KR20210084990A - Display device - Google Patents

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KR20210084990A
KR20210084990A KR1020190177558A KR20190177558A KR20210084990A KR 20210084990 A KR20210084990 A KR 20210084990A KR 1020190177558 A KR1020190177558 A KR 1020190177558A KR 20190177558 A KR20190177558 A KR 20190177558A KR 20210084990 A KR20210084990 A KR 20210084990A
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touch
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Application number
KR1020190177558A
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한규형
이성호
임현택
유희성
유명재
차언호
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엘지디스플레이 주식회사
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844Encapsulations
    • H10K50/8445Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
    • H01L51/5256
    • H01L27/323
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40OLEDs integrated with touch screens

Abstract

A display device according to an embodiment of the present invention includes: a substrate; a light emitting element disposed on the substrate; a bank layer disposed on the substrate and defining a light emitting region and a non-light emitting region; an encapsulation part arranged to cover the light emitting element and the bank layer, and including a flat part and an inclined part surrounding the flat part; a step difference compensation layer disposed on the inclined part to compensate for the step difference of the encapsulation part; and a touch part disposed to be in contact with the upper surface of the encapsulation part and the upper surface of the step difference compensation layer. In the outer part of the substrate, the distance between a touch electrode and a touch line and a conductive component disposed below them can be separated to a certain level.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 외곽부에서의 터치 성능을 개선할 수 있는 터치 스크린 일체형 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a touch screen-integrated display device capable of improving touch performance in an outer portion of a substrate.

전계 발광 표시 장치는 자체 발광형 표시 장치로서, 액정 표시 장치와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조 가능하다. 또한, 전계 발광 표시 장치는 저전압 구동에 의해 소비 전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 색상 구현, 응답 속도, 시야각, 명암 대비비(contrast ratio; CR)도 우수하여, 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.The electroluminescent display device is a self-luminous display device, and unlike a liquid crystal display device, it does not require a separate light source, so it can be manufactured in a lightweight and thin form. In addition, the electroluminescent display device is not only advantageous in terms of power consumption due to low voltage driving, but also has excellent color realization, response speed, viewing angle, and contrast ratio (CR), and is being studied as a next-generation display.

전계 발광 표시 장치 중 사용자의 터치를 인식할 수 있는 터치부를 포함하는 터치 스크린 일체형 표시 장치가 있다. 터치 스크린 일체형 표시 장치는 손가락이나 펜을 이용하여 직접 정보를 입력할 수 있어, 네비게이션(navigation), 휴대용 단말기 및 가전 제품 등에 널리 적용된다.Among the electroluminescent display devices, there is a touch screen-integrated display device including a touch unit capable of recognizing a user's touch. The touch screen integrated display device can directly input information using a finger or a pen, and thus is widely applied to navigation, portable terminals, and home appliances.

이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 봉지부의 경사부 상에 단차 보상층을 배치하여, 기판 외곽부에서 터치 전극 및 터치 라인과 이들 하부에 배치되는 도전성 구성 요소 사이 간격을 일정 수준으로 이격 시킬 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to arrange a step difference compensation layer on the inclined portion of the encapsulation part, so that the distance between the touch electrode and the touch line and the conductive component disposed below them at the outer part of the substrate can be spaced apart to a certain level. It is to provide a display device with

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 터치부에서 발생할 수 있는 기생 용량을 최소화하여 터치부의 터치 성능을 개선할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device capable of improving touch performance of a touch unit by minimizing parasitic capacitance that may occur in the touch unit.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 기판, 기판 상에 배치된 발광 소자, 기판 상에 배치되고, 발광 영역 및 비발광 영역을 정의하는 뱅크층, 발광 소자 및 뱅크층을 덮도록 배치되고, 평탄부 및 평탄부를 둘러싸는 경사부를 포함하는 봉지부, 봉지부의 단차를 보상하기 위해 경사부 상에 배치되는 단차 보상층 및 봉지부의 상면 및 단차 보상층의 상면에 접하도록 배치된 터치부를 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a light emitting device disposed on the substrate, a bank layer disposed on the substrate, and a bank layer defining a light emitting region and a non-emitting region, the light emitting device and the bank layer are disposed, , an encapsulation portion including a flat portion and an inclined portion surrounding the flat portion, a step compensation layer disposed on the inclined portion to compensate for the step difference of the encapsulation portion, and an upper surface of the encapsulation portion and a touch portion disposed in contact with the upper surface of the step compensation layer .

본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치는, 복수의 서브 화소를 포함하는 기판, 복수의 서브 화소에 배치되고, 애노드, 발광층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자, 애노드의 끝단을 덮으며, 발광 영역 및 비발광 영역을 정의하는 뱅크층, 하나 이상의 무기 봉지층 및 유기 봉지층을 포함하고, 평탄한 제1 표면 및 제1 표면으로부터 연장하고, 제1 표면에 대해 경사진 제2 표면을 갖는 봉지부, 제2 표면에 의한 단차를 완화하는 단차 완화층 및 봉지부 및 단차 완화층과 접하도록 배치된 터치부를 포함한다.A display device according to another embodiment of the present invention includes a substrate including a plurality of sub-pixels, a plurality of light-emitting elements disposed on the plurality of sub-pixels, and including an anode, a light emitting layer, and a cathode, and covers the ends of the anode, and emits light An encapsulation comprising a bank layer defining regions and non-emissive regions, at least one inorganic encapsulation layer and an organic encapsulation layer, the encapsulation having a first planar surface and a second surface extending from the first surface and inclined relative to the first surface. , a step difference mitigating layer and an encapsulation part for alleviating the step difference due to the second surface, and a touch part disposed in contact with the step difference mitigating layer.

실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The specific details of the embodiment are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 봉지부 상에 단차 보상층을 배치하여, 터치부의 단차 발생 구간을 저감시킬 수 있다. According to the present invention, a step difference generating section of the touch unit can be reduced by disposing a step difference compensation layer on the encapsulation part.

본 발명은 봉지부 상에 배치된 터치부와 봉지부 하부에 배치된 도전성 구성 요소의 이격 거리를 확보하여 터치부의 성능을 개선을 개선할 수 있다.According to the present invention, the performance of the touch unit may be improved by securing a separation distance between the touch unit disposed on the encapsulation unit and the conductive component disposed under the encapsulation unit.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 발명 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 II-II'에 따른 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 4는 도 3의 IV-IV'에 따른 단면도이다.
1 is a schematic plan view of a display device according to an exemplary embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along II-II′ of FIG. 1 .
3 is a schematic plan view of a display device according to another exemplary embodiment.
4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV' of FIG. 3 .

본 발명의 이점 및 특징, 그리고, 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형상으로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them, will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different shapes, only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 면적, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 제한되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 발명 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, areas, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are illustrative and the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'include', 'have', 'consists of', etc. mentioned in the present invention are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the case in which the plural is included is included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다. In interpreting the components, it is interpreted as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between the two parts unless 'directly' is used.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.Reference to a device or layer “on” another device or layer includes any intervening layer or other device directly on or in the middle of another device.

또한 제 1, 제 2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성 요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제 2 구성 요소일 수도 있다.Also, although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout.

도면에서 나타난 각 구성의 면적 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 면적 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The area and thickness of each component shown in the drawings are shown for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the area and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be implemented independently of each other or may be implemented together in a related relationship. may be

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다. 도 2는 도 1의 II-II'에 따른 단면도이다. 도 1에서는 설명의 편의상 표시 장치(100)의 다양한 구성 요소 중 기판(101), 뱅크층(110), 유기 봉지층(152), 터치부(160), 라우팅 배선(113), 패드(PAD), 터치 패드(T- PAD) 및 단차 보상층(170)만을 도시하였다.1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along II-II′ of FIG. 1 . In FIG. 1 for convenience of explanation, among various components of the display device 100 , a substrate 101 , a bank layer 110 , an organic encapsulation layer 152 , a touch unit 160 , a routing wire 113 , and a pad (PAD) , only the touch pad (T-PAD) and the step compensation layer 170 are shown.

도 1 및 도 2를 참조하면, 기판(101)은 표시 장치(100)의 다른 구성 요소를 지지하기 위한 지지 부재로, 절연 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 기판(101)은 유리 또는 수지 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 기판(101)은 고분자 또는 폴리이미드(PI) 등과 같은 플라스틱을 포함하여 이루어질 수도 있고, 플렉서빌리티(flexibility)를 갖는 물질로 이루어질 수도 있다.1 and 2 , a substrate 101 is a support member for supporting other components of the display device 100 , and may be made of an insulating material. For example, the substrate 101 may be made of glass or resin. In addition, the substrate 101 may include a polymer or plastic such as polyimide (PI), or may be made of a material having flexibility.

기판(101)은 표시 영역(AA) 및 비표시 영역(NA)을 포함한다.The substrate 101 includes a display area AA and a non-display area NA.

표시 영역(AA)은 영상을 표시하는 영역이다. 표시 영역(AA)에는 영상을 표시하기 위한 복수의 서브 화소 및 복수의 서브 화소를 구동하기 위한 회로부가 배치될 수 있다. 회로부는 서브 화소를 구동하기 위한 다양한 박막 트랜지스터, 커패시터 및 배선 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 회로부는 구동 박막 트랜지스터, 스위칭 박막 트랜지스터, 스토리지 커패시터, 게이트 배선 및 데이터 배선 등과 같은 다양한 구성 요소로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The display area AA is an area for displaying an image. A plurality of sub-pixels for displaying an image and a circuit unit for driving the plurality of sub-pixels may be disposed in the display area AA. The circuit unit may include various thin film transistors, capacitors, and wires for driving the sub-pixels. For example, the circuit unit may include various components such as a driving thin film transistor, a switching thin film transistor, a storage capacitor, a gate line, and a data line, but is not limited thereto.

비표시 영역(NA)은 영상이 표시되지 않는 영역이다. 비표시 영역(NA)은 표시 영역(AA)의 외곽을 둘러싸도록 된다. 비표시 영역(NA)에는 표시 영역(AA)의 발광 소자(130)를 구동하기 위한 다양한 배선 및 회로 등이 배치된다. 예를 들어, 비표시 영역(NA)에는 표시 영역(AA)의 복수의 서브 화소 및 회로로 신호를 전달하기 위한 링크 배선 또는 게이트 구동부, 데이터 구동부와 같은 구동 IC 등이 배치될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The non-display area NA is an area in which an image is not displayed. The non-display area NA surrounds the periphery of the display area AA. Various wirings and circuits for driving the light emitting device 130 of the display area AA are disposed in the non-display area NA. For example, a link wire for transmitting a signal to the plurality of sub-pixels and circuits of the display area AA or a driving IC such as a gate driver or a data driver may be disposed in the non-display area NA, but this is not limited thereto. doesn't happen

보다 구체적으로, 비표시 영역(NA)에는 표시 영역(AA)의 구동을 위한 게이트 구동부 등과 같은 구동부 및 구동부와 연결되는 다양한 신호 배선이 배치될 수 있다. 게이트 구동부는 표시 영역(AA) 양 측 중 적어도 일 측의 비표시 영역(NA)에 게이트-인-패널(Gate In Panel; GIP) 방식으로 내장될 수 있다. 즉, 게이트 구동부는 표시 영역(AA)의 양 측부에 배치될 수도 있고, 표시 영역(AA) 양 측부 중 적어도 하나에만 배치될 수도 있다. More specifically, a driver such as a gate driver for driving the display area AA and various signal lines connected to the driver may be disposed in the non-display area NA. The gate driver may be embedded in the non-display area NA on at least one of both sides of the display area AA in a gate-in-panel (GIP) manner. That is, the gate driver may be disposed on both sides of the display area AA, or may be disposed on at least one of both sides of the display area AA.

비표시 영역(NA)에 패드(PAD)가 배치된다. 패드(PAD)는 표시 영역(AA)의 복수의 서브 화소 및 회로로 신호를 공급할 수 있다. 패드(PAD)는 비표시 영역(NA)에 배치되어 전원 전압, 데이터 전압 등을 표시 영역(AA)의 복수의 서브 화소 및 회로로 공급할 수 있다. 도 1 에 도시된 패드(PAD)의 개수는 예시적인 것이며, 패드(PAD)의 개수는 설계에 따라 다양하게 변경될 수 있으며, 이에 제한되지 않는다. A pad PAD is disposed in the non-display area NA. The pad PAD may supply a signal to a plurality of sub-pixels and circuits of the display area AA. The pad PAD may be disposed in the non-display area NA to supply a power voltage, a data voltage, etc. to the plurality of sub-pixels and circuits of the display area AA. The number of pads PAD shown in FIG. 1 is exemplary, and the number of pads PAD may be variously changed according to a design, but is not limited thereto.

상술한 바와 같이 패드(PAD)가 다양한 신호를 공급하기 위해 패드(PAD)에는 플렉서블 필름이 본딩될 수 있다. 예를 들어, 게이트 드라이버 IC, 데이터 드라이버 IC와 같은 구동 IC가 배치된 플렉서블 필름이 패드(PAD)에 본딩되고, 플렉서블 필름 및 패드(PAD)를 통해 다양한 신호가 복수의 서브 화소 및 회로로 공급될 수 있다. As described above, in order for the pad PAD to supply various signals, a flexible film may be bonded to the pad PAD. For example, a flexible film on which a driving IC such as a gate driver IC and a data driver IC is disposed is bonded to the pad PAD, and various signals are supplied to a plurality of sub-pixels and circuits through the flexible film and the pad PAD. can

비표시 영역(NA)에 터치 패드(T-PAD)가 배치된다. 터치 패드(T-PAD)는 터치부(160)를 구동하기 위한 구동 신호를 터치부(160)로 공급할 수도 있고, 터치부(160)에서 감지된 터치 신호를 외부로 전달할 수도 있다. 이에, 터치 패드(T-PAD)에는 터치부(160)를 구동하기 위한 플렉서블 필름이 본딩될 수 있다. A touch pad T-PAD is disposed in the non-display area NA. The touch pad T-PAD may supply a driving signal for driving the touch unit 160 to the touch unit 160 , or may transmit a touch signal sensed by the touch unit 160 to the outside. Accordingly, a flexible film for driving the touch unit 160 may be bonded to the touch pad T-PAD.

도 1에서는 비표시 영역(NA)이 표시 영역(AA)을 둘러싸는 것으로 도시되어 있으나, 비표시 영역(NA)은 표시 영역(AA)의 일측에서 연장된 영역일 수도 있으며, 이에 제한되지 않는다.1 illustrates that the non-display area NA surrounds the display area AA, the non-display area NA may be an area extending from one side of the display area AA, but is not limited thereto.

기판(101)의 표시 영역(AA)에 복수의 서브 화소가 배치된다. 복수의 서브 화소 각각은 빛을 발광하는 개별 단위로, 복수의 서브 화소 각각에는 발광 소자(130) 및 구동 회로가 형성된다. 예를 들어, 복수의 서브 화소는 적색 서브 화소, 녹색 서브 화소 및 청색 서브 화소를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않고 복수의 서브 화소는 백색 서브 화소를 더 포함할 수도 있다.A plurality of sub-pixels are disposed in the display area AA of the substrate 101 . Each of the plurality of sub-pixels is an individual unit emitting light, and a light emitting device 130 and a driving circuit are formed in each of the plurality of sub-pixels. For example, the plurality of sub-pixels may include a red sub-pixel, a green sub-pixel, and a blue sub-pixel, but is not limited thereto, and the plurality of sub-pixels may further include a white sub-pixel.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는 기판(101), 박막 트랜지스터(120), 평탄화층(107), 발광 소자(130), 뱅크층(110), 댐(190), 봉지부(150), 라우팅 배선(113), 터치부(160) 및 단차 보상층(170)을 포함한다.1 and 2 , a display device 100 according to an exemplary embodiment includes a substrate 101 , a thin film transistor 120 , a planarization layer 107 , a light emitting device 130 , and a bank layer 110 . ), a dam 190 , an encapsulation unit 150 , a routing wire 113 , a touch unit 160 , and a step difference compensation layer 170 .

도 2를 참조하면, 기판(101)은 표시 장치(100)의 여러 구성 요소들을 지지하고 보호하기 위한 기판이다. 기판(101)은 유리, 또는 플렉서빌리티(flexibility)를 갖는 플라스틱 물질로 이루어질 수 있다. 기판(101)이 플라스틱 물질로 이루어지는 경우, 예를 들어, 폴리이미드(polyimide; PI)로 이루어질 수 있다. 그러나, 이에 제한되는 것은 아니다.Referring to FIG. 2 , a substrate 101 is a substrate for supporting and protecting various components of the display device 100 . The substrate 101 may be made of glass or a plastic material having flexibility. When the substrate 101 is made of a plastic material, it may be made of, for example, polyimide (PI). However, it is not limited thereto.

기판(101) 상에 버퍼층(103)이 배치된다. 버퍼층(103)은 버퍼층(103) 상에 형성되는 층들과 기판(101) 간의 접착력을 향상시키고, 기판(101)으로부터 유출되는 알칼리 성분 등을 차단할 수 있다. 버퍼층(103)은 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx) 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 버퍼층(103)은 기판(101)의 종류 및 물질, 박막 트랜지스터(120)의 구조 및 타입 등에 기초하여 생략될 수도 있다.A buffer layer 103 is disposed on the substrate 101 . The buffer layer 103 may improve adhesion between the layers formed on the buffer layer 103 and the substrate 101 , and may block alkali components leaking from the substrate 101 . The buffer layer 103 may be formed of a single layer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) or a multi-layer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), but is not limited thereto. The buffer layer 103 may be omitted based on the type and material of the substrate 101 , the structure and type of the thin film transistor 120 , and the like.

기판(101) 및 버퍼층(103) 상에 박막 트랜지스터(120)가 배치된다. 박막 트랜지스터(120)는 표시 장치(100)의 구동 소자로 사용될 수 있다. 박막 트랜지스터(120)는 게이트 전극(121), 액티브층(122), 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서 박막 트랜지스터(120)는 게이트 전극(121) 상에 액티브층(122)이 배치되고, 액티브층(122) 상에 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)이 배치된 구조로, 게이트 전극(121)이 가장 하부에 배치된 바텀 게이트(bottom gate) 구조의 박막 트랜지스터이나 이에 제한되는 것은 아니다.The thin film transistor 120 is disposed on the substrate 101 and the buffer layer 103 . The thin film transistor 120 may be used as a driving element of the display device 100 . The thin film transistor 120 includes a gate electrode 121 , an active layer 122 , a source electrode 123 , and a drain electrode 124 . In the display device 100 according to an embodiment of the present invention, in the thin film transistor 120 , an active layer 122 is disposed on a gate electrode 121 , and a source electrode 123 and a drain are disposed on the active layer 122 . As a structure in which the electrode 124 is disposed, the thin film transistor having a bottom gate structure in which the gate electrode 121 is disposed at the bottom, but is not limited thereto.

박막 트랜지스터(120)의 게이트 전극(121)은 기판(101) 및 버퍼층(103) 상에 배치된다. 게이트 전극(121)은 다양한 금속 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 및 구리(Cu) 중 어느 하나이거나 둘 이상의 합금, 또는 이들의 다중층일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The gate electrode 121 of the thin film transistor 120 is disposed on the substrate 101 and the buffer layer 103 . The gate electrode 121 may be formed of various metal materials, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and It may be any one of copper (Cu), an alloy of two or more, or a multilayer thereof, but is not limited thereto.

게이트 전극(121) 상에 게이트 절연층(105)이 배치된다. 게이트 절연층(105)은 게이트 전극(121)과 액티브층(122)을 전기적으로 절연시키기 위한 층으로, 절연 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 게이트 절연층(105)은 무기물인 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A gate insulating layer 105 is disposed on the gate electrode 121 . The gate insulating layer 105 is a layer for electrically insulating the gate electrode 121 and the active layer 122 and may be made of an insulating material. For example, the gate insulating layer 105 may be formed of a single layer of inorganic silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) or a multilayer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), but is limited thereto. it is not going to be

게이트 절연층(105) 상에 액티브층(122)이 배치된다. 액티브층(122)은 게이트 전극(121)과 중첩하도록 배치된다. 예를 들어, 액티브층(122)은 산화물 반도체로 형성될 수도 있고, 비정질 실리콘(amorphous silicon, a-Si), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon, poly-Si), 또는 유기물(organic) 반도체 등으로 형성될 수 있다. An active layer 122 is disposed on the gate insulating layer 105 . The active layer 122 is disposed to overlap the gate electrode 121 . For example, the active layer 122 may be formed of an oxide semiconductor, amorphous silicon (a-Si), polycrystalline silicon (poly-Si), or an organic semiconductor. can

액티브층(122) 상에 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)이 배치된다. 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)은 동일 층에서 이격되어 배치된다. 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)은 액티브층(122)과 접하는 방식으로 액티브층(122)과 전기적으로 연결될 수 있다. 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124)은 다양한 금속 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 및 구리(Cu) 중 어느 하나이거나 둘 이상의 합금, 또는 이들의 다중층일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다A source electrode 123 and a drain electrode 124 are disposed on the active layer 122 . The source electrode 123 and the drain electrode 124 are spaced apart from each other on the same layer. The source electrode 123 and the drain electrode 124 may be electrically connected to the active layer 122 in a manner in contact with the active layer 122 . The source electrode 123 and the drain electrode 124 may be formed of various metal materials, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), It may be any one of neodymium (Nd) and copper (Cu), an alloy of two or more thereof, or a multilayer thereof, but is not limited thereto.

박막 트랜지스터(120) 상에 패시베이션층(109)이 배치된다. 패시베이션층(109)은 무기물인 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 패시베이션층(109)은 비표시 영역(NA)으로 연장되어 비표시 영역(NA)에 배치된 다양한 배선을 덮을 수 있다. 다만, 패시베이션층(109)은 박막 트랜지스터(120)의 구조 및 타입 등에 기초하여 생략될 수도 있다.A passivation layer 109 is disposed on the thin film transistor 120 . The passivation layer 109 may be formed of a single layer of inorganic silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) or a multilayer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), but is not limited thereto. The passivation layer 109 may extend to the non-display area NA to cover various wirings disposed in the non-display area NA. However, the passivation layer 109 may be omitted based on the structure and type of the thin film transistor 120 .

박막 트랜지스터(120) 상에 평탄화층(107)이 배치된다. 평탄화층(107)은 기판(101)의 일부 영역의 상부를 평탄화시킨다. 예를 들어, 평탄화층(107)은 표시 영역(AA)에 배치될 수 있고, 평탄화층(107)은 비표시 영역(NA)의 전체 또는 일부 영역에 배치되지 않을 수 있다.A planarization layer 107 is disposed on the thin film transistor 120 . The planarization layer 107 planarizes an upper portion of a partial region of the substrate 101 . For example, the planarization layer 107 may be disposed in the display area AA, and the planarization layer 107 may not be disposed in all or part of the non-display area NA.

평탄화층(107)은 단층 또는 복층으로 구성될 수 있으며, 유기물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 평탄화층(107)은 아크릴(acryl)계 유기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 평탄화층(107)은 박막 트랜지스터(120)와 발광 소자(130)를 전기적으로 연결시키기 위한 컨택홀을 포함한다.The planarization layer 107 may be composed of a single layer or a multilayer, and may be made of an organic material. For example, the planarization layer 107 may be formed of an acryl-based organic material, but is not limited thereto. The planarization layer 107 includes a contact hole for electrically connecting the thin film transistor 120 and the light emitting device 130 .

평탄화층(107) 상에 발광 소자(130)가 배치된다. 발광 소자(130)는 광을 발광하는 자발광 소자로, 박막 트랜지스터(120) 등으로부터 전압을 공급받아 구동될 수 있다. 발광 소자(130)는 애노드(131), 발광층(132) 및 캐소드(133)를 포함한다.The light emitting device 130 is disposed on the planarization layer 107 . The light emitting device 130 is a self-emitting device that emits light, and may be driven by receiving a voltage from the thin film transistor 120 or the like. The light emitting device 130 includes an anode 131 , a light emitting layer 132 , and a cathode 133 .

애노드(131)는 평탄화층(107) 상에서 각각의 서브 화소 별로 분리되어 배치된다. 애노드(131)는 평탄화층(107)에 형성된 컨택홀을 통해 박막 트랜지스터(120)에 전기적으로 연결된다. 애노드(131)는 발광층(132)에 정공을 공급할 수 있는 도전성 물질로 이루어진다. 예를 들어, 애노드(131)는 주석 산화물(Tin Oxide; TO), 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide; ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide; IZO), 인듐 주석 아연 산화물(Indium Zinc Tin Oxide; ITZO) 등과 같은 투명 도전성 물질 및 은(Ag), 은 합금(Ag alloy)과 같은 반사성이 우수한 물질로 이루어지는 반사층으로 이루어질 수 있으며, 이에 제한되지 않는다.The anode 131 is disposed separately for each sub-pixel on the planarization layer 107 . The anode 131 is electrically connected to the thin film transistor 120 through a contact hole formed in the planarization layer 107 . The anode 131 is made of a conductive material capable of supplying holes to the emission layer 132 . For example, the anode 131 may include tin oxide (TO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or indium tin oxide (Indium Zinc Tin Oxide; ITO); ITZO) and the like, and a reflective layer made of a material having excellent reflectivity such as silver (Ag) or a silver alloy (Ag alloy), but is not limited thereto.

애노드(131) 및 평탄화층(107) 상에 뱅크층(110)이 배치된다. 뱅크층(110)은 서로 인접한 서브 화소를 구분하기 위한 절연층이다. 뱅크층(110)은 애노드(131)의 일부를 개구시키도록 배치될 수 있으며, 뱅크층(110)은 애노드(131)의 엣지를 덮도록 배치된 유기 절연 물질일 수 있다.A bank layer 110 is disposed on the anode 131 and the planarization layer 107 . The bank layer 110 is an insulating layer for separating adjacent sub-pixels. The bank layer 110 may be disposed to open a portion of the anode 131 , and the bank layer 110 may be formed of an organic insulating material disposed to cover an edge of the anode 131 .

애노드(131) 상에 발광층(132)이 배치된다. 발광층(132)은 하나의 발광층(132)으로 구성될 수도 있고, 서로 다른 색의 광을 발광하는 복수의 발광층(132)이 적층된 구조일 수 있다. 발광층(132)은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층을 더 포함할 수 있다. 도 2를 참조하면, 발광층(132)은 각각의 서브 화소에 분리되어 배치된 것으로 도시되어 있으나, 이에 제한되지 않고, 전체 서브 화소에 걸쳐 하나의 층으로 배치될 수도 있다. 또한, 발광층(132)은 유기물로 이루어지는 유기 발광층일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. A light emitting layer 132 is disposed on the anode 131 . The light emitting layer 132 may be composed of one light emitting layer 132 , or may have a structure in which a plurality of light emitting layers 132 emitting light of different colors are stacked. The emission layer 132 may further include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. Referring to FIG. 2 , the emission layer 132 is illustrated as being separately disposed in each sub-pixel, but the present invention is not limited thereto, and may be disposed as one layer over the entire sub-pixel. In addition, the emission layer 132 may be an organic emission layer made of an organic material, but is not limited thereto.

발광층(132) 상에 캐소드(133)가 배치된다. 캐소드(133)는 발광층(132)에 전자를 공급할 수 있는 도전성 물질로 이루어진다. 예를 들어, 캐소드(133)는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 마그네슘-은 합금(MgAg) 등과 같은 금속 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 캐소드(133)는 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zin Oxide, IZO), 인듐 주석 아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), 아연 산화물(Zinc Oxide, ZnO) 및 주석 산화물(Tin Oxide, TO) 계열의 투명 도전성 산화물 또는 이테르븀(Yb) 합금으로 이루어질 수 있으며, 이에 제한되지 않는다. 도 2를 참조하면, 각각의 서브 화소에 배치된 캐소드(133)는 서로 연결된 것으로 도시되어 있으나, 애노드(131)와 같이 서브 화소 별로 분리되어 배치될 수도 있으며, 이에 제한되지 않는다.A cathode 133 is disposed on the emission layer 132 . The cathode 133 is made of a conductive material capable of supplying electrons to the emission layer 132 . For example, the cathode 133 may be formed of a metal material such as copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), magnesium-silver alloy (MgAg), or the like. In addition, the cathode 133 is indium tin oxide (Indium Tin Oxide, ITO), indium zinc oxide (Indium Zin Oxide, IZO), indium tin zinc oxide (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), zinc oxide (Zinc Oxide, ZnO) and a tin oxide (TO)-based transparent conductive oxide or a ytterbium (Yb) alloy, but is not limited thereto. Referring to FIG. 2 , the cathode 133 disposed in each sub-pixel is illustrated as being connected to each other, but may be disposed separately for each sub-pixel like the anode 131 , but is not limited thereto.

캐소드(133)가 각각의 서브 화소에서 연결되어 배치된 경우, 캐소드(133)는 비표시 영역(NA) 외곽부에 배치될 수 있다. 이때, 캐소드(133)는 기판(101) 외곽부에 배치된 평탄화층(107)의 상면 및 측면을 덮도록 배치된 연결 전극(112)을 통해 기판(101) 상에 배치된 전원 배선(114)과 접할 수 있다.When the cathode 133 is disposed to be connected in each sub-pixel, the cathode 133 may be disposed outside the non-display area NA. At this time, the cathode 133 is a power wiring 114 disposed on the substrate 101 through the connection electrode 112 disposed to cover the top and side surfaces of the planarization layer 107 disposed on the outer portion of the substrate 101 . can be contacted with

표시 영역(AA)은 복수의 발광 영역(EA) 및 복수의 발광 영역(EA) 사이의 비발광 영역(NEA)을 포함 수 있다. The display area AA may include a plurality of light emitting areas EA and a non-emission area NEA between the plurality of light emitting areas EA.

복수의 발광 소자(130) 각각이 배치된 영역은 복수의 발광 영역(EA)일 수 있다. 복수의 발광 영역(EA) 각각은 독립적으로 한가지 색의 광을 발광할 수 있는 영역으로, 복수의 서브 화소에 대응되는 영역일 수 있고, 뱅크층(110)이 배치되지 않은 영역일 수 있다. 예를 들어, 복수의 발광 영역(EA)은 적색 발광 영역, 녹색 발광 영역 및 청색 발광 영역을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 복수의 발광 영역(EA)은 서로 이격되어 배치될 수 있고, 예를 들어, 행 방향 및 열 방향으로 배열되는 격자 형태로 배치될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.An area in which each of the plurality of light emitting devices 130 is disposed may be a plurality of light emitting areas EA. Each of the plurality of light emitting areas EA may independently emit light of one color, and may correspond to a plurality of sub-pixels or may be an area in which the bank layer 110 is not disposed. For example, the plurality of light emitting areas EA may include a red light emitting area, a green light emitting area, and a blue light emitting area, but is not limited thereto. The plurality of light emitting areas EA may be disposed to be spaced apart from each other, for example, may be disposed in a grid shape arranged in a row direction and a column direction, but is not limited thereto.

복수의 발광 소자(130)가 배치되지 않은 영역은 비발광 영역(NEA)일 수 있다. 비발광 영역(NEA)은 복수의 발광 영역(EA) 사이에 배치된 영역으로, 뱅크층(110)이 배치된 영역일 수 있다. 비발광 영역(NEA)은 복수의 발광 영역(EA)을 둘러싸도록 배치되므로, 메쉬(mesh) 형태로 이루어질 수 있다.An area in which the plurality of light emitting devices 130 is not disposed may be a non-emission area NEA. The non-emission area NEA is an area disposed between the plurality of light emitting areas EA, and may be an area in which the bank layer 110 is disposed. Since the non-emission area NEA is disposed to surround the plurality of light emitting areas EA, it may have a mesh shape.

발광 소자(130) 상에 봉지부(150)가 배치된다. 봉지부(150)는 발광 소자(130)를 외부의 수분, 산소, 충격 등으로부터 보호하는 밀봉 부재이다. 봉지부(150)는 발광 소자(130)가 배치된 표시 영역(AA) 전체를 덮도록 배치될 수 있고, 봉지부(150)는 표시 영역(AA)으로부터 연장된 비표시 영역(NA)의 일부까지 덮도록 배치될 수 있다. 이에, 봉지부(150)는 표시 영역(AA)에 배치된 발광 소자(130) 및 뱅크층(110)을 덮도록 배치될 수 있다. The encapsulation unit 150 is disposed on the light emitting device 130 . The encapsulation unit 150 is a sealing member that protects the light emitting device 130 from external moisture, oxygen, impact, and the like. The encapsulation unit 150 may be disposed to cover the entire display area AA in which the light emitting device 130 is disposed, and the encapsulation unit 150 may be a portion of the non-display area NA extending from the display area AA. It can be arranged to cover up to Accordingly, the encapsulation unit 150 may be disposed to cover the light emitting device 130 and the bank layer 110 disposed in the display area AA.

봉지부(150)는 평탄한 형상의 평탄부(150b) 및 평탄부(150b)를 둘러싸는 경사부(150a)를 포함한다. 예를 들어, 봉지부(150)는 표시 영역(AA) 및 비표시 영역(NA) 일부에서 평탄한 표면인 제1 표면을 갖는 평탄부(150b)를 포함하고, 제1 표면으로부터 연장하고 제1 표면에 대해 경사진 제2 표면을 갖는 경사부(150a)를 가질 수 있다. 이때, 경사부(150a)는 기판(101) 외곽 방향으로 경사질 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이 봉지부(150)의 외곽 영역인 경사부(150a)에서 단차가 발생할 수 있다. 이때, 상대적으로 두께가 두꺼운 뱅크층(110)이 배치되지 않기 시작하는 영역인 뱅크층(110)의 끝단이 배치된 영역부터 봉지부(150)의 단차가 발생할 수 있다. 이에, 제1 표면과 제2 표면의 경계는 뱅크층(110)의 끝단과 중첩할 수 있으므로, 평탄부(150b)는 뱅크층(110)과 중첩하는 봉지부(150)의 부분으로 정의될 수 있고, 경사부(150a)는 뱅크층과 중첩하지 않는 봉지부(150)의 부분으로 정의될 수도 있다.The encapsulation unit 150 includes a flat portion 150b having a flat shape and an inclined portion 150a surrounding the flat portion 150b. For example, the encapsulation part 150 includes a flat part 150b having a first surface that is a flat surface in a portion of the display area AA and the non-display area NA, and extends from the first surface and extends from the first surface. It may have an inclined portion 150a having a second surface inclined with respect to . In this case, the inclined portion 150a may be inclined in an outer direction of the substrate 101 . For example, as shown in FIG. 2 , a step may occur in the inclined portion 150a that is an outer region of the encapsulation portion 150 . At this time, a step difference may occur in the encapsulation unit 150 from a region where the end of the bank layer 110 is disposed, which is a region where the relatively thick bank layer 110 is not disposed. Accordingly, since the boundary between the first surface and the second surface may overlap the end of the bank layer 110 , the flat portion 150b may be defined as a portion of the encapsulation portion 150 overlapping the bank layer 110 . Also, the inclined portion 150a may be defined as a portion of the encapsulation portion 150 that does not overlap the bank layer.

봉지부(150)는 무기물로 이루어진 제1 무기 봉지층(151), 제1 무기 봉지층(151) 상에 배치되고 유기물로 이루어진 유기 봉지층(152) 및 유기 봉지층(152) 상에 배치된 제2 무기 봉지층(153)을 포함할 수 있다. The encapsulation unit 150 is disposed on the first inorganic encapsulation layer 151 and the first inorganic encapsulation layer 151 made of an inorganic material, and is disposed on the organic encapsulation layer 152 and the organic encapsulation layer 152 made of an organic material. A second inorganic encapsulation layer 153 may be included.

제1 무기 봉지층(151)은 하부에 배치된 뱅크층(110) 및 발광 소자(130)를 따라 배치된다. 이에, 제1 무기 봉지층(151)은 표시 영역(AA)을 밀봉하여 표시 영역(AA)으로 침투하는 산소 및 수분으로부터 발광 소자(130)를 보호한다. 제1 무기 봉지층(151)은 표시 영역(AA)만이 아니라, 표시 영역(AA)으로부터 연장된 비표시 영역(NA)에까지 배치될 수 있다. 제1 무기 봉지층(151)은 무기물로 이루어지며, 예를 들어, 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화질화물(SiON) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The first inorganic encapsulation layer 151 is disposed along the bank layer 110 and the light emitting device 130 disposed below. Accordingly, the first inorganic encapsulation layer 151 seals the display area AA to protect the light emitting device 130 from oxygen and moisture penetrating into the display area AA. The first inorganic encapsulation layer 151 may be disposed not only in the display area AA but also in the non-display area NA extending from the display area AA. The first inorganic encapsulation layer 151 may be formed of an inorganic material, for example, may be formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxynitride (SiON), but is not limited thereto.

제1 무기 봉지층(151) 상에 유기 봉지층(152)이 배치된다. 유기 봉지층(152)은 제1 무기 봉지층(151) 상부를 평탄화하기 위한 층으로, 제1 무기 봉지층(151)에 발생할 수 있는 크랙을 충진하고, 제1 무기 봉지층(151) 상에 이물질이 배치되는 경우, 이물질 상부를 평탄화할 수 있다. An organic encapsulation layer 152 is disposed on the first inorganic encapsulation layer 151 . The organic encapsulation layer 152 is a layer for planarizing the upper portion of the first inorganic encapsulation layer 151 , and fills cracks that may occur in the first inorganic encapsulation layer 151 , and is formed on the first inorganic encapsulation layer 151 . When a foreign material is disposed, the upper portion of the foreign material may be planarized.

유기 봉지층(152)은 표시 영역(AA) 및 표시 영역(AA)으로부터 연장된 비표시 영역(NA)의 일부까지 배치될 수 있다.The organic encapsulation layer 152 may be disposed up to a portion of the display area AA and the non-display area NA extending from the display area AA.

유기 봉지층(152)은 표시 영역(AA) 및 비표시 영역(NA)의 일부에 배치되어 표면을 평탄화할 수 있다. 한편, 유기 봉지층(152)의 끝단은 기판(101) 방향으로 경사질 수 있다. 예를 들어, 유기 봉지층(152)은 뱅크층(110)을 덮도록 배치될 수 있으며, 뱅크층(110)의 끝단에서 발생하는 단차에 의해 기판(101) 방향으로 경사진 면을 가질 수 있다. 즉, 유기 봉지층(152)의 단차에 의해 봉지부(150)의 단차가 발생할 수 있다. 이때, 유기 봉지층(152)의 평탄한 면은 봉지부(150)의 평탄부(150b)에 위치할 수 있으며, 유기 봉지층(152)의 경사진 면은 봉지부(150)의 경사부(150a)에 위치할 수 있다. The organic encapsulation layer 152 may be disposed on a portion of the display area AA and the non-display area NA to planarize a surface thereof. Meanwhile, an end of the organic encapsulation layer 152 may be inclined toward the substrate 101 . For example, the organic encapsulation layer 152 may be disposed to cover the bank layer 110 , and may have a surface inclined toward the substrate 101 due to a step difference occurring at the end of the bank layer 110 . . That is, a step difference in the encapsulation unit 150 may occur due to a step difference in the organic encapsulation layer 152 . In this case, the flat surface of the organic encapsulation layer 152 may be positioned on the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 , and the inclined surface of the organic encapsulation layer 152 is the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . ) can be located.

유기 봉지층(152)은 에폭시(Epoxy) 계열 또는 아크릴(Acryl) 계열의 폴리머가 사용될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 유기 봉지층(152)은 약 10cP의 점도를 갖는 물질로 이루어질 수 있다.The organic encapsulation layer 152 may be an epoxy-based or acrylic-based polymer, but is not limited thereto. The organic encapsulation layer 152 may be made of a material having a viscosity of about 10 cP.

유기 봉지층(152) 상에 제2 무기 봉지층(153)이 배치된다. 제2 무기 봉지층(153)은 유기 봉지층(152)과 접하도록 배치되며 이에, 제2 무기 봉지층(153)은 유기 봉지층(152)의 표면을 따라 평탄한 형상 및 경사진 형상으로 배치될 수 있다. A second inorganic encapsulation layer 153 is disposed on the organic encapsulation layer 152 . The second inorganic encapsulation layer 153 is disposed in contact with the organic encapsulation layer 152 , and thus, the second inorganic encapsulation layer 153 may be disposed in a flat shape or an inclined shape along the surface of the organic encapsulation layer 152 . can

제2 무기 봉지층(153)은 기판(101) 외곽부에서 제1 무기 봉지층(151)과 접하는 방식으로 제1 무기 봉지층(151)과 함께 유기 봉지층(152)을 밀봉할 수 있다. 즉, 제1 무기 봉지층(151) 및 제2 무기 봉지층(153)의 끝단은 유기 봉지층(152)의 끝단보다 기판(101) 외측에 배치될 수 있다.The second inorganic encapsulation layer 153 may encapsulate the organic encapsulation layer 152 together with the first inorganic encapsulation layer 151 in a manner in which the second inorganic encapsulation layer 153 contacts the first inorganic encapsulation layer 151 at the outer portion of the substrate 101 . That is, the ends of the first inorganic encapsulation layer 151 and the second inorganic encapsulation layer 153 may be disposed outside the substrate 101 than the ends of the organic encapsulation layer 152 .

제2 무기 봉지층(153)은 무기물로 이루어지며, 예를 들어, 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화질화물(SiON) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The second inorganic encapsulation layer 153 may be formed of an inorganic material, for example, may be formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxynitride (SiON), but is not limited thereto.

도 2에서는 봉지부(150)가 제1 무기 봉지층(151), 유기 봉지층(152) 및 제2 무기 봉지층(153)을 포함하는 것으로 도시하였으나, 봉지부(150)에 포함되는 무기 봉지층의 개수 및 유기 봉지층의 개수는 이에 제한되지 않는다.In FIG. 2 , the encapsulation unit 150 includes the first inorganic encapsulation layer 151 , the organic encapsulation layer 152 , and the second inorganic encapsulation layer 153 , but the inorganic encapsulation unit included in the encapsulation unit 150 . The number of layers and the number of organic encapsulation layers are not limited thereto.

봉지부(150) 상에 단차 보상층(170)이 배치된다. 단차 보상층(170)은 기판(101) 외곽부에 배치된다. A step compensation layer 170 is disposed on the encapsulation unit 150 . The step compensation layer 170 is disposed on the outer portion of the substrate 101 .

단차 보상층(170)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)에서 연장되는, 평탄한 상면을 가질 수 있다. 이때, 단차 보상층(170)은 봉지부(150)의 경사부(150a)와 중첩하도록 배치될 수 있다. 이에, 단차 보상층(170)은 봉지부(150)의 경사부(150a)에서 발생하는 단차를 보상할 수 있다. 즉, 단차 보상층(170)은 제2 표면에 의한 단차를 완화할 수 있으므로, 단차 완화층으로 지칭될 수도 있다. 이때, 단차 보상층(170)의 끝단은 뱅크층(110)의 끝단과 중첩하도록 배치될 수 있다. 즉, 단차 보상층(170)의 상면과 봉지부(150)의 상면이 만나는 영역은 뱅크층(110)의 끝단과 중첩할 수 있다. The step compensation layer 170 may have a flat top surface extending from the flat part 150b of the encapsulation part 150 . In this case, the step compensation layer 170 may be disposed to overlap the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . Accordingly, the step difference compensation layer 170 may compensate for the step difference occurring in the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . That is, the step difference compensating layer 170 may relieve a step difference due to the second surface, and thus may be referred to as a step difference alleviating layer. In this case, the end of the step compensation layer 170 may be disposed to overlap the end of the bank layer 110 . That is, a region where the top surface of the step compensation layer 170 and the top surface of the encapsulation unit 150 meet may overlap the end of the bank layer 110 .

단차 보상층(170)은 기판(101) 외곽부에서 기판(101)과 경사를 이루며 배치될 수 있다. 이때, 기판(101) 외곽부에서 단차 보상층(170)의 표면이 기판(101)과 이루는 각도는 봉지부(150)의 경사부(150a)의 표면이 기판(101)과 이루는 각도보다 클 수 있다. The step compensation layer 170 may be disposed on the outer portion of the substrate 101 to form an inclination with the substrate 101 . In this case, the angle between the surface of the step compensation layer 170 and the substrate 101 in the outer portion of the substrate 101 may be greater than the angle between the surface of the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 and the substrate 101 . have.

단차 보상층(170)은 유기물로 이루어질 수 있다. 단차 보상층(170)은, 예를 들어, 실리콘옥시카본(SiOxCz), 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진(Resin) 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The step compensation layer 170 may be made of an organic material. The step compensation layer 170 may be made of, for example, silicon oxycarbon (SiOxCz), acrylic, or epoxy-based resin, but is not limited thereto.

단차 보상층(170)의 점도는 유기 봉지층(152)의 점도보다 높을 수 있다. 단차 보상층(170)은 봉지부(150)의 경사부(150a)에 의해 발생하는 단차를 보상하기 위해 단차를 발생시키는 유기 봉지층(152)의 점도보다 높은 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 유기 봉지층(152)이 약 10cP의 점도를 갖는 물질로 이루어진다면, 단차 보상층(170)은 약 1,000cP 내지 10,000cP의 점도를 갖는 물질로 이루어질 수 있다.The viscosity of the step compensation layer 170 may be higher than that of the organic encapsulation layer 152 . The step compensation layer 170 may be made of a material having a higher viscosity than that of the organic encapsulation layer 152 that generates the step in order to compensate for the step generated by the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . For example, if the organic encapsulation layer 152 is made of a material having a viscosity of about 10 cP, the step compensation layer 170 may be made of a material having a viscosity of about 1,000 cP to 10,000 cP.

비표시 영역(NA)에서 기판(101) 상에 댐(190)이 배치된다. 댐(190)은 표시 영역(AA)을 덮도록 배치되는 유기물의 퍼짐을 제어하기 위해 배치된다. 예를 들어, 댐(190)은 기판(101) 외곽부와 표시 영역(AA) 사이에 배치되어 유기물로 구성된 물질의 형상을 제어하여 유기물로 구성된 물질의 오버플로우(overflow)를 억제할 수 있다. 댐(190)은 하나 이상 구성할 수 있으며, 배치되는 댐의 수에 제한되는 것은 아니다. A dam 190 is disposed on the substrate 101 in the non-display area NA. The dam 190 is disposed to control the spread of the organic material disposed to cover the display area AA. For example, the dam 190 may be disposed between the outer portion of the substrate 101 and the display area AA to control the shape of the material made of the organic material to suppress the overflow of the material made of the organic material. One or more dams 190 may be configured, and the number of dams to be disposed is not limited.

댐(190)은 유기물로 이루어질 수 있다. 댐(190)은, 예를 들어, 아크릴(acryl)계 유기 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 또한, 댐(190)은 평탄화층(107) 및/또는 뱅크층(110)과 동일한 공정에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 댐(190)은 단일의 층으로 구성될 수도 있고, 복수의 층으로 구성될 수도 있다.The dam 190 may be made of an organic material. The dam 190 may be made of, for example, an acryl-based organic material, but is not limited thereto. In addition, the dam 190 may be formed of the same material in the same process as the planarization layer 107 and/or the bank layer 110 , but is not limited thereto. In addition, the dam 190 may be composed of a single layer or may be composed of a plurality of layers.

도 2를 참조하면, 댐(190)은 제1 댐(191) 및 제2 댐(192)을 포함한다. Referring to FIG. 2 , the dam 190 includes a first dam 191 and a second dam 192 .

제1 댐(191)은 표시 영역(AA)과 인접하는 영역에 배치된다. 제1 댐(191)은 유기 봉지층(152)의 끝단을 기준으로 기판(101) 외측에 배치된다. 이에, 제1 댐(191)은 유기 봉지층(152)의 오버플로우를 저지할 수 있다. 도 2에서는 제1 댐(191)이 2개인 것으로 도시되었으나, 제1 댐(191)의 개수는 이에 제한되지 않는다.The first dam 191 is disposed in an area adjacent to the display area AA. The first dam 191 is disposed outside the substrate 101 with respect to the end of the organic encapsulation layer 152 . Accordingly, the first dam 191 may prevent the organic encapsulation layer 152 from overflowing. Although it is illustrated that there are two first dams 191 in FIG. 2 , the number of first dams 191 is not limited thereto.

제1 댐(191)은 비표시 영역(NA)에 배치된 제1 무기 봉지층(151) 및 제2 무기 봉지층(153) 하부에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 무기 봉지층(151)은 제1 댐(191)의 상면 및 측면과 접하도록 배치될 수 있고, 제2 무기 봉지층(153)은 제1 무기 봉지층(151) 상에 제1 무기 봉지층(151)과 접하도록 배치될 수 있다. The first dam 191 may be disposed under the first inorganic encapsulation layer 151 and the second inorganic encapsulation layer 153 disposed in the non-display area NA. Specifically, the first inorganic encapsulation layer 151 may be disposed to contact the top and side surfaces of the first dam 191 , and the second inorganic encapsulation layer 153 is formed on the first inorganic encapsulation layer 151 . 1 It may be disposed to be in contact with the inorganic encapsulation layer 151 .

제2 댐(192)은 봉지부(150)의 최상층 상에서 제1 댐(191) 외측에 배치된다. 제2 댐(192)은 단차 보상층(170)의 끝단을 기준으로 기판(101) 외측에 배치된다. 이때, 제2 댐(192)은 제1 댐(191) 보다 기판(101) 외측에 배치될 수 있다. 즉, 제2 댐(192)은 제2 무기 봉지층(153) 상에서 제1 댐(191)보다 외측에 배치될 수 있다. 이에, 제2 댐(192)은 단차 보상층(170)의 오버플로우를 저지할 수 있다. The second dam 192 is disposed outside the first dam 191 on the uppermost layer of the encapsulation unit 150 . The second dam 192 is disposed outside the substrate 101 with respect to the end of the step compensation layer 170 . In this case, the second dam 192 may be disposed outside the substrate 101 than the first dam 191 . That is, the second dam 192 may be disposed outside the first dam 191 on the second inorganic encapsulation layer 153 . Accordingly, the second dam 192 may prevent the step difference compensation layer 170 from overflowing.

제2 댐(192)의 높이는 제1 댐(191)의 높이보다 높을 수 있다. 이에, 제2 댐(192)은 기판(101)과 큰 경사각을 이루도록 배치된 단차 보상층(170)의 오버플로우를 용이하게 저지할 수 있다. The height of the second dam 192 may be higher than the height of the first dam 191 . Accordingly, the second dam 192 may easily prevent overflow of the step compensation layer 170 disposed to form a large inclination angle with the substrate 101 .

봉지부(150) 및 단차 보상층(170) 상에 터치부(160)가 배치된다. 터치부(160)는 발광 소자(130)를 포함하는 표시 영역(AA)에 배치되어 터치 입력을 센싱할 수 있다. 터치부(160)는 사용자의 손가락 또는 터치펜 등을 이용한 외부의 터치 정보를 감지할 수 있다. 터치부(160)는 제1 무기 절연층(161), 제2 무기 절연층(162), 유기 절연층(163), 터치 라인(164) 및 터치 전극(165)을 포함한다.The touch unit 160 is disposed on the encapsulation unit 150 and the step difference compensation layer 170 . The touch unit 160 may be disposed in the display area AA including the light emitting device 130 to sense a touch input. The touch unit 160 may sense external touch information using a user's finger or a touch pen. The touch unit 160 includes a first inorganic insulating layer 161 , a second inorganic insulating layer 162 , an organic insulating layer 163 , a touch line 164 , and a touch electrode 165 .

봉지부(150) 및 단차 보상층(170) 상에 제1 무기 절연층(161)이 배치된다. 제1 무기 절연층(161)은 봉지부(150) 및 단차 보상층(170) 상에 접한다. 이에, 제1 무기 절연층(161)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)의 제1 표면 및 단차 보상층(170)의 상면을 따라 평탄한 형상으로 배치될 수 있다. 제1 무기 절연층(161)은 무기물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화질화물(SiON) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A first inorganic insulating layer 161 is disposed on the encapsulation unit 150 and the step difference compensation layer 170 . The first inorganic insulating layer 161 is in contact with the encapsulation part 150 and the step difference compensation layer 170 . Accordingly, the first inorganic insulating layer 161 may be disposed in a flat shape along the first surface of the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 170 . The first inorganic insulating layer 161 may be formed of an inorganic material. For example, it may be made of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxynitride (SiON), but is not limited thereto.

제1 무기 절연층(161) 상에 터치 라인(164)이 배치된다. 이에, 터치 라인(164)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)의 제1 표면 및 단차 보상층(170)의 상면을 따라 평탄한 형상으로 배치될 수 있다. 터치 라인(164)은 제1 무기 절연층(161) 상에서, 비발광 영역(NEA)에 배치된다. 터치 라인(164)은 행 방향 또는 열 방향으로 배치될 수 있다. 터치 라인(164)은 터치부(160)를 구동하기 위한 터치 구동 신호를 공급할 수 있다. 또한, 터치 라인(164)은 터치부(160)에서 감지한 터치 정보를 구동 IC로 전달할 수 있다. A touch line 164 is disposed on the first inorganic insulating layer 161 . Accordingly, the touch line 164 may be disposed in a flat shape along the first surface of the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 170 . The touch line 164 is disposed in the non-emission area NEA on the first inorganic insulating layer 161 . The touch line 164 may be disposed in a row direction or a column direction. The touch line 164 may supply a touch driving signal for driving the touch unit 160 . Also, the touch line 164 may transmit touch information sensed by the touch unit 160 to the driving IC.

터치 라인(164) 및 제1 무기 절연층(161) 상에 제2 무기 절연층(162)이 배치된다. 제2 무기 절연층(162)은 인접하게 배치된 터치 라인(164)의 단락을 방지할 수 있다. 제2 무기 절연층(162)은 무기물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화질화물(SiON) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A second inorganic insulating layer 162 is disposed on the touch line 164 and the first inorganic insulating layer 161 . The second inorganic insulating layer 162 may prevent short-circuiting of the adjacent touch lines 164 . The second inorganic insulating layer 162 may be formed of an inorganic material. For example, it may be made of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxynitride (SiON), but is not limited thereto.

터치 라인(164) 및 제2 무기 절연층(162) 상에 터치 전극(165)이 배치된다. 이에, 터치 전극(165)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)의 제1 표면 및 단차 보상층(170)의 상면을 따라 평탄한 형상으로 배치될 수 있다. 터치 전극(165)은 행 방향 및 열 방향으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 박막 트랜지스터(120)와 행 방향 또는 열 방향 중 어느 한 방향으로 배치된 터치 전극(165)은 터치 라인(164) 상부에 배치될 수 있고, 행 방향 또는 열 방향 중 나머지 한 방향으로 배치된 터치 전극(165)은 제2 무기 절연층(162) 상에 배치될 수 있다. 열 방향으로 배치된 터치 전극(165)과 행 방향으로 배치된 터치 전극(165)은 브릿지 전극을 통해 서로 연결되어 메쉬 형태의 구조를 가질 수 있다. 이러한 터치 라인(164)과 터치 전극(165)의 교차부에는 상호 정전 용량(mutual capacitance, Cm)이 형성될 수 있다. 이에, 상호 정전 용량(Cm)의 변화로 터치 입력이 감지될 수 있다. A touch electrode 165 is disposed on the touch line 164 and the second inorganic insulating layer 162 . Accordingly, the touch electrode 165 may be disposed in a flat shape along the first surface of the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 170 . The touch electrodes 165 may be disposed in a row direction and a column direction. For example, the thin film transistor 120 and the touch electrode 165 disposed in any one of the row direction or the column direction may be disposed on the touch line 164 , and may be disposed on the other one of the row direction or the column direction. The disposed touch electrode 165 may be disposed on the second inorganic insulating layer 162 . The touch electrodes 165 disposed in the column direction and the touch electrodes 165 disposed in the row direction may be connected to each other through a bridge electrode to have a mesh-like structure. A mutual capacitance (Cm) may be formed at the intersection of the touch line 164 and the touch electrode 165 . Accordingly, a touch input may be sensed by a change in the mutual capacitance Cm.

비표시 영역(NA)에는 라우팅 배선(113)이 배치된다. 라우팅 배선(113)은 표시 영역(AA)의 최외곽에 배치된 터치 전극(165)을 비표시 영역(NA)에 배치된 터치 패드(T-PAD)까지 연장하여 터치 패드(T-PAD)와 터치 라인(164) 및 터치 전극(165)을 전기적으로 연결할 수 있다. 이에, 라우팅 배선(113)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)의 제1 표면 및 단차 보상층(370)의 상면을 따라 평탄한 형상으로 배치될 수 있다.A routing wire 113 is disposed in the non-display area NA. The routing wire 113 extends the touch electrode 165 disposed at the outermost portion of the display area AA to the touch pad T-PAD disposed in the non-display area NA to form a touch pad (T-PAD) and The touch line 164 and the touch electrode 165 may be electrically connected. Accordingly, the routing wiring 113 may be arranged in a flat shape along the first surface of the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 370 .

터치 전극(165) 및 제2 무기 절연층(162) 상에 유기 절연층(163)이 배치된다. 유기 절연층(163)은 터치 전극(165)의 상부를 평탄화할 수 있고, 유기 절연층(163) 하부의 구성들을 보호할 수 있다. 유기 절연층(163)은 에폭시(Epoxy) 계열 또는 아크릴(Acryl) 계열의 폴리머가 사용될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.An organic insulating layer 163 is disposed on the touch electrode 165 and the second inorganic insulating layer 162 . The organic insulating layer 163 may planarize an upper portion of the touch electrode 165 and may protect components under the organic insulating layer 163 . The organic insulating layer 163 may be an epoxy-based or acrylic-based polymer, but is not limited thereto.

비표시 영역(NA)에서 회로부(104, 108)가 배치된다. 회로부(104, 108)는 발광 소자(130)를 구동하기 위한 스위칭 박막 트랜지스터, 보상을 위한 박막 트랜지스터, 커패시터 등과 같은 다양한 소자를 포함할 수 있으며, GIP(gate in panel) 형태의 소자 및 다양한 배선을 포함할 수 있다. The circuit units 104 and 108 are disposed in the non-display area NA. The circuit units 104 and 108 may include various devices such as a switching thin film transistor for driving the light emitting device 130, a thin film transistor for compensation, a capacitor, and the like, and include a gate in panel (GIP) type device and various wirings. may include

회로부(104, 108)는 박막 트랜지스터(120)와 동일한 공정에서 동일한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 회로부(104, 108)는 박막 트랜지터(120)의 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124) 또는 게이트 전극(121)과 동일한 공정 동일한 물질로 형성될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The circuit parts 104 and 108 may be formed of the same material in the same process as that of the thin film transistor 120 . For example, the circuit parts 104 and 108 may be formed of the same material in the same process as the source electrode 123 and the drain electrode 124 or the gate electrode 121 of the thin film transistor 120 , but are not limited thereto. .

회로부(104, 108)의 외측에 전원 배선(114)이 배치된다. 전원 배선(114)은 저준위 전원(VSS)일 수 있으며 게이트 절연막(105) 상에 배치될 수 있다.A power supply wiring 114 is disposed outside the circuit portions 104 and 108 . The power wiring 114 may be a low level power VSS and may be disposed on the gate insulating layer 105 .

전원 배선(114)은 박막 트랜지터(120)와 동일한 공정에서 동일한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어 전원 배선(114)은 박막 트랜지터(120)의 소스 전극(123) 및 드레인 전극(124) 또는 게이트 전극(121)과 동일한 공정 동일한 물질로 형성될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The power wiring 114 may be formed of the same material in the same process as that of the thin film transistor 120 . For example, the power wiring 114 may be formed of the same material as the source electrode 123 and the drain electrode 124 or the gate electrode 121 of the thin film transistor 120 , but is not limited thereto.

전원 배선(114)은 전원 배선(114)과 캐소드(133) 사이에 배치된 연결 전극(112)에 의해 캐소드(133)와 연결될 수 있다. 이때, 연결 전극(112)은 발광 소자(130)의 애노드(131)와 동일한 공정에서 동일한 물질로 형성될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 전원 배선(114)은 뱅크층(110) 및 평탄화층(107)의 측면을 타고 내려온 발광 소자(130)의 캐소드(133)와 직접 연결될 수 있다. The power wiring 114 may be connected to the cathode 133 by a connection electrode 112 disposed between the power wiring 114 and the cathode 133 . In this case, the connection electrode 112 may be formed of the same material as the anode 131 of the light emitting device 130 in the same process, but is not limited thereto. In addition, the power wiring 114 may be directly connected to the cathode 133 of the light emitting device 130 that descends along the side of the bank layer 110 and the planarization layer 107 .

최근에는 표시 장치의 두께를 감소시키고, 시인성을 향상시키기 위해, 표시 장치의 봉지부 상에 직접 터치부를 배치하는 터치 스크린 일체형 표시 장치가 개발되었다. 다만, 상술한 구조의 표시 장치에서 봉지부의 끝단이 기판에 대하여 경사를 이루도록 배치됨에 따라, 기판 외곽부에서 터치 성능이 저하되는 문제가 발생하였다. 복수의 도전성 구성 요소를 포함하는 표시 장치에서는 도전성 구성 요소 사이에 형성되는 기생 용량을 최소화하기 위하여, 도선성 구성 요소 사이에 일정 수준의 이격 거리가 요구된다. 예를 들어, 터치 스크린 일체형 표시 장치의 경우, 봉지부 상에 배치되는 라우팅 배선, 터치 전극 및 터치 라인과 봉지부 하부에 배치되는 발광 소자 및 배선 사이에 일정 수준의 이격 거리가 요구될 수 있다. 그러나, 터치 스크린 일체형 표시 장치의 라우팅 배선, 터치 전극 및 터치 라인은 봉지부 상에서 봉지부의 형상을 따라 배치되므로, 표시 장치의 중앙부에서는 평탄한 봉지부의 표면에 배치되나, 외곽부에서는 기판에 대해 경사진 봉지부의 표면에 배치되어 발광 소자 및 배선과 인접하도록 배치될 수 있다. 이에, 외곽부에서 라우팅 배선, 터치 전극 및 터치 라인과 봉지부 하부에 배치되는 발광 소자의 전극 및 배선 사이의 기생 용량이 증가할 수 있으며, 이에 RC 지연(RC delay) 현상이 발생할 수 있다. 이 경우, 터치부에서 터치 감지가 지연될 수 있으며, 터치부에서 터치 발생이나 터치 위치를 잘못 감지하는 등과 같은 터치 성능 저하 문제가 나타날 수 있다.Recently, in order to reduce the thickness of the display device and improve visibility, a touch screen-integrated display device in which a touch part is disposed directly on an encapsulation part of the display device has been developed. However, in the display device having the above-described structure, as the end of the encapsulation portion is disposed to form an inclination with respect to the substrate, there is a problem that the touch performance is deteriorated at the outer portion of the substrate. In a display device including a plurality of conductive components, a certain level of separation distance is required between the conductive components in order to minimize a parasitic capacitance formed between the conductive components. For example, in the case of a touch screen-integrated display device, a certain level of separation distance may be required between the routing wiring, the touch electrode, and the touch line disposed on the encapsulation unit and the light emitting device and the wiring disposed under the encapsulation unit. However, since routing wires, touch electrodes, and touch lines of the touch screen integrated display device are disposed along the shape of the encapsulation part on the encapsulation part, they are disposed on the flat surface of the encapsulation part in the central portion of the display device, but the encapsulation is inclined with respect to the substrate in the outer part. It may be disposed on the surface of the part to be adjacent to the light emitting element and the wiring. Accordingly, the parasitic capacitance between the routing wiring, the touch electrode, and the touch line in the outer portion and the electrode and the wiring of the light emitting device disposed under the encapsulation unit may increase, and thus an RC delay phenomenon may occur. In this case, touch sensing may be delayed by the touch unit, and a touch performance degradation problem such as occurrence of a touch or an erroneous sensing of a touch position may occur in the touch unit.

이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 봉지부(150) 상에 단차 보상층(170)을 배치하여 기판(101) 외곽부에서 터치 성능이 저하되는 문제를 개선할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 기판(101)에 대하여 경사를 이루도록 배치되는 봉지부(150)의 경사부(150a) 상에 평탄한 형상을 갖는 단차 보상층(170)을 배치한다. 이에, 표시 장치(100)의 라우팅 배선(113), 터치 전극(165) 및 터치 라인(164)은 봉지부(150)의 평탄부(150b) 및 단차 보상층(170)의 상면을 따라 배치되어, 기판(101) 외곽에서도 터치 전극(165) 및 터치 라인(164)이 봉지부(150) 하부에 배치되는 다양한 도전성 구성 요소들, 예를 들어, 발광 소자(130)의 캐소드(133) 및 회로부(104, 108) 등과 일정 수준의 거리로 이격될 수 있다. 이에, 기판(101) 외곽부에서 터치 전극(165) 및 터치 라인(164)과 봉지부(150) 하부에 배치되는 다양한 도전성 구성 요소들 간의 기생 용량이 최소화될 수 있다. 이에 RC 지연 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 터치부(160)의 터치 성능이 개선될 수 있다. Accordingly, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, a problem in which the touch performance deteriorates in the outer portion of the substrate 101 may be improved by disposing the step compensation layer 170 on the encapsulation unit 150 . . In the display device 100 according to an embodiment of the present invention, a step compensation layer 170 having a flat shape is disposed on the inclined part 150a of the encapsulation part 150 which is disposed to be inclined with respect to the substrate 101 . do. Accordingly, the routing wiring 113 , the touch electrode 165 , and the touch line 164 of the display device 100 are disposed along the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 170 . , various conductive components in which the touch electrode 165 and the touch line 164 are disposed under the encapsulation unit 150 even outside the substrate 101 , for example, the cathode 133 of the light emitting device 130 and the circuit unit (104, 108) and the like may be spaced apart by a certain level of distance. Accordingly, parasitic capacitance between the touch electrode 165 and the touch line 164 at the outer portion of the substrate 101 and various conductive components disposed under the encapsulation unit 150 may be minimized. Accordingly, the RC delay phenomenon may be prevented from occurring, and the touch performance of the touch unit 160 may be improved.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다. 도 4는 도 3의 IV-IV'에 따른 단면도이다. 도 3에서는 설명의 편의상 표시 장치(100)의 다양한 구성 요소 중 기판(101), 뱅크층(110), 유기 봉지층(152), 터치부(360), 라우팅 배선(313), 패드(PAD), 터치 패드(T- PAD) 및 단차 보상층(370)만을 도시하였다. 도 3 및 도 4에 도시된 표시 장치(300)는 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 표시 장치(100)와 비교하여 라우팅 배선(313), 터치부(360) 및 단차 보상층(370)만이 상이하며, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로, 중복 설명을 생략한다.3 is a schematic plan view of a display device according to another exemplary embodiment. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV' of FIG. 3 . In FIG. 3 , for convenience of explanation, among various components of the display device 100 , the substrate 101 , the bank layer 110 , the organic encapsulation layer 152 , the touch unit 360 , the routing wiring 313 , and the pad (PAD) , only the touch pad (T-PAD) and the step compensation layer 370 are illustrated. The display device 300 shown in FIGS. 3 and 4 has only the routing wiring 313 , the touch unit 360 and the step compensation layer 370 compared to the display device 100 described with reference to FIGS. 1 and 2 . different, and since other configurations are substantially the same, redundant descriptions are omitted.

도3 및 도 4를 참조하면, 봉지부(150) 상에 단차 보상층(370)이 배치된다. 3 and 4 , a step compensation layer 370 is disposed on the encapsulation unit 150 .

단차 보상층(370)은 기판(101) 외곽부에 배치되어 봉지부(150)의 경사부(150a)와 중첩하도록 배치될 수 있다. 이에, 단차 보상층(370)은 봉지부(150)의 경사부(150a)에서 발생하는 단차를 보상할 수 있다. 또한, 단차 보상층(370)은 뱅크층(110)의 끝단과 중첩하도록 배치될 수 있으며, 단차 보상층(370)의 상면과 봉지부(150)의 상면이 만나는 영역은 뱅크층(110)의 일부와 중첩할 수 있다. 예를 들어, 단차 보상층(370)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)의 일부와 중첩되도록 배치될 수 있다. 그러나, 이에 제한되지 않고, 봉지부(150)의 뱅크층(110)의 일부와 경사부(150a)의 일부가 중첩하도록 배치된 경우, 단차 보상층(370)은 봉지부(150)의 평탄부(150b)와 중첩하지 않도록 배치될 수 있다. The step compensation layer 370 may be disposed on the outer portion of the substrate 101 to overlap the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . Accordingly, the step difference compensation layer 370 may compensate for the step difference occurring in the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . In addition, the step compensation layer 370 may be disposed to overlap the end of the bank layer 110 , and a region where the top surface of the step compensation layer 370 and the top surface of the encapsulation unit 150 meet is the bank layer 110 . It can be nested with some. For example, the step compensation layer 370 may be disposed to overlap a portion of the flat part 150b of the encapsulation part 150 . However, the present invention is not limited thereto, and when a portion of the bank layer 110 of the encapsulation unit 150 and a portion of the inclined portion 150a overlap each other, the step compensation layer 370 is formed on the flat portion of the encapsulation unit 150 . It may be arranged so as not to overlap with 150b.

단차 보상층(370)은 기판(101) 외곽부에서 기판(101)과 경사를 이루며 배치될 수 있으며, 이때, 기판(101) 외곽부에서 단차 보상층(370)의 표면이 기판(101)과 이루는 각도는 봉지부(150)의 경사부(150a)의 표면이 기판(101)과 이루는 각도보다 클 수 있다. The step compensation layer 370 may be disposed to form an inclination with the substrate 101 at the outer portion of the substrate 101 , and in this case, the surface of the step compensation layer 370 at the outer portion of the substrate 101 is opposite to the substrate 101 . The angle formed by the surface of the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 may be greater than the angle formed with the substrate 101 .

단차 보상층(370)은 유기물로 이루어질 수 있다. 단차 보상층(370)은, 예를 들어, 실리콘옥시카본(SiOxCz), 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진(Resin) 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The step compensation layer 370 may be formed of an organic material. The step compensation layer 370 may be made of, for example, silicon oxycarbon (SiOxCz), acrylic or epoxy-based resin, but is not limited thereto.

단차 보상층(370)은 봉지부(150)의 경사부(150a)에 의해 발생하는 단차를 보상하기 위해 단차를 발생시키는 유기 봉지층(152)의 점도보다 높은 물질로 이루어질 수 있다. The step compensation layer 370 may be made of a material having a higher viscosity than that of the organic encapsulation layer 152 that generates the step in order to compensate for the step generated by the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 .

봉지부(150) 및 단차 보상층(370) 상에 터치부(360)가 배치된다. 터치부(360)는 제1 무기 절연층(361), 제2 무기 절연층(362), 유기 절연층(363), 터치 라인(364) 및 터치 전극(365)을 포함한다.The touch unit 360 is disposed on the encapsulation unit 150 and the step difference compensation layer 370 . The touch unit 360 includes a first inorganic insulating layer 361 , a second inorganic insulating layer 362 , an organic insulating layer 363 , a touch line 364 , and a touch electrode 365 .

봉지부(150) 및 단차 보상층(370) 상에 제1 무기 절연층(361)이 배치된다. 제1 무기 절연층(361)은 봉지부(150) 및 단차 보상층(370) 상에 접한다. 이에, 제1 무기 절연층(361)은 봉지부(150)의 평탄부(150b) 및 단차 보상층(370)의 상면을 따라 배치되어 봉지부(150)의 경사부(150a)와 중첩하는 영역에서도 실직적인 단차 없이 배치될 수 있다. A first inorganic insulating layer 361 is disposed on the encapsulation unit 150 and the step difference compensation layer 370 . The first inorganic insulating layer 361 is in contact with the encapsulation part 150 and the step difference compensation layer 370 . Accordingly, the first inorganic insulating layer 361 is disposed along the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 370 to overlap the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . It can also be arranged without a practical step difference.

제1 무기 절연층(361)은 무기물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화질화물(SiON) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The first inorganic insulating layer 361 may be formed of an inorganic material. For example, it may be made of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxynitride (SiON), but is not limited thereto.

제1 무기 절연층(361) 상에 터치 라인(364)이 배치된다. 이에, 터치 라인(364)은 봉지부(150)의 평탄부(150b) 및 단차 보상층(370)의 상면을 따라 배치되어 봉지부(150)의 경사부(150a)와 중첩하는 영역에서도 실직적인 단차 없이 배치될 수 있다. 터치 라인(364)은 제1 무기 절연층(361) 상에서, 비발광 영역(NEA)에 배치된다. 터치 라인(364)은 행 방향 또는 열 방향으로 배치될 수 있다. 터치 라인(364)은 터치부(360)를 구동하기 위한 터치 구동 신호를 공급할 수 있다. 또한, 터치 라인(364)은 터치부(360)에서 감지한 터치 정보를 구동 IC로 전달할 수 있다. A touch line 364 is disposed on the first inorganic insulating layer 361 . Accordingly, the touch line 364 is disposed along the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 370 to overlap the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150, and is It can be arranged without a step. The touch line 364 is disposed in the non-emission area NEA on the first inorganic insulating layer 361 . The touch line 364 may be disposed in a row direction or a column direction. The touch line 364 may supply a touch driving signal for driving the touch unit 360 . Also, the touch line 364 may transmit touch information sensed by the touch unit 360 to the driving IC.

터치 라인(364) 및 제1 무기 절연층(361) 상에 제2 무기 절연층(362)이 배치된다. 제2 무기 절연층(362)은 인접하게 배치된 터치 라인(364)의 단락을 방지할 수 있다. 제2 무기 절연층(362)은 무기물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화질화물(SiON) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A second inorganic insulating layer 362 is disposed on the touch line 364 and the first inorganic insulating layer 361 . The second inorganic insulating layer 362 may prevent short-circuiting of the adjacently disposed touch lines 364 . The second inorganic insulating layer 362 may be formed of an inorganic material. For example, it may be made of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxynitride (SiON), but is not limited thereto.

터치 라인(364) 및 제2 무기 절연층(362) 상에 터치 전극(365)이 배치된다. 이에, 터치 전극(365)은 봉지부(150)의 평탄부(150b) 및 단차 보상층(370)의 상면을 따라 배치되어 봉지부(150)의 경사부(150a)와 중첩하는 영역에서도 실직적인 단차 없이 배치될 수 있다. 터치 전극(365)은 행 방향 및 열 방향으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 열 방향으로 배치된 터치 전극(365)과 행 방향으로 배치된 터치 전극(365)은 브릿지 전극을 통해 서로 연결되어 메쉬 형태의 구조를 가질 수 있다. 이러한 터치 라인(364)과 터치 전극(365)의 교차부에는 상호 정전 용량(mutual capacitance, Cm)이 형성될 수 있다. 이에, 상호 정전 용량(Cm)의 변화로 터치 입력이 감지될 수 있다. A touch electrode 365 is disposed on the touch line 364 and the second inorganic insulating layer 362 . Accordingly, the touch electrode 365 is disposed along the flat portion 150b of the encapsulation unit 150 and the upper surface of the step compensation layer 370 to be practical even in a region overlapping the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . It can be arranged without a step. The touch electrodes 365 may be disposed in a row direction and a column direction. For example, the touch electrodes 365 disposed in the column direction and the touch electrodes 365 disposed in the row direction may be connected to each other through a bridge electrode to have a mesh-like structure. A mutual capacitance (Cm) may be formed at the intersection of the touch line 364 and the touch electrode 365 . Accordingly, a touch input may be sensed by a change in the mutual capacitance Cm.

비표시 영역(NA)에는 라우팅 배선(313)이 배치된다. 라우팅 배선(313)은 표시 영역(AA)의 최외곽에 배치된 터치 전극(365)을 비표시 영역(NA)에 배치된 터치 패드(T-PAD)까지 연장하여 터치 패드(T-PAD)와 터치 라인(364) 및 터치 전극(365)을 전기적으로 연결할 수 있다. 이에, 라우팅 배선(313)은 봉지부(150)의 평탄부(150b) 및 단차 보상층(370)의 상면을 따라 배치되어 봉지부(150)의 경사부(150a)와 중첩하는 영역에서도 실직적인 단차 없이 배치될 수 있다.A routing line 313 is disposed in the non-display area NA. The routing wire 313 extends the touch electrode 365 disposed at the outermost portion of the display area AA to the touch pad T-PAD disposed in the non-display area NA, thereby forming the touch pad T-PAD and The touch line 364 and the touch electrode 365 may be electrically connected. Accordingly, the routing wiring 313 is disposed along the upper surface of the flat portion 150b and the step compensation layer 370 of the encapsulation unit 150 and is also practical in the area overlapping the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 . It can be arranged without a step.

터치 전극(365) 및 제2 무기 절연층(362) 상에 유기 절연층(363)이 배치된다. 유기 절연층(363)은 터치 전극(365)의 상부를 평탄화할 수 있고, 유기 절연층(363) 하부의 구성들을 보호할 수 있다. 유기 절연층(363)은 에폭시(Epoxy) 계열 또는 아크릴(Acryl) 계열의 폴리머가 사용될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 이에, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 기판(101)에 대하여 경사를 이루도록 배치되는 봉지부(150)의 경사부(150a) 상에 평탄한 형상을 갖는 단차 보상층(370)을 배치한다. 이에, 기판(101) 외곽부에서 터치 전극(365) 및 터치 라인(364)과 봉지부(150) 하부에 배치되는 다양한 도전성 구성 요소들 간의 기생 용량이 최소화될 수 있으며, RC 지연 현상이 발생하는 것을 방지하여 터치부(360)의 터치 성능이 개선될 수 있다. An organic insulating layer 363 is disposed on the touch electrode 365 and the second inorganic insulating layer 362 . The organic insulating layer 363 may planarize an upper portion of the touch electrode 365 and may protect components under the organic insulating layer 363 . For the organic insulating layer 363, an epoxy-based or acrylic-based polymer may be used, but is not limited thereto. Accordingly, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the step compensation layer 370 having a flat shape on the inclined portion 150a of the encapsulation portion 150 is disposed to be inclined with respect to the substrate 101 . place the Accordingly, parasitic capacitance between the touch electrode 365 and the touch line 364 in the outer portion of the substrate 101 and various conductive components disposed under the encapsulation unit 150 may be minimized, and the RC delay phenomenon may occur. By preventing this, the touch performance of the touch unit 360 may be improved.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 단차 보상층(370)이 여유 마진을 갖도록 배치되어 봉지부(150)의 단차 발생 구간에 따라 유연하게 대응할 수 있다. 예를 들어, 봉지부(150) 및 봉지부(150) 하부에 배치되는 구성 요소의 설계 및 제조 공정에 따라, 단차 발생 구간이 이동할 수 있다. 예를 들어, 봉지부(150)의 경사부(150a)에서 형성된 단차 발생 구간은 뱅크층(110)의 끝단과 중첩하는 영역에서 발생할 수 있으나 뱅크층(110) 상에서도 발생할 수 있다. 이에, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 단차 보상층(370)을 뱅크층(110)의 일부와 중첩하는 영역에 배치하여 봉지부(150)에 의해 발생되는 단차 발생 구간이 이동하더라도 단차를 보상할 수 있다. 이에, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 단차 보상층(370)의 단차 보상 능력을 개선할 수 있다. In addition, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the step compensation layer 370 is disposed to have an extra margin, so that it can respond flexibly according to the step generation period of the encapsulation unit 150 . For example, according to the design and manufacturing process of the encapsulation unit 150 and the components disposed under the encapsulation unit 150 , the step generating section may move. For example, the step generation section formed in the inclined portion 150a of the encapsulation unit 150 may occur in a region overlapping with the end of the bank layer 110 , but may also occur on the bank layer 110 . Accordingly, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the step difference compensation layer 370 is disposed in an area overlapping a part of the bank layer 110 to reduce the step generation interval generated by the encapsulation unit 150 . Even if you move, you can compensate for the step difference. Accordingly, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the step compensation capability of the step compensation layer 370 may be improved.

본 발명의 실시예들에 따른 표시 장치는 다음과 같이 설명될 수 있다. Display devices according to embodiments of the present invention may be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 기판, 기판 상에 배치된 발광 소자, 기판 상에 배치되고, 발광 영역 및 비발광 영역을 정의하는 뱅크층, 발광 소자 및 뱅크층을 덮도록 배치되고, 평탄부 및 평탄부를 둘러싸는 경사부를 포함하는 봉지부, 봉지부의 단차를 보상하기 위해 경사부 상에 배치되는 단차 보상층 및 봉지부의 상면 및 단차 보상층의 상면에 접하도록 배치된 터치부를 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a light emitting device disposed on the substrate, a bank layer disposed on the substrate, and a bank layer defining a light emitting region and a non-emitting region, the light emitting device and the bank layer are disposed, , an encapsulation portion including a flat portion and an inclined portion surrounding the flat portion, a step compensation layer disposed on the inclined portion to compensate for the step difference of the encapsulation portion, and an upper surface of the encapsulation portion and a touch portion disposed in contact with the upper surface of the step compensation layer .

본 발명의 다른 특징에 따르면, 단차 보상층은 뱅크층의 끝단과 중첩하도록 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the step compensation layer may be disposed to overlap the end of the bank layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 단차 보상층의 끝단과 뱅크층의 끝단은 중첩할 수 있다.According to another feature of the present invention, the end of the step compensation layer and the end of the bank layer may overlap.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 단차 보상층은 아크릴계 수지 또는 에폭시계 수지일 수 있다.According to another feature of the present invention, the step compensation layer may be an acrylic resin or an epoxy resin.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 봉지부는 제1 무기 봉지층, 제1 무기 봉지층 상의 유기 봉지층 및 유기층 상의 제2 무기 봉지층을 포함하고, 봉지부의 단차는 유기 봉지층에 의해 발생할 수 있다.According to another feature of the present invention, the encapsulation unit includes a first inorganic encapsulation layer, an organic encapsulation layer on the first inorganic encapsulation layer, and a second inorganic encapsulation layer on the organic layer, and the step of the encapsulation may be caused by the organic encapsulation layer. .

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 단차 보상층의 점도는 유기 봉지층의 점도보다 높을 수 있다.According to another feature of the present invention, the viscosity of the step compensation layer may be higher than that of the organic encapsulation layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 봉지층의 점도는 10cP 이고, 단차 보상층의 점도는 1,000 내지 10,000cP일 수 있다.According to another feature of the present invention, the viscosity of the organic encapsulation layer may be 10 cP, and the viscosity of the step compensation layer may be 1,000 to 10,000 cP.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 봉지층의 퍼짐을 제어하기 위한 제1 댐 및 제1 댐보다 외측에서 단차 보상층의 퍼짐을 제어하기 위한 제2 댐을 더 포함할 수 있다.According to another feature of the present invention, a first dam for controlling the spreading of the organic encapsulation layer and a second dam for controlling the spreading of the step compensation layer from the outside of the first dam may be further included.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 댐은 제2 무기 봉지층 상에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the second dam may be disposed on the second inorganic encapsulation layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 댐의 높이는 제1 댐의 높이보다 높을 수 있다.According to another feature of the present invention, the height of the second dam may be higher than the height of the first dam.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 경사부 상에 배치되는 단차 보상층의 표면이 기판과 이루는 각도는 경사부의 표면이 기판과 이루는 각도보다 클 수 있다.According to another feature of the present invention, the angle between the surface of the step compensation layer disposed on the inclined portion and the substrate may be greater than the angle between the surface of the inclined portion and the substrate.

본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치는, 복수의 서브 화소를 포함하는 기판, 복수의 서브 화소에 배치되고, 애노드, 발광층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자, 애노드의 끝단을 덮으며, 발광 영역 및 비발광 영역을 정의하는 뱅크층, 하나 이상의 무기 봉지층 및 유기 봉지층을 포함하고, 평탄한 제1 표면 및 제1 표면으로부터 연장하고, 제1 표면에 대해 경사진 제2 표면을 갖는 봉지부, 제2 표면에 의한 단차를 완화하는 단차 완화층 및 봉지부 및 단차 완화층과 접하도록 배치된 터치부를 포함한다.A display device according to another embodiment of the present invention includes a substrate including a plurality of sub-pixels, a plurality of light-emitting elements disposed on the plurality of sub-pixels, and including an anode, a light emitting layer, and a cathode, and covers the ends of the anode, and emits light An encapsulation comprising a bank layer defining regions and non-emissive regions, at least one inorganic encapsulation layer and an organic encapsulation layer, the encapsulation having a first planar surface and a second surface extending from the first surface and inclined relative to the first surface. , a step difference mitigating layer and an encapsulation part for alleviating the step difference due to the second surface, and a touch part disposed in contact with the step difference mitigating layer.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 제1 표면과 제2 표면의 경계는 뱅크층의 끝단과 중첩할 수 있다.According to another feature of the present invention, a boundary between the first surface and the second surface may overlap an end of the bank layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 봉지부는 제1 무기 봉지층, 제1 무기 봉지층 상의 유기 봉지층 및 유기층 상의 제2 무기 봉지층을 포함하고, 단차 완화층의 형상을 제어하기 위해 단차 완화층의 점도는 유기 봉지층의 점도보다 높을 수 있다.According to another feature of the present invention, the encapsulation unit includes a first inorganic encapsulation layer, an organic encapsulation layer on the first inorganic encapsulation layer, and a second inorganic encapsulation layer on the organic layer, and a step mitigating layer to control the shape of the step mitigating layer. The viscosity of may be higher than the viscosity of the organic encapsulation layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 표면의 형상을 제어하기 위한 제1 댐 및 제1 댐보다 외측에서 단차 완화층의 형상을 제어하기 위한 제2 댐을 더 포함할 수 있다.According to another feature of the present invention, it may further include a first dam for controlling the shape of the second surface and a second dam for controlling the shape of the step alleviation layer from the outside of the first dam.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 댐은 봉지부의 최상층 상에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the second dam may be disposed on the uppermost layer of the encapsulation unit.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 터치부는 무기층 및 무기층 상의 터치 라인 및 터치 전극을 포함하고, 무기층은 단차 완화층의 표면 및 봉지부의 제1 표면과 접할 수 있다.According to another feature of the present invention, the touch unit may include an inorganic layer and a touch line and a touch electrode on the inorganic layer, and the inorganic layer may be in contact with the surface of the step difference alleviating layer and the first surface of the encapsulation unit.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 제한하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 제한되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. . Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to illustrate, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of the present invention.

100, 300: 표시 장치
101: 기판
103: 버퍼층
104: 회로부
105: 게이트 절연층
107: 평탄화층
108: 회로부
109: 패시베이션층
110: 뱅크층
112: 연결 전극
114: 전원 배선
120: 박막 트랜지스터
121: 게이트 전극
122: 액티브층
123: 소스 전극
124: 드레인 전극
130: 발광 소자
131: 애노드
132: 발광층
133: 캐소드
150, 350: 봉지부
150a, 350a: 경사부
150b, 350b: 평탄부
151: 제1 무기 봉지층
152: 유기 봉지층
153: 제2 무기 봉지층
160, 360: 터치부
161, 361: 제1 무기 절연층
162, 362: 제2 무기 절연층
163, 363: 유기 절연층
164, 364: 터치 라인
165, 365: 터치 전극
170 370: 단차 보상층
190: 댐
191: 제1 댐
192: 제2 댐
AA: 표시 영역
NA: 비표시 영역
EA: 발광 영역
NEA: 비발광 영역
PAD: 패드
T-PAD: 터치 패드
100, 300: display device
101: substrate
103: buffer layer
104: circuit part
105: gate insulating layer
107: planarization layer
108: circuit part
109: passivation layer
110: bank layer
112: connecting electrode
114: power wiring
120: thin film transistor
121: gate electrode
122: active layer
123: source electrode
124: drain electrode
130: light emitting element
131: anode
132: light emitting layer
133: cathode
150, 350: encapsulation unit
150a, 350a: inclined portion
150b, 350b: flat part
151: first inorganic encapsulation layer
152: organic encapsulation layer
153: second inorganic encapsulation layer
160, 360: touch unit
161, 361: first inorganic insulating layer
162, 362: second inorganic insulating layer
163, 363: organic insulating layer
164, 364: touch line
165, 365: touch electrode
170 370: step compensation layer
190: dam
191: first dam
192: second dam
AA: display area
NA: non-display area
EA: light emitting area
NEA: non-emissive area
PAD: pad
T-PAD: Touchpad

Claims (18)

기판;
상기 기판 상에 배치된 발광 소자;
상기 기판 상에 배치되고, 발광 영역 및 비발광 영역을 정의하는 뱅크층;
상기 발광 소자 및 상기 뱅크층을 덮도록 배치되고, 평탄부 및 상기 평탄부를 둘러싸는 경사부를 포함하는 봉지부;
상기 봉지부의 단차를 보상하기 위해 상기 경사부 상에 배치되는 단차 보상층; 및
상기 봉지부의 상면 및 상기 단차 보상층의 상면에 접하도록 배치된 터치부를 포함하는, 표시 장치.
Board;
a light emitting device disposed on the substrate;
a bank layer disposed on the substrate and defining a light emitting area and a non-emission area;
an encapsulation unit disposed to cover the light emitting device and the bank layer and including a flat portion and an inclined portion surrounding the flat portion;
a step compensation layer disposed on the inclined portion to compensate for the step difference of the encapsulation portion; and
and a touch unit disposed to contact an upper surface of the encapsulation unit and an upper surface of the step compensation layer.
제1항에 있어서,
상기 단차 보상층은 상기 뱅크층의 끝단과 중첩하도록 배치되는, 표시 장치.
According to claim 1,
and the step difference compensating layer is disposed to overlap an end of the bank layer.
제2항에 있어서,
상기 단차 보상층의 끝단과 상기 뱅크층의 끝단은 중첩하는, 표시 장치.
3. The method of claim 2,
and an end of the step compensation layer and an end of the bank layer overlap.
제1항에 있어서,
상기 단차 보상층은 아크릴계 수지 또는 에폭시계 수지인, 표시 장치.
According to claim 1,
The step difference compensating layer is an acrylic resin or an epoxy resin.
제1항에 있어서,
상기 봉지부는 제1 무기 봉지층, 상기 제1 무기 봉지층 상의 유기 봉지층 및 상기 유기 봉지층 상의 제2 무기 봉지층을 포함하고,
상기 봉지부의 단차는 상기 유기 봉지층에 의해 발생하는, 표시 장치.
According to claim 1,
The encapsulation unit includes a first inorganic encapsulation layer, an organic encapsulation layer on the first inorganic encapsulation layer, and a second inorganic encapsulation layer on the organic encapsulation layer,
The step of the encapsulation portion is generated by the organic encapsulation layer.
제5항에 있어서,
상기 단차 보상층의 점도는 상기 유기 봉지층의 점도보다 높은, 표시 장치.
6. The method of claim 5,
and a viscosity of the step compensation layer is higher than a viscosity of the organic encapsulation layer.
제6항에 있어서,
상기 유기 봉지층의 점도는 10cP 이고, 상기 단차 보상층의 점도는 1,000 내지 10,000cP인, 표시 장치.
7. The method of claim 6,
The organic encapsulation layer has a viscosity of 10 cP, and the step difference compensating layer has a viscosity of 1,000 to 10,000 cP.
제5항에 있어서,
상기 유기 봉지층의 퍼짐을 제어하기 위한 제1 댐; 및
상기 제1 댐보다 외측에서 상기 단차 보상층의 퍼짐을 제어하기 위한 제2 댐을 더 포함하는, 표시 장치.
6. The method of claim 5,
a first dam for controlling the spreading of the organic encapsulation layer; and
The display device of claim 1 , further comprising a second dam configured to control the spreading of the step compensation layer outside the first dam.
제8항에 있어서,
상기 제2 댐은 상기 제2 무기 봉지층 상에 배치되는, 표시 장치.
9. The method of claim 8,
and the second dam is disposed on the second inorganic encapsulation layer.
제8항에 있어서,
상기 제2 댐의 높이는 상기 제1 댐의 높이보다 높은, 표시 장치.
9. The method of claim 8,
a height of the second dam is higher than a height of the first dam.
제1항에 있어서,
상기 경사부 상에 배치되는 상기 단차 보상층의 표면이 상기 기판과 이루는 각도는 상기 경사부의 표면이 상기 기판과 이루는 각도보다 큰, 표시 장치.
According to claim 1,
An angle formed by a surface of the step difference compensating layer disposed on the inclined portion with the substrate is greater than an angle formed by a surface of the inclined portion with the substrate.
제1항에 있어서,
상기 터치부는 최하단에 배치되는 무기층 및 상기 무기층 상의 터치 라인 및 터치 전극을 포함하고,
상기 무기층의 하면이 상기 봉지부의 상면 및 상기 단차 보상층의 상면과 접하는, 표시 장치.
According to claim 1,
The touch unit includes an inorganic layer disposed at the bottom and a touch line and a touch electrode on the inorganic layer,
A lower surface of the inorganic layer is in contact with an upper surface of the encapsulation part and an upper surface of the step difference compensating layer.
복수의 서브 화소를 포함하는 기판;
상기 복수의 서브 화소에 배치되고, 애노드, 발광층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자;
상기 애노드의 끝단을 덮으며, 발광 영역 및 비발광 영역을 정의하는 뱅크층;
하나 이상의 무기 봉지층 및 유기 봉지층을 포함하고, 평탄한 제1 표면 및 상기 제1 표면으로부터 연장하고, 상기 제1 표면에 대해 경사진 제2 표면을 갖는 봉지부;
상기 제2 표면에 의한 단차를 완화하는 단차 완화층; 및
상기 봉지부 및 상기 단차 완화층과 접하도록 배치된 터치부를 포함하는, 표시 장치.
a substrate including a plurality of sub-pixels;
a plurality of light emitting devices disposed on the plurality of sub-pixels and including an anode, a light emitting layer, and a cathode;
a bank layer covering an end of the anode and defining a light-emitting area and a non-emission area;
an encapsulation portion comprising at least one inorganic encapsulation layer and an organic encapsulation layer, the encapsulation portion having a first planar surface and a second surface extending from the first surface and inclined with respect to the first surface;
a step difference alleviating layer for alleviating the step difference by the second surface; and
and a touch unit disposed in contact with the encapsulation unit and the step difference alleviating layer.
제13항에 있어서,
상기 제1 표면과 상기 제2 표면의 경계는 상기 뱅크층의 끝단과 중첩하는, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
and a boundary between the first surface and the second surface overlaps with an end of the bank layer.
제13항에 있어서,
상기 봉지부는 제1 무기 봉지층, 상기 제1 무기 봉지층 상의 유기 봉지층 및 상기 유기 봉지층 상의 제2 무기 봉지층을 포함하고,
상기 단차 완화층의 형상을 제어하기 위해 상기 단차 완화층의 점도는 상기 유기 봉지층의 점도보다 높은, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
The encapsulation unit includes a first inorganic encapsulation layer, an organic encapsulation layer on the first inorganic encapsulation layer, and a second inorganic encapsulation layer on the organic encapsulation layer,
and a viscosity of the step alleviating layer is higher than a viscosity of the organic encapsulation layer in order to control a shape of the step alleviating layer.
제13항에 있어서,
상기 제2 표면의 형상을 제어하기 위한 제1 댐; 및
상기 제1 댐보다 외측에서 상기 단차 완화층의 형상을 제어하기 위한 제2 댐을 더 포함하는, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
a first dam for controlling the shape of the second surface; and
and a second dam configured to control a shape of the step difference alleviating layer outside the first dam.
제13항에 있어서,
상기 제2 댐은 상기 봉지부의 최상층 상에 배치되는, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
and the second dam is disposed on an uppermost layer of the encapsulation part.
제13항에 있어서,
상기 터치부는 무기층 및 상기 무기층 상의 터치 라인 및 터치 전극을 포함하고,
상기 무기층은 상기 단차 완화층의 표면 및 상기 봉지부의 제1 표면과 접하는, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
The touch unit includes an inorganic layer and a touch line and a touch electrode on the inorganic layer,
The inorganic layer is in contact with a surface of the step difference alleviating layer and the first surface of the encapsulation part.
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WO2023226930A1 (en) * 2022-05-24 2023-11-30 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate and display apparatus

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