KR20210128612A - Mold for punching semiconductor leadframes for easy scrap removal - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 연속적으로 공급되는 원재를 타발하는 공정에서 스크랩홈에 스크랩이 막히거나, 타발시 스크랩홈 외부로 이탈되는 것이 방지되는 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형에 관한 것이다.The present invention relates to a mold for punching a semiconductor lead frame in which scrap is easily removed, and more particularly, it prevents scrap from being clogged in a scrap groove in the process of punching continuously supplied raw materials or from being separated from the scrap groove when punched. It relates to a mold for punching out a semiconductor lead frame with which scrap can be easily removed.
일반적으로 반도체 리드프레임(Leadframe)은 반도체 칩이 지지되어 충격으로부터 보호하는 역할과 외부의 기판과 연결되어 전기신호를 전달하는 도선의 역할을 수행하는 것을 말한다.In general, a semiconductor leadframe refers to a semiconductor chip that is supported and serves to protect it from impact and a conductor that is connected to an external substrate to transmit an electrical signal.
반도체 리드프레임은 전기전도도가 높은 금속재질의 박판(薄板)으로 이루어지되, 협소한 면적에 많은 수의 리드(Lead)를 정밀하게 만드는 것이 매우 중요하다.The semiconductor lead frame is made of a thin metal material with high electrical conductivity, but it is very important to precisely make a large number of leads in a narrow area.
이러한 성능을 만족하기 위하여, 반도체 리드프레임의 제조는 상부와 하부로 구분된 금형의 내부에 원재를 공급하고, 하강 또는 상승하는 일측의 금형에 의해 타발(打拔)되는 형태의 공정이 단계별로 순차 이루어져 생산될 수 있다..In order to satisfy this performance, the manufacturing of the semiconductor lead frame supplies raw materials to the inside of the mold divided into upper and lower parts, and the process of being punched by the lowering or rising one side of the mold is sequentially performed step by step. can be made and produced.
타발 공정은 일반적으로 상부에서 하강하는 펀치가 원재를 가압하여 원재로부터 가공 형상을 탈락시키는 형태로 이루어지며, 이 때 탈락된 스크랩(Scrap)은 하부에 위치한 스크랩홈에 적치되거나 스크랩홈을 통하여 하향 배출되는 형태가 이루어질 수 있다.The punching process is generally made in a form in which a punch descending from the upper part presses the raw material to remove the processed shape from the raw material. form can be made.
그러나, 가공 형상이 직사각형, 삼각형 또는 타원형 등 단순 형상일 경우에, 스크랩이 스크랩홈 내부에서 편향 회전되어 끼이는, 소위 재밍(Jamming) 현상이 빈번하게 발생하였다.However, when the machining shape is a simple shape such as a rectangle, a triangle, or an ellipse, a so-called jamming phenomenon, in which the scrap is deflected and rotated and caught inside the scrap groove, frequently occurs.
이러한 재밍 현상에 의하여 스크랩홈에 적치되거나 하향 배출되어야 할 스크랩이 스크랩홈에 비정상적으로 적치됨에 따라, 추가적으로 발생하는 스크랩이 스크랩홈로부터 이탈하거나 펀치에 충돌하여 파손하는 문제점이 있었다.Due to this jamming phenomenon, as scrap to be placed in the scrap groove or to be discharged downward is abnormally deposited in the scrap groove, additionally generated scrap is separated from the scrap groove or collides with the punch and is damaged.
또한, 펀치가 스크랩홈에 삽입후 이탈시 생기는 일시적 진공상태로 인하여, 스크랩이 펀치의 이탈시 견인 상승되어, 스크랩이 스크랩홈에 적치되거나 배출되지 못하고 스크랩홈의 상부로 이탈하는, 소위 점핑(Jumping) 현상도 빈번하게 발생하여, 타발시 원재 또는 펀치에 협착되어 가공 품질을 현저히 떨어뜨리는 문제점도 발생하였다.In addition, due to the temporary vacuum state that occurs when the punch is inserted into the scrap groove and then released, the scrap is pulled up when the punch is released, so that the scrap is not deposited or discharged in the scrap groove and escapes to the upper part of the scrap groove, so-called jumping (Jumping). ) phenomenon also occurred frequently, resulting in a problem in that the processing quality was significantly lowered by being entangled in the raw material or the punch during punching.
특히, 초집적회로인 반도체는 매우 많은 단위 가공 형상들의 집합으로 이루어지고, 원재가 금형의 입구에서 출구로 조금씩 공급되면서 순차적으로 타발되는 공정으로 이루어져 있어, 매우 많은 수의 펀치와 스크랩홈이 형성되어 있다는 점에서 상기 문제점은 반도체 리드프레임 타발 공정 전체의 품질 저하와 금형의 손상을 일으키는 반드시 해결되어야 할 문제점이다.In particular, the semiconductor, which is a super integrated circuit, consists of a set of very many unit processing shapes, and the raw material is sequentially punched while being supplied little by little from the inlet to the outlet of the mold, so a very large number of punches and scrap grooves are formed. In that there is, the above problem is a problem that must be solved, which causes deterioration of the quality of the entire semiconductor lead frame punching process and damage to the mold.
본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위해 발명된 것으로서, 스크랩이 효과적으로 스크랩홈에 적치되거나 배출되도록 하고, 펀치의 입출시 발생될 수 있는 진공상태를 인위적으로 해소함으로써, 빠르고 정밀하게 이루어지는 연속 타발 공정이 안정적으로 이루어지도록 하는 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형을 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention was invented to solve the above problems, and the continuous punching process performed quickly and precisely by allowing the scrap to be effectively placed in or discharged from the scrap groove and artificially relieving the vacuum state that may be generated when the punch enters and exits. An object of the present invention is to provide a mold for punching out a semiconductor lead frame that is easy to remove scrap to be made stably.
본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Objects of the present invention are not limited to the objects mentioned above, and other objects not mentioned will be clearly understood from the description below.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형은 상부금형과 하부금형으로 이루어지되, 일측 입구로부터 타측 출구로 원재가 연속적으로 공급되어 타발되는 반도체 리드프레임 타발용 금형에 있어서, 상기 상부금형의 하부면에 탈부착 가능하게 설치되되, 내부에 에어홀이 형성된 홀펀치;및 상기 하부금형의 상부면에 개구되도록 형성되되, 상기 홀펀치의 형상과 위치에 대응되도록 형성된 스크랩홈;으로 이루어진 것을 기술적 특징으로 한다.The semiconductor lead frame punching mold for easy scrap removal according to the present invention for achieving the above object consists of an upper mold and a lower mold, and raw materials are continuously supplied from one entrance to the other exit. In the mold, a hole punch that is detachably installed on the lower surface of the upper mold and has an air hole therein; is formed to be opened on the upper surface of the lower mold, and is formed to correspond to the shape and position of the hole punch It is characterized in that it consists of a scrap groove;
또한, 상기 홀펀치는 상대적으로 외경이 큰 고정부와 상대적으로 외경이 작은 삽입부로 구분되되, 상기 에어홀의 입구는 상기 홀펀치의 중심축에 수직하도록 상기 고정부에 형성되고, 출구는 상기 홀펀치의 중심과 동축이 되도록 상기 삽입부에 형성되는 것을 기술적 특징으로 한다.In addition, the hole punch is divided into a fixed portion having a relatively large outer diameter and an insertion portion having a relatively small outer diameter, the inlet of the air hole is formed in the fixing portion so as to be perpendicular to the central axis of the hole punch, and the outlet is the hole punch It is characterized in that it is formed in the insertion portion so as to be coaxial with the center of the.
또한, 상기 에어홀의 내경은, 상기 삽입부의 외경의 크기에 비례하여 결정되는 것을 기술적 특징으로 한다.In addition, the inner diameter of the air hole is technically characterized in that it is determined in proportion to the size of the outer diameter of the insertion part.
또한, 상기 홀펀치의 단면과 상기 스크랩홈의 모서리는, 곡률중심이 형상 내부에 존재하는 곡선으로 형성되는 것을 기술적 특징으로 한다.In addition, the cross-section of the hole punch and the edge of the scrap groove, the center of curvature is a technical feature that is formed in a curve that exists inside the shape.
또한, 상기 홀펀치의 단면과 상기 스크랩홈의 변곡점은, 곡률반경이 더 크도록 형성되는 것을 기술적 특징으로 한다.In addition, the cross-section of the hole punch and the inflection point of the scrap groove are technically characterized in that the radius of curvature is formed to be larger.
상기한 구성에 의한 본 발명은 아래와 같은 효과를 기대할 수 있다. The present invention according to the above configuration can expect the following effects.
펀치의 입출시 스크랩이 그에 따라 스크랩홈에서 이탈되는 것이 방지되므로, 스크랩이 원재에 협착하거나 펀치에 협착되어 발생되는 타발 공정품질의 저하 및 펀치의 파손 등이 방지될 수 있다.Since the scrap is prevented from being separated from the scrap groove when the punch enters and exits, the quality of the punching process and the damage of the punch, which are caused by the scrap being trapped in the raw material or the punch, can be prevented.
스크랩이 스크랩홈에 편향 회전되거나 펀치에 의해 발생된 진공에 의하여 정상적으로 적치되지 못하고 수직하게 적치되거나 비스듬히 적치됨으로써, 스크랩홈에 수용 및 적치될 수 있는 스크랩의 양을 현저하게 감소되는 것이 방지될 수 있다.It can be prevented from remarkably reducing the amount of scrap that can be accommodated and stacked in the scrap groove by being vertically or obliquely stacked instead of being stacked normally due to the deflection rotation of the scrap in the scrap groove or the vacuum generated by the punch. .
특히, 스크랩홈에 수용 가능 한도가 넘을 경우에는 스크랩은 스크랩홈의 외부로 이탈하여 상술한 바와 같이 타발 공정품질의 저하 및 펀치의 파손을 일으킬 수 있으며, 이러한 문제점을 해결하기 위하여 스크랩홈의 정리를 수시로 하여야 하는 바, 이러한 스크랩홈의 정리 횟수를 현저하게 감소시킴으로써 타발 공정의 연속성 보장 및 생산 효율의 증대를 얻을 수 있다.In particular, when the acceptable limit is exceeded in the scrap groove, the scrap may escape to the outside of the scrap groove, and as described above, the quality of the punching process may be deteriorated and the punch may be damaged. As this should be done frequently, it is possible to ensure continuity of the punching process and increase production efficiency by remarkably reducing the number of cleaning times of such scrap grooves.
궁극적으로는, 타발 공정 품질의 안정적인 보장 및 펀치 파손 가능성의 감소는 생산 효율을 극대화하여 생산 비용을 절감하는 효과와 함께, 소모되는 원재의 방지 및 펀치 교체량의 감소와 같은 부수적인 비용 절감 효과도 얻을 수 있다.Ultimately, stably guaranteeing the quality of the punching process and reducing the possibility of punch breakage will maximize production efficiency and reduce production costs, as well as additional cost savings such as prevention of consumed raw materials and reduction of the amount of punch replacement. can be obtained
스크랩홈은 금형에 형성되는 것이므로, 이를 정리하기 위해서는 작업자가 상부금형과 하부금형의 사이에 위치하여야 하는 불안전한 작업환경이 조성될 수 있는데, 이를 최소화함으로서 안전한 작업 환경을 조성할 수 있다.Since the scrap groove is formed in the mold, an unsafe working environment in which the operator must be located between the upper mold and the lower mold can be created in order to organize them. By minimizing this, a safe working environment can be created.
도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 홀펀치의 전체 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 홀펀치의 평면도이다.
도 3은 종래 스크랩홈의 재밍 현상을 나타내는 개념도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 스크랩홈의 평면도이다.
도 5는 가공 형상의 변형이 적용된 실시예를 나타내는 개념도이다.
도 6은 스크랩이 스크랩홈 내부에서 회전하지 않는 상태를 나타내는 개념도이다.1 is an overall configuration diagram of a hole punch according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a plan view of a hole punch according to another preferred embodiment of the present invention.
3 is a conceptual diagram illustrating a jamming phenomenon of a conventional scrap groove.
4 is a plan view of a scrap groove according to a preferred embodiment of the present invention.
5 is a conceptual diagram illustrating an embodiment to which a deformation of a processing shape is applied.
6 is a conceptual diagram illustrating a state in which the scrap does not rotate inside the scrap groove.
이하 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형을 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a mold for punching out a semiconductor lead frame with which scrap can be easily removed according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail.
도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 홀펀치의 전체 구성도, 도 2는 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 홀펀치의 평면도, 도 3은 종래 스크랩홈의 재밍 현상을 나타내는 개념도, 도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 스크랩홈의 평면도, 도 5는 가공 형상의 변형이 적용된 실시예를 나타내는 개념도 및 도 6은 스크랩이 스크랩홈 내부에서 회전하지 않는 상태를 나타내는 개념도이다.1 is an overall configuration diagram of a hole punch according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a hole punch according to another preferred embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a conceptual diagram showing a jamming phenomenon of a conventional scrap groove; FIG. 4 is a plan view of a scrap groove according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating an embodiment to which a deformation of a processing shape is applied, and FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating a state in which the scrap does not rotate inside the scrap groove.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형은 상부금형(10), 하부금형(20)의 일반적인 구성과 기술적 특징이 구비된 홀펀치(100) 및 스크랩홈(200)로 구성되는 바, 기술적 특징이 구비된 구성을 위주로 살펴보기로 한다.A mold for punching out a semiconductor lead frame that is easy to remove scrap according to a preferred embodiment of the present invention is a
반도체 리드프레임 타발 공정은 원재가 금형의 일측에서 공급되어, 연속적으로 타발이 이루어지며 타측으로 배출되는 형태로 이루어지며, 이 때 원재가 공급되는 측을 입구(111), 배출되는 측을 출구(113)로 하여 설명한다.In the semiconductor lead frame punching process, the raw material is supplied from one side of the mold, continuously punched, and discharged to the other side. ) to be explained.
먼저, 상기 홀펀치(100)를 살펴본다.First, look at the
홀펀치(100)는 각 금형이 맞닿을 시 금형의 일측 최저면으로부터 타측으로 돌출됨으로써, 원재에 가공 형상을 형성하는 역할을 할 수 있다.The
이러한 역할에 의하여, 홀펀치(100)의 형상은 가공하고자 하는 형상에 따라 이루어질 수 있어, 원기둥형이나 직육면체 또는 다각형 기둥으로 형성될 수 있다.By this role, the shape of the
홀펀치(100)의 두께는, 원기둥의 경우를 상정하여 외경(外俓) 또는 내경(內徑)을 이용하며, 직육면체의 경우 외경이나 내경은 가장 짧은 너비를, 타원형의 경우 단반경(短半徑)을 나타내는 것으로 이해될 수 있다.The thickness of the
홀펀치(100)는 상부금형(10) 또는 하부금형(20)의 어느 곳에도 설치가 가능하나, 홀펀치(100)에 의해 타발 후 발생되는 스크랩(S)이 하향하여 적치 또는 배출되기 위해서는 상부금형(10)에 설치되는 것이 바람직할 수 있다.The
홀펀치(100)는 상부금형(10)의 하부면에 탈부착 가능하도록 설치되어, 다양한 형태의 가공 형상에도 홀펀치(100)의 교체를 통해 대응 가능하며, 일부 홀펀치(100)의 가공 품질 저하시 개별로 교체가 가능하도록 할 수 있다.The
홀펀치(100)에는 에어홀(110)이 형성될 수 있는데, 에어홀(110)을 통하여 공급되는 에어에 의하여 홀펀치(100)와 스크랩홈(200) 사이에 발생되는 진공상태를 해소하는 역할을 하는 것으로, 후술할 고정부(130)에서 삽입부(150)로 연통되도록 형성될 수 있다.An
홀펀치(100)는 고정부(130)와 삽입부(150)로 구분될 수 있다.The
홀펀치(100)는 타발 공정시 상부금형(10)의 하강에 의한 가압력을 원재의 표면에 전달하여 스크랩(S)이 되는 부분을 원재로부터 이탈시키는 것으로서, 타발 공정시 수직한 보(堡)와 같은 형태를 이뤄, 가압력에 의한 좌굴(挫屈)이 일어날 수 있다.The
이러한 좌굴을 방지하기 위하여, 홀펀치(100)는 외경의 크기가 고정부(130)와 삽입부(150)에 차등 적용될 수 있는데, 가공 형상과 동일한 외경이어야 하는 삽입부(150)는 외경의 크기를 조절할 수 없으므로, 상부금형(10)에 고정되는 고정부(130)의 외경이 크게 형성될 수 있다.In order to prevent such buckling, the
고정부(130)의 형상은 원기둥, 직육면체 또는 다각형 기둥 등 다양하게 이루어질 수 있으나, 가공 형상의 방향성이 있는 경우에는 다각형으로 구성하여 설치 오류를 방지 하는 것도 가능할 수 있다.The shape of the
고정부(130)에는 에어홀(110)의 입구(111)가 형성될 수 있는데, 홀펀치(100)의 중심축에 수직하도록 형성될 수 있다.An
상세하게는, 상부금형(10)의 하강 방향에 수직한 수평방향으로 에어홀(110)이 형성됨으로써 에어홀(110)의 입구(111)가 상부금형(10)의 외부에 형성되어 에어홀(110)로 외기(外氣)의 유입이 용이하도록 할 수 있으며, 에어홀(110)은 고정부(130)를 관통하도록 형성되어 고정부(130)의 양측에 형성된 입구(111)에 의해 외기 유입이 원활히 되도록 할 수 있다.In detail, the
추가적으로는, 에어홀(110)은 원형으로 형성함으로써 고정부(130)나 삽입부(150)의 인장강도 및 전단강도에 미치는 영향이 최소화되도록 하는 것이 바람직할 수 있다.Additionally, by forming the
삽입부(150)는 가공 형상에 따라 형성되어, 원재를 가압함으로써 가공 형상에 대응되는 스크랩(S)을 원재로부터 이탈시켜 하부로 밀어내는 역할을 할 수 있다.The
상술한 바와 같이, 삽입부(150)는 고정부(130)에 비하여 상대적으로 작은 내경을 가지도록 구성되며, 고정부(130)에서 삽입부(150)로의 외경 감소가 연속적으로 이루어지도록 형성된 연결부(170)가 형성될 수 있다.As described above, the
삽입부(150)가 원재에 닿는 접촉면에는 에어홀(110)의 출구(113)가 형성될 수 있으며, 상술한 바와 같이 에어홀(110)은 원형으로 구성될 수 있다.The
에어홀(110)은, 고정부(130)에 형성된 입구(111)에서부터 홀펀치(100)의 중심까지 수평하게 형성되고, 다시 홀펀치(100)의 중심에서 삽입부(150)의 접촉면에 구비된 출구(113)로 수직하게 연통 형성될 수 있다.The
에어홀(110)의 내경은 상기 삽입부(150)의 외경의 크기에 비례할 수 있다.The inner diameter of the
에어홀(110)은 상술한 바와 같이 입구(111)에서부터 출구(113)까지 연통되어 있는 바, 동일한 내경을 가지도록 형성하는 것이 바람직할 수 있되, 삽입부(150) 전체에 관통하여 형성되어 있으므로 삽입부(150)에 좌굴이나 전단이 발생하지 않도록 삽입부(150)의 외경에 따라 에어홀(110)의 크기가 결정될 수 있다.The
상세하게는, 하기와 같이 에어홀(110)의 내경은 삽입부(150)의 외경의 범위에 따라 일정 크기로 결정될 수 있다.In detail, as follows, the inner diameter of the
삽입부(150)의 외경의 크기는 스크랩(S)의 크기에 대응되는 것으로서, 스크랩(S)이 클수록 진공이 발생되는 공간이 크므로, 많은 에어의 공급량에 대응하기 위하여 에어홀(110)이 크게 형성될 수 있다.The size of the outer diameter of the
에어홀(110)의 내경은 삽입부(150)의 다양한 외경에 비례적으로 형성될 수도 있으나, 삽입부(150)에 형성되는 외경을 가공시 작업의 편의성을 고려하면 외경의 범위에 따라 규정된 내경을 이용하는 것이 바람직할 수 있다.The inner diameter of the
삽입부(150)의 형상은 가공 형상에 따라 결정될 수 있으나, 스크랩홈(200)에서의 재밍이나 점핑을 방지하기 위하여 특징적인 형상이 부가될 수 있으며, 이 형상에 관한 자세한 내용은 스크랩홈(200)에서 설명한다.The shape of the
다음으로, 상기 스크랩홈(200)을 살펴본다.Next, look at the
스크랩홈(200)은 하부금형(20)의 상부면에 개구되도록 형성되되, 상기 홀펀치(100)의 형상과 위치에 대응되도록 형성되어 상부금형(10)의 하강시 홀펀치(100)의 삽입부(150)가 수용될 수 있다.The
홀펀치(100)에 의해 탈락된 원재의 스크랩(S)은 스크랩홈(200)에 순차적으로 적치되거나 하향 배출될 수 있다.The scrap S of the raw material dropped by the
상세하게는, 스크랩홈(200)이 하부금형(20)에 수직 함입된 형태인 경우에는 스크랩(S)은 적치되게 되고, 하부금형(20)에 관통된 형태인 경우에는 스크랩(S)은 하부금형(20)의 하부로 자중에 의해 배출될 수 있으나, 하기에서는 스크랩홈(200)은 수직 함입된 형태로 형성된 경우를 상정하여 설명하기로 한다.In detail, when the
일반적으로 반도체 리드프레임의 경우, 가늘고 많은 리드가 복잡하게 형성되어 있으나, 이 복잡한 가공 형상을 한번에 타발하는 경우 리드의 파손이 발생할 수도 있고, 특히 복잡한 형상의 홀펀치(100)를 가공하는 것이 매우 어렵기 때문에, 일정 지역에 단순한 형상을 중첩되도록 타발하는 방법을 사용하고 있다.In general, in the case of a semiconductor lead frame, many thin leads are complexly formed. However, if the complex machining shape is punched out at once, the lead may be damaged, and in particular, it is very difficult to process the
따라서, 가공 형상은 최대한 단순하게 형성되는데, 이러한 단순한 가공 형상은 홀펀치(100)의 가공이나 타발시 파손의 위험은 감소하나, 단순한 스크랩(S) 형상에 의한 스크랩홈(200) 재밍이 발생될 수 있다.Therefore, the machining shape is formed as simple as possible, and this simple machining shape reduces the risk of damage when the
상세하게 설명하자면, 스크랩(S)과 스크랩홈(200)은 동일한 형상이므로 스크랩(S)이 스크랩홈(200)의 형상에 따라 평행한 방향으로 적치되어야 하나, 도 3에 도시된 바와 같이 단순한 형상에 의해 스크랩(S)이 스크랩홈(200) 내에서 회전할 수 있다.In detail, since the scrap S and the
이러한 회전에 의하여 스크랩(S)이 스크랩홈(200)에 수직하거나 비스듬히 끼이는 재밍 현상이 발생할 수 있게 되며, 재밍이 발생한 이후의 스크랩(S)은 동일한 형태로 적치되므로 스크랩홈(200)이 기능을 못하게 될 수 있다.Due to this rotation, a jamming phenomenon in which the scrap S is vertically or obliquely caught in the
단순한 형태의 가공 형상인 경우, 이러한 재밍 현상의 방지를 위하여 요구되는 공차(公差) 내에서 홀펀치(100)와 스크랩홈(200)의 형태를 변형하여 적용될 수 있다.In the case of a simple machining shape, the shape of the
도 5에 도시된 바와 같이, 가공 형상이 각(角)을 가지는 단순 다각형 형상일 경우, 각이 형성된 모서리는 곡선으로 형성되되, 곡률중심은 가공 형상의 내부에 존재할 수 있다.As shown in FIG. 5 , when the processed shape is a simple polygonal shape having an angle, the corner formed with the angle is formed as a curve, and the center of curvature may exist inside the processed shape.
이러한 형태로 인하여, 단순 다각형 형상인 경우에는 각이 형성된 모서리 부분은 가공 형상의 외측으로 볼록한 형태로 형성될 수 있다.Due to this shape, in the case of a simple polygonal shape, an angled corner portion may be formed in a convex shape to the outside of the processed shape.
가공 형상이 곡(曲)을 가지는 단순 곡형 형상일 경우, 직선에서 곡선에서 변형되거나 곡선의 곡률이 변형되는 변곡점에서는 기형성된 곡선의 곡률반경보다 더 큰 곡률반경이 형성되도록 곡선이 형성될 수 있다.When the machining shape is a simple curved shape having a curve, a curve may be formed such that a radius of curvature larger than the radius of curvature of the preformed curve is formed at the inflection point at which it is deformed from the curve in a straight line or the curvature of the curve is deformed.
이러한 형태로 인하여, 단숙 곡형 형상인 경우에도 가공 형상의 외측으로 볼록한 형태로 형성될 수 있다.Due to this shape, even in the case of a short curved shape, it may be formed in a convex shape outside the processed shape.
이러한 부가적으로 형성된 외측으로 볼록한 형태로 인하여, 스크랩(S)은 거시적으로는 단순 형상에 해당하나 미시적으로는 복합 형상으로 형성되므로, 스크랩홈(200) 내부에서 회전되는 것이 차단될 수 있다.Due to this additionally formed outwardly convex shape, the scrap S macroscopically corresponds to a simple shape, but microscopically it is formed in a complex shape, so that rotation inside the
즉, 스크랩(S)은 미시적인 복합 형상으로 인하여, 도 6에 도시된 바와 같이 스크랩홈(200)에 형성된 형상에 따라 하향 적치 또는 배출시 평행하게 이동만 가능하고 회전이 되지 않도록 제한됨으로써 스크랩홈(200)의 재밍이 방지될 수 있다.That is, due to the microscopic complex shape, the scrap S can only move in parallel when stacked down or discharged according to the shape formed in the
이러한 형태는 홀펀치(100)와 스크랩홈(200)에 공히 적용될 수 있으며, 곡률반경의 크기는 반도체 리드프레임에 요구되는 공차의 범위 내에서 이루어질 수 있다.This shape may be applied to both the
상기한 실시예는 예시적인 것에 불과한 것으로, 당해 기술분야에 대한 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양하게 변형된 다른 실시예가 가능하다. The above-described embodiments are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art can variously modified other embodiments therefrom.
따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위에는 하기의 청구범위에 기재된 발명의 기술적 사상에 의해 상기의 실시예뿐만 아니라 다양하게 변형된 다른 실시예가 포함되어야 한다. Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should include not only the above embodiments but also other variously modified embodiments by the technical spirit of the invention described in the following claims.
10: 상부금형
20: 하부금형
100: 홀펀치
110: 에어홀
111: 입구
113: 출구
130: 고정부
150: 삽입부
170: 연결부
200: 스크랩홈
S: 스크랩10: upper mold
20: lower mold
100: hole punch
110: air hole
111: entrance
113: exit
130: fixed part
150: insert
170: connection part
200: scrap home
S: scrap
Claims (5)
상기 상부금형의 하부면에 탈부착 가능하게 설치되되, 내부에 에어홀이 형성된 홀펀치;및
상기 하부금형의 상부면에 개구되도록 형성되되, 상기 홀펀치의 형상과 위치에 대응되도록 형성된 스크랩홈;로 이루어진 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형.In the semiconductor lead frame punching mold consisting of an upper mold and a lower mold, the raw material is continuously supplied from one entrance to the other exit, and punched out,
A hole punch that is detachably installed on the lower surface of the upper mold and has an air hole therein; And
A mold for punching out a semiconductor lead frame, which is formed to be opened on the upper surface of the lower mold, and includes a scrap groove formed to correspond to the shape and position of the hole punch.
상기 홀펀치는 상대적으로 외경이 큰 고정부와 상대적으로 외경이 작은 삽입부로 구분되되,
상기 에어홀의 입구는 상기 홀펀치의 중심축에 수직하도록 상기 고정부에 형성되고, 출구는 상기 홀펀치의 중심과 동축이 되도록 상기 삽입부에 형성되는 것을 특징으로 하는 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형.According to claim 1,
The hole punch is divided into a fixed part having a relatively large outer diameter and an insertion part having a relatively small outer diameter,
An inlet of the air hole is formed in the fixing part so as to be perpendicular to the central axis of the hole punch, and an outlet is formed in the insertion part so as to be coaxial with the center of the hole punch. Mold for punching.
상기 에어홀의 내경은, 상기 삽입부의 외경의 크기에 비례하여 결정되는 것을 특징으로 하는 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형.3. The method of claim 2,
The inner diameter of the air hole is a mold for punching out a semiconductor lead frame that is easy to remove scrap, characterized in that determined in proportion to the size of the outer diameter of the insertion part.
상기 홀펀치의 단면과 상기 스크랩홈의 모서리는, 곡률중심이 형상 내부에 존재하는 곡선으로 형성되는 것을 특징으로 하는 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The cross section of the hole punch and the edge of the scrap groove are formed in a curved shape having a center of curvature present inside the shape.
상기 홀펀치의 단면과 상기 스크랩홈의 변곡점은, 곡률반경이 더 크도록 형성된 것을 특징으로 하는 스크랩 제거가 용이한 반도체 리드프레임 타발용 금형.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The cross section of the hole punch and the inflection point of the scrap groove are formed to have a larger radius of curvature.
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