vehicle speaker integrated antenna
JPH1025363A (en) * 1996-07-08 1998-01-27 Otsuka Chem Co Ltd Plating assistant, resin composition for plating blended with the same assistant and electronic part
JP3060297B2 (en) * 1998-02-10 2000-07-10 株式会社コスモ総合研究所 Resin composition, molded product and method for producing resin composition
JPH11255992A (en) * 1998-03-11 1999-09-21 Cosmo Sogo Kenkyusho Kk Resin composition, molding, and production of the resin composition
JP2000143921A (en) * 1998-11-05 2000-05-26 Daikin Ind Ltd Fluororesin composition for part of electronic or electric equipment and part for electronic or electric equipment
JP4524591B2 (en) * 2004-08-26 2010-08-18 株式会社豊田自動織機 Composite material and manufacturing method thereof
US8067253B2 (en) * 2005-12-21 2011-11-29 Avery Dennison Corporation Electrical device and method of manufacturing electrical devices using film embossing techniques to embed integrated circuits into film
JP6390694B2 (en) * 2014-02-26 2018-09-19 Agc株式会社 Manufacturing method of electric wire, manufacturing method of molded product, and manufacturing method of resin material containing modified fluororesin
JP6708947B2 (en) * 2016-01-14 2020-06-10 日立化成株式会社 Manufacturing method of resin film for manufacturing printed wiring board for millimeter wave radar
CN109892022A (en) * 2016-09-01 2019-06-14 Agc株式会社 Circuit board and its manufacturing method
JP6708275B2 (en) * 2018-03-26 2020-06-10 ダイキン工業株式会社 Fluororesin materials, high frequency transmission fluororesin materials and high frequency transmission coated wires
JP2019183118A (en) * 2018-03-30 2019-10-24 Agc株式会社 Molded body, laminate, powder dispersion, and manufacturing method of powder dispersion
JP2019176958A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 Agc株式会社 Base material, printed wiring board, biological contact device, biological implant device and artificial organ
KR20210057015A (en) * 2018-09-20 2021-05-20 도레이 카부시키가이샤 Thermoplastic polyester resin composition and molded article

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130137404A (en) 2012-06-07 2013-12-17 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crsytal composition, method for forming optical isotropic phase of liqui cyrstal and liquid crystal display device

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