KR101957440B1 - 플라즈마 반응을 이용한 유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비 - Google Patents

플라즈마 반응을 이용한 유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비 Download PDF

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Abstract

본 발명에 의하면, 공정챔버에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스를 배출하는 진공펌프와 상기 진공펌프에 의해 배출되는 상기 배기가스를 처리하는 스크러버의 사이에 설치되는 배관 장치에 있어서, 상기 진공펌프와 상기 스크러버를 연결하고 상기 배기가스가 유동하는 통로를 제공하는 연결 배관; 및 상기 연결 배관과 상기 진공펌프 사이 또는 상기 연결 배관 상에 설치되는 유해가스 처리기를 포함하며, 상기 유해가스 처리기는 상기 유해가스를 플라즈마 반응을 이용하여 분해하는 플라즈마 반응부를 구비하며, 상기 통로에서 상기 배기가스에 포함된 성분들 중 승화가능 성분이 승화하여 상기 연결 배관의 내부에 쌓이는 것을 방지하기 위하여, 상기 유해가스 처리기는 상기 진공펌프의 후단과 상기 연결 배관 상에서 상기 승화가능 성분의 승화 조건이 발생되는 지점의 사이의 위치에 설치되는 배관 장치가 제공된다.

Description

플라즈마 반응을 이용한 유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비 {PIPING APPARATUS WITH HARMFUL GAS TREATMENT APPRATUS USING PLASMA REACTION AND FACILITY FOR TREATING HARMFUL GAS HAVING THE SAME}
본 발명은 공정챔버에서 배출되는 배기가스에 포함된 유해가스를 처리하는 기술에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 플라즈마 반응과 촉매를 이용하여 유해가스를 처리하는 유해가스 처리기를 구비하는 배관장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비에 관한 것이다.
일반적으로 반도체나 디스플레이 제조를 위해서는 저압의 공정챔버 내에 다양한 원료들을 주입하고, 애싱(ashing), 증착 식각, 사진, 세정 및 질화 등의 공정들을 수행한다. 이러한 공정들에서는 각종 휘발성 유기화합물, 산, 악취 유발 기체, 발화성 물질, 온실가스나 PFCs와 같은 환경규제 물질에 해당하는 물질들이 포함된 유해가스가 생성되거나 이용된다.
특히, CF4, SF6, C2F6, C3F8 등 PFCs(Perfluorocarbon; 과불화탄소)로 지칭되는 가스들은 식각 공정, 박막 증착 및 반응기 세척 단계 등에서 광범위하게 사용되고 있으며, 이러한 PFCs는 대부분 비활성 기체로 대기 중 자연 분해 시간이 매우 길고 오존층 파괴의 주범으로 인식되고 있어서 반도체 공정에서의 사용에 강력한 규제가 진행되고 있다.
일반적으로 공정챔버에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스는 진공펌프를 통해 배출되고 배출된 배기가스는 스크러버에서 처리되는데, 진공펌프와 스크러버를 연결하는 배관에서 파우더가 발생하여 문제가 되고 있다. 이는 배관을 통과하는 배기가스에 포함된 염화암모늄(NH4Cl)과 같은 가스가 온도 하강 또는 압력 상승에 따른 승화로 인해 발생하는 것이다.
대한민국 공개특허 제10-2006-0065823호 "배기 라인의 클리닝 방법" (2006.06.14.)
본 발명의 목적은 진공펌프와 스크러버를 연결하는 배관에서 배기가스의 일부 성분이 승화하여 파우더가 발생하는 것을 방지하는 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비를 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 공정챔버에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스를 배출하는 진공펌프와 상기 진공펌프에 의해 배출되는 상기 배기가스를 처리하는 스크러버의 사이에 설치되는 배관 장치에 있어서, 상기 진공펌프와 상기 스크러버를 연결하고 상기 배기가스가 유동하는 통로를 제공하는 연결 배관; 및 상기 연결 배관과 상기 진공펌프 사이 또는 상기 연결 배관 상에 설치되는 유해가스 처리기를 포함하며, 상기 유해가스 처리기는 상기 유해가스를 플라즈마 반응을 이용하여 분해하는 플라즈마 반응부를 구비하며, 상기 통로에서 상기 배기가스에 포함된 성분들 중 승화가능 성분이 승화하여 상기 연결 배관의 내부에 쌓이는 것을 방지하기 위하여, 상기 유해가스 처리기는 상기 진공펌프의 후단과 상기 연결 배관 상에서 상기 승화가능 성분의 승화 조건이 발생되는 지점의 사이의 위치에 설치되는 배관 장치가 제공된다.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 공정챔버에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스를 배출하는 진공펌프; 상기 진공펌프에 의해 배출되는 상기 배기가스를 처리하는 스크러버; 및 상기 진공펌프와 상기 스크러버를 연결하는 연결 배관과, 상기 연결 배관과 상기 진공펌프 사이 또는 상기 연결 배관 상에 설치되는 유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치를 포함하며, 상기 유해가스 처리기는 상기 유해가스를 플라즈마 반응을 이용하여 분해하는 플라즈마 반응부를 구비하며, 상기 통로에서 상기 배기가스에 포함된 성분들 중 승화가능 성분이 승화하여 상기 연결 배관의 내부에 쌓이는 것을 방지하기 위하여, 상기 유해가스 처리기는 상기 진공펌프의 후단과 상기 연결 배관 상에서 상기 승화가능 성분의 승화 조건이 발생되는 지점의 사이의 위치에 설치되는 유해가스 처리설비가 제공된다.
본 발명에 의하면 앞서서 기재한 본 발명의 목적을 모두 달성할 수 있다. 구체적으로는, 본 발명에 따르면, 진공펌프와 스크러버을 연결하는 배관 상에서 플라즈마 반응부와 촉매 처리부를 구비하는 유해가스 처리기가 진공펌프의 후단과 배기가스에 포함된 승화가능 성분의 승화 조건이 형성되지 않는 위치의 사이에 설치되므로 배관 내에서 배기가스의 일부 성분이 승화되어서 파우더를 형성하는 것이 방지된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 처리장치를 이용한 유해가스 처리설비의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1에서 유해가스 처리장치가 없는 경우 진공펌프와 스크러버를 연결하는 배관의 길이에 대한 온도의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 3은 도 1에서 유해가스 처리장치가 없는 경우 진공펌프와 스크러버를 연결하는 배관의 길이에 대한 압력의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 4는 도 1의 유해가스 처리장치를 도시한 종단면도이다.
도 5는 염화암모늄의 승화 조건을 보여주는 온도-압력 그래프이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.
도 1에는 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 처리장치를 이용한 유해가스 처리설비의 구성이 블록도로서 도시되어 있다. 도 1을 참조하면, 유해가스 처리설비는 처리대상 유해가스를 발생시키는 공정챔버(C)와, 공정챔버(C)에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스를 배출시키기 위한 진공펌프(P)와, 진공펌프(P)로부터 배출되는 배기가스를 처리하는 스크러버(S)와, 진공펌프(P)와 스크러버(S)의 사이에 설치되는 배관 장치(10)를 포함한다. 본 발명의 특징은 진공펌프(P)와 스크러버(S)의 사이에 설치되는 배관 장치(10)로서, 도 1에 도시된 유해가스 처리설비에서 배관 장치(10)를 제외한 나머지 구성들인 공정챔버(C), 진공펌프(P) 및 스크러버(S)는 본 발명과 관련된 통상의 기술범위 내에서 변경되고 수정될 수 있다.
배관 장치(10)는 진공펌프(P)와 스크러버(S)를 연결하는 연결 배관(100a)과, 연결 배관(100a) 상에 설치되는 유해가스 처리기(100)를 구비한다.
연결 배관(100a)은 진공펌프(P)와 스크러버(S)를 연결하며, 연결 배관(100a)을 통해 진공펌프(P)로부터 배출되는 배기가스가 스크러버(S)로 유입된다. 연결 배관(100a) 상에 유해가스 처리기(100)가 설치된다.
도 2에는 연결 배관(100a)에서 유해가스 처리기(100)가 없는 경우 연결 배관(100a)을 통과하는 배기가스의 온도를 보여주는 그래프가 도시되어 있다. 도 2에서 가로축은 연결 배관(100a) 상에서 진공펌프(P)로부터의 거리를 의미하며, 세로축은 이에 대응한 위치에서 배기가스의 온도를 의미한다. 도 2에서 알 수 있는 바와 같이, 연결 배관(100a)을 통과하는 배기가스의 온도는 진공펌프(P)로부터 멀어지면서 감소한다.
도 3에는 연결 배관(100a)에서 유해가스 처리기(100)가 없는 경우 연결 배관(100a)을 통과하는 배기가스의 압력을 보여주는 그래프가 도시되어 있다. 도 3에서 가로축은 연결 배관(100a) 상에서 진공펌프(P)로부터의 거리를 의미하며, 세로축은 이에 대응한 위치에서의 배기가스의 압력을 의미한다. 도 3에서 알 수 있는 바와 같이, 연결 배관(100a)을 통과하는 배기가스의 압력은 대체로 일정하게 유지된다.
연결 배관(100a) 상에서 유해가스 처리기(100)는 배기가스의 온도 및 압력 조건에 따라 적합한 위치에 설치된다.
유해가스 처리기(100)는 연결 배관(100a) 상에 설치되어서 연결 배관(100a)을 통해 유동하는 배기가스에 포함된 유해가스를 플라즈마 반응과 촉매를 이용하여 처리하며, 연결 배관(100a)에서 파우더가 발생하는 것을 방지한다. 도 4에는 유해가스 처리기(100)의 일 실시예가 종단면도로서 도시되어 있다. 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해가스 처리장치(100)는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 반응이 일어나는 플라즈마 반응부(110)와, 플라즈마 반응부(110)보다 하류에 위치하고 촉매에 의해 유해가스가 처리되는 촉매 처리부(160)를 포함한다.
플라즈마 반응부(110)는 가스의 유로 상에서 촉매 처리부(160)보다 상류에 위치한다. 플라즈마 반응부(110)는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 반응을 일으킨다. 플라즈마 반응부(110)는 연결 배관(도 1의 100a) 상에서 처리대상 유해가스를 포함하는 배기가스가 유입되는 배기가스 유입구(111)와, 배기가스 유입구(111)보다 하류에 위치하고 플라즈마 방전이 일어나는 플라즈마 방전부(120)와, 배기가스 유입구를 통해 유입된 처리대상 유해가스를 함유하는 배기가스를 플라즈마 방전부(120)로 유입시키는 가스 도입 유로(140)와, 플라즈마 방전부(120)보다 하류에 위치하며 하류로 갈수록 통로 면적이 넓어지는 통로 확장부(150)를 구비한다.
배기가스 유입구(111)는 플라즈마 반응부(110)의 선단에 위치하며, 배기가스 유입구(111)를 통해 처리대상 유해가스를 함유하는 배기가스가 가스 도입 유로(140)로 유입된다. 본 실시예에서는 배기가스 유입구(111)를 통해 유입되는 배기가스는 사불화탄소(CF4)와 같은 과불화화합물(PFCs)과 염화암모늄(NH4Cl) 가스를 포함하는 것으로 설명하는데, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 염화암모늄(NH4Cl) 가스는 배기가스에 함유된 질소가스(N2)가 다른 성분들과 결합하여 형성되는 것이다.
플라즈마 방전부(120)는 배기가스 유입구(111)보다 하류에 위치하며 플라즈마 반응을 위한 플라즈마 방전을 일으킨다. 플라즈마 방전부(120)는 방전 공간(121)에 설치되는 점화 전극(130)을 구비한다. 방전 공간(121)은 대체로 수평으로 연장되는 원통 형상으로서, 방전 공간(121)에는 점화 전극(130)이 설치되며, 방전 공간(121)은 배기가스의 유동방향 후단에서 통로 확장부(150)와 연통된다. 방전 공간(121)으로 가스 도입 유로(140)로부터 배기가스가 유입된다. 방전 공간(121)에서 점화 전극(130)에 의해 플라즈마 방전이 일어나며, 플라즈마 방전에 의해 배기가스에 포함된 유해가스가 분해된다. 방전 공간(121)으로는 처리대상 유해가스가 가스 도입 유로(140)와 연통되고 방전 공간(121)의 내주면에 위치하는 복수개의 배기가스 주입구(125)들을 통해 유입되는데, 도시되지는 않았으나, 복수개의 배기가스 주입구(125)들 각각은 방전 공간(121)으로 유입되는 배기가스가 스월(swirl)을 형성하도록 방전 공간(121)의 중심축선에서 벗어나도록 연장된다. 방전 공간(121)에서 배기가스가 스월을 형성함으로써 플라즈마 반응 구간이 균일하게 형성될 수 있다. 또한, 방전 공간(121)으로는 점화가스(본 실시예에서는 질소가스(N2))가 점화가스 주입구(127)를 통해 주입된다. 도시되지는 않았으나, 점화가스 주입구(127)도 방전 공간(121)에서 스월을 형성하도록 구성된다. 점화 전극(130)은 방전 공간(121)의 중심에 위치하여 플라즈마 방전을 일으킨다. 본 실시예에서는 점화 전극(121)의 저전력의 직류 전원이 인가되어서 플라즈마 방전이 발생하는 것으로 설명하는데, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 점화 전극(130)에 의한 플라즈마 방전에 의해 점화 전극(130)의 끝단에서 플라즈마가 강하게 형성되게 된다.
가스 도입 유로(140)는 배기가스 유입구(111)를 통해 유입된 배기가스를 방전 공간(121)의 원주방향 바깥으로 이동시킨다. 가스 도입 유로(140)에 의해 방전 공간(121)의 원주방향 바깥으로 이동된 배기가스는 배기가스 주입구(125)를 통해 방전 공간(121)으로 스월을 형성하도록 주입된다.
통로 확장부(150)는 플라즈마 방전부(120)보다 하류에 위치하며 방전 공간(121)과 이어진다. 통로 확장부(150)는 하류로 갈수록 통로 면적이 넓어지는 깔대기 형상으로서, 통로 확장부(150)에서 스월 형태의 플라즈마가 발생하여 플라즈마 운동성이 극대화되고, 온도가 촉매 처리부(160)까지 전체적으로 전달될 수 있도록 한다. 통로 확장부(150)를 통과한 가스는 촉매 처리부(160)로 유입된다.
촉매 처리부(160)는 플라즈마 반응부(110)를 거쳐 처리된 유해가스를 촉매를 이용하여 분해하여 처리한다. 촉매 처리부(160)는 촉매 수용 공간(161)에 채워진 촉매(170)를 구비한다.
촉매 수용 공간(161)은 대체로 수평으로 연장되는 원통형상으로서, 수평으로 배치되는 양단부에 가스 유입부(162)와 가스 배출부(163)가 형성된다. 가스 유입부(162)는 통로 확장부(150)와 연결되어서, 가스 유입부(162)를 통해 통로 확장부(150)를 통과한 저농도의 유해가스를 함유하는 배기가스가 촉매 수용 공간(161)으로 유입된다.
촉매(170)는 촉매 수용 공간(161)에 채워진다. 촉매는 유해가스를 처리하는 통상적인 것으로서, 유해가스의 선택적 흡착 및 표면화학반응을 통해 유해가스를 분해한다.
유해가스 처리기(100)는 연결 배관(100a) 내에 파우더가 발생하지 않도록 연결 배관(100a) 상에서 적절한 위치에 설치되는데, 이하에서 유해가스 처리기(100)의 설치 위치가 설명된다. 본 실시예에서는 연결 배관(100a)에서 염화암모늄(NH4Cl) 가스가 승화하여 파우더를 발생시키는 것을 예를 들어 설명한다. 도 5에는 염화암모늄(NH4Cl) 가스가 승화하여 파우더를 형성하는 온도 및 압력(분압) 조건이 도시되어 있다. 예를 들어, 700Torr의 압력에서 250℃ 이하의 온도에서는 염화암모늄(NH4Cl) 가스가 승화하여 파우더를 형성하게 된다. 이와 같은 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 조건에 기초하여, 연결 배관(100a)에서 배기가스의 온도가 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 온도(도 2에서 T1)에 대응하는 위치(도 1과 도 2에서 P1)에 설치된다. 예를 들어서, 연결 배관(100a) 내에서 배기가스의 압력이 700Torr인 경우 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 온도인 250℃이 위치에 유해가스 처리기(100)가 설치됨으로써, 유해가스 처리기(100)의 플라즈마 반응에 의해 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화가 방지된다. 본 실시예에서는 유해가스 처리기(100)가 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 온도에 대응하는 위치(P1)에 설치되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 진공펌프(P)의 후단과 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 온도에 대응하는 위치(P1)의 사이에 설치될 수도 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다. 또한, 본 실시예에서는 유해가스 처리기(100) 전체가 연결 배관(100a) 상에서 진공펌프(P)의 후단과 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 온도에 대응하는 위치(P1)의 사이에 설치되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 유해가스 처리기(100)에서 플라즈마 반응부(110)가 연결 배관(100a) 상에서 진공펌프(P)의 후단과 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 승화 온도에 대응하는 위치(P1)의 사이에 설치될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.
본 실시예에서는 유해가스 처리기(100)가 플라즈마 반응부(110)와 촉매 처리부(160)를 구비하는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 플라즈마 반응부(110) 만으로 구성될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.
본 실시예에서는 승화되어서 파우더를 발생시키는 가스가 염화암모늄(NH4Cl) 가스인 것으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니며 승화되어서 파우더를 발생시킬 수 있는 다른 종류의 가스에 대해서도 동일하게 적용되고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.
상기 실시예에서는 유해가스 처리기(100)가 연결 배관(100a) 상에 배치되는 것으로 설명하지만, 이와는 달리 진공펌프(P)의 후단과 연결 배관의 선단의 사이에 위치하도록 배치될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다. 유해가스 처리기가 연결 배관의 선단에 위치하도록 배치되는 경우 유해가스 처리기는 진공펌프(P)와 일체로 제작되어서 진공펌프에 모듈화될 수 있다는 장점을 갖게 된다.
본 실시예에서는 유해가스 처리기(100)가 진공펌프(P)의 외부에 설치되는 것으로 설명하는데, 이와는 달리 진공펌프(P)의 내부(진공펌프의 케이스 내부를 의미)에 설치될 수도 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것이다.
유해가스 처리기가 진공펌프의 외부에 설치되는 경우 수평으로 연장되는 연결 배관에 설치되거나, 수직으로 연장되는 연결 배관 상에 설치되거나, 수평으로 연장되는 배관에 경사지게 연결되도록 설치될 수 있는데, 유해가스 처리기가 진공펌프의 외부에 설치되는 경우 유해가스 처리기의 교체와 같은 유지 보수의 측면에서 유리하며, 수평으로 연장되는 배관에 설치되는 경우 특히 배관 길이를 최소화할 수 있다. 유해가스 처리기가 진공펌프의 내부에 설치되는 경우 장치의 크기를 최소화할 수 있다는 장점이 있다.
이상 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 실시예는 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않고 수정되거나 변경될 수 있으며, 본 기술분야의 통상의 기술자는 이러한 수정과 변경도 본 발명에 속하는 것임을 알 수 있을 것이다.
10 : 배관 장치 100 : 유해가스 처리기
100a : 연결 배관 110 : 플라즈마 반응부
111 : 배기가스 유입구 120 : 플라즈마 방전부
121 : 방전 공간 125 : 배기가스 주입구
127 : 점화가스 주입구 130 : 점화 전극
140 : 가스 도입 유로 150 : 통로 확장부
160 : 촉매 처리부 161 : 촉매 수용 공간
170 : 촉매

Claims (9)

  1. 공정챔버에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스를 배출하는 진공펌프와 상기 진공펌프에 의해 배출되는 상기 배기가스를 처리하는 스크러버의 사이에 설치되는 배관 장치에 있어서,
    상기 진공펌프와 상기 스크러버를 연결하고 상기 배기가스가 유동하는 통로를 제공하는 연결 배관; 및
    상기 연결 배관과 상기 진공펌프 사이 또는 상기 연결 배관 상에 설치되는 유해가스 처리기를 포함하며,
    상기 유해가스 처리기는 상기 유해가스를 플라즈마 반응을 이용하여 분해하는 플라즈마 반응부를 구비하며,
    상기 통로에서 상기 배기가스에 포함된 성분들 중 승화가능 성분이 승화하여 상기 연결 배관의 내부에 쌓이는 것을 방지하기 위하여, 상기 유해가스 처리기는 상기 진공펌프의 후단과 상기 연결 배관 상에서 상기 승화가능 성분의 승화 조건이 발생되는 지점의 사이의 위치에 설치되며,
    상기 배기가스는 상기 진공펌프의 후단으로부터 토출된 후 상기 유해가스 처리기가 설치된 위치까지 온도가 낮아지면서 유동하며,
    상기 승화 조건은 상기 승화가능 성분의 압력에 대한 온도조건이고,
    상기 유해가스 처리기는, 상기 연결 배관 내에서 상기 배기가스의 온도가 상기 승화가능 성분의 압력에 대한 승화 온도로 낮아지는 지점과 상기 진공펌프의 후단 사이에 배치되는 배관 장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 승화가능 성분은 염화암모늄(NH4Cl) 가스인 배관 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 공정챔버에서 발생한 유해가스를 포함하는 배기가스를 배출하는 진공펌프;
    상기 진공펌프에 의해 배출되는 상기 배기가스를 처리하는 스크러버; 및
    상기 진공펌프와 상기 스크러버를 연결하고 상기 배기가스가 유동하는 통로를 제공하는 연결 배관과, 상기 연결 배관과 상기 진공펌프 사이 또는 상기 연결 배관 상에 설치되는 유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치를 포함하며,
    상기 유해가스 처리기는 상기 유해가스를 플라즈마 반응을 이용하여 분해하는 플라즈마 반응부를 구비하며,
    상기 통로에서 상기 배기가스에 포함된 성분들 중 승화가능 성분이 승화하여 상기 연결 배관의 내부에 쌓이는 것을 방지하기 위하여, 상기 유해가스 처리기는 상기 진공펌프의 후단과 상기 연결 배관 상에서 상기 승화가능 성분의 승화 조건이 발생되는 지점의 사이의 위치에 설치되며,
    상기 배기가스는 상기 진공펌프의 후단으로부터 토출된 후 상기 유해가스 처리기가 설치된 위치까지 온도가 낮아지면서 유동하며,
    상기 승화 조건은 상기 승화가능 성분의 압력에 대한 온도조건이고,
    상기 유해가스 처리기는, 상기 연결 배관 내에서 상기 배기가스의 온도가 상기 승화가능 성분의 압력에 대한 승화 온도로 낮아지는 지점과 상기 진공펌프의 후단 사이에 배치되는 유해가스 처리설비.
  7. 삭제
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 승화가능 성분은 염화암모늄(NH4Cl) 가스인 유해가스 처리설비.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 유해가스 처리기는 상기 연결 배관 상에서 상기 염화암모늄(NH4Cl) 가스의 압력이 700Torr 이하이고, 상기 배기가스의 온도가 250℃ 이상인 구간에 설치되는 유해가스 처리설비.
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