KR20220031243A - 플라즈마 처리 시스템 및 이를 이용한 플라즈마수 제조 방법 - Google Patents

플라즈마 처리 시스템 및 이를 이용한 플라즈마수 제조 방법 Download PDF

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KR20220031243A
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서울대학교산학협력단
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Abstract

본 발명은 플라즈마 처리 시스템에 관한 것으로, 플라즈마 처리하기 위한 활성종(reactive species)을 생성하는 플라즈마 소스(plasma source)를 구비한 플라즈마 생성부; 내부로 활성종이 유입되어 처리대상물을 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리부; 및 상기 플라즈마 생성부에서 생성된 활성종을 상기 플라즈마 처리부로 이송하기 위한 유체 이송부를 포함하며, 상기 플라즈마 소스는 상기 플라즈마 처리부로부터 이격되어 마련된다.

Description

플라즈마 처리 시스템 및 이를 이용한 플라즈마수 제조 방법{PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA ACTIVATED WATER USING THE SAME}
본 발명은 플라즈마 처리 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 대기압 플라즈마 방전으로 발생된 활성종(reactive species)을 이용하여 미생물 등을 제거 및 살균하는 플라즈마 처리뿐만 아니라, 플라즈마수(plasma activaed water) 제조 시에도 활용할 수 있는 플라즈마 처리 시스템 및 이를 이용한 플라즈마수 제조 방법에 관한 것이다.
플라즈마(plasma) 기술의 적용 범위는 반도체 제조 분야를 넘어서 바이오 분야와 접목하여 점점 더 다양하게 사용되고 있다. 특히, 대기압 플라즈마 방전은 피부 미용, 치료, 각종 살균 및 세정 장치 등에 응용된다.
대기압 플라즈마 방전의 경우, 방전이 일어나는 공간의 가느다란 틈으로 플라즈마를 고속으로 분출하는 플라즈마 제트(plasma jet) 방식과, 마주보는 두 금속 전극 중 적어도 하나에 유전체를 위치시켜 두 금속 전극 사이에 플라즈마가 방출되는 유전 격벽 방전(DBD; Dielectric Barrier Discharge) 방식을 이용하는 것이 일반적이다.
플라즈마 제트 방식의 경우 기체 공급의 편리함이 있지만 방전 면적이 좁아 넓은 범위에 플라즈마 처리를 하기 어려우며, 대면적화를 위해서는 유전 격벽 방식을 이용하는 것이 유리하다.
종래의 플라즈마 처리 시스템은 플라즈마 가스처리 또는 플라즈마 수처리 중 하나의 방식만을 적용할 수 있으며, 특히 방전원(또는, 플라즈마 소스)이 반응 챔버(processing chamber) 내부에 같이 위치하며, 기체를 방전시켜 얻어진 활성종(reactive species)을 활용해 미생물 등을 제거 및 살균한다.
그러나, 이러한 종래의 플라즈마 처리 시스템은 활성종과의 즉각적인 반응을 통한 처리 효과가 높을 수 있으나, 방전원이 처리대상물과 함께 반응 챔버 내부에 위치하므로 습기 또는 열기 등의 영향을 받아 안정적인 방전을 일으키기 어려우며, 이로 인해 방전원을 통한 플라즈마 처리 효율이 떨어질 뿐만 아니라 방전원의 교체주기가 짧아지는 문제점이 있다.
한편, 플라즈마수(plasma activated water)는 플라즈마로부터 생성된 활성종이 물속에 녹아들어 특별한 성질을 나타내는 액체를 지칭한다. 플라즈마수는 산업의 다양화에 따라 수많은 분야에 효과적으로 이용할 수 있다. 예를 들어, 살균 및 정수 기능이 있어, 녹조나 적조 정화, 쓰레기 매립지의 폐수, 공장 폐수, 선박 평형수 처리 등에 이용하고 있으며, 식품의 세척 및 보존 등에도 응용할 수 있다.
종래에는 플라즈마 처리된 가스를 활용하는 것에 초점이 맞춰져 있어, 플라즈마 처리된 가스를 물에 녹여 플라즈마수를 제조하는 방법은 아직 많지 않으며, 플라즈마수를 제조하기 위한 다양한 연구가 이루어지고 있다.
대한민국 공개특허공보 특2003-0015622호 대한민국 공개특허공보 제10-2019-0043257호
본 발명은 하나의 시스템에서 플라즈마 방전으로 발생된 활성종을 이용하여 미생물을 제거 및 살균하는 플라즈마 처리뿐만 아니라, 살균 및 정수 기능을 갖는 플라즈마수 제조 시에도 활용할 수 있는 플라즈마 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 효율적이고 안정적으로 플라즈마를 방전시킬 수 있는 플라즈마 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 플라즈마 처리 시스템으로서, 플라즈마 처리하기 위한 활성종(reactive species)을 생성하는 플라즈마 소스(plasma source)를 구비한 플라즈마 생성부; 내부로 활성종이 유입되어 처리대상물을 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리부; 및 상기 플라즈마 생성부에서 생성된 활성종을 상기 플라즈마 처리부로 이송하기 위한 유체 이송부를 포함하고, 상기 플라즈마 소스는 상기 플라즈마 처리부로부터 이격되는 플라즈마 처리 시스템이 제공될 수 있다.
상기 플라즈마 소스는 유전체 격벽방식 면방전(surface dielectric barrier discharge) 형태일 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 생성부는, 상기 플라즈마 소스의 일면에 수직하게 돌출된 복수의 방열핀을 구비하는 히트싱크; 및 상기 플라즈마 소스로부터 상기 히트싱크로 전도된 열을 외부 공기로 방열하는 냉각팬을 포함할 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 처리부는, 반응 챔버; 및 상기 반응 챔버의 하부에서 상기 반응 챔버와 구획되어 상기 플라즈마 소스에서 생성된 활성종이 임시 수용되는 가스 포집부를 포함하고, 상기 가스 포집부의 상측에는 상기 반응 챔버와 연통하는 다수의 미세 가스홀이 형성될 수 있다.
또한, 상기 유체 이송부는, 상기 플라즈마 생성부에서 생성된 활성종을 상기 플라즈마 처리부로 이송하는 펌프; 및 상기 펌프와 상기 플라즈마 처리부 사이에 구비되어 유속을 조절하는 유량계(flow meter)를 포함할 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 소스에 고전압이 인가되도록 전원을 공급하는 전원 공급부; 및 상기 플라즈마 소스에 인가되는 전력을 조절하기 위한 제어 패널을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수(plasma activated water) 제조 방법으로서, 상기 플라즈마 처리부의 반응 챔버 내부에 물을 넣어 플라즈마수를 제조하기 위한 준비 단계; 상기 플라즈마 소스 내부로 유입되는 기체를 방전시켜 활성종을 생성하는 단계; 및 상기 반응 챔버에 하부에 구비된 가스 포집부 내부로 활성종을 주입하고, 상기 가스 포집부 상측에 형성된 다수의 미세 가스홀을 통해 활성종을 물에 용해시키는 단계를 포함하는 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법이 제공될 수 있다.
물에 활성종을 용해시키는 단계에서, 상기 반응 챔버 내부로 주입되는 활성종은 상기 미세 가스홀을 통해 다수의 버블 형태로 주입될 수 있다.
본 발명은 플라즈마 소스를 반응 챔버와 분리하여, 하나의 시스템에서 플라즈마 방전으로 발생된 활성종을 이용한 플라즈마 가스처리 및 수처리뿐만 아니라, 살균 및 정수 기능을 갖는 플라즈마수 제조 시에도 활용할 수 있어 플라즈마 처리 시스템의 활용성을 높일 수 있다.
또한, 복수의 방열핀을 구비하는 히트싱크와 냉각팬을 구비하여, 플라즈마 소스에서 발생하는 열을 최소화할 수 있고, 이로 인해 플라즈마 처리 효율이 향상됨과 아울러 안정적인 플라즈마 방전이 일어날 수 있다.
또한, 기존의 수동확산(passive diffusion) 방식의 플라즈마 처리 방식과 다르게, 미세 가스홀을 통한 다수의 버블(bubble) 형태로 활성종이 주입되어, 활성종과 물의 접촉면적 증가로 인한 활성종의 용해도를 높일 수 있는 유리한 효과를 가질 수 있다.
또한, 활성종 순환구조를 통해 활성종을 생성하는데 사용된 기체를 재사용할 수 있으며, 활성종의 농도 증가로 인한 안정적인 활성종의 공급이 가능할 뿐만 아니라, 생성된 활성종의 외부 유출을 미연에 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법을 나타낸 흐름도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 또한, 이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명할 것이나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템(100)은, 플라즈마 생성부(110), 유체 이송부(130), 플라즈마 처리부(150), 전원 공급부(170) 및 제어 패널(190)을 포함한다.
플라즈마 생성부(110)는 처리대상물을 플라즈마 처리하기 위한 활성종(reactive species)을 생성하는 플라즈마 소스(plasma source)(111)를 구비한다.
본 실시예에 있어서, 플라즈마 소스(111)는 유전체 격벽방식 면방전(surface dielectric barrier discharge) 형태일 수 있다.
플라즈마 소스(111)는 내부로 기체가 유입되며, 유입된 기체가 전극 사이를 지나가며 방전으로 인해 활성종(reactive species)을 생성한다.
본 실시예에 있어서, 플라즈마 소스(111)는 후술하는 플라즈마 처리부(150)의 반응 챔버(151)와 분리되어 반응 챔버(151)로부터 이격되게 설치될 수 있다.
종래기술에서 플라즈마 소스는 처리대상물과 함께 반응 챔버 내부에 위치하게 되는데, 플라즈마 소스가 습기 또는 열기 등의 영향을 받아 안정적인 방전을 일이키기 어려우며, 이로 인해 플라즈마 처리 효율이 떨어질 뿐만 아니라 플라즈마 소스의 교체주기가 짧아지는 문제점이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템은, 플라즈마 소스(111)를 플라즈마 처리부(150)의 반응 챔버(151)와 분리시켜 반응 챔버(151)로부터 이격되도록 설치함으로써, 안정적인 플라즈마 방전이 일어날 수 있다.
또한, 살균력에 영향을 주는 지속시간이 긴 활성종(Long lived reactive species)을 안정적으로 생성할 수 있을 뿐만 아니라, 챔버(151) 내부로 이러한 활성종이 공급되어 플라즈마 처리 세스템의 살균력이 증가될 수 있다.
한편, 플라즈마 생성부(110)는 플라즈마 소스(111)의 일면에 수직하게 돌출 형성된 다수의 방열핀(113a)을 구비하는 히트싱크(heat sink)(113)와, 플라즈마 소스(111)로부터 히트싱크(113)로 전도된 열을 외부 공기로 방열하는 냉각팬(115)을 포함할 수 있다.
본 실시예의 플라즈마 처리 시스템(100)은, 복수의 방열핀(113a)을 구비하는 히트싱크(113)와 냉각팬(115)의 구성에 의해 플라즈마 소스(111)에서 발생하는 열을 최소화할 수 있고, 이로 인해 플라즈마 처리 효율이 향상됨과 아울러, 안정적인 플라즈마 방전이 일어날 수 있는 효과를 가질 수 있다.
유체 이송부(130)는, 활성종 공급라인(L1) 상에 설치되어, 플라즈마 생성부(110), 즉, 플라즈마 소스(111)에서 생성된 활성종을 후술하는 플라즈마 처리부(150)로 이송하는 역할을 할 수 있다.
유체 이송부(130)는 펌프(131)와, 유속을 조절하기 위한 유량계(flow meter)로 구성될 수 있다.
본 실시예의 펌프(131)는 건식 펌프(dry pump), 오일 로터리 펌프(oil rotary pump) 등 주지된 다양한 펌프들이 사용될 수 있으나, 활성종과 반응하여 예기치 않은 부산물을 발생시키지 않을 수 있는 건식 펌프를 사용하는 것이 바람직할 수 있다.
플라즈마 처리부(150)는 반응 챔버(processing chamber)(131)와, 반응 챔버(151)의 하부에서 반응 챔버(151)와 구획되어 플라즈마 소스(111)에서 생성된 활성종이 임시 수용되는 가스 포집부(153)를 포함할 수 있다.
이때, 가스 포집부(153)의 상측에는 다수의 미세 가스홀(153a)이 형성되어 반응 챔버(151)와 연통될 수 있다.
또한, 본 실시예의 플라즈마 처리 시스템(100)은, 플라즈마 소스(111)에 전원을 공급하는 전원 공급부(170)와, 플라즈마 소스(111)에 인가되는 전력을 조절하기 위한 제어 패널(control boarad)(190)을 더 포함할 수 있다.
전원 공급부(170)는 플라즈마 소스(111)에 고전압의 전력 인가가 가능하도록 고전압 전원 공급 장치(HVPS; High Voltage Power Supply)로 마련되는 것이 바람직할 수 있다.
그리고, 제어 패널(190)은 플라즈마 소스(111)에 인간되는 전력을 조절할 뿐만 아니라, 반응 챔버(151) 내부로 활성종을 공급하기 위한 펌프(151)의 구동을 제어하도록 마련될 수 있다.
한편, 본 실시예의 플라즈마 처리 시스템은, 활성종 공급라인(L1)과 별도로, 플라즈마 생성부(110)와 플라즈마 처리부(150)를 연결하는 활성종 회수라인(L2)이 구비되어, 활성종 공급라인(L1) 및 활성종 회수라인(L2)을 통한 순환구조를 가질 수 있다.
종래에는, 질소(N2) 또는 아르곤(Ar) 등의 특수기체를 이용하여 방전이 안정적으로 발생되도록 하고 있으나, 특수기체가 저장된 가스통을 외부에 추가적으로 설치해야 함으로 인한 불편함이 존재하게 된다.
본 실시예에서, 방전을 일으키는데 이용되는 기체는 일반 공기로서, 순환구조를 통해, 플라즈마 생성부(110)에서 활성종을 생성하는데 사용된 기체를 재사용함으로써, 활성종의 농도 증가로 인한 안정적인 활성종의 공급이 가능하며, 생성된 활성종의 외부 유출을 미연에 방지할 수 있다.
본 실시예의 플라즈마 처리 시스템(100)은 플라즈마 소스(111)에서 생성된 활성종을 이용하여 플라즈마 가스 처리 및 플라즈마 수처리 모두에 사용이 가능할 수 있다.
다시 말해, 플라즈마 가스 처리를 하는 경우에는 반응 챔버(151) 내부에 처리대상물을 넣고 반응 챔버(151) 내부로 활성종을 주입하여 반응시킬 수 있으며, 또는, 반응 챔버(151) 내부에 물을 채우고 활성종을 주입하여 플라즈마 수처리를 통한 살균 및 소독기능을 수행할 수 있고, 이러한 처리를 병렬적으로 진행하는 것도 가능할 수 있다.
나아가, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 시스템은 플라즈마 소스를 반응 챔버와 분리하여, 하나의 시스템에서 플라즈마 방전으로 발생된 활성종을 이용한 플라즈마 가스처리 및 수처리뿐만 아니라, 살균 및 정수 기능을 갖는 플라즈마수 제조 시에도 활용할 수 있어 플라즈마 처리 시스템의 활용성을 높일 수 있다.
이하, 상기와 같은 구성을 갖는 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법에 대해 간략히 설명한다.
본 실시예에 따른 플라즈마수 제조 방법은, 도 2에 도시된 바와 같이, 플라즈마수를 제조하기 위한 준비 단계(S10)와, 활성종을 생성하는 단계(S20)와, 활성종을 물에 용해시키는 단계(S30)를 포함할 수 있다.
먼저, 플라즈마수를 제조하기 위한 준비 단계(S10)에서는 플라즈마 처리부(150)의 반응 챔버(151) 내부에 물을 넣게 된다.
그리고, 활성종을 생성하는 단계(S20)에서는 플라즈마 생성부(110)의 플라즈마 소스(111) 내부로 유입되는 기체를 방전시켜 활성종을 생성한다.
마지막으로, 활성종을 물에 용해시키는 단계(S30)에서는, 펌프(131)를 구동시켜 반응 챔버(151)의 하부에 구비된 가스 포집부(153) 내부로 활성종을 주입하고, 가스 포집부(153) 상측에 형성된 다수의 미세 가스홀(153a)을 통해 반응 챔버(151) 내부로 활성종을 주입시킬 수 있다.
본 실시예에 있어서, 활성종을 물에 용해시키는 단계(S30)에서, 반응 챔버(151) 내부로 주입되는 활성종은 미세 가스홀(153a)을 통해 다수의 버블(bubble)(B) 형태로 주입될 수 있다.
종래기술에서는 기체 방전을 통해 생성된 활성종을 단순히 고농도에서 저농도로 이동되는 방식 즉, 수동 확산(passive diffusion)에 의해 물에 녹여 처리하였으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 가스 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법에서는, 기존의 수동확산(passive diffusion) 방식과 다르게, 미세 가스홀(153a)을 통한 다수의 버블(bubble) 형태로 활성종이 주입되어, 활성종과 물의 접촉면적 증가로 인한 활성종의 용해도를 높일 수 있는 유리한 효과를 가질 수 있다.
본 발명은 플라즈마 소스를 반응 챔버와 분리하여, 하나의 시스템에서 플라즈마 방전으로 발생된 활성종을 이용한 플라즈마 가스처리 및 수처리뿐만 아니라, 살균 및 정수 기능을 갖는 플라즈마수 제조 시에도 활용할 수 있어 플라즈마 처리 시스템의 활용성을 높일 수 있다.
또한, 복수의 방열핀을 구비하는 히트싱크와 냉각팬을 구비하여, 플라즈마 소스에서 발생하는 열을 최소화할 수 있고, 이로 인해 플라즈마 처리 효율이 향상됨과 아울러 안정적인 플라즈마 방전이 일어날 수 있다.
또한, 기존의 수동확산(passive diffusion) 방식의 플라즈마 처리 방식과 다르게, 미세 가스홀을 통한 다수의 버블(bubble) 형태로 활성종이 주입되어, 활성종과 물의 접촉면적 증가로 인한 활성종의 용해도를 높일 수 있는 유리한 효과를 가질 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100: 플라즈마 처리 시스템
110: 플라즈마 생성부
111: 플라즈마 소스(plasma source)
113: 히트싱크(heat sink)
115: 냉각팬(cooling fan)
130: 유체 이송부
131: 펌프
133: 유량계(flow meter)
150: 플라즈마 처리부
151: 반응 챔버
153: 가스 포집부
170: 전원 공급부
190: 제어 패널(control board)

Claims (9)

  1. 플라즈마 처리 시스템으로서,
    플라즈마 처리하기 위한 활성종(reactive species)을 생성하는 플라즈마 소스(plasma source)를 구비한 플라즈마 생성부;
    내부로 활성종이 유입되어 처리대상물을 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리부; 및
    상기 플라즈마 생성부에서 생성된 활성종을 상기 플라즈마 처리부로 이송하기 위한 유체 이송부를 포함하고,
    상기 플라즈마 소스는 상기 플라즈마 처리부로부터 이격되는 플라즈마 처리 시스템.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 소스는 유전체 격벽방식 면방전(surface dielectric barrier discharge) 형태인 플라즈마 처리 시스템.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 생성부는,
    상기 플라즈마 소스의 일면에 수직하게 돌출된 다수의 방열핀을 구비하는 히트싱크; 및
    상기 플라즈마 소스로부터 상기 히트싱크로 전도된 열을 외부 공기로 방열하는 냉각팬을 포함하는 플라즈마 처리 시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리부는,
    반응 챔버; 및
    상기 반응 챔버의 하부에서 상기 반응 챔버와 구획되어 상기 플라즈마 소스에서 생성된 활성종이 임시 수용되는 가스 포집부를 포함하고,
    상기 가스 포집부의 상측에는 상기 반응 챔버와 연통하는 다수의 미세 가스홀이 형성되는 플라즈마 처리 시스템.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 유체 이송부는,
    상기 플라즈마 생성부에서 생성된 활성종을 상기 플라즈마 처리부로 이송하는 펌프; 및
    상기 펌프와 상기 플라즈마 처리부 사이에 구비되어 유속을 조절하는 유량계(flow meter)를 포함하는 플라즈마 처리 시스템.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 생성부와 상기 플라즈마 처리부를 연결하는 활성종 공급라인; 및
    상기 활성종 공급라인과 별도로 상기 플라즈마 생성부와 상기 플라즈마 처리부를 연결하는 활성종 회수라인을 포함하고,
    상기 플라즈마 생성부에서 생성된 활성종은 상기 활성종 공급라인 및 상기 활성종 회수라인을 통해 순환하는 구조인 플라즈마 처리 시스템.
  7. 제 1항에 있어서
    상기 플라즈마 소스에 고전압이 인가되도록 전원을 공급하는 전원 공급부; 및
    상기 플라즈마 소스에 인가되는 전력을 조절하기 위한 제어 패널을 더 포함하는 플라즈마 처리 시스템.
  8. 제 1항에 따른 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수(plasma activated water) 제조 방법으로서,
    상기 플라즈마 처리부의 반응 챔버 내부에 물을 넣어 플라즈마수를 제조하기 위한 준비 단계;
    상기 플라즈마 소스 내부로 유입되는 기체를 방전시켜 활성종을 생성하는 단계; 및
    상기 반응 챔버에 하부에 구비된 가스 포집부 내부로 활성종을 주입하고, 상기 가스 포집부 상측에 형성된 다수의 미세 가스홀을 통해 활성종을 물에 용해시키는 단계를 포함하는 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    물에 활성종을 용해시키는 단계에서,
    상기 반응 챔버 내부로 주입되는 활성종은 상기 미세 가스홀을 통해 다수의 버블 형태로 주입되는 플라즈마 처리 시스템을 이용한 플라즈마수 제조 방법.
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KR20190043257A (ko) 2017-10-18 2019-04-26 한국전기연구원 플라즈마 활성수 제조 시스템 및 방법

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