KR20220000588A - 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치 및 그 코팅 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 낙하하는 미세분말들을 부유된 상태로 하여 소스 플라즈마를 증착시키는 것에 의해 표면 코팅을 수행할 수 있도록 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치 및 그 코팅 방법에 관한 것으로, 스퍼터링이 수행되는 챔버; 소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부; 상기 챔버의 상부에서 코팅대상인 미세분말들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및 상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치를 제공한다.

Description

부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치 및 그 코팅 방법{sputtering device for coating floating fine powder and the coating method thereof}

본 발명은 미세분말 코팅에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 낙하하는 미세분말들을 부유된 상태로 하여 소스 플라즈마를 증착시키는 것에 의해 표면 코팅을 수행할 수 있도록 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치 및 그 코팅 방법에 관한 것이다.

도 1은 종래기술의 일 실시예의 평면 스퍼터링 방법에 의한 표면 코팅 과정을 나타내는 도면으로서, 스퍼터 건(1)을 통해 소스(10)를 플라즈마로 변환한 후, 냉각기에 부착된 기판(2)에 위치되는 기판(Metal film)(20)의 표면에 소스(10) 물질을 증착시키는 방법으로 표면 코팅을 수행하게 된다. 상술한 도 1의 평면 스퍼링 방법의 경우 평면 코팅에 최적화 되어 있어, 미세분말의 표면 코팅 시에는 원하는 품질의 표면 코팅을 얻지 못하게 된다.

이에 따라 코어쉘 분말 제작을 위한 다양한 금속/세라믹 분말표면에 이종소재를 코팅하는 공정 등의 미세분말 코팅을 위한 스퍼터링의 경우, 유동층 반응기(Fluidized Bed Reactor)나 임펠러를 이용하여 분산시킨 후 표면에 스퍼터링 증착을 수행하는 기술들이 제안되었다.

그러나 종래기술의 유동층 반응기는 반응 시 생성되는 결정의 크기가 작고 분말이 균일하게 분산 및 회전되지 않아 한 방향으로만 코팅되거나 균일하게 코팅되지 않는 한계점이 있다.

그리고 대한민국 공개특허 제 2000-0038001호 등과 같이 임펠러를 이용하여 자석을 회전시키는 경우에도, 미세분말의 표면에 균일한 코팅 층이 형성되는 것이 어려운 문제점을 가진다.

대한민국 공개특허 제2000-0038001호

따라서 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예는, 스퍼터 건부를 챔버의 내부 중앙의 둘레 영역에 배치한 후, 낙하하는 미세분말들을 캐리어 가스에 의해 일정 시간 부유시킨 상태에서 스퍼터 건부가 소스 플라즈마를 발생시켜 상기 부유하는 미세분말의 표면에 코팅 층을 형성하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치 및 그 코팅 방법을 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.

상술한 본 발명의 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 양태는, 스퍼터링이 수행되는 챔버; 소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부; 상기 챔버의 상부에서 코팅 대상인 미세분말들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및 상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 표면 코팅 코어쉘 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여, 상기 스퍼터 건부에 전력을 공급하여 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말 공급부에서 낙하되며 공급되어 부유하는 상기 분말들의 표면에 증착시켜 표면 코팅을 수행하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치를 제공한다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 챔버는, 캐리어 가스를 공급하도록 저면에 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 공급관; 및 상기 챔버의 상부 측면에 상기 캐리어 가스를 배출하도록 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 배출관;을 더 포함하여 구성되어, 상기 캐리어 가스에 의해 낙하하는 상기 분말들을 일정 시간 부유상태로 유지하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 스퍼터 건부는, 상기 소스 플라즈마를 수평 방향으로 분사하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 스퍼터 건부는, 진동 또는 상기 챔버의 내측면을 따라 회전 구동하며 상기 소스를 플라즈마화시켜 수평방향으로 상기 분말들의 표면에 증착시키도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 분말 공급부는, 코팅 대상인 미세분말들을 수용하는 분말 용기; 및 상기 분말들의 직경보다 큰 직경의 격자를 가지며 상기 분말 용기의 저면에 설치되는 스크린;을 포함하여, 상기 분말들의 표면에 스퍼터링 코팅 시, 상기 스크린을 통해 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 분말 공급부는, 상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 회전하는 것에 의해, 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 분말 공급부는, 상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 진동하는 것에 의해, 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 양태는 스퍼터링이 수행되는 챔버; 소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부; 상기 챔버의 상부에서 코팅 대상인 미세분말들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및 상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 코어쉘 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여 구성되는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치에 의한 미세분말 스퍼터링 코팅 방법에 있어서, 상기 분말 공급부를 통해 분말들을 낙하시키는 분말 공급 단계; 및 상기 스퍼터 건부에 전력을 공급하여 수평 방향으로 소스 플라즈마를 생성하여 공중에 부유된 상기 분말들의 표면에 소스 코팅 층을 형성하는 스퍼터링 코팅 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법을 제공한다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 분말 공급 단계는, 상기 분말 공급부를 회전시켜 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 분말 공급 단계는, 상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 상기 분말 공급부를 진동시켜 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 스퍼터링 코팅 단계는, 상기 스퍼터 건부를 회전 구동시키며 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 스퍼터링 코팅 단계는, 상기 스퍼터 건부를 진동 또는 상기 챔버의 내측면을 따라 회전 구동하며 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성될 수 있다.

상술한 구성을 가지는 본 발명의 일 실시예는, 상부에서 미세분말들을 낙하시켜 공급한 후 캐리어 가스에 의해 일정 시간 부유상태를 유지하고, 중앙에 위치된 스퍼터 건부에서 수평방향으로 챔버 중심 영역으로 소스 플라즈마를 생성하여 부유된 미세분말들의 표면에 스퍼터링 코팅을 수행하는 것에 의해, 미세분말의 표면에 대한 등방성 코팅을 가능하게 하고, 미세분말에 입자상 표면 코팅을 가능하게 하며, 캐리어 가스 압력 또는 미세분말의 낙하량을 조절하여 미세분말의 낙하시간을 제어하는 것에 의해 코팅 층의 두께 조절 및 균일도 제어를 가능하게 하는 효과를 제공한다. 또한 반응기를 회전시켜 미세분말의 분산 및 자전을 유도하여 미세분말 표면상의 코팅층의 균일도 제어를 가능하게 하는 효과를 제공한다.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 종래기술의 스퍼터링 장치의 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시예의 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치(100)의 개략도.
도 3 은 본 발명의 다른 실시예의 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법의 처리과정을 나타내는 순서도.

이하에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 2는 본 발명의 일 실시예의 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치(100)(이하, “스퍼터링 장치(100)”라 함)의 개략도이다.

도 2와 같이, 상기 스퍼터링 장치(100)는 스퍼터링이 수행되는 챔버(110), 소스(123)를 구비하여 상기 챔버(110)의 내부 중앙 둘레 영역에 장착되는 하나 이상의 스퍼터 건부(120), 상기 챔버(110)의 상부에 코팅 대상인 분말(131)들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부(130) 및 상기 챔버(110)의 내부 저면에 설치되어 상기 소스(123)에 의해 표면이 코팅된 코어쉘 분말(137)들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부(140)를 포함하여 구성된다.

상술한 구성의 상기 스퍼터링 장치(100)는 상기 스퍼터 건부(120)에 전력을 공급하여 상기 소스(123)를 플라즈마화하여 상기 분말 공급부(130)에서 낙하되며 공급되어 부유하는 상기 분말(131)의 표면에 증착시켜 표면 코팅을 수행하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.

상기 분말 공급부(130)를 통해 미세분말(131)들을 낙하시켜 공급하여 챔버(110)의 내부에서 상기 분말(131)들이 일정 시간 부유되도록 하고, 상기 스퍼터 건부(120)에 전력을 공급하여 상기 소스(123)를 플라즈마화하여 수평방향으로 분사되도록 하여 상기 소스(123)가 위치된 높이에서 부유 상태로 존재하는 상기 분말(131)들의 표면에 소스 플라즈마(123a)를 증착시켜 표면 코팅층(123b)을 형성하는 것에 의해 미세분말의 표면 코팅을 수행하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.

이때, 상기 스퍼터링 장치(100)는 낙하하는 상기 분말(131)들이 챔버(110)의 내부에서 일정 시간 부유 상태를 유지할 수 있도록 캐리어 가스(150)를 챔버(110)의 하부에서 공급하여 챔버(110)의 측 방향으로 배출하도록 구성된다.

이를 위해, 상기 챔버(110)는 캐리어 가스(150)를 공급하도록 저면에 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 공급관(151) 및 상기 챔버(110)의 상부 측면에 상기 캐리어 가스(150)를 배출하도록 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 배출관(153)을 더 포함하여 구성될 수 있다.

상기 스퍼터 건부(120)는, 진동하며 상기 소스(123)를 플라즈마화시켜 상기 분말(131)의 표면에 증착시키도록 구성될 수 있다. 또한, 상기 스퍼터 건부(120)는 챔버(110)의 내부 영역에서 챔버(110)의 내측면 둘레를 따라 회전 이동하며 소스 플라즈마(123a)를 생성하도록 구성될 수도 있다.

이를 위해, 상기 스퍼터 건부(120)는, 플라즈마 생성부(121)와 소스(123)를포함하여 구성되어 상기 챔버(110)의 내부 상부 영역에서 내측면에 인접되는 위치에 진동 또는 챔버(110)의 내측면을 따라 회전 이동되도록 구성될 수 있다.

상기 분말 공급부(130)는, 코팅 대상인 미세분말(131)들을 수용하는 분말 용기(133), 상기 분말(131)들의 직경보다 큰 직경의 격자를 가지며 상기 분말 용기(133)의 저면에 설치되는 스크린(135)을 포함하여, 상기 분말(131)들의 표면에 스퍼터링 코팅 시, 상기 스크린(135)을 통해 상기 분말(131)들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성될 수 있다.

이때, 상기 분말 공급부(130)는, 상기 분말(131)들의 표면 스퍼터링 코팅 시 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 회전 또는 진동하며 미세분말(131)들을 챔버(110)의 내부로 공급하도록 구성될 수 있다.

도 2와 같이, 스퍼터링 코팅의 수행 시 캐리어 가스(150)는 챔버(110)의 저면에 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 공급관(151)들을 통해 상방향으로 분사된 후, 챔버(110)의 상부 측면에 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 배출관(153)들을 통해 배출되도록 공급되어, 챔버(110)의 내부에서 코팅대상인 미세분말 (131)들을 일정 시간 부유상태로 유지하면서 스퍼터링 코팅에 관여하게 된다.

도 3 은 본 발명의 다른 실시예의 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법(이하, “스퍼터링 코팅 방법” 이라 함)의 처리과정을 나타내는 순서도이다.

도 3과 같이, 상기 스퍼터링 코팅 방법은, 스퍼터링이 수행되는 챔버(110), 소스(123)를 구비하여 상기 챔버(110)의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부(120), 상기 챔버(110)의 상부에 상기 분말(131)들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부(130) 및 상기 챔버(110)의 내부 저면에 설치되어 상기 소스(123)에 의해 표면이 코팅된 코어쉘 분말(137)들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부(140)를 포함하여 구성되는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치(100)에 의해,

상기 분말 공급부(130)를 통해 분말(131)들을 낙하시키는 분말 공급 단계(S10) 및 상기 스퍼터 건부(120)에 전력을 공급하여 소스 플라즈마(123a)를 수평방향으로 생성하여 공중에 부유된 분말(131)들의 표면에 소스 코팅 층(123b)을 형성하는 스퍼터링 코팅 단계(S20)를 포함하여 구성되고, 상기 표면에 소스 코팅 층(123b)이 형성된 표면 코팅 분말(137)들을 표면 코팅 분말 수집부(140)를 이용하여 수집하는 표면 코팅 분말 수집 단계(S13)를 더 포함하여 구성될 수 있다.

상기 분말 공급 단계(S10)는, 상기 분말 공급부(130)를 회전시켜 상기 분말(131)들을 분산시키며 낙하시켜 공급하는 단계일 수 있다. 또한, 상기 분말 공급 단계(S10)는, 상기 분말(131)들의 표면 스퍼터링 코팅 시 상기 분말 공급부(130)를 진동시켜 상기 분말(131)들을 분산시키며 낙하시켜 공급하는 단계일 수도 있다. 또한, 상기 분말(131)들의 표면 스퍼터링 코팅 시 상기 분말 공급부(130)를 회전 및 진동시켜 상기 분말(131)들을 분산시키며 낙하시켜 공급하는 단계일 수도 있다. 또한, 상기 분말 공급 단계(S10)는 캐리어 가스 공급관(151)들을 통해 캐리어 가스를 공급하고, 캐리어 가스 배출관(153)들을 통해 캐리어 가스(150)를 배출하는 것에 의해 낙하되는 분말(131)들을 챔버 내부에서 일정 시간 부유상태로 유지하는 단계를 포함한다. 따라서 상기 챔버(110) 내부로 공급되는 캐리어 가스의 유량 또는 압력을 조절하는 것에 의해 분말(131)들의 부유 시간을 제어할 수 있어, 소스 코팅 층(123b)의 두께 및 균일도를 조절할 수 있게 된다.

상기 스퍼터링 코팅 단계(S20)는, 상기 스퍼터 건부(120)를 진동시키거나 챔버(110)의 내측면을 따라 회전 구동시키거나, 또는 상기 스퍼터 건부(120)를 진동시킴과 동시에 챔버(110)의 내측면을 따라 회전 구동시키며 상기 소스(123)를 플라즈마화하여 수평방향으로 분산 또는 확산되도록 하여 상기 분말(131)들의 표면에 증착시키는 단계일 수 있다

상술한 본 발명의 실시예들은, 상부에서 미세분말들을 낙하시켜 공급하며 캐리어 가스를 이용하여 일정 시간 부유상태를 유지한 후, 중앙에 위치된 스퍼터 건부를 진동 또는 회전시키며 소스 물질의 플라즈마를 수평 방향으로 공급하여 부유 상태의 미세분말의 표면에 대한 스퍼터링 코팅을 수행하는 것에 의해, 미세분말의 표면에 대한 등방성 코팅을 가능하게 하고, 미세분말에 입자상 표면 코팅을 가능하게 하며, 캐리어 가스 압력을 조절하여 미세분말의 낙하시간을 제어하는 것에 의해 코팅 두께 조절을 가능하게 하고, 스퍼터 건부의 회전 또는 진동 속도를 제어하고 반응기를 회전시켜 미세분말의 자전을 유도하여 미세분말의 표면에 형성되는 코팅 층의 균일도 제어를 가능하게 하는 효과를 제공한다.

상술한 구성 및 효과를 가지는 본 발명의 실시예들은, 다양한 미세분말 표면 위에 이종소재를 균일하게 코팅할 수 있도록 한다. 이와 같이, 미세분말의 표면에 이종 소재를 코팅하는 것에 의해, 미세분말의 내구성을 개선할 수 있으며, 물리적(소결 온도 등), 광학적(반사율, 굴절률 등), 전기적 특성(전도도 등)을 제어하여 미세분말의 응용분야를 확대할 수 있도록 한다.

상술한 특징을 가지는 본 발명의 실시예들은, 미세분말이 적용되는 전기전자 및 자동차 산업뿐만 아니라 에너지(배터리 소재 등), 환경(촉매 소재 등) 바이오 (약물방출 및 항균 소재 등) 등의 다양한 산업에 적용될 수 있다.

상기에서 설명한 본 발명의 기술적 사상은 바람직한 실시예에서 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술적 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.

1: 스퍼터 건
2: 기판
10: 소스
20: 미세분말(코팅 대상)
100: 회전식 스퍼터링 장치
110: 챔버
120: 스퍼터 건부
121: 플라즈마 생성부
123: 소스(이종 소재)
123a: 소스 플라즈마
123b: 소스 코팅층
130: 미세분말 공급부
131: 미세분말(코팅 대상)
133: 분말 용기
135: 스크린
137: 표면 코팅 분말 (표면 코팅된 코어쉘 분말)
140: 표면 코팅 분말 수집부
150: 캐리어 가스
151: 캐리어 가스 공급관
153: 캐리어 가스 배출관

Claims (12)

1. 스퍼터링이 수행되는 챔버;
   소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부;
   상기 챔버의 상부에서 미세분말을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및
   상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 표면 코팅 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여,
   상기 스퍼터 건부에 전력을 공급하여 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말 공급부에서 낙하되며 공급되어 부유하는 상기 분말의 표면에 증착시켜 표면 코팅을 수행하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버는,
   캐리어 가스를 공급하도록 저면에 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 공급관; 및
   상기 챔버의 상부 측면에 상기 캐리어 가스를 배출하도록 관통 형성되는 하나 이상의 캐리어 가스 배출관;을 더 포함하여 구성되어,
   상기 캐리어 가스에 의해 낙하하는 상기 분말들을 일정 시간 부유상태로 유지하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 스퍼터 건부는,
   상기 소스 플라즈마를 수평 방향으로 분사하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 스퍼터 건부는,
   진동 또는 상기 챔버의 내측면을 따라 회전 구동하며 상기 소스를 플라즈마화시켜 수평방향으로 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 분말 공급부는,
   미세분말들을 수용하는 분말 용기; 및
   상기 분말들의 직경보다 큰 직경의 격자를 가지며 상기 분말 용기의 저면에 설치되는 스크린;을 포함하여,
   상기 분말들의 표면에 스퍼터링 코팅 시, 상기 스크린을 통해 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 분말 공급부는,
   상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 회전하는 것에 의해, 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
7. 제 1 항에 있어서, 상기 분말 공급부는,
   상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 진동하는 것에 의해, 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치.
8. 스퍼터링이 수행되는 챔버; 소스를 구비하여 상기 챔버의 내부 중앙 둘레 영역에 장착된 스퍼터 건부; 상기 챔버의 상부에서 코팅대상인 미세분말들을 낙하시켜 공급하도록 설치되는 분말 공급부; 및 상기 챔버의 내부 저면에 설치되어 상기 소스에 의해 표면이 코팅된 표면 코팅된 분말들을 수집하는 표면 코팅 분말 수집부;를 포함하여 구성되는 부유식 미세분말 코팅용 스퍼터링 장치에 의한 미세분말 스퍼터링 코팅 방법에 있어서,
   상기 분말 공급부를 통해 분말들을 낙하시키는 분말 공급 단계; 및
   상기 스퍼터 건부에 전력을 공급하여 수평 방향으로 소스 플라즈마를 생성하여 공중에 부유된 상기 분말들의 표면에 소스 코팅 층을 형성하는 스퍼터링 코팅 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법.
9. 제 8 항에 있어서, 상기 분말 공급 단계는,
   상기 분말 공급부를 회전시켜 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법.
10. 제 8 항에 있어서, 상기 분말 공급 단계는,
    상기 분말들의 표면 스퍼터링 코팅 시 상기 분말 공급부를 진동시켜 상기 분말들을 분산시키며 낙하시켜 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법.
11. 제 8 항에 있어서, 상기 스퍼터링 코팅 단계는,
    상기 스퍼터 건부를 회전 구동시키며 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법.
12. 제 8 항에 있어서, 상기 스퍼터링 코팅 단계는,
    상기 스퍼터 건부를 진동 또는 상기 챔버의 내측면을 따라 회전 구동하며 상기 소스를 플라즈마화하여 상기 분말의 표면에 증착시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 부유식 미세분말 스퍼터링 코팅 방법.

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