KR20210141233A - 유도결합 플라즈마 반응기 및 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물 - Google Patents

유도결합 플라즈마 반응기 및 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물 Download PDF

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Abstract

본 발명에 의하면, 플라즈마 반응 공간을 제공하는 반응 챔버; 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어; 및 얇은 띠 형상의 와이어 구조물이 상기 페라이트 코어에 권취되어서 형성된 안테나 코일을 포함하며, 상기 와이어 구조물은, 복수개의 전기 전도성 와이어들과, 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들을 감싸는 유연한 재질의 피복을 구비하는, 유도결합 플라즈마 반응기가 제공된다.

Description

유도결합 플라즈마 반응기 및 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물 {INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR AND WIRE STURCTURE FOR ANTENNA COIL OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR}
본 발명은 반도체 제조설비의 공정챔버에서 배출되는 배기가스를 플라즈마를 이용하여 처리하는 기술에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유도결합 플라즈마를 이용하여 반도체 제조설비의 공정챔버에서 배출되는 배기가스를 처리하기 위한 유도결합 플라즈마 반응기에 관한 것이다.
반도체 소자는 공정챔버에서 웨이퍼 상에 포토리소그래피, 식각, 확산 및 금속증착 등의 공정들이 반복적으로 수행됨으로써 제조되고 있다. 이러한 반도체 제조 공정 중에는 다양한 공정 가스가 사용되며, 공정이 완료된 후 공정챔버 내 잔류가스는 PFCs등의 다양한 유해성분을 포함한다. 공정챔버 내 잔류가스는 공정 완료 후 진공펌프에 의해 배기라인을 통해 배출되는데, 유해성분이 그대로 배출되지 않도록 배기가스는 배기가스 처리장치에 의해 정화된다.
최근에는 플라즈마 반응을 이용하여 유해성분을 분해하여 처리하는 기술이 널리 사용되고 있다. 본 발명과 관련된 선행기술로서, 공개특허 제2019-19651호에는 유도결합 플라즈마를 이용하여 배기가스를 처리하는 플라즈마 챔버가 개시되어 있다. 유도결합 플라즈마는 무선주파수 전력이 안테나 코일에 인가되면 안테나 코일에 흐르는 시변 전류에 의해 자기장이 유도되며 이에 의해 챔버 내부에 생성되는 전기장에 의해 플라즈마가 발생하는 것으로서, 일반적으로 유도결합 플라즈마용 플라즈마 반응기는 플라즈마가 발생하는 공간을 제공하는 챔버와, 챔버를 감싸도록 결합되는 페라이트 코어와, 페라이트 코어에 권취되는 안테나 코일과, 초기 플라즈마 점화를 위한 점화기로 구성된다.
안테나 코일에 흐르는 전류는 안테나 코일을 형성하는 와이어의 단면적에 비례하기 때문에, 고전압을 인가하기 위해서는 굵은 와이어를 사용하여 안테나 코일을 형성해야 하는데 굵은 와이어를 사용할 경우 플라즈마 반응기의 제작에 어려움이 따른다. 굵은 와이어 대신에 동판을 사용하여 안테나 코일을 형성하기도 하지만, 동판은 손상되기 쉽고 구부리기 용이하지 않기 때문에 동판의 경우에도 작업성이 떨어진다는 문제가 있다.
대한민국 공개특허공보 공개번호 10-2019-0019651 "배기가스 처리를 위한 플라즈마 챔버" (2019.02.27.)
본 발명의 목적은 유도결합 플라즈마 반응기 및 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물을 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 플라즈마 반응 공간을 제공하는 반응 챔버; 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어; 및 얇은 띠 형상의 와이어 구조물이 상기 페라이트 코어에 권취되어서 형성된 안테나 코일을 포함하며, 상기 와이어 구조물은, 복수개의 전기 전도성 와이어들과, 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들을 감싸는 유연한 재질의 피복을 구비하는, 유도결합 플라즈마 반응기가 제공된다.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 플라즈마 반응 공간을 제공하는 반응 챔버와, 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어를 구비하는 유도결합 플라즈마 반응기에서 상기 페라이트 코어에 권취하여 안테나 코일을 형성하기 위한 것으로서, 나란하게 배치되는 복수개의 전기 전도성 와이어들; 및 유연한 재질로 이루어지고 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들 감싸는 띠 형상의 피복을 포함하는, 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물이 제공된다.
본 발명에 의하면 앞서서 기재한 본 발명의 목적을 모두 달성할 수 있다. 구체적으로는, 플라즈마 반응 공간을 제공하는 반응 챔버와, 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어를 구비하는 유도결합 플라즈마 반응기에서, 복수개의 전기 전도성 와이어들과, 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들을 감싸는 유연한 재질의 피복을 구비하는 얇은 띠 형상의 와이어 구조물을 상기 페라이트 코어에 권취하여 안테나 코일을 형성하기 때문에, 고전압 인가가 가능한 안테나 코일을 향상된 작업성으로 용이하게 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 유도결합 플라즈마 반응기를 종단면도로 도시한 것이다.
도 3은 도 1에 도시된 유도결합 플라즈마 반응기를 분해 사시도로 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물의 단면 구조를 도시한 것이다.
도 5는 도 4에 도시된 와이어 구조물의 제조 과정을 설명하는 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기가 도 1에는 사시도로 도시되어 있고, 도 2에는 종단면도로서 도시되어 있으며, 도 3에는 분해 사시도로 도시되어 있다. 도 1, 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기(100)는, 반응 챔버(150)와, 반응 챔버(150)를 감싸도록 배치되는 페라이트 코어(110)와, 본 발명에 따른 와이어 구조물이 페라이트 코어(110)에 권취되어서 형성된 안테나 코일(160)을 포함한다. 본 실시예에서 유도결합 플라즈마 반응기(100)는 반도체 제조설비에서 공정챔버로부터 발생한 잔류가스를 배출시키는 배기관에 설치되어서 배기관을 따라 유동하는 배기가스를 유도결합 플라즈마를 이용하여 처리하는 것으로 설명하는데, 본 발명은 유도결합 플라즈마 반응기(100)의 용도 및 설치 위치를 이와 같이 한정하는 것은 아니다. 유도결합 플라즈마 반응기(100)는 전원(190)으로부터 적절한 교류 전력을 공급받아서 작동하게 된다.
반응 챔버(150)는 토로이달(toroidal) 형상의 챔버로서 반응 챔버(150)의 내부에는 처리대상 가스에 대한 플라즈마 반응이 일어나는 플라즈마 반응 공간(153)이 형성된다. 반응 챔버(150)에는 플라즈마 반응 공간(153)과 연통되고 처리대상 가스를 플라즈마 반응 공간(153)으로 유입시키는 가스 유입구(154a)와, 플라즈마 반응 공간(153)에서 플라즈마 처리된 가스가 외부로 배출되는 가스 배출구(154b)가 구비된다. 반응 챔버(150)는 가스 유입구(154a)와 연통되는 제1 기초부(151a)와, 가스 배출구(154b)와 연통되는 제2 기초부(151b)와, 두 기초부(151a, 151b)를 연결하는 제1, 제2 연결관(156, 159)을 구비한다.
제1 기초부(151a)는 내부에 제1 내부 공간(152a)을 제공하고, 제1 기초부(151a)에는 제1 내부 공간(152a)과 연통되고 처리 대상 가스가 유입되는 가스 유입구(154a)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제1 기초부(151a)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다.
제1 내부 공간(152a)은 가스 유입구(154a), 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)와 연통된다. 도면에서 제1 내부 공간(152a)의 상부에 가스 유입구(154a)가 연통되며, 제1 내부 공간(152a)의 하부에 제1, 제2 연결 통로(155, 157)가 연통된다. 가스 유입구(154a)를 통해 유입된 처리대상 가스는 제1 내부 공간(152a)을 거쳐서 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)로 유동하게 된다.
제2 기초부(151b)는 제1 기초부(151a)와 이격되어서 위치하며, 내부에 제2 내부 공간(152b)을 제공하고, 제2 기초부(151b)에는 제2 내부 공간(152b)과 연통되고 가스가 배출되는 가스 배출구(154b)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제2 기초부(151b)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다. 제2 기초부(151b)는 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)에 의해 제1 기초부(151a)와 연결된다.
제2 내부 공간(152b)은 제1 내부 공간(152a)과 이격되어서 위치하고, 가스 배출구(154b), 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)와 연통된다. 도면에서 제2 내부 공간(152b)은 제1 내부 공간(152a)보다 아래에 위치하고, 제2 내부 공간(152b)의 하부에 가스 배출구(154b)가 연통되며, 제2 내부 공간(152b)의 상부에 제1, 제2 연결 통로(155, 157)가 연통된다. 제1, 제2 연결 통로(155, 157)를 따라 유동하는 가스는 제2 내부 공간(152b)을 거쳐서 가스 배출구(154b)를 통해 외부로 배출된다.
제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)은 나란하게 배치되어서 제1 기초부(151a)와 제2 기초부(151b)를 연결한다. 제1 연결관(156)의 내부에는 제1 기초부(151a)의 제1 내부 공간(152a)과 제2 기초부(151b)의 제2 내부 공간(152b)을 연통시키는 제1 연결 통로(155)가 형성되며, 제2 연결관(159)의 내부에는 제1 기초부(151a)의 제1 내부 공간(152a)과 제2 기초부(151b)의 제2 내부 공간(152b)을 연통시키는 제2 연결 통로(157)가 형성된다. 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)은 이격되도록 배치되어서 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)의 사이에는 슬롯(121)이 형성된다.
서로 연결된 제1 내부 공간(151a), 제2 내부 공간(151b), 제1 연결 통로(155) 및 제2 연결 통로(157)가 플라즈마 반응 공간(153)을 형성한다. 플라즈마 반응 공간(153)에서 도 2에 파선으로 도시된 바와 같은 고리형 방전 루프(R)를 따라서 플라즈마가 발생한다.
본 실시예에서는 반응 챔버(150)가 제1 챔버 유닛(150a)과 제2 챔버 유닛(150b)이 적절한 결합 수단에 의해 결합되어서 구성되는 것으로 설명한다.
제1 챔버 유닛(150a)은 제1 기초부(151a)와, 제1 기초부(151a)로부터 연장되는 제1A 연장관(155a) 및 제2A 연장관(157a)을 구비한다.
제1 기초부(151a)는 내부에 제1 내부 공간(152a)을 제공하고, 제1 기초부(151a)에는 제1 내부 공간(152a)과 통하고 처리 대상 가스가 유입되는 가스 유입구(154a)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제1 기초부(151a)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다.
제1A 연장관(155a)과 제2A 연장관(157a)은 제1 기초부(151a)의 제1 내부 공간(162a)과 연통되며, 제1A 연장관(165a)의 끝단과 제2A 연장관(167a)의 끝단은 개방된다. 제1A 연장관(165a)의 개방된 끝단과 제2A 연장관(167a)의 개방된 끝단이 제2 챔버 유닛(150a)과 이어진다.
제2 챔버 유닛(150b)은 제1 챔버 유닛(150a)와 대체로 동일한 구조로서, 제2 기초부(151b)와, 제2 기초부(151b)로부터 연장되는 제1B 연장관(155b) 및 제2B 연장관(157b)를 구비한다.
제2 기초부(151b)는 내부에 제2 내부 공간(152b)을 제공하고, 제2 기초부(151b)에는 제2 내부 공간(151b)과 통하고 처리된 가스가 외부로 배출되는 가스 배출구(154b)가 형성된다. 도시되지는 않았으나, 제2 기초부(151b)에는 점화기가 삽입되어서 설치된다.
제1B 연장관(155b)과 제2B 연장관(157b)은 제2 기초부(151b)로부터 서로 평행하게 연장되어서 형성된다. 제1B 연장관(155b)과 제2B 연장관(157b)은 제2 기초부(151b)의 제2 내부 공간(152b)과 연통되며, 제1B 연장관(155b)의 끝단과 제2B 연장관(157b)의 끝단은 개방된다. 제1A 연장관(155a)과 제1B 연장관(155b)이 연결되어서 제1 연결관(156)을 형성하며, 제2A 연장관(157a)과 제2B 연장관(157b)이 연결되어서 제2 연결관(159)을 형성하는데, 제1A 연장관(155a)의 끝단과 제1B 연장관(155b)의 끝단 사이 및 제2A 연장관(157a)의 끝단과 제2B 연장관(157b)의 끝단 사이에는, 도시되지는 않았으나 DC 브레이커(DC breaker)가 위치한다.
페라이트 코어(Ferrite Core)(110)는 테두리벽(111)와, 테두리벽(111)의 내부에 위치하는 구획벽(115)을 구비한다. 페라이트 코어(110)는 반응 챔버(150)에 형성된 플라즈마 반응 공간(153)의 일부를 감싸도록 배치된다. 페라이트 코어(110)에는 도면에서 상하방향을 따라서 연장되는 제1 통로부(117a)와 제2 통로부(117b)가 형성된다. 제1 통로부(117a)와 제2 통로부(117b)는 페라이트 코어(110)를 관통하여 상단과 하단의 양단이 개방되고 측면이 막힌다. 본 실시예에서 페라이트 코어(110)는 유도결합 플라즈마 장치에서 통상적으로 사용되는 페라이트 코어인 것으로 설명한다.
테두리벽(111)은 둘레가 직사각형 형태를 이루도록 형성되어서, 대향하는 제1, 제2 장벽부(112a, 112b)와, 대향하고 제1, 제2 장벽부(112a, 112b)보다 폭이 좁은 제1, 제2 단벽부(113a, 113b)를 구비한다. 제1 단벽부(113a)와 제2 단벽부(113b)들 각각은 제1 장벽부(112a)와 제2 장벽부(112b)의 대향하는 두 폭방향 양단을 연결하여, 제1 장벽부(112a), 제1 단벽부(113a), 제2 장벽부(113b) 및 제2 단벽부(113b)가 테두리벽(111)의 둘레방향을 따라서 연속적으로 이어지는 형태를 이룬다.
구획벽(115)은 테두리벽(111)의 대향하는 두 장벽부(112a, 112b)들 사이에 직선으로 연장된다. 구획벽(115)의 양단은 두 장벽부(112a, 112b)들 각각의 폭방향 가운데 부분과 이어진다. 구획벽(115)에 의해 테두리벽(111)의 내부 영역은 사각 형상의 제1 통로부(117a)와 제2 통로부(117b)로 각각 분리된다. 구획벽(115)에는 본 발명에 따른 와이어 구조물이 권취되어서 안테나 코일(160)을 형성하게 된다.
페라이트 코어(110)는 반응 챔버(150)의 제1 기초부(151a)와 제2 기초부(151b)의 사이에 위치하며, 페라이트 코어(110)에 형성된 제1 통로부(117a)를 반응 챔버(150)의 제1 연결관(156)이 지나가며, 페라이트 코어(110)에 형성된 제2 통로부(117b)를 반응 챔버(150)의 제2 연결관(159)이 지나간다. 그에 따라, 페라이트 코어(110)의 구획벽(115)은 반응 챔버(150)의 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)의 사이에 형성된 슬롯(121)에 위치한다.
안테나 코일(160)은 본 발명에 따른 와이어 구조물이 페라이트 코어(110)의 구획벽(115)에 권취되어서 형성된 것이며, 페라이트 코어(110)의 구획벽(115)과 함께 반응 챔버(150)의 제1 연결관(156)과 제2 연결관(159)의 사이에 형성된 슬롯(121)에 위치한다.
도 4에는 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물의 단면 구조가 도시되어 있다. 도 2 및 도 3에 도시된 안테나 코일(160)은 도 4에 도시된 바와 같은 구성의 와이어 구조물이 페라이트 코어(110)의 구획벽(115)에 권취되어서 형성된 것이다. 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물(160a)은 전체적으로 길게 연장되는 얇은 띠 형상으로서, 길이방향을 따라서 나란하게 배치되는 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들과, 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들 전체를 감싸는 유연한 재질의 피복(180)을 구비한다.
복수개의 전기 전도성 와이어(170)들 각각은 안테나 코일용 와이어 구조물(160a)의 길이방향을 따라서 연장되도록 배치되고, 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들은 안테나 코일용 와이어 구조물(160a)의 폭방향을 따라서 차례대로 나란하게 서로 이격되도록 배치된다. 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들에 전원(도 2의 190)에 의한 교류 전력이 인가된다. 본 실시예에서 전기 전도성 와이어(170)는 구리선인 것으로 설명하는데, 본 발명은 전기 전도성 와이어(170)의 재질을 구리로 제한하지 않는다. 또한, 도면에서는 여섯개의 전기 전도성 와이어(170)들이 사용되는 것으로 도시되어 있지만, 본 발명은 전기 전도성 와이어(170)의 수를 여섯개로 제한하지 않는다.
피복(180)은 얇은 띠 형태로서 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들 전체를 감싼다. 피복(180)은 유연하면서 전기 절연성의 재질로 이루어진다. 피복(180)은 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들을 사이에 두고 접착되는 제1 피복 시트부(181)와 제2 피복 시트부(182)를 구비한다. 본 실시예에서 피복(180)으로는 일면에 접착제가 도포된 접착테이프인 것으로 설명한다. 이 경우, 피복(180)은 도 5에 도시된 바와 같은 방식으로 제조될 수 있다. 도 5를 참조하면, 접착테이프(180a)에는 접착테이프(180a)의 길이방향을 따라서 연장되면서 대체로 폭방향 중심을 지나가는 접힘선(185)이 형성된다. 접착테이프(180a)는 접힘선(185)에 의해 제1 측면부(181a)와 제2 측면부(182a)로 분할된다. 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들이 제1 측면부(181a)의 접착면에 배치되어서 접착되어 고정된 후 제2 측면부(182a)가 접힘선(185)을 중심으로 접혀서 제1 측면부(181a)와 제2 측면부(182a)가 접착된다. 도 5에서 접착테이프(180a)의 제1 측면부(181a)가 피복(도 4의 180)의 제1 피복 시트부(도 4의 181)를 형성하고, 접착테이프(180a)의 제2 측면부(182a)가 피복(도 4의 180)의 제2 피복 시트부(도 4의 182)를 형성하게 된다. 본 실시예에서는 일반적으로 접착테이프(180a)로서 캡톤 테이프(Kapton Tape)라 불리는 폴리이미드(Polyimide) 테이프(PI Tape)가 사용되는 것으로 설명한다.
본 실시예에서는 피복(도 4의 180)의 제1 피복 시트부(도 4의 181)와 제2 피복 시트부(도 4의 182)가 하나의 접착테이프(도 5의 180a)에 의해 형성되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리, 제1 피복 시트부(도 4의 181)와 제2 피복 시트부(도 4의 182)가 별도의 시트에 의해 형성될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. 이 경우, 두 시트 둘 모두 접착테이프일 수 있지만, 하나만 접착테이프일 수도 있다.
본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물(160a)은 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들을 나란하게 배치함으로써 고전압 인가가 가능하도록 충분한 단면적을 제공하며, 복수개의 전기 전도성 와이어(170)들을 유연한 재질의 띠 형태의 피복(180)이 감싸기 때문에 작업의 편의성이 향상된다.
이상 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 실시예는 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않고 수정되거나 변경될 수 있으며, 본 기술분야의 통상의 기술자는 이러한 수정과 변경도 본 발명에 속하는 것임을 알 수 있을 것이다.
100 : 유도결합 플라즈마 반응기 110 : 페라이트 코어
111 : 테두리벽 115 : 구획벽
121 : 슬롯 150 : 반응 챔버
150a : 제1 챔버 유닛 150b : 제2 챔버 유닛
151a : 제1 기초부 151b : 제2 기초부
152a : 제1 내부 공간 152b : 제2 내부 공간
153 : 반응 공간 154a : 가스 유입구
154b : 가스 배출구 155 : 제1 연결 통로
155a : 제1A 연장관 155b : 제1B 연장관
156 : 제1 연결관 157 : 제2 연결 통로
157a : 제2A 연장관 157b : 제2B 연장관
159 : 제2 연결관 160 : 안테나 코일
160 : 와이어 구조물 170 : 전기 전도성 와이어
180 : 피복 180a : 접착테이프
181 : 제1 피복 시트부 181a : 제1 측면부
182 : 제2 피복 시트부 182a : 제2 측면부

Claims (7)

  1. 플라즈마 반응 공간을 제공하는 반응 챔버;
    상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어; 및
    띠 형상의 와이어 구조물이 상기 페라이트 코어에 권취되어서 형성된 안테나 코일을 포함하며,
    상기 와이어 구조물은, 복수개의 전기 전도성 와이어들과, 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들을 감싸는 유연한 재질의 피복을 구비하는,
    유도결합 플라즈마 반응기.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 페라이트 코어는 테두리벽과, 상기 테두리벽의 내부 영역에 위치하고 상기 테두리벽과 이어져서 상기 내부 영역을 제1 통로부와 제2 통로부로 분리하는 구획벽을 구비하며,
    상기 안테나 코일은 상기 구획벽을 권취하는,
    유도결합 플라즈마 반응기.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 반응 챔버는 상기 제1 통로부를 통과하는 제1 연결관과, 상기 제2 통로부를 통과하는 제2 연결관을 구비하며,
    상기 제1 연결관과 상기 제2 연결관은 이격되어서 상기 제1 연결관과 상기 제2 연결관의 사이에는 상기 구획벽과 상기 안테나 코일이 위치하는 슬롯이 형성되는,
    유도결합 플라즈마 반응기.
  4. 플라즈마 반응 공간을 제공하는 반응 챔버와, 상기 플라즈마 반응 공간을 감싸도록 배치되는 페라이트 코어를 구비하는 유도결합 플라즈마 반응기에서 상기 페라이트 코어에 권취하여 안테나 코일을 형성하기 위한 것으로서,
    나란하게 배치되는 복수개의 전기 전도성 와이어들; 및
    유연한 재질로 이루어지고 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들 감싸는 띠 형상의 피복을 포함하는,
    유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수개의 전기 전도성 와이어들은 상기 피복의 폭방향을 따라서 차례대로 이격되어서 배치되는,
    유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 피복은 상기 복수개의 전기 전도성 와이어들을 사이에 두고 접착되는 제1 피복 시트부와 제2 피복 시트부를 구비하는,
    유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물.
  7. 청구항 4에 있어서,
    상기 피복은 접착테이프의 접착면이 접착되도록 상기 접착테이프가 접혀서 형성된 것이며,
    상기 복수개의 전기 전도성 와이어들은 상기 접착면에 접착되어서 고정되는,
    유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물.
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