KR20220026303A - Photo cuable composition, polarizing plate and image display apparatus comprising same - Google Patents

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KR20220026303A KR1020200107156A KR20200107156A KR20220026303A KR 20220026303 A KR20220026303 A KR 20220026303A KR 1020200107156 A KR1020200107156 A KR 1020200107156A KR 20200107156 A KR20200107156 A KR 20200107156A KR 20220026303 A KR20220026303 A KR 20220026303A
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이미소
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Abstract

The present specification provides a photocurable composition which comprises an epoxy compound; an oxetane compound; and a polysiloxane compound, wherein the content of the polysiloxane compound is 10 parts by weight or more and 38 parts by weight or less based on 100 parts by weight of a solid content, a polarizing plate, and an image display device.

Description

광경화성 조성물, 편광판 및 이를 포함하는 화상 표시 장치{PHOTO CUABLE COMPOSITION, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY APPARATUS COMPRISING SAME}A photocurable composition, a polarizing plate, and an image display device comprising the same

본 발명은 광경화성 조성물, 편광판 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition, a polarizing plate, and an image display device including the same.

화상 표시 장치는 표시 패널, 표시 패널의 양면에 구비된 편광판을 포함할 수 있다. 편광판은 점착층을 매개로 표시 패널에 점착되는데, 편광판의 점착층 측 및 그 반대면에 보호 기재가 구비된다.The image display device may include a display panel and polarizing plates provided on both surfaces of the display panel. The polarizing plate is adhered to the display panel through an adhesive layer, and a protective substrate is provided on the side of the adhesive layer and the opposite side of the polarizing plate.

편광판의 점착층이 구비된 면의 반대면에 구비된 보호 기재는 외부의 가혹한 조건으로부터 편광판을 보호하는 기능을 해야 하므로, 고강성 및 저투습 물성을 요구한다.Since the protective substrate provided on the opposite surface of the surface on which the adhesive layer of the polarizing plate is provided should function to protect the polarizing plate from harsh external conditions, high rigidity and low moisture permeability are required.

한국 특허공개공보 2016-0142546Korean Patent Publication No. 2016-0142546

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 고온 또는 고습 환경에서 편광자를 효과적으로 보호할 수 있는 광경화성 조성물, 편광판 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of effectively protecting a polarizer in a high temperature or high humidity environment, a polarizing plate, and an image display device including the same.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로, 본 발명의 일 실시상태는 에폭시 화합물; 옥세탄 화합물; 및 폴리실록산 화합물을 포함하고, 고형분 100 중량부를 기준으로 상기 폴리실록산 화합물의 함량이 30 중량부 이상인 것인 광경화성 조성물을 제공한다.As a means for solving the above problems, an exemplary embodiment of the present invention is an epoxy compound; oxetane compounds; and a polysiloxane compound, wherein the content of the polysiloxane compound is 30 parts by weight or more based on 100 parts by weight of solid content.

또한, 본 발명의 일 실시상태는 편광자; 및 상기 편광자의 일면 또는 양면에 구비된 하드코팅층을 포함하고, 상기 하드코팅층은 상술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 것인 편광판을 제공한다.In addition, an exemplary embodiment of the present invention is a polarizer; and a hard coating layer provided on one or both surfaces of the polarizer, wherein the hard coating layer provides a polarizing plate comprising a cured product of the above-described photocurable composition.

또한, 본 발명의 일 실시상태는 화상 표시 패널; 및 상기 화상 표시 패널의 일면 또는 양면에 구비된 상술한 편광판을 포함하는 것인 화상 표시 장치를 제공한다.In addition, one embodiment of the present invention is an image display panel; and the above-described polarizing plate provided on one or both surfaces of the image display panel.

본 발명의 광경화성 조성물은 고온 또는 고습 환경에서 편광자를 효과적으로 보호하여, 편광판이 말리는 컬 현상(curl)을 방지하는 장점이 있다.The photocurable composition of the present invention has the advantage of effectively protecting the polarizer in a high temperature or high humidity environment to prevent curling of the polarizing plate.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 편광판 구조를 나타낸 것이다.
도 4는 고온고습 후 보호층 외관의 모습이다.
1 to 3 show the structure of the polarizing plate of the present invention.
4 is a view of the appearance of the protective layer after high temperature and high humidity.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail.

본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In this specification, when a member is said to be located "on" another member, this includes not only a case in which a member is in contact with another member but also a case in which another member exists between the two members.

본 명세서에 있어서, "편광판"은 "편광자"를 포함하는 적층체를 의미하는 것으로서, 편광판이 편광자 외에 다른 구성을 포함할 수 있다. 다만, 편광판이 편광자 외에 다른 구성을 포함하지 않는 경우, 편광판과 편광자는 동일하게 해석될 수 있다.In the present specification, "polarizing plate" refers to a laminate including a "polarizer", and the polarizing plate may include other components in addition to the polarizer. However, when the polarizing plate does not include a configuration other than the polarizer, the polarizing plate and the polarizer may be interpreted the same.

본 명세서에 있어서, "상면"과 "하면"은 그 위치를 특정하기 위한 것으로서, 임의의 부재의 "상면"과 "하면"은 그 사이에 임의의 부재를 포함할 수 있다. 또한, "최상면"은 "상면"에 구비된 부재 중 최외각에 위치한 부재를 설명하기 위한 것으로서, "A의 최상면에 구비된 B"라고 함은, B의 A에 대향하는 면의 반대면에는 다른 부재가 포함되지 않는 것을 의미한다.In the present specification, "upper surface" and "lower surface" are for specifying the position, and "upper surface" and "lower surface" of any member may include any member therebetween. In addition, "top surface" is for describing the outermost member among the members provided on the "upper surface", and "B provided on the top surface of A" means that the opposite side of the surface opposite to A of B has another This means that absences are not included.

본 발명의 일 실시상태는 에폭시 화합물; 옥세탄 화합물; 및 폴리실록산 화합물을 포함하고, 고형분 100 중량부를 기준으로 상기 폴리실록산 화합물의 함량이 30 중량부 이상인 것인 광경화성 조성물을 제공한다. 상기 광경화성 조성물은 상기 폴리실록산 화합물을 특정 함량 범위로 포함함으로써, 고온 또는 고습 환경에서 편광자를 효과적으로 보호하여, 편광판이 말리는 컬 현상(curl)을 방지하는 장점이 있다. 구체적으로, 상기 폴리실록산 화합물은 결합 에너지가 큰 물질로, 내열성과 발수성이 우수한 특성을 가지므로, 고온고습 환경 하에서 수분 침투를 차단함으로써, 조성물 또는 이의 경화물의 내열성을 향상시킬 수 있다.An exemplary embodiment of the present invention is an epoxy compound; oxetane compounds; and a polysiloxane compound, wherein the content of the polysiloxane compound is 30 parts by weight or more based on 100 parts by weight of solid content. The photocurable composition includes the polysiloxane compound in a specific content range, thereby effectively protecting the polarizer in a high temperature or high humidity environment, thereby preventing curling of the polarizing plate. Specifically, the polysiloxane compound is a material having a high binding energy, and has excellent heat resistance and water repellency, and thus, by blocking moisture penetration under a high temperature and high humidity environment, it is possible to improve the heat resistance of the composition or a cured product thereof.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 내열성을 더욱 증가시키기 위하여 상기 폴리실록산 화합물의 함량을 조절할 수 있다. 구체적으로, 상기 광경화성 조성물의 고형분 100 중량부를 기준으로 상기 폴리실록산 화합물의 함량이 35 중량부 이상 90 중량부 이하, 바람직하게는 40 중량부 이상 85 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 50 중량부 이상 70 중량부 이하일 수 있다. 또한, 상기 범위를 만족할 때, 상기 광경화성 조성물을 이용하여 편광판의 하드코팅층을 형성하면 내열성이 향상된 효과도 갖는다.In an exemplary embodiment of the present invention, the content of the polysiloxane compound may be adjusted to further increase heat resistance. Specifically, based on 100 parts by weight of the solid content of the photocurable composition, the content of the polysiloxane compound is 35 parts by weight or more and 90 parts by weight or less, preferably 40 parts by weight or more and 85 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or more and 70 parts by weight or more. It may be less than or equal to parts by weight. In addition, when the above range is satisfied, when the hard coating layer of the polarizing plate is formed using the photocurable composition, heat resistance is improved.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 고리형 폴리실록산 구조를 갖는 것일 수 있다. 본 명세서에서, "고리형 폴리실록산 구조"는 고리의 구성요소에 실록산 단위(Si-O-Si)를 2 이상 갖는 구조를 의미한다. 상기 폴리실록산 화합물이 고리형 폴리실록산 구조를 포함하는 경우, 선형 폴리실록산 구조를 포함하는 경우에 비하여 경화수축이 적고 내열성이 우수한 장점을 갖는다. 구체적으로, 분자 구조 내에 고리 구조를 포함함으로써, 경화물의 가교 밀도를 증가시켜 고온 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 실록산 고유의 특성인 발수성으로 인해 고습 환경에서 하드코팅층의 보호 기능을 향상시킬 수 있다. 즉, 상기 폴리실록산 화합물은 고리형 폴리실록산 구조를 포함함으로써, 고온 및 고습 환경에서의 내구성을 향상시킬 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the polysiloxane compound may have a cyclic polysiloxane structure. As used herein, the term "cyclic polysiloxane structure" refers to a structure having two or more siloxane units (Si-O-Si) in a ring component. When the polysiloxane compound includes a cyclic polysiloxane structure, it has an advantage of less curing shrinkage and excellent heat resistance compared to the case of including a linear polysiloxane structure. Specifically, by including a ring structure in the molecular structure, it is possible to increase the crosslinking density of the cured product to improve the high temperature durability. In addition, it is possible to improve the protective function of the hard coating layer in a high-humidity environment due to water repellency, which is an inherent characteristic of siloxane. That is, since the polysiloxane compound includes a cyclic polysiloxane structure, durability in a high temperature and high humidity environment may be improved.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 고리형 폴리실록산 구조를 주사슬 또는 곁사슬에 포함할 수 있으며, 바람직하게는 주사슬에 포함할 수 있다. 이 경우 내열성이 우수한 장점을 갖는다.In one embodiment of the present invention, the polysiloxane compound may include a cyclic polysiloxane structure in a main chain or a side chain, preferably in the main chain. In this case, it has an advantage of excellent heat resistance.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 "고리형 폴리실록산 구조" 및 "양이온 중합성 관능기"를 포함할 수 있다. 본 명세서에서, "양이온 중합성 관능기"는 활성 에너지선이 조사된 경우 광개시제에서 발생된 양이온 물질에 의해 중합 및 가교할 수 있는 관능기를 의미한다. 상기 활성 에너지선으로서는 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선 및 γ선 등을 들 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the polysiloxane compound may include a “cyclic polysiloxane structure” and a “cationically polymerizable functional group”. As used herein, "cationically polymerizable functional group" refers to a functional group capable of polymerization and crosslinking by a cationic material generated from a photoinitiator when irradiated with active energy rays. Examples of the active energy rays include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X rays, α rays, β rays, and γ rays.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 2 이상의 양이온 중합성 관능기를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 3 내지 4, 더욱 바람직하게는 4개의 양이온 중합성 관능기를 포함할 수 있다. 이때, 상기 양이온 중합성 관능기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the polysiloxane compound may include two or more cationically polymerizable functional groups, preferably 3 to 4, more preferably 4 cationically polymerizable functional groups. In this case, the cationically polymerizable functional groups may be the same as or different from each other.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 에폭시기, 비닐 에테르기, 옥세탄기 또는 알콕시실릴기의 양이온 중합성 관능기를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the polysiloxane compound may include a cationically polymerizable functional group of an epoxy group, a vinyl ether group, an oxetane group, or an alkoxysilyl group.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 지환식 에폭시기를 포함할 수 있다. 즉, 상기 양이온 중합성 관능기의 에폭시기가 지환식 에폭시기일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the polysiloxane compound may include an alicyclic epoxy group. That is, the epoxy group of the cationically polymerizable functional group may be an alicyclic epoxy group.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물은 시판품으로서의 KR-470(4 관능 에폭시고리형 실록산 화합물: 신에츠 화학(주) 제조), X-40-2678(2 관능 에폭시고리형 실록산 화합물: 신에츠 화학(주) 제조), X-40-2669(신에츠 화학(주) 제조), X-40-2678(신에츠 화학(주) 제조), X-40-2715(신에츠 화학(주) 제조), X-40-2695B(신에츠 화학(주) 제조), X-12-2465(신에츠 화학(주) 제조), X-12-2430(신에츠 화학(주) 제조) 및 X-40-2761(신에츠 화학(주) 제조) 등을 들 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polysiloxane compound is commercially available KR-470 (tetrafunctional epoxy cyclic siloxane compound: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X-40-2678 (bifunctional epoxy cyclic siloxane compound: Shin-Etsu) X-40-2669 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X-40-2678 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X-40-2715 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X -40-2695B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X-12-2465 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X-12-2430 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and X-40-2761 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Note) Manufacture), etc. are mentioned.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 양이온계 광경화성 조성물일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the photocurable composition may be a cationic photocurable composition.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the photocurable composition may include an epoxy compound and an oxetane compound.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 조성물의 경화 후의 열팽창계수를 낮추어 주기 위한 것으로서, 지환족 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물, 수소화 에폭시 화합물 또는 에폭시기 함유 (메트)아크릴계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the epoxy compound is for lowering the coefficient of thermal expansion after curing of the composition, an alicyclic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, an aromatic epoxy compound, a hydrogenated epoxy compound, or an epoxy group-containing (meth)acrylic compound, etc. can be heard These can be used individually or in mixture of 2 or more.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환족 에폭시 화합물은 지환족 에폭시 고리를 하나 이상 포함하는 것으로서, 에폭시기가 지방족 고리를 구성하는 인접하는 2개의 탄소 원자 사이에 형성되어 있는 화합물을 의미한다. 예를 들면, 디시클로펜타디엔디옥사이드, 리모넨디옥사이드, 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 2,4-에폭시시클로헥실메틸, 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 디시클로펜타디엔디옥사이드, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 조성물의 경화 후의 열팽창계수를 낮추어 주고, 조성물로부터 형성되는 접착제층의 강도(hardness)를 부여하기 위한 것으로서, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트가 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the alicyclic epoxy compound means a compound including one or more alicyclic epoxy rings, wherein the epoxy group is formed between two adjacent carbon atoms constituting the aliphatic ring. For example, dicyclopentadiene dioxide, limonene dioxide, 4-vinylcyclohexene dioxide, 2,4-epoxycyclohexylmethyl, 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, dicyclopentadiene dioxide, bis(3, 4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and the like, but is not limited thereto. In addition, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4'-epoxycyclohexanecarboxylate is preferred to lower the coefficient of thermal expansion after curing of the composition and to impart hardness to the adhesive layer formed from the composition. Do.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지방족 에폭시 화합물의 예시로서는 노볼락 에폭시, 비스페놀 A 계 에폭시, 비스페놀 F 계 에폭시, 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 1,4-부탄디올디글시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸디글시딜에테르, 레조시놀디글리시딜에테르, 디에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, n-부틸 글리시딜 에테르, 2-에틸헥실 글리시딜 에테르 등을 들 수 있다.In one embodiment of the present invention, examples of the aliphatic epoxy compound include novolak epoxy, bisphenol A-based epoxy, bisphenol F-based epoxy, 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 1,4-butanediol digl Cidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, Trimethylolpropane triglycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, etc. are mentioned.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 방향족 에폭시 화합물은, 분자 내에 적어도 하나 방향족 탄화수소 고리를 포함하는 에폭시 화합물을 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면 비스페놀 A의 디글리시딜에테르, 4,4'-메틸렌디페놀 디글리시딜에테르, 비스페놀 F의 디글리시딜에테르, 비스페놀 S의 디글리시딜에테르와 같은 비스페놀형 에폭시 수지; 페놀노볼락 에폭시 수지, 크레졸노볼락 에폭시 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락 에폭시 수지와 같은 노볼락형의 에폭시 수지; 테트라히드록시페닐 메탄의 글리시딜에테르, 테트라히드록시벤조페논의 글리시딜에테르, 에폭시화폴리비닐페놀과 같은 다관능형의 에폭시 수지 등을 들 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the aromatic epoxy compound refers to an epoxy compound including at least one aromatic hydrocarbon ring in a molecule, but is not limited thereto, for example, diglycidyl ether of bisphenol A, 4 bisphenol-type epoxy resins such as 4'-methylenediphenol diglycidyl ether, diglycidyl ether of bisphenol F, and diglycidyl ether of bisphenol S; novolak-type epoxy resins such as phenol novolak epoxy resins, cresol novolak epoxy resins, and hydroxybenzaldehyde phenol novolak epoxy resins; and polyfunctional epoxy resins such as glycidyl ether of tetrahydroxyphenylmethane, glycidyl ether of tetrahydroxybenzophenone, and epoxidized polyvinylphenol.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 수소화 에폭시 화합물은, 상기 방향족 에폭시 화합물을 촉매의 존재 하에 가압 하에서 선택적으로 수소화 반응을 행함으로써 얻어지는 에폭시 화합물을 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 특히 수소화한 비스페놀 A의 디글리시딜에테르를 사용하는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the hydrogenated epoxy compound refers to an epoxy compound obtained by selectively hydrogenating the aromatic epoxy compound under pressure in the presence of a catalyst, but is not limited thereto, but among them, hydrogenation It is preferred to use a diglycidyl ether of bisphenol A.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시기 함유 (메트)아크릴계 화합물은, 분자 내에 에폭시기와 (메트)아크릴로일옥시기를 모두 포함하는 화합물을 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면 글리시딜아크릴레이트, 2-메틸글리시딜아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 2-메틸글리시딜메타크릴레이트, 3,4-에폭시부틸메타크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르 등을 들 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the epoxy group-containing (meth)acrylic compound means a compound including both an epoxy group and a (meth)acryloyloxy group in a molecule, but is not limited thereto, for example, glycy Diyl acrylate, 2-methylglycidyl acrylate, 3,4-epoxybutyl acrylate, 6,7-epoxyheptyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl acrylate, glycidyl methacrylate, 2- Methyl glycidyl methacrylate, 3,4-epoxybutyl methacrylate, 6,7-epoxyheptyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether and the like.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the epoxy compound may be an epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 분자 중에 2개 이상의 에폭시기를 가지며, 그 에폭시기 중 어느 하나 이상이 지환식 에폭시기일 수 있다. 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 조성물의 다른 부재에 대한 접착 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 조성물의 유리 전이 온도가 높아져서 상기 접착제층이 충분한 내구성을 확보하도록 하여, 내열 또는 열 충격 조건에서도 편광자의 균열의 발생을 방지할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the epoxy compound containing at least one alicyclic epoxy group has two or more epoxy groups in the molecule, and at least one of the epoxy groups may be an alicyclic epoxy group. The epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may improve the adhesive strength of the composition to other members. In addition, the glass transition temperature of the composition is increased to ensure sufficient durability of the adhesive layer, thereby preventing the occurrence of cracks in the polarizer even under heat resistance or thermal shock conditions.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 방향족 고리를 실질적으로 갖지 않는 것일 수 있다. 이 경우, 광경화 효율이 개선되고, 내후성 및 굴절율과 같은 경화 후의 광학 특성이 향상될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may have substantially no aromatic ring. In this case, photocuring efficiency may be improved, and optical properties after curing such as weather resistance and refractive index may be improved.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 분자 중에 2개 이상의 에폭시기를 가지며, 그 에폭시기가 모두 지환식 에폭시기일 수 있다. 이 경우, 접착제 조성물의 다른 부재에 대한 접착 강도를 더욱 향상시킬 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the epoxy compound including one or more alicyclic epoxy groups has two or more epoxy groups in the molecule, and all of the epoxy groups may be alicyclic epoxy groups. In this case, the adhesive strength to other members of the adhesive composition can be further improved.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 지환식 고리의 탄소수는 4 내지 10일 수 있으며, 바람직하게는 6일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the number of carbon atoms of the alicyclic ring of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may be 4 to 10, preferably 6.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 지환식 고리는 치환 또는 비치환된 것일 수 있으며, 치환기의 예시로는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 들 수 있다. 상기 탄소수 범위에서 경화 속도 및 경화 후의 접착 강도가 개선될 수 있다. 상기 알킬기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형 알킬기를 의미할 수 있고, 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의하여 치환되어 있거나, 비치환된 상태일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the alicyclic ring of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may be substituted or unsubstituted, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. In the above carbon number range, the curing rate and the adhesive strength after curing may be improved. Unless otherwise specified, the alkyl group may mean a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms, and , The alkyl group may be optionally substituted by one or more substituents, or may be in an unsubstituted state.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 지환식 에폭시 고리를 하나 이상 포함하는 것으로서, 에폭시기가 지방족 고리를 구성하는 인접하는 2개의 탄소 원자 사이에 형성되어 있는 화합물을 의미하고, 지환족 에폭시 화합물로 명명될 수 있으며, 하기 화학식 a1로 나타낸 바와 같이 분자 내에 지환족 환에 결합된 에폭시기를 적어도 하나 가지는 화합물일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the epoxy compound containing at least one alicyclic epoxy group includes at least one alicyclic epoxy ring, and the epoxy group is formed between two adjacent carbon atoms constituting the aliphatic ring. It means a compound, and may be referred to as an alicyclic epoxy compound, and may be a compound having at least one epoxy group bonded to an alicyclic ring in a molecule as shown by the following Chemical Formula a1.

[화학식 a1][Formula a1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 a1에서 m은 2 내지 5의 정수이고, 상기 화학식 a1에서 (CH2)m 내의 하나 또는 복수의 수소 원자를 제거함으로써 얻어지는 기가 방향환이 없는 다른 화학 구조에 결합된 화합물이 지환족 에폭시 화합물일 수 있다. 즉, 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다.In the formula (a1), m is an integer of 2 to 5, and in the formula (a1), the group obtained by removing one or a plurality of hydrogen atoms in (CH 2 )m is an alicyclic epoxy compound. can That is, it may mean a compound including at least one epoxidized aliphatic ring group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 예시는 아래 화학식으로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may be represented by the following formula, but is not limited thereto.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물로는, 하기 화학식 1로 표시되는 에폭시시클로헥실메틸 에폭시시클로헥산카복실레이트계 화합물이 예시될 수 있다.As the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group, an epoxycyclohexylmethyl epoxycyclohexanecarboxylate-based compound represented by the following Chemical Formula 1 may be exemplified.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 1, R 1 and R 2 each independently represent hydrogen or an alkyl group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 2로 표시되는 알칸디올의 에폭시시클로헥산 카복실레이트계 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group, an alkanediol epoxycyclohexane carboxylate compound represented by the following Chemical Formula 2 may be mentioned.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 2에서 R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, n은 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 2, R 3 and R 4 each independently represent hydrogen or an alkyl group, and n represents an integer of 2 to 20.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 3으로 표시되는 디카르복시산의 에폭시 시클로헥실메틸 에스테르계 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound containing at least one alicyclic epoxy group, an epoxy cyclohexylmethyl ester-based compound of dicarboxylic acid represented by the following Chemical Formula 3 may be mentioned.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 3에서 R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, p는 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 3, R 5 and R 6 each independently represent hydrogen or an alkyl group, and p represents an integer of 2 to 20.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 4로 나타나는 폴리에틸렌글리콜의 에폭시시클로헥실메틸 에테르계 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group, an epoxycyclohexylmethyl ether-based compound of polyethylene glycol represented by the following Chemical Formula 4 may be mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 4에서 R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, q는 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 4, R 7 and R 8 each independently represent hydrogen or an alkyl group, and q represents an integer of 2 to 20.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 5로 나타나는 알칸디올의 에폭시시클로헥실메틸 에테르계 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound containing at least one alicyclic epoxy group, an epoxycyclohexylmethyl ether-based compound of alkanediol represented by the following Chemical Formula 5 may be mentioned.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 화학식 5에서 R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, r는 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 5, R 9 and R 10 each independently represent hydrogen or an alkyl group, and r represents an integer of 2 to 20.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 6으로 나타나는 디에폭시트리스피로계 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group, a diepoxytrispiro compound represented by the following Chemical Formula 6 may be mentioned.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 6에서 R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 6, R 11 and R 12 each independently represent hydrogen or an alkyl group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 7로 나타나는 디에폭시모노스피로계 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group, a diepoxy monospiro compound represented by the following Chemical Formula 7 may be mentioned.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 화학식 7에서 R13 및 R14은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 7, R 13 and R 14 each independently represent hydrogen or an alkyl group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 8로 나타나는 비닐시클로헥센 디에폭시드 화합물을 들 수 있다.As another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group, a vinylcyclohexene diepoxide compound represented by the following Chemical Formula 8 may be mentioned.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 화학식 8에서 R15는 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 8, R 15 represents hydrogen or an alkyl group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 9로 표시되는 에폭시시클로펜틸 에테르 화합물을 들 수 있다.Another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may include an epoxycyclopentyl ether compound represented by the following Chemical Formula 9.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00010
Figure pat00010

상기 화학식 9에서 R16 및 R17은, 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 9, R 16 and R 17 each independently represent hydrogen or an alkyl group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 10으로 표시되는 디에폭시 트리시클로 데칸 화합물을 들 수 있다.Another example of the epoxy compound including at least one alicyclic epoxy group may include a diepoxy tricyclodecane compound represented by the following Chemical Formula 10.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00011
Figure pat00011

상기 화학식 10에서 R18은, 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 10, R 18 represents hydrogen or an alkyl group.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 보다 구체적으로 에폭시시클로헥실메틸 에폭시시클로헥산 카복실레이트 화합물, 알칸디올의 에폭시시클로헥산 카복실레이트 화합물, 디카르복시산의 에폭시시클로헥실메틸 에스테르 화합물 또는 알칸디올의 에폭시시클로헥실메틸 에테르 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 7-옥사비시클로[4,1,0]헵탄-3-카르복시산과 (7-옥사-비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메타놀과의 에스테르화물(상기 화학식 1에서 R1 및 R2가 수소인 화합물); 4-메틸-7-옥사비시클로[4,1,0]헵탄-3-카르복시산과 (4-메틸-7-옥사-비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과의 에스테르화물(상기 화학식 1에서, R1이 4-CH3이고, R2가 4-CH3인 화합물); 7-옥사비시클로[4,1,0]헵탄-3-카르복시산과 1,2-에탄디올과의 에스테르화물(상기 화학식 2에서 R3 및 R4가 수소이고, n이 1인 화합물); (7-옥사비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과 아디프산의 에스테르화물(상기 화학식 3에서 R5 및 R6가 수소이고, p가 2인 화합물); (4-메틸-7-옥사비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과 아디프산의 에스테르화물(상기 화학식 3에서 R5 및 R6가 4-CH3이고, p가 2인 화합물); 및 (7-옥사비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과 1,2-에탄디올의 에테르화물(상기 화학식 5에서 R9 및 R10이 수소이고, r이 1인 화합물)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 바람직하게 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.As another example of the epoxy compound containing at least one alicyclic epoxy group, more specifically, an epoxycyclohexylmethyl epoxycyclohexane carboxylate compound, an alkanediol epoxycyclohexane carboxylate compound, and a dicarboxylic acid epoxycyclohexylmethyl ester compound Or it is preferable to use an epoxycyclohexylmethyl ether compound of an alkanediol, with 7-oxabicyclo[4,1,0]heptane-3-carboxylic acid and (7-oxa-bicyclo[4,1,0]hepto -3-yl) esterified with methanol (a compound in which R 1 and R 2 are hydrogen in Formula 1); Ester of 4-methyl-7-oxabicyclo[4,1,0]heptane-3-carboxylic acid with (4-methyl-7-oxa-bicyclo[4,1,0]hepto-3-yl)methanol cargo (a compound in which R 1 is 4-CH 3 and R 2 is 4-CH 3 in Formula 1); an ester of 7-oxabicyclo[4,1,0]heptane-3-carboxylic acid and 1,2-ethanediol (a compound in which R 3 and R 4 are hydrogen and n is 1 in Formula 2); an ester of (7-oxabicyclo[4,1,0]hepto-3-yl)methanol and adipic acid (a compound in which R 5 and R 6 are hydrogen and p is 2 in Formula 3); An ester of (4-methyl-7-oxabicyclo[4,1,0]hepto-3-yl)methanol and adipic acid (in Formula 3, R 5 and R 6 are 4-CH 3 , and p is 2 compound); and (7-oxabicyclo[4,1,0]hepto-3-yl)methanol and 1,2-ethanediol (a compound in which R 9 and R 10 are hydrogen and r is 1 in Formula 5) ), one or more selected from the group consisting of may be preferably used, but is not limited thereto.

상기 지환식 에폭시기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 조성물의 유리 전이 온도(Tg)를 높여주고, 조성물로부터 형성되는 접착제층의 강도(hardness)를 부여하기 위한 것으로서, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트가 바람직하다.The epoxy compound containing at least one alicyclic epoxy group increases the glass transition temperature (Tg) of the composition and is for imparting the strength of the adhesive layer formed from the composition, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- 3,4'-epoxycyclohexanecarboxylate is preferred.

상기 옥세탄 화합물은 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 다양한 옥세탄 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 상기 옥세탄 화합물로는, 3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸 옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클 로[5.2.1.0 2,6 ]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1-트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드, 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The oxetane compound is not particularly limited as long as it has at least one oxetanyl group in the molecule, and various oxetane compounds well known in the art may be used. For example, as the oxetane compound of the present invention, 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane, 1,4-bis[(3-ethylox cetan-3-yl)methoxymethyl]benzene, 1,4-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]benzene, 1,3-bis[(3-ethyloxetan-3-yl) ) methoxy] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl oxetan-3-yl) methoxy] benzene, 4,4'-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] ratio Phenyl, 2,2'-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]biphenyl, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-bis[(3-ethyl Oxetan-3-yl)methoxy]biphenyl, 2,7-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]naphthalene, bis[4-{(3-ethyloxetan-3-yl) )methoxy}phenyl]methane, bis[2-{(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy}phenyl]methane, 2,2-bis[4-{(3-ethyloxetan-3-yl) )Methoxy}phenyl]propane, etherified product of novolak-type phenol-formaldehyde resin with 3-chloromethyl-3-ethyloxetane, 3(4),8(9)-bis[(3-ethyl oxetan-3-yl)methoxymethyl]-tricyclo[5.2.1.0 2,6]decane, 2,3-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]norbornane; 1,1,1-tris[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propane, 1-butoxy-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl ]butane, 1,2-bis[{2-(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy}ethylthio]ethane,bis[{4-(3-ethyloxetan-3-yl)methylthio} phenyl]sulfide, 1,6-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane, However, the present invention is not limited thereto.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 광개시제, 광증감제 및 광증감보조제로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the photocurable composition may further include any one or more selected from the group consisting of a photoinitiator, a photosensitizer and a photosensitizer.

상기 광개시제는 310nm 이하의 파장을 흡수하는 요오드계 화합물일 수 있다. 구체적으로, 상기 광개시제는 310nm 이하의 파장을 흡수하여 활성화되어, 활성 에너지의 조사에 의해 양이온(cation)이나 루이스산을 만들어내는 요오드계 화합물을 의미한다. 예를 들어, 디페닐이오도늄 헥사플루오르포스페이트(Iod-PF6), 디페닐이오도늄 트리플레이트(Iod-OSO2CF3), 디페닐이오도늄 p-톨루엔술포네이트(Iod-OSO2PhCH3), 디페닐이오도늄 클로라이드(Iod-Cl), [4-메틸페닐-(4-(2-메틸프로필)페닐)]이오도늄 헥사플루오르포스페이트(Irgacure 250) 등이 있으며, [4-메틸페닐-(4-(2-메틸프로필)페닐)]이오도늄 헥사플루오르포스페이트(Irgacure 250)가 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The photoinitiator may be an iodine-based compound that absorbs a wavelength of 310 nm or less. Specifically, the photoinitiator refers to an iodine-based compound that is activated by absorbing a wavelength of 310 nm or less to generate a cation or a Lewis acid by irradiation with active energy. For example, diphenyliodonium hexafluorophosphate (Iod-PF6), diphenyliodonium triflate (Iod-OSO 2 CF 3 ), diphenyliodonium p-toluenesulfonate (Iod-OSO 2 PhCH) 3 ), diphenyliodonium chloride (Iod-Cl), [4-methylphenyl-(4-(2-methylpropyl)phenyl)]iodonium hexafluorophosphate (Irgacure 250), etc., and [4-methylphenyl] -(4-(2-methylpropyl)phenyl)]iodonium hexafluorophosphate (Irgacure 250) is preferred, but is not limited thereto.

상기 광개시제의 함량은 광경화성 조성물 전체 100 중량부에 대하여, 상기 광개시제는 2 내지 5 중량부가 바람직하고, 2.5 내지 3.5 중량부가 더욱 바람직하다. 상기 광개시제가 상기 수치 범위의 함량으로 포함되는 경우, 자외선이 하드코팅층 내부까지 효과적으로 도달할 수 있고, 중합률도 우수하며, 생성되는 중합체의 분자량이 작아지는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 형성되는 하드코팅층의 응집력 및 편광자에 대한 접착력이 우수한 장점이 있다.The content of the photoinitiator is preferably 2 to 5 parts by weight, more preferably 2.5 to 3.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total photocurable composition. When the photoinitiator is included in the content in the above numerical range, ultraviolet rays can effectively reach the inside of the hard coating layer, the polymerization rate is excellent, and the molecular weight of the resulting polymer can be prevented from being small. Accordingly, there is an advantage in that the cohesive force of the formed hard coating layer and the adhesion to the polarizer are excellent.

상기 광경화성 조성물은 광증감제를 포함한다. 상기 광증감제는 티오크산톤계 광증감제일 수 있다.The photocurable composition includes a photosensitizer. The photosensitizer may be a thioxanthone-based photosensitizer.

상기 티오크산톤계 광증감제는 알킬티오크산톤계, 알콕시티오크산톤계 또는 할로티오크산톤계 광증감제를 예로 들 수 있다. 구체적인 구조는 아래 화학식 B와 같다.The thioxanthone-based photosensitizer may include, for example, an alkylthioxanthone-based, alkoxythioxanthone-based, or halothioxanthone-based photosensitizer. A specific structure is shown in Formula B below.

[화학식 B][Formula B]

Figure pat00012
Figure pat00012

상기 화학식 B에 있어서, R1 내지 R8는 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 알콕시기일 수 있다.In Formula B, R 1 To R 8 Are the same or different, and each independently hydrogen; halogen group; a substituted or unsubstituted alkyl group; Or it may be a substituted or unsubstituted alkoxy group.

상기 화학식 B에 있어서, R1 내지 R8는 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 8의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 8의 알콕시기일 수 있다.In Formula B, R 1 To R 8 Are the same or different, and each independently hydrogen; halogen group; a substituted or unsubstituted C 1 to C 8 alkyl group; Or it may be a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

상기 티오크산톤계 광증감제의 더욱 구체적인 예시는, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.More specific examples of the thioxanthone-based photosensitizer are 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1 -Chloro-4-propoxythioxanthone etc. are mentioned.

상기 광증감제의 함량은 광경화성 조성물 전체 100 중량부에 대하여 0.01 내지 0.4 중량부일 수 있고, 0.1 내지 0.3 중량부가 바람직하다. 상기 광증감제가 상기 수치 범위의 함량으로 포함되는 경우, 380nm 이상의 자외선을 받아 310nm 이하의 광개시제가 효율적으로 개시가 될 수 있도록 도와주며, 하드코팅층 내부까지 효과적으로 경화되어 중합률이 우수하며, 생성되는 중합체의 분자량이 작아지는 것을 방지할 수 있다.The content of the photosensitizer may be 0.01 to 0.4 parts by weight, preferably 0.1 to 0.3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total photocurable composition. When the photosensitizer is included in the content in the above numerical range, it receives ultraviolet light of 380 nm or more and helps the photoinitiator of 310 nm or less to be initiated efficiently, and the polymer is effectively cured to the inside of the hard coating layer, so that the polymerization rate is excellent, and the polymer produced It is possible to prevent the molecular weight of

상기 광경화성 조성물은 광증감보조제를 더 포함한다. 구체적으로, 상기 광증감보조제는 나프탈렌계 화합물일 수 있다.The photocurable composition further comprises a photosensitizer. Specifically, the photosensitizer may be a naphthalene-based compound.

상기 광증감보조제는 하기 화학식 C로 표시되는 화합물일 수 있다.The photosensitizer may be a compound represented by the following formula (C).

[화학식 C][Formula C]

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 화학식 C에 있어서,In the formula (C),

R11 및 R12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기이다. R 11 and R 12 are the same as or different from each other, and each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

상기 광증감보조제의 종류로는 1,4-디메톡시 나프탈렌, 1-에톡시-4-메톡시 나프탈렌, 1,4-디에톡시 나프탈렌, 1,4-디프로폭시 나프탈렌, 1,4-디부톡시 나프탈렌 등이 있다. Examples of the photosensitizer include 1,4-dimethoxy naphthalene, 1-ethoxy-4-methoxy naphthalene, 1,4-diethoxy naphthalene, 1,4-dipropoxy naphthalene, 1,4-dibutoxy naphthalene, and the like.

상기 광증감보조제의 함량은 광경화성 조성물 전체 100 중량부에 대하여, 상기 광증감보조제는 1 내지 3 중량부가 바람직하고, 1 내지 2 중량부가 더욱 바람직하다. 상기 광증감보조제가 상기 수치 범위의 함량으로 포함되는 경우 광증감제가 여기 되어 광개시제를 개시할 수 있도록 도와준다. 구체적으로, 380nm 이상의 자외선을 받아 여기된 안트라센계 광증감제가 상기 광증감 보조제에 에너지를 즉각적으로 전달하고 이렇게 여기된 광증감보조제는 효율적으로 광개시제가 개시될 수 있도록 에너지를 전달한다. 이로 인해 하드코팅층 내부까지 효과적으로 도달할 수 있고, 중합률도 우수하며, 생성되는 중합체의 분자량이 작아지는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 형성되는 하드코팅층의 응집력 및 편광자에 대한 접착력이 우수한 장점이 있다.The content of the photosensitizer is preferably 1 to 3 parts by weight, more preferably 1 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total photocurable composition. When the photosensitizer is included in the content in the above numerical range, the photosensitizer is excited to help initiate the photoinitiator. Specifically, the anthracene-based photosensitizer excited by receiving ultraviolet rays of 380 nm or more immediately transfers energy to the photosensitizer, and the photosensitizer excited in this way transmits energy so that the photoinitiator can be efficiently initiated. Due to this, it is possible to effectively reach the inside of the hard coating layer, the polymerization rate is excellent, and it is possible to prevent the molecular weight of the resulting polymer from becoming small. Accordingly, there is an advantage in that the cohesive force of the formed hard coating layer and the adhesion to the polarizer are excellent.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 필요에 따라서 염료, 안료, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 및 가소제 중 1 이상을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the photocurable composition may further include at least one of a dye, a pigment, a UV stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, an antifoaming agent, a surfactant, and a plasticizer, as needed.

상기 광경화성 조성물은 경화 후 유리 전이 온도가 90℃ 이상 130℃ 이하인 것이 바람직하며, 100℃ 내지 130℃일 수 있다. 상기와 같은 수치 범위의 유리 전이 온도를 갖는 경우 고온 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 하드코팅층의 구현이 가능하다.The photocurable composition preferably has a glass transition temperature of 90°C or more and 130°C or less after curing, and may be 100°C to 130°C. If it has a glass transition temperature in the numerical range as described above, it is possible to implement a hard coating layer having excellent durability even in a high temperature environment.

본 명세서에서 유리 전이 온도는 이형필름(예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름)에 두께 50 ㎛로 도포하고, 광량 1000mJ/cm2 이상의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 상기 이형 필름을 제거하고, 시편을 일정한 크기로 레이저 재단한 후, DMA(dynamic mechanical analysis)를 통해 측정한다. 이 때, 측정온도는 -10℃의 시작 온도에서 5℃/min의 승온 속도로 160℃까지 승온시키며 10%의 strain으로 일정하게 인장할 때의 저장 탄성률의 변곡을 통해 유리 전이 온도를 확인한다.In the present specification, the glass transition temperature is applied to a release film (e.g., polyethylene terephthalate film) with a thickness of 50 μm, and cured by irradiating UV rays under conditions of light quantity of 1000 mJ/cm 2 or more, and then removing the release film, After laser cutting the specimen to a certain size, it is measured through DMA (dynamic mechanical analysis). At this time, the measurement temperature is increased from a starting temperature of -10°C to 160°C at a temperature increase rate of 5°C/min, and the glass transition temperature is confirmed through the inflection of the storage modulus when constantly tensioned with a strain of 10%.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 조성물의 25℃에서의 점도는 50 cps 이상 200cps 이하가 바람직하며, 50 cps 이상 130 cps가 더욱 바람직하다. 상기 광경화성 조성물의 점도가 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 하드코팅층의 두께를 얇게 형성할 수 있고, 작업성이 우수한 장점이 있다. 상기 점도는 브룩필드 점도계를 이용하여 18번 스핀들(spindle)을 이용하여 상온에서 측정할 수 있다. 이때, 조성물의 양은 6.5 내지 10mL이 적절하며, 빛에 장시간 노출되는 것을 피하기 위하여 5분 이내에서 안정화된 수치를 측정한다.In an exemplary embodiment of the present invention, the viscosity at 25° C. of the photocurable composition is preferably 50 cps or more and 200 cps or less, and more preferably 50 cps or more and 130 cps or less. When the viscosity of the photocurable composition satisfies the above numerical range, the thickness of the hard coating layer can be formed thin, and there is an advantage in excellent workability. The viscosity may be measured at room temperature using a No. 18 spindle using a Brookfield viscometer. At this time, the amount of the composition is appropriately 6.5 to 10 mL, and a value stabilized within 5 minutes is measured in order to avoid prolonged exposure to light.

본 발명의 일 실시상태는 편광자; 및 상기 편광자의 일면 또는 양면에 구비된 하드코팅층을 포함하고, 상기 하드코팅층은 상술한 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 것인 편광판을 제공한다. 상기 편광판은 화상 표시 패널에 부착되어 화상 표시 장치를 구성할 수 있다.One embodiment of the present invention is a polarizer; and a hard coating layer provided on one or both surfaces of the polarizer, wherein the hard coating layer provides a polarizing plate comprising a cured product of the above-described photocurable composition. The polarizing plate may be attached to an image display panel to constitute an image display device.

도 1을 참조하여, 본 발명의 편광판의 구조를 설명한다. 도 1은 본 발명의 편광판의 개략적인 단면도이다.With reference to FIG. 1, the structure of the polarizing plate of this invention is demonstrated. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 편광판(100)은 편광자(10); 편광자의 일면에 구비된 하드코팅층(20)을 포함한다. 한편, 상기 하드코팅층(20) 상에 구비된 공정용 보호 필름(30)을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the polarizing plate 100 of the present invention includes a polarizer 10 ; It includes a hard coating layer 20 provided on one surface of the polarizer. On the other hand, it may further include a protective film 30 for the process provided on the hard coating layer (20).

도 2를 참조하면, 본 발명의 편광판(100)은 편광자(10); 편광자의 양면에 구비된 하드코팅층(20, 21)을 포함한다. 한편, 상기 하드코팅층(20, 21) 상에 구비된 공정용 보호 필름(30, 31)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2 , the polarizing plate 100 of the present invention includes a polarizer 10 ; It includes hard coating layers 20 and 21 provided on both sides of the polarizer. On the other hand, it may include a process protective film (30, 31) provided on the hard coating layer (20, 21).

도 3을 참조하면, 본 발명의 편광판(100)은 편광자(10); 편광자의 양면에 구비된 하드코팅층(20)을 포함한다. 한편, 상기 하드코팅층(20) 상에 구비된 공정용 보호 필름(30); 상기 편광자(10)의 타면에 구비된 보호필름(50); 및 상기 편광자(10) 및 보호필름(50) 사이에 구비된 접착제층(40)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3 , the polarizing plate 100 of the present invention includes a polarizer 10 ; It includes a hard coating layer 20 provided on both sides of the polarizer. On the other hand, the protective film 30 for the process provided on the hard coating layer 20; a protective film 50 provided on the other surface of the polarizer 10; and an adhesive layer 40 provided between the polarizer 10 and the protective film 50 .

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 접착제층은 통상의 접착제를 사용할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the adhesive layer may use a conventional adhesive.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 점착층은 통상의 점착제를 사용할 수 있으며, (메트)아크릴계 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지 등의 점착성 수지에 경화제 또는 커플링제 등을 포함하는 점착제층용 조성물로부터 형성될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer may use a conventional pressure-sensitive adhesive, and is formed from a composition for an pressure-sensitive adhesive layer comprising a curing agent or a coupling agent in a pressure-sensitive adhesive resin such as (meth)acrylic resin, epoxy resin, or silicone resin. can be

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 표시 패널은 TN(Twisted Nematic) 모드, IPS(In-Plane Switching) 모드, FFS(Fringe Field Switch) 모드 또는 VA(Vertical Alignment) 모드의 액정 패널일 수 있다. 상기 액정 패널은 상부 기판, 하부 기판 및 상부 기판과 하부 기판 사이에 봉입된 액정층을 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the display panel may be a liquid crystal panel in a twisted nematic (TN) mode, an in-plane switching (IPS) mode, a fringe field switch (FFS) mode, or a vertical alignment (VA) mode. The liquid crystal panel may include an upper substrate, a lower substrate, and a liquid crystal layer enclosed between the upper substrate and the lower substrate.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 상부 기판 및 하부 기판은 동일하거나 상이하고, 각각 유리 기판 또는 플라스틱 기판일 수 있다. 상기 플라스틱 기판은 플렉서블(flexible) 디스플레이에 사용될 수 있는 PET(polyethyleneterephthalate), PC(polycarbonate), PI(polyimide), PEN(polyethylenenaphthalate), PES(polyethersulfone), PAR(polyarylate) 및 COC(cycloolefin copolymer) 등의 플라스틱 기판일 수 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, the upper substrate and the lower substrate may be the same or different, and may be a glass substrate or a plastic substrate, respectively. The plastic substrate is made of PET (polyethyleneterephthalate), PC (polycarbonate), PI (polyimide), PEN (polyethylenenaphthalate), PES (polyethersulfone), PAR (polyarylate), and COC (cycloolefin copolymer) that can be used in a flexible display. It may be a plastic substrate, but the present invention is not limited thereto.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 액정층은 유전율 이방성이 양수 또는 음수인 액정을 포함할 수 있다. 상기 액정층의 유전율 이방성은 목적하는 액정 패널의 모드에 따라 적절히 선택될 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 액정층의 면상 위상차 값은 270nm 내지 330nm이고, 두께 방향 위상차 값은 0nm 내지 -40nm일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the liquid crystal layer may include a liquid crystal having a positive or negative dielectric anisotropy. The dielectric anisotropy of the liquid crystal layer may be appropriately selected according to the desired mode of the liquid crystal panel. In one example, the in-plane retardation value of the liquid crystal layer may be 270 nm to 330 nm, and the thickness direction retardation value may be 0 nm to -40 nm.

상기 액정 패널의 상부 및 하부 기판은 액정층 측으로 배향막을 더 포함할 수 있다. 상기 액정의 배향 방향은 상기 배향막에 의해 정해질 수 있다. 상기 배향막은 수평 배향막일 수 있다. 상기 배향막으로는 러빙 배향막 또는 광 배향막을 사용할 수 있다.The upper and lower substrates of the liquid crystal panel may further include an alignment layer toward the liquid crystal layer. The alignment direction of the liquid crystal may be determined by the alignment layer. The alignment layer may be a horizontal alignment layer. As the alignment layer, a rubbing alignment layer or a photo alignment layer may be used.

상기 하드코팅층(20)은 편광자(10)를 효과적으로 보호하는 기능을 한다.The hard coating layer 20 functions to effectively protect the polarizer 10 .

상기 하드코팅층(20)은 물리적 내구성 및/또는 화학적 내구성이 우수한 성질을 가지며, 광학 특성이 우수한 특성을 갖는다.The hard coating layer 20 has excellent physical durability and/or chemical durability, and has excellent optical properties.

상기 하드코팅층(20)은 상기 편광자의 일면 또는 양면에 직접 구비된 것일 수 있다. 상기 "직접 구비된 것"은 상기 하드코팅층과 편광자 사이에 다른 층이 구비되지 않았다는 것을 의미한다.The hard coating layer 20 may be provided directly on one or both surfaces of the polarizer. The "directly provided" means that no other layer is provided between the hard coating layer and the polarizer.

상기 하드코팅층(20)의 손실 정접 계수 tanδ의 최대값이 0.4 이하, 바람직하게는 0.35 이하, 더욱 바람직하게는 0.33 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족할 때, 하드코팅층의 내습열성 및 내구성이 우수하게 유지될 수 있다.The maximum value of the loss tangent coefficient tanδ of the hard coating layer 20 may be 0.4 or less, preferably 0.35 or less, and more preferably 0.33 or less. When the above range is satisfied, the heat resistance and durability of the hard coating layer may be excellently maintained.

상기 tanδ(tan Delta)는 저장 탄성률과 손실 탄성률의 비를 의미한다. 구체적으로, 상기 tanδ(tan Delta)는 하기의 식으로 나타낼 수 있다.The tan δ (tan Delta) refers to the ratio of the storage modulus to the loss modulus. Specifically, the tan δ (tan Delta) may be expressed by the following formula.

tanδ(tan Delta) = 저장 탄성률 / 손실 탄성률tanδ(tan Delta) = storage modulus / loss modulus

상기 tanδ(tan Delta)를 측정하기 위해 먼저 하드코팅층 조성과 동일한 조성물을 이형필름에 코팅하고 온도 23℃ 및 상대습도 55% 조건에서 1,000mJ/cm2의 광량을 조사하여 광경화시켜 경화 필름을 제조한다. 이 때 경화 필름의 두께는 30㎛ 내지 50㎛이며, 예컨대 30㎛일 수 있다. 이형필름을 제거한 후, 가로 x 세로 x 두께(5.3mm x 10mm x 30㎛)의 크기로 제조한 시편을 DMA Q800(TA instrument)를 사용하여 Temperature sweep test(Amplitude 10㎛, Preload force 0.01N, Force Track 125%, Frequency 1Hz)로 -10℃부터 160℃까지 5℃/min으로 승온시키면서 저장 탄성률을 측정한다. 측정된 저장 탄성률을 측정된 손실 탄성률로 나눈 값을 기록하고, 최대값에서의 tanδ(tan Delta)을 계산한다.In order to measure the tan δ (tan Delta), the same composition as the composition of the hard coating layer is first coated on the release film, and the cured film is prepared by irradiating a light quantity of 1,000 mJ/cm 2 at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55% and photocuring it. do. In this case, the thickness of the cured film is 30 μm to 50 μm, and may be, for example, 30 μm. After removing the release film, a specimen prepared in the size of width x length x thickness (5.3mm x 10mm x 30㎛) was tested using DMA Q800 (TA instrument) for a temperature sweep test (Amplitude 10㎛, Preload force 0.01N, Force Measure the storage modulus while raising the temperature from -10℃ to 160℃ at 5℃/min with Track 125%, Frequency 1Hz). The measured storage modulus divided by the measured loss modulus is recorded, and tan δ (tan Delta) at the maximum is calculated.

상기 하드코팅층(20)의 손실 정접 계수 tanδ의 최대값은 90℃ 내지 120℃의 온도 범위, 바람직하게는 95℃ 내지 120℃의 온도 범위, 더욱 바람직하게는 100℃ 내지 120℃의 온도 범위에서 나타날 수 있다. 상기 손실 정접 계수 tanδ의 최대값이 나타나는 온도를 Tmax로 정의할 수 있다.The maximum value of the loss tangent coefficient tanδ of the hard coating layer 20 is in a temperature range of 90°C to 120°C, preferably in a temperature range of 95°C to 120°C, more preferably in a temperature range of 100°C to 120°C. can A temperature at which the maximum value of the loss tangent coefficient tanδ appears may be defined as Tmax.

상기 하드코팅층(20)은 다른 구성을 보호하는 기능을 하므로, 두께가 높을수록 보호 기능이 향상되지만, 광학 특성이 저하될 수 있다. 그러므로, 두께를 일정 범위로 조절하여 보호 기능을 확보하고 광학 특성이 저하되지 않도록 하는 것이 중요하다. 구체적으로, 상기 하드코팅층의 두께는 5 ㎛ 내지 15 ㎛, 바람직하게는 5 ㎛ 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 6 ㎛ 내지 9 ㎛ 일 수 있다. 두께가 15 ㎛를 초과하면 하드코팅층의 광학 특성이 저해되는 문제가 있고, 하드코팅층의 두께가 5 ㎛를 미달하면 보호 기능이 저하되어 고온 또는 고습 내구성이 저하되는 문제가 있다.Since the hard coating layer 20 functions to protect other components, the higher the thickness, the better the protection function, but optical properties may be reduced. Therefore, it is important to control the thickness within a certain range to secure a protective function and prevent deterioration of optical properties. Specifically, the thickness of the hard coating layer may be 5 μm to 15 μm, preferably 5 μm to 10 μm, and more preferably 6 μm to 9 μm. When the thickness exceeds 15 μm, there is a problem in that the optical properties of the hard coating layer are impaired, and when the thickness of the hard coating layer is less than 5 μm, the protective function is lowered and the high temperature or high humidity durability is lowered.

또한, 상기 하드코팅층(20)의 두께는 화상 표시 장치의 단면을 FESEM SU-8020 SYSTEM 장비를 이용하여 측정할 수 있다(측정 조건: 가속 전압 2 kV, Emission current: 10uA, Working distance: 8mm, Detector: SE).In addition, the thickness of the hard coating layer 20 can be measured by using the FESEM SU-8020 SYSTEM equipment for the cross section of the image display device (measurement conditions: acceleration voltage 2 kV, Emission current: 10uA, Working distance: 8mm, Detector : SE).

상기 하드코팅층(20)은 투습도가 낮은 특성을 갖는다. 구체적으로, 상기 하드코팅층의 투습도(WVTR)가 38℃의 온도에서 200 g/m2*day 이하, 바람직하게는 150 g/m2*day 이하, 더욱 바람직하게는 120 g/m2*day 이하일 수 있다.The hard coating layer 20 has a low moisture permeability. Specifically, the water vapor transmission rate (WVTR) of the hard coating layer is 200 g/m 2 *day or less at a temperature of 38 ° C., preferably 150 g/m 2 *day or less, more preferably 120 g/m 2 *day or less. can

상기 투습도는 일정한 외부 환경에서 단위 시간, 단위 면적 당 수분이 통과하는 양을 의미하여, 필름의 내부와 외부의 습도차이가 90%인 환경에서 측정될 수 있고, 상기 투습도는 Labthink사의 WVTR 장비(장비명: WVTR TSY-T3)로 측정할 수 있다. 상기 장비는 밀폐된 챔버 내에 저울이 있는 구조이며, 챔버 내 환경은 38℃, 습도 10%로 유지된다. 또한, 투습컵에 물을 부은 후, 그 위에, 하드코팅층과 동일한 조성을 갖는 시편을 덮고 고정시킨다. 투습컵 내부의 습도는 물이 가득 차 있어 100%이므로, 투습컵 내부와 외부의 습도 차이는 90%가 된다. 24시간 경과 후, 투습컵의 무게를 측정하여 초기 무게와의 차이를 통해 증발한 물의 양을 계산할 수 있다.The moisture permeability means the amount of water passing through per unit time and unit area in a constant external environment, and can be measured in an environment where the difference in humidity between the inside and the outside of the film is 90%, and the moisture permeability is Labthink's WVTR equipment (equipment Name: It can be measured with WVTR TSY-T3). The equipment has a structure with a scale in a closed chamber, and the environment in the chamber is maintained at 38°C and 10% humidity. In addition, after pouring water into the moisture-permeable cup, the specimen having the same composition as the hard coating layer is covered and fixed thereon. The humidity inside the moisture-permeable cup is 100% because it is full of water, so the difference in humidity between the inside and the outside of the moisture-permeable cup is 90%. After 24 hours, the weight of the vapor-permeable cup can be measured and the amount of evaporated water can be calculated through the difference from the initial weight.

상기 하드코팅층(20)은 광탄성계수의 절대값이 낮은 특성을 갖는다. 구체적으로, 상기 하드코팅층(20)은 광탄성계수의 절대값이 12 x 10-12 m2/N 이하, 바람직하게는 11 x 10-12 m2/N 이하, 더욱 바람직하게는 10.8 x 10-12 m2/N 이하일 수 있다. 상기 범위를 초과하는 경우, 고온 고습 조건에서 응력에 의한 광학 왜곡이 생기고 그로 인한 빛샘 현상이 발생하는 문제가 있다.The hard coating layer 20 has a characteristic that the absolute value of the photoelastic coefficient is low. Specifically, the hard coating layer 20 has an absolute value of the photoelastic coefficient of 12 x 10 -12 m 2 /N or less, preferably 11 x 10 -12 m 2 /N or less, more preferably 10.8 x 10 -12 m 2 /N or less. When it exceeds the above range, there is a problem in that optical distortion occurs due to stress in high temperature and high humidity conditions, resulting in light leakage.

상기 광탄성계수는 등방성의 고체에 가해진 응력(△F)에 대한 복굴절(△n) 발현 정도로 정의된다(관계식: c=△n/△F). 측정 방법으로는, 상기 하드코팅층과 동일한 조성을 갖는 시편을 40 내지 50㎛ 두께 및 너비 15mm X 길이 100mm의 크기로 재단한 후, 이를 25℃의 온도 및 50%의 상대습도 조건에서 편광 분광 광도계를 이용하여 측정할 수 있다. 상기 시편의 양 끝 면을 지지대로 고정한 후, 하중(Stress) 변화에 따른 복굴절을 측정하고, 그 기울기로부터 광탄성계수를 측정한다.The photoelastic coefficient is defined as the degree of expression of birefringence (Δn) with respect to a stress (ΔF) applied to an isotropic solid (relational expression: c=Δn/ΔF). As a measurement method, a specimen having the same composition as the hard coating layer is cut to a size of 40 to 50 μm in thickness and 15 mm in width X 100 mm in length, and then using a polarization spectrophotometer at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 50%. can be measured by After fixing both ends of the specimen as a support, the birefringence according to the change in stress is measured, and the photoelastic coefficient is measured from the slope.

상기 하드코팅층(20)은 외부 충격에 대한 강도가 우수한 특성을 갖는다. 구체적으로, 상기 하드코팅층의 연필 경도가 HB 이상 9H 이하, 바람직하게는 1H 이상 9H 이하일 수 있다. 상기 하드코팅층의 연필 경도는 JIS K 5600 5-4의 시험 방법에 의해 측정할 수 있다. 상기 하드코팅층과 동일한 조성을 갖는 시편을 제작한 후, 측정하고자 하는 경도의 연필심을 연필경도 시험기 위에 고정시킨다. 이후, 측정하고자 하는 경도의 연필심의 끝을 평평하게 다듬어서, 연필심의 끝면과 시편의 표면이 45도 각도를 이루도록 하여 시편 위에 연필심을 올려놓는다. 연필심의 끝부분에 500g의 하중이 가해지도록 분동을 설치한 후, 5mm/sec의 속도로 연필을 이동시켜가며 육안으로 표면을 검사한다.The hard coating layer 20 has excellent strength against external impact. Specifically, the pencil hardness of the hard coating layer may be HB or more and 9H or less, preferably 1H or more and 9H or less. The pencil hardness of the hard coating layer can be measured by the test method of JIS K 5600 5-4. After preparing a specimen having the same composition as the hard coating layer, a pencil lead of a hardness to be measured is fixed on a pencil hardness tester. Thereafter, the tip of the pencil lead of the hardness to be measured is flattened, and the end surface of the pencil lead and the surface of the specimen form a 45 degree angle, and the pencil lead is placed on the specimen. After installing the weight so that a load of 500g is applied to the tip of the pencil lead, the surface is visually inspected while moving the pencil at a speed of 5mm/sec.

상기 하드코팅층(20)의 80℃에서의 저장 탄성률은 800 Mpa 내지 10,000 Mpa가 바람직하고, 1,000 Mpa 내지 5,000Mpa가 더욱 바람직하며, 1,500 Mpa 내지 3,500Mpa가 가장 바람직하다. 상기 하드코팅층의 저장 탄성률이 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 고온 또는 고습 환경에서 편광자의 수축 또는 팽창에 의한 편광자의 크랙 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 효과가 있다. 또한, 편광판에 대한 접착력도 향상시킬 수 있다. 따라서, 고온에서의 편광판의 수축 및 팽창을 억제함으로써, 우수한 접착력은 물론, 빛샘 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The storage modulus of the hard coating layer 20 at 80° C. is preferably 800 Mpa to 10,000 Mpa, more preferably 1,000 Mpa to 5,000 Mpa, and most preferably 1,500 Mpa to 3,500 Mpa. When the storage elastic modulus of the hard coating layer satisfies the above numerical range, there is an effect that can effectively suppress the occurrence of cracks in the polarizer due to contraction or expansion of the polarizer in a high temperature or high humidity environment. In addition, the adhesion to the polarizing plate can also be improved. Therefore, by suppressing the contraction and expansion of the polarizing plate at high temperature, it is possible to prevent light leakage as well as excellent adhesion.

상기 하드코팅층(20)은 굴절율이 D선 파장에서 1.4 이상 1.5 이하일 수 있다. 이때, 상기 D선 파장의 광원은 LED 램프일 수 있다.The hard coating layer 20 may have a refractive index of 1.4 or more and 1.5 or less at a D-line wavelength. In this case, the light source of the D-line wavelength may be an LED lamp.

상기 하드코팅층(20)은 광경화성 조성물을 편광자(10)의 상부면에 코팅하고 경화시킴으로써 형성될 수 있다. 즉, 하드코팅층(20)은 상기 광경화성 조성물의 경화물을 포함할 수 있다. 상기 광경화성 조성물은, 빛의 조사에 의해 경화가 진행되는 조성물을 의미한다.The hard coating layer 20 may be formed by coating and curing a photocurable composition on the upper surface of the polarizer 10 . That is, the hard coating layer 20 may include a cured product of the photocurable composition. The photocurable composition refers to a composition that is cured by irradiation with light.

한편, 상기 코팅 방법은 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 방법에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 편광자의 적어도 일면에 상기 광경화성 조성물을 당해 기술 분야에 잘 알려진 코팅 법, 예컨대, 스핀 코팅, 바 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 블레이드 코팅 등의 방법으로 도포하여 하드코팅층을 형성한 다음, 자외선 조사 장치를 이용하여 조사광인 자외선을 조사하는 방법으로 형성될 수 있다.On the other hand, the coating method is not particularly limited, and may be formed by a method well known in the art. For example, the photocurable composition is applied to at least one surface of the polarizer by a coating method well known in the art, for example, spin coating, bar coating, roll coating, gravure coating, blade coating, etc. to form a hard coating layer. Next, it may be formed by using an ultraviolet irradiation device to irradiate ultraviolet rays that are irradiation light.

상기 자외선의 파장은 100nm 내지 400nm가 바람직하고, 320nm 내지 400nm가 더욱 바람직하다. 또한, 상기 조사광의 광량은 100mJ/cm2 내지 1000mJ/cm2가 바람직하고, 500mJ/cm2 내지 1000mJ/cm2 이 더욱 바람직하다.The wavelength of the ultraviolet rays is preferably 100 nm to 400 nm, more preferably 320 nm to 400 nm. In addition, the amount of light of the irradiation light is preferably 100mJ/cm 2 to 1000mJ/cm 2 , and more preferably 500mJ/cm 2 to 1000mJ/cm 2 .

상기 조사광의 조사 시간은 1초 내지 10분이 바람직하고, 2초 내지 30초가 더욱 바람직하다. 상기 조사 시간 범위를 만족하는 경우, 광원으로부터 지나치게 열이 전달되는 것을 방지하여, 편광자에 주행 주름이 발생하는 것을 최소화할 수 있는 장점이 있다.The irradiation time of the irradiation light is preferably 1 second to 10 minutes, more preferably 2 seconds to 30 seconds. When the irradiation time range is satisfied, there is an advantage in that excessive heat is prevented from being transmitted from the light source, thereby minimizing the occurrence of running wrinkles in the polarizer.

상기 공정용 보호 필름은 편광자에 상기 도포된 광경화성 조성물을 보호하기 위하여 도입된 구성이다. 상기 편광판 적층체에서 공정용 보호 필름을 박리한 나머지 구성을 편광판으로 사용할 수 있다.The protective film for the process is a configuration introduced to protect the photocurable composition applied to the polarizer. The remaining configuration in which the protective film for processes is peeled off from the polarizing plate laminate may be used as a polarizing plate.

상기 공정용 보호 필름의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 중합체, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 중합체, 폴리스티렌 및 아크릴로니트릴-스타이렌 공중합체(AS 수지) 등의 스타이렌계 중합체, 폴리카보네이트계 중합체 등을 사용할 수 있다.The type of protective film for the process is not particularly limited, and polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin) A styrene-type polymer, such as a polycarbonate-type polymer, etc. can be used.

또한, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 사이클로계 또는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 중합체, 염화비닐계 중합체, 나일론 및 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 중합체, 이미드계 중합체, 설폰계 중합체, 폴리에테르 설폰계 중합체, 폴리에테르-에테르케톤계 중합체, 폴리페닐렌 설파이드계 중합체, 비닐 알콜계 중합체, 비닐리덴 클로라이드계 중합체, 비닐 부티랄계 중합체, 알릴레이트계 중합체, 폴리옥시메틸렌계 중합체, 에폭시계 중합체, 상기 중합체의 블렌드 중합체, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴 우레탄계 및 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 또는 자외선경화형 수지를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.In addition, polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclo- or norbornene structure, polyolefin-based polymers such as ethylene-propylene copolymers, vinyl chloride-based polymers, amide-based polymers such as nylon and aromatic polyamides, imide-based polymers, and sulfur Phone-based polymer, polyether sulfone-based polymer, polyether-etherketone-based polymer, polyphenylene sulfide-based polymer, vinyl alcohol-based polymer, vinylidene chloride-based polymer, vinyl butyral-based polymer, allylate-based polymer, polyoxymethylene-based polymer , epoxy-based polymers, blend polymers of the above polymers, acrylic, urethane, acrylic urethane, and thermosetting or UV-curable resins such as epoxy and silicone are preferably used alone or in combination.

상기 공정용 보호 필름의 두께는 10㎛ 내지 100㎛, 바람직하게는 20㎛ 내지 80㎛, 더욱 바람직하게는 30㎛ 내지 70㎛일 수 있다.The thickness of the protective film for the process may be 10 μm to 100 μm, preferably 20 μm to 80 μm, and more preferably 30 μm to 70 μm.

상기 편광자는 당해 기술분야에 잘 알려진 편광자, 예를 들면, 요오드 또는 2색성 염료를 포함하는 폴리비닐알코올(PVA)로 이루어진 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광자는 폴리비닐알코올계 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 염착시켜서 제조될 수 있으나, 이의 제조방법은 특별히 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 편광자는 하드코팅층(또는 보호필름)을 포함하지 않는 상태를 의미하며, 편광판은 편광자와 하드코팅층(또는 보호필름)을 포함하는 상태를 의미한다.The polarizer may be a polarizer well known in the art, for example, a film made of polyvinyl alcohol (PVA) containing iodine or a dichroic dye. The polarizer may be manufactured by dyeing a polyvinyl alcohol-based film with iodine or a dichroic dye, but the manufacturing method thereof is not particularly limited. In this specification, the polarizer means a state that does not include a hard coating layer (or protective film), and the polarizer means a state that includes a polarizer and a hard coating layer (or protective film).

편광판은 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 2색성 색소로 염색하고, 그 2색성 색소를 흡착시키는 공정, 2색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용 액으로 처리하는 공정, 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정 및 이들 공정이 실시되어 2색성 색소가 흡착 배향된 일축 연신 폴리비닐알코올계 수지 필름에 하드코팅층을 접합하는 공정을 거쳐 제조된다.The polarizing plate is a process of uniaxial stretching of a polyvinyl alcohol-based resin film, a process of dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye and adsorbing the dichroic dye, a polyvinyl alcohol-based resin film to which the dichroic dye is adsorbed. A step of treatment with an aqueous boric acid solution, a step of washing with water after treatment with an aqueous solution of boric acid, and a step of bonding the hard coating layer to the uniaxially oriented polyvinyl alcohol-based resin film in which the dichroic dye is adsorbed and oriented after these steps are performed.

일축 연신은 2색성 색소에 의한 염색 전에 행할 수도 있고, 2색성 색소에 의한 염색과 동시에 행할 수도 있고, 2색성 색소에 의한 염색 후에 행할 수도 있다. 일축 연신을 2색성 색소에 의한 염색 후에 행하는 경우, 이 일축 연신은 붕산 처리 전에 행할 수도 있고, 붕산 처리 중에 행할 수도 있다. 또한, 이들 복수의 단계에서 일축 연신을 행하는 것도 가능하다. 일축 연신을 하기 위해서는 주속이 서로 다른 롤 사이에서 일축으로 연신 할 수도 있고, 열 롤을 이용하여 일축으로 연신 할 수도 있다. 또한, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신일 수도 있고, 용제에 의해 팽윤한 상태에서 연신을 행하는 습식 연신일 수도 있다. 연신 배율은 특별히 한정되지 않으나, 통상 4배 내지 8배이다.Uniaxial stretching may be performed before dyeing with a dichroic dye, may be performed simultaneously with dyeing with a dichroic dye, and may be performed after dyeing with a dichroic dye. When performing uniaxial stretching after dyeing|staining with a dichroic dye, this uniaxial stretching may be performed before a boric-acid process, and may be performed during a boric-acid process. Moreover, it is also possible to perform uniaxial stretching in these several steps. In order to perform uniaxial stretching, uniaxial stretching may be performed between rolls having different peripheral speeds, or uniaxial stretching may be performed using a hot roll. Moreover, the dry extending|stretching performed extending|stretching in air|atmosphere may be sufficient, and wet extending|stretching which extending|stretching in the state swollen with the solvent may be sufficient. Although the draw ratio is not specifically limited, Usually, it is 4 to 8 times.

한편, 상기 편광자는 두께가 5㎛ 내지 40㎛인 것이 바람직하고, 5㎛ 내지 25㎛인 것이 더욱 바람직하다. 편광자의 두께가 상기 수치 범위보다 얇으면 광학특성이 떨어질 수 있으며, 상기 수치 범위보다 두꺼우면 저온(예를 들어, -30℃)에서의 편광자 수축량이 커져서 전체적인 편광판의 열에 관련한 내구성을 약화시킬 수 있다. Meanwhile, the polarizer preferably has a thickness of 5 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 25 μm. If the thickness of the polarizer is thinner than the above numerical range, optical properties may be deteriorated, and if it is thicker than the above numerical range, the amount of shrinkage of the polarizer at low temperature (for example, -30°C) may increase, thereby weakening the heat-related durability of the overall polarizing plate. .

또한, 상기 편광자가 폴리비닐알코올계 필름인 경우, 폴리비닐알코올계 필름은 폴리비닐알코올 수지 또는 그 유도체를 포함하는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 이때, 상기 폴리비닐알코올 수지의 유도체로는 폴리비닐포르말 수지, 폴리비닐아세탈 수지 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 시판되는 폴리비닐알코올계 필름, 예컨대, 구라레 사의 P30, PE30, PE60, 일본합성사의 M2000, M3000, M6000 등을 사용할 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In addition, when the polarizer is a polyvinyl alcohol-based film, the polyvinyl alcohol-based film may be used without any particular limitation as long as it contains a polyvinyl alcohol resin or a derivative thereof. In this case, the derivative of the polyvinyl alcohol resin includes, but is not limited to, a polyvinyl formal resin, a polyvinyl acetal resin, and the like. In addition, commercially available polyvinyl alcohol-based films, for example, P30, PE30, PE60 manufactured by Kuraray, M2000, M3000, M6000, etc. manufactured by Nippon Synthetic Company may be used, but the present invention is not limited thereto.

상기 폴리비닐알코올계 필름은, 중합도가 1,000 내지 10,000이 바람직하고, 1,500 내지 5,000 인 것이 더욱 바람직하다. 중합도가 상기 수치 범위를 만족할 때, 분자의 움직임이 자유롭고, 요오드 또는 이색성 염료 등과 유연하게 혼합될 수 있다.The polyvinyl alcohol-based film preferably has a polymerization degree of 1,000 to 10,000, more preferably 1,500 to 5,000. When the degree of polymerization satisfies the above numerical range, the movement of molecules is free, and it can be flexibly mixed with iodine or a dichroic dye.

상기 보호 필름(50)은 고분자 필름일 수 있다. 상기 고분자 필름으로는 예를 들면, 폴리에틸렌 필름 또는 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀 필름, 폴리노르보넨 필름 등의 고리형 올레핀 폴리머(COP: Cycloolefin polymer) 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리아크릴로니트릴 필름, 폴리설폰 필름, 폴리아크릴레이트 필름, 폴리비닐알코올 필름 또는 TAC(Triacetyl cellulose) 필름 등의 셀룰로오스 에스테르계 폴리머 필름이나 상기 폴리머를 형성하는 단량체 중에서 2종 이상의 단량체의 공중합체 필름 등이 예시될 수 있다.The protective film 50 may be a polymer film. As the polymer film, for example, a polyolefin film such as a polyethylene film or a polypropylene film, a cyclic olefin polymer (COP) film such as a polynorbornene film, a polyvinyl chloride film, a polyacrylonitrile film, a poly A cellulose ester-based polymer film such as a sulfone film, a polyacrylate film, a polyvinyl alcohol film, or a triacetyl cellulose (TAC) film, or a copolymer film of two or more monomers among the monomers forming the polymer may be exemplified.

상기 고분자 필름은 주쇄에 치환 또는 비치환 스티렌기를 포함하는 수지 및/또는 이 수지를 포함하는 블렌드를 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 치환 또는 비치환 스티렌기를 포함하는 수지로는 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(SAN), 메타크릴산메틸-스티렌(MS), 스티렌-말레인산무수물(SMA), 스티렌-말레인산무수물-메타크릴산메틸 공중합체를 포함하는 수지를 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 고분자 필름은 치환 또는 비치환 스티렌기를 포함하는 수지를 포함하는 아크릴계 수지를 포함할 수 있다. 상기 아크릴계 수지로는 메타크릴산에스테르, 아크릴산에스테르로 이루어진 아크릴계 수지를 사용할 수 있다. 상기 아크릴계 수지는 N-치환 말레이미드, 락톤환, 글루탈이미드, 말레인산 무수물 등의 환 구조를 포함하는 아크릴계 공중합체 수지를 포함할 수 있다. 상기 고분자 필름에 포함되는 수지의 유리전이온도는 100℃ 이상, 바람직하게는 110℃ 이상일 수 있다. 상기 고분자 필름의 두께는 80㎛ 이하일 수 있다. 상기 고분자 필름은 압출 내지 캐스팅 방법으로 원단을 제조하고, 이축 연신 (동시 또는 축차)를 통해 제조할 수 있다.As the polymer film, a resin including a substituted or unsubstituted styrene group in the main chain and/or a blend including the resin may be used. More specifically, as the resin including the substituted or unsubstituted styrene group, styrene-acrylonitrile copolymer (SAN), methyl methacrylate-styrene (MS), styrene-maleic anhydride (SMA), styrene-maleic anhydride- A resin containing a methyl methacrylate copolymer may be used. More specifically, the polymer film may include an acrylic resin including a resin including a substituted or unsubstituted styrene group. As the acrylic resin, methacrylic acid ester or an acrylic resin composed of acrylic acid ester may be used. The acrylic resin may include an acrylic copolymer resin including a ring structure such as N-substituted maleimide, a lactone ring, glutalimide, and maleic anhydride. The glass transition temperature of the resin included in the polymer film may be 100°C or higher, preferably 110°C or higher. The thickness of the polymer film may be 80㎛ or less. The polymer film may be manufactured through extrusion or casting, and biaxial stretching (simultaneous or sequential).

본 발명은 화상 표시 패널; 및 상기 화상 표시 패널의 일면 또는 양면에 구비된 상술한 편광판을 포함하는 것인 화상 표시 장치를 제공한다.The present invention is an image display panel; and the above-described polarizing plate provided on one or both surfaces of the image display panel.

본 명세서에 있어서, 상기 화상 표시 장치는 액정표시장치(LCD), 플라즈마 표시장치(PDP) 및 유기전계발광 표시장치(OLED)일 수 있다.In the present specification, the image display device may be a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device (PDP), and an organic light emitting display device (OLED).

상기 화상 표시 패널은 액정 패널일 수 있다. 이때, 상기 액정 패널의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, TN(twisted nematic)형, STN(super twisted nematic)형, F(ferroelectic)형 또는 PD(polymer dispersed)형과 같은 수동 행렬 방식의 패널; 2단자형(two terminal) 또는 3단자형(three terminal)과 같은 능동행렬 방식의 패널; 횡전계형(IPS; In Plane Switching) 패널 및 수직배향형(VA; Vertical Alignment) 패널 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 액정표시장치를 구성하는 기타 구성, 예를 들면, 상부 및 하부 기판(예를 들어, 컬러 필터 기판 또는 어레이 기판) 등의 종류 역시 특별히 제한되지 않는다. The image display panel may be a liquid crystal panel. In this case, the type of the liquid crystal panel is not particularly limited. For example, a passive matrix type panel such as a twisted nematic (TN) type, a super twisted nematic (STN) type, a ferroelectic (F) type, or a polymer dispersed (PD) type; an active matrix type panel such as a two terminal type or a three terminal type; There are in-plane switching (IPS) panels and vertical alignment (VA) panels, but is not limited thereto. In addition, other components constituting the liquid crystal display device, for example, the type of upper and lower substrates (eg, color filter substrates or array substrates) are not particularly limited.

이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be given to describe the present specification in detail. However, the embodiments according to the present specification may be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not to be construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more completely explain the present specification to those of ordinary skill in the art.

<실시예 및 비교예><Examples and Comparative Examples>

하기 표 1의 조성비를 갖도록 각 성분을 혼합하여 광경화성 조성물을 제조하였다.A photocurable composition was prepared by mixing each component to have the composition ratio shown in Table 1 below.

<실험예><Experimental example>

1. 투과도 평가1. Permeability evaluation

미리 준비된 연신된 두께 17㎛의 폴리비닐알코올계 편광자 필름(제조사: 일본합성사)을 25℃의 분위기 하에서 그 상면에 공정용 보호 필름(PET)을 공급하고, 그 하면에 보호 필름(PET, 일본 토요보사 제조)을 공급하며, 10M/min의 속도 및 2Mpa의 압력으로 한 쌍의 롤을 통과시켰다. 이때, 상기 편광자 필름 및 보호 필름 사이에 광경화성 접착제 조성물을 롤-코팅 방법을 이용하여 약 3㎛의 두께로 도포하여 접착제층을 형성하였다. 또한, 상기 편광자 필름 및 공정용 보호 필름 사이에 상기 실시예 및 비교예의 광경화 조성물을 롤-코팅 이용하여 약 6㎛의 두께로 도포하여 하드코팅층을 형성하였다.A pre-prepared stretched 17 μm thick polyvinyl alcohol-based polarizer film (manufacturer: Japan Synthetic Co., Ltd.) is supplied with a protective film (PET) for processing on its upper surface under an atmosphere of 25° C., and a protective film (PET, Toyo Japan) on its lower surface. manufactured by Bosa), and passed through a pair of rolls at a speed of 10 M/min and a pressure of 2 Mpa. At this time, the photocurable adhesive composition was applied between the polarizer film and the protective film to a thickness of about 3 μm using a roll-coating method to form an adhesive layer. In addition, between the polarizer film and the protective film for the process, the photocurable compositions of Examples and Comparative Examples were applied to a thickness of about 6 μm using roll-coating to form a hard coating layer.

그 후, 퓨전 램프(Fusion lamp)을 이용하여, 공정용 보호 필름 쪽에 자외선을 조사하여 하드코팅층 및 접착제층을 경화시킴으로써, 편광판 적층체를 제조하였다.Then, by using a fusion lamp (Fusion lamp), by irradiating ultraviolet rays to the protective film side for the process to cure the hard coat layer and the adhesive layer, a polarizing plate laminate was prepared.

그 후, 편광판 적층체를 권취 방향의 수직되는 방향으로 샘플 길이가 5cm가 되도록 하여 롤에 권취하여 필름 롤을 형성하였다,Thereafter, the polarizing plate laminate was wound on a roll such that the sample length was 5 cm in a direction perpendicular to the winding direction to form a film roll,

제조된 편광판 적층체를 폭 120mm 길이 100mm로 재단한 후, 70℃의 온도 및 95%의 상대 습도 조건에서 100시간 동안 방치하였다(이하, 고온 고습 조건이라 명명함).The prepared polarizing plate laminate was cut to a width of 120 mm and a length of 100 mm, and then left at a temperature of 70° C. and a relative humidity of 95% for 100 hours (hereinafter referred to as a high temperature and high humidity condition).

상기 고온 고습 조건의 처리 전 후의 단체투과도(Ts)를 측정하였다. 구체적으로, 광선 분광계(V-7100, JASCO사 제조)을 사용하였으며, 광선 분광계에 상기 실험용 편광판 샘플의 하드코팅층면을 광원으로 향하게 하여 고정시킨다.The single permeability (Ts) before and after the treatment of the high temperature and high humidity conditions was measured. Specifically, a light spectrometer (V-7100, manufactured by JASCO) was used, and the hard coating layer surface of the polarizing plate sample for the experiment was fixed to the light spectrometer to face the light source.

직교(TD) 및 평행(MD) 상태의 투과율을 측정하였으며, 측정 파장 범위는 380~780nm이고, 측정 간격은 10nm로 하였다.Transmittance in orthogonal (TD) and parallel (MD) states was measured, and the measurement wavelength range was 380 to 780 nm, and the measurement interval was 10 nm.

JIS Z 8701의 2도 시야 XYZ 좌표계에 따른 시감도 보정으로 투과율을 계산하였다. 구체적으로, 평행 투과율(Tp) 및 직교 투과율(Tc)을 계산하였으며, 이로부터 단체 투과율(T)을 산정하였다. 2회 이상 측정한 경우(1회/2회)는 구분하여 표시하였다.Transmittance was calculated by correcting the visibility according to the XYZ coordinate system of the 2 degree field of view of JIS Z 8701. Specifically, the parallel transmittance (Tp) and the orthogonal transmittance (Tc) were calculated, and the single transmittance (T) was calculated therefrom. In the case of two or more measurements (once/2 times), they were separately indicated.

2. b값 평가2. b-value evaluation

JIS Z 8701에 따른 방법으로 상기 고온 고습 조건의 처리 전 후의 yellow index 값의 차이(△b)를 계산하였다. 2회 이상 측정한 경우(1회/2회)는 구분하여 표시하였다.The difference (Δb) of the yellow index value before and after the treatment of the high temperature and high humidity conditions was calculated by the method according to JIS Z 8701. In the case of two or more measurements (once/2 times), they were separately indicated.

3. 외관 평가3. Appearance evaluation

상기 고온 고습 조건의 처리 전 후에 사이드부가 말리는 현상이 있는 지를 육안으로 평가하였다.It was visually evaluated whether there was a phenomenon in which the side part was curled before and after the treatment of the high temperature and high humidity conditions.

사이드부가 말리는 현상이 발생하면 NG로, 발생하지 않으면 OK로 각각 표시하였다.If the phenomenon of curling of the side part occurred, it was marked as NG, and if it did not occur, it was marked as OK.

광학 현미경을 사용하여 실시예 2, 실시예 4, 비교예 3 및 비교예 4의 외관을 도 4에 표시하였다. 비교예 3의 경우 색상이 하얗게 변화된 지점이 확인되었다.The appearance of Examples 2, 4, Comparative Example 3 and Comparative Example 4 was shown in FIG. 4 using an optical microscope. In the case of Comparative Example 3, a point where the color changed to white was confirmed.

구분division 조성Furtherance 실시예Example 비교예comparative example 1One 22 33 44 1One 22 33 44 광경화성 조성물
photocurable composition
(A1)(A1) 2020 4040 5050 4040 6060 4040 4040 TAC 필름 사용Use of TAC film
(A2)(A2) 00 00 00 00 00 00 4040 (A3)(A3) 00 00 00 00 00 4040 00 (B)(B) 2020 2020 2020 2020 2020 2020 2020 (C1)(C1) 6060 4040 3030 00 2020 00 00 (C2)(C2) 00 00 00 4040 00 00 00 (D)(D) 33 33 33 33 33 33 33 (E)(E) 22 22 22 22 22 22 22 보호층 또는 TAC 필름 두께protective layer or TAC film thickness μm 6㎛6㎛ 6㎛6㎛ 6㎛6㎛ 6㎛6㎛ 6㎛6㎛ 6㎛6㎛ 6㎛6 20㎛20㎛ 실험예Experimental example 1One 투과도 평가(△Ts)Permeability evaluation (ΔTs) 1.211.21 1.28/1.421.28/1.42 1.231.23 1.641.64 2.142.14 1.331.33 2.542.54 1.51.5 22 b값 평가(△b)b value evaluation (Δb) 1.051.05 3.75/3.83.75/3.8 2.142.14 1.571.57 9.889.88 4.594.59 3.283.28 1.411.41 33 외관 평가Appearance evaluation OKOK OKOK OKOK NGNG NGNG NGNG NGNG OKOK (A1): 제1 에폭시 화합물(3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 상품명: CEL-2021P)
(A2): 제2 에폭시 화합물(디글리시딜에테르(CHDMDGDE), 상품명: LD-204)
(A3): 비스페놀 F 에폭시 화합물(국도화학, YDF-170)
(B): 옥세탄 화합물(3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄, 상품명: OXT-221)
(C1): 고리형 실록산 화합물: (KR-470)
KR-470 구조

Figure pat00014

(C2): 선형 실록산 화합물: (KBM-403)
Figure pat00015

(D): 광개시제(Irgacure 250)
(E): 광개시제(ITX)(A1): 1st epoxy compound (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexanecarboxylate, trade name: CEL-2021P)
(A2): Second epoxy compound (diglycidyl ether (CHDMDGDE), trade name: LD-204)
(A3): Bisphenol F epoxy compound (Kukdo Chemical, YDF-170)
(B): Oxetane compound (3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane, trade name: OXT-221)
(C1): Cyclic siloxane compound: (KR-470)
KR-470 Structure
Figure pat00014

(C2): Linear siloxane compound: (KBM-403)
Figure pat00015

(D): Photoinitiator (Irgacure 250)
(E): photoinitiator (ITX)

두께가 얇은 보호층 대신 두께가 두꺼운 TAC 보호필름 적층 시 물성은 우수하나, TAC 보호필름의 두께가 두꺼워 박형화에 적합하지 않다(비교예 4).When laminating a thick TAC protective film instead of a thin protective layer, the physical properties are excellent, but the thick TAC protective film is not suitable for thinning (Comparative Example 4).

상기 결과로부터, 광경화성 조성물이 실록산 화합물을 포함하지 않는 경우(비교예 2 및 비교예 3), 고온 고습 조건에서 사이드부가 말리는 현상이 나타나는 것을 확인하였다.From the above results, it was confirmed that, when the photocurable composition did not contain the siloxane compound (Comparative Examples 2 and 3), a phenomenon in which the side portion was curled under high temperature and high humidity conditions appeared.

광경화성 조성물이 실록산 화합물을 포함하더라도 소량(20 중량부)으로 포함하는 경우 고온 고습 조건에서 투과도 및 b값이 상승하는 문제가 있었으며, 사이드부가 말리는 현상이 나타나는 것을 확인하였다(비교예 1).Even if the photocurable composition contains a siloxane compound in a small amount (20 parts by weight), there was a problem in that the transmittance and b value were increased under high temperature and high humidity conditions, and it was confirmed that the phenomenon of curling of the side part appeared (Comparative Example 1).

광경화성 조성물이 실록산 화합물을 30 중량부 이상 포함하는 경우(실시예 1 내지 4), 고온 고습 조건에서 투과도 및 b값이 상승하는 정도와 사이드부가 말리는 현상이 현저히 줄어드는 것을 확인하였다.When the photocurable composition contains 30 parts by weight or more of the siloxane compound (Examples 1 to 4), it was confirmed that the degree of increase in transmittance and b value under high temperature and high humidity conditions and the phenomenon of side part curling were significantly reduced.

특히, 광경화성 조성물에 포함되는 실록산 화합물이 고리형 실록산 화합물인 경우(실시예 2), 선형 실록산 화합물인 경우(실시예 4)에 비하여 고온 고습 조건에서 투과도 및 b값이 상승하는 정도와 사이드부가 말리는 현상이 현저히 줄어드는 것을 확인하였다.In particular, when the siloxane compound included in the photocurable composition is a cyclic siloxane compound (Example 2), compared with the case of a linear siloxane compound (Example 4), the degree of increase in transmittance and b value under high temperature and high humidity conditions and the degree of side portion It was confirmed that the drying phenomenon was significantly reduced.

Claims (11)

에폭시 화합물;
옥세탄 화합물; 및
폴리실록산 화합물을 포함하고,
고형분 100 중량부를 기준으로 상기 폴리실록산 화합물의 함량이 30 중량부 이상인 것인 광경화성 조성물.
epoxy compounds;
oxetane compounds; and
a polysiloxane compound;
The photocurable composition wherein the content of the polysiloxane compound is 30 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the solid content.
청구항 1에 있어서,
상기 폴리실록산 화합물은 고리형 폴리실록산 구조를 갖는 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The polysiloxane compound is a photocurable composition having a cyclic polysiloxane structure.
청구항 1에 있어서,
상기 폴리실록산 화합물은 2 이상의 양이온 중합성 관능기를 포함하는 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The polysiloxane compound is a photocurable composition comprising two or more cationically polymerizable functional groups.
청구항 1에 있어서,
상기 폴리실록산 화합물은 에폭시기, 비닐 에테르기, 옥세탄기 또는 알콕시실릴기의 양이온 중합성 관능기를 포함하는 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The polysiloxane compound is a photocurable composition comprising a cationically polymerizable functional group of an epoxy group, a vinyl ether group, an oxetane group or an alkoxysilyl group.
청구항 1에 있어서,
상기 폴리실록산 화합물은 지환식 에폭시기를 포함하는 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The polysiloxane compound is a photocurable composition comprising an alicyclic epoxy group.
청구항 1에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 양이온계 광경화성 조성물인 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The photocurable composition is a photocurable composition that is a cationic photocurable composition.
청구항 1에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The photocurable composition is a photocurable composition comprising an epoxy compound and an oxetane compound.
청구항 1에 있어서,
상기 광경화성 조성물은 광개시제, 광증감제 및 광증감보조제로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The photocurable composition further comprises any one or more selected from the group consisting of a photoinitiator, a photosensitizer and a photosensitizer.
청구항 1에 있어서,
25℃에서의 점도는 50 cps 이상 200cps 이하인 것인 광경화성 조성물.
The method according to claim 1,
The viscosity at 25 ℃ is 50 cps or more and 200 cps or less of the photocurable composition.
편광자; 및
상기 편광자의 일면 또는 양면에 구비된 하드코팅층을 포함하고,
상기 하드코팅층은 청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 따른 광경화성 조성물의 경화물을 포함하는 것인 편광판.
polarizer; and
It includes a hard coating layer provided on one or both sides of the polarizer,
The hard coating layer is a polarizing plate comprising a cured product of the photocurable composition according to any one of claims 1 to 9.
화상 표시 패널; 및
상기 화상 표시 패널의 일면 또는 양면에 구비된 청구항 10에 따른 편광판을 포함하는 것인 화상 표시 장치.
image display panel; and
An image display device comprising the polarizing plate according to claim 10 provided on one or both surfaces of the image display panel.
KR1020200107156A 2020-08-25 2020-08-25 Photo cuable composition, polarizing plate and image display apparatus comprising same KR20220026303A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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