KR20220006365A - Display device using semiconductor light emitting elemetn - Google Patents
Display device using semiconductor light emitting elemetn Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220006365A KR20220006365A KR1020200084238A KR20200084238A KR20220006365A KR 20220006365 A KR20220006365 A KR 20220006365A KR 1020200084238 A KR1020200084238 A KR 1020200084238A KR 20200084238 A KR20200084238 A KR 20200084238A KR 20220006365 A KR20220006365 A KR 20220006365A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light emitting
- semiconductor light
- emitting device
- display
- display device
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 205
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 31
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 69
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 34
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- -1 region Substances 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission
- H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
- H01L27/156—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
- G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
- G09F9/33—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements being semiconductor devices, e.g. diodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0655—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
- H01L25/167—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits comprising optoelectronic devices, e.g. LED, photodiodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다. 여기서 반도체 발광 소자는 마이크로 LED(Light Emitting Diodes)에 대응될 수 있다. 본 발명은 대형화 정형화가 가능한 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device using a semiconductor light emitting device. Here, the semiconductor light emitting device may correspond to micro LEDs (Light Emitting Diodes). The present invention relates to a display device capable of being enlarged and standardized.
최근에는 디스플레이 기술 분야에서 박형, 플렉서블 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치가 개발되고 있다. 현재 상용화된 주요 디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display)와 OLED(Organic Light Emitting Diodes)로 대표되고 있다.Recently, in the field of display technology, a display device having excellent characteristics such as thinness and flexibility has been developed. Currently, commercialized major displays are represented by LCD (Liquid Crystal Display) and OLED (Organic Light Emitting Diodes).
그러나, LCD의 경우에 빠르지 않은 반응 시간과, 플렉서블의 구현이 어렵다는 문제점이 있고, OLED의 경우에 수명이 짧고, 양산 수율이 좋지 않다는 문제점이 있다.However, in the case of LCD, there are problems in that the response time is not fast and it is difficult to implement flexible, and in the case of OLED, there are problems in that the lifespan is short and the mass production yield is not good.
한편, 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 전류를 빛으로 변환시키는 것으로 잘 알려진 반도체 발광 소자로서, 1962년 GaAsP 화합물 반도체를 이용한 적색 LED가 상품화된 것을 시작으로 GaP:N 계열의 녹색 LED와 함께 정보 통신기기를 비롯한 전자장치의 표시 화상용 광원으로 이용되어 왔다. 따라서, 상기 반도체 발광 소자를 이용하여 디스플레이 장치를 구현하여, 전술한 문제점을 해결하는 방안이 제시될 수 있다. 상기 반도체 발광 소자는 필라멘트 기반의 발광 소자에 비해 긴 수명, 낮은 전력 소모, 우수한 초기 구동 특성, 및 높은 진동 저항 등의 다양한 장점을 갖는다.On the other hand, a light emitting diode (Light Emitting Diode: LED) is a semiconductor light emitting device well known for converting current into light. It has been used as a light source for display images of electronic devices including information and communication devices. Accordingly, a method for solving the above-described problems by implementing a display device using the semiconductor light emitting device may be proposed. The semiconductor light emitting device has various advantages, such as a long lifespan, low power consumption, excellent initial driving characteristics, and high vibration resistance, compared to a filament-based light emitting device.
이러한 반도체 발광 소자들을 이용한 디스플레이 장치를 구현하기 위해서는, 매우 많은 수의 반도체 발광 소자들이 필요하다. 따라서 제조 비용을 고려할 때, 동일 면적의 기판에서 생산할 수 있는 반도체 발광 소자의 수량이 증가하도록 상기 개별 반도체 발광 소자의 크기는 소형화되어야 한다.In order to implement a display device using such semiconductor light emitting devices, a very large number of semiconductor light emitting devices are required. Therefore, in consideration of the manufacturing cost, the size of the individual semiconductor light emitting devices should be miniaturized so as to increase the number of semiconductor light emitting devices that can be produced on a substrate of the same area.
반도체 발광 소자가 소형화 됨에 따라 디스플레이 장치를 생산 수율이 감소하는 문제가 있다. 특히 대형 디스플레이 장치의 경우 수율이 현저히 떨어지는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 디스플레이 모듈을 결합하여 대형 디스플레이를 구현하고 있는 실정이다. As the semiconductor light emitting device is miniaturized, there is a problem in that the production yield of the display device is reduced. In particular, in the case of a large display device, there is a problem in that the yield is significantly reduced. In order to solve this problem, a large display is implemented by combining a display module.
다만, 디스플레이 모듈을 조립하여 대형 디스플레이 구현하는 경우, 제작 공차로 인한 디스플레이 모듈 간 갭(gap)이 발생하는 문제 및 물리적으로 디스플레이 모듈간 단차가 발생하는 문제가 있었다.However, when a large display is implemented by assembling a display module, there is a problem that a gap occurs between display modules due to a manufacturing tolerance and a problem that a step difference between the display modules occurs physically.
본 발명의 일 실시예의 목적은, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a display device using a semiconductor light emitting device.
본 발명의 일 실시예의 목적은, 디스플레이 모듈을 타일링하여 대형 디스플레이를 구현하는 것이다. An object of an embodiment of the present invention is to implement a large display by tiling a display module.
본 발명의 일 실시예의 목적은, 타일링된 디스플레이 모듈 간 단차를 최소화 하는 것이다. An object of an embodiment of the present invention is to minimize a step difference between tiled display modules.
본 발명의 일 실시예의 목적은, 타일링된 디스플레이 모듈 간 형성된 갭으로 인한 광학 손실을 방지하는 것이다. It is an object of an embodiment of the present invention to prevent optical loss due to a gap formed between tiled display modules.
나아가, 본 발명의 일 실시예의 또 다른 목적은, 여기에서 언급하지 않은 다양한 문제점들도 해결하고자 한다. 당업자는 명세서 및 도면의 전 취지를 통해 이해할 수 있다.Furthermore, another object of an embodiment of the present invention is to solve various problems not mentioned herein. Those skilled in the art can understand through the whole spirit of the specification and drawings.
상기 목적을 달성하기 위한 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 프레임, 상기 프레임 상에 격자 배열되어 영상 신호를 출력하는 복수의 디스플레이 모듈, 및 복수의 상기 디스플레이 모듈 전면을 연결하도록 코팅된 코팅 레이어를 포함할 수 있다. A display device using a semiconductor light emitting device for achieving the above object includes a frame, a plurality of display modules arranged in a grid on the frame to output image signals, and a coating layer coated to connect the front surfaces of the plurality of display modules can do.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 코팅 레이어는 액상으로 복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면을 코팅한 후 경화되어 복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면 간 단차를 상쇄할 수 있다. In addition, according to an embodiment, the coating layer may be cured after coating the front surfaces of the plurality of display modules with a liquid to offset a step difference between the front surfaces of the plurality of display modules.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 코팅 레이어는 액상에서 소재의 응집력이 상기 디스플레이 모듈의 측면과 부착력 및 소재의 자중 보다 클 수 있다. In addition, according to an embodiment, in the coating layer, the cohesive force of the material in the liquid phase may be greater than the adhesion to the side surface of the display module and the weight of the material.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성된 갭(gap)을 후면 방향에서 실링하는 실링 부재를 더 포함할 수 있다. Also, according to an embodiment, the display device using the semiconductor light emitting device may further include a sealing member for sealing gaps formed between the plurality of display modules in a rear direction.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 실링 부재는 상기 프레임 상의 복수의 상기 디스플레이 모듈이 형성하는 격자 무늬를 따라 구비될 수 있다. Also, according to an embodiment, the sealing member may be provided along a grid pattern formed by the plurality of display modules on the frame.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 코팅 레이어는 복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성되는 갭으로 인입된 돌출부를 포함할 수 있다. Also, according to an embodiment, the coating layer may include a protrusion introduced into a gap formed between the plurality of display modules.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 돌출부는 복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성되는 갭 방향으로 볼록한 곡면부를 포함할 수 있다. Also, according to an embodiment, the protrusion may include a curved portion convex in a gap direction formed between the plurality of display modules.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 코팅 레이어는 에폭시 수지 접착제, 실리콘 수지 접착제, 또는 접착력을 가지는 테이프 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. Also, according to an embodiment, the coating layer may include at least one of an epoxy resin adhesive, a silicone resin adhesive, or a tape having adhesive strength.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 디스플레이 모듈은 배선 회로를 포함하는 베이스 기판, 및 상기 베이스 기판 상에 구비되어 상기 배선 회로에 연결된 복수의 반도체 발광 소자를 포함할 수 있다. Also, according to an embodiment, the display module may include a base substrate including a wiring circuit, and a plurality of semiconductor light emitting devices provided on the base substrate and connected to the wiring circuit.
추가적으로, 상기 목적을 달성하기 위한 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법은, 프레임 상에 복수의 디스플레이 모듈을 배열하는 단계, 복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면이 연결되도록 액상의 코팅 레이어를 코팅하는 단계, 및 복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면 간 단차가 상쇄된 평면 상태에서 상기 코팅 레이어를 경화하는 단계를 포함할 수 있다. Additionally, a method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device for achieving the above object includes arranging a plurality of display modules on a frame, coating a liquid coating layer so that the front surfaces of the plurality of display modules are connected , and curing the coating layer in a flat state in which the step difference between the front surfaces of the plurality of display modules is offset.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 코팅 레이어는 액상에서 소재의 응집력이 상기 디스플레이 모듈의 측면과 부착력 및 소재의 자중 보다 클 수 있다. In addition, according to an embodiment, in the coating layer, the cohesive force of the material in the liquid phase may be greater than the adhesion to the side surface of the display module and the weight of the material.
또한, 일 실시예에 따라, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법은 상기 프레임 상에 상기 디스플레이 모듈이 위치한 영역의 가장자리를 따라 실링 부재를 도포하는 단계를 더 포함할 수 있다. Also, according to an embodiment, the method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device may further include applying a sealing member on the frame along an edge of a region where the display module is located.
또한, 일 실시예에 따라, 상기 실링 부재는 복수의 상기 디스플레이 모듈이 상기 프레임에 배열된 상태에서 복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성된 갭(gap)을 후면 방향에서 실링할 수 있다. Also, according to an embodiment, the sealing member may seal gaps formed between the plurality of display modules in a rear direction in a state in which the plurality of display modules are arranged in the frame.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치 제공할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a display device using a semiconductor light emitting device can be provided.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스플레이 모듈을 타일링하여 대형 디스플레이를 구현할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a large display may be implemented by tiling the display module.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 타일링된 디스플레이 모듈 간 단차를 상쇄할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a step difference between tiled display modules may be offset.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 타일링된 디스플레이 모듈 간 형성된 갭으로 인한 광학 손실을 방지할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, it is possible to prevent optical loss due to a gap formed between tiled display modules.
더 나아가, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 여기에서 언급하지 않은 추가적인 기술적 효과들도 있다. 당업자는 명세서 및 도면의 전 취지를 통해 이해할 수 있다.Furthermore, according to another embodiment of the present invention, there are additional technical effects not mentioned herein. Those skilled in the art can understand through the whole spirit of the specification and drawings.
도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.
도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도 이다.
도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 절단된 단면도들이다.
도 4는 도 3의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.
도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러 가지 형태를 나타내는 개념도들이다.
도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.
도 7은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 절단된 단면도이다.
도 9는 도 8의 수직형 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.
도 10은 디스플레이 모듈이 타일링되어 제작된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 사시도이다.
도 11은 도 10의 A 부분 확대도이다.
도 12는 디스플레이 모듈 간 발생하는 단차를 상쇄하는 코팅 레이어를 설명하기 위한 개념도이다.
도 13은 도12의 B부분 확대도이다.
도 14는 디스플레이 모듈 간 형성된 갭에서 발생하는 광학적 손실을 방지하는 코팅 레이어를 설명하기 위한 개념도이다.
도 15는 일 실시예에 따른 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating an embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
FIG. 2 is a partially enlarged view of part A of FIG. 1 .
3A and 3B are cross-sectional views taken along lines BB and CC of FIG. 2 .
4 is a conceptual diagram illustrating the flip-chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3 .
5A to 5C are conceptual views illustrating various forms of implementing colors in relation to a flip-chip type semiconductor light emitting device.
6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
7 is a perspective view illustrating another embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG. 7 .
9 is a conceptual diagram illustrating the vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8 .
10 is a perspective view of a display device using a semiconductor light emitting device manufactured by tiling a display module.
11 is an enlarged view of part A of FIG. 10 .
12 is a conceptual diagram for explaining a coating layer that offsets a step difference occurring between display modules.
13 is an enlarged view of part B of FIG. 12 .
14 is a conceptual diagram for explaining a coating layer that prevents optical loss occurring in a gap formed between display modules.
15 is a conceptual diagram illustrating a method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device according to an exemplary embodiment.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 됨을 유의해야 한다.Hereinafter, the embodiments disclosed in the present specification will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the same or similar components are assigned the same reference numbers regardless of reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. The suffixes "module" and "part" for components used in the following description are given or mixed in consideration of only the ease of writing the specification, and do not have distinct meanings or roles by themselves. In addition, in describing the embodiments disclosed in the present specification, if it is determined that detailed descriptions of related known technologies may obscure the gist of the embodiments disclosed in the present specification, the detailed description thereof will be omitted. In addition, it should be noted that the accompanying drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and should not be construed as limiting the technical spirit disclosed herein by the accompanying drawings.
나아가, 설명의 편의를 위해 각각의 도면에 대해 설명하고 있으나, 당업자가 적어도 2개 이상의 도면을 결합하여 다른 실시예를 구현하는 것도 본 발명의 권리범위에 속한다.Furthermore, although each drawing is described for convenience of description, it is also within the scope of the present invention that those skilled in the art implement other embodiments by combining at least two or more drawings.
또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 "상(on)"에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 중간 요소가 존재할 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. It is also understood that when an element, such as a layer, region, or substrate, is referred to as being “on” another component, it may be directly present on the other element or intervening elements in between. There will be.
본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치는 단위 화소 또는 단위 화소의 집합으로 정보를 표시하는 모든 디스플레이 장치를 포함하는 개념이다. 따라서 완성품에 한정하지 않고 부품에도 적용될 수 있다. 예를 들어 디지털 TV의 일 부품에 해당하는 패널도 독자적으로 본 명세서 상의 디스플레이 장치에 해당한다. 완성품으로는 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 노트북 컴퓨터(laptop computer), 디지털방송용 단말기, PDA(personal digital assistants), PMP(portable multimedia player), 네비게이션, 슬레이트 피씨(Slate PC), Tablet PC, Ultra Book, 디지털 TV, 데스크 탑 컴퓨터 등이 포함될 수 있다. The display device described herein is a concept including all display devices that display information in a unit pixel or a set of unit pixels. Therefore, it can be applied not only to the finished product but also to parts. For example, a panel corresponding to a part of a digital TV also independently corresponds to a display device in the present specification. The finished products include mobile phones, smart phones, laptop computers, digital broadcasting terminals, personal digital assistants (PDA), portable multimedia players (PMPs), navigation systems, slate PCs, Tablet PCs, Ultra Books, digital TVs, desktop computers, etc. may be included.
그러나, 본 명세서에 기재된 실시예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품 형태라도, 디스플레이가 가능한 장치에는 적용될 수도 있음을 본 기술 분야의 당업자라면 쉽게 알 수 있을 것이다.However, it will be readily apparent to those skilled in the art that the configuration according to the embodiment described herein may be applied to a display capable device even in a new product form to be developed later.
또한, 당해 명세서에서 언급된 반도체 발광 소자는 LED, 마이크로 LED 등을 포함하는 개념이며, 혼용되어 사용될 수 있다.In addition, the semiconductor light emitting device mentioned in this specification is a concept including an LED, a micro LED, and the like, and may be used interchangeably.
도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일실시예를 나타내는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating an embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이, 디스플레이 장치(100)의 제어부(미도시)에서 처리되는 정보는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 이용하여 표시될 수 있다.1 , information processed by a controller (not shown) of the
플렉서블 디스플레이는, 예를 들어 외력에 의하여 휘어질 수 있는, 또는 구부러질 수 있는, 또는 비틀어질 수 있는, 또는 접힐 수 있는, 또는 말려질 수 있는 디스플레이를 포함한다.The flexible display includes, for example, a display that can be bent, bent, or twisted, or folded or rolled by an external force.
나아가, 플렉서블 디스플레이는, 예를 들어 기존의 평판 디스플레이의 디스플레이 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나, 또는 구부리거나, 또는 접을 수 있거나 또는 말 수 있는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 디스플레이가 될 수 있다.Furthermore, the flexible display may be, for example, a display manufactured on a thin and flexible substrate that can be bent, bent, folded, or rolled like paper while maintaining the display characteristics of a conventional flat panel display.
상기 플렉서블 디스플레이가 휘어지지 않는 상태(예를 들어, 무한대의 곡률반경을 가지는 상태, 이하 제1상태라 한다)에서는 상기 플렉서블 디스플레이의 디스플레이 영역이 평면이 된다. 상기 제1상태에서 외력에 의하여 휘어진 상태(예를 들어, 유한의 곡률 반경을 가지는 상태, 이하, 제2상태라 한다)에서는 상기 디스플레이 영역이 곡면이 될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 제2상태에서 표시되는 정보는 곡면상에 출력되는 시각 정보가 될 수 있다. 이러한 시각 정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(sub-pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현된다. 상기 단위 화소는, 예를 들어 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다.In a state in which the flexible display is not bent (eg, a state having an infinite radius of curvature, hereinafter referred to as a first state), the display area of the flexible display becomes a flat surface. In a state bent by an external force in the first state (eg, a state having a finite radius of curvature, hereinafter referred to as a second state), the display area may be a curved surface. 1 , the information displayed in the second state may be visual information output on a curved surface. Such visual information is implemented by independently controlling the emission of sub-pixels arranged in a matrix form. The unit pixel means, for example, a minimum unit for realizing one color.
상기 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 반도체 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 본 발명에서는 전류를 빛으로 변환시키는 반도체 발광 소자의 일 종류로서 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)를 예시한다. 상기 발광 다이오드는 작은 크기로 형성되며, 이를 통하여 상기 제2상태에서도 단위 화소의 역할을 할 수 있게 된다.The unit pixel of the flexible display may be implemented by a semiconductor light emitting device. In the present invention, a light emitting diode (LED) is exemplified as a type of a semiconductor light emitting device that converts current into light. The light emitting diode is formed to have a small size, so that it can serve as a unit pixel even in the second state.
상기 발광 다이오드를 이용하여 구현된 플렉서블 디스플레이에 대하여, 이하 도면들을 참조하여 보다 상세히 설명한다.A flexible display implemented using the light emitting diode will be described in more detail with reference to the drawings below.
도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도 이다.FIG. 2 is a partially enlarged view of part A of FIG. 1 .
도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 절단된 단면도들이다.3A and 3B are cross-sectional views taken along lines B-B and C-C in FIG. 2 .
도 4는 도 3의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.4 is a conceptual diagram illustrating the flip-chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3 .
도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러 가지 형태를 나타내는 개념도들이다.5A to 5C are conceptual views illustrating various forms of implementing colors in relation to a flip-chip type semiconductor light emitting device.
도 2, 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)를 예시한다. 다만, 이하 설명되는 예시는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광 소자에도 적용 가능하다.As shown in FIGS. 2, 3A, and 3B , as the
도 1에 도시된 디스플레이 장치(100)는, 도 2에 도시된 바와 같이 기판(110), 제1전극(120), 전도성 접착층(130), 제2전극(140) 및 적어도 하나의 반도체 발광 소자(150)를 포함한다.The
기판(110)은 플렉서블 기판일 수 있다. 예를 들어, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 기판(110)은 유리나 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면, 예를 들어 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등 어느 것이라도 사용될 수 있다. 또한, 상기 기판(110)은 투명한 재질 또는 불투명한 재질 어느 것이나 될 수 있다.The
상기 기판(110)은 제1전극(120)이 배치되는 배선기판이 될 수 있으며, 따라서 상기 제1전극(120)은 기판(110) 상에 위치할 수 있다.The
도 3a에 도시된 바와 같이 절연층(160)은 제1전극(120)이 위치한 기판(110) 상에 배치될 수 있으며, 상기 절연층(160)에는 보조전극(170)이 위치할 수 있다. 이 경우에, 상기 기판(110)에 절연층(160)이 적층된 상태가 하나의 배선기판이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연층(160)은 폴리이미드(PI, Polyimide), PET, PEN 등과 같이 절연성이 있고, 유연성 있는 재질로, 상기 기판(110)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3A , the insulating
보조전극(170)은 제1전극(120)과 반도체 발광 소자(150)를 전기적으로 연결하는 전극으로서, 절연층(160) 상에 위치하고, 제1전극(120)의 위치에 대응하여 배치된다. 예를 들어, 보조전극(170)은 닷(dot) 형태이며, 절연층(160)을 관통하는 전극홀(171)에 의하여 제1전극(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전극홀(171)은 비아홀에 도전물질이 채워짐에 의하여 형성될 수 있다.The
도 2 또는 도 3a에 도시된 바와 같이, 절연층(160)의 일면에는 전도성 접착층(130)이 형성되나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 절연층(160)과 전도성 접착층(130)의 사이에 특정 기능을 수행하는 레이어가 형성되거나, 절연층(160)이 없이 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조도 가능하다. 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조에서는 전도성 접착층(130)이 절연층의 역할을 할 수 있다.2 or 3A, the conductive
상기 전도성 접착층(130)은 접착성과 전도성을 가지는 층이 될 수 있으며, 이를 위하여 상기 전도성 접착층(130)에서는 전도성을 가지는 물질과 접착성을 가지는 물질이 혼합될 수 있다. 또한 전도성 접착층(130)은 연성을 가지며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 플렉서블 기능을 가능하게 한다.The conductive
이러한 예로서, 전도성 접착층(130)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 상기 전도성 접착층(130)은 두께를 관통하는 Z 방향으로는 전기적 상호 연결을 허용하나, 수평적인 X-Y 방향으로는 전기 절연성을 가지는 레이어로서 구성될 수 있다. 따라서 상기 전도성 접착층(130)은 Z축 전도층으로 명명될 수 있다(다만, 이하 '전도성 접착층'이라 한다).For this example, the conductive
상기 이방성 전도성 필름은 이방성 전도매질(anisotropic conductive medium)이 절연성 베이스부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정 부분만 이방성 전도매질에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이하, 상기 이방성 전도성 필름에는 열 및 압력이 가해지는 것으로 설명하나, 상기 이방성 전도성 필름이 부분적으로 전도성을 가지기 위하여 다른 방법이 적용될 수도 있다. 전술한 다른 방법은, 예를 들어 상기 열 및 압력 중 어느 하나만이 가해지거나 UV 경화 등이 될 수 있다.The anisotropic conductive film is a film in which an anisotropic conductive medium is mixed with an insulating base member, and when heat and pressure are applied, only a specific portion has conductivity by the anisotropic conductive medium. Hereinafter, it will be described that heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film, but other methods may be applied in order for the anisotropic conductive film to have partial conductivity. The other method described above may be, for example, only one of the heat and pressure is applied or UV curing.
또한, 상기 이방성 전도매질은 예를 들어, 도전볼이나 전도성 입자가 될 수 있다. 예를 들어, 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정 부분만 도전볼에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이방성 전도성 필름은 전도성 물질의 코어가 폴리머 재질의 절연막에 의하여 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있으며, 이 경우에 열 및 압력이 가해진 부분이 절연막이 파괴되면서 코어에 의하여 도전성을 가지게 된다. 이때, 코어의 형태는 변형되어 필름의 두께방향으로 서로 접촉하는 층을 이룰 수 있다. 보다 구체적인 예로서, 열 및 압력은 이방성 전도성 필름에 전체적으로 가해지며, 이방성 전도성 필름에 의하여 접착되는 상대물의 높이 차에 의하여 Z축 방향의 전기적 연결이 부분적으로 형성된다.In addition, the anisotropic conductive medium may be, for example, conductive balls or conductive particles. For example, the anisotropic conductive film is a film in which conductive balls are mixed with an insulating base member, and when heat and pressure are applied, only a specific portion has conductivity by the conductive balls. The anisotropic conductive film may be in a state in which a core of a conductive material is covered with a plurality of particles covered by an insulating film made of a polymer material. . At this time, the shape of the core may be deformed to form a layer in contact with each other in the thickness direction of the film. As a more specific example, heat and pressure are applied as a whole to the anisotropic conductive film, and an electrical connection in the Z-axis direction is partially formed by the height difference of an object adhered by the anisotropic conductive film.
다른 예로서, 이방성 전도성 필름은 절연 코어에 전도성 물질이 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있다. 이 경우에는 열 및 압력이 가해진 부분이 전도성 물질이 변형되어(눌러 붙어서) 필름의 두께방향으로 전도성을 가지게 된다. 또 다른 예로서, 전도성 물질이 Z축 방향으로 절연성 베이스 부재를 관통하여 필름의 두께방향으로 전도성을 가지는 형태도 가능하다. 이 경우에, 전도성 물질은 뽀족한 단부를 가질 수 있다.As another example, the anisotropic conductive film may be in a state in which an insulating core contains a plurality of particles coated with a conductive material. In this case, the conductive material is deformed (compressed) in the portion to which heat and pressure are applied, so that it has conductivity in the thickness direction of the film. As another example, a form in which the conductive material penetrates the insulating base member in the Z-axis direction to have conductivity in the thickness direction of the film is also possible. In this case, the conductive material may have a pointed end.
상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재의 일면에 삽입된 형태로 구성되는 고정배열 이방성 전도성 필름(fixed array ACF)이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연성 베이스 부재는 접착성을 가지는 물질로 형성되며, 도전볼은 상기 절연성 베이스 부재의 바닥 부분에 집중적으로 배치되며, 상기 베이스 부재에서 열 및 압력이 가해지면 상기 도전볼과 함께 변형됨에 따라 수직 방향으로 전도성을 가지게 된다.The anisotropic conductive film may be a fixed array anisotropic conductive film (ACF) in which conductive balls are inserted into one surface of the insulating base member. More specifically, the insulating base member is formed of a material having an adhesive property, the conductive balls are intensively disposed on the bottom portion of the insulating base member, and when heat and pressure are applied to the base member, the conductive balls are deformed together. It has conductivity in the vertical direction.
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 이방성 전도성 필름은 절연성 베이스 부재에 도전볼이 랜덤하게 혼입된 형태나, 복수의 층으로 구성되며 어느 한 층에 도전볼이 배치되는 형태(double-ACF) 등이 모두 가능하다.However, the present invention is not necessarily limited thereto, and the anisotropic conductive film has a form in which conductive balls are randomly mixed in an insulating base member, or is composed of a plurality of layers and conductive balls are arranged on one layer (double- ACF) are all possible.
이방성 전도 페이스트는 페이스트와 도전볼의 결합 형태로서, 절연성 및 접착성의 베이스 물질에 도전볼이 혼합된 페이스트가 될 수 있다. 또한, 전도성 입자를 함유한 솔루션은 전도성 파티클 혹은 나노 입자를 함유한 형태의 솔루션이 될 수 있다.The anisotropic conductive paste is a combination of a paste and a conductive ball, and may be a paste in which a conductive ball is mixed with an insulating and adhesive base material. Also, a solution containing conductive particles may be a solution containing conductive particles or nanoparticles.
다시 도3a를 참조하면, 제2전극(140)은 보조전극(170)과 이격하여 절연층(160)에 위치한다. 즉, 상기 전도성 접착층(130)은 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치하는 절연층(160) 상에 배치된다.Referring back to FIG. 3A , the
절연층(160)에 보조전극(170)과 제2전극(140)이 위치된 상태에서 전도성 접착층(130)을 형성한 후에, 반도체 발광 소자(150)를 열 및 압력을 가하여 플립 칩 형태로 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(150)는 제1전극(120) 및 제2전극(140)과 전기적으로 연결된다.After the conductive
도 4를 참조하면, 상기 반도체 발광 소자는 플립 칩 타입(flip chiptype)의 발광 소자가 될 수 있다.Referring to FIG. 4 , the semiconductor light emitting device may be a flip chip type light emitting device.
예를 들어, 상기 반도체 발광 소자는 p형 전극(156), p형 전극(156)이 형성되는 p형 반도체층(155), p형 반도체층(155) 상에 형성된 활성층(154), 활성층(154) 상에 형성된 n형 반도체층(153) 및 n형 반도체층(153) 상에서 p형 전극(156)과 수평방향으로 이격 배치되는 n형 전극(152)을 포함한다. 이 경우, p형 전극(156)은 도3에 도시된, 보조전극(170)과 전도성 접착층(130)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, n형 전극(152)은 제2전극(140)과 전기적으로 연결될 수 있다.For example, the semiconductor light emitting device includes a p-
다시 도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 보조전극(170)은 일방향으로 길게 형성되어, 하나의 보조전극이 복수의 반도체 발광 소자(150)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 보조전극을 중심으로 좌우의 반도체 발광 소자들의 p 형 전극들이 하나의 보조전극에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring back to FIGS. 2, 3A, and 3B , the
보다 구체적으로, 열 및 압력에 의하여 전도성 접착층(130)의 내부로 반도체 발광 소자(150)가 압입되며 이를 통하여 반도체 발광 소자(150)의 p형 전극(156)과 보조전극(170) 사이의 부분과, 반도체 발광 소자(150)의 n형 전극(152)과 제2전극(140) 사이의 부분에서만 전도성을 가지게 되고, 나머지 부분에서는 반도체 발광 소자의 압입이 없어 전도성을 가지지 않게 된다. 이와 같이, 전도성 접착층(130)은 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 사이 및 반도체 발광 소자(150)와 제2전극(140) 사이를 상호 결합시켜줄 뿐만 아니라 전기적 연결까지 형성시킨다.More specifically, the semiconductor
또한, 복수의 반도체 발광 소자(150)는 발광 소자 어레이(array)를 구성하며, 발광 소자 어레이에는 형광체층(180)이 형성된다.In addition, the plurality of semiconductor
발광 소자 어레이는 자체 휘도 값이 상이한 복수의 반도체 발광 소자들을 포함할 수 있다. 각각의 반도체 발광 소자(150)는 단위 화소를 구성하며, 제1전극(120)에 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 제1전극(120)은 복수 개일 수 있고, 반도체 발광 소자들은 예컨대 수 열로 배치되며, 각 열의 반도체 발광 소자들은 상기 복수 개의 제1전극 중 어느 하나에 전기적으로 연결될 수 있다.The light emitting device array may include a plurality of semiconductor light emitting devices having different luminance values. Each semiconductor
또한, 반도체 발광 소자들이 플립 칩 형태로 접속되므로, 투명 유전체 기판에 성장시킨 반도체 발광 소자들을 이용할 수 있다. 또한, 상기 반도체 발광 소자들은 예컨대 질화물 반도체 발광 소자일 수 있다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다.In addition, since the semiconductor light emitting devices are connected in a flip-chip form, semiconductor light emitting devices grown on a transparent dielectric substrate can be used. In addition, the semiconductor light emitting devices may be, for example, nitride semiconductor light emitting devices. Since the semiconductor
도3에 도시된 바와 같이, 반도체 발광 소자(150)의 사이에 격벽(190)이 형성될 수 있다. 이 경우, 격벽(190)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 전도성 접착층(130)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(150)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3 , a barrier rib 190 may be formed between the semiconductor
또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(190)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.In addition, when the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier rib 190 may have reflective properties and increase contrast even without a separate black insulator.
다른 예로서, 상기 격벽(190)으로 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 이 경우에, 상기 격벽(190)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다. 화이트 절연체의 격벽을 이용할 경우 반사성을 높이는 효과가 있을 수 있고, 블랙 절연체의 격벽을 이용할 경우, 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)를 증가시킬 수 있다.As another example, a reflective barrier rib may be separately provided as the barrier rib 190 . In this case, the barrier rib 190 may include a black or white insulator depending on the purpose of the display device. When the barrier ribs made of a white insulator are used, reflectivity may be increased, and when the barrier ribs made of a black insulator are used, it is possible to have reflective properties and increase contrast.
형광체층(180)은 반도체 발광 소자(150)의 외면에 위치할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자고, 형광체층(180)은 상기 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키는 기능을 수행한다. 상기 형광체층(180)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(181) 또는 녹색 형광체(182)가 될 수 있다.The phosphor layer 180 may be located on the outer surface of the semiconductor
즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(181)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자 상에 청색광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(182)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다. 보다 구체적으로, 제1전극(120)의 각 라인을 따라 하나의 색상의 형광체가 적층될 수 있다. 따라서, 제1전극(120)에서 하나의 라인은 하나의 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 즉, 제2전극(140)을 따라서, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 이를 통하여 단위 화소가 구현될 수 있다.That is, a
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 형광체 대신에 반도체 발광 소자(150)와 퀀텀닷(QD)이 조합되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들을 구현할 수 있다.However, the present invention is not necessarily limited thereto, and instead of the phosphor, the semiconductor
또한, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체층들의 사이에는 블랙 매트릭스(191)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(191)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다.In addition, a black matrix 191 may be disposed between each of the phosphor layers to improve contrast. That is, the black matrix 191 may improve contrast of light and dark.
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다.However, the present invention is not necessarily limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green colors may be applied.
도 5a를 참조하면, 각각의 반도체 발광 소자(150)는 질화 갈륨(GaN)을 주재료로 하여, 인듐(In) 및/또는 알루미늄(Al)이 함께 첨가되어 청색을 비롯한 다양한 빛을 발광하는 고출력의 발광 소자로 구현될 수 있다.Referring to FIG. 5A , each semiconductor
이 경우, 반도체 발광 소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자일 수 있다. 예컨대, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자(R, G, B)가 교대로 배치되고, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자에 의하여 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)의 단위 화소들이 하나의 화소(pixel)를 이루며, 이를 통하여 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.In this case, the semiconductor
도 5b를 참조하면, 반도체 발광 소자(150a)는 황색 형광체층이 개별 소자 마다 구비된 백색 발광 소자(W)를 구비할 수 있다. 이 경우에는, 단위 화소를 이루기 위하여, 백색 발광 소자(W) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182), 및 청색 형광체층(183)이 구비될 수 있다. 또한, 이러한 백색 발광 소자(W) 상에 적색, 녹색, 및 청색이 반복되는 컬러 필터를 이용하여 단위 화소를 이룰 수 있다.Referring to FIG. 5B , the semiconductor
도 5c를 참조하면, 자외선 발광 소자(150b) 상에 적색 형광체층(184), 녹색 형광체층(185), 및 청색 형광체층(186)이 구비되는 구조도 가능하다. 이와 같이, 반도체 발광 소자는 가시광선뿐만 아니라 자외선(UV)까지 전 영역에 사용 가능하며, 자외선(UV)이 상부 형광체의 여기원(excitation source)으로 사용 가능한 반도체 발광 소자의 형태로 확장될 수 있다.Referring to FIG. 5C , a structure in which a
본 예시를 다시 살펴보면, 반도체 발광 소자는 전도성 접착층 상에 위치되어, 디스플레이 장치에서 단위 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다.Referring back to this example, the semiconductor light emitting device is positioned on the conductive adhesive layer to constitute a unit pixel in the display device. Since the semiconductor light emitting device has excellent luminance, individual unit pixels can be configured even with a small size.
이와 같은 개별 반도체 발광 소자(150)의 크기는 예를 들어, 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20 X 80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.The size of the individual semiconductor
또한, 한 변의 길이가 10㎛인 정사각형의 반도체 발광 소자(150)를 단위 화소로 이용하여도 디스플레이 장치를 이루기 위한 충분한 밝기가 나타난다.In addition, even when a square semiconductor
따라서, 단위 화소의 크기가 한 변이 600㎛, 나머지 한 변이 300㎛인 직사각형 화소인 경우를 예로 들면, 반도체 발광 소자의 거리가 상대적으로 충분히 크게 된다.Accordingly, if the size of the unit pixel is a rectangular pixel having one side of 600 μm and the other side of 300 μm, for example, the distance between the semiconductor light emitting devices is relatively large.
따라서, 이러한 경우, HD화질 이상의 고화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있게 된다.Accordingly, in this case, it is possible to implement a flexible display device having a high picture quality higher than or equal to HD picture quality.
상기에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는 새로운 형태의 제조방법에 의하여 제조될 수 있다. 이하, 도 6을 참조하여 상기 제조 방법에 대하여 설명한다.The display device using the semiconductor light emitting device described above can be manufactured by a new type of manufacturing method. Hereinafter, the manufacturing method will be described with reference to FIG. 6 .
도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법을 나타낸 단면도들이다.6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
도 6에 도시된 바와 같이, 먼저, 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치된 절연층(160) 상에 전도성 접착층(130)을 형성한다. 배선기판(110)에 절연층(160)이 적층되며, 상기 배선기판(110)에는 제1전극(120), 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 배치된다. 이 경우에, 제1전극(120)과 제2전극(140)은 상호 직교 방향으로 배치될 수 있다. 또한, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 배선기판(110) 및 절연층(160)은 각각 유리 또는 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 6 , first, a conductive
상기 전도성 접착층(130)은 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 의하여 구현될 수 있으며, 이를 위하여 절연층(160)이 위치된 기판에 이방성 전도성 필름이 도포될 수 있다.The conductive
다음에, 보조전극(170) 및 제2전극(140)들의 위치에 대응하고, 개별 화소를 구성하는 복수의 반도체 발광 소자(150)가 위치된 임시기판(112)을, 상기 반도체 발광 소자(150)가 보조전극(170) 및 제2전극(140)와 마주하도록 배치한다.Next, a
이 경우에, 임시기판(112)은 반도체 발광 소자(150)를 성장시키는 성장 기판으로서, 사파이어(spire) 기판 또는 실리콘(silicon) 기판이 될 수 있다.In this case, the
상기 반도체 발광 소자는 웨이퍼(wafer) 단위로 형성될 때, 디스플레이 장치를 이룰 수 있는 간격 및 크기를 가지도록 함으로써, 디스플레이 장치에 효과적으로 이용될 수 있다.When the semiconductor light emitting device is formed in units of wafers, the semiconductor light emitting device can be effectively used in a display device by having an interval and a size that can form a display device.
그 다음에, 배선기판과 임시기판(112)을 열 압착한다. 예를 들어, 배선기판과 임시기판(112)은 ACF 프레스 헤드를 적용하여 열 압착할 수 있다. 상기 열 압착에 의하여 배선기판과 임시기판(112)은 본딩(bonding)된다. 열 압착에 의하여 전도성을 갖는 이방성 전도성 필름의 특성에 의해 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 및 제2전극(140)의 사이의 부분만 전도성을 가지게 되며, 이를 통하여 전극들과 반도체 발광 소자(150)는 전기적으로 연결될 수 있다. 이 때에, 반도체 발광 소자(150)가 상기 이방성 전도성 필름의 내부로 삽입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150) 사이에 격벽이 형성될 수 있다.Then, the wiring board and the
그 다음에, 상기 임시기판(112)을 제거한다. 예를 들어, 임시기판(112)은 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off, LLO) 또는 화학적 리프트 오프법(Chemical Lift-off, CLO)을 이용하여 제거할 수 있다.Then, the
마지막으로, 상기 임시기판(112)을 제거하여 반도체 발광 소자들(150)을 외부로 노출시킨다. 필요에 따라, 반도체 발광 소자(150)가 결합된 배선기판 상을 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 코팅하여 투명 절연층(미도시)을 형성할 수 있다.Finally, the
또한, 상기 반도체 발광 소자(150)의 일 면에 형광체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 적색 형광체 또는 녹색 형광체가 상기 청색 반도체 발광 소자의 일면에 레이어를 형성할 수 있다.In addition, the method may further include forming a phosphor layer on one surface of the semiconductor
이상에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법이나 구조는 여러 가지 형태로 변형될 수 있다. 그 예로서, 상기에서 설명된 디스플레이 장치에는 수직형 반도체 발광 소자도 적용될 수 있다.The manufacturing method or structure of the display device using the semiconductor light emitting device described above may be modified in various forms. As an example, a vertical semiconductor light emitting device may also be applied to the display device described above.
또한, 이하 설명되는 변형예 또는 실시예에서는 앞선 예와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 동일, 유사한 참조번호가 부여되고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음된다.In addition, in the modification or embodiment described below, the same or similar reference numerals are assigned to the same or similar components as those of the preceding example, and the description is replaced with the first description.
도 7은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이고, 도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이며, 도 9은 도 8의 수직형 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG. 7, and FIG. 9 is a vertical type semiconductor light emitting device of FIG. It is a conceptual diagram.
본 도면들을 참조하면, 디스플레이 장치는 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 수직형 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치가 될 수 있다.Referring to the drawings, the display device may be a display device using a passive matrix (PM) type vertical semiconductor light emitting device.
상기 디스플레이 장치는 기판(210), 제1전극(220), 전도성 접착층(230), 제2전극(240) 및 적어도 하나의 반도체 발광 소자(250)를 포함한다.The display device includes a
기판(210)은 제1전극(220)이 배치되는 배선기판으로서, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면 어느 것이라도 사용 가능할 것이다.The
제1전극(220)은 기판(210) 상에 위치하며, 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 상기 제1 전극(220)은 데이터 전극의 역할을 하도록 이루어질 수 있다.The
전도성 접착층(230)은 제1전극(220)이 위치하는 기판(210)상에 형성된다. 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치와 같이, 전도성 접착층(230)은 이방성 전도성 필름(Anisotropy Conductive Film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 다만, 본 실시 예에서도 이방성 전도성 필름에 의하여 전도성 접착층(230)이 구현되는 경우를 예시한다.The conductive
기판(210) 상에 제1전극(220)이 위치하는 상태에서 이방성 전도성 필름을 위치시킨 후에, 반도체 발광 소자(250)를 열 및 압력을 가하여 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(250)가 제1전극(220)과 전기적으로 연결된다. 이 때, 상기 반도체 발광 소자(250)는 제1전극(220) 상에 위치되도록 배치되는 것이 바람직하다.After the anisotropic conductive film is positioned on the
상기 전기적 연결은 전술한 바와 같이, 이방성 전도성 필름에서 열 및 압력이 가해지면 부분적으로 두께방향으로 전도성을 가지기 때문에 생성된다. 따라서, 이방성 전도성 필름에서는 두께 방향으로 전도성을 가지는 부분과 전도성을 가지지 않는 부분으로 구획된다.The electrical connection is created because, as described above, when heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film, it partially has conductivity in the thickness direction. Accordingly, the anisotropic conductive film is divided into a conductive portion and a non-conductive portion in the thickness direction.
또한, 이방성 전도성 필름은 접착 성분을 함유하기 때문에, 전도성 접착층(230)은 반도체 발광 소자(250)와 제1전극(220) 사이에서 전기적 연결뿐만 아니라 기계적 결합까지 구현한다.In addition, since the anisotropic conductive film contains an adhesive component, the conductive
이와 같이, 반도체 발광 소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(250)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(250)의 크기는 예를 들어, 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 예를 들어, 20 X 80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.As described above, the semiconductor
상기 반도체 발광 소자(250)는 수직형 구조가 될 수 있다. The semiconductor
수직형 반도체 발광 소자들의 사이에는, 제1전극(220)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 배치되고, 수직형 반도체 발광 소자(250)와 전기적으로 연결된 복수의 제2전극(240)이 위치한다.A plurality of
도 9를 참조하면, 이러한 수직형 반도체 발광 소자(250)는 p형 전극(256), p형 전극(256) 상에 형성된 p형 반도체층(255), p형 반도체층(255) 상에 형성된 활성층(254), 활성층(254)상에 형성된 n형 반도체층(253) 및 n형 반도체층(253) 상에 형성된 n형 전극(252)을 포함한다. 이 경우, 하부에 위치한 p형 전극(256)은 제1전극(220)과 전도성 접착층(230)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, 상부에 위치한 n형 전극(252)은 후술하는 제2전극(240)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 수직형 반도체 발광 소자(250)는 전극을 상/하로 배치할 수 있으므로, 칩 사이즈를 줄일 수 있다는 큰 강점을 가지고 있다.Referring to FIG. 9 , the vertical semiconductor
다시 도 8을 참조하면, 상기 반도체 발광 소자(250)의 일면에는 형광체층(280)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(250)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자(251)이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 형광체층(280)이 구비될 수 있다. 이 경우에, 형광체층(280)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(281) 및 녹색 형광체(282) 일 수 있다.Referring back to FIG. 8 , a
즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(281)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자 상에 청색광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(282)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다.That is, a
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치에서 전술한 바와 같이, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다.However, the present invention is not necessarily limited thereto, and as described above in a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, other structures for implementing blue, red, and green colors may be applied.
다시 본 실시예를 살펴보면, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치하고, 반도체 발광 소자들(250)과 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 반도체 발광 소자들(250)은 복수의 열로 배치되고, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250)의 열들 사이에 위치할 수 있다.Referring back to the present embodiment, the
개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250) 사이의 거리가 충분히 크기 때문에 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치될 수 있다.Since the distance between the semiconductor
제2전극(240)은 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있으며, 제1전극과 상호 수직한 방향으로 배치될 수 있다.The
또한, 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)는 제2전극(240)에서 돌출된 연결 전극에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 연결 전극이 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 될 수 있다. 예를 들어, n형 전극은 오믹(ohmic) 접촉을 위한 오믹 전극으로 형성되며, 상기 제2전극은 인쇄 또는 증착에 의하여 오믹 전극의 적어도 일부를 덮게 된다. 이를 통하여 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 전기적으로 연결될 수 있다.Also, the
다시 도 8을 참조하면, 상기 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 상에 위치될 수 있다. 경우에 따라, 반도체 발광 소자(250)가 형성된 기판(210) 상에 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 포함하는 투명 절연층(미도시)이 형성될 수 있다. 투명 절연층이 형성된 후에 제2전극(240)을 위치시킬 경우, 상기 제2전극(240)은 투명 절연층 상에 위치하게 된다. 또한, 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 또는 투명 절연층에 이격되어 형성될 수도 있다.Referring back to FIG. 8 , the
만약 반도체 발광 소자(250) 상에 제2전극(240)을 위치시키기 위하여는 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전극을 사용한다면, ITO 물질은 n형 반도체층과는 접착성이 좋지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 반도체 발광 소자(250) 사이에 제2전극(240)을 위치시킴으로써, ITO와 같은 투명 전극을 사용하지 않아도 되는 이점이 있다. 따라서, 투명한 재료 선택에 구속되지 않고, n형 반도체층과 접착성이 좋은 전도성 물질을 수평 전극으로 사용하여 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.If a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) is used to position the
다시 도 8을 참조하면, 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 위치할 수 있다. 즉, 개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250)를 격리시키기 위하여 수직형 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 배치될 수 있다. 이 경우, 격벽(290)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 상기 전도성 접착층(230)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(250)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다.Referring back to FIG. 8 , a
또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(290)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.In addition, when the base member of the anisotropic conductive film is black, the
다른 예로서, 상기 격벽(190)으로서, 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 격벽(290)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다.As another example, as the barrier rib 190 , a reflective barrier rib may be separately provided. The
만일 제2전극(240)이 반도체 발광 소자(250) 사이의 전도성 접착층(230) 상에 바로 위치된 경우, 격벽(290)은 수직형 반도체 발광 소자(250) 및 제2전극(240)의 사이 사이에 위치될 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자(250)를 이용하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있고, 반도체 발광 소자(250)의 거리가 상대적으로 충분히 크게 되어 제2전극(240)을 반도체 발광 소자(250) 사이에 위치시킬 수 있고, HD 화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있는 효과가 있게 된다.If the
또한, 도8에 도시된 바와 같이, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체 사이에는 블랙 매트릭스(291)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(291)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다.Also, as shown in FIG. 8 , a
도 10은 디스플레이 모듈이 타일링되어 제작된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 사시도 이다. 도 11은 도 10의 A 부분 확대도 이다. 10 is a perspective view of a display device using a semiconductor light emitting device manufactured by tiling a display module. 11 is an enlarged view of part A of FIG. 10 .
일 실시예에 따른, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 프레임(310) 및 프레임 상에 격자 배열되어, 영상 신호를 출력하는 디스플레이 모듈(320)을 포함할 수 있다. According to an embodiment, a display device using a semiconductor light emitting device may include a
프레임(310)은 복수의 디스플레이 모듈(320a 내지 320d)을 평면 상태로 지지하는 구성일 수 있다. 프레임(310)은 메탈 소재로 구성되거나, 필름 소재로 복수의 디스플레이 모듈(320a 내지 320d)을 연결하는 구성일 수 있다. 프레임(310)은 복수의 디스플레이 모듈(320a 내지 320d)과 전기적으로 연결되는 커넥터를 포함할 수 있다. 프레임(310)은 상기 커넥터를 통해 전원 또는 데이터 신호를 제공할 수 있다.The
프레임 상에 디스플레이 모듈(320)은 N X M 격자 배열될 수 있다. 구체적으로, 도 10은 프레임(310) 상에 제1 디스플레임 모듈(320a), 제2 디스플레이 모듈(320b), 제3 디스플레이 모듈(320c) 및 제4 디스플레이 모듈(320d)이 격자 배열된 실시예를 도시하고 있다. The
디스플레이 모듈(320)은 배선 회로를 포함하는 베이스 기판(321) 및 베이스 기판(321) 상에 구비되어 상기 배선 회로에 연결되는 복수의 반도체 발광 소자(322)을 포함할 수 있다. 추가적으로, 디스플레이 모듈(320)은 반도체 발광 소자(332)를 실링하는 봉지층(323)을 포함할 수 있다. 기타 디스플레이 모듈(320)은 디스플레이 장치에 사용되는 필름을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 보호 필름, 편광 필름, 위상 지연 필름, 접착 필름, 유색 필름 등일 수 있다. 여기서, 필름은 코팅 레이어(324)에 대응될 수 있다. The
베이스 기판(321)은 도 3a에서 설명한 기판(110), 제1 전극(120), 전도성 접착층(130) 및 제2 전극(140)을 포함하는 구성일 수 있다. The
반도체 발광 소자(322)는 도 4에서 설명한 플립칩 타입의 반도체 발광 소자 또는 도 6에서 설명한 수직형 반도체 발광 소자일 수 있다. 즉, 반도체 발광 소자(322)는 수십 또는 수 마이크로의 마이크로 LED(Micro-LED)에 대응될 수 있다. 여기서, 반도체 발광 소자(322)는 형광층 및 컬러 필터를 포함하는 구성일 수 있다. The semiconductor
반도체 발광 소자(322)는 적색광을 발광하는 반도체 발광 소자(322a), 청색광을 발광하는 반도체 발광 소자(322b) 및 녹색광을 발광하는 반도체 발광 소자(322c)를 포함할 수 있다. 적색광을 발광하는 반도체 발광 소자(322a), 청색광은 발광하는 반도체 발광 소자(322b) 및 녹색광을 발광하는 반도체 발광 소자(322c)는 하나의 세트로 배치되어 디스플레이 장치의 픽셀에 대응될 수 있다. The semiconductor
일 실시예에 따른 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 복수의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)을 타일링 하여 대형 제작될 수 있다. 복수의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)은 격자 배열을 이루고, 인접하는 디스플레이 모듈과 밀착되어 프레임(310) 상에 구비될 수 있다. A display device using a semiconductor light emitting device according to an embodiment may be manufactured on a large scale by tiling the plurality of
다만, 복수의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)를 프레임(310) 상에 타일링하여 제작하는 경우, 다음의 문제 발생할 수 있다. 이와 관련하여서는 도 11을 구제적으로 참조한다. However, when the plurality of
첫째, 각각의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)의 제작 공차 및 프레임(310)에 결합 과정에서 발생할 수 있는 결합 공차로 디스플레이 모듈(320a ~ 320d) 간 단차(d)가 발생할 수 있다. 여기서 단차(d)는 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)의 전면간 높이 차이를 의미할 수 있다. First, a step d between the
각각의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)의 제작 공차는 베이스 기판(321), 봉지층(323) 및 코팅 필름(324) 중 적어도 하나에서 발생하는 제작 공차의 누적 공차일 수 있다. 예를 들어, 베이스 기판(321)간 제작 공차, 봉지층(321)감 제작 공차, 코팅 필름(324) 간 제작 공차는 누적되어 각각의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)간 단차(d)를 증가시킬 수 있다. The manufacturing tolerance of each of the
기존의 디스플레이 장치는 제작 공차를 무시할 수 있는 두께로 제작되었다. 다만, 최근 디스플레이 장치는 가요성이 중요시되며, 점차 두께가 얇아지고 있는 추세이고, 이러한 추세는 디스플레이 모듈간 제작 공차가 두드러지게 하고 있는 요인으로 작용한다. Conventional display devices are manufactured with a thickness that can ignore manufacturing tolerances. However, in recent display devices, flexibility is important, and the thickness is gradually decreasing, and this trend acts as a factor that makes the manufacturing tolerance between display modules stand out.
둘째, 각각의 디스플레이 모듈(320a ~ 320d)는 밀착하여 프레임 상에 배열되지만, 물리적으로 갭(Gap)이 발생할 수 밖에 없다. 갭(Gap)은 광학적 손실을 발생하는 요인으로 작용할 수 있다. 갭(Gap)에 인접하게 배치된 반도체 발광 소자(322)는 각도에 따라 색 구현이 떨어질 수 있다. 구체적으로, 갭(gap)에 인접하게 배치된 반도체 발광 소자는 광학 전반사 원리에 의해 특정 각도로 광을 출광하지 못할 수 있다. 그 원인으로는, 갭(gap)은 굴절률이 낮은 공기 층이 형성되어 있기 때문이다. Second, each of the
광학적 손실을 도 11을 참조하여 설명하면, 제1 디스플레이 모듈(320a)에서 갭(gap)에 인접한 반도체 발광 소자는 제2 디스플레이 모듈(320b) 방향에서 사선으로 바라 봤을 때 적색광(R), 청색광(B) 및 녹색광(G)의 조합을 백색광을 구현하기 어려울 수 있다. 적색광(R), 청색광(B) 및 녹색광(G) 중 적어도 하나는 갭(gap)을 통과하지 못하고 전반사될 수 있다. When the optical loss is described with reference to FIG. 11 , the semiconductor light emitting device adjacent to the gap in the
예를 들어, 제1 디스플레이 모듈(320a)의 최외각에서 조사되는 적색광(R1)은 갭(gap)을 통과하지 못하고, 제1 디스플레이 모듈(320a)의 측면에 전반사 될 수 있다. 이 경우, 제1 디스플레이 모듈(320a)의 최외각에서 조사되는 적색광(R1)은 제2 디스플레이 모듈(320b) 방향에서 사선으로 바라 봤을 때 사용자(400)에게 도달하지 않을 수 있다. For example, the red light R1 irradiated from the outermost portion of the
마찬가지로, 제2 디스플레이 모듈(320b)의 최외각에서 조사되는 녹색광(G2)은 갭(gap)을 통과하지 못하고, 제2디스플레이 모듈(320b)의 측면에 전반사 될 수 있다. 이 경우, 제2 디스플레이 모듈(320b)의 최외각에서 조사되는 녹색광(B2)은 제1 디스플레이 모듈(320a) 방향에서 사선으로 바라 봤을 때 사용자(400)에게 도달하지 않을 수 있다. Likewise, the green light G2 irradiated from the outermost portion of the
상기 문제점을 해결 하기 위한 방안을 이하 검토해 본다. A method for solving the above problem will be reviewed below.
도 12는 디스플레이 모듈 간 발생하는 단차를 상쇄하는 코팅 레이어를 설명하기 위한 개념도이다. 이하 동일 구성에 대한 설명은 도 10 및 도 11을 참조한다. 12 is a conceptual diagram for explaining a coating layer that offsets a step difference occurring between display modules. Hereinafter, the same configuration will be described with reference to FIGS. 10 and 11 .
일 실시예에 따른, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 프레임(310) 및 프레임 상에 격자 배열되어, 영상 신호를 출력하는 디스플레이 모듈(320) 및 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 전면을 연결하도록 코팅된 코팅 레이어(324)를 포함할 수 있다. According to an embodiment, a display device using a semiconductor light emitting device includes a
코팅 레이어(324)는 도 11과 달리 디스플레이 모듈(320a 및 320b) 마다 구분하여 구비되지 않고, 일체로 코팅될 수 있다. 코팅 레이어(324)는 다스플레이 모듈(320a 및 320b) 간 형성된 단차(d)를 상쇄하고, 노출된 외면을 평면 상태로 구현할 수 있다. Unlike FIG. 11 , the
코팅 레이어(324)는 에폭시 수지 접착제, 실리콘 수지 접착제, 또는 접착력을 가지는 테이프 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The
코팅 레이어(324)는 액상 상태에서 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 전면을 코팅한 후 노출된 외면이 평면 상태를 이루도록 경화될 수 있다. 다만, 코팅 레이어(324)을 액상 상태에서 갭(Gap)을 지나도록 코팅되는 경우, 코팅 레이어(324)가 갭(Gap)을 지나 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 배면 방향으로 유출되는 되는 문제가 발생할 수 있다. The
이하에서, 액상의 코팅 레이어(324)가 갭(Gap)을 통해 유출되는 것을 방지하는 방법을 살펴본다. Hereinafter, a method of preventing the
도 13은 도12의 B부분 확대도이다. 이하 동일 구성에 대한 설명은 도 12를 참조한다. 13 is an enlarged view of part B of FIG. 12 . Hereinafter, a description of the same configuration will be referred to FIG. 12 .
일 실시예에 따른, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 프레임(310) 및 프레임 상에 격자 배열되어, 영상 신호를 출력하는 디스플레이 모듈(320) 및 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 전면을 연결하도록 코팅된 코팅 레이어(324)를 포함할 수 있다. According to an embodiment, a display device using a semiconductor light emitting device includes a
코팅 레이어(324)는 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b) 간 형성되는 갭(Gap)으로 인입된 돌출부(3241)를 포함할 수 있다. The
돌출부(3241)는 액상의 코팅 레이어(324)사 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 전면을 코팅한 상태에서 자중(F2) 및 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 부착력(F3)에 의해 형성될 수 있다. The
액상의 코팅 레이어(324)는 경화 되기 전 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b) 간 형성된 갭(Gap)으로 유출되는 것을 방지하기 위해서, 소재의 자중(F2)과 부착력(F3)의 합보다 응집력(F3)이 큰 소재가 이용될 수 있다. 즉, 코팅 레이어(324)는 액상 상태에서 응집력(F3)에 의해서 갭(Gap)으로 유출되지 않을 수 있다. (도 13(a) 참조)In order to prevent the
경우에 따라서, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 복수의 디스플레이 모듈320a 및 320b) 간 형성된 갭(gap)을 후면 방향으로 실링하는 실링 부재(330)을 더 포함할 수 있다. In some cases, the display device using the semiconductor light emitting device may further include a sealing
실링 부재(330)는 액상의 코팅 레이어(324)가 코팅된 상태에서 갭(gap)을 밀폐시키는 구성일 수 있다. 액상의 코팅 레이어(324)는 경화되기 전 실링 부재(330)에 의해 물리적으로 갭(gap)으로 유출되는 것이 방지되거나, 갭(gap) 내부 공간의 압력(F4)으로 유출되는 것이 방지될 수 있다. The sealing
실링 부재(330)는 프레임(310) 상에 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)가 형성하는 격자 무늬를 따라 구비될 수 있다. 구체적으로, 실링 부재(330)는 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)가 위치할 경계를 따라 구비될 수 있다. The sealing
이하에서, 광학적 손실을 방지하는 돌출부(3241)의 기능을 살펴본다. Hereinafter, the function of the
도 14는 디스플레이 모듈 간 형성된 갭에서 발생하는 광학적 손실을 방지하는 코팅 레이어(324)를 설명하기 위한 개념도이다. 이하 동일 구성에 대한 설명은 도 11 내지 도 13을 참조한다. 14 is a conceptual diagram for explaining a
일 실시예에 따른, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는, 프레임(310) 및 프레임 상에 격자 배열되어, 영상 신호를 출력하는 디스플레이 모듈(320) 및 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 전면을 연결하도록 코팅된 코팅 레이어(324)를 포함할 수 있다. According to an embodiment, a display device using a semiconductor light emitting device includes a
코팅 레이어(324)는 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b) 간 형성되는 갭(Gap)으로 인입된 돌출부(3241)를 포함할 수 있다. The
돌출부(3241)는 제1 디스플레이 모듈(320a)에서 갭(gap)에 인접한 반도체 발광 소자(322)가 갭(gap)을 형성하는 제1 디스플레이 모듈(320a)의 측면에서 전반사 되는 것을 방지할 수 있다. 제1 디스플레이 모듈(320a)에서 갭(gap)에 인접한 반도체 발광 소자(322)가 조사하는 광은 갭(gap)을 형성하는 제1 디스플레이 모듈(320a)의 측면 및 돌출부(3241)를 지나 제2 디스플레이 모듈(320b) 방향으로 사선으로 조사될 수 있다. The
예를 들어, 제1 디스플레이 모듈(320a)의 최외각에서 조사되는 적색광(R1)은 갭(gap)에 위치하는 돌출부(3241)에 의해 전반사되지 않고 경로를 유지할 수 있다. 이 경우, 제1 디스플레이 모듈(320a)의 최외각에서 조사되는 적색광(R1)은 제2 디스플레이 모듈(320b) 방향에서 사선으로 바라 봤을 때 사용자(400)에게 도달할 수 있다. For example, the red light R1 irradiated from the outermost portion of the
마찬가지로, 제2 디스플레이 모듈(320b)의 최외각에서 조사되는 녹색광(G2)은 갭(gap)에 위치하는 돌출부(3241)에 의해 전반사되지 않고 경로를 유지할 수 있다. 이 경우, 제2 디스플레이 모듈(320b)의 최외각에서 조사되는 녹색광(B2)은 제1 디스플레이 모듈(320a) 방향에서 사선으로 바라 봤을 때 사용자(400)에게 도달할 수 있다. Similarly, the green light G2 irradiated from the outermost portion of the
돌출부(3241)는 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)간 형성되는 갭(gap) 방향으로 볼록한 곡면부를 포함할 수 있다. 상기 곡면부는 돌출부(3241)의 하부에서 전반사 되지 않고 갭(gap)을 통과한 광의 경로를 보정하여 사용자(400)에게 전달하는 기능을 수행할 수 있다. The
경우에 따라서, 돌출부(3241)는 복수의 디스플레이 모듈(320a 및 320b)간 형성되는 갭(gap) 방향으로 오목한 곡면부를 포함할 수 있다. 상기 곡면부는 돌출부(3241)와 갭(gap)을 형성하는 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 측면간 접하는 면적을 크게하여, 갭(gap)에 인접한 반도체 발광 소자(322)가 갭(gap)을 형성하는 디스플레이 모듈(320a 및 320b)의 측면에서 전반사되는 것을 방지할 수 있다. In some cases, the
도 15는 일 실시예에 따른 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 개념도이다. 이하 동일 구성에 대한 설명은, 도 10 내지 도 14를 참조한다. 15 is a conceptual diagram illustrating a method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device according to an exemplary embodiment. Hereinafter, the same configuration will be described with reference to FIGS. 10 to 14 .
반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법은 프레임(310)을 준비하는 단계(도 15(a))를 포함할 수 있다. 프레임(310)은 복수의 디스플레이 모듈(320)을 평면 상태로 지지하는 구성일 수 있다. 프레임(310)은 메탈 소재로 구성되거나, 필름 소재로 복수의 디스플레이 모듈(320)을 연결하는 구성일 수 있다.A method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device may include preparing the frame 310 ( FIG. 15A ). The
반도체 발광 소자는 프레임(310) 상에 복수의 디스플레이 모듈(320)이 위치할 영역의 가장자리를 따라 실링 부재(330)를 구비하는 단계(도 15(b))를 포함할 수 있다. 실링 부재(330)는 복수의 디스플레이 모듈(320)간 형성된 갭(gap)을 실링하는 기능을 수행할 수 있다. 구체적으로, 실링 부재(330)는 복수의 디스플레이 모듈(320)간 형성된 갭(gap)을 후면 방향에서 실링할 수 있다. 경우에 따라서, 본 단계는 생략될 수 있다. The semiconductor light emitting device may include the step of providing the sealing
반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법은 프레임(310) 상에 복수의 디스플레이 모듈(320)을 배열하는 단계(15(c))를 포함할 수 있다. 프레임(310) 상에 배열된 디스플레이 모듈(320)은 제작 공차 또는 조립 공차에 의해 높이 단차(d)가 발생될 수 있다. 또한, 물리적 한계에 의해서, 복수의 디스플레이 모듈(320)간 갭(gap)이 형성될 수 있다. A method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device may include arranging a plurality of
반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법은, 복수의 디스플레이 모듈(320)의 전면이 연결되도록 액상의 코팅 레이어(324)를 코팅하고, 코팅 레이어(324)가 노출되는 외면을 평면 상태에서 경화하는 단계(도 15(d))를 포함할 수 있다. 코팅 레이어(324)가 액상 상태로 복수의 디스플레이 모듈(320)간 갭(gap) 상에 위치하는 경우, 자중 및 부착력에 의해 갭(gap) 방향으로 돌출된 돌출부(3241)가 형성되고, 돌출부(3241)가 형성된 상태에서 경화될 수 있다. In the method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device, a
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical spirit of the present invention, and various modifications and variations will be possible without departing from the essential characteristics of the present invention by those skilled in the art to which the present invention pertains.
따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다.Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments.
본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.
310: 프레임
320:
디스플레이 모듈
321: 베이스 기판
322: 반도체 발광 소자
323: 봉지층
324: 필름 코팅 레이어
330: 실링 부재
400: 사용자310: frame
320: display module
321: base substrate
322: semiconductor light emitting device
323: encapsulation layer
324: film coating layer
330: sealing member
400: user
Claims (13)
프레임;
상기 프레임 상에 격자 배열되어, 영상 신호를 출력하는 복수의 디스플레이 모듈; 및
복수의 상기 디스플레이 모듈 전면을 연결하도록 코팅된 코팅 레이어;를 포함하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치. A display device using a semiconductor light emitting device, comprising:
frame;
a plurality of display modules arranged in a grid on the frame to output image signals; and
A display device using a semiconductor light emitting device comprising a; a coating layer coated to connect the front surfaces of the plurality of display modules.
상기 코팅 레이어는
액상으로 복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면을 코팅한 후 경화되어 복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면 간 단차를 상쇄하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치. According to claim 1,
The coating layer is
A display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that the front surfaces of the plurality of display modules are coated with liquid and then cured to offset the step difference between the front surfaces of the plurality of display modules.
상기 코팅 레이어는
액상에서 소재의 응집력이 상기 디스플레이 모듈의 측면과의 부착력 및 소자의 자중 보다 큰 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.3. The method of claim 2,
The coating layer is
A display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that the cohesive force of the material in the liquid phase is greater than the adhesive force with the side surface of the display module and the weight of the element.
상기 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는
복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성된 갭(gap)을 후면 방향에서 실링하는 실링 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.3. The method of claim 2,
A display device using the semiconductor light emitting device is
The display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that it further comprises a sealing member for sealing the gap (gap) formed between the plurality of display modules in a rear direction.
상기 실링 부재는
상기 프레임 상에 복수의 상기 디스플레이 모듈이 형성하는 격자 무늬를 따라 구비되는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.5. The method of claim 4,
The sealing member is
A display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that it is provided along a grid pattern formed by a plurality of the display modules on the frame.
상기 코팅 레이어는
복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성되는 갭으로 인입된 돌출부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.According to claim 1,
The coating layer is
A display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that it includes a protrusion introduced into a gap formed between the plurality of display modules.
상기 돌출부는
복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성되는 갭 방향으로 볼록한 곡면부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.7. The method of claim 6,
the protrusion
A display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that it includes a curved portion convex in a gap direction formed between the plurality of display modules.
상기 코팅 레이어는
에폭시 수지 접착제, 실리콘 수지 접착제, 또는 접착력을 가지는 테이프 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.According to claim 1,
The coating layer is
A display device using a semiconductor light emitting device, comprising at least one of an epoxy resin adhesive, a silicone resin adhesive, and a tape having adhesive force.
상기 디스플레이 모듈은
배선 회로를 포함하는 베이스 기판; 및
상기 베이스 기판 상에 구비되어 상기 배선 회로에 연결된 복수의 반도체 발광 소자;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치.According to claim 1,
The display module is
a base substrate including a wiring circuit; and
and a plurality of semiconductor light emitting devices provided on the base substrate and connected to the wiring circuit.
프레임 상에 복수의 디스플레이 모듈을 배열하는 단계;
복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면이 연결되도록 액상의 코팅 레이어를 코팅하는 단계; 및
복수의 상기 디스플레이 모듈의 전면 간 단차가 상쇄된 평면 상태에서 상기 코팅 레이어를 경화하는 단계;를 포함하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법.A method for manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device, comprising:
arranging a plurality of display modules on a frame;
coating a liquid coating layer so that the front surfaces of the plurality of display modules are connected; and
A method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device comprising a; curing the coating layer in a planar state in which the step difference between the front surfaces of the plurality of display modules is offset.
상기 코팅 레이어는
액상에서 소재의 응집력이 상기 디스플레이 모듈의 측면과 부착력 및 소재의 자중 보다 큰 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법.11. The method of claim 10,
The coating layer is
A method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that the cohesive force of the material in the liquid phase is greater than the adhesion to the side surface of the display module and the weight of the material.
반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법은,
상기 프레임 상에 상기 디스플레이 모듈이 위치할 영역의 가장자리를 따라 실링 부재를 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법.11. The method of claim 10,
A method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device,
The method for manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that it further comprises the step of applying a sealing member on the frame along the edge of the region where the display module is to be located.
상기 실링 부재는
복수의 상기 디스플레이 모듈이 상기 프레임에 배열된 상태에서, 복수의 상기 디스플레이 모듈 간 형성된 갭(gap)을 후면 방향에서 실링하는 것을 특징으로 하는, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법.13. The method of claim 12,
The sealing member is
A method of manufacturing a display device using a semiconductor light emitting device, characterized in that in a state in which the plurality of display modules are arranged in the frame, a gap formed between the plurality of display modules is sealed in a rear direction.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200084238A KR20220006365A (en) | 2020-07-08 | 2020-07-08 | Display device using semiconductor light emitting elemetn |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200084238A KR20220006365A (en) | 2020-07-08 | 2020-07-08 | Display device using semiconductor light emitting elemetn |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220006365A true KR20220006365A (en) | 2022-01-17 |
Family
ID=80051680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200084238A KR20220006365A (en) | 2020-07-08 | 2020-07-08 | Display device using semiconductor light emitting elemetn |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20220006365A (en) |
-
2020
- 2020-07-08 KR KR1020200084238A patent/KR20220006365A/en active Search and Examination
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102458007B1 (en) | Fabricating method of display apparatus using semiconductor light emitting device | |
KR20190105537A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
US20220336423A1 (en) | Method for manufacturing display device, and substrate for manufacture of display device | |
KR20190085892A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
KR102227085B1 (en) | Display device using semiconductor light emitting device | |
KR20190075869A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
KR20190104277A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
KR102206782B1 (en) | Display device using semiconductor light emitting diode | |
US20220246583A1 (en) | Display device using semiconductor light-emitting elements, and method for manufacturing same | |
KR20190118992A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
KR20200106039A (en) | Display device using semiconductor light emitting device and manufacturing method thereof | |
KR20200002733A (en) | Display device using light emitting device and manufacturing method thereof | |
KR20190117413A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
KR102145016B1 (en) | Assembly apparatus for assembling semiconductor light emitting diode to display panel | |
KR20190104276A (en) | Display device using micro led and manufacturing method thereof | |
EP3993050A1 (en) | Display apparatus using semiconductor light emitting device | |
KR20190092330A (en) | Display device using micro-led and manufacturing method thereof | |
CN112655091B (en) | Display device using semiconductor light emitting element and method of manufacturing the same | |
KR20200095210A (en) | Semiconductor light emitting device, manufacturing method thereof, and display device including the same | |
US20230328903A1 (en) | Display device | |
KR102193700B1 (en) | Display device using semiconductor light emitting device | |
US20220216382A1 (en) | Display device using semiconductor light emitting diode | |
KR20200005096A (en) | Display device using semiconductor light emitting device and method for manufacturing | |
US20230017298A1 (en) | Display apparatus using semiconductor light emitting device and method for manufacturing same | |
KR20220006365A (en) | Display device using semiconductor light emitting elemetn |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination |