KR20220013497A - SnZn solder and its manufacturing method - Google Patents

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KR20220013497A
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모리히로 오카다
가쓰야 아라이
미에코 스가와라
겐이치 고바야시
히데토시 고미야
쇼고 마쓰이
준 니시고리
나오히사 모리
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아토비무 유겐가이샤
모리히로 오카다
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Abstract

본 발명은, Sn과 Zn의 합금인 모재에, P, In, Bi, Sb 중에서 1개 이상을 포함하는 주재료를 합계 1 내지 1.5 wt% 이하를 혼입하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 태양전지기판 등의 전극에 매우 견고하게 접합할 수 있고, 고온·저온 반복테스트에 강하고, 모재인 SnZn합금과 거의 동일하거나 혹은 모재보다도 낮은 용융온도를 구비하는 저렴한 땜납을 제공할 수 있다.According to the present invention, 1 to 1.5 wt% or less of the main material containing at least one of P, In, Bi, and Sb is mixed in a base material, which is an alloy of Sn and Zn, in a total amount of 1 to 1.5 wt% or less to melt/alloy SnZn solder and It relates to a manufacturing method thereof. According to the present invention, it is possible to provide an inexpensive solder that can be very firmly bonded to an electrode such as a solar cell substrate, is strong in high and low temperature repeated tests, and has a melting temperature that is substantially the same as or lower than that of the SnZn alloy as a base material. can

Description

SnZn땜납 및 그 제조방법SnZn solder and its manufacturing method

본 발명은, 태양전지기판이나 액정기판 등에 사용하는 SnZn땜납 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an SnZn solder used for a solar cell substrate, a liquid crystal substrate, etc. and a method for manufacturing the same.

종래에, 태양전지기판이나 액정기판 등의 전극에의 리드선(lead 線) 납땜에 있어서는, 주석땜납이 강도가 강하다는 점, 가격이 싸다는 점 등의 이유로 보다 많이 사용되고 있다.Conventionally, in soldering a lead wire to an electrode such as a solar cell substrate or a liquid crystal substrate, tin solder is more widely used for reasons such as strong strength and low price.

또한 알루미늄 등의 전극의 경우에는, 충분한 납땜강도가 얻어지지 않기 때문에 은 페이스트(silver paste)를 도포·소결(塗布燒結)하고, 그 위에 리드선을 주석땜납으로 납땜하고 있었다.In the case of electrodes such as aluminum, since sufficient soldering strength was not obtained, silver paste was applied and sintered, and lead wires were soldered thereon with tin solder.

또한 요즘은, 공해 등의 관점에서 무연땜납(無鉛 solder)의 요구가 강해지고 있다.In addition, these days, the demand for lead-free solder is increasing from the viewpoint of pollution and the like.

종래의 무연땜납은, 주석땜납에 비해 강도가 요구 강도에 조금 부족하거나, 가격이 비싸서 대체재(代替材)에 이르지 못했다고 하는 문제가 있었다.Conventional lead-free solder has problems in that the strength is slightly insufficient to the required strength compared to tin solder, or that it cannot be used as a substitute because of its high price.

본 발명자들은, 무연땜납의 1종인 Sn과 Zn의 합금으로 이루어지는 SnZn땜납에 대하여, P, In, Bi, Sb 등의 주재료(主材料)를 합계 1 내지 1.5 wt% 이하의 미량을 혼입하여 용융·합금화 하고, 필요에 따라 Al, Si, Ag, Cu, Ni 등의 부재료(副材料) 미량을 혼입하여 용융·합금화 한 SnZn땜납은, 태양전지기판 등의 전극에 매우 견고하고 또한 고온·저온 반복테스트에 강한 땜납으로서, 또한 혼입하여도 SnZn땜납의 용융온도가 거의 동일하거나 혹은 저하되는 것을 발견하였다.The present inventors have found that with respect to SnZn solder made of an alloy of Sn and Zn, which is one type of lead-free solder, a minor amount of 1 to 1.5 wt% or less in total of main materials such as P, In, Bi, and Sb is mixed and melted. SnZn solder, which is alloyed and melted and alloyed by mixing small amounts of sub-materials such as A1, Sq, Ag, Cu, and Ni, if necessary, is very strong for electrodes such as solar cell substrates, and is very strong in high-temperature and low-temperature repeated testing. It was found that the melting temperature of the SnZn solder was almost the same or lowered even when it was mixed as a strong solder.

그 때문에 본 발명들은, Sn과 Zn의 합금으로 이루어지는 SnZn땜납에 있어서, Sn과 Zn의 합금인 모재(母材)에, P, In, Bi, Sb 중에서 1개 이상을 포함하는 주재료를 합계 1 내지 1.5 wt% 이하를 혼입하여 용융·합금화 하도록 되어 있다.Therefore, in the present invention, in the SnZn solder made of an alloy of Sn and Zn, a main material containing at least one of P, In, Bi, and Sb in a base material that is an alloy of Sn and Zn is added in a total of 1 to It is designed to be melted and alloyed by mixing 1.5 wt% or less.

이 때에, 용융·합금화 한 후의 SnZn땜납의 용융온도는, 모재의 용융온도와 같거나 혹은 낮도록 하고 있다.At this time, the melting temperature of the SnZn solder after melting and alloying is equal to or lower than the melting temperature of the base material.

또한 주재료는, Sn과 Zn의 합금의 골격(骨格) 내에 합금화 되도록 되어 있다.In addition, the main material is alloyed within the skeleton of an alloy of Sn and Zn.

또한 Al, Si, Cu, Ag, Ni 중에서 1개 이상 혹은 1개 이상을 함유하는 글라스(glass)를 포함하는 부재료를, 필요에 따라 5 wt% 이하를 모재에 혼입하여 용융·합금화 하도록 되어 있다.In addition, one or more of A1, Sa, Cu, Ag, and Ni, or an auxiliary material containing glass containing one or more, 5 wt% or less is mixed into the base material as necessary to be melted and alloyed.

또한 주재료 및 부재료로서, 주재료와 부재료의 합금을 모재에 혼입하여 용융·합금화 하도록 되어 있다.In addition, as the main material and the auxiliary material, the alloy of the main material and the auxiliary material is mixed into the base material to be melted and alloyed.

또한 주재료와 부재료의 합금으로서는, Cu와 P의 합금으로 되어 있다.Moreover, as an alloy of a main material and a subsidiary material, it is an alloy of Cu and P.

또한 모재, 주재료, 부재료를 한번에 혹은 복수로 나누어서 혼합하여 용융·합금화 하도록 되어 있다.In addition, the base material, main material, and auxiliary material are mixed at once or divided into a plurality of materials to be melted and alloyed.

또한 태양전지기판, 액정기판의 전극에, 리드선의 땜납을 사용하도록 하고 있다.In addition, the solder of the lead wire is used for the electrode of the solar cell substrate and the liquid crystal substrate.

또한 생성된 SnZn땜납에, 염화암모늄·수화물의 분말(粉末) 혹은 염화암모늄·수화물을 포함하는 분말을 3 wt% 이하로부터 0.05 wt% 이상 혼입하고, 납땜 가열시에 분해되어 피납땜 대상물에 대한 납땜 밀착도를 개선하도록 하고 있다.In addition, 3 wt% or less to 0.05 wt% or more of ammonium chloride/hydrate powder or ammonium chloride/hydrate-containing powder is mixed into the generated SnZn solder, and it decomposes during soldering heating and solders to the object to be soldered. To improve adhesion.

본 발명은, 상기한 바와 같이 Sn과 Zn의 합금인 모재에, P, In, Bi, Sb 등 중에서 1개 이상을 포함하는 주재료를 합계 1 내지 1.5 wt% 이하의 미량, 필요에 따라 Al, Si, Cu, Ag, Ni 등 중에서 1개 이상 혹은 1개 이상을 함유하는 글라스를 포함하는 부재료 미량을 혼입하여 용융·합금화 함으로써, 태양전지기판 등의 전극에 매우 견고 또한 고온·저온 반복테스트에 강한 땜납으로서, 또한 혼입하여도 SnZn땜납의 용융온도가 거의 동일하거나 혹은 저하되어, 더욱 저렴하게 제조하는 것이 가능해졌다.In the present invention, as described above, in the base material, which is an alloy of Sn and Zn, a trace amount of 1 to 1.5 wt% or less in total of a main material containing at least one of P, In, Bi, Sb, etc., if necessary, A1, Sa , Cu, Ag, Ni, etc., by mixing a small amount of an auxiliary material containing one or more or a glass containing one or more and melting and alloying it, a solder that is very strong for electrodes such as solar cell substrates and has strong resistance to high-temperature and low-temperature repeated tests As a result, even when mixed, the melting temperature of the SnZn solder was substantially the same or lowered, making it possible to manufacture more inexpensively.

또한 용융·합금화 된 후의 SnZn땜납의 용융온도는, 모재의 용융온도와 같거나 혹은 낮아져, 혼입에 의한 용융온도의 상승을 없게 할 수 있었다.In addition, the melting temperature of the SnZn solder after melting and alloying was the same as or lower than the melting temperature of the base material, so that it was possible to prevent an increase in the melting temperature due to mixing.

또한 주재료는, Sn과 Zn의 합금의 골격 내에 합금화 되어, 석출(析出)돼 버리는 폐해를 제거할 수 있었다.In addition, the main material was alloyed in the skeleton of the Sn and Zn alloy, and it was possible to eliminate the harmful effects of precipitation.

또한 Al, Si, Cu, Ag, Ni 등의 1개 이상, 혹은 1개 이상을 함유하는 글라스를 혼입하고 용융·합금화 하여 SnZn땜납을 제조함으로써, 납땜 대상에 대한 접촉전위(接觸電位) 등의 전기적 특성을 개선할 수 있다.In addition, by mixing one or more or glass containing one or more of A1, Sc, Cu, Ag, Ni, etc., melting and alloying, and manufacturing SnZn solder, electrical characteristics can be improved.

또한 주재료와 부재료의 합금을 혼입하고 용융·합금화 하여 SnZn땜납을 제조함으로써, 주재료의 안정화를 도모하여 고온·저온 반복테스트에 강한 땜납으로 할 수 있었다.In addition, by mixing the alloy of the main and sub-materials and melting and alloying them to produce SnZn solder, the main material was stabilized and the solder resistant to high-temperature and low-temperature repeated tests was made.

또한 생성된 SnZn땜납에, 염화암모늄·수화물의 분말 혹은 염화암모늄·수화물을 포함하는 분말을 3 wt% 이하로부터 0.05 wt% 이상 혼입하고, 납땜 가열시에 분해되어 피납땜 대상물에 대한 납땜 밀착도를 개선 할 수 있다.In addition, 3 wt% or less to 0.05 wt% or more of ammonium chloride/hydrate powder or powder containing ammonium chloride/hydrate is mixed into the generated SnZn solder, and it is decomposed during brazing heating to improve solder adhesion to the object to be soldered. can do.

[도1]본 발명의 땜납제조 설명도이다.
[도2]본 발명의 땜납재료 제조장치의 설명도이다.
[도3]본 발명의 리드결선의 납땜 설명도이다.
[도4]본 발명의 납땜 설명도이다.
[도5]본 발명의 땜납의 조성예(ABS-S)이다.
[도6]본 발명의 땜납의 시작예이다.
[도7]본 발명의 땜납의 TC테스트 설명도이다.
[도8]본 발명의 땜납(A-14)의 TC테스트 예이다.
[도9]본 발명의 초음파(문지름)/페이스트 예이다.
[Fig. 1] It is an explanatory drawing of solder manufacturing of the present invention.
[Fig. 2] It is explanatory drawing of the soldering material manufacturing apparatus of this invention.
[Fig. 3] It is an explanatory diagram of soldering of the lead connection of the present invention.
Fig. 4 is an explanatory diagram of soldering according to the present invention.
[Fig. 5] A composition example (ABS-S) of the solder of the present invention.
[Fig. 6] A prototype of the solder of the present invention.
[Fig. 7] It is an explanatory drawing of TTC test of the solder of the present invention.
[Fig. 8] A TTC test example of the solder (A-14) of the present invention.
[Figure 9] An example of ultrasonic (rubbing)/paste of the present invention.

실시예1Example 1

도1은 본 발명의 땜납제조 설명도를 나타낸다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 shows a solder manufacturing explanatory diagram of the present invention.

도1의 (a)는 플로우차트(flow chart)를 나타내고, 도1의 (b)는 재료예를 나타낸다.Fig. 1 (a) shows a flow chart, and Fig. 1 (b) shows an example of a material.

도1의 (a)에 있어서, S1에서는, 모재, 주재료, 부재료를 준비한다. 이것은, 도1의 (b)의 재료예에 나타내는 하기의 재료를 준비한다.In Fig. 1 (a), in S1, a base material, a main material, and a sub material are prepared. This prepares the following materials shown in the material example of Fig. 1(b).

·모재 : Sn91, Zn9·Material: Sn91, Zn9

·주재료 : P, In, Bi, Sb ·Main material: P, Ip, Bi, Sb

·부재료 : Al, Si, Cu, Ag, NiSub-materials: A1, Si, Cu, Ag, Ni

여기에서 모재는, 본 발명의 SnZn땜납을 형성하는 SnZn합금의 기본이 되는 재료(모재)로서, 여기에서는, Sn이 91 wt%, Zn이 9 wt%를 시작(試作)에 사용하였다. Sn, Zn의 중량비는 합금을 생성할 수 있는 범위에서 임의로, 예를 들면 Zn이 1로부터 15 wt%, 나머지는 Sn으로 하면 좋다(어느 비율로 할지는 용융온도 등을 기준으로 실험하여 적절하게 선택하면 좋다).Here, the base material is the basic material (base material) of the SnZn alloy forming the SnZn solder of the present invention. Here, 91 p% Sn and 9 p% Zn were used in the prototype. The weight ratio of Sn and Zn may be arbitrarily within the range that can form an alloy, for example, Zn is 1 to 15 g %, and the rest is Sn. good).

또한 주재료는, 납땜 시에, 피납땜 대상 표면의 산화막 제거, 밀착성, 습윤성(濕潤性), 유동성, 점성 등에 있어서 납땜에 영향을 끼치는 재료로서, 본 발명에서는 주재료의 총량이 1 내지 1.5 wt% 이하로 되는 재료이다. 여기에서는, P(피납땜 대상의 산화막 제거, 밀착성), In(습윤성, 유동성), Bi(밀착성), Sb(밀착성) 중에서 1개 이상을 혼합하여 용융·합금화 하는 대상의 재료이다. 또한 주재료는, 총량이 1 내지 1.5 wt% 이하의 미량과 더불어 모재의 용융온도 보다도, 모재에 주재료를 혼합하여 용융·합금화 한 후의 SnZn땜납의 용융온도가 동일하거나 혹은 약간 낮은(예를 들면 1 내지 5°C 정도 낮다) 것이 되었다. 이것은, 주재료의 총량이 모재에 대하여 1 내지 1.5 wt% 이하의 미량으로서, 모재의 골격 내에 들어가 재골격 구성되는 것으로 추측된다.In addition, the main material is a material that affects the soldering in terms of removal of the oxide film on the surface to be soldered, adhesion, wettability, fluidity, viscosity, etc. during soldering. In the present invention, the total amount of the main material is 1 to 1.5 wt% or less It is a material made of Here, one or more of P (removal of the oxide film of the object to be soldered, adhesion), In (wettability, fluidity), Bi (adhesiveness), and Sb (adhesion) are mixed to form a material to be melted and alloyed. In addition, the main material has a trace amount of 1 to 1.5 wt% or less, and the melting temperature of the SnZn solder after melting and alloying by mixing the main material with the base material is the same or slightly lower than the melting temperature of the base material (for example, 1 to 5°C lower). This is a trace amount of 1 to 1.5 wt% or less of the total amount of the main material, and it is estimated that it enters into the skeleton of the base material and constitutes a re-skeleton.

또한 부재료는, 모재와 주재료에 추가적으로 첨가되는 재료로서, 피납땜 대상(태양전지기판, 액정기판 등의 반도체기판, 소성(燒成) 알루미늄막, 구리전극 등)의 전기적 특성(접촉전위차, 접촉저항, 태양전지의 경우에는 I-V 특성 등), 밀착성 등을 양호하게 하기 위한 재료로서, 여기에서는, Al(소성 알루미늄막에 대한 것), Si(실리콘 기판에 대한 것), Cu(구리전극에 대한 것), Ag(모두에 대한 것), Ni(실리콘 기판에 미량 Ni 도금하였을 때에 대한 것) 등의 재료이다. 부재료로서, 금속 뿐만 아니라 금속을 함유하는 글라스를 혼합·용융·합금화 함으로써 첨가하여도 좋다(글라스 중의 산소 등의 가스성분은 용융·합금화 시에 외부로 방출된다).In addition, the sub material is a material added to the base material and the main material, and the electrical characteristics (contact potential difference, contact resistance, etc.) of the object to be soldered (semiconductor substrates such as solar cell substrates and liquid crystal substrates, fired aluminum films, copper electrodes, etc.) , in the case of a solar cell, IV characteristics, etc.) ), Ag (for all), Ni (for when a small amount of Ni is plated on a silicon substrate) and the like. As an auxiliary material, it may be added by mixing, melting, or alloying not only metal but also glass containing metal (gas components such as oxygen in the glass are released to the outside during melting and alloying).

S2에서는, 모재에 주재료, 부재료를 혼합한다. 이것은 S1에서 준비된 모재에 주재료, 부재료를 혼합한다.In S2, the main material and the auxiliary material are mixed with the base material. This mixes the main material and the auxiliary material with the base material prepared in S1.

S3에서는, 모재, 주재료, 부재료가 용융하여 합금화 한다. 이것은, S2에서 모재에 주재료, 부재료를 혼합하고 가열하여 용융하고, 잘 섞어서 합금화 시킨다. 이 때에, 주재료, 부재료가 공기중의 산소에 의해 산화되어 합금화가 곤란한 경우 등에는, 필요에 따라 불활성가스(예를 들면 질소가스)를 도가니 내로 불어 넣거나, 또는 불활성가스를 더 충족시킨 용융로나 진공용융로를 사용한다.In S3, the base material, the main material, and the auxiliary material are melted and alloyed. This is, in S2, the main material and the sub-material are mixed with the base material, heated and melted, and then mixed well for alloying. At this time, in the case where alloying is difficult because the main material or auxiliary material is oxidized by oxygen in the air, an inert gas (eg nitrogen gas) is blown into the crucible as necessary, or a melting furnace or vacuum that further satisfies the inert gas Use a melting furnace.

S4에서는 땜납재료(ABS-S)가 완성된다.In S4, the solder material (ABS-S) is completed.

이상에 의하여 모재, 주재료, 부재료를 준비하고 이들을 혼합하여 용융·합금화 함으로써, 본원(本願) 발명에 관한 SnZn땜납(ABS-S)을 제조할 수 있다. 이하 순차적으로 상세하게 설명한다.As described above, by preparing a base material, a main material, and a sub material, mixing them, and melting and alloying them, the SnZn solder (ABS-S) according to the present invention can be manufactured. Hereinafter, it will be sequentially described in detail.

도2는, 본 발명의 재료 제조장치의 설명도를 나타낸다.Fig. 2 shows an explanatory view of the material manufacturing apparatus of the present invention.

도2에 있어서, 땜납재료(1)는, 이미 설명한 도1의 S1에서 준비한 모재, 주재료, 부재료로서, 여기에서는, 금속, 글라스 등의 파편(거칠게 분쇄한 것)이다.In Fig. 2, a solder material 1 is a base material, a main material, and a subsidiary material prepared in S1 of Fig. 1 described above, and here, it is a fragment (coarsely pulverized) of metal, glass, or the like.

땜납재료 투입접시(2)는 땜납재료(1)를 담아서 용융로(3)에 투입하는 것이다.The solder material input plate 2 is to put the solder material 1 into the melting furnace 3 .

용융로(3)는, 히터(heater)(4) 등으로 가열하고, 내부에 땜납재료(1)을 투입하고, 모재, 주재료, 부재료를 용융하고, 섞어서 합금화 하기 위한 것이다. 용융로(3)는, 보통은 대기 중에서 내부에 투입한 모재, 주재, 부재료를 용융하고, 섞어서 합금화 한다. 이 때에, 필요에 따라 불활성가스(질소가스 등)를 불어 넣어서, 공기중의 산소에 의한 산화를 감소시키거나, 또한 필요에 따라 밀폐하여 불활성가스를 충만(充滿)(혹은 진공배기(眞空排氣))한다.The melting furnace 3 is for heating with a heater 4 or the like, putting the solder material 1 therein, and melting, mixing, and alloying the base material, the main material, and the auxiliary material. The melting furnace 3 melts, mixes, and alloys the base material, the main material, and the auxiliary material, which are usually put into the inside in the atmosphere. At this time, if necessary, an inert gas (nitrogen gas, etc.) is blown in to reduce oxidation by oxygen in the air, or if necessary, it is sealed and filled with an inert gas (or vacuum exhausted). ))do.

이상과 같이, 도1의 S1에서 준비된 모재, 주재료, 부재료를 혼합하여 용융로(3)에서 용융하고, 섞어서 합금화하여 본원 발명의 SnZn땜납을 제조할 수 있다.As described above, the SnZn solder of the present invention can be manufactured by mixing the base material, the main material, and the auxiliary material prepared in S1 of FIG.

도3은 본 발명의 리드결선(lead 結線)의 납땜 설명도를 나타낸다.Fig. 3 shows a soldering explanatory diagram of a lead wire according to the present invention.

도3의 (a)는 플로우차트를 나타내고, 도3의 (b)는 기판/리드결선예를 나타낸다.Fig. 3(a) shows a flowchart, and Fig. 3(b) shows an example of a substrate/lead connection.

도3의 (a)에 있어서, S11에서는, 초음파로 땜납(ABS-S)에 의하여 기판패턴(基板 pattern)의 예비납땜을 한다. 이것은, 예를 들면 태양전지기판의 전극에, 이제부터 납땜하려고 하는 부분(패턴)에, 본원 발명의 SnZn땜납(도1의 S4에서 제조된 SnZn땜납)을 초음파납땜인두의 인두팁에 공급하여 용융하고, 또한 초음파를 인가하여 기판상의 당해 패턴부분에 납땜(초음파 예비납땜이라고 한다)을 미리한다.In Fig. 3(a), in S11, preliminary soldering of a substrate pattern is carried out by means of an ultrasonic wave solder (ABS-S). This is, for example, to the electrode of the solar cell board, to the part (pattern) to be soldered from now on, the SnZn solder of the present invention (SnZn solder prepared in S4 in Fig. 1) is supplied to the tip of the ultrasonic soldering iron and melted. Also, by applying ultrasonic waves, soldering (referred to as ultrasonic pre-soldering) to the pattern portion on the substrate is preliminarily performed.

S12에서는, 리드결선 등을 초음파납땜 또는 무초음파(無超音波) 납땜한다. 이것은, S11에서 예를 들면 태양전지기판의 전극 위에 초음파 예비납땜한 부분(패턴)에, 리드결선을 따라 그 위에 초음파를 인가하면서 혹은 초음파를 인가하지 않고, 본원 발명의 SnZn땜납을 용융하여 리드결선을 납땜한다. 또한, SnZn땜납이 리드결선에 미리 예비납땜 되어 있을 때에는 땜납의 공급은 불필요 하다.In S12, ultrasonic soldering or non-ultrasonic soldering of the lead wire and the like is performed. In S11, for example, to the part (pattern) pre-soldered by ultrasonic waves on the electrode of the solar cell board, while applying ultrasonic waves or not applying ultrasonic waves thereon along the lead connection, the SnZn solder of the present invention is melted to connect the lead wires. solder the In addition, when SnZn solder is pre-soldered for the lead connection, the supply of solder is unnecessary.

이상에 의하여, 납땜 대상의 부분(예를 들면 태양전지기판의 전극부분)에 통상의 납땜으로는 곤란하므로, 초음파를 사용하여 본원 발명의 SnZn땜납의 예비납땜을 하고(S11), 예비납땜을 한 부분(패턴) 위에 본원 발명의 SnZn땜납을 사용하여 리드결선을 초음파납땜 혹은 무초음파 납땜(S12)을 함으로써, 종래의 납땜 불가의 태양전지기판의 전극부분 등에, 유초음파(有超音波) 예비납땜을 하고 그 위에 리드결선을 유초음파 납땜 혹은 무초음파 납땜하는 것이 가능하다.As described above, since normal soldering is difficult on the part to be soldered (for example, the electrode part of a solar cell board), the SnZn solder of the present invention is pre-soldered using ultrasonic waves (S11), and the pre-soldered Ultrasonic pre-soldering to electrode parts of solar cell boards, which cannot be soldered in the prior art, by ultrasonic soldering or non-ultrasonic soldering (S12) of the lead connection using the SnZn solder of the present invention on the part (pattern). It is possible to do ultrasonic soldering or non-ultrasonic soldering of the lead wire on it.

또한 초음파납땜은, 10W 이하 보통은 2에서 3W로 초음파납땜을 실시하고 있다. 강하면 태양전지기판의 위에 형성된 막(예를 들면 질화막)이나 기판 표면의 결정을 손상시키거나 하기 때문에 강하게 하지는 않는다.In addition, ultrasonic soldering is performed at 10 W or less, usually 2 to 3 W. If it is strong, it will not be strong because it will damage the film (for example, nitride film) formed on the solar cell board|substrate, or the crystal|crystallization of the board|substrate surface.

도3의 (b)는 기판/리드결선예를 나타낸다.Fig. 3(b) shows an example of the substrate/lead connection.

도3의 (b)에 있어서 기판은, Al, Si기판, 글라스기판 등으로서, 통상의 납땜으로는 납땜이 매우 곤란한 기판의 예이다. 이들 기판의 전극이 되는 부분(패턴)에 대하여, 본원 발명의 SnZn땜납을 초음파 예비납땜한다. 그리고 이 예비납땜 한 부분(패턴)에, 리드결선을 유초음파 납땜 혹은 무초음파 납땜 함으로써, 리드결선을 기판에 납땜할 수 있다.In Fig. 3(b), the substrate is an A1, Sq substrate, a glass substrate, etc., and is an example of a substrate that is very difficult to solder with ordinary soldering. The SnZn solder of the present invention is ultrasonically pre-soldered to the portions (patterns) serving as electrodes of these substrates. Then, the lead connection can be soldered to the board by ultrasonically or non-ultrasonic soldering of the lead connection to this pre-soldered part (pattern).

또한 리드결선은, 기판 위의 전극 부분(패턴)에, 본원 발명의 SnZn땜납을 사용하여 납땜하는 리드결성(lead 結成)으로서, 와이어(wire)(원형의 동선에 본원 발명의 SnZn땜납을 땜납 도금한 와이어, 약간 타원으로 찌그려 뜨려 두면 납땜 하기 쉽다), 리본(ribbon)(구리의 얇은 판을 1mm 정도 폭으로 자른 리본에 본 발명의 SnZn땜납을 미리 땜납 도금해 둔다) 등이다.In addition, the lead connection is a lead formation in which the SnZn solder of the present invention is used to solder the electrode portion (pattern) on the substrate, and a wire (a circular copper wire with the SnZn solder of the present invention is solder plated). One wire, it is easy to solder if it is squished in an oval shape), a ribbon (the SnZn solder of the present invention is pre-solder-plated on a ribbon in which a thin copper plate is cut to a width of about 1 mm), and the like.

도4는 본 발명의 납땜 설명도를 나타낸다.Fig. 4 shows a soldering explanatory diagram of the present invention.

도4의 (a)는 예비납땜예를 나타내고, 도4의 (b)는 리본 또는 와이어의 납땜예를 나타낸다.Fig. 4(a) shows an example of pre-soldering, and Fig. 4(b) shows an example of soldering a ribbon or a wire.

도4의 (a)에 있어서, 실리콘기판(silicon 基板)(11)은, 여기에서는 태양전지기판의 예이며, 상기 실리콘기판(11)의 예를 들면 이면(裏面)의 전체 면에 알루미늄 소결막(燒結膜)(12)을 형성한 것이다.In Fig. 4(a), a silicon substrate 11 is an example of a solar cell substrate here, and for example, an aluminum sintered film on the entire back surface of the silicon substrate 11 (燒結膜) (12) was formed.

알루미늄 소결막(12)은, 태양전지기판에 있는 도시한 실리콘기판(11) 이면(裏面)의 전체 면에 알루미늄 페이스트를 도포(또는, 소정의 패턴으로 스크린 인쇄)하고, 소결하여 형성된 전극(알루미늄 소결막)이다.The aluminum sintered film 12 is an electrode (aluminum) formed by applying an aluminum paste (or screen printing in a predetermined pattern) to the entire surface of the back surface of the silicon substrate 11 shown in the solar cell substrate, and sintering sintered film).

초음파 납땜인두팁(13)은, 도시하지 않은 초음파발생기로부터 초음파를 인가하면서 가열되는 납땜인두팁이다.The ultrasonic soldering iron tip 13 is a soldering iron tip that is heated while applying ultrasonic waves from an ultrasonic generator (not shown).

땜납(ABS-S)(14)은, 본 발명의 SnZn땜납(도1의 S4에서 제조된 SnZn땜납)이다.The solder (ABS-S) 14 is the SnZn solder (SnZn solder manufactured in S4 in Fig. 1) of the present invention.

다음에 납땜동작을 설명한다.Next, the soldering operation will be described.

(1)실리콘기판(11)을 예비가열대 위에 옮겨 놓고 진공흡착(眞空吸着)하여 고정하고, 예비로 가열한다(예를 들면 180℃ 정도로 예비로 가열한다).(1) The silicon substrate 11 is transferred onto a preheating table, fixed by vacuum adsorption, and preheated (for example, preheated to about 180°C).

(2)알루미늄 소결막(12)의 위에 형성되는 전극패턴(짧은 직4각형모양의 패턴) 시작점으로부터 종료점을 향하여, 도시한 초음파 납땜인두팁(13)에 땜납(14)을 자동으로 공급하고 용융하면서 초음파를 인가하여 당해 알루미늄 소결막(12) 위를 접촉되지 않을 정도로 근접시킨 상태에서 일정속도로 이동시켜, 알루미늄 소결막(12) 위에 짧은 직4각형모양의 예비납땜 패턴을 형성한다.(2) Electrode pattern (short rectangular pattern ) formed on the aluminum sintered film 12 By applying ultrasonic waves, the aluminum sintered film 12 is moved at a constant speed in a state in which it is not brought into contact with each other to form a short rectangular pre-soldered pattern on the aluminum sintered film 12 .

이상에 의하여, 본원 발명의 SnZn땜납(14)을 알루미늄 소결막(12) 위에 소정 패턴의 예비납땜 패턴을 납땜할 수 있다.As described above, the SnZn solder 14 of the present invention can be soldered with a predetermined pattern of the pre-solder pattern on the aluminum sintered film 12 .

도4의 (b)는 리본 또는 와이어의 납땜예를 나타낸다.Fig. 4B shows an example of soldering a ribbon or a wire.

도4의 (b)에 있어서, 초음파 납땜인두팁(13―1)은, 도시하지 않은 초음파발생기로부터 초음파를 인가하면서, 혹은 초음파를 인가하지 않고, 가열되는 납땜인두팁이다.In Fig. 4B, the ultrasonic soldering iron tip 13-1 is a soldering iron tip that is heated while applying ultrasonic waves from an ultrasonic generator (not shown) or without applying ultrasonic waves.

납땜 리본 또는 와이어(15)는, 리본 또는 와이어에 본원 발명의 SnZn땜납을 미리 예비납땜한 것이다. 또한 와이어(15)는 타원형으로 조금 변형시킨 것이 납땜성이 양호하다.The soldering ribbon or wire 15 is obtained by pre-soldering the SnZn solder of the present invention to the ribbon or wire in advance. In addition, the wire 15 has good solderability when it is slightly deformed into an elliptical shape.

다음에, 리본 또는 와이어의 예비납땜 패턴부분의 납땜동작을 설명한다.Next, the soldering operation of the preliminary soldering pattern portion of the ribbon or wire will be described.

(1)도4의 (a)와 동일하게, 실리콘기판(11)을 예비로 가열한다.(1) As in Fig. 4(a), the silicon substrate 11 is pre-heated.

(2)납땜 리본 또는 와이어(14)를 실리콘기판(11) 위(이면)의 알루미늄 소결막(12) 부분에 형성된 예비납땜 패턴부분을 따라 배치된 납땜 리본 또는 와이어(15)에 대하여, 위로부터 유초음파 또는 무초음파 납땜인두팁(13―1)으로 가볍게 누르면서 도시된 우측방향으로 일정속도로 이동시켜, 납땜 리본 또는 와이어(15)의 땜납을 용융하여 예비납땜 패턴부분에 납땜한다.(2) The soldering ribbon or wire 14 is placed along the pre-soldered pattern portion formed on the aluminum sintered film 12 portion on the silicon substrate 11 (the back side) of the soldering ribbon or wire 15, from above. While lightly pressing the ultrasonic or non-ultrasonic soldering iron tip 13-1, move it at a constant speed in the right direction shown to melt the solder of the solder ribbon or wire 15 and solder it to the pre-soldered pattern part.

이상에 의하여, 본원 발명의 SnZn땜납(14)을 미리 예비납땜한 리본 또는 와이어(15)를, 알루미늄 소결막(12) 위의 예비납땜 패턴의 부분에 납땜하는 것이 가능해 진다.As described above, it is possible to solder the ribbon or wire 15 to which the SnZn solder 14 of the present invention has been previously soldered to the portion of the pre-soldered pattern on the aluminum sintered film 12 .

또한, 본 발명의 유초음파 납땜이나 무초음파 납땜의 양부(良否)는, 리본 또는 와이어를 납땜 대상부분에 유초음파 납땜 혹은 무초음파 납땜을 하고, 리본 또는 와이어를 잡아 당겨서 기판 등이 깨어지는 힘보다 약간 약한 힘으로 인장(引張)하여, 기판 등으로부터 박리(剝離)되지 않을 때는 양호라고 판정하고, 박리되었을 때는 불량이라고 판정한다.In addition, the pros and cons of ultrasonic soldering or non-ultrasonic soldering of the present invention is higher than the strength of the ribbon or wire to be soldered by ultrasonic or non-ultrasonic soldering, pulling the ribbon or wire to break the board, etc. It pulls with a slightly weak force, and when it does not peel from a board|substrate etc., it determines with favorable, and when it peels, it determines with defectiveness.

도5는 본 발명의 땜납의 조성예(組成例)(ABS-S)를 나타낸다.Fig. 5 shows a composition example (ABS-S) of the solder of the present invention.

도5에 있어서, 모재, 주재료, 부재료는, 도1에서 설명한 모재, 주재료, 부재료의 구별이다.In Fig. 5, the base material, the main material, and the auxiliary material are the distinction between the base material, the main material, and the auxiliary material described in Fig. 1 .

조성예는, 모재, 주재료, 부재료의 조성예이다.The composition example is a composition example of a base material, a main material, and a subsidiary material.

wt%예는, 모재, 주재료, 부재료의 조성의 wt%의 예이다.The df% example is an example of df% of the composition of the base material, the main material, and the auxiliary material.

wt%범위는, 모재, 주재료, 부재료의 조성의 wt%의 범위예이다.The sp% range is an example of the range of p% of the composition of the base material, the main material, and the subsidiary material.

도5에 도시된 것은, 하기와 같이 조성예, wt%예, wt%범위이다.What is shown in FIG. 5 is a composition example, a df% example, and a df% range as follows.

Figure pct00001
Figure pct00001

여기에서 조성예로서, 시작에서는 모재는 도시된 Sn91wt%, Zn9wt%를 사용하였다. 또한 조성범위는, SnZn합금이 생성 가능한 범위에서 안정되면 좋고, 예를 들면 Zn 1에서부터 15 wt%, 나머지를 Sn으로 한 것으로 좋고, 생성된 SnZn 모재의 용융온도 등을 실측하여 실험으로 정하면 된다.Here, as a composition example, in the beginning, Sn91vd% and Zn9d% were used as the base material. In addition, the composition range may be stable within the range in which the SnZn alloy can be produced, for example, Zn 1 to 15 gf%, and the remainder being Sn.

재료로서, P, In, Bi, Sb 등이 있지만, P는 시작에서는 P(적린)와 CuP8합금(P가 8 wt%, 나머지가 Cu의 합금, P의 wt%는 CuP8의 8%가 되는 인화구리)을 사용하였다. 또한, P(적린)를 약 0.1 wt% 첨가(P 포화상태)하였을 경우와, CuP8 중의 P를 주재료로서 첨가하였을 경우에는 약 0.16 wt%(P 포화상태)로 많이 첨가할 필요가 있었다. P의 경우에는 약 0.1 wt%(또는 CuP8의 경우에는 약 P = 0.16 wt%)로 포화되고, 추가 첨가하면 과포화가 되어, SnZn땜납의 점성이 대폭적으로 증대해 버린다. 그 때문에 유동성, 습윤성 등을 확보하는 통상의 사용에는, P의 포화 이하의 첨가를 하는 것이 바람직하다. P의 경우에는 매우 미량(약 0.001 wt% 정도의 미량)이어도 좋다. 또한 P가 포화이거나, 과포화라도 용도에 따라 적절히 사용하면 좋다. 마찬가지로, 다른 주재료에도 그런 경향이 있으므로 필요에 따라 실험으로 최적의 첨가량을 정하면 좋다.As materials, there are P, IPF, Bi, Sb, etc., but P is P (red phosphorus) and CPF8 alloy at the beginning (P is 8 7%, the remainder is an alloy of Cu, and P % is 8% of CPF 8%) copper) was used. In addition, when about 0.1 p% of P (red phosphorus) was added (saturated with P), and when P in Cp8 was added as a main material, it was necessary to add as much as about 0.16 p% (saturated with P). In the case of P, it is saturated to about 0.1 p% (or in the case of Cp8, about P = 0.16 p%), and when it is further added, it becomes supersaturated, and the viscosity of the SnZn solder significantly increases. Therefore, it is preferable to carry out the addition of P saturation or less for normal use which ensures fluidity|liquidity, wettability, etc. In the case of P, a very trace amount (a trace amount of about 0.001 gp%) may be sufficient. Moreover, even if P is saturated or supersaturated, what is necessary is just to use it suitably according to a use. Likewise, there is a tendency for other main materials as well, so it is good to determine the optimal amount of addition by experimentation as needed.

또한 주재료의 총량은 1 내지 1.5 wt% 이하가 바람직하였다. 이 주재료의 총량 1 내지 1.5 wt% 이하를 모재(Sn91wt%,Zn9wt%)에 혼합·용융·합금화 한 본원 발명의 SnZn땜납은, 모재의 용융온도(예를 들면 195℃ 전후)에 비하여, 동일하거나 혹은 1 또는 5℃ 낮은 용융온도가 실측되었다. 이것은, 주재료의 총량 1 내지 1.5 wt% 이하가 모재(SnZn합금)의 골격 내부에 받아들여져 골격이 재구성 되어, 그 결과 용융온도가 동일하거나 혹은 저하된 것으로 추측된다. 또한, 도가니(crucible) 내에서 혼합·용융·합금화 시에 그물코 모양의 골격이 나타나고, 이것을 섞어서 전체를 용해하여 용융시키면 일정한 합금으로 되는 것이 관찰된 것으로도 추측된다.In addition, the total amount of the main material was preferably 1 to 1.5 wt% or less. The SnZn solder of the present invention obtained by mixing, melting, and alloying 1 to 1.5 wt% or less of the total amount of the main material with the base material (Sn91wd%, Zn9df%) is the same or equal to the melting temperature of the base material (for example, around 195°C). Alternatively, a lower melting temperature of 1 or 5° C. was measured, indicating that 1 to 1.5 wt% or less of the total amount of the main material was incorporated into the skeleton of the base material (SnZn alloy) and the skeleton was reconstructed, and as a result, the melting temperature was the same or lowered. In addition, it is also estimated that a mesh-shaped skeleton appears during mixing, melting, and alloying in a crucible, and when mixed and melted and melted, a certain alloy is observed.

또한 부재료는, 태양전지기판, 액정기판 등이 실리콘, 실리콘 위에 알루미늄 소결막 등이 존재하기 때문에 Si, Al, 또한 Cu(동선, 구리패턴 등), Ag(소결전극), Ni(실리콘 표면에의 니켈도금) 등을 고려하여 첨가된 것으로서, 전기적 특성(접촉전위차, 접촉저항, 태양전지의 경우에는 I-V 특성 등)이나, 또한 접합강도 등을 개선하는 것이다.In addition, sub materials include silicon, aluminum sintered film on silicon, and Cu (copper wire, copper pattern, etc.), Ag (sintered electrode), Ni (on the silicon surface). Nickel plating), etc., are added in consideration of the electrical characteristics (contact potential difference, contact resistance, IV characteristics in the case of solar cells, etc.) and also to improve bonding strength.

도6은, 본 발명의 땜납시작예를 나타낸다. 도면은, 다수의 시작 중에서, 이미 설명된 도4의 납땜에 사용이 가능한 것의 예를 나타낸다. 사용이 불가한 것은 생략하였다.Fig. 6 shows an example of a solder trial of the present invention. The drawings show examples of which, among many examples, can be used for the soldering of FIG. 4 already described. Those that cannot be used are omitted.

도6에 있어서, 본 발명의 SnZn땜납(도1의 S4에서 제조된 SnZn땜납)의 모재는, Sn91wt%, Zn9wt%를 사용하였다.In Fig. 6, as the base material of the SnZn solder of the present invention (the SnZn solder produced in S4 in Fig. 1), Sn91df% and Zn9d% were used.

부재료는, Al, Si(다른 것은 생략)를 사용하였다.As the auxiliary materials, A1 and Sq (others are omitted) were used.

주재료는, In, Bi, P(적린)는 금속재료를 사용하였다. CuP8은 P가 8 wt%이고 나머지는 Cu의 인화구리를 사용하였다. 또한, 전술한 바와 같이, CuP8을 사용한 경우에는 이 중에서 P의 첨가량을 0.16 wt% 상당량(相當量)으로 하지 않으면 포화되지 않았다(P(적린)에서는 0.1 wt%로 포화되었다).As the main materials, metal materials were used for In, Bi, and P (red phosphorus). Copper phosphide of Cu was used for CPF8, with a P of 8 p% and the remainder. In addition, as described above, when Cp8 was used, it was not saturated unless the amount of P added was 0.16 p% equivalent among them (P (red phosphorus) was saturated at 0.1 p p%).

샘플 No는 시작한 샘플의 번호이다.Sample N is the number of the sample to start.

이상의 시작 샘플 No에 대하여, 이미 설명된 도5의 유초음파 납땜과 무초음파 납땜을 하고, 양호한 것만을 기재하였다. 납땜 불가한 것은 생략하였다.With respect to the above prototype sample Ng, the ultrasonic ultrasonic soldering and non-ultrasonic soldering of FIG. 5 as already described were performed, and only the good ones were described. Items that cannot be soldered are omitted.

도7은, 본 발명의 땜납의 TC테스트 설명도를 나타낸다. 여기에서 TC테스트에 사용한 것은, 이미 설명된 도6의 샘플 No 「A-14」이다.Fig. 7 is an explanatory diagram showing a TTC test of the solder of the present invention. Here, the sample NN "A-14" of Fig. 6, which has already been described, is used for the TTC test.

도7의 (a)는, ABS-S땜납(A-14)의 TC테스트 예를 도식적으로 나타낸다. 현시점에서, TC테스트는 1000 시간을 넘었다(또한 계속중이다).Fig. 7(a) schematically shows a TTC test example of ABS-S solder (A-14). At this point, the TV test has passed (and is still ongoing) over 1000 hours.

도7의 (b)는, 샘플 사진의 예를 나타낸다. 도시한 바와 같이, 동선(銅線)을 알루미늄판, 실리콘면, 알루미늄면에 A-14를 사용하여 납땜(초음파납땜, 또는 긁힌 흠집을 내고 납땜)하였다.Fig. 7B shows an example of a sample photograph. As shown, the copper wire was soldered (ultrasonic soldering, or soldered with scratches) to an aluminum plate, a silicon surface, and an aluminum surface using A-14.

도7의 (c)는, TC테스트의 온도조건의 예를 나타낸다. 여기에서는 도시한 바와 같이, Fig. 7(c) shows an example of the temperature condition of the TTC test. As shown here,

·최대온도는 87.5℃ ·Maximum temperature is 87.5℃

·최소온도는 -24.4℃ Minimum temperature is -24.4℃

·최대습도는 98.3% ·Maximum humidity is 98.3%

·최소습도는 1.6%의 Minimum humidity of 1.6%

조건으로 TC테스트를 실시하였다.A TTC test was performed under the conditions.

도7의 (d)는, 테스트 환경과 결과의 예를 나타낸다. 여기에서는 도시한 바와 같이,7( ) shows an example of the test environment and results. As shown here,

(1)시험기간은 2019년 5월 1일부터 6월 12일(1000 시간)(1) The exam period is from May 1, 2019 to June 12, 2019 (1000 hours)

(2)동선을 알루미늄판, 실리콘판, 알루미늄면에 땜납A-14로 접합(2) Join the copper wire to the aluminum plate, silicon plate, and aluminum surface with solder A-14

(3)고온조건은 고온로에서 80℃에 넣는다. 샘플을 넣고 나서 승온시킨다.(3) For high temperature conditions, put it at 80℃ in a high-temperature furnace. After adding the sample, the temperature is raised.

(4)저온조건은 냉동고에서 -20℃에 넣는다.(4) For low temperature conditions, put it in the freezer at -20℃.

(5)교환은, 샘플을 상온에서 방치하지 않고 즉시 교체한다.(5) Exchange is performed immediately without leaving the sample at room temperature.

테스트 결과는, 땜납이 붕괴되는 일이 없어서 문제없다.As a result of the test, there is no problem because the solder does not collapse.

이상의 테스트 조건으로 1000 시간의 TC테스트를 실시한 결과, 샘플 No 「A-14」에 대하여 테스트 합격의 결과가 얻어졌다.As a result of performing the TTC test for 1000 hours under the above test conditions, the result of passing the test was obtained with respect to sample NN "A-14".

도8은, 본 발명의 땜납(A-14)의 TC테스트 예를 나타낸다.Fig. 8 shows a TTC test example of the solder (A-14) of the present invention.

도8에 있어서, 횡축은 경과시간(h)을 나타낸다. 종축은 온도(℃)/습도(%)를 나타내는 것으로서, 그래프 중의 상부 그래프는 습도를 나타내고, 하부 그래프는 온도를 나타낸다.In Fig. 8, the horizontal axis represents the elapsed time (h). The ordinate indicates temperature (°C)/humidity (%), and the upper graph in the graph indicates humidity, and the lower graph indicates temperature.

도8에 있어서, 그래프 중의 하부의 온도 그래프는, In Fig. 8, the lower temperature graph in the graph is

·고온(최대온도)이 도7의 (c)에 기재되어 있는 87.6℃ The high temperature (maximum temperature) is 87.6°C, which is described in FIG. 7(c).

·저온(최소온도)이 도7의 (c)에 기재되어 있는 -24.4℃로서, 1000 시간 경과까지의 기록을 나타낸다. The low temperature (minimum temperature) is -24.4°C described in FIG. 7(c), indicating records up to 1000 hours.

도8에 있어서, 그래프 중의 상부의 습도 그래프는, In Figure 8, the upper humidity graph in the graph,

·최대습도가 도7의 (c)에 기재되어 있는 98.3% ·The maximum humidity is 98.3% as shown in Fig. 7(c).

·최소습도가 도7의 (c)에 기재되어 있는 1.6%이며, 1000 시간 경과까지의 기록을 나타낸다. - The minimum humidity is 1.6% described in Fig. 7(c), and records up to 1000 hours have elapsed.

도9는, 본 발명의 초음파(문지름)/페이스트 예를 나타낸다. 여기에서 도9 중에서,Fig. 9 shows an example of ultrasonic (rubbing)/paste of the present invention. Here in Figure 9,

·「페이스트/초음파(문지름)」는, 본 발명의 SnZn땜납을 사용하여 납땜 대상물에 납땜하는 경우의 「유초음파로 납땜」, 「초음파 없이 인두팁으로 납땜 대상물을 문지름」, 「페이스트의 염화암모늄(NH4Cl)·수화물(水和物)(3 wt% 이하, 0.05 wt% 이상)을 사용」, 「페이스트의 염화암모늄·무수물(無水物)(3 wt% 이하, 0.05 wt% 이상)을 사용」, 「페이스트의 레진(송진)(3 wt% 이하, 0.05 wt% 이상)을 사용」 의 구별이다.・“Paste/Ultrasound (Rub)” refers to “Soldering by Ultrasonic Soldering” when soldering to an object to be soldered using the SnZn solder of the present invention, “Rubbing the object to be soldered with an iron tip without ultrasonic waves”, and “Ammonium chloride in paste ( NH4Cc)/hydrate (3 wt% or less, 0.05 wt% or more) is used”, “Ammonium chloride/anhydrous paste (3 wt% or less, 0.05 wt% or more) is used”, This is a distinction between "use of resin (resin) of paste (3 wt% or less, 0.05 wt% or more)".

ㆍ납땜 대상물은, 본 발명의 SnZn땜납을 사용하여 납땜하는 대상의 재료로서, Si(웨이퍼, 약 0.2mm 두께), 웨이퍼 상에 소결한 Al소결막, Cu(0.1mm 후판(厚板)), Al(0.1mm 후판), 스테인리스(0.1mm 후판)의 구별이다.ㆍThe object to be soldered is a material to be soldered using the SnZn solder of the present invention. It is a distinction between A1 (0.1mm thick plate) and stainless steel (0.1mm thick plate).

ㆍ◎는, 본 발명의 SnZn땜납의 납땜 대상의 밀착우량(0.4 mm

Figure pct00002
의 주석 도금선을 납땜하고 잡아 당겼을 때에 실리콘 웨이퍼가 깨어지는 힘(인장강도)일 때에 밀착우량이라고 판정)을 나타낸다.ㆍ◎ is the adhesion superiority (0.4 mm) of the SnZn solder of the present invention to the soldering target
Figure pct00002
When the silicon wafer is broken (tensile strength) when the tin-plated wire is soldered and pulled, it is judged as good adhesion).

ㆍ○는, 본 발명의 SnZn땜납의 납땜 대상의 밀착양호(0.4 mm

Figure pct00003
의 주석 도금선을 납땜하고 잡아 당겼을 때에 실리콘 웨이퍼가 깨어지는 힘 또는 조금 약한 힘(인장강도)일 때에 밀착양호라고 판정)을 나타낸다.ㆍ○ indicates good adhesion (0.4 mm
Figure pct00003
When the silicon wafer is cracked or a little weak force (tensile strength) when the tin-plated wire is soldered and pulled, it is judged as good adhesion).

ㆍ△는, 본 발명의 SnZn땜납의 납땜 대상의 밀착약(0.4 mm

Figure pct00004
의 주석 도금선을 납땜하고 잡아 당겼을 때에 즉시 벗겨지는 상태)을 나타낸다.ㆍΔ is the adhesion agent (0.4 mm
Figure pct00004
It shows the state of being immediately peeled off when the tin-plated wire is soldered and pulled.

·×는, 본 발명의 SnZn땜납의 납땜 대상에의 밀착불량을 나타낸다.* indicates the poor adhesion of the SnZn solder of the present invention to the soldering target.

이상의 도9의 실험에서, 「유초음파」, 「초음파 없이 인두팁으로 납땜 대상물을 문지름」의 경우에는 Si웨이퍼, Al소결막, Cu, Al, 스테인리스에 대하여 충분한 납땜강도가 얻어지는 것이 밝혀졌다.In the above experiment of FIG. 9, it was found that sufficient soldering strength was obtained with respect to Sq wafer, A1 sintered film, Cu, A1, and stainless steel in the case of "Ultrasound" and "Rubbing the soldering object with the iron tip without ultrasound".

또한 염화암모늄·수화물(3 wt% 이하, 0.05 wt% 이상)을 사용한 경우에는 Cu, Al의 경우에 충분한 납땜강도가 얻어지는 것이 밝혀졌다.In addition, when ammonium chloride hydrate (3 wt% or less, 0.05 wt% or more) was used, it was found that sufficient brazing strength was obtained in the case of Cu and Al.

또한 레진(송진)(3 wt% 이하, 0.05 wt% 이상)을 사용한 경우에는 Cu의 경우에 충분한 납땜강도가 얻어지는 것이 밝혀졌다.In addition, when resin (resin) (3 wt% or less, 0.05 wt% or more) was used, it was found that sufficient brazing strength was obtained in the case of Cu.

또한, 실험에 사용한 분말혼입(粉末混入)된 본 발명의 SnZn땜납은, 굵은 막대모양의 땜납 중심에 구멍(약 1-3mm 정도)을 뚫거나 혹은 칼집을 넣거나 하고, 이 구멍의 내부 혹은 홈의 내부 등에 소정량의 분말(예를 들면 염화암모늄·수화물 혹은 레진 등의 분말)을 넣고, 압연 롤러(홈이 있는 것)로 복수회 반복하여 순차적으로 가는 막대모양으로 신장시켜서, 최종적으로는 약 1 mm

Figure pct00005
정도 혹은 1mm x 1mm 정도의 실모양 땜납으로 가공(압연(壓延))한다. 이 실모양 땜납의 단면의 중심부근에서는, 상기에서 넣었던(혼입된) 분말을 관찰할 수 있다. 그리고 인두팁을 납땜 대상(예를 들면 Cu판 등, 필요에 따라 예비가열대(예를 들면 180℃)에 재치(裁置))에 대고 가열하면서 당해 실모양 땜납을 용융하고, 상기 실모양 땜납에 혼입된 분말(예를 들면 염화암모늄·수화물의 분말)을 분해하여 납땜 대상 부분의 대폭적인 밀착성의 개선을 시도하였다(예를 들면 Cu판의 경우에는 대폭적으로 밀착성을 개선할 수 있었다. 도9 참조).In addition, in the SnZn solder of the present invention mixed with powder used in the experiment, a hole (about 1-3 mm) is drilled in the center of a thick rod-shaped solder or a sheath is made, and the inside of the hole or the inside of the groove A predetermined amount of powder (for example, powder such as ammonium chloride, hydrate, or resin) is put on the back, and the rolling roller (with grooves) is repeated a plurality of times to sequentially elongate into a thin rod shape, and finally approximately 1 mm
Figure pct00005
It is processed (rolled) with a high-precision or 1mm x 1mm thread-like solder. In the vicinity of the central portion of the cross section of this thread-like solder, the above-mentioned (mixed) powder can be observed. Then, the iron tip is placed on a soldering object (eg, a Cu plate, etc., if necessary, placed on a preheating table (eg, 180° C.)) to melt the thread-like solder while heating, and to the thread-like solder. By decomposing the mixed powder (for example, powder of ammonium chloride/hydrate), an attempt was made to significantly improve the adhesiveness of the part to be brazed (for example, in the case of a Cu plate, the adhesiveness could be significantly improved. See Fig. 9 ).

1: 땜납재료
2: 땜납재료 투입접시
3: 용융로
4: 히터(11): 실리콘 기판
12: 알루미늄 소결막
13: 초음파 납땜인두팁
13-1: 유초음파또는 무초음파 납땜인두팁
14: 땜납
15: 납땜 리본 또는 와이어
1: Solder material
2: Solder material input plate
3: melting furnace
4: Heater 11: Silicon substrate
12: aluminum sintered film
13: Ultrasonic soldering iron tip
13-1: Ultrasonic or non-ultrasonic soldering iron tips
14: Solder
15: Soldering Ribbon or Wire

Claims (17)

Sn과 Zn의 합금으로 이루어지는 SnZn땜납에 있어서,
Sn과 Zn의 합금인 모재(母材)에, P, In, Bi, Sb 중에서 1개 이상을 포함하는 주재료(主材料)를 합계 1 내지 1.5 wt% 이하를 혼입하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
In the SnZn solder made of an alloy of Sn and Zn,
In the base material, which is an alloy of Sn and Zn, a total of 1 to 1.5 wt% or less of a main material containing at least one of P, INF, Bi, and Sb is mixed to melt and alloy it. SnZn solder.
제1항에 있어서,
상기 용융·합금화 한 후의 SnZn땜납의 용융온도는, 상기 모재의 용융온도와 같거나 혹은 낮은 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
According to claim 1,
SnZn solder, characterized in that the melting temperature of the SnZn solder after melting and alloying is equal to or lower than the melting temperature of the base material.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 주재료는, Sn과 Zn의 합금의 골격(骨格) 내에 합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
3. The method of claim 1 or 2,
The SnZn solder, characterized in that the main material is alloyed within the skeleton of an alloy of Sn and Zn.
제1항 내지 제3항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
Al, Si, Cu, Ag, Ni 중에서 1개 이상 혹은 1개 이상을 함유하는 글라스(glass)를 포함하는 부재료(副材料)를, 필요에 따라 5 wt% 이하를 상기 모재에 혼입하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Melting/alloying by mixing 5 wt% or less of a sub material including glass containing one or more or one or more of A1, Si, Cu, Ag, and Ni, if necessary, into the base material SnZn solder, characterized in that
제1항 내지 제4항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 주재료 및 상기 부재료로서, 상기 주재료와 상기 부재료의 합금을 상기 모재에 혼입하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
SnZn solder characterized in that, as the main material and the auxiliary material, an alloy of the main material and the auxiliary material is mixed into the base material to be melted and alloyed.
제5항에 있어서,
상기 주재료와 상기 부재료의 합금은 Cu와 P의 합금으로 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
6. The method of claim 5,
SnZn solder, characterized in that the alloy of the main material and the sub material is an alloy of Cu and P.
제1항 내지 제6항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 모재, 주재료, 부재료를 한번에 혹은 복수로 나누어서 혼합하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
SnZn solder, characterized in that the base material, the main material, and the auxiliary material are mixed at once or divided into a plurality of materials to be melted and alloyed.
제1항 내지 제7항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
태양전지기판, 액정기판의 전극에, 리드선의 땝납을 사용하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
SnZn solder characterized in that solder of lead wires is used for electrodes of solar cell substrates and liquid crystal substrates.
제1항 내지 제8항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
염화암모늄·수화물의 분말(粉末) 혹은 염화암모늄·수화물을 포함하는 분말을 3 wt% 이하로부터 0.05 wt% 이상 혼입하고, 납땜 가열시에 분해하여 피납땜 대상물에 대한 납땜 밀착도를 개선하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Ammonium chloride/hydrate powder or powder containing ammonium chloride/hydrate is mixed in from 3 wt% or less to 0.05 wt% or more, and decomposed during brazing heating to improve solder adhesion to the object to be soldered SnZn solder.
Sn과 Zn의 합금으로 이루어지는 SnZn땜납의 제조방법에 있어서,
Sn과 Zn의 합금인 모재에, P, In, Bi, Sb 중에서 1개 이상을 포함하는 주재료를 합계 1 내지 1.5 wt% 이하를 혼입하여 용융·합금화 하여 제조하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
A method for manufacturing an SnZn solder made of an alloy of Sn and Zn, the method comprising:
Method for producing SnZn solder, characterized in that the base material, which is an alloy of Sn and Zn, is melted and alloyed by mixing 1 to 1.5 wt% or less of the main material including at least one of P, In, Bi, and Sb in total. .
제10항에 있어서,
상기 용융·합금화 한 후의 SnZn땜납의 용융온도는, 상기 모재의 용융온도와 같거나 혹은 낮은 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
11. The method of claim 10,
A method for manufacturing SnZn solder, characterized in that the melting temperature of the SnZn solder after the melting and alloying is equal to or lower than the melting temperature of the base material.
제10항 또는 제11항에 있어서,
상기 주재료는, Sn과 Zn의 합금의 골격 내에 합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
12. The method of claim 10 or 11,
The method for manufacturing SnZn solder, characterized in that the main material is alloyed within the skeleton of an alloy of Sn and Zn.
제10항 내지 제12항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
Al, Si, Cu, Ag, Ni 중에서 1개 이상 혹은 1개 이상을 함유하는 글라스를 포함하는 부재료를, 필요에 따라 5 wt% 이하를 상기 모재에 혼입하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
13. The method according to any one of claims 10 to 12,
SnZn solder, characterized in that at least 5 wt% or less of a sub material containing glass containing at least one of A1, Sq, Cu, Ag, and Ni is mixed into the base material as necessary to melt and alloy it. manufacturing method.
제10항 내지 제13항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 주재료 및 상기 부재료로서, 상기 주재료와 상기 부재료의 합금을 상기 모재에 혼입하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
14. The method according to any one of claims 10 to 13,
A method for producing SnZn solder, characterized in that, as the main material and the auxiliary material, an alloy of the main material and the auxiliary material is mixed into the base material to be melted and alloyed.
제14항에 있어서,
상기 주재료와 상기 부재료의 합금으로서, Cu와 P의 합금으로 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
15. The method of claim 14,
A method for manufacturing a SnZn solder, characterized in that an alloy of Cu and P is used as an alloy of the main material and the auxiliary material.
제10항 내지 제15항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 모재, 주재료, 부재료를 한번에 혹은 복수로 나누어서 혼합하여 용융·합금화 하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
16. The method according to any one of claims 10 to 15,
A method for manufacturing SnZn solder, characterized in that the base material, the main material, and the auxiliary material are mixed at once or divided into a plurality of materials to be melted and alloyed.
제10항 내지 제16항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
상기 SnZn땜납에, 염화암모늄·수화물의 분말 혹은 염화암모늄·수화물을 포함하는 분말을 3 wt% 이하로부터 0.05 wt% 이상 혼입하고, 납땜 가열시에 분해하여 피납땜 대상물에 대한 납땜 밀착도를 개선하는 것을 특징으로 하는 SnZn땜납의 제조방법.
17. The method according to any one of claims 10 to 16,
In the SnZn solder, ammonium chloride/hydrate powder or powder containing ammonium chloride/hydrate is mixed from 3 wt% or less to 0.05 wt% or more, and decomposed during brazing heating to improve solder adhesion to the object to be soldered. A method for manufacturing SnZn solder, characterized in that
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