KR20220008326A - A container containing a temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition, a method for preserving the temporary adhesive composition, and a method for manufacturing a container containing the temporary adhesive composition - Google Patents

A container containing a temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition, a method for preserving the temporary adhesive composition, and a method for manufacturing a container containing the temporary adhesive composition Download PDF

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KR20220008326A
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세이야 마스다
나오츠구 무로
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

가접착제 조성물과 용기를 갖고, 가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며, 식 (1)을 충족시키는 상태로 가접착제 조성물이 충전된 가접착제 조성물이 든 용기, 가접착제 조성물의 보존 방법, 및 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법;
X+|85-Y|≤100 … (1)
X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율을 나타내는 충전율이며, X와 Y의 단위는 %이다.
It has a temporary adhesive composition and a container, wherein the temporary adhesive composition contains a solid content and an organic solvent containing a polystyrene-based elastomer, and a container containing the temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition in a state that satisfies Formula (1); A method for preserving an adhesive composition, and a method for manufacturing a container containing a temporary adhesive composition;
X+|85-Y|≤100 ... (One)
X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is a filling rate which shows the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in X and Y unit is %.

Description

가접착제 조성물이 충전된 가접착제 조성물이 든 용기, 가접착제 조성물의 보존 방법, 및 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법A container containing a temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition, a method for preserving the temporary adhesive composition, and a method for manufacturing a container containing the temporary adhesive composition

본 발명은, 가접착제 조성물이 충전된 가접착제 조성물이 든 용기, 가접착제 조성물의 보존 방법, 및 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a container containing a temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition, a method for preserving the temporary adhesive composition, and a method for manufacturing a container containing the temporary adhesive composition.

반도체 디바이스의 제조 공정(반도체 프로세스)은, 예를 들면, 실리콘 웨이퍼 등의 기판을 칩 또는 디바이스상으로 할 때까지의 처리 과정을 포함하고, 웨이퍼 프로세스(wafer process 또는 wafer processing)라고도 불린다. 웨이퍼 프로세스에 있어서, 실리콘 웨이퍼 등의 기판에 대하여 다양한 가공이 실시된다. 구체적으로는, 리소그래피, 불순물 원자의 주입이나 확산, 산화막 제거·형성, 드라이 에칭, 웨트 에칭, 에치백, 땜납, 도금, 스퍼터링, CVD(Chemical Vapor Deposition: 화학 증착법), PVD(Physical Vapor Deposition: 물리 증착법), CMP(Chemical Mechanical Polishing: 화학 기계 연마), 세정, 다이싱, 다이본딩, 실장, 어닐링, 패키징 등이다. 이와 같은 다양한 가공 동안에, 실리콘 웨이퍼 등의 기판을 가공 장치나 지지체에 가접착하는 경우가 있다. 즉, 실리콘 웨이퍼나 칩 등의 피가공 부재를 가접착하여, 필요한 가공을 실시한 후에 떼어내고, 다른 가공 장치의 지지체에 가접착하는 것 같은 조작을 행하는 경우가 있다.A semiconductor device manufacturing process (semiconductor process) includes a processing process until, for example, a substrate such as a silicon wafer is formed into a chip or device, and is also called a wafer process (wafer process or wafer processing). In a wafer process, various processes are performed with respect to substrates, such as a silicon wafer. Specifically, lithography, implantation or diffusion of impurity atoms, oxide film removal and formation, dry etching, wet etching, etch-back, soldering, plating, sputtering, CVD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) vapor deposition), CMP (Chemical Mechanical Polishing), cleaning, dicing, die bonding, mounting, annealing, packaging, etc. During such various processing, a substrate such as a silicon wafer is temporarily bonded to a processing apparatus or a support in some cases. That is, there are cases in which a member to be processed, such as a silicon wafer or a chip, is temporarily bonded, removed after necessary processing is performed, and an operation such as temporary bonding to a support of another processing apparatus is performed in some cases.

이와 같은 가접착제 조성물로서, 예를 들면, 특허문헌 1에는, 바이닐계 중합체와 점착 부여 수지와 경화 촉매를 소정량 배합한 경화성 조성물로 이루어지는 일액형(一液型) 첩합제이며, 경화성 조성물이 밀폐 용기에 충전되어 있는 것이 개시되어 있다. 이 기술에 의하여, 용제의 건조 공정이 불필요한 점착제를 건축 등의 시공 현장에서 직접 형성시킴으로써 점착제의 취급을 간략화함과 함께, 사용 후의 리폼 등에서의 피착체의 박리를 용이하게 할 수 있다고 기재되어 있다.As such a temporary adhesive composition, for example, in patent document 1, it is a one-component bonding agent which consists of a curable composition which mix|blended predetermined amounts of a vinyl polymer, tackifying resin, and a curing catalyst, and curable composition is sealing. It is disclosed that the container is filled. It is described that by this technology, the adhesive, which does not require a solvent drying process, is formed directly at a construction site such as a building, thereby simplifying the handling of the adhesive and facilitating the peeling of the adherend in reforming after use or the like.

또, 특허문헌 2는, 특정 습기 경화형 수지 조성물을 함유하며, 응집 파괴를 일으키지 않고 계면 박리가 가능한 접착제를 개시하고 있다. 이로써, 기체(基體)에 대한 필요한 접착성을 확보하면서, 기체로부터 용이하게 박리할 수 있는 박리 용이성을 달성할 수 있다고 기재되어 있다.Moreover, patent document 2 contains a specific moisture hardening type resin composition, and is disclosing the adhesive agent in which interfacial peeling is possible without producing|generating a cohesive failure. Thereby, it is described that the peelability which can peel easily from a base|substrate can be achieved, ensuring required adhesiveness with respect to a base|substrate.

또한, 특허문헌 3은, 특정 수소 첨가 블록 공중합체와, 폴리아이소뷰틸렌, 뷰틸 고무 및 폴리뷰텐으로부터 선택되는 중합체를 소정량 포함하는 점접착 조성물을 개시하고 있다. 이로써, 제조 시에는 높은 내열 노화성을 갖고, 실온과 저온에 있어서 높은 접착력, 높은 유지력을 가지며, 접착 경시 후에 높은 박리성, 낮은 접착 앙진(昻進), 적은 접착 잔여물, 높은 내변색성을 갖는 것으로 할 수 있다고 기재되어 있다.Moreover, Patent Document 3 discloses a specific hydrogenated block copolymer and an adhesive composition containing a predetermined amount of a polymer selected from polyisobutylene, butyl rubber, and polybutene. Thereby, it has high heat aging resistance at the time of manufacture, has high adhesive force and high holding power at room temperature and low temperature, high peelability after aging, low adhesion rise, low adhesion residue, high discoloration resistance It is described that it can be done by having.

특허문헌 1: 국제 공개공보 제2006/134997호Patent Document 1: International Publication No. 2006/134997 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2012-241080호Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-241080 특허문헌 3: 일본 공개특허공보 2016-035039호Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-035039

그런데 본 발명자들이 검토를 행한 결과, 가접착제 조성물(이하, "가접착제"라고 하는 경우가 있다)을 이용하여 캐리어 기판 등(이하, "피가공 부재"라고 하는 경우가 있다)을 가접착 내지 가고정할 때에, 가접착제 조성물에 파티클(고형분의 응집물)이 발생하는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. 그리고, 파티클이 발생하면, 접착 상태가 불균일해져 가공 품질에 영향을 줄 가능성이 있다. 또, 가접착제 조성물의 여과 시에, 필터의 막힘이 빈번하게 발생하면, 제조 효율을 저하시켜 비용에 영향을 줄지도 모른다.By the way, as a result of the present inventors studying, using a temporary adhesive composition (hereinafter, sometimes referred to as "temporary adhesive"), a carrier substrate etc. (hereinafter, sometimes referred to as "member to be processed") is temporarily adhered to thru. It turned out that particles (aggregates of solid content) may generate|occur|produce in the temporary adhesive composition at the time of setting. And, when particles are generated, the adhesion state becomes non-uniform, and there is a possibility that processing quality is affected. In addition, if the filter clogging occurs frequently during filtration of the temporary adhesive composition, the production efficiency may be lowered and the cost may be affected.

본 발명은 상기 과제의 해결을 도모하는 것이며, 가접착제 조성물을 피가공 부재 등에 적용하여 가접착막으로 했을 때에 발생하는 파티클을 억제할 수 있는, 가접착제 조성물이 든 용기, 가접착제 조성물의 보존 방법, 및 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법의 제공을 목적으로 한다.The present invention aims to solve the above problems, and can suppress particles generated when the temporary adhesive composition is applied to a member to be processed or the like to form a temporary adhesive film, a container containing a temporary adhesive composition, a method of preserving the temporary adhesive composition , and for the purpose of providing a method for manufacturing a container containing the temporary adhesive composition.

상기 과제 인식하, 예의 검토를 행한 결과, 보존 시의 파티클 발생의 억제에는, 가접착제 조성물을 용기에 충전함에 있어서, 소정의 조건에 따름으로써 상기의 과제가 해결되는 것을 알아냈다. 구체적으로는, 하기 수단 <1>에 의하여, 바람직하게는 <2> 내지 <17>에 의하여, 상기 과제는 해결되었다.As a result of earnestly examining the said subject recognition, when filling a container with a temporary adhesive composition for suppression of the particle generation at the time of storage, it discovered that the said subject was solved by complying with predetermined conditions. Specifically, by the following means <1>, preferably by <2> to <17>, the said subject was solved.

<1><1>

가접착제 조성물과 용기를 갖고,Having a temporary adhesive composition and a container,

가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며,The temporary adhesive composition includes a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent,

하기 식 (1)을 충족시키는 상태로 가접착제 조성물이 충전된 가접착제 조성물이 든 용기;A container containing a temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition in a state that satisfies the following formula (1);

[수학식 1][Equation 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율을 나타내는 충전율이며, X와 Y의 단위는 %이다.X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is a filling rate which shows the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in X and Y unit is %.

<2><2>

폴리스타이렌계 엘라스토머가 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는, <1>에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.The container with the temporary adhesive composition as described in <1> in which the polystyrene-type elastomer contains the hydrogenated polystyrene-type elastomer.

<3><3>

유기 용제가, 지방족 탄화 수소 화합물, 방향족 탄화 수소 화합물, 케톤 화합물, 및 에스터 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는, <1> 또는 <2>에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.Container containing the temporary adhesive composition according to <1> or <2>, wherein the organic solvent contains at least one compound selected from the group consisting of an aliphatic hydrocarbon compound, an aromatic hydrocarbon compound, a ketone compound, and an ester compound .

<4><4>

가접착제 조성물이 산화 방지제를 더 포함하는, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.The container with the temporary adhesive composition in any one of <1>-<3> in which the temporary adhesive composition further contains antioxidant.

<5><5>

가접착제 조성물이 계면활성제를 더 포함하는, <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.A container containing the temporary adhesive composition according to any one of <1> to <4>, wherein the temporary adhesive composition further contains a surfactant.

<6><6>

유기 용제가 방향족 탄화 수소 화합물 또는 에스터 화합물을 포함하는, <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.The container with the temporary adhesive composition in any one of <1>-<5> in which an organic solvent contains an aromatic hydrocarbon compound or an ester compound.

<7><7>

식 (1)의 분율 X가 20% 이상 90% 이하인, <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.Container containing the temporary adhesive composition in any one of <1>-<6> whose fraction X of Formula (1) is 20% or more and 90% or less.

<8><8>

식 (1)의 충전율 Y가 60% 이상 99.9% 이하인, <1> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.The container with the temporary adhesive composition in any one of <1>-<7> whose filling rate Y of Formula (1) is 60% or more and 99.9% or less.

<9><9>

가접착제 조성물은, 가접착제 조성물로 형성된 가접착막의 표면에, 플루오로카본을 포함하는 층이 형성되는 용도에 이용되는, <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.Temporary adhesive composition is a container containing the temporary adhesive composition according to any one of <1> to <8>, which is used for a use in which a layer containing fluorocarbon is formed on the surface of the temporary adhesive film formed of the temporary adhesive composition.

<10><10>

용기가, 용기의 내면에, 플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면 및 탈알칼리 처리가 실시된 접액면 중 적어도 1종의 접액면을 포함하는 유리 용기인, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.Among <1> to <9>, wherein the container is a glass container including, on an inner surface of the container, at least one liquid contact surface of a liquid contact surface made of a layer containing fluorocarbon and a liquid contact surface subjected to de-alkali treatment A container containing the temporary adhesive composition as described in any one.

<11><11>

용기가, 가접착제 조성물을 수용하는 용기 본체와, 용기 본체를 닫기 위한 덮개를 갖고,The container has a container body for accommodating the temporary adhesive composition, and a lid for closing the container body,

덮개가, 플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면을 갖는, <1> 내지 <10> 중 어느 하나에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기.A container containing the temporary adhesive composition according to any one of <1> to <10>, wherein the lid has a liquid contact surface made of a layer containing fluorocarbon.

<12><12>

가접착제 조성물을 용기에 충전하여 보존하는 방법으로서,A method of preserving the temporary adhesive composition by filling a container, the method comprising:

가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며,The temporary adhesive composition includes a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent,

하기 식 (1)을 충족시키도록, 가접착제 조성물을 용기에 충전하는, 가접착제 조성물의 보존 방법;A method for preserving a temporary adhesive composition, in which the container is filled with the temporary adhesive composition so as to satisfy the following formula (1);

[수학식 2][Equation 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율을 나타내는 충전율이며, X와 Y의 단위는 %이다.X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is a filling rate which shows the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in X and Y unit is %.

<13><13>

식 (1)의 분율 X가 20% 이상 90% 이하인, <12>에 기재된 가접착제 조성물의 보존 방법.The preservation method of the temporary adhesive composition as described in <12> whose fraction X of Formula (1) is 20 % or more and 90 % or less.

<14><14>

식 (1)의 충전율 Y가 60% 이상 99.9% 이하인, <12> 또는 <13>에 기재된 가접착제 조성물의 보존 방법.The storage method of the temporary adhesive composition as described in <12> or <13> whose filling rate Y of Formula (1) is 60 % or more and 99.9 % or less.

<15><15>

가접착제 조성물을 용기에 충전하여, 가접착제 조성물이 든 용기를 제조하는 방법으로서,A method of manufacturing a container with a temporary adhesive composition by filling a container with the temporary adhesive composition,

가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며,The temporary adhesive composition includes a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent,

하기 식 (1)을 충족시키도록, 가접착제 조성물을 용기에 충전하는, 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법;The manufacturing method of the container with a temporary adhesive composition which fills a container with a temporary adhesive composition so that following formula (1) may be satisfied;

[수학식 3][Equation 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율이며, X와 Y의 단위는 %이다.X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in in, and the unit of X and Y is %.

<16><16>

식 (1)의 분율 X가 20% 이상 90% 이하인, <15>에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법.The manufacturing method of the container with the temporary adhesive composition as described in <15> whose fraction X of Formula (1) is 20% or more and 90% or less.

<17><17>

식 (1)의 충전율 Y가 60% 이상 99.9% 이하인, <15> 또는 <16>에 기재된 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법.The manufacturing method of the container with the temporary adhesive composition as described in <15> or <16> whose filling factor Y of Formula (1) is 60% or more and 99.9% or less.

본 발명의 가접착제 조성물이 든 용기에 의하여, 가접착제 조성물을 피가공 부재 등에 적용했을 때에 발생하는 파티클을 억제할 수 있다. 또, 본 발명의 상기 보존 방법 및 상기 제조 방법에 의하여, 그와 같은 효과를 나타내는 가접착제 조성물이 든 용기를 제공할 수 있다.The container containing the temporary adhesive composition of this invention can suppress the particle which generate|occur|produces when the temporary adhesive composition is applied to a to-be-processed member etc. Moreover, according to the said preservation|save method and the said manufacturing method of this invention, the container with which the temporary adhesive composition which shows such an effect was contained can be provided.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 있어서의 가접착제 조성물이 든 용기를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 있어서의 가접착제 조성물이 든 용기를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 용기의 내면에 파티클이 발생한 상태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 반도체 장치의 제조 방법을 나타내는 제1 실시형태 (1)의 개략도이다.
도 5는 반도체 장치의 제조 방법을 나타내는 제1 실시형태 (2)의 개략도이다.
도 6은 반도체 장치의 제조 방법을 나타내는 제2 실시형태 (1)의 개략도이다.
도 7은 반도체 장치의 제조 방법을 나타내는 제2 실시형태 (2)의 개략도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the container with the temporary adhesive composition in one Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the container with the temporary adhesive composition in another embodiment of this invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing a state in which particles are generated on the inner surface of the container.
4 is a schematic diagram of the first embodiment (1) showing a method for manufacturing a semiconductor device.
Fig. 5 is a schematic diagram of the first embodiment (2) showing a method for manufacturing a semiconductor device.
6 is a schematic diagram of the second embodiment (1) showing a method of manufacturing a semiconductor device.
7 is a schematic diagram of a second embodiment (2) showing a method of manufacturing a semiconductor device.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the content of the present invention will be described in detail.

또한, 본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In addition, in this specification, the numerical range shown using "-" means the range which includes the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하고 있지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 기와 함께 치환기를 갖는 기도 포함한다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함한다.In the description of the group (atomic group) in the present specification, the description not describing substitution and unsubstitution includes a group having a substituent together with a group having no substituent. For example, "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 특별히 설명하지 않는 한, 젤 침투 크로마토그래피(GPC) 측정에 따라, 폴리스타이렌 환산값으로서 정의된다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 예를 들면, HLC-8220GPC(도소(주)제)를 이용하고, 칼럼으로서 가드 칼럼 HZ-L, TSKgel Super HZM-M, TSKgel Super HZ4000, TSKgel Super HZ3000 및 TSKgel Super HZ2000(도소(주)제) 중 어느 하나 이상을 이용함으로써 구할 수 있다. 용리액은 특별히 설명하지 않는 한, THF(테트라하이드로퓨란)를 이용하여 측정한 것으로 한다. 또, 검출은 특별히 설명하지 않는 한, UV선(자외선)의 파장 254nm 검출기를 사용한 것으로 한다.In this specification, a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) are defined as polystyrene conversion values according to a gel permeation chromatography (GPC) measurement, unless there is particular explanation. In the present specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) use, for example, HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), and as a column, a guard column HZ-L, TSKgel Super HZM- It can obtain|require by using any one or more of M, TSKgel Super HZ4000, TSKgel Super HZ3000, and TSKgel Super HZ2000 (made by Tosoh Corporation). Unless otherwise specified, the eluent is measured using THF (tetrahydrofuran). In addition, detection shall use the wavelength 254nm detector of UV ray (ultraviolet ray) unless it demonstrates in particular.

본 발명에 있어서 온도는 특별히 설명하지 않는 한 23℃이다.In the present invention, the temperature is 23°C unless otherwise specified.

본 발명에 있어서 압력은 특별히 설명하지 않는 한 기압 1013.25hPa의 값으로 한다.In the present invention, the pressure is a value of 1013.25 hPa of atmospheric pressure unless otherwise specified.

또한, 이하에 설명하는 실시형태에 있어서, 이미 참조한 도면에 있어서 설명한 부재 등에 대해서는, 도면 중에 동일 부호 혹은 상당 부호를 붙임으로써 설명을 간략화 혹은 생략한다.In addition, in embodiment described below, description is simplified or abbreviate|omitted by attaching|subjecting the same code|symbol or an equivalent code|symbol in drawing about the member etc. which were already demonstrated in the referenced drawing.

본 발명의 가접착제 조성물이 든 용기는, 가접착제 조성물과 용기를 갖고, 가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며, 하기 식 (1)을 충족시키는 상태로 상기 용기에 보존되어 있는 것을 특징으로 한다.The container containing the temporary adhesive composition of the present invention has a temporary adhesive composition and a container, and the temporary adhesive composition contains a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent, and the container in a state that satisfies the following formula (1) It is characterized in that it is preserved in

[수학식 4][Equation 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (1)에 있어서, X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도(바람직하게는 23℃)에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도(바람직하게는 23℃)에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율을 나타내는 충전율이며, X와 Y의 단위는 %이다. 본 발명에 있어서, "보존 온도"는, 용기를 보존해 두는 보존 환경의 온도를 의미한다. 또, 가접착제 조성물 중의 "고형분"은, 용제를 제외한 다른 성분을 의미한다.In the formula (1), X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, and Xb is the storage temperature of the solid content in the temporary adhesive composition (preferably at 23° C.) ), where Y is a filling rate indicating the ratio of the volume of the temporary adhesive composition to the volume of the container at the storage temperature (preferably 23° C.), and the units of X and Y are %. In the present invention, "storage temperature" means the temperature of the storage environment in which the container is stored. In addition, the "solid content" in a temporary adhesive composition means other components except a solvent.

구체적으로는, 분율 X는, 가접착제 조성물을 구성하는 유기 용제에 대한 고형분 전체의 포화 용해 농도 Xb를 보존 온도하에서 시험적으로 구하고, 가접착제 조성물에 실제로 배합한 고형분의 합계 질량의 농도 Xa(배합 농도)를 산출하여, Xa/Xb로 산출된 값을 백분율(단위: %)로 표시한 값이다. 또, 충전율 Y는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 가접착제 조성물이 든 용기에 있어서, 용기의 내부 공간 중, 가접착제 조성물에 충전된 부분을 V1로 하고, 빈 부분을 V2로 했을 때에, V1/(V1+V2)로 산출된 값을 백분율(단위: %)로 표시한 값이다.Specifically, the fraction X is obtained by experimentally obtaining the saturated dissolution concentration Xb of the entire solid content in the organic solvent constituting the temporary adhesive composition under the storage temperature, and the concentration Xa of the total mass of the solid content actually blended in the temporary adhesive composition (mixture). concentration), and the value calculated as Xa/Xb is expressed as a percentage (unit: %). Also, the filling factor Y is, when the way, a in the container of the adhesive composition, and of the inner space of the container, a charged portion in the adhesive composition to V 1, the blank portions shown to V 2 shown in Figure 1, The value calculated as V 1 /(V 1 +V 2 ) is expressed as a percentage (unit: %).

이와 같은 구성으로 함으로써, 파티클의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다. 파티클의 발생을 억제할 수 있으면, 가접착제 조성물의 여과 시에, 필터의 막힘을 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 가접착제 조성물로 형성되는 가접착막의 막면을 균일하게 할 수 있다.By setting it as such a structure, generation|occurrence|production of a particle can be suppressed effectively. If generation|occurrence|production of a particle can be suppressed, at the time of filtration of a temporary adhesive composition, clogging of a filter can be suppressed effectively. Moreover, the film surface of the temporary adhesive film formed from the temporary adhesive composition can be made uniform.

가접착제 조성물을 용기에 넣어 보존할 때에, 용기 내의 충전율이 낮은 경우에는, 용기 내의 미충전 영역의 벽면에, 파티클(고형분의 응집물)이 발생하기 쉽다(도 3, 파티클 9). 이것은, 일단 벽면에 부착된 가접착제 조성물의 미소 부분이 벽면 상에 잔류하기 쉽고 또한 건조하기 쉬운 환경이, 상기 미충전 영역에 형성되기 때문이라고 생각된다. 또한, 미충전 영역이 큰 점에서, 가접착제 조성물을 용기에 충전할 때의 분위기 중의 이물 등을 말려들게 하기 쉬운 것도, 그 요인의 하나로 생각된다. 한편, 용기 내의 충전율이 높은 경우에는, 덮개 및 용기 본체의 간극(특히, 나사부가 형성된 영역)이나 덮개의 내측면 등에, 파티클이 발생하기 쉽다. 이것은, 가접착제 조성물이 든 용기의 수송이나 운반 시의 흔들림 등에 의하여, 가접착제 조성물이 덮개 및 용기 본체의 간극에 잔류하거나 또는 덮개의 내측면에 부착되기 쉽기 때문이라고 생각된다. 즉, 가접착제 조성물에 의한 용기 내의 충전율의 조절만으로는, 파티클의 발생을 효과적으로 억제하는 것은 어려운 것을 알 수 있었다.When the temporary adhesive composition is put in a container and stored, when the filling rate in the container is low, particles (aggregates of solid content) are easily generated on the wall surface of the unfilled area in the container (FIG. 3, particle 9). This is considered to be because an environment in which a minute portion of the temporary adhesive composition once adhered to the wall surface tends to remain on the wall surface and is easy to dry is formed in the unfilled region. Moreover, since an unfilled area|region is large, it is also considered as one of the factors that it is easy to entrap the foreign material etc. in the atmosphere at the time of filling a container with a temporary adhesive composition. On the other hand, when the filling rate in the container is high, particles are likely to be generated in the gap between the lid and the container body (particularly, in the region where the thread is formed), the inner surface of the lid, and the like. This is considered to be because the temporary adhesive composition remains in the gap between the lid and the container body or tends to adhere to the inner surface of the lid due to transportation of the container containing the temporary adhesive composition or shaking during transport. That is, it turned out that it is difficult to suppress the generation|occurrence|production of a particle effectively only by adjustment of the filling rate in a container by a temporary adhesive composition.

본 발명의 가접착제 조성물이 든 용기에서는, 가접착제 조성물에 의한 용기 내의 상기 충전율 Y뿐만 아니라, 가접착제 조성물 중의 고형분 농도에 관한 상기 분율 X도 고려되고 있으며, 상기 충전율 Y 및 상기 분율 X가 상기 식 (1)을 충족시키도록, 가접착제 조성물이 용기에 충전됨으로써, 파티클의 발생이 억제되고 있다. 상기 식 (1)은, 상기 충전율 Y 및 상기 분율 X와 파티클의 발생 빈도의 관계로부터 알아낸 것이다. 상기 식 (1)로부터는, 상기 충전율 Y가 높아도 낮아도 파티클이 발생하는 경우는 있을 수 있지만, 상기 분율 X를 소정의 범위 내로 설정함으로써, 파티클의 발생을 억제하기 쉽게 할 수 있는 것을 파악할 수 있다.In the container containing the temporary adhesive composition of the present invention, not only the filling ratio Y in the container by the temporary adhesive composition but also the fraction X related to the solid content concentration in the temporary adhesive composition are considered, and the filling ratio Y and the fraction X are the formula In order to satisfy (1), generation|occurrence|production of a particle is suppressed by filling a container with a temporary adhesive agent composition. The formula (1) was found out from the relationship between the filling factor Y and the fraction X, and the frequency of occurrence of particles. From the above formula (1), it can be understood that although there may be cases where particles are generated even when the filling factor Y is high or low, the generation of particles can be easily suppressed by setting the fraction X within a predetermined range.

<식 (1)에 대하여><About formula (1)>

가접착제 조성물 중의 고형분 농도에 관한 분율 X는, 0% 초과 100% 이하이며, 10% 이상인 것이 바람직하고, 20% 이상인 것이 보다 바람직하며, 30% 이상인 것이 더 바람직하고, 50% 이상인 것이 한층 바람직하며, 70% 이상인 것이 보다 한층 바람직하고, 75% 이상이어도 된다. 상한으로서는, 99% 이하인 것이 바람직하고, 96% 이하인 것이 보다 바람직하며, 90% 이하인 것이 더 바람직하고, 89% 이하인 것이 한층 바람직하며, 87% 이하인 것이 보다 한층 바람직하다.The fraction X regarding the solid content concentration in the temporary adhesive composition is more than 0% and 100% or less, preferably 10% or more, more preferably 20% or more, still more preferably 30% or more, still more preferably 50% or more, , more preferably 70% or more, and may be 75% or more. The upper limit is preferably 99% or less, more preferably 96% or less, still more preferably 90% or less, still more preferably 89% or less, and still more preferably 87% or less.

충전율 Y는, 보존 온도(바람직하게는 23℃)에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율이다. Y는 0% 초과 100% 이하이며, 60% 이상인 것이 바람직하고, 61% 이상인 것이 보다 바람직하며, 65% 이상인 것이 더 바람직하고, 70% 이상인 것이 한층 바람직하며, 80% 이상인 것이 보다 한층 바람직하다. 상한으로서는, 99.9% 이하인 것이 바람직하고, 98% 이하인 것이 보다 바람직하며, 95% 이하인 것이 더 바람직하고, 90% 이하인 것이 한층 바람직하다.The filling factor Y is the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in storage temperature (preferably 23 degreeC). Y is more than 0% and 100% or less, preferably 60% or more, more preferably 61% or more, still more preferably 65% or more, still more preferably 70% or more, and still more preferably 80% or more. As an upper limit, it is preferable that it is 99.9 % or less, It is more preferable that it is 98 % or less, It is more preferable that it is 95 % or less, It is still more preferable that it is 90 % or less.

예를 들면, 도 1에 나타낸 가접착제 조성물이 든 용기는, 충전율 Y가 90% 정도인 예이다. 즉, 용기의 내부 공간 중, 가접착제 조성물에 충전된 부분(V1)에 대하여, 빈 부분(V2)이 작은 예이다. 이 상태로, 예를 들면 고형분 농도에 관한 상기 분율 X가 80%일 때, 이것을 식 (1)의 좌변에 대입하면 100을 하회한다. 따라서, 이 예는, 파티클이 발생하기 어려운 양호한 보존이 가능한 상태라고 할 수 있다.For example, the container with the temporary adhesive composition shown in FIG. 1 is an example in which the filling factor Y is about 90%. That is, in the internal space of a container , with respect to the part (V 1 ) filled with the temporary adhesive composition, the empty part (V 2 ) is an example where it is small. In this state, for example, when the fraction X with respect to the solid content concentration is 80%, it will be less than 100 by substituting this into the left side of the formula (1). Therefore, it can be said that this example is a state in which good storage is possible in which particles are less likely to be generated.

한편, 비교를 위한 양태인 도 3은, 충전율 Y가 50% 정도인 예이다. 즉, 상기 V1의 부분에 대하여, 상기 V2의 부분이 큰 예이다. 예를 들면 상기 분율 X가 80%일 때, 식 (1)의 좌변은 100을 상회한다. 따라서, 이 예는, 파티클이 발생할 개연성이 높은 상태라고 할 수 있다.On the other hand, FIG. 3 which is an aspect for comparison is an example in which the filling factor Y is about 50%. That is, the portion of V 2 is larger than the portion of V 1 . For example, when the fraction X is 80%, the left side of Equation (1) exceeds 100. Therefore, this example can be said to be a state in which the probability of generating particles is high.

본 발명에 있어서, 파티클의 발생을 억제하는 관점에서, 상기 식 (1)의 우변은 100이지만, 98인 것이 바람직하고, 95인 것이 보다 바람직하며, 92인 것이 더 바람직하다.In this invention, from a viewpoint of suppressing generation|occurrence|production of a particle, although the right side of said Formula (1) is 100, it is preferable that it is 98, It is more preferable that it is 95, It is still more preferable that it is 92.

<가접착제 조성물의 보존><Preservation of Temporary Adhesive Composition>

본 발명에 있어서 가접착제 조성물은, 용기에 충전되어 보존된다. 용기로의 보존이란, 가접착제 조성물을 용기 내에 가두듯이 보존하는 것을 말하고, 예를 들면, 유리병에 가접착제 조성물을 주입하여 덮개를 하는 양태 등이 예시된다. 즉, 보존 중에는, 용기의 내부와 외부가 공간으로서 구획되어 있다.In the present invention, the temporary adhesive composition is stored in a container. Preservation in a container means to preserve|save the temporary adhesive composition so as to be confined in a container, for example, the aspect etc. which inject|pour a temporary adhesive composition into a glass bottle and cover are illustrated. That is, during storage, the inside and the outside of the container are partitioned as spaces.

가접착제 조성물이 충전된 후의 가접착제 조성물이 든 용기는, 소정의 온도 범위의 환경하에서 보존하는 것이 바람직하다. 이 때의 보존 온도는, 5℃ 이상 38℃ 이하인 것이 바람직하고, 15℃ 이상 28℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 이 때의 보존 기간은, 0.5시간 이상 180일 이하인 것이 바람직하고, 1시간 이상 90일 이하인 것이 보다 바람직하다. 가접착제 조성물이 든 용기는, 비용의 관점에서, 대기 중에서 보존하는 것이 바람직하다. 용기 밖의 보존 환경의 압력은, 0.9atm 이상 1.1atm 이하인 것이 바람직하고, 0.95atm 이상 1.05atm 이하인 것이 보다 바람직하다. 덮개를 한 후의 용기 내의 압력은, 0.9atm 이상 1.1atm 이하인 것이 바람직하고, 0.95atm 이상 1.05atm 이하인 것이 보다 바람직하다. 1atm은, 1013.25hPa이다.It is preferable to preserve|save the container with the temporary adhesive composition after being filled with the temporary adhesive composition in the environment of a predetermined|prescribed temperature range. It is preferable that they are 5 degreeC or more and 38 degrees C or less, and, as for the storage temperature at this time, it is more preferable that they are 15 degrees C or more and 28 degrees C or less. Moreover, it is preferable that they are 0.5 hour or more and 180 days or less, and, as for the storage period at this time, it is more preferable that they are 1 hour or more and 90 days or less. It is preferable to preserve|save the container with a temporary adhesive composition in air|atmosphere from a viewpoint of cost. It is preferable that they are 0.9 atm or more and 1.1 atm or less, and, as for the pressure of the storage environment outside a container, it is more preferable that they are 0.95 atm or more and 1.05 atm or less. It is preferable that they are 0.9 atm or more and 1.1 atm or less, and, as for the pressure in the container after covering, it is more preferable that they are 0.95 atm or more and 1.05 atm or less. 1 atm is 1013.25 hPa.

<용기><Courage>

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 있어서의 가접착제 조성물이 든 용기를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시형태의 용기(10)는 용기 본체(2)와 덮개로 구성되어 있다. 용기 본체(2)는, 그 머리부에 주입구(7)를 갖고, 거기에 나사부(8)가 마련되어 있다. 나사부에 의하여, 덮개가 감합하도록 되어 있고, 이로써 용기가 밀봉 혹은 밀폐되어, 가접착제 조성물이 충전 보존된다. 덮개는 외측 덮개(4)와 내측 덮개(3)로 구성되어 있다. 용기(10)에는 가접착제 조성물(1)이 충전되어 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the container with the temporary adhesive composition in one Embodiment of this invention. The container 10 of this embodiment is comprised from the container main body 2 and the cover. The container body 2 has an injection port 7 in its head, and the screw part 8 is provided there. By means of the screw portion, the lid is fitted, whereby the container is sealed or hermetically sealed, and the temporary adhesive composition is filled and stored. The cover is composed of an outer cover 4 and an inner cover 3 . The container 10 is filled with the temporary adhesive composition 1 .

용기는 특별히 한정되지 않지만, 유리 용기(이른바 유리병), 각종 플라스틱 용기, 알루미늄 등의 금속 용기, 세라믹 용기 등도 적합하게 이용할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 입수의 용이성이나 취급성, 또 본 발명의 효과가 보다 높게 나타나기 때문에, 유리 용기를 이용하는 것이 바람직하다. 용기 본체 및 덮개 각각의 재질은, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 따라서, 예를 들면 유리 용기란, 이른바 유리병 등이 상정되지만, 용기의 일부가 유리 이외의 재료로 형성되어 있는 용기도 포함하는 의미이다.Although the container is not specifically limited, A glass container (so-called glass bottle), various plastic containers, metal containers, such as aluminum, a ceramic container, etc. can be used suitably. In this invention, since the easiness of an acquisition, handleability, and the effect of this invention appear more highly, it is preferable to use a glass container. The material of each of the container body and the lid may be the same as or different from each other. Therefore, for example, although a so-called glass bottle etc. are assumed with a glass container, the meaning also includes the container in which a part of a container is formed from materials other than glass.

용기의 크기(용량)는 특별히 한정되지 않는, 본 발명의 효과를 나타내며, 이런 종류의 약품에 통상 적용되고 있는 것을 고려하면, 0.2L(리터) 이상인 것이 바람직하고, 0.95L 이상인 것이 보다 바람직하며, 3.0L 이상인 것이 더 바람직하다. 상한값으로서는, 18L 이하인 것이 바람직하고, 10L 이하인 것이 보다 바람직하며, 4L 이하인 것이 더 바람직하다.The size (capacity) of the container exhibits the effect of the present invention, which is not particularly limited, and is preferably 0.2L (liter) or more, more preferably 0.95L or more, considering that it is usually applied to this kind of drug, It is more preferable that it is 3.0L or more. As an upper limit, it is preferable that it is 18 L or less, It is more preferable that it is 10 L or less, It is more preferable that it is 4 L or less.

용기의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 도 1에 나타낸 바와 같이, 몸체부는 원기둥을 기조로 하여, 완만하게 축경함으로써 견부(肩部)가 형성되고, 그 견부를 거친 머리부에 주입구(7)를 갖는 형상을 채용할 수 있다. 용기의 몸체부에 있어서의 단면(斷面)(원통축에 수직인 단면)의 직경(내경)은, 가장 큰 단면에서, 예를 들면, 4cm 이상인 것이 바람직하고, 6.5cm 이상인 것이 보다 바람직하며, 9.5cm 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은 특별히 없지만 17.0cm 이하인 것이 실제적이다. 주입구(7)에 있어서의 단면의 직경(내경)은 예를 들면, 1.0cm 이상인 것이 바람직하고, 2.0cm 이상인 것이 보다 바람직하며, 2.5cm 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은 특별히 없지만 10cm 이하인 것이 실제적이다. 몸체부의 높이(내부의 바닥부부터 주입구 하부까지의 길이)는 예를 들면, 11cm 이상인 것이 바람직하고, 13cm 이상인 것이 보다 바람직하며, 20cm 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은 특별히 없지만 33cm 이하인 것이 실제적이다. 주입구(7)의 길이는 예를 들면, 0.2cm 이상인 것이 바람직하고, 1.0cm 이상인 것이 보다 바람직하며, 2.0cm 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은 특별히 없지만 5.0cm 이하인 것이 실제적이다. 용량이 큰 갤런병 등에서는, 주입구의 가까이의 몸체부에 손잡이를 마련해도 된다.The shape of the container is not particularly limited. For example, as shown in Fig. 1, the body part is based on a cylinder, and the shoulder part is formed by gently reducing the diameter, and a shape having an injection port 7 in the head having the shoulder part can be adopted. have. The diameter (inner diameter) of the cross section (the cross section perpendicular to the cylindrical axis) in the body of the container is, for example, preferably 4 cm or more, more preferably 6.5 cm or more, It is more preferable that it is 9.5 cm or more. Although there is no particular upper limit, it is practical that it is 17.0 cm or less. The diameter (inner diameter) of the cross section of the injection port 7 is, for example, preferably 1.0 cm or more, more preferably 2.0 cm or more, and still more preferably 2.5 cm or more. Although there is no particular upper limit, it is practical that it is 10 cm or less. The height of the body (the length from the bottom of the inner part to the lower part of the inlet) is, for example, preferably 11 cm or more, more preferably 13 cm or more, and still more preferably 20 cm or more. Although there is no particular upper limit, it is practical that it is 33 cm or less. The length of the inlet 7 is, for example, preferably 0.2 cm or more, more preferably 1.0 cm or more, and still more preferably 2.0 cm or more. Although there is no particular upper limit, it is practical that it is 5.0 cm or less. In the case of a large-capacity gallon bottle or the like, a handle may be provided in the body portion near the inlet port.

용기는, 또, 광에 의한 가접착제 조성물의 변질이 보다 효과적으로 억제되도록, 차광 기능을 갖는 것이 바람직하다. 특히, 용기는, 자외선, 가시광선 및 적외선(예를 들면, 파장 290~1100nm의 광)을 차단할 수 있는 것이 바람직하다. 또한, 용기는, 불투명, 무색 반투명 또는 유색 투명한 것이 바람직하고, 유색 투명한 것이 보다 바람직하며, 갈색이고 투명한 것이 특히 바람직하다.It is preferable that the container also has a light-shielding function so that the quality change of the temporary adhesive composition by light may be suppressed more effectively. In particular, it is preferable that the container can block ultraviolet rays, visible rays and infrared rays (for example, light having a wavelength of 290 to 1100 nm). Further, the container is preferably opaque, colorless translucent or colored transparent, more preferably colored transparent, and particularly preferably brown and transparent.

용기의 머리부에는 주입구(7)가 있고 나사부(8)가 있는 것이 통상이다. 나사부(8)가 형성되어 있는 영역의 원통축 방향의 길이는, 덮개부의 높이에 상당하고, 내측부에서 0.9mm 이상 1.5mm 이하인 것이 통상이다. 본 발명에 의하면, 이와 같은 나사부(8)로의 액부착 및 건조에 의한 파티클의 발생을 효과적으로 억제 내지 방지할 수 있다.The head of the container usually has an inlet (7) and a thread (8). The length in the cylindrical axial direction of the area|region in which the screw part 8 is formed corresponds to the height of a cover part, and it is normal that they are 0.9 mm or more and 1.5 mm or less in the inner part. According to the present invention, it is possible to effectively suppress or prevent the generation of particles due to the liquid adhesion to the screw portion 8 and the drying thereof.

<<용기 내면의 표면 처리>><<Surface treatment of the inner surface of the container>>

본 발명에 이용되는 용기(10)의 내면(2a)은 표면 처리되어 있는 것이 바람직하다. 예를 들면, 용기(10)는, 그 내면에 있어서, 플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면 및 탈알칼리 처리가 실시된 접액면 중 적어도 1종의 접액면을 포함하는 유리 용기인 것이 바람직하다. 이와 같이, 용기 내면(2a)에 소정의 표면 처리를 실시함으로써, 파티클의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.It is preferable that the inner surface 2a of the container 10 used for this invention is surface-treated. For example, it is preferable that the container 10 is a glass container including, on its inner surface, at least one liquid contact surface among a liquid contact surface made of a layer containing fluorocarbon and a liquid contact surface to which dealkalization has been applied. do. In this way, generation of particles can be more effectively suppressed by subjecting the inner surface of the container 2a to a predetermined surface treatment.

플루오로카본은, 예를 들면, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 및 PFA(테트라플루오로에틸렌과 퍼플루오로알킬바이닐에터의 공중합체) 등의 불소 수지인 것이 바람직하다.The fluorocarbon is preferably a fluororesin such as PTFE (polytetrafluoroethylene) and PFA (copolymer of tetrafluoroethylene and perfluoroalkyl vinyl ether).

플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면은, 예를 들면, 유리 용기의 내측 벽면을 내약품성의 시트나 코팅재에 의하여 피복함으로써, 원하는 접액면을 형성할 수 있다. 내약품성의 시트나 코팅재는, 플루오로카본 이외에, 폴리아마이드 수지 및 실리콘 수지 중 적어도 1종을 포함해도 된다. 용기의 내측 벽면이 내약품성의 시트나 코팅재에 의하여 피복되어 있음으로써, 양호한 보존 안정성을 확보하는 것이 가능해진다. 또, 플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면을 갖는 용기로서는, 피복된 유리 용기 이외에, 불소 수지로 이루어지는 용기, 또는, 내면이 불소 수지 코팅된 플라스틱 용기 등을 이용할 수도 있다.A desired liquid contact surface can be formed by coating the inner wall surface of a glass container with a chemical-resistant sheet|seat or a coating material, for example for the liquid contact surface which consists of a layer containing a fluorocarbon. The chemical-resistant sheet|seat and coating material may contain at least 1 sort(s) of a polyamide resin and a silicone resin other than a fluorocarbon. When the inner wall surface of a container is coat|covered with the chemical-resistant sheet|seat or a coating material, it becomes possible to ensure favorable storage stability. In addition to the coated glass container, a container made of a fluororesin, a plastic container having an inner surface coated with a fluororesin, or the like can be used as the container having a liquid contact surface made of a layer containing fluorocarbon.

탈알칼리 처리가 실시된 접액면은, 충전 전에 15MΩ·cm 이상의 전기 저항의 초순수를 이용하여 내부를 세정하여 표면의 금속 이온 성분을 제거한 후에, 건조시킨 것인 것이 바람직하다.It is preferable that the contact surface to which the dealkalization treatment was performed is dried after washing the inside with ultrapure water having an electrical resistance of 15 MΩ·cm or more to remove the metal ion component on the surface before charging.

도 2는, 용기(20)의 내면(2a)에 표면 처리를 실시한 실시형태를 나타낸 것이며, 용기 본체(2)의 기부(基部)(21)의 내측에 불소 코팅의 피복층(22)을 마련한 것이다. 도 2의 형태에서는, 또한 덮개가 내측 덮개(3)와 외측 덮개(4)로 구성되어 있고, 내측 덮개(3)의 기부(31)의 내면에 불소 코팅의 피복층(32)이 마련되어 있다. 불소 코팅의 피복층(22 및 32)의 두께는 예를 들면, 각각 독립적으로 5~1000μm인 것이 바람직하고, 10~500μm인 것이 보다 바람직하다.Fig. 2 shows an embodiment in which the inner surface 2a of the container 20 is surface-treated, and a fluorine-coated coating layer 22 is provided inside the base 21 of the container body 2 . In the form of FIG. 2 , the cover further includes an inner cover 3 and an outer cover 4 , and a fluorine-coated coating layer 32 is provided on the inner surface of the base 31 of the inner cover 3 . The thickness of the coating layers 22 and 32 of the fluorine coating is, for example, each independently preferably 5 to 1000 μm, more preferably 10 to 500 μm.

<<덮개>><<Cover>>

덮개의 크기나 형상, 재질은 일반적인 것이면 된다. 덮개의 직경은 예를 들면 15mm 이상 45mm 이하인 것이 통상이다. 덮개의 재질은, 폴리올레핀(HDPE(고밀도 폴리에틸렌) 등의 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌(PP)) 등을 들 수 있다.The size, shape, and material of the cover may be general. It is normal that the diameter of a cover is 15 mm or more and 45 mm or less, for example. Examples of the material of the cover include polyolefin (polyethylene or polypropylene (PP) such as HDPE (high-density polyethylene)).

덮개가 내측 덮개를 갖는 것은 필수는 아니지만, 덮개는 내측 덮개를 갖는 것이 바람직하다. 내측 덮개의 재질로서는 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌을 들 수 있다. 외측 덮개나 내측 덮개의 내면에는, 내약품성을 향상시키는 표면 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 이 처리로서는, 예를 들면, 상기 용기 내면의 표면 처리의 내용과 동일한 처리를 들 수 있다.It is not necessary for the lid to have an inner lid, but it is preferred that the lid has an inner lid. Examples of the material of the inner cover include polyethylene and polypropylene. It is preferable that the inner surface of an outer cover or an inner cover is surface-treated for improving chemical-resistance. As this process, the process similar to the content of the said surface treatment of the said container inner surface is mentioned, for example.

<가접착제 조성물><Temporary adhesive composition>

가접착제 조성물은, 피가공 부재 등을 지지체 등에 일시적으로 유지하기 위하여, 이들을 가접착하기 위하여 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서의 가접착제 조성물은, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함한다. 고형분으로서는, 폴리스타이렌계 엘라스토머 등의 수지, 산화 방지제, 계면활성제, 이형제 및 다른 첨가제를 들 수 있다. 이하, 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.The temporary adhesive composition can be used for temporarily holding a member to be processed or the like on a support or the like, and for temporarily adhering them. The temporary adhesive composition in this invention contains the solid content containing a polystyrene-type elastomer, and an organic solvent. Examples of the solid content include resins such as polystyrene-based elastomers, antioxidants, surfactants, mold release agents, and other additives. Hereinafter, each component is demonstrated in detail.

<<폴리스타이렌계 엘라스토머>><<Polystyrene-based elastomer>>

폴리스타이렌계 엘라스토머는 스타이렌과 다른 모노머의 블록 공중합체인 것이 바람직하고, 편 말단 또는 양 말단이 스타이렌 블록인 스타이렌 블록 공중합체가 특히 바람직하다. 또, 폴리스타이렌계 엘라스토머는, 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머인 것이 바람직하고, 폴리스타이렌의 블록 공중합체의 수소 첨가물인 것이 보다 바람직하다. 수지가 수소 첨가물이면, 열안정성이나 보존 안정성이 향상된다. 나아가서는, 박리성 및 박리 후의 가접착막의 세정 제거성이 향상된다. 또한, 수소 첨가물이란 수소 첨가된 구조의 중합체를 의미한다. 또, 가접착제 조성물에 폴리스타이렌계 엘라스토머를 사용함으로써, 캐리어 기재나 디바이스 웨이퍼(피가공 부재)의 미세한 요철에도 추종하여, 적절한 앵커 효과에 의하여, 접착성이 우수한 가접착막을 형성할 수 있다. 또, 스타이렌 블록 코폴리머 유닛 도입에 의한 성막 후의 층의 강성률의 향상과 성막 필름 가공성의 향상, 및 성막 후의 층의 레지스트, 감광성 폴리이미드 용제, 클리너 용제 등으로의 내용제성이 향상된다는 관점에서, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 함유하는 가접착제 조성물에 있어서 특히 본 발명의 구성을 채용함으로써, 그 높은 효과를 발휘한다.The polystyrene-based elastomer is preferably a block copolymer of styrene and other monomers, and particularly preferably a styrene block copolymer in which one or both ends are styrene blocks. Moreover, it is preferable that it is a hydrogenated polystyrene-type elastomer, and, as for a polystyrene-type elastomer, it is more preferable that it is a hydrogenated substance of the block copolymer of polystyrene. When resin is a hydrogenated substance, thermal stability and storage stability will improve. Furthermore, peelability and the cleaning removability of the temporary adhesive film after peeling improve. In addition, a hydrogenated substance means the polymer of the hydrogenated structure. In addition, by using the polystyrene-based elastomer in the temporary adhesive composition, it is possible to form a temporary adhesive film excellent in adhesion by following the fine irregularities of the carrier substrate or the device wafer (member to be processed), and by an appropriate anchor effect. In addition, from the viewpoint of improving the rigidity of the layer after film formation and improving the film forming processability by introducing the styrene block copolymer unit, and improving the solvent resistance of the layer after film formation to resist, photosensitive polyimide solvent, cleaner solvent, etc., In the temporary adhesive composition containing a polystyrene-type elastomer, the high effect is exhibited especially by employ|adopting the structure of this invention.

또한, 본 명세서에 있어서, 엘라스토머란, 탄성 변형을 나타내는 폴리머를 나타낸다. 즉 외력을 가했을 때에, 그 외력에 따라 순간적으로 변형되고, 또한 외력을 제거했을 때에는, 단시간에 원래의 형상을 회복하는 성질을 갖는 폴리머라고 정의한다.In addition, in this specification, an elastomer shows the polymer which shows elastic deformation. That is, when an external force is applied, it is instantaneously deformed according to the external force, and when the external force is removed, it is defined as a polymer having a property of recovering its original shape in a short time.

또, 본 명세서에 있어서, "접착성"이란 "단순히 고압에서 접착하면 높은 접착력을 부여하는" 성능뿐만 아니라, "저압에서의 접착(예를 들면, 0.4MPa에서의 저압 접착)에 대해서도 충분히 높은 접착력을 부여하는" 성능도 포함한다고 정의한다.In addition, in this specification, "adhesiveness" means not only the performance of "providing high adhesive force when simply bonding at high pressure" but also "adhesive force high enough for adhesion at low pressure (for example, low pressure adhesion at 0.4 MPa)" It is defined to include the performance of “giving

폴리스타이렌계 엘라스토머의 중량 평균 분자량은, 2,000~200,000이 바람직하고, 10,000~200,000이 보다 바람직하며, 50,000~100,000이 더 바람직하다. 중량 평균 분자량이 이 범위에 있는 엘라스토머는, 용제로의 용해성이 우수하기 때문에, 캐리어 기재를 디바이스 웨이퍼로부터 박리한 후, 용제를 이용하여, 디바이스 웨이퍼나 캐리어 기재에 잔존하는 엘라스토머 유래의 잔사를 제거할 때, 잔사가 용이하게 용제에 용해되어 제거된다. 이 때문에, 디바이스 웨이퍼나 캐리어 기재 등에 잔사가 남지 않는 등의 이점이 있다. 다른 한편, 접착성의 관점에서는 그런대로 높은 분자량의 것이 바람직하지만, 고분자량이 되면 엘라스토머는 용제로부터 유리하기 쉬워진다. 따라서, 본 발명의 구성을 채용함으로써 높은 분자량의 엘라스토머에서도 품질을 유지하여 사용할 수 있어, 고접착성과 고품질을 양립하기 쉬워져 바람직하다.2,000-200,000 are preferable, as for the weight average molecular weight of a polystyrene-type elastomer, 10,000-200,000 are more preferable, 50,000-100,000 are still more preferable. Since the elastomer having a weight average molecular weight in this range has excellent solubility in a solvent, after peeling the carrier substrate from the device wafer, the solvent is used to remove the elastomer-derived residue remaining on the device wafer or carrier substrate. In this case, the residue is easily dissolved in the solvent and removed. For this reason, there exists an advantage that a residue does not remain on a device wafer, a carrier base material, etc. On the other hand, from the viewpoint of adhesiveness, it is preferable to have a high molecular weight. However, when the molecular weight is high, the elastomer is easily released from the solvent. Therefore, by employing the structure of the present invention, even a high molecular weight elastomer can be used while maintaining its quality, which is preferable because it is easy to achieve both high adhesiveness and high quality.

본 발명에 있어서, 엘라스토머는, 23℃로부터, 20℃/분의 승온 속도로 승온했을 때의 5% 열질량 감소 온도가, 250℃ 이상인 것이 바람직하고, 300℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 350℃ 이상인 것이 더 바람직하고, 400℃ 이상인 것이 한층 바람직하다. 또, 상한값은 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 1000℃ 이하가 바람직하고, 800℃ 이하가 보다 바람직하다. 이 양태에 의하면, 내열성이 우수한 가접착막을 형성하기 쉽다.In the present invention, the elastomer has a 5% thermal mass decrease temperature when the temperature is raised from 23°C at a temperature increase rate of 20°C/min, preferably 250°C or higher, more preferably 300°C or higher, and 350°C or higher. It is more preferable, and it is still more preferable that it is 400 degreeC or more. Moreover, although there is no limitation in particular as for an upper limit, For example, 1000 degrees C or less is preferable and 800 degrees C or less is more preferable. According to this aspect, it is easy to form the temporary adhesive film excellent in heat resistance.

폴리스타이렌계 엘라스토머로서는, 폴리스타이렌-폴리(에틸렌/프로필렌) 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리(아이소프렌-스타이렌) 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리뷰타다이엔-폴리스타이렌 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리(뷰타다이엔-뷰틸렌)-폴리스타이렌 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리(에틸렌-프로필렌) 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리(에틸렌-뷰틸렌)-폴리스타이렌 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리(에틸렌-프로필렌)-폴리스타이렌 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리아이소프렌-폴리스타이렌 블록 공중합체, 폴리스타이렌-폴리(에틸렌-에틸렌-프로필렌)-폴리스타이렌 블록 코폴리머, 폴리스타이렌-폴리(에틸렌-에틸렌/프로필렌)-폴리스타이렌 블록 공중합체로 이루어지는 군 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.As the polystyrene-based elastomer, polystyrene-poly(ethylene/propylene) block copolymer, polystyrene-poly(isoprene-styrene) block copolymer, polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymer, polystyrene-poly(butadiene) -butylene)-polystyrene block copolymer, polystyrene-poly(ethylene-propylene) block copolymer, polystyrene-poly(ethylene-butylene)-polystyrene block copolymer, polystyrene-poly(ethylene-propylene)-polystyrene block copolymer , polystyrene-polyisoprene-polystyrene block copolymer, polystyrene-poly(ethylene-ethylene-propylene)-polystyrene block copolymer, polystyrene-poly(ethylene-ethylene/propylene)-polystyrene block copolymer of at least one kind from the group consisting of It is preferable to include

폴리스타이렌계 엘라스토머에 있어서의, 스타이렌 유래의 구성 단위의 비율은 90질량% 이하가 바람직하고, 55질량% 이하가 보다 바람직하며, 48질량% 이하가 더 바람직하고, 35질량% 이하가 한층 바람직하며, 33질량% 이하가 보다 한층 바람직하다. 상기 스타이렌 유래의 구성 단위의 비율의 하한은, 0질량%를 초과하는 값이면 되고, 예를 들면 10질량% 이상으로 할 수도 있다. 이와 같은 범위로 함으로써, 적층체, 예를 들면, 피가공 부재 등, 가접착막 및 지지체를 갖는 적층체의 휨을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.In the polystyrene-based elastomer, the proportion of structural units derived from styrene is preferably 90 mass % or less, more preferably 55 mass % or less, still more preferably 48 mass % or less, and still more preferably 35 mass % or less, , 33 mass % or less is still more preferable. The lower limit of the ratio of the structural unit derived from styrene may be a value exceeding 0 mass %, and may be, for example, 10 mass % or more. By setting it as such a range, the curvature of a laminated body, for example, a laminated body which has a temporary adhesive film, such as a to-be-processed member, and a support body can be suppressed more effectively.

스타이렌 유래의 구성 단위의 비율의 계산 방법은, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0121에 기재된 방법에 따른다.The calculation method of the ratio of the structural unit derived from styrene follows the method of paragraph 0121 of International Publication No. 2017/150320.

본 발명에 있어서의 폴리스타이렌계 엘라스토머의 일 실시형태로서, 스타이렌 유래의 구성 단위를 전체 구성 단위 중에 10질량% 이상 55질량% 이하의 비율로 함유하는 엘라스토머 A와, 스타이렌 유래의 구성 단위를 전체 구성 단위 중에 55질량% 초과 95질량% 이하의 비율로 함유하는 엘라스토머 B를 조합하여 이용하는 것을 들 수 있다. 엘라스토머 A와 엘라스토머 B를 병용함으로써, 휨의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다. 상기 엘라스토머 B는, 비교적 단단한 재료이기 때문에, 엘라스토머 B를 포함함으로써, 박리성이 우수한 가접착막을 제조할 수 있다. 엘라스토머 A와 엘라스토머 B를 배합하는 경우의 질량비는, 엘라스토머 A:엘라스토머 B=1:99~99:1이 바람직하고, 3:97~97:3이 보다 바람직하며, 5:95~95:5가 더 바람직하고, 10:90~90:10이 한층 바람직하다. 상기 범위이면, 상술한 효과가 보다 효과적으로 얻어진다.As one embodiment of the polystyrene-based elastomer in the present invention, the elastomer A containing styrene-derived structural units in a ratio of 10% by mass or more and 55% by mass or less in the total structural units, and styrene-derived structural units are all What is used combining the elastomer B contained in the ratio of more than 55 mass % and 95 mass % or less in a structural unit is mentioned. By using elastomer A and elastomer B together, generation|occurrence|production of curvature can be suppressed effectively. Since the said elastomer B is a comparatively hard material, the temporary adhesive film excellent in peelability can be manufactured by including the elastomer B. The mass ratio in the case of blending the elastomer A and the elastomer B is preferably elastomer A:elastomer B=1:99 to 99:1, more preferably 3:97 to 97:3, and 5:95 to 95:5. More preferably, 10:90-90:10 is still more preferable. If it is the said range, the above-mentioned effect is acquired more effectively.

폴리스타이렌계 엘라스토머의 불포화 이중 결합량으로서는, 박리성의 관점에서, 폴리스타이렌계 엘라스토머 1g당, 15mmol 미만인 것이 바람직하고, 5mmol 미만인 것이 보다 바람직하며, 0.5mmol 미만인 것이 가장 바람직하다. 또한, 여기에서 말하는 불포화 이중 결합량은, 스타이렌 유래의 벤젠환 내의 불포화 이중 결합량을 포함하지 않는다. 불포화 이중 결합량은, NMR(핵자기 공명) 측정에 의하여 산출할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 "스타이렌 유래의 구성 단위"란, 스타이렌 또는 스타이렌 유도체를 중합했을 때에 중합체에 포함되는 스타이렌 유래의 구성 단위이며, 치환기를 갖고 있어도 된다. 스타이렌 유도체로서는, 예를 들면, α-메틸스타이렌, 3-메틸스타이렌, 4-프로필스타이렌, 4-사이클로헥실스타이렌 등을 들 수 있다. 치환기로서는, 예를 들면, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕실기, 탄소수 2~5의 알콕시알킬기, 아세톡시기, 카복시기 등을 들 수 있다.The amount of unsaturated double bonds in the polystyrene-based elastomer is preferably less than 15 mmol, more preferably less than 5 mmol, and most preferably less than 0.5 mmol, per 1 g of the polystyrene-based elastomer from the viewpoint of releasability. In addition, the amount of unsaturated double bonds here does not include the amount of unsaturated double bonds in the benzene ring derived from styrene. The amount of unsaturated double bonds can be calculated by NMR (nuclear magnetic resonance) measurement. In addition, in this specification, the "structural unit derived from styrene" is a structural unit derived from styrene contained in a polymer when styrene or a styrene derivative is superposed|polymerized, and may have a substituent. As a styrene derivative, (alpha)-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-propyl styrene, 4-cyclohexyl styrene etc. are mentioned, for example. As a substituent, a C1-C5 alkyl group, a C1-C5 alkoxyl group, a C2-C5 alkoxyalkyl group, acetoxy group, a carboxy group, etc. are mentioned, for example.

폴리스타이렌계 엘라스토머의 시판품으로서는, 예를 들면, 터프프렌 A, 터프프렌 125, 터프프렌 126S, 아사프렌 T, 아사프렌 T-411, 아사프렌 T-432, 아사프렌 T-437, 아사프렌 T-438, 아사프렌 T-439, 터프텍 H1272, 터프텍 P1500, 터프텍 H1052, 터프텍 H1062, 터프텍 M1943, 터프텍 M1911, 터프텍 H1041, 터프텍 MP10, 터프텍 M1913, 터프텍 H1051, 터프텍 H1053, 터프텍 P2000, 터프텍 H1043(이상, 아사히 가세이(주)제), 엘라스토머 AR-850C, 엘라스토머 AR-815C, 엘라스토머 AR-840C, 엘라스토머 AR-830C, 엘라스토머 AR-860C, 엘라스토머 AR-875C, 엘라스토머 AR-885C, 엘라스토머 AR-SC-15, 엘라스토머 ARSC-0, 엘라스토머 AR-SC-5, 엘라스토머 AR-710, 엘라스토머 AR-SC-65, 엘라스토머 AR-SC-30, 엘라스토머 AR-SC-75, 엘라스토머 AR-SC-45, 엘라스토머 AR-720, 엘라스토머 AR-741, 엘라스토머 AR-731, 엘라스토머 AR-750, 엘라스토머 AR-760, 엘라스토머 AR-770, 엘라스토머 AR-781, 엘라스토머 AR-791, 엘라스토머 AR-FL-75N, 엘라스토머 AR-FL-85N, 엘라스토머 AR-FL-60N, 엘라스토머 AR-1050, 엘라스토머 AR-1060, 엘라스토머 AR-1040(이상, 알론 가세이(주)제), 크레이튼 D1111, 크레이튼 D1113, 크레이튼 D1114, 크레이튼 D1117, 크레이튼 D1119, 크레이튼 D1124, 크레이튼 D1126, 크레이튼 D1161, 크레이튼 D1162, 크레이튼 D1163, 크레이튼 D1164, 크레이튼 D1165, 크레이튼 D1183, 크레이튼 D1193, 크레이튼 DX406, 크레이튼 D4141, 크레이튼 D4150, 크레이튼 D4153, 크레이튼 D4158, 크레이튼 D4270, 크레이튼 D4271, 크레이튼 D4433, 크레이튼 D1170, 크레이튼 D1171, 크레이튼 D1173, 카리플렉스 IR0307, 카리플렉스 IR0310, 카리플렉스 IR0401, 크레이튼 D0242, 크레이튼 D1101, 크레이튼 D1102, 크레이튼 D1116, 크레이튼 D1118, 크레이튼 D1133, 크레이튼 D1152, 크레이튼 D1153, 크레이튼 D1155, 크레이튼 D1184, 크레이튼 D1186, 크레이튼 D1189, 크레이튼 D1191, 크레이튼 D1192, 크레이튼 DX405, 크레이튼 DX408, 크레이튼 DX410, 크레이튼 DX414, 크레이튼 DX415, 크레이튼 A1535, 크레이튼 A1536, 크레이튼 FG1901, 크레이튼 FG1924, 크레이튼 G1640, 크레이튼 G1641, 크레이튼 G1642, 크레이튼 G1643, 크레이튼 G1645, 크레이튼 G1633, 크레이튼 G1650, 크레이튼 G1651, 크레이튼 G1652(G1652MU-1000), 크레이튼 G1654, 크레이튼 G1657, 크레이튼 G1660, 크레이튼 G1726, 크레이튼 G1701, 크레이튼 G1702, 크레이튼 G1730, 크레이튼 G1750, 크레이튼 G1765, 크레이튼 G4609, 크레이튼 G4610(이상, 크레이튼 폴리머 재팬(주)제), TR2000, TR2001, TR2003, TR2250, TR2500, TR2601, TR2630, TR2787, TR2827, TR1086, TR1600, SIS5002, SIS5200, SIS5250, SIS5405, SIS5505, 다이나론 6100P, 다이나론 4600P, 다이나론 6200P, 다이나론 4630P, 다이나론 8601P, 다이나론 8630P, 다이나론 8600P, 다이나론 8903P, 다이나론 6201B, 다이나론 1321P, 다이나론 1320P, 다이나론 2324P, 다이나론 9901P(이상, JSR(주)제), 덴카 STR 시리즈(덴카(주)제), 퀸택 3520, 퀸택 3433N, 퀸택 3421, 퀸택 3620, 퀸택 3450, 퀸택 3460(이상, 닛폰 제온제), TPE-SB 시리즈(스미토모 가가쿠(주)제), 라버 론 시리즈(미쓰비시 가가쿠(주)제), 셉톤 1001, 셉톤 1020, 셉톤 2002, 셉톤 2004, 셉톤 2005, 셉톤 2006, 셉톤 2007, 셉톤 2063, 셉톤 2104, 셉톤 4033, 셉톤 4044, 셉톤 4055, 셉톤 4077, 셉톤 4099, 셉톤 HG252, 셉톤 8004, 셉톤 8006, 셉톤 8007, 셉톤 8076, 셉톤 8104, 셉톤 V9461, 셉톤 V9475, 셉톤 V9827, 하이브라 7311, 하이브라 7125, 하이브라 5127, 하이브라 5125(이상, (주)구라레제), 스미 플렉스(스미토모 베이크라이트(주)제), 레오스토머, 액티머(이상, 리켄 테크노스(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available polystyrene-based elastomers include Turprene A, Turprene 125, Turprene 126S, Asaprene T, Asaprene T-411, Asaprene T-432, Asaprene T-437, Asaprene T-438. , Asafren T-439, Turftech H1272, Turftech P1500, Turftech H1052, Turftech H1062, Turftech M1943, Turftech M1911, Turftech H1041, Turftech MP10, Turftech M1913, Turftech H1051, Turftech H1053 , Tuftec P2000, Tuftec H1043 (above, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Elastomer AR-850C, Elastomer AR-815C, Elastomer AR-840C, Elastomer AR-830C, Elastomer AR-860C, Elastomer AR-875C, Elastomer AR-885C, Elastomer AR-SC-15, Elastomer ARSC-0, Elastomer AR-SC-5, Elastomer AR-710, Elastomer AR-SC-65, Elastomer AR-SC-30, Elastomer AR-SC-75, Elastomer AR-SC-45, Elastomer AR-720, Elastomer AR-741, Elastomer AR-731, Elastomer AR-750, Elastomer AR-760, Elastomer AR-770, Elastomer AR-781, Elastomer AR-791, Elastomer AR-FL -75N, elastomer AR-FL-85N, elastomer AR-FL-60N, elastomer AR-1050, elastomer AR-1060, elastomer AR-1040 (above, manufactured by Alon Gassei Co., Ltd.), KRATON D1111, KRATON D1113, Kraton D1114, Kraton D1117, Kraton D1119, Kraton D1124, Kraton D1126, Kraton D1161, Kraton D1162, Kraton D1163, Kraton D1164, Kraton D1165, Kraton D1183, Kraton D1193, Kraton DX406, Kraton D4141, Kraton D4150, Kraton D4153, Kraton D4158, Kraton D4270, Kraton D4271, Kraton D443 3, Kraton D1170, Kraton D1171, Kraton D1173, Cariflex IR0307, Cariflex IR0310, Cariflex IR0401, Kraton D0242, Kraton D1101, Kraton D1102, Kraton D1116, Kraton D1118, Kraton D1133, Kraton D1152, Kraton D1153, Kraton D1155, Kraton D1184, Kraton D1186, Kraton D1189, Kraton D1191, Kraton D1192, Kraton DX405, Kraton DX408, Kraton DX410, Kraton DX414, Kraton DX415, Kraton A1535, Kraton A1536, Kraton FG1901, Kraton FG1924, Kraton G1640, Kraton G1641, Kraton G1642, Kraton G1643, Kraton G1645, Kraton G1633, Kraton G1650, Kraton G1651, Kraton G1652 (G1652MU-1000), Kraton G1654, Kraton G1657, Kraton G1660, Kraton G1726, Kraton G1701, Kraton G1702, Kraton G1730, Kraton G1750, Kraton G1765, Kraton G4609, Kraton Layton G4610 (above, Kraton Polymer Japan Co., Ltd.), TR2000, TR2001, TR2003, TR2250, TR2500, TR2601, TR2630, TR2787, TR2827, TR1086, TR1600, SIS5002, SIS5200, SIS5250, SIS5405, SIS6100P Dynalon , Dynaron 4600P, Dynalon 6200P, Dynalon 4630P, Dynalon 8601P, Dynalon 8630P, Dynalon 8600P, Dynalon 8903P, Dynalon 6201B, Dynalon 1321P, Dynaron 1320P, Dynalon 2324P, Dynalon 9901P (or higher) , JSR Co., Ltd.), Denka STR series (made by Denka Co., Ltd.), Quintag 3520, Quintaek 3433N, Quintaek 3421, Quintaek 3620, Quintaek 3450 , Quintech 3460 (above, manufactured by Nippon Xeon), TPE-SB series (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Laberron series (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), Septon 1001, Septon 1020, Septon 2002, Septon 2004, Septon 2005, Septon 2006, Septon 2007, Septon 2063, Septon 2104, Septon 4033, Septon 4044, Septon 4055, Septon 4077, Septon 4099, Septon HG252, Septon 8004, Septon 8006, Septon 8007, Septon 8076, Septon 8104, Septon V9461 , Septon V9475, Septon V9827, Hybra 7311, Hybra 7125, Hybra 5127, Hybra 5125 (above, Kurare), Sumiflex (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), Leostomer, Actimer (above, Riken Technos Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

<<조합하는 엘라스토머>><<Elastomer to combine>>

본 발명에서 이용하는 가접착제 조성물은, 폴리스타이렌계 엘라스토머와 조합하여 다른 엘라스토머나 수지를 이용해도 된다.For the temporary adhesive composition used in the present invention, other elastomers and resins may be used in combination with the polystyrene-based elastomer.

폴리에스터계 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0027~0030의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a polyester-type elastomer, Paragraph 0027 of International Publication No. 2017/150320 - description of 0030 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

폴리올레핀계 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0031의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a polyolefin-type elastomer, Paragraph 0031 of International Publication No. 2017/150320 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

폴리유레테인계 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0032의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a polyurethane-type elastomer, description of Paragraph 0032 of International Publication No. 2017/150320 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

폴리아마이드계 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0033의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a polyamide-type elastomer, description of Paragraph 0033 of International Publication No. 2017/150320 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

폴리아크릴계 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0034의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a polyacrylic elastomer, description of Paragraph 0034 of International Publication No. 2017/150320 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

실리콘계 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0035의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a silicone-type elastomer, description of Paragraph 0035 of International Publication No. 2017/150320 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

그 외의 엘라스토머로서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0037의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As another elastomer, description of Paragraph 0037 of International Publication No. 2017/150320 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

또한, 본 발명에 있어서는, 가접착제 조성물에 포함되는 수지(분자량이 2000 이상의 화합물)의 주성분(50질량% 이상)이 폴리스타이렌계 엘라스토머인 것이 바람직하고, 수지 중의 폴리스타이렌계 엘라스토머의 양이 75질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 95질량% 이상인 것이 한층 바람직하며, 100질량%인 것이 보다 한층 바람직하다.Further, in the present invention, it is preferable that the main component (50% by mass or more) of the resin (compound having a molecular weight of 2000 or more) contained in the temporary adhesive composition is a polystyrene-based elastomer, and the amount of the polystyrene-based elastomer in the resin is 75% by mass or more It is more preferable, it is more preferable that it is 90 mass % or more, It is still more preferable that it is 95 mass % or more, It is still more preferable that it is 100 mass %.

가접착제 조성물은, 엘라스토머를, 가접착제 조성물의 전고형분 중에 50.00~99.99질량%의 비율로 포함하는 것이 바람직하고, 70.00~99.99질량%인 것이 보다 바람직하며, 88.00~99.99질량%인 것이 특히 바람직하다. 엘라스토머의 함유량이 상기 범위이면, 접착성 및 박리성이 우수한다. 엘라스토머는 1종을 이용해도 되고 복수의 것을 이용해도 된다. 복수의 것을 이용하는 경우에는, 그들의 합계량이 상기의 범위가 된다.It is preferable that the temporary adhesive composition contains the elastomer in a ratio of 50.00-99.99 mass % in the total solid of a temporary adhesive composition, It is more preferable that it is 70.00-99.99 mass %, It is especially preferable that it is 88.00-99.99 mass %. . When content of an elastomer is the said range, it is excellent in adhesiveness and peelability. As an elastomer, 1 type may be used and several things may be used for it. When using a plurality of things, their total amount is in the above range.

<<유기 용제>><<Organic Solvent>>

유기 용제로서는, 아세트산 에틸, 아세트산-n-뷰틸, 아세트산 아이소뷰틸, 폼산 아밀, 아세트산 아이소아밀, 프로피온산 뷰틸, 뷰티르산 아이소프로필, 뷰티르산 에틸, 뷰티르산 뷰틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 알콕시아세트산 알킬(예를 들면, 알콕시아세트산 메틸, 알콕시아세트산 에틸, 알콕시아세트산 뷰틸(예를 들면, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 뷰틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸 등)), 3-알콕시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면, 3-알콕시프로피온산 메틸, 3-알콕시프로피온산 에틸 등(예를 들면, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸 등)), 2-알콕시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면, 2-알콕시프로피온산 메틸, 2-알콕시프로피온산 에틸, 2-알콕시프로피온산 프로필 등(예를 들면, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸)), 2-알콕시-2-메틸프로피온산 메틸 및 2-알콕시-2-메틸프로피온산 에틸(예를 들면, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소뷰탄산 메틸, 2-옥소뷰탄산 에틸, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트 등의 에스터 화합물; 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 테트라하이드로퓨란, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노프로필에터아세테이트, 프로필렌글라이콜메틸에터, 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트 등의 에터 화합물; 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, N-메틸-2-피롤리돈, γ-뷰티로락톤 등의 케톤 화합물; N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈 등의 피롤리돈 화합물; 톨루엔, 자일렌, 아니솔, 메시틸렌, 유사 큐멘(pseudocumene), 에틸벤젠, 프로필벤젠, 큐멘, n-뷰틸벤젠, sec-뷰틸벤젠, 아이소뷰틸벤젠, tert-뷰틸벤젠, 아밀벤젠, 아이소아밀벤젠, (2,2-다이메틸프로필)벤젠, 1-페닐헥세인, 1-페닐헵테인, 1-페닐옥테인, 1-페닐노네인, 1-페닐데케인, 사이클로프로필벤젠, 사이클로헥실벤젠, 2-에틸톨루엔, 1,2-다이에틸벤젠, o-사이멘, 인데인, 1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌, 3-에틸톨루엔, m-사이멘, 1,3-다이아이소프로필벤젠, 4-에틸톨루엔, 1,4-다이에틸벤젠, p-사이멘, 1,4-다이아이소프로필벤젠, 4-tert-뷰틸톨루엔, 1,4-다이-tert-뷰틸벤젠, 1,3-다이에틸벤젠, 1,2,3-트라이메틸벤젠, 1,2,4-트라이메틸벤젠, 4-tert-뷰틸-o-자일렌, 1,2,4-트라이에틸벤젠, 1,3,5-트라이에틸벤젠, 1,3,5-트라이아이소프로필벤젠, 5-tert-뷰틸-m-자일렌, 3,5-다이-tert-뷰틸톨루엔, 1,2,3,5-테트라메틸벤젠, 1,2,4,5-테트라메틸벤젠, 펜타메틸벤젠, 데카하이드로나프탈렌 등의 방향족 탄화 수소 화합물; 에틸사이클로헥세인, 리모넨, p-멘테인, 노네인, 데케인, 도데케인, 데칼린 등의 지방족 탄화 수소 화합물 등을 적합하게 들 수 있다.Examples of the organic solvent include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, alkyl alkoxyacetate ( For example, methyl alkoxyacetate, ethyl alkoxyacetate, butyl alkoxyacetate (eg, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, etc.), 3- Alkoxypropionic acid alkyl esters (eg, 3-alkoxypropionate methyl, 3-alkoxypropionate ethyl, etc. (eg 3-methoxypropionate methyl, 3-methoxypropionate ethyl, 3-ethoxypropionate methyl, 3- ethyl ethoxypropionate)), 2-alkoxypropionate alkyl esters (eg, methyl 2-alkoxypropionate, ethyl 2-alkoxypropionate, propyl 2-alkoxypropionate, etc. (eg, methyl 2-methoxypropionate, 2-methoxyethyl propionate, 2-methoxypropionate propyl, 2-ethoxypropionate methyl, 2-ethoxypropionate ethyl)), 2-alkoxy-2-methylpropionate methyl and 2-alkoxy-2-methylpropionate ethyl ( For example, 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2-methylpropionate ethyl, etc.), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-oxobutanoic acid ester compounds such as methyl, ethyl 2-oxobutanoate, 1-methoxy-2-propyl acetate, ethyl carbitol acetate, and butyl carbitol acetate; Diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether Methyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether compounds such as teracetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate; ketone compounds such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-heptanone, 3-heptanone, N-methyl-2-pyrrolidone, and γ-butyrolactone; pyrrolidone compounds such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethyl-2-pyrrolidone; Toluene, xylene, anisole, mesitylene, pseudocumene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, n-butylbenzene, sec-butylbenzene, isobutylbenzene, tert-butylbenzene, amylbenzene, isoamylbenzene , (2,2-dimethylpropyl) benzene, 1-phenylhexane, 1-phenylheptane, 1-phenyloctane, 1-phenylnonane, 1-phenyldecane, cyclopropylbenzene, cyclohexylbenzene, 2-ethyltoluene, 1,2-diethylbenzene, o-cymene, indenine, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene, 3-ethyltoluene, m-cymene, 1,3-diisopropyl Benzene, 4-ethyltoluene, 1,4-diethylbenzene, p-cymene, 1,4-diisopropylbenzene, 4-tert-butyltoluene, 1,4-di-tert-butylbenzene, 1,3 -diethylbenzene, 1,2,3-trimethylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene, 4-tert-butyl-o-xylene, 1,2,4-triethylbenzene, 1,3, 5-triethylbenzene, 1,3,5-triisopropylbenzene, 5-tert-butyl-m-xylene, 3,5-di-tert-butyltoluene, 1,2,3,5-tetramethylbenzene , 1,2,4,5-tetramethylbenzene, pentamethylbenzene, and aromatic hydrocarbon compounds such as decahydronaphthalene; Aliphatic hydrocarbon compounds, such as ethylcyclohexane, limonene, p-mentane, nonane, decane, dodecane, and decalin, etc. are mentioned suitably.

그중에서도, 지방족 탄화 수소 화합물, 방향족 탄화 수소 화합물, 케톤 화합물, 및 에스터 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 방향족 탄화 수소 화합물 및 에스터 화합물로부터 선택되는 것이 보다 바람직하다.Among them, it is preferable to include at least one compound selected from the group consisting of aliphatic hydrocarbon compounds, aromatic hydrocarbon compounds, ketone compounds, and ester compounds, and more preferably selected from aromatic hydrocarbon compounds and ester compounds. .

구체적으로는, 유기 용제로서, 사이클로헥세인, 데카하이드로나프탈렌, 테트라하이드로나프탈렌, 메시틸렌, tert-뷰틸벤젠, 유사 큐멘, p-멘테인, γ-뷰티로락톤, 2-헵탄온, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, N-에틸-2-피롤리돈, 아니솔, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜메틸에터 및 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트로 이루어지는 군 중 적어도 1종을 이용하는 것이 바람직하다.Specifically, as the organic solvent, cyclohexane, decahydronaphthalene, tetrahydronaphthalene, mesitylene, tert-butylbenzene, pseudocumene, p-mentane, γ-butyrolactone, 2-heptanone, cyclohexanone , cyclopentanone, N-ethyl-2-pyrrolidone, anisole, 3-ethoxy methyl propionate, 3-ethoxy propionate ethyl, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether , butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and at least one selected from the group consisting of propylene glycol methyl ether acetate is preferably used.

본 발명에 있어서는, 유기 용제로서, 방향족 탄화 수소 용제 및 에스터 용제의 혼합 용제를 이용하는 것이 예시된다. 이들의 혼합비(방향족 탄화 수소 용제:에스터 용제)는, 질량비로, 100:1~100:70인 것이 바람직하고, 100:5~100:50인 것이 보다 바람직하며, 100:10~100:25인 것이 더 바람직하다.In this invention, using the mixed solvent of an aromatic hydrocarbon solvent and an ester solvent is illustrated as an organic solvent. Their mixing ratio (aromatic hydrocarbon solvent: ester solvent) is, in terms of mass ratio, preferably 100:1 to 100:70, more preferably 100:5 to 100:50, and 100:10 to 100:25. it is more preferable

<<산화 방지제>><<Antioxidant >>

가접착제 조성물은, 산화 방지제를 함유해도 된다. 산화 방지제로서는, 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 퀴논계 산화 방지제, 아민계 산화 방지제 등을 사용할 수 있다.The temporary adhesive composition may contain antioxidant. As the antioxidant, a phenol-based antioxidant, a sulfur-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a quinone-based antioxidant, an amine-based antioxidant, or the like can be used.

페놀계 산화 방지제로서는, 예를 들면, p-메톡시페놀, 2,6-다이-tert-뷰틸-4-메틸페놀, Irganox1010, Irganox1330, Irganox3114, Irganox1035(이상, BASF 재팬(주)제), Sumilizer MDP-S, Sumilizer GA-80(이상, 스미토모 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of the phenolic antioxidant include p-methoxyphenol, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, Irganox1010, Irganox1330, Irganox3114, Irganox1035 (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), Sumilizer MDP-S, Sumilizer GA-80 (above, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

황계 산화 방지제로서는, 예를 들면, 3,3'-싸이오다이프로피오네이트다이스테아릴, Sumilizer TPM, Sumilizer TPS, Sumilizer TP-D(이상, 스미토모 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다.As a sulfur-type antioxidant, 3,3'- thiodipropionate distearyl, Sumilizer TPM, Sumilizer TPS, Sumilizer TP-D (above, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product) etc. are mentioned, for example.

인계 산화 방지제로서는, 예를 들면, 트리스(2,4-다이-tert-뷰틸페닐) 포스파이트, 비스(2,4-다이-tert-뷰틸페닐)펜타에리트리톨다이포스파이트, 폴리(다이프로필렌글라이콜)페닐포스파이트, 다이페닐아이소데실포스파이트, 2-에틸헥실다이페닐포스파이트, 트라이페닐포스파이트, Irgafos168, Irgafos38(이상, BASF 재팬(주)제) 등을 들 수 있다. 퀴논계 산화 방지제로서는, 예를 들면, p-벤조퀴논, 2-tert-뷰틸-1,4-벤조퀴논 등을 들 수 있다.Examples of the phosphorus antioxidant include tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite, bis(2,4-di-tert-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite, poly(dipropylene glycol). Lycol) phenyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, 2-ethylhexyl diphenyl phosphite, triphenyl phosphite, Irgafos168, Irgafos38 (above, BASF Japan Co., Ltd. product) etc. are mentioned. Examples of the quinone-based antioxidant include p-benzoquinone and 2-tert-butyl-1,4-benzoquinone.

아민계 산화 방지제로서는, 예를 들면, 다이메틸아닐린이나 페노싸이아진 등을 들 수 있다.As an amine antioxidant, dimethylaniline, phenothiazine, etc. are mentioned, for example.

산화 방지제는, Irganox1010, Irganox1330, 3,3'-싸이오다이프로피오네이트다이스테아릴, Sumilizer TP-D가 바람직하고, Irganox1010, Irganox1330이 보다 바람직하며, Irganox1010이 특히 바람직하다.As for antioxidant, Irganox1010, Irganox1330, 3,3'- thiodipropionate distearyl, Sumilizer TP-D are preferable, Irganox1010, Irganox1330 are more preferable, Irganox1010 is especially preferable.

또, 상기 산화 방지제 중, 페놀계 산화 방지제와 황계 산화 방지제 또는 인계 산화 방지제를 병용하는 것이 바람직하고, 페놀계 산화 방지제와 황계 산화 방지제를 병용하는 것이 가장 바람직하다. 특히, 수지로서, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 사용한 경우에 있어서, 페놀계 산화 방지제와 황계 산화 방지제를 병용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 조합으로 함으로써, 산화 반응에 의한 수지의 열화를, 효율적으로 억제할 수 있는 효과를 기대할 수 있다. 페놀계 산화 방지제와 황계 산화 방지제를 병용하는 경우, 페놀계 산화 방지제와 황계 산화 방지제의 질량비는, 페놀계 산화 방지제:황계 산화 방지제=95:5~5:95가 바람직하고, 25:75~75:25가 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable to use together a phenolic antioxidant, a sulfur-type antioxidant, or phosphorus antioxidant among the said antioxidant, and it is most preferable to use together a phenol-type antioxidant and a sulfur-type antioxidant. In particular, when a polystyrene-based elastomer is used as the resin, it is preferable to use a phenol-based antioxidant and a sulfur-based antioxidant together. By setting it as such a combination, the effect which can suppress efficiently the deterioration of resin by oxidation reaction can be anticipated. When using a phenolic antioxidant and a sulfur-type antioxidant together, as for mass ratio of a phenol-type antioxidant and a sulfur-type antioxidant, phenolic antioxidant:sulfuric antioxidant =95:5-5:95 is preferable, 25:75-75 :25 is more preferable.

산화 방지제의 조합으로서는, Irganox1010과 Sumilizer TP-D, Irganox1330과 Sumilizer TP-D, 및, Sumilizer GA-80과 Sumilizer TP-D가 바람직하고, Irganox1010과 Sumilizer TP-D, Irganox1330과 Sumilizer TP-D가 보다 바람직하며, Irganox1010과 Sumilizer TP-D가 특히 바람직하다.As a combination of antioxidant, Irganox1010 and Sumilizer TP-D, Irganox1330 and Sumilizer TP-D, and Sumilizer GA-80 and Sumilizer TP-D are preferable, Irganox1010 and Sumilizer TP-D, Irganox1330 and Sumilizer TP-D are more Preference is given to Irganox1010 and Sumilizer TP-D being particularly preferred.

산화 방지제의 분자량은, 가열 중의 승화 방지의 관점에서, 400 이상이 바람직하고, 600 이상이 보다 바람직하며, 750 이상이 더 바람직하다.From a viewpoint of sublimation prevention during heating, 400 or more are preferable, as for the molecular weight of antioxidant, 600 or more are more preferable, and 750 or more are still more preferable.

가접착제 조성물이 산화 방지제를 포함하는 경우, 산화 방지제의 함유량은, 가접착제 조성물의 전고형분에 대하여, 0.001~20.0질량%인 것이 바람직하고, 0.005~10.0질량%인 것이 보다 바람직하다. 산화 방지제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 산화 방지제가 2종 이상인 경우에는, 그들의 합계량이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.When a temporary adhesive composition contains antioxidant, it is preferable that it is 0.001-20.0 mass % with respect to the total solid of a temporary adhesive composition, and, as for content of antioxidant, it is more preferable that it is 0.005-10.0 mass %. The number of antioxidants may be one, and 2 or more types may be sufficient as them. When 2 or more types of antioxidants, it is preferable that those total amounts exist in the said range.

<<계면활성제>><<Surfactant>>

가접착제 조성물은, 계면활성제를 함유하는 것이 바람직하다. 계면활성제로서는, 음이온계, 양이온계, 비이온계, 또는, 양성(兩性) 중 어느 것으로도 사용할 수 있지만, 바람직한 계면활성제는 비이온계 계면활성제이다. 비이온계 계면활성제의 바람직한 예로서는, 폴리옥시에틸렌 고급 알킬에터류, 폴리옥시에틸렌 고급 알킬페닐에터류, 폴리옥시에틸렌글라이콜의 고급 지방산 다이에스터류를 들 수 있다.It is preferable that a temporary adhesive composition contains surfactant. As surfactant, although any of anionic, cationic, nonionic, or amphoteric surfactant can be used, a preferable surfactant is a nonionic surfactant. Preferred examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene higher alkyl ethers, polyoxyethylene higher alkylphenyl ethers, and higher fatty acid diesters of polyoxyethylene glycol.

가접착제 조성물이 계면활성제를 포함하는 경우, 가접착제 조성물의 계면활성제의 함유량은, 도포성의 관점에서, 가접착제 조성물의 전고형분에 대하여 0.001~5질량%인 것이 바람직하고, 0.005~1질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.01~0.5질량%인 것이 더 바람직하다. 계면활성제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 계면활성제가 2종 이상인 경우에는, 그들의 합계량이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.When the temporary adhesive composition contains a surfactant, the content of the surfactant in the temporary adhesive composition is preferably 0.001 to 5% by mass relative to the total solid content of the temporary adhesive composition from the viewpoint of applicability, and 0.005 to 1% by mass It is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.01-0.5 mass %. One type may be sufficient as surfactant, and 2 or more types may be sufficient as it. When surfactant is 2 or more types, it is preferable that their total amount exists in the said range.

<<이형제>><<Release Agent>>

가접착제 조성물은, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0058~0070에 기재된 폴리에터 변성 실리콘 등의 이형제를 포함하고 있어도 된다. 그 외의 이형제로서는, 불소계 액체상 화합물이나 상기 이외의 실리콘 화합물이 예시된다. 이형제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 가접착제 조성물의 고형분의 0.001~0.005질량%의 범위가 바람직하다. 이형제는, 1종만 포함하고 있어도 되고, 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 2종 이상 포함하는 경우에는, 그들의 합계량이 상기 범위 내가 되는 것이 바람직하다.The temporary adhesive composition may contain mold release agents, such as the polyether modified silicone of Paragraph 0058 - 0070 of International Publication No. 2017/150320. As another mold release agent, a fluorine-type liquid compound and silicone compounds other than the above are illustrated. When it contains a mold release agent, as for the content, the range of 0.001-0.005 mass % of solid content of a temporary adhesive composition is preferable. The mold release agent may contain only 1 type, and may contain it 2 or more types. When 2 or more types are included, it is preferable that those total amounts become in the said range.

<<그 외의 첨가제>><<Other additives>>

가접착제 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 필요에 따라, 각종 첨가물, 예를 들면, 가소제, 경화제, 경화 촉매, 충전제, 밀착 촉진제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 배합할 수 있다. 이들 첨가제를 배합하는 경우, 그 합계 배합량은 가접착제 조성물의 전고형분의 3질량% 이하가 바람직하다.Temporary adhesive composition, within the range that does not impair the effects of the present invention, various additives, for example, a plasticizer, a curing agent, a curing catalyst, a filler, an adhesion promoter, an ultraviolet absorber, an anti-aggregation agent, etc. can be blended as needed. . When mix|blending these additives, as for the total compounding quantity, 3 mass % or less of the total solid of a temporary adhesive composition is preferable.

가접착제 조성물은, 금속 등의 불순물을 포함하지 않는 것이 바람직하다. 불순물의 함유량은, 가접착제 조성물의 전체 질량에 대하여 1질량ppm(parts per million) 이하가 바람직하고, 100질량ppt(parts per trillion) 이하가 보다 바람직하며, 10질량ppt 이하가 더 바람직하고, 실질적으로 포함하지 않는 것(측정 장치의 검출 한계 이하인 것)이 특히 바람직하다.It is preferable that the temporary adhesive composition does not contain impurities, such as a metal. 1 mass ppm (parts per million) or less is preferable with respect to the total mass of a temporary adhesive composition, as for content of an impurity, 100 mass ppt (parts per trillion) or less is more preferable, 10 mass ppt or less is more preferable, and substantially It is particularly preferable not to contain (below the detection limit of the measuring device).

가접착제 조성물로부터 금속 등의 불순물을 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 필터를 이용한 여과를 들 수 있다. 필터 구멍 직경으로서는, 10nm 이하가 바람직하고, 5nm 이하가 보다 바람직하며, 3nm 이하가 더 바람직하다. 필터의 재질로서는, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌, 나일론이 바람직하다. 필터는, 유기 용제로 미리 세정한 것을 이용해도 된다. 필터 여과 공정에서는, 복수 종류의 필터를 직렬 또는 병렬로 접속하여 이용해도 된다. 복수 종류의 필터를 사용하는 경우는, 구멍 직경 또는 재질이 다른 필터를 조합하여 사용해도 된다. 또, 각종 재료를 복수 회 여과해도 되고, 복수 회 여과하는 공정이 순환 여과 공정이어도 된다. 또, 가접착제 조성물에 포함되는 금속 등의 불순물을 저감하는 방법으로서는, 가접착제 조성물을 구성하는 원료로서 금속 함유량이 적은 원료를 선택하는, 가접착제 조성물을 구성하는 원료에 대하여 필터 여과를 행하는, 장치 내를 테프론(등록 상표)으로 라이닝하는 등에 의하여 컨테미네이션을 가능한 한 억제한 조건하에서 증류를 행하는 등의 방법을 들 수 있다. 가접착제 조성물을 구성하는 원료에 대하여 행하는 필터 여과에 있어서의 바람직한 조건은, 상기한 조건과 동일하다.As a method of removing impurities, such as a metal, from a temporary adhesive composition, the filtration using a filter is mentioned, for example. As a filter pore diameter, 10 nm or less is preferable, 5 nm or less is more preferable, 3 nm or less is still more preferable. As a material of a filter, polytetrafluoroethylene, polyethylene, and nylon are preferable. As a filter, you may use what wash|cleaned previously with the organic solvent. In a filter filtration process, you may connect and use several types of filters in series or parallel. When using multiple types of filters, you may use combining filters from which a pore diameter or a material differs. Moreover, various materials may be filtered multiple times, and the process of filtering multiple times may be a circulation filtration process. In addition, as a method of reducing impurities such as metals contained in the temporary adhesive composition, a raw material constituting the temporary adhesive composition that selects a raw material with a low metal content as a raw material constituting the temporary adhesive composition, filtering the raw material constituting the temporary adhesive composition, an apparatus Methods, such as carrying out distillation under the conditions which suppressed contamination as much as possible by lining the inside with Teflon (trademark), etc. are mentioned. Preferred conditions in the filter filtration performed with respect to the raw material which comprises a temporary adhesive composition are the same as the above-mentioned conditions.

필터 여과 외에, 흡착재에 의한 불순물의 제거를 행해도 되고, 필터 여과와 흡착재에 의한 불순물의 제거를 조합하여 실시해도 된다. 흡착재로서는, 공지의 흡착재를 이용할 수 있고, 예를 들면, 실리카 젤, 제올라이트 등의 무기계 흡착재, 활성탄 등의 유기계 흡착재를 사용할 수 있다.In addition to filter filtration, the impurity removal by an adsorbent may be performed, and you may carry out combining filter filtration and the removal of the impurity by an adsorbent. As the adsorbent, a known adsorbent can be used, for example, an inorganic adsorbent such as silica gel and zeolite, and an organic adsorbent such as activated carbon can be used.

<가접착막의 형성><Formation of temporary adhesive film>

가접착막은, 기판이나 피가공 부재의 표면에, 가접착제 조성물을 이용하여 형성할 수 있다. 피가공 부재 등의 일방에만 가접착막을 형성하여 타방의 피가공 부재 등과 첩합해도 되고, 양방의 피가공 부재 등에 가접착막을 마련하여 양자를 첩합해도 된다. 가접착막의 형성에는, 가접착제 조성물을 적용하기 위하여, 종래 공지의 스핀 코트법, 스프레이법, 슬릿 코트법, 롤러 코트법, 플로 코트법, 닥터 코트법, 침지법 등을 이용할 수 있다. 이어서, 통상, 가접착제 조성물은 용제를 포함하기 때문에, 가열을 행하여 용제를 휘발시킨다. 이 가열 온도로서는, 용제의 비점보다 높은 온도인 것이 바람직하고, 110℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 130℃~200℃가 더 바람직하고, 160℃~190℃가 특히 바람직하다.A temporary adhesive film can be formed on the surface of a board|substrate or to-be-processed member using a temporary adhesive composition. A temporary adhesive film may be formed only on one side, such as a to-be-processed member, and may be bonded to the other to-be-processed member etc., You may provide a temporary adhesive film to both to-be-processed members etc., and may bond both. In the formation of the temporary adhesive film, in order to apply the temporary adhesive composition, a conventionally known spin coating method, a spraying method, a slit coating method, a roller coating method, a flow coating method, a doctor coating method, a dipping method, etc. can be used. Next, since a temporary adhesive composition contains a solvent normally, it heats and volatilizes a solvent. As this heating temperature, it is preferable that it is a temperature higher than the boiling point of a solvent, It is more preferable that it is 110 degreeC or more, 130 degreeC - 200 degreeC are still more preferable, and 160 degreeC - 190 degreeC are especially preferable.

가접착막의 두께는, 반도체 디바이스의 제조에 있어서의 요구를 고려하면, 10μm 이상 1000μm 이하가 실제적이다. 본 발명에 의하면, 파티클의 발생이 매우 낮은 빈도로까지 억제되므로, 이와 같이 얇은 막으로 했을 때에 특히 높은 효과를 발휘할 수 있어 바람직하다. 이러한 관점에서, 가접착막에 있어서, 파티클은, 0.015개/cm2 미만으로 억제되는 것이 바람직하다.As for the thickness of a temporary adhesive film, 10 micrometers or more and 1000 micrometers or less are practical in consideration of the request|requirement in manufacture of a semiconductor device. According to the present invention, since generation of particles is suppressed to a very low frequency, particularly high effects can be exhibited when a thin film as described above, which is preferable. From this point of view, in the temporary adhesive film, it is preferable that the number of particles is suppressed to less than 0.015 particles/cm 2 .

본 발명에 있어서는, 가접착제 조성물로 형성된 가접착막 상에, 박리층으로서 플루오로카본층이 형성되는 것이 바람직하다. 이로써, 플루오로카본층이 광을 흡수함으로써 변질되고, 그 결과로서, 광의 조사를 받기 전의 강도 또는 접착성을 잃는다. 따라서, 약간의 외력을 가함(예를 들면, 지지체를 들어 올리는 등)으로써, 박리층이 파괴되어, 지지체와 웨이퍼를 용이하게 분리할 수 있다. 또, 예를 들면, 플루오로카본층은, 플라즈마 CVD법에 의하여 적합하게 성막될 수 있다. 또한, 플루오로카본층은, CxFy(퍼플루오로카본) 및 CxHyFz(x, y 및 z는 정수)로 나타나는 플루오로카본을 포함한다. 플루오로카본은, 이들에 한정되지 않지만, 예를 들면, CHF3, CH2F2, C2H2F2, C4F8, C2F6, C5F8 등이다. 또, 플루오로카본층에 대하여, 필요에 따라 질소, 헬륨, 아르곤 등의 불활성 가스, 알케인, 알켄 등의 탄화 수소, 및, 산소, 이산화탄소, 수소를 첨가해도 된다. 또, 이들 가스를 복수 혼합하여 이용해도 된다(플루오로카본, 수소, 질소의 혼합 가스 등). 또, 플루오로카본의 층은, 단일종의 플루오로카본으로 구성되어 있어도 되고, 2종류 이상의 플루오로카본으로 구성되어 있어도 된다. 플루오로카본은, 그 종류에 의하여 고유의 범위의 파장을 갖는 광을 흡수한다. 플루오로카본이 흡수하는 범위의 파장의 광을 이 층에 조사함으로써, 플루오로카본을 적합하게 변질시킬 수 있다. 또한, 박리층에 있어서의 광의 흡수율은 80% 이상인 것이 바람직하다. 플루오로카본의 층에 조사하는 광으로서는, 플루오로카본이 흡수 가능한 파장에 따라, 예를 들면, YAG 레이저, 리비 레이저, 유리 레이저, YVO4 레이저, LD 레이저, 파이버 레이저 등의 고체 레이저, 색소 레이저 등의 액체 레이저, CO2 레이저, 엑시머 레이저, Ar 레이저, He-Ne 레이저 등의 기체 레이저, 반도체 레이저, 자유 전자 레이저 등의 레이저광, 또는, 비레이저광을 적절히 이용하면 된다. 플루오로카본을 변질시킬 수 있는 파장으로서는, 이에 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 600nm 이하의 범위의 것을 이용할 수 있다.In the present invention, it is preferable that a fluorocarbon layer is formed as a release layer on the temporary adhesive film formed of the temporary adhesive composition. Thereby, the fluorocarbon layer changes quality by absorbing light, and as a result, the intensity|strength or adhesiveness before receiving light irradiation is lost. Accordingly, by applying a slight external force (eg, lifting the support body, etc.), the release layer is broken, and the support body and the wafer can be easily separated. Moreover, for example, the fluorocarbon layer can be suitably formed into a film by plasma CVD method. In addition, the fluorocarbon layer contains fluorocarbons represented by C x F y (perfluorocarbon) and C x H y F z (x, y and z are integers). Fluorocarbons include, but are not limited to, CHF 3 , CH 2 F 2 , C 2 H 2 F 2 , C 4 F 8 , C 2 F 6 , C 5 F 8 , and the like. Moreover, you may add inert gases, such as nitrogen, helium, and argon, hydrocarbons, such as an alkane and an alkene, and oxygen, carbon dioxide, and hydrogen, to a fluorocarbon layer as needed. Moreover, you may mix and use two or more of these gases (a mixed gas of fluorocarbon, hydrogen, nitrogen, etc.). Moreover, the fluorocarbon layer may be comprised from a single type of fluorocarbon, and may be comprised from 2 or more types of fluorocarbons. Fluorocarbon absorbs light having a wavelength in an intrinsic range depending on the type. By irradiating the layer with light having a wavelength in the range that the fluorocarbon absorbs, the fluorocarbon can be suitably altered. Moreover, it is preferable that the light absorption in a peeling layer is 80 % or more. The light irradiated to the fluorocarbon layer is, for example, a solid laser such as a YAG laser, a Libby laser, a glass laser, a YVO 4 laser, an LD laser, or a fiber laser, and a dye laser, depending on the wavelength at which the fluorocarbon can be absorbed. and the like may be suitably used in the liquid laser, CO 2 laser, excimer laser, Ar laser, a laser light such as a gas laser, semiconductor laser, free electron lasers such as He-Ne laser, or a non-laser light. Although not limited to this as a wavelength which can change a fluorocarbon, For example, the thing of 600 nm or less can be used.

<가접착제 조성물의 조제><Preparation of temporary adhesive composition>

가접착제 조성물은, 상술한 각 성분을 혼합하여 조제할 수 있다. 각 성분의 혼합은, 통상, 0℃~100℃의 범위에서 행해진다. 또, 각 성분을 혼합한 후, 예를 들면, 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 여과는, 상기의 금속 불순물의 제거에 있어서 기재된 방법을 채용할 수 있다.The temporary adhesive composition can be prepared by mixing each component mentioned above. Mixing of each component is normally performed in the range of 0 degreeC - 100 degreeC. Moreover, after mixing each component, it is preferable to filter with a filter, for example. For filtration, the method described in the removal of said metal impurity is employable.

<가접착제 조성물의 박리력><Peel strength of temporary adhesive composition>

가접착제 조성물로 형성된 가접착막에 대하여, 그 박리력의 하한은, 1.0N/m 이상인 것이 바람직하고, 3.0N/m 이상인 것이 보다 바람직하다. 상기 박리력의 상한은, 25N/m 이하인 것이 보다 바람직하며, 20N/m 이하인 것이 더 바람직하고, 10N/m 이하인 것이 한층 바람직하며, 9N/m 이하인 것이 보다 한층 바람직하다. 이와 같은 범위로 함으로써, 가공 후의 기재에 손상을 주지 않고 박리가 가능하게 된다는 효과가 보다 효과적으로 발휘된다.With respect to the temporary adhesive film formed from the temporary adhesive composition, it is preferable that it is 1.0 N/m or more, and, as for the lower limit of the peeling force, it is more preferable that it is 3.0 N/m or more. The upper limit of the peeling force is more preferably 25 N/m or less, still more preferably 20 N/m or less, still more preferably 10 N/m or less, and still more preferably 9 N/m or less. By setting it as such a range, the effect that peeling becomes possible without damaging the base material after a process is exhibited more effectively.

여기에서, 박리력이란, 가접착제 조성물을 이용하여, 실리콘 웨이퍼의 표면에, 두께 15μm의 가접착막을 성형하고, 23℃, 속도 300mm/분의 속도로, 실리콘 웨이퍼의 가접착막이 형성된 면에 대하여 수직인 방향으로, 가접착막의 단부(端部)를 끌어올림으로써 박리 가능하며, 또한, 끌어올릴 때에 가해지는 힘을, 포스 게이지를 이용하여 측정했을 때의 힘을 말한다. 구체적으로는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0136에 기재된 방법에 따른다.Here, the peeling force is a temporary adhesive film formed on the surface of a silicon wafer by using a temporary adhesive composition, and a temporary adhesive film having a thickness of 15 μm is molded at 23° C., at a speed of 300 mm/min. In a vertical direction, peeling is possible by pulling up the end of the temporary adhesive film, and the force applied when pulling up is measured using a force gauge. Specifically, the method described in paragraph 0136 of International Publication No. 2017/150320 is followed.

<가접착제 조성물의 보존 방법 및 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법><Method for preserving temporary adhesive composition and manufacturing method for container containing temporary adhesive composition>

본 발명의 가접착제 조성물의 보존 방법은, 상기의 식 (1)을 충족시키도록, 가접착제 조성물을 용기에 충전하여 보존하는 것을 특징으로 한다. 또, 본 발명의 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법은, 상기의 식 (1)을 충족시키도록, 가접착제 조성물을 용기에 충전하여, 가접착제 조성물이 든 용기를 제조하는 것을 특징으로 한다. 가접착제 조성물의 성분 조성 등, 보존 조건의 상세, 용기의 재질이나 형태 등의 상세는, 상술한 설명에 있어서 설명한 것과 동일하다.The method for preserving the temporary adhesive composition of the present invention is characterized in that the container is filled with the temporary adhesive composition and stored so as to satisfy the above formula (1). In addition, the manufacturing method of the container containing the temporary adhesive composition of the present invention is characterized in that the container is filled with the temporary adhesive composition so as to satisfy the above formula (1), and the container containing the temporary adhesive composition is manufactured. Details of storage conditions, such as a component composition of a temporary adhesive composition, and details, such as a material and form of a container, are the same as those demonstrated in the description above.

<반도체 디바이스의 제조 방법><Method for manufacturing semiconductor device>

<<제1 실시형태>><<First embodiment >>

이하, 본 발명의 용기에 충전 보존되어 있는 가접착제 조성물로 형성된 가접착막을 이용하여 적층체를 제조하고, 이것을 이용한 반도체 디바이스의 제조 방법의 일 실시형태에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. 도 4, 5의 공정 (A)~(E)는, 각각, 캐리어 기재와 디바이스 웨이퍼(피가공 부재)의 가접착을 설명하는 개략 단면도(A, B), 캐리어 기재에 가접착된 디바이스 웨이퍼가 박형화된 상태(C), 캐리어 기재와 디바이스 웨이퍼를 박리한 상태(D), 디바이스 웨이퍼로부터 가접착막을 제거한 후의 상태(E)를 나타내는 개략 단면도이다. 이 실시형태에서는, 공정 (A)에 나타내는 바와 같이, 먼저, 캐리어 기재(12)에 가접착막(11)이 마련되어 이루어지는 접착성 캐리어 기재(적층체)(100)가 준비된다. 디바이스 웨이퍼(60)는, 실리콘 기판(61)의 표면(61a)에 복수의 디바이스 칩(62)이 마련되어 이루어진다. 실리콘 기판(61)의 두께는, 예를 들면, 200~1200μm가 바람직하다. 디바이스 칩(62)은 예를 들면 금속 구조체인 것이 바람직하고, 높이는 10~100μm가 바람직하다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, a laminated body is manufactured using the temporary adhesive film formed from the temporary adhesive composition filled and stored in the container of this invention, and one Embodiment of the manufacturing method of the semiconductor device using this is demonstrated, referring drawings. Steps (A) to (E) of FIGS. 4 and 5 are schematic cross-sectional views (A, B) explaining the temporary adhesion between the carrier substrate and the device wafer (member to be processed), respectively, and the device wafer temporarily adhered to the carrier substrate is It is a schematic sectional drawing which shows the state (C) which was thinned, the state (D) in which the carrier substrate and the device wafer were peeled, and the state (E) after removing the temporary adhesive film from the device wafer. In this embodiment, as shown in a process (A), first, the adhesive carrier base material (laminated body) 100 by which the temporary adhesive film 11 is provided in the carrier base material 12 is prepared. In the device wafer 60 , a plurality of device chips 62 are provided on a surface 61a of a silicon substrate 61 . As for the thickness of the silicon substrate 61, 200-1200 micrometers is preferable, for example. It is preferable that the device chip 62 is, for example, a metal structure, and 10-100 micrometers in height is preferable.

이어서, 공정 (B)에 나타내는 바와 같이, 접착성 캐리어 기재와 디바이스 웨이퍼(60)를 압착시켜, 캐리어 기재(12)와 디바이스 웨이퍼(60)를 가접착시킨다. 가접착막(11)은, 디바이스 칩(62)을 완전하게 덮고 있는 것이 바람직하다. 가접착막(11)이 디바이스 칩(62)을 완전하게 피복하고 있는 것은, 박형화 디바이스 웨이퍼의 TTV를 보다 저하하고 싶은 경우(즉, 박형화 디바이스 웨이퍼의 평탄성을 보다 향상시키고 싶은 경우)에 유효하다.Next, as shown in a process (B), the adhesive carrier base material and the device wafer 60 are crimped|bonded, and the carrier base material 12 and the device wafer 60 are temporarily adhered. The temporary adhesive film 11 preferably completely covers the device chip 62 . The fact that the temporary adhesive film 11 completely covers the device chip 62 is effective when it is desired to further reduce the TTV of the thinned device wafer (that is, to further improve the flatness of the thinned device wafer).

이어서, 공정 (C)에 나타내는 바와 같이, 실리콘 기판(61)의 이면(61b)에 대하여, 기계적 또는 화학적인 처리(특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 그라인딩이나 화학 기계 연마(CMP) 등의 박막화 처리, 화학 기상 성장(CVD)이나 물리 기상 성장(PVD) 등의 고온 및 진공하에서의 처리, 유기 용제, 산성 처리액이나 염기성 처리액 등의 약품을 이용한 처리, 도금 처리, 활성광선의 조사, 가열 처리 및 냉각 처리 등)를 실시한다. 도 5에 있어서, 처리가 실시된 후의 기판 이면은, 61b1로서 나타낸다(도 7에 대해서도 동일).Subsequently, as shown in the step (C), the back surface 61b of the silicon substrate 61 is subjected to mechanical or chemical treatment (though not particularly limited, for example, thinning by grinding or chemical mechanical polishing (CMP), etc.) Treatment, treatment under high temperature and vacuum such as chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), treatment with chemicals such as organic solvents, acid treatment solutions or basic treatment solutions, plating treatment, irradiation with actinic rays, heat treatment and cooling treatment, etc.). In FIG. 5 , the back surface of the substrate after processing is indicated as 61b1 (the same applies to FIG. 7 ).

공정 (C)에서는, 실리콘 기판(61)의 두께를 얇게 하여, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)를 얻고 있다. 디바이스 웨이퍼를 박형화한 후, 고온 및 진공하에서의 처리를 행하기 전의 단계에서, 디바이스 웨이퍼의 기재면의 면적보다 외측으로 돌출된 가접착막을 용제로 세정하는 공정을 마련해도 된다.In the step (C), the thickness of the silicon substrate 61 is reduced to obtain a thin device wafer 60a. After the device wafer is thinned, a step of cleaning the temporary adhesive film protruding outward from the area of the base surface of the device wafer with a solvent may be provided in a step before performing the treatment under high temperature and vacuum.

이어서, 공정 (D)에 나타내는 바와 같이, 캐리어 기재(12)를, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)로부터 박리시킨다. 박리 시의 온도는, 40℃ 이하인 것이 바람직하고, 30℃ 이하로 할 수도 있다. 박리 시의 온도의 하한값으로서는, 예를 들면, 0℃ 이상이며, 바람직하게는, 10℃ 이상이다. 박리의 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)를 고정하고, 캐리어 기재의 단부로부터 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)에 대하여 수직 방향으로 끌어올려 박리하는 것이 바람직하다. 이 때, 박리 계면은, 캐리어 기재(12)와 가접착막(11)의 계면에서 박리되는 것이 바람직하다.Next, as shown in a process (D), the carrier base material 12 is peeled from the thinning device wafer 60a. It is preferable that it is 40 degrees C or less, and, as for the temperature at the time of peeling, you can also set it as 30 degrees C or less. As a lower limit of the temperature at the time of peeling, it is 0 degreeC or more, for example, Preferably, it is 10 degreeC or more. Although the method of peeling is not specifically limited, It is preferable to fix the thinning device wafer 60a, and to pull up from the edge part of a carrier base material in the perpendicular direction with respect to the thinned device wafer 60a, and to peel. At this time, it is preferable that the peeling interface peels at the interface of the carrier base material 12 and the temporary adhesive film 11. As shown in FIG.

그리고, 공정 (E)에 나타내는 바와 같이, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)로부터 가접착막(11)을 제거함으로써, 박형화 디바이스 웨이퍼를 얻을 수 있다.Then, as shown in the step (E), a thin device wafer can be obtained by removing the temporary adhesive film 11 from the thinning device wafer 60a.

가접착막(11)의 제거 방법은, 예를 들면, 가접착막을 그대로의 상태로 박리 제거하는 방법, 가접착막을, 박리액을 이용하여 제거하는 방법(가접착막을 박리액으로 팽윤시킨 후에 박리 제거하는 방법, 가접착막에 박리액을 분사하여 파괴 제거하는 방법, 가접착막을 박리액에 용해시켜 용해 제거하는 방법 등), 가접착막을 활성광선, 방사선 또는 열의 조사에 의하여 분해, 기화하여 제거하는 방법 등을 들 수 있다.The removal method of the temporary adhesive film 11 is, for example, a method of peeling and removing the temporary adhesive film as it is, a method of removing the temporary adhesive film using a peeling solution (after swelling the temporary adhesive film with a peeling solution, peeling off) removal method, method of destructive removal by spraying stripper on temporary adhesive film, method of dissolving and removing temporary adhesive film in stripper, etc.) how to do it, etc.

본 발명의 용기에 충전 보존되어 있는 가접착제 조성물을 이용함으로써, 상응하는 보존 기간 후에 가접착막의 용도에 적용해도, 예를 들면, 상기 공정 (A)~(D)를 거쳐, 실리콘 기판(61)이나 디바이스 칩(62)의 표면에 디펙트나 파티클의 부착이 없는 고품질의 반도체 디바이스 내지 그 부재의 제조가 가능해진다. 또, 본 발명에 의하여, 가접착제 조성물의 보존 기간을 과도하게 관리하지 않고 보존할 수 있기 때문에, 생산 계획을 세우기 쉬워, 그 면에서도 생산 효율의 향상에 기여하는 것이다.By using the temporary adhesive composition filled and stored in the container of the present invention, even if it is applied to the use of the temporary adhesive film after the corresponding storage period, for example, through the above steps (A) to (D), the silicon substrate 61 However, it becomes possible to manufacture a high-quality semiconductor device or a member thereof without defects or particles adhering to the surface of the device chip 62 . Moreover, according to this invention, since it can preserve|save without managing the storage period of a temporary adhesive composition excessively, it is easy to make a production plan, and it contributes to the improvement of productive efficiency also from that point.

<<제2 실시형태>><<Second embodiment >>

적층체를 제조하는 공정을 거친 반도체의 제조 방법의 제2 실시형태에 대하여 설명한다. 상술한 제1 실시형태와 동일 개소는, 동일 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다. 도 6, 도 7의 (A1)~(E)는, 각각, 캐리어 기재와 디바이스 웨이퍼의 가접착을 설명하는 개략 단면도(A1, B1), 캐리어 기재에 가접착된 디바이스 웨이퍼가 박형화된 상태(C1), 캐리어 기재와 디바이스 웨이퍼를 박리한 상태(D1), 디바이스 웨이퍼로부터 가접착막을 제거한 후의 상태(E)를 나타내는 개략 단면도이다. 이 실시형태에서는, 공정 (A1)에 나타내는 바와 같이, 디바이스 웨이퍼의 표면(61a) 상에 가접착막을 형성하는 점이 상기 제1 실시형태와 상이하다. 디바이스 웨이퍼(60)의 표면(61a) 상에, 가접착막(11a)을 마련하는 경우는, 디바이스 웨이퍼(60)의 표면(61a)의 표면에 가접착제 조성물을 적용(바람직하게는 도포)하고, 이어서, 건조(베이크)함으로써 형성할 수 있다. 건조는, 예를 들면, 60~150℃에서, 10초~2분 행할 수 있다.A second embodiment of a method for manufacturing a semiconductor that has undergone the step of manufacturing a laminate will be described. The same code|symbol is attached|subjected to 1st Embodiment mentioned above and the same part, and the description is abbreviate|omitted. 6 and 7 (A1) to (E) are schematic cross-sectional views (A1, B1) for explaining the temporary adhesion between the carrier substrate and the device wafer, respectively, and a state in which the device wafer temporarily adhered to the carrier substrate is thinned (C1). ), a state (D1) in which the carrier substrate and the device wafer are peeled, and a state (E) after removing the temporary adhesive film from the device wafer. In this embodiment, as shown in the step (A1), the provisional adhesive film is formed on the surface 61a of the device wafer from the first embodiment described above. When the temporary adhesive film 11a is provided on the surface 61a of the device wafer 60, the temporary adhesive composition is applied (preferably coated) to the surface of the surface 61a of the device wafer 60, , can be formed by drying (baking) next. Drying can be performed at 60-150 degreeC for 10 second - 2 minutes, for example.

이어서, 공정 (B1)에 나타내는 바와 같이, 캐리어 기재(12)와 디바이스 웨이퍼(60)를 압착시키고, 캐리어 기재(12)와 디바이스 웨이퍼(60)를 가접착시킨다. 이어서, 공정 (C1)에 나타내는 바와 같이, 실리콘 기판(61)의 이면(61b)에 대하여, 기계적 또는 화학적인 처리를 실시하고, 실리콘 기판(61)의 두께를 얇게 하여, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)를 얻는다. 이어서, 공정 (D1)에 나타내는 바와 같이, 캐리어 기재(12)를, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)로부터 박리시킨다. 그리고, 공정 (E)에 나타내는 바와 같이, 박형화 디바이스 웨이퍼(60a)로부터 가접착막(11a)을 제거한다.Next, as shown in a process (B1), the carrier base material 12 and the device wafer 60 are press-bonded, and the carrier base material 12 and the device wafer 60 are temporarily adhered. Next, as shown in the step (C1), a mechanical or chemical treatment is performed on the back surface 61b of the silicon substrate 61 to reduce the thickness of the silicon substrate 61 to reduce the thickness of the device wafer 60a to get Next, as shown in a process (D1), the carrier base material 12 is peeled from the thinning device wafer 60a. Then, as shown in the step (E), the temporary adhesive film 11a is removed from the thinned device wafer 60a.

본 발명에 의하면, 제2 실시형태에 있어서도, 실리콘 기판(61)이나 디바이스 칩(62)의 표면에 디펙트나 파티클의 부착이 없는 고품질의 반도체 디바이스의 제조가 가능해진다. 또, 상기와 동일하게 생산 계획의 자유도를 높여 생산 효율의 향상에 기여하는 것이다.According to the present invention, even in the second embodiment, it is possible to manufacture a high-quality semiconductor device without defects or particles adhering to the surface of the silicon substrate 61 or the device chip 62 . Moreover, similarly to the above, it contributes to the improvement of production efficiency by increasing the degree of freedom of production planning.

또한, 가접착막을 이용한 반도체 디바이스 또는 그 부재의 제조 방법에 관해서는, 국제 공개공보 제2017/150320호의 단락 0090~0111의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.In addition, regarding the manufacturing method of the semiconductor device using a temporary adhesive film, or its member, Paragraph 0090 of International Publication No. 2017/150320 - description of 0111 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

본 발명은, 상술한 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 적절한 변형, 개량 등이 가능하다. 또, 상술한 실시형태에 있어서는, 디바이스 웨이퍼로서, 실리콘 기판을 들었지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 반도체 디바이스의 제조 방법에 있어서, 기계적 또는 화학적인 처리에 제공될 수 있는 어느 피처리 부재여도 된다. 또, 상술한 실시형태에 있어서는, 디바이스 웨이퍼(실리콘 기판)에 대한 기계적 또는 화학적인 처리로서, 디바이스 웨이퍼의 박막화 처리를 들었지만, 이들에 한정되는 것은 아니고, 반도체 디바이스의 제조 방법에 있어서 필요한 어느 처리도 들 수 있다. 그 외에, 상술한 실시형태에 있어서 예시한, 디바이스 웨이퍼에 있어서의 디바이스 칩의 형상, 치수, 수, 배치 개소 등은 임의이며, 한정되지 않는다. 또, 다른 실시형태로서, 이하의 구성으로 하는 것도 가능하다. 유리제, 실리콘제 또는 금속제의 캐리어에 가접착제 조성물을 적용하여 가접착막을 형성하고, 그 위에, 다이싱이 완료된 칩을 접착한다. 이 때의 접착 온도는, 바람직하게는 10℃~250℃의 범위이다. 또한, 접착한 칩을, 몰딩 수지에 의하여 밀봉하고, 상기한 수순과 동일하게, 접착성 캐리어 기재로부터 칩이 메워진 몰딩 수지를 박리하여, 가접착막을 제거한다.The present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications, improvements, and the like are possible. Moreover, although a silicon substrate is mentioned as a device wafer in the above-mentioned embodiment, it is not limited to this, In the manufacturing method of a semiconductor device, any to-be-processed member which can be subjected to mechanical or chemical processing may be used. Moreover, in the above-mentioned embodiment, although thin film processing of a device wafer was mentioned as a mechanical or chemical processing with respect to a device wafer (silicon substrate), it is not limited to these, Any processing required in the manufacturing method of a semiconductor device is carried out. can be heard In addition, the shape, dimension, number, arrangement location, etc. of the device chip in the device wafer illustrated in embodiment mentioned above are arbitrary, and are not limited. Moreover, as another embodiment, it is also possible to set it as the following structure. A temporary adhesive composition is applied to a glass, silicone, or metal carrier to form a temporary adhesive film, and a diced chip is adhered thereon. The adhesion temperature at this time becomes like this. Preferably it is the range of 10 degreeC - 250 degreeC. Further, the adhered chip is sealed with a molding resin, and the molding resin filled with the chip is peeled from the adhesive carrier base material in the same manner as in the above procedure to remove the temporary adhesive film.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의하여 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 주지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 설명이 없는 한, "부", "%"는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless the gist thereof is exceeded. In addition, unless otherwise specified, "part" and "%" are based on mass.

<가접착제 조성물의 조제><Preparation of temporary adhesive composition>

하기 표 1에 나타내는 바와 같이, 가접착제 조성물의 각 성분을 혼합하여 균일한 용액으로 한 후, 5μm의 구멍 직경을 갖는 폴리테트라플루오로에틸렌제 필터를 이용하여 여과하여, 가접착제 조성물을 조제했다. 비교예 3에 있어서는, 엘라스토머가 용제에 용해되지 않았다. 표 1에 있어서, 각 고형분의 조성비는, 엘라스토머의 함유량을 100질량부로 했을 때의 상대적인 질량부 단위로 나타냈다. 또, 가접착제 조성물 중의 각 용제의 함유량은, 실시예 및 비교예별로, 표 중의 X의 값을 충족시키도록 적절히 조정했다.As shown in Table 1 below, each component of the temporary adhesive composition was mixed to make a uniform solution, and then filtered using a polytetrafluoroethylene filter having a pore diameter of 5 μm to prepare a temporary adhesive composition. In Comparative Example 3, the elastomer did not dissolve in the solvent. In Table 1, the composition ratio of each solid content was shown in the relative mass part unit when content of an elastomer is 100 mass parts. Moreover, content of each solvent in a temporary adhesive composition was adjusted suitably so that the value of X in a table|surface might be satisfied for each Example and a comparative example.

<용기의 준비><Preparation of courage>

실시예 및 비교예별로, 표에 나타내는 바와 같이 하기 특징 1~4 중 어느 하나 이상을 갖는 용기를 준비했다. 각 특징의 내용은, 각각 하기와 같고, 각 용기가 갖는 특징에 대하여, 해당하는 특징의 란에 "채용"이라고 기재했다. 용기의 형상은 대개 도 1에 나타낸 바와 같으며, 용기는, 용기 본체와 덮개(외측 덮개 및 내측 덮개를 포함한다.)로 구성되어 있다. 몸체부의 직경(내경)은 16.8cm이며, 몸체부의 높이(내부의 바닥부부터 주입구 하부까지의 길이)는 31.2cm이다. 주입구의 직경(내경)은 2.5cm이며, 주입구의 길이는 4.9cm이다. 나사부가 형성되어 있는 영역의 길이는, 0.94cm이다.For each Example and Comparative Example, as shown in the table, containers having any one or more of the following characteristics 1 to 4 were prepared. The content of each characteristic is as follows, respectively, and about the characteristic of each container, "adoption" was described in the column of the corresponding characteristic. The shape of the container is usually as shown in Fig. 1, and the container is composed of a container body and a cover (including an outer cover and an inner cover). The diameter (inner diameter) of the body is 16.8 cm, and the height of the body (the length from the bottom of the inside to the bottom of the inlet) is 31.2 cm. The diameter (inner diameter) of the inlet is 2.5 cm, and the length of the inlet is 4.9 cm. The length of the region in which the threaded portion is formed is 0.94 cm.

·특징 1: 용기의 재질이 유리이다.·Feature 1: The material of the container is glass.

·특징 2: 용기의 재질이 나프론(R)(등록 상표) PFA(니치아스사제)이다.·Feature 2: The material of the container is naphron (R) (registered trademark) PFA (manufactured by Nichias Corporation).

·특징 3: 용기의 내벽에 대하여, 탈알칼리 처리 및 초순수 세정이 행해져 있다.·Feature 3: The inner wall of the container is subjected to de-alkali treatment and ultrapure water washing.

·특징 4: 내측 덮개의 내벽면이 테프론(등록 상표) 가공되어 있다.·Feature 4: The inner wall surface of the inner cover is processed with Teflon (registered trademark).

<포화 용해 농도의 측정><Measurement of Saturated Dissolution Concentration>

분율 X를 산출함에 있어서, 가접착제 조성물의 포화 용해 농도는, 미리 하기와 같이 하여 측정했다.In calculating the fraction X, the saturated dissolution concentration of the temporary adhesive composition was previously measured as follows.

23℃에 있어서 과잉량의 고형분을 용제에 투입하여 교반함으로써 고형분을 포화 용해시킨 후, 10미크론 필터를 이용하여, 용해 잔사 고형분을 여과에 의하여 제거했다. 그 후, 소정량의 여과액을 오븐으로 건조시켜, 고형분의 건조 중량을 계측하고, [건조 중량]/[건조 전의 여과액의 양]의 식에 따라 포화 용해 농도를 산출했다.In 23 degreeC, after injecting|throwing-in an excess amount of solid content to a solvent and stirring, solid content was saturated-dissolved, and the dissolved residue solid content was removed by filtration using a 10 micron filter. Thereafter, a predetermined amount of the filtrate was dried in an oven, the dry weight of the solid content was measured, and the saturated dissolved concentration was calculated according to the formula of [dry weight]/[amount of filtrate before drying].

<가접착제 조성물이 든 용기의 제작><Production of container with temporary adhesive composition>

각 용기의 주입구로부터 가접착제 조성물을 충전하여, 가접착제 조성물이 든 용기를 제작했다. 각 용기의 충전율 Y는 하기 표와 같다. 용기로의 충전은, 기온 23℃의 대기하(외기압 1atm)에서 행했다. 또, 가접착제 조성물을 충전한 후, 용기를 온도 23℃의 환경하에서 90일간 각각 보존했다.The provisional adhesive composition was filled from the inlet of each container, and the container containing the temporary adhesive composition was produced. The filling rate Y of each container is shown in the table below. The filling into the container was performed under the atmosphere at a temperature of 23°C (external pressure of 1 atm). Moreover, after filling the temporary adhesive composition, the container was each preserve|saved for 90 days in the environment of the temperature of 23 degreeC.

<파티클 억제의 평가><Evaluation of particle suppression>

상기 보존 후, 스핀 코터를 이용하여, 12인치(1인치는, 2.54cm이다)의 실리콘 웨이퍼에 가접착제 조성물을 도포했다. 이어서, 도포 후의 웨이퍼에 대하여 100℃, 160℃ 및 200℃의 가열 처리를 각각 3분간 행하여, 가접착막을 형성했다. 가접착막의 두께는 20μm이다. 결함 검사 장치 SP-1(KLA제)로, 가접착막 표면의 파티클의 개수를 확인했다. 여기에서, 1000nm 이상의 사이즈를 갖는 이물을 파티클이라고 판단했다. 결과는 하기와 같이 구분하여 평가했다.After the said storage, the temporary adhesive composition was apply|coated to the silicon wafer of 12 inches (1 inch is 2.54 cm) using a spin coater. Next, the wafers after application were subjected to heat treatment at 100°C, 160°C, and 200°C for 3 minutes, respectively, to form a temporary adhesive film. The thickness of the temporary adhesive film is 20 μm. The number of particles on the surface of the temporary adhesive film was confirmed with a defect inspection apparatus SP-1 (manufactured by KLA). Here, it was judged that the foreign material which has a size of 1000 nm or more was a particle. The results were evaluated separately as follows.

·A: 0.015개/cm2 미만A: Less than 0.015 pieces/cm 2

·B: 0.015개/cm2 이상 0.15개/cm2 미만B: 0.015 pieces/cm 2 or more and less than 0.15 pieces/cm 2

·C: 0.15개/cm2 이상・C: 0.15 pieces/cm 2 or more

[표 1][Table 1]

Figure pct00005
Figure pct00005

<원료의 사양><Specification of raw materials>

<<엘라스토머>><<Elastomer>>

·셉톤 4033: (주)구라레제(상품명), 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머· Septon 4033: Kurare Co., Ltd. (brand name), hydrogenated polystyrene-based elastomer

·셉톤 2002: (주)구라레제(상품명), 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머· Septon 2002: Gurarez Co., Ltd. (trade name), hydrogenated polystyrene-based elastomer

·크레이튼 G1652: (주)구라레제(상품명), 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머· Kraton G1652: Kurare Co., Ltd. (trade name), hydrogenated polystyrene-based elastomer

·셉톤 V9827: (주)구라레제(상품명), 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머Septon V9827: Kurare Co., Ltd. (trade name), hydrogenated polystyrene-based elastomer

<<산화 방지제>><<Antioxidant >>

·Irganox1010: BASF 재팬(주)제(상품명)・Irganox1010: BASF Japan Co., Ltd. (brand name)

<<계면활성제>><<Surfactant>>

·KF-6003: 신에쓰 가가쿠 고교(주)제(상품명)・KF-6003: Shin-Etsu Chemical High School Co., Ltd. (brand name)

<<용제>><<Solvent>>

·S-1: 데카하이드로나프탈렌(85wt%) 및 아세트산 뷰틸(15wt%)S-1: decahydronaphthalene (85 wt%) and butyl acetate (15 wt%)

·S-2: 톨루엔(85wt%) 및 아세트산 뷰틸(15wt%)S-2: toluene (85 wt%) and butyl acetate (15 wt%)

·S-3: 메시틸렌(85wt%) 및 아세트산 뷰틸(15wt%)S-3: mesitylene (85wt%) and butyl acetate (15wt%)

·S-4: 아이소프로필알코올·S-4: isopropyl alcohol

표에 나타낸 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 가접착제 조성물을, 본 발명의 바람직한 실시형태로 충전 보존한 경우에는, 가접착막으로서 피가공 부재 등에 적용했을 때에, 파티클 발생을 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다.As can be seen from the results shown in the table, when the temporary adhesive composition is filled and stored in a preferred embodiment of the present invention, it is found that when it is applied to a member to be processed as a temporary adhesive film, generation of particles can be suppressed. could

이에 대하여, 식 (1)의 좌변이 100 이상이 되는 비교예 1, 2 및 4에서는, 가접착막으로서 사용했을 때에 다량의 파티클이 발생해 버렸다.On the other hand, in Comparative Examples 1, 2, and 4 in which the left side of Formula (1) becomes 100 or more, when it used as a temporary adhesive film, a large amount of particles has generate|occur|produced.

<실시예 100><Example 100>

<<적층체의 제작>><<Production of laminate >>

실시예 1~10 및 비교예 1, 2 및 4의 보존 후의 각 가접착제 조성물을 사용하여, 적층체를 이하와 같이 제작했다.Using each temporary adhesive composition after the preservation|save of Examples 1-10 and Comparative Examples 1, 2, and 4, the laminated body was produced as follows.

C4F8 가스를 이용한 플라즈마 CVD법에 의하여, 두께 0.7mm의 판상의 지지체 상에 플루오로카본의 막을 형성했다(FC 처리 1). 이로써, 두께 1μm의 박리층이 형성된 지지체를 얻었다. 다음으로, 725μm의 두께의 반도체 웨이퍼 기판(직경 150mm의 미연삭 실리콘 웨이퍼) 상에, 각 가접착제 조성물을 도포했다. 이어서, 90℃, 160℃ 및 220℃의 각각에 있어서, 단계적으로 10~20분간씩 베이크하여 반도체 웨이퍼 기판 상에, 가접착막으로 이루어지는 가접착층을 형성했다. 베이크 후의 가접착층의 두께는 50μm이다. 마지막으로, 상기 박리층 및 상기 가접착층을, 서로 대향하게 하여 접착시킴으로써, 적층체를 제작했다.A fluorocarbon film was formed on a plate-shaped support having a thickness of 0.7 mm by plasma CVD using C 4 F 8 gas (FC process 1). Thereby, the support body in which the peeling layer of thickness 1 micrometer was formed was obtained. Next, each temporary adhesive composition was apply|coated on the semiconductor wafer board|substrate (unground silicon wafer of 150 mm in diameter) of 725 micrometers in thickness. Next, in each of 90 degreeC, 160 degreeC, and 220 degreeC, it baked for 10-20 minutes step by step, and formed the temporary adhesive layer which consists of a temporary adhesive film on the semiconductor wafer substrate. The thickness of the temporary adhesive layer after baking is 50 micrometers. Finally, the said peeling layer and the said temporary adhesive layer were made to mutually oppose and adhere|attached, and the laminated body was produced.

<<분리성의 평가>><<Evaluation of separability>>

실시예 100에서 얻어진 각 적층체에 대하여, 이하와 같은 처리를 적층체에 각각 실시한 후, 지지체가 반도체 웨이퍼 기판으로부터 분리되는지 아닌지 평가했다.About each laminated body obtained in Example 100, after giving the following processing to a laminated body, respectively, it was evaluated whether a support body is separated from a semiconductor wafer substrate.

적층체 내의 반도체 웨이퍼 기판을 연마 처리에 의하여 박화(薄化)했다. 그 후, 532nm의 파장을 갖는 그린 레이저를, 적층체의 지지체 측으로부터 박리층을 향하여 조사했다. 구체적으로는, 빔 형상이 60μm, 조사 피치가 120μm, 평균 출력이 0.6W, 전송 속도가 3000mm/sec인 532nm의 레이저를, 30kHz 및 50kHz의 펄스 주파수로 적층체 상의 2개소에 조사했다. 레이저의 스캔 횟수는 1회였다.The semiconductor wafer substrate in the laminate was thinned by polishing. Then, the green laser which has a wavelength of 532 nm was irradiated toward the peeling layer from the support body side of a laminated body. Specifically, a 532 nm laser having a beam shape of 60 µm, an irradiation pitch of 120 µm, an average output of 0.6 W, and a transmission speed of 3000 mm/sec was irradiated to two places on the laminate at pulse frequencies of 30 kHz and 50 kHz. The number of scans of the laser was 1 time.

그 결과, 실시예 1~10의 보존 후의 각 가접착제 조성물을 사용한 경우에는, 적층체에 있어서의 박리층은, 레이저 조사를 받아 변질되어 있고, 지지체를 단순히 들어 올리는 것만으로, 지지체는 반도체 웨이퍼 기판으로부터 용이하게 분리되었다. 또, 지지체를 분리 후에, 지지체 및 반도체 웨이퍼 기판의 각 대응면을 육안으로 관찰한 결과, 반도체 웨이퍼 기판 상에 플루오로카본이 변질된 미량의 흑색 분체가 확인된 것 이외에는, 잔사는 없었다.As a result, when each temporary adhesive composition after the storage of Examples 1-10 is used, the peeling layer in a laminated body is changed in quality by receiving laser irradiation, and only lifting a support body, a support body is a semiconductor wafer substrate was easily separated from In addition, after the support was separated, the support and the corresponding surfaces of the semiconductor wafer substrate were visually observed. As a result, there was no residue except that a trace amount of black powder in which the fluorocarbon was altered was confirmed on the semiconductor wafer substrate.

한편, 비교예 1, 2 및 4의 보존 후의 각 가접착제 조성물을 사용한 경우에는, 백색 또는 불투명의 파티클이 현저하게 관찰되어, 명확하게 잔사가 확인되었다.On the other hand, when each temporary adhesive composition after storage of Comparative Examples 1, 2 and 4 was used, white or opaque particles were remarkably observed, and residues were clearly confirmed.

이상과 같이, 본 발명의 보존 방법을 적용함으로써 품질이 높은 기판 제조가 가능해져, 품질 보증상 매우 가치가 있는 개선으로 이어지는 것을 알 수 있었다.As described above, it was found that, by applying the preservation method of the present invention, high-quality substrate production became possible, leading to a very valuable improvement in terms of quality assurance.

1 가접착제 조성물(가접착제)
2 용기 본체
2a 용기의 내면
21 용기 본체의 기부
22 용기의 내면 측의 피복층
3 내측 덮개
31 내측 덮개의 기부
32 내측 덮개의 내면 측의 피복층
4 외측 덮개
7 주입구
8 나사부
9 파티클
10, 20 용기
11, 11a 가접착막
12 캐리어 기재(기판)
100 접착성 캐리어 기재(적층체)
60 디바이스 웨이퍼(피가공 부재)
60a 박형화 디바이스 웨이퍼(가공된 피가공 부재)
61 실리콘 기판
61a 기판 표면
61b 기판 이면
61b1 박형화 디바이스 웨이퍼의 이면
62 디바이스 칩
1 Temporary adhesive composition (temporary adhesive)
2 container body
2a The inner surface of the container
21 Base of container body
22 Coating layer on the inner side of the container
3 inner cover
31 Base of inner cover
32 Coating layer on the inner surface side of the inner cover
4 outer cover
7 inlet
8 thread
9 Particles
10, 20 containers
11, 11a Temporary adhesive film
12 Carrier substrate (substrate)
100 Adhesive carrier substrate (laminate)
60 device wafer (member to be processed)
60a Thinning device wafer (processed member to be processed)
61 silicon substrate
61a substrate surface
61b substrate back side
61b1 Thinning Device Wafer Back Side
62 device chip

Claims (17)

가접착제 조성물과 용기를 갖고,
상기 가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며,
하기 식 (1)을 충족시키는 상태로 상기 가접착제 조성물이 충전된 가접착제 조성물이 든 용기;
[수학식 1]
Figure pct00006

X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율을 나타내는 충전율이며, X와 Y의 단위는 %이다.
Having a temporary adhesive composition and a container,
The temporary adhesive composition includes a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent,
A container containing the temporary adhesive composition filled with the temporary adhesive composition in a state that satisfies the following formula (1);
[Equation 1]
Figure pct00006

X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is a filling rate which shows the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in X and Y unit is %.
청구항 1에 있어서,
상기 폴리스타이렌계 엘라스토머가 수소 첨가 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는, 가접착제 조성물이 든 용기.
The method according to claim 1,
A container containing a temporary adhesive composition, wherein the polystyrene-based elastomer includes a hydrogenated polystyrene-based elastomer.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 유기 용제가, 지방족 탄화 수소 화합물, 방향족 탄화 수소 화합물, 케톤 화합물, 및 에스터 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는, 가접착제 조성물이 든 용기.
The method according to claim 1 or 2,
The container with the temporary adhesive composition in which the said organic solvent contains at least 1 sort(s) of compound selected from the group which consists of an aliphatic hydrocarbon compound, an aromatic hydrocarbon compound, a ketone compound, and an ester compound.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가접착제 조성물이 산화 방지제를 더 포함하는, 가접착제 조성물이 든 용기.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A container containing the temporary adhesive composition, wherein the temporary adhesive composition further comprises an antioxidant.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가접착제 조성물이 계면활성제를 더 포함하는, 가접착제 조성물이 든 용기.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
A container containing the temporary adhesive composition, wherein the temporary adhesive composition further comprises a surfactant.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유기 용제가 방향족 탄화 수소 화합물 또는 에스터 화합물을 포함하는, 가접착제 조성물이 든 용기.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
A container containing the temporary adhesive composition, wherein the organic solvent contains an aromatic hydrocarbon compound or an ester compound.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (1)의 분율 X가 20% 이상 90% 이하인, 가접착제 조성물이 든 용기.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A container containing a temporary adhesive composition, wherein the fraction X of the formula (1) is 20% or more and 90% or less.
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (1)의 충전율 Y가 60% 이상 99.9% 이하인, 가접착제 조성물이 든 용기.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
A container containing a temporary adhesive composition, wherein the filling factor Y of the formula (1) is 60% or more and 99.9% or less.
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가접착제 조성물은, 상기 가접착제 조성물로 형성된 가접착막의 표면에, 플루오로카본을 포함하는 층이 형성되는 용도에 이용되는, 가접착제 조성물이 든 용기.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The temporary adhesive composition is, on the surface of the temporary adhesive film formed of the temporary adhesive composition, a container containing a temporary adhesive composition used for a purpose in which a layer containing a fluorocarbon is formed.
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
상기 용기가, 상기 용기의 내면에, 플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면 및 탈알칼리 처리가 실시된 접액면 중 적어도 1종의 접액면을 포함하는 유리 용기인, 가접착제 조성물이 든 용기.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
The container is a glass container comprising, on the inner surface of the container, at least one wetted surface of a wetted surface consisting of a layer containing fluorocarbon and a wetted surface subjected to de-alkali treatment, a container containing a temporary adhesive composition .
청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 용기가, 상기 가접착제 조성물을 수용하는 용기 본체와, 상기 용기 본체를 닫기 위한 덮개를 갖고,
상기 덮개가, 플루오로카본을 포함하는 층으로 이루어지는 접액면을 갖는, 가접착제 조성물이 든 용기.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
The container has a container body for accommodating the temporary adhesive composition, and a cover for closing the container body,
A container containing a temporary adhesive composition, wherein the lid has a wetted surface comprising a layer containing fluorocarbon.
가접착제 조성물을 용기에 충전하여 보존하는 방법으로서,
상기 가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며,
하기 식 (1)을 충족시키도록, 상기 가접착제 조성물을 상기 용기에 충전하는, 가접착제 조성물의 보존 방법;
[수학식 2]
Figure pct00007

X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율을 나타내는 충전율이며, X와 Y의 단위는 %이다.
A method of preserving the temporary adhesive composition by filling a container, the method comprising:
The temporary adhesive composition includes a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent,
A method for preserving a temporary adhesive composition, wherein the container is filled with the temporary adhesive composition so as to satisfy the following formula (1);
[Equation 2]
Figure pct00007

X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is a filling rate which shows the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in X and Y unit is %.
청구항 12에 있어서,
상기 식 (1)의 분율 X가 20% 이상 90% 이하인, 가접착제 조성물의 보존 방법.
13. The method of claim 12,
The preservation method of the temporary adhesive composition whose fraction X of the said Formula (1) is 20% or more and 90% or less.
청구항 12 또는 청구항 13에 있어서,
상기 식 (1)의 충전율 Y가 60% 이상 99.9% 이하인, 가접착제 조성물의 보존 방법.
14. The method of claim 12 or 13,
The storage method of the temporary adhesive composition whose filling factor Y of said Formula (1) is 60 % or more and 99.9 % or less.
가접착제 조성물을 용기에 충전하여, 가접착제 조성물이 든 용기를 제조하는 방법으로서,
상기 가접착제 조성물이, 폴리스타이렌계 엘라스토머를 포함하는 고형분 및 유기 용제를 포함하며,
하기 식 (1)을 충족시키도록, 상기 가접착제 조성물을 상기 용기에 충전하는, 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법;
[수학식 3]
Figure pct00008

X는 Xb에 대한 Xa의 비율을 나타내는 분율을 나타내고, Xa는 가접착제 조성물 중의 고형분의 배합 농도를 나타내며, Xb는 가접착제 조성물 중의 고형분의 보존 온도에 있어서의 포화 용해 농도를 나타내고, Y는 보존 온도에 있어서의 용기의 용적에 대한 가접착제 조성물의 체적의 비율이며, X와 Y의 단위는 %이다.
A method of manufacturing a container with a temporary adhesive composition by filling a container with the temporary adhesive composition,
The temporary adhesive composition includes a solid content including a polystyrene-based elastomer and an organic solvent,
A method for producing a container with a temporary adhesive composition, in which the container is filled with the temporary adhesive composition so as to satisfy the following formula (1);
[Equation 3]
Figure pct00008

X represents the fraction representing the ratio of Xa to Xb, Xa represents the blending concentration of the solid content in the temporary adhesive composition, Xb represents the saturated dissolution concentration of the solid content in the temporary adhesive composition at the storage temperature, Y is the storage temperature It is the ratio of the volume of the temporary adhesive composition with respect to the volume of the container in in, and the unit of X and Y is %.
청구항 15에 있어서,
상기 식 (1)의 분율 X가 20% 이상 90% 이하인, 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
Fraction X of the formula (1) is 20% or more and 90% or less, the manufacturing method of the container containing the temporary adhesive composition.
청구항 15 또는 청구항 16에 있어서,
상기 식 (1)의 충전율 Y가 60% 이상 99.9% 이하인, 가접착제 조성물이 든 용기의 제조 방법.
17. The method of claim 15 or 16,
The filling factor Y of the formula (1) is 60% or more and 99.9% or less, the manufacturing method of the container containing the temporary adhesive composition.
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