KR20210114534A - 유로 어셈블리, 이 유로 어셈블리를 사용한 밸브 장치, 유체제어장치, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 22
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 8
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 6
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16K25/00—Details relating to contact between valve members and seats
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- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
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- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
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- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/02—Construction of housing; Use of materials therefor of lift valves
- F16K27/0236—Diaphragm cut-off apparatus
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- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K47/00—Means in valves for absorbing fluid energy
- F16K47/08—Means in valves for absorbing fluid energy for decreasing pressure or noise level and having a throttling member separate from the closure member, e.g. screens, slots, labyrinths
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- F16K7/00—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- G01F1/40—Details of construction of the flow constriction devices
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Abstract
오리피스나 필터 등의 기능 부품이 짜 넣어진 유로 어셈블리이며, 기능 부품과 유로부품과의 사이가 장기간 확실히 밀봉된 유로 어셈블리를 제공한다. 제1유로부재(51)는, 환형 씰 부재(54)의 중심축선(Ｃｔ)방향의 일단면을 지지하는 제1의 씰면(51f)을 갖고, 상기 제2유로부재는, 플레이트형 부재의 표면을 지지하는 평탄면으로 이루어지는 제2의 씰면과, 환형 씰 부재의 외주면을 지지하는 제3의 씰면을, 갖고, 환형 씰 부재는, 해당 환형 씰 부재의 타단면이 플레이트형 부재의 이면에 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 일단면이 제1유로부재의 제1의 씰면에 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 외주면이 제2의 유로부재의 제3의 씰면에 꽉 눌리고, 플레이트형 부재는 환형 씰 부재의 타단면에 의해 가압되어서 해당 플레이트형 부재의 표면이 제2유로부재의 제2씰면에 꽉 눌린다.
Description
본 발명은, 유로 어셈블리, 이 유로 어셈블리를 사용한 밸브 장치, 이 밸브 장치를 사용한, 유체제어장치, 반도체 제조 방법 및 반도체 제조 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 프로세스 등의 각종 제조 프로세스에 있어서는, 정확하게 계량한 프로세스 가스를 프로세스 챔버에 공급하기 위해서, 개폐 밸브, 레귤레이터, 매스 플로우 콘트롤러등의 각종의 유체기기를 집적화한 유체제어장치가 일반적으로 사용되고 있다.
상기와 같은 유체제어장치에서는, 관 이음매 대신에, 유로를 형성한 설치 블록(이하, 베이스 블록이라고 부른다)을 베이스 플레이트의 길이 방향을 따라 배치하고, 이 베이스 블록상에 복수의 유체기기나 관 이음매가 접속되는 이음매 블록 등을 포함하는 각종 유체기기를 설치함으로써, 집적화를 실현하고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).
각종 제조 프로세스에 있어서의 프로세스 가스의 공급 제어에는, 보다 높은 응답성이 요청되고 있고, 유체제어장치를 될 수 있는 한 소형화, 집적화하고, 유체의 공급처인 프로세스 챔버에 보다 가깝게 유체제어장치를 설치할 필요가 있다.
반도체 웨이퍼의 대구경화 등의 처리 대상물의 대형화가 진행되고 있고, 이것에 맞춰서 유체제어장치로부터 프로세스 챔버내에 공급하는 유체의 공급 유량도 증가시킬 필요가 있다.
또한, 프로세스 가스의 공급 제어의 응답성을 높이기 위해서는, 유로의 단축화가 필요 불가결하여, 오리피스나 필터 등의 기능 부품을 밸브 장치의 밸브 바디에 집약하는 기술도 제안되어 있다(특허문헌 2,3등을 참조).
이렇게, 오리피스나 필터 등의 기능 부품을 밸브 장치의 밸브 바디의 유로등에 집약하였을 때는, 유로를 획정하는 부재와 오리피스나 필터 등의 기능 부품과의 사이를 장기간 확실히 씰하는 기술이 필요하다.
본 발명의 일 목적은, 오리피스나 필터 등의 기능 부품이 짜 넣어진 유로 어셈블리이며, 기능 부품과 유로를 획정하는 유로부품과의 사이가 장기간 확실히 밀봉된 유로 어셈블리를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은, 유로의 일부를 형성하기 위해서 상기의 유로 어셈블리를 밸브 바디에 내장하는 밸브 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 더욱 다른 목적은, 상기의 밸브 장치를 사용한 유체제어장치, 반도체 제조 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 유로 어셈블리는, 접속부에 의해 서로 접속되는 유체유로를 획정하는 금속제의 제1유로부재 및 제2유로부재와,
상기 제1유로부재와 상기 제2유로부재와의 사이에 설치되고 또 상기 유체유로를 유통하는 유체에 특정한 작용을 미치는 작용부를 갖는 플레이트형 부재를, 갖는 유로 어셈블리이며,
제1유로부재 및 제2유로부재와의 사이에 설치된 수지제의 환형 씰 부재를 갖고,
상기 제1유로부재는, 상기 환형 씰 부재의 일단면을 지지하는 제1의 씰면을 갖고,
상기 제2유로부재는, 상기 플레이트형 부재의 표면을 지지하는 평탄면으로 이루어지는 제2의 씰면과, 상기 환형 씰 부재의 외주면을 지지하는 제3의 씰면을, 갖고,
상기 환형 씰 부재는, 상기 접속부에 의해 제1유로부재 및 제2유로부재의 사이에 작용하는 힘에 의해 눌러 찌부러뜨려져, 해당 환형 씰 부재의 타단면이 상기 플레이트형 부재의 이면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 일단면이 상기 제1유로부재의 제1의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 외주면이 상기 제2의 유로부재의 제3의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고,
상기 플레이트형 부재는 상기 환형 씰 부재의 타단면에 의해 가압되어 해당 플레이트형 부재의 표면이 상기 제2유로부재의 제2씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌린다.
본 발명의 유체제어 기기는, 복수의 유체기기가 배열된 유체제어장치이며,
상기 복수의 유체기기는, 상기 구성의 밸브 장치를 포함한다.
본 발명의 반도체 제조 장치는, 밀폐된 챔버내에 있어서 프로세스 가스에 의한 처리 공정을 필요로 하는 반도체장치의 제조 프로세스에 있어서, 상기 프로세스 가스의 유량제어에 상기 구성의 밸브 장치를 사용하고 있다.
본 발명의 반도체 제조 방법은, 밀폐된 챔버내에 있어서 프로세스 가스에 의한 처리 공정을 필요로 하는 반도체장치의 제조 프로세스에 있어서, 상기 프로세스 가스의 유량제어에 상기 구성의 밸브 장치를 사용한다.
본 발명에 의하면, 씰 부재를 눌러 찌부러뜨리는 것으로, 제1, 제2 및 제3의 씰면 및 플레이트형 부재의 이면이 씰 되므로, 장기간 확실한 씰이 제공된다.
[도1a] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 일부에 종단면을 포함하는 정면도이며, 밸브 요소가 폐쇄된 상태를 도시한 도면.
[도1b] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 일부에 종단면을 포함하는 정면도이며, 밸브 요소가 개방된 상태를 도시한 도면.
[도1c] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 상면도.
[도1d] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 저면도.
[도1e] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 측면도.
[도2] 인너 디스크의 단면도.
[도3] 밸브 시트의 단면도.
[도4a] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 주요부 확대 단면도.
[도4b] 도4a의 원Ａ내의 확대 단면도.
[도5] 본 발명의 실시 형태 2에 관련되는 밸브 장치의 일부에 종단면을 포함하는 정면도.
[도6] 본 발명의 실시 형태 2에 관련되는 밸브 장치의 주요부 확대 단면도.
[도7] 본 발명의 실시 형태에 관련되는 반도체 제조 장치의 개략 구성도.
[도8] 유체제어장치의 일례를 도시하는 외관 사시도.
[도1b] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 일부에 종단면을 포함하는 정면도이며, 밸브 요소가 개방된 상태를 도시한 도면.
[도1c] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 상면도.
[도1d] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 저면도.
[도1e] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 측면도.
[도2] 인너 디스크의 단면도.
[도3] 밸브 시트의 단면도.
[도4a] 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치의 주요부 확대 단면도.
[도4b] 도4a의 원Ａ내의 확대 단면도.
[도5] 본 발명의 실시 형태 2에 관련되는 밸브 장치의 일부에 종단면을 포함하는 정면도.
[도6] 본 발명의 실시 형태 2에 관련되는 밸브 장치의 주요부 확대 단면도.
[도7] 본 발명의 실시 형태에 관련되는 반도체 제조 장치의 개략 구성도.
[도8] 유체제어장치의 일례를 도시하는 외관 사시도.
이하, 도면에 근거하여, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명한다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서는, 기능이 실질적으로 같은 구성 요소에는, 같은 부호를 사용하는 것에 의해 중복된 설명을 생략한다.
또한, 도중에 도시하는 화살표A1, A2는 상하방향을 나타내는 것이며, 화살표A1이 상방향, 화살표A2가 하방향을 나타내는 것이라고 한다. 도중에 도시하는 화살표B1, B2는, 밸브 장치(1)의 밸브 바디(20)의 길이 방향을 나타내는 것이며, 화살표B1이 일단측, 화살표B2가 타단측을 나타내는 것이라고 한다. 도중에 도시하는 화살표C1, C2는, 밸브 바디(20)의 길이 방향B1, B2에 직교하는 폭방향을 나타내는 것이며, 화살표C1이 전방면측, 화살표C2가 배면측을 나타내는 것이라고 한다.
실시 형태 1
도1a∼도1e는, 본 발명의 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치(1)의 구조의 일례를 도시하고 있다. 도2는, 밸브 장치(1)의 인너 디스크의 단면구조의 일례를 도시하고 있다. 도3은, 밸브 장치(1)의 밸브 시트의 단면구조의 일례를 도시하고 있다. 도4a는, 밸브 장치(1)의 주요부의 확대 단면을 도시하고 있다. 또한, 도1a 및 도1b는, 밸브 장치(1)의 동작을 도시하고 있다. 도1a는 밸브 요소가 폐쇄된 상태를 도시하고, 도1b는 밸브 요소가 개방된 상태를 도시하고 있다.
밸브 바디(20)는, 상면에서 볼 때 장방형상을 갖는 블록형의 부재다. 밸브 바디(20)는, 상면(20f1), 저면(20f2), 및 상면(20f1)과 저면(20f2)과의 사이에서 연장되는 4개의 측면(20f3∼20f6)으로 획정되어 있다. 아울러, 상면(20f1)에서 개구하는 수용 오목부(22)를 획정하고 있다. 수용 오목부(22)에는, 후술하는 밸브 요소(2)가 내장되어 있다.
도4a 등으로부터 알 수 있듯이, 수용 오목부(22)는, 지름이 상이한 내주면(22a, 22b, 22c)과, 저면(22d)으로 구성되어 있다. 내주면 22a, 22b, 22c는, 이 순서대로 지름이 작아지고 있다.
밸브 바디(20)는, 수용 오목부(22)에 접속된, 일차측 유로(21)와 이차측 유로(24A, 24B)를 획정하고 있다. 일차측 유로(21)는, 가스 등의 유체가 외부로부터 공급되는 측의 유로다. 이차측 유로(24A, 24B)는, 일차측 유로(21)로부터 밸브 요소(2)를 통해서 유입하는 가스 등의 유체를 외부에 유출시키는 유로다.
일차측 유로(21)는, 밸브 바디(20)의 저면(20f2)에 대하여 경사져서 형성되고, 일단이 수용 오목부(22)의 저면 22d에서 접속되고, 타단이 저면 20f2에서 개구하고 있다.
일차측 유로(21)의 저면(20f2)측의 개구의 주위에는, 씰 보유부(21a)가 형성되어 있다. 씰 보유부(21a)에는, 씰 부재로서 가스켓이 배치된다. 밸브 바디(20)는 도시하지 않은 다른 유로 블록과 나사 구멍(20h1)에 체결 볼트를 비틀어 박는 것으로 연결된다. 이때, 씰 보유부(21a)에 보유된 가스켓은, 도시하지 않은 다른 유로 블록과의 사이에서 체결 볼트의 체결력으로 눌러 찌부러뜨려지므로, 일차측 유로(21)의 저면(20f2)측의 개구의 주위는 씰 된다.
가스켓으로서는, 예를 들면 금속제 또는 수지제 등의 가스켓을 들 수 있다. 가스켓으로서는, 연질 가스켓, 세미메탈 가스켓, 메탈 가스켓등을 들 수 있다. 구체적으로는, 이하의 것이 적합하게 사용된다.
(1) 연질 가스켓
·고무 O링
·고무 시트(전면자리용)
·조인트 시트
·팽창 흑연 시트
·ＰＴＦＥ시트
·ＰＴＦＥ자켓형
(2) 세미메탈 가스켓
·스파이럴형 가스켓(Ｓｐｉｒａｌ-ｗｏｕｎｄ ｇａｓｋｅｔｓ)
·메탈자켓 가스켓
(3) 메탈 가스켓
·금속 평형 가스켓
·메탈 중공 O링
·링 조인트
또한, 후술하는 분기 유로(25, 26)의 개구의 주위에 설치된 씰 보유부(25a, 26b)도 마찬가지여서 상세설명은 생략한다.
이차측 유로(24)는, 밸브 바디(20)의 길이 방향B1,B2에 있어서 수용 오목부(22)에 대하여 서로 반대측에 형성된 2개의 이차측 유로(24A, 24B)를 포함한다. 이차측 유로(24A, 24B)는, 밸브 바디(20)의 길이 방향B1,B2로 연장되는 공통의 축선J1상에 형성되어 있다.
이차측 유로(24A)는, 일단이 수용 오목부(22)의 내주면(22b)에서 개구하고, 타단(24a1)은 밸브 바디(20)의 내부에서 폐색하고 있다.
이차측 유로(24B)는, 일단이 수용 오목부(22)의 내주면(22b)에서 개구하고, 타단(24b1)은 측면(20f6)측에서 개구하고 있다.
이차측 유로(24B)의 측면(20f6)의 개구에는, 용접 등의 수단에 의해, 폐색 부재(30)가 설치되고, 이차측 유로(24B)의 개구는 폐색되어 있다.
이차측 유로(24)는, 드릴 등의 공구를 사용해서 용이하게 가공할 수 있다.
본 실시 형태에 관련되는 밸브 장치(1)에서는, 일차측 유로(21)에 유입하는 가스 등의 유체를, 이차측 유로(24)의 분기 유로(25, 26)에 의해 4개로 분류할 수 있다.
밸브 요소(2)는, 각각, 다이어프램(14)과, 인너 디스크(15)와, 밸브 시트(16)와, 후술하는 유로 어셈블리로 구성된 밸브 시트 서포트(50)를 갖는다. 이하에 있어서, 밸브 시트 서포트(50)를 유로 어셈블리(50)라고 칭하는 경우도 있는 것으로 한다.
밸브 시트 서포트(50)는, 도4에 도시한 바와 같이, 외주면(50b1)이 수용 오목부(22)의 내주면(22c)에 끼워 맞춰 삽입되어 있다. 또한, 밸브 시트 서포트(50)를 구성하는 유로 어셈블리에 대해서는 나중에 상술한다. 밸브 시트 서포트(50)는, 중심부에 우회 유로(50a)가 형성되고, 상단면에 우회 유로(50a)를 중심으로 하는 환형의 지지면(50f1)이 형성되어 있다. 밸브 시트 서포트(50)의 지지면(50f1)은, 평탄면으로 이루어지고, 그의 외주부에는, 단차가 형성되어 있다. 밸브 시트 서포트(50)의 외주면(50b1)은, 수용 오목부(22)의 내주면(22c)에 꼭 끼이는 지름을 갖고, 하단측의 소경화된 외주면(50b2)과의 사이에는 단차가 존재한다. 이 단차에 의해, 원환형의 단면(50b3)이 형성되어 있다. 외주면(50b2)에는, 도4등에 도시한 바와 같이, ＰＴＦＥ등의 수지제의 제2씰 부재(55)가 끼워 넣어진다.
제2씰 부재(55)는, 단면형상이 직사각형 형상으로 형성되어, 수용 오목부(22)의 저면(22d)과 밸브 시트 서포트(50)의 단면(50b3)과의 사이에서 눌러 찌부러뜨려지는 치수를 갖는다. 제2씰 부재(55)가 수용 오목부(22)의 저면(22d)과 밸브 시트 서포트(50)의 단면(50b3)과의 사이에서 눌러 찌부러뜨려지면, 밸브 시트 서포트(50)의 외주면(50b2)과 수용 오목부(22)의 내주면(22c) 및 저면(22d)과의 사이에 수지가 밀치고 들어가고, 밸브 시트 서포트(50)와 수용 오목부(22)와의 사이가 확실히 씰 된다. 다시 말해, 씰면으로서의 외주면(50b2) 및 단면(50b3)은, 수용 오목부(22)의 내주면(22c) 및 저면(22d)과 협동하고, 일차측 유로(21)와 이차측 유로(24)와의 연통을 차단한다.
밸브 시트 서포트(50)의 우회 유로(50a)는, 수용 오목부(22)의 저면(22d)에서 개구하는 일차측 유로(21)와 접속된다.
밸브 시트 서포트(50)의 지지면(50f1)상에는, 밸브 시트(16)가 설치되어 있다.
밸브 시트(16)는, ＰＦＡ, ＰＴＦＥ등의 수지로 탄성변형가능하게 형성되어 도3에 도시한 바와 같이, 원환형으로 형성되고, 일단면에 원환형의 자리면(16s)이 형성되고, 타단면에 원환형의 씰면(16f)이 형성되어 있다. 자리면(16s) 및 씰면(16f)의 내측에는, 관통구멍으로 이루어지는 유통 유로(16a)가 형성되어 있다. 밸브 시트(16)는, 그의 외주측에 소경부(16b1)와 대경부(16b2)를 갖고, 소경부(16b1)와 대경부(16b2)와의 사이에는 단차부가 형성되어 있다.
밸브 시트(16)는, 위치결정 가압부재로서의 인너 디스크(15)에 의해, 밸브 시트 서포트(50)의 지지면(50f1)에 대하여 위치결정되고, 또 밸브 시트 서포트(50)의 지지면(50f1)을 향해서 소정의 가압력으로 가압되어 있다. 구체적으로는, 인너 디스크(15)의 중심부에 형성된 대경부(15a1)와 소경부(15a2)가 형성되고, 대경부(15a1)와 소경부(15a2)와의 사이에는 단차면(15a3)이 형성되어 있다. 인너 디스크(15)의 일단면측에는, 원환형의 평탄면(15f1)이 형성되어 있다. 인너 디스크(15)의 타단면측에는, 외측에 원환형의 평탄면 15f2가 형성되고, 내측에 원환형의 평탄면 15f3이 형성되어 있다. 평탄면 15f2와 평탄면 15f3은 높이가 상이하고, 평탄면 15f3이 평탄면 15f1 근처에 위치하고 있다.
인너 디스크(15)의 외주측에는, 수용 오목부(22)의 내주면(22a)에 끼워 맞추는 외주면(15b)이 형성되어 있다. 더욱, 일단면 및 타단면을 관통하는 유로(15h)가 원주방향으로 등간격으로 복수형성되어 있다. 인너 디스크(15)의 대경부 15a1과 소경부 15a2에, 밸브 시트(16)의 대경부 16b2와 소경부 16b1이 꼭 끼이는 것에 의해, 밸브 시트(16)는, 밸브 시트 서포트(50)의 지지면(50f1)에 대하여 위치결정된다.
인너 디스크(15)의 평탄면(15f2)은, 수용 오목부(22)의 내주면 22a와 내주면 22b와의 사이에 형성된 평탄한 단차면상에 설치된다. 인너 디스크(15)의 평탄면(15f1)상에는, 다이어프램(14)이 설치되고, 다이어프램(14)상에는, 누름 링(13)이 설치된다.
액추에이터(10)는, 공기 압력등의 구동원에 의해 구동되어, 상하 방향A1, A2로 이동가능하게 보유된 다이어프램 가압부(12)를 구동한다. 액추에이터(10)의 케이싱(11)의 선단부는, 도1a에 도시한 바와 같이, 밸브 바디(20)에 비틀어 박아져서 고정되어 있다. 그리고, 이 선단부가, 누름 링(13)을 하방향A2를 향해서 가압하고, 다이어프램(14)은, 수용 오목부(22)내에서 고정된다. 다이어프램(14)은, 수용 오목부(22)를 개구측에서 밀폐하고 있다. 또한, 인너 디스크(15)도 하방향A2를 향해서 가압된다. 인너 디스크(15)의 평탄면 15f2가 수용 오목부(22)의 단차면에 꽉 눌려진 상태에 있어서, 단차면(15a3)이 밸브 시트(16)를 밸브 시트 서포트(50)의 지지면(50f1)을 향해서 가압하도록, 단차면(15a3)의 높이는 설정되어 있다. 또한, 인너 디스크(15)의 평탄면 15f3은, 밸브 시트 서포트(50)의 상단면에 접촉하지 않게 되어 있다.
다이어프램(14)은, 밸브 시트(16)보다도 큰 지름을 갖고, 스텐레스, ＮｉＣｏ계 합금등의 금속이나 불소계 수지로 공껍데기형으로 탄성변형가능하게 형성되어 있다. 다이어프램(14)은, 밸브 시트(16)의 자리면(16s)에 대하여 접촉 이격가능하게 밸브 바디(20)에 지지되어 있다.
도4a에 있어서, 다이어프램(14)은 다이어프램 가압부(12)에 의해 가압되어서 탄성변형하고, 밸브 시트(16)의 자리면(16s)에 꽉 눌려져 있다. 밸브 요소(2)는 폐쇄 상태에 있다.
다이어프램(14)이 밸브 시트(16)의 자리면(16s)에 꽉 눌려져 있는 상태에서는, 일차측 유로(21)와 이차측 유로(24)와의 사이의 유로는 폐쇄된 상태에 있다. 밸브 요소(2)의 다이어프램(14)을 다이어프램 가압부(12)에 의한 가압으로부터 개방하면, 도1b에 도시한 바와 같이, 공껍데기형으로 복원한다. 다이어프램 가압부(12)가 상방향A1으로 이동되면, 도1b에 도시한 바와 같이, 다이어프램(14)이 밸브 시트(16)의 자리면(16s)으로부터 떨어진다. 그리고, 일차측 유로(21)로부터 공급되는 프로세스 가스 등의 유체는, 다이어프램(14)과 밸브 시트(16)의 자리면(16s)과의 틈을 통해서, 이차측 유로(24)에 유입한다. 유체는, 최종적으로는, 분기 유로 25, 26을 통해서 밸브 바디(20)의 외부에 유출한다. 다시 말해, 유체는 4개로 분류된다.
도4a는, 밸브 장치(1)의 주요부인 밸브 시트 서포트(50)를 구성하는 유로 어셈블리의 구성의 일례를 확대해서 도시하고 있다. 도4a를 사용하여, 유로 어셈블리(50)에 대해서 설명한다.
유로 어셈블리(50)는, 유로부재 51, 52와, 유로부재 51, 52의 사이에 설치되는 플레이트형 부재로서의 오리피스 플레이트(53)와, 오리피스 플레이트(53)의 양단하측에 설치되는 수지제의 환형 씰 부재로서의 환형의 제1씰 부재(54)를, 갖는다.
오리피스 플레이트(53)는, 금속제의 원판형 부재로 이루어지고, 중심부에 오리피스(53a)가 형성되어 있다. 오리피스(53a)는, 유체유로 51a, 52a를 유통하는 유체를 통과시키기 위해서 설치되어 있다. 오리피스(53a)는 유체의 흐름에 대하여 저항으로서 작용하고, 유체유로 51a측과 유체유로 52a측에서 압력차를 생기게 한다.
유로부재(51, 52) 및 오리피스 플레이트(53)는, 스텐레스 합금등의 동종의 금속재료로 형성해도 좋고, 다른 금속재료로 형성할 수도 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 오리피스 플레이트(53)를 사용했지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면, 필터 플레이트를 사용하는 것도 가능하다.
유로부재 51의 상단측의 외주면(51e)과 유로부재 52의 원통형부(52e)에 배치된 내주면(52e1)이 끼워 맞추도록 형성되어 있고, 이에 따라, 유체유로(51a, 52a)의 중심축선Ｃｔ가 맞게 되어 있다.
유로부재 51과 유로부재 52는, 서로 대향하는 환형의 대향면이 형성되어 있다. 대향면은, 유체유로 51a, 52a의 개구의 주위에 형성되고, 또, 유체유로 51a, 52a의 중심축선Ｃｔ와 동축형으로 배치되어 있다.
여기에서, 도4b에 도4a의 원Ａ내의 확대 단면도를 도시한다.
도4a 및 도4b에 도시한 바와 같이, 유로부재 51은, 제1씰 부재(54)의 중심축선Ｃｔ방향의 일단면(54f1)을 지지하는 제1의 씰면(51f)을 갖는다.
유로부재(52)는, 오리피스 플레이트(53)의 표면(53A)을 지지하는 평탄면으로 이루어지는 제2의 씰면(52f)과, 제1씰 부재(54)의 외주면(54f3)을 지지하는 제3의 씰면(52f2)을 획정하고 있다. 제2의 씰면(52f)과 제3의 씰면(52f2)은 직교관계에 있고, 제1의 씰면(51f)과 제3의 씰면(52f2)은 직교관계에 있다.
제1씰 부재(54)는, 코킹부(52e_c)가 소성변형을 받기 전의 상태에 있어서, 제1의 씰면(51f)과 오리피스 플레이트(53)의 이면(53B)과의 거리보다도 긴 치수를 갖고 있다. 코킹부(52e_c)가 소성변형을 받으면, 제1씰 부재(54)는, 유로부재 51 및 유로부재 52의 사이에 작용하는 힘에 의해 눌러 찌부러뜨려진다.
제1씰 부재(54)가 눌러 찌부러뜨려지면, 제1씰 부재(54)의 타단면(54f2)이 오리피스 플레이트(53)의 이면(53B)에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌린다.
동시에, 제1씰 부재(54)의 일단면(54f1)이 유로부재 51의 제1의 씰면(51f)에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 제1씰 부재(54)의 외주면(54f3)이 유로부재 52의 제3의 씰면(52f2)에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌린다.
더욱, 오리피스 플레이트(53)는, 제1씰 부재(54)의 타단면(54f2)에 의해 가압되어 오리피스 플레이트(53)의 표면(53a)이 유로부재(52)의 제2씰면(52f)에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌린다.
제1씰 부재(54)가 눌러 찌부러뜨려지는 것으로, 누설이 생길 수 있는 경로의 모두가 씰 되는, 제1씰 부재(54)는 이것들 누설이 생길 수 있는 경로의 모든 씰에 직접적 또는 간접적으로 관여하고 있다.
제1씰 부재(54)는, ＰＥＥＫ수지(폴리에테르에테르케톤)이나 폴리이미드 수지등의 수지재료로 형성되지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다.
두개의 유로부재 및 오리피스 플레이트가 금속일 때, 환형의 돌기를 설치하고, 이것을 두개의 유로부재의 접속력을 사용해서 눌러 찌부러뜨리는 것으로 씰 하는 것이 일반적으로 행해지고 있지만, 이 씰 부분에 누설이 발생하여, 유체가 외부에 유출해버리는 일이 있다.
그것에 대하여, 본 실시 형태의 구조에서는, 제1씰 부재(54)가 모든 씰에 직접적 또는 간접적으로 관여하고 있는 것으로, 보다 확실한 씰이 제공된다.
또한, 제1씰 부재(54)에 의해 확실한 씰이 제공되기 때문에, 유로부재(51, 52)의 오리피스 플레이트(53)를 지지하는 면을 평탄면으로 할 수 있고, 다른 기능을 갖는 플레이트형 부재에도 용이하게 대응할 수 있다.
더욱, 오리피스 플레이트(53)를 눌러 찌부러뜨릴 필요가 없기 때문에, 오리피스(53a)에의 변형 등의 영향이 없게 원하는 유량을 제공할 수 있다.
실시 형태 2
도5는, 본 발명의 실시 형태 2에 관계되는 밸브 장치(1A)의 구조의 일례를 도시하고 있다. 도6은, 밸브 장치(1A)의 주요부의 확대 단면을 도시하고 있다. 구체적으로는, 도6에서는, 밸브 장치(1A)의 주요부인 밸브 시트 서포트(50A)를 구성하는 유로 어셈블리의 구성의 일례를 확대해서 도시하고 있다.
또한, 밸브 장치(1A)의 기본적인 구성은, 실시 형태 1에 관련되는 밸브 장치(1)와 같다. 또한, 실시 형태 2에서는 실시 형태 1와의 차이점을 중심으로 설명하고, 실시 형태 1과 동일부분에는, 동일부호를 첨부해서 설명하는 것이라고 한다. 더욱, 실시 형태 1과 같은 부분에 대해서 적용되는 변형 예는, 실시 형태 2에 대해서도 마찬가지로 적용된다.
유로 어셈블리(50A)는, 유로부재 51, 52와, 유로부재 51, 52의 사이에 설치되는 플레이트형 부재로서의 오리피스 플레이트(53)와, 유로부재 51, 52의 사이에 개재하는 환형의 제1씰 부재(54)를, 갖는다.
오리피스 플레이트(53)의 바깥 둘레부는, 유로부재(52)의 평탄면으로 이루어지는 제2의 씰면(52f)에 용접되어 있다. 용접한 부분을 용접부(60)로서 도6에 도시하고 있다. 평탄면으로 이루어지는 제2씰면은, 단일의 평면뿐만 아니라 복수의 평탄면으로 구성되는 평탄면을 포함한다. 제1씰 부재(54)의 타단면(54f2)은 유로부재(52)의 제2의 씰면(52f)에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌린다.
유로 어셈블리(50A)에서는, 제1씰 부재(54)에 의한 씰 및 용접부(60)의 덕택으로, 유체가 외부에 유출하는 것을 확실히 막을 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 형태를 2개로 나누어서 설명했지만, 본 발명은, 상술한 각각의 실시 형태에 한정되는 것이 아니다. 당업자라면, 본 발명의 범위내에서, 여러 가지의 추가나 변경 등을 행할 수 있다.
상기 실시 형태에서는, 이차측 유로(24)는, 밸브 바디(20)내에서 복수로 분기되고, 분기 유로(25, 26)가 밸브 바디(20)의 상면(20f1)에서 개구하는 경우를 예시했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 저면(20f2)이나 측면 20f3∼20f6 중 어느 하나에서 개구하는 구성도 채용할 수 있다.
상기 실시 형태에서는, 인너 디스크(15)와 밸브 시트(16)를 별도의 부재라고 했지만, 인너 디스크(15)와 밸브 시트(16)를 일체화하는 것도 가능하다.
상기 실시 형태에서는, 유로 21을 일차측, 유로 24A, 24B를 이차측이라고 했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 유로 21을 이차측, 유로 24A, 24B를 일차측이라고 하는 것도 가능하다.
상기 실시 형태에서는, 유로 어셈블리를 밸브 시트 서포트로서 사용했을 경우를 예시했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 밸브 장치이외의 유로에도 적용가능하다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 플레이트형 부재로서 오리피스 플레이트를 예시했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면, 플레이트형 부재로서 필터를 작용부에 갖는 필터 플레이트를 채용하는 것도 가능하다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 오리피스 플레이트(53)를 유로부재 52에 용접했지만, 유로부재 51에 용접하는 것도 가능하다.
다음에, 도7을 참조하여, 상기한 밸브 장치 1 또는 밸브 장치 1A의 적용 예에 대해서 설명한다. 상기한 밸브 장치 1 또는 밸브 장치 1A는, 이하에 설명하는 반도체 제조 장치나 유체제어장치에 적용되어서 이용된다.
도7에 도시한 반도체 제조 장치(1000)는, 밀폐된 챔버(처리 챔버800)내에 있어서 프로세스 가스에 의한 처리 공정을 필요로 하는 반도체장치의 제조 프로세스에 있어서, 프로세스 가스의 유량제어에 밸브 장치(1)를 사용한 것이다. 예를 들면, 도7에 도시한 반도체 제조 장치(1000)는, 원자층 퇴적법(ＡＬＤ:Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ 법)에 의한 반도체 제조 프로세스를 실행하기 위한 시스템이며, 600은 프로세스 가스 공급원, 700은 가스 박스, 710은 탱크, 800은 처리 챔버, 900은 배기 펌프를 도시하고 있다.
기판에 막을 퇴적시키는 처리 프로세스에 있어서는, 처리 가스를 안정적으로 공급하기 위해서 가스 박스(700)로부터 공급되는 처리 가스를 버퍼로서의 탱크(710)에 일시적으로 저류하고, 처리 챔버(800)에 가장 가깝게 설치된 밸브(720)를 고빈도로 개폐시켜서 탱크로부터의 처리 가스를 진공분위기의 처리 챔버에 공급한다.
ＡＬＤ법은, 화학기상성장법의 1개이며, 온도나 시간등의 성막조건 아래에서, 2종류이상의 처리 가스를 1종류씩 기판표면상에 교대로 흘리고, 기판표면상 원자와 반응시켜서 단층씩 막을 퇴적시키는 방법이며, 단원자층씩 제어가 가능하기 때문에, 균일한 막 두께를 형성시킬 수 있고, 막질로서도 대단히 치밀하게 막을 성장시킬 수 있다.
ＡＬＤ법에 의한 반도체 제조 프로세스에서는, 처리 가스(프로세스 가스)의 유량을 정밀하게 조정할 필요가 있음과 아울러, 기판의 대구경화 등에 의해, 처리 가스의 유량을 어느 정도 확보할 필요도 있다.
가스 박스(700)는, 정확하게 계량한 프로세스 가스를 처리 챔버(800)에 공급하기 위해서, 각종의 유체기기를 집적화한 유체제어장치를 박스에 수용한 것이다. 유체제어장치는, 복수의 유체기기가 배열된 것이다.
탱크(710)는, 가스 박스(700)로부터 공급되는 처리 가스를 일시적으로 저류하는 버퍼로서 기능한다.
처리 챔버(800)는, ＡＬＤ법에 의한 기판에의 막형성을 위한 밀폐 처리 공간을 제공한다.
배기 펌프(900)는, 처리 챔버(800)안을 진공으로 한다.
도8을 참조하여, 본 발명의 밸브 장치가 적용되는 유체제어장치의 일례를 설명한다.
도8에 도시한 유체제어장치에는, 폭방향W1, W2를 따라 배열되어 길이 방향G1, G2로 연장되는 금속제의 베이스 플레이트ＢＳ가 설치되어 있다. 또한, W1은 정면측, W2는 배면측, G1은 상류측, G2는 하류측의 방향을 도시하고 있다. 베이스 플레이트ＢＳ에는, 복수의 유로 블록(992)을 통해 각종 유체기기 991A∼991E가 설치되고, 복수의 유로 블록(992)에 의해, 상류측G1으로부터 하류측G2를 향해서 유체가 유통하는 도시하지 않는 유로가 각각 형성되어 있다.
여기에서, 「유체기기」란, 유체의 흐름을 제어하는 유체제어장치에 사용되는 기기이며, 유체유로를 획정하는 보디를 구비하고, 이 보디의 표면에서 개구하는 적어도 2개의 유로구를 갖는 기기다. 구체적으로는, 개폐 밸브(2방향 밸브) 991A, 레귤레이터 991B, 프레셔 게이지 991C, 개폐 밸브(3방향 밸브) 991D, 매스 플로우 콘트롤러 991E등이 포함되지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 도입 관 993은, 상기한 도시하지 않는 유로의 상류측의 유로구에 접속되어 있다.
본 발명은, 상기한 개폐 밸브 991A, 991D, 레귤레이터 991B등의 여러 가지의 밸브 장치에 적용가능하다.
1,1A
:밸브 장치
2 :밸브 요소
10 :액추에이터
11 :케이싱
12 :다이어프램 가압부
13 :누름 링
14 :다이어프램
15 :인너 디스크
15a1 :대경부
15a2 :소경부
15a3 :단차면
15b :외주면
15f1,15f2,15f3 :평탄면
15h :유로
16 :밸브 시트
16a :유통 유로
16b1 :소경부
16b2 :대경부
16f :씰면
16s :자리면
20 :밸브 바디
20f1 :상면
20f2 :저면
20f3-20f6 :측면
20h1 :나사 구멍
21 :일차측 유로
21a :씰 보유부
22 :수용 오목부
22a,22b,22c :내주면
22d :저면
24,24A,24B :이차측 유로
24a1,24b1 :타단
25,26 :분기 유로
25a,26b :씰 보유부
30 :폐색 부재
50,50A :유로 어셈블리(밸브 시트 서포트)
50a :우회 유로
50b1,50b2 :외주면
50b3 :단면
50f1 :지지면
51 :유로부재
51a :유체유로
51e :외주면
51f :제1의 씰면
52 :유로부재
52a :유체유로
52e :원통형부
52e1 :내주면
52e_c :코킹부
52f :제2의 씰면
52f2 :제3의 씰면
53 :오리피스 플레이트
53A :표면
53B :이면
53a :오리피스
54 :제1씰 부재
54f1 :일단면
54f2 :타단면
54f3 :외주면
55 :제2씰 부재
60 :용접부
700 :가스 박스
710 :탱크
720 :밸브
800 :처리 챔버
900 :배기 펌프
991A-991E :유체기기
992 :유로 블록
993 :도입 관
1000 :반도체 제조 장치
A :원
A1 :상방향
A2 :하방향
B1,B2 :길이 방향
ＢＳ :베이스 플레이트
C1 :전방면측
C2 :배면측
Ｃｔ :중심축선
G1 :길이 방향(상류측)
G2 :길이 방향(하류측)
J1 :축선
W1,W2 :폭방향
2 :밸브 요소
10 :액추에이터
11 :케이싱
12 :다이어프램 가압부
13 :누름 링
14 :다이어프램
15 :인너 디스크
15a1 :대경부
15a2 :소경부
15a3 :단차면
15b :외주면
15f1,15f2,15f3 :평탄면
15h :유로
16 :밸브 시트
16a :유통 유로
16b1 :소경부
16b2 :대경부
16f :씰면
16s :자리면
20 :밸브 바디
20f1 :상면
20f2 :저면
20f3-20f6 :측면
20h1 :나사 구멍
21 :일차측 유로
21a :씰 보유부
22 :수용 오목부
22a,22b,22c :내주면
22d :저면
24,24A,24B :이차측 유로
24a1,24b1 :타단
25,26 :분기 유로
25a,26b :씰 보유부
30 :폐색 부재
50,50A :유로 어셈블리(밸브 시트 서포트)
50a :우회 유로
50b1,50b2 :외주면
50b3 :단면
50f1 :지지면
51 :유로부재
51a :유체유로
51e :외주면
51f :제1의 씰면
52 :유로부재
52a :유체유로
52e :원통형부
52e1 :내주면
52e_c :코킹부
52f :제2의 씰면
52f2 :제3의 씰면
53 :오리피스 플레이트
53A :표면
53B :이면
53a :오리피스
54 :제1씰 부재
54f1 :일단면
54f2 :타단면
54f3 :외주면
55 :제2씰 부재
60 :용접부
700 :가스 박스
710 :탱크
720 :밸브
800 :처리 챔버
900 :배기 펌프
991A-991E :유체기기
992 :유로 블록
993 :도입 관
1000 :반도체 제조 장치
A :원
A1 :상방향
A2 :하방향
B1,B2 :길이 방향
ＢＳ :베이스 플레이트
C1 :전방면측
C2 :배면측
Ｃｔ :중심축선
G1 :길이 방향(상류측)
G2 :길이 방향(하류측)
J1 :축선
W1,W2 :폭방향
Claims (9)
- 접속부에 의해 서로 접속되는 유체유로를 획정하는 금속제의 제1유로부재 및 제2유로부재와,
상기 제1유로부재와 상기 제2유로부재와의 사이에 설치되고 또 상기 유체유로를 유통하는 유체에 특정한 작용을 미치는 작용부를 갖는 플레이트형 부재를, 갖는 유로 어셈블리이며,
제1유로부재 및 제2유로부재와의 사이에 설치된 수지제의 환형 씰 부재를 갖고,
상기 제1유로부재는, 상기 환형 씰 부재의 일단면을 지지하는 제1의 씰면을 갖고,
상기 제2유로부재는, 상기 플레이트형 부재의 표면을 지지하는 평탄면으로 이루어지는 제2의 씰면과, 상기 환형 씰 부재의 외주면을 지지하는 제3의 씰면을, 갖고,
상기 환형 씰 부재는, 상기 접속부에 의해 제1유로부재 및 제2유로부재의 사이에 작용하는 힘에 의해 눌러 찌부러뜨려져, 해당 환형 씰 부재의 타단면이 상기 플레이트형 부재의 이면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 일단면이 상기 제1유로부재의 제1의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 외주면이 상기 제2의 유로부재의 제3의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고,
상기 플레이트형 부재는 상기 환형 씰 부재의 타단면에 의해 가압되어 해당 플레이트형 부재의 표면이 상기 제2유로부재의 제2씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리는,
유로 어셈블리.
- 접속부에 의해 서로 접속되는 유체유로를 획정하는 금속제의 제1유로부재 및 제2유로부재와,
상기 제1유로부재와 상기 제2유로부재와의 사이에 설치되고 또 상기 유체유로를 유통하는 유체에 특정한 작용을 미치는 작용부를 갖는 플레이트형 부재를, 갖는 유로 어셈블리이며,
제1유로부재 및 제2유로부재와의 사이에 설치된 수지제의 환형 씰 부재를 갖고,
상기 제1유로부재는, 상기 환형 씰 부재의 일단면을 지지하는 제1의 씰면을 갖고,
상기 제2유로부재는, 상기 플레이트형 부재의 표면을 지지하는 평탄면으로 이루어지는 제2의 씰면과, 상기 환형 씰 부재의 외주면을 지지하는 제3의 씰면을, 갖고,
상기 환형 씰 부재는, 상기 접속부에 의해 제1유로부재 및 제2유로부재의 사이에 작용하는 힘에 의해 눌러 찌부러뜨려져, 해당 환형 씰 부재의 타단면이 제2의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 일단면이 상기 제1유로부재의 제1의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고, 해당 환형 씰 부재의 외주면이 상기 제2의 유로부재의 제3의 씰면에 기밀 또는 액밀하게 꽉 눌리고,
상기 플레이트형 부재의 바깥 둘레부는, 상기 제1의 유로부재 또는 상기 제2의 유로부재에 기밀 또는 액밀하게 용접되어 있는,
유로 어셈블리.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 접속부는, 코킹에 의한 접속을 포함하는, 유로 어셈블리.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 환형 씰 부재는, 직사각형 형상의 단면형상을 갖는, 유로 어셈블리.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 플레이트형 부재는, 오리피스를 포함하는, 유로 어셈블리.
- 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 유로 어셈블리를 밸브 바디에 내장하는 밸브 장치.
- 복수의 유체기기가 배열된 유체제어장치이며,
상기 복수의 유체기기는, 청구항 6에 기재된 밸브 장치를 포함하는, 유체제어장치.
- 밀폐된 챔버내에 있어서 프로세스 가스에 의한 처리 공정을 필요로 하는 반도체 장치의 제조 프로세스에 있어서, 상기 프로세스 가스의 유량제어에 청구항 6에 기재된 밸브 장치를 사용한 반도체 제조 장치.
- 밀폐된 챔버내에 있어서 프로세스 가스에 의한 처리 공정을 필요로 하는 반도체 장치의 제조 프로세스에 있어서, 상기 프로세스 가스의 유량제어에 청구항 6에 기재된 밸브 장치를 사용한 반도체 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2019-016228 | 2019-01-31 | ||
| JP2019016228 | 2019-01-31 | ||
| PCT/JP2020/001955 WO2020158512A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-21 | 流路アセンブリ、この流路アセンブリを用いたバルブ装置、流体制御装置、半導体製造装置および半導体製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20210114534A true KR20210114534A (ko) | 2021-09-23 |
Family
ID=71840911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020217027040A KR20210114534A (ko) | 2019-01-31 | 2020-01-21 | 유로 어셈블리, 이 유로 어셈블리를 사용한 밸브 장치, 유체제어장치, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220186845A1 (ko) |
| JP (1) | JP7376935B2 (ko) |
| KR (1) | KR20210114534A (ko) |
| CN (1) | CN113366251A (ko) |
| TW (1) | TWI724771B (ko) |
| WO (1) | WO2020158512A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11598430B2 (en) * | 2019-01-31 | 2023-03-07 | Fujikin Incorporated | Valve device, flow rate control method, fluid control device, semiconductor manufacturing method, and semiconductor manufacturing apparatus using the valve device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4137267A (en) | 1977-02-22 | 1979-01-30 | Texaco Inc. | Catalytic hydrogenation process |
| KR20070003013A (ko) | 2005-06-30 | 2007-01-05 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 시모스 이미지센서의 제조방법 |
| JP2010190430A (ja) | 2010-05-28 | 2010-09-02 | Fujikin Inc | 圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4928999A (en) * | 1984-04-30 | 1990-05-29 | Hydril Company | Elastomeric guard seal for tubular connections |
| JPH0333566A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-13 | Hitachi Metals Ltd | デジタルバルブ |
| US5107885A (en) * | 1990-08-09 | 1992-04-28 | Masako Kiyohara | Check valve |
| AUPN776496A0 (en) * | 1996-01-25 | 1996-02-22 | Mcdonald, Christopher William | Flow restriction device |
| JPH1085562A (ja) * | 1996-09-17 | 1998-04-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ユニオン式制限オリフィス及び濾過装置 |
| JP3340655B2 (ja) * | 1997-10-20 | 2002-11-05 | 株式会社山武 | 燃焼ガス流量測定装置 |
| IL147850A (en) * | 2000-06-05 | 2005-03-20 | Fujikin Kk | Valve with an integral orifice |
| US7581712B2 (en) * | 2004-01-29 | 2009-09-01 | Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. | Valve |
| JP4690827B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2011-06-01 | 株式会社フジキン | ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置 |
| JP5982355B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-08-31 | 株式会社フジキン | 流路シール構造 |
| US9470337B2 (en) * | 2014-04-08 | 2016-10-18 | Emerson Process Management Regulator Technologies, Inc. | Flow path velocity modifier for a control valve |
| KR102188285B1 (ko) * | 2016-07-29 | 2020-12-08 | 가부시키가이샤 후지킨 | 오리피스 내장 밸브 및 압력식 유량 제어 장치 |
| JP6505151B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2019-04-24 | 株式会社不二工機 | 流量調整弁 |
| CN109419364A (zh) * | 2017-08-28 | 2019-03-05 | 博西华电器（江苏）有限公司 | 阀体以及具有该阀体的咖啡机 |
| CN207923206U (zh) * | 2018-01-19 | 2018-09-28 | 江阴市宏达仪表有限公司 | 一种径距取压核级多孔孔板装置 |
-
2020
- 2020-01-21 CN CN202080011998.9A patent/CN113366251A/zh active Pending
- 2020-01-21 US US17/425,424 patent/US20220186845A1/en not_active Abandoned
- 2020-01-21 WO PCT/JP2020/001955 patent/WO2020158512A1/ja active Application Filing
- 2020-01-21 KR KR1020217027040A patent/KR20210114534A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-01-21 JP JP2020569535A patent/JP7376935B2/ja active Active
- 2020-01-30 TW TW109102733A patent/TWI724771B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4137267A (en) | 1977-02-22 | 1979-01-30 | Texaco Inc. | Catalytic hydrogenation process |
| KR20070003013A (ko) | 2005-06-30 | 2007-01-05 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 시모스 이미지센서의 제조방법 |
| JP2010190430A (ja) | 2010-05-28 | 2010-09-02 | Fujikin Inc | 圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI724771B (zh) | 2021-04-11 |
| JPWO2020158512A1 (ja) | 2021-12-09 |
| JP7376935B2 (ja) | 2023-11-09 |
| WO2020158512A1 (ja) | 2020-08-06 |
| CN113366251A (zh) | 2021-09-07 |
| TW202041799A (zh) | 2020-11-16 |
| US20220186845A1 (en) | 2022-06-16 |
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| KR20210114534A (ko) | 유로 어셈블리, 이 유로 어셈블리를 사용한 밸브 장치, 유체제어장치, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |