KR20210127659A - 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치에 관한 것이다. 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치는 공정 챔버로부터 공정 기체를 배출시키는 진공 펌프(11); 진공 펌프(11)로부터 공급되는 공정 기체를 플라즈마 반응에 의하여 처리하는 플라즈마 반응기(13); 및 진공 펌프(11)로부터 플라즈마 반응기(13)로 적어도 두 개의 공급 경로를 통하여 공정 기체를 공급하는 분배 수단을 포함한다.

Description

공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치{A Plasma Scrubber Apparatus With a Structure of Distributing a Supplying Amount}
본 발명은 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치에 관한 것이고, 구체적으로 적어도 두 개의 경로를 통하여 배출 기체를 플라즈마 반응기로 공급하여 처리 효율이 향상되면서 전력 소비가 감소되도록 하는 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 과정, 디스플레이 제조 과정 또는 이와 유사한 화합물을 이용하는 제조 과정에서 발생되는 유해 기체가 스크러버(scrubber) 장치에 의하여 처리될 수 있다. 예를 들어 반도체의 제조를 위한 팹(Fab)에서 진공 펌프(dry pump)에 의하여 배출된 공정 기체는 이송 도관을 통하여 스크러버 장치로 이송되어 처리될 수 있다. 이와 같은 구조에서 스크러버 장치의 용량은 진공 펌프의 주입 용량에 비하여 크고, 스크러버 장치는 진공 펌프와 분리되어 설치되므로 일정한 길이를 가진 이송 도관에 의하여 기체가 이송될 수 있다. 이로 인하여 이송 도관의 온도의 유지를 위한 가열 재킷과 같은 가열 수단이 사용되어야 하고, 도관 막힘을 방지를 위한 설비가 갖추어질 필요가 있다. 그러나 이와 같은 구조로 인하여 장치 전체의 구조가 복잡해지면서 운영비용이 증가된다. 특허공개번호 10-2018-0066571은 반응실 내에 다수의 차단벽이 구비된 플라즈마 스크러버 장치에 대하여 개시한다. 또한 특허공개번호 10-2009-0057037은 와류를 형성하여 유해 가스를 처리하는 유해가스 처리 방법에 대하여 개시한다. 진공 펌프를 통하여 플라즈마 반응기로 공급되는 공정 잔여 기체는 플라즈마에 의하여 열분해가 되고, 이후 적절한 후처리 공정을 통하여 정화 기체로 만들어질 수 있다. 플라즈마 반응기에서 열분해를 위하여 예를 들어 1,300 K 이상의 높은 온도가 요구되고, 이와 같은 플라즈마의 발생 및 유지를 위하여 플라즈마 반응기의 구조가 복잡해질 수 있다. 또한 플라즈마 반응기에서 유해 가스의 처리를 위하여 전력 소비량이 증가될 수 있고, 이와 같은 문제점은 웨이퍼의 크기가 증가함에 따라 더욱 커지고 있다. 그러므로 플라즈마 반응기에서 효율적으로 열분해가 되도록 하면서 이와 동시에 전력 소비를 감소시킬 수 있는 기술이 만들어질 필요가 있다. 그러나 선행기술은 이와 같은 방법에 대하여 개시하지 않는다.
본 발명은 선행기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.
선행기술 1: 특허공개번호 10-2018-0066571((주)트리플코어스코리아, 2018.06.19. 공개) 차단벽이 구비된 플라즈마 스크러버 장치 선행기술 2: 특허공개번호 10-2009-0057037(유니셈(주), 2009.07.08. 공개) 플라즈마 스크러버 및 유해 가스 처리 방법
본 발명의 목적은 진공 펌프로부터 공급되는 폐 공정 기체를 적어도 두 개의 서로 다른 경로를 통하여 분산시켜 스크러버의 플라즈마 반응기로 공급하여 열분해가 효율적으로 이루어지도록 하면서 전력 소비가 감소되도록 하는 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치는 공정 챔버로부터 공정 기체를 배출시키는 진공 펌프; 진공 펌프로부터 공급되는 공정 기체를 플라즈마 반응에 의하여 처리하는 플라즈마 반응기; 및 진공 펌프로부터 플라즈마 반응기로 적어도 두 개의 공급 경로를 통하여 공정 기체를 공급하는 분배 수단을 포함한다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 적어도 두 개의 공급 경로는 서로 다른 플라즈마 열 반응 과정에 연결된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 적어도 두 개의 진공 펌프가 각각 적어도 하나의 공급 경로에 연결된다.
본 발명에 따른 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치는 진공 펌프로부터 플라즈마 반응기로 공급되는 기체를 열 반응이 단계적으로 진행되도록 공급하는 것에 의하여 열분해 효율이 향상되도록 한다. 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치는 단계적으로 열 반응이 진행되는 것에 의하여 전력 소비량이 감소되도록 한다. 또한 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치는 플라즈마 반응기의 상태를 탐지하여 폐 공정 기체의 공급이 조절돠어 처리 효율이 향상되도록 한다.
도 1은 본 발명에 따른 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치에서 폐 공정 기체가 공급되는 실시 예를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치의 작동 과정의 실시 예를 도시한 것이다.
아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 아래의 설명에서 서로 다른 도면에서 동일한 도면 부호를 가지는 구성요소는 유사한 기능을 가지므로 발명의 이해를 위하여 필요하지 않는다면 반복하여 설명이 되지 않으며 공지의 구성요소는 간략하게 설명이 되거나 생략이 되지만 본 발명의 실시 예에서 제외되는 것으로 이해되지 않아야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치는 공정 챔버로부터 공정 기체를 배출시키는 진공 펌프(11); 진공 펌프(11)로부터 공급되는 공정 기체를 플라즈마 반응에 의하여 처리하는 플라즈마 반응기(13); 및 진공 펌프(11)로부터 플라즈마 반응기(13)로 적어도 두 개의 공급 경로를 통하여 공정 기체를 공급하는 분배 수단을 포함한다.
진공 펌프(11) 또는 드라이 펌프는 화학 기상 증착(CVD), 에칭(etching), 포토레지스트 또는 클리닝 공정이 진행되는 공정 챔버와 배출 유도관(15)을 통하여 연결될 수 있다. 공정이 진행된 이후 남은 폐 공정 기체가 진공 펌프(11)를 통하여 플라즈마 반응기(13)로 유도될 수 있다. 진공 펌프(11)와 플라즈마 반응기(13)가 연결되는 경로에 분배 밸브(12)가 설치될 수 있고, 분배 밸브(12)로부터 적어도 두 개의 경로를 통하여 공정 기체가 플라즈마 반응기(13)로 유도될 수 있다. 플라즈마 반응기(13)는 플라즈마의 발생을 위한 플라즈마 토치와 같은 발생 수단이 설치될 수 있다. 플라즈마 발생기(13)로 유도되는 과불화탄소류 기체(PFCs), SiH4, SiF4, pH, CH, HF, HCl을 비롯한 다양한 유해 성분을 포함하는 공정 기체가 플라즈마에 의하여 열 반응 또는 열분해가 될 수 있다. 이와 같은 유해 기체를 포함하는 공정 기체는 적어도 두 개의 공급 경로(121, 122)를 통하여 플라즈마 반응기(13)로 유도될 수 있다. 구체적으로 진공 펌프(11)와 분배 밸브(12)가 공급 유도관(111)에 의하여 연결되고, 분배 밸브(12)에 의하여 공급 유도관(111)을 통하여 공급되는 공정 기체가 서로 다른 공급 경로(121, 122)를 통하여 플라즈마 반응기(13)로 공급될 수 있다. 플라즈마 반응기(13)의 내부 온도 또는 플라즈마 반응 상태는 공간적으로 또는 시간적으로 변할 수 있다. 서로 다른 공급 경로(121, 122)를 통하여 유도되는 공급 기체는 순차적으로 열분해 또는 열 반응이 진행되도록 하거나, 공정 기체를 시간적으로 또는 공간적으로 분산시키는 방법으로 반응이 진행되도록 할 수 있다. 예를 들어 제1 공급 경로(121)을 통하여 공급되는 공정 기체는 플라즈마 발생기(13)의 내부에서 일차로 열분해가 될 수 있고, 제2 공급 경로(122)를 통하여 공급되는 공정 기체는 플라즈마 발생기(13)의 내부에서 이차적으로 열분해가 될 수 있다. 제1, 2 공급 경로(121, 122)는 플라즈마 발생기(13)의 서로 다른 위치에 연결될 수 있고, 서로 다른 위치에서 순차적으로 열 반응이 진행될 수 있다. 제1, 2 공급 경로(121, 122)를 통하여 공급되는 공정 기체의 양은 플라즈마 반응기(13)의 내부 상태에 따라 결정될 수 있다. 플라즈마 반응기(13)의 내부 상태는 예를 들어 내부의 온도 분포, 압력 분포 또는 열 반응 속도에 의하여 결정될 수 있다. 분배 밸브(12)는 미리 결정된 방법에 따라 제1, 2 공급 경로(121, 122)의 개폐 수준을 결정할 수 있다. 예를 들어 분배 밸브(12)에 개폐 제어 유닛(16)이 결합될 수 있고, 플라즈마 반응기(13)에 대한 탐지 정보가 개폐 제어 유닛(16)으로 전송되어 분배 밸브(12)의 개폐 수준이 결정될 수 있다. 플라즈마 발생기(13)에서 분해가 된 공정 기체는 후처리 모듈(14)에서 다양한 방법으로 처리되어 유해성이 제거되어 외부로 배출될 수 있다.
진공 펌프(11)에 의한 플라즈마 발생기(13)에 대한 공정 기체의 공급 조절은 다양한 방법으로 이루어질 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, 적어도 두 개의 진공 펌프(11_1, 11_2)에 의하여 적어도 두 개의 플라즈마 발생기(13_1, 13_2)로 무해 처리가 되어야 하는 공정 기체가 공급될 수 있다. 공정 챔버와 연결된 배출 유도관(15)을 통하여 공정 기체가 체류 유닛(22)으로 유도될 수 있다. 체류 유닛(22)은 역류 방지 기능을 가지면서 공정 기체가 정해진 온도로 유지되도록 한다. 체류 유닛(22)은 유동 조절 관(221)에 의하여 분배 조절 유닛(21)가 연결될 수 있다. 분배 조절 유닛(21)은 서로 다른 조절 관(211, 212)을 통하여 각각의 진공 펌프(11_1, 11_2)와 연결될 수 있다. 분배 조절 유닛(21)에 의하여 서로 다른 진공 펌프(11_1, 11_2)와 연결되는 경로가 조절될 수 있고, 각각의 진공 펌프(11_1, 11_2)는 서로 다른 플라즈마 반응기(13_1, 13_2)로 공정 기체를 공급하거나, 하나의 플라즈마 반응기(13_1, 13_2)의 서로 다른 영역으로 공정 기체를 공급할 수 있다. 분배 조절 유닛(21)은 각각 진공 펌프(11_1, 11_2)로 유입되는 공정 기체의 양 및 시간을 조절할 수 있고, 이에 의하여 각각의 진공 펌프(11_1, 11_2)의 작동 효율을 향상시킬 수 있다. 제1, 2 진공 펌프(11_1, 11_2)를 통하여 동일하거나, 서로 다른 양의 공정 기체가 유도되거나, 서로 다른 양의 공정 기체가 유도될 수 있다. 예를 들어 분배 유도 유닛(21)에 의하여 주기적으로 공정 기체가 유도되거나, 유도되는 기체의 양의 주기적으로 조절될 수 있다. 이에 의하여 하나의 진공 펌프(11_1 또는 11_2)가 과도한 부하로 인하여 효율이 저하되는 것이 방지될 수 있다. 플라즈마 발생을 위한 수단은 각각 독립적으로 형성된 적어도 두 개의 플라즈마 발생기(13_1, 13_2)로 이루어질 수 있다.또는 하나의 플라즈마 발생 수단에 서로 다른 온도 조건을 제1, 2 영역으로 이루어질 수 있다. 예를 들어 제1, 2 영역에서 제1, 2 열 반응이 진행될 수 있고, 각각의 영역으로 공급되는 공정 기체의 양이 제1, 2 진공 펌프(11_1, 11_2)에 의하여 조절될 수 있다. 제1, 2 플라즈마 발생기(13_1, 13_2)에서 분해된 유해 기체는 유동 수단(23)에 의하여 후처리 모듈(15)로 이송될 수 있다. 이후 후처리 모듈(15)에서 처리되어 유해 성분이 제거된 기체는 배출 경로(24)를 통하여 외부로 배출될 수 있다.
진공 펌프(11_1, 11_2)의 수 또는 플라즈마 반응기(13_1, 13_2)의 수는 공정 기체의 배출 양에 따라 다양하게 설정될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치에서 폐 공정 기체가 공급되는 실시 예를 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 플라즈마 발생기(13)에서 유해 기체의 열분해를 위하여 플라즈마 토치와 같은 플라즈마 발생 수단(32)이 설치될 수 있고, 플라즈마 발생 수단(32)에서 발생된 플라즈마가 플라즈마 반응기(13)로 유도될 수 있다. 또는 플라즈마 발생 수단(32)이 플라즈마 발생기(13)의 내부에 설치되어 공정 기체에 포함된 유해 성분의 처리를 위하여 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 플라즈마 발생 수단(32)으로부터 발생되는 플라즈마(PL)가 유도되는 플라즈마 유도 부분으로 제1 유입 관(311)을 통하여 공정 기체의 일부가 유도되어 플라즈마(PL)와 함께 플라즈마 반응기(13)로 유도될 수 있다. 이에 의하여 일차로 공정 기체에 포함된 유해 성분의 열분해가 진행될 수 있다. 플라즈마(PL)와 공정 기체가 유동되는 방향을 기준으로 제1 유입 관(311)의 아래쪽에 제2 유입 관(311)이 형성될 수 있다. 제2 유입 관(312)을 통하여 다른 유도 경로를 통하여 유도된 유해 성분을 포함하는 공정 기체가 유입될 수 있다. 플라즈마(PL)의 표면 온도는 예를 들어 900 내지 3,500 K의 온도를 가질 수 있고, 중심 부분은 10,000 K 이상의 온도로 될 수 있다. 플라즈마 반응기(13)의 내부에서 플라즈마(PL)가 공정 기체와 함께 유동되면서 온도가 변할 수 있고, 열분해에 의하여 플라즈마(PL)의 상태가 변할 수 있다. 제2 유입 관(312)은 온도 변화 또는 열분해 속력에 따라 주입 위치가 결정될 수 있고, 제2 유입 관(312)은 통하여 유입되는 공정 기체에 의하여 이차 열분해 또는 열 반응이 진행될 수 있다. 이후 열분해가 된 공정 기체는 냉각 수단이 배치된 유동 모듈(33)을 통하여 예를 들어 중화 처리 모듈(34)로 유도되어 처리된 이후 배출 경로(24)를 통하여 배출될 수 있다. 플라즈마 반응기(13)은 상압 플라즈마 반응기, 저압 플라즈마 반응기, 저온 플라즈마 반응기 또는 이와 유사한 다양한 형태의 반응기가 될 수 있다. 각각의 플라즈마 반응기(13)의 구조에 따라 제1, 2 유입 관(312)의 위치가 적절하게 설정될 수 있고 이에 의하여 본 발명은 제한되지 않는다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치의 작동 과정의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4를 참조하면, 유해 성분을 포함하는 공정 기체의 유도를 위한 적어도 두 개의 공급 경로가 형성될 수 있고, 각각의 공급 경로를 통하여 공급되는 공정 기체의 양이 제어 모듈(41)에 의하여 제어될 수 있다. 가공 챔버로부터 배출되는 공정 기체의 양 또는 압력이 배출 압력 유닛(42)에 의하여 탐지될 수 있다. 또한 플라즈마 발생 수단(32)에서 발생되는 플라즈마에 대한 정보 및 플라즈마 반응기(13)의 내부 상태가 발생 레벨 유닛(44) 및 온도 기울기 유닛(45)에 의하여 탐지되어 제어 유닛(41)과 밸브 제어 유닛(43)으로 전송될 수 있다. 플라즈마 반응기(13)에서 열분해가 진행될 수 있고, 열분해의 진행에 따른 온도 변화가 온도 기울기 유닛(45)에 의하여 탐지될 수 있다. 온도 기울기 유닛(45)에 의하여 탐지된 정보에 기초하여 이차 열 반응을 위한 공정 기체의 공급 수준이 산출되어 제어 유닛(41) 및 밸브 제어 유닛(43)으로 전송될 수 있다. 각각의 공급 경로의 개폐 수준을 결정하는 제어 밸브는 전자식 비례 제어 밸브 구조가 될 수 있고, 온도 기울기 유닛(45)으로부터 전송된 정보에 기초하여 개폐 수준이 조절될 수 있다.
플라즈마 발생기(13)에 의한 열분해는 다양한 방법으로 이루어질 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치는 진공 펌프로부터 플라즈마 반응기로 공급되는 기체를 열 반응이 단계적으로 진행되도록 공급하는 것에 의하여 열분해 효율이 향상되도록 한다. 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치는 단계적으로 열 반응이 진행되는 것에 의하여 전력 소비량이 감소되도록 한다. 또한 본 발명에 따른 플라즈마 스크러버 장치는 플라즈마 반응기의 상태를 탐지하여 폐 공정 기체의 공급이 조절되어 처리 효율이 향상되도록 한다.
위에서 본 발명은 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다.
11: 진공 펌프 12: 분배 밸브
13: 플라즈마 반응기 14: 후처리 모듈
15: 배출 유도관 16: 개폐 제어 유닛
21: 분배 조절 유닛 22: 체류 유닛
23: 유동 수단 24: 배출 경로
32: 플라즈마 발생 수단
41: 제어 모듈 42: 배출 압력 유닛
111: 유도관 121, 122: 공급 경로
211, 212: 조절 유닛 311, 312: 유입관

Claims (1)

  1. 공정 챔버로부터 공정 기체를 배출시키는 배출 유도관(15)에 연결된 진공 펌프(11);
    진공 펌프(11)로부터 공급되는 공정 기체를 플라즈마 반응에 의하여 처리하는 플라즈마 반응기(13); 및
    진공 펌프(11)로부터 플라즈마 반응기(13)로 적어도 두 개의 공급 경로를 통하여 공정 기체를 공급하는 분배 수단을 포함하고,
    상기 적어도 두 개의 공급 경로는 플라즈마 반응기(13)의 서로 다른 위치에 연결되어 플라즈마 반응기(13)의 온도 분포, 압력 분포 또는 열 반응 속도에 따라 공급되는 공정 기체의 양이 결정되고, 적어도 두 개의 진공 펌프(11)가 각각 적어도 하나의 공급 경로에 연결되는 것을 특징으로 하는 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치.
KR1020210135151A 2019-07-12 2021-10-12 공급 분배 구조의 플라즈마 스크러버 장치 KR20210127659A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20090057037A (ko) 2006-08-24 2009-06-03 깁스 테크놀로지스 리미티드 수륙양용차
KR20180066571A (ko) 2016-12-09 2018-06-19 (주)트리플코어스코리아 차단벽이 구비된 플라즈마 스크러버 장치

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