KR20210112306A - Modified epoxy resins, epoxy resin compositions, cured products, and laminates for electric/electronic circuits - Google Patents
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Abstract
1 분자 중에 평균 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지 (A) 와, 1 분자 중에 1 개의 에스테르 구조를 갖는, 하기 식 (1) 로 나타내는 에스테르 화합물 (B) 를 반응시켜 얻어지는 변성 에폭시 수지.
R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기.A modified epoxy resin obtained by reacting an epoxy resin (A) having an average of two or more epoxy groups in one molecule and an ester compound (B) represented by the following formula (1) having one ester structure in one molecule.
R 1 is an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
Description
본 발명은, 내열성과 저유전 특성이 우수한 변성 에폭시 수지, 그 변성 에폭시 수지와 경화제를 함유하는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물 그리고 그 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 전기·전자 회로용 적층판에 관한 것이다.The present invention relates to a modified epoxy resin excellent in heat resistance and low dielectric properties, an epoxy resin composition containing the modified epoxy resin and a curing agent, a cured product thereof, and a laminate for electric/electronic circuits comprising the epoxy resin composition.
에폭시 수지는, 접착성, 내수성, 기계적 강도 및 전기적 특성이 우수한 점에서, 접착제, 도료, 토목 건축용 재료, 전기·전자 부품의 절연 재료 등, 여러 가지 분야에서 사용되고 있다. 특히, 전기·전자 분야에서는, 절연 주형, 적층 재료, 봉지 재료 등에 있어서 폭넓게 사용되고 있다. 최근, 전기·전자 기기에 사용되는 다층 회로 기판은, 기기의 소형화, 경량화 및 고기능화가 진행되고 있고, 추가적인 다층화, 고밀도화, 박형화, 경량화와 신뢰성 및 성형 가공성의 향상 등이 요구되고 있다.Since the epoxy resin is excellent in adhesiveness, water resistance, mechanical strength, and electrical properties, it is used in various fields, such as an adhesive agent, a paint, a material for civil engineering construction, and the insulating material of electric/electronic components. In particular, in the electric/electronic field, it is widely used in an insulating mold, a laminated material, a sealing material, etc. In recent years, multilayer circuit boards used in electrical and electronic devices are being miniaturized, lightweight and highly functional, and additional multilayering, high density, thinness, weight reduction, reliability, and moldability improvement are required.
전기·전자 회로용 적층판 등의 전기·전자 부품의 재료가 되는 에폭시 수지에 요구되는 중요한 성능으로서, 저유전 특성을 들 수 있다.A low dielectric characteristic is mentioned as an important performance calculated|required of the epoxy resin used as the material of electrical/electronic components, such as a laminated board for electrical/electronic circuits.
최근, 정보 전달량, 속도의 향상을 위해, 통신 주파수의 고주파화가 진행되고 있고, 그 중에서, 전송 손실 (α) 의 증대가 큰 과제로 되어 있다. 전송 손실 (α) 의 값이 낮을 수록, 정보 신호의 감쇠가 적고, 통신의 높은 신뢰성을 확보할 수 있는 것을 의미한다. α 는 주파수 (f) 에 비례하기 때문에, 고주파수 영역에서의 통신에서는 α 가 커져, 신뢰성의 저하로 이어진다. 전송 손실 (α) 을 억제하는 수법으로서, 주파수 (f) 와 동일하게, α 가 비례하는 유전 정접 (tanδ) 을 저감시키는 방법을 들 수 있다. 통신 신호의 고속 전송을 위해서는, 유전 정접 (tanδ) 이 낮은 재료, 즉, 저유전 특성을 갖는 재료가 요구되고 있다.In recent years, in order to improve the amount and speed of information transmission, the communication frequency has been increased to a higher frequency. Among them, an increase in the transmission loss α has become a major problem. The lower the value of the transmission loss ?, the less attenuation of the information signal, which means that high reliability of communication can be secured. Since α is proportional to the frequency f, α increases in communication in a high frequency region, leading to a decrease in reliability. As a method of suppressing the transmission loss (α), a method of reducing the dielectric loss tangent (tanδ) in which α is proportional to the frequency f is exemplified. For high-speed transmission of communication signals, a material having a low dielectric loss tangent (tan?), that is, a material having a low dielectric characteristic is required.
또, 전기·전자 회로용 적층판 등의 전기·전자 부품에는 높은 신뢰성이 요구되고, 저유전 특성 외에, 내열성 등, 여러 가지 특성과의 밸런스가 요구된다. 특히, 최근의 고주파수 영역에서의 정보 전송량이 증대됨에 따라, 전자·전자 회로 적층판 등에 가해지는 부하도 증대되고, 내부 발열이 발생하기 때문에, 종래보다 폭넓은 온도역에서의 내열성은 필수 특성이다.Moreover, high reliability is calculated|required of electric/electronic components, such as a laminated board for electric/electronic circuits, and balance with various characteristics, such as heat resistance, in addition to a low dielectric characteristic is calculated|required. In particular, as the amount of information transmitted in the high-frequency region increases in recent years, the load applied to the electronic/electronic circuit laminated board increases as well, and internal heat is generated.
특허문헌 1 에는, 저점도, 저흡수율을 달성하면서도, 내열성이 우수한 에폭시 수지 경화물을 제공하는 것을 과제로 하여, 아실화된 폴리페놀 화합물과 에폭시 수지를 반응시켜 이루어지는 변성 에폭시 수지가 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses a modified epoxy resin formed by reacting an acylated polyphenol compound with an epoxy resin with the object of providing a cured epoxy resin excellent in heat resistance while achieving low viscosity and low water absorption.
특허문헌 1 에 개시되어 있는 변성 에폭시 수지는, 구체적으로는 디아실화 페놀 화합물과 비스페놀형 에폭시 수지의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지이다. 특허문헌 1 에는, 저점도, 저흡수율 또한 내열성이 우수하다는 취지의 기재가 있다. 그러나, 특허문헌 1 의 변성 에폭시 수지의 내열성은 충분한 것은 아니었다.Specifically, the modified epoxy resin disclosed in Patent Document 1 is an epoxy resin obtained by reaction of a diacylated phenol compound and a bisphenol-type epoxy resin. Patent document 1 has description to the effect that it is excellent in a low viscosity, low water absorption, and heat resistance. However, the heat resistance of the modified epoxy resin of patent document 1 was not enough.
또, 본 발명자들의 검토의 결과, 최근의 전기·전자 부품에 요구되는 특성으로부터, 특허문헌 1 의 변성 에폭시 수지는, 고주파수 영역에서 사용하는 재료로는, 저유전 특성 (저유전 정접 (저 tanδ)) 이 불충분하다는 것이 판명되었다.Moreover, as a result of the examination of the present inventors, from the characteristics requested|required of recent electrical/electronic components, the modified epoxy resin of patent document 1 is a material used in a high frequency area|region, and has a low dielectric property (low dielectric loss tangent (low tan δ)). ) was found to be insufficient.
본 발명의 과제는, 내열성과 저유전 특성이 밸런스가 양호하고 우수한 변성 에폭시 수지, 그 변성 에폭시 수지와 경화제를 함유하는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물 그리고 그 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 전기·전자 회로용 적층판을 제공하는 것에 있다.The object of the present invention is a modified epoxy resin having a good balance between heat resistance and low dielectric properties, an epoxy resin composition containing the modified epoxy resin and a curing agent, a cured product thereof, and a laminate for electrical and electronic circuits comprising the epoxy resin composition is to provide
본 발명자는, 에폭시 수지를 특정한 단관능 에스테르 화합물에 의해 변성한 에폭시 수지에 의해, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아냈다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor discovered that the said subject could be solved with the epoxy resin which modified|denatured the epoxy resin with the specific monofunctional ester compound.
본 발명의 요지는 이하의 [1] ∼ [11] 에 있다.The gist of the present invention is in the following [1] to [11].
[1] 1 분자 중에 평균 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지 (A) 와, 1 분자 중에 1 개의 에스테르 구조를 갖는, 하기 식 (1) 로 나타내는 에스테르 화합물 (B) 를 반응시켜 얻어지는 변성 에폭시 수지.[1] A modified epoxy resin obtained by reacting an epoxy resin (A) having an average of two or more epoxy groups in one molecule and an ester compound (B) represented by the following formula (1) having one ester structure in one molecule.
[화학식 1][Formula 1]
식 (1) 중, R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다.In Formula (1), R<1> is the alkyl group which may have a substituent, or the aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
[2] 상기 에폭시 수지 (A) 와 에스테르 화합물 (B) 의 반응 당량비가, 그 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기의 몰수와 그 에스테르 화합물 (B) 의 에스테르기의 몰수의 비로 1.6 ∼ 6.0 인, [1] 에 기재된 변성 에폭시 수지.[2] The reaction equivalent ratio of the epoxy resin (A) and the ester compound (B) is 1.6 to 6.0 in the ratio of the number of moles of the epoxy groups of the epoxy resin (A) to the number of moles of the ester group of the ester compound (B), [ 1], the modified epoxy resin described above.
[3] 상기 식 (1) 에 있어서의 R1, R2 가 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프틸기인, [1] 또는 [2] 에 기재된 변성 에폭시 수지. [3] The modified epoxy resin according to [1] or [2], wherein R 1 and R 2 in the formula (1) are each independently a phenyl group which may have a substituent or a naphthyl group which may have a substituent.
[4] [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 변성 에폭시 수지와 경화제를 함유하는 에폭시 수지 조성물.[4] An epoxy resin composition comprising the modified epoxy resin according to any one of [1] to [3] and a curing agent.
[5] 상기 변성 에폭시 수지의 고형분 100 중량부에 대해, 상기 경화제를 고형분으로 0.1 ∼ 100 중량부 함유하는, [4] 에 기재된 에폭시 수지 조성물.[5] The epoxy resin composition according to [4], wherein the curing agent is contained in an amount of 0.1 to 100 parts by weight by solid content, based on 100 parts by weight of the solid content of the modified epoxy resin.
[6] 상기 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지를 함유하고, 그 변성 에폭시 수지와 그 다른 에폭시 수지의 고형분의 중량비가, 99/1 ∼ 1/99 인, [4] 또는 [5] 에 기재된 에폭시 수지 조성물.[6] The epoxy resin according to [4] or [5], wherein the modified epoxy resin and another epoxy resin are contained, and the weight ratio of the modified epoxy resin and the solid content of the other epoxy resin is 99/1 to 1/99. composition.
[7] 상기 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지의 고형분의 합계 100 중량부에 대해, 상기 경화제를 고형분으로 0.1 ∼ 100 중량부 함유하는, [6] 에 기재된 에폭시 수지 조성물.[7] The epoxy resin composition according to [6], wherein the curing agent is contained in an amount of 0.1 to 100 parts by weight as a solid content relative to 100 parts by weight of a total of the solid content of the modified epoxy resin and the other epoxy resins.
[8] 상기 경화제가 페놀계 경화제, 아미드계 경화제, 이미다졸류 및 활성 에스테르계 경화제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, [4] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 에폭시 수지 조성물.[8] The epoxy resin composition according to any one of [4] to [7], wherein the curing agent is at least one selected from the group consisting of phenol curing agents, amide curing agents, imidazoles and active ester curing agents.
[9] [4] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물.[9] A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of [4] to [8].
[10] [4] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하여 이루어지는 전기·전자 회로용 적층판.[10] A laminate for electric/electronic circuits using the epoxy resin composition according to any one of [4] to [8].
[11] 하기 식 (4) 로 나타내는 구조를 포함하는, 변성 에폭시 수지.[11] A modified epoxy resin comprising a structure represented by the following formula (4).
[화학식 2][Formula 2]
식 (4) 중, R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다.In Formula (4), R<1> is the alkyl group which may have a substituent, or the aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
본 발명에 의하면, 내열성과 저유전 특성이 밸런스가 양호하고 우수한 변성 에폭시 수지, 에폭시 수지 조성물, 및 그 경화물을 제공할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물은, 접착제, 도료, 토목용 건축 재료, 전기·전자 부품의 절연 재료 등, 여러 가지 분야에 적용 가능하다. 본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물은, 특히 전기·전자 분야에 있어서의 절연 주형, 적층 재료, 봉지 재료 등으로서 유용하다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the modified epoxy resin which is excellent in the balance of heat resistance and low dielectric characteristic, and an epoxy resin composition, and its hardened|cured material can be provided. For this reason, the modified epoxy resin of this invention and the epoxy resin composition containing it are applicable to various fields, such as an adhesive agent, a paint, a building material for civil engineering, and the insulating material of an electric/electronic component. The modified epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the same are particularly useful as an insulating mold, a laminate material, a sealing material, and the like in the electric/electronic field.
본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물은, 다층 프린트 배선 기판, 캐패시터 등의 전기·전자 회로용 적층판, 필름상 접착제, 액상 접착제 등의 접착제, 반도체 봉지 재료, 언더 필 재료, 3D-LSI 용 인터칩 필, 절연 시트, 프리프레그, 방열 기판 등에 바람직하게 사용할 수 있다.The modified epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the same are multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, adhesives such as film adhesives and liquid adhesives, semiconductor encapsulation materials, underfill materials, 3D- It can be preferably used for interchip fill for LSI, insulating sheet, prepreg, heat dissipation substrate, etc.
이하에 본 발명의 실시형태를 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Embodiment of this invention is described in detail below.
이하에 기재하는 설명은, 본 발명의 실시형태의 일례이고, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 이하의 기재 내용에 한정되는 것은 아니다.The description given below is an example of embodiment of this invention, and this invention is not limited to the content of description below unless the summary is exceeded.
본 명세서에 있어서 「∼」이라는 표현을 사용하는 경우, 그 전후의 수치 또는 물성값을 포함하는 표현으로서 사용하는 것으로 한다.In this specification, when the expression "-" is used, it shall be used as an expression containing the numerical value or physical property value before and behind it.
〔변성 에폭시 수지〕[Modified Epoxy Resin]
본 발명의 변성 에폭시 수지는, 1 분자 중에 평균 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지 (A) 와, 1 분자 중에 1 개의 에스테르 구조를 갖는, 하기 식 (1) 로 나타내는 에스테르 화합물 (B) 를 반응시켜 얻어지는 것이다.The modified epoxy resin of the present invention is obtained by reacting an epoxy resin (A) having an average of two or more epoxy groups in one molecule and an ester compound (B) represented by the following formula (1) having one ester structure in one molecule, it will be obtained
[화학식 3][Formula 3]
식 (1) 중, R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다.In Formula (1), R<1> is the alkyl group which may have a substituent, or the aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
또, 본 발명의 변성 에폭시 수지는, 하기 식 (4) 로 나타내는 구조를 포함하는 것이다.Moreover, the modified epoxy resin of this invention contains the structure represented by following formula (4).
[화학식 4][Formula 4]
식 (4) 중, R1 과 R2 는 상기 식 (1) 에 있어서의 것과 동일한 의미이다.In Formula (4), R<1> and R<2> have the same meaning as the thing in said Formula (1).
[메커니즘][mechanism]
본 발명의 변성 에폭시 수지는, 상기 식 (4) 로 나타내는 바와 같이, 에스테르 화합물 (B) 의 에스테르기가 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기와 함께 결합한 구조를 갖는 것이 되고, 이 구조에서 기인하여 저유전 특성이 양호한 것이 된다.The modified epoxy resin of the present invention has a structure in which the ester group of the ester compound (B) is bonded together with the epoxy group of the epoxy resin (A), as shown by the formula (4), resulting from this structure, low dielectric properties this will be good
이 이유로는 다음과 같은 것이 추측된다.The reason for this is assumed to be as follows.
에스테르 화합물 (B) 중의 구조로서, 1 분자 중에 1 개의 에스테르기가 존재하고, 또, 그 구조 중에 극성이 낮은 알킬기나 아릴기를 함유하는 점에서, 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기와의 반응으로 형성되는 식 (4) 의 구조도 저극성이 되고, 저유전 특성이 발현한다. 또, 변성 에폭시 수지 중에, 식 (4) 의 구조와 함께 에폭시 수지 (A) 유래의 에폭시기를 적당히 잔존시킴으로써, 경화시의 유리 전이 온도 (Tg) 도 높일 수 있다.As the structure in the ester compound (B), one ester group is present in one molecule, and since the structure contains an alkyl group or an aryl group with low polarity in the structure, a formula formed by reaction with the epoxy group of the epoxy resin (A) The structure of (4) also becomes low polarity, and low dielectric characteristic is expressed. Moreover, the glass transition temperature (Tg) at the time of hardening can also be raised by making the epoxy group derived from an epoxy resin (A) remain suitably in a modified epoxy resin with the structure of Formula (4).
따라서, 저유전 특성과 내열성이 밸런스가 양호하고 우수한 에폭시 수지 및 그 경화물을 얻을 수 있는 것으로 생각된다.Accordingly, it is considered that an epoxy resin having a good balance between low dielectric properties and heat resistance and excellent, and a cured product thereof can be obtained.
[에폭시 수지 (A)][Epoxy Resin (A)]
본 발명에서 사용하는 에폭시 수지 (A) 는, 에폭시기를 1 분자 중에 평균 2 개 이상 갖는 에폭시 수지이다.The epoxy resin (A) used by this invention is an epoxy resin which has an average of 2 or more epoxy groups in 1 molecule.
에폭시 수지 (A) 로는, 에스테르 화합물 (B) 와의 반응 후, 내열성을 충분히 발현시키기 위해, 에폭시 당량이 400 g/당량 이하인 것이 바람직하고, 350 g/당량 이하인 것이 보다 바람직하고, 300 g/당량 이하인 것이 더욱 바람직하다. 에스테르 화합물 (B) 와의 반응성을 충분히 확보하는 관점에서, 에폭시 수지 (A) 의 에폭시 당량은 100 g/당량 이상이 바람직하고, 120 g/당량 이상이 보다 바람직하고, 150 g/당량 이상이 더욱 바람직하다.As the epoxy resin (A), after the reaction with the ester compound (B), in order to sufficiently express heat resistance, the epoxy equivalent is preferably 400 g/equivalent or less, more preferably 350 g/equivalent or less, and 300 g/equivalent or less. more preferably. From the viewpoint of sufficiently ensuring reactivity with the ester compound (B), the epoxy equivalent of the epoxy resin (A) is preferably 100 g/equivalent or more, more preferably 120 g/equivalent or more, and still more preferably 150 g/equivalent or more. do.
본 발명에 있어서 「에폭시 당량」이란, 「1 당량의 에폭시기를 함유하는 에폭시 수지의 질량」으로 정의되고, JIS K 7236 에 준하여 측정할 수 있다.In this invention, "epoxy equivalent" is defined as "the mass of an epoxy resin containing an epoxy group of 1 equivalent", and can measure according to JISK7236.
에폭시 수지 (A) 로는, 내열성을 충분히 발현시키기 위해, 에폭시기를 1 분자 중에 평균 2 개 이상 갖는 것을 사용한다. 내열성의 관점에서, 에폭시 수지 (A) 는 에폭시기를 2.1 개 이상 갖는 것이 바람직하고, 2.5 개 이상 갖는 것이 보다 바람직하고, 3 개 이상 갖는 것이 더욱 바람직하다. 한편, 취급성의 관점에서, 에폭시 수지 (A) 는 에폭시기를 1 분자 중에 평균 12 개 이하 갖는 것이 바람직하고, 10 개 이하 갖는 것이 보다 바람직하고, 8 개 이하 갖는 것이 더욱 바람직하다.As an epoxy resin (A), in order to fully express heat resistance, what has an average of 2 or more epoxy groups in 1 molecule is used. From the viewpoint of heat resistance, the epoxy resin (A) preferably has 2.1 or more epoxy groups, more preferably 2.5 or more, and still more preferably 3 or more. On the other hand, from the viewpoint of handleability, the epoxy resin (A) preferably has an average of 12 or less epoxy groups per molecule, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less.
1 분자 중의 에폭시기의 수는, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피법 (GPC 법) 에 의해 측정한 수평균 분자량 (Mn) 을 에폭시 당량으로 나누는 것에 의해 산출할 수 있다. GPC 에 의한 측정법에 대해서는 구체예를 이후에 게재하는 실시예에 있어서 설명한다.The number of epoxy groups in one molecule is computable by dividing the number average molecular weight (Mn) measured by the gel permeation chromatography method (GPC method) by the epoxy equivalent. The measurement method by GPC is demonstrated in the Example which publishes a specific example later.
에폭시 수지 (A) 는, 에폭시기를 1 분자 중에 평균 2 개 이상 갖는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 그 예로는, 이하의 것을 들 수 있다.Although an epoxy resin (A) will not be specifically limited if it has an average of 2 or more epoxy groups in 1 molecule, The following are mentioned as the example.
비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비스페놀 AF 형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지, 에스테르 골격을 갖는 지환식 에폭시 수지, 비스페놀 Z 형 에폭시 수지, 안트라센형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 나프탈렌 4 관능 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비자일레놀형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지, 테트라페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지.Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, alicyclic epoxy resin having an ester skeleton, bisphenol Z type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, naphthalene tetrafunctional epoxy resin, naphthol type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A type novolac epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenolar Alkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, non-xylenol type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin.
이들 에폭시 수지 (A) 는 1 종만이어도 되고 2 종 이상의 혼합체로서도 사용할 수 있다.These epoxy resins (A) may be used alone or as a mixture of two or more.
이것들 중, 나프탈렌 4 관능 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비자일레놀형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지, 테트라페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지가 바람직하고, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비자일레놀형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지, 테트라페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지가 보다 바람직하다.Among these, naphthalene tetrafunctional epoxy resin, naphthol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol A type novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, non-biphenyl type epoxy resin Ilenol-type epoxy resin, triphenylmethane-type epoxy resin, tetraphenylethane-type epoxy resin, and dicyclopentadiene-type epoxy resin are preferable, phenol novolak-type epoxy resin, bisphenol A-type novolac epoxy resin, cresol novolak-type epoxy Resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, non-xylenol type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, and dicyclopentadiene type epoxy resin are more preferable.
[에스테르 화합물 (B)][Ester compound (B)]
본 발명에서 사용하는 에스테르 화합물 (B) 는, 1 분자 중에 1 개의 에스테르 구조를 가지고, 하기 식 (1) 로 나타내는 것이다.The ester compound (B) used by this invention has one ester structure in 1 molecule, and is represented by following formula (1).
[화학식 5][Formula 5]
식 (1) 중, R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다.In Formula (1), R<1> is the alkyl group which may have a substituent, or the aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
식 (1) 중, R1 및 R2 의 치환기에는, 자기 중합성의 치환기는 포함되지 않는다.In Formula (1), a self-polymerizable substituent is not contained in the substituent of R<1> and R<2>.
에스테르 화합물 (B) 중의 에스테르 구조는, 에폭시기와 반응하는 치환기이다. 에스테르 화합물 (B) 의 1 분자 중의 에스테르 구조의 수는 1 개이다. 에스테르 구조를 2 개 이상 포함하는 에스테르 화합물은 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기와 과도하게 반응하고, 변성 에폭시 수지의 분자량이 증대되어 겔화될 우려가 있기 때문에, 목적으로 하는 본 발명의 변성 에폭시 수지의 특성을 얻는 것이 곤란하다.The ester structure in an ester compound (B) is a substituent which reacts with an epoxy group. The number of ester structures in one molecule of the ester compound (B) is one. Since the ester compound containing two or more ester structures reacts excessively with the epoxy group of the epoxy resin (A), the molecular weight of the modified epoxy resin increases and there is a risk of gelation, the target properties of the modified epoxy resin of the present invention it is difficult to obtain
자기 중합성의 치환기를 갖는 에스테르 화합물도, 당해 화합물 자체, 혹은 변성 후의 에폭시 수지의 안정성을 악화시킬 뿐만 아니라, 경화제와의 반응시, 충분한 경화성이 얻어지지 않을 우려가 있다.The ester compound having a self-polymerizable substituent also deteriorates the stability of the compound itself or the epoxy resin after modification, and there is a fear that sufficient curability may not be obtained at the time of reaction with a curing agent.
여기서, 「자기 중합성의 치환기」란, 상온 이상의 조건 하에서 중합하는 것으로, 예를 들어, 비닐기나 아크릴로일기, 메타크릴기 등을 들 수 있다.Here, the "self-polymerizable substituent" refers to polymerization under conditions of room temperature or higher, and examples thereof include a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryl group.
상기 식 (1) 의 R1 로는, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 14 의 아릴기가 바람직하다. 또, R2 로는, 탄소수 5 ∼ 14 의 아릴기가 바람직하다. As R<1> of said Formula (1), a C1-C12 alkyl group and a C5-C14 aryl group are preferable. Moreover, as R<2> , a C5-C14 aryl group is preferable.
탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 시클로헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기, 시클로도데실기 등을 들 수 있다. 이것들은 후술하는 치환기를 가지고 있어도 된다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a cyclohexyl group, a heptyl group, an octyl group, A nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, a cyclododecyl group, etc. are mentioned. These may have a substituent mentioned later.
탄소수 5 ∼ 14 의 아릴기로는, 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 안트라닐기 등을 들 수 있다. 이것들은 후술하는 치환기를 가지고 있어도 된다.As a C5-C14 aryl group, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, anthranyl group, etc. are mentioned. These may have a substituent mentioned later.
상기 식 (1) 의 R1, R2 로는, 에폭시기와의 반응성, 내열성, 저유전 정접을 양호하게 유지하는 관점에서, 탄소수 5 ∼ 14 의 아릴기가 보다 바람직하다. 탄소수 5 ∼ 14 의 아릴기로는, 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 안트라닐기 등을 들 수 있다. 이것들은 후술하는 치환기를 가지고 있어도 된다. As R<1> , R<2> of said Formula (1), a C5-C14 aryl group is more preferable from a viewpoint of maintaining favorably the reactivity with an epoxy group, heat resistance, and low dielectric loss tangent. A phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, anthranyl group etc. are mentioned as a C5-C14 aryl group. These may have a substituent mentioned later.
R1 의 알킬기 또는 아릴기 및 R2 의 아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기에서 선택되는 기이다. 이들 치환기는, R1, R2 에 자기 중합성을 부여하지 않는 것이다.The substituent which the alkyl group or aryl group of R<1> , and the aryl group of R<2> may have is a group selected from a halogen atom, a C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkoxy group, and a C6-C12 aryl group. These substituents do not impart self-polymerizability to R 1 , R 2 .
치환기로서의 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 시클로헥실기, n-헵틸기, 시클로헵틸기, 메틸시클로헥실기, n-옥틸기, 시클로옥틸기, n-노닐기, 3,3,5-트리메틸시클로헥실기, n-데실기, 시클로데실기, n-운데실기, n-도데실기, 시클로도데실기, 벤질기, 메틸벤질기, 디메틸벤질기, 트리메틸벤질기, 나프틸메틸기, 페네틸기, 2-페닐이소프로필기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms as the substituent include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopene Tyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, cycloheptyl group, methylcyclohexyl group, n-octyl group, cyclooctyl group , n-nonyl group, 3,3,5-trimethylcyclohexyl group, n-decyl group, cyclodecyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclododecyl group, benzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group , a trimethylbenzyl group, a naphthylmethyl group, a phenethyl group, a 2-phenylisopropyl group, and the like.
치환기로서의 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜톡시기, 이소펜톡시기, 네오펜톡시기, tert-펜톡시기, 시클로펜톡시기, n-헥실옥시기, 이소헥실옥시기, 시클로헥실옥시기, n-헵톡시기, 시클로헵톡시기, 메틸시클로헥실옥시기, n-옥틸옥시기, 시클로옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 3,3,5-트리메틸시클로헥실옥시기, n-데실옥시기, 시클로데실옥시기, n-운데실옥시기, n-도데실옥시기, 시클로도데실옥시기, 벤질옥시기, 메틸벤질옥시기, 디메틸벤질옥시기, 트리메틸벤질옥시기, 나프틸메톡시기, 페네틸옥시기, 2-페닐이소프로폭시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms as the substituent include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentoxy group group, isopentoxy group, neopentoxy group, tert-pentoxy group, cyclopentoxy group, n-hexyloxy group, isohexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptoxy group, cycloheptoxy group, methylcyclohexyloxy group, n-octyloxy group, cyclooctyloxy group, n-nonyloxy group, 3,3,5-trimethylcyclohexyloxy group, n-decyloxy group, cyclodecyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group group, cyclododecyloxy group, benzyloxy group, methylbenzyloxy group, dimethylbenzyloxy group, trimethylbenzyloxy group, naphthylmethoxy group, phenethyloxy group, 2-phenylisopropoxy group, and the like.
치환기로서의 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로는, 예를 들어, 페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 에틸페닐기, 스티릴기, 자일릴기, n-프로필페닐기, 이소프로필페닐기, 메시틸기, 에티닐페닐기, 나프틸기, 비닐나프틸기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms as a substituent include a phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, ethylphenyl group, styryl group, xylyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, a mesityl group, an ethynylphenyl group, a naphthyl group, a vinylnaphthyl group, etc. are mentioned.
이상에 든 것 중에서도, R1 과 R2 에 있어서의 가지고 있어도 되는 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 할로겐 원자 등을 바람직한 것으로서 들 수 있고, 보다 바람직하게는 메틸기이다. 특히 바람직하게는 R1, R2 는 치환기를 갖지 않거나, 혹은 치환기로서 메틸기를 갖는 것이다. 이것은 치환기가 입체적으로 지나치게 크면, 분자간의 응집이 방해되어, 내열성이 저하될 가능성이 있기 때문이다.Among the above-mentioned, as a substituent in R<1> and R<2> which you may have, a C1-C4 alkyl group, a halogen atom, etc. are mentioned as a preferable thing, More preferably, it is a methyl group. Particularly preferably, R 1 and R 2 do not have a substituent or have a methyl group as a substituent. This is because, when the substituents are sterically too large, intermolecular aggregation may be hindered and heat resistance may decrease.
상기 식 (1) 로 나타내는 에스테르 화합물 (B) 는, 하기 식 (2) 또는 (3) 으로 나타내는 화합물인 것이 특히 바람직하다.It is particularly preferable that the ester compound (B) represented by the formula (1) is a compound represented by the following formula (2) or (3).
[화학식 6][Formula 6]
식 (2), (3) 중, R3, R4, R5 는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기, 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기에서 임의로 선택되는 기이다. n 은 0 ∼ 5 의 정수 (整數) 를 나타내고, m 은 0 ∼ 7 의 정수를 나타낸다.In formulas (2) and (3), R 3 , R 4 , and R 5 are each independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. is an arbitrarily selected group. n represents the integer of 0-5, m represents the integer of 0-7.
R3, R4, R5 의 구체예 및 바람직한 치환기는, R1 의 알킬기 또는 아릴기 및 R2 의 아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기로서 전술한 것과 동일하다.Specific examples and preferred substituents of R 3 , R 4 , and R 5 are the same as those described above as substituents which the alkyl group or aryl group of R 1 and the aryl group of R 2 may have.
식 (3) 의 나프탈렌 고리는 에스테르기의 산소 원자와 1 위치 또는 2 위치에서 결합하고 있는 것이 바람직하고, 2 위치에서 결합하고 있는 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the naphthalene ring of Formula (3) has couple|bonded with the oxygen atom of an ester group at 1-position or 2-position, and it is more preferable to couple|bond with it at 2-position.
n 은 0 ∼ 5 의 정수이고, 바람직하게는 0 ∼ 2, 보다 바람직하게는 0 ∼ 1, 특히 바람직하게는 0 이다.n is an integer of 0-5, Preferably it is 0-2, More preferably, it is 0-1, Especially preferably, it is 0.
m 은 0 ∼ 7 의 정수이고, 바람직하게는 0 ∼ 3, 보다 바람직하게는 0 ∼ 1, 특히 바람직하게는 0 이다.m is an integer of 0-7, Preferably it is 0-3, More preferably, it is 0-1, Especially preferably, it is 0.
이들 에스테르 화합물 (B) 는, 1 종만이어도 되고 2 종 이상의 혼합체로서도 사용할 수 있다.These ester compounds (B) may be used alone or as a mixture of two or more.
[변성 에폭시 수지의 화학 구조][Chemical structure of modified epoxy resin]
본 발명의 변성 에폭시 수지는, 하기 식 (4) 로 나타내는 구조를 포함하는 것이고, 상기 서술한 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기와 상기 서술한 에스테르 화합물 (B) 의 에스테르기가 반응함으로써 얻을 수 있다. 전술한 바와 같이, 하기 식 (4) 로 나타내는 구조에서 유래하여, 내열성, 저유전 특성의 향상 효과를 얻을 수 있다.The modified epoxy resin of this invention contains the structure represented by following formula (4), It can obtain by reacting the epoxy group of the above-mentioned epoxy resin (A) and the ester group of the above-mentioned ester compound (B). As mentioned above, it originates in the structure represented by following formula (4), and the improvement effect of heat resistance and a low dielectric characteristic can be acquired.
[화학식 7][Formula 7]
식 (4) 중, R1 과 R2 는 상기 식 (1) 에 있어서의 것과 동일한 의미이다.In Formula (4), R<1> and R<2> have the same meaning as the thing in said Formula (1).
[중량 평균 분자량 (Mw)][Weight Average Molecular Weight (Mw)]
본 발명의 변성 에폭시 수지의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 500 ∼ 10,000 의 범위인 것이 바람직하다. Mw 가 500 이상이면, 유전 특성이나 흡수율이 악화될 우려가 없다. 이들 특성을 보다 양호하게 유지하는 관점에서, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 Mw 는 600 이상이 보다 바람직하고, 700 이상이 더욱 바람직하고, 1,000 이상이 특히 바람직하다. 수지 점도, 연화점을 적정하게 유지하고, 취급성을 양호한 것으로 하는 관점에서, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 Mw 는 10,000 이하가 바람직하고, 8,000 이하가 보다 바람직하고, 7,000 이하가 더욱 바람직하고, 6,000 이하가 특히 바람직하다.It is preferable that the range of the weight average molecular weight (Mw) of the modified epoxy resin of this invention is 500-10,000. When Mw is 500 or more, there is no possibility that a dielectric characteristic or a water absorption rate may deteriorate. From a viewpoint of maintaining these characteristics more favorably, Mw of the modified epoxy resin of this invention is more preferable, 600 or more, 700 or more are still more preferable, 1,000 or more are especially preferable. From the viewpoint of properly maintaining the resin viscosity and softening point and making the handleability good, the Mw of the modified epoxy resin of the present invention is preferably 10,000 or less, more preferably 8,000 or less, still more preferably 7,000 or less, and 6,000 or less. is particularly preferred.
Mw 는 겔 퍼미에이션 크로마토그래피법 (GPC 법) 에 의해 측정할 수 있다. GPC 에 의한 측정법에 대해서는 구체예를 이후에 게재하는 실시예에 있어서 설명한다.Mw can be measured by the gel permeation chromatography method (GPC method). The measurement method by GPC is demonstrated in the Example which publishes a specific example later.
[에폭시 당량][epoxy equivalent]
본 발명의 변성 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 300 ∼ 1,000 g/당량의 범위인 것이 바람직하다. 내열성을 양호하게 유지하는 관점에서, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 에폭시 당량은 1,000 g/당량 이하가 바람직하고, 900 g/당량 이하가 보다 바람직하고, 800 g/당량 이하가 더욱 바람직하다. 유전 특성, 흡수율을 양호하게 유지하는 관점에서, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 에폭시 당량은 300 g/당량 이상이 바람직하고, 330 g/당량 이상이 보다 바람직하고, 360 g/당량 이상이 특히 바람직하다.It is preferable that the epoxy equivalent of the modified epoxy resin of this invention is the range of 300-1,000 g/equivalent. From the viewpoint of maintaining good heat resistance, the epoxy equivalent of the modified epoxy resin of the present invention is preferably 1,000 g/equivalent or less, more preferably 900 g/equivalent or less, and still more preferably 800 g/equivalent or less. From the viewpoint of maintaining good dielectric properties and water absorption, the epoxy equivalent of the modified epoxy resin of the present invention is preferably 300 g/equivalent or more, more preferably 330 g/equivalent or more, and particularly preferably 360 g/equivalent or more. .
[연화점][Softening Point]
고형상의 본 발명의 변성 에폭시 수지의 연화점은, 60 ∼ 130 ℃ 의 범위인 것이 바람직하다. 수지의 블로킹을 억제하는 관점에서, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 연화점은 65 ℃ 이상이 보다 바람직하고, 70 ℃ 이상이 더욱 바람직하고, 75 ℃ 이상이 특히 바람직하다. 용제 용해성을 충분히 확보하기 위해, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 연화점은 125 ℃ 이하가 보다 바람직하고, 120 ℃ 이하가 더욱 바람직하고, 115 ℃ 이하가 특히 바람직하다.It is preferable that the range of the softening point of the modified epoxy resin of this invention in solid form is 60-130 degreeC. As for the softening point of the modified epoxy resin of this invention from a viewpoint of suppressing blocking of resin, 65 degreeC or more is more preferable, 70 degreeC or more is still more preferable, and 75 degreeC or more is especially preferable. In order to sufficiently ensure solvent solubility, the softening point of the modified epoxy resin of the present invention is more preferably 125°C or lower, still more preferably 120°C or lower, and particularly preferably 115°C or lower.
여기서, 연화점은 JIS K7234 에 준하여 측정할 수 있다.Here, a softening point can be measured according to JISK7234.
블로킹이란, 보관시에 분체의 수지편이 부분 융해되어 덩어리가 되어, 취급성을 저해하는 현상을 가리킨다.Blocking refers to a phenomenon in which the resin pieces of powder are partially melted during storage to form a lump, impairing handleability.
[변성 에폭시 수지의 제조 방법][Method for Producing Modified Epoxy Resin]
본 발명의 변성 에폭시 수지는, 상기 서술한 1 분자 중에 평균 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지 (A) 와, 상기 서술한 1 분자 중에 1 개의 에스테르 구조를 갖는, 상기 식 (1) 로 나타내는 에스테르 화합물 (B) 를 반응시키는 것에 의해 얻어진다.The modified epoxy resin of this invention has an epoxy resin (A) which has an average of 2 or more epoxy groups in 1 molecule mentioned above, and the ester compound represented by said Formula (1) which has 1 ester structure in 1 molecule mentioned above. It is obtained by making (B) react.
에폭시 수지 (A) 의 제법으로는 예를 들어, 비스페놀계 화합물이나 각종 노볼락 화합물을, 공지된 방법에 의해 에피할로하이드린과 축합시키는 방법을 들 수 있다. 다른 에폭시 수지의 제조 방법으로는, 페놀이나 노볼락 화합물에 대해 알릴화 반응에 의해 알릴기를 도입하여 알릴 화합물로 하고, 추가로 그 알릴기에 대해 산화 반응시키는 방법을 들 수 있다. 에폭시 수지 (A) 는 시판되는 것을 사용해도 된다.As a manufacturing method of an epoxy resin (A), the method of condensing a bisphenol type compound and various novolak compounds with epihalohydrin by a well-known method is mentioned, for example. As another method for producing an epoxy resin, a method of introducing an allyl group by an allylation reaction to a phenol or a novolac compound to obtain an allyl compound, and further subjecting the allyl group to an oxidation reaction is exemplified. As the epoxy resin (A), a commercially available one may be used.
에스테르 화합물 (B) 는, 예를 들어, 알코올계 화합물이나 페놀계 화합물을, 산클로라이드, 혹은 카르복실산 등과의 축합 반응으로 에스테르화하여 제조할 수 있다.The ester compound (B) can be produced by, for example, esterifying an alcohol-based compound or a phenol-based compound by a condensation reaction with an acid chloride or carboxylic acid.
본 발명의 변성 에폭시 수지의 제조에 있어서, 에폭시 수지 (A) 와 에스테르 화합물 (B) 의 반응 당량비는, 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기의 몰수와 에스테르 화합물 (B) 의 에스테르기의 몰수의 비 (이하, 「몰비 (에폭시기/에스테르기)」라고 칭하는 경우가 있다) 로, 1.6 ∼ 6.0 이 되도록 하는 것이 바람직하다. 몰비 (에폭시기/에스테르기) 가 상기 범위 내이면, 변성 반응 후의 에폭시기의 양을 최적으로 유지할 수 있어, 내열성, 유전 특성의 밸런스가 양호한 특성을 발현시킬 수 있다. 내열성과 유전 특성의 밸런스를 더욱 양호하게 유지하는 관점에서, 몰비 (에폭시기/에스테르기) 는 1.62 이상이 보다 바람직하고, 1.63 이상이 더욱 바람직하고, 1.65 이상이 특히 바람직하다. 동일한 관점에서, 몰비 (에폭시기/에스테르기) 는 5.5 이하가 보다 바람직하고, 5.0 이하가 더욱 바람직하고, 4.5 이하가 특히 바람직하다.In the production of the modified epoxy resin of the present invention, the reaction equivalent ratio of the epoxy resin (A) and the ester compound (B) is the ratio of the number of moles of the epoxy group of the epoxy resin (A) to the number of moles of the ester group of the ester compound (B) ( Hereinafter, it is preferable to set it as 1.6-6.0 as "molar ratio (epoxy group/ester group)" may be called). When the molar ratio (epoxy group/ester group) is within the above range, the amount of the epoxy group after the modification reaction can be optimally maintained, and properties with good balance of heat resistance and dielectric properties can be expressed. From the viewpoint of further maintaining the balance between heat resistance and dielectric properties, the molar ratio (epoxy group/ester group) is more preferably 1.62 or more, still more preferably 1.63 or more, and particularly preferably 1.65 or more. From the same viewpoint, the molar ratio (epoxy group/ester group) is more preferably 5.5 or less, still more preferably 5.0 or less, and particularly preferably 4.5 or less.
본 발명의 변성 에폭시 수지의 제조에는 촉매를 사용해도 된다. 촉매로는, 에폭시기와 에스테르기의 반응을 촉진하는 촉매능을 갖는 화합물이면 어떠한 것이어도 된다. 촉매로는, 예를 들어, 제3급 아민, 고리형 아민류, 이미다졸류, 유기 인 화합물, 제4급 암모늄염 등을 들 수 있다.You may use a catalyst for manufacture of the modified epoxy resin of this invention. As a catalyst, any compound may be sufficient as long as it is a compound which has catalytic ability which accelerates|stimulates reaction of an epoxy group and an ester group. Examples of the catalyst include tertiary amines, cyclic amines, imidazoles, organophosphorus compounds, and quaternary ammonium salts.
제3급 아민의 구체예로는, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리에탄올아민, 벤질디메틸아민, 피리딘, 4-(디메틸아미노)피리딘 등을 들 수 있다.Specific examples of the tertiary amine include triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triethanolamine, benzyldimethylamine, pyridine, and 4-(dimethylamino)pyridine.
고리형 아민류의 구체예로는, 1,4-디아자비시클로[2,2,2]옥탄, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데센-7, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]노넨-5 등을 들 수 있다.Specific examples of the cyclic amines include 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undecene-7, 1,5-diazabi Cyclo[4,3,0]nonene-5 etc. are mentioned.
이미다졸류의 구체예로는, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등을 들 수 있다.Specific examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-phenylimidazole.
유기 인 화합물의 구체예로는, 트리-n-프로필포스핀, 트리-n-부틸포스핀, 트리페닐포스핀, 트리스(p-톨릴)포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리(tert-부틸)포스핀, 트리스(p-메톡시페닐)포스핀, 테트라메틸포스포늄브로마이드, 테트라메틸포스포늄아이오다이드, 테트라메틸포스포늄하이드로옥사이드, 테트라부틸포스포늄하이드로옥사이드, 트리메틸시클로헥실포스포늄클로라이드, 트리메틸시클로헥실포스포늄브로마이드, 트리메틸벤질포스포늄클로라이드, 트리메틸벤질포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 트리페닐메틸포스포늄브로마이드, 트리페닐메틸포스포늄아이오다이드, 트리페닐에틸포스포늄클로라이드, 트리페닐에틸포스포늄브로마이드, 트리페닐에틸포스포늄아이오다이드, 트리페닐벤질포스포늄클로라이드, 트리페닐벤질포스포늄브로마이드 등을 들 수 있다.Specific examples of the organophosphorus compound include tri-n-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine, tris(p-tolyl)phosphine, tricyclohexylphosphine, tri(tert-butyl) ) phosphine, tris (p-methoxyphenyl) phosphine, tetramethylphosphonium bromide, tetramethylphosphonium iodide, tetramethylphosphonium hydroxide, tetrabutylphosphonium hydroxide, trimethylcyclohexylphosphonium chloride, Trimethylcyclohexylphosphonium bromide, trimethylbenzylphosphonium chloride, trimethylbenzylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium iodide, triphenylethylphosphonium chloride, triphenyl Ethylphosphonium bromide, triphenylethylphosphonium iodide, triphenylbenzylphosphonium chloride, triphenylbenzylphosphonium bromide, etc. are mentioned.
이상에 든 촉매 중에서도 4-(디메틸아미노)피리딘, 1,4-디아자비시클로[2,2,2]옥탄, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데센-7, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]노넨-5, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 트리스(p-톨릴)포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리(tert-부틸)포스핀, 트리스(p-메톡시페닐)포스핀이 바람직하고, 특히 4-(디메틸아미노)피리딘, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데센-7, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]노넨-5, 2-에틸-4-메틸이미다졸이 바람직하다.Among the catalysts listed above, 4-(dimethylamino)pyridine, 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undecene-7, 1, 5-diazabicyclo[4,3,0]nonene-5, 2-ethyl-4-methylimidazole, tris(p-tolyl)phosphine, tricyclohexylphosphine, tri(tert-butyl)phosphine , tris(p-methoxyphenyl)phosphine, in particular 4-(dimethylamino)pyridine, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4,3,0]nonene-5,2-ethyl-4-methylimidazole is preferred.
이들 촉매는 1 종만을 사용할 수도 있고, 2 종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.These catalysts may be used alone or in combination of two or more.
촉매의 사용량은 반응 고형분 중, 통상적으로 0.001 ∼ 1 중량% 이다. 촉매를 사용한 경우, 얻어지는 변성 에폭시 수지 중에 촉매 화합물이 촉매 잔류물로서 잔류하고, 프린트 배선판에 사용한 경우, 그 절연 특성을 악화시키거나, 조성물의 포트 라이프를 단축시키거나 할 우려가 있다.The usage-amount of a catalyst is 0.001 to 1 weight% normally in reaction solid content. When a catalyst is used, a catalyst compound remains as a catalyst residue in the modified|denatured epoxy resin obtained, and when it uses for a printed wiring board, there exists a possibility that the insulation characteristic may deteriorate or the pot life of a composition may be shortened.
따라서, 얻어지는 변성 에폭시 수지 중의 촉매 유래의 질소의 함유량이 바람직하게는 2000 ppm 이하이고, 인의 함유량이 바람직하게는 2000 ppm 이하가 되도록한다. 보다 바람직하게는, 변성 에폭시 수지 중의 질소의 함유량은 1000 ppm 이하이고, 인의 함유량은 1000 ppm 이하이다. 더욱 바람직하게는, 변성 에폭시 수지 중의 질소의 함유량은 500 ppm 이하이고, 인의 함유량은 500 ppm 이하이다. 특히 바람직하게는 변성 에폭시 수지 중의 질소의 함유량은 200 ppm 이하이고, 인의 함유량은 200 ppm 이하이다. 촉매 유래의 질소, 인의 함유량의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 측정 기기의 검출 한계 하한으로부터 1 ppm 정도이다.Therefore, the nitrogen content derived from the catalyst in the resulting modified epoxy resin is preferably 2000 ppm or less, and the phosphorus content is preferably 2000 ppm or less. More preferably, content of nitrogen in a modified epoxy resin is 1000 ppm or less, and content of phosphorus is 1000 ppm or less. More preferably, the nitrogen content in the modified epoxy resin is 500 ppm or less, and the phosphorus content is 500 ppm or less. Especially preferably, content of nitrogen in a modified epoxy resin is 200 ppm or less, and content of phosphorus is 200 ppm or less. Although the lower limit of content of nitrogen and phosphorus derived from a catalyst is not specifically limited, It is about 1 ppm from the detection limit lower limit of a measuring instrument.
본 발명의 변성 에폭시 수지는, 그 제조시의 합성 반응의 공정에 있어서, 반응용의 용매를 사용해도 된다. 용매로는, 에폭시 수지를 용해시키는 것이면 어떠한 것이어도 된다. 용매로는, 예를 들어, 방향족계 용매, 케톤계 용매, 아미드계 용매, 글리콜에테르계 용매 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1 종만으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.The modified epoxy resin of this invention may use the solvent for reaction in the process of the synthesis reaction at the time of its manufacture. The solvent may be any solvent as long as it dissolves the epoxy resin. Examples of the solvent include an aromatic solvent, a ketone solvent, an amide solvent, and a glycol ether solvent. These solvents may be used only by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
방향족계 용매의 구체예로는, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, and xylene.
케톤계 용매의 구체예로는, 아세톤, 메틸에틸케톤 (MEK), 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 4-헵타논, 2-옥타논, 시클로헥사논, 아세틸아세톤, 디옥산 등을 들 수 있다.Specific examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, cyclohexanone, acetylacetone, dioxane, and the like. can
아미드계 용매의 구체예로는, 포름아미드, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, 아세트아미드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 2-피롤리돈, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.Specific examples of the amide solvent include formamide, N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N,N-dimethylacetamide, 2-pyrrolidone, N -Methylpyrrolidone etc. are mentioned.
글리콜에테르계 용매의 구체예로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the glycol ether solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl Ether acetate etc. are mentioned.
변성 에폭시 수지의 제조에 용매를 사용하는 경우에는, 반응계의 고형분 농도가 35 ∼ 95 중량% 가 되도록 사용하는 것이 바람직하다.When using a solvent for manufacture of a modified epoxy resin, it is preferable to use so that solid content concentration of a reaction system may become 35 to 95 weight%.
반응 도중에 고점성 생성물이 생겼을 때에는 용매를 추가 첨가하여 반응을 계속할 수도 있다.When a highly viscous product is generated during the reaction, the reaction may be continued by additionally adding a solvent.
반응 종료 후, 용매는 필요에 따라, 제거할 수도 있고, 더욱 추가할 수도 있다.After completion of the reaction, the solvent may be removed or further added as needed.
본 발명의 변성 에폭시 수지의 제조에 있어서, 에폭시 수지 (A) 와 에스테르계 화합물 (B) 의 반응은 사용하는 촉매가 분해되지 않을 정도의 반응 온도에서 실시된다. 반응 온도가 지나치게 높으면 촉매가 분해되어 반응이 정지되거나, 생성되는 변성 에폭시 수지가 열화되거나 할 우려가 있다. 반대로 온도가 지나치게 낮으면 충분히 반응이 진행되지 않는 경우가 있다.In the production of the modified epoxy resin of the present invention, the reaction between the epoxy resin (A) and the ester compound (B) is carried out at a reaction temperature such that the catalyst used is not decomposed. When the reaction temperature is too high, there is a fear that the catalyst decomposes, the reaction is stopped, or the resulting modified epoxy resin deteriorates. Conversely, if the temperature is too low, the reaction may not proceed sufficiently.
이러한 이유로부터 반응 온도는, 바람직하게는 50 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 100 ∼ 180 ℃, 더욱 바람직하게는 120 ℃ ∼ 160 ℃ 이다.For this reason, the reaction temperature is preferably 50 to 200°C, more preferably 100 to 180°C, still more preferably 120°C to 160°C.
반응 시간은 통상적으로 1 ∼ 12 시간, 바람직하게는 3 ∼ 10 시간이다.The reaction time is usually 1 to 12 hours, preferably 3 to 10 hours.
아세톤이나 메틸에틸케톤과 같은 저비점 용매를 사용하는 경우에는, 오토클레이브를 사용하여 고압 하에서 반응을 실시함으로써 반응 온도를 확보할 수 있다.When using a low boiling point solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, the reaction temperature can be secured by performing the reaction under high pressure using an autoclave.
〔에폭시 수지 조성물〕[Epoxy Resin Composition]
본 발명의 에폭시 수지 조성물은, 적어도 전술한 본 발명의 변성 에폭시 수지와 경화제를 함유하는 에폭시 수지 조성물이다. 본 발명의 에폭시 수지 조성물은, 전술한 식 (4) 의 구조를 포함하는 에폭시 수지 조성물이 바람직하다.The epoxy resin composition of this invention is an epoxy resin composition containing at least the modified|denatured epoxy resin of this invention mentioned above, and a hardening|curing agent. As for the epoxy resin composition of this invention, the epoxy resin composition containing the structure of Formula (4) mentioned above is preferable.
또, 본 발명의 에폭시 수지 조성물에는, 필요에 따라, 본 발명의 변성 에폭시 수지 이외의 다른 에폭시 수지, 무기 필러, 커플링제, 산화 방지제 등의 각종 첨가제를 적절히 배합할 수 있다. 본 발명의 에폭시 수지 조성물은 내열성과 저유전 특성이 우수하고, 각종 용도에 요구되는 여러 물성을 충분히 만족하는 경화물을 부여하는 것이다.Moreover, various additives, such as other epoxy resins other than the modified epoxy resin of this invention, an inorganic filler, a coupling agent, and antioxidant, can be mix|blended with the epoxy resin composition of this invention suitably as needed. The epoxy resin composition of the present invention is excellent in heat resistance and low dielectric properties, and provides a cured product that sufficiently satisfies various physical properties required for various uses.
[경화제][hardener]
본 발명에 있어서 경화제란, 에폭시 수지의 에폭시기 사이의 가교 반응 및/또는 사슬 길이 연장 반응에 기여하는 물질을 나타낸다.In this invention, a hardening|curing agent shows the substance which contributes to the crosslinking reaction and/or chain length extension reaction between the epoxy groups of an epoxy resin.
본 발명에 있어서는 통상적으로, 「경화 촉진제」라고 불리는 것이어도 에폭시 수지의 에폭시기 사이의 가교 반응 및/또는 사슬 길이 연장 반응에 기여하는 물질이면, 경화제로 간주한다.In this invention, even if it is what is normally called a "curing accelerator", if it is a substance which contributes to the crosslinking reaction and/or chain length extension reaction between the epoxy groups of an epoxy resin, it is regarded as a hardening|curing agent.
본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 경화제의 함유량은, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 고형분 100 중량부에 대해, 바람직하게는 고형분으로 0.1 ∼ 100 중량부, 보다 바람직하게는 90 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 80 중량부 이하이다.The content of the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 100 parts by weight by solid content, more preferably 90 parts by weight or less, still more preferably with respect to 100 parts by weight of the solid content of the modified epoxy resin of the present invention. 80 parts by weight or less.
본 발명의 에폭시 수지 조성물이, 후술하는 다른 에폭시 수지를 포함하는 경우에는, 본 발명의 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지의 고형분의 중량비는 바람직하게는 99/1 ∼ 1/99 이다.When the epoxy resin composition of this invention contains the other epoxy resin mentioned later, the weight ratio of the solid content of the modified epoxy resin of this invention and another epoxy resin becomes like this. Preferably it is 99/1 - 1/99.
이 경우에 있어서, 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 경화제의 함유량은, 본 발명의 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지의 고형분의 합계 100 중량부에 대해, 바람직하게는 고형분으로 0.1 ∼ 100 중량부, 보다 바람직하게는 90 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 80 중량부 이하이다.In this case, the content of the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 100 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight in total of the solid content of the modified epoxy resin of the present invention and the other epoxy resins, more preferably preferably 90 parts by weight or less, more preferably 80 parts by weight or less.
본 발명에 있어서, 「고형분」이란 용매를 제외한 성분을 의미하고, 고체의 에폭시 수지뿐만 아니라, 반고형이나 점조인 액상물의 것도 포함하는 것으로 한다.In the present invention, "solid content" means a component excluding a solvent, and includes not only a solid epoxy resin but also a semi-solid or viscous liquid.
「전체 에폭시 수지 성분」이란, 본 발명의 변성 에폭시 수지와 후술하는 다른 에폭시 수지의 합계를 의미한다."All epoxy resin components" means the sum total of the modified epoxy resin of this invention and other epoxy resins mentioned later.
본 발명의 에폭시 수지 조성물에 사용하는 경화제로는, 특별히 제한은 없고 일반적으로 에폭시 수지 경화제로서 알려져 있는 것은 모두 사용할 수 있다. 내열성을 높이는 관점에서 바람직한 것으로서 페놀계 경화제, 아미드계 경화제, 이미다졸류 및 활성 에스테르계 경화제 등을 들 수 있다. 이하, 페놀계 경화제, 아미드계 경화제, 이미다졸류, 활성 에스테르계 경화제 및 그 밖의 사용 가능한 경화제의 예를 든다.There is no restriction|limiting in particular as a hardening|curing agent used for the epoxy resin composition of this invention, Any thing generally known as an epoxy resin hardening|curing agent can be used. A phenol-based curing agent, an amide-based curing agent, imidazoles, an active ester-based curing agent, and the like are preferred from the viewpoint of improving heat resistance. Hereinafter, examples of phenol-based curing agents, amide-based curing agents, imidazoles, active ester-based curing agents, and other usable curing agents are given.
[페놀계 경화제][Phenolic Hardener]
경화제로서 페놀계 경화제를 사용하는 것이, 얻어지는 에폭시 수지 조성물의 취급성과, 경화 후의 내열성을 향상시키는 관점에서 바람직하다.It is preferable to use a phenol-type hardening|curing agent as a hardening|curing agent from a viewpoint of improving the handleability of the epoxy resin composition obtained, and the heat resistance after hardening.
페놀계 경화제의 구체예로는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 4,4'-디하이드록시 디페닐메탄, 4,4'-디하이드록시디페닐에테르, 1,4-비스(4-하이드록시페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-하이드록시페녹시)벤젠, 4,4'-디하이드록시디페닐술파이드, 4,4'-디하이드록시디페닐케톤, 4,4'-디하이드록시디페닐술폰, 4,4'-디하이드록시비페닐, 2,2'-디하이드록시비페닐, 10-(2,5-디하이드록시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 페놀 노볼락, 비스페놀 A 노볼락, o-크레졸 노볼락, m-크레졸 노볼락, p-크레졸 노볼락, 자일레놀 노볼락, 폴리-p-하이드록시스티렌, 하이드로퀴논, 레조르신, 카테콜, t-부틸카테콜, t-부틸하이드로퀴논, 플루오로글리시놀, 피로갈롤, t-부틸피로갈롤, 알릴화피로갈롤, 폴리알릴화피로갈롤, 1,2,4-벤젠트리올, 2,3,4-트리하이드록시벤조페논, 1,2-디하이드록시나프탈렌, 1,3-디하이드록시나프탈렌, 1,4-디하이드록시나프탈렌, 1,5-디하이드록시나프탈렌, 1,6-디하이드록시나프탈렌, 1,7-디하이드록시나프탈렌, 1,8-디하이드록시나프탈렌, 2,3-디하이드록시나프탈렌, 2,4-디하이드록시나프탈렌, 2,5-디하이드록시나프탈렌, 2,6-디하이드록시나프탈렌, 2,7-디하이드록시나프탈렌, 2,8-디하이드록시나프탈렌, 상기 디하이드록시나프탈렌의 알릴화물 또는 폴리알릴화물, 알릴화 비스페놀 A, 알릴화 비스페놀 F, 알릴화 페놀 노볼락, 알릴화 피로갈롤 등이 예시된다.Specific examples of the phenolic curing agent include bisphenol A, bisphenol F, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis(4-hydroxyphenoxy) C) benzene, 1,3-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-di Hydroxydiphenylsulfone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl, 10-(2,5-dihydroxyphenyl)-10H-9-oxa-10-phos Paphenanthrene-10-oxide, phenol novolac, bisphenol A novolac, o-cresol novolac, m-cresol novolac, p-cresol novolac, xylenol novolac, poly-p-hydroxystyrene, hydro Quinone, resorcinol, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butylpyrogalol, allylated pyrogalol, polyallylated pyrogalol, 1,2, 4-Benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-di Hydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2 ,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allylated or polyallylated dihydroxynaphthalene Bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolac, allylated pyrogallol, etc. are illustrated.
이상에서 든 페놀계 경화제는 1 종만으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 혼합하여 사용해도 된다.The phenolic hardening|curing agent mentioned above may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and ratios.
경화제가 페놀계 경화제인 경우, 에폭시 수지 조성물 중의 전체 에폭시 수지 중의 에폭시기에 대한 경화제 중의 관능기의 당량비로 0.8 ∼ 1.5 의 범위가 되도록 사용하는 것이 바람직하다. 이 범위 내이면 미반응의 에폭시기나 경화제의 관능기가 잔류하기 어려워지기 때문에 바람직하다.When the curing agent is a phenol-based curing agent, it is preferably used so that the equivalent ratio of the functional groups in the curing agent to the epoxy groups in all the epoxy resins in the epoxy resin composition is in the range of 0.8 to 1.5. If it is in this range, since it becomes difficult to remain unreacted epoxy group and the functional group of a hardening|curing agent, it is preferable.
[아미드계 경화제][Amide-based curing agent]
경화제로서 아미드계 경화제를 사용하는 것은, 얻어지는 에폭시 수지 조성물의 내열성의 향상의 관점에서 바람직하다.It is preferable from a viewpoint of improving the heat resistance of the epoxy resin composition obtained to use an amide type hardening|curing agent as a hardening|curing agent.
아미드계 경화제로는 디시안디아미드 및 그 유도체, 폴리아미드 수지 등을 들 수 있다.Examples of the amide curing agent include dicyandiamide and its derivatives, and polyamide resins.
이상에 든 아미드계 경화제는 1 종만으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 혼합하여 사용해도 된다.The above-mentioned amide type hardening|curing agent may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and ratios.
아미드계 경화제는, 에폭시 수지 조성물 중의 고형분으로서의 전체 에폭시 수지 성분과 아미드계 경화제의 합계에 대해 0.1 ∼ 20 중량% 의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use an amide-type hardening|curing agent in 0.1 to 20 weight% with respect to the sum total of all the epoxy resin components as solid content in an epoxy resin composition, and an amide-type hardening|curing agent.
[이미다졸류][Imidazoles]
경화제로서 이미다졸류를 사용하는 것은, 경화 반응을 충분히 진행시키고, 내열성을 향상시키는 관점에서 바람직하다.It is preferable to use imidazole as a hardening|curing agent from a viewpoint of fully advancing hardening reaction and improving heat resistance.
이미다졸류로는, 2-페닐이미다졸, 2-에틸-4(5)-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸트리멜리테이트, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-[2'-에틸-4'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진이소시아누르산 부가체, 2-페닐이미다졸이소시아누르산 부가체, 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸, 및 에폭시 수지와 상기 이미다졸류의 부가체 등이 예시된다.Examples of imidazoles include 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4(5)-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1 -Benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyano-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole tri melitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-Diamino-6-[2′-ethyl-4′-methylimidazolyl-(1′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2′-methyl Imidazolyl-(1')]-ethyl-s-triazineisocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazoleisocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole , 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, and an adduct of an epoxy resin and the above imidazoles, and the like.
이미다졸류는 촉매능을 갖기 때문에, 일반적으로는 후술하는 경화 촉진제로도 분류될 수 있지만, 본 발명에 있어서는 경화제로서 분류한다.Since imidazoles have catalytic activity, they can generally be classified as curing accelerators described later, but in the present invention, they are classified as curing agents.
이상에서 든 이미다졸류는 1 종만이어도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 혼합하여 사용해도 된다.The number of imidazoles mentioned above may be one, and 2 or more types may be mixed and used by arbitrary combinations and ratios.
이미다졸류는, 에폭시 수지 조성물 중의 고형분으로서의 전체 에폭시 수지 성분과 이미다졸류의 합계에 대해 0.1 ∼ 20 중량% 의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use imidazole in 0.1 to 20 weight% with respect to the sum total of all the epoxy resin components as solid content in an epoxy resin composition, and imidazole.
[활성 에스테르계 경화제][Active Ester Hardener]
경화제로서 활성 에스테르계 경화제를 사용하는 것은, 얻어지는 경화물의 저흡수성, 저유전 특성을 발현시키는 관점에서 바람직하다.It is preferable to use an active ester-based curing agent as the curing agent from the viewpoint of exhibiting low water absorption and low dielectric properties of the resulting cured product.
활성 에스테르계 경화제로는, 페놀에스테르류, 티오페놀에스테르류, N-하이드록시아민에스테르류, 복소 고리 하이드록시 화합물의 에스테르류 등의 반응 활성이 높은 에스테르기를 1 분자 중에 2 개 이상 갖는 화합물이 바람직하고, 그 중에서도, 카르복실산 화합물과 페놀성 수산기를 갖는 방향족 화합물을 반응시킨 페놀 에스테르류가 보다 바람직하다. 카르복실산 화합물로는, 구체적으로는, 벤조산, 아세트산, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산 등을 들 수 있다. 페놀성 수산기를 갖는 방향족 화합물로는, 카테콜, 1,5-디하이드록시나프탈렌, 1,6-디하이드록시나프탈렌, 2,6-디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시벤조페논, 트리하이드록시벤조페논, 테트라하이드록시벤조페논, 플로로글루신, 벤젠트리올, 디시클로펜타디에닐디페놀, 페놀 노볼락 등을 들 수 있다. 유사한 경화제로서, 폴리아릴레이트를 사용할 수도 있다.As the active ester curing agent, compounds having two or more highly reactive ester groups in one molecule, such as phenol esters, thiophenol esters, N-hydroxyamine esters, and esters of heterocyclic hydroxy compounds, are preferable. And especially, the phenol ester which made the aromatic compound which has a carboxylic acid compound and phenolic hydroxyl group react are more preferable. Specific examples of the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and pyromellitic acid. Examples of the aromatic compound having a phenolic hydroxyl group include catechol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzo phenone, tetrahydroxybenzophenone, phloroglucine, benzenetriol, dicyclopentadienyldiphenol, phenol novolac, etc. are mentioned. As a similar curing agent, it is also possible to use polyarylates.
활성 에스테르계 경화제의 시판품으로는, HPC-8000-65T (디시클로펜타디엔 구조를 포함하는 활성 에스테르 경화제), HPC-8150-60T (나프탈렌 구조를 주골격에 포함하는 활성 에스테르 경화제) (각, DIC (주) 제조) 를 들 수 있다.Commercially available products of the active ester curing agent include HPC-8000-65T (active ester curing agent containing a dicyclopentadiene structure), HPC-8150-60T (active ester curing agent containing a naphthalene structure in the main skeleton) (each, DIC (Co., Ltd.) is mentioned.
이상에 든 활성 에스테르계 경화제는 1 종만이어도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 혼합하여 사용해도 된다.The number of active ester type hardening|curing agents mentioned above may be one, and 2 or more types may be mixed and used by arbitrary combinations and ratios.
활성 에스테르계 경화제는, 에폭시 수지 조성물 중의 전체 에폭시 수지 중의 에폭시기에 대한 경화제 중의 활성 에스테르기의 당량비로 0.2 ∼ 2.0 의 범위가 되도록 사용하는 것이 바람직하다.The active ester curing agent is preferably used so that the equivalent ratio of the active ester groups in the curing agent to the epoxy groups in all the epoxy resins in the epoxy resin composition is in the range of 0.2 to 2.0.
[그 밖의 경화제][Other curing agents]
본 발명의 에폭시 수지 조성물에 사용할 수 있는 상기 이외의 그 밖의 경화제로는, 예를 들어, 아민계 경화제 (단, 제3급 아민을 제외한다), 산 무수물계 경화제, 제3급 아민, 유기 포스핀류, 포스포늄염, 테트라페닐붕소염, 유기산디하이드라지드, 할로겐화붕소아민 착물, 폴리메르캅탄계 경화제, 이소시아네이트계 경화제, 블록이소시아네이트계 경화제 등을 들 수 있다.Examples of other curing agents other than those described above that can be used in the epoxy resin composition of the present invention include amine curing agents (however, tertiary amines are excluded), acid anhydride curing agents, tertiary amines, and organic phosphors. Fins, phosphonium salts, tetraphenyl boron salts, organic acid dihydrazide, boron halide amine complexes, polymercaptan-based curing agents, isocyanate-based curing agents, block isocyanate-based curing agents, and the like can be mentioned.
이상에서 든 그 밖의 경화제는, 1 종만으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 혼합하여 사용해도 된다.The other hardening|curing agent mentioned above may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.
[다른 에폭시 수지][Other Epoxy Resins]
본 발명의 에폭시 수지 조성물은, 본 발명의 변성 에폭시 수지에 추가로, 다른 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 다른 에폭시 수지를 사용함으로써, 부족한 물성을 보충하거나, 여러 가지의 물성을 향상시키거나 할 수 있다.The epoxy resin composition of the present invention may contain another epoxy resin in addition to the modified epoxy resin of the present invention. By using other epoxy resins, insufficient physical properties can be supplemented or various physical properties can be improved.
다른 에폭시 수지로는, 분자 내에 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 것이 바람직하다. 다른 에폭시 수지로는, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비스페놀 AF 형 에폭시 수지, 비스페놀 Z 형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 등의, 각종 에폭시 수지를 사용할 수 있다.As another epoxy resin, what has two or more epoxy groups in a molecule|numerator is preferable. Examples of other epoxy resins include bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, bisphenol AF epoxy resin, bisphenol Z epoxy resin, naphthalene epoxy resin, and phenol novolac epoxy resin. Various epoxy resins, such as resin, a cresol novolak-type epoxy resin, a phenol aralkyl-type epoxy resin, a biphenyl-type epoxy resin, a triphenylmethane-type epoxy resin, and a dicyclopentadiene-type epoxy resin, can be used.
이것들은 1 종만이어도 되고, 2 종 이상의 혼합체로서도 사용할 수 있다.These may be used alone or as a mixture of two or more.
본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서, 본 발명의 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지를 사용하는 경우, 고형분으로서의 전체 에폭시 수지 성분 100 중량% 중, 다른 에폭시 수지의 배합량은, 바람직하게는 1 중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 5 중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 중량% 이상이고, 바람직하게는 99 중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 95 중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 90 중량% 이하이다. 다른 에폭시 수지의 비율이 상기 하한치 이상인 것에 의해, 다른 에폭시 수지를 배합하는 것에 의한 물성 향상 효과를 충분히 얻을 수 있다. 다른 에폭시 수지의 비율이 상기 상한치 이하인 것에 의해, 본 발명의 변성 에폭시 수지의 효과가 충분히 발휘되어, 저흡습성 등의 물성 개선 효과를 얻는 관점에서 바람직하다.In the epoxy resin composition of the present invention, when using an epoxy resin different from the modified epoxy resin of the present invention, the blending amount of the other epoxy resin is preferably 1% by weight or more among 100% by weight of the total epoxy resin component as a solid content. , More preferably, it is 5 weight% or more, More preferably, it is 10 weight% or more, Preferably it is 99 weight% or less, More preferably, it is 95 weight% or less, More preferably, it is 90 weight% or less. When the ratio of another epoxy resin is more than the said lower limit, the physical-property improvement effect by mix|blending another epoxy resin can fully be acquired. When the ratio of other epoxy resins is below the said upper limit, the effect of the modified epoxy resin of this invention is fully exhibited, and it is preferable from a viewpoint of acquiring the physical property improvement effect, such as low hygroscopicity.
[용제][solvent]
본 발명의 변성 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지 조성물에는, 도막 형성시의 취급시에, 에폭시 수지 조성물의 점도를 적당히 조정하기 위해서 용제를 배합하고, 희석해도 된다.In the epoxy resin composition containing the modified epoxy resin of this invention, in order to adjust the viscosity of an epoxy resin composition suitably at the time of handling at the time of coating film formation, you may mix|blend and dilute a solvent.
본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서, 용제는, 에폭시 수지 조성물의 성형에 있어서의 취급성, 작업성을 확보하기 위해서 사용되고, 그 사용량에는 특별히 제한이 없다.The epoxy resin composition of this invention WHEREIN: A solvent is used in order to ensure the handleability in the shaping|molding of an epoxy resin composition, and workability|operativity, and there is no restriction|limiting in particular in the usage-amount.
본 발명에 있어서는 「용제」라는 단어와 전술한 「용매」라는 단어를 그 사용 형태에 따라 구별하여 사용하는데, 각각 독립적으로 동종의 것을 사용해도 되고, 상이한 것을 사용해도 된다.In this invention, although the word "solvent" and the word "solvent" mentioned above are used separately according to the usage form, respectively, the same thing may be used independently, and a different thing may be used.
본 발명의 변성 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지 조성물이 포함할 수 있는 용제로는, 예를 들어 아세톤, 메틸에틸케톤 (MEK), 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 아세트산에틸 등의 에스테르류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 헥산, 시클로헥산 등의 알칸류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족류 등을 들 수 있다.As a solvent which the epoxy resin composition containing the modified epoxy resin of this invention can contain, For example, ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, Esters, such as ethyl acetate ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, alcohols such as methanol and ethanol, alkanes such as hexane and cyclohexane, toluene , and aromatics such as xylene.
이상에 든 용제는, 1 종만으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 혼합하여 사용해도 된다.The solvents mentioned above may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and ratios.
[그 밖의 성분][Other Ingredients]
본 발명의 변성 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지 조성물에는, 그 기능 성의 추가적인 향상을 목적으로 하여, 이상에서 든 것 이외의 성분 (본 발명에 있어서 「그 밖의 성분」이라고 칭하는 경우가 있다) 을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 그 밖의 성분으로는, 에폭시 수지를 제외한 열경화성 수지나 광 경화성 수지, 경화 촉진제 (단, 「경화제」에 포함되는 것을 제외한다), 자외선 방지제, 산화 방지제, 커플링제, 가소제, 플럭스, 난연제, 착색제, 분산제, 유화제, 저탄성화제, 희석제, 소포제, 이온 트랩제, 무기 필러, 유기 필러 등을 들 수 있다.In the epoxy resin composition containing the modified epoxy resin of the present invention, for the purpose of further improvement of its functionality, components other than those listed above (in the present invention, "other components" may be referred to). there may be Such other components include, but are not limited to, thermosetting resins or photocurable resins other than epoxy resins, curing accelerators (except those included in “curing agents”), ultraviolet inhibitors, antioxidants, coupling agents, plasticizers, fluxes, flame retardants, A colorant, a dispersing agent, an emulsifier, a low elasticity agent, a diluent, an antifoaming agent, an ion trapping agent, an inorganic filler, an organic filler, etc. are mentioned.
〔경화물〕[Cured product]
본 발명의 변성 에폭시 수지를 경화제에 의해 경화시켜 이루어지는 경화물은, 내열성과 저유전 특성의 밸런스가 우수하고, 양호한 경화물성을 나타내는 것이다. 본 발명의 경화물은, 전술한 식 (4) 의 구조를 포함하는 경화물이 바람직하다.The cured product obtained by curing the modified epoxy resin of the present invention with a curing agent is excellent in the balance between heat resistance and low dielectric properties, and exhibits good cured material properties. As for the hardened|cured material of this invention, the hardened|cured material containing the structure of Formula (4) mentioned above is preferable.
여기서 말하는 「경화」란 열 및/또는 광 등에 의해 에폭시 수지 조성물을 의도적으로 경화시키는 것을 의미하는 것으로, 그 경화의 정도는 원하는 물성, 용도에 따라 제어하면 된다. 진행의 정도는 완전 경화여도 되고, 반경화 상태여도 되고, 특별히 제한되지 않는다. 통상적으로 에폭시기와 경화제의 경화 반응의 반응률은 5 ∼ 95 % 이다.The term "curing" as used herein means intentionally curing the epoxy resin composition by heat and/or light, and the degree of curing may be controlled according to desired physical properties and applications. The degree of advancing may be complete hardening or a semi-hardened state may be sufficient, and it is not restrict|limited in particular. Usually, the reaction rate of the hardening reaction of an epoxy group and a hardening|curing agent is 5-95 %.
본 발명의 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 경화물로 할 때의 에폭시 수지 조성물의 경화 방법은, 에폭시 수지 조성물 중의 배합 성분이나 배합량에 따라서도 상이하지만, 통상적으로, 80 ∼ 280 ℃ 에서 60 ∼ 360 분의 가열 조건을 들 수 있다. 이 가열은 80 ∼ 160 ℃ 에서 10 ∼ 90 분의 1 차 가열과, 120 ∼ 200 ℃ 에서 60 ∼ 150 분의 2 차 가열의 2 단 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 유리 전이 온도 (Tg) 가 2 차 가열의 온도를 초과하는 배합계에 있어서는 추가로 150 ∼ 280 ℃ 에서 60 ∼ 120 분의 3 차 가열을 실시하는 것이 바람직하다. 이와 같이 2 차 가열, 3 차 가열을 실시하는 것은 경화 불량이나 용제의 잔류를 저감시키는 관점에서 바람직하다.Although the hardening method of the epoxy resin composition at the time of hardening the epoxy resin composition of this invention and setting it as a hardened|cured material also changes with the compounding component and compounding quantity in an epoxy resin composition, Usually, at 80-280 degreeC, 60-360 minutes heating conditions are mentioned. It is preferable that this heating performs the two-stage process of the primary heating for 10-90 minutes at 80-160 degreeC, and the secondary heating for 60-150 minutes at 120-200 degreeC. In a compounding system in which a glass transition temperature (Tg) exceeds the temperature of secondary heating, it is further preferable to perform tertiary heating for 60-120 minutes at 150-280 degreeC. Thus, performing secondary heating and tertiary heating is preferable from a viewpoint of reducing hardening failure and residual of a solvent.
수지 반경화물을 제작할 때에는, 가열 등에 의해 형상을 유지할 수 있는 정도로 에폭시 수지 조성물의 경화 반응을 진행시키는 것이 바람직하다. 에폭시 수지 조성물이 용제를 함유하고 있는 경우에는, 통상적으로, 가열, 감압, 풍건 등의 수법으로 대부분의 용제를 제거한다. 수지 반경화물 중에 5 중량% 이하의 용제를 잔류시켜도 된다.When producing a resin semi-cured material, it is preferable to advance the curing reaction of the epoxy resin composition to such an extent that the shape can be maintained by heating or the like. When the epoxy resin composition contains a solvent, most solvents are usually removed by methods, such as heating, reduced pressure, and air drying. You may make 5 weight% or less of solvent remain in resin semi-hardened|cured material.
〔용도〕〔purpose〕
본 발명의 변성 에폭시 수지는, 제막성이 우수하다. 본 발명의 변성 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지 조성물은, 내열성과 저유전 특성이 우수한 경화물을 준다는 효과를 발휘한다. 이 때문에, 본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물은, 접착제, 도료, 토목 건축용 재료, 전기·전자 부품의 절연 재료 등, 여러 가지 분야에 적용 가능하고, 특히, 전기·전자 분야에 있어서의 절연 주형, 적층 재료, 봉지 재료 등으로서 유용하다.The modified epoxy resin of this invention is excellent in film forming property. The epoxy resin composition containing the modified epoxy resin of this invention exhibits the effect of giving the hardened|cured material excellent in heat resistance and low dielectric characteristic. For this reason, the modified epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the same can be applied to various fields such as adhesives, paints, materials for civil engineering and construction, and insulating materials for electrical and electronic components, and in particular, in the field of electrical and electronic components. It is useful as an insulating mold, a laminated material, a sealing material, etc. in
본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물의 용도의 일례로는, 다층 프린트 배선 기판, 캐패시터 등의 전기·전자 회로용 적층판, 필름상 접착제, 액상 접착제 등의 접착제, 반도체 봉지 재료, 언더 필 재료, 3D-LSI 용 인터칩 필, 절연 시트, 프리프레그, 방열 기판 등을 들 수 있다. 본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물의 용도는, 전혀 이것들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the use of the modified epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the same include multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, adhesives such as film adhesives, liquid adhesives, semiconductor encapsulation materials, under A fill material, an interchip fill for 3D-LSI, an insulating sheet, a prepreg, a heat radiation board|substrate, etc. are mentioned. The use of the modified epoxy resin of this invention and the epoxy resin composition containing it is not limited to these at all.
〔전기·전자 회로용 적층판〕[Laminate Board for Electric/Electronic Circuits]
본 발명의 에폭시 수지 조성물은 전술한 바와 같이 전기·전자 회로용 적층판의 용도에 바람직하게 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서 「전기·전자 회로용 적층판」이란, 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 함유하는 층과 도전성 금속층을 적층한 것으로, 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 포함하는 층과 도전성 금속층을 적층한 것이면, 전기·전자 회로는 아니어도, 예를 들어 캐패시터도 포함하는 개념으로서 사용된다.As mentioned above, the epoxy resin composition of this invention can be used suitably for the use of the laminated board for electrical/electronic circuits. In the present invention, the "laminated board for electrical/electronic circuits" is a laminate of a layer containing the epoxy resin composition of the present invention and a conductive metal layer, and a layer containing the epoxy resin composition of the present invention and a conductive metal layer are laminated, Although it is not an electric/electronic circuit, it is used as a concept including a capacitor, for example.
전기·전자 회로용 적층판 중에는 2 종 이상의 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 층이 형성되어 있어도 되고, 적어도 1 개의 층에 있어서 본 발명의 에폭시 수지 조성물이 사용되고 있으면 된다. 전기·전자 회로용 적층판 중에는 2 종 이상의 도전성 금속층이 형성되어 있어도 된다.The layer which consists of 2 or more types of epoxy resin compositions may be formed in the laminated board for electrical/electronic circuits, and the epoxy resin composition of this invention should just be used in at least 1 layer. Two or more types of conductive metal layers may be formed in the laminated board for electric/electronic circuits.
전기·전자 회로용 적층판에 있어서의 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 층의 두께는 통상적으로 10 ∼ 200 ㎛ 정도이다. 도전성 금속층의 두께는 통상적으로 0.2 ∼ 70 ㎛ 정도이다.The thickness of the layer which consists of an epoxy resin composition in the laminated board for electric/electronic circuits is about 10-200 micrometers normally. The thickness of the conductive metal layer is usually about 0.2 to 70 µm.
[도전성 금속][conductive metal]
전기·전자 회로용 적층판에 있어서의 도전성 금속으로는, 구리, 알루미늄 등의 금속이나, 이들 금속을 포함하는 합금을 들 수 있다. 전기·전자 회로용 적층판의 도전성 금속층에 있어서는, 이들 금속의 금속박, 혹은 도금이나 스퍼터링으로 형성된 금속층을 사용할 수 있다.As an electroconductive metal in the laminated board for electric/electronic circuits, metals, such as copper and aluminum, and the alloy containing these metals are mentioned. In the electroconductive metal layer of the laminated board for electric/electronic circuits, the metal foil of these metals, or the metal layer formed by plating or sputtering can be used.
[전기·전자 회로용 적층판의 제조 방법][Method for manufacturing laminated board for electric/electronic circuits]
본 발명에 있어서의 전기·전자 회로용 적층판의 제조 방법으로는, 예를 들어 다음과 같은 방법을 들 수 있다.As a manufacturing method of the laminated board for electric/electronic circuits in this invention, the following method is mentioned, for example.
(1) 유리 섬유, 폴리에스테르 섬유, 아라미드 섬유, 셀룰로오스, 나노 파이버 셀룰로오스 등의 무기 및/또는 유기의 섬유 재료를 사용한 부직포나 클로스 등에, 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 함침시켜 프리프레그로 하고, 도전성 금속박 및/또는 도금에 의해 도전성 금속층을 형성한 후, 포토레지스트 등을 사용하여 회로를 형성하고, 이러한 층을 필요수 중첩하여 적층판으로 한다.(1) Nonwoven fabric or cloth using inorganic and/or organic fiber materials such as glass fiber, polyester fiber, aramid fiber, cellulose, nanofiber cellulose, etc., impregnated with the epoxy resin composition of the present invention to obtain a prepreg, conductive After the conductive metal layer is formed by metal foil and/or plating, a circuit is formed using a photoresist or the like, and the necessary number of these layers are overlapped to obtain a laminate.
(2) 상기 (1) 의 프리프레그를 심재 (心材) 로 하고, 그 위 (편면 또는 양면) 에, 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 층과 도전성 금속층을 적층한다 (빌드업법). 이 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 층은 유기 및/또는 무기의 필러를 포함하고 있어도 된다.(2) The prepreg of the above (1) is used as a core material, and a layer made of an epoxy resin composition and a conductive metal layer are laminated on it (one side or both sides) (build-up method). The layer which consists of this epoxy resin composition may contain the organic and/or inorganic filler.
(3) 심재를 사용하지 않고, 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 층과 도전성 금속층만을 교대로 적층하여 전기·전자 회로용 적층판으로 한다.(3) Without using a core material, only a layer made of an epoxy resin composition and a conductive metal layer are alternately laminated to obtain a laminate for electric/electronic circuits.
실시예Example
이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited by the Examples below.
이하의 실시예에 있어서의 각종의 제조 조건이나 평가 결과의 값은, 본 발명의 실시양태에 있어서의 상한 또는 하한의 바람직한 값으로서의 의미를 가지는 것으로, 바람직한 범위는 상기한 상한 또는 하한의 값과, 하기 실시예의 값 또는 실시예끼리의 값의 조합으로 규정되는 범위여도 된다.The values of various manufacturing conditions and evaluation results in the following examples have meanings as preferred values of the upper or lower limits in the embodiments of the present invention, and the preferred ranges are the values of the upper or lower limits described above; It may be the range defined by the combination of the value of the following Example or the value of each Example.
〔물성·특성의 평가 방법〕[Method for evaluating physical properties and properties]
이하의 실시예 및 비교예에 있어서, 물성, 특성의 평가는 이하의 1) ∼ 6) 에 기재된 방법으로 실시하였다.In the following Examples and Comparative Examples, evaluation of physical properties and characteristics was performed by the methods described in 1) to 6) below.
1) 중량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn)1) Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn)
토소 (주) 제조 「HLC-8320 GPC 장치」를 사용하고, 이하의 측정 조건에서, 표준 폴리스티렌으로서, TSK Standard Polystyrene : F-128 (Mw : 1,090,000, Mn : 1,030,000), F-10 (Mw : 106,000, Mn : 103,000), F-4 (Mw : 43,000, Mn : 42,700), F-2 (Mw : 17,200, Mn : 16,900), A-5000 (Mw : 6,400, Mn : 6,100), A-2500 (Mw : 2,800, Mn : 2,700), A-300 (Mw : 453, Mn : 387) 을 사용한 검량선을 작성하여, 중량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn) 을 폴리스티렌 환산값으로 하여 측정하였다.TSK Standard Polystyrene: F-128 (Mw: 1,090,000, Mn: 1,030,000), F-10 (Mw: 106,000) as standard polystyrene using "HLC-8320 GPC apparatus" manufactured by Tosoh Corporation under the following measurement conditions , Mn: 103,000), F-4 (Mw: 43,000, Mn: 42,700), F-2 (Mw: 17,200, Mn: 16,900), A-5000 (Mw: 6,400, Mn: 6,100), A-2500 (Mw) : 2,800, Mn: 2,700) and A-300 (Mw: 453, Mn: 387) were prepared, and the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) were measured as polystyrene conversion values.
칼럼 : 토소 (주) 제조 「TSKGEL SuperHM-H+H5000+H4000+H3000+H2000」Column: "TSKGEL SuperHM-H+H5000+H4000+H3000+H2000" manufactured by Tosoh Corporation
용리액 : 테트라하이드로푸란Eluent: tetrahydrofuran
유속 : 0.5 ㎖/분Flow rate: 0.5 ml/min
검출 : UV (파장 254 ㎚)Detection: UV (wavelength 254 nm)
온도 : 40 ℃Temperature: 40℃
시료 농도 : 0.1 중량%Sample concentration: 0.1 wt%
인젝션량 : 10 ㎕Injection amount: 10 μl
2) 원료 에폭시 수지의 1 분자 중의 평균의 에폭시기의 개수2) The average number of epoxy groups in one molecule of the raw material epoxy resin
GPC 측정으로부터 얻어지는 수평균 분자량을 에폭시 당량으로 나눈 값으로서 산출하였다.It computed as the value which divided the number average molecular weight obtained from GPC measurement by the epoxy equivalent.
3) 에폭시 당량3) Epoxy equivalent
JIS K7236 에 준하여 측정하고, 용액의 경우에는 고형분 환산치로서 표기하였다.It measured according to JISK7236, and in the case of a solution, it expressed as solid content conversion value.
4) 연화점4) softening point
고형 에폭시 수지의 연화점을 JIS K7234 에 준하여 측정하였다.The softening point of the solid epoxy resin was measured according to JIS K7234.
5) 경화물의 내열성 : 유리 전이 온도 (Tg, DSC)5) Heat resistance of cured product: glass transition temperature (Tg, DSC)
에폭시 수지 조성물의 용액을 건조, 경화시킨 두께 약 50 ㎛ 의 에폭시 수지 경화 필름에 대해 SII 나노테크놀로지 (주) 제조 「DSC7020」을 사용하고, 30 ∼ 250 ℃ 까지 10 ℃/분으로 승온하여 유리 전이 온도를 측정하였다.For an epoxy resin cured film having a thickness of about 50 µm in which a solution of an epoxy resin composition was dried and cured, "DSC7020" manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. was used, and the temperature was raised to 30 to 250 °C at 10 °C/min to the glass transition temperature was measured.
여기서 말하는 유리 전이 온도는, JIS K7121 「플라스틱의 전이 온도 측정법」에 기재되어 있는 것 중 「중점 유리 전이 온도 : Tmg」에 기초하여 측정하였다.The glass transition temperature here was measured based on "major glass transition temperature: Tmg" among those described in JIS K7121 "Method for measuring transition temperature of plastics".
유리 전이 온도의 판정 기준은 다음과 같이 하였다.The criterion for determining the glass transition temperature was as follows.
Tg 120 ℃ 이상 : 판정 ◎Tg above 120℃ : Judgment ◎
Tg 100 ℃ 이상 120 ℃ 미만 : 판정 ○Tg 100℃ or more and less than 120℃ : Judgment ○
Tg 100 ℃ 미만 : 판정 ×Tg less than 100℃ : Judgment ×
6) 유전 특성6) dielectric properties
에폭시 수지 경화물의 필름 또는 제작한 프리프레그를, 폭 2 ㎜, 길이 80 ㎜의 시험편으로 절단하고, 그 시험편에 대해, 네트워크 애널라이저를 사용하여, 공동 공진 섭동법에 의해 측정 주파수 10 GHz, 측정 온도 23 ℃ 에서 유전 정접 (tanδ) 을 측정하였다.The epoxy resin cured film or the prepared prepreg was cut into a test piece having a width of 2 mm and a length of 80 mm, and the test piece was measured by a cavity resonance perturbation method using a network analyzer at a measurement frequency of 10 GHz and a measurement temperature of 23 The dielectric loss tangent (tanδ) was measured at °C.
유전 특성의 판정 기준은 다음과 같이 하였다.The criteria for determining the dielectric properties were as follows.
tanδ ≤ 0.0075 : : 판정 Atanδ ≤ 0.0075: : Judgment A
0.0075 < tanδ ≤ 0.0085 : 판정 B0.0075 < tanδ ≤ 0.0085 : Judgment B
0.0085 < tanδ < 0.010 : 판정 C0.0085 < tanδ < 0.010 : Judgment C
0.010 ≤ tanδ : 판정 ×0.010 ≤ tanδ : Judgment ×
전술한 바와 같이, tanδ 는 작은 쪽이 특성으로서 양호하고, 0.010 이상의 것은 불합격 (×) 으로 하고, 각 값에 따라, 양호한 것으로부터 순서대로 A ∼ C 로 하였다.As described above, the smaller tan δ is better as a characteristic, and 0.010 or more is set to fail (x), and according to each value, it is set as A-C in order from favorable.
〔원료 등〕[Raw materials, etc.]
이하의 실시예·비교예에 있어서 사용한 원료, 촉매, 용매 및 용제는 이하와 같다.The raw material, catalyst, solvent, and solvent used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.
[에폭시 수지 (A)][Epoxy Resin (A)]
(A-1) : 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (에폭시 당량 : 197 g/당량, Mn : 416, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 2.1 개)(A-1): ortho-cresol novolak-type epoxy resin (epoxy equivalent: 197 g/equivalent, Mn: 416, average number of epoxy groups in one molecule: 2.1)
(A-2) : 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (에폭시 당량 : 220 g/당량, Mn : 1018, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 4.7 개)(A-2): ortho-cresol novolac-type epoxy resin (epoxy equivalent: 220 g/equivalent, Mn: 1018, average number of epoxy groups in one molecule: 4.7)
(A-3) : 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (에폭시 당량 : 219 g/당량, Mn : 831, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 3.8 개)(A-3): ortho cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent: 219 g/equivalent, Mn: 831, average number of epoxy groups in one molecule: 3.8)
(A-4) : 미츠비시 케미컬 (주) 제조 상품명 「jER 157S70」(비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 에폭시 당량 : 209 g/당량, Mn : 500, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 2.4 개)(A-4): Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "jER 157S70" (bisphenol A novolak type epoxy resin, epoxy equivalent: 209 g/equivalent, Mn: 500, average number of epoxy groups in one molecule: 2.4)
(A-5) : 미츠비시 케미컬 (주) 제조 상품명 「jER 1031S」(테트라페닐에탄형 에폭시 수지, 에폭시 당량 : 196 g/당량, Mn : 666, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 3.4 개)(A-5): Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "jER 1031S" (tetraphenylethane type epoxy resin, epoxy equivalent: 196 g/equivalent, Mn: 666, average number of epoxy groups in one molecule: 3.4)
(A-6) : 미츠비시 케미컬 (주) 제조 상품명 「jER 154」(페놀 노볼락형 에폭시 수지, 에폭시 당량 : 178 g/당량, Mn : 480, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 2.7 개)(A-6): Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "jER 154" (phenol novolak type epoxy resin, epoxy equivalent: 178 g/equivalent, Mn: 480, average number of epoxy groups in one molecule: 2.7)
(A-7) : 미츠비시 케미컬 (주) 제조 상품명 「jER YX7700」(자일레놀 골격 함유 노볼락형 에폭시 수지, 에폭시 당량 : 271 g/당량, Mn : 660, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 2.4 개)(A-7): Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "jER YX7700" (novolak-type epoxy resin containing xylenol skeleton, epoxy equivalent: 271 g/equivalent, Mn: 660, average number of epoxy groups in one molecule: 2.4 )
(A-8) : 미츠비시 케미컬 (주) 제조 상품명 「jER 828US」(비스페놀 A 형 에폭시 수지, 에폭시 당량 : 185 g/당량, Mn : 330, 1 분자 중의 평균 에폭시기수 : 1.8 개)(A-8): Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "jER 828US" (bisphenol A epoxy resin, epoxy equivalent: 185 g/equivalent, Mn: 330, average number of epoxy groups in one molecule: 1.8)
[에스테르 화합물 (B)][Ester compound (B)]
(B-1) : 벤조산-2-나프틸 (활성 당량 : 248 g/당량)(B-1): benzoic acid-2-naphthyl (active equivalent: 248 g/equivalent)
(B-2) : 벤조산페닐 (활성 당량 : 198 g/당량)(B-2): phenyl benzoate (active equivalent: 198 g/equivalent)
[디에스테르 화합물][diester compound]
(P-1) : 비스페놀 A 디아세테이트 (활성 당량 : 156 g/당량)(P-1): bisphenol A diacetate (active equivalent: 156 g/equivalent)
[그 밖의 에스테르 화합물][Other ester compounds]
(P-2) : 테레프탈산모노메틸에스테르(P-2): terephthalic acid monomethyl ester
[촉매][catalyst]
(C-1) : 4-(디메틸아미노)피리딘(C-1): 4-(dimethylamino)pyridine
[용매·용제][Solvent, solvent]
(S-1) : 시클로헥사논(S-1): cyclohexanone
(S-2) : 메틸에틸케톤 (MEK)(S-2): methyl ethyl ketone (MEK)
〔변성 에폭시 수지의 제조와 평가〕[Production and evaluation of modified epoxy resin]
<실시예 1-1 ∼ 1-16, 비교예 1-1 ∼ 1-3><Examples 1-1 to 1-16, Comparative Examples 1-1 to 1-3>
표-1, 표-2 에 나타낸 배합으로 에폭시 수지, 에스테르 화합물 또는 디에스테르 화합물, 촉매 및 반응용의 용매를 교반기 부착 반응 용기에 넣고, 질소 가스 분위기 하에서, 표-1, 표-2 에 기재한 반응 시간, 반응 온도에서 반응을 실시하였다. 그 후, 희석용의 용제를 첨가하여 고형분 농도를 조정하였다.Epoxy resin, ester compound or diester compound, catalyst, and solvent for reaction in the formulation shown in Tables 1 and 2 are placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, and in a nitrogen gas atmosphere, The reaction was carried out at the reaction time and reaction temperature. Then, the solvent for dilution was added and the solid content concentration was adjusted.
실시예 1-14 ∼ 16, 비교예 1-1 에 있어서는, 반응용의 용매를 사용하지 않고, 용제에 의한 희석도 실시하지 않고, 최종적으로 고형 상태의 에폭시 수지를 얻었다.In Examples 1-14 to 16 and Comparative Example 1-1, the epoxy resin in a solid state was finally obtained, without using the solvent for reaction and dilution with a solvent, either.
비교예 1-3 은 반응 중에 겔화를 일으켜, 평가 샘플을 얻을 수 없었다.In Comparative Example 1-3, gelation occurred during the reaction, and evaluation samples could not be obtained.
얻어진 변성 에폭시 수지의 분석 결과를 표-1, 표-2 에 나타낸다.The analysis results of the obtained modified epoxy resin are shown in Table-1 and Table-2.
[표 1][Table 1]
[표 2][Table 2]
〔에폭시 수지 조성물/경화물의 제조와 평가〕[Production and evaluation of epoxy resin composition/cured product]
<실시예 2-1 ∼ 2-13, 비교예 2-1 ∼ 2-2><Examples 2-1 to 2-13, Comparative Examples 2-1 to 2-2>
실시예 1-1 ∼ 1-13, 비교예 1-1 ∼ 1-2 에서 얻어진 변성 에폭시 수지와, 경화제로서 시판되는 폴리아릴레이트 수지 (비스페놀 골격을 갖는 폴리아릴레이트) 의 60 중량% 시클로헥사논 용액과, 경화 촉진제로서 4-(디메틸아미노)피리딘 (「DMAP」로 약기한다) 의 5 중량% 톨루엔 용액과, 필름화제가 되는 다른 에폭시 수지로서 고분자 에폭시 수지 (미츠비시 케미컬 제조, 상품명 「YL7891T30」, Mn : 10,000, Mw : 30,000, 에폭시 당량 : 6,000 g/당량) 을, 표-3A, 3B 에 나타낸 중량비 (전체 에폭시 수지의 에폭시 당량 : 경화제의 활성 당량 = 1 : 1 이 되는 비율) 로 혼합하고, 에폭시 수지 조성물을 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 조성물의 용액을 세퍼레이터 (실리콘 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 에 어플리케이터로 도포하고, 160 ℃ 에서 1.5 시간, 그 후 200 ℃ 에서 1.5 시간 건조시켜, 에폭시 수지 경화물의 필름을 얻었다.60 wt% cyclohexanone of the modified epoxy resin obtained in Examples 1-1 to 1-13 and Comparative Examples 1-1 to 1-2 and a commercially available polyarylate resin (polyarylate having a bisphenol skeleton) as a curing agent A solution, a 5 wt% toluene solution of 4-(dimethylamino)pyridine (abbreviated as “DMAP”) as a curing accelerator, and a polymer epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, trade name “YL7891T30” as another epoxy resin serving as a film-forming agent; Mn: 10,000, Mw: 30,000, epoxy equivalent: 6,000 g/equivalent) in the weight ratio shown in Tables-3A and 3B (epoxy equivalent of all epoxy resin: active equivalent of curing agent = 1:1), An epoxy resin composition was obtained. A solution of the obtained epoxy resin composition was applied to a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film) with an applicator, dried at 160°C for 1.5 hours and then at 200°C for 1.5 hours to obtain a film of a cured epoxy resin product.
이것들에 대해, 전술한 수법에 따라서 내열성을 평가하였다. 결과를 표-3A, 3B 에 나타낸다.About these, heat resistance was evaluated according to the method mentioned above. The results are shown in Tables-3A and 3B.
실시예 2-1 ∼ 8, 11 과 비교예 1-1, 2 에서는, 추가로 유전 특성을 평가하였다. 결과를 표-4A, 4B 에 나타낸다.In Examples 2-1 to 8 and 11 and Comparative Examples 1-1 and 2, dielectric properties were further evaluated. The results are shown in Tables 4A and 4B.
[표 3A][Table 3A]
[표 3B][Table 3B]
[표 4A][Table 4A]
[표 4B][Table 4B]
표-3A, 3B 의 결과로부터, 본 발명의 변성 에폭시 수지를 사용한 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 에폭시 수지 경화물의 필름은, 내열성이 우수한 것을 알 수 있다.From the results of Tables 3A and 3B, it is understood that the cured epoxy resin film made of the epoxy resin composition using the modified epoxy resin of the present invention is excellent in heat resistance.
표-4A, 4B 의 결과로부터, 본 발명의 변성 에폭시 수지를 사용한 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 에폭시 수지 경화물의 필름은, 저유전 특성이 우수한 것을 알 수 있다.From the results of Tables 4A and 4B, it is understood that the cured epoxy resin film made of the epoxy resin composition using the modified epoxy resin of the present invention is excellent in low dielectric properties.
이들 결과로부터, 본 발명의 에폭시 수지를 사용한 에폭시 수지 조성물로 이루어지는 에폭시 수지 경화물의 필름은, 내열성과 저유전 특성의 밸런스가 우수한 것을 알 수 있다.From these results, it turns out that the film of the epoxy resin hardened|cured material which consists of the epoxy resin composition using the epoxy resin of this invention is excellent in the balance of heat resistance and low dielectric characteristic.
이에 대하여, 비교예 1-1 의 변성 에폭시 수지를 사용한 에폭시 수지 경화물의 필름은, 내열성 및 저유전 특성이 열등하다. 또, 비교예 1-2 의 변성 에폭시 수지를 사용한 에폭시 수지 경화물의 필름은 저유전 특성이 열등하다.On the other hand, the film of the cured epoxy resin using the modified epoxy resin of Comparative Example 1-1 is inferior in heat resistance and low dielectric properties. Moreover, the film of the epoxy resin cured product using the modified epoxy resin of Comparative Example 1-2 is inferior in low dielectric properties.
〔프리프레그, 적층판의 제작과 평가〕[Production and evaluation of prepregs and laminates]
실시예 1-14 에서 합성한 변성 에폭시 수지를 메틸에틸케톤에 수지 함량이 70 중량% 가 되도록 용해시켰다. 제작한 에폭시 수지 용액 (용액량 120 g, 고형분 84 g) 과, 경화제로서 시판되는 폴리아릴레이트 수지 (비스페놀 골격을 갖는 폴리아릴레이트) 의 50 중량% 메틸에틸케톤 용액 (용액량 75 g, 고형분 38 g) 과, 경화 촉진제로서 4-(디메틸아미노)피리딘의 5 중량% 톨루엔 용액 (용액량 2.4 g, 고형분 0.12 g) 을 혼합하고, 에폭시 수지 조성물 (바니시 용액) 로 하였다. 얻어진 바니시 용액을, 하기 기재에 함침시킨 후, 160 ℃ 에서 5 분 건조시켜, 프리프레그를 얻었다. 얻어진 프리프레그를 6 장 적층하고, 열 프레스기를 사용하여 하기 조건에서 경화시키는 것에 의해, 적층판을 얻었다.The modified epoxy resin synthesized in Example 1-14 was dissolved in methylethylketone so that the resin content was 70% by weight. The prepared epoxy resin solution (solution amount 120 g, solid content 84 g) and a 50 wt% methyl ethyl ketone solution (solution amount 75 g, solid content 38) of a commercially available polyarylate resin (polyarylate having a bisphenol skeleton) as a curing agent g) and a 5 wt% toluene solution of 4-(dimethylamino)pyridine (a solution amount of 2.4 g, a solid content of 0.12 g) as a curing accelerator were mixed to obtain an epoxy resin composition (varnish solution). After impregnating the following base material with the obtained varnish solution, it dried at 160 degreeC for 5 minutes, and obtained the prepreg. The laminated board was obtained by laminating|stacking 6 sheets of obtained prepreg, and hardening it on the following conditions using a hot press machine.
기재 : 유리 클로스 (「#2116」닛토 방적 주식회사 제조)Material: Glass cloth (「#2116」manufactured by Nitto Spinning Co., Ltd.)
플라이수 : 6Number of plies: 6
프리프레그화 조건 : 160 ℃Prepreg condition: 160 ℃
경화 조건 : 200 ℃, 2 ㎫ 로 1.5 시간Curing conditions: 1.5 hours at 200 °C, 2 MPa
성형 후 판 두께 : 0.8 mPlate thickness after forming: 0.8 m
얻어진 적층판의 열 물성을 DMS (히타치 하이테크놀로지즈 제조) 를 사용하여, 1 GHz, 30 ∼ 280 ℃ (승온 속도 5 ℃/분) 의 조건에서 측정하였다. 그 결과, 탄성률의 tanδ (E''/E') 로부터, 유리 전이 온도는 162 ℃ 로 측정되었다.The thermal properties of the obtained laminate were measured using DMS (manufactured by Hitachi High-Technologies) under conditions of 1 GHz and 30 to 280°C (temperature increase rate of 5°C/min). As a result, from the tan δ (E''/E') of the elastic modulus, the glass transition temperature was measured to be 162°C.
얻어진 적층판에 대하여, 네트워크 애널라이저를 사용하여, 공동 공진 섭동법에 의해 측정 주파수 10 GHz, 측정 온도 23 ℃ 에서 유전 정접 (tanδ) 을 측정한 결과, 0.0074 라는 값을 나타냈다.About the obtained laminated board, the value of 0.0074 was shown as a result of measuring the dielectric loss tangent (tanδ) of the obtained laminated board using the cavity resonance perturbation method at the measurement frequency of 10 GHz, and the measurement temperature of 23 degreeC by the cavity resonance perturbation method.
이 측정 결과로부터, 본 발명의 변성 에폭시 수지를 사용함으로써, 적층판을 제작한 경우에도 우수한 내열성과 저유전 특성이 발현되는 것을 알 수 있다.From this measurement result, it turns out that the outstanding heat resistance and low dielectric characteristic are expressed also when a laminated board is produced by using the modified epoxy resin of this invention.
본 발명을 특정한 양태를 사용하여 상세하게 설명했지만, 본 발명의 의도와 범위를 벗어나지 않고 여러 가지 변경이 가능한 것은 당업자에게 분명하다.Although the present invention has been described in detail using specific embodiments, it is apparent to those skilled in the art that various modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention.
본 출원은, 2019년 1월 10일자로 출원된 일본 특허출원 2019-002733 에 기초하고 있고, 그 전체가 인용에 의해 원용된다.This application is based on Japanese Patent Application No. 2019-002733 for which it applied on January 10, 2019, The whole is used by reference.
산업상 이용가능성Industrial Applicability
본 발명에 의하면, 내열성과 저유전 특성이 밸런스가 양호하고 우수한 변성 에폭시 수지, 그 변성 에폭시 수지와 경화제를 함유하는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물을 제공할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물은, 접착제, 도료, 토목 건축용 재료, 전기·전자 부품의 절연 재료 등, 여러 가지 분야에 적용 가능하고, 특히, 전기·전자 분야에 있어서의 절연 주형, 적층 재료, 봉지 재료 등으로서 유용하다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the modified epoxy resin excellent in the balance of heat resistance and low dielectric characteristic, the epoxy resin composition containing the modified epoxy resin, and a hardening|curing agent, and its hardened|cured material can be provided. For this reason, the epoxy resin composition of this invention and its hardened|cured material can be applied to various fields, such as an adhesive agent, a paint, a material for civil engineering construction, and the insulating material of an electric/electronic component, In particular, the insulation in the electric/electronic field. It is useful as a mold, a laminate material, a sealing material, etc.
본 발명의 변성 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 에폭시 수지 조성물의 용도의 일례로는, 다층 프린트 배선 기판, 캐패시터 등의 전기·전자 회로용 적층판, 필름상 접착제, 액상 접착제 등의 접착제, 반도체 봉지 재료, 언더 필 재료, 3D-LSI 용 인터칩 필, 절연 시트, 프리프레그, 방열 기판 등을 들 수 있다. 단, 전혀 이것들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the use of the modified epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the same include multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, adhesives such as film adhesives, liquid adhesives, semiconductor encapsulation materials, under A fill material, an interchip fill for 3D-LSI, an insulating sheet, a prepreg, a heat radiation board|substrate, etc. are mentioned. However, it is not limited to these at all.
Claims (11)
식 (1) 중, R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다.A modified epoxy resin obtained by reacting an epoxy resin (A) having an average of two or more epoxy groups in one molecule and an ester compound (B) represented by the following formula (1) having one ester structure in one molecule.
In Formula (1), R<1> is the alkyl group which may have a substituent, or the aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
상기 에폭시 수지 (A) 와 에스테르 화합물 (B) 의 반응 당량비가, 그 에폭시 수지 (A) 의 에폭시기의 몰수와 그 에스테르 화합물 (B) 의 에스테르기의 몰수의 비로 1.6 ∼ 6.0 인, 변성 에폭시 수지.The method of claim 1,
The modified epoxy resin whose reaction equivalent ratio of the said epoxy resin (A) and the ester compound (B) is 1.6-6.0 by ratio of the number of moles of the number of moles of the epoxy group of this epoxy resin (A), and the number of moles of the ester group of this ester compound (B).
상기 식 (1) 에 있어서의 R1, R2 가 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프틸기인, 변성 에폭시 수지.3. The method according to claim 1 or 2,
The modified epoxy resin in which R<1> , R<2> in said Formula (1) is a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group which may have a substituent each independently.
상기 변성 에폭시 수지의 고형분 100 중량부에 대해, 상기 경화제를 고형분으로 0.1 ∼ 100 중량부 함유하는, 에폭시 수지 조성물.5. The method of claim 4,
An epoxy resin composition comprising 0.1 to 100 parts by weight of the curing agent as a solid content, based on 100 parts by weight of the solid content of the modified epoxy resin.
상기 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지를 함유하고, 그 변성 에폭시 수지와 그 다른 에폭시 수지의 고형분의 중량비가, 99/1 ∼ 1/99 인, 에폭시 수지 조성물.6. The method according to claim 4 or 5,
The epoxy resin composition containing the said modified|denatured epoxy resin and another epoxy resin, and weight ratio of the modified|denatured epoxy resin and the solid content of this other epoxy resin is 99/1 - 1/99.
상기 변성 에폭시 수지와 다른 에폭시 수지의 고형분의 합계 100 중량부에 대해, 상기 경화제를 고형분으로 0.1 ∼ 100 중량부 함유하는, 에폭시 수지 조성물.7. The method of claim 6,
The epoxy resin composition which contains 0.1-100 weight part of said hardening|curing agents by solid content with respect to a total of 100 weight part of the said modified|denatured epoxy resin and solid content of another epoxy resin.
상기 경화제가 페놀계 경화제, 아미드계 경화제, 이미다졸류 및 활성 에스테르계 경화제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, 에폭시 수지 조성물.8. The method according to any one of claims 4 to 7,
The epoxy resin composition, wherein the curing agent is at least one selected from the group consisting of a phenol-based curing agent, an amide-based curing agent, imidazoles, and an active ester-based curing agent.
식 (4) 중, R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기이다. 그 치환기는 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기 및 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다.A modified epoxy resin including a structure represented by the following formula (4).
In Formula (4), R<1> is the alkyl group which may have a substituent, or the aryl group which may have a substituent. R 2 is an aryl group which may have a substituent. The substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2019-002733 | 2019-01-10 | ||
JP2019002733 | 2019-01-10 | ||
PCT/JP2020/000152 WO2020145262A1 (en) | 2019-01-10 | 2020-01-07 | Modified epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, and laminated plate for electric and electronic circuits |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210112306A true KR20210112306A (en) | 2021-09-14 |
Family
ID=71521637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217018119A KR20210112306A (en) | 2019-01-10 | 2020-01-07 | Modified epoxy resins, epoxy resin compositions, cured products, and laminates for electric/electronic circuits |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7338479B2 (en) |
KR (1) | KR20210112306A (en) |
CN (1) | CN113227191A (en) |
WO (1) | WO2020145262A1 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7494715B2 (en) * | 2020-12-02 | 2024-06-04 | 味の素株式会社 | Resin composition |
WO2023042650A1 (en) * | 2021-09-14 | 2023-03-23 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Modified epoxy resin, resin composition, cured article, laminated board for electric/electronic circuits, and method for producing modified epoxy resin |
JPWO2023053875A1 (en) * | 2021-09-29 | 2023-04-06 | ||
CN116041670A (en) * | 2022-12-20 | 2023-05-02 | 江苏扬农锦湖化工有限公司 | Acid modified epoxy resin and preparation method and application thereof |
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---|---|---|---|---|
JPH08333437A (en) | 1995-06-07 | 1996-12-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | Epoxy resin composition and production of epoxy resin |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3497560B2 (en) * | 1994-04-27 | 2004-02-16 | ジャパンエポキシレジン株式会社 | Method for producing modified epoxy resin, modified epoxy resin produced, and composition of this epoxy resin |
JP4369559B2 (en) * | 1998-07-15 | 2009-11-25 | 三井化学株式会社 | Phosphine sulfide, method for producing the same, and use thereof |
JP4241056B2 (en) * | 2003-01-17 | 2009-03-18 | Dic株式会社 | Epoxy resin composition, epoxy resin curing agent |
CN101313244B (en) * | 2005-12-27 | 2010-04-21 | 三井化学株式会社 | Sealing agent for liquid crystals and process for production of liquid crystal panels with the same |
JP6171274B2 (en) * | 2012-06-27 | 2017-08-02 | 日立化成株式会社 | Epoxy resin molding material for sealing and electronic component device |
KR101350997B1 (en) * | 2012-08-21 | 2014-01-14 | 주식회사 신아티앤씨 | Epoxy compound having excellent electrical properities and manufacturing method thereof |
JP6672699B2 (en) * | 2014-10-29 | 2020-03-25 | 三菱ケミカル株式会社 | Epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, laminate for electric / electronic circuit, and method for producing epoxy resin |
JP6432808B2 (en) * | 2016-07-06 | 2018-12-05 | Dic株式会社 | Epoxy resin and its cured product |
JP7292067B2 (en) | 2019-03-15 | 2023-06-16 | 日立Astemo株式会社 | Ball screw and manufacturing method thereof, power steering device and manufacturing method thereof |
-
2020
- 2020-01-07 JP JP2020000934A patent/JP7338479B2/en active Active
- 2020-01-07 WO PCT/JP2020/000152 patent/WO2020145262A1/en active Application Filing
- 2020-01-07 CN CN202080007078.XA patent/CN113227191A/en active Pending
- 2020-01-07 KR KR1020217018119A patent/KR20210112306A/en unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08333437A (en) | 1995-06-07 | 1996-12-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | Epoxy resin composition and production of epoxy resin |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020111735A (en) | 2020-07-27 |
TW202031714A (en) | 2020-09-01 |
WO2020145262A1 (en) | 2020-07-16 |
JP7338479B2 (en) | 2023-09-05 |
CN113227191A (en) | 2021-08-06 |
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