KR20220044652A - 피드백 제어 장치, 리소그래피 장치, 측정 장치, 가공 장치, 평탄화 장치, 물품 제조 방법, 저장 매체 및 피드백 제어 방법 - Google Patents

피드백 제어 장치, 리소그래피 장치, 측정 장치, 가공 장치, 평탄화 장치, 물품 제조 방법, 저장 매체 및 피드백 제어 방법 Download PDF

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Abstract

피드백 제어 장치는, 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 제어 대상에 대한 제어량을 출력하는 피드백 제어 장치이며, 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하는 제1 제어 유닛; 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하며, 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛; 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 제1 제어량과 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 제2 제어량을 사용해서 제어 대상을 조작하는 조작 유닛; 및 제2 제어 유닛에 입력되는 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛을 포함한다.

Description

피드백 제어 장치, 리소그래피 장치, 측정 장치, 가공 장치, 평탄화 장치, 물품 제조 방법, 저장 매체 및 피드백 제어 방법{FEEDBACK CONTROL DEVICE, LITHOGRAPHY DEVICE, MEASUREMENT DEVICE, PROCESSING DEVICE, PLANARIZING DEVICE, ARTICLE MANUFACTURING METHOD, STORAGE MEDIUM, AND FEEDBACK CONTROL METHOD}
본 발명은 기계 학습을 사용한 피드백 제어 장치 등에 관한 것이다.
대상 물체의 물리량을 제어하는 제어 장치로서, PID(Proportional-Integral-Differential) 제어에 기초하는 것 같은 고전 제어기가 주로 사용된다. 근년에는, 고전 제어 이론이나 현대 제어 이론에 기초하는 제어계 이외에, 기계 학습(강화 학습을 포함함)을 사용하는 제어계도 사용된다.
또한, 기계 학습을 포함하지 않는 제어계와 기계 학습에 기초하는 제어계를 조합한 제어계도 사용된다. 일본 특허 공개 제2019-71405호에 개시된 피드백 제어 장치는, 기계 학습을 포함하지 않는 제어계와 기계 학습에 기초하는 제어계 양자 모두를 사용하며, 기계 학습에 기초하는 제어계의 출력에 리미터를 제공함으로써, 피드백 제어 장치의 신뢰성 저하를 방지하고 있다.
그러나, 종래 기술의, 기계 학습을 포함하지 않는 제어계와 기계 학습에 기초하는 제어계를 사용하는 피드백 제어 장치는 다음의 문제를 갖는다. 일반적으로, 기계 학습을 포함하지 않는 PID 제어기 등을 사용한 피드백 제어 장치에서는, 제어 성능을 향상시키기 위해서 제어계의 샘플링 주파수를 증가시킨다. 샘플링 주파수가 증가함에 따라, 샘플링 시간은 짧아지고 응답성이 향상된다.
대조적으로, 기계 학습에 기초하는 제어계는, 여러 개의 샘플의 제어 편차 데이터를 뉴럴 네트워크(이하, "NN"라 칭함)에 입력하고 제어 명령을 출력한다. NN에 입력되는 제어 편차 데이터의 시간 길이는 샘플링 시간 × 샘플의 수이다. 샘플링 시간이 짧아지면, NN에 입력되는 제어 편차 데이터의 시간 길이는 짧아진다. 기계 학습에 기초하는 제어계에 의해 특히 저주파 외란 진동을 억제하기를 원하는 경우, 제어 편차 데이터가 짧은 시간 길이를 갖는 경우, 제어 편차 데이터에는 억제하기를 원하는 저주파 외란 진동 중 작은 부분만이 포함된다. 이러한 상태에서는, 기계 학습이 잘 진행되지 않고, 기계 학습에 기초하는 제어계가 저주파 외란 진동을 억제할 수 없다.
따라서, 본 발명의 목적 중 하나는 기계 학습에 기초하는 제어계를 사용해서 외란 진동을 효과적으로 억제할 수 있는 피드백 제어 장치를 제공하는 것이다.
본 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 일 양태에 따른 피드백 제어 장치는, 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하는 피드백 제어 장치이며,
적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서, 상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛; 상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛; 상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및 상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는, 적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함한다.
본 발명의 추가적인 특징은 첨부된 도면을 참고한 실시예에 대한 다음의 설명으로부터 명확해질 것이다.
도 1 제1 실시예에 따른 임프린트 장치를 도시하는 도면이다.
도 2 제1 실시예에 따른 얼라인먼트 및 다른 위치결정을 위한 피드백 제어기의 개요를 도시하는 기능 블록도이다.
도 3 제1 실시예에 따른 제2 제어계(20)의 예시적인 구성을 도시하는 도면이다.
도 4a는 편차 메모리(21)의 수 및 NN(23)의 노드(22)의 수가 동일하게 10인 제2 제어계(20)의 예를 도시하는 도면이다. 도 4b는 편차 메모리(21)의 수가 NN(23)의 노드의 수보다 큰 제2 제어계(20)의 예를 도시하는 도면이다.
도 5는 외란 진동의 일례를 도시하는 도면이다.
도 6은 제2 실시예에 따른 제2 제어계의 개략도이다.
이하, 첨부 도면에 기초하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 설명한다. 설명되는 제어 대상은 각 실시예에 한하지 않고, 제어 대상의 종류는 피드백 제어에 이용 가능한 물리량인 한 제한되지 않는다는 것에 유의한다. 전형적인 제어 대상을 아래에 열거한다. 예시적인 제어 대상은 물체의 직진 및 회전 방향의 변위, 속도, 또는 가속도와 기체 또는 유체의 유량, 유속, 또는 압력을 포함한다. 각 도면에서, 동일한 부재 또는 요소에는 동일한 참조 번호를 첨부하고, 중복하는 설명은 생략하거나 간략화한다.
다른 예시적인 제어 대상은 유체의 액면 높이, 물체, 기체 또는 액체의 온도, 및 전기 회로의 전류, 전압, 또는 전하를 포함한다. 또한, 다른 예시적인 제어 대상은 자계에서의 자속, 자속 밀도, 또는 음장의 음압을 포함한다. 이들 물리량은 공지된 센서를 사용하여 검지 유닛에 의해 측정되며, 측정값이 제어 장치에 입력된다. 제어 변수 구동 유닛은 제어 대상의 물리량에 변화를 부여하는 능동 요소이며, 제어 대상이 물체의 위치, 속도 또는 가속도일 때, 모터, 압전 소자 등이 사용된다. 기체, 유체 등에는 펌프, 밸브 등이 사용될 수 있다. 전기계에서는, 전류 또는 전압을 제어하는 드라이버 등이 사용된다.
(제1 실시예)
제1 실시예에서는, 기판에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치의 일례로서 임프린트 장치를 설명한다. 도 1은 임프린트 장치의 개략도이다. 임프린트 장치는, 기판 상에 공급된 임프린트재와 몰드를 접촉시키고 임프린트재에 경화 에너지를 부여함으로써, 몰드의 요철 패턴이 전사된 경화물의 패턴을 형성하는 형성 유닛을 포함하는 장치이다.
예를 들어, 임프린트 장치는, 기판 상에 임프린트재를 공급하고, 요철 패턴이 형성된 몰드를 기판 상의 임프린트재에 접촉시킨 상태에서 임프린트재를 경화시킨다. 또한, 몰드와 기판 사이의 거리를 넓혀서 경화된 임프린트재로부터 몰드를 박리(이형)함으로써, 임프린트 장치는 기판 상의 임프린트재에 몰드의 패턴을 전사할 수 있다.
이러한 일련의 처리는, 임프린트 처리라 지칭되며, 기판의 복수의 샷 영역의 각각에 대해서 행해진다. 요약하면, 1매의 기판의 복수의 샷 영역의 각각에 대하여 임프린트 처리를 행하는 경우에는, 1매의 기판의 샷 영역의 수만큼 임프린트 처리가 반복적으로 행해진다.
도 1에서, 임프린트 장치(100)는 기계적 구조와 제어계(200)를 포함한다. 임프린트 장치(100)의 본체 구조체(101)는 공기 스프링 등을 사용한 삼족 또는 사족 진동 방지 기구(102)에 의해 바닥 위에 배치된다. 웨이퍼(기판)(103)는 웨이퍼 척(도시되지 않음)에 의해 웨이퍼 스테이지(기판 스테이지)(7)에 보유지지된다. 웨이퍼 스테이지(7)는, 웨이퍼(103)의 전체면의 각 샷 영역에 임프린트 처리를 행하기 위해서 X 방향 및 Y 방향으로 웨이퍼(103)를 이동시킬 수 있다.
또한, 웨이퍼 스테이지(7)는, 웨이퍼(103)를 웨이퍼 교환 핸드(도시되지 않음)로 반입 또는 반출하는 교환 위치로 웨이퍼(103)를 이동시킬 수 있기에 충분한 X 방향 및 Y 방향 스트로크를 갖는다. 웨이퍼 스테이지(7)는 도 1에서는 간단하게 휠을 갖는 하나의 상자로 도시되지만, 웨이퍼 스테이지(7)는 실제로는 정압 안내를 사용하여 X 방향으로 자유롭게 이동하도록 안내되며, 리니어 모터(구동 유닛)에 의해 X 방향으로 구동력이 부여된다. 또한, Y 스테이지(도시되지 않음)가 정압 안내 및 리니어 모터에 의해 웨이퍼 스테이지(7) 상에서 Y 방향으로 이동가능하다.
구동 유닛으로서의 모터(5)는 구동 회로로서의 전류 드라이버(4)에 의해 구동된다. 이동 대상 물체(제어 대상)로서의 웨이퍼를 이동시키는 이동 유닛은, 스테이지, 구동 유닛으로서의 모터(5), 및 구동 회로로서의 전류 드라이버(4)를 포함한다. 웨이퍼 스테이지(7)의 구성은 이러한 구성으로 한정되지 않고, 노광 장치용의 웨이퍼 스테이지에 사용되는 고정밀 위치결정 스테이지를 적절히 사용할 수 있다는 것에 유의한다.
웨이퍼 스테이지(7)의 X 방향(도면 중 좌우 방향)의 위치는 위치 측정 유닛(2)에 의해 측정된다. 위치 측정 유닛(2)은 본체 구조체(101) 위에 구성된 스케일(도시되지 않음), 웨이퍼 스테이지(7) 상의 헤드, 및 연산 유닛의 리니어 인코더를 포함한다. 마찬가지로, Y 방향(지면에 수직인 방향)을 측정하는 Y축 인코더(도시되지 않음)도 제공된다.
웨이퍼 스테이지(7)의 위치를 측정하기 위해서, 본체 구조체(101)에 제공된 간섭계와 웨이퍼 스테이지(7)에 제공된 반사 미러의 조합을 사용할 수 있다. 임프린트재로서의 광경화성 수지는 디스펜서(107)에 의해 웨이퍼(103)의 샷 영역 위치에 공급된다. 그때, 웨이퍼 스테이지(7)는 웨이퍼 상의 수지 도포 위치를 디스펜서(107)의 바로 아래로 위치결정한다. 계속해서, 웨이퍼 스테이지(7)는 웨이퍼 상의 수지 도포 위치를 미세한 패턴이 형성된 몰드(104)의 바로 아래로 위치결정한다.
몰드(104)는 임프린트 헤드(105)에 의해 보유지지된다. 임프린트 헤드(105)는 Z 방향(X 방향 및 Y 방향에 수직인 방향)으로 몰드(104)를 이동시킬 수 있도록 구성된다. 웨이퍼(103)의 샷 영역의 위치가 몰드(104) 바로 아래로 이동할 때까지, 몰드(104)는 웨이퍼(103)의 Z 방향의 상방의 위치에서 대기한다. 웨이퍼(103)의 샷 위치가 몰드(104) 바로 아래로 위치결정되는 것에 응답하여, 몰드(104)는 임프린트 헤드(105)에 의해 하강되어 수지에 몰드(104)의 패턴부를 가압한다.
반도체 디바이스 등을 임프린트 장치를 사용하여 제조하는 경우, 몰드(104)의 패턴을 웨이퍼(103) 상의 수지에 전사할 때에 이전의 층과의 위치결정의 정밀도가 중요하다. 이 위치결정을 "얼라인먼트"라 지칭한다. 얼라인먼트 검출기(106)는, 웨이퍼(103) 및 몰드(104)의 양자 모두에 제공된 얼라인먼트 마크(도시되지 않음)를 광학적으로 검출해서 화상 처리를 행하고, X 및 Y 방향의 얼라인먼트 마크의 미스얼라인먼트를 검출한다. 이러한 미스얼라인먼트 정보는 후술하는 제어계(200)에 보내지고, 웨이퍼 스테이지(7) 또는 임프린트 헤드(105)의 X 및 Y 위치를 보정함으로써 얼라인먼트를 행한다.
얼라인먼트가 완료되면, 조명계(108)가 노광 광(자외광)을 투명한 몰드(104)를 통해서 수지에 조사하여, 수지를 경화시킨다. 수지가 경화된 후, 임프린트 헤드(105)는 몰드(104)를 상승시키고 웨이퍼(103) 상의 수지로부터 몰드(104)를 이형한다. 이러한 일련의 공정에 의해, 웨이퍼(103) 상의 수지에는 몰드(104)에 새겨진 패턴에 대응한 패턴이 전사(형성)된다.
마찬가지로, 임프린트 처리를 샷 영역 위치를 변경하면서 순차적으로 행하고, 1매의 웨이퍼의 모든 샷 영역에 대해서 임프린트 처리를 완료하면, 웨이퍼 스테이지(7)는 웨이퍼 교환 위치로 이동한다. 그리고, 임프린트된 웨이퍼를 웨이퍼 교환 핸드(도시되지 않음)에 의해 회수하고, 다음 신규 웨이퍼를 장착한다.
도 2는 제1 실시예에 따른 상기 얼라인먼트 조정의 위치결정 및 다른 위치결정을 행하기 위한 피드백 제어 장치를 나타내는 개략적인 기능 블록도이다. 이 피드백 제어 장치는, 임프린트 장치 내에 구성되어 있고, 예를 들어 제어 대상인 스테이지의 위치의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관련된 정보를 입력으로서 취하며, 제어 대상에 대한 제어량을 출력한다.
점선 내측의 부분은 제어계(200)에 대응하며, 복잡한 연산 계산을 행하기 위해서 디지털 계산기가 사용된다. 제어계(200)는, 컴퓨터로서의 CPU 및 FPGA 같은 연산 처리 장치, 및 컴퓨터 프로그램을 저장하는 메모리 같은 저장 장치를 포함한다. 장치 주 제어 유닛(6)은 임프린트 장치 전체를 제어하는 제어기이며, 임프린트 장치가 행하는 작업의 시퀀스 관리에 기초하여 스테이지 제어 유닛(1) 및 다른 제어 유닛(도시되지 않음)에 명령을 보내는 역할을 갖는다.
위치 명령 유닛(3)은, 장치 주 제어 유닛(6)으로부터 스테이지 위치의 목표 좌표를 취득하고, 목표 좌표를 저장하며, 이들 값을 스테이지 제어 유닛(1)에 보낸다. 상기 얼라인먼트 검출기(106)에 의해 취득되는 미스얼라인먼트 정보도 위치 명령 유닛(3)에 입력되며, 웨이퍼 스테이지(7)의 목표 좌표에 반영된다. 위치 측정 유닛(2)은, 미리결정된 샘플링 시간마다 스테이지 위치를 측정하고, 측정된 스테이지 위치를 스테이지 제어 유닛(1)(도 2의 점선 내측의 부분)에 보낸다.
스테이지 제어 유닛(1)에서는, 편차 계산 유닛(13)이 위치 측정 유닛(2)으로부터 보내진 스테이지 위치(측정값)와 위치 명령 유닛(3)으로부터 보내진 스테이지 위치의 목표값 사이의 차분(제어 편차, 이하 "스테이지 편차"라 지칭함)을 계산한다. 그리고, 스테이지 편차는 제1 제어계(10)와 제2 제어계(20)에 보내진다.
제1 제어계(10)는 PID 제어기를 사용하고, 스테이지 편차에 관한 정보를 입력으로서 사용하여 웨이퍼 스테이지(7)에 대한 제1 제어량(U1)을 출력한다. 제1 제어계(10)는, 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하며 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하는 제1 제어 유닛으로서 기능하며, 제1 제어 공정을 실행한다. 본 실시예에서는, 제1 제어계(10)는 기계 학습을 사용하지 않고 제어 대상에 대한 제어량을 출력한다는 것에 유의한다. 그러나, 기계 학습이 예를 들어 부분적으로 사용될 수 있다.
대조적으로, 제2 제어계(20)는 도 3에 도시된 것과 같은 구성의 뉴럴 네트워크(NN)(23)를 포함한다. 제2 제어계(20)는, 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하며, 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력한다. 또한, 제2 제어계(20)는, 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛으로서 기능하며, 제2 제어 공정을 실행한다. 기계 학습에 의해 결정되는 파라미터는 외부 스토리지로부터 다운로드될 수 있거나 임프린트 장치(100)에 저장될 수 있다는 것에 유의한다.
도 3은 제2 제어계(20)의 구성예를 도시하는 도면이다. 제2 제어계(20)는, 스테이지 편차의 이력을 미리정해진 시간 사이클로 샘플링하고 저장하는 편차 메모리(21), 입력 노드(22) 및 NN(23)을 포함한다. 도 3은 입력 노드(22)의 수가 5인 예를 나타낸다. NN(23)은 입력층(L1), 제1 은닉층(L2), 제2 은닉층(L3), 및 출력층(L4)을 포함한다. 제1 은닉층(L2)은 입력층(L1)의 신호에 대해 미리결정된 가중치부여 계산을 행하고, 제2 은닉층(L3)은 제1 은닉층(L2)의 출력에 대해 가중치부여 계산을 행한다. 출력층(L4)은 제2 은닉층(L3)의 출력에 대해 가중치부여 계산을 행한다.
각각의 가중치부여 계산의 계수(파라미터)는 사전에 어떠한 종류의 기계 학습에 의해 조정된다. 기계 학습 방법으로서, 예를 들어 시행 착오를 통해 값을 최대화하는 행동을 선택하는 강화 학습에 기초하는 파라미터 조정 방법을 사용할 수 있다. 그러나, 파라미터는 어떠한 기계 학습 방법을 사용해서도 조정될 수 있다. 은닉층 및 노드의 수는 증가될 수 있지만, 이는 계산량을 증가시키고 처리 속도를 저하시킬 것이라는 것에 유의한다.
NN(23)은, 출력을 명령값의 차원에 직접 대응하는 제2 제어량(U2)으로서 출력하는 네트워크(정책 네트워크)일 수 있거나, 또는 명령값의 값을 계산하는 네트워크(행동 값 네트워크)일 수 있다는 것에 유의한다. 행동 값 네트워크의 경우, NN(23) 후에 값이 최대인 행동을 선택하는 선택 유닛이 추가되고, 선택 유닛에 의해 선택된 명령값이 제2 제어량(U2)으로서의 제2 제어계(20)의 출력이 된다.
가산기(14)는 제1 제어계(10)에 의해 생성된 출력값(U1)(제1 제어량) 및 제2 제어계(20)에 의해 생성된 출력값(U2)(제2 제어량)의 합계를 출력한다. 가산기(14)의 출력(조작량)은 D/A 변환기(도시되지 않음)를 통과하여 아날로그 신호가 되고, 이는 그 후 전류 드라이버(4)에 보내지고 입력되어 모터(5)에 의해 제어 대상을 조작한다. 여기서, 가산기(14), 전류 드라이버(4) 및 모터(5)는 제1 제어량 및 제2 제어량을 사용해서 제어 대상을 조작하는 조작 유닛으로서 기능하여 조작 공정을 실행한다. 본 실시예에서는, 제1 제어계(10)에 의해 생성되는 출력값(U1)(제1 제어량) 및 제2 제어계(20)에 의해 생성되는 출력값(U2)(제2 제어량)이 가산된다는 것에 유의한다. 그러나, 승산 등도 사용될 수 있거나, 또는 상황에 따라 어느 하나가 선택될 수 있다.
전류 드라이버(4)는 모터(5)의 코일을 통해 흐르는 전류의 값이 가산기(14)의 출력이 되도록 제어를 적용한다. 모터(5)의 구동력은 코일을 통해 흐르는 전류에 비례하므로, 제1 제어계(10) 및 제2 제어계(20)의 출력값의 합에 대응하는 힘이 웨이퍼 스테이지(7)에 인가된다. 제1 제어계(10)는 위치 피드백 제어계를 주로 담당하는 한편, 제2 제어계(20)는 제1 제어계(10)에 의해 전부 보상될 수 없는 스테이지 편차를 억제하도록 제어된다. 이렇게 구성함으로써, 제1 제어계(10)만을 사용해서 제어를 실행하는 제어계에 비해, 스테이지 편차를 매우 작게 할 수 있어, 임프린트 장치의 스테이지(기판) 및 다른 부분의 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있다.
이어서, 제2 제어계(20)의 편차 메모리에 대해서 도 4a 및 도 4b를 사용해서 설명한다. 도 4a 및 도 4b는 제2 제어계(20)의 편차 메모리(21)를 도시하는 도면이다. 제2 제어계(20)는, 스테이지 편차 로그를 미리정해진 시간 사이클(고정된 시간 간격)로 샘플링하고 저장(갱신)하는 편차 메모리(21), 및 예를 들어 도 3에 도시된 바와 같이 구성되는 NN(23)로 구성된다. 도 4a 및 도 4b에서, NN(23)이 입력 노드(22)를 가지며 입력 노드(22)의 수가 10개인 예를 설명한다. 입력된 스테이지 편차에 기초하여, NN(23)이 제1 제어계(10)의 제1 제어량(U1)을 보정하기 위한 보정값을 출력하도록, 네트워크 파라미터 가중치 등이 조정된다.
도 4a는, 제1 제어계와 기계 학습에 의한 제2 제어계를 병용하는 피드백 제어에서 편차 메모리(21)의 수와 NN(23)의 노드(22)의 수가 동일하게 10인 예를 나타내는 도면이다. 스테이지 제어 유닛(1)의 샘플링 주파수가 Fs=10kHz인 경우, 샘플링 시간은 Ts=1/Fs=0.1ms이며, 편차 메모리(21)에는 0.1ms마다 새로운 스테이지 편차가 입력된다. NN(23)에는, 0.1ms×10=1ms 시간 길이의 스테이지 편차가 입력된다.
대조적으로, 도 4b는 제1 실시예에 따른 피드백 제어의 예를 도시하며, 편차 메모리(21)의 수는 NN(23)의 입력 노드(22)의 수보다 크다. 편차 메모리(21)는 M개(M은 자연수)의 스테이지 편차를 저장할 수 있으며, 가장 최근의 M개의 스테이지 편차가 저장된다. 편차 메모리(21)의 M개의 스테이지 편차를 씨닝(thinning)함으로써 NN(23)의 입력 노드의 수(N)에 대한 스테이지 편차가 선택되고 NN(23)에 입력된다. 이와 같이, 제어 편차값은 편차 메모리(21)를 통해서 입력 노드(22)에 입력된다. 또한, 편차 메모리(21)는 제2 제어 유닛(제2 제어계(20))에 입력되는 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하기 위한 샘플링 유닛으로서 기능하고 샘플링 공정을 실행한다.
제1 실시예에서는, M개의 스테이지 편차로부터, N개의 스테이지 편차가 L개 단위로 NN(23)에 입력된다. 편차 메모리(21)의 수(M)는 M=L×(N-1)+1로 표현된다. 도 4b는 M=46, N=10, 및 L=5인 경우를 나타내며, 도 4a와 마찬가지로 편차 메모리(21)에는 0.1ms마다(고정된 시간 간격마다) 새로운 스테이지 편차가 입력되어 갱신된다.
이것은, 본 실시예에서는 제1 제어계(10)에도 0.1ms마다 새로운 스테이지 편차가 입력되기 때문에, 제1 제어계(10)와 제2 제어계(20) 사이의 입력을 동기화하기 위한 것이다. 즉, 제1 제어계와 제2 제어계에는 동일한 주기로 또는 정수배의 주기로 스테이지 편차가 동기화되어 입력된다. 이렇게, 본 실시예에서는, 편차 메모리(21)에 입력되는 제어 편차는 제1 제어 유닛의 입력과 동기해서 소정의 미리결정된 간격마다 갱신되도록 구성된다.
L=5의 경우에, 5번째 스테이지 편차마다 스테이지 편차를 씨닝함으로써 편차 메모리(21)로부터 스테이지 편차를 선택하기 때문에, 제2 제어계(20)의 샘플링 시간은 0.1ms×5=0.5ms로 의사적으로 변경된다. 따라서, NN(23)에 입력되는 스테이지 편차의 시간 길이는 0.5ms×10=5ms가 된다. 따라서, 제1 실시예의 제2 제어계(20)는 도 4a에 나타내는 대비 예에 비하여 5배의 시간 길이의 스테이지 편차를 NN(23)에 입력할 수 있다. 즉, 편차의 샘플링 피치를 5배 증가시킬 수 있다.
도 5는 억제하기를 원하는 저주파 외란 노이즈(외란 진동)의 일례를 나타내는 도면이다. 억제하기를 원하는 저주파 외란 노이즈는 임프린트 장치 자신의 특성, 임프린트 장치의 설치 조건, 장치의 에이징(aging) 등에 따라 다르다. 도 5에 나타내는 저주파 외란 노이즈의 예에서는, 주파수는 25Hz이며 주기는 40ms이다. 도 4a에 나타내는 예의 경우, 억제하기를 원하는 외란 진동의 1/40 파장분의 신호만이 NN(23)에 입력될 수 있다.
대조적으로, 제1 실시예의 제2 제어계(20)는, NN(23)에서 억제하기를 원하는 저주파 외란 진동의 1/8 파장에 상당하는 신호를 입력할 수 있다. 즉, 제2 제어 유닛의 미리결정된 주기(5번째 변동마다의 주파수), 고정된 간격(0.1ms), 및 제2 제어 유닛의 입력 노드의 수(10)의 곱이 억제하고자 하는 진동의 주기의 1/8 이상으로 설정되므로, 저주파 외란 노이즈를 충분히 보정할 수 있다.
이렇게, 제1 실시예에서는, 억제하기를 원하는 외란 진동이 충분한 주기 동안 NN(23)에 입력될 수 있기 때문에, NN(23)의 네트워크 파라미터를 더 최적화할 수 있으며, 억제하기를 원하는 외란 진동을 더 효과적으로 억제할 수 있다. 억제하기를 원하는 충분한 수의 저주파 외란 진동을 NN(23)에 입력하기 위해서는, NN(23)의 입력 노드의 수(N)를 증가시키는 방법도 있다는 것에 유의한다. 그러나, 입력 노드의 수를 증가시킴으로써, 은닉층의 노드의 수도 증가하고, 따라서 제2 제어계(20)의 연산량이 크게 증가하고, 이는 연산 처리가 제시간에 완료되지 못하게 할 수 있다.
전술한 바와 같이, 제1 실시예에서는, 스테이지 제어 유닛(1)의 샘플링 주파수를 높게 유지하면서, 제2 제어계의 샘플링 시간을 의사적으로 길어지게 하도록 피드백 제어 장치를 구성한다. 이에 의해, 제1 제어계(10)의 제어 성능을 유지하면서, 제2 제어계의 계산량을 증가시키지 않고 제2 제어계가 저주파 외란 노이즈를 충분히 억제하는 것이 가능해진다. 이와 같이, 상기 예의 리소그래피 장치에 따르면, 피드백 제어 장치에 의해 제어되는 제어 대상으로서의 스테이지를 사용해서 리소그래피를 위한 고정밀 패턴을 형성 유닛에 의해 형성할 수 있다. 제어 대상은 스테이지에 한정되지 않고 몰드일 수 있다는 것에 유의한다.
<제2 실시예>
이어서, 도 6에 기초하여, 제2 실시예의 피드백 제어 장치에 대해서 설명한다. 도 6은 제2 실시예에 따른 제2 제어계의 개략도이다. 또한, 제1 실시예와 마찬가지로, M=46, N=10, 및 L=5인 예를 나타낸다.
그러나, 제2 실시예의 제2 제어계(20)에서는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 제2 제어계(20)에 입력되는 스테이지 편차를 미리결정된 간격(L개의 샘플 간격분) 동안 홀드하도록 편차 홀드 유닛(24)이 제공된다. 그 결과, 편차 메모리(21)에는 L개의 샘플 간격(도 6의 경우에는, 5개의 샘플 간격마다) 동일한 편차가 입력된다. 여기서, 편차 홀드 유닛(24)은 편차 메모리(21)에 입력되는 제어 편차를 미리결정된 간격 동안 홀드하는 홀드 유닛으로서 기능한다.
샘플링 주파수 Fs=10kHz의 경우, 제1 실시예에서는, NN(23)에 입력되는 스테이지 편차도 10kHz로 갱신될 것이다. 그러나, 제2 실시예에서는, NN(23)에 입력되는 스테이지 편차는 10kHz/5=2kHz로 갱신된다. 즉, 제2 제어계(20)의 샘플링 주파수를 의사적으로 2kHz로 낮아진다.
제1 실시예의 제2 제어계(20)의 샘플링 주파수는 10kHz이기 때문에, 샘플링 정리에 따르면, 5kHz까지의 변동을 측정할 수 있다. 대조적으로, 제2 실시예의 제2 제어계(20)의 샘플링 주파수는 2kHz이므로, 샘플링 정리에 따르면, 1kHz까지만 측정할 수 있다. 즉, 제2 실시예의 제2 제어계(20)는 NN(23)의 제1 스테이지에 추가되는 1kHz 저역 통과 필터를 갖는다.
제2 제어계(20)에 의해 저주파 외란 진동을 억제하기를 원하는 경우, 고주파 성분을 제거한 스테이지 편차를 NN(23)에 입력함으로써, NN(23)의 네트워크 파라미터를 더 최적화할 수 있고, 억제하기를 원하는 저주파 외란 노이즈를 더 효과적으로 억제할 수 있다. 이렇게, 본 실시예에서는, 샘플링 유닛에서, 제2 제어 유닛에 입력되는 전술한 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기에 씨닝하지만, 미리결정된 간격은 외란 노이즈의 주파수에 따라 설정된다. 설정은 수동으로 또는 자동으로 행해질 수 있다. 자동의 경우에는, 외란 노이즈의 주파수는 스펙트럼 분석기 등을 사용하여 자동으로 검출될 수 있으며, 샘플링 유닛에서의 씨닝 주기(미리결정된 간격)는 검출된 외란 노이즈의 주파수에 따라 설정될 수 있다.
<제3 실시예>
상기 실시예에서는, 임프린트 장치에 패턴부를 갖는 몰드를 사용했다. 그러나, 전술한 피드백 제어 장치는 패턴부가 없는 평탄한 몰드를 포함하는 평탄화 장치를 사용해서 기판 상의 수지 조성물 등을 평탄화하도록 성형하는 소위 평탄화 장치(성형 장치)에도 적용될 수 있다. 즉, 전술한 피드백 제어 장치는 평탄화 장치(성형 장치)의 제어 대상, 예를 들어 몰드 및 기판 스테이지의 위치 제어에도 적용될 수 있다.
또한, 전술한 피드백 제어 장치는 노광 장치의 마스크 또는 기판 스테이지의 위치 제어에도 적용될 수 있으며, 노광 장치는 마스크를 조명하고 마스크의 패턴을 투영 광학계에 의해 기판에 투영해서 기판 상에 패턴을 형성하는 형성 유닛을 포함한다. 또한 피드백 제어 장치는 임프린트 장치 이외의 측정 장치나 가공 장치에도 적용될 수 있다.
측정 장치는, 대상 물체(제어 대상)의 위치를 제어하기 위해서 전술한 피드백 제어 장치, 및 피드백 제어 장치에 의해 위치가 제어되는 물체를 측정하는 측정 유닛을 포함할 수 있다. 측정 유닛의 예는 접촉식 프로브 및 비접촉식 간섭계를 포함한다. 또한, 가공 장치는, 대상 물체의 위치를 제어하기 위해서 전술한 피드백 제어 장치를 포함할 수 있으며, 또한 피드백 제어 장치에 의해 위치가 제어되는 물체를 가공하는 가공 유닛도 포함할 수 있다. 가공 유닛의 예는 절삭용 바이트 또는 레이저를 포함한다.
(물품 제조 방법)
본 실시예의 피드백 제어 장치는, 마이크로 디바이스(예를 들어, 반도체 디바이스) 또는 미세 구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하는 방법에 적합하다. 본 실시예에 따른 물품 제조 방법은 리소그래피 장치를 사용해서 기판에 공급(도포)되는 임프린트재에 전술한 임프린트 장치(임프린트 방법)를 사용해서 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 이러한 단계에서 패턴이 형성된 기판을 가공하는 단계 및 가공된 기판으로부터 물품을 제조하는 제조 단계도 포함된다.
또한, 이러한 제조 방법은 다른 주지의 단계(예를 들어, 산화, 퇴적, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 제거, 다이싱, 본딩, 및 패키징)을 포함한다. 본 실시예의 피드백 제어 장치를 사용한 물품 제조 방법은, 종래의 방법에 비하여 위치 정렬 정밀도가 높고, 물품의 성능, 품질, 생산성, 및 생산 비용 중 적어도 하나에서 유리하다.
이어서, 전술한 피드백 제어 장치를 사용한 노광 장치 등의 리소그래피 장치를 이용해서 물품(예를 들어, 반도체 IC 소자, 액정 표시 소자, 컬러 필터, 또는 MEMS)을 제조하는 방법을 설명한다. 물품은, 전술한 노광 장치 등을 사용해서, 감광제가 도포된 기판(웨이퍼 또는 유리 기판 등)을 노광하는 단계; 기판(감광제)을 현상하는 단계; 및 현상된 기판을 다른 종래의 가공 단계에서 처리하는 단계에 의해 제조된다. 다른 종래의 단계는 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 및 패키징을 포함한다. 본 제조 방법에 따르면, 종래의 것보다 품질이 높은 물품을 제조할 수 있다.
본 발명을 예시적인 실시예를 참고하여 설명했지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시예로 한정되지 않음을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 이러한 모든 변형과 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.
또한, 본 실시예에 따른 제어의 일부 또는 전부로서, 전술한 실시예의 기능을 실현하는 컴퓨터 프로그램은 네트워크 또는 다양한 저장 매체를 통해서 피드백 제어 장치, 리소그래피 장치, 측정 장치, 기계가공 장치, 또는 평탄화 장치 등에 공급될 수 있다. 그리고, 그 피드백 제어 장치, 리소그래피 장치, 측정 장치, 기계가공 장치, 또는 평탄화 장치 등의 컴퓨터(또는 CPU, MPU 등)가 프로그램을 판독해서 실행하도록 구성될 수 있다. 이러한 경우, 프로그램 및 프로그램을 저장하는 저장 매체는 본 발명을 구성한다.
본 출원은 그 전체가 참조로 원용되는 2020년 10월 2일에 출원된 일본 특허 출원 제2020-167743의 이익을 주장한다.

Claims (16)

  1. 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하는 피드백 제어 장치이며,
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하는 피드백 제어 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2 제어 유닛은 복수의 입력 노드를 포함하고, 상기 제어량은 상기 입력 노드의 수보다 많은 복수의 상기 제어 편차를 저장할 수 있는 메모리를 통해 상기 입력 노드에 입력되는 피드백 제어 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 샘플링 유닛은 상기 메모리에 저장된 복수의 상기 제어 편차를 상기 미리결정된 주기로 씨닝해서 상기 입력 노드에 제공하는 피드백 제어 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 미리결정된 주기는 외란 노이즈의 주기에 따라 설정되는 값인 피드백 제어 장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 메모리에 입력되는 상기 제어 편차는 상기 제1 제어 유닛의 상기 입력에 동기해서 갱신되는 피드백 제어 장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 메모리에 입력되는 상기 제어 편차는 소정의 미리결정된 간격마다 갱신되는 피드백 제어 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2 제어 유닛의 상기 미리결정된 주기, 상기 미리결정된 간격, 및 상기 제2 제어 유닛의 입력 노드의 수의 곱은 억제하려고 하는 진동의 주기의 1/8 이상인 피드백 제어 장치.
  8. 제2항에 있어서, 상기 메모리에 입력되는 상기 제어 편차를 미리결정된 간격 동안 홀딩하도록 구성되는 홀드 유닛을 더 포함하는 피드백 제어 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제1 제어 유닛은 기계 학습을 사용하지 않고 상기 제1 제어량을 출력하는 피드백 제어 장치.
  10. 피드백 제어 장치를 사용한 리소그래피 장치이며, 상기 피드백 제어 장치는 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하고;
    상기 피드백 제어 장치는,
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하며,
    상기 리소그래피 장치는 상기 피드백 제어 장치에 의해 제어되는 제어 대상을 사용해서 리소그래피를 위한 패턴을 형성하도록 구성되는 형성 유닛을 포함하는 리소그래피 장치.
  11. 피드백 제어 장치를 사용한 측정 장치이며,
    상기 피드백 제어 장치는 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하며;
    상기 피드백 제어 장치는,
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하며,
    상기 측정 장치는 상기 피드백 제어 장치에 의해 제어되는 상기 제어 대상의 위치를 측정하도록 구성되는 측정 유닛을 포함하는 측정 장치.
  12. 피드백 제어 장치를 사용한 가공 장치이며,
    상기 피드백 제어 장치는 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하며;
    상기 피드백 제어 장치는,
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하며,
    상기 가공 장치는 상기 피드백 제어 장치에 의해 제어되는 상기 제어 대상을 가공하도록 구성되는 가공 유닛을 포함하는 가공 장치.
  13. 피드백 제어 장치를 사용한 평탄화 장치이며,
    상기 피드백 제어 장치는 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하며;
    상기 피드백 제어 장치는,
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛, 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하며,
    상기 평탄화 장치는 상기 피드백 제어 장치에 의해 제어되는 제어 대상을 사용하여 조성물을 평탄화하도록 구성되는 평탄화 유닛을 포함하는 평탄화 장치.
  14. 리소그래피 장치를 사용한 물품 제조 방법이며, 상기 리소그래피 장치는 피드백 제어 장치를 포함하고;
    상기 피드백 제어 장치는 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하며;
    상기 피드백 제어 장치는,
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하며,
    상기 리소그래피 장치는 피드백 제어 장치에 의해 제어되는 제어 대상을 사용해서 리소그래피를 위한 패턴을 형성하도록 구성되는 형성 유닛을 포함하고;
    상기 제조 방법은
    상기 리소그래피 장치를 사용해서 기판 상에 패턴을 형성하는 단계;
    상기 패턴이 형성된 기판을 가공하는 단계; 및
    가공된 기판으로부터 물품을 제조하는 제조 단계를 포함하는 물품 제조 방법.
  15. 피드백 제어 장치의 각 유닛을 제어하기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장하도록 구성되는 비일시적 컴퓨터 판독가능 저장 매체이며,
    상기 피드백 제어 장치는 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하며; 상기 피드백 제어 장치는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로로서,
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하도록 구성되는 제1 제어 유닛;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하도록 구성되며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 유닛;
    상기 제1 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 유닛으로부터 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하도록 구성되는 조작 유닛; 및
    상기 제2 제어 유닛에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하도록 구성되는 샘플링 유닛으로서 기능하게 하도록 구성되는
    적어도 하나의 프로세서 또는 회로를 포함하는 비일시적 컴퓨터 판독가능 저장 매체.
  16. 제어 대상의 측정값과 목표값 사이의 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고 상기 제어 대상에 대한 제어량을 출력하는 피드백 제어 방법이며, 상기 피드백 제어 방법은 다음의 단계:
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제1 제어량을 출력하는 제1 제어 단계;
    상기 제어 편차에 관한 정보를 입력으로 하고, 상기 제어 대상에 대한 제2 제어량을 출력하며, 상기 제2 제어량을 계산하기 위한 파라미터가 기계 학습에 의해 결정되는 제2 제어 단계;
    상기 제1 제어 단계에 의해 출력되는 상기 제1 제어량과 상기 제2 제어 단계에 의해 출력되는 상기 제2 제어량을 사용해서 상기 제어 대상을 조작하는 조작 단계; 및
    상기 제2 제어 단계에 입력되는 상기 제어 편차에 관한 정보를 미리결정된 주기로 씨닝하기 위한 샘플링 단계를 포함하는 피드백 제어 방법.
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