KR20210147749A - Photocurable Ink Composition, Encapsulation Layer and Display Device - Google Patents

Photocurable Ink Composition, Encapsulation Layer and Display Device Download PDF

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KR20210147749A
KR20210147749A KR1020200065430A KR20200065430A KR20210147749A KR 20210147749 A KR20210147749 A KR 20210147749A KR 1020200065430 A KR1020200065430 A KR 1020200065430A KR 20200065430 A KR20200065430 A KR 20200065430A KR 20210147749 A KR20210147749 A KR 20210147749A
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오용호
김민수
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

Provided are: a photocurable ink composition comprising a specific proportion of a monofunctional photocurable monomer having a specific structure; an encapsulation layer including a cured product thereof; and an image display device comprising the encapsulation layer. The photocurable ink composition according to the present invention has a low dielectric constant by comprising a specific proportion of a monofunctional photocurable monomer having a specific structure, so it does not slow down the signal speed. In addition, the photocurable ink composition of the present invention can implement a low viscosity by using a photocurable monomer as a diluent without having to use a solvent, thereby enabling a fine-patterning process using inkjet printing.

Description

광경화성 잉크 조성물, 봉지층 및 화상표시장치 {Photocurable Ink Composition, Encapsulation Layer and Display Device}Photocurable Ink Composition, Encapsulation Layer and Display Device {Photocurable Ink Composition, Encapsulation Layer and Display Device}

본 발명은 광경화성 잉크 조성물, 봉지층 및 화상표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 저유전율을 가짐으로써 신호 속도를 늦추지 않을 수 있으며, 저점도를 구현할 수 있어 잉크젯 인쇄를 통해 미세 패터닝이 가능한 광경화성 잉크 조성물, 이의 경화물을 포함하는 봉지층 및 상기 봉지층을 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable ink composition, an encapsulation layer, and an image display device, and more particularly, by having a low dielectric constant, the signal speed can not be slowed down, and a low viscosity can be realized, so that fine patterning is possible through inkjet printing. It relates to a chemical conversion ink composition, an encapsulation layer comprising a cured product thereof, and an image display device comprising the encapsulation layer.

유기발광장치(OLED)에 있어서, 화소별로 유기 발광층이 형성되며, 외부 불순물 또는 수분으로부터 상기 유기 발광층을 보호하기 위한 봉지층(encapsulation layer)이 형성될 수 있다.In an organic light emitting device (OLED), an organic light emitting layer is formed for each pixel, and an encapsulation layer for protecting the organic light emitting layer from external impurities or moisture may be formed.

상기 봉지층으로서 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 및/또는 실리콘 산질화물을 포함하는 무기 봉지층이 형성될 수 있다. 그러나, 상기 무기 봉지층만으로는 외부 수분에 의한 표시 소자 열화를 충분히 차단하지 못할 수 있다. 이에 따라, 광경화성 조성물을 사용하여 추가적인 유기 봉지층을 형성하는 것을 고려할 수 있다.An inorganic encapsulation layer including silicon oxide, silicon nitride and/or silicon oxynitride may be formed as the encapsulation layer. However, the inorganic encapsulation layer may not sufficiently block deterioration of the display element due to external moisture. Accordingly, it may be considered to form an additional organic encapsulation layer using the photocurable composition.

최근, OLED 장치의 해상도가 증가하면서 패턴들 및 화소 사이즈 역시 미세화되고 있다. 따라서, 상기 광경화성 조성물 역시 미세 도포 또는 미세 패터닝에 적합한 물성을 가질 필요가 있다.Recently, as the resolution of an OLED device increases, patterns and pixel sizes are also being miniaturized. Accordingly, the photocurable composition also needs to have properties suitable for fine application or fine patterning.

대한민국 등록특허 제10-1359470호는 알칼리 가용성 수지, 광경화성 단량체, 광중합 개시제, p-디메틸아미노아세토페논계 또는 아미노벤즈알데히드계 수소공여체 및 용매를 포함하며, 광중합 개시제에서 생성된 알킬 라디칼을 활성화하여 광반응성을 향상시킬 수 있는 광경화성 조성물을 개시하고 있다.Korean Patent No. 10-1359470 includes an alkali-soluble resin, a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, a p-dimethylaminoacetophenone-based or aminobenzaldehyde-based hydrogen donor and a solvent, and activates the alkyl radical generated in the photopolymerization initiator A photocurable composition capable of improving reactivity is disclosed.

그러나, 상기 광경화성 조성물은 알칼리 가용성 수지를 포함하여 점도가 상승하므로 원하는 미세 패터닝 구현에 한계가 있다.However, since the photocurable composition includes an alkali-soluble resin and increases in viscosity, there is a limit to the implementation of desired fine patterning.

한편, 광섬유 통신 회선, 무선 통신 회선을 경유하는 동영상의 전송이 보급된 것으로 대표되는 바와 같이, 취급하는 정보 통신량이 급격하게 증대되고 있다. 이에 따라, 화상표시장치의 고속화가 요구되고 있으며, 이러한 고속화를 위하여는 봉지층의 축적용량을 감소시키기 위하여 유전율을 낮출 필요가 있다.On the other hand, as represented by the spread of video transmission via optical fiber communication lines and wireless communication lines, the amount of information communication handled is rapidly increasing. Accordingly, a high speed of the image display device is required, and for this high speed, it is necessary to lower the dielectric constant in order to reduce the storage capacity of the encapsulation layer.

대한민국 등록특허 제10-1826020호는 헤테로 원자를 함유한 골격과 상기 골격에 결합되며 적어도 하나의 질소 원자를 함유한 분지 사슬로 이루어지고 광 조사에 의해 가스를 발생하는 광 응답성 가스 발생제를 포함하되, 상기 헤테로 원자를 함유한 골격은 벤조카바졸 구조 혹은 페닐티오페닐 구조를 갖는 것인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물을 개시하고 있다.Korean Patent Registration No. 10-1826020 includes a photoresponsive gas generator comprising a skeleton containing a hetero atom and a branched chain having at least one nitrogen atom bonded to the skeleton and generating gas by irradiation with light. However, there is disclosed a solvent-free photocurable inkjet composition in which the skeleton containing the hetero atom has a benzocarbazole structure or a phenylthiophenyl structure.

그러나, 상기 광경화 잉크젯 조성물은 저유전율의 확보를 고려하지 않아 화상표시장치의 고속화가 어려울 수 있다.However, since the photocurable inkjet composition does not consider securing of a low dielectric constant, it may be difficult to increase the speed of the image display device.

따라서, 저유전율을 가짐으로써 신호 속도를 늦추지 않을 수 있으며, 저점도를 구현할 수 있어 잉크젯 인쇄를 통해 미세 패터닝이 가능한 광경화성 잉크 조성물의 개발이 절실히 요구되고 있는 실정이다.Therefore, the development of a photocurable ink composition capable of fine patterning through inkjet printing is urgently required because it has a low dielectric constant, so that the signal speed cannot be slowed and a low viscosity can be realized.

대한민국 등록특허 제10-1359470호Republic of Korea Patent No. 10-1359470 대한민국 등록특허 제10-1826020호Republic of Korea Patent No. 10-1826020

본 발명의 한 목적은 저유전율을 가짐으로써 신호 속도를 늦추지 않을 수 있으며, 저점도를 구현할 수 있어 잉크젯 인쇄를 통해 미세 패터닝이 가능한 광경화성 잉크 조성물을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a photocurable ink composition capable of not slowing down a signal speed by having a low dielectric constant, and realizing a low viscosity and capable of fine patterning through inkjet printing.

본 발명의 다른 목적은 상기 광경화성 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 봉지층을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an encapsulation layer including a cured product of the photocurable ink composition.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 봉지층을 포함하는 화상표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an image display device including the encapsulation layer.

한편으로, 본 발명은 하기 화학식 1의 화합물, 2 내지 3관능성 광경화성 모노머 및 광중합 개시제를 포함하고, 상기 화학식 1의 화합물은 조성물 전체 100 중량%에 대하여 10 내지 80 중량%의 양으로 포함되는 광경화성 잉크 조성물을 제공한다.On the other hand, the present invention includes a compound of Formula 1 below, a 2- to trifunctional photocurable monomer, and a photopolymerization initiator, wherein the compound of Formula 1 is included in an amount of 10 to 80% by weight based on 100% by weight of the total composition A photocurable ink composition is provided.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 식에서, In the above formula,

R1은 수소 또는 메틸기이고, R 1 is hydrogen or a methyl group,

R2는 C5-C30의 알킬기 또는 C5-C30의 사이클로알킬기이다.R 2 is a C 5 -C 30 alkyl group or a C 5 -C 30 cycloalkyl group.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 25℃에서 점도가 10 내지 30 cP이고, 경화막의 유전율이 3.0 이하일 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may have a viscosity of 10 to 30 cP at 25° C., and a dielectric constant of a cured film of 3.0 or less.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 2 내지 3관능성 광경화성 모노머는 하기 화학식 2-1 내지 2-3으로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the 2- to trifunctional photocurable monomer may include at least one of compounds represented by the following Chemical Formulas 2-1 to 2-3.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00002
Figure pat00002

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure pat00003
Figure pat00003

[화학식 2-3][Formula 2-3]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 식에서, In the above formula,

R1은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고, R 1 is each independently hydrogen or a methyl group,

R3는 수소 또는 C1-C3의 알킬기이며, R 3 is hydrogen or a C 1 -C 3 alkyl group,

R4는 수소, 히드록실기, C1-C3의 알킬기 또는 C1-C3의 알콕시기이고, R 4 is hydrogen, a hydroxyl group, a C 1 -C 3 alkyl group or a C 1 -C 3 alkoxy group,

L은 C2-C20의 알킬렌기이며, L is a C 2 -C 20 alkylene group,

n은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.n is each independently an integer from 0 to 10;

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 화학식 1의 화합물 10 내지 80 중량%, 2관능성 광경화성 모노머 10 내지 40% 및 3관능성 광경화성 모노머 5 내지 40 중량%를 포함할 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention contains 10 to 80% by weight of the compound of Formula 1, 10 to 40% of a difunctional photocurable monomer, and a trifunctional photocurable monomer based on 100% by weight of the total photocurable ink composition 5 to 40% by weight.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 용제를 1 중량% 이하의 양으로 포함할 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may include a solvent in an amount of 1 wt% or less.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 유기발광소자 봉지용으로 사용될 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may be used for encapsulating an organic light emitting device.

다른 한편으로, 본 발명은 상기 광경화성 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 봉지층을 제공한다.On the other hand, the present invention provides an encapsulation layer including a cured product of the photocurable ink composition.

또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 봉지층을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.On the other hand, the present invention provides an image display device including the encapsulation layer.

본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물은 특정 구조의 단관능성 광경화성 모노머를 특정 함량으로 포함하여 3.0 이하 수준의 저유전율을 가짐으로써 신호 속도를 늦추지 않을 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물은 용제 없이 광경화성 모노머를 희석제로 사용하여 25℃에서 10 내지 30 cP 수준의 저점도를 구현할 수 있어 잉크젯 인쇄를 통해 미세 패터닝이 가능하다. 이에 따라, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 유기발광소자 봉지(encapsulation)용으로 유리하게 사용될 수 있다.The photocurable ink composition according to the present invention may include a monofunctional photocurable monomer having a specific structure in a specific content to have a low dielectric constant of 3.0 or less, thereby not slowing down the signal speed. In addition, the photocurable ink composition according to the present invention can implement a low viscosity of 10 to 30 cP at 25° C. using a photocurable monomer as a diluent without a solvent, so that fine patterning is possible through inkjet printing. Accordingly, the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may be advantageously used for encapsulation of an organic light emitting device.

또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 경화 후 우수한 기체 및 수분 배리어 특성을 가지며, 향상된 경화도와 안정성을 가질 수 있다.In addition, the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may have excellent gas and moisture barrier properties after curing, and may have improved curing degree and stability.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 실시형태는 단관능성 광경화성 모노머(A), 2 내지 3관능성 광경화성 모노머(B) 및 광중합 개시제(C)를 포함하는 광경화성 잉크 조성물에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a photocurable ink composition comprising a monofunctional photocurable monomer (A), a 2 to trifunctional photocurable monomer (B), and a photoinitiator (C).

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 25℃에서 점도가 10 내지 30 cP일 수 있다. 상기 25℃에서 점도가 10 cP 미만이면 제팅시 난분사가 일어날 수 있고, 30 cP 초과이면 제팅성이 불량할 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may have a viscosity of 10 to 30 cP at 25°C. If the viscosity at 25°C is less than 10 cP, difficult jetting may occur during jetting, and if it exceeds 30 cP, the jetting property may be poor.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 경화막의 유전율이 3.0 이하, 바람직하기로 2.7 이하일 수 있다.In the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention, the dielectric constant of the cured film may be 3.0 or less, preferably 2.7 or less.

상기 유전율(permittivity)은 전하 사이에 전기장이 작용할 때, 그 전하 사이의 매질이 전기장에 미치는 영향을 나타내는 물리적 단위로서, 매질이 저장할 수 있는 전하량으로 볼 수도 있다.The permittivity is a physical unit indicating the effect of a medium between charges on the electric field when an electric field acts between the charges, and may be viewed as the amount of charge that the medium can store.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물의 경화막의 유전율은 경화 후 8 ㎛ 두께의 경화막이 형성된 샘플에 대하여 후술하는 실험예에 기재된 방법에 따라 주파수 100kHz에서 측정한 값이다.The dielectric constant of the cured film of the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention is a value measured at a frequency of 100 kHz according to the method described in Experimental Examples to be described later with respect to a sample on which a cured film having a thickness of 8 μm is formed after curing.

상기 경화막의 유전율은 상술한 바와 같이 3.0 이하, 예를 들어 1 초과 3.0 이하, 바람직하기로 1 초과 2.7 이하일 수 있다. 상기 경화막의 유전율이 3.0 초과이면 신호 속도가 늦어질 수 있다.The dielectric constant of the cured film may be 3.0 or less as described above, for example, more than 1 and less than 3.0, preferably more than 1 and less than 2.7. When the dielectric constant of the cured film is greater than 3.0, the signal speed may be slow.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 3.0 이하 수준의 저유전율을 가져 신호 속도를 늦추지 않으면서도 용제 없이 광경화성 모노머를 희석제로 사용하여 25℃에서 10 내지 30 cP 수준의 저점도를 구현할 수 있어 잉크젯 인쇄를 통해 미세 패터닝이 가능하다. 이에 따라, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 유기발광소자 봉지(encapsulation)용으로 유리하게 사용될 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention has a low dielectric constant of 3.0 or less to realize a low viscosity of 10 to 30 cP at 25°C by using a photocurable monomer as a diluent without a solvent without slowing down the signal rate. Thus, fine patterning is possible through inkjet printing. Accordingly, the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may be advantageously used for encapsulation of an organic light emitting device.

단관능성 광경화성 모노머(A)Monofunctional photocurable monomer (A)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 단관능성 광경화성 모노머(A)는 하기 화학식 1의 화합물로서, 광경화성 잉크 조성물의 유전율을 낮추는 역할을 하며, 저점도 구현에도 유리하게 작용한다.In one embodiment of the present invention, the monofunctional photocurable monomer (A) is a compound of Formula 1 below, and serves to lower the dielectric constant of the photocurable ink composition, and also advantageously functions to implement low viscosity.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 식에서, In the above formula,

R1은 수소 또는 메틸기이고, R 1 is hydrogen or a methyl group,

R2는 C5-C30의 알킬기 또는 C5-C30의 사이클로알킬기이다.R 2 is a C 5 -C 30 alkyl group or a C 5 -C 30 cycloalkyl group.

본 명세서에서 사용되는 C5-C30의 알킬기는 탄소수 5 내지 30개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 펜틸, 헥실, 2-에틸헥실, 헵틸, 2-에틸헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 스테아릴, 노나데실, 에이코사닐, 베헤닐 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, C 5 -C 30 Alkyl group means a straight-chain or branched hydrocarbon consisting of 5 to 30 carbon atoms, for example, pentyl, hexyl, 2-ethylhexyl, heptyl, 2-ethylheptyl, octyl , nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, stearyl, nonadecyl, eicosanyl, behenyl, and the like.

본 명세서에서 사용되는 C5-C30의 사이클로알킬기는 탄소수 5 내지 30개로 구성된 단순 또는 융합 고리형 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 사이클로펜틸, 사이클로헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, a C 5 -C 30 cycloalkyl group refers to a simple or fused cyclic hydrocarbon composed of 5 to 30 carbon atoms, and includes, for example, cyclopentyl, cyclohexyl, and the like, but is not limited thereto.

구체적으로, 상기 화학식 1의 화합물은 분자내의 전기음성도 차이에 의하여 생기는 쌍극자모멘트 값이 낮아 저유전율 구현에 유리하다.Specifically, the compound of Formula 1 has a low dipole moment value caused by a difference in electronegativity within a molecule, which is advantageous in realizing a low dielectric constant.

본 발명의 일 실시형태에서, R2는 바람직하기로 C7-C30의 알킬기 또는 C7-C30의 사이클로알킬기, 더욱 바람직하기로 C10-C25의 알킬기 또는 C7-C25의 사이클로알킬기일 수 있다. R2가 C7-C30의 알킬기 또는 C7-C30의 사이클로알킬기인 경우, 저유전율 및 저점도 구현면에서 바람직하다.In one embodiment of the present invention, R 2 is preferably a C 7 -C 30 alkyl group or a C 7 -C 30 cycloalkyl group, more preferably a C 10 -C 25 alkyl group or C 7 -C 25 cyclo It may be an alkyl group. When R 2 is a C 7 -C 30 alkyl group or a C 7 -C 30 cycloalkyl group, it is preferable in terms of low dielectric constant and low viscosity.

상기 화학식 1의 화합물의 구체예로는 도데실 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트, 베헤닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound of Formula 1 include dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, behenyl (meth) Acrylates etc. are mentioned.

상기 화학식 1의 화합물은 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 20 내지 70 중량%의 양으로 포함된다. 상기 화학식 1의 화합물의 함량이 10 중량% 미만이면 유전율이 높아지거나 광경화성 잉크 조성물의 점도가 상승하여 제팅성이 떨어질 수 있으며, 80 중량%를 초과하면 제팅시 난분사가 일어날 수 있다.The compound of Formula 1 is included in an amount of 10 to 80% by weight, preferably 20 to 70% by weight, based on 100% by weight of the total photocurable ink composition. If the content of the compound of Formula 1 is less than 10% by weight, the dielectric constant may be increased or the viscosity of the photocurable ink composition may increase to deteriorate jetting properties, and if it exceeds 80% by weight, difficult jetting may occur during jetting.

2 내지 3관능성 광경화성 모노머(B)2-3 functional photocurable monomer (B)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 2 내지 3관능성 광경화성 모노머(B)는 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 하기 화학식 2-1 내지 2-2로 표시되는 2관능성 광경화성 모노머 및 하기 화학식 2-3으로 표시되는 3관능성 광경화성 모노머 중 하나 이상을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the 2- to trifunctional photocurable monomer (B) is a compound that can be polymerized by the action of light and a photopolymerization initiator to be described later, and is represented by the following Chemical Formulas 2-1 to 2-2. It may include at least one of a functional photo-curable monomer and a trifunctional photo-curable monomer represented by the following Chemical Formula 2-3.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00006
Figure pat00006

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure pat00007
Figure pat00007

[화학식 2-3][Formula 2-3]

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 식에서, In the above formula,

R1은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고, R 1 is each independently hydrogen or a methyl group,

R3는 수소 또는 C1-C3의 알킬기이며, R 3 is hydrogen or a C 1 -C 3 alkyl group,

R4는 수소, 히드록실기, C1-C3의 알킬기 또는 C1-C3의 알콕시기이고, R 4 is hydrogen, a hydroxyl group, a C 1 -C 3 alkyl group or a C 1 -C 3 alkoxy group,

L은 C2-C20의 알킬렌기이며, L is a C 2 -C 20 alkylene group,

n은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.n is each independently an integer from 0 to 10;

본 명세서에서 사용되는 C1-C3의 알킬기는 탄소수 1 내지 3개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, C 1 -C 3 Alkyl group refers to a linear or branched monovalent hydrocarbon composed of 1 to 3 carbon atoms, and includes, for example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, etc. The present invention is not limited thereto.

본 명세서에서 사용되는 C1-C3의 알콕시기는 탄소수 1 내지 3개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 알콕시기를 의미하며, 메톡시, 에톡시, n-프로판옥시 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the C 1 -C 3 alkoxy group refers to a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and includes, but is not limited to, methoxy, ethoxy, n-propanoxy, and the like.

본 명세서에서 사용되는 C2-C20의 알킬렌기는 탄소수 2 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 2가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 에틸렌, n-프로필렌, 이소프로필렌, n-부틸렌, 이소부틸렌, n-펜틸렌, n-헥실렌, n-헵틸렌, n-옥틸렌, n-노닐렌, 1-메틸헵틸렌 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the C 2 -C 20 alkylene group refers to a straight-chain or branched divalent hydrocarbon having 2 to 20 carbon atoms, for example, ethylene, n-propylene, isopropylene, n-butylene, isobutylene, n-pentylene, n-hexylene, n-heptylene, n-octylene, n-nonylene, 1-methylheptylene, and the like.

상기 C5-C30의 알킬기, C5-C30의 사이클로알킬기, C1-C3의 알킬기, C1-C3의 알콕시기 및 C2-C20의 알킬렌기는 한 개 또는 그 이상의 수소가 C1-C6의 알킬기, C2-C6의 알케닐기, C2-C6의 알키닐기, C3-C10의 사이클로알킬기, C3-C10의 헤테로사이클로알킬기, C3-C10의 헤테로사이클로알킬옥시기, C1-C6의 할로알킬기, C1-C6의 알콕시기, C1-C6의 티오알콕시기, 아릴기, 아실기, 히드록시, 티오(thio), 할로겐, 아미노, 알콕시카르보닐, 카르복시, 카바모일, 시아노, 니트로 등으로 치환될 수 있다.The C 5 -C 30 alkyl group, C 5 -C 30 cycloalkyl group, C 1 -C 3 alkyl group, C 1 -C 3 alkoxy group, and C 2 -C 20 alkylene group are one or more hydrogen groups. C 1 -C 6 Alkyl group, C 2 -C 6 alkenyl group, C 2 -C 6 alkynyl group, C 3 -C 10 cycloalkyl group, C 3 -C 10 heterocycloalkyl group, C 3 -C 10 heterocycloalkyloxy group, C 1 -C 6 haloalkyl group, C 1 -C 6 alkoxy group, C 1 -C 6 thioalkoxy group, aryl group, acyl group, hydroxy, thio (thio), It may be substituted with halogen, amino, alkoxycarbonyl, carboxy, carbamoyl, cyano, nitro and the like.

상기 화학식 2-1로 표시되는 화합물의 구체예로는 1,4-비스((메타)아크릴로일옥시)부탄, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 2-메틸-1,8-옥탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by Formula 2-1 include 1,4-bis((meth)acryloyloxy)butane, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 2-methyl-1,8 -octanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, etc. are mentioned.

상기 화학식 2-2로 표시되는 화합물의 구체예로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by Formula 2-2 include ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate and the like.

상기 화학식 2-3으로 표시되는 화합물의 구체예로는 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by Formula 2-3 include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate. can

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 2관능성 광경화성 모노머를 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 10 내지 40 중량%의 양으로 포함할 수 있다. 상기 2관능성 광경화성 모노머의 함량이 10 중량% 미만이면 연필경도가 낮아질 수 있으며, 40 중량% 초과이면 제팅성이 불량할 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may include the difunctional photocurable monomer in an amount of 10 to 40 wt% based on 100 wt% of the total photocurable ink composition. If the content of the bifunctional photocurable monomer is less than 10% by weight, pencil hardness may be lowered, and if it exceeds 40% by weight, jetting properties may be poor.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 3관능성 광경화성 모노머를 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 40 중량%의 양으로 포함할 수 있다. 상기 3관능성 광경화성 모노머의 함량이 5 중량% 미만이면 연필경도가 낮아질 수 있으며, 40 중량% 초과이면 점도가 상승하여 제팅성이 불량해질 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may include the trifunctional photocurable monomer in an amount of 5 to 40 wt% based on 100 wt% of the total photocurable ink composition. If the content of the trifunctional photocurable monomer is less than 5% by weight, pencil hardness may be lowered, and if it exceeds 40% by weight, the viscosity may increase and jetting properties may be poor.

광중합 개시제(C)Photoinitiator (C)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합 개시제(C)는 상기 광경화성 모노머를 중합시킬 수 있는 것이라면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 상기 광중합 개시제(C)는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심계 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the photopolymerization initiator (C) may be used without particularly limiting the type as long as it can polymerize the photocurable monomer. In particular, the photopolymerization initiator (C) is an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a biimidazole-based compound, an oxime-based compound and It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of thioxanthone-based compounds.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxyl) oxyethoxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one; 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propane-1 -one, 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다. Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra( tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone and 2,4,6-trimethylbenzophenone.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Specific examples of the triazine-based compound include 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6 -(4-Methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2- yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine , 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl )-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine etc. are mentioned.

상기 비이미다졸계 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 비이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용된다. Specific examples of the biimidazole-based compound include 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3- Dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(alkoxyphenyl)biimi Dazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(trialkoxyphenyl)biimidazole, 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4 ,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or a biimidazole compound in which the phenyl group at the 4,4',5,5' position is substituted with a carboalkoxy group; have. Among them, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4' ,5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferably used

상기 옥심계 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있으며, 시판품으로 바스프사의 Irgacure OXE 01, OXE 02가 대표적이다.Specific examples of the oxime-based compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and commercially available products include Irgacure OXE 01 and OXE 02 manufactured by BASF.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like. There is this.

상기 광중합 개시제(C)는 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 10 중량%, 바람직하게는 1 내지 5 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함되는 경우 상기 광경화성 잉크 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물을 사용하여 형성한 경화막의 강도와 상기 경화막의 표면에서의 평활성이 양호해지는 이점이 있다.The photopolymerization initiator (C) may be included in an amount of 1 to 10 wt%, preferably 1 to 5 wt%, based on 100 wt% of the total photocurable ink composition. When the photopolymerization initiator is included within the above range, it is preferable because the photocurable ink composition is highly sensitive and the exposure time is shortened, so that productivity can be improved. In addition, there is an advantage in that the strength of the cured film formed by using the photocurable ink composition according to the present invention and smoothness on the surface of the cured film are improved.

첨가제(D)Additive (D)

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 상기한 성분들 이외에, 도막 평탄성 또는 밀착성을 증진 시키기 위해서 계면활성제, 밀착촉진제와 같은 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may further include additives such as a surfactant and an adhesion promoter in order to improve the flatness or adhesion of the coating film, in addition to the above-described components.

본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물이 계면활성제를 포함하는 경우 도막 평탄성이 향상될 수 있는 이점이 있다. 예컨대 상기 계면활성제는 BM-1000, BM-1100(BM Chemie사), 프로라이드 FC-135/FC-170C/FC-430(스미토모 쓰리엠㈜), SH-28PA/-190/-8400/SZ-6032(도레 시리콘㈜), Efka FL 3600 (BASF사) 등의 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. When the photocurable ink composition according to the present invention includes a surfactant, there is an advantage that the flatness of the coating film can be improved. For example, the surfactant is BM-1000, BM-1100 (BM Chemie), Proride FC-135/FC-170C/FC-430 (Sumitomo 3M), SH-28PA/-190/-8400/SZ-6032 (Toray Silicone Co., Ltd.), Efka FL 3600 (BASF), etc. may be used, but the present invention is not limited thereto.

상기 밀착촉진제는 기판과의 밀착성을 높이기 위하여 첨가될 수 있는 것으로서 카르복실기, (메타)아크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 상기 실란 커플링제는 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴옥시프로필 트리메톡시 실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The adhesion promoter may include a silane coupling agent having a reactive substituent selected from the group consisting of a carboxyl group, a (meth)acryloyl group, an isocyanate group, an epoxy group, and combinations thereof, which may be added to increase adhesion with the substrate. However, the present invention is not limited thereto. For example, the silane coupling agent is trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryloxypropyl trimethoxy silane, vinyltriacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ-isocyanate propyl triethoxysilane, γ-glycidoxy and propyl trimethoxysilane and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and these may be used alone or in combination of two or more.

이 외에도 본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제와 같은 첨가제를 더 포함할 수도 있으며, 상기 첨가제는 역시 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 당업자가 적절히 추가하여 사용이 가능하다.In addition to this, the photocurable ink composition according to the present invention may further include additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, and aggregation inhibitors within a range that does not impair the effects of the present invention, and the additives also do not impair the effects of the present invention. A person skilled in the art can use it by adding it appropriately to the range not included.

상기 첨가제는 상기 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.05 내지 10 중량%, 구체적으로 0.1 내지 10 중량%, 더욱 구체적으로 0.1 내지 5 중량%로 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The additive may be used in an amount of 0.05 to 10% by weight, specifically 0.1 to 10% by weight, and more specifically 0.1 to 5% by weight based on 100% by weight of the total photocurable ink composition, but is not limited thereto.

본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 용제를 실질적으로 포함하지 않으며, 포함하더라도 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 10 중량% 이하의 양으로 포함한다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 용제를 포함하지 않는 무용제형이거나 5 중량% 이하, 예컨대 1 중량% 이하로 극소량 포함하는 저용제형임에도 저점도 구현이 가능하다.The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention does not substantially include a solvent, and even if included, it is included in an amount of 10% by weight or less based on 100% by weight of the total photocurable ink composition. The photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention is a solvent-free type that does not contain a solvent or a low-viscosity type that contains a very small amount of 5% by weight or less, for example 1% by weight or less.

또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 수지 성분을 실질적으로 포함하지 않으며, 포함하더라도 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1중량% 이내, 바람직하기로 0.5 중량% 이내로 포함한다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 수지 성분을 포함하지 않음으로써 낮은 점도를 구현할 수 있어 잉크의 노즐 제팅 특성이 우수하다.In addition, the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention does not substantially include a resin component, and even if included, it contains within 1% by weight, preferably within 0.5% by weight, based on 100% by weight of the total photocurable ink composition. . The photocurable ink composition according to an exemplary embodiment of the present invention can realize low viscosity by not including a resin component, and thus has excellent nozzle jetting properties of the ink.

또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 잉크 조성물은 경화 후 우수한 기체 및 수분 배리어 특성을 가질 수 있다.In addition, the photocurable ink composition according to an embodiment of the present invention may have excellent gas and moisture barrier properties after curing.

아울러, 본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물은 향상된 경화도와 안정성을 가질 수 있다.In addition, the photocurable ink composition according to the present invention may have an improved degree of curing and stability.

본 발명의 일 실시형태는 상술한 광경화성 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 봉지층에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to an encapsulation layer including a cured product of the above-described photocurable ink composition.

상기 봉지층은 장치용 부재를 밀봉함으로써 수분, 산소 등의 외부 환경에 의해 장치용 부재의 표면이 산화되거나 분해되는 것을 막는 역할을 한다.The sealing layer serves to prevent oxidation or decomposition of the surface of the device member by an external environment such as moisture and oxygen by sealing the device member.

본 발명에 따른 광경화성 잉크 조성물의 패턴 형성 방법은, 상술한 광경화성 잉크 조성물을 잉크젯 방식으로 소정 영역에 도포하는 단계 및 상기 도포된 광경화성 잉크 조성물을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어진다.The method for forming a pattern of a photocurable ink composition according to the present invention comprises the steps of applying the above-described photocurable ink composition to a predetermined area by an inkjet method and curing the applied photocurable ink composition.

먼저, 본 발명의 광경화성 잉크 조성물을 잉크젯 분사기에 주입하여 장치용 부재의 소정 영역에 프린팅한다.First, the photocurable ink composition of the present invention is injected into an inkjet injector and printed on a predetermined area of a device member.

잉크젯 분사기의 일례인 피에조 잉크젯 헤드에서 분사되어 장치용 부재 위에서 적절한 상(phase)을 형성하기 위하여, 점도, 유동성 등의 특성이 잉크젯 헤드와 균형 있게 맞춰져야 한다.  본 발명에서 사용된 피에조 잉크젯 헤드는 제한되지 않으나, 약 10 내지 100pL, 바람직하게는 약 20 내지 40pL의 액적 크기를 가지는 잉크를 분사한다.In order to be ejected from a piezo inkjet head, which is an example of an inkjet injector, to form an appropriate phase on a member for an apparatus, properties such as viscosity and fluidity must be balanced with the inkjet head. The piezo inkjet head used in the present invention is not limited, but ejects ink having a droplet size of about 10 to 100 pL, preferably about 20 to 40 pL.

본 발명의 일 실시형태는 상술한 봉지층을 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to an image display device including the above-described encapsulation layer.

상기 화상표시장치는 장치용 부재, 및 상기 장치용 부재 상에 형성되고, 무기 봉지층과 유기 봉지층을 포함하는 장벽 스택을 포함할 수 있으며, 상기 유기 봉지층은 상술한 광경화성 잉크 조성물의 경화물을 포함한다.The image display device may include a device member, and a barrier stack formed on the device member, the barrier stack including an inorganic encapsulation layer and an organic encapsulation layer, wherein the organic encapsulation layer is formed of the photocurable ink composition described above. includes cargo.

상기 장치용 부재는 수분, 산소 등의 외부 환경에 노출시 분해 또는 산화되거나 성능이 저하될 수 있는 것으로서, 예를 들면 유기발광소자, 액정패널 등을 들 수 있다.The device member may be decomposed, oxidized, or degraded when exposed to an external environment such as moisture and oxygen, and may include, for example, an organic light emitting device, a liquid crystal panel, and the like.

상기 장치용 부재는 기판 상에 형성될 수 있다.The device member may be formed on a substrate.

상기 기판은 제한되지 않으며, 일례로 유리 기판, 실리콘 기판, 폴리카보네이트 기판, 폴리에스테르 기판, 방향족 폴리아미드 기판, 폴리아미드이미드 기판, 폴리이미드 기판, Al 기판, GaAs 기판 등의 표면이 평탄한 기판을 들 수 있다. 이들 기판은 실란 커플링제 등의 약품에 의한 약품 처리, 플라스마 처리, 이온 플레이팅 처리, 스퍼터링 처리, 기상반응 처리, 진공증착 처리 등의 전처리를 실시할 수 있다. 기판으로서 실리콘 기판 등을 사용하는 경우, 실리콘 기판 등의 표면에는 전하 결합소자(CCD), 박막 트랜지스터(TFT) 등이 형성될 수 있다. 또한, 격벽 매트릭스가 형성되어 있을 수도 있다.The substrate is not limited, and examples include a substrate with a flat surface, such as a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyamide substrate, a polyamideimide substrate, a polyimide substrate, an Al substrate, a GaAs substrate, etc. can These substrates can be subjected to pretreatment such as chemical treatment with a chemical such as a silane coupling agent, plasma treatment, ion plating treatment, sputtering treatment, gas phase reaction treatment, vacuum deposition treatment, and the like. When a silicon substrate or the like is used as the substrate, a charge coupled device (CCD), a thin film transistor (TFT), or the like may be formed on the surface of the silicon substrate or the like. In addition, a barrier rib matrix may be formed.

상기 무기 봉지층은 유기 봉지층과 함께 수분, 산소 등의 외부 환경으로부터 장치용 부재를 보호하는 역할을 한다. 상기 무기 봉지층은 유기 봉지층과 성분이 서로 다르고, 무기 성분을 주성분으로 포함한다. 예를 들어, 상기 무기 봉지층은 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 비스무트(Bi), 전이금속, 란탄족 금속 등의 금속 또는 비금속; 이들 금속 또는 비금속간의 화합물; 이들 금속 또는 비금속의 합금; 이들 금속 또는 비금속의 산화물; 이들 금속 또는 비금속의 질화물; 이들 금속 또는 비금속의 산질화물 등을 포함할 수 있다.The inorganic encapsulation layer serves to protect the device member from external environments such as moisture and oxygen together with the organic encapsulation layer. The inorganic encapsulation layer has different components from the organic encapsulation layer, and includes an inorganic component as a main component. For example, the inorganic encapsulation layer may include silicon (Si), aluminum (Al), selenium (Se), zinc (Zn), antimony (Sb), indium (In), germanium (Ge), tin (Sn), and bismuth. (Bi), a transition metal, a metal such as a lanthanide metal or a non-metal; compounds between these metals or non-metals; alloys of these metals or non-metals; oxides of these metals or non-metals; nitrides of these metals or non-metals; oxynitrides of these metals or non-metals may be included.

상기 화상표시장치는 유기발광장치(OLED), 액정표시장치(LCD), 전계발광표시장치(EL), 플라스마표시장치(PDP), 전계방출표시장치(FED) 등일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 특히, 상기 화상표시장치는 유기발광장치(OLED)일 수 있다.The image display device may be an organic light emitting device (OLED), a liquid crystal display device (LCD), an electroluminescence display device (EL), a plasma display device (PDP), a field emission display device (FED), etc., but is not limited thereto. In particular, the image display device may be an organic light emitting device (OLED).

이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples, Comparative Examples and Experimental Examples. These Examples, Comparative Examples, and Experimental Examples are only for illustrating the present invention, and it is apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예 및 비교예: 광경화성 잉크 조성물의 제조Examples and Comparative Examples: Preparation of photocurable ink composition

하기 표 1 내지 표 2의 조성으로 각각의 성분들을 혼합하여 광경화성 잉크 조성물을 제조하였다(중량%).A photocurable ink composition was prepared by mixing each component in the composition of Tables 1 to 2 below (weight %).

실시예Example 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010 1111 1212 1313 단관능성 광경화성 모노머Monofunctional photocurable monomer A-1A-1 4040 1515 8080 4040 4040 2020 4040 4040 A-2A-2 4040 A-3A-3 4040 1515 8080 2020 A-4A-4 4040 A-5A-5 A-6A-6 2 내지 3관능성 광경화성 모노머2-3 functional photocurable monomer B-1B-1 3535 3535 3535 3535 4040 1010 4040 1010 3535 3535 2020 B-2B-2 3535 1515 B-3B-3 3535 B-4B-4 2020 2020 2020 2020 4040 55 4040 55 2020 2020 1010 2020 B-5B-5 2020 1010 광중합 개시제photopolymerization initiator C-1C-1 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 첨가제additive D-1D-1 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22

비교예comparative example 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010 1111 1212 1313 단관능성 광경화성 모노머Monofunctional photocurable monomer A-1A-1 55 99 8585 3030 5050 3030 5555 55 A-2A-2 A-3A-3 55 99 8585 A-4A-4 A-5A-5 4040 A-6A-6 4040 2 내지 3관능성 광경화성 모노머2-3 functional photocurable monomer B-1B-1 3535 3535 4545 4040 55 4545 4040 55 4545 55 2020 4040 9090 B-2B-2 B-3B-3 B-4B-4 2020 2020 4545 4040 55 4545 4040 55 2020 4040 4545 B-5B-5 광중합 개시제photopolymerization initiator C-1C-1 33 33 33 99 33 33 99 33 33 33 33 33 33 첨가제additive D-1D-1 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22 22

A-1: 도데실 아크릴레이트(TCI사)A-1: dodecyl acrylate (TCI)

A-2: 스테아릴 아크릴레이트(TCI사)A-2: Stearyl Acrylate (TCI)

A-3: 이소보닐 아크릴레이트(A-IB, 신나카무라사)A-3: isobornyl acrylate (A-IB, Shin-Nakamura)

A-4: 베헤닐 아크릴레이트(A-BH, 신나카무라사)A-4: behenyl acrylate (A-BH, Shin-Nakamura)

A-5: 에틸 아크릴레이트A-5: ethyl acrylate

A-6: 프로필 아크릴레이트A-6: propyl acrylate

B-1: 1,4-비스(아크릴로일옥시)부탄(TCI사)B-1: 1,4-bis (acryloyloxy) butane (TCI)

B-2: 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(A-HD-N, 신나카무라사)B-2: 1,6-hexanediol diacrylate (A-HD-N, Shin-Nakamura)

B-3: 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트(APG-100, 신나카무라사)B-3: dipropylene glycol diacrylate (APG-100, Shin-Nakamura)

B-4: 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(A-TMPT, 신나카무라사)B-4: trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, Shin-Nakamura)

B-5: 에톡실레이티드 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(EO 3mol) (A-TMPT-3EO, 신나카무라사)B-5: ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (EO 3mol) (A-TMPT-3EO, Shin-Nakamura)

C-1: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(이가큐어 369, BASF사)C-1: 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (Igacure 369, BASF)

D-1: Efka FL 3600(BASF사)D-1: Efka FL 3600 (BASF)

실험예: Experimental example:

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 잉크 조성물을 사용하여 하기 물성을 아래와 같은 방법으로 평가하고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The following physical properties were evaluated using the photocurable ink compositions prepared in Examples and Comparative Examples in the following manner, and the results are shown in Table 3 below.

(1) 점도(1) Viscosity

실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광경화성 잉크 조성물의 점도를 점도 측정기(DV3T, Brookfield사 제조)를 사용하여 측정하였다(측정조건: 회전수 20rpm/25℃).The viscosity of each photocurable ink composition prepared in Examples and Comparative Examples was measured using a viscosity meter (DV3T, manufactured by Brookfield) (measurement conditions: rotation speed 20rpm/25°C).

(2) 연필 경도(2) pencil hardness

실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광경화성 잉크 조성물을 잉크젯 방식으로 유리 기판 위에 도포한 다음, UV경화장치(Lichtzen사, Model No. LZ-UVC-F402-CMD)를 사용하여 150mW/㎠의 조도(UV-A영역 320~400nm기준)로 120초간 자외선을 조사하여 광경화막을 제조하였다.Each of the photocurable ink compositions prepared in Examples and Comparative Examples was applied on a glass substrate by an inkjet method, and then, using a UV curing device (Lichtzen, Model No. LZ-UVC-F402-CMD), 150 mW/cm 2 A photocurable film was prepared by irradiating ultraviolet rays for 120 seconds at illuminance (based on UV-A region of 320 to 400 nm).

상기 제조된 광경화막의 연필 경도를 연필 경도 측정기를 이용하여 측정하였다. 구체적으로, 연필(미쓰비시 사 제조)을 광경화막에 접촉시킨 후, 1kg 하중 및 50mm/초의 속도로 표면을 긁어 표면 경도를 측정하였다.The pencil hardness of the prepared photocurable film was measured using a pencil hardness meter. Specifically, after a pencil (manufactured by Mitsubishi Corporation) was brought into contact with the photocurable film, the surface hardness was measured by scraping the surface at a load of 1 kg and a speed of 50 mm/sec.

(3) 잉크젯 특성(3) Inkjet characteristics

실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광경화성 잉크 조성물을 유니젯(Unijet) 사의 옴니젯(Omnijet) 100 잉크젯 프린터를 사용하여 프린팅하였다. 제팅시 난분사가 일어나는지 관찰하였다. 아울러, 500dpi, 길이 × 폭(50mm × 50mm) 면적으로 패턴 인쇄 후 유기막 형성 모양을 관찰하였다. 하기 평가 기준에 따라 잉크젯 특성을 평가하였다.Each photocurable ink composition prepared in Examples and Comparative Examples was printed using an Omnijet 100 inkjet printer manufactured by Unijet. It was observed whether difficult jetting occurred during jetting. In addition, the organic film formation shape was observed after pattern printing in an area of 500 dpi, length × width (50 mm × 50 mm). Inkjet properties were evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 제팅시 난분사가 일어나지 않고, 핀홀이 발생하지 않음○: During jetting, difficult jetting does not occur, and pinholes do not occur.

△: 제팅시 난분사가 다소 일어나거나, 핀홀이 2개 이하 발생함△: Some difficult jetting occurs during jetting, or two or less pinholes occur.

×: 제팅시 난분사가 심하거나, 핀홀이 3개 이상 발생함×: Severe jetting or 3 or more pinholes during jetting

(4) 유전율(4) permittivity

보론(boron)으로 도핑(doping)된 P-타입의 실리콘 웨이퍼 상에 실시예 및 비교예에서 제조된 각각의 광경화성 잉크 조성물을 경화 후 두께가 8 ㎛가 되도록 코팅한 후, UV LED 395nm 하에서 노광 후 지름이 1mm로 설계된 하드마스크(hard mask)를 이용하여 1mm의 지름을 가지는 원형의 알루미늄 박막을 2000Å 두께로 증착하여 MIM(Metal-Insulator-Metal) 구조의 유전율 측정용 박막을 완성하였다. 이러한 박막을 프로브 스테이션(Micromanipulatior 6200 probe station)이 장착된 PRECISION LCR METER(HP4284A)를 이용하여 약 100kHz의 주파수에서 각각 정전용량(capacitance)을 측정하였다. 박막의 두께를 일립소미터로 측정한 후, 하기 수학식 1에 대입하여 유전율을 계산하였다.Each photocurable ink composition prepared in Examples and Comparative Examples was coated on a P-type silicon wafer doped with boron to a thickness of 8 μm after curing, and then exposed under UV LED 395 nm. Then, using a hard mask designed to have a diameter of 1 mm, a circular aluminum thin film having a diameter of 1 mm was deposited to a thickness of 2000 Å to complete a thin film for measuring dielectric constant of a MIM (Metal-Insulator-Metal) structure. Capacitance of each of these thin films was measured at a frequency of about 100 kHz using a PRECISION LCR METER (HP4284A) equipped with a Micromanipulatior 6200 probe station. After measuring the thickness of the thin film with an ellipsometer, the dielectric constant was calculated by substituting it in Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

k = (C × A) / (εo × d)k = (C × A) / (εo × d)

상기 식에서, k는 유전율(dielectric ratio), C는 정전용량(capacitance), εo는 진공의 유전상수(dielectric constant), d는 박막의 두께, A는 전극의 접촉 단면적을 나타낸다.In the above formula, k is the dielectric constant (dielectric ratio), C is the capacitance (capacitance), εo is the dielectric constant of vacuum (dielectric constant), d is the thickness of the thin film, A is the contact cross-sectional area of the electrode.

(5) 안정성(5) Stability

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광경화성 잉크 조성물의 초기 점도 대비 40℃에서 1주일 동안 보관한 후의 점도의 변화율을 계산하여 하기 평가 기준에 따라 안정성을 평가하였다.The stability was evaluated according to the following evaluation criteria by calculating the rate of change of the viscosity after storage at 40° C. for 1 week compared to the initial viscosity of the photocurable ink compositions prepared in Examples and Comparative Examples.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 점도 변화율 110% 이내○: Viscosity change rate within 110%

△: 점도 변화율 110% 초과 120% 이내△: Viscosity change rate greater than 110% and within 120%

×: 점도 변화율 120% 초과×: Viscosity change rate more than 120%

점도Viscosity 연필 경도pencil hardness 잉크젯 특성Inkjet Characteristics 유전율permittivity 안정성stability 실시예 1Example 1 2424 HH 2.692.69 실시예 2Example 2 2222 HH 2.622.62 실시예 3Example 3 2727 HH 2.592.59 실시예 4Example 4 2121 HH 2.532.53 실시예 5Example 5 2929 2H2H 2.812.81 실시예 6Example 6 2424 HH 2.512.51 실시예 7Example 7 2929 2H2H 2.842.84 실시예 8Example 8 2929 HH 2.612.61 실시예 9Example 9 2424 HH 2.642.64 실시예 10Example 10 2525 HH 2.712.71 실시예 11Example 11 2727 HH 2.512.51 실시예 12Example 12 2626 HH 2.672.67 실시예 13Example 13 2424 HH 2.902.90 비교예 1Comparative Example 1 1818 BB 3.553.55 비교예 2Comparative Example 2 2020 BB 3.513.51 비교예 3Comparative Example 3 3838 HH 3.213.21 비교예 4Comparative Example 4 3737 HH 3.113.11 비교예 5Comparative Example 5 88 2B2B ×× 2.552.55 비교예 6Comparative Example 6 3838 HH 3.073.07 비교예 7Comparative Example 7 3737 HH 3.053.05 비교예 8Comparative Example 8 88 2B2B ×× 2.512.51 비교예 9Comparative Example 9 3232 HH 2.892.89 비교예 10Comparative Example 10 3939 2H2H 2.632.63 비교예 11Comparative Example 11 4141 2H2H 2.832.83 비교예 12Comparative Example 12 99 2B2B 2.652.65 비교예 13Comparative Example 13 99 2B2B ×× 3.103.10

상기 표 3에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따라 특정 구조의 단관능성 광경화성 모노머를 특정 함량으로 포함하는 실시예 1 내지 13의 광경화성 잉크 조성물은 경화막의 유전율이 3.0 이하로 저유전율을 나타내고, 저점도 구현이 가능하며, 잉크젯 특성도 우수한 것을 확인하였다. 또한, 본 발명에 따라 특정 구조의 단관능성 광경화성 모노머를 특정 함량으로 포함하는 실시예 1 내지 13의 광경화성 잉크 조성물은 경화도가 우수하여 연필 경도가 향상되고, 경시 안정성이 우수한 것을 확인하였다.As shown in Table 3 above, the photocurable ink compositions of Examples 1 to 13 containing a monofunctional photocurable monomer having a specific structure in a specific content according to the present invention have a dielectric constant of a cured film of 3.0 or less, indicating a low dielectric constant, and a low point It is also possible to implement, and it was confirmed that the inkjet characteristics were also excellent. In addition, it was confirmed that the photocurable ink compositions of Examples 1 to 13 containing a monofunctional photocurable monomer having a specific structure in a specific content according to the present invention had excellent curing degree, improved pencil hardness, and excellent stability over time.

반면, 특정 구조의 단관능성 광경화성 모노머를 특정 함량으로 포함하지 않는 비교예 1 내지 8 및 13의 광경화성 잉크 조성물은 경화막의 유전율이 3.0 초과이거나, 잉크젯 특성이 떨어지는 것으로 나타났다. 아울러, 2 내지 3관능성 광경화성 모노머의 함량이 특정 함량 범위를 벗어나는 비교예 9 내지 12의 광경화성 잉크 조성물은 잉크젯 특성이 불량한 것으로 나타났다.On the other hand, the photocurable ink compositions of Comparative Examples 1 to 8 and 13 which do not contain the monofunctional photocurable monomer having a specific structure in a specific content have a dielectric constant of a cured film greater than 3.0 or poor inkjet properties. In addition, the photocurable ink compositions of Comparative Examples 9 to 12, in which the content of the 2- to trifunctional photocurable monomer was outside the specific content range, showed poor inkjet properties.

이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.As the specific part of the present invention has been described in detail above, for those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, it is clear that these specific techniques are only preferred embodiments, and the scope of the present invention is not limited thereto. do. Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.Accordingly, the substantial scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (8)

하기 화학식 1의 화합물, 2 내지 3관능성 광경화성 모노머 및 광중합 개시제를 포함하고,
상기 화학식 1의 화합물은 조성물 전체 100 중량%에 대하여 10 내지 80 중량%의 양으로 포함되는 광경화성 잉크 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00009

상기 식에서,
R1은 수소 또는 메틸기이고,
R2는 C5-C30의 알킬기 또는 C5-C30의 사이클로알킬기이다.
It contains a compound of Formula 1 below, a 2- to trifunctional photocurable monomer, and a photopolymerization initiator,
The photocurable ink composition wherein the compound of Formula 1 is included in an amount of 10 to 80% by weight based on 100% by weight of the total composition:
[Formula 1]
Figure pat00009

In the above formula,
R 1 is hydrogen or a methyl group,
R 2 is a C 5 -C 30 alkyl group or a C 5 -C 30 cycloalkyl group.
제1항에 있어서, 25℃에서 점도가 10 내지 30 cP이고, 경화막의 유전율이 3.0 이하인 광경화성 잉크 조성물.The photocurable ink composition according to claim 1, wherein the viscosity at 25°C is 10 to 30 cP, and the dielectric constant of the cured film is 3.0 or less. 제1항에 있어서, 상기 2 내지 3관능성 광경화성 모노머는 하기 화학식 2-1 내지 2-3으로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 광경화성 잉크 조성물:
[화학식 2-1]
Figure pat00010

[화학식 2-2]
Figure pat00011

[화학식 2-3]
Figure pat00012

상기 식에서,
R1은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고,
R3는 수소 또는 C1-C3의 알킬기이며,
R4는 수소, 히드록실기, C1-C3의 알킬기 또는 C1-C3의 알콕시기이고,
L은 C2-C20의 알킬렌기이며,
n은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.
The photocurable ink composition of claim 1, wherein the 2- to trifunctional photocurable monomer comprises at least one of compounds represented by the following Chemical Formulas 2-1 to 2-3:
[Formula 2-1]
Figure pat00010

[Formula 2-2]
Figure pat00011

[Formula 2-3]
Figure pat00012

In the above formula,
R 1 is each independently hydrogen or a methyl group,
R 3 is hydrogen or a C 1 -C 3 alkyl group,
R 4 is hydrogen, a hydroxyl group, a C 1 -C 3 alkyl group or a C 1 -C 3 alkoxy group,
L is a C 2 -C 20 alkylene group,
n is each independently an integer from 0 to 10;
제3항에 있어서, 광경화성 잉크 조성물 전체 100 중량%에 대하여 화학식 1의 화합물 10 내지 80 중량%, 2관능성 광경화성 모노머 10 내지 40% 및 3관능성 광경화성 모노머 5 내지 40 중량%를 포함하는 광경화성 잉크 조성물.According to claim 3, 10 to 80% by weight of the compound of Formula 1, 10 to 40% by weight of the difunctional photocurable monomer, and 5 to 40% by weight of the trifunctional photocurable monomer, based on 100% by weight of the total photocurable ink composition A photocurable ink composition. 제1항에 있어서, 용제를 1 중량% 이하의 양으로 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 잉크 조성물.The photocurable ink composition according to claim 1, wherein the solvent is contained in an amount of 1 wt% or less. 제1항에 있어서, 유기발광소자 봉지용으로 사용되는 광경화성 잉크 조성물.The photocurable ink composition according to claim 1, which is used for encapsulating an organic light emitting device. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 광경화성 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 봉지층.An encapsulation layer comprising a cured product of the photocurable ink composition according to any one of claims 1 to 6. 제7항에 따른 봉지층을 포함하는 화상표시장치.An image display device comprising the encapsulation layer according to claim 7.
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