KR20220034771A - 모발 관리 조성물을 위한 액정 지질 입자의 미용 조성물 - Google Patents

모발 관리 조성물을 위한 액정 지질 입자의 미용 조성물 Download PDF

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Abstract

본원에서 청구된 발명은 액정 지질 입자에 관한 것이다. 본원에서 청구된 발명은 모발 관리 조성물에서 사용되며, 우수한 모발 보습 효과를 나타내는 액정 지질 입자에 관한 것이다.

Description

모발 관리 조성물을 위한 액정 지질 입자의 미용 조성물
본원에서 청구된 발명은 액정 지질 입자에 관한 것이다. 특히, 본원에서 청구된 발명은 모발 관리 조성물에서 사용되는 액정 지질 입자에 관한 것이다. 액정 지질 조성물을 함유하는 모발 관리 조성물은 모발에 대해 양호한 컨디셔닝 효과를 가진다.
모발 손상을 유발할 수 있는 UV 조사 또는 풍화와 같은 환경적 영향, 빗질과 같은 기계적 응력, 또는 세정, 열풍 건조, 탈색, 염색, 파마 등과 같은 다양한 모발 처리 때문에, 모발은 매우 다양한 심각한 스트레스를 받는다. 모발의 손상은, 예를 들어 건조함, 탄력성 감소, 뻣뻣함, 끝 갈라짐, 칙칙함, 무광택 외관, 풍만감 감소, 거친 표면 및 기계적 강도 감소를 포함한다. 이것은 빗질 장애, 광택 감소, 정전기 증가 및 파손 경향을 유발한다.
그러므로, 스트레스를 받은 모발의 부정적인 영향을 가능한 한 다양한 방식으로 상쇄하는 특성의 복잡한 프로파일을 갖는 모발 미용 조성물이 필요하다. 모발 미용 조성물은 양호한 컨디셔닝, 관리, 보호 및 모발 손상 복구 특성을 특징으로 해야 한다. 또한, 사용되는 성분이 용이하게 제제화될 수 있으며, 높은 상용성을 가지는 것이 중요하다. 또한, 최종 제품은 양호한 적용 특성을 가져야 한다.
또한, 실리콘 오일 및/또는 실리콘 기를 함유하는 모발 중합체는 종종 모발 미용 조성물을 컨디셔닝하는데 사용된다. 실리콘의 사용에 의한 원하는 효과는 광택의 생성, 빗질의 개선 또는 갈라진 끝의 인클로저, 또는 다른 종류의 모발 손상이다. 그러나, 여러가지 이유로 인해, 모발 컨디셔너에서 실리콘의 사용은 바람직하지 않다. 예를 들어, 모발 손상은 종종 실리콘-함유 컨디셔너에 의해 단지 가려질 뿐이며, 영구적으로 복구되지 않는다. 실리콘 아래의 모발의 실제 상태는 더이상 드러나지 않으며, 목표로 하는 보상 관리가 어려워진다. 수-불용성 실리콘은 모발 상에 "축적" 되는 경향이 있으며, 모발은 무거워지고 생기가 없다. 실리콘 층 아래에서, 모발은 눈에 띄지 않게 건조될 수 있으며, 이는 갈라진 끝 및 모발 파손을 유발할 수 있다.
또한, 실리콘 또는 실리콘 오일은 환경에 유해한 것으로 간주되며, 따라서 환경 친화적인 대안을 모색하는 것이 필수적이다.
따라서, 모발 미용 조성물을 컨디셔닝하기 위한 대안이 모색되며, 이에 의해 실리콘 화합물의 사용이 감소되거나 회피될 수 있다.
따라서, 선행 기술로부터 공지된 실리콘 화합물을 기반으로 하는 컨디셔너에 필적할 정도로 효과적인 양호한 컨디셔닝 특성을 갖는 모발 컨디셔닝 조성물이 필요하다.
놀랍게도, 본원에서 청구된 발명의 액정 지질 입자는 모발 컨디셔닝 효과를 개선하는데 효과적이며, 모발 컨디셔너로서의 실리콘에 필적할 정도로 효과적인 것으로 밝혀졌다.
액정 지질 입자는 액체 상 및 고체 상의 이중 이점을 제공하는 시스템 유형이다. 이들 입자는 용이하게 제조할 수 있으며, 여러가지 이점을 제공한다.
그러므로, 하나의 양태에 있어서, 본원에서 청구된 발명은 하나 이상의 액정 지질 입자를 모발에 적용하는 것을 포함하는 모발의 컨디셔닝 방법에 관한 것이며, 상기 액정 지질 입자는 다음을 포함한다:
화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00001
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00002
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00003
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00004
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다),
화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00005
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
및
화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00006
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
또다른 양태에 있어서, 본 발명은 모발의 컨디셔닝을 위한 하나 이상의 액정 지질 입자의 용도에 관한 것이며, 상기 액정 지질 입자는 다음을 포함한다:
화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00007
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00008
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00009
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00010
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다),
화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00011
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
및
화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00012
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
또다른 양태에 있어서, 본 발명은 상기에서 기술한 바와 같은 하나 이상의 액정 입자, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제 및 물을 포함하는 모발 관리 조성물에 관한 것이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 양태는 모발의 컨디셔닝을 위한, 본원에서 상기 및 하기에서 기술한 바와 같은 모발 관리 조성물 또는 본원에서 상기 및 하기에서 기술한 바와 같은 하나 이상의 액정 지질 입자의 용도에 관한 것이다.
본원에서 청구된 발명의 본 조성물 및 제제를 설명하기 전에, 이러한 조성물 및 제제는 물론 다양할 수 있기 때문에, 본 발명은 기재된 특정한 조성물 및 제제로 제한되지 않는 것으로 이해해야 한다. 또한, 본원에서 청구된 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 제한될 것이기 때문에, 본원에서 사용된 용어는 제한하려는 의도가 아닌 것으로 이해해야 한다.
이하에서, 그룹이 적어도 특정한 수의 구현예를 포함하는 것으로 정의되는 경우, 이것은 바람직하게는 이들 구현예 만으로 이루어지는 그룹도 포함하는 것을 의미한다. 또한, 명세서 및 청구범위에서의 용어 '제 1', '제 2', '제 3' 또는 'a', 'b', 'c' 등은 유사한 요소 사이를 구별하기 위해 사용되는 것이며, 반드시 순차적 또는 시간적 순서를 설명하기 위해 사용되는 것은 아니다. 이렇게 사용된 용어는 적절한 상황하에서 상호 교환 가능하며, 본원에 기재된 본원에서 청구된 발명의 구현예는 본원에서 설명되거나 예시된 것과 다른 순서로 작동할 수 있다는 것을 이해해야 한다. 용어 '제 1', '제 2', '제 3' 또는 '(A)', '(B)' 및 '(C)' 또는 '(a)', '(b)', '(c)', '(d)', 'i', 'ii' 등이 방법 또는 사용 또는 분석의 단계와 관련이 있는 경우, 단계 사이에는 시간 또는 시간 간격 일관성이 없으며, 즉, 단계들은 동시에 수행될 수 있거나, 또는 상기 또는 하기의 본원에 기재된 바와 같이, 본 출원에서 달리 명시하지 않는 한, 이러한 단계 사이에는 초, 분, 시간, 일, 주, 월 또는 심지어 년의 시간 간격이 있을 수 있다.
또한, 명세서 전반에 걸쳐서 정의된 범위는 최종 값도 포함하며, 즉, 1 내지 10 의 범위는 1 과 10 이 모두 상기 범위에 포함된다는 것을 의미한다. 의심의 여지를 피하기 위해, 출원인은 적용 가능한 법률에 따라서 이에 상응하는 모든 권리를 가진다.
이하의 문장에서, 본원에서 청구된 발명의 상이한 양태가 보다 상세히 정의된다. 이렇게 정의된 각각의 양태는 달리 명확하게 나타내지 않는 한, 임의의 다른 양태(들)과 조합될 수 있다. 특히, 바람직하거나 유리한 것으로 나타낸 임의의 특성은 바람직하거나 유리한 것으로 나타낸 임의의 다른 특성(들)과 조합될 수 있다.
본 명세서 전반에 걸쳐서 '하나의 구현예' 또는 '일 구현예' 에 대한 언급은, 구현예와 관련하여 설명된 특정한 특성, 구조 또는 특징이 본원에서 청구된 발명의 하나 이상의 구현예에 포함된다는 것을 의미한다. 따라서, 본 명세서 전체에서의 다양한 곳에서 '하나의 구현예에 있어서' 또는 '일 구현예에 있어서' 라는 문구의 출현은 반드시 모두 동일한 구현예를 지칭하는 것은 아니지만, 지칭할 수도 있다.
또한, 특정한 특성, 구조 또는 특징은 하나 이상의 구현예에 있어서, 본 개시 내용으로부터 당업자에게 명백한 바와 같이, 임의의 적합한 방식으로 조합될 수 있다. 또한, 본원에 기재된 일부 구현예는 다른 구현예에 포함된 다른 특성이 아닌 일부를 포함하지만, 상이한 구현예의 특성의 조합은 본원에서 청구된 발명의 범위 내에 있으며, 당업자에 의해 이해되는 바와 같이, 상이한 구현예를 형성하는 것을 의미한다. 예를 들어, 첨부된 청구범위에서, 청구된 구현예 중 임의의 것은 임의의 조합으로 사용될 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같은 "모발 관리" 는 UV 조사 또는 풍화와 같은 환경적 영향, 빗질과 같은 기계적 응력, 또는 세정, 열풍 건조, 탈색, 염색, 파마와 같은 다양한 모발 처리를 포함하는, 모발 손상을 유발하는 다양한 조건에서 모발을 보호하는 것을 포함한다.
본원에서 사용되는 바와 같은 "미용적으로 허용 가능한 첨가제" 는 화장품 제제에서의 사용에 일반적으로 허용 가능하며, 특정한 기능을 제공하는 첨가제를 포함한다.
본원에서 정의하는 바와 같은 "액정 지질 입자" 는 사방정계 측면 패킹이 있는 라멜라 액정 상을 포함한다.
본원에서 청구된 발명은 하나 이상의 액정 지질 입자를 모발에 적용하는 것을 포함하는 모발의 컨디셔닝 방법에 관한 것이며, 상기 액정 지질 입자는 다음을 포함한다:
화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00013
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00014
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00015
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00016
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다),
화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00017
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다)
및
화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00018
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
하나의 구현예에 있어서, 본원에서 청구된 발명은 모발의 컨디셔닝을 위한 하나 이상의 액정 지질 입자의 용도에 관한 것이며, 상기 액정 지질 입자는 다음을 포함한다:
화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00019
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00020
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00021
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00022
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위이다),
화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00023
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다)
및
화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00024
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
본 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 상기에서 기술한 바와 같은 하나 이상의 액정 입자, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제 및 물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 본원에서 청구된 발명의 액정 지질 입자는 하기 화학식 (I) 내지 (IV) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다:
Figure pct00025
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
Figure pct00026
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
Figure pct00027
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
및
Figure pct00028
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다).
본원에서 청구된 발명의 액정 입자는 화학식 (I) 내지 (IV) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물 및 또한 하기 화학식 (V) 또는 (VI) 의 하나 이상의 화합물을 포함한다:
Figure pct00029
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
Figure pct00030
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (II), (III) 및 (IV) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (II), (III) (IV), (V) 및 (VI) 으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (II) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (I), (III) 및 (IV) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (II) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (I), (III), (IV), (V) 및 (VI) 으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (III) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (I), (II) 및 (IV) 로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (III) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (I), (II), (IV), (V) 및 (VI) 으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (IV) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (I), (II), (III), (V) 및 (VI) 으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (II) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (III) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (IV) 로 표시되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (II) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (III) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (IV) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (V) 로 표시되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (II) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (III) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (IV) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (VI) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (II) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (III) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (IV) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (VI) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (V) 로 표시되는 하나 이상의 화합물 및 화학식 (VI) 으로 표시되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 하기 화학식 (I) 로 표시되는 하나 이상의 화합물을 포함한다:
Figure pct00031
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다).
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물은 세테아레스, 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르 및 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물은 세테아레스-12, 세테아레스-20, 세테아레스-30 으로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 가장 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물은 세테아레스-12, 세테아레스-20 으로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하기 화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물에서,
Figure pct00032
화학식 (II)
a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물은 글리세롤 스테아레이트, 글리세롤 라우레이트 및 글리세롤 팔미테이트, 글리세롤 카프릴레이트 및 글리세롤 미리스테이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물은 글리세롤 스테아레이트이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하기 화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물에서,
Figure pct00033
화학식 (III)
x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물은 미리스틸 미리스테이트, 미리스틸 팔미테이트, 미리스틸 스테아레이트, 미리스틸 이소스테아레이트, 미리스틸 올레에이트, 미리스틸 베헤네이트, 미리스틸 에루케이트, 세틸 미리스테이트, 세틸 팔미테이트, 세틸 스테아레이트, 세틸 이소스테아레이트, 세틸 올레에이트, 세틸 베헤네이트, 세틸 에루케이트, 스테아릴 미리스테이트, 스테아릴 팔미테이트, 스테아릴 스테아레이트, 스테아릴 이소스테아레이트, 스테아릴 올레에이트, 스테아릴 베헤네이트, 스테아릴 에루케이트, 이소스테아릴 미리스테이트, 이소스테아릴 팔미테이트, 이소스테아릴 스테아레이트, 이소스테아릴 이소스테아레이트, 이소스테아릴 올레에이트, 이소스테아릴 베헤네이트, 이소스테아릴 올레에이트, 올레일 미리스테이트, 올레일 팔미테이트, 올레일 스테아레이트, 올레일 이소스테아레이트, 올레일 올레에이트, 올레일 베헤네이트, 올레일 에루케이트, 베헤닐 미리스테이트, 베헤닐 팔미테이트, 베헤닐 스테아레이트, 베헤닐 이소스테아레이트, 베헤닐 올레에이트, 베헤닐 베헤네이트, 베헤닐 에루케이트, 에루실 미리스테이트, 에루실 팔미테이트, 에루실 스테아레이트, 에루실 이소스테아레이트, 에루실 올레에이트, 에루실 베헤네이트 및 에루실 에루케이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물은 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 테트라데실 테트라데카노에이트 및 베헤닐 베헤네이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물은 세틸 팔미테이트 및 미리스틸 미리스테이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하기 화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물에서,
Figure pct00034
화학식 (IV)
p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물은 라우릴 알코올, 트리데실 알코올, 미리스틸 알코올, 펜타데실 알코올, 세틸 알코올, 팔미톨레일 알코올, 헵타데실 알코올 및 스테아릴 알코올, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물은 라우릴 알코올, 미리스틸 알코올, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 가장 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물은 세틸 알코올과 스테아릴 알코올의 혼합물이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하기 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물에서,
Figure pct00035
화학식 (V)
A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고, R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물에서, A 및 B 는 각각 독립적으로 알칼리 토금속이고, R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물에서, R 은 n-데실, 이소-데실, n-운데실, 이소-운데실, n-도데실, 이소-도데실, n-트리데실, 이소-트리데실, n-테트라데실, 이소-테트라데실, n-펜타데실, 이소-펜타데실, n-헥사데실, 이소-헥사데실, n-헵타데실, 이소-헵타데실, n-옥타데실, 이소-옥타데실 및 n-옥타데세닐로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물은 디나트륨 C10-C18 알킬 술포숙시네이트이다.
본원에서 청구된 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물은 디나트륨 C12-C18 알킬 술포숙시네이트이다.
본원에서 청구된 발명의 가장 바람직한 구현예에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물은 C16-C18 알킬 술포숙시네이트이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하기 화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물에서,
Figure pct00036
화학식 (VI)
r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물에서, M 은 나트륨 또는 칼륨이고, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물은 나트륨 스테아로일 글루타메이트, 나트륨 라우로일 글루타메이트, 나트륨 코코일 글루타메이트, 나트륨 미리스토일 글루타메이트, 칼륨 코코일 글루타메이트 및 칼륨 라우로일 글루타메이트, 및 이들의 조합물로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물은 나트륨 라우로일 글루타메이트, 나트륨 코코일 글루타메이트, 나트륨 미리스토일 글루타메이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C10-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스-20, 세테아레스-12, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C16-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 라우로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 바람직한 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스-20, 세테아레스-12, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C12-C14 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 라우로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 바람직한 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스-20, 세테아레스-12, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C12-C14 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 가장 바람직한 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 세테아레스-20, 세테아레스-12, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C16-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 Malvern DLS ZS90 을 사용한 동적 광 산란을 이용하여 결정되는 ≥ 20 nm 내지 ≤ 500 nm 의 평균 입자 크기를 가진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 Malvern DLS ZS90 을 사용한 동적 광 산란을 이용하여 결정되는 ≥ 20 nm 내지 ≤ 300 nm 의 평균 입자 크기를 가진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 Malvern DLS ZS90 을 사용한 동적 광 산란을 이용하여 결정되는 ≥ 20 nm 내지 ≤ 150 nm 의 평균 입자 크기를 가진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 Malvern DLS ZS90 을 사용한 동적 광 산란을 이용하여 결정되는 20 nm, 30 nm, 40 nm, 50 nm, 60 nm, 70 nm, 80 nm, 90 nm, 100 nm, 110 nm, 120 nm, 130 nm, 140 nm 또는 150 nm 의 평균 입자 크기를 가진다.
액정 지질 입자의 제타 전위는 입자의 표면 상의 전하의 측정치이고, 지질 입자의 안정성의 측정치이다. 제타 전위가 높을수록, 지질 입자의 안정성이 높아진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 40 ℃ 에서 측정할 때, Zetasizer nano ZS90 (Malvern) 을 사용하여 결정되는, 20 mV 초과의 제타 전위를 가진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 40 ℃ 에서 측정할 때, Zetasizer nano ZS90 (Malvern) 을 사용하여 결정되는, 30 mV 초과의 제타 전위를 가진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 상 반전 온도 방법을 사용하여 제조된다. 본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 본원에 참고로 포함되는 문헌 [D.J. Mitchell et al. Phase behavior of polyoxyethylene surfactants with water. Mesophase structures and partial miscibility (cloud points), J. Chem. Soc. Farayday Trans., 79, 975-1000 (1983)] 에 개시된 바와 같은 상 반전 온도 방법을 사용하여 제조된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 사방정계 측면 패킹을 가진다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 모발에 적용하기 위한 모발 관리 조성물에 포함된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 액정 지질 입자는 모발에 적용하기 위한 임의의 모발 관리에서 베이스를 형성한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하나 이상의 액정 지질 입자는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서 ≥ 1 중량% 내지 ≤ 30 중량% 의 범위의 양으로 존재한다. 본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 하나 이상의 액정 지질 입자는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서 ≥ 1 중량% 내지 ≤ 25 중량% 의 범위의 양으로 존재한다. 본원에서 청구된 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 하나 이상의 액정 지질 입자는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서 ≥ 1 중량% 내지 ≤ 20 중량% 의 범위의 양으로 존재한다. 본원에서 청구된 발명의 가장 바람직한 구현예에 있어서, 하나 이상의 액정 지질 입자는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서 ≥ 1 중량% 내지 ≤ 15 중량% 의 범위의 양으로 존재한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 하나 이상의 액정 지질 입자, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제 및 물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제는 증점제, 점도 조정제, 계면활성제, 유화제, 향료, 방부제, UV 보호제, 킬레이트제, 세정제, 습윤제, 모발 컨디셔닝제, 유연성 향상제, 분리 개질제, 보습제, 추진제, 압축 가스, 광택 향상제, 중화제, 텍스처화제, 방수제, 가용화제, 현탁제, 미용 활성 성분, 모발 중합체, 광 보호제, 표백제, 겔 형성제, 착색제, 틴트제, 태닝제, 염료, 안료, 바디제, 습윤제, 산화방지제, 소포제, 대전방지제, 연화제, 유연제, 비듬 방지제, 모발 성장제, 항염증제, 항균제, 거품 안정화제, 레올로지 개질제, 연수제, 향수성 물질 및 완충제로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제는 계면활성제이며, 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 및 비이온성 계면활성제로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 음이온성 계면활성제는 알킬 술페이트, 알킬에테르 술페이트, 알킬에스테르 술포네이트, 알킬벤젠 술포네이트, 1차 또는 2차 알킬 술포네이트, 알킬글리세롤 술포네이트, 술포네이트화된 폴리카르복실산, 알킬글리코시드의 술페이트, 술페이트화된 알킬아미드, 알킬 포스페이트, 포화 또는 불포화 지방 산의 염, 폴리옥시알킬렌 에테르 아세테이트, 파라핀 술포네이트, N-아실 N-알킬타우레이트, 이세티오네이트, 알킬 숙시나메이트, N-아실 사르코시네이트, 알킬 술포숙시네이트, 술포숙시네이트의 모노에스테르 또는 디에스테르 및 폴리에톡시 카르복실레이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 양이온성 계면활성제는 4차화된 암모늄 화합물, 알킬 술페이트, 및 피리딘 및 이미다졸린 유도체로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 4차화된 암모늄 화합물은 쿼터늄 암모늄 부분을 포함하는 "PQ" 중합체로서 널리 알려진 폴리쿼터늄 중합체이며, 많은 이러한 중합체는 관련 기술 분야의 당업자를 위해 선행 기술에 공지되어 있다. 예를 들어, PQ-1 내지 PQ-47 중합체는 문헌 [Official Journal of the European Union, Commission Decision dated 09 February 2006, 2006/257/EC] 에 정식으로 등재되어 있다. 다른 4차 암모늄 화합물은 본원에 참고로 포함되는 문헌 [CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, First Edition, on pages 41-42] 에 등재되어 있으며, 본원에 참고로 포함되는 문헌 ["History of Polymers in Haircare," Cosmetics and Toiletries, 103 (1988)] 에 기재되어 있다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 양쪽성 계면활성제는 알킬베타인, 알킬아미도프로필베타인, 알킬술포베타인, 알킬 글리시네이트, 알킬 카르복시글리시네이트, 알킬 암포아세테이트 또는 프로피오네이트 및 알킬 암포디아세테이트 또는 디프로피오네이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 비이온성 계면활성제는 지방 알코올 폴리옥시알킬렌 에스테르, 알킬 폴리옥시알킬렌 에테르 (C1-C6-알코올 또는 C7-C30-지방 알코올에서 유래함), 알킬아릴 알코올 폴리옥시에틸렌 에테르, 알콕시화된 동물성 및/또는 식물성 지방 및/또는 오일, 글리세롤 에스테르, 알킬페놀 알콕실레이트, 지방 아민 알콕실레이트, 지방 산 아미드 및 지방 산 디에탄올아미드 알콕실레이트, 이의 에톡시레이트, 당 계면활성제, 소르비톨 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방 산 에스테르, 알킬 폴리글리코시드, N-알킬글루콘아미드, 알킬 메틸 술폭시드 및 알킬 디메틸 포스핀 옥사이드로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 계면활성제는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 10.0 중량% 내지 ≤ 50.0 중량% 의 범위의 양으로 존재한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제는 모발에 국소 적용하는데 적합한 모발 컨디셔닝제이다. 모발 컨디셔너-기반 조성물에 대한 바람직한 컨디셔닝제는 관련 기술 분야의 당업자에게 충분히 공지되어 있다. 컨디셔닝제에 대한 광범위한 논의는 문헌 ["Conditioning Agents for Skin and Hair", Cosmetic Science and Technology Series, Volume 21, 1999, Marcel Dekker Publishers] 에서 확인할 수 있다. 상기 문헌의 내용은 그 전체가 본원에 참고로 포함된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 단백질 또는 가수 분해된 양이온성 또는 비-양이온성 단백질일 수 있다. 이들 화합물의 예는 트리메틸 암모늄 및 트리메틸 스테아릴 암모늄 클로라이드 기를 갖는 가수 분해된 콜라겐, 트리메틸 벤질 암모늄 기를 갖는 가수 분해된 동물성 단백질 (벤질트리모늄 가수 분해된 동물성 단백질), 폴리펩티드 사슬 상에 4차 암모늄 기를 갖는 가수 분해된 단백질을 포함한다. 세라미드 유형의 화합물은 세라미드, 글리코세라미드, 슈도세라미드 또는 네오세라미드를 포함한다. 본원에서 유용한 가능한 세라미드 유형의 화합물은 2-N-리놀레오일 아미노-옥타데칸-1,3-디올, 2-N-올레오일 아미노-옥타데칸-1,3-디올, 2-N-팔미토일 아미노-옥타데칸-1,3-디올, 2-N-스테아로일 아미노-옥타데칸-1,3-디올, 2-N-베헤노일 아미노-옥타데칸-1,3-디올, 2-N-[2-히드록시-팔미토일] 아미노-옥타데칸-1,3-디올, 2-N-스테아로일 아미노-옥타데칸-1,3,4-트리올, N-스테아로일 피토스핑고신, 2-N-팔미토일 아미노-헥사데칸-1,3-디올, 비스-(N-히드록시에틸 N-세틸) 말론아미드, 세틸산의 N-(2-히드록시에틸)-N-(3-세톡실-2-히드록시프로필) 아미드, N-도코사노일 N-메틸-D-글루카민 및 이러한 화합물의 혼합물을 포함한다.
본 발명의 또다른 구현예에 있어서, 다른 유형의 컨디셔닝제는 1차, 2차 또는 3차 지방 아민의 염 (임의로 폴리옥시알킬렌화된다), 4차 암모늄 염, 이미다졸린의 유도체 또는 아민 옥사이드와 같은 양이온성 계면활성제일 수 있다. 적합한 예는 클로라이드, 메토술페이트, 토실레이트 등과 같은 반대 이온을 갖는 모노-, 디- 또는 트리-알킬 4차 암모늄 화합물, 예를 들어, 비제한적으로, 세트리모늄 클로라이드, 디세틸디모늄 클로라이드, 베헨트리모늄 메토술페이트 등을 포함한다. 상기에서 기술한 수지와 함께 4차 암모늄 화합물의 존재는 정전기를 감소시키며, 건조 상태의 모발의 빗질을 향상시킨다. 상기 수지는 또한 모발 기질 상에서 4차 암모늄 화합물의 침착을 향상시키며, 따라서 모발의 컨디셔닝 효과를 향상시킨다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 컨디셔닝제로서 유용한 것으로 알려진 임의의 지방 아민; 예를 들어 도데실, 세틸 또는 스테아릴 아민, 예컨대 스테아르아미도프로필 디메틸아민일 수 있다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 컨디셔닝제로서 유용한 것으로 알려진 지방 산 또는 이의 유도체일 수 있다. 적합한 지방 산은 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 올레산, 리놀레산 및 이소스테아르산을 포함한다. 지방 산의 유도체는 모노-, 디-, 트리- 및 테트라-카르복실산을 포함하는 카르복실산 에스테르를 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 유화제는 지방족 (C8 내지 C40) 1차 또는 2차 직쇄 또는 분지쇄 알코올 또는 페놀과 알킬렌 옥사이드, C6-C100 에틸렌 옥사이드 (EO) 의 축합 생성물, 글리콜 디스테아레이트, 소르비탄 트리올레에이트, 프로필렌 글리콜 이소스테아레이트, 글리콜 스테아레이트, 소르비탄 세스퀴올레에이트, 글리세릴 스테아레이트, 레시틴, 소르비탄 올레에이트, 소르비탄 모노스테아레이트 NF, 소르비탄 스테아레이트, 소르비탄 이소스테아레이트, 스테아레스-2, 올레스-2, 글리세릴 라우레이트, 세테스-2, PEG-30 디폴리히드록시 스테아레이트, 글리세릴 스테아레이트 SE, 소르비탄 스테아레이트, 수크로오스 코코에이트, PEG-4 디라우레이트, 메틸 글루코오스 세스퀴스테아레이트, PEG-8 디올레에이트, 소르비탄 라우레이트, PEG-40 소르비탄 퍼올레에이트, 라우레스-4, PEG-7 글리세릴 코코에이트, PEG-20 아몬드 글리세리드, PEG-25 수소화된 피마자유, 스테아르아미드 MEA, 글리세릴 스테아레이트, PEG-100 스테아레이트, 폴리소르베이트 85, PEG-7 올리베이트, 세테아릴 글루코시드, PEG-8 올레에이트, 폴리글리세릴-3 메틸글루코오스 디스테아레이트, 올레스-10, 올레스-10 / 폴리옥실 10 올레일 에테르 NF, 세테스-10, PEG-8 라우레이트, 코카미드 MEA, 폴리소르베이트 60 NF, 폴리소르베이트 60, 폴리소르베이트 80, 이소스테아레스-20, PEG-60 아몬드 글리세리드, 폴리소르베이트 80 NF, PEG-20 메틸 글루코오스 세스퀴스테아레이트, 세테아레스-20, 올레스-20, 스테아레스-20, 스테아레스-21, 세테스-20, 이소세테스-20, 폴리소르베이트 20, 폴리소르베이트 20 NF, 라우레스-23, PEG-100 스테아레이트, 스테아레스-100, PEG-80 소르비탄 라우레이트 단독 또는 이들의 조합물로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 단백질 또는 가수 분해된 양이온성 또는 비-양이온성 단백질, 1차, 2차 또는 3차 지방 아민의 염, 4차 암모늄 염, 이미다졸린의 유도체 또는 아민 옥사이드와 같은 양이온성 계면활성제, 지방 아민, 지방 산 또는 유도체, 4차 암모늄 화합물, 양이온성 중합체, 천연 또는 합성 오일이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 양이온성 구아, 양이온성 히드록실에틸 셀룰로오스, 디알릴 디메틸암모늄 클로라이드 (DADMAC)-아크릴아미드 공중합체 및 (3-아크릴아미도프로필) 트리메틸-암모늄 클로라이드에서 선택되는 양이온성 중합체이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 지방 산의 글리세롤 에스테르, 알킬기 당 6 내지 22 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형, 대칭 또는 비대칭 디알킬 에테르 및 알킬 글루코시드, 알킬기 당 6 내지 22 개의 탄소 원자를 갖는 폴리에틸렌 글리콜 알킬 에테르, 알킬기 당 6 내지 22 개의 탄소 원자를 갖는 폴리에틸렌 글리콜 알킬 글리세리드로 이루어진 군에서 선택되는 천연 또는 합성 오일이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 컨디셔닝제는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 0.1 중량% 내지 ≤ 1.0 중량% 의 양으로 존재한다.
본 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 스타일링 조성물을 제조하기 위한 적합한 실리콘은 본 발명의 액정 입자와 함께 사용될 수 있다. 바람직한 실리콘은 비제한적으로, 폴리메틸 실록산, 폴리디메틸 실록산/메틸비닐 실록산 검, 폴리디메틸 실록산/디페닐 실록산, 폴리디메틸 실록산/페닐메틸 실록산 및 폴리디메틸 실록산/디페닐 실록산/메틸비닐 실록산, 유기 변성 실리콘, 아미노 관능성 실리콘으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 실리콘은 에멀젼, 나노-에멀젼 또는 마이크로-에멀젼의 형태로 사용될 수 있다. 또한, WO 2013/064596A1 에 개시된 가능한 다른 실리콘은 본 발명의 목적을 위해 고려되며, 그 전체가 본원에 포함된다.
본 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 또한 하기의 상업적 제품으로부터의 증점제 및/또는 점도 부여제를 포함할 수 있다: Aqualon™ 카르복시메틸셀룰로오스, Benecel™ 메틸셀룰로오스 및 히드록시프로필 메틸셀룰로오스, Blanose™ 나트륨 카르복시메틸셀룰로오스, Klucel™ 히드록시프로필셀룰로오스, Natrosol™ 히드록시에틸셀룰로오스, Natrosol™ Plus 및 PolySurf™ 세틸 개질된 히드록시에틸셀룰로오스, N-Hance™ 양이온성 구아, N-Hance™ HP Series 히드록시프로필 구아, N-Hance™ SP-100 컨디셔닝 중합체 및 Supercol™ 구아 검.
본 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 또한 하기의 상업적 제품으로부터의 증점제 및/또는 점도 부여제를 포함할 수 있다: Carbopol® 중합체, Fixate™ PLUS 중합체, Glucamate™ 증점제, Amidex™ 계면활성제, Chembetaine™ 계면활성제, Chemoxide™ 계면활성제, Chemonic™ 계면활성제, Chemccinate™ 계면활성제, Amidex™ BC-24 계면활성제, Chemoryl™ LB-30 계면활성제, Novethix™ L-10 중합체, Ceralan™ 라놀린 제품, Pemulen™ TR-1 중합체성 유화제, Pemulen™ TR-2 중합체성 유화제, Hydramol™ PGPD 에스테르, Schercodine™ M 아미도-아민, Schercodine™ P 아미도-아민, Schercomid 디에탄올아미드 (The Lubrizol Corporation).
Salcare® 및 Luvigel® (BASF Corporation).
Aculyn™ 22, Aculyn™ 28, Aculyn™ 33, Aculyn™ 38 및 Aculyn™ 44 (The Dow Chemical Company).
Ammonyx® C 및 Stepan-Mild® GCC (Stepan Company).
Stabileze®, Rapithix® A-60, Rapithix® A-100, Ultrathix® P-100, Lubrajel® 및 FlexiThix (ASI).
약간 내지 적절하게 가교 결합된 폴리비닐피롤리돈이 또한 증점제/레올로지 개질제로서 적합하다. 이들 중합체의 개시 내용은 하기의 특허 및 간행물에서 제공되며, 이들 각각은 그 전체가 본원에 참고로 포함된다: 미국 특허 제 5,073,614 호; 제 5,312,619 호; 제 5,139,770 호; 제 5,716,634 호; 제 5,470,884 호; 제 5,759,524 호; 제 5,997,887 호; 제 6,024,942 호; 및 WIPO PCT 공개 번호 PCT/US10/26973, PCT/US10/26976, PCT/US10/26940, PCT/US11/32993 및 PCT/US11/34515.
본 발명의 하나의 구현예에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제는 하나 이상의 증점 중합체이다. 적합한 증점 중합체의 비-제한적인 예는 다음을 포함한다: 아세트아미드 MEA; 아크릴아미드/에탈코늄 클로라이드 아크릴레이트 공중합체; 아크릴아미드/에틸트리모늄 클로라이드 아크릴레이트/에탈코늄 클로라이드 아크릴레이트 공중합체; 아크릴아미드 공중합체; 아크릴아미드/나트륨 아크릴레이트 공중합체; 아크릴아미드/나트륨 아크릴로일디메틸타우레이트 공중합체; 아크릴레이트/아세토아세톡시에틸 메타크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/베헤네스-25 메타크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/C10-C30 알킬 아크릴레이트 교차중합체; 아크릴레이트/세테스-20 이타코네이트 공중합체; 아크릴레이트/세테스-20 메타크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/라우레스-25 메타크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/팔메스-25 아크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/팔메스-25 이타코네이트 공중합체; 아크릴레이트/스테아레스-50 아크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/스테아레스-20 이타코네이트 공중합체; 아크릴레이트/스테아레스-20 메타크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/스테아릴 메타크릴레이트 공중합체; 아크릴레이트/비닐 이소데카노에이트 교차중합체; 아크릴산/아크릴로질소 공중합체; 아디프산/메틸 DEA 교차중합체; 한천; 아가로오스; 알칼리게네스 다당류; 알긴; 알긴산; 아몬드아미드 DEA; 아몬드아미도프로필 베타인; 알루미늄/마그네슘 히드록사이드 스테아레이트; 암모늄 아크릴레이트/아크릴로질소 공중합체; 암모늄 아크릴레이트 공중합체; 암모늄 아크릴로일디메틸타우레이트/비닐 포름아미드 공중합체; 암모늄 아크릴로일디메틸타우레이트/VP 공중합체; 암모늄 알기네이트; 암모늄 클로라이드; 암모늄 폴리아크릴로일디메틸 타우레이트; 암모늄 술페이트; 아밀로펙틴; 아프리코트아미드 DEA; 아프리코트아미도프로필 베타인; 아라키딜 알코올; 아라키딜 글리콜; 아라키스 히포가에아 (arachis hypogaea) (땅콩) 가루; 아스코르빌 메틸실란올 펙티네이트; 아스트라갈루스 굼미페르 (astragalus gummifer) 검; 아타풀자이트; 아베나 사티바 (avena sativa) (귀리) 커널 가루; 아보카드아미드 DEA; 아보카드아미도프로필 베타인; 아젤아미드 MEA; 바바수아미드 DEA; 바바수아미드 MEA; 바바수아미도프로필 베타인; 베헨아미드 DEA; 베헨아미드 MEA; 베헨아미도프로필 베타인; 베헤닐 베타인; 벤토나이트; 부톡시 키토산; 카에살피니아 스피노사 (caesalpinia spinosa) 검; 칼슘 알기네이트; 칼슘 카르복시메틸 셀룰로오스; 칼슘 카라기난; 칼슘 클로라이드; 칼슘 칼륨 카보머; 칼슘 전분 옥테닐숙시네이트; C20-40 알킬 스테아레이트; 카놀아미도프로필 베타인; 카프르아미드 DEA; 카프릴/카프르아미도프로필 베타인; 카보머; 카르복시부틸 키토산; 카르복시메틸 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트; 카르복시메틸 키틴; 카르복시메틸 키토산; 카르복시메틸 덱스트란; 카르복시메틸 히드록시에틸셀룰로오스; 카르복시메틸 히드록시프로필 구아; 카르니틴; 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 카르복실레이트; 셀룰로오스 검; 세라토니아 실리쿠아 (ceratonia siliqua) 검; 세테아릴 알코올; 세틸 알코올; 세틸 바바수에이트; 세틸 베타인; 세틸 글리콜; 세틸 히드록시에틸셀룰로오스; 키밀 알코올; 콜레스테롤/HDI/풀루란 공중합체; 콜레스테릴 헥실 디카르바메이트 풀루란; 시트루스 아우란티움 둘시스 (citrus aurantium dulcis) (오렌지) 껍질 추출물; 코카미드 DEA; 코카미드 MEA; 코카미드 MIPA; 코카미도에틸 베타인; 코카미도프로필 베타인; 코카미도프로필 히드록시 술타인; 코코-베타인; 코코-히드록시술타인; 코코넛 알코올; 코코/올레아미도프로필 베타인; 코코-술타인; 코코일 사르코신아미드 DEA; 콘아미드/코카미드 DEA; 콘아미드 DEA; 크로스카르멜로오스; 가교 결합된 바실루스/글루코오스/나트륨 글루타메이트 발효물; 시아모프시스 테트라고놀로바 (cyamopsis tetragonoloba) (구아) 검; 데실 알코올; 데실 베타인; 데히드로잔탄 검; 덱스트린; 디벤질리덴 소르비톨; 디에탄올아미노올레아미드 DEA; 디글리콜/CHDM/이소프탈레이트/SIP 공중합체; 디히드로아비에틸 베헤네이트; 이수소화된 탤로우 벤질모늄 헥토라이트; 디히드록시 알루미늄 아미노아세테이트; 디메티콘/PEG-10 교차중합체; 디메티콘/PEG-15 교차중합체; 디메티콘 프로필 PG-베타인; 디메틸아크릴아미드/아크릴산/폴리스티렌 에틸 메타크릴레이트 공중합체; 디메틸아크릴아미드/나트륨 아크릴로일디메틸타우레이트 교차중합체; 디스테아레스-100 IPDI; DMAPA 아크릴레이트/아크릴산/아크릴로질소 공중합체; 에루카미도프로필 히드록시술타인; 에틸렌/나트륨 아크릴레이트 공중합체; 젤라틴; 젤란 검; 글리세릴 알기네이트; 글리신 소야 (glycine soya) (대두) 가루; 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드; 헥토라이트; 히알루론산; 수화 실리카; 수소화된 감자 전분; 수소화된 탤로우; 수소화된 탤로우 아미드 DEA; 수소화된 탤로우 베타인; 히드록시부틸 메틸셀룰로오스; 히드록시에틸 아크릴레이트/나트륨 아크릴로일 디메틸 타우레이트 공중합체; 히드록시에틸셀룰로오스; 히드록시에틸 키토산; 히드록시에틸 에틸셀룰로오스; 히드록시에틸 스테아르아미드-MIPA; 히드록시라우릴/히드록시미리스틸 베타인; 히드록시프로필셀룰로오스; 히드록시프로필 키토산; 히드록시프로필 에틸렌디아민 카보머; 히드록시프로필 구아; 히드록시프로필 메틸셀룰로오스; 히드록시프로필 메틸셀룰로오스 스테아록시 에테르; 히드록시프로필 전분; 히드록시프로필 전분 포스페이트; 히드록시프로필 잔탄 검; 히드록시 스테아르아미드 MEA; 이소부틸렌/나트륨 말레에이트 공중합체; 이소스테아르아미드 DEA; 이소스테아르아미드 MEA; 이소스테아르아미드 MlPA; 이소스테아르아미도프로필 베타인; 락트아미드 MEA; 라놀린아미드 DEA; 라우르아미드 DEA; 라우르아미드 MEA; 라우르아미드 MIPA; 라우르아미드/미리스트아미드 DEA; 라우르아미도프로필 베타인; 라우르아미도프로필 히드록시술타인; 라우르이미노 비스프로판디올; 라우릴 알코올; 라우릴 베타인; 라우릴 히드록시술타인; 라우릴/미리스틸 글리콜 히드록시프로필 에테르; 라우릴 술타인; 레시틴아미드 DEA; 리놀레아미드 DEA; 리놀레아미드 MEA; 리놀레아미드 MIPA; 리튬 마그네슘 실리케이트; 리튬 마그네슘 나트륨 실리케이트; 마크로시스티스 피리페라 (macrocystis pyrifera) (켈프); 마그네슘 알기네이트; 마그네슘/알루미늄/히드록사이드/카보네이트; 마그네슘 알루미늄 실리케이트; 마그네슘 실리케이트; 마그네슘 트리실리케이트; 메톡시 PEG-22/도데실 글리콜 공중합체; 메틸셀룰로오스; 메틸 에틸셀룰로오스; 메틸 히드록시에틸셀룰로오스; 미세 결정질 셀룰로오스; 민카미도프로필 베타인; 민카미드 DEA; 민카미도프로필 베타인; MIPA-미리스테이트; 몬모릴로나이트; 모로코 용암 점토; 미리스트아미드 DEA; 미리스트아미드 MEA; 미리스트아미드 MIPA; 미리스트아미도프로필 베타인; 미리스트아미도프로필 히드록시술타인; 미리스틸 알코올; 미리스틸 베타인; 낫토 검; 노녹시놀 히드록시에틸셀룰로오스; 오아트아미드 MEA; 오아트아미도프로필 베타인; 옥타코사닐 글리콜 이소스테아레이트; 옥타데센/MA 공중합체; 올레아미드 DEA; 올레아미드 MEA; 올레아미드 MIPA; 올레아미도프로필 베타인; 올레아미도프로필 히드록시술타인; 올레일 베타인; 올리브아미드 DEA; 올리브아미도프로필 베타인; 올리브아미드 MEA; 팜아미드 DEA; 팜아미드 MEA; 팜아미드 MIPA; 팜아미도프로필 베타인; 팔미트아미드 DEA; 팔미트아미드 MEA; 팔미트아미도프로필 베타인; 팜 커널 알코올; 팜 커널아미드 DEA; 팜 커널아미드 MEA; 팜 커널아미드 MIPA; 팜 커널아미도프로필 베타인; 피넛아미드 MEA; 피넛아미드 MIPA; 펙틴; PEG-800; PEG-교차중합체; PEG-150/데실 알코올/SMDI 공중합체; PEG-175 디이소스테아레이트; PEG-190 디스테아레이트; PEG-15 글리세릴 트리스테아레이트; PEG-140 글리세릴 트리스테아레이트; PEG-240/HDI 공중합체 비스-데실테트라데세스-20 에테르; PEG-100/IPDI 공중합체; PEG-180/라우레스-50/™MG 공중합체; PEG-10/라우릴 디메티콘 교차중합체; PEG-15/라우릴 디메티콘 교차중합체; PEG-2M; PEG-5M; PEG-7M; PEG-9M; PEG-14M; PEG-20M; PEG-23M; PEG-25M; PEG-45M; PEG-65M; PEG-90M; PEG-115M; PEG-160M; PEG-180M; PEG-120 메틸 글루코오스 트리올레에이트; PEG-180/옥톡시놀-40/™MG 공중합체; PEG-150 펜타에리트리틸 테트라스테아레이트; PEG-4 유채씨 아미드; PEG-150/스테아릴 알코올/SMDI 공중합체; 파세올루스 안굴라리스 (phaseolus angularis) 종자 분말; 폴리안테스 투베로사 (polianthes tuberosa) 추출물; 폴리아크릴레이트-3; 폴리아크릴산; 폴리시클로펜타디엔; 폴리에테르-1; 폴리에틸렌/이소프로필 말레에이트/MA 코폴리올; 폴리글리세릴-3 디실록산 디메티콘; 폴리글리세릴-3 폴리디메틸실록시에틸 디메티콘; 폴리메타크릴산; 폴리쿼터늄-52; 폴리비닐 알코올; 칼륨 알기네이트; 칼륨 알루미늄 폴리아크릴레이트; 칼륨 카보머; 칼륨 카라기난; 칼륨 클로라이드; 칼륨 팔메이트; 칼륨 폴리아크릴레이트; 칼륨 술페이트; 개질된 감자 전분; PPG-2 코카미드; PPG-1 히드록시에틸 카프릴아미드; PPG-2 히드록시에틸 코카미드; PPG-2 히드록시에틸 코코/이소스테아르아미드; PPG-3 히드록시에틸 소이아미드; PPG-14 라우레스-60 헥실 디카르바메이트; PPG-14 라우레스-60 이소포릴 디카르바메이트; PPG-14 팔메스-60 헥실 디카르바메이트; 프로필렌 글리콜 알기네이트; PVP/데센 공중합체; PVP 몬모릴로나이트; 피루스 시도니아 (pyrus cydonia) 종자; 피루스 말루스 (pyrus malus) (사과) 섬유; 리조비안 (rhizobian) 검; 쌀겨아미드 DEA; 리시놀레아미드 DEA; 리시놀레아미드 MEA; 리시놀레아미드 MIPA; 리시놀레아미도프로필 베타인; 리시놀레산/아디프산/AEEA 공중합체; 로사 멀티플로라 플라워 왁스 (rosa multiflora flower wax); 스클레로티움 (sclerotium) 검; 세사미드 DEA; 세사미도프로필 베타인; 나트륨 아크릴레이트/아크릴로일디메틸 타우레이트 공중합체; 나트륨 아크릴레이트/아크롤레인 공중합체; 나트륨 아크릴레이트/아크릴로질소 공중합체; 나트륨 아크릴레이트 공중합체; 나트륨 아크릴레이트 교차중합체; 나트륨 아크릴레이트/나트륨 아크릴아미도메틸프로판 술포네이트 공중합체; 나트륨 아크릴레이트/비닐 이소데카노에이트 교차중합체; 나트륨 아크릴레이트/비닐 알코올 공중합체; 나트륨 카보머; 나트륨 카르복시메틸 키틴; 나트륨 카르복시메틸 덱스트란; 나트륨 카르복시메틸 베타-글루칸; 나트륨 카르복시메틸 전분; 나트륨 카라기난; 나트륨 셀룰로오스 술페이트; 나트륨 클로라이드; 나트륨 시클로덱스트린 술페이트; 나트륨 히드록시프로필 전분 포스페이트; 나트륨 이소옥틸렌/MA 공중합체; 나트륨 마그네슘 플루오로실리케이트; 나트륨 올레에이트; 나트륨 팔미테이트; 나트륨 팜 커널레이트; 나트륨 폴리아크릴레이트; 나트륨 폴리아크릴레이트 전분; 나트륨 폴리아크릴로일디메틸 타우레이트; 나트륨 폴리감마-글루타메이트; 나트륨 폴리메타크릴레이트; 나트륨 폴리스티렌 술포네이트; 나트륨 실리코알루미네이트; 나트륨 전분 옥테닐숙시네이트; 나트륨 스테아레이트; 나트륨 스테아록시 PG-히드록시에틸셀룰로오스 술포네이트; 나트륨 스티렌/아크릴레이트 공중합체; 나트륨 술페이트; 나트륨 탤로우에이트; 나트륨 타우라이드 아크릴레이트/아크릴산/아크릴로질소 공중합체; 나트륨 토코페릴 포스페이트; 솔라눔 투베로숨 (solanum tuberosum) (감자) 전분; 소이아미드 DEA; 소이아미도프로필 베타인; 전분/아크릴레이트/아크릴아미드 공중합체; 전분 히드록시프로필트리모늄 클로라이드; 스테아르아미드 AMP; 스테아르아미드 DEA; 스테아르아미드 DEA-디스테아레이트; 스테아르아미드 DIBA-스테아레이트; 스테아르아미드 MEA; 스테아르아미드 MEA-스테아레이트; 스테아르아미드 MIPA; 스테아르아미도프로필 베타인; 스테아레스-60 세틸 에테르; 스테아레스-100/PEG-136/HDI 공중합체; 스테아릴 알코올; 스테아릴 베타인; 스테르쿨리아 우렌스 (sterculia urens) 검; 합성 플루오르플로고파이트; 톨 아미드 DEA; 탤로우 알코올; 탤로우아미드 DEA; 탤로우아미드 MEA; 탤로우아미도프로필 베타인; 탤로우아미도프로필 히드록시술타인; 탤로우아민 옥사이드; 탤로우 베타인; 탤로우 디히드록시에틸 베타인; 타마린두스 인디카 (tamarindus indica) 종자 검; 타피오카 전분; TEA-알기네이트; TEA-카보머; TEA-히드로클로라이드; 트리데세스-2 카르복스아미드 MEA; 트리데실 알코올; 트리에틸렌 글리콜 디벤조에이트; 트리메틸 펜탄올 히드록시에틸 에테르; 트리티쿰 불가레 (triticum vulgare) (밀) 배아 분말; 트리티쿰 불가레 (triticum vulgare) (밀) 커널 가루; 트리티쿰 불가레 (triticum vulgare) (밀) 전분; 트로메타민 아크릴레이트/아크릴로질소 공중합체; 트로메타민 마그네슘 알루미늄 실리케이트; 운데실 알코올; 운데실렌아미드 DEA; 운데실렌아미드 MEA; 운데실렌아미도프로필 베타인; 웰란 검; 밀 배아 아미드 DEA; 밀 배아 아미도프로필 베타인; 잔탄 검; 효모 베타-글루칸; 효모 다당류; 제아 마이스 (zea mays) (옥수수) 전분; 및 이들의 배합물.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 증점제는 셀룰로오스, 잔탄 검, 카라기난, 겔란 검, 가교 결합된 폴리아크릴산 중합체, 소수성으로 변성된 가교 결합된 폴리아크릴산 중합체, 알칼리 팽윤성 가교 결합된 폴리아크릴산 중합체, 폴리에틸렌 글리콜 디알카노에이트, 폴리프로필렌 글리콜 트리알킬 트리알케노에이트로 이루어진 군에서 선택된다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 증점제는 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 0.5 중량% 내지 ≤ 4.0 중량% 의 범위의 양으로 존재한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 비제한적으로, 트리아졸, 이미다졸, 나프탈렌 유도체, 벤즈이미다졸, 모르폴린 유도체, 디티오카르바메이트, 벤즈이소티아졸, 벤즈아미드, 붕소 화합물, 포름알데히드 공여체, 이소티아졸론, 티오시아네이트, 4차 암모늄 화합물, 요오드 유도체, 페놀 유도체, 페녹시에탄올 및 카프릴릴 글리콜 살균제, 피리딘, 디알킬 티오카르바메이트, 니트릴, 파라벤, 알킬 파라벤, 및 이들의 염에서 선택되는 방부제를 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 적합한 산화방지제는 본 발명의 모발 스타일링 조성물의 향상된 저장 수명을 촉진하기 위해서 첨가될 수 있다. 사용될 수 있는 산화방지제는 비타민 E, 비타민 E 아세테이트, 비타민 C, 비타민 A 및 비타민 D 와 같은 비타민, 및 이들의 유도체를 포함한다. 추가의 예시적인 산화방지제는 비제한적으로, 갈산의 프로필, 옥틸 및 도데실 에스테르, 부틸화된 히드록시아니솔 (BHA), 부틸화된 히드록시톨루엔 (BHT) 및 노르디히드로구아이아레트산을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 본 발명의 원하는 모발 관리 조성물을 제제화하기 위한 바람직한 지방 물질-기재 부형제는 지방 알코올, 천연 및 합성 왁스, 세라미드, 광물성 오일, 식물성 오일, 동물성 오일, 합성 오일을 포함할 것이다. 또다른 구현예에 있어서, 다른 바람직한 지방 물질은 이소도데칸, 수소화된 폴리이소부텐, 스쿠알란, 이소노닐 이소노나노에이트, 시클로테트라- 및 펜타디메티콘, 페닐트리메티콘, 에틸렌 단일중합체, 에톡시화된 지방 및 오일, 플루오로알칸, 세라사이트, 시어 버터, 아라키딜 프로피오네이트 단독 또는 조합이다. 왁스의 정의에 대해서는, 예를 들어 문헌 [P. D. Dorgan, Drug and Cosmetic Industry, December 1983, pp. 30-33] 을 언급할 수 있다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 습윤제 또는 보습제는 글리콜, 글리세롤, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 소르비톨, 피로글루탐산의 나트륨 염, 글리세롤, 글리세롤 유도체, 글리세린, 트레할로오스, 소르비톨, 말티톨, 디프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 나트륨 히알루로네이트 등을 포함한다. 또한, 물과 충분히 결합하며, 이로써 모발 표면 상에서 유지되는 습윤제는 보습제라고 불리는 것으로 알려져 있다. 본 발명의 생성물에 혼입될 수 있는 보습제의 예는 글리세린, 프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 락트산, 나트륨 락테이트, 피롤리돈 카르복실산, 우레아, 인지질, 콜라겐, 엘라스틴, 세라미드, 레시틴 소르비톨, PEG-4, 및 이들의 혼합물이다. 추가의 적합한 습윤제는 자연에서 수용성 및/또는 수팽윤성에 속하는 중합체성 습윤제이다. 히알루론산, 키토산과 같은 다당류는 또한 이들의 특성을 향상시키기 위한 결합제로서 본 발명의 습윤제와 함께 사용될 수 있다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 사용될 수 있는 비듬 방지제는 클림바졸, 옥토피록스 및 아연 피리티온, 살리실산, 원소 황, 이산화 셀레늄 및 아졸 항진균제이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 UV 광선을 필터링할 수 있는 하나 이상의 유기 UV 필터를 포함할 수 있다. 필터는 실리콘화 또는 비-실리콘화 여부에 관계없이 수용성 또는 지용성 필터, 및 미네랄 산화물 입자에서 선택될 수 있으며, 이의 표면은 처리될 수 있다. 수용성 유기 UV 필터는 파라-아미노 벤조산 및 이의 염, 안트라닐산 및 이의 염, 살리실산 및 이의 염, 히드록시 신남산 및 이의 염, 벤조티아졸, 벤즈이미다졸, 벤족사졸의 술폰산 유도체 및 이들의 염, 벤조페논의 술폰산 유도체 및 이들의 염, 벤질리덴 캄포르의 술폰산 유도체 및 이들의 염, 4차 아민으로 치환된 벤질리덴 캄포르의 유도체 및 이들의 염, 프탈리덴-캄포술폰산의 유도체 및 이들의 염, 벤조트리아졸의 술폰산 유도체, 및 이들의 혼합물에서 선택될 수 있다.
적합한 지용성 유기 UV 필터는, 비제한적으로, 파라-아미노벤조산의 유도체, 예컨대 파라-아미노벤조산의 에스테르 또는 아미드; 살리실산의 유도체; 벤조페논의 유도체; 디벤조일 메탄의 유도체; 디페닐 아크릴레이트의 유도체; 벤조푸란의 유도체; 하나 이상의 실리코-유기 잔기를 함유하는 UV 필터 중합체; 신남산의 에스테르; 캄포르의 유도체; 트리아닐리노-s-트리아진의 유도체; 에틸계 에스테르 우로칸산; 벤조트리아졸; 히드록시 페닐 트리아진의 유도체; Ws-레소르시놀-디알킬 아미노 트리아진; 및 이들의 혼합물을 포함한다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 착색제를 포함하며, 본원에서 사용되는 색소 또는 염료는 식품, 의약품 및 화장품 용도에 적합한 천연 식용 색소 및 염료를 포함한다. 이들 색소는 또한 FD&C, 및 D&C 염료 및 레이크로도 알려져 있으며, 바람직하게는 자연에서 수용성이다. 모든 FD&C 및 D&C 염료 및 이들의 상응하는 화학 구조의 전체 인용은 본원에 참고로 포함되는 문헌 [Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, Volume 5, pages 857-884] 에서 확인할 수 있다. 이들 착색제는 개인 관리 조성물의 약 3 중량% 이하, 보다 특히 약 2 중량% 이하, 및 일부 경우에는, 약 1 중량% 미만의 양으로 혼입될 수 있다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 격리제 또는 킬레이트제를 포함한다. 본원에서 사용되는 바와 같은 용어 "격리제" 또는 "킬레이트제" 는, 화합물의 2 개 이상의 원자 사이에서 금속 이온을 결합 또는 착화시킬 수 있으며, 이로써 이러한 금속 이온의 유해한 효과를 중화시키거나 제어할 수 있는 화합물에 관한 것이며, 여기에서 금속 이온의 유지 또는 결합은 배위 및/또는 이온 결합을 포함하는 하나 이상의 상이한 유형의 결합의 조합을 통한다. 본 발명의 목적을 위한 적합한 유기 또는 무기 격리제 또는 킬레이트제는 폴리올, 글루코네이트, 소르비탈, 만니톨, 카보네이트, 히드록사메이트, 카테콜, 아미노 카르복실레이트, 알칸올아민, 금속 이온 격리제, 히드록시카르복실산, 아미노카르복실산, 아미노 폴리카르복실산, 폴리아민, 폴리포스페이트, 포스폰산, 크라운 에테르, 아미노산, 폴리카르복실산, 시클로덱스트린, 포스포네이트, 폴리아크릴레이트 또는 중합체성 폴리카르복실레이트, 축합된 포스페이트를 포함하는 군에서 선택된다. 또한, 격리제 및 킬레이트제에 대한 정보는 그 전체가 본원에 참고로 포함되는 문헌 [T. E. Furia, CRC Handbook of Food Additives, 2nd Edition, pp. 271-294 (1972)] 및 [M. S. Peterson and A. M. Johnson (Eds.), Encyclopedia of Food Science, pp. 694-699 (1978)] 에 개시되어 있다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 천연 또는 합성 공급원으로부터 수득된 향료 또는 방향제를 포함한다. 방향제는 적합한 용매, 희석제 또는 담체와 함께 사용될 수 있다. 방향제는 임의의 통상적으로 공지된 방법으로, 예를 들어, 조성물에의 혼합 또는 조성물을 형성하는데 사용되는 다른 성분과의 배합에서, 소독제 또는 세정 조성물에 원하는 향기 특성을 부여하거나 또는 이를 증가시키는데 유용한 것으로 밝혀진 양으로 첨가될 수 있다. 본 발명을 위한 방향제는 에센셜 오일, 앱솔루트, 레지노이드, 수지, 콘크리트, 탄화수소, 알코올, 알데히드, 케톤, 에테르, 산, 에스테르, 아세탈, 케탈, 니트릴, 예를 들어 포화 및 불포화 화합물 및 지방족, 카르보시클릭 및 헤테로시클릭 화합물과 같은 화합물의 비-제한적인 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 린스-오프 조성물 또는 리브-인 조성물의 형태로 존재한다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 샴푸, 컨디셔너, 헤어 스트레이트너, 퍼머넌트 웨이브 및 헤어 컬러에서 선택되는 린스-오프 조성물이다.
본원에서 청구된 발명의 또다른 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 무스, 모발 래커, 모발 젤, 모발 로션, 모발 왁스, 스타일링 크림, 포마드, 토닉, 모발 스프레이, 워킹 스프레이, 피니싱 스프레이, 블로우-드라이 보호 스프레이, 플랫-아이언 스프레이, 열 보호 스프레이 및 컬-강화 스프레이에서 선택되는 리브-인 조성물이다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 실리콘을 포함하지 않는다.
본원에서 청구된 발명의 하나의 구현예에 있어서, 모발 관리 조성물은 각각 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서,
≥ 1.0 중량% 내지 ≤ 15.0 중량% 의 하나 이상의 액정 지질 입자,
≥ 10.0 중량% 내지 ≤ 50.0 중량% 의 하나 이상의 계면활성제,
≥ 0.1 중량% 내지 ≤ 1.0 중량% 의 하나 이상의 컨디셔닝제,
≥ 0.5 중량% 내지 ≤ 4.0 중량% 의 하나 이상의 증점제,
≥ 50.0 중량% 내지 ≤ 90.0 중량% 의 물
을 포함한다.
이점
1) 액정 입자 함유 조성물은 실리콘 함유 모발 관리 조성물에 필적하며, 따라서 실리콘이 환경에 유해한 것으로 생각되기 때문에, 실리콘에 대한 대체물로서 고려될 수 있다.
2) 실리콘 함유 모발 관리 제품에 대한 지속 가능한 대안.
3) 액정 입자의 제조 공정은 비용 효율적이며, 따라서 임의의 상업적 용도에 대해 지속 가능하다.
구현예
1. 하나 이상의 액정 지질 입자를 모발에 적용하는 것을 포함하는 모발의 컨디셔닝 방법으로서, 상기 액정 지질 입자가 다음을 포함하는 방법:
화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00037
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00038
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위이다),
화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00039
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00040
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위이다),
화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00041
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
및
화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00042
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
2. 모발의 컨디셔닝을 위한 하나 이상의 액정 지질 입자의 용도로서, 상기 액정 지질 입자가 다음을 포함하는 용도:
화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00043
화학식 (I)
(식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00044
화학식 (II)
(식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위이다),
화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00045
화학식 (III)
(식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00046
화학식 (IV)
(식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위이다),
화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00047
화학식 (V)
(식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
및
화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
Figure pct00048
화학식 (VI)
(식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
3. 구현예 1 또는 2 에 있어서, 액정 지질 입자가 사방정계 측면 패킹이 있는 라멜라 구조를 갖는 방법 또는 용도.
4. 구현예 1 또는 2 에 있어서, 액정 지질 입자가 Malvern DLS ZS90 을 사용한 동적 광 산란을 이용하여 결정되는 ≥ 20 nm 내지 ≤ 300 nm 의 범위의 평균 입자 크기를 갖는 방법 또는 용도.
5. 구현예 1 또는 2 에 있어서, 액정 지질 입자가 40 ℃ 에서 측정할 때, Zetasizer nano ZS90 을 사용하여 결정되는 20 mV 초과의 제타 전위를 갖는 방법 또는 용도.
6. 구현예 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물이 세테아레스, 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르 및 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
7. 구현예 1 내지 6 중 어느 하나에 있어서, 화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물이 글리세롤 스테아레이트, 글리세롤 라우레이트 및 글리세롤 팔미테이트로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
8. 구현예 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물이 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 테트라데실 테트라데카노에이트 및 베헤닐 베헤네이트로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
9. 구현예 1 내지 8 중 어느 하나에 있어서, 화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물이 라우릴 알코올, 트리데실 알코올, 미리스틸 알코올, 펜타데실 알코올, 세틸 알코올, 팔미톨레일 알코올, 헵타데실 알코올, 스테아릴 알코올, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
10. 구현예 1 내지 9 중 어느 하나에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물이 디나트륨 C10-C18 알킬 술포숙시네이트인 방법 또는 용도.
11. 구현예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물이 나트륨 라우로일 글루타메이트, 나트륨 코코일 글루타메이트, 나트륨 미리스토일 글루타메이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
12. 구현예 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올을 포함하는 방법 또는 용도.
13. 구현예 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올을 포함하는 방법 또는 용도.
14. 구현예 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C10-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함하는 방법 또는 용도.
15. 구현예 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스-20, 세테아레스-12, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C16-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함하는 방법 또는 용도.
16. 다음을 포함하는 모발 관리 조성물:
구현예 1 내지 15 중 어느 하나에서 정의한 바와 같은 하나 이상의 액정 입자,
하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제, 및
물.
17. 구현예 16 에 있어서, 하나 이상의 액정 지질 입자가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 1.0 중량% 내지 ≤ 15.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
18. 구현예 16 또는 17 에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제가 증점제, 점도 조정제, 계면활성제, 유화제, 향료, 방부제, UV 보호제, 킬레이트제, 세정제, 습윤제, 모발 컨디셔닝제, 유연성 향상제, 분리 개질제, 보습제, 추진제, 압축 가스, 광택 향상제, 중화제, 텍스처화제, 방수제, 가용화제, 현탁제, 미용 활성 성분, 모발 중합체, 광 보호제, 표백제, 겔 형성제, 착색제, 틴트제, 태닝제, 염료, 안료, 바디제, 습윤제, 산화방지제, 소포제, 대전방지제, 연화제, 유연제, 비듬 방지제, 모발 성장제, 항염증제, 항균제, 거품 안정화제, 레올로지 개질제, 연수제, 향수성 물질, 완충제로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
19. 구현예 18 에 있어서, 미용적으로 허용 가능한 첨가제가 계면활성제인 모발 관리 조성물.
20. 구현예 19 에 있어서, 계면활성제가 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 및 비이온성 계면활성제로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
21. 구현예 20 에 있어서, 모발 관리 조성물이 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 양쪽성 계면활성제를 포함하는 모발 관리 조성물.
22. 구현예 21 에 있어서, 계면활성제가 음이온성 계면활성제인 모발 관리 조성물.
23. 구현예 22 에 있어서, 음이온성 계면활성제가 알킬 술페이트, 알킬에테르 술페이트, 알킬에스테르 술포네이트, 알킬벤젠 술포네이트, 1차 또는 2차 알킬 술포네이트, 알킬글리세롤 술포네이트, 술포네이트화된 폴리카르복실산, 알킬글리코시드의 술페이트, 술페이트화된 알킬아미드, 알킬 포스페이트, 포화 또는 불포화 지방 산의 염, 폴리옥시알킬렌 에테르 아세테이트, 파라핀 술포네이트, N-아실 N-알킬타우레이트, 이세티오네이트, 알킬 숙시나메이트, N-아실 사르코시네이트, 알킬 술포숙시네이트, 술포숙시네이트의 모노에스테르 또는 디에스테르 및 폴리에톡시 카르복실레이트로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
24. 구현예 20 에 있어서, 계면활성제가 양이온성 계면활성제인 모발 관리 조성물.
25. 구현예 24 에 있어서, 양이온성 계면활성제가 4차화된 암모늄 화합물, 알킬 술페이트, 및 피리딘 및 이미다졸린 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
26. 구현예 20 또는 21 에 있어서, 계면활성제가 양쪽성 계면활성제인 모발 관리 조성물.
27. 구현예 26 에 있어서, 양쪽성 계면활성제가 알킬베타인, 알킬아미도프로필베타인, 알킬술포베타인, 알킬 글리시네이트, 알킬 카르복시글리시네이트, 알킬 암포아세테이트 또는 프로피오네이트 및 알킬 암포디아세테이트 또는 디프로피오네이트로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
28. 구현예 20 에 있어서, 계면활성제가 비이온성 계면활성제인 모발 관리 조성물.
29. 구현예 28 에 있어서, 비이온성 계면활성제가 지방 알코올 폴리옥시알킬렌 에스테르, 알킬 폴리옥시알킬렌 에테르 (C1-C6-알코올 또는 C7-C30-지방 알코올에서 유래함), 알킬아릴 알코올 폴리옥시에틸렌 에테르, 알콕시화된 동물성 및/또는 식물성 지방 및/또는 오일, 글리세롤 에스테르, 알킬페놀 알콕실레이트, 지방 아민 알콕실레이트, 지방 산 아미드 및 지방 산 디에탄올아미드 알콕실레이트, 이의 에톡시레이트, 당 계면활성제, 소르비톨 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방 산 에스테르, 알킬 폴리글리코시드, N-알킬글루콘아미드, 알킬 메틸 술폭시드 및 알킬 디메틸 포스핀 옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
30. 구현예 16 내지 29 중 어느 하나에 있어서, 하나 이상의 계면활성제가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 10.0 중량% 내지 ≤ 50.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
31. 구현예 18 에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 작용제가 모발 컨디셔닝제인 모발 관리 조성물.
32. 구현예 31 에 있어서, 하나 이상의 컨디셔닝제가 단백질 또는 가수 분해된 양이온성 또는 비-양이온성 단백질, 1차, 2차 또는 3차 지방 아민의 염, 4차 암모늄 염, 이미다졸린의 유도체 또는 아민 옥사이드와 같은 양이온성 계면활성제, 지방 아민, 지방 산 또는 유도체, 4차 암모늄 화합물, 양이온성 중합체, 천연 또는 합성 오일로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
33. 구현예 32 에 있어서, 양이온성 중합체가 양이온성 구아, 양이온성 히드록실에틸 셀룰로오스, 디알릴 디메틸암모늄 클로라이드 (DADMAC)-아크릴아미드 공중합체 및 (3-아크릴아미도프로필) 트리메틸-암모늄 클로라이드에서 선택되는 모발 관리 조성물.
34. 구현예 32 에 있어서, 천연 또는 합성 오일이 지방 산의 글리세롤 에스테르, 알킬기 당 6 내지 22 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형, 대칭 또는 비대칭 디알킬 에테르 및 알킬 글루코시드, 알킬기 당 6 내지 22 개의 탄소 원자를 갖는 폴리에틸렌 글리콜 알킬 에테르, 알킬기 당 6 내지 22 개의 탄소 원자를 갖는 폴리에틸렌 글리콜 알킬 글리세리드로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
35. 구현예 31 내지 34 중 어느 하나에 있어서, 하나 이상의 컨디셔닝제가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 0.1 중량% 내지 ≤ 1.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
36. 구현예 18 에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 작용제가 증점제인 모발 관리 조성물.
37. 구현예 36 에 있어서, 하나 이상의 증점제가 셀룰로오스, 잔탄 검, 카라기난, 겔란 검, 가교 결합된 폴리아크릴산 중합체, 소수성으로 변성된 가교 결합된 폴리아크릴산 중합체, 알칼리 팽윤성 가교 결합된 폴리아크릴산 중합체, 폴리에틸렌 글리콜 디알카노에이트, 폴리프로필렌 글리콜 트리알킬 트리알케노에이트로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
38. 구현예 36 또는 37 에 있어서, 하나 이상의 증점제가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 0.5 중량% 내지 ≤ 4.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
39. 구현예 16 내지 38 중 어느 하나에 있어서, 각각 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서,
≥ 1.0 중량% 내지 ≤ 15.0 중량% 의 하나 이상의 액정 입자,
≥ 10.0 중량% 내지 ≤ 50.0 중량% 의 하나 이상의 계면활성제,
≥ 0.1 중량% 내지 ≤ 1.0 중량% 의 하나 이상의 컨디셔닝제,
≥ 0.5 중량% 내지 ≤ 4.0 중량% 의 하나 이상의 증점제,
≥ 50.0 중량% 내지 ≤ 90.0 중량% 의 물
을 포함하는 모발 관리 조성물.
40. 구현예 16 내지 39 중 어느 하나에 있어서, 모발 관리 조성물이 린스-오프 조성물 또는 리브-인 조성물의 형태로 존재하는 모발 관리 조성물.
41. 구현예 40 에 있어서, 린스-오프 조성물이 샴푸, 컨디셔너, 헤어 스트레이트너, 퍼머넌트 웨이브 및 헤어 컬러에서 선택되는 모발 관리 조성물.
42. 구현예 40 에 있어서, 리브-인 조성물이 무스, 모발 래커, 모발 젤, 모발 로션, 모발 왁스, 스타일링 크림, 포마드, 토닉, 모발 스프레이, 워킹 스프레이, 피니싱 스프레이, 블로우-드라이 보호 스프레이, 플랫-아이언 스프레이, 열 보호 스프레이 및 컬-강화 스프레이에서 선택되는 모발 관리 조성물.
43. 구현예 16 내지 42 중 어느 하나에 따른 조성물을 모발에 적용하는 것을 포함하는 모발의 컨디셔닝 방법.
실시예
하기의 실시예는 개시된 요지에 따른 방법 및 결과를 예시하기 위해서 제시된다. 이들 실시예는 본원에 개시된 요지의 모든 양태를 포함하는 것으로 의도되지 않으며, 오히려 대표적인 방법, 조성물 및 결과를 예시하기 위한 것이다. 이들 실시예는 당업자에게 자명한, 본원에서 청구된 발명의 등가물 및 변형을 배제하는 것으로 의도되지 않는다.
물질:
BASF 로부터의 물질:
Figure pct00049
Emulgade® SE-PF 는 유화 베이스인 글리세릴 스테아레이트, 세테아레스- 20, 세테아레스-12, 세틸 알코올, 세틸 팔미테이트이다.
Figure pct00050
Eumulgin® B1 은 비이온성 유화제인 세테아레스-12 (12 mol 의 EO 를 갖는 세틸 스테아릴 알코올) 이다.
Figure pct00051
Cetiol® MM 은 피부 연화제인 미리스틸 미리스테이트이다.
Figure pct00052
Eumulgin® Prisma 는 음이온성 유화제인 디나트륨 C16-C18 알킬 술포숙시네이트이다.
Figure pct00053
Eumulgin® SG 는 음이온성 유화제인 나트륨 스테아로일 글루타메이트이다.
Figure pct00054
Texapon® NSO UP 는 음이온성 계면활성제인 나트륨 라우레스 술페이트 (나트륨 C12-14 에테르 술페이트 + 2 EO) 이다.
Figure pct00055
Texapon® SFA
Figure pct00056
Dehyton® PK 45 는 양쪽성 계면활성제인 코카미도프로필 베타인이다.
Figure pct00057
Plantapon® LGC sorb 는 음이온성 계면활성제인 나트륨 라우릴 글루코오스 카르복실레이트 (및) 라우릴 글루코시드이다.
Figure pct00058
Plantapon® AGC HC 는 공-계면활성제인 나트륨 코코일 글루타메이트이다.
Figure pct00059
Plantacare® 2000 UP 는 비이온성 계면활성제인 데실 글루코시드이다.
Figure pct00060
Plantacare® 818 UP 는 비이온성 계면활성제인 코코-글루코시드이다.
Figure pct00061
Plantasil® Micro 는 모발 관리 첨가제인 배합된 디카프릴릴 에테르 (및) 데실 글루코시드 (및) 글리세릴 올레에이트이다.
Figure pct00062
Comperlan® 100C 는 증점제인 코카미드 MEA 이다.
Figure pct00063
Euperlan® PK710Benz 는 진주 광택 농축물인 글리콜 디스테아레이트 (및) 나트륨 라우레스 술페이트 (및) 코카미드 MEA 이다.
DOW 로부터의 물질
Figure pct00064
Xiameter® MEM1352 에멀젼은 초고분자량 폴리디메틸실록산과 고분자량 폴리디메틸실록산의 배합물의 60 % 비이온성 에멀젼이다.
Figure pct00065
PQ10 은 폴리쿼터늄 10 이다.
방법:
입자 크기의 측정: 액정 지질 입자의 입자 크기 측정은 Malvern DLS ZS90 을 사용하여 수행하였다.
제타 전위의 측정: 제타 전위는 Zetasizer nano ZS90 (Malvern) 을 사용하여 측정하였다.
실시예 1
액정 지질 입자의 베이스 조성물 (나노왁스)
표 1
Figure pct00066
나노왁스
제조 공정: 상 반전 온도 유화 방법
1. 파트 A 및 B 를 85 ℃ 로 가열하고, 파트 C 를 25 ℃ 에서 사전 용해시킨다.
2. 파트 A 를 3 min 동안 혼합한다.
3. 85 ℃ 에서 균질화시키면서 파트 B 를 파트 A 에 첨가한다.
4. 베이스의 외관이 유백색에서 반투명으로 변할 때까지, 균질화시키면서 베이스를 70 내지 75 ℃ 로 냉각시킨다.
5. 파트 C 를 베이스에 첨가하고, 1 min 동안 균질화시킨다.
6. 베이스를 28 ℃ 로 냉각시킨다.
매크로왁스
매크로왁스의 제조 공정은 온도가 65 ℃ 인 것을 제외하고는, 나노왁스의 제조 공정과 동일하다.
실시예 2
액정 지질 입자와 계면활성제의 상용성
실온, 4 ℃ 및 -20 ℃ 에서 1 개월 동안 액정 지질 입자를 사용한 계면활성제의 제제화를 평가함으로써, 다양한 계면활성제를 액정 지질 입자와의 이들의 상용성에 대해 평가하였다.
제제는 하기 표에 기초하여 제조하였다. 제제를 상이한 온도, 즉, 실온, 4 ℃ 및 -20 ℃ 에서 1 개월 동안 유지하였다. 1 개월 후, 제제를 외관에 대해 체크하였다. 구체적으로, 제제가 투명한지 또는 흐릿한지를 체크하였다. 제제는 저장시 투명하게 유지되는 것이 바람직하다.
공정:
1) 중합체가 실온에서 균일하게 분산될 때까지, 교반하면서 물과 PQ 10 을 혼합한다.
2) 균일해질 때까지 교반하에서 계면활성제를 상 A 에 첨가한다.
3) 투명해질 때까지 교반하에서 상 C 를 하나씩 첨가한다.
표 2
Figure pct00067
표 3 액정 지질 입자와 다양한 계면활성 활성제의 상용성
Figure pct00068
표 2 에 따라서 계면활성 활성제를 제제화하였으며, 표 3 에 나타낸 바와 같이 1 개월 후에 실온, 4 ℃ 및 -20 ℃ 에서의 상용성을 평가하였다.
따라서, 액정 지질 입자는 Dehyton PK 45 및 Plantacare 818 UP 와 상용성인 것을 알 수 있다.
실시예 3
모발 컨디셔닝 제제에서 사용된 액정 나노입자는 하기 표에 나타낸 바와 같다.
표 4
Figure pct00069
LCLP 를 갖는 제제는 실리콘 대안 제제에 특히 적합한 샴푸에 개선된 모발 컨디셔닝 성능을 제공하는 혁신적인 마이크로에멀젼인 것으로 간주되기 때문에, Plantasil® Micro 와 비교되었다.
실시예 4
하기의 절차를 사용하여 습윤 및 건조 모발에 대한 빗질 성능에 대해 제제를 비교하였다.
습윤 빗질:
1. 계면활성제 용액을 사용하여 새로운 모발 가닥 (1 g/가닥) 을 세정하고, 모발 가닥을 화학적 산화 (표백) 후에 기후 조절실에 놓았다.
2. 3 개의 모발 다발을 물에 완전히 적신 후, 습윤 모발을 즉시 Zwick 빗질 기계 상에서 시험하여 (각 제제에 대해 5 개의 모발 다발 및 동일한 제제에 동일한 빗질 사용), 처리 전 빗질 작업의 값을 구하였다.
3. 습윤 모발을 0.25 g 의 샴푸로 2 회 처리하였다. 5 min 동안 인큐베이션한 후, 모발 다발을 헹굼 장치하에서 헹구었다. 이어서, 모발 다발을 즉시 Zwick 빗질 기계 상에서 시험하여, 처리 후 빗질 작업의 값을 구하였다.
4. 잔여 빗질 작업은 다음과 같이 계산하였다: 잔여 빗질 작업 = 처리 후 습윤 빗질 작업 / 처리 전 습윤 빗질 작업
건조 빗질:
1. 계면활성제 용액을 사용하여 새로운 모발 가닥 (2 g/가닥) 을 세정하고, 모발 가닥을 화학적 산화 (표백) 후에 기후 조절실에 놓았다.
2. 표백된 건조 모발을 Zwick 빗질 기계 상에서 시험하여 (각 제제에 대해 5 개의 모발 다발 및 동일한 제제에 동일한 빗질 사용), 처리 전 빗질 작업의 값을 구하였다.
3. 3 개의 모발 다발을 헹굼 장치하에서 완전히 습윤시키고, 이들을 0.5 g 의 샴푸로 2 회 처리하였다. 5 min 동안 인큐베이션한 후, 모발 다발을 헹굼 장치하에서 헹구고, 평형이 될 때까지 조절실에서 건조시켰다.
4. 건조된 모발 다발을 Zwick 빗질 기계 상에서 시험하여 (동일한 제제에 동일한 빗질 사용), 처리 후 빗질 작업의 값을 구하였다.
5. 잔여 빗질 작업은 다음과 같이 계산하였다: 잔여 빗질 작업 계산 = 처리 후 건조 빗질 작업 / 처리 전 건조 빗질 작업
표 5
Figure pct00070
보다 낮은 값은 빗질에 보다 적은 힘이 필요하다는 것을 나타내며, 따라서 보다 양호한 성능을 나타낸다.
따라서, 상기 표 5 에서, 나노 크기의 LCLP 에 대한 보다 낮은 값은 액정 지질 입자의 보다 양호한 성능을 나타내며, 이것은 또한 Plantasil® Micro 와 비슷하다.
실시예 5
실시예 3, NW1 및 NW4 의 제제를 각각 6 % 의 나노왁스 (실시예 1) 및 6 % 의 Plantasil Micro 로 반복하고, 제제를 빗질 성능에 대해 시험하였다. 그 결과를 하기 표 6 에 나타낸다.
표 6
Figure pct00071
결과는 액정 지질 입자와 Plantasil® Micro 가 비슷하다는 것을 나타낸다.
실시예 6
액정 지질 입자의 존재 및 부재하에서의 실리콘 침착
표 7
Figure pct00072
모발 상에 침착된 실리콘의 양의 정량화:
실리콘 오일의 NMR-정성적 및 정량적 결정
물질
Figure pct00073
TDME 가 있는 중수소화 클로로포름 (CDCl3)
Figure pct00074
NMR-튜브 5 mm
Figure pct00075
페트리 접시
샘플 제조 (용매 방법)
1. 샘플 당 5 점을 평균하고, 충분히 혼합한다.
2. 1 g 의 샘플을 250 ml 병에 옮기고, 100 ml 의 n-펜탄과 혼합한다.
3. 1 h 동안 진탕시키고, 상 분리를 기다린다.
4. 용매를 페트리 접시에 옮기고, 실온에서 완전히 건조시킨다.
5. 잔류물을 내부 참조 표준으로서 TDME 가 있는 1 ml 중수소화 클로로포름에 용해시킨 후, NMR-튜브로 옮긴다.
6. 3 개 병렬의 각 샘플, 및 각 샘플 추출 2 회.
표 8
Figure pct00076
따라서, 나노왁스를 사용하는 경우에서의 실리콘 침착의 양은 이의 부재하에서의 양보다 약 10 배를 초과하는 것을 알 수 있으며, 이는 컨디셔너에서의 실리콘의 양은 감소될 수 있지만, 동일한 효과를 달성할 수 있다는 것을 시사한다.

Claims (27)

  1. 하나 이상의 액정 지질 입자를 모발에 적용하는 것을 포함하는 모발의 컨디셔닝 방법으로서, 상기 액정 지질 입자가 다음을 포함하는 방법:
    화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00077

    화학식 (I)
    (식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
    화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00078

    화학식 (II)
    (식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
    화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00079

    화학식 (III)
    (식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
    화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00080

    화학식 (IV)
    (식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다),
    화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00081

    화학식 (V)
    (식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
    R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
    및
    화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00082

    화학식 (VI)
    (식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
  2. 모발의 컨디셔닝을 위한 하나 이상의 액정 지질 입자의 용도로서, 상기 액정 지질 입자가 다음을 포함하는 용도:
    화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00083

    화학식 (I)
    (식 중, m 은 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, n 은 ≥ 1 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
    화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00084

    화학식 (II)
    (식 중, a 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이다),
    화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00085

    화학식 (III)
    (식 중, x 는 ≥ 10 내지 ≤ 24 의 범위의 정수이고, y 는 ≥ 10 내지 ≤ 25 의 범위의 정수이다),
    화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00086

    화학식 (IV)
    (식 중, p 는 ≥ 10 내지 ≤ 16 의 범위의 정수이다),
    화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00087

    화학식 (V)
    (식 중, A 및 B 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이고,
    R 은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C10-C20 지방족 라디칼이다),
    및
    화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물
    Figure pct00088

    화학식 (VI)
    (식 중, r 은 ≥ 9 내지 ≤ 18 의 범위의 정수이고, M 은 수소 원자, 알칼리 토금속 또는 알칼리성 토금속이다).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 액정 지질 입자가 사방정계 측면 패킹이 있는 라멜라 구조를 갖는 방법 또는 용도.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 액정 지질 입자가 Malvern DLS ZS90 을 사용한 동적 광 산란을 이용하여 결정되는 ≥ 20 nm 내지 ≤ 300 nm 의 범위의 평균 입자 크기를 갖는 방법 또는 용도.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 액정 지질 입자가 40 ℃ 에서 측정할 때, Zetasizer nano ZS90 을 사용하여 결정되는 20 mV 초과의 제타 전위를 갖는 방법 또는 용도.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I) 의 하나 이상의 화합물이 세테아레스, 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르 및 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (II) 의 하나 이상의 화합물이 글리세롤 스테아레이트, 글리세롤 라우레이트 및 글리세롤 팔미테이트로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (III) 의 하나 이상의 화합물이 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 테트라데실 테트라데카노에이트 및 베헤닐 베헤네이트로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (IV) 의 하나 이상의 화합물이 라우릴 알코올, 트리데실 알코올, 미리스틸 알코올, 펜타데실 알코올, 세틸 알코올, 팔미톨레일 알코올, 헵타데실 알코올, 스테아릴 알코올, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (V) 의 하나 이상의 화합물이 디나트륨 C10-C18 알킬 술포숙시네이트인 방법 또는 용도.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (VI) 의 하나 이상의 화합물이 나트륨 라우로일 글루타메이트, 나트륨 코코일 글루타메이트, 나트륨 미리스토일 글루타메이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트로 이루어진 군에서 선택되는 방법 또는 용도.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올을 포함하는 방법 또는 용도.
  13. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올 및 스테아릴 알코올을 포함하는 방법 또는 용도.
  14. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C10-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함하는 방법 또는 용도.
  15. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 액정 지질 입자가 세테아레스-20, 세테아레스-12, 글리세롤 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 및 디나트륨 C16-C18 알킬 술포숙시네이트 및 나트륨 스테아로일 글루타메이트의 군에서 선택되는 화합물을 포함하는 방법 또는 용도.
  16. 다음을 포함하는 모발 관리 조성물:
    제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에서 정의한 바와 같은 하나 이상의 액정 입자,
    하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제, 및
    물.
  17. 제 16 항에 있어서, 하나 이상의 액정 지질 입자가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 1.0 중량% 내지 ≤ 15.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
  18. 제 16 항에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 첨가제가 증점제, 점도 조정제, 계면활성제, 유화제, 향료, 방부제, UV 보호제, 킬레이트제, 세정제, 습윤제, 모발 컨디셔닝제, 유연성 향상제, 분리 개질제, 보습제, 추진제, 압축 가스, 광택 향상제, 중화제, 텍스처화제, 방수제, 가용화제, 현탁제, 미용 활성 성분, 모발 중합체, 광 보호제, 표백제, 겔 형성제, 착색제, 틴트제, 태닝제, 염료, 안료, 바디제, 습윤제, 산화방지제, 소포제, 대전방지제, 연화제, 유연제, 비듬 방지제, 모발 성장제, 항염증제, 항균제, 거품 안정화제, 레올로지 개질제, 연수제, 향수성 물질 및 완충제로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
  19. 제 18 항에 있어서, 미용적으로 허용 가능한 첨가제가 계면활성제인 모발 관리 조성물.
  20. 제 19 항에 있어서, 계면활성제가 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 및 비이온성 계면활성제로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
  21. 제 16 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 계면활성제가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 10.0 중량% 내지 ≤ 50.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
  22. 제 18 항에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 작용제가 모발 컨디셔닝제인 모발 관리 조성물.
  23. 제 22 항에 있어서, 하나 이상의 컨디셔닝제가 단백질 또는 가수 분해된 양이온성 또는 비-양이온성 단백질, 1차, 2차 또는 3차 지방 아민의 염, 4차 암모늄 염, 이미다졸린의 유도체 또는 아민 옥사이드와 같은 양이온성 계면활성제, 지방 아민, 지방 산 또는 유도체, 4차 암모늄 화합물, 양이온성 중합체, 천연 또는 합성 오일로 이루어진 군에서 선택되는 모발 관리 조성물.
  24. 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서, 하나 이상의 컨디셔닝제가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 0.1 중량% 내지 ≤ 1.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
  25. 제 18 항에 있어서, 하나 이상의 미용적으로 허용 가능한 작용제가 증점제인 모발 관리 조성물.
  26. 제 25 항에 있어서, 하나 이상의 증점제가 모발 관리 조성물의 총 중량에 대해서, ≥ 0.5 중량% 내지 ≤ 4.0 중량% 의 범위의 양으로 존재하는 모발 관리 조성물.
  27. 제 16 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 모발에 적용하는 것을 포함하는 모발의 컨디셔닝 방법.
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