KR20210091026A - Organic light emitting device including nano-structures and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an organic light emitting device including nanostructures and a manufacturing method thereof. An organic light emitting device according to an embodiment includes a substrate including an epoxy layer having a nano-wrinkle pattern formed thereon, an organic light emitting layer formed on the substrate, and encapsulation glass formed to cover the organic light emitting layer on the substrate. It is possible to improve viewing angle dependence characteristics and color shift characteristics and prevent a black tint phenomenon.

Description

나노 구조체를 포함하는 유기 발광 소자 및 그 제조방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING NANO-STRUCTURES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}Organic light-emitting device including nano-structure and manufacturing method therefor {ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING NANO-STRUCTURES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 유기 발광 소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나노 구조체를 포함하는 유기 발광 소자의 기술적 사상에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a technical idea of an organic light emitting device including a nanostructure.

유기발광다이오드(organic light emitting diode)의 외부 양자 효율은 이론적으로 아래의 식과 같이 산출이 된다. The external quantum efficiency of an organic light emitting diode is theoretically calculated as follows.

[수학식1][Equation 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서,

Figure pat00002
은 외부 양자 효율,
Figure pat00003
은 내부 양자 효율,
Figure pat00004
은 광추출 효율,
Figure pat00005
는 exciton의 생성량,
Figure pat00006
는 efficiency of radiative decay of excitons를 의미한다.here,
Figure pat00002
is the external quantum efficiency,
Figure pat00003
is the internal quantum efficiency,
Figure pat00004
Silver light extraction efficiency,
Figure pat00005
is the amount of exciton produced,
Figure pat00006
is the efficiency of radiative decay of excitons.

수학식1에 의거하였을 때, 밖으로 나오는 외부 양자 효율을 높이기 위해서는 내부 양자 효율이 높아야 한다. 내부 양자 효율을 높이기 위해선 엑시톤(exciton)의 생성량이 많아야 하며 이를 위해선 이상적인 전하 밸런스(charge balance)를 갖춰야 한다. 또한 전하 밸런스를 이상적으로 맞출 경우 계면에서의 열화를 억제할 수 있어 수명 향상에 도움이 된다. 이와 같은 이유로 OLED의 전하 밸런스를 맞추고 소자를 최적화 시키는 작업은 상당한 중요성을 갖는다.Based on Equation 1, in order to increase the external quantum efficiency coming out, the internal quantum efficiency must be high. In order to increase the internal quantum efficiency, the amount of exciton generation must be large, and for this purpose, an ideal charge balance must be obtained. In addition, if the charge balance is ideally matched, deterioration at the interface can be suppressed, which helps to improve the lifespan. For this reason, it is very important to balance the charge of the OLED and optimize the device.

OLED 소자의 전하 밸런스를 맞추기 위해서는 전극에서 주입되는 캐리어(carrier)들이 엑시톤을 형성하고 재결합(recombination)하는 재결합 존(recombination zone)이 발광층(EML: emission layer)의 중앙부분에서 형성되어야 한다. 이 때, 재결합 존은 전자와 정공의 주입특성에 영향을 받는다. 계면 간 에너지 장벽이 0.3 eV 내외로 이상적이라고 했을 때, 전자와 정공의 주입특성은 각각의 물질이 갖는 이동성(mobility)에 따른 차이를 보인다. In order to balance the charge of the OLED device, a recombination zone in which carriers injected from the electrode form excitons and recombine should be formed in the central portion of the emission layer (EML). At this time, the recombination zone is affected by electron and hole injection characteristics. Assuming that the energy barrier between the interfaces is ideal around 0.3 eV, the electron and hole injection characteristics show a difference according to the mobility of each material.

이와 같이 재료에 따른 이동도나 주입특성의 차이를 보상하기 위해 두께 최적화를 통해 효율을 극대화하는 경우 내부 양자효율이 100%까지도 얻어진다는 보고가 많다.As described above, there are many reports that internal quantum efficiency can be obtained up to 100% when efficiency is maximized through thickness optimization to compensate for differences in mobility or implantation characteristics according to materials.

하지만, 이러한 경우에도 외부양자효율은 20%를 넘기가 어려운데, 이는 빛이 소자를 빠져 나오면서, 도파관 모드(waveguide mode), 기판 모드(substrate mode), 표면 플라즈몬 소자 모드(surface plasomon polariton mode), 흡수 모드(absorption) 등의 모드를 통해 소실이 되기 때문이다. 이를 통해 소실되는 빛의 양은 80% 에 육박하는데, 이를 최소화 하기 위해, 다양한 외광추출기법을 사용할 수 있다. 안타까운 것은 그러한 기술들이 디스플레이 기술에는 적용이 될 수 없다는 것인데, 가장 큰 이유로는 나노 및 마이크로 구조체의 적용에 따른 화소 흐림 현상을 극복하기 어렵다는 것이다.However, even in this case, it is difficult for the external quantum efficiency to exceed 20%, which means that as light exits the device, waveguide mode, substrate mode, surface plasmon polariton mode, and absorption This is because it is lost through a mode such as absorption. The amount of light lost through this is close to 80%, and to minimize this, various external light extraction techniques can be used. It is unfortunate that such technologies cannot be applied to display technology. The main reason is that it is difficult to overcome the pixel blur caused by the application of nano and micro structures.

따라서, 현재, 많은 패널 업체들은 마이크로 캐비티 구조를 통해 효율을 극대화 하고 있으며, 이로 인해, 시야각 특성이 떨어지는 비이상적인 소자를 생산하게 된다. Therefore, currently, many panel makers are maximizing their efficiency through a micro-cavity structure, which produces non-ideal devices with poor viewing angle characteristics.

시야각 특성 열화에 대한 문제를 해결하기 위해서는 전방위 산란체의 도입을 고민해야 하며, 실제로 나노 다공성 필름(nanoporous film)을 도입하여 시야각 의존도를 억제했다는 보고들이 발표되었다. 하지만, 이러한 기술을 도입할 경우, 난반사 현상이 발생하여, 원편광필름의 기능인 블랙 스테이트 (black state)가 깨지는 부수적인 문제점이 발생이 되므로, 나노 구조체를 외부에 배치를 하는 것보다 내부에 배치하여 블랙 틴트(black tint) 현상을 차단하는 새로운 기술이 필요해졌다.In order to solve the problem of deterioration of viewing angle characteristics, it is necessary to consider the introduction of an omnidirectional scatterer, and reports have been published that actually introduced a nanoporous film to suppress the viewing angle dependence. However, when this technology is introduced, diffuse reflection occurs, which causes an incidental problem in which the black state, which is the function of the circularly polarizing film, is broken. A new technology for blocking black tint was needed.

한국등록특허 제10-1973287호, "복합체를 포함하는 정공 수송층을 구비하는 유기 발광 소자"Korean Patent No. 10-1973287, "Organic light emitting device having a hole transport layer including a composite" 한국공개특허 제10-2018-0132275호, "계면 보호층(IPL: Interface Protection Layer)을 포함하는 유기 전계 발광소자"Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2018-0132275, "Organic electroluminescent device including an interface protection layer (IPL)"

본 발명은 소자 내부에 나노 구조체를 포함하여, 시야각 의존도 특성 및 컬러 시프트 특성을 개선하고, 블랙 틴트 현상을 차단할 수 있는 유기 발광 소자 및 그 제조방법을 제공하고자 한다. An object of the present invention is to provide an organic light emitting device capable of improving viewing angle dependence characteristics and color shift characteristics and blocking black tint phenomenon by including a nanostructure inside the device, and a method for manufacturing the same.

또한, 본 발명은 소자 내부에 에폭시 필러를 포함하여, 전류 효율의 감소를 최소화할 수 있는 유기 발광 소자 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.Another object of the present invention is to provide an organic light-emitting device capable of minimizing a decrease in current efficiency by including an epoxy filler inside the device, and a method for manufacturing the same.

본 발명의 일실시예에 따른 유기 발광 소자는 나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판과, 기판 상에 형성된 유기 발광층 및 기판 상에 유기 발광층을 덮도록 형성된 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)를 포함할 수 있다. An organic light emitting device according to an embodiment of the present invention includes a substrate including an epoxy layer having a nano-wrinkle pattern formed thereon, an organic light emitting layer formed on the substrate, and encapsulation glass formed to cover the organic light emitting layer on the substrate (encapsulation glass) may be included.

일측에 따르면, 유기 발광 소자는 유기 발광층과 인캡슐레이션 글래스 사이에 형성된 에폭시 필러를 더 포함할 수 있다.According to one side, the organic light emitting device may further include an epoxy filler formed between the organic light emitting layer and the encapsulation glass.

일측에 따르면, 유기 발광층은 제1 전극, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 제2 전극 및 캡핑층이 적층되어 형성될 수 있다. According to one side, the organic emission layer may be formed by stacking a first electrode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a second electrode, and a capping layer.

일측에 따르면, 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은 나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 통해 형성되고, 마스터 몰드는 폴리머층과 폴리머층 상에 형성되는 금속층을 포함하되, 금속층은 폴리머층과의 열팽창 계수의 차이로 인해 나노 주름 구조로 형성될 수 있다. According to one side, the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed is formed through a master mold having a nano-wrinkle structure, and the master mold includes a polymer layer and a metal layer formed on the polymer layer, wherein the metal layer is a polymer layer. It can be formed into a nano-wrinkled structure due to the difference in the coefficient of thermal expansion with

일측에 따르면, 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은 금속층의 두께에 따라 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값이 결정될 수 있다. According to one side, in the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed, the values of the pitch and the depth of the nano-wrinkle pattern may be determined according to the thickness of the metal layer.

본 발명의 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법은 나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판을 형성하는 단계와, 기판 상에 유기 발광층을 형성하는 단계 및 기판 상에 유기 발광층을 덮도록 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)를 형성하는 단계를 포함하고, 여기서 기판은 유기 발광층과의 인접면에 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 포함할 수 있다. A method of manufacturing an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: forming a substrate including an epoxy layer on which a nano-wrinkle pattern is formed; forming an organic light emitting layer on the substrate; and forming an encapsulation glass to cover the organic light emitting layer, wherein the substrate may include an epoxy layer in which a nano-wrinkle pattern is formed on a surface adjacent to the organic light emitting layer.

일측에 따르면, 유기 발광 소자의 제조방법은 유기 발광층과 인캡슐레이션 글래스 사이에 에폭시 필러를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. According to one side, the method of manufacturing the organic light emitting device may further include forming an epoxy filler between the organic light emitting layer and the encapsulation glass.

일측에 따르면, 기판을 형성하는 단계는 나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 제조하는 단계와, 마스터 몰드 상에 에폭시 물질을 도포하는 단계와, 에폭시 물질이 도포된 마스터 몰드와 유리 기판을 이용한 임프린팅 공정(imprinting process)을 통해 유리 기판 상에 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 형성하는 단계 및 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 자외선 경화(UV curing) 시키는 단계를 포함할 수 있다. According to one side, the step of forming the substrate includes the steps of manufacturing a master mold having a nano-wrinkle structure, applying an epoxy material on the master mold, and the master mold and the glass substrate coated with the epoxy material It may include forming an epoxy layer having a nano-wrinkle pattern formed thereon on a glass substrate through an imprinting process using a UV-curing step of the epoxy layer having a nano-wrinkle pattern formed thereon.

일측에 따르면, 마스터 몰드를 제조하는 단계는 몰드 기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계와, 폴리머층이 형성된 몰드 기판을 제1 온도로 열처리 하는 단계와, 열처리된 폴리머층 상에 금속층을 증착하는 단계 및 금속층이 증착된 폴리머층을 제2 온도로 냉각 처리하여 금속층이 나노 주름 구조로 형성되는 단계를 포함할 수 있다. According to one side, the manufacturing of the master mold includes forming a polymer layer on a mold substrate, heat-treating the mold substrate on which the polymer layer is formed at a first temperature, and depositing a metal layer on the heat-treated polymer layer. and cooling the polymer layer on which the metal layer is deposited to a second temperature to form the metal layer in a nano-wrinkled structure.

일측에 따르면, 금속층을 나노 주름 구조로 형성하는 단계는 폴리머층과 금속층의 열팽창 계수의 차이로 인해 금속층이 나노 주름 구조로 형성될 수 있다. According to one side, in the step of forming the metal layer into a nano-wrinkle structure, the metal layer may be formed into a nano-wrinkle structure due to a difference in coefficients of thermal expansion between the polymer layer and the metal layer.

일측에 따르면, 금속층을 증착하는 단계는 열처리된 폴리머층 상에 증착 형성되는 금속층의 두께를 제어하여, 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값을 제어할 수 있다.According to one side, the depositing of the metal layer may control the thickness of the metal layer formed by deposition on the heat-treated polymer layer, thereby controlling the values of pitch and depth of the nano-wrinkle pattern.

일실시예에 따르면, 본 발명의 유기 발광 소자는 나노 구조체를 포함하여, 시야각 의존도 특성 및 컬러 시프트 특성을 개선하고, 블랙 틴트 현상을 차단할 수 있다. According to one embodiment, the organic light emitting device of the present invention may include a nanostructure to improve viewing angle dependence characteristics and color shift characteristics, and block a black tint phenomenon.

일실시예에 따르면, 본 발명의 유기 발광 소자는 에폭시 필러를 포함하여, 전류 효율의 감소를 최소화할 수 있다.According to an embodiment, the organic light emitting device of the present invention may include an epoxy filler to minimize a decrease in current efficiency.

도 1은 일실시예에 따른 유기 발광 소자를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 구현예를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 에너지 밴드 다이어그램을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 나노 주름 패턴에 관한 특성을 설명하기 위한 도면이다.
도 5a 내지 도 5h는 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 특성을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 광산란 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 블랙 틴트 현상의 차단 특성을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 일실시예에 따른 나노 주름 패턴이 형성된 기판의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a view for explaining an organic light emitting diode according to an embodiment.
2 is a view for explaining an embodiment of an organic light emitting device according to an embodiment.
3 is a diagram for explaining an energy band diagram of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.
4 is a view for explaining characteristics of a nano-wrinkle pattern of an organic light emitting diode according to an embodiment.
5A to 5H are diagrams for explaining characteristics of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.
6 is a view for explaining a light scattering effect of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.
7 is a view for explaining a blocking characteristic of a black tint phenomenon of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.
8 is a view for explaining a method of manufacturing an organic light emitting device according to an exemplary embodiment.
9 is a view for explaining a method of manufacturing a substrate on which a nano-wrinkle pattern is formed according to an embodiment.
10 is a view for explaining a method of manufacturing a master mold according to an embodiment.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed herein are only exemplified for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiment according to the concept of the present invention These may be embodied in various forms and are not limited to the embodiments described herein.

본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시예들을 도면에 예시하고 본 명세서에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시예들을 특정한 개시형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Since the embodiments according to the concept of the present invention may have various changes and may have various forms, the embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail herein. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosed forms, and includes changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제1 또는 제2 등의 용어를 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만, 예를 들면 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.Terms such as first or second may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one element from another, for example, without departing from the scope of rights according to the inventive concept, a first element may be termed a second element, and similar The second component may also be referred to as the first component.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 표현들, 예를 들면 "~사이에"와 "바로~사이에" 또는 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as being “connected” or “connected” to another component, it is understood that the other component may be directly connected or connected to the other component, but other components may exist in between. it should be On the other hand, when it is mentioned that a certain element is "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that the other element does not exist in between. Expressions describing the relationship between elements, for example, “between” and “between” or “directly adjacent to”, etc. should be interpreted similarly.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함으로 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is used only to describe specific embodiments, and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate that the described feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof exists, and includes one or more other features or numbers, It should be understood that the possibility of the presence or addition of steps, operations, components, parts or combinations thereof is not precluded in advance.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present specification. does not

이하, 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나, 특허출원의 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the scope of the patent application is not limited or limited by these examples. Like reference numerals in each figure indicate like elements.

도 1은 일실시예에 따른 유기 발광 소자를 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining an organic light emitting diode according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 일실시예에 따른 유기 발광 소자(100)는 나노 구조체를 포함하여, 시야각 의존도(viewing angle dependence) 특성 및 컬러 시프트(color shift) 특성을 개선하고, 블랙 틴트(black Tint) 현상을 차단할 수 있다. Referring to FIG. 1 , an organic light emitting diode 100 according to an embodiment includes a nano structure to improve viewing angle dependence and color shift characteristics, and to provide black tint. phenomenon can be blocked.

또한, 유기 발광 소자(100)는 에폭시 필러를 포함하여, 전류 효율(current efficiency)의 감소를 최소화할 수 있다. In addition, the organic light emitting diode 100 may include an epoxy filler to minimize a decrease in current efficiency.

이를 위해, 유기 발광 소자(100)는 나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판(110)과, 기판(110) 상에 형성된 유기 발광층(120) 및 기판(110) 상에 유기 발광층(120)을 덮도록 형성된 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)(130)를 포함할 수 있다.To this end, the organic light emitting device 100 includes a substrate 110 having an epoxy layer on which a nano-wrinkle pattern is formed, and an organic light emitting layer 120 formed on the substrate 110 and the substrate 110 . An encapsulation glass 130 formed to cover the organic light emitting layer 120 may be included.

또한, 유기 발광 소자(100)는 유기 발광층(120)과 인캡슐레이션 글래스(130) 사이에 형성된 에폭시 필러(140)를 더 포함할 수도 있다. In addition, the organic light emitting device 100 may further include an epoxy filler 140 formed between the organic light emitting layer 120 and the encapsulation glass 130 .

즉, 유기 발광 소자(100)는 나노 주름 패턴을 유기 발광층(120)의 하부에 형성함으로써, 시야각 의존도 특성 및 컬러 시프트 특성을 개선할 수 있다. That is, the organic light emitting device 100 may improve the viewing angle dependence characteristics and color shift characteristics by forming the nano-wrinkle pattern under the organic light emitting layer 120 .

또한, 유기 발광 소자(100)는 유기 발광층(120)과 인캡슐레이션 글래스(130) 사이에 구비된 에어-갭(air-gap)을 에폭시 필러(140)로 채움으로써, 나노 주름 패턴으로 인한 전류 효율의 감소를 최소화할 수 있으며, 여기서, 에폭시 필러(140)는 인덱스 매칭(index matching)된 필러일 수 있다. In addition, the organic light emitting device 100 fills an air-gap provided between the organic light emitting layer 120 and the encapsulation glass 130 with the epoxy filler 140 , thereby generating a current due to the nano-wrinkle pattern. It is possible to minimize a decrease in efficiency, where the epoxy filler 140 may be an index-matched filler.

구체적으로, 에폭시 필러(140)는 유기 발광층(120) 및 인캡슐레이션 글래스(130) 중 적어도 하나와 굴절율이 매칭되는 물질을 포함할 수 있다. Specifically, the epoxy filler 140 may include a material having a refractive index matching at least one of the organic light emitting layer 120 and the encapsulation glass 130 .

보다 구체적인 예를 들면, 에어-갭의 굴절율은 nD22 = 1이고, 유기 물질의 굴절율이 nD22 = 1.75이며, 인캡슐레이션 글래스의 굴절율이 nD22 = 1.5인 경우에, 에폭시 필러(140)로서 사용되는 에폭시 물질은 에어-갭의 굴절율 보다 유기 물질 및 인캡슐레이션 글래스에 유사한 굴절율을 갖는 NOA 81(Norland Products, Inc.)(굴절율 nD22 = 1.56)이 적용될 수 있다.As a more specific example, when the refractive index of the air-gap is nD 22 = 1, the refractive index of the organic material is nD 22 = 1.75, and the refractive index of the encapsulation glass is nD 22 = 1.5, as the epoxy filler 140 As the epoxy material used, NOA 81 (Norland Products, Inc.) (refractive index nD 22 = 1.56) having a refractive index similar to that of the organic material and the encapsulation glass than that of the air-gap may be applied.

이를 통해, 유기 발광 소자(100)는 나노 주름 패턴만을 구비하였을 때 전류 효율은 약 30.8 %가 감소하나, 에폭시 필러(140)를 추가로 구비함으로써 전류 효율의 감소를 약 7.7 %로 최소화할 수 있다. Through this, when the organic light emitting diode 100 is provided with only the nano-wrinkle pattern, the current efficiency decreases by about 30.8%, but by additionally including the epoxy filler 140, the decrease in current efficiency can be minimized to about 7.7%. .

예를 들면, 유기 발광층(120)은 제1 전극, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 제2 전극 및 캡핑층이 적층되어 형성될 수 있다. For example, the organic emission layer 120 may be formed by stacking a first electrode, a hole injection layer, a hole transport layer, an emission layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a second electrode, and a capping layer.

바람직하게는, 유기 발광 소자(100)는 전면 발광 OLED(top emission organic emitting diode; TEOLED)일 수 있다. Preferably, the organic light emitting device 100 may be a top emission organic emitting diode (TEOLED).

일측에 따르면, 기판(110)에 구비되는 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은 나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 통해 형성될 수 있다. According to one side, the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern provided on the substrate 110 is formed may be formed through a master mold having a nano-wrinkle structure.

또한, 마스터 몰드는 폴리머층과 폴리머층 상에 형성되는 금속층을 포함하되, 금속층은 폴리머층과의 열팽창 계수의 차이로 인해 나노 주름 구조로 형성될 수 있다. In addition, the master mold includes a polymer layer and a metal layer formed on the polymer layer, but the metal layer may be formed in a nano-wrinkled structure due to a difference in coefficient of thermal expansion with the polymer layer.

예를 들면, 폴리머층은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane; PDMS), 부타디엔(butadiene) 및 우레탄(urethane) 중 적어도 하나의 물질을 포함하고, 금속층은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 비스무트(Bi), 칼슘(Ca), 코발트(Co), 크롬(Cr), 구리(Cu), 철(Fe), 갈륨(Ga), 가돌리늄(Gd), 불화수소(Hf), 인듐(In), 마그네슘(Mg), 망가니즈(Mn), 몰리브덴(Mo), 나이오븀(Nb), 네오디뮴(Nd), 니켈(Ni), 납 (Pb), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 황(S), 안티모니(Sb), 셀레늄(Se), 규소(Si), 사마륨(Sm), 주석(Sn), 탄탈럼(Ta), 텔루륨(Te), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 이트륨(Y), 이터븀(Yb), 아연(Zn) 및 지르코늄(Zr) 중 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. For example, the polymer layer includes at least one of polydimethylsiloxane (PDMS), butadiene, and urethane, and the metal layer includes silver (Ag), aluminum (Al), and gold (Au). , Bismuth (Bi), Calcium (Ca), Cobalt (Co), Chromium (Cr), Copper (Cu), Iron (Fe), Gallium (Ga), Gadolinium (Gd), Hydrogen Fluoride (Hf), Indium (In) ), magnesium (Mg), manganese (Mn), molybdenum (Mo), niobium (Nb), neodymium (Nd), nickel (Ni), lead (Pb), palladium (Pd), platinum (Pt), sulfur (S), antimony (Sb), selenium (Se), silicon (Si), samarium (Sm), tin (Sn), tantalum (Ta) , at least one of tellurium (Te), titanium (Ti), tungsten (W), yttrium (Y), ytterbium (Yb), zinc (Zn), and zirconium (Zr).

바람직하게는, 폴리머층은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane; PDMS) 필름으로 구현되고, 금속층은 알루미늄(Al) 금속층으로 구현될 수 있다. Preferably, the polymer layer may be implemented as a polydimethylsiloxane (PDMS) film, and the metal layer may be implemented as an aluminum (Al) metal layer.

일측에 따르면, 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은 금속층의 두께에 따라 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값이 결정될 수 있다.According to one side, in the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed, the values of the pitch and the depth of the nano-wrinkle pattern may be determined according to the thickness of the metal layer.

다시 말해, 나노 주름 패턴을 형성하기 위한 마스터 몰드는 금속층과 폴리머층간의 열팽창 계수의 차이로 인해 무작위로 분포된 나노 주름 구조가 형성될 수 있으며, 이때 나노 주름 패턴(나노 주름 구조)의 피치 및 깊이의 값은 금속층의 두께에 따라 결정될 수 있다. In other words, in the master mold for forming the nano-wrinkle pattern, randomly distributed nano-wrinkle structures may be formed due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the metal layer and the polymer layer, in which case the pitch and depth of the nano-wrinkle pattern (nano-wrinkle structure) The value of may be determined according to the thickness of the metal layer.

바람직하게는, 나노 주름 패턴은 피치가 200nm 내지 800nm으로 형성되고, 깊이가 100nm 내지 500nm로 형성되어, 가시광 영역의 전 파장 범위(RGB, 400nm 내지 700nm)를 커버 가능하도록 설계될 수 있다.Preferably, the nano-wrinkle pattern has a pitch of 200 nm to 800 nm and a depth of 100 nm to 500 nm, so that it can be designed to cover the entire wavelength range (RGB, 400 nm to 700 nm) of the visible light region.

도 2는 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 구현예를 설명하기 위한 도면이다. 2 is a view for explaining an embodiment of an organic light emitting device according to an embodiment.

다시 말해, 도 2는 도 1을 통해 설명한 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 예시를 설명하기 위한 도면으로, 이후 도 2를 통해 설명한 내용 중 일실시예에 따른 유기 발광 소자를 통해 설명한 내용과 중복되는 설명은 생략 하기로 한다. In other words, FIG. 2 is a diagram for explaining an example of the organic light emitting device according to the embodiment described with reference to FIG. 1 , and overlaps with the contents described with the organic light emitting device according to the embodiment among the contents described with reference to FIG. 2 . The description will be omitted.

도 2를 참조하면, 일실시예에 따른 유기 발광 소자(200)는 기판(210), 유기 발광층(221 내지 228), 인캡슐레이션 글래스(230)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 2 , the organic light emitting diode 200 according to an embodiment may include a substrate 210 , organic light emitting layers 221 to 228 , and encapsulation glass 230 .

일측에 따르면, 기판(210)은 글래스 기판(glass substrate) 및 글래스 기판 상에 형성된 에폭시층이 형성될 수 있으며, 에폭시층은 나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성될 수 있다. According to one side, the substrate 210 may be formed with a glass substrate and an epoxy layer formed on the glass substrate, and the epoxy layer may have a nano-wrinkle pattern formed thereon.

또한, 유기 발광층(221 내지 228)과 인캡슐레이션 글래스(230) 사이에는 에폭시 필러(240)가 구비될 수 있다. In addition, an epoxy filler 240 may be provided between the organic emission layers 221 to 228 and the encapsulation glass 230 .

예를 들면, 유기 발광층(221 내지 228) 및 에폭시 필러(240)는 열증발법(thermal evaporation)을 통해 고진공 조건(< 5x10-7 Torr)에서 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층 상에 형성될 수 있다. For example, the organic light emitting layers 221 to 228 and the epoxy filler 240 may be formed on the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed under high vacuum conditions (< 5x10 -7 Torr) through thermal evaporation. .

또한, 에폭시 필러(240)는 기판(210)의 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층과 동일한 에폭시 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 에폭시 필러(240)는 에폭시 물질로써 NOA 81(Norland Products, Inc.)을 포함할 수 있다.In addition, the epoxy filler 240 may include the same epoxy material as the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern of the substrate 210 is formed, but is not limited thereto. Preferably, the epoxy filler 240 may include NOA 81 (Norland Products, Inc.) as an epoxy material.

일측에 따르면, 유기 발광층(221 내지 228)은 제1 전극(221), 정공 주입층(222), 정공 수송층(223), 발광층(224), 전자 수송층(225), 전자 주입층(226), 제2 전극(227) 및 캡핑층(228)이 순차적으로 적층되어 형성될 수 있다. According to one side, the organic light emitting layers 221 to 228 include a first electrode 221 , a hole injection layer 222 , a hole transport layer 223 , a light emitting layer 224 , an electron transport layer 225 , an electron injection layer 226 , The second electrode 227 and the capping layer 228 may be sequentially stacked.

예를 들면, 제1 전극(221)은 고반사성의 애노드(anode) 전극이고, 제2 전극(227)은 캐소드 전극(cathode) 전극일 수 있다. For example, the first electrode 221 may be a highly reflective anode electrode, and the second electrode 227 may be a cathode electrode.

보다 구체적으로, 제1 전극(221)은 발광층에 정공을 제공하는 전극으로서, 투과형 전극, 반사형 전극 또는 이들의 적층 구조로 형성될 수 있다.More specifically, the first electrode 221 is an electrode that provides holes to the emission layer, and may be formed of a transmissive electrode, a reflective electrode, or a stacked structure thereof.

투과형 전극 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화 아연(ZnO), 금속산화물/금속/금속산화물 다중층, 그래핀(graphene), 카본 나노 튜브(carbon nano tube) 및 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트(PEDOT:PSS) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Transparent and highly conductive indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), metal oxide/metal/metal oxide multilayer, graphene ( graphene), carbon nanotubes, and polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS).

반사형 전극 물질로는 Ag/ITO, Ag/IZO, 알루미늄-리튬(Al-Li), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag), 알루미늄/은(Al/Ag), 리튬 플로라이드/알루미늄(LiF/Al), 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag), 이터븀 (Yb), 플래티넘(Pt), 금(Au), 니켈(Ni), 구리(Cu), 바륨(Ba), 은(Ag), 은나노와이어 (AgNWs), 인듐(In), 루테늄(Ru), 납(Pd), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 오스뮴(Os), 칼슘 (Ca) 및 세슘(Cs) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Examples of reflective electrode materials include Ag/ITO, Ag/IZO, aluminum-lithium (Al-Li), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag), aluminum/silver (Al/Ag), Lithium Fluoride/Aluminum (LiF/Al), Lithium (Li), Magnesium (Mg), Aluminum (Al), Aluminum-Lithium (Al-Li), Calcium (Ca), Magnesium-Indium (Mg-In), Magnesium -Silver (Mg-Ag), ytterbium (Yb), platinum (Pt), gold (Au), nickel (Ni), copper (Cu), barium (Ba), silver (Ag), silver nanowire (AgNWs), It may include at least one of indium (In), ruthenium (Ru), lead (Pd), rhodium (Rh), iridium (Ir), osmium (Os), calcium (Ca), and cesium (Cs).

바람직하게, 제1 전극(221)은 고 반사성 전극으로서, 알루미늄/은(Al/Ag)의 다층 구조로 형성될 수 있다.Preferably, the first electrode 221 is a highly reflective electrode, and may be formed of a multilayer structure of aluminum/silver (Al/Ag).

제1 전극(221) 상에 형성되는 정공 주입층(222)은 제1 전극(221)으로부터 주입된 정공을 발광층(224)으로 주입하는 역할을 할 수 있다.The hole injection layer 222 formed on the first electrode 221 may serve to inject holes injected from the first electrode 221 into the emission layer 224 .

정공 주입층(222)으로는 공지의 정공 주입층용 물질이 사용될 수 있고, 예를 들면, 정공 주입층(222)은 PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate), NPB(N,N-bis-(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'diamine), TPD(N,N'-bis(3-methlyphenyl)-N,N'-diphenyl-[1,1'- biphenyl]-4,4'-diamine), TAPC(1,1- Bis[4-[N,N'-di(p-tolyl)amino]phenyl]cyclohexane), HMTPD((3-tolyl)amino]3,3'-dimethylbiphenyl), TCTA(Tris(4-carbazoyl-9-ylphenyl)amine), P3HT(Poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl)), 2TNATA(4,4',4′''-tris(N-(2-naphthyl)-N-phenyl-amino)-triphenylamine), m-MTDATA (4,4',4''-Tris[phenyl(m-tolyl)amino]triphenylamine), DNTPD(N,N' -bis-[4-(di-m-tolylamino)phenyl]-N,N'-diphenylbiphenyl-4,4' -diamine), NPD(N,N'-bis(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine(α-NPD)), DPPD(N,N' -diphenyl-p-phenylenediamine), 4BTPD (2,2'-bis(4-ditolylaminophenyl)-1,1'-biphenyl), 3BTPD (2,2' -bis(3-ditolylaminophenyl)-1,1'-biphenyl) 및 DTASi (bis[4-(p,p'-ditolylamino)-phenyl]diphenylsilane)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.As the hole injection layer 222, a known material for the hole injection layer may be used. For example, the hole injection layer 222 may include PEDOT:PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate), NPB (N, N-bis-(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'diamine), TPD(N,N'-bis(3-methlyphenyl)-N,N'- diphenyl-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine), TAPC(1,1-Bis[4-[N,N'-di(p-tolyl)amino]phenyl]cyclohexane), HMTPD ( (3-tolyl)amino]3,3'-dimethylbiphenyl), TCTA(Tris(4-carbazoyl-9-ylphenyl)amine), P3HT(Poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl)), 2TNATA(4, 4',4'''-tris(N-(2-naphthyl)-N-phenyl-amino)-triphenylamine), m-MTDATA (4,4',4''-Tris[phenyl(m-tolyl)amino ]triphenylamine), DNTPD(N,N'-bis-[4-(di-m-tolylamino)phenyl]-N,N'-diphenylbiphenyl-4,4'-diamine), NPD(N,N'-bis( 1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine(α-NPD)), DPPD(N,N'-diphenyl-p-phenylenediamine), 4BTPD (2, 2'-bis(4-ditolylaminophenyl)-1,1'-biphenyl), 3BTPD (2,2'-bis(3-ditolylaminophenyl)-1,1'-biphenyl) and DTASi (bis[4-(p,p) It may include at least one selected from the group consisting of '-ditolylamino)-phenyl]diphenylsilane).

바람직하게는, 정공 주입층(222)은 스핀 코팅법을 이용하여 형성될 수 있으며, 코팅 조건은 정공 주입층(222)의 재료로서 사용하는 화합물, 목적하는 하는 정공 주입층(120)의 구조 및 열적 특성에 따라 상이하지만, 약 2000rpm 내지 5000rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 열처리 온도는 약 80℃ 내지 200℃의 온도 범위에서 적절히 선택될 수 있다.Preferably, the hole injection layer 222 may be formed using a spin coating method, and the coating conditions are a compound used as a material of the hole injection layer 222, a desired structure of the hole injection layer 120, and Although different depending on thermal properties, the coating speed of about 2000 rpm to 5000 rpm and the heat treatment temperature for solvent removal after coating may be appropriately selected in the temperature range of about 80° C. to 200° C.

즉, 정공 주입층(222)은 용액 공정으로 형성됨으로써, 대면적 공정이 가능하고, 공정 시간을 단축시킬 수 있으며, 제1 전극(221) 및 제2 전극(227)의 반도체 특성에 대한 제한을 감소시킬 수 있다.That is, since the hole injection layer 222 is formed by a solution process, a large-area process is possible, the process time can be shortened, and restrictions on the semiconductor properties of the first electrode 221 and the second electrode 227 are reduced. can be reduced

정공 수송층(223)은 제1 전극으로부터 주입되는 정공을 발광층으로 이동시키는 역할을 하며, VB-FNPD(9,9-Bis[4-[(4-ethenylphenyl)methoxy]phenyl]-N2, N7-di-1-naphthalenyl-N2,N7-diphenyl-9H-Fluorene-2,7-diamine), VNPB(N4,N4'-Di(naphthalen-1-yl)-N4,N4'-bis(4-vinylphenyl)biphenyl-4,4'-diamine), TFB(Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(4-sec-butylphenyl) diphenylamine)]), PTAA(Poly[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine]), Poly-TPD(Poly[N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine]), Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N'-diphenyl)-N,N'-di(p-butylphenyl)-1,4-diamino-benzene)] end capped with dimethylphenyl, Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(N,N' -bis{4-butylphenyl}-benzidine-N,N'-{1,4-diphenylene})], Poly[(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-(N,N'bis{p-butylphenyl}-1,4-diaminophenylene)], Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-(N,N'-bis{p-butylphenyl}-1,1'-biphenylene-4,4'-diamine)] 및 Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(pbutylphenyl)) diphenylamine)] 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The hole transport layer 223 serves to move holes injected from the first electrode to the emission layer, and VB-FNPD(9,9-Bis[4-[(4-ethenylphenyl)methoxy]phenyl]-N2, N7-di -1-naphthalenyl-N2,N7-diphenyl-9H-Fluorene-2,7-diamine), VNPB(N4,N4'-Di(naphthalen-1-yl)-N4,N4'-bis(4-vinylphenyl)biphenyl -4,4'-diamine), TFB(Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(4-sec-butylphenyl) diphenylamine)]), PTAA(Poly[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine]), Poly-TPD(Poly[N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl) -benzidine]), Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N'-diphenyl)-N,N'-di(p-butylphenyl)-1,4-diamino- benzene)] end capped with dimethylphenyl, Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(N,N' -bis{4-butylphenyl}-benzidine-N,N'-{1 ,4-diphenylene})], Poly[(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-(N,N'bis{p-butylphenyl}-1,4-diaminophenylene)], Poly[(9 ,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-(N,N'-bis{p-butylphenyl}-1,1'-biphenylene-4,4'-diamine)] and Poly[(9,9- at least one selected from the group consisting of dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(pbutylphenyl)) diphenylamine)] may include

바람직하게는, 정공 수송층(223)은 N0-bis(naphthalen-1-yl)-N, N0-bis(phenyl)benzidine (NPB)을 포함할 수 있다.Preferably, the hole transport layer 223 may include N0-bis(naphthalen-1-yl)-N or N0-bis(phenyl)benzidine (NPB).

발광층(224)은 제1 전극(221)으로부터 주입되어 정공 수송층(223)을 경유한 정공과 제2 전극(227)으로부터 주입되어 전자 수송층(225)을 경유한 전자가 재결합하여 엑시톤을 생성하고, 생성된 엑시톤이 여기상태에서 기저상태로 변하면서 발광하는 층으로서, 단층 또는 복층으로 구성될 수 있다.In the light emitting layer 224, holes injected from the first electrode 221 and passed through the hole transport layer 223 and electrons injected from the second electrode 227 and passed through the electron transport layer 225 recombine to generate excitons, A layer that emits light while the generated excitons change from an excited state to a ground state, and may be composed of a single layer or a multilayer.

예를 들면, 발광층(224)은 호스트(host)에 발광 도펀트 (dopant)를 더 부가하여 제조될 수 있으며, 형광 발광형 호스트의 재료로는 트리스(8-히드록시-퀴놀리나토)알루미늄 (Alq3), 9,10-디(나프티-2-일)안트라센 (AND), 3-Tert-부틸-9,10-디(나프티-2-일)안트라센 (TBADN), 4,4'-비스(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디메틸페닐 (DPVBi), 4,4'-비스Bis(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디메틸페닐 (p-DMDPVBi), Tert(9,9-디아릴플루오렌)s (TDAF), 2-(9,9'-스피로비플루오렌-2-일)-9,9'-스피로비플루오렌 (BSDF), 2,7-비스(9,9'-스피로비플루오렌-2-일)-9,9'-스피로비플루오렌(TSDF), 비스(9,9-디아릴플루오렌)s (BDAF) 및 4,4'-비스(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디-(tert-부틸)페닐 (p-TDPVBi) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있고, 인광형 호스트의 재료로는 1,3-비스(카바졸-9-일)벤젠 (mCP), 1,3,5-트리스(카바졸-9-일)벤젠 (tCP), 4,4',4"-리스(카바졸-9-일)트리페닐아민 (TCTA), 4,4'-비스(카바졸-9-일)비페닐 (CBP), 4,4'-비스Bis(9-카바졸일)-2,2'-디메틸-비페닐 (CBDP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-디메틸-플루오렌 (DMFL-CBP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-비스bis(9-페닐-9H-카바졸)플루오렌 (FL-4CBP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-디-톨일-플루오렌 (DPFL-CBP) 및 9,9-비스(9-페닐-9H-카바졸)플루오렌 (FL-2CBP) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.For example, the light emitting layer 224 may be manufactured by further adding a light emitting dopant to a host, and as a material of the fluorescent host, tris (8-hydroxy-quinolinato) aluminum (Alq3) ), 9,10-di (naphthi-2-yl) anthracene (AND), 3-Tert-butyl-9,10-di (naphthi-2-yl) anthracene (TBADN), 4,4'-bis (2 ,2-Diphenyl-ethen-1-yl)-4,4'-dimethylphenyl (DPVBi), 4,4'-bisBis(2,2-diphenyl-ethen-1-yl)-4,4' -Dimethylphenyl (p-DMDPVBi), Tert(9,9-diarylfluorene)s (TDAF), 2-(9,9'-spirobifluoren-2-yl)-9,9'-spirobi Fluorene (BSDF), 2,7-bis(9,9'-spirobifluoren-2-yl)-9,9'-spirobifluorene (TSDF), bis(9,9-diarylfluorene) )s (BDAF) and at least one of 4,4'-bis(2,2-diphenyl-ethen-1-yl)-4,4'-di-(tert-butyl)phenyl (p-TDPVBi) The phosphorescent host material may include 1,3-bis(carbazol-9-yl)benzene (mCP), 1,3,5-tris(carbazol-9-yl)benzene (tCP), 4,4',4"-lys(carbazol-9-yl)triphenylamine (TCTA), 4,4'-bis(carbazol-9-yl)biphenyl (CBP), 4,4'-bis Bis(9-carbazolyl)-2,2'-dimethyl-biphenyl (CBDP), 4,4'-bis(carbazol-9-yl)-9,9-dimethyl-fluorene (DMFL-CBP), 4,4'-bis(carbazol-9-yl)-9,9-bisbis(9-phenyl-9H-carbazole)fluorene (FL-4CBP), 4,4'-bis(carbazole-9 -yl)-9,9-di-tolyl-fluorene (DPFL-CBP) and 9,9-bis(9-phenyl-9H-carbazole) fluorene (FL-2CBP) may include at least one there is.

바람직하게는, 발광층(224)은 호스트 재료로서 beryllium bisbenzo[h]quinolin-10-olate (Bebq2) 및 도펀트 재로로서 bis[2,4-dimethyl-6-(4-methyl-2-quinolinyl-kN)phenyl-kC] (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato-kO3 (Ir(mphmq)2tmd)를 포함할 수 있다. Preferably, the light emitting layer 224 includes beryllium bisbenzo[h]quinolin-10-olate (Bebq2) as a host material and bis[2,4-dimethyl-6-(4-methyl-2-quinolinyl-kN) as a dopant material. phenyl-kC] (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato-kO3 (Ir(mphmq)2tmd).

전자 수송층(225)은 제2 전극(160)으로부터 주입된 전자를 발광층(140)으로 이동시키는 역할을 할 수 있으며, 예를 들면, 전자 수송층(225)은 TPBi(2,2',2"-(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole)), Alq3(Tris(8-hydroxyquinoline) Aluminum), PCBM(Phenyl-C61-butyric acid methyl ester), TAZ(3-(4-biphenyl)-4-phenyl-5-(4-tertbutylphenyl)-1,2,4-triazole), BPhen(4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline), BAlq(Bis(8-hydroxy-2-methylquinoline)-(4-phenylphenoxy)aluminum), TSPO1 (diphenylphosphine oxide-4-(triphenylsilyl)phenyl), B4PyMPM [bis-4,6-(3,5-di-4-pyridylphenyl)-2-methylpyrimidine], TmPyPB (Two pyridine-containing triphenylbenzene derivatives of 1,3,5-tri(m-pyrid- 3-yl-phenyl)benzene), 3TPYMB (tris-[3-(3-pyridyl)mesityl] borane), TpPyPB (1,3,5-tri( p -pyrid-3-yl-phenyl)benzene), TPPB (1,3,5-tris[3,5-bis(3-pyridinyl)phenyl]benzene) 및 BCP(2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The electron transport layer 225 may serve to move electrons injected from the second electrode 160 to the emission layer 140 , for example, the electron transport layer 225 may be TPBi(2,2′,2″- (1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole)), Alq3(Tris(8-hydroxyquinoline) Aluminum), PCBM(Phenyl-C61-butyric acid methyl ester), TAZ(3 -(4-biphenyl)-4-phenyl-5-(4-tertbutylphenyl)-1,2,4-triazole), BPhen(4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline), BAlq(Bis(8-hydroxy) -2-methylquinoline)-(4-phenylphenoxy)aluminum), TSPO1 (diphenylphosphine oxide-4-(triphenylsilyl)phenyl), B4PyMPM [bis-4,6-(3,5-di-4-pyridylphenyl)-2-methylpyrimidine ], TmPyPB (Two pyridine-containing triphenylbenzene derivatives of 1,3,5-tri(m-pyrid-3-yl-phenyl)benzene), 3TPYMB (tris-[3-(3-pyridyl)mesityl] borane), TpPyPB (1,3,5-tri(p-pyrid-3-yl-phenyl)benzene), TPPB (1,3,5-tris[3,5-bis(3-pyridinyl)phenyl]benzene) and BCP(2 ,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) may be included.

바람직하게는, 전자 수송층(225)은 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen)을 포함할 수 있다. Preferably, the electron transport layer 225 may include 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen).

전자 주입층(226)은 제2 전극(227)으로부터 주입된 전자를 발광층으로 주입시키는 역할을 할 수 있다.The electron injection layer 226 may serve to inject electrons injected from the second electrode 227 into the emission layer.

예를 들면, 전자 주입층(226)은 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 희토류 금속, 알칼리 금속 화합물, 알칼리 토금속 화합물, 희토류 금속 화합물, 알칼리 금속 착체, 알칼리 토금속 착체, 희토류 금속 착체 또는 이들 중 임의의 조합 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있고, 바람직하게는, 전자 주입층(226)은 lithium quinolate (Liq)를 포함할 수 있다. For example, the electron injection layer 226 may include an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, an alkali metal compound, an alkaline earth metal compound, a rare earth metal compound, an alkali metal complex, an alkaline earth metal complex, a rare earth metal complex, or any combination thereof. At least one may be included, and preferably, the electron injection layer 226 may include lithium quinolate (Liq).

제2 전극(227)은 전원 전압에 공통 연결되어 전자 수송층으로 전자를 주입시키는 역할을 할 수 있다. The second electrode 227 may be commonly connected to a power voltage to inject electrons into the electron transport layer.

예를 들면, 제2 전극(227)은 금속 물질, 이온화된 금속 물질, 합금 물질, 소정의 액체 속에서 콜로이드(colloid) 상태인 금속 잉크 물질 및 투명 금속 산화물 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.For example, the second electrode 227 may include at least one of a metal material, an ionized metal material, an alloy material, a metal ink material in a colloidal state in a predetermined liquid, and a transparent metal oxide.

금속 물질의 구체적인 예로서는 리튬플로라이드/알루미늄(LiF/Al), 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag), 이터븀 (Yb), 플래티넘(Pt), 금(Au), 니켈(Ni), 구리(Cu), 바륨(Ba), 은(Ag), 은나노와이어 (AgNWs), 인듐(In), 루테늄(Ru), 납(Pd), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 오스뮴(Os), 칼슘 (Ca) 및 세슘(Cs) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 금속 물질로 탄소(C), 전도성 고분자 또는 이들의 조합이 사용될 수도 있다.Specific examples of the metal material include lithium fluoride/aluminum (LiF/Al), lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), and magnesium-indium (Mg). -In), magnesium-silver (Mg-Ag), ytterbium (Yb), platinum (Pt), gold (Au), nickel (Ni), copper (Cu), barium (Ba), silver (Ag), silver nano At least one of wire (AgNWs), indium (In), ruthenium (Ru), lead (Pd), rhodium (Rh), iridium (Ir), osmium (Os), calcium (Ca), and cesium (Cs) is included. can do. In addition, carbon (C), a conductive polymer, or a combination thereof may be used as the metal material.

탄소(C) 물질로는 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀(graphene) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있고, 전도성 고분자 물질로는 폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트(PEDOT:PSS)를 포함할 수 있다.The carbon (C) material may include at least one of carbon nanotubes (CNT) and graphene, and the conductive polymer material may include polyethylenedioxythiophene:polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS). can

또한, 투명 금속 산화물은 ITO(Indium Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 및 AZO(Aluminum doped Zinc Oxide) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.In addition, the transparent metal oxide may include at least one of indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), antimony tin oxide (ATO), and aluminum doped zinc oxide (AZO).

바람직하게는, 제2 전극(227)은 마그네슘-은(Mg-Ag)으로 형성될 수 있다. Preferably, the second electrode 227 may be formed of magnesium-silver (Mg-Ag).

캡핑층(228)은 Alq3(Tris(8-hydroxyquinolinato)aluminium), NPB 및 삼산화몰리브덴(MoO3) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 캡핑층(228)은 삼산화몰리브덴(MoO3) 기반의 무기 캡핑층으로 형성되어 에폭시 필러(240)의 유기 발광층(222 내지 228)으로의 침투를 방지할 수 있다.The capping layer 228 may include at least one of Alq3 (Tris(8-hydroxyquinolinato)aluminium), NPB, and molybdenum trioxide (MoO 3 ). Preferably, the capping layer 228 is formed of an inorganic capping layer based on molybdenum trioxide (MoO 3 ) to prevent penetration of the epoxy filler 240 into the organic light emitting layers 222 to 228 .

한편, 유기 발광층(221 내지 228)은 전하 생성층을 더 포함할 수 있으며, 바람직하게는, 전하 생성층은 1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylene hexacarbonitrile(HAT-CN)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the organic emission layers 221 to 228 may further include a charge generation layer, preferably, the charge generation layer may include 1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylene hexacarbonitrile (HAT-CN). can

도 3은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 에너지 밴드 다이어그램을 설명하기 위한 도면이다. 3 is a diagram for explaining an energy band diagram of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.

도 3을 참조하면, 참조부호 300에서 'NPB'는 정공 수송층의 에너지 밴드를 나타내고, 'BPhen'은 전자 수송층의 에너지 밴드를 나타내며, 'Liq'는 전자 주입층의 에너지 밴드를 나타낸다. Referring to FIG. 3 , in reference numeral 300 'NPB' denotes the energy band of the hole transport layer, 'BPhen' denotes the energy band of the electron transport layer, and 'Liq' denotes the energy band of the electron injection layer.

또한, 참조부호 300에서 'MoO3'는 캡핑층의 에너지 밴드를 나타내고, 'HAT-CN'은 전하 생성층의 에너지 밴드를 나타내며, 'Bebq2' 및 'Ir(mphmq)2(tmd)'는 발광층의 에너지 밴드를 나타내고, 'Al' 및 'Ag'는 제1 전극의 에너지 밴드를 나타내며, 'Mg:Ag'는 제2 전극의 에너지 밴드를 나타낸다. In addition, in reference numeral 300, 'MoO 3 ' denotes the energy band of the capping layer, 'HAT-CN' denotes the energy band of the charge generation layer, and 'Bebq2' and 'Ir(mphmq)2(tmd)' denote the light emitting layer. represents the energy band of 'Al' and 'Ag' represents the energy band of the first electrode, and 'Mg:Ag' represents the energy band of the second electrode.

참조부호 300에 따르면, 유기물질의 경우에 전자와 정공이 이동도가 크게 다르기 때문에, 일실시예에 따른 유기 발광 소자는 전자수송층(ETL)과 정공수송층(HTL)을 적용할 수 있으며, 이를 통해 전자와 정공을 효과적으로 발광층으로 이동시켜 발광 효율을 높일 수 있다.Referring to reference numeral 300, since electron and hole mobility are significantly different in the case of an organic material, the organic light emitting device according to an embodiment may apply an electron transport layer (ETL) and a hole transport layer (HTL), through which By effectively moving electrons and holes to the light emitting layer, luminous efficiency can be increased.

도 4는 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 나노 주름 패턴에 관한 특성을 설명하기 위한 도면이다. 4 is a view for explaining characteristics of a nano-wrinkle pattern of an organic light emitting diode according to an embodiment.

도 4를 참조하면, 도 4의 (a) 및 (c)는 일실시예에 따른 나노 주름 패턴을 형성하기 위한 마스터 몰드(master mould)의 금속층의 두께가 10 nm일 때 SEM(scanning electron microscopy) 이미지와 AFM(atomic force microscopy) 이미지를 각각 도시한다.4, (a) and (c) of Figure 4 (a) and (c) of SEM (scanning electron microscopy) when the thickness of the metal layer of the master mold (master mold) for forming the nano-wrinkle pattern according to an embodiment is 10 nm Images and atomic force microscopy (AFM) images are shown, respectively.

또한, 도 4의 (b) 및 (c)는 일실시예에 따른 나노 주름 패턴을 형성하기 위한 마스터 몰드의 금속층의 두께가 25 nm일 때 SEM 이미지와 AFM 이미지를 각각 도시한다.In addition, FIGS. 4 (b) and (c) show an SEM image and an AFM image, respectively, when the thickness of the metal layer of the master mold for forming a nano-wrinkle pattern according to an embodiment is 25 nm.

예를 들면, 마스터 몰드의 금속층을 알루미늄(Al) 금속층일 수 있다. For example, the metal layer of the master mold may be an aluminum (Al) metal layer.

도 4의 (a) 내지 (d)에 따르면, 나노 주름 패턴은 금속층의 두께가 얇으면 작은 피치의 주름 구조를 보이고, 금속층의 두께가 두꺼워지면 비교적 큰 피치의 주름 구조를 보이는 것을 확인할 수 있다.According to (a) to (d) of Figure 4, the nano-wrinkle pattern shows a wrinkled structure of a small pitch when the thickness of the metal layer is thin, and it can be confirmed that when the thickness of the metal layer is increased, a wrinkle structure of a relatively large pitch is shown.

도 5a 내지 도 5h는 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 특성을 설명하기 위한 도면이다. 5A to 5H are diagrams for explaining characteristics of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.

도 5a 내지 도 5h를 참조하면, 참조부호 510 내지 520은 나노 주름 패턴을 구비하지 않은 유기 발광 소자(Reference)와 나노 주름 패턴을 구비한 일실시예에 따른 유기 발광 소자(Device A, Device B)의 특성의 측정 결과를 도시한다. Referring to FIGS. 5A to 5H , reference numerals 510 to 520 denote an organic light-emitting device without a nano-wrinkle pattern (Reference) and an organic light-emitting device having a nano-wrinkle pattern according to an embodiment (Device A, Device B) The measurement results of the characteristics of

구체적으로, 참조부호 510은 Reference, Device A 및 Device B의 J-V-L(current density-voltage-luminescence) 특성을 도시하고, 참조부호 520은 루미네선스-전류 효율(luminance-current efficiency) 및 전력 효율(power efficiency) 특성을 도시하며, 참조부호 530은 외부 양자 효율(external quantum efficiency; EQE) 및 루미네선스 특성을 도시하고, 참조부호 540은 각도 루미네선스 분포(angular luminance distribution) 특성을 도시한다. Specifically, reference numeral 510 denotes current density-voltage-luminescence (JVL) characteristics of Reference, Device A, and Device B, and reference numeral 520 denotes luminance-current efficiency and power efficiency. efficiency), reference numeral 530 denotes an external quantum efficiency (EQE) and luminance characteristic, and reference numeral 540 denotes an angular luminance distribution characteristic.

또한, 참조부호 540 내지 570 각각은 Reference, Device A 및 Device B 각각의 피크 파장 시프트(Peak wavelength shift) 특성과 반치폭(full width at half maximum) 특성을 도시하고, 참조부호 580은 Reference, Device A 및 Device B의 색좌표계(CIE 1976)에서의 각도 컬러 시프트(angular color shift) 특성을 도시한다. In addition, reference numerals 540 to 570 each show Reference, Device A and Device B, respectively, peak wavelength shift characteristics and full width at half maximum characteristics, and reference numeral 580 is Reference, Device A and The angular color shift characteristics in Device B's color coordinate system (CIE 1976) are shown.

한편, Device A는 금속층의 두께가 10 nm인 마스터 몰드로부터 형성된 나노 주름 패턴을 구비하는 유기 발광 소자를 의미하고, Device B는 금속층의 두께가 25 nm인 마스터 몰드로부터 형성된 나노 주름 패턴을 구비하는 유기 발광 소자를 의미한다.On the other hand, Device A means an organic light emitting device having a nano-wrinkle pattern formed from a master mold having a metal layer thickness of 10 nm, and Device B is an organic light-emitting device having a nano-wrinkle pattern formed from a master mold having a metal layer thickness of 25 nm. means a light emitting device.

참조부호 510 내지 580에 따르면, Reference, Device A 및 Device B의 소자 특성은 하기 표1과 같이 도출될 수 있다.Referring to reference numerals 510 to 580, the device characteristics of Reference, Device A, and Device B may be derived as shown in Table 1 below.

Figure pat00007
Figure pat00007

또한, Reference, Device A 및 Device B의 컬러 시프트 특성은 하기 표2와 같이 도출될 수 있다.In addition, the color shift characteristics of Reference, Device A, and Device B can be derived as shown in Table 2 below.

Figure pat00008
Figure pat00008

또한, Reference, Device A 및 Device B의 피크 파장 시프트 값과 반치폭 값은 하기 표3과 같이 도출될 수 있다.In addition, the peak wavelength shift values and half-width values of Reference, Device A, and Device B may be derived as shown in Table 3 below.

Figure pat00009
Figure pat00009

표1 내지 표3에 따르면, 일실시예에 따른 유기 발광 소자(Device A 및 Device B)는 나노 주름 패턴에서의 난반사로 인하여 평행(Parallel)하지 않은 다양한 각도로 빛이 반사되어 시야각 의존도를 개선 할 수 있음을 알 수 있으며, 특히, 외부에 적용 했을 때 보다 시야각 개선도 및 색 변화율이 매우 우수한 것을 확인할 수 있다. According to Tables 1 to 3, in the organic light emitting devices (Device A and Device B) according to an embodiment, light is reflected at various non-parallel angles due to diffuse reflection in the nano-wrinkle pattern to improve the viewing angle dependence. In particular, it can be seen that the viewing angle improvement and color change rate are very excellent when applied to the outside.

또한, 일실시예에 따른 유기 발광 소자(Device A 및 Device B)는 유기 발광층과 인캡슐레이션 글래스 사이에 에폭시 필러를 적용함으로써, 나노 주름 패턴의 적용에 따른 전류 및 전력 효율을 감소를 최소화할 수 있음을 확인할 수 있다.In addition, in the organic light emitting devices (Device A and Device B) according to an embodiment, by applying an epoxy filler between the organic light emitting layer and the encapsulation glass, it is possible to minimize the reduction in current and power efficiency due to the application of the nano-wrinkle pattern. It can be confirmed that there is

도 6은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 광산란 효과를 설명하기 위한 도면이다. 6 is a view for explaining a light scattering effect of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.

도 6을 참조하면, 도 6의 (a)는 무작위로 분포된 나노 주름 패턴을 구비하는 유기 발광 소자의 광산란 효과(light scattering effect)의 관측 결과를 도시하고, 도 6의 (b)는 나노 주름 패턴을 구비하지 않은 유기 발광 소자의 광산란 효과의 관측 결과를 도시한다. Referring to FIG. 6, (a) of FIG. 6 shows the observation result of a light scattering effect of an organic light emitting device having a randomly distributed nano-wrinkle pattern, and FIG. 6(b) is a nano-wrinkle pattern. The observation result of the light scattering effect of the organic light emitting element which is not provided with a pattern is shown.

도 6의 (a) 및 (b)에 따르면, 일실시예에 따른 유기 발광 소자는 나노 주름 패턴을 구비함으로써 빛이 전반사되는 것을 확인할 수 있으며, 나노 주름 패턴을 구비하지 않은 유기 발광 소자와 비교하여 더 많은 빛을 결합시킬 수 있음을 확인할 수 있다. According to (a) and (b) of Figure 6, the organic light-emitting device according to an embodiment has a nano-wrinkle pattern, it can be confirmed that the total reflection of light, compared to the organic light-emitting device not provided with the nano-wrinkle pattern. It can be seen that more light can be combined.

도 7은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 블랙 틴트 현상의 차단 특성을 설명하기 위한 도면이다. 7 is a view for explaining a blocking characteristic of a black tint phenomenon of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment.

도 7을 참조하면, 도 7의 (a)는 나노 주름 패턴을 구비하지 않은 유기 발광 소자(Reference)의 블랙 틴트 효과(black tint effect)의 이미지를 도시하고, 도 7의 (b) 및 (c)는 나노 주름 패턴을 구비한 유기 발광 소자(b: Device A, c: Device B)의 블랙 틴트 효과의 이미지를 도시한다. Referring to FIG. 7 , (a) of FIG. 7 shows an image of a black tint effect of an organic light emitting diode (Reference) not having a nano-wrinkle pattern, and FIGS. 7(b) and (c) ) shows an image of the black tint effect of an organic light-emitting device (b: Device A, c: Device B) having a nano-wrinkle pattern.

여기서, Device A는 금속층의 두께가 10 nm인 마스터 몰드로부터 형성된 나노 주름 패턴을 구비하는 유기 발광 소자를 의미하고, Device B는 금속층의 두께가 25 nm인 마스터 몰드로부터 형성된 나노 주름 패턴을 구비하는 유기 발광 소자를 의미한다.Here, Device A means an organic light emitting device having a nano-wrinkle pattern formed from a master mold having a metal layer thickness of 10 nm, and Device B is an organic light-emitting device having a nano-wrinkle pattern formed from a master mold having a metal layer thickness of 25 nm. means a light emitting device.

도 7의 (a) 내지 (c)에 따르면, 일실시예에 따른 유기 발광 소자(Device A, Device B)는 나노 주름 패턴을 구비하지 않은 유기 발광 소자(Reference)와는 달리 블랙 틴트 효과가 거의 발견되지 않았으며, 이를 통해 나노 주름 패턴 적용 시, 유기 발광 소자에서 발생되는 블랙 틴트 효과를 크게 억제할 수 있음을 확인할 수 있다. According to (a) to (c) of Figure 7, the organic light emitting device (Device A, Device B) according to an embodiment, unlike the organic light emitting device (Reference) that does not have a nano-wrinkle pattern, almost found a black tint effect. It can be confirmed that, when the nano-wrinkle pattern is applied, the black tint effect generated from the organic light-emitting device can be greatly suppressed.

도 8은 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다. 8 is a view for explaining a method of manufacturing an organic light emitting device according to an exemplary embodiment.

다시 말해, 도 8은 도 1 내지 도 7을 통해 설명한 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면으로, 이하에서 도 8을 통해 설명하는 내용 중 일실시예에 따른 유기 발광 소자를 통해 설명한 내용과 중복되는 설명은 생략하기로 한다. In other words, FIG. 8 is a view for explaining a method of manufacturing an organic light emitting device according to an exemplary embodiment described with reference to FIGS. 1 to 7 . Hereinafter, an organic light emitting device according to an exemplary embodiment of the contents described with reference to FIG. 8 . A description that overlaps with the content described through will be omitted.

도 8을 참조하면, 810 단계에서 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법은 나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 8 , in step 810 , in the method of manufacturing an organic light emitting device according to an embodiment, a substrate including an epoxy layer on which a nano-wrinkle pattern is formed may be formed.

여기서, 기판은 발광층과의 인접면에 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 포함할 수 있다. Here, the substrate may include an epoxy layer in which a nano-wrinkle pattern is formed on a surface adjacent to the light emitting layer.

다음으로, 820 단계에서 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법은 기판 상에 유기 발광층을 형성할 수 있다. Next, in step 820 , in the method of manufacturing an organic light emitting device according to an embodiment, an organic light emitting layer may be formed on a substrate.

일측에 따르면, 820 단계에서 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법은 제1 전극, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 제2 전극 및 캡핑층이 적층되어 형성될 수 있다.According to one side, in step 820, the method of manufacturing an organic light emitting device according to an embodiment may be formed by stacking a first electrode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a second electrode, and a capping layer. can

다음으로, 830 단계에서 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법은 유기 발광층과 인캡슐레이션 글래스 사이에 에폭시 필러를 형성할 수 있다.Next, in step 830 , in the method of manufacturing an organic light emitting device according to an embodiment, an epoxy filler may be formed between the organic light emitting layer and the encapsulation glass.

다음으로, 840 단계에서 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 제조방법은 기판 상에 유기 발광층을 덮도록 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)를 형성할 수 있다. Next, in step 840 , in the method of manufacturing an organic light emitting device according to an embodiment, encapsulation glass may be formed on the substrate to cover the organic light emitting layer.

도 9는 일실시예에 따른 나노 주름 패턴이 형성된 기판의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다. 9 is a view for explaining a method of manufacturing a substrate on which a nano-wrinkle pattern is formed according to an embodiment.

다시 말해, 이하에서 도 9를 통해 설명하는 에폭시층의 제조방법은 도 8의 810 단계에서 수행될 수 있다. In other words, the method of manufacturing the epoxy layer described below with reference to FIG. 9 may be performed in step 810 of FIG. 8 .

도 9를 참조하면, 910 단계에서 일실시예에 따른 기판의 제조방법은 나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)(911)를 제조할 수 있다. Referring to FIG. 9 , in step 910 , in the method of manufacturing a substrate according to an embodiment, a master mold 911 having a nano-wrinkle structure may be manufactured.

다음으로, 920 단계에서 일실시예에 따른 기판의 제조방법은 마스터 몰드(911) 상에 에폭시 물질(921)을 도포할 수 있다. 예를 들면, 에폭시 물질(921)은 NOA 81(Norland Products, Inc.)일 수 있다. Next, in step 920 , in the method of manufacturing a substrate according to an embodiment, an epoxy material 921 may be applied on the master mold 911 . For example, the epoxy material 921 may be NOA 81 (Norland Products, Inc.).

다음으로, 930 단계에서 일실시예에 따른 기판의 제조방법은 에폭시 물질(921)이 도포된 마스터 몰드(911)와 유리 기판(931)을 이용한 임프린팅 공정(imprinting process)을 통해 유리 기판(931) 상에 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층(921)을 형성할 수 있다. Next, in step 930 , the method of manufacturing a substrate according to an embodiment includes a glass substrate 931 through an imprinting process using a master mold 911 and a glass substrate 931 coated with an epoxy material 921 . ), an epoxy layer 921 having a nano-wrinkle pattern formed thereon may be formed.

일측에 따르면, 임프린팅 공정 시 마스터 몰드(911)의 금속층을 구성하는 금속 물질의 일부가 에폭시 물질(921)에 잔류할 수 있으며, 에폭시 물질(921)에 잔류하는 금속 물질로 인해 전류 누설이 발생될 수 있다. According to one side, during the imprinting process, a portion of the metal material constituting the metal layer of the master mold 911 may remain in the epoxy material 921 , and current leakage occurs due to the metal material remaining in the epoxy material 921 . can be

이에, 930 단계에서 일실시예에 따른 기판의 제조방법은 습식 에칭법(wet etching)을 이용하여 에폭시 물질(921)에 잔류한 금속 물질을 제거할 수 있다. Accordingly, in step 930 , in the method of manufacturing the substrate according to the exemplary embodiment, the metal material remaining in the epoxy material 921 may be removed by using a wet etching method.

다음으로, 940 단계에서 일실시예에 따른 기판의 제조방법은 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층(921)을 자외선 경화(UV curing) 시킬 수 있다. Next, in step 940 , in the method of manufacturing a substrate according to an embodiment, the epoxy layer 921 on which the nano-wrinkle pattern is formed may be UV-cured.

다음으로, 950 단계에서 일실시예에 따른 기판의 제조방법은 자외선 경화된 에폭시층(921)을 이소 프로필 알코올(isopropyl alcohol)로 초음파 처리하고, UV-오존 처리(UV-Ozone treatment)를 수행하여, 에폭시층(921) 상에 잔류하는 유기 오염물 및/또는 입자를 제거할 수 있다. Next, in step 950, the method of manufacturing a substrate according to an embodiment includes ultrasonicating the UV-cured epoxy layer 921 with isopropyl alcohol, and performing UV-ozone treatment. , organic contaminants and/or particles remaining on the epoxy layer 921 may be removed.

도 10은 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다. 10 is a view for explaining a method of manufacturing a master mold according to an embodiment.

다시 말해, 이하에서 도 10를 통해 설명하는 마스터 몰드의 제조방법은 도 9의 910 단계에서 수행될 수 있다. In other words, the method of manufacturing the master mold described below with reference to FIG. 10 may be performed at step 910 of FIG. 9 .

도 10을 참조하면, 1010 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 몰드 기판(1011) 상에 폴리머층(1013)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 10 , in step 1010 , in the method of manufacturing a master mold according to an embodiment, a polymer layer 1013 may be formed on a mold substrate 1011 .

예를 들면, 몰드 기판(1011)은 글래스 기판(glass substrate)으로 구현되고, 폴리머층(1013)은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane; PDMS) 필름으로 구현될 수 있다. For example, the mold substrate 1011 may be implemented as a glass substrate, and the polymer layer 1013 may be implemented as a polydimethylsiloxane (PDMS) film.

또한, 1010 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 스핀코팅법으로 폴리머 물질(1012)을 몰드 기판(1011)에 도포하여 몰드 기판(1011) 상에 폴리머층(1013)을 형성할 수 있다.In addition, in step 1010 , in the method of manufacturing the master mold according to an embodiment, a polymer material 1012 is applied to the mold substrate 1011 by a spin coating method to form a polymer layer 1013 on the mold substrate 1011 . there is.

다음으로, 1020 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 폴리머층(1013)이 형성된 몰드 기판(1011)을 제1 온도로 열처리할 수 있다. 예를 들면, 제1 온도는 100℃ 내지 250℃ 일 수 있다. Next, in step 1020 , in the method of manufacturing the master mold according to the embodiment, the mold substrate 1011 on which the polymer layer 1013 is formed may be heat-treated at a first temperature. For example, the first temperature may be 100 °C to 250 °C.

바람직하게는, 1020 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 폴리머층(1013)이 형성된 몰드 기판(1011)을 200℃의 온도에서 30 분 동안 열처리할 수 있다. Preferably, in step 1020 , in the method of manufacturing the master mold according to the embodiment, the mold substrate 1011 on which the polymer layer 1013 is formed may be heat-treated at a temperature of 200° C. for 30 minutes.

다음으로, 1030 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 열처리된 폴리머층(1013) 상에 금속층(1031)을 증착할 수 있다. Next, in step 1030 , the method of manufacturing the master mold according to the embodiment may deposit a metal layer 1031 on the heat-treated polymer layer 1013 .

예를 들면, 1030 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 열처리된 폴리머층(1013) 상에 알루미늄(Al) 물질을 연속적으로 증착하여 금속층(1031)을 형성할 수 있다. For example, in step 1030 , in the method of manufacturing the master mold according to the embodiment, the metal layer 1031 may be formed by continuously depositing an aluminum (Al) material on the heat-treated polymer layer 1013 .

다음으로, 1040 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 금속층(1031)이 증착된 폴리머층(1013)을 제2 온도로 냉각 처리하여 금속층(1031)이 나노 주름 구조로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제2 온도는 15 ℃ 내지 30 ℃의 실온일 수 있으나, 이에 한정되지 않고 15 ℃ 보다 낮은 온도일 수도 있다. Next, in step 1040, in the method of manufacturing the master mold according to an embodiment, the metal layer 1031 may be formed into a nano-wrinkled structure by cooling the polymer layer 1013 on which the metal layer 1031 is deposited to a second temperature. . For example, the second temperature may be a room temperature of 15 °C to 30 °C, but is not limited thereto and may be a temperature lower than 15 °C.

즉, 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 열처리 공정 및 냉각 처리 공정을 순차적으로 수행함으로써, 폴리머층(1013)과 금속층(1031)의 열팽창 계수의 차이로 인해 금속층(1031)이 나노 주름 구조로 형성될 수 있다. That is, in the method of manufacturing the master mold according to an embodiment, the heat treatment process and the cooling process are sequentially performed, so that the metal layer 1031 has a nano-wrinkled structure due to the difference in the coefficients of thermal expansion between the polymer layer 1013 and the metal layer 1031 . can be formed with

일측에 따르면, 1040 단계에서 일실시예에 따른 마스터 몰드의 제조방법은 열처리된 폴리머층 상에 증착 형성되는 금속층의 두께를 제어할 수 있으며, 이를 통해 일실시예에 따른 유기 발광 소자에 구비되는 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값이 제어될 수 있다. According to one side, in step 1040, the method of manufacturing the master mold according to the embodiment can control the thickness of the metal layer formed by deposition on the heat-treated polymer layer, and through this, the nano provided in the organic light emitting device according to the embodiment. Values of pitch and depth of the wrinkle pattern may be controlled.

결국, 본 발명을 이용하면, 나노 구조체를 포함하여, 시야각 의존도(viewing angle dependence) 특성 및 컬러 시프트(color shift) 특성을 개선하고, 블랙 틴트(black Tint) 현상을 차단할 수 있다. As a result, by using the present invention, it is possible to improve viewing angle dependence and color shift characteristics and block black tint by including the nanostructure.

또한, 에폭시 필러를 포함하여, 전류 효율(current efficiency)의 감소를 최소화할 수 있다.In addition, by including the epoxy filler, it is possible to minimize a decrease in current efficiency.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들면, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 장치, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described with reference to the limited drawings, various modifications and variations are possible from the above description by those of ordinary skill in the art. For example, the described techniques are performed in an order different from the described method, and/or the described components, such as devices, structures, devices, circuits, etc., are combined or combined in a different form than the described methods, or other components Or substituted or substituted by equivalents may achieve an appropriate result.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents to the claims are also within the scope of the following claims.

100: 유기 발광 소자 110: 기판
120: 유기 발광층 130: 인캡슐레이션 글래스
140: 에폭시 필러
100: organic light emitting device 110: substrate
120: organic light emitting layer 130: encapsulation glass
140: epoxy filler

Claims (11)

나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판;
상기 기판 상에 형성된 유기 발광층 및
상기 기판 상에 상기 유기 발광층을 덮도록 형성된 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)
를 포함하는 유기 발광 소자.
a substrate having an epoxy layer on which a nano-wrinkle pattern is formed;
an organic light emitting layer formed on the substrate; and
Encapsulation glass formed on the substrate to cover the organic light emitting layer
An organic light emitting device comprising a.
제1항에 있어서,
상기 유기 발광층과 상기 인캡슐레이션 글래스 사이에 형성된 에폭시 필러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
유기 발광 소자.
According to claim 1,
An epoxy filler formed between the organic light emitting layer and the encapsulation glass, characterized in that it further comprises
organic light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 유기 발광층은,
제1 전극, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 제2 전극 및 캡핑층이 적층되어 형성되는
유기 발광 소자.
According to claim 1,
The organic light emitting layer,
The first electrode, the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer, the electron injection layer, the second electrode and the capping layer are formed by stacking.
organic light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은,
나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 통해 형성되고,
상기 마스터 몰드는,
폴리머층과 상기 폴리머층 상에 형성되는 금속층을 포함하되, 상기 금속층은 상기 폴리머층과의 열팽창 계수의 차이로 인해 상기 나노 주름 구조로 형성되는
유기 발광 소자.
According to claim 1,
The epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed,
It is formed through a master mold having a nano-wrinkle structure,
The master mold,
A polymer layer and a metal layer formed on the polymer layer, wherein the metal layer is formed in the nano-wrinkled structure due to a difference in coefficient of thermal expansion with the polymer layer
organic light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층은,
상기 금속층의 두께에 따라 상기 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값이 결정되는
유기 발광 소자.
According to claim 1,
The epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed,
The values of the pitch and depth of the nano-wrinkle pattern are determined according to the thickness of the metal layer.
organic light emitting device.
나노 주름(nano-wrinkle) 패턴이 형성된 에폭시층을 구비하는 기판을 형성하는 단계
상기 기판 상에 유기 발광층을 형성하는 단계 및
상기 기판 상에 상기 유기 발광층을 덮도록 인캡슐레이션 글래스(encapsulation glass)를 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 기판은,
상기 유기 발광층과의 인접면에 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 포함하는
유기 발광 소자의 제조방법.
Forming a substrate having an epoxy layer on which a nano-wrinkle pattern is formed
forming an organic light emitting layer on the substrate; and
forming an encapsulation glass on the substrate to cover the organic light emitting layer
including,
The substrate is
Comprising an epoxy layer in which the nano-wrinkle pattern is formed on a surface adjacent to the organic light emitting layer
A method of manufacturing an organic light emitting device.
제6항에 있어서,
상기 유기 발광층과 상기 인캡슐레이션 글래스 사이에 에폭시 필러를 형성하는 단계
를 더 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법.
7. The method of claim 6,
Forming an epoxy filler between the organic light emitting layer and the encapsulation glass
Method of manufacturing an organic light emitting device further comprising a.
제6항에 있어서,
상기 기판을 형성하는 단계는,
나노 주름 구조를 구비하는 마스터 몰드(master mould)를 제조하는 단계;
상기 마스터 몰드 상에 에폭시 물질을 도포하는 단계;
상기 에폭시 물질이 도포된 마스터 몰드와 유리 기판을 이용한 임프린팅 공정(imprinting process)을 통해 상기 유리 기판 상에 상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 형성하는 단계 및
상기 나노 주름 패턴이 형성된 에폭시층을 자외선 경화(UV curing) 시키는 단계
를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법.
7. The method of claim 6,
Forming the substrate comprises:
manufacturing a master mold having a nano-wrinkle structure;
applying an epoxy material on the master mold;
forming an epoxy layer having the nano-wrinkle pattern formed on the glass substrate through an imprinting process using a master mold and a glass substrate coated with the epoxy material;
UV curing the epoxy layer on which the nano-wrinkle pattern is formed
A method of manufacturing an organic light emitting device comprising a.
제8항에 있어서,
상기 마스터 몰드를 제조하는 단계는,
몰드 기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계;
상기 폴리머층이 형성된 몰드 기판을 제1 온도로 열처리 하는 단계;
상기 열처리된 폴리머층 상에 금속층을 증착하는 단계 및
상기 금속층이 증착된 폴리머층을 제2 온도로 냉각 처리하여 상기 금속층이 나노 주름 구조로 형성되는 단계
를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법.
9. The method of claim 8,
The step of manufacturing the master mold,
forming a polymer layer on the mold substrate;
heat-treating the mold substrate on which the polymer layer is formed at a first temperature;
depositing a metal layer on the heat-treated polymer layer; and
Cooling the polymer layer on which the metal layer is deposited to a second temperature to form the metal layer into a nano-wrinkled structure
A method of manufacturing an organic light emitting device comprising a.
제9항에 있어서,
상기 금속층을 나노 주름 구조로 형성하는 단계는,
상기 폴리머층과 상기 금속층의 열팽창 계수의 차이로 인해 상기 금속층이 나노 주름 구조로 형성되는
유기 발광 소자의 제조방법.
10. The method of claim 9,
The step of forming the metal layer into a nano-wrinkle structure,
Due to the difference in the coefficient of thermal expansion of the polymer layer and the metal layer, the metal layer is formed in a nano-wrinkled structure.
A method of manufacturing an organic light emitting device.
제9항에 있어서,
상기 금속층을 증착하는 단계는,
상기 열처리된 폴리머층 상에 증착 형성되는 상기 금속층의 두께를 제어하여, 상기 나노 주름 패턴의 피치(pitch) 및 깊이(depth)의 값을 제어하는
유기 발광 소자의 제조방법.
10. The method of claim 9,
depositing the metal layer,
By controlling the thickness of the metal layer deposited on the heat-treated polymer layer, to control the values of the pitch (pitch) and the depth (depth) of the nano-wrinkle pattern
A method of manufacturing an organic light emitting device.
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