KR20210133944A - Method for fabricating thermoelectric element and thermoelectric element and thermoelectric module made thereby - Google Patents

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KR20210133944A
KR20210133944A KR1020210148171A KR20210148171A KR20210133944A KR 20210133944 A KR20210133944 A KR 20210133944A KR 1020210148171 A KR1020210148171 A KR 1020210148171A KR 20210148171 A KR20210148171 A KR 20210148171A KR 20210133944 A KR20210133944 A KR 20210133944A
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thermoelectric element
thermoelectric
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manufacturing
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문승필
김태완
김성웅
노장웅
이규형
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한국전력공사
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Abstract

An objective of the present invention is to provide a method for manufacturing a thermoelectric element, and a thermoelectric element and thermoelectric module manufactured thereby to increase the manufacturing yield of the thermoelectric element. According to one embodiment of the present invention, the method for manufacturing the thermoelectric element comprises: a molding step of molding an extruded material (10) in a form of an ingot; a cutting step of cutting the extruded material (10) into a unit material (20) after forming an insulating film (11) on the side of the extruded material (10); and a forming step of manufacturing a thermoelectric element (30) by forming a diffusion barrier layer (21) on a cut surface of the unit material (20).

Description

열전소자 제조 방법, 이로 제조된 열전소자 및 열전모듈{METHOD FOR FABRICATING THERMOELECTRIC ELEMENT AND THERMOELECTRIC ELEMENT AND THERMOELECTRIC MODULE MADE THEREBY}Thermoelectric element manufacturing method, thermoelectric element and thermoelectric module manufactured therewith

본 발명은 열전소자 제조 방법, 이를 이용한 열전소자 및 열전모듈에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 열전소자와 동일한 단면적을 갖는 압출재를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시키기 위한, 열전소자 제조 방법, 이를 이용한 열전소자 및 열전모듈에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a thermoelectric element, a thermoelectric element and a thermoelectric module using the same, and more particularly, to prepare an extruded material having the same cross-sectional area as a thermoelectric element, and use the same to manufacture a thermoelectric element to increase the thermoelectric element manufacturing yield For this purpose, it relates to a method for manufacturing a thermoelectric element, a thermoelectric element and a thermoelectric module using the same.

또한, 본 발명은 열전재료 소결체(40)를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시키기 위한, 열전소자 제조 방법, 이를 이용한 열전소자 및 열전모듈에 관한 것이다.In addition, the present invention relates to a method for manufacturing a thermoelectric element, a thermoelectric element and a thermoelectric module using the same, for manufacturing a thermoelectric material sintered body 40 and manufacturing a thermoelectric element using the same to increase a thermoelectric element manufacturing yield.

열전현상은 재료 내부의 전자(electron)와 정공(hole)의 이동에 의해 발생하는 현상으로, 열과 전기 사이의 직접적인 에너지 변환을 의미한다.The thermoelectric phenomenon is a phenomenon that occurs by the movement of electrons and holes inside a material, and refers to direct energy conversion between heat and electricity.

열전모듈은 열전현상을 이용하는 소자를 총칭하며, P형 열전소자와 N형 열전소자를 금속 전극들 사이에 접합시켜 PN 접합 쌍을 형성하는 구조를 가진다.A thermoelectric module is a generic term for devices using a thermoelectric phenomenon, and has a structure in which a P-type thermoelectric element and an N-type thermoelectric element are bonded between metal electrodes to form a PN junction pair.

열전모듈은 전기저항의 온도 변화를 이용하는 소자, 온도 차에 의해 기전력이 발생하는 현상인 제벡 효과를 이용하는 소자, 전류에 의한 흡열 또는 발열이 발생하는 현상인 펠티에 효과를 이용하는 소자 등으로 구분될 수 있다.The thermoelectric module can be divided into a device using a temperature change of electrical resistance, a device using the Seebeck effect, a phenomenon in which electromotive force is generated by a temperature difference, and a device using the Peltier effect, a phenomenon in which heat absorption or heat is generated by current. .

열전모듈은 가전제품, 전자부품, 통신용 부품 등에 다양하게 적용되고 있다. 예를 들어, 열전소자는 냉각용 장치, 온열용 장치, 발전용 장치 등에 적용될 수 있으며, 표면에 굴곡을 갖는 다양한 구조체에는 유연성을 갖는 열전소자가 적용될 수 있다. 이에 따라, 열전소자의 열전성능에 대한 요구는 점점 더 높아지고 있다.Thermoelectric modules are widely applied to home appliances, electronic parts, and communication parts. For example, the thermoelectric element may be applied to an apparatus for cooling, an apparatus for heating, an apparatus for power generation, and the like, and a thermoelectric element having flexibility may be applied to various structures having curved surfaces. Accordingly, the demand for the thermoelectric performance of the thermoelectric element is increasing.

현재, 상용 비스무스 텔루라이드계(Bismuth Telluride, Bi2Te3)(즉, Bi-Te계) 열전모듈에 적용되는 열전소자는 도 1에 나타낸 공정으로 제조된다. 도 1은 잉곳 형태의 열전재료로부터 직육면체 형태의 열전소자를 제조하는 공정을 설명하는 도면이다.Currently, a thermoelectric element applied to a commercial bismuth telluride-based (Bi 2 Te 3 ) (ie, Bi-Te-based) thermoelectric module is manufactured by the process shown in FIG. 1 . 1 is a view for explaining a process of manufacturing a cuboid-shaped thermoelectric element from an ingot-shaped thermoelectric material.

구체적으로, 잉곳 형태의 열전재료를 이용하여 열전소자가 제조되면, 열전성능이 불균일한 잉곳의 양쪽 끝 부분이 제거된다. 이 경우에는 전체 열전재료에서 약 20%가 제거된다. Specifically, when a thermoelectric element is manufactured using an ingot-type thermoelectric material, both ends of the ingot having non-uniform thermoelectric performance are removed. In this case, about 20% of the total thermoelectric material is removed.

다음, 열전소자 두께에 맞게 슬라이싱(slicing)을 통해 웨이퍼(wafer)가 제조된다. 이 경우에는 다시 13%가 제거되어 전체 열전재료의 67%가 남게 된다.Next, a wafer is manufactured through slicing according to the thickness of the thermoelectric element. In this case, 13% is removed again, leaving 67% of the total thermoelectric material.

다음, 웨이퍼 양쪽면에 확산방지층이 코팅된다.Next, a diffusion barrier layer is coated on both sides of the wafer.

다음, 확산방지층이 코팅된 웨이퍼가 열전소자의 면적에 맞춰 다이싱(dicing)된다. 이 경우에는 다시 12%가 제거되어 전체 열전재료의 55%가 남게 된다.Next, the wafer coated with the diffusion barrier layer is diced according to the area of the thermoelectric element. In this case, 12% is removed again, leaving 55% of the total thermoelectric material.

마지막으로, 선별 과정(sorting)을 거쳐 열전소자가 제조된다. 이 경우에는 15%가 제거되어 전체 열전재료의 40% 수준이 남게 되어, 잉곳 형태의 열전재료로부터 직육면체 형태의 열전소자를 제조하는 공정은 40%의 수율을 나타낸다.Finally, a thermoelectric element is manufactured through a sorting process. In this case, 15% is removed, leaving a level of 40% of the total thermoelectric material, and the process of manufacturing a cuboid-shaped thermoelectric element from an ingot-shaped thermoelectric material shows a yield of 40%.

이와 같이, 열전모듈에 사용하는 n형 및 p형 Bi-Te계 열전소자는 잉곳 제조 후 여러 단계의 가공 공정이 필요하기 때문에, 열전소자 제조 수율이 현저하게 떨어지게 된다.As described above, since the n-type and p-type Bi-Te-based thermoelectric devices used in the thermoelectric module require several steps of processing after manufacturing the ingot, the thermoelectric device manufacturing yield is remarkably reduced.

그리고, 이와 같이 제조된 열전소자는 여러 단계의 가공 공정을 거치게 되어 외부 환경에 따라 결로가 발생하여 성능저하의 원인이 발생할 수 있거나, 외부 불순물로부터 열전재료에 손상이 발생할 수 있다.In addition, the thermoelectric element manufactured in this way is subjected to several processing steps, so that dew condensation may occur depending on the external environment, which may cause performance degradation, or damage to the thermoelectric material may occur from external impurities.

따라서, 열전소자는 여러 단계에 걸쳐 열전재료를 자르는 가공 단계의 횟수를 줄여 제조 수율을 향상하고, 여러 공정을 거치면서 발생할 수 있는 성능 저하 요인을 제거할 필요가 있다.Therefore, it is necessary to improve the manufacturing yield by reducing the number of processing steps for cutting the thermoelectric material over several steps, and to remove factors that may decrease performance that may occur during various processes.

한국 등록특허공보 제10-1051010호 (2011.07.15)Korean Patent Publication No. 10-1051010 (2011.07.15)

본 발명의 목적은 열전소자와 동일한 단면적을 갖는 압출재를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시키기 위한, 열전소자 제조 방법, 이를 이용한 열전소자 및 열전모듈을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to manufacture an extruded material having the same cross-sectional area as a thermoelectric element, and to manufacture a thermoelectric element using the same to increase the thermoelectric element manufacturing yield, a method for manufacturing a thermoelectric element, a thermoelectric element and a thermoelectric module using the same. .

또한, 본 발명의 다른 목적은 열전재료 소결체를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시키기 위한, 열전소자 제조 방법, 이를 이용한 열전소자 및 열전모듈에 관한 것이다.In addition, another object of the present invention relates to a method for manufacturing a thermoelectric element, a thermoelectric element using the same, and a thermoelectric module for manufacturing a thermoelectric material sintered body and increasing the thermoelectric element manufacturing yield by manufacturing a thermoelectric element using the same.

본 발명의 일실시예에 따른 열전소자 제조 방법은, 잉곳 형태의 압출재(10)를 성형하는 성형 단계; 상기 압출재(10)의 측면에 절연막(11)을 형성한 후, 상기 압출재(10)를 단위 소재(20)로 절단하는 절단 단계; 및 상기 단위 소재(20)의 절단면에 확산방지층(21)을 형성하여 열전소자(30)를 제조하는 형성 단계;를 포함할 수 있다.A method of manufacturing a thermoelectric element according to an embodiment of the present invention includes a molding step of molding an extruded material 10 in the form of an ingot; After forming the insulating film 11 on the side of the extruded material 10, cutting step of cutting the extruded material 10 into a unit material (20); and a forming step of manufacturing the thermoelectric element 30 by forming the diffusion barrier layer 21 on the cut surface of the unit material 20 .

상기 압출재(10)는, 상기 열전소자(30)의 타입에 따라 조성 성분이 결정되는 것일 수 있다.The extruded material 10 may have a composition component determined according to the type of the thermoelectric element 30 .

상기 압출재(10)는, 원형 또는 다각형 단면 형상일 수 있다.The extruded material 10 may have a circular or polygonal cross-sectional shape.

상기 압출재(10)는, 압출기를 통해 분말체를 봉 형상으로 가압 성형한 후, 가열하여 소결시켜 만들어지는 것일 수 있다.The extruded material 10 may be made by press-molding the powder into a rod shape through an extruder, and then heating and sintering.

상기 절단 단계는, 상기 압출재(10)를 길이 방향으로 이동시키면서 상기 열전소자(30)의 높이로 절단하여 상기 단위 소재(20)를 생성하는 것일 수 있다.The cutting step may be to generate the unit material 20 by cutting the extruded material 10 to the height of the thermoelectric element 30 while moving it in the longitudinal direction.

상기 압출재(10)의 단면적은, 상기 열전소자(30)의 단면적과 동일한 것일 수 있다.A cross-sectional area of the extruded material 10 may be the same as that of the thermoelectric element 30 .

상기 형성 단계는, 상기 단위 소재(20)를 확산방지층 도금액이 담긴 배럴(barrel)에 투입하여 상기 절단면을 상기 확산방지층 도금액으로 도금하는 배럴 도금을 통해 상기 확산방지층(21)을 형성하는 것일 수 있다.The forming step may be to form the diffusion barrier layer 21 through barrel plating in which the unit material 20 is put into a barrel containing the diffusion barrier layer plating liquid and the cut surface is plated with the diffusion barrier layer plating liquid. .

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 열전소자 제조 방법은, 열전재료 소결체(40)를 성형하는 성형 단계; 상기 열전재료 소결체(40)를 절단하여 슬라이싱재(41)를 형성하는 제1 절단 단계; 상기 슬라이싱재(41)의 측면에 절연막(42)을 형성한 후, 상기 슬라이싱재(41)를 단위 소재(50)로 절단하는 제2 절단 단계; 및 상기 단위 소재(50)의 절단면에 확산방지층(51)을 형성하여 열전소자(60)를 제조하는 형성 단계;를 포함할 수 있다.In addition, a method for manufacturing a thermoelectric element according to another embodiment of the present invention includes a forming step of forming a sintered body 40 of a thermoelectric material; a first cutting step of cutting the thermoelectric material sintered body 40 to form a slicing material 41; a second cutting step of forming an insulating film 42 on a side surface of the slicing material 41 and then cutting the slicing material 41 into a unit material 50; and a forming step of manufacturing the thermoelectric element 60 by forming the diffusion barrier layer 51 on the cut surface of the unit material 50 .

상기 열전재료 소결체(40)는, 상기 열전소자(60)의 타입에 따라 조성 성분이 결정되는 것일 수 있다.The thermoelectric material sintered body 40 may have a composition component determined according to the type of the thermoelectric element 60 .

상기 열전재료 소결체(40)는, 분말체를 웨이퍼 형상으로 가압 성형한 후 가열하여 소결시켜 만들어지는 것일 수 있다.The thermoelectric material sintered body 40 may be made by press-molding a powder body into a wafer shape and then heating and sintering the powder body.

상기 제1 절단 단계는, 상기 열전재료 소결체(40)를 일방향으로 슬라이싱하여 사각형 단면의 봉 형상인 슬라이싱재(41)로 가공하는 것일 수 있다.In the first cutting step, the thermoelectric material sintered body 40 may be sliced in one direction and processed into a slicing material 41 having a rectangular cross-section and a rod shape.

상기 제2 절단 단계는, 상기 슬라이싱재(41)를 길이 방향으로 이동시키면서 상기 열전소자(60)의 높이로 절단하여 상기 단위 소재(50)를 생성하는 것일 수 있다.The second cutting step may be to generate the unit material 50 by cutting the slicing material 41 to the height of the thermoelectric element 60 while moving it in the longitudinal direction.

상기 슬라이싱재의 단면적은, 상기 열전소자의 단면적과 동일한 것일 수 있다.A cross-sectional area of the slicing material may be the same as a cross-sectional area of the thermoelectric element.

상기 형성 단계는, 상기 단위 소재(50)를 확산방지층 도금액이 담긴 배럴(barrel)에 투입하여 상기 절단면을 상기 확산방지층 도금액으로 도금하는 배럴 도금을 통해 상기 확산방지층(51)을 형성하는 것일 수 있다.The forming step may be to form the diffusion barrier layer 51 through barrel plating in which the unit material 50 is put into a barrel containing the diffusion barrier layer plating liquid and the cut surface is plated with the diffusion barrier layer plating liquid. .

본 발명은 열전소자와 동일한 단면적을 갖는 압출재를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시킬 수 있다.According to the present invention, an extruded material having the same cross-sectional area as a thermoelectric element may be manufactured, and a thermoelectric element may be manufactured using the same, thereby increasing the thermoelectric element manufacturing yield.

또한, 본 발명의 다른 목적은 열전재료 소결체를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시킬 수 있다.In addition, another object of the present invention is to manufacture a sintered body of a thermoelectric material and use the same to manufacture a thermoelectric device, thereby increasing the thermoelectric device manufacturing yield.

도 1은 잉곳 형태의 열전재료로부터 직육면체 형태의 열전소자를 제조하는 공정을 설명하는 도면,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 열전소자 제조 방법을 설명하는 도면,
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 열전소자 제조 방법을 설명하는 도면,
도 4는 도 2의 방법에 따라 제조된 열전소자를 이용한 열전모듈을 나타낸 도면,
도 5는 도 3의 방법에 따라 제조된 열전소자를 이용한 열전모듈을 나타낸 도면이다.
1 is a view for explaining a process of manufacturing a rectangular parallelepiped thermoelectric element from an ingot-shaped thermoelectric material;
2 is a view for explaining a method of manufacturing a thermoelectric element according to an embodiment of the present invention;
3 is a view for explaining a method of manufacturing a thermoelectric element according to another embodiment of the present invention;
4 is a view showing a thermoelectric module using a thermoelectric element manufactured according to the method of FIG. 2;
FIG. 5 is a view showing a thermoelectric module using a thermoelectric element manufactured according to the method of FIG. 3 .

이하 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 다만, 하기의 설명 및 첨부된 도면에서 본 발명의 요지를 흐릴 수 있는 공지 기능 또는 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. 또한, 도면 전체에 걸쳐 동일한 구성 요소들은 가능한 한 동일한 도면 부호로 나타내고 있음에 유의하여야 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, detailed descriptions of well-known functions or configurations that may obscure the gist of the present invention in the following description and accompanying drawings will be omitted. Also, it should be noted that throughout the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals as much as possible.

이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위한 용어로 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in the present specification and claims described below should not be construed as being limited to conventional or dictionary meanings, and the inventor shall appropriately define his or her invention in terms of the best way to describe it. Based on the principle that it can be done, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시 예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention, and do not represent all the technical ideas of the present invention, so at the time of the present application, various It should be understood that there may be equivalents and variations.

첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것이 아니다. 본 발명은 첨부한 도면에 그려진 상대적인 크기나 간격에 의해 제한되어지지 않는다.In the accompanying drawings, some components are exaggerated, omitted, or schematically illustrated, and the size of each component does not fully reflect the actual size. The present invention is not limited by the relative size or spacing drawn in the accompanying drawings.

명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다. 또한, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다.When a part "includes" a certain element throughout the specification, this means that other elements may be further included, rather than excluding other elements, unless otherwise stated. In addition, when a part is said to be "connected" with another part, it includes not only the case where it is "directly connected" but also the case where it is "electrically connected" with another element interposed therebetween.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. Terms such as “comprise” or “have” are intended to designate that a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification is present, and includes one or more other features, numbers, or steps. , it should be understood that it does not preclude in advance the possibility of the existence or addition of an operation, component, part, or combination thereof.

아래에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art can easily carry out the embodiments of the present invention. However, the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 열전소자 제조 방법을 설명하는 도면이다.2 is a view for explaining a method of manufacturing a thermoelectric element according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 열전소자 제조 방법은, 열전소자와 동일한 단면적을 갖는 유사정형(similar type) 압출 열전재료(즉, 압출재)(10)를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자(30)를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시킬 수 있다.As shown in FIG. 2, the method for manufacturing a thermoelectric element according to an embodiment of the present invention manufactures a similar type extruded thermoelectric material (ie, extruded material) 10 having the same cross-sectional area as the thermoelectric element, By using this, the thermoelectric element 30 can be manufactured to increase the thermoelectric element manufacturing yield.

먼저, S1 단계는 제조하려는 열전소자와 동일한 단면적을 갖는 압출재(10)를 압출기를 통해 성형한다. First, in step S1, the extruded material 10 having the same cross-sectional area as the thermoelectric element to be manufactured is molded through an extruder.

이러한 압출재(10)는 열전소자의 타입에 따라 조성 성분이 결정된다. 즉, 압출재(10)는 n형 반도체물질이 포함된 n형 열전소자 또는 p형 반도체물질이 포함된 p형 열전소자를 제조하기 위한 조성 성분으로 성형된다. 예를 들어, n형 열전소자는 셀레늄(Se), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 납(Pb), 붕소(B), 갈륨(Ga), 텔루륨(Te), 비스무트(Bi), 인듐(In)을 포함한 비스무트 텔룰라이드계(BiTe계)로 이루어지는 물질이 포함되고, p형 열전소자는 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 납(Pb), 붕소(B), 갈륨(Ga), 텔루륨(Te), 비스무트(Bi), 인듐(In)을 포함한 비스무트 텔룰라이드계(BiTe계)로 이루어지는 물질이 포함될 수 있다.The composition of the extruded material 10 is determined according to the type of the thermoelectric element. That is, the extruded material 10 is molded with a composition component for manufacturing an n-type thermoelectric element containing an n-type semiconductor material or a p-type thermoelectric element containing a p-type semiconductor material. For example, the n-type thermoelectric element is selenium (Se), nickel (Ni), aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), lead (Pb), boron (B), gallium (Ga), tell Materials made of bismuth telluride (BiTe) including rurium (Te), bismuth (Bi), and indium (In) are included, and the p-type thermoelectric element is antimony (Sb), nickel (Ni), aluminum (Al) Bismuth-telluride-based (BiTe-based) including copper (Cu), silver (Ag), lead (Pb), boron (B), gallium (Ga), tellurium (Te), bismuth (Bi), and indium (In) ) may be included.

이러한 압출재(10)는 압출기를 통해 분말체를 적당한 형상(여기서, 봉 형상)으로 가압 성형한 후 가열하여 소결시켜 만들어진다. 이때, 압출재(10)는 원형 또는 다각형의 단면 형상을 가질 수 있다.The extruded material 10 is made by pressing the powder into an appropriate shape (here, a rod shape) through an extruder and then heating and sintering. In this case, the extruded material 10 may have a circular or polygonal cross-sectional shape.

다음, S2 단계는 압출재(10) 측면에 절연막(11)을 형성한다.Next, step S2 forms the insulating film 11 on the side of the extruded material 10 .

이러한 압출재(10)는 n형 또는 p형 반도체물질이 포함되어 있기 때문에 표면 상에 전기전도도가 있으므로, 전기적인 절연을 위해 표면 상에 얇게 절연막(11)을 형성한다. 여기서, 절연막(11)은 건식 공정(예, PECVD) 또는 습식 공정(예, 스핀 코팅)을 통해 형성될 수 있고, 예를 들어, SiO2, Si3N4, SiON 등의 박막일 수 있다.Since the extruded material 10 contains an n-type or p-type semiconductor material and has electrical conductivity on the surface, an insulating film 11 is thinly formed on the surface for electrical insulation. Here, the insulating layer 11 may be formed through a dry process (eg, PECVD) or a wet process (eg, spin coating), and may be, for example, a thin film such as SiO 2 , Si 3 N 4 , or SiON.

다음, S3 단계는 열전소자의 높이를 갖도록 절연막(11)이 형성된 압출재(10)를 절단(또는 슬라이싱)하여 단위 소재(20)로 생성한다. 즉, S3 단계는 절단 단계로서, 압출재(10)를 길이 방향을 따라 이동하면서 열전소자의 높이로 절단하여 단위 소재(20)를 생성한다. Next, in step S3 , the extruded material 10 on which the insulating film 11 is formed is cut (or sliced) to have the height of the thermoelectric element to produce the unit material 20 . That is, step S3 is a cutting step, and the unit material 20 is generated by cutting the extruded material 10 to the height of the thermoelectric element while moving along the longitudinal direction.

여기서, 열전소자의 높이는 후술할 단위 소재(20)의 높이에 해당되고, 열전모듈 형성시 상부와 하부에 형성된 금속 전극 사이의 간격에 해당된다. 이처럼, 단위 소재(20)의 크기는 열전소자의 크기에 해당된다.Here, the height of the thermoelectric element corresponds to the height of the unit material 20 to be described later, and corresponds to the gap between the metal electrodes formed on the upper part and the lower part when the thermoelectric module is formed. As such, the size of the unit material 20 corresponds to the size of the thermoelectric element.

도 2에서 하나의 압출재(10)는 원기둥 형태의 단위 소재(20)가 다수 개 제조된다.In Figure 2, one extruded material 10 is manufactured in a plurality of unit material 20 in the form of a cylinder.

S3 단계의 가공 단계를 통해, 단위 소재(20)의 측면은 절연막(11)이 형성된 상태가 유지되고, 상단면과 하단면은 절단 가공을 통해 형성된 절단면이다. 이처럼, 단위 소재(20)의 상단면 및 하단면은 절연막(11)이 형성되어 있지 않다.Through the processing step of step S3, the insulating film 11 is maintained on the side surface of the unit material 20, and the top and bottom surfaces are cut surfaces formed through cutting. As such, the insulating film 11 is not formed on the upper and lower surfaces of the unit material 20 .

단위 소재(20)의 측면에 형성된 절연막(11)은 수분이 침투할 수 없도록 기밀하게 밀봉하는 기능을 담당함으로써, 단위 소재(20)의 측면은 S4 단계에서 확산방지층 도금액에 침지하더라도 확산방지층이 형성되지 않는다.The insulating film 11 formed on the side of the unit material 20 serves to hermetically seal so that moisture cannot penetrate, so that the side of the unit material 20 is immersed in the diffusion barrier layer plating solution in step S4 to form a diffusion barrier layer. doesn't happen

반면, 단위 소재(20)의 상단면과 하단면은 후술할 도 4 및 도 5의 전극과 직접 접촉되는 면에 해당되어 확산방지층을 형성할 필요가 있는 부분으로, S4 단계에서 확산방지층 도금액에 침지할 때 확산방지층(21)이 형성된다.On the other hand, the upper and lower surfaces of the unit material 20 correspond to the surfaces in direct contact with the electrodes of FIGS. 4 and 5, which will be described later, and thus need to form a diffusion barrier layer, which is immersed in the diffusion barrier layer plating solution in step S4. When the diffusion barrier layer 21 is formed.

이를 통해, S2 단계와 S3 단계를 통해 형성된 단위 소재(20)는 S4 단계에서 확산방지층 도금액에 침지할 때 확산방지층을 형성해야 하는 부분에만 선택적으로 도금이 이루어지게 된다. 이로써, S4 단계 이후에는 단위 소재(20)의 측면에 형성된 확산방지층을 제거하는 과정이 필요없게 된다.Through this, when the unit material 20 formed through steps S2 and S3 is immersed in the diffusion barrier layer plating solution in step S4, plating is selectively performed only on the portion where the diffusion barrier layer is to be formed. Accordingly, there is no need to remove the diffusion barrier layer formed on the side surface of the unit material 20 after step S4.

전술한 바와 같이, S4 단계는 단위 소재(20)의 절단면(즉, 상단면과 하단면)에 확산방지층(21)을 형성한다. 여기서, 확산방지층 도금액은 니켈(Ni), 티타늄(Ti) 중 어느 하나 또는 혼합된 합금 재질일 수 있다. 이러한 확산방지층(21)은 열전재료 간의 물질 확산에 의한 열전성능 저하를 방지하기 위해 형성된다.As described above, step S4 forms the diffusion barrier layer 21 on the cut surfaces (ie, upper and lower surfaces) of the unit material 20 . Here, the diffusion barrier layer plating solution may be any one of nickel (Ni), titanium (Ti), or a mixed alloy material. The diffusion barrier layer 21 is formed to prevent deterioration of thermoelectric performance due to material diffusion between thermoelectric materials.

S4 단계는 배럴 도금(barrel plating)을 통해 진행되는데, 배럴 도금은 다수 개의 단위 소재(20)를 확산방지층 도금액이 담긴 배럴(barrel)에 투입한 후, 회전하는 배럴에 전원을 인가하여 다수 개의 단위 소재(20)의 절단면을 동시에 도금하게 된다. 전술한 바와 같이, 단위 소재(20)의 측면은 절연막(11)이 형성되어 있기 때문에 확산방지층(21)이 형성되지 않는다.Step S4 proceeds through barrel plating, in which a plurality of unit materials 20 are put into a barrel containing a diffusion barrier plating solution, and then power is applied to the rotating barrel to form a plurality of units. The cut surface of the material 20 is plated at the same time. As described above, since the insulating film 11 is formed on the side surface of the unit material 20, the diffusion barrier layer 21 is not formed.

다음, S5 단계는 단위 소재(20)의 절단면에 확산방지층(21)을 형성한 후, 불순물 또는 이물질 등을 제거하여 최종적으로 열전소자(30)를 제조한다.Next, in step S5 , after forming the diffusion barrier layer 21 on the cut surface of the unit material 20 , impurities or foreign substances are removed to finally manufacture the thermoelectric element 30 .

이와 같이, 전술한 S3 단계에서만 슬라이싱을 통해 압출재(10)를 절단 가공함으로써 소재의 손실이 발생하게 된다. 즉, 본 발명의 일실시예는 S1 단계 내지 S5 단계 중 S3 단계에서만 소재 손실이 발생하므로, 도 1의 제조 수율을 고려할 때 열전소자의 제조 수율을 80% 이상으로 증대할 수 있음을 알 수 있다.As such, loss of material occurs by cutting and processing the extruded material 10 through slicing only in step S3 described above. That is, in one embodiment of the present invention, since material loss occurs only in step S3 among steps S1 to S5, it can be seen that the manufacturing yield of the thermoelectric element can be increased to 80% or more when the manufacturing yield of FIG. 1 is considered. .

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 열전소자 제조 방법을 설명하는 도면이다.3 is a view for explaining a method of manufacturing a thermoelectric element according to another embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 열전소자 제조 방법은, 열전재료 소결체(40)를 제조하고, 이를 이용하여 열전소자를 제조하여 열전소자 제조 수율을 증가시킬 수 있다.As shown in FIG. 3 , in the method for manufacturing a thermoelectric element according to another embodiment of the present invention, a thermoelectric material sintered body 40 is manufactured, and a thermoelectric element is manufactured using the same, thereby increasing the thermoelectric element manufacturing yield.

먼저, S11 단계는 열전재료 소결체(40)를 성형한다. 이러한 열전재료 소결체(40)는 전술한 압출재(10)와 마찬가지로, 열전소자 타입에 따라 열전재료의 조성 성분이 결정된다. 즉, 열전재료 소결체(40)는 n형 반도체물질이 포함된 n형 열전소자 또는 p형 반도체물질이 포함된 p형 열전소자를 제조하기 위한 조성 성분으로 성형된다. 예를 들어, n형 열전소자는 셀레늄(Se), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 납(Pb), 붕소(B), 갈륨(Ga), 텔루륨(Te), 비스무트(Bi), 인듐(In)을 포함한 비스무트 텔룰라이드계(BiTe계)로 이루어지는 물질이 포함되고, p형 열전소자는 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 납(Pb), 붕소(B), 갈륨(Ga), 텔루륨(Te), 비스무트(Bi), 인듐(In)을 포함한 비스무트 텔룰라이드계(BiTe계)로 이루어지는 물질이 포함될 수 있다.First, in step S11, the thermoelectric material sintered body 40 is formed. In the thermoelectric material sintered body 40 , like the extruded material 10 , the composition of the thermoelectric material is determined according to the type of the thermoelectric element. That is, the thermoelectric material sintered body 40 is formed with a composition component for manufacturing an n-type thermoelectric element containing an n-type semiconductor material or a p-type thermoelectric element containing a p-type semiconductor material. For example, the n-type thermoelectric element is selenium (Se), nickel (Ni), aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), lead (Pb), boron (B), gallium (Ga), tell Materials made of bismuth telluride (BiTe) including rurium (Te), bismuth (Bi), and indium (In) are included, and the p-type thermoelectric element is antimony (Sb), nickel (Ni), aluminum (Al) Bismuth-telluride-based (BiTe-based) including copper (Cu), silver (Ag), lead (Pb), boron (B), gallium (Ga), tellurium (Te), bismuth (Bi), and indium (In) ) may be included.

열전재료 소결체(40)는 예를 들어, 분말체를 적당한 형상(여기서, 웨이퍼 형상)으로 가압 성형한 후 가열하여 소결시켜 만들어진다.The thermoelectric material sintered body 40 is made by, for example, press-molding a powder into an appropriate shape (here, a wafer shape) and then heating and sintering.

다음, S12 단계는 웨이퍼 형태의 열전재료 소결체(40)를 일방향으로 슬라이싱(slicing)하여 다수 개의 슬라이싱재(41)를 생성한다. S12 단계는 제1 절단 단계에 해당된다.Next, in step S12, a plurality of slicing materials 41 are generated by slicing the sintered body 40 of the thermoelectric material in the form of a wafer in one direction. Step S12 corresponds to the first cutting step.

이러한 슬라이싱재(41)는 전술한 압출재(10)에 대응되고, 사각형의 단면 형상을 가지고, 슬라이싱 방향(즉, 길이 방향)으로 봉 형상으로 형성된다. 즉, 슬라이싱재(41)의 단면적은 열전소자의 단면적과 동일하다. 여기서, 열전소자의 단면적은 후술할 단위 소재(50)의 절단면의 면적으로서, 열전모듈 형성시 금속 전극에 접합되는 면의 면적에 해당된다.The slicing material 41 corresponds to the extruded material 10 described above, has a rectangular cross-sectional shape, and is formed in a bar shape in the slicing direction (ie, the longitudinal direction). That is, the cross-sectional area of the slicing material 41 is the same as the cross-sectional area of the thermoelectric element. Here, the cross-sectional area of the thermoelectric element is the area of the cut surface of the unit material 50 to be described later, and corresponds to the area of the surface bonded to the metal electrode when the thermoelectric module is formed.

다음, S13 단계는 슬라이싱재(41) 측면에 절연막(42)을 형성한다. 여기서, 절연막(42)에 대한 설명은 전술한 바와 중복되므로, 자세한 설명을 생략하기로 한다.Next, in step S13 , the insulating film 42 is formed on the side surface of the slicing material 41 . Here, the description of the insulating layer 42 overlaps with that described above, and thus a detailed description thereof will be omitted.

다음, S14 단계는 열전소자의 높이를 갖도록 절연막(42)이 형성된 슬라이싱재(41)를 다시 절단하여 단위 소재(50)로 생성한다. S14 단계는 제2 절단 단계에 해당된다. 즉, S14 단계는 슬라이싱재(41)를 길이 방향을 따라 이동하면서 열전소자의 높이로 단위 소재(50)를 생성한다. Next, in step S14 , the slicing material 41 on which the insulating film 42 is formed is cut again to have the height of the thermoelectric element to generate the unit material 50 . Step S14 corresponds to the second cutting step. That is, in step S14, the unit material 50 is generated at the height of the thermoelectric element while moving the slicing material 41 in the longitudinal direction.

여기서, 열전소자의 높이는 단위 소재(50)의 높이에 해당되고, 열전모듈 형성시 상부와 하부에 형성된 금속 전극 사이의 간격에 해당된다.Here, the height of the thermoelectric element corresponds to the height of the unit material 50 , and corresponds to the gap between the metal electrodes formed on the upper part and the lower part when the thermoelectric module is formed.

이처럼, 단위 소재(50)의 크기는 열전소자의 크기에 해당된다.As such, the size of the unit material 50 corresponds to the size of the thermoelectric element.

도 3에서 하나의 슬라이싱재(41)는 직육면체 형태의 단위 소재(50)가 다수개 제조된다.In FIG. 3 , a plurality of unit materials 50 in the form of a cuboid is manufactured for one slicing material 41 .

다음, S15 단계는 단위 소재(50)의 절단면(즉, 상단면과 하단면)에 확산방지층(51)을 형성한다. S15 단계는 배럴 도금을 통해 진행되는데, 이에 대한 자세한 설명은 전술한 바와 중복되므로, 자세한 설명을 생략하기로 한다.Next, in step S15 , the diffusion barrier layer 51 is formed on the cut surfaces (ie, upper and lower surfaces) of the unit material 50 . Step S15 proceeds through barrel plating, and a detailed description thereof is redundant with the above description, and thus a detailed description thereof will be omitted.

다음, S16 단계는 단위 소재(50)의 절단면에 확산방지층(51)을 형성한 후, 불순물 또는 이물질 등을 제거하여 최종적으로 열전소자(60)를 제조한다.Next, in step S16 , after forming the diffusion barrier layer 51 on the cut surface of the unit material 50 , impurities or foreign substances are removed to finally manufacture the thermoelectric element 60 .

한편, 전술한 S12 단계와 S14 단계에서 슬라이싱을 통해 소재의 손실이 발생한다. 즉, 본 발명의 다른 실시예는 S11 단계 내지 S16 단계 중 S12 단계 및 S14 단계에서 2차례 소재 손실이 발생하므로, 도 1에서 3차례 이상 가공 공정을 진행하는 것을 비교할 때 열전소자의 제조 수율을 40% 이상 기대할 수 있다.On the other hand, material loss occurs through slicing in steps S12 and S14 described above. That is, in another embodiment of the present invention, since material loss occurs twice in steps S12 and S14 among steps S11 to S16, the manufacturing yield of the thermoelectric element is 40 when comparing the processing process three or more times in FIG. 1 . % or more can be expected.

도 4는 도 2의 방법에 따라 제조된 열전소자를 이용한 열전모듈을 나타낸 도면이고, 도 5는 도 3의 방법에 따라 제조된 열전소자를 이용한 열전모듈을 나타낸 도면이다.FIG. 4 is a view showing a thermoelectric module using a thermoelectric element manufactured according to the method of FIG. 2 , and FIG. 5 is a view showing a thermoelectric module using a thermoelectric element manufactured according to the method of FIG. 3 .

도 4 및 도 5를 참조하면, Bi-Te계 열전모듈은 도 2 및 도 3의 방법에 따라 제조된 p형 열전소자와 n형 열전소자를 금속 전극들 사이에 접합시켜 PN 접합 쌍을 형성한다. p형 열전소자와 n형 열전소자의 상단면과 하단면에 형성된 확산방지층은 접합층을 통해 금속 전극들에 접합된다. 그리고, 상부와 하부에 형성된 금속 전극들 각각은 세라믹 재질의 상부 절연기판과 하부 절연기판에 접합된다.4 and 5, the Bi-Te-based thermoelectric module forms a PN junction pair by bonding a p-type thermoelectric element and an n-type thermoelectric element manufactured according to the method of FIGS. 2 and 3 between metal electrodes. . The diffusion barrier layers formed on the top and bottom surfaces of the p-type thermoelectric element and the n-type thermoelectric element are bonded to the metal electrodes through the bonding layer. Then, each of the metal electrodes formed on the upper and lower portions is bonded to the upper insulating substrate and the lower insulating substrate made of a ceramic material.

비록 상기 설명이 다양한 실시예들에 적용되는 본 발명의 신규한 특징들에 초점을 맞추어 설명되었지만, 본 기술 분야에 숙달된 기술을 가진 사람은 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서도 상기 설명된 장치 및 방법의 형태 및 세부 사항에서 다양한 삭제, 대체, 및 변경이 가능함을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 상기 설명에서보다는 첨부된 특허청구범위에 의해 정의된다. 특허청구범위의 균등 범위 안의 모든 변형은 본 발명의 범위에 포섭된다.Although the foregoing description has focused on novel features of the invention as applied to various embodiments, those skilled in the art will recognize the apparatus and method described above without departing from the scope of the invention. It will be understood that various deletions, substitutions, and changes are possible in the form and details of Accordingly, the scope of the invention is defined by the appended claims rather than by the description above. All modifications within the scope of equivalents of the claims are included in the scope of the present invention.

10 ; 압출재 11,42 ; 절연막
20,50 ; 단위 소재 21,51 ; 확산방지층
30,60 ; 열전소자 40 ; 열전재료 소결체
41 ; 슬라이싱재
10 ; extruded material 11,42; insulating film
20,50 ; Unit material 21,51 ; diffusion barrier layer
30,60 ; thermoelectric element 40 ; Thermoelectric material sintered body
41 ; slicing material

Claims (1)

열전재료 소결체(40)를 성형하는 성형 단계;
상기 열전재료 소결체(40)를 절단하여 슬라이싱재(41)를 형성하는 제1 절단 단계;
상기 슬라이싱재(41)의 측면에 절연막(42)을 형성한 후, 상기 슬라이싱재(41)를 단위 소재(50)로 절단하는 제2 절단 단계; 및
상기 단위 소재(50)의 절단면에 확산방지층(51)을 형성하여 열전소자(60)를 제조하는 형성 단계; 를 포함하고,
상기 열전재료 소결체(40)는, 분말체를 웨이퍼 형상으로 가압 성형한 후 가열하여 소결시켜 만들어지고,
상기 슬라이싱재(41)의 단면적은, 상기 열전소자(60)의 단면적과 동일하며, 상기 절연막(11)은 SiO2, Si3N4, SiON 중 어느 하나이며,
상기 단위 소재(50)의 상기 절단면을 이루는 상단면 및 하단면은 상기 절연막(42)이 형성되지 않으며,
상기 형성 단계는,
상기 단위 소재(50)를 확산방지층 도금액이 담긴 배럴(barrel)에 투입하여 상기 절단면을 상기 확산방지층 도금액으로 도금하는 배럴 도금을 통해 상기 확산방지층 (51)을 형성하며, 상기 확산방지층 도금액은 니켈(Ni), 티타늄(Ti) 중 어느 하나 또는 혼합된 합금 재질이며,
상기 단위 소재(50)의 측면은 확산방지층 도금액에 침지하더라도 확산방지층이 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 열전소자 제조 방법.

A forming step of forming the thermoelectric material sintered body (40);
a first cutting step of cutting the thermoelectric material sintered body 40 to form a slicing material 41;
a second cutting step of forming an insulating film 42 on a side surface of the slicing material 41 and cutting the slicing material 41 into a unit material 50; and
a forming step of manufacturing a thermoelectric element 60 by forming a diffusion barrier layer 51 on a cut surface of the unit material 50; including,
The thermoelectric material sintered body 40 is made by press-molding the powder into a wafer shape and then heating and sintering,
A cross-sectional area of the slicing material 41 is the same as that of the thermoelectric element 60, and the insulating film 11 is any one of SiO 2 , Si 3 N 4 , and SiON,
The insulating film 42 is not formed on the upper surface and the lower surface forming the cut surface of the unit material 50,
The forming step is
The unit material 50 is put into a barrel containing the diffusion barrier layer plating solution, and the diffusion barrier layer 51 is formed through barrel plating in which the cut surface is plated with the diffusion barrier layer plating liquid, and the diffusion barrier layer plating liquid is nickel ( Ni), any one of titanium (Ti), or a mixed alloy material,
The method for manufacturing a thermoelectric element, characterized in that the diffusion barrier layer is not formed even if the side surface of the unit material (50) is immersed in the diffusion barrier layer plating solution.

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