KR20210148069A - Curable composition, cured product, and method of using the curable composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 함유하는 경화성 조성물, 이 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 그리고, 상기 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이다. 본 발명의 경화성 조성물은 경화성이 우수하다.
(A) 성분 : 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물

Figure pct00014

〔R1 은, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 및, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개이다.〕
(B) 성분 : 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖는 특정한 실리콘 올리고머The present invention relates to a curable composition containing the following components (A) and (B), a cured product obtained by curing the curable composition, and the use of the curable composition as an adhesive for an optical device fixing material or an optical device fixing material sealing material way to do it The curable composition of this invention is excellent in sclerosis|hardenability.
(A) component: Curable polysilsesquioxane compound which has a repeating unit represented by following formula (a-1)
Figure pct00014

[R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent (excluding the group having an epoxy ring), an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a substituent (epoxy at least one selected from the group consisting of an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.]
(B) component: a specific silicone oligomer having a repeating unit derived from a trifunctional silane compound

Description

경화성 조성물, 경화물, 및, 경화성 조성물의 사용 방법Curable composition, cured product, and method of using the curable composition

본 발명은 경화성이 우수한 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 및, 상기 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a curable composition excellent in curability, a cured product obtained by curing the curable composition, and a method of using the curable composition as an adhesive for an optical device fixing material or an optical device fixing material sealing material.

종래, 경화성 조성물은 용도에 따라서 다양한 개량이 이루어지고, 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 산업상 널리 이용되어 왔다.Conventionally, various improvements are made according to the use of a curable composition, and it has been widely used in industry as a raw material of an optical component or a molded object, an adhesive agent, a coating agent, etc.

또, 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제나 광 소자 고정재용 봉지재 등의 광 소자 고정재용 조성물로서도 주목을 받아 오고 있다.Moreover, a curable composition has attracted attention also as a composition for optical element fixing materials, such as an adhesive agent for optical element fixing materials, and a sealing material for optical element fixing materials.

광 소자에는, 반도체 레이저 (LD) 등의 각종 레이저나 발광 다이오드 (LED) 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등이 있다.Examples of the optical element include various lasers such as semiconductor lasers (LD), light-emitting elements such as light-emitting diodes (LEDs), light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits.

최근에는, 발광의 피크 파장이 보다 단파장인 청색광이나 백색광의 광 소자가 개발되어 널리 사용되고 있다. 이와 같은 발광의 피크 파장이 짧은 발광 소자의 고휘도화가 비약적으로 진행되고, 이에 수반하여 광 소자의 발열량이 더욱 커져 가는 경향에 있다.In recent years, optical elements of blue light or white light having a shorter peak wavelength of light emission have been developed and are widely used. The high luminance of the light emitting device having such a short peak wavelength of light emission progresses rapidly, and the amount of heat generated by the optical device tends to increase with this.

그런데, 최근에 있어서의 광 소자의 고휘도화에 수반하여, 광 소자 고정재용 조성물의 경화물이, 보다 높은 에너지의 광이나 광 소자로부터 발생되는 보다 고온의 열에 장시간 노출되어, 접착력이 저하된다는 문제가 발생되었다.However, with the recent increase in luminance of optical devices, the cured product of the optical device fixing material composition is exposed to high energy light or high temperature heat generated from the optical device for a long time, resulting in a decrease in adhesive strength. occurred.

이 문제를 해결하기 위해서, 특허문헌 1 ∼ 3 에는, 폴리실세스퀴옥산 화합물을 주성분으로 하는 광 소자 고정재용 조성물이 제안되어 있다.In order to solve this problem, the composition for optical element fixing materials which has a polysilsesquioxane compound as a main component is proposed by patent documents 1-3.

그런데, 경화성 조성물을 사용하여 광 소자 등을 고정시킬 경우, 작업 시간의 단축화나, 오염의 방지를 위해서, 보다 단시간에 경화시킬 수 있는 경화성 조성물이 요구되고 있었다.By the way, when an optical element etc. are fixed using a curable composition, in order to shorten work time and prevent contamination, the curable composition which can harden|cure in a shorter time has been calculated|required.

일본 공개특허공보 평2004-359933호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-359933 일본 공개특허공보 평2005-263869호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-263869 일본 공개특허공보 평2006-328231호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-328231

본 발명은 상기한 종래 기술의 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 경화성이 우수한 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 및, 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the circumstances of the prior art described above, and comprises a curable composition excellent in curability, a cured product obtained by curing the curable composition, and an adhesive for an optical device fixing material or an optical device fixing material encapsulant. The purpose is to provide a method for using as

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 경화성 조성물에 대해서 예의 검토를 거듭하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, the present inventors repeated earnest examination about the curable composition containing a curable polysilsesquioxane compound.

그 결과, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물과, 에폭시 고리를 갖는 특정한 실리콘 올리고머를 함유하는 경화성 조성물은, 경화성이 우수한 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result, the curable composition containing a curable polysilsesquioxane compound and the specific silicone oligomer which has an epoxy ring discovered that it was excellent in sclerosis|hardenability, and came to complete this invention.

또한, 본 발명에 있어서,「경화성이 우수한」이란, 경화성 조성물이 단시간에 경화된다는 특성을 의미한다.In addition, in this invention, "excellent in sclerosis|hardenability" means the characteristic that a curable composition hardens|cures in a short time.

이렇게 하여, 본 발명에 의하면, 하기〔1〕∼〔7〕의 경화성 조성물,〔8〕, 〔9〕의 경화물, 및〔10〕,〔11〕의 경화성 조성물의 사용 방법이 제공된다.In this way, according to the present invention, there is provided a method of using the curable compositions of the following [1] to [7], the cured products of [8] and [9], and the curable compositions of [10] and [11].

〔1〕하기 (A) 성분, 및, (B) 성분을 함유하는 경화성 조성물.[1] A curable composition comprising the following component (A) and component (B).

(A) 성분 : 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물(A) component: Curable polysilsesquioxane compound which has a repeating unit represented by following formula (a-1)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

〔R1 은, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 및, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개이다.〕[R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent (excluding the group having an epoxy ring), an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a substituent (epoxy at least one selected from the group consisting of an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.]

(B) 성분 : 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 가지며, 또한, 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖거나, 또는 갖지 않는 실리콘 올리고머로서, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계량이, 전체 반복 단위 중 80 ㏖% 이상이고, 상기 3 관능 실란 화합물 중 적어도 1 종이, 에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 3 관능 실란 화합물인 실리콘 올리고머(B) component: a silicone oligomer having a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and having or not having a repeating unit derived from a tetrafunctional silane compound, a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and a tetrafunctional silane compound A silicone oligomer in which the total amount of the derived repeating units is 80 mol% or more of the total repeating units, and at least one of the trifunctional silane compounds is a trifunctional silane compound having a group having an epoxy ring.

〔2〕(A) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 이, 800 ∼ 30,000 인,〔1〕에 기재된 경화성 조성물.[2] The curable composition according to [1], wherein the mass average molecular weight (Mw) of the component (A) is 800 to 30,000.

〔3〕(B) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 이, 500 ∼ 5,000 인,〔1〕또는〔2〕에 기재된 경화성 조성물.[3] The curable composition according to [1] or [2], wherein the mass average molecular weight (Mw) of the component (B) is 500 to 5,000.

〔4〕(B) 성분의 에폭시 당량이, 50 ∼ 2,000 g/eq 인,〔1〕∼〔3〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[4] The curable composition according to any one of [1] to [3], wherein the epoxy equivalent of component (B) is 50 to 2,000 g/eq.

〔5〕(B) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대해서 0.1 ∼ 100 질량부인〔1〕∼〔4〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[5] The curable composition according to any one of [1] to [4], wherein the content of the component (B) is 0.1 to 100 parts by mass relative to 100 parts by mass of the component (A).

〔6〕(A) 성분과 (B) 성분의 합계량이, 경화성 조성물의 고형분 중 30 ∼ 100 질량% 인,〔1〕∼〔5〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[6] The curable composition according to any one of [1] to [5], wherein the total amount of the component (A) and the component (B) is 30 to 100% by mass based on the solid content of the curable composition.

〔7〕추가로, 하기 (C) 성분을 함유하는,〔1〕∼〔6〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[7] The curable composition according to any one of [1] to [6], further comprising the following component (C).

(C) 성분 : 실란 커플링제(C) component: silane coupling agent

〔8〕상기〔1〕∼〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[8] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [7].

〔9〕광 소자 고정재인〔8〕에 기재된 경화물.[9] The cured product according to [8], which is an optical element fixing material.

〔10〕상기〔1〕∼〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.[10] A method in which the curable composition according to any one of [1] to [7] is used as an adhesive for an optical element fixing material.

〔11〕상기〔1〕∼〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법.[11] A method in which the curable composition according to any one of [1] to [7] is used as a sealing material for an optical element fixing material.

본 발명에 의하면, 경화성이 우수한 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물이 경화되어 이루어지는 경화물, 및, 상기 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이 제공된다.According to the present invention, there are provided a curable composition excellent in curability, a cured product obtained by curing the curable composition, and a method of using the curable composition as an adhesive for an optical element fixing material or an optical element fixing material sealing material.

이하, 본 발명을 1) 경화성 조성물, 2) 경화물, 및, 3) 경화성 조성물의 사용 방법으로 항 분류하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by classifying it into 1) a curable composition, 2) a cured product, and 3) a method of using the curable composition.

1) 경화성 조성물1) curable composition

본 발명의 경화성 조성물은, 하기 (A) 성분, 및, (B) 성분을 함유한다.The curable composition of this invention contains the following (A) component and (B) component.

(A) 성분 : 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물(A) component: Curable polysilsesquioxane compound which has a repeating unit represented by following formula (a-1)

(B) 성분 : 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 가지며, 또한, 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖거나, 또는 갖지 않는 실리콘 올리고머로서, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계량이, 전체 반복 단위 중 80 ㏖% 이상이고, 상기 3 관능 실란 화합물 중 적어도 1 종이, 에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 3 관능 실란 화합물인 실리콘 올리고머(B) component: a silicone oligomer having a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and having or not having a repeating unit derived from a tetrafunctional silane compound, a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and a tetrafunctional silane compound A silicone oligomer in which the total amount of the derived repeating units is 80 mol% or more of the total repeating units, and at least one of the trifunctional silane compounds is a trifunctional silane compound having a group having an epoxy ring.

본 발명에 있어서,「경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물」이란, 가열 등의 소정의 조건을 만족함으로써, 단독으로 경화물로 변화하는 폴리실세스퀴옥산 화합물, 또는 경화성 조성물에 있어서 경화성 성분으로서 기능하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 말한다.In the present invention, the "curable polysilsesquioxane compound" refers to a polysilsesquioxane compound that independently changes into a cured product by satisfying predetermined conditions such as heating, or functions as a curable component in a curable composition. polysilsesquioxane compound.

〔(A) 성분〕[(A) component]

본 발명의 경화성 조성물을 구성하는 (A) 성분은, 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (이하,「폴리실세스퀴옥산 화합물 (A)」로 나타내는 경우가 있다.) 이다.Component (A) constituting the curable composition of the present invention is a curable polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (a-1) (hereinafter referred to as “polysilsesquioxane compound (A)”) There are cases).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (a-1) 중, R1 은, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 및, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개이다.(In formula (a-1), R 1 is an unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, a substituent (excluding groups having an epoxy ring) having 1 to 10 C alkyl group, and an unsubstituted C 6 to C 12 alkyl group It is at least 1 selected from the group which consists of an aryl group and a C6-C12 aryl group which has a substituent (except the group which has an epoxy ring).

R1 로 나타내는「무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 탄소수는, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 3 이 보다 바람직하다.1-6 are preferable and, as for carbon number of "the unsubstituted C1-C10 alkyl group" represented by R<1>, 1-3 are more preferable.

「무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있다.Examples of the "unsubstituted C1-C10 alkyl group" include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. are mentioned.

R1 로 나타내는「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 탄소수는, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 3 이 보다 바람직하다. 또한, 이 탄소수는, 치환기를 제외한 부분 (알킬기의 부분) 의 탄소수를 의미하는 것이다. 따라서, R1 이「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」인 경우, R1 의 탄소수는 10 을 초과하는 경우도 있을 수 있다.1-6 are preferable and, as for carbon number of the "C1-C10 alkyl group which has a substituent (except the group which has an epoxy ring)" represented by R<1>, 1-3 are more preferable. In addition, this carbon number means carbon number of the part (part of an alkyl group) excluding a substituent. Accordingly, when R 1 is “an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent (excluding a group having an epoxy ring)”, the number of carbon atoms in R 1 may exceed 10 in some cases.

「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 알킬기로는,「무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group of the “alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent (excluding the group having an epoxy ring)” include the same ones as described as “unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms”.

「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 치환기의 원자수 (단, 수소 원자의 수를 제외한다) 는, 통상적으로 1 ∼ 30, 바람직하게는 1 ∼ 20 이다.The number of atoms (however, excluding the number of hydrogen atoms) of the substituent of the "alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent (excluding the group having an epoxy ring)" is usually 1 to 30, preferably 1 to 20 am.

「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 시아노기 ; 식 : OG 로 나타내는 기 ; 등을 들 수 있다.As a substituent of "a C1-C10 alkyl group which has a substituent (except the group which has an epoxy ring)", Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; cyano group; Formula: group represented by OG; and the like.

여기서, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다. 수산기의 보호기로는, 특별히 제약은 없고, 수산기의 보호기로서 알려져 있는 공지된 보호기를 들 수 있다. 예를 들어, 아실계의 보호기 ; 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, t-부틸디페닐실릴기 등의 실릴계의 보호기 ; 메톡시메틸기, 메톡시에톡시메틸기, 1-에톡시에틸기, 테트라하이드로피란-2-일기, 테트라하이드로푸란-2-일기 등의 아세탈계의 보호기 ; t-부톡시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐계의 보호기 ; 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 옥틸기, 알릴기, 트리페닐메틸기, 벤질기, p-메톡시벤질기, 플루오레닐기, 트리틸기, 벤즈하이드릴기 등의 에테르계의 보호기 ; 등을 들 수 있다.Here, G represents a protecting group of a hydroxyl group. There is no restriction|limiting in particular as a protecting group of a hydroxyl group, Well-known protecting group known as a protecting group of a hydroxyl group is mentioned. For example, an acyl-type protecting group; silyl-based protecting groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group and t-butyldiphenylsilyl group; acetal protecting groups such as a methoxymethyl group, a methoxyethoxymethyl group, a 1-ethoxyethyl group, a tetrahydropyran-2-yl group, and a tetrahydrofuran-2-yl group; Alkoxycarbonyl-type protecting groups, such as a t-butoxycarbonyl group; Ether protecting groups, such as a methyl group, an ethyl group, t-butyl group, an octyl group, an allyl group, a triphenylmethyl group, a benzyl group, p-methoxybenzyl group, a fluorenyl group, a trityl group, and a benzhydryl group; and the like.

R1 로 나타내는「무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 탄소수는 6 이 바람직하다.The number of carbon atoms of the "unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms" represented by R 1 is preferably 6 .

「무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」로는, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기 등을 들 수 있다.As "unsubstituted C6-C12 aryl group", a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, etc. are mentioned.

R1 로 나타내는「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기」의 탄소수는 6 이 바람직하다. 또한, 이 탄소수는, 치환기를 제외한 부분 (아릴기의 부분) 의 탄소수를 의미하는 것이다. 따라서, R1 이「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」인 경우, R1 의 탄소수는 12 를 초과하는 경우도 있을 수 있다.The number of carbon atoms of the "alkyl group having 1 to 12 carbon atoms having a substituent (excluding the group having an epoxy ring)" represented by R 1 is preferably 6; In addition, this carbon number means carbon number of the part (part of an aryl group) excluding a substituent. Accordingly, when R 1 is “an aryl group having 6 to 12 carbon atoms and having a substituent (excluding a group having an epoxy ring)”, the number of carbon atoms in R 1 may exceed 12 in some cases.

「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴」의 아릴기로는,「무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the aryl group for "aryl having 6 to 12 carbon atoms having a substituent (excluding groups having an epoxy ring)" include the same ones as described for "unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms".

「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 치환기의 원자수 (단, 수소 원자의 수를 제외한다) 는, 통상적으로 1 ∼ 30, 바람직하게는 1 ∼ 20 이다.The number of atoms (however, excluding the number of hydrogen atoms) of the substituent of "an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent (excluding a group having an epoxy ring)" is 1 to 30, preferably 1 to It is 20.

「치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기」의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기 등의 알킬기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 등을 들 수 있다.As a substituent of "an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent (excluding a group having an epoxy ring)", a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, and iso Alkyl groups, such as a butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and isooctyl group; Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; and the like.

이 중에서도, R1 로는, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 불소 원자를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 또는 시아노기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 바람직하다.Among these, R 1 is an unsubstituted C1-C10 alkyl group, a fluorine atom-containing C1-C10 alkyl group, an unsubstituted C6-C12 aryl group, or a C1-C10 alkyl group having a cyano group. is preferable

R1 이, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기인 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 경화물이 되는 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다.By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R 1 is an unsubstituted C1-C10 alkyl group, the curable composition used as the hardened|cured material more excellent in heat resistance and adhesiveness is obtained easily.

본 명세서에 있어서,「접착성이 우수한 경화물」이란, 「접착 강도가 높은 경화물」을 의미한다.In this specification, "hardened|cured material excellent in adhesiveness" means "hardened|cured material with high adhesive strength".

R1 이, 불소 원자를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기인 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 굴절률이 낮은 경화성 조성물이나 경화물이 쉽게 얻어지게 된다.By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R<1> is a C1-C10 alkyl group which has a fluorine atom, a low refractive index curable composition and hardened|cured material are obtained easily.

R1 이, 무치환의 탄소수 1 ∼ 12 의 아릴기인 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 굴절률이 높은 경화성 조성물이나 경화물이 쉽게 얻어지게 된다.By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R<1> is an unsubstituted C1-C12 aryl group, a high refractive index curable composition and hardened|cured material are obtained easily.

R1 이, 시아노기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기인 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 고극성 피착체에 대한 접착 강도가 높은 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다.By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a cyano group, a curable composition having high adhesive strength to a highly polar adherend can be easily obtained.

상기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위는, 하기 식으로 나타내는 것이다. 본 명세서에 있어서, O1/2 는, 산소 원자가 인접하는 반복 단위와 공유되어 있는 것을 나타낸다.The repeating unit represented by the formula (a-1) is represented by the following formula. In the present specification, O 1/2 represents that an oxygen atom is shared with an adjacent repeating unit.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (a-2) 로 나타내는 바와 같이, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 일반적으로 T 사이트로 총칭되는, 규소 원자에 산소 원자가 3 개 결합되고, 그 이외의 기 (R1) 가 1 개 결합되어 이루어지는 부분 구조를 갖는다.As shown by formula (a-2), polysilsesquioxane compound (A) has 3 oxygen atoms couple|bonded with the silicon atom generally called T site, and group (R<1> ) other than that is 1 It has a partial structure made up of dog bonds.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 에 포함되는 T 사이트로는, 하기 식 (a-3) ∼ (a-5) 로 나타내는 것을 들 수 있다.Examples of the T site contained in the polysilsesquioxane compound (A) include those represented by the following formulas (a-3) to (a-5).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (a-3) ∼ (a-5) 중, R1 은, 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R2 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타낸다. R2 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등을 들 수 있다. 복수의 R2 끼리는 모두 동일해도 되고 상이해도 된다. 또한, 상기 식 (a-3) ∼ (a-5) 중, * 에는 Si 원자가 결합되어 있다.In formulas (a-3) to (a-5), R 1 has the same meaning as above. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. As a C1-C10 alkyl group of R<2> , a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, etc. are mentioned. A plurality of R 2 s may all be the same or different. In addition, the Si atom is couple|bonded with * in said Formula (a-3) - (a-5).

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 아세톤 등의 케톤계 용매 ; 벤젠 등의 방향족 탄화수소계 용매 ; 디메틸술폭시드 등의 황 함유계 용매 ; 테트라하이드로푸란 등의 에테르계 용매 ; 아세트산에틸 등의 에스테르계 용매 ; 클로로포름 등의 할로겐 함유계 용매 ; 및 이것들의 2 종 이상으로 이루어지는 혼합 용매 ; 등의 각종 유기 용매에 가용 (可溶) 이기 때문에, 이들 용매를 사용하여, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 용액 상태에서의 29Si-NMR 을 측정할 수 있다.The polysilsesquioxane compound (A) is a ketone solvent such as acetone; aromatic hydrocarbon-based solvents such as benzene; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide; Ether solvents, such as tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; halogen-containing solvents such as chloroform; and a mixed solvent composed of two or more thereof; Since it is soluble in various organic solvents, such as, 29 Si-NMR in the solution state of a polysilsesquioxane compound (A) can be measured using these solvent.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 용액 상태에서의 29Si-NMR 을 측정함으로써, 상기 식 (a-3) 으로 나타내는 T3 사이트, 식 (a-4) 로 나타내는 T2 사이트, 식 (a-5) 로 나타내는 T1 사이트의 함유 비율을 구할 수 있다. By measuring 29 Si-NMR in a solution state of the polysilsesquioxane compound (A), the T3 site represented by the formula (a-3), the T2 site represented by the formula (a-4), and the formula (a-5) ), the content ratio of T1 sites can be calculated.

본 발명에서 사용하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 접착 강도를 향상시키는 관점에서, T2 사이트를 10 ∼ 45 ㏖% 함유하는 것이 바람직하고, 15 ∼ 40 ㏖% 함유하는 것이 보다 바람직하며, 20 ∼ 35 ㏖% 함유하는 것이 보다 더 바람직하다.From the viewpoint of improving the adhesive strength, the polysilsesquioxane compound (A) used in the present invention preferably contains 10 to 45 mol% of T2 sites, more preferably 15 to 40 mol%, It is more preferable to contain 20-35 mol%.

또한, 본 발명에서 사용하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 단단하고, 내열성이 우수한 경화물을 얻는 관점에서, T3 사이트를 50 ∼ 90 ㏖% 함유하는 것이 바람직하고, 55 ∼ 85 ㏖% 함유하는 것이 보다 바람직하며, 60 ∼ 80 ㏖% 함유하는 것이 보다 더 바람직하다.Moreover, it is preferable that the polysilsesquioxane compound (A) used by this invention contains 50-90 mol% of T3 sites from a viewpoint of obtaining the hardened|cured material excellent in hard and heat resistance, and 55-85 mol% It is more preferable to contain, and it is still more preferable to contain 60-80 mol%.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중의 상기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 전체 반복 단위에 대해서, 40 ∼ 100 ㏖% 가 바람직하고, 70 ∼ 100 ㏖% 가 보다 바람직하며, 90 ∼ 100 ㏖% 가 더욱 바람직하고, 100 ㏖% 가 특히 바람직하다.40-100 mol% is preferable with respect to all the repeating units, and, as for the content rate of the repeating unit represented by said formula (a-1) in a polysilsesquioxane compound (A), 70-100 mol% is more preferable, , 90-100 mol% is more preferable, and 100 mol% is especially preferable.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 용액 상태에서의 29Si-NMR 을 측정하면, 예를 들어 R1 이 메틸기인 경우, 상기 식 (a-3) 으로 나타내는 구조 중의 규소 원자에서 유래하는 피크 (T3) 는, -70 ppm 이상, -61 ppm 미만의 영역에서 관측되고, 식 (a-4) 로 나타내는 구조 중의 규소 원자에서 유래하는 피크 (T2) 는, -60 ppm 이상, -54 ppm 미만의 영역에 관측되며, 상기 식 (a-5) 로 나타내는 구조 중의 규소 원자에서 유래하는 피크 (T1) 는, -53 ppm 이상, -45 ppm 미만의 영역에서 관측된다. When 29 Si-NMR is measured in the solution state of the polysilsesquioxane compound (A) , for example, when R 1 is a methyl group, a peak derived from a silicon atom in the structure represented by the formula (a-3) above ( T3) is observed in the region of -70 ppm or more and less than -61 ppm, and the peak (T2) derived from the silicon atom in the structure represented by the formula (a-4) is -60 ppm or more and less than -54 ppm The peak (T1) which is observed in the region and derived from the silicon atom in the structure represented by the formula (a-5) is observed in the region of -53 ppm or more and less than -45 ppm.

또한, R1 이 페닐기인 경우, T3 은 -82 ppm 이상, -73 ppm 미만의 영역에서 관측되고, T2 는 -73 ppm 이상, -65 ppm 미만의 영역에서 관측되며, T1 은 -65 ppm 이상, -55 ppm 미만의 영역에서 관측된다.In addition, when R 1 is a phenyl group, T3 is observed in a region of -82 ppm or more and less than -73 ppm, T2 is observed in a region of -73 ppm or more and less than -65 ppm, T1 is -65 ppm or more, It is observed in the region below -55 ppm.

본원 발명의 보다 우수한 효과를 얻는 관점에서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, T3 의 적분치가, T1, T2 및 T3 의 적분치의 합계치에 대해서 60 ∼ 90 % 인 것이 바람직하다.From a viewpoint of acquiring the more excellent effect of this invention, as for the polysilsesquioxane compound (A), it is preferable that the integral of T3 is 60 to 90 % with respect to the total value of the integral of T1, T2, and T3.

29Si-NMR 스펙트럼은, 예를 들어, 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다. 29 Si-NMR spectrum can be measured by the method as described in an Example, for example.

또한, 본 명세서에 있어서,「T1」,「T2」,「T3」등은, 반복 단위의 구조를 나타내는 경우와, 그 구조에 대응하는 NMR 의 피크를 나타내는 경우가 있다.In addition, in this specification, "T1", "T2", "T3", etc. may represent the structure of a repeating unit, and may represent the NMR peak corresponding to the structure.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중의 상기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 전체 반복 단위에 대해서, 40 ㏖% 이상이 바람직하고, 70 ㏖% 이상이 보다 바람직하며, 90 ㏖% 이상이 더욱 바람직하고, 100 ㏖% 가 특히 바람직하다.40 mol% or more is preferable with respect to all repeating units, and, as for the content rate of the repeating unit represented by the said Formula (a-1) in a polysilsesquioxane compound (A), 70 mol% or more is more preferable, 90 mol% or more is more preferable, and 100 mol% is especially preferable.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중의, 상기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 예를 들어, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 29Si-NMR 을 측정함으로써 구할 수 있다.The content rate of the repeating unit represented by the said Formula (a-1) in a polysilsesquioxane compound (A) can be calculated|required by measuring 29 Si-NMR of a polysilsesquioxane compound (A), for example. have.

또한, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 가, 상기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위 이외의 반복 단위를 갖는 경우여도, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는 에폭시 고리를 갖는 기를 갖지 않는 것이다. 이 점에서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 와, (B) 성분의 실리콘 올리고머는 명확하게 구별된다.Further, even when the polysilsesquioxane compound (A) has a repeating unit other than the repeating unit represented by the formula (a-1), the polysilsesquioxane compound (A) does not have a group having an epoxy ring. will be. From this point, a polysilsesquioxane compound (A) and the silicone oligomer of (B) component are distinguished clearly.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 1 종의 R1 을 갖는 것 (단독 중합체) 이어도 되고, 2 종 이상의 R1 을 갖는 것 (공중합체) 이어도 된다. What has 1 type of R<1> (homopolymer) may be sufficient as a polysilsesquioxane compound (A), and what has 2 or more types of R<1> (copolymer) may be sufficient as it.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 가 공중합체인 경우, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 교호 공중합체들 중 어느 것이어도 되지만, 제조 용이성 등의 관점에서는 랜덤 공중합체가 바람직하다.When the polysilsesquioxane compound (A) is a copolymer, the polysilsesquioxane compound (A) may be any of random copolymers, block copolymers, graft copolymers, and alternating copolymers, but ease of manufacture, etc. A random copolymer is preferable from the viewpoint of

또한, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 구조는, 래더형 구조, 더블 데커형 구조, 바구니형 구조, 부분 개열 바구니형 구조, 환상형 구조, 랜덤형 구조 중 어느 구조여도 된다.In addition, the structure of a polysilsesquioxane compound (A) may be any structure of a ladder structure, a double decker type|mold structure, a cage structure, a partial cleavage cage structure, a cyclic structure, and a random structure.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 800 ∼ 30,000, 바람직하게는 1,200 ∼ 20,000, 보다 바람직하게는 1,500 ∼ 18,000, 더욱 바람직하게는 2,500 ∼ 16,000, 특히 바람직하게는 4,000 ∼ 14,000 이다. 질량 평균 분자량 (Mw) 이 상기 범위 내에 있는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 경화물을 제공하는 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다.Although the mass average molecular weight (Mw) of a polysilsesquioxane compound (A) is not specifically limited, Usually, 800-30,000, Preferably 1,200-20,000, More preferably, 1,500-18,000, More preferably, 2,500-16,000 , particularly preferably 4,000 to 14,000. By using the polysilsesquioxane compound (A) having a mass average molecular weight (Mw) within the above range, a curable composition that provides a cured product having more excellent heat resistance and adhesiveness can be easily obtained.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1.0 ∼ 10.0, 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 이다. 분자량 분포 (Mw) 가 상기 범위 내에 있는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 사용함으로써, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 경화물을 제공하는 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다.Although the molecular weight distribution (Mw/Mn) of a polysilsesquioxane compound (A) is not specifically limited, Usually, it is 1.0-10.0, Preferably it is 1.1-6.0. By using the polysilsesquioxane compound (A) having a molecular weight distribution (Mw) within the above range, a curable composition that provides a cured product having more excellent heat resistance and adhesiveness can be easily obtained.

질량 평균 분자량 (Mw) 및 수 평균 분자량 (Mn) 은, 예를 들어, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산치로서 구할 수 있다.A mass average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) can be calculated|required as a standard polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran (THF) as a solvent, for example.

본 발명에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In this invention, a polysilsesquioxane compound (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 하기 식 (a-6) The manufacturing method of a polysilsesquioxane compound (A) is not specifically limited. For example, the following formula (a-6)

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 중, R1 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R3 은 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, p 는 0 ∼ 3 의 정수 (整數) 를 나타낸다. 복수의 R3 및 복수의 X1 은, 각각 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.) (Wherein, R 1 has the same meaning as above. R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p represents an integer of 0 to 3. A plurality of R 3 and a plurality of X 1 may each be the same as or different from each other.)

으로 나타내는 실란 화합물 (1) 의 적어도 1 종을 중축합시킴으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 제조할 수 있다.A polysilsesquioxane compound (A) can be manufactured by polycondensing at least 1 type of the silane compound (1) represented by.

R3 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, R2 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 3 include the same groups as those shown as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 2 .

X1 의 할로겐 원자로는, 염소 원자, 및 브롬 원자 등을 들 수 있다.As a halogen atom of X<1> , a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned.

실란 화합물 (1) 의 구체예로는, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리프로폭시실란 등의 알킬트리알콕시실란 화합물류 ;Specific examples of the silane compound (1) include alkyl trialkoxysilane compounds such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and ethyltripropoxysilane;

메틸클로로디메톡시실란, 메틸클로로디에톡시실란, 메틸디클로로메톡시실란, 메틸브로모디메톡시실란, 에틸클로로디메톡시실란, 에틸클로로디에톡시실란, 에틸디클로로메톡시실란, 에틸브로모디메톡시실란 등의 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ;Methylchlorodimethoxysilane, methylchlorodiethoxysilane, methyldichloromethoxysilane, methylbromodimethoxysilane, ethylchlorodimethoxysilane, ethylchlorodiethoxysilane, ethyldichloromethoxysilane, ethylbromodimethoxysilane, etc. of alkylhalogenoalkoxysilane compounds;

메틸트리클로로실란, 메틸트리브로모실란, 에틸트리클로로실란, 에틸트리브로모실란 등의 알킬트리할로게노실란 화합물류 ;alkyltrihalogenosilane compounds such as methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, ethyltrichlorosilane, and ethyltribromosilane;

3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리에톡시실란, 2-시아노에틸트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리에톡시실란 등의 치환 알킬트리알콕시실란 화합물류 ;3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane, etc. of substituted alkyltrialkoxysilane compounds;

3,3,3-트리플루오로프로필클로로디메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필클로로디에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필디클로로메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필디클로로에톡시실란, 2-시아노에틸클로로디메톡시실란, 2-시아노에틸클로로디에톡시실란, 2-시아노에틸디클로로메톡시실란, 2-시아노에틸디클로로에톡시실란 등의 치환 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ;3,3,3-trifluoropropylchlorodimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropylchlorodiethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyldichloromethoxysilane, 3,3,3 -Trifluoropropyldichloroethoxysilane, 2-cyanoethylchlorodimethoxysilane, 2-cyanoethylchlorodiethoxysilane, 2-cyanoethyldichloromethoxysilane, 2-cyanoethyldichloroethoxysilane, etc. of substituted alkylhalogenoalkoxysilane compounds;

3,3,3-트리플루오로프로필트리클로로실란, 2-시아노에틸트리클로로실란 등의 치환 알킬트리할로게노실란 화합물류 ;substituted alkyltrihalogenosilane compounds such as 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane and 2-cyanoethyltrichlorosilane;

페닐트리메톡시실란, 4-메톡시페닐트리메톡시실란 등의, 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 페닐트리알콕시실란 화합물류 ;Phenyltrialkoxysilane compounds which have a substituent, such as phenyltrimethoxysilane and 4-methoxyphenyltrimethoxysilane, or do not have a substituent;

페닐클로로디메톡시실란, 페닐디클로로메톡시실란, 4-메톡시페닐클로로디메톡시실란, 4-메톡시페닐디클로로메톡시실란 등의, 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 페닐할로게노알콕시실란 화합물류 ;Phenylhalogenoalkoxysilane with or without a substituent, such as phenylchlorodimethoxysilane, phenyldichloromethoxysilane, 4-methoxyphenylchlorodimethoxysilane, and 4-methoxyphenyldichloromethoxysilane compounds;

페닐트리클로로실란, 4-메톡시페닐트리클로로실란 등의, 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 페닐트리할로게노실란 화합물류 ; 등을 들 수 있다.Phenyltrihalogenosilane compounds which have a substituent, such as phenyltrichlorosilane and 4-methoxyphenyltrichlorosilane, or do not have a substituent; and the like.

이들 실란 화합물 (1) 은 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These silane compounds (1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

상기 실란 화합물 (1) 을 중축합시키는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 용매 중, 또는 무용매로, 실란 화합물 (1) 에, 소정량의 중축합 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하는 방법을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, (a) 실란 화합물 (1) 에 소정량의 산 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하는 방법, (b) 실란 화합물 (1) 에 소정량의 염기 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반하는 방법, (c) 실란 화합물 (1) 에 소정량의 산 촉매를 첨가하고, 소정 온도에서 교반한 후, 과잉량의 염기 촉매를 첨가하여 반응계를 염기성으로 하고, 소정 온도에서 교반하는 방법 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 목적으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 효율적으로 얻을 수 있는 점에서, (a) 또는 (c) 의 방법이 바람직하다.The method of polycondensing the said silane compound (1) is not specifically limited. For example, in a solvent or without a solvent, the method of adding a predetermined amount of a polycondensation catalyst to a silane compound (1), and stirring at predetermined temperature is mentioned. More specifically, (a) a method in which a predetermined amount of an acid catalyst is added to the silane compound (1) and stirred at a predetermined temperature; (b) a predetermined amount of a base catalyst is added to the silane compound (1) at a predetermined temperature A method of stirring in (c) adding a predetermined amount of an acid catalyst to the silane compound (1), stirring at a predetermined temperature, adding an excess amount of a base catalyst to make the reaction system basic, and stirring at a predetermined temperature and the like. Among these, the method of (a) or (c) is preferable at the point which can obtain the target polysilsesquioxane compound (A) efficiently.

사용하는 중축합 촉매는, 산 촉매 및 염기 촉매 중 어느 것이어도 된다. 또한, 2 이상의 중축합 촉매를 조합하여 사용해도 되지만, 적어도 산 촉매를 사용하는 것이 바람직하다.Any of an acid catalyst and a base catalyst may be sufficient as the polycondensation catalyst to be used. Moreover, although you may use combining two or more polycondensation catalysts, it is preferable to use an acid catalyst at least.

산 촉매로는, 인산, 염산, 붕산, 황산, 질산 등의 무기산 ; 시트르산, 아세트산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 등의 유기산 ; 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 인산, 염산, 붕산, 황산, 시트르산, 아세트산, 및 메탄술폰산에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다.Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, and nitric acid; organic acids such as citric acid, acetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid; and the like. Among these, at least one selected from phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, citric acid, acetic acid, and methanesulfonic acid is preferable.

염기 촉매로는, 암모니아수 ; 트리메틸아민, 트리에틸아민, 리튬디이소프로필아미드, 리튬비스(트리메틸실릴)아미드, 피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센, 아닐린, 피콜린, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 이미다졸 등의 유기 염기 ; 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄 등의 유기 수산화물 ; 나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 나트륨t-부톡시드, 칼륨t-부톡시드 등의 금속 알콕시드 ; 수소화나트륨, 수소화칼슘 등의 금속 수소화물 ; 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 금속 수산화물 ; 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등의 금속 탄산수소염 ; 등을 들 수 있다.As a base catalyst, Ammonia water; Trimethylamine, triethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bis(trimethylsilyl)amide, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, aniline, picoline, 1,4- organic bases such as diazabicyclo[2.2.2]octane and imidazole; organic hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide; metal hydrides such as sodium hydride and calcium hydride; metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide; metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, and magnesium carbonate; metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like.

중축합 촉매의 사용량은, 실란 화합물 (1) 의 총 ㏖ 량에 대해서, 통상적으로 0.05 ∼ 10 ㏖%, 바람직하게는 0.1 ∼ 5 ㏖% 의 범위이다.The usage-amount of a polycondensation catalyst is 0.05-10 mol% normally with respect to the total mol amount of a silane compound (1), Preferably it is the range of 0.1-5 mol%.

중축합시에 용매를 사용할 경우, 사용하는 용매는, 실란 화합물 (1) 의 종류 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 물 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올 등의 알코올류 ; 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 상기 (c) 의 방법을 채용할 경우, 산 촉매의 존재 하에서, 수계에서 중축합 반응을 행한 후, 반응액에, 유기 용매와 과잉량의 염기 촉매 (암모니아수 등) 를 첨가하고, 염기성 조건 하에서, 추가로 중축합 반응을 행하도록 해도 된다.When using a solvent at the time of polycondensation, the solvent to be used can be suitably selected according to the kind etc. of a silane compound (1). For example, water; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol and t-butyl alcohol; and the like. These solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. In addition, when the method of (c) is adopted, an organic solvent and an excess amount of a base catalyst (such as ammonia water) are added to the reaction solution after polycondensation reaction is performed in an aqueous system in the presence of an acid catalyst, and basic conditions You may make it perform a polycondensation reaction further under the following conditions.

용매의 사용량은, 실란 화합물 (1) 의 총 ㏖ 량 1 ㏖ 당 0.1 리터 이상 10 리터 이하, 바람직하게는 0.1 리터 이상 2 리터 이하이다.The amount of the solvent used is 0.1 liters or more and 10 liters or less, preferably 0.1 liters or more and 2 liters or less, per 1 mol of the total molar amount of the silane compound (1).

실란 화합물 (1) 을 중축합시킬 때의 온도는, 통상적으로 0 ℃ 에서 사용하는 용매의 비점까지의 온도 범위, 바람직하게는 20 ℃ 이상 100 ℃ 이하의 범위이다. 반응 온도가 지나치게 낮으면, 중축합 반응의 진행이 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 반응 온도가 지나치게 높아지면, 겔화 억제가 곤란해진다. 반응은 통상적으로 30 분 내지 30 시간에서 완결된다.The temperature at the time of polycondensing a silane compound (1) is the temperature range from 0 degreeC to the boiling point of the solvent used normally, Preferably it is the range of 20 degreeC or more and 100 degrees C or less. When the reaction temperature is too low, the progress of the polycondensation reaction may become insufficient. On the other hand, when the reaction temperature becomes too high, suppression of gelation becomes difficult. The reaction is usually completed in 30 minutes to 30 hours.

또한, 사용하는 모노머의 종류에 따라서는, 고분자량화가 곤란한 경우가 있다. 예를 들어, R1 이 불소 원자를 갖는 알킬기인 모노머는, R1 이 통상의 알킬기인 모노머보다도 반응성이 떨어지는 경향이 있다. 이와 같은 경우, 촉매량을 줄이면서, 그리고, 마일드한 조건에서 장시간 반응을 행함으로써, 목적으로 하는 분자량의 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 가 쉽게 얻어지게 된다.Moreover, depending on the kind of monomer to be used, it may be difficult to make high molecular weight. For example, the alkyl group of R 1 is a monomer having a fluorine atom, R 1 may have less tendency than the conventional reactive group of the monomer. In such a case, the polysilsesquioxane compound (A) of the target molecular weight can be obtained easily by performing reaction for a long time on mild conditions and reducing a catalyst amount.

반응 종료 후에는, 산 촉매를 사용한 경우에는, 반응 용액에 탄산수소나트륨 등의 알칼리 수용액을 첨가함으로써 중화를 행하고, 또한 염기 촉매를 사용한 경우에는, 반응 용액에 염산 등의 산을 첨가함으로써 중화를 행하고, 그 때에 발생되는 염을 여과 분리 또는 수세 등에 의해서 제거하여, 목적으로 하는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 얻을 수 있다.After completion of the reaction, when an acid catalyst is used, neutralization is performed by adding an aqueous alkali solution such as sodium hydrogen carbonate to the reaction solution, and when a base catalyst is used, neutralization is performed by adding an acid such as hydrochloric acid to the reaction solution, , the salt generated at that time can be removed by filtration, washing with water, or the like to obtain the target polysilsesquioxane compound (A).

상기 방법에 의해서, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 를 제조할 때, 실란 화합물 (1) 의 OR3 또는 X1 중, 탈알코올 등이 일어나지 않았던 부분은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중에 잔존한다. 이 때문에, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 중에, 상기 식 (a-3) 으로 나타내는 반복 단위 이외에, 상기 식 (a-4), 식 (a-5) 로 나타내는 반복 단위가 포함되는 경우가 있다.By the above method, when manufacturing the polysilsesquioxane compound (A), OR 3 or X 1 part of, that was a de-alcohol such as occur in the silane compound (1), polysilsesquioxane compound (A) remaining in the For this reason, in the polysilsesquioxane compound (A), the case where the repeating unit represented by said Formula (a-4) and Formula (a-5) other than the repeating unit represented by said Formula (a-3) is contained have.

〔(B) 성분〕[(B) component]

본 발명의 경화성 조성물을 구성하는 (B) 성분은, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 가지며, 또한, 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖거나, 또는 갖지 않는 실리콘 올리고머로서, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계량이, (B) 성분의 전체 반복 단위 중 80 ㏖% 이상이고, 상기 3 관능 실란 화합물 중 적어도 1 종이, 에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 3 관능 실란 화합물인 실리콘 올리고머 (이하,「실리콘 올리고머 (B)」 로 나타내는 경우가 있다.) 이다.The component (B) constituting the curable composition of the present invention is a silicone oligomer having a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and having or not having a repeating unit derived from a tetrafunctional silane compound, and a trifunctional silane compound The total amount of the repeating unit derived from the tetrafunctional silane compound and the repeating unit derived from the tetrafunctional silane compound is 80 mol% or more of the total repeating units of component (B), and at least one of the trifunctional silane compounds is a trifunctional group having an epoxy ring. It is a silicone oligomer (Hereinafter, it may represent as "silicone oligomer (B)") which is a silane compound.

본 발명에 있어서, 실리콘 올리고머란, 실란 화합물 중합체로서 중합도가 높지 않은 것을 말한다. 실리콘 올리고머 (B) 의 중합도는 통상적으로 2 ∼ 100 이다.In the present invention, the silicone oligomer is a silane compound polymer that does not have a high degree of polymerization. The polymerization degree of a silicone oligomer (B) is 2-100 normally.

실리콘 올리고머 (B) 는, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖는다.The silicone oligomer (B) has a repeating unit derived from a trifunctional silane compound.

3 관능 실란 화합물이란, 규소 원자 1 개와, 이 규소 원자에 결합된 가수 분해성기 3 개를 갖는 화합물이다. 본 명세서에 있어서, 가수 분해성기란, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 가수 분해·중축합성을 갖는 기를 말한다.A trifunctional silane compound is a compound which has one silicon atom and three hydrolysable groups couple|bonded with this silicon atom. In this specification, a hydrolysable group means groups which have hydrolysis and polycondensability, such as an alkoxy group and a halogen atom.

3 관능 실란 화합물로는, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 제조 원료로서 나타낸, 식 (a-6) 으로 나타내는 실란 화합물 (1) 을 들 수 있다.As a trifunctional silane compound, the silane compound (1) represented by Formula (a-6) shown as a manufacturing raw material of a polysilsesquioxane compound (A) is mentioned.

실리콘 올리고머 (B) 는, 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖고 있어도 되고, 갖고 있지 않아도 된다.The silicone oligomer (B) may or may not have a repeating unit derived from a tetrafunctional silane compound.

4 관능 실란 화합물이란, 규소 원자 1 개와, 이 규소 원자에 결합된 가수 분해성기 4 개를 갖는 화합물이다.A tetrafunctional silane compound is a compound which has one silicon atom and 4 hydrolysable groups couple|bonded with this silicon atom.

4 관능 실란 화합물로는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메톡시트리에톡시실란, 디메톡시디에톡시실란, 트리메톡시에톡시실란, 트리메톡시클로로실란, 트리에톡시클로로실란, 디메톡시디클로로실란, 디에톡시디클로로실란, 메톡시트리클로로실란, 에톡시트리클로로실란, 테트라클로로실란, 테트라브로모실란 등을 들 수 있다.Examples of the tetrafunctional silane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methoxyethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, trimethoxyethoxysilane, trimethoxycyclorosilane, triethoxycyclorosilane, Dimethoxydichlorosilane, diethoxydichlorosilane, methoxytrichlorosilane, ethoxytrichlorosilane, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, etc. are mentioned.

실리콘 올리고머 (B) 에 포함되는, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계는, 전체 반복 단위 중 80 ㏖% 이상이고, 바람직하게는 80 ∼ 100 ㏖%, 보다 바람직하게는 90 ∼ 100 ㏖% 이다.The total of the repeating units derived from the trifunctional silane compound and the repeating units derived from the tetrafunctional silane compound contained in the silicone oligomer (B) is 80 mol% or more, preferably 80 to 100 mol%, more Preferably it is 90-100 mol%.

3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계가 전체 반복 단위 중 80 ㏖% 미만인 경화성 조성물은 경화성이 열등하다.The curable composition in which the sum total of the repeating unit derived from a trifunctional silane compound and the repeating unit derived from a tetrafunctional silane compound is less than 80 mol% of all repeating units is inferior to sclerosis|hardenability.

실리콘 올리고머 (B) 에 포함되는, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 양은, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계 중, 바람직하게는 5 ∼ 40 ㏖% 이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 30 ㏖% 이다.The amount of the repeating unit derived from the trifunctional silane compound contained in the silicone oligomer (B) is preferably 5 to 40 mol% of the total of the repeating unit derived from the trifunctional silane compound and the repeating unit derived from the tetrafunctional silane compound, , More preferably, it is 10-30 mol%.

3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 많이 함유함으로써, 실리콘 올리고머 (B) 는 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 와의 상용성이 높아진다. 한편, 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 많이 함유하는 실리콘 올리고머 (B) 를 함유하는 경화성 조성물을 경화시킴으로써, 단단하고, 내열성이 우수한 경화물이 쉽게 얻어지게 된다.By containing many repeating units derived from a trifunctional silane compound, compatibility with a polysilsesquioxane compound (A) of a silicone oligomer (B) becomes high. On the other hand, by hardening the curable composition containing the silicone oligomer (B) containing many repeating units derived from a tetrafunctional silane compound, hardened|cured material and excellent heat resistance can be obtained easily.

실리콘 올리고머 (B) 에 포함되는 각 반복 단위의 종류와 그 함유 비율은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 구조 결정 방법으로서 앞서 설명한 것과 동일한 방법 (29Si-NMR 의 측정 결과에 기초하는 방법) 에 의해서 구할 수 있다.The type and content of each repeating unit contained in the silicone oligomer (B) is determined by the same method as described above as the method for determining the structure of the polysilsesquioxane compound (A) (a method based on the measurement result of 29 Si-NMR) ) can be obtained by

실리콘 올리고머 (B) 는 에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖는다. 즉, 실리콘 올리고머 (B) 를 합성할 때에 사용하는 3 관능 실란 화합물 중 적어도 1 종은, 에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 화합물이다.The silicone oligomer (B) has a repeating unit derived from a trifunctional silane compound having a group having an epoxy ring. That is, at least 1 sort(s) of the trifunctional silane compound used when synthesize|combining a silicone oligomer (B) is a compound which has group which has an epoxy ring.

에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 3 관능 실란 화합물로는, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 8-글리시독시옥틸트리메톡시실란, 8-글리시독시옥틸트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the trifunctional silane compound having a group having an epoxy ring include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxy silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, 8-glycidoxyoctyltrimethoxysilane, 8-glycidoxyoctyltriethoxysilane, etc. are mentioned.

이와 같이, 실리콘 올리고머 (B) 는, 분자 내에 에폭시 고리를 갖는 것이다. 본 발명에 있어서는, 이와 같은 올리고머를 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 와 함께 사용함으로써, 경화성이 우수한 경화성 조성물을 얻을 수 있다.As described above, the silicone oligomer (B) has an epoxy ring in the molecule. In this invention, the curable composition excellent in sclerosis|hardenability can be obtained by using such an oligomer with a sclerosing|hardenable polysilsesquioxane compound (A).

이와 같은 효과는, 실리콘 올리고머 (B) 대신에, 에폭시 고리 함유 기 이외의 관능기 (예를 들어, 티올기) 를 갖는 실리콘 올리고머나, 에폭시 고리를 갖는 모노머를 사용해도 얻을 수는 없다.Such an effect cannot be obtained even if a silicone oligomer having a functional group (for example, a thiol group) other than an epoxy ring-containing group (for example, a thiol group) or a monomer having an epoxy ring is used instead of the silicone oligomer (B).

또한, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 에 에폭시 고리를 도입하는 것보다도, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 와 실리콘 올리고머 (B) 를 병용하는 쪽이, 보다 적은 에폭시 고리의 도입량으로, 충분한 경화성을 실현할 수 있다.Moreover, rather than introduce|transducing an epoxy ring into a polysilsesquioxane compound (A), it is sufficient to use a polysilsesquioxane compound (A) and a silicone oligomer (B) together with the introduction amount of a smaller epoxy ring, hardenability can be realized.

실리콘 올리고머 (B) 의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 500 ∼ 5,000, 바람직하게는 1,000 ∼ 4,500, 보다 바람직하게는 1,500 ∼ 4,000, 더욱 바람직하게는 2,000 ∼ 3,500 이다. 질량 평균 분자량 (Mw) 이 상기 범위 내에 있는 실리콘 올리고머 (B) 를 사용함으로써, 경화성이 보다 우수한 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다. 또한, 그와 같은 경화성 조성물의 경화물은 접착성이 우수한 경향이 있다.Although the mass average molecular weight (Mw) of a silicone oligomer (B) is not specifically limited, Usually, it is 500-5,000, Preferably it is 1,000-4,500, More preferably, it is 1,500-4,000, More preferably, it is 2,000-3,500. By using the silicone oligomer (B) having a mass average molecular weight (Mw) within the above range, a curable composition having more excellent curability can be easily obtained. Moreover, the hardened|cured material of such a curable composition tends to be excellent in adhesiveness.

실리콘 올리고머 (B) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1.0 ∼ 10.0, 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 이다. 분자량 분포 (Mw) 가, 상기 범위 내에 있는 실리콘 올리고머 (B) 를 사용함으로써, 경화성이 보다 우수한 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다. 또한, 그와 같은 경화성 조성물의 경화물은 접착성이 우수한 경향이 있다.Although the molecular weight distribution (Mw/Mn) of a silicone oligomer (B) is not specifically limited, Usually, it is 1.0-10.0, Preferably it is 1.1-6.0. By using the silicone oligomer (B) having a molecular weight distribution (Mw) within the above range, a curable composition having more excellent curability can be easily obtained. Moreover, the hardened|cured material of such a curable composition tends to be excellent in adhesiveness.

질량 평균 분자량 (Mw) 및 수 평균 분자량 (Mn) 은, 예를 들어, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산치로서 구할 수 있다.A mass average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) can be calculated|required as a standard polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran (THF) as a solvent, for example.

실리콘 올리고머 (B) 의 에폭시 당량은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 50 ∼ 2,000 g/eq, 바람직하게는 100 ∼ 1,500 g/eq, 보다 바람직하게는 150 ∼ 1,200 g/eq, 더욱 바람직하게는 200 ∼ 1,000 g/eq 이다. 에폭시 당량이 상기 범위 내에 있는 실리콘 올리고머 (B) 를 사용함으로써, 경화성이 보다 우수한 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다. 또한, 그와 같은 경화성 조성물의 경화물은 접착성이 우수한 경향이 있다.Although the epoxy equivalent of a silicone oligomer (B) is not specifically limited, Usually 50-2,000 g/eq, Preferably it is 100-1,500 g/eq, More preferably, 150-1200 g/eq, More preferably, it is 200- 1,000 g/eq. By using the silicone oligomer (B) having an epoxy equivalent within the above range, a curable composition having more excellent curability can be easily obtained. Moreover, the hardened|cured material of such a curable composition tends to be excellent in adhesiveness.

실리콘 올리고머 (B) 의 에폭시 당량은, JIS K7236 (2001) 에 따라서 측정할 수 있다.The epoxy equivalent of the silicone oligomer (B) can be measured according to JIS K7236 (2001).

본 발명에 있어서, 실리콘 올리고머 (B) 는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In this invention, a silicone oligomer (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

실리콘 올리고머 (B) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 의 제조 방법으로서 설명한 것과 동일한 방법에 있어서, 적절히 반응 조건 등을 변경함으로써, 목적으로 하는 실리콘 올리고머 (B) 를 제조할 수 있다.The manufacturing method of a silicone oligomer (B) is not specifically limited. In the method similar to what was demonstrated as a manufacturing method of a polysilsesquioxane compound (A) WHEREIN: The target silicone oligomer (B) can be manufactured by changing reaction conditions etc. suitably.

또한, 실리콘 올리고머 (B) 로서, 시판되는 실리콘 올리고머를 사용해도 된다.Moreover, as a silicone oligomer (B), you may use a commercially available silicone oligomer.

〔경화성 조성물〕[Curable composition]

본 발명의 경화성 조성물은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 및 실리콘 올리고머 (B) 를 함유한다.The curable composition of this invention contains a polysilsesquioxane compound (A) and a silicone oligomer (B).

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 와 실리콘 올리고머 (B) 의 합계량은, 경화성 조성물의 고형분 중, 바람직하게는 30 ∼ 100 질량% 이고, 보다 바람직하게는 40 ∼ 95 질량%, 더욱 바람직하게는 50 ∼ 90 질량%, 특히 바람직하게는 55 ∼ 85 질량% 이다.The total amount of the polysilsesquioxane compound (A) and the silicone oligomer (B) is in the solid content of the curable composition, preferably 30 to 100 mass%, more preferably 40 to 95 mass%, still more preferably 50 -90 mass %, Especially preferably, it is 55-85 mass %.

본 발명에 있어서「고형분」이란, 경화성 조성물 중의 용매 이외의 성분을 말한다.In the present invention, "solid content" means components other than the solvent in the curable composition.

실리콘 올리고머 (B) 의 함유량은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1 ∼ 100 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 80 질량부, 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 60 질량부, 특히 바람직하게는 1.5 ∼ 40 질량부이다. (B) 성분의 함유량이 지나치게 적으면 본 발명의 효과가 얻어지지 않을 우려가 있고, 지나치게 많으면 겔화의 우려가 있다.To [ content of silicone oligomer (B) / 100 mass parts of polysilsesquioxane compound (A)), Preferably it is 0.1-100 mass parts, More preferably, it is 0.5-80 mass parts, More preferably, it is 1.0-60 mass parts. It is a mass part, Especially preferably, it is 1.5-40 mass parts. When there is too little content of (B) component, there exists a possibility that the effect of this invention may not be acquired, and when there is too much, there exists a possibility of gelatinization.

본 발명의 경화성 조성물은 (C) 성분으로서, 실란 커플링제를 함유해도 된다. 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물을 사용함으로써, 접착성이 보다 우수한 경화물을 형성하기 쉬워진다.The curable composition of this invention may contain a silane coupling agent as (C)component. By using the curable composition containing a silane coupling agent, it becomes easy to form the hardened|cured material which is more excellent in adhesiveness.

실란 커플링제란, 규소 원자와, 관능기와, 상기 규소 원자에 결합된 가수 분해성기를 갖는 실란 화합물을 말한다.A silane coupling agent means the silane compound which has a silicon atom, a functional group, and the hydrolysable group couple|bonded with the said silicon atom.

관능기란, 다른 화합물 (주로 유기물) 과 반응성을 갖는 기를 말하고, 예를 들어, 아미노기, 치환 아미노기, 이소시아네이트기, 우레이도기, 이소시아누레이트 골격을 갖는 기 등의 질소 원자를 갖는 기 ; 산 무수물기 (산 무수물 구조) ; 비닐기 ; 알릴기 ; 에폭시기 ; (메트)아크릴기 ; 메르캅토기 ; 등을 들 수 있다.The functional group refers to a group having reactivity with another compound (mainly an organic substance), for example, an amino group, a substituted amino group, an isocyanate group, a ureido group, a group having a nitrogen atom such as a group having an isocyanurate skeleton; acid anhydride group (acid anhydride structure); vinyl group; allyl group; epoxy group; (meth)acryl group; mercapto group; and the like.

본 발명에 있어서, 실란 커플링제는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In this invention, a silane coupling agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물이 실란 커플링제를 함유할 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않고, 목적에 따라서 적절히 결정할 수 있다.When the curable composition of this invention contains a silane coupling agent, the content is not specifically limited, According to the objective, it can determine suitably.

실란 커플링제로는, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제나 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제가 바람직하다.As a silane coupling agent, the silane coupling agent which has a nitrogen atom in a molecule|numerator, and the silane coupling agent which has an acid anhydride structure in a molecule|numerator are preferable.

분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제나 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물은, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 경화물을 제공하는 경향이 있다.A curable composition containing a silane coupling agent having a nitrogen atom in its molecule or a silane coupling agent having an acid anhydride structure in its molecule tends to provide a cured product having better heat resistance and adhesion.

분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제로는, 예를 들어, 하기 식 (c-1) 로 나타내는 트리알콕시실란 화합물, 식 (c-2) 로 나타내는 디알콕시알킬실란 화합물 또는 디알콕시아릴실란 화합물 등을 들 수 있다.As a silane coupling agent which has a nitrogen atom in a molecule|numerator, for example, a trialkoxysilane compound represented by the following formula (c-1), a dialkoxyalkylsilane compound represented by a formula (c-2), a dialkoxyarylsilane compound, etc. can be heard

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 식 중, Ra 는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타낸다. 복수의 R2 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula, R a represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a t-butoxy group. A plurality of R 2 s may be the same or different.

Rb 는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 ; 또는 페닐기, 4-클로로페닐기, 4-메틸페닐기, 1-나프틸기 등의, 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 아릴기 ; 를 나타낸다.R b is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group and t-butyl group; or an aryl group having a substituent or not having a substituent, such as a phenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-methylphenyl group, and 1-naphthyl group; indicates

Rc 는, 질소 원자를 갖는, 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기를 나타낸다. 또, Rc 는, 추가로 규소 원자를 포함하는 기와 결합되어 있어도 된다.R c represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms and having a nitrogen atom. In addition, R c may be further bonded to a group containing a silicon atom.

Rc 의 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기의 구체예로는, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필기, 3-아미노프로필기, N-(1,3-디메틸-부틸리덴)아미노프로필기, 3-우레이도프로필기, N-페닐-아미노프로필기 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms for R c include N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyl group, 3-aminopropyl group, N-(1,3-dimethyl-butylidene) aminopropyl group, 3-ureidopropyl group, N-phenyl-aminopropyl group, etc. are mentioned.

상기 식 (c-1) 또는 (c-2) 로 나타내는 화합물 중, Rc 가, 다른 규소 원자를 함유하는 기와 결합된 유기기인 경우의 화합물로는, 이소시아누레이트 골격을 갖는 실란 커플링제 (이소시아누레이트계 실란 커플링제) 나, 우레아 골격을 갖는 실란 커플링제 (우레아계 실란 커플링제) 를 들 수 있다.Among the compounds represented by the formula (c-1) or (c-2), in the case where R c is an organic group bonded to a group containing another silicon atom, a silane coupling agent having an isocyanurate skeleton ( isocyanurate-based silane coupling agent) and a silane coupling agent having a urea skeleton (urea-based silane coupling agent).

이 중에서도, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제로는, 접착성이 보다 우수한 경화물이 쉽게 얻어지는 점에서, 이소시아누레이트계 실란 커플링제, 및 우레아계 실란 커플링제가 바람직하고, 또한, 분자 내에 규소 원자에 결합된 알콕시기를 4 이상 갖는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, an isocyanurate-based silane coupling agent and a urea-based silane coupling agent are preferable from the viewpoint of easily obtaining a cured product having superior adhesiveness, and It is preferable to have 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom in it.

규소 원자에 결합된 알콕시기를 4 이상 갖는다는 것은, 동일한 규소 원자에 결합된 알콕시기와, 상이한 규소 원자에 결합된 알콕시기의 총합계수가 4 이상이라는 의미이다.Having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom means that the sum total of the alkoxy groups bonded to the same silicon atom and the alkoxy groups bonded to different silicon atoms is 4 or more.

규소 원자에 결합된 알콕시기를 4 이상 갖는 이소시아누레이트계 실란 커플링제로는, 하기 식 (c-3) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 규소 원자에 결합된 알콕시기를 4 이상 갖는 우레아계 실란 커플링제로는, 하기 식 (c-4) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an isocyanurate-type silane coupling agent which has 4 or more alkoxy groups couple|bonded with the silicon atom, the compound represented by a following formula (c-3) is mentioned. As a urea-type silane coupling agent which has 4 or more alkoxy groups couple|bonded with the silicon atom, the compound represented by a following formula (c-4) is mentioned.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 중, R 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다. t1 ∼ t5 는 각각 독립적으로 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 6 의 정수인 것이 바람직하며, 3 인 것이 특히 바람직하다.(In the formula, R a has the same meaning as above. t1 to t5 each independently represent an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, particularly preferably 3.

이 중에서도, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제로는, 1,3,5-N-트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트 (이하,「이소시아누레이트 화합물」이라고 한다), N,N'-비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아 (이하,「우레아 화합물」이라고 한다) 및 상기 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물의 조합을 사용하는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- Triethoxysilylpropyl)isocyanurate (hereinafter referred to as "isocyanurate compound"), N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3- It is preferable to use triethoxysilylpropyl)urea (hereinafter referred to as "urea compound") and a combination of the isocyanurate compound and the urea compound.

본 발명의 경화성 조성물이 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제를 함유할 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은, 상기 (A) 성분과 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제의 질량비〔(A) 성분 : 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제〕로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 90, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 60, 보다 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 50, 더욱 바람직하게는 100 : 3 ∼ 100 : 40, 특히 바람직하게는 100 : 5 ∼ 100 : 35 가 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, the content is not particularly limited, but the amount is determined by the mass ratio of the component (A) and the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule [( A) component: a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule], preferably 100:0.1 to 100:90, more preferably 100:0.3 to 100:60, more preferably 100:1 to 100:50 , more preferably 100:3 to 100:40, particularly preferably 100:5 to 100:35.

이와 같은 비율로 (A) 성분 및 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 것이 된다.The cured product of the curable composition containing the component (A) and the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule in such a proportion is more excellent in heat resistance and adhesiveness.

분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제는, 1 개의 분자 중에, 산 무수물 구조를 갖는 기와, 가수 분해성기의 양자를 겸비하는 유기 규소 화합물이다. 구체적으로는 하기 식 (c-5) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.The silane coupling agent which has an acid-anhydride structure in a molecule|numerator is an organosilicon compound which has both the group which has an acid-anhydride structure, and a hydrolysable group in one molecule. Specifically, a compound represented by the following formula (c-5) is exemplified.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

식 중, Q 는 산 무수물 구조를 갖는 기를 나타내고, Rd 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 페닐기를 나타내고, Re 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내며, i, k 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고, j 는 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, i + j + k = 4 이다. j 가 2 일 때, Rd 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. k 가 2 또는 3 일 때, 복수의 Re 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. i 가 2 또는 3 일 때, 복수의 Q 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula, Q represents a group having an acid anhydride structure, R d represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group having or not having a substituent, and R e is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or halogen An atom is represented, i and k represent the integer of 1-3, j represents the integer of 0-2, and i+j+k=4. When j is 2, R d may be the same or different. When k is 2 or 3, a plurality of Re may be the same or different. When i is 2 or 3, a plurality of Qs may be the same or different.

Q 로는, 하기 식As Q, the following formula

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 중, h 는 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다) 으로 나타내는 기 등을 들 수 있고, (Q1) 로 나타내는 기가 특히 바람직하다.(in formula, h represents the integer of 0-10) etc. are mentioned, The group represented by (Q1) is especially preferable.

분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제로는, 2-(트리메톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리에톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산, 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산 등의, 트리(탄소수 1 ∼ 6)알콕시실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ; Examples of the silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule include 2-(trimethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 2-(triethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, 3 tri(C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as -(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride;

2-(디메톡시메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 디(탄소수 1 ∼ 6)알콕시메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;di(C1-C6) alkoxymethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dimethoxymethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(메톡시디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, (탄소수 1 ∼ 6)알콕시디메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;(C1-C6) alkoxy dimethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(methoxydimethylsilyl) ethyl succinic anhydride;

2-(트리클로로실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리브로모실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 트리할로게노실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;trihalogenosilyl (C2-8)alkyl succinic anhydride, such as 2-(trichlorosilyl)ethyl succinic anhydride and 2-(tribromosilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(디클로로메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 디할로게노메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ;dihalogenomethylsilyl (C2-8)alkyl succinic anhydride, such as 2-(dichloromethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(클로로메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 할로게노메틸실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산 ; 등을 들 수 있다.halogenomethylsilyl (C2-8)alkyl succinic anhydride, such as 2-(chloromethylsilyl)ethyl succinic anhydride; and the like.

이 중에서도, 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제로는, 트리(탄소수 1 ∼ 6)알콕시실릴(탄소수 2 ∼ 8)알킬 무수 숙신산이 바람직하고, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산 또는 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산이 특히 바람직하다.Among these, as a silane coupling agent which has an acid anhydride structure in a molecule|numerator, tri(C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride is preferable, 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, or Particular preference is given to 3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride.

본 발명의 경화성 조성물이 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유할 경우, 그 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 그 양은 상기 (A) 성분과 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제의 질량비〔(A) 성분 : 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제〕로, 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 30, 보다 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 20, 보다 바람직하게는 100 : 0.5 ∼ 100 : 15, 더욱 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 10 이 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule, the content is not particularly limited, but the amount is the mass ratio of the component (A) and the silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule [ (A) component: a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule], preferably 100:0.1 to 100:30, more preferably 100:0.3 to 100:20, more preferably 100:0.5 to 100 : 15, more preferably 100:1 to 100:10.

이와 같은 비율로 (A) 성분 및 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 접착성이 보다 우수한 것이 된다.The hardened|cured material of the curable composition containing (A) component and the silane coupling agent which has an acid-anhydride structure in a molecule|numerator in such a ratio becomes more excellent in adhesiveness.

본 발명의 경화성 조성물은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 다른 성분을 함유해도 된다.The curable composition of this invention may contain other components in the range which does not impair the objective of this invention.

다른 성분으로는, 미립자, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제 등을 들 수 있다.As other components, microparticles|fine-particles, antioxidant, a ultraviolet absorber, a light stabilizer, etc. are mentioned.

미립자를 첨가하면, 도포 공정에 있어서서의 작업성이 우수한 경화성 조성물을 얻을 수 있는 경우가 있다. 미립자의 재질로는, 금속 ; 금속 산화물 ; 광물 ; 탄산칼슘, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 황산칼슘, 황산바륨 등의 금속 황산염 ; 수산화알루미늄 등의 금속 수산화물 ; 규산알루미늄, 규산칼슘, 규산마그네슘 등의 금속 규산염 ; 실리카 등의 무기 성분 ; 실리콘 ; 아크릴계 중합체 등의 유기 성분 ; 등을 들 수 있다.When microparticles|fine-particles are added, the curable composition excellent in the workability|operativity in an application|coating process may be obtained. As a material of microparticles|fine-particles, it is a metal; metal oxides; Mineral ; metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; metal hydroxides such as aluminum hydroxide; Metal silicates, such as an aluminum silicate, a calcium silicate, and a magnesium silicate; inorganic components such as silica; silicon ; Organic components, such as an acrylic polymer; and the like.

또한, 사용하는 미립자는 표면이 수식된 것이어도 된다.In addition, the microparticles|fine-particles to be used may be what was modified on the surface.

이들 미립자는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 미립자의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, (A) 성분에 대해서 통상적으로 50 질량% 이하가 바람직하고, 40 질량% 이하가 보다 바람직하며, 35 질량% 이하가 보다 더 바람직하다.These microparticles|fine-particles can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Although content of microparticles|fine-particles is not specifically limited, Usually, 50 mass % or less is preferable with respect to (A) component, 40 mass % or less is more preferable, and 35 mass % or less is still more preferable.

산화방지제는, 가열시 산화 열화를 방지하기 위해서 첨가된다. 산화 방지제로는, 인계 산화 방지제, 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다.An antioxidant is added to prevent oxidative deterioration upon heating. As antioxidant, phosphorus antioxidant, phenolic antioxidant, sulfur-type antioxidant, etc. are mentioned.

인계 산화 방지제로는, 포스파이트류, 옥사포스파페난트렌옥사이드류 등을 들 수 있다. 페놀계 산화 방지제로는, 모노페놀류, 비스페놀류, 고분자형 페놀류 등을 들 수 있다. 황계 산화 방지제로는, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트 등을 들 수 있다.Phosphite, oxaphosphaphenanthrene oxide, etc. are mentioned as phosphorus antioxidant. Monophenols, bisphenols, polymer type phenols etc. are mentioned as a phenolic antioxidant. Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, etc. can be heard

이들 산화 방지제는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 산화 방지제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, (A) 성분에 대해서 통상적으로 10 질량% 이하이다.These antioxidants can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Although content of antioxidant is not specifically limited, It is 10 mass % or less normally with respect to (A) component.

자외선 흡수제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시킬 목적에서 첨가된다.A ultraviolet absorber is added in order to improve the light resistance of the hardened|cured material obtained.

자외선 흡수제로는, 살리실산류, 벤조페논류, 벤조트리아졸류, 힌더드아민류 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acids, benzophenones, benzotriazoles, and hindered amines.

자외선 흡수제는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 자외선 흡수제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, (A) 성분에 대해서 통상적으로 10 질량% 이하이다.A ultraviolet absorber can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Although content of a ultraviolet absorber is not specifically limited, It is 10 mass % or less normally with respect to (A) component.

광 안정제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시킬 목적에서 첨가된다.An optical stabilizer is added in order to improve the light resistance of the hardened|cured material obtained.

광안정제로는, 예를 들어, 폴리〔{6-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}〕등의 힌더드아민류 등을 들 수 있다.As the light stabilizer, for example, poly[b6-(1,1,3,3,-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diylb(2,2) and hindered amines such as ,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}hexamethylene(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}]. can

이들 광안정제는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광 안정제의 함유량은, (A) 성분에 대해서 통상적으로 20 질량% 이하이다.These light stabilizers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Content of an optical stabilizer is 20 mass % or less normally with respect to (A) component.

본 발명의 경화성 조성물은, 용매를 함유해도 된다. 용매는, 본 발명의 경화성 조성물의 성분을 용해 또는 분산시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다.The curable composition of this invention may contain a solvent. A solvent will not be specifically limited if it can melt|dissolve or disperse|distribute the component of the curable composition of this invention.

용매로는, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트 등의 아세테이트류 ; 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 ; 글리세린디글리시딜에테르, 부탄디올디글리시딜에테르, 디글리시딜아닐린, 네오펜틸글리콜글리시딜에테르, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 알킬렌디글리시딜에테르, 폴리글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 등의 디글리시딜에테르류 ; 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르 등의 트리글리시딜에테르류 ; 4-비닐시클로헥센모노옥사이드, 비닐시클로헥센디옥사이드, 메틸화비닐시클로헥센디옥사이드 등의 비닐헥센옥사이드류 ; 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include acetates such as diethylene glycol monobutyl ether acetate and 1,6-hexanediol diacetate; tripropylene glycol-n-butyl ether; Glycerin diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, diglycidyl aniline, neopentyl glycol glycidyl ether, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, alkylenedi glycidyl ether, polyglycol diglycidyl ether diglycidyl ethers such as dil ether and polypropylene glycol diglycidyl ether; triglycidyl ethers such as trimethylolpropane triglycidyl ether and glycerin triglycidyl ether; vinyl hexene oxides such as 4-vinyl cyclohexene monoxide, vinyl cyclohexene dioxide, and methylated vinyl cyclohexene dioxide; and the like.

용매는 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A solvent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물이 용매를 함유할 경우, 그 함유량은, 고형분 농도가, 바람직하게는 50 ∼ 95 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 85 질량% 가 되는 양이다. 고형분 농도가 이 범위 내임으로써, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수한 경화성 조성물이 쉽게 얻어지게 된다.When the curable composition of this invention contains a solvent, the content is solid content concentration, Preferably it is 50-95 mass %, It is a quantity used more preferably 60-85 mass %. When solid content concentration is in this range, the curable composition excellent in the workability|operativity in an application|coating process can be obtained easily.

용매량에 관한 이들 요건을 만족하는 경화성 조성물은, 접착성 및 습윤 확산성 (상기한, 액적의 확산에 관한 특성) 이 적절하게 밸런스가 잡힌 것이 된다.A curable composition that satisfies these requirements regarding the amount of solvent has an appropriate balance of adhesiveness and wet diffusivity (above, properties related to the diffusion of droplets).

본 발명의 경화성 조성물은, 예를 들어, 상기 (A) 성분과 (B) 성분, 및, 원하는 바에 따라서 다른 성분을 소정 비율로 혼합하고, 탈포함으로써 제조할 수 있다.The curable composition of this invention can be manufactured by mixing and defoaming the said (A) component and (B) component, and another component in predetermined ratio as needed, for example.

혼합 방법, 탈포 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 이용할 수 있다.A mixing method and a defoaming method are not specifically limited, A well-known method can be used.

본 발명의 경화성 조성물은, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A) 및 실리콘 올리고머 (B) 를 함유한다. 이 때문에, 본 발명의 경화성 조성물은 경화성이 우수하다.The curable composition of this invention contains a polysilsesquioxane compound (A) and a silicone oligomer (B). For this reason, the curable composition of this invention is excellent in sclerosis|hardenability.

본 발명의 경화성 조성물이 경화성이 우수한 것은, 예를 들어 다음과 같이 하여 확인할 수 있다.It can be confirmed that the curable composition of this invention is excellent in sclerosis|hardenability, for example as follows.

즉, 자동 경화 시간 측정 장치 (주식회사 사이버 제조, 상품명「마도카」) 를 사용하여, 150 ℃ 로 가열된 스테인리스판 상에 경화성 조성물의 샘플을 투입하고 나서, 투입된 샘플을 교반하고, 교반 토크가 상승하여, 0.049 N·㎝ 가 될 때까지의 시간을 측정한다.That is, using an automatic curing time measuring device (manufactured by Cyber Co., Ltd., trade name “Madoka”), a sample of the curable composition is put on a stainless plate heated to 150° C., and then the injected sample is stirred, and the stirring torque is increased. , measure the time until it becomes 0.049 N·cm.

0.049 N·㎝ 가 될 때까지의 시간은, 통상적으로 1200 초 이하인 것이 바람직하고, 1000 초 이하인 것이 보다 바람직하며, 600 초 이하인 것이 보다 바람직하다.Usually, it is preferable that it is 1200 second or less, and, as for time until it becomes 0.049 N*cm, it is more preferable that it is 1000 second or less, It is more preferable that it is 600 second or less.

상기와 같이, 본 발명의 경화성 조성물은 경화성이 우수하다. 따라서, 본 발명의 경화성 조성물을 사용함으로써, 종래의 경화성 조성물을 사용하는 경우에 비해서 작업 시간을 단축할 수 있다.As mentioned above, the curable composition of this invention is excellent in sclerosis|hardenability. Therefore, by using the curable composition of this invention, compared with the case where the conventional curable composition is used, working time can be shortened.

2) 경화물2) cured product

본 발명의 경화물은, 본 발명의 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 것이다.The cured product of the present invention is obtained by curing the curable composition of the present invention.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시키는 방법으로는 가열 경화를 들 수 있다. 경화시킬 때의 가열 온도는, 통상적으로 100 ∼ 200 ℃ 이고, 가열 시간은, 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Heat hardening is mentioned as a method of hardening the curable composition of this invention. The heating temperature at the time of hardening is 100-200 degreeC normally, and a heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably it is 30 minutes - 10 hours.

본 발명의 경화물은, 내열성 및 접착성이 우수한 것이다.The hardened|cured material of this invention is excellent in heat resistance and adhesiveness.

본 발명의 경화물이 이들 특성을 갖는 것은, 예를 들어, 다음과 같이 하여 확인할 수 있다. 즉, 실리콘 칩의 미러면에, 본 발명의 경화성 조성물을 소정량 도포하고, 도포면을 피착체 상에 놓아 압착하고, 가열 처리하여 경화시킨다. 이것을, 미리 소정 온도 (예를 들어, 100 ℃) 로 가열한 본드 테스터의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 100 ㎛ 의 높이의 위치로부터, 접착면에 대해서 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여 시험편과 피착체의 접착력을 측정한다.It can be confirmed that the hardened|cured material of this invention has these characteristics as follows, for example. That is, a predetermined amount of the curable composition of the present invention is applied to the mirror surface of a silicon chip, the coated surface is placed on an adherend, pressed, and cured by heat treatment. This is left on the measurement stage of the bond tester heated in advance to a predetermined temperature (for example, 100° C.) for 30 seconds, from a position of 100 µm from the adherend to the adhesive surface in the horizontal direction (shear direction) Apply stress to measure the adhesion between the test piece and the adherend.

본 발명의 경화물의 접착력은, 100 ℃ 에 있어서 30 N/4 ㎟ 이상인 것이 바람직하고, 35 N/4 ㎟ 이상인 것이 보다 바람직하며, 40 N/4 ㎟/ 이상인 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that it is 30 N/4 mm<2> or more in 100 degreeC, as for the adhesive force of the hardened|cured material of this invention, it is more preferable that it is 35 N/4 mm<2> or more, It is more preferable that it is 40 N/4 mm<2>/ or more.

본 명세서에 있어서,「4 ㎟」란,「2 ㎜ square」, 즉 2 ㎜ × 2 ㎜ (1 변이 2 ㎜ 인 정방형) 를 의미한다.In this specification, "4 mm2" means "2 mm square", that is, 2 mm x 2 mm (a square with a side of 2 mm).

상기 특성을 갖는 점에서, 본 발명의 경화물은, 광 소자 고정재로서 바람직하게 사용된다.Since it has the said characteristic, the hardened|cured material of this invention is used suitably as an optical element fixing material.

3) 경화성 조성물의 사용 방법3) How to use the curable composition

본 발명의 방법은, 본 발명의 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제 또는 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법이다.The method of the present invention is a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material.

광 소자로는, LED, LD 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등을 들 수 있다.Examples of the optical element include light-emitting elements such as LED and LD, light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits.

<광 소자 고정재용 접착제><Adhesive for Optical Device Fixing Material>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제로서 적합하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법으로는, 접착 대상으로 하는 재료 (광 소자와 그 기판 등) 의 일방 또는 양방의 접착면에 상기 조성물을 도포하여, 압착한 후, 가열 경화하여, 접착 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착시키는 방법을 들 수 있다. 본 발명의 경화성 조성물의 도포량은 특별히 한정되지 않고, 경화시킴으로써, 접착 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착할 수 있는 양이면 된다. 통상적으로 경화성 조성물의 도막의 두께가 0.5 ∼ 5 ㎛, 바람직하게는 1 ∼ 3 ㎛ 가 되는 양이다.As a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical device fixing material, the composition is applied to one or both bonding surfaces of a material to be bonded (optical device and its substrate, etc.), pressed, and heated A method of hardening and strongly adhering the materials to be adhered to each other is exemplified. The amount of application of the curable composition of the present invention is not particularly limited, and by curing, the amount of materials to be adhered can be firmly adhered to each other. Usually, the thickness of the coating film of a curable composition is 0.5-5 micrometers, Preferably it is an quantity used as 1-3 micrometers.

광 소자를 접착하기 위한 기판 재료로는, 소다 라임 유리, 내열성 경질 유리 등의 유리류 ; 세라믹스 ; 사파이어 ; 철, 구리, 알루미늄, 금, 은, 백금, 크롬, 티탄 및 이들 금속의 합금, 스테인리스 (SUS 302, SUS 304, SUS 304L, SUS 309 등) 등의 금속류 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸펜텐, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 노르보르넨계 수지, 시클로올레핀 수지, 유리 에폭시 수지 등의 합성 수지 ; 등을 들 수 있다.Examples of the substrate material for bonding the optical element include glasses such as soda lime glass and heat-resistant hard glass; ceramics; Sapphire ; metals such as iron, copper, aluminum, gold, silver, platinum, chromium, titanium, alloys of these metals, and stainless steel (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309, etc.); Polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyphenylenesulfide, polyetherimide , synthetic resins such as polyimide, polyamide, acrylic resin, norbornene-based resin, cycloolefin resin, and free epoxy resin; and the like.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 경화성 조성물 등에 따라서 상이하기도 하지만, 통상적으로 100 ∼ 200 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although the heating temperature at the time of heat-hardening changes with the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. Heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably they are 30 minutes - 10 hours.

<광 소자 고정재용 봉지재><Encapsulant for optical element fixing material>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정재용 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법으로는, 예를 들어, 상기 조성물을 원하는 형상으로 성형하여, 광 소자를 내포한 성형체를 얻은 후, 이것을 가열 경화시킴으로써, 광 소자 봉지체를 제조하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of using the curable composition of the present invention as an encapsulant for an optical element fixing material, for example, the composition is molded into a desired shape to obtain a molded article enclosing an optical element, and then heat-cured to cure the optical element rod. The method of manufacturing a body member, etc. are mentioned.

본 발명의 경화성 조성물을 원하는 형상으로 성형하는 방법으로는 특별히 한정되는 것은 아니고, 통상의 트랜스퍼 성형법이나, 주형법 (注型法) 등의 공지된 몰드법을 채용할 수 있다.It does not specifically limit as a method of shape|molding the curable composition of this invention into a desired shape, Well-known molding methods, such as a normal transfer molding method and a casting method, are employable.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 경화성 조성물 등에 따라서 상이하기도 하지만, 통상적으로 100 ∼ 200 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although the heating temperature at the time of heat-hardening changes with the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. Heating time is 10 minutes - 20 hours normally, Preferably they are 30 minutes - 10 hours.

얻어지는 광 소자 봉지체는, 본 발명의 경화성 조성물을 사용하기 때문에, 내열성 및 접착성이 우수하다.Since the optical element sealing body obtained uses the curable composition of this invention, it is excellent in heat resistance and adhesiveness.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 아래의 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. However, the present invention is not limited to the following examples at all.

(평균 분자량 측정) (Measurement of average molecular weight)

제조예에서 얻은 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물, 및, B 성분의 실리콘 올리고머의 질량 평균 분자량 (Mw) 및 수 평균 분자량 (Mn) 은, 표준 폴리스티렌 환산치로서, 아래의 장치 및 조건에서 측정하였다.The mass average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the curable polysilsesquioxane compound obtained in Production Examples and the silicone oligomer of component B were measured in terms of standard polystyrene with the following apparatus and conditions.

장치명 : HLC-8220GPC, 토소 주식회사 제조Device name: HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, 및 TSKgel2000HXL 을 순차 연결한 것Column: sequentially connected TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, and TSKgel2000HXL

용매 : 테트라하이드로푸란Solvent: tetrahydrofuran

주입량 : 80 ㎕Injection volume: 80 μl

측정 온도 : 40 ℃Measuring temperature: 40℃

유속 : 1 ㎖/분Flow rate: 1 ml/min

검출기 : 시차 굴절계Detector: Differential Refractometer

(IR 스펙트럼 측정) (IR spectrum measurement)

제조예에서 얻은 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물의 IR 스펙트럼은, 푸리에 변환 적외 분광 광도계 (파킨엘머사 제조, Spectrum 100) 를 사용하여 측정하였다.The IR spectrum of the curable polysilsesquioxane compound obtained by the manufacture example was measured using the Fourier transform infrared spectrophotometer (The Parkin-Elmer company make, Spectrum 100).

(29Si-NMR 측정) ( 29 Si-NMR measurement)

실란 화합물 중합체〔(A) 성분 및 (B) 성분〕의 반복 단위와 그 양을 조사하기 위해서, 아래의 조건에서 29Si-NMR 측정을 행하였다.In order to investigate the repeating unit and the amount of the silane compound polymer [component (A) and component (B)], 29 Si-NMR measurement was performed under the following conditions.

장비 : 브루커·바이오스핀사 제조 AV-500Equipment: AV-500 manufactured by Bruker Biospin

29Si-NMR 공명 주파수 : 99.352 ㎒ 29 Si-NMR resonance frequency: 99.352 MHz

프로브 : 5 ㎜φ 용액 프로브Probe: 5 mmφ solution probe

측정 온도 : 실온 (25 ℃) Measurement temperature: room temperature (25℃)

시료 회전수 : 20 ㎑Sample rotation speed: 20 ㎑

측정법 : 인버스 게이트 디커플링법Measurement method: Inverse gate decoupling method

29Si 플립각 : 90 ° 29 Si flip angle: 90°

29Si 90°펄스폭 : 8.0 ㎲ 29 Si 90° pulse width: 8.0 ㎲

반복 시간 : 5 sRepetition time: 5 s

적산 횟수 : 9200 회Integration count: 9200 times

관측폭 : 30 ㎑Observation width: 30 ㎑

(29Si-NMR 시료 제작 방법) ( 29 Si-NMR sample preparation method)

완화 시간 단축을 위해서, 완화 시약으로서 Fe(acac)3 을 첨가하여 측정하였다.In order to shorten the relaxation time, Fe(acac) 3 was added as a relaxation reagent and measured.

실란 화합물 중합체 농도 : 30 질량% Silane compound polymer concentration: 30% by mass

Fe(acac)3 농도 : 0.7 질량% Fe(acac) 3 concentration: 0.7 mass%

측정 용매 : 아세톤Measuring solvent: acetone

내부 표준 : TMSInternal standard: TMS

(파형 처리 분석) (Waveform processing analysis)

푸리에 변환 후의 스펙트럼의 각 피크에 대해서, 피크 톱의 위치에 따라서 케미컬 시프트를 구하고, 적분하였다.For each peak of the spectrum after Fourier transform, a chemical shift was calculated|required according to the position of a peak top, and it integrated.

(제조예 1) (Production Example 1)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에 메틸트리에톡시실란 71.37 g (400 m㏖) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 21.6 ㎖ 에 35 질량% 염산 0.10 g (메틸트리에톡시실란에 대해서 0.25 ㏖%) 을 용해시킨 수용액을 첨가하고, 전체 용량을 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온하여 5 시간 교반하였다.After putting 71.37 g (400 mmol) of methyltriethoxysilane in a 300 ml eggplant flask, and stirring this, 0.10 g of 35 mass% hydrochloric acid (0.25 mol% with respect to methyltriethoxysilane) in 21.6 ml of distilled water was added, and the total volume was stirred at 30°C for 2 hours, then at 70°C, and stirred for 5 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 그곳에, 아세트산프로필 140 g 과, 28 질량% 암모니아수 0.12 g (메틸트리에톡시실란에 대해서 0.5 ㏖%) 을 첨가하고, 그대로 70 ℃ 에서 3 시간 교반하였다.140 g of propyl acetate and 0.12 g of 28 mass % aqueous ammonia (0.5 mol% with respect to methyltriethoxysilane) were added there, continuing stirring of the content, and it stirred at 70 degreeC as it is for 3 hours.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 그곳에 정제수를 첨가하여 분액 처리를 행하고, 수층의 pH 가 7 이 될 때까지 이 조작을 반복하였다. 유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 농축물을 진공 건조시킴으로써, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 을 55.7 g 얻었다. 이것의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 7,800, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 4.52 였다.After the reaction solution was allowed to cool to room temperature, purified water was added thereto to perform liquid separation treatment, and this operation was repeated until the pH of the aqueous layer became 7. 55.7 g of curable polysilsesquioxane compounds (A1) were obtained by concentrating an organic layer with an evaporator and vacuum-drying a concentrate. Its mass average molecular weight (Mw) was 7,800, and molecular weight distribution (Mw/Mn) was 4.52.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 의 IR 스펙트럼 데이터를 아래에 나타낸다.The IR spectrum data of the curable polysilsesquioxane compound (A1) is shown below.

Si-CH3 : 1272 ㎝-1, 1409 ㎝-1, Si-O : 1132 ㎝-1 Si-CH 3 : 1272 cm -1 , 1409 cm -1 , Si-O : 1132 cm -1

또한, 29Si-NMR 스펙트럼 측정을 행한 결과, T1, T2, T3 의 피크 적분치비는 0 : 24 : 76 이었다.Moreover, as a result of performing 29 Si-NMR spectrum measurement, the peak integral ratio of T1, T2, and T3 was 0:24:76.

(제조예 2) (Production Example 2)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란 17.0 g (77.7 m㏖), 및, 메틸트리에톡시실란 32.33 g (181.3 m㏖) 을 투입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 14.0 g 에 35 질량% 염산 0.0675 g (HCl 의 양이 0.65 m㏖, 실란 화합물의 합계량에 대해서 0.25 ㏖%) 을 용해시켜 얻어진 수용액을 첨가하고, 전체 용량을 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반하였다.In a 300 ml eggplant-type flask, 17.0 g (77.7 mmol) of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and 32.33 g (181.3 mmol) of methyltriethoxysilane were charged, and this While stirring, an aqueous solution obtained by dissolving 0.0675 g of 35 mass % hydrochloric acid (the amount of HCl is 0.65 mmol, 0.25 mol% with respect to the total amount of the silane compound) in 14.0 g of distilled water is added, and the total volume is heated at 30°C for 2 hours, Then, it heated up at 70 degreeC and stirred for 20 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 그곳에, 28 질량% 암모니아수 0.0394 g (NH3 의 양이 0.65 m㏖) 과 아세트산프로필 46.1 g 의 혼합 용액을 첨가하여 반응액의 pH 를 6.9 로 하고, 그대로 70 ℃ 에서 40 분간 교반하였다.A mixed solution of 0.0394 g of 28 mass % aqueous ammonia ( the amount of NH 3 is 0.65 mmol) and 46.1 g of propyl acetate is added thereto while stirring the contents, the pH of the reaction solution is set to 6.9, and 40 at 70°C as it is. stirred for minutes.

반응액을 실온까지 방랭한 후, 그곳에, 아세트산프로필 50 g 및 물 100 g 을 첨가하여 분액 처리를 행하고, 반응 생성물을 포함하는 유기층을 얻었다. 이 유기층에 황산마그네슘을 첨가하여 건조 처리를 행하였다. 황산마그네슘을 여과 분리 제거한 후, 유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 이어서 얻어진 농축물을 진공 건조시킴으로써, 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2) 를 얻었다. 이것의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 5,500, 분자량 분포는 3.40 이었다.After standing to cool a reaction liquid to room temperature, 50 g of propyl acetate and 100 g of water were added there, liquid separation processing was performed, and the organic layer containing a reaction product was obtained. Magnesium sulfate was added to this organic layer, and the drying process was performed. Curable polysilsesquioxane compound (A2) was obtained by vacuum-drying the concentrate obtained after concentrating an organic layer with an evaporator after separation-removing magnesium sulfate by filtration. The mass average molecular weight (Mw) of this was 5,500, and molecular weight distribution was 3.40.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2) 의 IR 스펙트럼 데이터를 아래에 나타낸다.IR spectrum data of curable polysilsesquioxane compound (A2) is shown below.

Si-CH3 : 1272 ㎝-1, 1409 ㎝-1, Si-O : 1132 ㎝-1, C-F : 1213 ㎝-1 Si-CH 3 : 1272 cm -1 , 1409 cm -1 , Si-O : 1132 cm -1 , CF : 1213 cm -1

또한, 29Si-NMR 스펙트럼 측정을 행한 결과, T1, T2, T3 의 피크 적분값비는 2 : 27 : 71 이었다.Moreover, as a result of performing 29 Si-NMR spectrum measurement, the ratio of the peak integral values of T1, T2, and T3 was 2:27:71.

(제조예 3) (Production Example 3)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에 페닐트리메톡시실란 20.2 g (102 m㏖), 2-시아노에틸트리메톡시실란 3.15 g (18 m㏖), 그리고, 용매로서 아세톤 96 ㎖ 및 증류수 24 ㎖ 를 투입한 후, 내용물을 교반하면서, 촉매로서 인산 0.15 g (1.5 m㏖) 을 첨가하고, 25 ℃ 에서 추가로 16 시간 교반하였다.In a 300 ml eggplant-type flask, 20.2 g (102 mmol) of phenyltrimethoxysilane, 3.15 g (18 mmol) of 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 96 ml of acetone as a solvent and 24 ml of distilled water were added After that, 0.15 g (1.5 mmol) of phosphoric acid was added as a catalyst while stirring the contents, followed by stirring at 25°C for further 16 hours.

반응 종료 후, 반응액을 이배퍼레이터로 50 ㎖ 까지 농축하고, 농축물에 아세트산에틸 100 ㎖ 를 첨가하여, 포화 탄산수소나트륨 수용액으로 중화하였다. 잠시 정치 (靜置) 한 후, 유기층을 분리 채취하였다. 이어서, 유기층을 증류수로 2 회 세정한 후, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 황산마그네슘을 여과 분리한 후, 여과액을 이배퍼레이터로 50 ㎖ 까지 농축하고, 얻어진 농축물을 다량의 n-헥산 중에 적하하여 침전시키고, 침전물을 데칸테이션에 의해서 분리하였다. 얻어진 침전물을 메틸에틸케톤 (MEK) 에 용해시켜 회수하고, 이배퍼레이터로 용매를 감압 증류 제거하였다. 잔류물을 진공 건조시킴으로써 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 을 13.5 g 얻었다. 이것의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 1,870, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.42 였다.After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated to 50 ml with an evaporator, and 100 ml of ethyl acetate was added to the concentrate, followed by neutralization with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After standing for a while, the organic layer was separated and collected. Then, the organic layer was washed twice with distilled water, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After the magnesium sulfate was separated by filtration, the filtrate was concentrated to 50 ml with an evaporator, and the resulting concentrate was added dropwise to a large amount of n-hexane for precipitation, and the precipitate was separated by decantation. The obtained precipitate was dissolved in methyl ethyl ketone (MEK) and recovered, and the solvent was distilled off under reduced pressure with an evaporator. 13.5 g of curable polysilsesquioxane compounds (A3) were obtained by vacuum-drying a residue. Its mass average molecular weight (Mw) was 1,870, and molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.42.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 의 IR 스펙트럼 데이터를 아래에 나타낸다.The IR spectrum data of the curable polysilsesquioxane compound (A3) is shown below.

Si-Ph : 698 ㎝-1, 740 ㎝-1, Si-O : 1132 ㎝-1, -CN : 2259 ㎝-1 Si-Ph: 698 cm -1 , 740 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -CN: 2259 cm -1

또한, 29Si-NMR 스펙트럼 측정을 행한 결과, T1, T2, T3 의 피크 적분치비는 0 : 33 : 67 이었다.Moreover, as a result of performing 29 Si-NMR spectrum measurement, the peak integral ratio of T1, T2, and T3 was 0:33:67.

실시예 및 비교예에서 사용한 화합물을 아래에 나타낸다.The compounds used in Examples and Comparative Examples are shown below.

(A 성분) (Component A)

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1)〔경화성 PSQ (A1)〕: 제조예 1 에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물Curable polysilsesquioxane compound (A1) [Curable PSQ (A1)]: Curable polysilsesquioxane compound obtained in Production Example 1

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2)〔경화성 PSQ (A2)〕: 제조예 2 에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물Curable polysilsesquioxane compound (A2) [Curable PSQ (A2)]: Curable polysilsesquioxane compound obtained in Production Example 2

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3)〔경화성 PSQ (A3)〕: 제조예 3 에서 얻어진 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물Curable polysilsesquioxane compound (A3) [Curable PSQ (A3)]: Curable polysilsesquioxane compound obtained in Production Example 3

(B 성분 및 비교용 화합물) (component B and comparative compound)

실리콘 올리고머 (B1) : 시판되는 에폭시 고리 함유 실리콘 올리고머, 질량 평균 분자량 (Mw) 2,400, 분자량 분포 (Mw/Mn) 1.53, 에폭시 당량 830 g/eq Silicone oligomer (B1): commercially available silicone oligomer containing epoxy ring, mass average molecular weight (Mw) 2,400, molecular weight distribution (Mw/Mn) 1.53, epoxy equivalent 830 g/eq

실리콘 올리고머 (B2) : 시판되는 에폭시 고리 함유 실리콘 올리고머, 질량 평균 분자량 (Mw) 2,300, 분자량 분포 (Mw/Mn) 1.48, 에폭시 당량 350 g/eq Silicone oligomer (B2): commercially available silicone oligomer containing an epoxy ring, mass average molecular weight (Mw) 2,300, molecular weight distribution (Mw/Mn) 1.48, epoxy equivalent 350 g/eq

실리콘 올리고머 (B3) : 시판되는 메르캅토기 함유 실리콘 올리고머, 질량 평균 분자량 (Mw) 1,800, 분자량 분포 (Mw/Mn) 1.79, 메르캅토 당량 800 g/eq Silicone oligomer (B3): commercially available silicone oligomer containing a mercapto group, mass average molecular weight (Mw) 1,800, molecular weight distribution (Mw/Mn) 1.79, mercapto equivalent 800 g/eq

실리콘 올리고머 (B4) : 시판되는 에폭시 고리 함유 실리콘 올리고머, 질량 평균 분자량 (Mw) 2,200, 분자량 분포 (Mw/Mn) 2.24Silicone oligomer (B4): commercially available silicone oligomer containing an epoxy ring, mass average molecular weight (Mw) 2,200, molecular weight distribution (Mw/Mn) 2.24

실리콘 올리고머 (B5) : 시판되는 에폭시 고리 함유 실리콘 올리고머, 질량 평균 분자량 (Mw) 1,500, 분자량 분포 (Mw/Mn) 1.39, 에폭시 당량 490 g/eq Silicone oligomer (B5): commercially available silicone oligomer containing epoxy ring, mass average molecular weight (Mw) 1,500, molecular weight distribution (Mw/Mn) 1.39, epoxy equivalent 490 g/eq

실리콘 올리고머 (B6) : 시판되는 에폭시 고리 함유 실리콘 올리고머〔2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸메틸디메톡시실란의 중축합물 (고리상 사량체)〕, 에폭시 당량 200 g/eq Silicone oligomer (B6): commercially available silicone oligomer containing epoxy ring [polycondensate of 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethylmethyldimethoxysilane (cyclic tetramer)], epoxy equivalent 200 g/eq

실란 커플링제 (B7) : 3-글리시독시프로필트리메톡시실란Silane coupling agent (B7): 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane

29Si-NMR 측정 결과로부터 산출한, 실리콘 올리고머 (B1) ∼ (B6) 의 반복 단위의 종류와 그의 함유 비율을 아래에 나타낸다.The types of repeating units of silicone oligomers (B1) to (B6) and their content rates calculated from the 29 Si-NMR measurement results are shown below.

Figure pct00010
Figure pct00010

또한, 상기 표 중, M, D, T 및 Q 는, 규소 원자에 결합되어 있는 산소 원자의 수가 각각 1, 2, 3, 4 인 것을 나타낸다. 또한, M, D, T 및 Q 뒤의 숫자는, 규소 원자에 결합되어 있는 Si-O- 결합의 수를 나타낸다. 따라서, 예를 들어, 비가수 분해성기가 메틸기이고, 가수 분해성기가 메톡시기인 실리콘 올리고머의 경우, 구체적인 구조는 아래와 같다. 식 중,「Me」는 메틸기를 나타낸다.In addition, in the said table|surface, M, D, T, and Q show that the number of the oxygen atoms couple|bonded with the silicon atom is 1, 2, 3, and 4, respectively. In addition, the number after M, D, T and Q indicates the number of Si-O- bonds bonded to the silicon atom. Therefore, for example, in the case of a silicone oligomer in which the non-hydrolyzable group is a methyl group and the hydrolyzable group is a methoxy group, the specific structure is as follows. In the formula, "Me" represents a methyl group.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00011
Figure pct00011

(C 성분) (component C)

실란 커플링제 (C1) : 1,3,5-N-트리스〔3-(트리메톡시실릴)프로필〕이소시아누레이트Silane coupling agent (C1): 1,3,5-N-tris[3-(trimethoxysilyl)propyl]isocyanurate

실란 커플링제 (C2) : 3-(트리메톡시실릴)프로필숙신산 무수물Silane coupling agent (C2): 3- (trimethoxysilyl) propyl succinic anhydride

(실시예 1) (Example 1)

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A1) 100 질량부에, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 : 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 = 40 : 60 (질량비) 의 혼합 용제를 첨가하고, 전체 용량을 교반하였다. 이것에 실리콘 올리고머 (B1) 5 질량부, 실란 커플링제 (C1) 30 질량부, 실란 커플링제 (C2) 3 질량부를 첨가하고, 전체 용량을 충분히 혼합, 탈포함으로써, 경화성 조성물을 얻었다.To 100 parts by mass of the curable polysilsesquioxane compound (A1), a mixed solvent of diethylene glycol monobutyl ether acetate: tripropylene glycol-n-butyl ether = 40: 60 (mass ratio) was added, and the total volume was stirred. . 5 mass parts of silicone oligomer (B1), 30 mass parts of silane coupling agents (C1), and 3 mass parts of silane coupling agents (C2) were added to this, and the curable composition was obtained by fully mixing and defoaming the total volume.

(실시예 2 ∼ 8, 비교예 1 ∼ 8) (Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 8)

실시예 1 에 있어서, 각 성분을 표 2 에 나타내는 것으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, except having changed each component into what was shown in Table 2, it carried out similarly to Example 1, and obtained the curable composition.

실시예 및 비교예에서 얻은 경화성 조성물을 사용하여, 각각 아래의 측정, 시험을 행하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.The following measurements and tests were performed using the curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples, respectively. A result is shown in Table 2.

[경화성 평가][Curability evaluation]

아래에 기재하는 바와 같이, 자동 경화 시간 측정 장치「마도카」(주식회사 사이버 제조) 를 사용하여 경화성 조성물의 경화 시간을 측정하였다.As described below, the curing time of the curable composition was measured using an automatic curing time measuring device "Madoka" (manufactured by Cyber Co., Ltd.).

150 ℃ 로 가열된 스테인리스판 상에, 0.30 ㎖ 의 샘플을 투입하고, 교반하였다. 경시적으로 교반 토크가 상승하기 때문에, 교반 토크가 0.049 N·㎝ 가 될 때까지의 시간 (초) 을 측정하였다. 교반 조건은 아래와 같다.On the stainless steel plate heated to 150 degreeC, 0.30 mL sample was thrown in, and it stirred. Since the stirring torque increases with time, the time (seconds) until the stirring torque becomes 0.049 N·cm was measured. Stirring conditions are as follows.

·교반 날개의 자전 회전수 : 200 rpmRotational rotation speed of the stirring blade: 200 rpm

·교반 날개의 공전 회전수 : 80 rpmIdle rotation speed of the stirring blade: 80 rpm

·갭 (가열판과 교반 날개 사이의 거리) : 0.3 ㎜·Gap (distance between heating plate and stirring blade): 0.3 mm

[접착 강도 평가][Adhesive strength evaluation]

1 변의 길이가 2 ㎜ 인 정방형 (면적이 4 ㎟) 의 실리콘 칩의 미러면에, 실시예 및 비교예에서 얻은 경화성 조성물을, 각각 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은 도금 구리판) 상에 놓고 압착하였다. 그 후, 130 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하고 경화시켜 시험편 부착 피착체를 얻었다. 이 시험편 부착 피착체를, 미리 100 ℃ 로 가열한 본드 테스터 (데이지사 제조, 시리즈 4000) 의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 100 ㎛ 의 높이의 위치로부터, 스피드 200 ㎛/s 로 접착면에 대해서 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여, 100 ℃ 에 있어서의 시험편과 피착체의 접착력 (N/4 ㎟) 을 측정하였다.The curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples were respectively applied to the mirror surface of a square (area 4 mm2) silicon chip having a side length of 2 mm so that the thickness was about 2 µm, and the coated surface was applied to the adherend (silver plated copper plate) and pressed. Then, it heat-processed and hardened at 130 degreeC for 2 hours, and the to-be-adhered body with a test piece was obtained. This adherend with a test piece was left for 30 seconds on the measurement stage of a bond tester (manufactured by Daisy, series 4000) that had been previously heated to 100° C., from a position 100 μm high from the adherend, at a speed of 200 μm/s. Stress was applied in the horizontal direction (shear direction) with respect to the adhesive surface, and the adhesive force (N/4 mm<2>) of the test piece and to-be-adhered body in 100 degreeC was measured.

[가열 후 투과율][Transmittance after heating]

실시예 및 비교예에서 얻은 경화성 조성물을, 각각 길이 25 ㎜, 폭 20 ㎜ 의 형 내에, 두께가 1 ㎜ 가 되도록 흘려 넣고, 150 ℃ 에서 3 시간 가열하고 경화시켜 시험편을 얻었다. 이 시험편을 200 ℃ 에서 100 시간 가열한 후, 분광 광도계를 사용하여 파장 450 nm 의 투과율을 측정하였다.The curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples were poured into a mold having a length of 25 mm and a width of 20 mm, each having a thickness of 1 mm, and heated and cured at 150°C for 3 hours to obtain a test piece. After heating this test piece at 200 degreeC for 100 hours, the transmittance|permeability of wavelength 450nm was measured using the spectrophotometer.

Figure pct00012
Figure pct00012

표 2 로부터 아래의 것을 알 수 있다.Table 2 shows the following.

실시예 1 ∼ 8 의 경화성 조성물은, 경화성 평가 시험에 있어서, 1000 초 이하라는 짧은 시간에서 경화물이 얻어지고, 경화성이 우수하다.The curable composition of Examples 1-8 is a sclerosis|hardenability evaluation test. WHEREIN: Hardened|cured material is obtained in the short time of 1000 second or less, and it is excellent in sclerosis|hardenability.

또한, 실시예 1 ∼ 8 에서 얻어진 경화물의 접착 강도의 평가 시험에서는, 접착 강도는 30 N/4 ㎟ 이상으로, 접착성이 우수하다.Moreover, in the evaluation test of the adhesive strength of the hardened|cured material obtained in Examples 1-8, adhesive strength is 30 N/4 mm<2> or more, and it is excellent in adhesiveness.

또한, 실시예의 경화성 조성물의 경화물은, 가열 후에도 충분한 광투과성을 갖고 있다.Moreover, the hardened|cured material of the curable composition of an Example has sufficient light transmittance even after heating.

한편, 비교예 1 ∼ 8 의 경화성 조성물은, 경화성 평가 시험에 있어서, 1000 초를 초과하는 경화 시간이 필요하고, 경화성이 열등하였다.On the other hand, in the curable composition of Comparative Examples 1-8, the curing time exceeding 1000 second was required in the sclerosis|hardenability evaluation test, and sclerosis|hardenability was inferior.

또한, 실시예 1 ∼ 8 에서 얻어진 경화물의 접착 강도의 평가 시험에서는, 접착 강도는 30 N/4 ㎟ 이상으로, 접착성이 우수하다.Moreover, in the evaluation test of the adhesive strength of the hardened|cured material obtained in Examples 1-8, adhesive strength is 30 N/4 mm<2> or more, and it is excellent in adhesiveness.

Claims (11)

하기 (A) 성분, 및, (B) 성분을 함유하는 경화성 조성물.
(A) 성분 : 하기 식 (a-1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물
Figure pct00013

(R1 은, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 무치환의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 및, 치환기 (에폭시 고리를 갖는 기를 제외한다) 를 갖는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개이다.)
(B) 성분 : 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 가지며, 또한, 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위를 갖거나, 또는 갖지 않는 실리콘 올리고머로서, 3 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위와 4 관능 실란 화합물 유래의 반복 단위의 합계량이, 전체 반복 단위 중 80 ㏖% 이상이고, 상기 3 관능 실란 화합물 중 적어도 1 종이, 에폭시 고리를 갖는 기를 갖는 3 관능 실란 화합물인 실리콘 올리고머
Curable composition containing following (A) component and (B) component.
(A) component: Curable polysilsesquioxane compound which has a repeating unit represented by following formula (a-1)
Figure pct00013

(R 1 is an unsubstituted C1-C10 alkyl group, a C1-C10 alkyl group having a substituent (excluding the group having an epoxy ring), an unsubstituted C6-C12 aryl group, and a substituent (epoxy It is at least one selected from the group consisting of an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (excluding groups having a ring).
(B) component: a silicone oligomer having a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and having or not having a repeating unit derived from a tetrafunctional silane compound, a repeating unit derived from a trifunctional silane compound and a tetrafunctional silane compound A silicone oligomer in which the total amount of the derived repeating units is 80 mol% or more of the total repeating units, and at least one of the trifunctional silane compounds is a trifunctional silane compound having a group having an epoxy ring.
제 1 항에 있어서,
(A) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 이, 800 ∼ 30,000 인 경화성 조성물.
The method of claim 1,
(A) The curable composition whose mass average molecular weights (Mw) of a component are 800-30,000.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(B) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 이, 500 ∼ 5,000 인 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
(B) The curable composition whose mass average molecular weights (Mw) of a component are 500-5,000.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(B) 성분의 에폭시 당량이, 50 ∼ 2,000 g/eq 인 경화성 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(B) Curable composition whose epoxy equivalent of component is 50-2,000 g/eq.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
(B) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대해서 0.1 ∼ 100 질량부인 경화성 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
(B) Curable composition whose content of component is 0.1-100 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분과 (B) 성분의 합계량이, 경화성 조성물의 고형분 중 30 ∼ 100 질량% 인 경화성 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The curable composition whose total amount of (A) component and (B) component is 30-100 mass % in solid content of a curable composition.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 하기 (C) 성분을 함유하는 경화성 조성물.
(C) 성분 : 실란 커플링제
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Furthermore, the curable composition containing the following (C)component.
(C) component: silane coupling agent
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.Hardened|cured material obtained by hardening|curing the curable composition in any one of Claims 1-7. 제 8 항에 있어서,
광 소자 고정재인 경화물.
9. The method of claim 8,
A cured product that is an optical device fixing material.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition in any one of Claims 1-7 as an adhesive agent for optical element fixing materials. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정재용 봉지재로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition in any one of Claims 1-7 as a sealing material for optical element fixing materials.
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