KR20210121022A - Optical film, polarizing plate, and image display device - Google Patents
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Abstract
수지층 A를 포함하는 광학 필름으로서, 상기 수지층 A는, 수지 A로 형성되고, 상기 수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 50 중량% 이상과, 자외선 흡수제를 포함하고, 상기 광학 필름은, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이, 4.0%/nm 이상인, 광학 필름.An optical film comprising a resin layer A, wherein the resin layer A is formed of a resin A, wherein the resin A contains 50 wt% or more of an alicyclic structure-containing polymer and a UV absorber, the optical film comprising: The light transmittance in a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less is 10% or less, the light transmittance in a wavelength of 430 nm is 80% or more, and the increase rate of the light transmittance in a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less is 4.0%/nm or more, optical film.
Description
본 발명은, 광학 필름, 편광판, 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, and an image display device.
화상 표시 장치는, 외광의 반사를 저감하기 위한 원 편광판을 구비하는 경우가 있다. 화상 표시 장치는, 자외선 강도가 큰 옥외 등의 환경하에서 사용될 수 있기 때문에, 편광자를 자외선으로부터 보호하기 위하여, 자외선 흡수제를 함유하는 광학 필름이 화상 표시 장치에 구비되는 경우가 있다(특허문헌 1).An image display apparatus may be equipped with the circular polarizing plate for reducing reflection of external light. Since an image display apparatus can be used in environments, such as outdoors with a large ultraviolet-ray intensity, in order to protect a polarizer from an ultraviolet-ray, the optical film containing a ultraviolet absorber may be equipped in an image display apparatus (patent document 1).
화상 표시 장치에 구비되는 광학 필름은, 표시되는 화상의 색에 미치는 영향을 저감하기 위하여, 가시광 영역의 광의 광선 투과율이 높은 것이 바람직하다고 여겨져 왔다. 예를 들어, 가시광 영역의 광의 광선 투과율의 흡수 손실이 크면, 가시광 영역에 있어서 어느 특정한 파장의 광 흡수가 커지게 되어, 화면을 백색 표시 상태로 하였을 때에 색감이 있는 화상이 되는 경우가 있다.In order to reduce the influence on the color of a displayed image, the optical film with which the image display apparatus is equipped has considered that it is preferable that the light transmittance of the light of a visible region is high. For example, when the absorption loss of the light transmittance of light in the visible region is large, the absorption of light at a specific wavelength in the visible region becomes large, and a color image may be obtained when the screen is set to a white display state.
한편, 화상 표시 장치의 원 편광판에, λ/4판 등의 위상차 필름을 사용하는 경우, 위상차 필름의 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re의 파장 분산에 따라서는, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우의 색상이, 본래의 색으로부터 어긋나는 경우가 있다. 예를 들어, 위상차 필름의 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re가, 순파장 분산성인 경우, 화상 표시 장치의 반사 전극 등에 의해 반사되는 보라 ~ 청색 영역에 있는 파장의 광이, 편광자를 투과하여 시인됨으로써, 화면을 흑색 표시 상태로 하면, 화면이, 푸른 기를 띠는 경우가 있다. 여기서, 면내 방향의 리타데이션이 순파장 분산성을 갖는다는 것은, 파장 450nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(450) 및 파장 550nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(550)이, 하기의 식을 만족하는 것을 말한다.On the other hand, when a retardation film such as a λ/4 plate is used for the circular polarizing plate of the image display device, depending on the wavelength dispersion of the retardation Re in the in-plane direction of the retardation film, the image display device is observed from the front direction. The color of the case may deviate from the original color. For example, when the retardation Re in the in-plane direction of the retardation film is forward wavelength dispersion, light of a wavelength in the violet to blue region reflected by the reflective electrode of the image display device or the like passes through the polarizer and is visually recognized , when the screen is set to a black display state, the screen may appear blue in some cases. Here, that the retardation in the in-plane direction has forward wavelength dispersion means that the retardation Re (450) in the in-plane direction at a wavelength of 450 nm and the retardation Re (550) in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm are the following means that the expression is satisfied.
Re(450)/Re(550) ≥ 1Re(450)/Re(550) ≥ 1
이에, 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하는 동시에, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우의 색상을 개선할 수 있는 광학 필름; 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하는 동시에, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우의 색상을 개선할 수 있는 편광판; 정면 방향에서 관찰된 경우의 색상이 개선된 화상 표시 장치가 요구되고 있다.Accordingly, an optical film capable of protecting the image display device from ultraviolet rays and improving color when the image display device is viewed from the front direction; a polarizing plate capable of protecting the image display device from ultraviolet rays and improving color when the image display device is viewed from the front direction; There is a demand for an image display device in which the color when viewed from the front direction is improved.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여, 예의 검토하였다. 그 결과, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이, 4.0%/nm 이상인 광학 필름에 의해, 상기 과제가 해결되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, the present inventors earnestly examined. As a result, the light transmittance in a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less is 10% or less, the light transmittance in a wavelength of 430 nm is 80% or more, and the increase rate of the light transmittance in a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less is 4.0%/nm By the above optical film, it found out that the said subject was solved, and completed this invention.
즉, 본 발명은, 이하를 제공한다.That is, the present invention provides the following.
[1] 수지층 A를 포함하는 광학 필름으로서,[1] An optical film comprising a resin layer A,
상기 수지층 A는, 수지 A로 형성되고,The resin layer A is formed of the resin A,
상기 수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 50 중량% 이상과, 자외선 흡수제를 포함하고,The resin A contains 50% by weight or more of an alicyclic structure-containing polymer and a UV absorber,
상기 광학 필름은, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이, 4.0%/nm 이상인,The optical film has a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less, a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 430 nm, and an increase rate of the light transmittance at a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less, 4.0% /nm or more,
광학 필름.optical film.
[2] 수지층 B1 및 수지층 B2를 더 포함하고,[2] Further comprising a resin layer B1 and a resin layer B2,
상기 수지층 A의 일방의 면 상에 상기 수지층 B1이 형성되어 있고,The resin layer B1 is formed on one surface of the resin layer A,
상기 수지층 A의 타방의 면 상에 상기 수지층 B2가 형성되어 있고,The resin layer B2 is formed on the other surface of the resin layer A,
상기 수지층 B1은, 자외선 흡수제의 함유율이 3.0 중량% 이하인 열가소성 수지 B1로 형성되고,The resin layer B1 is formed of a thermoplastic resin B1 having a UV absorber content of 3.0 wt% or less,
상기 수지층 B2는, 자외선 흡수제의 함유율이 3.0 중량% 이하인 열가소성 수지 B2로 형성되어 있는, [1]에 기재된 광학 필름.The optical film according to [1], wherein the resin layer B2 is formed of a thermoplastic resin B2 having an ultraviolet absorber content of 3.0 wt% or less.
[3] 공압출 필름인, [2]에 기재된 광학 필름.[3] The optical film according to [2], which is a co-extrusion film.
[4] 상기 자외선 흡수제가, 세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물을 포함하는, [1] ~ [3] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름.[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the ultraviolet absorber contains a compound having a sesamol structure and a benzotriazole structure.
[5] 파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이 0.1nm 이상인, [1] ~ [4] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름.[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the retardation Re (590) in the in-plane direction at a wavelength of 590 nm is 0.1 nm or more.
[6] [1] ~ [5] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름과, 편광자를 포함하는, 편광판.[6] A polarizing plate comprising the optical film according to any one of [1] to [5] and a polarizer.
[7] 파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이 70nm 이상인 위상차층 C를 더 포함하는, [6]에 기재된 편광판.[7] The polarizing plate according to [6], further comprising a retardation layer C having an in-plane direction retardation Re (590) of 70 nm or more at a wavelength of 590 nm.
[8] [6] 또는 [7]에 기재된 편광판을 포함하는, 화상 표시 장치.[8] An image display device comprising the polarizing plate according to [6] or [7].
본 개시는, 이하의 내용도 포함한다.The present disclosure also includes the following contents.
[9] [3]에 기재된 광학 필름의 제조 방법으로서,[9] The method for producing the optical film according to [3], comprising:
상기 열가소성 수지 B1, 상기 수지 A, 및 상기 열가소성 수지 B2를 다이로부터 공압출하여, 상기 열가소성 수지 B1의 층, 상기 수지 A의 층, 및 상기 열가소성 수지 B2의 층이 이 순서로 적층된 압출 필름을 얻는 공정을 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.The thermoplastic resin B1, the resin A, and the thermoplastic resin B2 are co-extruded from a die to form an extruded film in which the layer of the thermoplastic resin B1, the layer of the resin A, and the layer of the thermoplastic resin B2 are laminated in this order. The manufacturing method of the optical film including the process of obtaining.
본 발명에 의하면, 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하는 동시에, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우의 색상을 개선할 수 있는 광학 필름; 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하는 동시에, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우의 색상을 개선할 수 있는 편광판; 정면 방향에서 관찰된 경우의 색상이 개선된 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.Advantageous Effects of Invention According to the present invention, an optical film capable of protecting an image display device from ultraviolet rays and improving the color when the image display device is observed from the front direction; a polarizing plate capable of protecting the image display device from ultraviolet rays and improving color when the image display device is viewed from the front direction; It is possible to provide an image display device in which the color when observed from the front direction is improved.
도 1은 제 2 실시형태에 따른 광학 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 제 3 실시형태에 따른 편광판을 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 제 4 실시형태에 따른 편광판을 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 제 5 실시형태에 따른 화상 표시 장치를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는 제 6 실시형태에 따른 화상 표시 장치를 모식적으로 나타내는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the optical film which concerns on 2nd Embodiment.
It is sectional drawing which shows typically the polarizing plate which concerns on 3rd Embodiment.
It is sectional drawing which shows typically the polarizing plate which concerns on 4th Embodiment.
4 is a cross-sectional view schematically showing an image display device according to a fifth embodiment.
5 is a cross-sectional view schematically showing an image display device according to a sixth embodiment.
이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다. 또한, 이미 설명한 요소와 동일한 요소에는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 생략하는 경우가 있다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing embodiments and examples. However, this invention is not limited to embodiment and the example shown below, In the range which does not deviate from the range which does not deviate from the Claim of this invention and its equivalent, it can change arbitrarily and can implement it. In addition, the same code|symbol is attached|subjected to the element same as the element already demonstrated, and the description may be abbreviate|omitted.
이하의 설명에 있어서, 화상 표시 장치의 정면 방향이란, 별도로 언급하지 않는 한, 당해 화상 표시 장치의 화면의 법선 방향을 의미하며, 구체적으로는 상기 화면의 편각 0° 또한 방위각 0°의 방향을 가리킨다.In the following description, the frontal direction of the image display device refers to the normal direction of the screen of the image display device unless otherwise specified, and specifically refers to the direction of 0° of declination and 0° of azimuth of the screen. .
이하의 설명에 있어서, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우의 색상을, 간단히 「정면 색상」이라고 하는 경우가 있다. 정면 색상을 개선한다는 것은, 화상 표시 장치를 정면 방향에서 관찰한 경우에 있어서의 푸른 기를 띤 흑색 표시 상태 혹은 노란 기를 띤 백색 표시 상태를, 의도한 본래의 흑색 표시 상태 혹은 백색 표시 상태에 가깝게 하는 것을 의미한다.In the following description, the color when the image display device is observed from the front direction may be simply referred to as "front color". Improving the front color means bringing the bluish black display state or the yellowish white display state when the image display device is viewed from the front direction close to the intended original black display state or white display state. it means.
이하의 설명에 있어서, 「판」이란, 별도로 언급하지 않는 한, 강직한 부재뿐만 아니라, 예를 들어 수지 필름과 같이 가요성을 갖는 부재도 포함한다.In the following description, the term "plate" includes not only a rigid member, but also a member having flexibility, for example, a resin film, unless otherwise specified.
이하의 설명에 있어서, 필름 또는 층의 지상축이란, 별도로 언급하지 않는 한, 당해 필름 또는 층의 면내에 있어서의 지상축을 나타낸다.In the following description, the slow axis of the film or layer indicates the slow axis in the plane of the film or layer, unless otherwise specified.
이하의 설명에 있어서, 복수의 층을 구비하는 부재에 있어서의 각 층의 광학축(지상축, 투과축, 흡수축 등)이 이루는 각도는, 별도로 언급하지 않는 한, 상기의 층을 두께 방향에서 보았을 때의 각도를 나타낸다.In the following description, unless otherwise specified, the angle formed by the optical axis (slow axis, transmission axis, absorption axis, etc.) of each layer in a member including a plurality of layers is defined as the thickness direction of the layer. Shows the viewing angle.
이하의 설명에 있어서, 「원 편광판」에는, 협의의 원 편광판뿐만 아니라, 타원 편광판도 포함된다.In the following description, "circularly polarizing plate" includes not only circularly polarizing plate in a narrow sense but also elliptically polarizing plate.
이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 폭에 대하여 10만배 이하로 할 수 있다.In the following description, the "long" film refers to a film having a length of 5 times or more with respect to the width, and preferably has a length of 10 times or more, and specifically, the extent to which it is wound in a roll and stored or transported. A film with a length of There is no restriction|limiting in particular in the upper limit of the length of a film, For example, it can be made into 100,000 times or less with respect to a width|variety.
이하의 설명에 있어서, 층의 면내 방향에 있어서의 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, Re = (nx - ny) × d로 나타내어지는 값이다. 또한, 층의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 별도로 언급하지 않는 한, Rth = [{(nx + ny)/2} - nz] × d로 나타내어지는 값이다. 여기서, nx는, 층의 두께 방향과 수직한 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 층의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 층의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 층의 두께를 나타낸다. 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590nm이다.In the following description, the retardation Re in the in-plane direction of the layer is a value represented by Re = (nx - ny) x d, unless otherwise specified. Incidentally, the retardation Rth in the thickness direction of the layer is a value represented by Rth = [{(nx + ny)/2} - nz] × d, unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index of the direction which gives the largest refractive index as a direction (in-plane direction) perpendicular to the thickness direction of a layer. ny represents the refractive index of the direction orthogonal to the direction of nx as the said in-plane direction of a layer. nz represents the refractive index in the thickness direction of the layer. d represents the thickness of the layer. The measurement wavelength is 590 nm, unless otherwise stated.
이하의 설명에 있어서, 요소의 방향이 「평행」, 「수직」, 및 「직교」란, 별도로 언급하지 않는 한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내, 예를 들어 ±3°, ±2°, 또는 ±1°의 범위 내에서의 오차를 포함하고 있어도 된다.In the following description, the directions of elements are "parallel", "vertical", and "orthogonal", unless otherwise specified, within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ±3°, ±2 The error within the range of ° or ±1 ° may be included.
[1. 광학 필름][One. optical film]
본 발명의 일 실시형태에 따른 광학 필름은, 수지층 A를 포함한다.The optical film which concerns on one Embodiment of this invention contains the resin layer A.
수지층 A는, 수지 A로 형성되어 있다. 수지층 A의 재료인 수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를, 수지 A에 대하여 50 중량% 이상과, 자외선 흡수제를 포함한다.The resin layer A is formed of the resin A. Resin A which is the material of resin layer A contains 50 weight% or more of the alicyclic structure containing polymer with respect to resin A, and a ultraviolet absorber.
또한, 광학 필름은, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이, 4.0%/nm 이상이다.Further, the optical film has a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less, a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 430 nm, and an increase rate of the light transmittance at a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less, 4.0 %/nm or more.
[1.1. 수지 A][1.1. Resin A]
수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 포함한다. 여기서, 지환식 구조 함유 중합체란, 그 중합체의 구조 단위가 지환식 구조를 갖는 중합체이다. 이러한 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지는, 통상, 투명성, 치수 안정성, 위상차 발현성, 및 저온에서의 연신성 등의 성능이 우수하다.Resin A contains an alicyclic structure containing polymer. Here, the alicyclic structure-containing polymer is a polymer in which the structural unit of the polymer has an alicyclic structure. Resin containing such an alicyclic structure containing polymer is excellent in performance, such as transparency, dimensional stability, retardation expression property, and the stretchability at low temperature normally.
지환식 구조 함유 중합체는, 주쇄에 지환식 구조를 갖는 중합체, 측쇄에 지환식 구조를 갖는 중합체, 주쇄 및 측쇄에 지환식 구조를 갖는 중합체, 그리고, 이들의 2 이상의 임의의 비율의 혼합물로 할 수 있다. 그 중에서도, 기계적 강도 및 내열성의 관점에서, 주쇄에 지환식 구조를 갖는 중합체가 바람직하다.The alicyclic structure-containing polymer may be a polymer having an alicyclic structure in the main chain, a polymer having an alicyclic structure in the side chain, a polymer having an alicyclic structure in the main chain and side chain, and a mixture of two or more thereof in any ratio. have. Especially, the polymer which has an alicyclic structure in a main chain from a viewpoint of mechanical strength and heat resistance is preferable.
지환식 구조의 예로는, 포화 지환식 탄화수소(시클로알칸) 구조, 및 불포화 지환식 탄화수소(시클로알켄, 시클로알킨) 구조를 들 수 있다. 그 중에서도, 기계 강도 및 내열성의 관점에서, 시클로알칸 구조 및 시클로알켄 구조가 바람직하고, 그 중에서도 시클로알칸 구조가 특히 바람직하다.Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Especially, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable from a viewpoint of a mechanical strength and heat resistance, and a cycloalkane structure is especially preferable especially.
지환식 구조를 구성하는 탄소 원자수는, 하나의 지환식 구조당, 바람직하게는 4개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상이고, 바람직하게는 30개 이하, 보다 바람직하게는 20개 이하, 특히 바람직하게는 15개 이하이다. 지환식 구조를 구성하는 탄소 원자수가 이 범위이면, 수지 A의 기계 강도, 내열성, 및 성형성이 고도로 밸런스된다.The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure per one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly Preferably it is 15 or less. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is within this range, the mechanical strength, heat resistance, and moldability of Resin A are highly balanced.
지환식 구조 함유 중합체에 있어서, 지환식 구조를 갖는 구조 단위의 비율은, 광학 필름의 사용 목적에 따라 선택할 수 있다. 지환식 구조 함유 중합체에 있어서의 지환식 구조를 갖는 구조 단위의 비율은, 바람직하게는 55 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 70 중량% 이상, 특히 바람직하게는 90 중량% 이상이고, 통상 100 중량% 이하로 할 수 있다. 지환식 구조 함유 중합체에 있어서의 지환식 구조를 갖는 구조 단위의 비율이 이 범위에 있으면, 수지 A의 투명성 및 내열성이 양호해진다.An alicyclic structure-containing polymer WHEREIN: The ratio of the structural unit which has an alicyclic structure can be selected according to the purpose of use of an optical film. The proportion of structural units having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more, and usually 100% by weight or more. can be done below. When the ratio of the structural unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is within this range, the transparency and heat resistance of the resin A become good.
지환식 구조 함유 중합체 중에서도, 시클로올레핀 중합체가 바람직하다. 시클로올레핀 중합체란, 시클로올레핀 단량체를 중합하여 얻어지는 구조를 갖는 중합체이다. 시클로올레핀 단량체는, 탄소 원자로 형성되는 고리 구조를 갖고, 또한 그 고리 구조 중에 중합성의 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물이다. 중합성의 탄소-탄소 이중 결합의 예로는, 개환 중합 등의 중합이 가능한 탄소-탄소 이중 결합을 들 수 있다. 또한, 시클로올레핀 단량체의 고리 구조의 예로는, 단환, 다환, 축합 다환, 가교 고리, 및 이들을 조합한 다환 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 얻어지는 중합체의 유전 특성 및 내열성 등의 특성을 고도로 밸런스시키는 관점에서, 다환의 시클로올레핀 단량체가 바람직하다.Among the alicyclic structure-containing polymers, cycloolefin polymers are preferable. A cycloolefin polymer is a polymer which has a structure obtained by superposing|polymerizing a cycloolefin monomer. A cycloolefin monomer is a compound which has a ring structure formed from carbon atoms, and has a polymerizable carbon-carbon double bond in the ring structure. Examples of the polymerizable carbon-carbon double bond include a carbon-carbon double bond capable of polymerization such as ring-opening polymerization. In addition, examples of the ring structure of the cycloolefin monomer include monocyclic, polycyclic, condensed polycyclic, bridged ring, and polycyclic combinations thereof. Especially, a polycyclic cycloolefin monomer is preferable from a viewpoint of highly balancing characteristics, such as dielectric characteristic and heat resistance of the polymer obtained.
상기의 시클로올레핀 중합체 중에서도 바람직한 것으로는, 노르보르넨계 중합체, 단환의 고리형 올레핀계 중합체, 고리형 공액 디엔계 중합체, 및 이들의 수소화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 노르보르넨계 중합체는, 성형성이 양호하기 때문에, 특히 호적하다.Preferred examples of the cycloolefin polymers include norbornene polymers, monocyclic cyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, and hydrides thereof. Among these, norbornene-based polymers are particularly suitable because of their good moldability.
노르보르넨계 중합체의 예로는, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체 및 그 수소화물; 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 부가 중합체 및 그 수소화물을 들 수 있다. 또한, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체의 예로는, 노르보르넨 구조를 갖는 1종류의 단량체의 개환 단독 중합체, 노르보르넨 구조를 갖는 2종류 이상의 단량체의 개환 공중합체, 그리고, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체 및 이것과 공중합할 수 있는 다른 단량체와의 개환 공중합체를 들 수 있다. 또한, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 부가 중합체의 예로는, 노르보르넨 구조를 갖는 1종류의 단량체의 부가 단독 중합체, 노르보르넨 구조를 갖는 2종류 이상의 단량체의 부가 공중합체, 그리고, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체 및 이것과 공중합할 수 있는 다른 단량체와의 부가 공중합체를 들 수 있다. 이들 중에서, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체의 수소화물은, 성형성, 내열성, 저흡습성, 치수 안정성, 경량성 등의 관점에서, 특히 호적하다.Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opened polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; The addition polymer of the monomer which has a norbornene structure, and its hydride are mentioned. Further, examples of the ring-opened polymer of the monomer having a norbornene structure include a ring-opened homopolymer of one type of monomer having a norbornene structure, a ring-opened copolymer of two or more types of monomers having a norbornene structure, and norbornene and ring-opened copolymers of a monomer having a nene structure and other monomers copolymerizable therewith. In addition, as an example of the addition polymer of the monomer which has a norbornene structure, the addition homopolymer of one type of monomer which has a norbornene structure, the addition copolymer of two or more types of monomers which have a norbornene structure, and norbornene An addition copolymer with the monomer which has a nene structure, and other monomer copolymerizable with this is mentioned. Among these, the hydride of the ring-opened polymer of the monomer which has a norbornene structure is especially suitable from viewpoints of moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, etc.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 예로는, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔(관용명: 노르보르넨), 트리시클로[4.3.0.12,5]데카-3,7-디엔(관용명: 디시클로펜타디엔), 7,8-벤조트리시클로[4.3.0.12,5]데카-3-엔(관용명: 메타노테트라하이드로플루오렌), 테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]도데카-3-엔(관용명: 테트라시클로도데센), 및 이들 화합물의 유도체(예를 들어, 고리에 치환기를 갖는 것)를 들 수 있다. 여기서, 치환기의 예로는, 알킬기, 알킬렌기, 및 극성기를 들 수 있다. 또한, 이들 치환기는, 동일 또는 상이하고, 복수개가 고리에 결합하고 있어도 된다. 노르보르넨 구조를 갖는 단량체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo[2.2.1]hepto-2-ene (common name: norbornene), tricyclo[4.3.0.1 2,5 ]deca-3,7-diene (common name) : dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo[4.3.0.1 2,5 ]deca-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo[4.4.0.1 2,5 .1 7 ,10 ]dodeca-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (eg, those having a substituent on the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. In addition, these substituents are the same or different, and two or more may couple|bond with the ring. The monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
극성기의 예로는, 헤테로 원자, 및 헤테로 원자를 갖는 원자단을 들 수 있다. 헤테로 원자의 예로는, 산소 원자, 질소 원자, 황 원자, 규소 원자, 및 할로겐 원자를 들 수 있다. 극성기의 구체예로는, 카르복실기, 카르보닐옥시카르보닐기, 에폭시기, 하이드록실기, 옥시기, 에스테르기, 실라놀기, 실릴기, 아미노기, 아미드기, 이미드기, 니트릴기, 및 술폰산기를 들 수 있다. 수지 A를 구성하는 중합체로는, 이러한 극성기를 포함하는 것도, 극성기를 포함하지 않는 것도, 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the polar group include a hetero atom and an atomic group having a hetero atom. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom. Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, an amide group, an imide group, a nitrile group, and a sulfonic acid group. As a polymer constituting the resin A, those containing such a polar group or those not containing a polar group can be preferably used.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체와 개환 공중합 가능한 단량체의 예로는, 시클로헥센, 시클로헵텐, 시클로옥텐 등의 모노 고리형 올레핀류 및 그 유도체; 시클로헥사디엔, 시클로헵타디엔 등의 고리형 공액 디엔 및 그 유도체를 들 수 있다. 노르보르넨 구조를 갖는 단량체와 개환 공중합 가능한 단량체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the monomer having a norbornene structure and a monomer capable of ring-opening copolymerization include monocyclic olefins and derivatives thereof such as cyclohexene, cycloheptene and cyclooctene; Cyclic conjugated dienes, such as cyclohexadiene and cycloheptadiene, and its derivative(s) are mentioned. The monomer which has a norbornene structure and the monomer which can be ring-opening copolymerizable may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 개환 중합체는, 예를 들어, 단량체를 개환 중합 촉매의 존재하에 중합 또는 공중합함으로써 제조할 수 있다.The ring-opening polymer of the monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing the monomer in the presence of a ring-opening polymerization catalyst.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체와 부가 공중합 가능한 단량체의 예로는, 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐 등의 탄소 원자수 2 ~ 20의 α-올레핀 및 이들의 유도체; 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로헥센 등의 시클로올레핀 및 이들의 유도체; 그리고 1,4-헥사디엔, 4-메틸-1,4-헥사디엔, 5-메틸-1,4-헥사디엔 등의 비공액 디엔을 들 수 있다. 이들 중에서도, α-올레핀이 바람직하고, 에틸렌이 보다 바람직하다. 또한, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체와 부가 공중합 가능한 단량체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Examples of the monomer capable of addition copolymerization with the monomer having a norbornene structure include ?-olefins having 2 to 20 carbon atoms, such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene and cyclohexene and derivatives thereof; and non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, and 5-methyl-1,4-hexadiene. Among these, alpha-olefin is preferable and ethylene is more preferable. In addition, the monomer which has a norbornene structure, and the monomer which can be addition-copolymerized may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
노르보르넨 구조를 갖는 단량체의 부가 중합체는, 예를 들어, 단량체를 부가 중합 촉매의 존재하에 중합 또는 공중합함으로써 제조할 수 있다.The addition polymer of the monomer which has a norbornene structure can be manufactured, for example by superposing|polymerizing or copolymerizing a monomer in presence of an addition polymerization catalyst.
상술한 개환 중합체 및 부가 중합체의 수소 첨가물은, 예를 들어, 이들 개환 중합체 및 부가 중합체의 용액에 있어서, 니켈, 팔라듐 등의 전이 금속을 포함하는 수소 첨가 촉매의 존재하에서, 탄소-탄소 불포화 결합을, 바람직하게는 90% 이상 수소 첨가함으로써 제조할 수 있다.Hydrogenated substances of the above-mentioned ring-opened polymers and addition polymers, for example, in the solution of these ring-opened polymers and addition polymers, in the presence of a hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium, carbon-carbon unsaturated bonds , Preferably it can be produced by hydrogenation of 90% or more.
단환의 고리형 올레핀계 중합체의 예로는, 시클로헥센, 시클로헵텐, 시클로옥텐 등의 단환을 갖는 고리형 올레핀계 모노머의 부가 중합체를 들 수 있다.Examples of the monocyclic cyclic olefinic polymer include addition polymers of cyclic olefinic monomers having a monocyclic ring, such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
고리형 공액 디엔계 중합체의 예로는, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔계 모노머의 부가 중합체를 고리화 반응하여 얻어지는 중합체; 시클로펜타디엔, 시클로헥사디엔 등의 고리형 공액 디엔계 모노머의 1,2- 또는 1,4- 부가 중합체; 및 이들의 수소화물을 들 수 있다.Examples of the cyclic conjugated diene-based polymer include a polymer obtained by cyclizing an addition polymer of a conjugated diene-based monomer such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; 1,2- or 1,4-addition polymers of cyclic conjugated diene-based monomers such as cyclopentadiene and cyclohexadiene; and hydrides thereof.
지환식 구조 함유 중합체 및 그것을 포함하는 수지로는, 시판의 수지를 사용할 수 있다. 시판의 수지의 예로는, 제오노아(닛폰 제온 주식회사 제조), 아톤(JSR 주식회사 제조), TOPAS(폴리플라스틱사 제조), 및 아펠(미츠이 화학사 제조)을 들 수 있다.Commercially available resin can be used as an alicyclic structure containing polymer and resin containing it. Examples of commercially available resins include Zeonoa (manufactured by Nippon Zeon Corporation), Aton (manufactured by JSR Corporation), TOPAS (manufactured by Polyplastics Corporation), and APEL (manufactured by Mitsui Chemicals Corporation).
수지 A에 있어서의, 지환식 구조 함유 중합체의 함유율은, 통상 50 중량% 이상이고, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 80 중량% 이상이며, 통상 100 중량% 이하이다. 수지 A에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 함유율이, 상기 하한값 이상임으로써, 수지 A가, 지환식 구조 함유 중합체의 우수한 특성을 구비할 수 있다.The content of the alicyclic structure-containing polymer in the resin A is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and usually 100% by weight or less. When the content of the alicyclic structure-containing polymer in the resin A is equal to or greater than the lower limit, the resin A can have excellent characteristics of the alicyclic structure-containing polymer.
수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 1종만 포함하고 있어도 되고, 2종 이상의 임의의 비율의 조합으로서 포함하고 있어도 된다.Resin A may contain only 1 type of alicyclic structure containing polymer, and may contain it as a combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
[1.2. 자외선 흡수제][1.2. UV absorber]
수지 A는, 자외선 흡수제를 포함한다. 자외선 흡수제란, 광 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 250nm 이상 400nm 이하에, 1 이상의 흡수 극대를 갖는 제(劑)를 말한다. 여기서, 「제」는, 1종의 물질로 구성되어 있어도 되고, 2종 이상의 물질로 구성되는 조성물이어도 된다. 자외선 흡수제는, 파장 400nm 이하에 흡수 극대를 갖는 것에 더하여, 파장 400nm를 초과한 범위에, 흡수 극대를 갖고 있어도 된다. 수지 A는, 자외선 흡수제를 1종만 포함하고 있어도 되고, 2종 이상의 임의의 비율의 조합으로서 포함하고 있어도 된다.Resin A contains a ultraviolet absorber. A ultraviolet absorber means the agent which has one or more absorption maxima in wavelength 250nm or more and 400 nm or less in a light absorption spectrum. Here, the "agent" may be composed of one type of substance or a composition composed of two or more substances. In addition to having an absorption maximum at a wavelength of 400 nm or less, a ultraviolet absorber may have an absorption maximum in the range exceeding wavelength 400 nm. Resin A may contain only 1 type of ultraviolet absorber, and may contain it as a combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
자외선 흡수제로는, 파장 250nm 이상 파장 450nm 이하의 광 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 400nm 이하에 최대 극대 흡수를 갖는 제를 사용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 광학 필름이 효과적으로 자외선을 흡수하여, 편광자 등의 화상 표시 장치의 구성 요소를 자외선으로부터 보호할 수 있다.As the ultraviolet absorber, in the light absorption spectrum having a wavelength of 250 nm or more and 450 nm or less, it is preferable to use an agent having a maximum absorption at a wavelength of 400 nm or less. Thereby, an optical film can absorb an ultraviolet-ray effectively, and can protect components of an image display apparatus, such as a polarizer, from an ultraviolet-ray.
자외선 흡수제의 광 흡수 스펙트럼은, 자외·가시 분광계(예, 시마즈 제작소사 제조 「UV-2450」)에 의해, 측정 파장: 250nm ~ 450nm, 용매: 클로로포름 또는 메탄올, 농도: 10 ppm, 셀: 광로 길이 1cm의 석영 셀의 조건으로 측정할 수 있다.The light absorption spectrum of the ultraviolet absorber is measured by an ultraviolet/visible spectrometer (eg, "UV-2450" manufactured by Shimadzu Corporation), measuring wavelength: 250 nm to 450 nm, solvent: chloroform or methanol, concentration: 10 ppm, cell: optical path length It can be measured under the condition of a 1 cm quartz cell.
자외선 흡수제로는, 파장 250nm 이상 파장 450nm 이하에 있어서의 광 흡수 스펙트럼에 있어서, 최대의 흡광도를 나타내는 광의 파장이, 350nm 이상 400nm 이하의 범위에 있는 자외선 흡수제를 사용하는 것이 바람직하다. 이하, 파장 250nm 이상 파장 450nm 이하에 있어서의 광 흡수 스펙트럼에 있어서, 최대의 흡광도를 나타내는 광의 파장이, 350nm 이상 400nm 이하의 범위에 있는 특정한 자외선 흡수제를, 자외선 흡수제 U1이라고 하는 경우가 있다. 최대의 흡광도를 나타내는 광의 파장이, 상기 범위에 있는 자외선 흡수제를 사용함으로써, 광학 필름에 있어서, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광선 투과율을 효과적으로 낮게 억제할 수 있다. 그 결과, 화상 표시 장치로부터 출사되는 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광량을 효과적으로 억제할 수 있어, 화상 표시 장치를 정면에서 관찰한 경우의 색상을 효과적으로 개선할 수 있다.As the ultraviolet absorber, it is preferable to use an ultraviolet absorber whose wavelength of light exhibiting the maximum absorbance in the light absorption spectrum at a wavelength of 250 nm or more and 450 nm or less is in the range of 350 nm or more and 400 nm or less. Hereinafter, in the light absorption spectrum at a wavelength of 250 nm or more and 450 nm or less, a specific UV absorber having a wavelength of light exhibiting the maximum absorbance in the range of 350 nm or more and 400 nm or less may be referred to as UV absorber U1. By using the ultraviolet absorber in which the wavelength of the light which shows the maximum absorbance exists in the said range, it is an optical film WHEREIN: The light transmittance of wavelength 300nm or more and 410 nm or less can be suppressed low effectively. As a result, the amount of light with a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less emitted from the image display device can be effectively suppressed, and the color when the image display device is observed from the front can be effectively improved.
자외선 흡수제 U1로는, 세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물을 포함하는 자외선 흡수제를 사용할 수 있다. 세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물의 예로는, 하기의 일반식(1)로 나타내어지는 화합물 I을 들 수 있고, 화합물 I이 바람직하다.As the ultraviolet absorber U1, a ultraviolet absorber containing a compound having a sesamol structure and a benzotriazole structure can be used. As an example of the compound containing a sesamol structure and a benzotriazole structure, the compound I represented by the following general formula (1) is mentioned, The compound I is preferable.
[화학식 1][Formula 1]
상기 일반식(1)에 있어서,In the general formula (1),
R1은, 수소 원자, 할로겐 원자, (C1 ~ C8)알킬기, (C1 ~ C8)알킬옥시기, 하이드록시기, 아미노기, 탄소수 1 ~ 4의 직쇄 또는 분기의 모노 치환 아미노기, 탄소수 1 ~ 4의 직쇄 또는 분기의 디치환 아미노기, 니트로기, 카르복시기, (C1 ~ C8)알킬옥시카르보닐기, 하이드록시(C1 ~ C8)알킬기, (C1 ~ C8)알킬카르보닐옥시(C1 ~ C8)알킬기, 카르복시(C1 ~ C3)알킬기, (Cx)알킬옥시카르보닐(Cy)알킬기, 아릴기, 아실기, 술포기, 또는 시아노기를 나타낸다. 여기서, 「알킬」의 직전에 있는 (Cm ~ Cn)의 기재는, 그 알킬의 탄소수가 m개 이상 n개 이하인 것을 의미하고, 「알킬」의 직전에 있는 (Cm)의 기재는, 그 알킬의 탄소수가 m개인 것을 의미한다. x 및 y는, 각각 1 이상의 정수이고 또한 x + y는 2 이상 10 이하이다.R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a (C1-C8) alkyl group, a (C1-C8) alkyloxy group, a hydroxy group, an amino group, a C1-C4 linear or branched mono-substituted amino group, a C1-C4 Linear or branched disubstituted amino group, nitro group, carboxy group, (C1 to C8)alkyloxycarbonyl group, hydroxy (C1 to C8)alkyl group, (C1 to C8)alkylcarbonyloxy (C1 to C8)alkyl group, carboxy (C1) to C3)alkyl group, (Cx)alkyloxycarbonyl(Cy)alkyl group, aryl group, acyl group, sulfo group, or cyano group. Here, the description of (Cm to Cn) immediately before “alkyl” means that the alkyl has m or more and n or less carbon atoms, and the description of (Cm) immediately before “alkyl” means that the alkyl is It means that the number of carbon atoms is m. x and y are each an integer of 1 or more, and x + y is 2 or more and 10 or less.
R1은, 바람직하게는, 수소 원자 또는 (Cx)알킬카르보닐(Cy)옥시알킬기이다.R 1 is preferably a hydrogen atom or a (Cx)alkylcarbonyl(Cy)oxyalkyl group.
화합물 I의 구체예로는, 일본 특허 제5416171호에 거론된 화합물을 들 수 있다. 화합물 I은, 일본 특허 제5416171호에 기재된 방법에 의해 제조될 수 있다.As a specific example of compound I, the compound mentioned in Japanese Patent No. 5416171 can be mentioned. Compound I can be prepared by the method described in Japanese Patent No. 5416171.
자외선 흡수제에 있어서의 세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물의 함유율은, 바람직하게는 50 중량% 이상, 보다 바람직하게는 70 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 중량% 이상이고, 100 중량% 이하로 할 수 있다.The content of the compound containing the sesamol structure and the benzotriazole structure in the ultraviolet absorber is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, still more preferably 90% by weight or more, and 100% by weight. % or less.
수지 A에 있어서의 자외선 흡수제의 함유율은, 바람직하게는 2.0 중량% 이상, 보다 바람직하게는 4.0 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 6.0 중량% 이상이고, 바람직하게는 30 중량% 이하, 보다 바람직하게는 25 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 중량% 이하이다. 수지 A에 있어서의 자외선 흡수제의 함유율을, 상기 범위에 들어가게 함으로써, 자외선 흡수제가 수지층 A로부터 블리드 아웃하는 것을 억제하는 동시에, 효과적으로 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하고, 또한 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다.The content of the ultraviolet absorber in the resin A is preferably 2.0% by weight or more, more preferably 4.0% by weight or more, still more preferably 6.0% by weight or more, preferably 30% by weight or less, more preferably 25% by weight or less, more preferably 20% by weight or less. By making the content rate of the ultraviolet absorber in the resin A fall within the above range, the ultraviolet absorber is suppressed from bleed out from the resin layer A, the image display device is effectively protected from ultraviolet rays, and the front color of the image display device is reduced can be improved
[1.3. 수지 A에 포함되는 임의 성분][1.3. Optional components included in Resin A]
수지 A는, 상기의 자외선 흡수제 외에, 임의의 성분을 포함하고 있어도 된다. 이러한 임의의 성분의 예로는, 산화 방지제; 광 안정제; 왁스; 핵제; 형광 증백제; 무기 충전재; 착색제; 난연제; 난연 조제; 대전 방지제; 가소제; 근적외선 흡수제; 활제; 필러; 및 지환식 구조 함유 중합체 이외의 임의의 중합체; 등을 들 수 있다. 또한, 임의의 성분으로서, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.Resin A may contain arbitrary components other than said ultraviolet absorber. Examples of such optional ingredients include antioxidants; light stabilizers; wax; nucleating agent; optical brighteners; inorganic fillers; coloring agent; flame retardant; flame retardant preparations; antistatic agent; plasticizer; near infrared absorbers; lubricant; filler; and any polymer other than the alicyclic structure-containing polymer; and the like. In addition, as an arbitrary component, you may use individually by 1 type, and may use it combining two or more types by arbitrary ratios.
[1.4. 광학 필름에 포함될 수 있는 임의의 층][1.4. any layer that may be included in the optical film]
광학 필름은, 상기 수지층 A 외에, 임의의 층을 포함하고 있어도 된다. 이러한 임의의 층으로는, 접착층, 위상차를 갖는 층, 하드 코트층 등을 들 수 있다.The optical film may contain the layer arbitrary other than the said resin layer A. As such an arbitrary layer, a contact bonding layer, the layer which has retardation, a hard-coat layer, etc. are mentioned.
[1.5. 광학 필름의 특성][1.5. Characteristics of Optical Film]
(파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율)(The light transmittance in wavelength 300nm or more and 410 nm or less)
광학 필름은, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 통상 10% 이하이다. 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하라는 것은, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 범위에 있어서의 광선 투과율의 최대값이, 10% 이하인 것을 의미한다. 광학 필름의 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율은, 통상 10% 이하, 바람직하게는 8% 이하, 보다 바람직하게는 5% 이하이고, 이상적으로는 0%이지만, 0% 이상 또는 0.01% 이상으로 할 수 있다.As for the optical film, the light transmittance in wavelength 300nm or more and 410 nm or less is 10 % or less normally. That the light transmittance in wavelength 300nm or more and 410 nm or less is 10% or less means that the maximum value of the light transmittance in the range of wavelength 300nm or more and 410 nm or less is 10% or less. The light transmittance of the optical film at a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less is usually 10% or less, preferably 8% or less, more preferably 5% or less, and ideally 0%, but 0% or more or 0.01% or more. can be done with
광학 필름의 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이, 상기 상한값 이하임으로써, 효과적으로 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하고, 또한, 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다. 특히, 유기 일렉트로루미네센스 소자(유기 EL 소자)에 포함되는 유기 성분은, 장파장의 자외선에 의해 특히 열화되기 쉽다. 그 때문에, 유기 EL 소자에 포함되는 유기 성분의 열화를 효과적으로 억제하여, 유기 EL 표시 장치의 수명을 연장할 수 있다.When the light transmittance in the wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less of an optical film is below the said upper limit, an image display apparatus can be effectively protected from an ultraviolet-ray, and the front color of an image display apparatus can be improved. In particular, the organic component contained in an organic electroluminescent element (organic EL element) is especially easy to deteriorate by the ultraviolet-ray of a long wavelength. Therefore, deterioration of the organic component contained in organic electroluminescent element can be suppressed effectively, and the lifetime of an organic electroluminescent display can be extended.
광학 필름의 광선 투과율은, 자외 가시 근적외 분광 광도계(예, 닛폰 분광사 제조 「V-7200」)를 사용하여 측정할 수 있다.The light transmittance of the optical film can be measured using an ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer (eg, "V-7200" manufactured by Nippon Kogyo Co., Ltd.).
(파장 430nm에 있어서의 광선 투과율)(Light transmittance at a wavelength of 430 nm)
광학 필름은, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 통상 80% 이상, 바람직하게는 82% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상이고, 높을수록 바람직하지만, 통상 100% 이하이다. 광학 필름의 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 상기 하한값 이상임으로써, 화상 표시 장치의 색감에 큰 영향을 미치지 않고, 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다. 이 효과는, 특히 화상 표시 장치에 포함되는 발광 소자가, 유기 EL 소자인 경우에 현저하다. 화상 표시 장치에 사용되는 유기 EL 소자는, 발광 강도가 파장 430nm 부근으로부터 장파장측으로 급격하게 상승하는 소자가 많다. 그 때문에, 광학 필름의 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 유기 EL 소자로부터 내보내진 파장 430nm 부근의 광이 광학 필름에 흡수되기 어려워진다. 그 결과, 화상 표시 장치의 색감에 미치는 영향을 작게 할 수 있다.As for the optical film, the light transmittance in wavelength 430 nm is 80 % or more normally, Preferably it is 82 % or more, More preferably, it is 85 % or more, It is so preferable that it is high, but it is 100 % or less normally. When the light transmittance in the wavelength of 430 nm of an optical film is more than the said lower limit, it does not have a big influence on the color tone of an image display apparatus, but the front color of an image display apparatus can be improved. This effect is remarkable especially when the light emitting element contained in an image display apparatus is an organic electroluminescent element. As for the organic electroluminescent element used for an image display apparatus, there are many elements whose light emission intensity rises rapidly from wavelength 430 nm vicinity to the long wavelength side. Therefore, by making the light transmittance in wavelength 430nm of an optical film more than the said lower limit, the light of wavelength 430nm vicinity emitted from organic electroluminescent element becomes difficult to be absorbed by an optical film. As a result, the influence on the color of the image display device can be reduced.
(파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율)(Increase rate of light transmittance in wavelength 410 nm or more and 420 nm or less)
광학 필름은, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율 R이, 통상 4.0%/nm 이상, 바람직하게는 4.2%/nm 이상, 보다 바람직하게는 4.5%/nm 이상, 특히 바람직하게는 4.7%/nm 이상이고, 큰 것이 바람직하지만, 7.0%/nm 이하로 할 수 있다.The optical film has an increase rate R of light transmittance at a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less, usually 4.0%/nm or more, preferably 4.2%/nm or more, more preferably 4.5%/nm or more, particularly preferably 4.7 %/nm or more, preferably large, but may be 7.0%/nm or less.
증가율 R(%/nm)은, 하기 식에 의해 산출된다.The increase rate R (%/nm) is calculated by the following formula.
R(%/nm) = (T(420) - T(410))/(420 - 410)R(%/nm) = (T(420) - T(410))/(420 - 410)
상기 식에 있어서, T(420)은, 광학 필름의 파장 420nm에 있어서의 광선 투과율(%)이고, T(410)은, 광학 필름의 파장 410nm에 있어서의 광선 투과율(%)이며, 분모의 단위는 nm이다.In the above formula, T (420) is the light transmittance (%) at the wavelength of 420 nm of the optical film, T (410) is the light transmittance (%) at the wavelength of 410 nm of the optical film, the unit of the denominator is nm.
광학 필름의 증가율 R이, 상기 하한값 이상임으로써, 광학 필름이, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광을 효과적으로 흡수하면서, 파장 430nm의 광을 높은 비율로 투과시킬 수 있다. 그 결과, 효과적으로 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호하고, 또한, 화상 표시 장치의 색감에 큰 영향을 미치지 않고, 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다.When the increase rate R of the optical film is equal to or greater than the lower limit, the optical film can transmit light having a wavelength of 430 nm at a high rate while effectively absorbing light having a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less. As a result, it is possible to effectively protect the image display apparatus from ultraviolet rays, and to improve the front color of the image display apparatus without greatly affecting the color tone of the image display apparatus.
(광학 필름의 면내 방향 리타데이션)(In-plane direction retardation of optical film)
광학 필름의 파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)은, 바람직하게는 0.1nm 이상, 보다 바람직하게는 1nm 이상, 더욱 바람직하게는 2nm 이상이고, 바람직하게는 300nm 이하, 보다 바람직하게는 270nm 이하, 더욱 바람직하게는 250nm 이하이다. 이에 의해, 광학 필름이, λ/4판 등의 위상차 필름으로서의 기능을 가질 수 있다.The retardation Re (590) in the in-plane direction at a wavelength of 590 nm of the optical film is preferably 0.1 nm or more, more preferably 1 nm or more, still more preferably 2 nm or more, preferably 300 nm or less, more preferably is 270 nm or less, more preferably 250 nm or less. Thereby, the optical film can have a function as retardation films, such as a λ/4 plate.
광학 필름의 면내 방향 리타데이션은, 순파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, Re(450)/Re(550)이, 바람직하게는 1 이상이고, 보다 바람직하게는 1보다 크다.It is preferable that in-plane direction retardation of an optical film has forward wavelength dispersion property. Specifically, Re(450)/Re(550) is preferably 1 or more, and more preferably larger than 1.
광학 필름의 면내 방향 리타데이션이 순파장 분산성을 갖는 경우에, 특히 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다.In the case where the in-plane directional retardation of the optical film has forward wavelength dispersion, it is possible to particularly improve the front color of the image display device.
[1.6. 수지층 A의 두께][1.6. thickness of resin layer A]
수지층 A의 두께는, 바람직하게는 3μm 이상, 보다 바람직하게는 5μm 이상, 더욱 바람직하게는 7μm 이상이고, 바람직하게는 50μm 이하, 보다 바람직하게는 40μm 이하, 더욱 바람직하게는 30μm 이하이다. 수지층 A의 두께가, 상기 하한값 이상임으로써, 효과적으로 화상 표시 장치를 자외선으로부터 보호할 수 있다. 또한, 화상 표시 장치의 색감에 큰 영향을 미치지 않고, 화상 표시 장치의 정면 색상을 효과적으로 개선할 수 있다. 수지층 A의 두께가, 상기 상한값 이하임으로써, 수지층 A를 포함하는 광학 필름을 박형화할 수 있다.The thickness of the resin layer A is preferably 3 µm or more, more preferably 5 µm or more, still more preferably 7 µm or more, preferably 50 µm or less, more preferably 40 µm or less, still more preferably 30 µm or less. When the thickness of the resin layer A is more than the said lower limit, an image display apparatus can be effectively protected from an ultraviolet-ray. In addition, it is possible to effectively improve the front color of the image display apparatus without greatly affecting the color of the image display apparatus. When the thickness of the resin layer A is below the said upper limit, the optical film containing the resin layer A can be thinned.
[1.7. 제 1 실시형태의 광학 필름][1.7. Optical film of 1st Embodiment]
제 1 실시형태에 따른 광학 필름은, 수지층 A로 이루어지는 광학 필름이다. 수지층 A는, 상기 수지 A로 형성되어 있다. 본 실시형태의 광학 필름도, 상기 [1.5. 광학 필름의 특성]에 있어서 서술한 특성을 구비할 수 있다.The optical film which concerns on 1st Embodiment is an optical film which consists of resin layer A. The resin layer A is formed of the said resin A. The optical film of the present embodiment is also described in [1.5. Characteristics of the optical film].
본 실시형태의 광학 필름은, 종전 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 광학 필름은, 용융 성형법 또는 용액 유연법에 의해 제조할 수 있고, 용융 성형법이 바람직하다. 광학 필름은, 연신, 트리밍 등의 처리가 더 행하여져도 된다.The optical film of this embodiment can be manufactured by a conventionally well-known method. For example, an optical film can be manufactured by the melt-molding method or the solution casting method, and the melt-molding method is preferable. The optical film may be further subjected to processing such as stretching and trimming.
[1.8. 제 2 실시형태의 광학 필름][1.8. Optical film of 2nd embodiment]
제 2 실시형태에 따른 광학 필름은, 수지층 A에, 수지층 B1 및 수지층 B2를 더 포함하고, 수지층 A의 일방의 면 상에 수지층 B1이 형성되어 있고, 수지층 A의 타방의 면 상에 수지층 B2가 형성되어 있다. 수지층 B1은, 자외선 흡수제의 함유율이 3.0 중량% 이하인 열가소성 수지 B1로 형성되어 있다. 수지층 B2는, 자외선 흡수제의 함유율이 3.0 중량% 이하인 열가소성 수지 B2로 형성되어 있다.The optical film which concerns on 2nd Embodiment further contains the resin layer B1 and the resin layer B2 in the resin layer A, the resin layer B1 is formed on one surface of the resin layer A, The other of the resin layer A The resin layer B2 is formed on the surface. The resin layer B1 is formed of a thermoplastic resin B1 having a content rate of the ultraviolet absorber of 3.0% by weight or less. The resin layer B2 is formed of the thermoplastic resin B2 having a content rate of the ultraviolet absorber of 3.0% by weight or less.
도 1은, 제 2 실시형태에 따른 광학 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 광학 필름(100)은, 수지층 A로서의 수지층(101)의 일방의 면(101U) 상에, 수지층(101)과 접하도록, 수지층 B1로서의 수지층(102)이 형성되어 있다. 또한, 수지층(101)의 타방의 면(102D) 상에, 수지층(101)과 접하도록, 수지층 B2로서의 수지층(103)이 형성되어 있다.1 : is sectional drawing which shows typically the optical film which concerns on 2nd Embodiment. As shown in FIG. 1, the
열가소성 수지 B1은, 통상 열가소성의 중합체를 포함한다. 열가소성의 중합체로는, 특별히 한정이 없으나, 지환식 구조 함유 중합체가 바람직하다. 지환식 구조 함유 중합체로는, 상기 수지 A에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체와 동일한 중합체를 선택할 수 있다.Thermoplastic resin B1 contains a thermoplastic polymer normally. Although there is no limitation in particular as a thermoplastic polymer, An alicyclic structure containing polymer is preferable. As the alicyclic structure-containing polymer, the same polymer as the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A can be selected.
열가소성 수지 B1에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 함유율은, 바람직하게는 97.0 중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 98.0 중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는 98.5 중량% 이상이다. 열가소성 수지 B1에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 함유율이, 상기 하한값 이상임으로써, 열가소성 수지 B1이 지환식 구조 함유 중합체의 우수한 특성을 구비할 수 있다.The content of the alicyclic structure-containing polymer in the thermoplastic resin B1 is preferably 97.0% by weight or more, more preferably 98.0% by weight or more, and still more preferably 98.5% by weight or more. When the content rate of the alicyclic structure-containing polymer in the thermoplastic resin B1 is equal to or more than the lower limit, the thermoplastic resin B1 can have excellent characteristics of the alicyclic structure-containing polymer.
열가소성 수지 B1은, 자외선 흡수제의 함유율이, 통상 3.0 중량% 이하이고, 바람직하게는 2.0 중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 1.5 중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0 중량% 이하이고, 특히 바람직하게는, 실질적으로 0 중량%이며, 가장 바람직하게는 자외선 흡수제를 포함하지 않는다. 열가소성 수지 B1의 자외선 흡수제의 함유율이, 상기 상한값 이하임으로써, 광학 필름의 표면에 자외선 흡수제가 블리드 아웃하는 것을 억제할 수 있다.In the thermoplastic resin B1, the content of the ultraviolet absorber is usually 3.0% by weight or less, preferably 2.0% by weight or less, more preferably 1.5% by weight or less, still more preferably 1.0% by weight or less, particularly preferably is substantially 0% by weight, and most preferably contains no ultraviolet absorber. When the content rate of the ultraviolet absorber of thermoplastic resin B1 is below the said upper limit, it can suppress that a ultraviolet absorber bleeds out to the surface of an optical film.
열가소성 수지 B1은, 상기의 중합체 외에, 임의 성분을 포함할 수 있다. 임의 성분으로는, 수지 A가 포함할 수 있는 임의 성분과 동일한 성분을 사용할 수 있다.The thermoplastic resin B1 may contain an optional component other than the above polymer. As the optional component, the same component as the optional component that the resin A may contain can be used.
열가소성 수지 B2는, 통상 열가소성의 중합체를 포함한다. 열가소성의 중합체로는, 특별히 한정이 없으나, 지환식 구조 함유 중합체가 바람직하다. 지환식 구조 함유 중합체로는, 상기 수지 A에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체와 동일한 중합체를 선택할 수 있다.Thermoplastic resin B2 contains a thermoplastic polymer normally. Although there is no limitation in particular as a thermoplastic polymer, An alicyclic structure containing polymer is preferable. As the alicyclic structure-containing polymer, the same polymer as the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin A can be selected.
열가소성 수지 B2에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 함유율은, 바람직하게는 97.0 중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 98.0 중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는 98.5 중량% 이상이다. 열가소성 수지 B2에 있어서의 지환식 구조 함유 중합체의 함유율이, 상기 하한값 이상임으로써, 열가소성 수지 B2가 지환식 구조 함유 중합체의 우수한 특성을 구비할 수 있다.The content of the alicyclic structure-containing polymer in the thermoplastic resin B2 is preferably 97.0% by weight or more, more preferably 98.0% by weight or more, and still more preferably 98.5% by weight or more. When the content rate of the alicyclic structure-containing polymer in the thermoplastic resin B2 is equal to or greater than the lower limit, the thermoplastic resin B2 can have excellent characteristics of the alicyclic structure-containing polymer.
열가소성 수지 B2는, 자외선 흡수제의 함유율이, 통상 3.0 중량% 이하이고, 바람직하게는 2.0 중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 1.5 중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0 중량% 이하이고, 특히 바람직하게는, 실질적으로 0 중량%이며, 가장 바람직하게는 자외선 흡수제를 포함하지 않는다. 열가소성 수지 B2의 자외선 흡수제의 함유율이, 상기 상한값 이하임으로써, 광학 필름의 표면에 자외선 흡수제가 블리드 아웃하는 것을 억제할 수 있다.In the thermoplastic resin B2, the content of the ultraviolet absorber is usually 3.0% by weight or less, preferably 2.0% by weight or less, more preferably 1.5% by weight or less, still more preferably 1.0% by weight or less, particularly preferably is substantially 0% by weight, and most preferably contains no ultraviolet absorber. When the content rate of the ultraviolet absorber of thermoplastic resin B2 is below the said upper limit, it can suppress that a ultraviolet absorber bleeds out to the surface of an optical film.
열가소성 수지 B2는, 상기의 중합체 외에, 임의 성분을 포함할 수 있다. 임의 성분으로는, 수지 A가 포함할 수 있는 임의 성분과 동일한 성분을 사용할 수 있다.Thermoplastic resin B2 may contain arbitrary components other than said polymer. As the optional component, the same component as the optional component that the resin A may contain can be used.
열가소성 수지 B1과 열가소성 수지 B2는, 포함되는 중합체, 성분비, 물성 등이 다른, 서로 이종의 수지일 수 있다. 그러나, 광학 필름의 컬을 억제하는 관점 및 광학 필름의 제조를 용이하게 하는 관점에서, 열가소성 수지 B1과 열가소성 수지 B2는, 동일한 수지인 것이 바람직하다.The thermoplastic resin B1 and the thermoplastic resin B2 may be different types of resins with different polymers, component ratios, physical properties, etc. included. However, it is preferable that thermoplastic resin B1 and thermoplastic resin B2 are the same resin from a viewpoint of suppressing the curl of an optical film, and a viewpoint of making manufacture of an optical film easy.
수지층 B1의 두께는, 바람직하게는 1μm 이상, 보다 바람직하게는 2μm 이상이고, 바람직하게는 15μm 이하, 보다 바람직하게는 10μm 이하이다.The thickness of the resin layer B1 is preferably 1 µm or more, more preferably 2 µm or more, preferably 15 µm or less, and more preferably 10 µm or less.
수지층 B2의 두께의 범위는, 수지층 B1의 두께의 범위와 동일하게 할 수 있다. 광학 필름의 컬을 억제하는 관점에서, 수지층 B1과 수지층 B2는, 서로 동일한 두께를 갖는 것이 바람직하다.The range of the thickness of the resin layer B2 can be made the same as the range of the thickness of the resin layer B1. From a viewpoint of suppressing the curl of an optical film, it is preferable that resin layer B1 and resin layer B2 have mutually the same thickness.
수지층 B1과 수지층 B2의 총 두께의, 수지층 A1의 두께에 대한 비율((B1 + B2)/A1)은, 바람직하게는 1/25 이상, 보다 바람직하게는 1/10 이상, 더욱 바람직하게는 1/5 이상이고, 바람직하게는 10/1 이하, 보다 바람직하게는 6/1 이하, 더욱 바람직하게는 4/1 이하이다.The ratio ((B1 + B2)/A1) of the total thickness of the resin layer B1 and the resin layer B2 to the thickness of the resin layer A1 is preferably 1/25 or more, more preferably 1/10 or more, still more preferably Preferably it is 1/5 or more, Preferably it is 10/1 or less, More preferably, it is 6/1 or less, More preferably, it is 4/1 or less.
본 실시형태의 광학 필름도, 상기 [1.5. 광학 필름의 특성]에 있어서 서술한 특성을 구비할 수 있다.The optical film of the present embodiment is also described in [1.5. Characteristics of the optical film].
본 실시형태의 광학 필름은, 종전 공지의 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 본 실시형태의 광학 필름은, 용융 성형법 또는 용액 유연법에 의해 제조할 수 있다.The optical film of this embodiment can be manufactured by a previously well-known manufacturing method. For example, the optical film of this embodiment can be manufactured by the melt molding method or the solution casting method.
본 실시형태의 광학 필름은, 용융 성형법으로 제조되는 것이 바람직하고, 공압출법으로 제조되는 것이 보다 바람직하다. 공압출법으로는, 예를 들어, 공압출 T 다이법, 공압출 인플레이션법, 공압출 라미네이션법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 공압출 T 다이법이 바람직하다.It is preferable that it is manufactured by the melt molding method, and, as for the optical film of this embodiment, it is more preferable that it is manufactured by the co-extrusion method. Examples of the co-extrusion method include a co-extrusion T-die method, a co-extrusion inflation method, and a co-extrusion lamination method. Among them, the coextrusion T-die method is preferable.
공압출 T 다이법에 의한 광학 필름의 제조 방법을 이하에 설명한다.The manufacturing method of the optical film by the coextrusion T-die method is demonstrated below.
열가소성 수지 B1, 수지 A, 및 열가소성 수지 B2를 용융하고, 각각을 T 다이에 공급하여, 공압출한다. 공압출에 의해, 열가소성 수지 B1의 층, 수지 A의 층, 및 열가소성 수지 B2의 층이 이 순서로 적층된 압출 필름이 얻어진다. 압출 필름을 통상 냉각 롤 상에서 냉각하고, 이어서 권취 롤에 권취함으로써, 장척의 광학 필름이 얻어진다.The thermoplastic resin B1, the resin A, and the thermoplastic resin B2 are melted, and each is supplied to a T-die and co-extruded. By co-extrusion, the extruded film in which the layer of the thermoplastic resin B1, the layer of the resin A, and the layer of the thermoplastic resin B2 were laminated|stacked in this order is obtained. An elongate optical film is obtained by cooling an extruded film on a cooling roll normally, and then winding it up on a winding roll.
상기 공압출법에 의해 얻어진 광학 필름에 대하여, 필요에 따라 연신, 트리밍 등 처리가 더 행하여져도 된다.With respect to the optical film obtained by the said coextrusion method, you may further perform a process, such as extending|stretching and trimming, as needed.
[1.9. 광학 필름의 용도][1.9. Use of optical film]
광학 필름은, 편광판 보호 필름, λ/4판 등의, 편광판의 요소로서 호적하게 사용될 수 있다. 광학 필름을 포함하는 편광판은, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 결합하는 편광판으로서, 호적하게 사용될 수 있다.The optical film can be suitably used as an element of a polarizing plate, such as a polarizing plate protective film and (lambda)/4 plate. The polarizing plate containing an optical film can be used suitably as a polarizing plate couple|bonded with image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescent display.
[2. 편광판][2. Polarizer]
본 발명의 일 실시형태에 따른 편광판은, 상기 개시된 광학 필름과, 편광자를 포함한다.A polarizing plate according to an embodiment of the present invention includes the optical film disclosed above and a polarizer.
[2.1. 편광자][2.1. polarizer]
편광자로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올, 부분 포르말화 폴리비닐알코올 등의 적절한 비닐알코올계 중합체의 필름에, 요오드 및 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리, 연신 처리, 가교 처리 등의 적절한 처리를 적절한 순서 및 방식으로 실시한 필름을 들 수 있다. 또한, 편광자의 다른 예로는, 그리드 편광자, 다층 편광자, 콜레스테릭 액정 편광자 등의, 편광을 반사광과 투과광으로 분리하는 기능을 갖는 편광자를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올을 포함하는 폴리비닐알코올 수지 필름으로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이러한 편광자는, 자연광을 입사시키면 직선 편광을 투과시킬 수 있는 것으로, 특히, 광 투과율 및 편광도가 우수한 것이 바람직하다. 편광자의 두께는, 5μm ~ 80μm가 일반적이지만, 이에 한정되지 않는다.As the polarizer, for example, a film of an appropriate vinyl alcohol polymer such as polyvinyl alcohol or partially formalized polyvinyl alcohol is dyed with a dichroic substance such as iodine and a dichroic dye, stretching treatment, crosslinking treatment, etc. Films in which proper treatment of Further, other examples of the polarizer include a polarizer having a function of separating polarized light into reflected light and transmitted light, such as a grid polarizer, a multilayer polarizer, and a cholesteric liquid crystal polarizer. Especially, the polarizer which consists of a polyvinyl alcohol resin film containing polyvinyl alcohol is preferable. Such a polarizer can transmit linearly polarized light when natural light is incident, and in particular, it is preferable that the light transmittance and the degree of polarization are excellent. Although 5 micrometers - 80 micrometers are common as for the thickness of a polarizer, it is not limited to this.
[2.2. 광학 필름][2.2. optical film]
편광판에 포함되는 광학 필름은, [1. 광학 필름]에 있어서 설명한 광학 필름과 동일하다.The optical film contained in the polarizing plate is [1. Optical film], it is the same as that of the optical film demonstrated in.
광학 필름은, 파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이, 0.1nm 이상인 필름이어도 되고, Re(590)이 300nm 이하인 필름이어도 된다.The optical film may be a film in which retardation Re(590) in the in-plane direction at a wavelength of 590 nm is 0.1 nm or more, or may be a film in which Re(590) is 300 nm or less.
예를 들어, 광학 필름으로서, λ/4판으로서 기능하는 필름을 선택함으로써, 편광판을 원 편광판으로서 기능시킬 수 있다.For example, as an optical film, a polarizing plate can be made to function as a circularly polarizing plate by selecting the film which functions as (lambda)/4 plate.
편광자는, 광학 필름의 일측 및 타측의, 어느 측에 형성되어 있어도 된다. 예를 들어, 광학 필름이, 제 2 실시형태에 따른 광학 필름과 같이, 수지층 A 외에 수지층 B1 및 수지층 B2를 더 구비하는 경우, 광학 필름은, 편광자, 수지층 B1, 수지층 A, 및 수지층 B2를 이 순서로 구비하고 있어도 되고, 편광자, 수지층 B2, 수지층 A, 및 수지층 B1을 이 순서로 구비하고 있어도 된다.The polarizer may be formed on either side of the one side and the other side of the optical film. For example, when the optical film further includes a resin layer B1 and a resin layer B2 in addition to the resin layer A like the optical film according to the second embodiment, the optical film is a polarizer, a resin layer B1, a resin layer A, and resin layer B2 may be provided in this order, and a polarizer, resin layer B2, resin layer A, and resin layer B1 may be provided in this order.
[2.3. 제 3 실시형태의 편광판][2.3. Polarizing plate of 3rd embodiment]
제 3 실시형태에 따른 편광판에서는, 편광자의 일방의 면 상에, 광학 필름이 형성되어 있다. 도 2는, 제 3 실시형태에 따른 편광판을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 편광판(210)은, 광학 필름(211)과, 편광자(214)를 포함한다. 편광자(214)의 일방의 면(214U) 상에, 편광자(214)에 접하도록, 광학 필름(211)이 형성되어 있다.In the polarizing plate which concerns on 3rd Embodiment, the optical film is formed on one surface of a polarizer. 2 : is sectional drawing which shows typically the polarizing plate which concerns on 3rd Embodiment. As shown in FIG. 2 , the
광학 필름(211)은, λ/4판으로서 기능하는 필름인 것이 바람직하다.The
광학 필름(211)이, λ/4판으로서 기능하는 필름인 경우, 광학 필름(211)의 지상축과, 편광자의 투과축이 이루는 각도는, 45° 또는 그것에 가까운 각도인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 바람직하게는 45°±5°, 보다 바람직하게는 45°±3°, 더욱 바람직하게는 45°±1°이다. 이에 의해, 편광판이 원 편광판으로서 기능할 수 있다.When the
다른 실시형태에서는, 편광자와 광학 필름 사이에, 접착층 등의 다른 층이 형성되어 있어도 된다.In another embodiment, other layers, such as a contact bonding layer, may be formed between a polarizer and an optical film.
또 다른 실시형태에서는, 편광자와 광학 필름 사이에, λ/2판 등의, 위상차를 갖는 층이 형성되어 있어도 된다.In another embodiment, a layer having a phase difference, such as a λ/2 plate, may be formed between the polarizer and the optical film.
[2.4. 제 4 실시형태의 편광판][2.4. Polarizing plate of 4th embodiment]
제 4 실시형태에 따른 편광판은, 광학 필름과, 편광자와, 위상차층 C를 더 포함한다. 위상차층 C는, 파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이, 통상 70nm 이상, 바람직하게는 80nm 이상, 보다 바람직하게는 90nm 이상이고, 바람직하게는 300nm 이하이다. 위상차층 C는, 예를 들어, λ/4판으로서의 기능을 갖는 층 또는 λ/2판으로서의 기능을 갖는 층이어도 된다.The polarizing plate which concerns on 4th Embodiment further contains the optical film, a polarizer, and the retardation layer C. In the retardation layer C, retardation Re (590) in the in-plane direction at a wavelength of 590 nm is usually 70 nm or more, preferably 80 nm or more, more preferably 90 nm or more, and preferably 300 nm or less. The retardation layer C may be, for example, a layer having a function as a λ/4 plate or a layer having a function as a λ/2 plate.
도 3은, 제 4 실시형태에 따른 편광판을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 편광판(220)은, 광학 필름(221)과, 편광자(224)와, 위상차층 C로서의 위상차층(225)을 포함한다. 편광자(224)의 일방의 면(224U) 상에, 편광자(224)에 접하도록 광학 필름(221)이 형성되어 있다. 편광자(224)의 타방의 면(224D) 상에, 편광자(224)에 접하도록 위상차층(225)이 형성되어 있다.3 : is sectional drawing which shows typically the polarizing plate which concerns on 4th Embodiment. As shown in FIG. 3 , the
광학 필름(221)은, 파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이, 0nm 또는 그것에 가까운 값인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 바람직하게는 10nm 미만, 보다 바람직하게는 5nm 이하이다. 이에 의해, 편광자(224)를 통과한 직선 편광의 편광 상태가 변화하는 것을 억제할 수 있다.As for the
다른 실시형태에서는, 편광자와 광학 필름 사이에, 접착층 등의 다른 층이 형성되어 있어도 된다. 또 다른 실시형태에서는, 편광자와 위상차층 사이에, 접착층 등의 다른 층이 형성되어 있어도 된다.In another embodiment, other layers, such as a contact bonding layer, may be formed between a polarizer and an optical film. In another embodiment, other layers, such as a contact bonding layer, may be formed between a polarizer and retardation layer.
[3. 화상 표시 장치][3. image display device]
본 발명의 일 실시형태에 따른 화상 표시 장치는, 상기 개시된 편광판과, 화상 표시 장치를 포함한다. 화상 표시 장치로는, 임의의 방식의 화상 표시 장치를 사용할 수 있다. 화상 표시 장치의 예로는, 액정 셀을 구비하는 액정 표시 장치 및 유기 EL 소자를 구비하는 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 이하, 화상 표시 장치의 바람직한 실시형태에 대하여 설명한다.An image display apparatus according to an embodiment of the present invention includes the polarizing plate disclosed above and an image display apparatus. As the image display device, any type of image display device can be used. As an example of an image display apparatus, the organic electroluminescent display provided with the liquid crystal display device provided with a liquid crystal cell, and organic electroluminescent element is mentioned. Hereinafter, preferred embodiment of the image display device will be described.
[3.1. 제 5 실시형태의 화상 표시 장치][3.1. Image display device according to the fifth embodiment]
제 5 실시형태의 화상 표시 장치는, 광학 필름과, 편광자와, 화상 표시 소자를 포함한다. 도 4는, 제 5 실시형태에 따른 화상 표시 장치를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시형태에 따른 화상 표시 장치(310)는, 편광자(214), 광학 필름(211), 및 화상 표시 소자(316)를 이 순서로 포함한다. 광학 필름(211)은, 상기와 같이, λ/4판으로서의 기능을 갖는 것이 바람직하다. 이에 의해, 편광자(214) 및 광학 필름(211)을 구비하는 편광판(210)이, 외광의 반사를 억제할 수 있다.The image display apparatus of 5th Embodiment contains an optical film, a polarizer, and an image display element. 4 is a cross-sectional view schematically showing an image display device according to a fifth embodiment. The
화상 표시 장치(310)는, 편광자(214)를 투과한 자외선의 적어도 일부를, 광학 필름(211)이 흡수함으로써, 화상 표시 소자(316)에 도달하는 자외선의 양을 저감할 수 있다. 그 때문에, 화상 표시 장치(310)의 수명을 연장할 수 있다.In the
또한, 화상 표시 장치(310)에 포함되는 광학 필름(211)은, 화상 표시 소자(316)에 의해 반사된 광 중, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광을 효과적으로 흡수한다. 그 결과, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광이, 편광자(214)로부터 외부로 투과하여 시인되는 것을 억제함으로써, 화상 표시 장치(310)의 정면 색상을 개선할 수 있다. 또한, 광학 필름(211)은, 파장 430nm의 광을 높은 비율로 투과시킬 수 있다. 그 결과, 화상 표시 장치(310)의 색감에 큰 영향을 미치지 않고, 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다.In addition, the
[3.2. 제 6 실시형태의 화상 표시 장치][3.2. Image display device according to the sixth embodiment]
제 6 실시형태의 화상 표시 장치는, 광학 필름과, 편광자와, 위상차층 C와, 화상 표시 소자를 포함한다. 도 5는, 제 6 실시형태에 따른 화상 표시 장치를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 화상 표시 장치(320)는, 광학 필름(221), 편광자(224), 위상차층 C로서의 위상차층(225), 및 화상 표시 소자(326)를 이 순서로 포함한다. 화상 표시 장치(320)가 구비하는 광학 필름(221)은, 외부로부터의 자외선의 적어도 일부를 흡수한다. 이에 의해, 편광자(224)에 도달하는 자외선을 저감하여 편광자(224)를 자외선으로부터 보호할 수 있다. 또한, 광학 필름(221)은, 화상 표시 소자(326)에서 반사된 광 중, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광을 효과적으로 흡수한다. 그 결과, 파장 300nm 이상 410nm 이하의 광이, 위상차층(225)을 투과하고 또한 편광자(224)를 투과하여 시인되는 것을 억제함으로써, 화상 표시 장치(320)의 정면 색상을 개선할 수 있다. 또한, 광학 필름(221)은, 파장 430nm의 광을 높은 비율로 투과시킬 수 있다. 그 결과, 화상 표시 장치(320)의 색감에 큰 영향을 미치지 않고, 화상 표시 장치의 정면 색상을 개선할 수 있다.The image display apparatus of 6th Embodiment contains an optical film, a polarizer, the retardation layer C, and an image display element. 5 is a cross-sectional view schematically showing an image display device according to a sixth embodiment. As shown in FIG. 5 , the
실시예Example
이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, this invention is not limited to the Example shown below, In the range which does not deviate from the Claim of this invention and its equivalent range, it can change arbitrarily and implement it.
이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한, 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에서 행하였다.In the following description, "%" and "part" indicating the quantity are based on weight, unless otherwise specified. In addition, the operation demonstrated below was performed under conditions of normal temperature and normal pressure, unless otherwise indicated.
[평가 방법][Assessment Methods]
(자외선 흡수제의 최대 흡수 파장)(Maximum absorption wavelength of UV absorber)
자외선 흡수제에 대하여, 파장 250nm 이상 파장 450nm 이하에 있어서의 광 흡수 스펙트럼을, 하기 조건으로 측정하였다.About the ultraviolet absorber, the light absorption spectrum in wavelength 250nm or more and wavelength 450nm or less was measured on the following conditions.
·장치: 자외 가시 분광 광도계(시마즈 제작소사 제조 「UV-2450」)・Apparatus: Ultraviolet visible spectrophotometer (“UV-2450” manufactured by Shimadzu Corporation)
·용매: 클로로포름·Solvent: chloroform
·농도: 10 ppmConcentration: 10 ppm
·셀: 1cm 석영Cell: 1 cm quartz
얻어진 광 흡수 스펙트럼으로부터, 최대 흡수 파장을 판독하였다.From the obtained light absorption spectrum, the maximum absorption wavelength was read.
(유리 전이 온도)(Glass Transition Temperature)
수지의 유리 전이 온도를, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여 측정하였다. 승온 속도는, 10℃/분으로 하였다.The glass transition temperature of the resin was measured using a differential scanning calorimeter (DSC). The temperature increase rate was 10°C/min.
(필름의 광선 투과율)(Light transmittance of the film)
파장 300nm ~ 450nm에 있어서의 광학 필름의 광선 투과율을, 자외 가시 근적외 분광 광도계(닛폰 분광사 제조 「V-7200」)를 사용하여 측정하였다. 측정시의 데이터 수집 간격은, 1nm로 하였다.The light transmittance of the optical film in wavelength 300nm - 450nm was measured using the ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer ("V-7200" by Nippon Kogyo Co., Ltd.). The data collection interval at the time of measurement was set to 1 nm.
얻어진 스펙트럼으로부터, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 최대 광선 투과율(%), 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율을 판독하였다.From the obtained spectrum, the maximum light transmittance (%) in wavelength 300nm or more and 410 nm or less, and the light transmittance in wavelength 430nm were read.
파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율 R을, 파장 420nm에 있어서의 광선 투과율 T(420)(%) 및 파장 410nm에 있어서의 광선 투과율 T(410)(%)으로부터, 하기의 식으로부터 산출하였다.The increase rate R of the light transmittance at a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less is obtained from the light transmittance T (420) (%) at a wavelength of 420 nm and the light transmittance T (410) (%) at a wavelength of 410 nm, from the following formula calculated.
R(%/nm) = (T(420) - T(410))/(420 - 410)R(%/nm) = (T(420) - T(410))/(420 - 410)
(수지층 A의 두께)(thickness of resin layer A)
실시예 1 ~ 3, 비교예 1 ~ 3에 있어서는, 필름의 두께를, 접촉식 막두께계에 의해 측정하여, 수지층 A의 두께로 하였다.In Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3, the thickness of the film was measured with the contact-type film thickness meter, and it was set as the thickness of the resin layer A.
실시예 4 ~ 8, 비교예 4에 있어서는, 필름을 두께 방향으로 절단하고, 단면을 광학 현미경에 의해 관찰함으로써 수지층 A의 두께를 측정하였다.In Examples 4 to 8 and Comparative Example 4, the thickness of the resin layer A was measured by cutting the film in the thickness direction and observing the cross section with an optical microscope.
(필름의 면내 리타데이션 Re(590)의 측정 방법)(Method for measuring in-plane retardation Re (590) of film)
필름의 파장 590nm에 있어서의 면내 리타데이션 Re(590)은, 측정 파장 590nm에서, AXOMETRICS사 제조 「AxoScan」에 의해 측정하였다.In-plane retardation Re(590) in the wavelength of 590 nm of the film was measured by "AxoScan" manufactured by AXOMETRICS at a measurement wavelength of 590 nm.
(내광성 시험)(Lightfastness test)
실시예 1 ~ 8, 비교예 1 ~ 4의 광학 필름을 사용하여, 자외선의 조사에 의한 내광성 시험을 행하였다. 조사는, 슈퍼 크세논 웨더 미터(SX75: 스가 시험기사 제조)를 사용하여, 72 W/m2, 블랙 패널 온도 63℃, 습도 50%RH의 조건으로 행하였다. 조사 300시간 후에 광학 필름을 꺼내고, 파장 410nm에 있어서의 흡광도의 유지율을 하기 식에 따라 구하였다.Examples 1-8 and the optical film of Comparative Examples 1-4 were used and the light resistance test by irradiation of an ultraviolet-ray was done. Irradiation was performed using the super xenon weather meter (SX75: made by Suga Test Co., Ltd.) on conditions of 72 W/m<2> , black panel temperature 63 degreeC, and humidity 50%RH. The optical film was taken out after 300 hours of irradiation, and the retention of the absorbance in wavelength 410nm was calculated|required according to the following formula.
유지율(%) = (A1/A0) × 100Retention (%) = (A 1 /A 0 ) × 100
여기서, A0은 내광성 시험 전의 광학 필름의 파장 410nm에 있어서의 흡광도이고, A1은 내광성 시험 후의 광학 필름의 파장 410nm에 있어서의 흡광도이며, A0 및 A1은, 상기의 자외 가시 근적외 분광 광도계(닛폰 분광사 제조 「V-7200」)를 사용하여 측정하였다.Here, A 0 is the absorbance at a wavelength of 410 nm of the optical film before the light resistance test, A 1 is the absorbance at a wavelength of 410 nm of the optical film after the light resistance test, A 0 and A 1 are the above-mentioned ultraviolet visible near-infrared spectroscopy. It measured using the photometer ("V-7200" by Nippon Kogyo Co., Ltd.).
얻어진 흡광도의 유지율의 값으로부터, 내광성을 하기의 기준으로 판정하였다.From the obtained value of the retention of absorbance, light resistance was judged on the following reference|standard.
A: 흡광도의 유지율이 80% 이상.A: The retention of absorbance is 80% or more.
B: 흡광도의 유지율이 80% 미만.B: The retention of absorbance is less than 80%.
(색상 표시 성능)(color display performance)
색상 표시 성능의 평가는, 하기와 같이 행하였다.Evaluation of color display performance was performed as follows.
시판의 유기 EL 화상 표시 장치(Galaxy-S, Samsung사 제조)의 시인측에 평가 대상의 광학 필름을 첩합하였다.The optical film to be evaluated was pasted together on the visual recognition side of a commercially available organic electroluminescent image display apparatus (Galaxy-S, the Samsung company make).
유기 EL 화상 표시 장치를 백색 표시 상태로 하고, 시야각 측정 평가 장치(Autronic-MELCHERS사 제조 「ErgoScope」)를 사용하여, 표시면의 정면 방향에서 색상을 관찰하였다. 하기 기준에 의해 색상 표시 성능을 평가하였다.The organic electroluminescent image display apparatus was made into a white display state, and the hue was observed from the front direction of a display surface using the viewing angle measurement evaluation apparatus ("ErgoScope" by Autronic-MELCHERS). The color display performance was evaluated according to the following criteria.
A: 전체적으로 균일하고 색상의 변화는 보이지 않았다.A: It was uniform throughout and no color change was observed.
B: 전체적으로 거의 균일하고 색상의 변화는 거의 보이지 않았다.B: It was almost uniform as a whole, and the change of color was hardly seen.
C: 화상 상에 색상의 변화가 보였다.C: A change in color was seen on the image.
[제조예 1 화합물(a1): 6-(2H-벤조트리아졸-2-일)벤조[1,3]디옥솔-5-올의 합성][Preparation Example 1 Compound (a1): Synthesis of 6-(2H-benzotriazol-2-yl)benzo[1,3]dioxol-5-ol]
[화학식 2][Formula 2]
200ml의 4구 플라스크에 구관 컨덴서(Allihn condenser), 온도계, 교반 장치를 장착하고, 오르토니트로아닐린 15.2g(0.110 몰), 62.5% 황산 25.4g(0.162 몰)을 넣어 용해시키고, 교반시키면서 85ml의 물을 첨가하였다. 이것에 36% 아질산나트륨 수용액 21.7g(0.113 몰)을 3 ~ 7℃에서 적하하고, 동일한 온도에서 2시간 교반하여 디아조늄염 수용액을 147g 얻었다. 500ml의 4구 플라스크에 구관 컨덴서, 온도계, 교반 장치를 장착하고, 메탄올 120ml, 수산화나트륨 4.6g(0.115 몰), 탄산나트륨 6.2g(0.058 몰), 세사몰 15.2g(0.110 몰)을 넣어 혼합하고, 디아조늄염 수용액을 3 ~ 7℃에서 적하하여, 동일한 온도에서 4시간 교반하였다. 62.5% 황산으로 pH 4로 조정하고, 생성된 침전물을 여과, 수세, 건조하여, 적색 결정을 40.3g 얻었다. 이 40.3g을 이소프로필알코올 수용액으로 리펄프 세정하여, 6-(2-니트로페닐아조)벤조[1,3]디옥솔-5-올을 22.0g, 적색 결정으로서 얻었다.Equipped with an Allihn condenser, a thermometer, and a stirring device in a 200 ml four-necked flask, 15.2 g (0.110 mol) of orthonitroaniline, 25.4 g (0.162 mol) of 62.5% sulfuric acid were put and dissolved, and while stirring, 85 ml of water was added. To this, 21.7 g (0.113 mol) of a 36% aqueous sodium nitrite solution was added dropwise at 3 to 7°C, followed by stirring at the same temperature for 2 hours to obtain 147 g of an aqueous diazonium salt solution. Equipped with a tube condenser, a thermometer, and a stirring device in a 500 ml four-necked flask, 120 ml of methanol, 4.6 g (0.115 mol) of sodium hydroxide, 6.2 g (0.058 mol) of sodium carbonate, and 15.2 g (0.110 mol) of sesamol were put and mixed, An aqueous solution of a diazonium salt was added dropwise at 3 to 7°C, followed by stirring at the same temperature for 4 hours. The pH was adjusted to 4 with 62.5% sulfuric acid, and the resulting precipitate was filtered, washed with water and dried to obtain 40.3 g of red crystals. This 40.3 g was repulped with an aqueous isopropyl alcohol solution to obtain 22.0 g of 6-(2-nitrophenylazo)benzo[1,3]dioxol-5-ol as red crystals.
300ml의 4구 플라스크에 구관 컨덴서, 온도계, 교반 장치를 장착하고, 이 적색 결정 22.0g(0.077 몰), 이소프로필알코올 100ml, 물 50ml, 수산화나트륨 3.7g(0.093 몰), 하이드로퀴논 0.2g, 60% 하이드라진 수화물 3.6g(0.043 몰)을 넣어 50 ~ 55℃에서 1시간 교반하고, 62.5% 황산으로 pH 7로 조정하고, 생성된 침전물을 여과, 수세, 건조하여, 6-(2H-벤조트리아졸-2-일)벤조[1,3]디옥솔-5-올-N-옥사이드를 18.4g 얻었다.A 300 ml 4-neck flask was equipped with a tube condenser, a thermometer and a stirring device, 22.0 g (0.077 mol) of this red crystal, 100 ml of isopropyl alcohol, 50 ml of water, 3.7 g (0.093 mol) of sodium hydroxide, 0.2 g of hydroquinone, 60 % hydrazine hydrate 3.6g (0.043 mol) was added, stirred at 50-55° C. for 1 hour, pH was adjusted to 7 with 62.5% sulfuric acid, and the resulting precipitate was filtered, washed with water, and dried, and 6-(2H-benzotriazole). 18.4 g of -2-yl)benzo[1,3]dioxol-5-ol-N-oxide was obtained.
1000ml의 4구 플라스크에 구관 컨덴서, 온도계, 교반 장치를 장착하고, N-옥사이드체 18.4g(0.068 몰), 톨루엔 360ml, 물 120ml, 아연말 8.9g(0.136 몰)을 넣어 혼합하고, 62.5% 황산 31.9g(0.203 몰)을 70 ~ 75℃를 유지해 1시간 동안 적하하고, 동일한 온도에서 1시간 교반하였다. 정치하여 하층부의 수층을 분리하여 제거하고, 온수 100ml로 세정하고, 활성탄 0.6g을 첨가하고, 환류 교반하여 탈색시켰다. 열시(熱時) 여과하고, 여과액으로부터 톨루엔 180ml를 회수한 후에 5℃까지 냉각하고, 석출되는 결정을 여과하여, 톨루엔 30ml로 세정한 후, 60℃에서 건조하여, 황색 결정(융점 195℃)인 화합물(a1)을 9.9g 얻었다. 화합물(a1)의 오르토니트로아닐린으로부터의 수율은 35%였다.Equipped with a tube condenser, a thermometer, and a stirring device in a 1000 ml 4-neck flask, 18.4 g (0.068 mol) of N-oxide, 360 ml of toluene, 120 ml of water, and 8.9 g (0.136 mol) of zinc powder were added and mixed, and 62.5% sulfuric acid was added. 31.9 g (0.203 mol) was added dropwise at 70 to 75° C. for 1 hour, followed by stirring at the same temperature for 1 hour. It left still to separate and remove the aqueous layer of the lower layer, wash with 100 ml of warm water, add 0.6 g of activated carbon, and decolorize by stirring under reflux. After heat filtration, 180 ml of toluene was recovered from the filtrate, cooled to 5° C., and the precipitated crystals were filtered, washed with 30 ml of toluene, dried at 60° C., and yellow crystals (melting point 195° C.) 9.9 g of phosphorus compound (a1) was obtained. The yield of compound (a1) from orthonitroaniline was 35%.
또한, 화합물(a1)의 자외 ~ 가시 흡수 스펙트럼을 측정한 결과, 최대 흡수 파장은 367nm이고, 파장 367nm에 있어서의 흡광도는 20900이었다.Moreover, as a result of measuring the ultraviolet-visible absorption spectrum of compound (a1), the maximum absorption wavelength was 367 nm, and the absorbance in wavelength 367nm was 20900.
[제조예 2 화합물(a2): 6-(5-메틸카르보닐옥시에틸-2H-벤조트리아졸-2-일)벤조[1,3]디옥솔-5-올의 합성][Preparation Example 2 Compound (a2): Synthesis of 6-(5-methylcarbonyloxyethyl-2H-benzotriazol-2-yl)benzo[1,3]dioxol-5-ol]
[화학식 3][Formula 3]
200ml의 4구 플라스크에 구관 컨덴서, 온도계, 교반 장치를 장착하고, 6-(5-하이드록시에틸-2H-벤조트리아졸-2-일)벤조[1,3]디옥솔-5-올 2.0g(0.0067 몰), 톨루엔 50ml, 아세트산 1.6g(0.0266 몰), 메탄술폰산 0.1g(0.0010 몰)을 넣어, 110 ~ 115℃에서 4시간 환류 탈수하였다. 온수 50ml로 3회 세정하고, 활성탄 0.1g을 첨가하고, 환류 교반하여 탈색시켰다. 열시(熱時)에 여과하고, 석출된 결정을 여과하여, 톨루엔 10ml로 세정한 후, 60℃에서 건조하여, 화합물(a2)를 2.2g 얻었다. 6-(5-하이드록시에틸-2H-벤조트리아졸-2-일)벤조[1,3]디옥솔-5-올로부터의 수율은 96%였다.A 200 ml 4-neck flask was equipped with a tube condenser, a thermometer, and a stirring device, and 2.0 g of 6-(5-hydroxyethyl-2H-benzotriazol-2-yl)benzo[1,3]dioxol-5-ol (0.0067 mol), 50 ml of toluene, 1.6 g (0.0266 mol) of acetic acid, and 0.1 g (0.0010 mol) of methanesulfonic acid were added, and dehydrated under reflux at 110 to 115°C for 4 hours. After washing 3 times with 50 ml of warm water, 0.1 g of activated carbon was added, and the mixture was decolorized by stirring under reflux. After filtration at hot time, the precipitated crystals were filtered, washed with 10 ml of toluene, and dried at 60° C. to obtain 2.2 g of compound (a2). The yield from 6-(5-hydroxyethyl-2H-benzotriazol-2-yl)benzo[1,3]dioxol-5-ol was 96%.
또한, 화합물(a2)의 자외 ~ 가시 흡수 스펙트럼을 측정한 결과, 최대 흡수 파장은 368nm이고, 파장 368nm에 있어서의 흡광도는 22500이었다.Moreover, as a result of measuring the ultraviolet-visible absorption spectrum of compound (a2), the maximum absorption wavelength was 368 nm, and the absorbance in wavelength 368 nm was 22500.
[실시예 1][Example 1]
(수지 A의 제조)(Preparation of Resin A)
지환식 구조 함유 중합체로서의 시클로올레핀 중합체를 99 중량% 이상 포함하는, 시클로올레핀 수지 C1(닛폰 제온사 제조 「제오노아」, 유리 전이 온도 Tg = 126℃)을 건조시켰다. 건조시킨 시클로올레핀 수지 C1을 92 부와, 상기 제조예 1에 있어서 제조된, 자외선 흡수제로서의 화합물(a1)(세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물로서, 상기 식(1)에 있어서, R1이 수소 원자인 화합물) 8 부를, 2축 압출기를 사용해 혼합하여, 수지 A1을 얻었다.Cycloolefin resin C1 ("Zeonoa" manufactured by Nippon Zeon Corporation, glass transition temperature Tg=126°C) containing 99% by weight or more of a cycloolefin polymer as an alicyclic structure-containing polymer was dried. 92 parts of dried cycloolefin resin C1 and the compound (a1) (a compound containing a sesamol structure and a benzotriazole structure, 8 parts of compound) whose R<1> is a hydrogen atom was mixed using the twin screw extruder, and resin A1 was obtained.
(필름의 제조)(Manufacture of film)
기어 펌프 및 필터를 구비한 단축 압출기를 준비하였다. 이 단축 압출기에, 수지 A1을 투입하여, 용융시켰다. 용융된 수지 A1을, 기어 펌프 이어서 필터를 통과시키고, T 다이로부터 압출하여, 냉각 롤을 통과시켜 두께 20μm의 광학 필름을 얻었다. 얻어진 광학 필름을 상기 방법에 의해 평가하였다.A single screw extruder equipped with a gear pump and filter was prepared. Resin A1 was put into this single screw extruder and melted. The molten resin A1 was passed through a gear pump followed by a filter, extruded from a T-die, and passed through a cooling roll to obtain an optical film having a thickness of 20 µm. The obtained optical film was evaluated by the said method.
[실시예 2][Example 2]
수지 A의 제조에 있어서 하기 사항을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 두께 20μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다.In manufacture of resin A, except having changed the following matter, it carried out similarly to Example 1, the 20-micrometer-thick optical film was obtained, and this was evaluated.
·시클로올레핀 수지 C1의 양을 94 부로 변경하였다.- The amount of cycloolefin resin C1 was changed to 94 parts.
·화합물(a1) 8 부 대신에, 상기 제조예 2에 있어서 제조된, 자외선 흡수제로서의 화합물(a2)(세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물로서, 상기 식(1)에 있어서, R1이 메틸카르보닐옥시에틸기인 화합물)을 6 부 사용하였다.- Compound (a2) (a compound containing a sesamol structure and a benzotriazole structure as an ultraviolet absorber, prepared in Preparation Example 2 above, in place of 8 parts of compound (a1), in the formula (1), R 6 parts of compounds in which 1 is a methylcarbonyloxyethyl group) were used.
[실시예 3][Example 3]
수지 A의 제조에 있어서 하기 사항을 변경하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 두께 15μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다.In manufacture of resin A, the following matter was changed and except having adjusted the manufacturing conditions of the film, it carried out similarly to Example 1, the 15 micrometers-thick optical film was obtained, and this was evaluated.
·시클로올레핀 수지 C1을 92 부 대신에, 지환식 구조 함유 중합체로서의 시클로올레핀 중합체를 99 중량% 이상 포함하는, 시클로올레핀 수지 C2(JSR사 제조 「아톤」)를 93 부 사용하였다.- In place of 92 parts of cycloolefin resin C1, 93 parts of cycloolefin resin C2 ("Aton" manufactured by JSR Corporation) containing 99% by weight or more of a cycloolefin polymer as an alicyclic structure-containing polymer was used.
·화합물(a1)의 양을 7 부로 변경하였다.- The amount of compound (a1) was changed to 7 parts.
[실시예 4][Example 4]
열가소성 수지 B1 및 열가소성 수지 B2로서, 상기 시클로올레핀 수지 C1을 준비하였다. 수지 A로서, 상기 수지 A1을 준비하였다. 기어 펌프 및 필터를 구비한 단축 압출기를 3대 준비하였다. 3대의 단축 압출기에, 상기 수지 C1, 수지 A1, 및 수지 C1을 각각 투입하고, 용융시켜, 기어 펌프 이어서 필터를 통과시켰다. 이어서, 용융된 상기 수지 C1, 수지 A1, 및 수지 C1을, 3층의 유로를 갖는 T 다이로부터 공압출하여, 냉각 롤을 통과시켜, (수지 C1의 층/수지 A1의 층/수지 C1의 층)의 층 구성을 갖는 두께 34μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다. 수지 A1의 층의 두께는, 20μm였다.As the thermoplastic resin B1 and the thermoplastic resin B2, the cycloolefin resin C1 was prepared. As the resin A, the resin A1 was prepared. Three single screw extruders equipped with gear pumps and filters were prepared. In three single screw extruders, the resin C1, the resin A1, and the resin C1 were respectively charged, melted, and passed through a gear pump and then a filter. Then, the molten resin C1, resin A1, and resin C1 are co-extruded from a T-die having a three-layer flow path, and passed through a cooling roll, (layer of resin C1/layer of resin A1/layer of resin C1) ) to obtain an optical film having a thickness of 34 µm and evaluated it. The thickness of the layer of resin A1 was 20 micrometers.
[실시예 5][Example 5]
열가소성 수지 B1 및 열가소성 수지 B2로서, 건조시킨 시클로올레핀 수지 C1을 98.5 부와, 상기 제조예 1에 있어서 제조된, 자외선 흡수제로서의 화합물(a1)(상기 식(1)에 있어서, R1이 수소 원자인 화합물) 1.5 부를, 2축 압출기를 사용해 혼합하여 얻은 수지를 준비하였다. 수지 A로서, 상기 수지 A1의 제조 방법에 있어서 하기 사항을 변경한 수지 A2를 준비하였다.As the thermoplastic resin B1 and the thermoplastic resin B2, 98.5 parts of the dried cycloolefin resin C1 and the compound (a1) as an ultraviolet absorber prepared in Production Example 1 above (in the formula (1), R 1 is a hydrogen atom) The resin obtained by mixing 1.5 parts of phosphorus compound) using a twin screw extruder was prepared. As resin A, resin A2 in which the following items were changed in the manufacturing method of the said resin A1 was prepared.
·시클로올레핀 수지 C1의 양을 93 부로 변경하였다.- The amount of cycloolefin resin C1 was changed to 93 parts.
·화합물(a1)의 양을 7 부로 변경하였다.- The amount of compound (a1) was changed to 7 parts.
이들 수지를 사용하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 두께 34μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다. 수지 A2의 층의 두께는, 20μm였다.Using these resins, except having adjusted the manufacturing conditions of a film, it carried out similarly to Example 4, and obtained the 34-micrometer-thick optical film, and evaluated this. The thickness of the layer of resin A2 was 20 micrometers.
[실시예 6][Example 6]
수지 A로서, 하기 사항을 변경한 것 이외에는 상기 수지 A1의 제조와 동일하게 하여 수지 A3을 제조하였다.As Resin A, Resin A3 was prepared in the same manner as in Preparation of Resin A1, except that the following items were changed.
·시클로올레핀 수지 C1의 양을 95 부로 변경하였다.- The amount of cycloolefin resin C1 was changed to 95 parts.
·화합물(a1)의 양을 5 부로 변경하였다.- The amount of compound (a1) was changed to 5 parts.
수지 A1 대신에 수지 A3을 사용하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여, 두께 90μm의 광학 필름을 얻고, 이어서 이 광학 필름을, 2축 연신 장치(토요 세이키 제작소사 제조 EX10-B)를 사용해 연신하여, 두께 58μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다. 수지 A3의 층의 두께는, 30μm였다.Resin A3 was used instead of resin A1, and except having adjusted the manufacturing conditions of a film, it carried out similarly to Example 4, and obtained the 90-micrometer-thick optical film, Then, this optical film was biaxially stretched apparatus (Toyo Seiki) It stretched using EX10-B) by a manufacturing company, and the 58-micrometer-thick optical film was obtained, and this was evaluated. The thickness of the layer of resin A3 was 30 micrometers.
[실시예 7][Example 7]
수지 A로서, 하기 사항을 변경한 것 이외에는 상기 수지 A1의 제조와 동일하게 하여 수지 A4를 제조하였다.As Resin A, Resin A4 was prepared in the same manner as in Preparation of Resin A1, except that the following items were changed.
·시클로올레핀 수지 C1의 양을 89 부로 변경하였다.- The amount of cycloolefin resin C1 was changed to 89 parts.
·화합물(a1)의 양을 11 부로 변경하였다.- The amount of compound (a1) was changed to 11 parts.
수지 A1 대신에 수지 A4를 사용하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여, 두께 35μm의 광학 필름을 얻고, 이어서 이 광학 필름을, 2축 연신 장치(토요 세이키 제작소사 제조 EX10-B)를 사용해 연신하여, 두께 24μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다. 수지 A4의 층의 두께는, 10μm였다.Resin A4 was used instead of resin A1, and except having adjusted the manufacturing conditions of a film, it carried out similarly to Example 4, to obtain an optical film with a thickness of 35 micrometers, Then, this optical film was biaxially stretched apparatus (Toyo Seiki) It stretched using EX10-B) manufactured by a manufacturing company, and a 24 micrometer-thick optical film was obtained, and this was evaluated. The thickness of the layer of resin A4 was 10 micrometers.
[실시예 8][Example 8]
필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여, 두께 40μm의 광학 필름을 얻고, 이어서 이 광학 필름을, 2축 연신 장치(토요 세이키 제작소사 제조 EX10-B)를 사용해 연신하여, 두께 27μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다. 수지 A1의 층의 두께는, 13μm였다.Except having adjusted the manufacturing conditions of the film, it carried out similarly to Example 4, obtained the 40-micrometer-thick optical film, Then, this optical film was stretched using the biaxial stretching apparatus (EX10-B by Toyo Seiki Seisakusho) Thus, an optical film having a thickness of 27 µm was obtained, and this was evaluated. The thickness of the layer of resin A1 was 13 micrometers.
[비교예 1][Comparative Example 1]
수지 A의 제조에 있어서 하기 사항을 변경하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 두께 20μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다.In manufacture of resin A, the following matter was changed and except having adjusted the manufacturing conditions of the film, it carried out similarly to Example 1, and obtained the 20-micrometer-thick optical film, and evaluated this.
·시클로올레핀 수지 C1 대신에, 폴리에틸렌테레프탈레이트(유니티카사 제조 「SA-8339P」)를 사용하였다.- Instead of the cycloolefin resin C1, polyethylene terephthalate ("SA-8339P" manufactured by Unitica Co., Ltd.) was used.
·화합물(a1) 대신에, 트리아진계 자외선 흡수제(ADEKA사 제조 「아데카스타브(등록상표) LA-F70」)를 사용하였다.- Instead of the compound (a1), a triazine-based ultraviolet absorber ("ADEKA STAB (registered trademark) LA-F70" manufactured by ADEKA) was used.
[비교예 2][Comparative Example 2]
수지 A의 제조에 있어서 하기 사항을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 두께 20μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다.In manufacture of resin A, except having changed the following matter, it carried out similarly to Example 1, the 20-micrometer-thick optical film was obtained, and this was evaluated.
·시클로올레핀 수지 C1을 92 부 대신에, 폴리에틸렌테레프탈레이트(유니티카사 제조 「SA-8339P」) 90.5 부를 사용하였다.- In place of 92 parts of cycloolefin resin C1, 90.5 parts of polyethylene terephthalate ("SA-8339P" manufactured by Unitica Corporation) was used.
·화합물(a1) 8 부 대신에, 트리아진계 자외선 흡수제(ADEKA사 제조 「아데카스타브(등록상표) LA-F70」) 8 부 및 인돌계 화합물(오리엔트 화학 공업 주식회사 제조 「BONASORB(등록상표) UA-3911」) 1.5 부를 사용하였다.・In place of 8 parts of compound (a1), 8 parts of a triazine-based ultraviolet absorber (“ADEKASTAB (registered trademark) LA-F70” manufactured by ADEKA) and 8 parts of an indole-based compound (“BONASORB (registered trademark) UA” manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) -3911") 1.5 parts were used.
[비교예 3][Comparative Example 3]
수지 A의 제조에 있어서 하기 사항을 변경하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 두께 20μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다.In manufacture of resin A, the following matter was changed and except having adjusted the manufacturing conditions of the film, it carried out similarly to Example 1, and obtained the 20-micrometer-thick optical film, and evaluated this.
·시클로올레핀 수지 C1의 양을 98.5 부로 변경하였다.- The amount of cycloolefin resin C1 was changed to 98.5 parts.
·화합물(a1) 8 부 대신에, 인돌계 화합물(오리엔트 화학 공업 주식회사 제조 「BONASORB(등록상표) UA-3911」) 1.5 부를 사용하였다.- 1.5 parts of an indole compound ("BONASORB (trademark) UA-3911" manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 8 parts of compound (a1).
[비교예 4][Comparative Example 4]
수지 A로서, 하기 사항을 변경한 것 이외에는 상기 수지 A1의 제조와 동일하게 하여 수지 A5를 제조하였다.As Resin A, Resin A5 was prepared in the same manner as in Preparation of Resin A1, except that the following items were changed.
·시클로올레핀 수지 C1의 양을 98.5 부로 변경하였다.- The amount of cycloolefin resin C1 was changed to 98.5 parts.
·화합물(a1) 8 부 대신에, 인돌계 화합물(오리엔트 화학 공업 주식회사 제조 「BONASORB(등록상표) UA-3911」) 1.5 부를 사용하였다.- 1.5 parts of an indole compound ("BONASORB (trademark) UA-3911" manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 8 parts of compound (a1).
수지 A1 대신에 수지 A5를 사용하고, 필름의 제조 조건을 조정한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여, 두께 34μm의 광학 필름을 얻고, 이것을 평가하였다. 수지 A5의 층의 두께는, 20μm였다.Resin A5 was used instead of resin A1, except having adjusted the manufacturing conditions of the film, it carried out similarly to Example 4, the 34 micrometers optical film was obtained, and this was evaluated. The thickness of the layer of resin A5 was 20 micrometers.
실시예 및 비교예의 결과를 하기 표에 나타낸다. 하기 표에 있어서의 약호는, 하기 의미를 나타낸다.The results of Examples and Comparative Examples are shown in the table below. The symbol in the following table|surface shows the following meaning.
C1: 시클로올레핀 수지(닛폰 제온사 제조 「제오노아」)C1: Cycloolefin resin (“Zeonoa” manufactured by Nippon Zeon)
C2: 시클로올레핀 수지(JSR사 제조 「아톤」)C2: Cycloolefin resin ("Aton" manufactured by JSR)
a1: 제조예 1에서 제조된 화합물(a1)a1: Compound (a1) prepared in Preparation Example 1
a2: 제조예 2에서 제조된 화합물(a2)a2: Compound (a2) prepared in Preparation Example 2
LA-F70: ADEKA사 제조 「아데카스타브(등록상표) LA-F70」LA-F70: "ADEKA STAB (registered trademark) LA-F70" manufactured by ADEKA
UA-3911: 오리엔트 화학 공업 주식회사 제조 「BONASORB(등록상표) UA-3911」UA-3911: manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd. "BONASORB (registered trademark) UA-3911"
Tmax(300-410): 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 최대 광선 투과율(%)Tmax (300-410): Maximum light transmittance (%) at a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less
T(430): 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율(%)T (430): light transmittance (%) at a wavelength of 430 nm
증가율 R: 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율 R(%/nm)Increase rate R: Increase rate R of the light transmittance in wavelength 410nm or more and 420 nm or less (%/nm)
파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이 4.0%/nm 이상인, 실시예 1, 2, 및 3의 단층의 광학 필름은, 유기 EL 화상 표시 장치로부터의 광을 저해하지 않고, 외광에 포함되는 자외선의 광을 효율 좋게 커트할 수 있다. 이에 의해, 유기 EL 화상 표시 장치의 표시 소자 등을 자외선으로부터 보호하는 동시에, 화상 표시 장치가 표시 색상을 거의 변화시키지 않고 명료한 표시가 가능한 것을 알 수 있다.The light transmittance in a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less is 10% or less, the light transmittance in a wavelength of 430 nm is 80% or more, and the increase rate of the light transmittance in a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less is 4.0%/nm or more, Example, The single-layer optical film of 1, 2, and 3 can cut the light of the ultraviolet-ray contained in external light efficiently, without inhibiting the light from an organic electroluminescent image display apparatus. Thereby, while protecting the display element etc. of an organic electroluminescent image display apparatus from an ultraviolet-ray, it turns out that a clear display is possible without an image display apparatus almost changing a display color.
또한, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이 4.0%/nm 이상인, 실시예 4, 5, 6, 7, 및 8의 다층의 광학 필름은, 유기 EL 화상 표시 장치로부터의 광을 저해하지 않고, 외광에 포함되는 자외선의 광을 효율 좋게 커트할 수 있다. 이에 의해, 유기 EL 화상 표시 장치의 표시 소자 등을 자외선으로부터 보호하는 동시에, 화상 표시 장치가 표시 색상을 거의 변화시키지 않고 명료한 표시가 가능한 것을 알 수 있다.In addition, the light transmittance in a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less is 10% or less, the light transmittance in a wavelength of 430 nm is 80% or more, and the increase rate of the light transmittance in a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less is 4.0%/nm or more, The multilayer optical film of Examples 4, 5, 6, 7, and 8 can cut the light of the ultraviolet-ray contained in external light efficiently, without inhibiting the light from an organic electroluminescent image display apparatus. Thereby, while protecting the display element etc. of an organic electroluminescent image display apparatus from an ultraviolet-ray, it turns out that a clear display is possible without an image display apparatus changing almost a display color.
100: 광학 필름
101: 수지층
101U: 면
102: 수지층
102D: 면
103: 수지층
210: 편광판
211: 광학 필름
214: 편광자
214U: 면
220: 편광판
221: 광학 필름
224: 편광자
224D: 면
224U: 면
225: 위상차층
310: 화상 표시 장치
316: 화상 표시 소자
320: 화상 표시 장치
326: 화상 표시 소자100: optical film
101: resin layer
101U: Cotton
102: resin layer
102D: Cotton
103: resin layer
210: polarizing plate
211: optical film
214: polarizer
214U: Cotton
220: polarizer
221: optical film
224: polarizer
224D: Cotton
224U: Cotton
225: retardation layer
310: image display device
316: image display element
320: image display device
326: image display element
Claims (8)
상기 수지층 A는, 수지 A로 형성되고,
상기 수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 50 중량% 이상과, 자외선 흡수제를 포함하고,
상기 광학 필름은, 파장 300nm 이상 410nm 이하에 있어서의 광선 투과율이 10% 이하이고, 파장 430nm에 있어서의 광선 투과율이 80% 이상이고, 파장 410nm 이상 420nm 이하에 있어서의 광선 투과율의 증가율이, 4.0%/nm 이상인,
광학 필름.An optical film comprising a resin layer A, comprising:
The resin layer A is formed of the resin A,
The resin A contains 50% by weight or more of an alicyclic structure-containing polymer and a UV absorber,
The optical film has a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 300 nm or more and 410 nm or less, a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 430 nm, and an increase rate of the light transmittance at a wavelength of 410 nm or more and 420 nm or less, 4.0% /nm or more,
optical film.
수지층 B1 및 수지층 B2를 더 포함하고,
상기 수지층 A의 일방의 면 상에 상기 수지층 B1이 형성되어 있고,
상기 수지층 A의 타방의 면 상에 상기 수지층 B2가 형성되어 있고,
상기 수지층 B1은, 자외선 흡수제의 함유율이 3.0 중량% 이하인 열가소성 수지 B1로 형성되고,
상기 수지층 B2는, 자외선 흡수제의 함유율이 3.0 중량% 이하인 열가소성 수지 B2로 형성되어 있는, 광학 필름.The method of claim 1,
Further comprising a resin layer B1 and a resin layer B2,
The resin layer B1 is formed on one surface of the resin layer A,
The resin layer B2 is formed on the other surface of the resin layer A,
The resin layer B1 is formed of a thermoplastic resin B1 having a UV absorber content of 3.0 wt% or less,
The said resin layer B2 is formed from the thermoplastic resin B2 whose content rate of a ultraviolet absorber is 3.0 weight% or less, The optical film.
공압출 필름인, 광학 필름.3. The method of claim 2,
An optical film, which is a coextruded film.
상기 자외선 흡수제가, 세사몰 구조 및 벤조트리아졸 구조를 포함하는 화합물을 포함하는, 광학 필름.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The optical film, wherein the ultraviolet absorber includes a compound having a sesamol structure and a benzotriazole structure.
파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이 0.1nm 이상인, 광학 필름.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The optical film whose retardation Re(590) of the in-plane direction in wavelength 590nm is 0.1 nm or more.
파장 590nm에 있어서의 면내 방향의 리타데이션 Re(590)이 70nm 이상인 위상차층 C를 더 포함하는, 편광판.7. The method of claim 6,
The polarizing plate further including the retardation layer C whose retardation Re (590) of the in-plane direction in wavelength 590 nm is 70 nm or more.
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