KR20210080363A - resin composition - Google Patents

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KR20210080363A
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카즈키 이와야
후미노리 아라이
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나믹스 가부시끼가이샤
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Abstract

(A) 에폭시 수지와, (B) 분자 내에 방향환 구조 또는 지환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물, 및, 분자 내에 방향환 구조 또는 복소환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 있어도 되고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 2관능 티올 화합물과, (C) 아민 화합물과, (D) 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하인 필러를 포함하는 수지 조성물이다.(A) an epoxy resin, (B) an aromatic ring structure or an alicyclic structure in the molecule, and a molecular chain containing a hetero atom and not including an ester bond, a molecular chain having a thiol group at the terminal, and a molecular weight of 210 or more bifunctional thiol A compound and a bifunctional thiol compound having an aromatic ring structure or a heterocyclic structure in the molecule, and a molecular chain having a thiol group at the terminal, which may contain a hetero atom or does not contain an ester bond, and has a molecular weight of 210 or more It is a resin composition containing at least 1 sort(s) of bifunctional thiol compound selected from the group, (C) an amine compound, and (D) filler whose average particle diameter is 0.1 micrometer or more and 10 micrometers or less.

Description

수지 조성물resin composition

본 발명은 비교적 저온의 열경화, 구체적으로는 80℃ 정도에서의 열경화가 요구되는 용도에 있어서 사용 가능한 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition that can be used in applications requiring relatively low-temperature thermosetting, specifically, thermosetting at about 80°C.

휴대 전화나 스마트폰의 카메라 모듈로서 사용되는 이미지 센서 모듈의 제조시 구조체의 조립에는, 비교적 저온, 구체적으로는, 80℃ 정도의 온도에서 열경화하는 접착제나 봉지재가 사용된다. 반도체 소자, 집적 회로, 대규모 집적 회로, 트랜지스터, 사이리스터, 다이오드, 콘덴서 등의 전자 부품을 포함하는 반도체 장치의 제조시에 있어서도, 80℃ 정도의 온도에서 열경화하는 수지 조성물을 포함하는 접착제나 봉지재의 사용이 바람직하다. An adhesive or encapsulant that is thermosetted at a relatively low temperature, specifically, about 80° C., is used for assembling a structure when manufacturing an image sensor module used as a camera module for a mobile phone or a smartphone. Also in the manufacture of semiconductor devices including electronic components such as semiconductor elements, integrated circuits, large-scale integrated circuits, transistors, thyristors, diodes, and capacitors, adhesives or encapsulants containing a resin composition thermosetting at a temperature of about 80 ° C. use is preferred.

또한, 이미지 센서 모듈이나 반도체 장치의 제조시에 사용하는 접착제 또는 봉지재는 내습성도 요구된다. 또한, 휴대 전화나 스마트폰 등의 모바일 기기에는, 낙하 등에 대한 내충격성이 요구되며, 반도체 장치에 사용되는 접착제 등의 경화물에는, 응력 흡수성이 요구된다.In addition, an adhesive or encapsulant used in manufacturing an image sensor module or a semiconductor device is also required to have moisture resistance. Moreover, impact resistance with respect to a fall etc. is calculated|required by mobile devices, such as a mobile phone and a smart phone, and stress absorbing property is calculated|required of hardened|cured material, such as an adhesive agent used for semiconductor devices.

예를 들면 특허문헌 1에는, 저온에서의 열경화가 가능하고, 100℃ 이상, 습도가 70% 이상인 고온 고습에서 시험하는 프레셔 쿠커 테스트(이하, 「PCT」라고도 한다)에 있어서도, 내성이 우수한 일액형 접착제로서, 분자 중에 4개의 티올기를 갖는 티올 화합물을 포함하는 수지 조성물이 개시되어 있다.For example, in patent document 1, thermosetting at low temperature is possible, and it is excellent in tolerance also in the pressure cooker test (henceforth "PCT") which tests at 100 degreeC or more and high temperature and high humidity of 70% or more. As a liquid adhesive, the resin composition containing the thiol compound which has 4 thiol groups in a molecule|numerator is disclosed.

국제 공개 제2015/141347호International Publication No. 2015/141347

그러나, 티올 화합물이 분자 내에 4개의 티올기를 갖는 폴리티올 화합물이 주체인 수지 조성물은, 가교점이 많아져, 얻어지는 경화물이 응력 흡수성이 부족한 경우가 있다. 또한, 이미지 센서 모듈이나 반도체 장치의 조립에 사용하는 접착제나 봉지재에는, 경화 후의 내습성도 요구되면서, 도포 시의 온도 변화에 대해 점도 변화가 작은 것도 요구된다.However, in a resin composition in which the thiol compound is a polythiol compound having four thiol groups in its molecule as a main component, the crosslinking point increases, and the resulting cured product may be insufficient in stress absorption. In addition, adhesives and encapsulants used for assembling an image sensor module or a semiconductor device are required to have low viscosity change with respect to temperature change during application while also requiring moisture resistance after curing.

이에, 본 발명은 저온에서의 경화가 가능하고, 내습성 및 응력 흡수성이 우수한 경화물이 얻어지며, 사용시 취급성이 양호한 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin composition capable of curing at a low temperature, obtaining a cured product excellent in moisture resistance and stress absorption, and having good handleability during use.

상기 과제를 해결하기 위한 수단은 이하와 같으며, 본 발명은 이하의 양태를 포함한다.Means for solving the above problems are as follows, and the present invention includes the following aspects.

[1] (A) 에폭시 수지와,[1] (A) an epoxy resin;

(B) 분자 내에 방향환 구조 또는 지환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물, 및, 분자 내에 방향환 구조 또는 복소환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 있어도 되고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 2관능 티올 화합물과,(B) a bifunctional thiol compound having an aromatic ring structure or an alicyclic structure in the molecule, and a molecular chain containing a hetero atom and not including an ester bond, having a thiol group at the terminal, and having a molecular weight of 210 or more, and an aroma in the molecule At least one selected from the group consisting of a ring structure or a heterocyclic structure and a bifunctional thiol compound having a molecular weight of 210 or more, including a molecular chain having a thiol group at the terminal, which may contain a hetero atom or does not contain an ester bond. and a bifunctional thiol compound of

(C) 아민 화합물과,(C) an amine compound;

(D) 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하인 필러를 포함하는 수지 조성물이다.(D) It is a resin composition containing the filler whose average particle diameters are 0.1 micrometer or more and 10 micrometers or less.

[2] 상기 (B) 성분이 분자 내에 지환 구조와, 티오에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는, 2관능 티올 화합물인, 상기 [1]에 기재된 수지 조성물이다.[2] In the above [1], wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound comprising an alicyclic structure in the molecule, and a molecular chain having a thiol group at the terminal, which contains a thioether bond and does not contain an ester bond described resin composition.

[3] 상기 (B) 성분이 분자 내에 방향환 구조와, 에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는, 2관능 티올 화합물인, 상기 [1]에 기재된 수지 조성물이다.[3] In the above [1], wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound comprising an aromatic ring structure in the molecule, and a molecular chain having a thiol group at the terminal, including an ether bond but not an ester bond described resin composition.

[4] 상기 (B) 성분이 하기 식 (B-1), (B-2), 또는 (B-3)으로 나타내는 2관능 티올 화합물인, 상기 [1]에 기재된 수지 조성물이다.[4] The resin composition according to the above [1], wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound represented by the following formula (B-1), (B-2), or (B-3).

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 (B-1) 중, n, m은 각각 독립적으로 1∼3의 정수이다)(in formula (B-1), n and m are each independently an integer of 1 to 3)

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (B-2) 중, R1, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이다. 단, R1 및 R2 중 어느 한쪽은 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이며, R3 및 R4 중 어느 한쪽은 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이다)(In formula (B-2), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom or a group represented by the following formula (b-1). However, either R 1 or R 2 is a group represented by the following formula (b-1), and either one of R 3 and R 4 is a group represented by the following formula (b-1))

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 (b-1) 중, r은 1∼3의 정수이다)(in formula (b-1), r is an integer of 1-3)

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 (B-3) 중, G1, G2는 각각 독립적으로 -O- 또는 -CH2-로 결합되는 2가의 기이며, p, q는 각각 독립적으로 2∼5의 정수이다)(In formula (B-3), G 1 and G 2 are each independently a divalent group bonded to -O- or -CH 2 -, and p and q are each independently an integer of 2 to 5)

[5] 상기 (B) 성분이 하기 식 (B-4) 또는 (B-5)로 나타내는 2관능 티올 화합물인, 상기 [1]에 기재된 수지 조성물이다.[5] The resin composition according to the above [1], wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound represented by the following formula (B-4) or (B-5).

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 (B-4) 중, s, t는 각각 독립적으로 3 또는 4의 정수이다)(in formula (B-4), s and t are each independently an integer of 3 or 4)

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 (B-5) 중, u,v는 각각 독립적으로 3 또는 4의 정수이다)(In formula (B-5), u and v are each independently an integer of 3 or 4)

[6] 상기 (A) 성분의 분자량이 240∼1,000인, 상기 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물이다.[6] The resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the molecular weight of the component (A) is 240 to 1,000.

[7] 상기 (C) 성분의 아민 화합물이 이미다졸계 화합물, 3차 아민계 화합물, 및 아민 어덕트로부터 선택되는 적어도 1종의 아민 화합물인, 상기 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물이다.[7] In any one of [1] to [6] above, wherein the amine compound of component (C) is at least one amine compound selected from an imidazole compound, a tertiary amine compound, and an amine adduct. described resin composition.

[8] 상기 (B) 성분의 2관능 티올 화합물의 티올기의 총수가, 수지 조성물 중의 전체 티올기의 수를 100으로 했을 때 20∼100인, 상기 [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물이다.[8] In any one of [1] to [7] above, wherein the total number of thiol groups in the bifunctional thiol compound of the component (B) is 20 to 100 when the total number of thiol groups in the resin composition is 100. described resin composition.

[9] 상기 (D) 성분의 필러의 함유량이 수지 조성물의 전체량 100질량%에 대해 5∼70질량%인, 상기 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물이다.[9] The resin composition according to any one of [1] to [8], wherein the content of the filler of the component (D) is 5 to 70 mass% with respect to 100 mass% of the total amount of the resin composition.

[10] (E) 안정제를 추가로 포함하는, 상기 [1]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물이다.[10] (E) The resin composition according to any one of [1] to [9], further comprising a stabilizer.

[11] 상기 (E) 성분의 안정제가 액상 붕산에스테르 화합물, 알루미늄 킬레이트, 및 바르비투르산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인, 상기 [10]에 기재된 수지 조성물이다.[11] The resin composition according to [10], wherein the stabilizer of the component (E) is at least one selected from the group consisting of a liquid boric acid ester compound, an aluminum chelate, and a barbituric acid.

[12] 상기 [1]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물을 포함하는 접착제이다.[12] An adhesive comprising the resin composition according to any one of [1] to [11].

[13] 상기 [1]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물을 포함하는 봉지재이다. [13] A sealing material comprising the resin composition according to any one of [1] to [11].

[14] 상기 [12]에 기재된 접착제 또는 상기 [13]에 기재된 봉지재를 사용하여 제조된 이미지 센서 모듈이다.[14] An image sensor module manufactured using the adhesive according to the above [12] or the encapsulant according to the above [13].

[15] 상기 [12]에 기재된 접착제 또는 상기 [13]에 기재된 봉지재를 사용하여 제조된 반도체 장치이다.[15] A semiconductor device manufactured using the adhesive according to the above [12] or the encapsulant according to the above [13].

본 발명에 의하면, 80℃ 정도의 저온에서의 경화가 가능하고, 내습성 및 응력 흡수성이 우수한 경화물이 얻어지며, 사용시 취급성이 양호한 수지 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a resin composition which can be cured at a low temperature of about 80° C., a cured product excellent in moisture resistance and stress absorption properties is obtained, and has good handling properties during use.

이하, 본 개시에 따른 수지 조성물, 접착제, 봉지재, 이미지 센서 모듈, 및 반도체 장치의 실시형태에 기초하여 설명한다. 단, 이하에 나타내는 실시형태는 본 발명의 기술 사상을 구체화하기 위한 예시로서, 본 발명은 이하의 수지 조성물, 접착제, 봉지재, 이미지 센서 모듈, 및 반도체 장치로 한정되지 않는다.Hereinafter, description will be made based on embodiments of a resin composition, an adhesive, an encapsulant, an image sensor module, and a semiconductor device according to the present disclosure. However, the embodiments shown below are examples for realizing the technical idea of the present invention, and the present invention is not limited to the following resin compositions, adhesives, encapsulants, image sensor modules, and semiconductor devices.

본 발명의 제1 실시형태에 따른 수지 조성물은,The resin composition according to the first embodiment of the present invention,

(A) 에폭시 수지와,(A) an epoxy resin;

(B) 분자 내에 방향환 구조 또는 지환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물, 및, 분자 내에 방향환 구조 또는 복소환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 있어도 되고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 2관능 티올 화합물과,(B) a bifunctional thiol compound having an aromatic ring structure or an alicyclic structure in the molecule, and a molecular chain containing a hetero atom and not including an ester bond, having a thiol group at the terminal, and having a molecular weight of 210 or more, and an aroma in the molecule At least one selected from the group consisting of a ring structure or a heterocyclic structure and a bifunctional thiol compound having a molecular weight of 210 or more, including a molecular chain having a thiol group at the terminal, which may contain a hetero atom or does not contain an ester bond. and a bifunctional thiol compound of

(C) 아민 화합물과,(C) an amine compound;

(D) 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하인 필러를 포함한다.(D) The average particle diameter contains the filler which is 0.1 micrometer or more and 10 micrometers or less.

(A) 성분: 에폭시 수지(A) component: epoxy resin

수지 조성물은 (A) 성분으로서 에폭시 수지를 포함한다. (A) 성분의 에폭시 수지로서 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 카테콜, 레조르시놀 등의 다가 페놀과, 에피클로로히드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에테르, 1,6-비스(2,3-에폭시프로폭시)나프탈렌과 같은 나프탈렌 골격을 갖는 에폭시 수지, 에폭시화 페놀 노볼락 수지, 에폭시화 크레졸 노볼락 수지, 에폭시화 폴리올레핀, 고리형 지방족 에폭시 수지, 우레탄 변성 에폭시 수지, 실리콘 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지로 한정되는 것은 아니다. (A) 성분의 에폭시 수지는 수지 조성물로 이루어지는 경화물의 내습성을 개선하기 위해, 에스테르 결합을 포함하지 않는 에폭시 수지인 것이 바람직하다. 이러한 에폭시 수지로는, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.A resin composition contains an epoxy resin as (A) component. (A) Polyglycidyl ether obtained by reacting epichlorohydrin with polyhydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, catechol and resorcinol as the epoxy resin of component (A), 1,6-bis(2) ,3-epoxypropoxy) epoxy resin having a naphthalene skeleton such as naphthalene, epoxidized phenol novolac resin, epoxidized cresol novolac resin, epoxidized polyolefin, cyclic aliphatic epoxy resin, urethane-modified epoxy resin, silicone-modified epoxy resin and the like. It is not limited to these resins. In order that the epoxy resin of (A) component may improve the moisture resistance of the hardened|cured material which consists of a resin composition, it is preferable that it is an epoxy resin which does not contain an ester bond. As such an epoxy resin, a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, etc. are mentioned, for example.

(A) 성분의 에폭시 수지는 방향환을 포함하지 않는 에폭시 수지여도 된다. 여기서 방향환은 휘켈 규칙을 만족하는 구조이며, 예를 들면 벤젠 고리이다. (A) 성분의 에폭시 수지로서 방향환을 포함하지 않는 에폭시 수지는, 수첨 비스 페놀형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 알코올 에테르형 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지로 한정되는 것은 아니다. 이러한 에폭시 수지로서, 예를 들면 수첨 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수첨 비스페놀 F형 에폭시 수지, 에폭시 변성 폴리부타디엔, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 등을 들 수 있다. (A) 성분으로서 방향환을 포함하지 않는 에폭시 수지를 사용하는 경우, 방향환을 포함하지 않는 에폭시 수지에 포함되는 에폭시기의 수는, 점도 및 접착성의 관점에서, 수지 조성물 중 전체 에폭시기의 수를 100으로 했을 때 20∼100인 것이 바람직하고, 40∼100인 것이 보다 바람직하며, 50∼100인 것이 더욱 바람직하다.(A) The epoxy resin which does not contain an aromatic ring may be sufficient as the epoxy resin of a component. Here, the aromatic ring is a structure satisfying Hückel's rule, for example, a benzene ring. (A) As an epoxy resin which does not contain an aromatic ring as an epoxy resin of a component, a hydrogenated bisphenol type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an alcohol ether type epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, etc. are mentioned. It is not limited to these resins. Examples of such an epoxy resin include a hydrogenated bisphenol A-type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol F-type epoxy resin, an epoxy-modified polybutadiene, and 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether. (A) When using an epoxy resin not containing an aromatic ring as the component, the number of epoxy groups contained in the epoxy resin not containing an aromatic ring is, from the viewpoint of viscosity and adhesiveness, the total number of epoxy groups in the resin composition is 100 It is preferable that it is 20-100, it is more preferable that it is 40-100, and it is still more preferable that it is 50-100.

(A) 성분의 에폭시 수지로서, 예를 들면 이하의 식 (A-1)로 나타내는 에폭시 수지를 들 수 있다.(A) As an epoxy resin of a component, the epoxy resin represented, for example by the following formula (A-1) is mentioned.

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (A-1) 중, R5는 탄소수가 1∼15의 직쇄형 또는 분지형 알킬렌기이고, w는 1∼20의 정수이다.In formula (A-1), R<5> is a C1-C15 linear or branched alkylene group, and w is an integer of 1-20.

식 (A-1)로 나타내는 에폭시 수지는 하기 식 (A-1-1) 및/또는 (A-1-2)로 나타내는 에폭시 수지여도 된다.The epoxy resin represented by the formula (A-1) may be an epoxy resin represented by the following formulas (A-1-1) and/or (A-1-2).

Figure pct00008
Figure pct00008

식 (A-1-1) 중, x는 1∼15의 정수이다.In formula (A-1-1), x is an integer of 1-15.

Figure pct00009
Figure pct00009

식 (A-1-2) 중, y는 1∼20의 정수이다.In formula (A-1-2), y is an integer of 1-20.

(A) 성분의 에폭시 수지는 예를 들면, 이하의 식 (A-2)로 나타내는 에폭시 수지여도 된다.(A) The epoxy resin of the component may be an epoxy resin represented by the following formula (A-2), for example.

Figure pct00010
Figure pct00010

식 (A-2) 중, R6∼R9는 각각 독립적으로 탄소수 1∼3의 직쇄형 또는 분지형 알킬기이다.In the formula (A-2), R 6 to R 9 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

(A) 성분의 에폭시 수지는 점도와 휘발성의 밸런스의 관점에서, 중량 평균 분자량이 240∼1,000인 것이 바람직하다. (A) 성분의 에폭시 수지는 중량 평균 분자량이 보다 바람직하게는 250∼1,000이고, 더욱 바람직하게는 260∼1,000이며, 보다 더욱 바람직하게는 270∼1,000이다. (A) 성분의 에폭시 수지의 중량 평균 분자량이 240 미만이면, 휘발성이 높아지기 쉬워, 경화물에 보이드가 발생할 우려가 있다. 한편, (A) 성분의 에폭시 수지의 중량 평균 분자량이 1,000을 초과하면, 고점도가 되어 작업성이 악화되는 경우가 있다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피법(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌에 의한 검량선을 사용한 값을 말한다.(A) It is preferable that weight average molecular weights are 240-1,000 from a viewpoint of balance of a viscosity and volatility of the epoxy resin of component. (A) As for the epoxy resin of component, Weight average molecular weight becomes like this. More preferably, it is 250-1,000, More preferably, it is 260-1,000, More preferably, it is 270-1,000. (A) When the weight average molecular weight of the epoxy resin of component is less than 240, volatility becomes high easily, and there exists a possibility that a void may generate|occur|produce in hardened|cured material. On the other hand, when the weight average molecular weight of the epoxy resin of (A) component exceeds 1,000, it may become high viscosity and workability|operativity may deteriorate. In this specification, a weight average molecular weight means the value using the analytical curve by standard polystyrene by the gel permeation chromatography method (GPC).

(B) 성분: 2관능 티올 화합물(B) component: bifunctional thiol compound

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물 중에 포함되는 (B) 2관능 티올 화합물은, 분자 내에 방향환 구조 또는 지환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물, 및, 분자 내에 방향환 구조 또는 복소환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 있어도 되고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 2관능 티올 화합물이다. (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 시코쿠 화성 공업 주식회사로부터 입수할 수 있다.The (B) bifunctional thiol compound contained in the resin composition of one embodiment of the present invention has an aromatic ring structure or an alicyclic structure in the molecule, and a hetero atom and no ester bond. A molecular chain having a thiol group at the terminal. A bifunctional thiol compound having a molecular weight of 210 or more, and an aromatic ring structure or a heterocyclic structure in the molecule, and a molecular chain having a thiol group at the terminal, which may contain a hetero atom or does not contain an ester bond, , at least one type of bifunctional thiol compound selected from the group consisting of bifunctional thiol compounds having a molecular weight of 210 or more. (B) The bifunctional thiol compound of component can be obtained from Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.

(B) 성분의 2관능 티올 화합물은 분자량이 210 이상이며, 휘발성이 낮기 때문에, 예를 들면 80℃의 저온에서 수지 조성물을 열경화시킬 때 2관능 티올 화합물이 휘발하지 않아, 보이드의 발생이 억제되어 물성을 유지한 경화물을 얻을 수 있다. 분자량은 280 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 경화성의 관점에서, 분자량이 1,000 이하인 것이 바람직하고, 600 이하인 것이 보다 바람직하다.Since the bifunctional thiol compound of component (B) has a molecular weight of 210 or more and has low volatility, the bifunctional thiol compound does not volatilize when thermosetting the resin composition at a low temperature of, for example, 80° C., and generation of voids is suppressed It is possible to obtain a cured product maintaining physical properties. As for molecular weight, it is more preferable that it is 280 or more. Moreover, it is preferable from a sclerosis|hardenable viewpoint that molecular weight is 1,000 or less, and, as for the bifunctional thiol compound of (B) component, it is more preferable that it is 600 or less.

(B) 성분의 2관능 티올 화합물은 헤테로 원자를 갖고, (A) 성분의 에폭시 수지와의 상용성이 양호하며, 예를 들면 80℃의 저온에서의 경화에 의해, 균질한 경화물이 얻어진다. (B) 성분의 방향환 구조는 5원환 이상의 단환 방향환 구조, 예를 들면 시클로펜타디엔, 벤젠 등을 들 수 있다. 지환 구조는 5원환 이상의 단환 지환 구조, 예를 들면, 시클로펜탄, 시클로헥센 등을 들 수 있다. 복소환 구조는 단환이어도 다환이어도 되고, 헤테로 원자를 갖는 지환 구조여도 되며, 헤테로 원자를 갖는 방향환 구조여도 되고, 헤테로 원자를 갖는 축합 다환 구조여도 된다. 분자 사슬 중에 포함되는 헤테로 원자는, 예를 들면 황(S), 산소(O) 원자를 들 수 있고, 분자 사슬 중에 티오에테르 결합 또는 에테르 결합을 포함하는 것이 바람직하다. (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 에폭시 수지와의 상용성 및 저휘발성의 관점에서, 헤테로 원자가 황 원자인 것, 즉, 분자 내에 지환 구조와, 티오에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 에폭시 수지와의 상용성 및 저휘발성의 관점에서, 헤테로 원자가 산소 원자인 것, 즉, 분자 내에 방향환 구조와, 에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는 것이 바람직하다. 금속에 대한 접착 강도의 관점에서, (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 분자 내에 지환 구조와, 티오에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는 것이 보다 바람직하다.The bifunctional thiol compound of component (B) has a hetero atom, and compatibility with the epoxy resin of component (A) is good, for example, by curing at a low temperature of 80° C., a homogeneous cured product is obtained. . (B) As for the aromatic ring structure of a component, a monocyclic aromatic ring structure more than 5-membered ring, for example, cyclopentadiene, benzene, etc. are mentioned. Examples of the alicyclic structure include monocyclic alicyclic structures of 5 or more membered rings, such as cyclopentane and cyclohexene. The heterocyclic structure may be monocyclic or polycyclic, may be an alicyclic structure having a hetero atom, may be an aromatic ring structure having a hetero atom, or may be a condensed polycyclic structure having a hetero atom. The hetero atom contained in the molecular chain includes, for example, sulfur (S) and oxygen (O) atoms, and it is preferable to include a thioether bond or an ether bond in the molecular chain. (B) The bifunctional thiol compound of component is from the viewpoint of compatibility with the epoxy resin and low volatility, that the hetero atom is a sulfur atom, that is, it contains an alicyclic structure and a thioether bond in the molecule and does not contain an ester bond. , it is preferable to include a molecular chain having a thiol group at the terminal. In addition, from the viewpoint of compatibility with the epoxy resin and low volatility, the bifunctional thiol compound of component (B) is one in which the hetero atom is an oxygen atom, that is, an aromatic ring structure in the molecule, an ether bond, and an ester bond It is preferable to include a molecular chain having a thiol group at the terminal. From the viewpoint of adhesive strength to metal, the bifunctional thiol compound of component (B) contains an alicyclic structure and a thioether bond in the molecule and does not contain an ester bond. It is preferable to include a molecular chain having a thiol group at the terminal. desirable.

또한, (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 2개의 티올기를 갖기 때문에, 수지 조성물을 경화시킨 경우, 3관능 이상의 티올 화합물이 주체인 경화물에 비해, 응력 흡수성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.In addition, since the bifunctional thiol compound of component (B) has two thiol groups, when the resin composition is cured, a cured product excellent in stress absorption properties can be obtained compared to a cured product mainly composed of a trifunctional or higher functional thiol compound.

또한, (B) 성분의 2관능 티올 화합물은 분자 내에 에스테르 결합을 포함하지 않기 때문에, 예를 들면 PCT에 있어서의 환경과 같은 고온 고습하에 있어서도 내가수분해성이 높아, 얻어지는 경화물의 접착 강도를 유지할 수 있다.In addition, since the bifunctional thiol compound of component (B) does not contain an ester bond in the molecule, it has high hydrolysis resistance even under high temperature and high humidity, such as an environment in PCT, so that the adhesive strength of the resulting cured product can be maintained. have.

(B) 성분은 예를 들면, 하기 식 (B-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다. (B-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물은 시코쿠 화성 공업 주식회사로부터 입수할 수 있다.(B) It is preferable that a component is a bifunctional thiol compound represented, for example by a following formula (B-1). The bifunctional thiol compound represented by (B-1) can be obtained from Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (B-1) 중, n, m은 각각 독립적으로 1∼3의 정수이며, n, m은 각각 2인 것이 바람직하다.In formula (B-1), n and m are each independently an integer of 1-3, and it is preferable that n and m are 2 respectively.

식 (B-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물은, 하기 식 (B-1-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the bifunctional thiol compound represented by a formula (B-1) is a bifunctional thiol compound represented by a following formula (B-1-1).

Figure pct00012
Figure pct00012

(B) 성분은 예를 들면, 하기 식 (B-2)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다. (B-2)로 나타내는 2관능 티올 화합물은 시코쿠 화성 공업 주식회사로부터 입수할 수 있다.(B) It is preferable that a component is a bifunctional thiol compound represented, for example by a following formula (B-2). The bifunctional thiol compound represented by (B-2) can be obtained from Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (B-2) 중, R1, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이다. 단, R1 및 R2 중 어느 한쪽은 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이며, R3 및 R4 중 어느 한쪽은 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이다.In formula (B-2), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom or a group represented by the following formula (b-1). However, either one of R 1 and R 2 is a group represented by the following formula (b-1), and either one of R 3 and R 4 is a group represented by the following formula (b-1).

Figure pct00014
Figure pct00014

식 (b-1) 중, r은 1∼3의 정수이며, 2인 것이 바람직하다.In formula (b-1), r is an integer of 1-3, and it is preferable that it is 2.

식 (B-2)로 나타내는 2관능 티올 화합물은, 하기 식 (B-2-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the bifunctional thiol compound represented by Formula (B-2) is a bifunctional thiol compound represented by a following formula (B-2-1).

Figure pct00015
Figure pct00015

(B) 성분은 예를 들면, 하기 식 (B-3)으로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다. (B-3)으로 나타내는 2관능 티올 화합물은 시코쿠 화성 공업 주식회사로부터 입수할 수 있다.(B) It is preferable that a component is a bifunctional thiol compound represented, for example by a following formula (B-3). The bifunctional thiol compound represented by (B-3) can be obtained from Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.

Figure pct00016
Figure pct00016

식 (B-3) 중, G1, G2는 각각 독립적으로 -O- 또는 -CH2-로 결합되는 2가의 기이며, p, q는 각각 독립적으로 2∼5의 정수이다. G1, G2는 -O-로 결합되는 2가의 기인 것이 바람직하고, p, q는 3 또는 4인 것이 바람직하며, 4인 것이 보다 바람직하다.In formula (B-3), G 1 and G 2 are each independently a divalent group bonded to -O- or -CH 2 -, and p and q are each independently an integer of 2 to 5. It is preferable that G 1 and G 2 are a divalent group bonded by -O-, p and q are preferably 3 or 4, and more preferably 4.

상기 식 (B-3)으로 나타내는 2관능 티올 화합물은, 하기 식 (B-3-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the bifunctional thiol compound represented by the said Formula (B-3) is a bifunctional thiol compound represented by a following formula (B-3-1).

Figure pct00017
Figure pct00017

상기 (B) 성분은 예를 들면, 하기 식 (B-4)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다. (B-4)로 나타내는 2관능 티올 화합물은 시코쿠 화성 공업 주식회사로부터 입수할 수 있다.It is preferable that the said (B) component is a bifunctional thiol compound represented, for example by a following formula (B-4). The bifunctional thiol compound represented by (B-4) can be obtained from Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.

Figure pct00018
Figure pct00018

식 (B-4) 중, s, t는 각각 독립적으로 3 또는 4의 정수이며, 4인 것이 바람직하다.In formula (B-4), s and t are each independently the integer of 3 or 4, and it is preferable that it is 4.

상기 (B) 성분은 예를 들면, 하기 식 (B-5)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 것이 바람직하다. (B-5)로 나타내는 2관능 티올 화합물은 시코쿠 화성 공업 주식회사로부터 입수할 수 있다.It is preferable that the said (B) component is a bifunctional thiol compound represented, for example by a following formula (B-5). The bifunctional thiol compound represented by (B-5) can be obtained from Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.

Figure pct00019
Figure pct00019

식 (B-5) 중, u,v는 각각 독립적으로 3 또는 4의 정수이며, 4인 것이 바람직하다.In formula (B-5), u and v are each independently the integer of 3 or 4, and it is preferable that it is 4.

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물에 있어서, 추가로 (B) 성분 이외의 티올 화합물(단관능 티올 화합물, 2관능 티올 화합물, 3관능 이상의 티올 화합물)을 포함하고 있어도 된다. (B) 성분의 2관능 티올 화합물에 포함되는 티올기의 수는, 수지 조성물 중의 전체 티올기의 수를 100으로 했을 때 20∼100인 것이 바람직하고, 40∼100인 것이 보다 바람직하며, 50∼100인 것이 더욱 바람직하다. 수지 조성물 중에 포함되는 에폭시 수지의 에폭시기에 대한 전체 티올 화합물의 티올기의 당량비(에폭시 당량:티올 당량)는, 1:0.5에서 1:1.5인 것이 바람직하다. 수지 조성물에 있어서, 수지 조성물에 포함되는 에폭시 수지의 에폭시 당량에 대해 티올 당량이 0.5당량 미만 혹은 1.5당량 초과하는 양이라면, 미반응의 에폭시 수지 혹은 티올 화합물이 경화물에 잔존하기 때문에, 수지 조성물의 접착 강도가 저하된다.The resin composition of one Embodiment of this invention WHEREIN: You may contain thiol compounds (monofunctional thiol compound, a bifunctional thiol compound, a trifunctional or more than trifunctional thiol compound) other than (B) component further. (B) When the number of the thiol groups contained in the bifunctional thiol compound of component makes the number of all thiol groups in a resin composition 100, it is preferable that it is 20-100, It is more preferable that it is 40-100, It is 50- 100 is more preferable. It is preferable that the equivalent ratio of the thiol groups of all thiol compounds to the epoxy groups of the epoxy resin contained in the resin composition (epoxy equivalent: thiol equivalent) is 1:0.5 to 1:1.5. In the resin composition, if the thiol equivalent is less than 0.5 equivalent or more than 1.5 equivalent with respect to the epoxy equivalent of the epoxy resin contained in the resin composition, unreacted epoxy resin or thiol compound remains in the cured product, so the resin composition The adhesive strength is lowered.

(C) 성분: 아민 화합물(C) component: amine compound

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물에 있어서, (C) 성분의 아민 화합물은 이미다졸계 화합물, 3차 아민계 화합물, 및 아민 어덕트로부터 선택되는 적어도 1종의 아민 화합물인 것이 바람직하다. (C) 성분의 아민 화합물은 에폭시 수지의 경화 촉진제로서의 기능을 갖는 것이 바람직하다. 예를 들면, (C) 성분의 아민 화합물은 실온에서는 불용인 고체로, 가열함으로써 가용화하여 경화 촉진제로서 기능하는 화합물인 것이 바람직하고, 그 예로서, 상온에서 고체인 이미다졸계 화합물, 3차 아민 화합물, 고체 분산형 아민 어덕트계 잠재성 경화 촉진제, 예를 들면, 아민 화합물과 에폭시 화합물의 반응 생성물(아민-에폭시 어덕트계 잠재성 경화 촉진제), 아민 화합물과 이소시아네이트 화합물 또는 요소 화합물의 반응 생성물(요소형 어덕트계 잠재성 경화 촉진제) 등을 들 수 있다.In the resin composition of one embodiment of the present invention, the amine compound of component (C) is preferably at least one amine compound selected from an imidazole-based compound, a tertiary amine-based compound, and an amine adduct. (C) It is preferable that the amine compound of component has a function as a hardening accelerator of an epoxy resin. For example, the amine compound of component (C) is a solid insoluble at room temperature, and is preferably a compound that functions as a curing accelerator by solubilization by heating, for example, imidazole-based compounds that are solid at room temperature, tertiary amines compound, a solid dispersion type amine adduct-based latent curing accelerator, such as a reaction product of an amine compound and an epoxy compound (amine-epoxy adduct-based latent curing accelerator), a reaction product of an amine compound and an isocyanate compound or a urea compound (Urea type adduct system latent hardening accelerator) etc. are mentioned.

이미다졸계 화합물로는, 예를 들면, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-벤질-5-히드록시메틸이미다졸, 2,4-디아미노-6-(2-메틸이미다졸릴-(1))-에틸-S-트리아진, 2,4-디아미노-6-(2'-메틸이미다졸릴-(1)')-에틸-S-트리아진·이소시아누르산 부가물, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸트리멜리테이트, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸트리멜리테이트, N-(2-메틸이미다졸릴-1-에틸)-요소, N,N'-(2-메틸이미다졸릴-(1)-에틸)-아디포일디아미드 등을 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the imidazole compound include 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-undecylimidazole, and 2-phenyl-4-methyl. -5-Hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-benzyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,4-diamino-6-(2-methylimidazolyl-(1))-ethyl -S-triazine, 2,4-diamino-6-(2'-methylimidazolyl-(1)')-ethyl-S-triazine-isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole , 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole trimellitate, 1- Cyanoethyl-2-phenylimidazole trimellitate, N-(2-methylimidazolyl-1-ethyl)-urea, N,N'-(2-methylimidazolyl-(1)-ethyl) -Adipoyldiamide, etc. may be mentioned, but are not limited thereto.

3차 아민계 화합물로는, 예를 들면 디메틸아미노프로필아민, 디에틸아미노프로필아민, 디-n-프로필아미노프로필아민, 디부틸아미노프로필아민, 디메틸아미노에틸아민, 디에틸아미노에틸아민, N-메틸피페라진 등의 아민 화합물이나, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸 화합물과 같은, 분자 내에 3차 아미노기를 갖는 1차 또는 2차 아민류; 2-디메틸아미노에탄올, 1-메틸-2-디메틸아미노에탄올, 1-페녹시메틸-2-디메틸아미노에탄올, 2-디에틸아미노에탄올, 1-부톡시메틸-2-디메틸아미노에탄올, 1-(2-히드록시-3-페녹시프로필)-2-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-페녹시프로필)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-부톡시프로필)-2-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-부톡시프로필)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-페녹시프로필)-2-페닐이미다졸린, 1-(2-히드록시-3-부톡시프로필)-2-메틸이미다졸린, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, N-β-히드록시에틸모르폴린, 2-디메틸아미노에탄티올, 2-메르캅토피리딘, 2-벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 4-메르캅토피리딘, N,N-디메틸아미노벤조산, N,N-디메틸글리신, 니코틴산, 이소니코틴산, 피콜린산, N,N-디메틸글리신히드라지드, N,N-디메틸프로피온산히드라지드, 니코틴산히드라지드, 이소니코틴산히드라지드 등과 같은, 분자 내에 3차 아미노기를 갖는 알코올류, 페놀류, 티올류, 카르복실산류, 및 히드라지드류; 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 3차 아민계 화합물로는, 예를 들면 후지큐어 FXR-1030, 후지큐어 FXR-1020(주식회사 T&K TOKA 제조)을 들 수 있다.Examples of the tertiary amine compound include dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine, di-n-propylaminopropylamine, dibutylaminopropylamine, dimethylaminoethylamine, diethylaminoethylamine, N- In molecules such as amine compounds such as methylpiperazine and imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole primary or secondary amines having a tertiary amino group; 2-dimethylaminoethanol, 1-methyl-2-dimethylaminoethanol, 1-phenoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, 2-diethylaminoethanol, 1-butoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, 1-( 2-hydroxy-3-phenoxypropyl)-2-methylimidazole, 1-(2-hydroxy-3-phenoxypropyl)-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-(2- Hydroxy-3-butoxypropyl)-2-methylimidazole, 1-(2-hydroxy-3-butoxypropyl)-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-(2-hydroxyl) -3-Phenoxypropyl)-2-phenylimidazoline, 1-(2-hydroxy-3-butoxypropyl)-2-methylimidazoline, 2-(dimethylaminomethyl)phenol, 2,4, 6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, N-β-hydroxyethylmorpholine, 2-dimethylaminoethanethiol, 2-mercaptopyridine, 2-benzoimidazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mer Captobenzothiazole, 4-mercaptopyridine, N,N-dimethylaminobenzoic acid, N,N-dimethylglycine, nicotinic acid, isonicotinic acid, picolinic acid, N,N-dimethylglycine hydrazide, N,N-dimethylpropionic acid alcohols, phenols, thiols, carboxylic acids, and hydrazides having a tertiary amino group in the molecule, such as hydrazide, nicotinic acid hydrazide, isonicotinic acid hydrazide, and the like; and the like. Examples of commercially available tertiary amine compounds include Fujicure FXR-1030 and Fujicure FXR-1020 (manufactured by T&K TOKA Corporation).

시판되고 있는 고체 분산형 아민 어덕트계 잠재성 경화 촉진제의 예로는, 노바큐어 HXA9322HP(아사히 카세이 주식회사 제조), 후지큐어 FXR-1121(주식회사 T&K TOKA 제조), 아미큐어 PN-23, 아미큐어 PN-F(아지노모토 파인 테크노 주식회사 제조) 등을 들 수 있다. 고체 분산형 아민 어덕트계 잠재성 경화제 또는 잠재성 경화 촉진제의 보다 상세한 예는, 일본 공개특허공보 2014-77024호의 기재를 원용한다.Examples of commercially available solid dispersion type amine adduct latent curing accelerators include Novacure HXA9322HP (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Fujicure FXR-1121 (manufactured by T&K TOKA Corporation), Amicure PN-23, Amicure PN- F (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.); and the like. The description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-77024 is used as a more detailed example of a solid dispersion type amine adduct system latent hardening|curing agent or a latent hardening accelerator.

수지 조성물에 포함되는 (C) 성분의 아민 화합물의 함유량은 아민 화합물의 종류에 따라 상이하다. 포트라이프를 길게 하는 관점에서, 수지 조성물에 포함되는 (C) 아민 화합물은 수지 조성물에 포함되는 에폭시 수지 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.1∼40질량부, 보다 바람직하게는 0.5∼35질량부, 보다 더 바람직하게는 1.0∼30질량부이다. 한편, (C) 성분에는, 에폭시 수지에 분산된 분산액의 형태로 제공되는 것이 있다. 이러한 형태의 (C) 성분을 사용하는 경우, (C) 성분이 분산되어 있는 에폭시 수지의 양도, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 상기 (A) 성분의 양에 포함된다.Content of the amine compound of (C)component contained in a resin composition changes with the kind of amine compound. From the viewpoint of lengthening the pot life, the (C) amine compound contained in the resin composition is preferably 0.1 to 40 parts by mass, more preferably 0.5 to 35 parts by mass to 100 parts by mass of the epoxy resin contained in the resin composition. , More preferably, it is 1.0-30 mass parts. On the other hand, some of the components (C) are provided in the form of a dispersion dispersed in an epoxy resin. When using (C)component of such an aspect, the quantity of the epoxy resin in which (C)component is disperse|distributed is also contained in the quantity of the said (A) component in the resin composition of this invention.

(D) 성분: 필러(D) Ingredient: Filler

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물 중에 포함되는 (D) 성분의 필러는, 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.1㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상 5㎛ 이하이고, 보다 더 바람직하게는 0.1㎛ 이상 3㎛ 이하이다. 수지 조성물에 포함되는 (D) 성분의 필러의 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하이면, 비교적 높은 온도의 환경에서 수지 조성물을 사용한 경우여도, 수지 조성물의 점도의 저하를 억제할 수 있고, 취급성이 향상된다. (D) 성분의 필러의 평균 입경이 0.1㎛ 미만이면, 점도가 상승하여 작업성에 악영향을 미치는 경우가 있다. (D) 성분의 필러의 평균 입경이 10㎛를 초과하면, 가온하에서의 점도 저하가 현저해진다. 필러의 평균 입경은 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 체적 기준의 입도 분포에 있어서의 소경측에서의 체적 누적 빈도가 50%에 달하는 입경(메디안 직경)을 말한다. 시판의 필러를 사용한 경우에는, 필러의 평균 입경은 카탈로그에 기재된 평균 입경을 참조할 수 있다.The filler of (D) component contained in the resin composition of one Embodiment of this invention has an average particle diameter of 0.1 micrometer or more and 10 micrometers or less, Preferably they are 0.1 micrometer or more and 8 micrometers or less, More preferably, they are 0.1 micrometer or more and 5 It is micrometer or less, More preferably, it is 0.1 micrometer or more and 3 micrometers or less. If the average particle diameter of the filler of the component (D) contained in the resin composition is 0.1 µm or more and 10 µm or less, even when the resin composition is used in a relatively high temperature environment, a decrease in the viscosity of the resin composition can be suppressed, and handleability is achieved. This is improved. (D) When the average particle diameter of the filler of component is less than 0.1 micrometer, a viscosity may rise and it may exert a bad influence on workability|operativity. (D) When the average particle diameter of the filler of a component exceeds 10 micrometers, the viscosity fall under heating becomes remarkable. The average particle diameter of the filler refers to a particle diameter (median diameter) at which the volume accumulation frequency on the small-diameter side in the volume-based particle size distribution by the laser diffraction scattering particle size distribution measurement method reaches 50%. When a commercially available filler is used, the average particle diameter of a filler can refer to the average particle diameter described in a catalog.

(D) 성분의 필러의 함유량은 수지 조성물의 전체량 100질량%에 대해, 바람직하게는 5∼70질량%, 보다 바람직하게는 8∼60질량%, 더욱 바람직하게는 10∼50질량%이다. (D) 성분의 필러의 함유량이 수지 조성물의 전체량 100질량%에 대해 5질량% 미만이면, 필러의 양이 지나치게 적어, 예를 들면, 고온하(가온하)에 있어서, 수지 조성물의 점도의 저하를 억제하기 어려워지고, 70질량%를 초과하면, 필러의 양이 지나치게 많아, 수지 조성물의 점도가 높아져 취급성이 양호하지 않은 경우가 있다.(D) To [ content of the filler of component / 100 mass % of whole quantity of a resin composition ], Preferably it is 5-70 mass %, More preferably, it is 8-60 mass %, More preferably, it is 10-50 mass %. (D) When content of the filler of component is less than 5 mass % with respect to 100 mass % of the total amount of resin composition, there is too little quantity of a filler, For example, under high temperature (under heating). When it becomes difficult to suppress a fall, and exceeds 70 mass %, there may be too many quantities of a filler, the viscosity of a resin composition may become high, and handleability may not be favorable.

(D) 성분의 필러의 입자 형상은 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하인 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 구 형상 또는 인편 형상의 것을 사용할 수 있다.The particle shape of the filler of component (D) will not be specifically limited if an average particle diameter is 0.1 micrometer or more and 10 micrometers or less, For example, a spherical shape or a scale-like thing can be used.

(D) 성분의 필러는 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하의 것이면, 재질은 특별히 한정되지 않으며, 접착제 용도 또는 봉지재 용도에 첨가되는 필러로부터 넓게 선택할 수 있다. 구체적으로는, 실리카, 알루미나, 티타니아, 마그네시아, 유리 등의 무기 물질로 이루어지는 필러를 들 수 있다. 이들 중에서도, 실리카, 알루미나로 이루어지는 필러가 저열팽창성, 저흡수성의 관점에서 바람직하게 사용할 수 있다. (D) 성분의 필러는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 시판품으로는, 예를 들면 실리카 필러(제품명: SOE2, 주식회사 아드마텍스 제조, 평균 입경: 0.5㎛), 실리카 필러(제품명: SE1050, 주식회사 아드마텍스 제조, 평균 입경: 0.3㎛), 실리카 필러(제품명: MP-8FS, 주식회사 다츠모리 제조, 평균 입경: 0.7㎛), 실리카 필러(제품명: SOE5, 주식회사 아드마텍스 제조, 평균 입경: 1.5㎛), 실리카 필러(제품명: FB5SDX, 전기 화학 공업 주식회사 제조, 평균 입경: 5㎛), 실리카 필러(제품명: BSP6, 주식회사 다츠모리 제조, 평균 입경: 5㎛), 실리카 필러(제품명: FB7SDX, 전기 화학 공업 주식회사 제조, 평균 입경: 7㎛) 등을 들 수 있다.As long as the filler of component (D) has an average particle diameter of 0.1 µm or more and 10 µm or less, the material is not particularly limited, and it can be widely selected from fillers added to adhesive applications or encapsulant applications. Specifically, the filler which consists of inorganic substances, such as silica, alumina, titania, magnesia, and glass, is mentioned. Among these, the filler which consists of silica and alumina can be used preferably from a viewpoint of low thermal expansibility and low water absorption. (D) The filler of component may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Commercially available products include, for example, silica filler (product name: SOE2, manufactured by Admatex Corporation, average particle diameter: 0.5 µm), silica filler (product name: SE1050, manufactured by Admatex Corporation, average particle diameter: 0.3 µm), silica filler ( Product name: MP-8FS, manufactured by Tatsumori Corporation, average particle diameter: 0.7 µm), silica filler (product name: SOE5, manufactured by Admatex Corporation, average particle diameter: 1.5 µm), silica filler (product name: FB5SDX, manufactured by Electrochemical Industries, Ltd.) , average particle diameter: 5 μm), silica filler (product name: BSP6, manufactured by Tatsumori Corporation, average particle diameter: 5 μm), silica filler (product name: FB7SDX, manufactured by Electrochemical Industries, Ltd., average particle diameter: 7 μm), etc. have.

(E) 성분: 안정제(E) Ingredient: Stabilizer

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 (E) 성분의 안정제를 포함하고 있어도 된다. 수지 조성물은 (E) 성분의 안정제를 포함함으로써, 상온(25℃)에서의 저장 안정성을 향상시켜, 포트라이프를 길게 할 수 있다. (E) 성분의 안정제로는, 액상 붕산에스테르 화합물, 알루미늄 킬레이트, 및 바르비투르산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개가, 상온(25℃)에서의 저장 안정성을 향상시키는 효과가 높기 때문에 바람직하다.The resin composition of one Embodiment of this invention may contain the stabilizer of (E) component. The resin composition can improve the storage stability in normal temperature (25 degreeC) and can lengthen a pot life by including the stabilizer of (E) component. (E) As a stabilizer of component, at least 1 selected from the group which consists of a liquid boric acid ester compound, an aluminum chelate, and barbituric acid is preferable because the effect of improving the storage stability at normal temperature (25 degreeC) is high.

액상 붕산에스테르 화합물로는, 예를 들면 2,2'-옥시비스(5,5'-디메틸-1,3,2-옥사보리난), 트리메틸보레이트, 트리에틸보레이트, 트리-n-프로필보레이트, 트리이소프로필보레이트, 트리-n-부틸보레이트, 트리펜틸보레이트, 트리알릴보레이트, 트리헥실보레이트, 트리시클로헥실보레이트, 트리옥틸보레이트, 트리노닐보레이트, 트리데실보레이트, 트리도데실보레이트, 트리헥사데실보레이트, 트리옥타데실보레이트, 트리스(2-에틸헥실옥시)보란, 비스(1,4,7,10-테트라옥사운데실)(1,4,7,10,13-펜타옥사테트라데실)(1,4,7-트리옥사운데실)보란, 트리벤질보레이트, 트리페닐보레이트, 트리-o-톨릴보레이트, 트리-m-톨릴보레이트, 트리에탄올아민보레이트를 사용할 수 있다.Examples of the liquid boric acid ester compound include 2,2'-oxybis(5,5'-dimethyl-1,3,2-oxaborinane), trimethylborate, triethylborate, tri-n-propylborate, Triisopropylborate, tri-n-butylborate, tripentylborate, triallylborate, trihexylborate, tricyclohexylborate, trioctylborate, trinonylborate, tridecylborate, tridodecylborate, trihexadecylborate , trioctadecyl borate, tris (2-ethylhexyloxy) borane, bis (1,4,7,10-tetraoxaundecyl) (1,4,7,10,13-pentaoxatetradecyl) (1 ,4,7-trioxaundecyl)borane, tribenzylborate, triphenylborate, tri-o-tolylborate, tri-m-tolylborate, and triethanolamineborate may be used.

한편, (E) 성분으로서 함유시키는 액상 붕산에스테르 화합물은 상온(25℃)에서 액상이기 때문에, 수지 조성물의 점도를 낮게 억제할 수 있어 바람직하다.On the other hand, since the liquid boric acid ester compound contained as (E) component is liquid at normal temperature (25 degreeC), since it can suppress low the viscosity of a resin composition, it is preferable.

(E) 성분으로서 수지 조성물에 액상 붕산에스테르 화합물을 함유시키는 경우, 수지 조성물 100질량부에 대해, 0.01∼5질량부인 것이 바람직하고, 0.03∼3질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1∼1질량부인 것이 더욱 바람직하다.(E) When making a resin composition contain a liquid boric acid ester compound as a component, it is preferable that it is 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions, It is more preferable that it is 0.03-3 mass parts, It is 0.1-1 mass part more preferably.

알루미늄 킬레이트로는, 예를 들면 알루미늄트리스아세틸아세트네이트(예를 들면, 카와켄 파인 케미컬 주식회사 제조의 ALA: 알루미늄 킬레이트 A)를 사용할 수 있다.As the aluminum chelate, for example, aluminum trisacetylacetate (eg, ALA manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.: aluminum chelate A) can be used.

(E) 성분으로서 알루미늄 킬레이트를 함유시키는 경우, 수지 조성물 100질량부에 대해, 0.01∼10질량부인 것이 바람직하고, 0.05∼5질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1∼3질량부인 것이 더욱 바람직하다.(E) When making an aluminum chelate contain as a component, it is preferable that it is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions, It is more preferable that it is 0.05-5 mass parts, It is still more preferable that it is 0.1-3 mass parts.

(E) 성분으로서 바르비투르산을 함유시키는 경우, 수지 조성물 100질량부에 대해, 0.01∼5질량부인 것이 바람직하고, 0.05∼3질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1∼1질량부인 것이 더욱 바람직하다.(E) When containing barbituric acid as a component, it is preferable that it is 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions, It is more preferable that it is 0.05-3 mass parts, It is still more preferable that it is 0.1-1 mass part.

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 추가로 필요에 따라, (F) 다른 성분으로서 실란 커플링제, 이온 트랩제, 레벨링제, 산화 방지제, 소포제, 및 요변제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 첨가제를 함유해도 된다. 또한, 점도 조정제, 난연제, 혹은 용제 등을 함유해도 된다.The resin composition of one embodiment of the present invention further, if necessary, (F) at least one selected from the group consisting of a silane coupling agent, an ion trapping agent, a leveling agent, an antioxidant, an antifoaming agent, and a thixotropic agent as another component You may contain an additive. Moreover, you may contain a viscosity modifier, a flame retardant, or a solvent.

수지 조성물의 점도Viscosity of the resin composition

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 디스팬서에 의해 도포된다. 일반적으로 디스팬서의 토출부는 가온되어 있다. 디스팬서의 토출부에는 쿨링 시스템이 설치되어 있지 않은 경우도 있다. 이러한 경우에는, 처음에는 30℃에서 도포하고 있어도, 시간의 경과와 함께 토출부가 40℃ 이상이 되기도 한다. 본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 30℃에 있어서의 점도가 0.05∼100Pa·s인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05∼80Pa·s, 더욱 바람직하게는 0.1∼70Pa·s이다. 수지 조성물의 30℃에 있어서의 점도가 0.05∼100Pa·s의 범위이면, 실온 부근에 있어서의 수지 조성물의 취급성이 양호하고, 이미지 센서 모듈이나 반도체 장치를 조립할 때 적합한 점도가 된다. 30℃에 있어서의 점도는 점탄성계 측정 장치(레오미터)(예를 들면, 티 에이 인스트루먼트(TA instrument) 재팬 주식회사 제조, 제품 번호: ARES-G2)를 이용하고, 후술하는 실시예에 있어서의 평가 방법에 기초하여 측정할 수 있다.The resin composition of one embodiment of the present invention is applied by a dispenser. In general, the discharge part of the dispenser is heated. A cooling system may not be installed in the discharge part of the dispenser. In such a case, even if it is apply|coating at 30 degreeC at first, the discharge part may become 40 degreeC or more with the lapse of time. It is preferable that the resin composition of one Embodiment of this invention has a viscosity in 30 degreeC of 0.05-100 Pa.s, More preferably, it is 0.05-80 Pa.s, More preferably, it is 0.1-70 Pa.s. When the viscosity at 30°C of the resin composition is in the range of 0.05 to 100 Pa·s, the handleability of the resin composition around room temperature is good, and it becomes a suitable viscosity when assembling an image sensor module or a semiconductor device. The viscosity at 30°C is evaluated using a viscoelastic measuring device (rheometer) (for example, TA Instruments Japan Co., Ltd. product number: ARES-G2), and evaluation in the Examples described later. It can be measured based on the method.

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 상술한 레오미터로 측정한 50℃에 있어서의 점도가 0.05∼100Pa·s인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05∼80Pa·s, 더욱 바람직하게는 0.1∼70Pa·s이다. 수지 조성물의 50℃에 있어서의 점도가 0.05∼100Pa·s의 범위이면, 비교적 고온 환경하에서 수지 조성물을 사용한 경우여도, 수지 조성물의 취급성이 양호하며, 이미지 센서 모듈이나 반도체 장치를 조립할 때 적합한 점도가 된다.It is preferable that the resin composition of one Embodiment of this invention has the viscosity in 50 degreeC measured with the rheometer mentioned above 0.05-100 Pa.s, More preferably, 0.05-80 Pa.s, More preferably, 0.1- 70 Pa·s. If the viscosity at 50°C of the resin composition is in the range of 0.05 to 100 Pa·s, the handleability of the resin composition is good even when the resin composition is used in a relatively high temperature environment, and the viscosity is suitable for assembling an image sensor module or a semiconductor device. becomes

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 수지 조성물의 50℃에 있어서의 점도와, 30℃에 있어서의 점도의 비(30℃의 점도/50℃의 점도)가 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3.5, 더욱 바람직하게는 1∼3이다. 수지 조성물의 50℃에 있어서의 점도와, 30℃에 있어서의 점도의 비(30℃의 점도/50℃의 점도)가 1∼4이면, 수지 조성물을 사용하는 온도에 다소 변화가 발생해도, 디스팬서의 토출 조건 등 취급 조건을 변경할 필요가 없고, 취급성이 양호하다.As for the resin composition of one Embodiment of this invention, it is preferable that the ratio (30 degreeC viscosity/50 degreeC viscosity) of the viscosity in 50 degreeC of a resin composition and the viscosity in 30 degreeC is 1-4, more Preferably it is 1-3.5, More preferably, it is 1-3. If the ratio of the viscosity at 50°C of the resin composition and the viscosity at 30°C (viscosity at 30°C/viscosity at 50°C) is 1 to 4, even if a change occurs to some extent in the temperature at which the resin composition is used, the There is no need to change handling conditions such as discharge conditions of the panther, and handling properties are good.

응력 흡수성(유리 전이 온도(Tg)의 차(ΔTg)Stress absorption (difference in glass transition temperature (Tg) (ΔTg))

수지 조성물의 경화물의 응력 흡수성은 손실 탄성률(Tg1)(℃)과 손실 정접(Tg2)(℃)의 차(ΔTg)를 지표로 할 수 있다. 본 명세서에 있어서, 손실 탄성률(Tg1)이란, 손실 탄성률의 피크 온도(극대값이 복수 있는 경우에는 이들 중 최대값의 온도)이고, 손실 정접(Tg2)이란, 손실 정접의 피크 온도(극대값이 복수 있는 경우에는 이들 중 최대값의 온도)이다. 손실 탄성률(Tg1)이, 수지 경화물이 유리 영역에서 유리 전이 영역으로 변화하기 시작하는 온도를 나타내는 것에 대해, 손실 정접(Tg2)은, 수지 경화물의 물성이 유리 영역과 고무 영역의 중간을 나타내고, 또한 외부로부터 주어진 응력을 수지 경화물이 변형함으로써 흡수하는 능력이 가장 높은 온도를 나타낸다. 이 때문에, 손실 탄성률(Tg1)과 손실 정접(Tg2)의 온도 차가 클수록, 유리 전이 영역이 넓고, 폭넓은 온도 영역에서 응력을 흡수하기 쉽다고 할 수 있다. 손실 탄성률(Tg1) 및 손실 정접(Tg2)은 동적 점탄성 측정 장치(DMA)나 레오미터 등에 의한 측정에 의해, 기계적으로 산출할 수 있다. 한편, DMA로 측정한 경우, 손실 탄성률은 E'', 손실 정접은 tanδ로 나타낸다.The stress absorption property of the hardened|cured material of a resin composition can use the difference (ΔTg) between the loss elastic modulus (Tg1) (°C) and the loss tangent (Tg2) (°C) as an index. In this specification, the loss elastic modulus (Tg1) is the peak temperature of the loss elastic modulus (if there are a plurality of local maximums, the temperature of the maximum value among them), and the loss tangent (Tg2) is the peak temperature of the loss tangent (with a plurality of local maximums). in this case, the temperature at the maximum of these). Whereas the loss modulus (Tg1) indicates the temperature at which the cured resin starts to change from the glass region to the glass transition region, the loss tangent (Tg2) indicates that the physical properties of the cured resin are intermediate between the glass region and the rubber region, In addition, the temperature at which the cured resin material has the highest ability to absorb stress given from the outside by deforming it. Therefore, it can be said that the larger the temperature difference between the loss elastic modulus (Tg1) and the loss tangent (Tg2) is, the wider the glass transition region is and the easier it is to absorb stress in a wide temperature region. The loss elastic modulus Tg1 and the loss tangent Tg2 can be mechanically calculated by measurement with a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMA), a rheometer, or the like. On the other hand, when measured by DMA, the loss modulus is represented by E'' and the loss tangent is represented by tan?

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 그 경화물을 DMA로 측정한 손실 탄성률 E''(Tg1)와 손실 정접 tanδ(Tg2)의 온도 차가 10℃ 이상인 것이 바람직하고, 12℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 14℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 유리 전이 영역이 지나치게 넓은 경우에는, 상대적으로 응력 흡수성이 저하되기 때문에, 온도차는 50℃ 이하인 것이 바람직하고, 40℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 30℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다.In the resin composition of one embodiment of the present invention, the temperature difference between the loss elastic modulus E'' (Tg1) and the loss tangent tanδ (Tg2) measured by DMA of the cured product is preferably 10° C. or more, and more preferably 12° C. or more, , more preferably 14°C or higher. In addition, when the glass transition region is too wide, the stress absorption is relatively lowered. Therefore, the temperature difference is preferably 50°C or less, more preferably 40°C or less, and still more preferably 30°C or less.

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물을 경화시킨 경화물의 손실 탄성률(Tg1)(℃) 및 손실 정접(Tg2)(℃)은, 예를 들면 동적 점탄성 측정 장치(예를 들면, 에스아이아이 나노테크놀로지사 제조, 제품명: DMS6100)를 이용하여 측정할 수 있다. 승온 속도는, 예를 들면 1∼5℃/분으로 행할 수 있다.The loss modulus (Tg1) (°C) and loss tangent (Tg2) (°C) of the cured product obtained by curing the resin composition of one embodiment of the present invention is, for example, a dynamic viscoelasticity measuring device (eg, SI Nanotechnology). Manufactured by the Company, product name: DMS6100) can be used for measurement. The temperature increase rate can be, for example, 1 to 5°C/min.

수지 조성물의 제조 방법Method for producing a resin composition

본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 상기 (A) 성분∼(D) 성분 및 필요에 따라 (E) 성분을 첨가하고, 혼련함으로써 제조할 수 있다. 수지 조성물의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 실시형태에 따른 수지 조성물은 상기 (A) 성분∼(D) 성분, 필요에 따라 (E) 성분을 포함하는 원료를 뇌궤기, 포트 밀, 3 본 롤 밀, 하이브리드 믹서, 회전식 혼합기, 혹은 2축 믹서 등의 혼합기에 의해 혼합함으로써 제조할 수 있다. 이들 성분은 동시에 혼합해도 되고, 일부를 먼저 혼합하고, 나머지를 나중에 혼합해도 된다. 또한, 상기 장치를 적절히 조합하여 사용해도 된다.The resin composition of one Embodiment of this invention can be manufactured by adding the said (A) component - (D) component, and (E) component as needed, and kneading|mixing. The manufacturing method of a resin composition is not specifically limited. For example, the resin composition according to the present embodiment is a raw material containing the component (A) to component (D) and, if necessary, component (E) is mixed with a grinding machine, a pot mill, a three-roll mill, a hybrid mixer, and a rotary type. It can manufacture by mixing with mixers, such as a mixer or a twin-screw mixer. These components may be mixed simultaneously, a part may be mixed first, and may be mixed later. Moreover, you may use combining the said apparatus suitably.

접착제glue

본 발명의 일 실시형태의 접착제는 상술한 수지 조성물을 사용한다. 본 발명의 일 실시형태의 접착제는 사용시 취급성이 양호하고, 저온에서의 경화가 가능하며, 물성을 저해하지 않고, 응력 흡수성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 구체적인 열경화 조건으로는, 예를 들면 60℃ 이상 120℃ 이하이다.The adhesive of one embodiment of the present invention uses the above-described resin composition. The adhesive of one embodiment of the present invention has good handling properties during use, can be cured at low temperature, does not impair physical properties, and can obtain a cured product excellent in stress absorption. As specific thermosetting conditions, they are 60 degreeC or more and 120 degrees C or less, for example.

봉지재encapsulant

본 발명의 일 실시형태의 봉지재는 상술한 수지 조성물을 사용한다. 본 발명의 일 실시형태의 봉지재는 사용시 취급성이 양호하고, 저온에서의 경화가 가능하며, 물성을 저해하지 않고, 응력 흡수성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 구체적인 열경화 조건으로는, 예를 들면 60℃ 이상 120℃ 이하이다.The encapsulant of one embodiment of the present invention uses the above-described resin composition. The encapsulant of one embodiment of the present invention has good handling properties during use, can be cured at a low temperature, does not impair physical properties, and can obtain a cured product excellent in stress absorption. As specific thermosetting conditions, they are 60 degreeC or more and 120 degrees C or less, for example.

이미지 센서 모듈image sensor module

본 발명의 일 실시형태의 이미지 센서 모듈은 상술한 수지 조성물을 포함하는 접착제 또는 봉지재를 사용하여 형성된 것이다. 이미지 센서 모듈에는 휴대 전화나 스마트폰의 카메라 모듈도 포함된다. 본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 사용시 취급성이 양호하고, 저온에서의 경화가 가능하며, 물성을 저해하지 않고, 응력 흡수성이 우수한 경화물을 얻을 수 있기 때문에, 80℃ 정도의 저온에서의 경화가 요구되는 이미지 센서 모듈의 조립에 사용하는 접착제 또는 봉지재에 포함되는 수지 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.An image sensor module according to an embodiment of the present invention is formed using an adhesive or an encapsulant including the above-described resin composition. The image sensor module also includes the camera module of a mobile phone or smartphone. The resin composition of one embodiment of the present invention has good handleability when used, can be cured at a low temperature, does not impair physical properties, and can obtain a cured product excellent in stress absorption. It can be preferably used as a resin composition included in an adhesive or encapsulant used for assembling an image sensor module requiring curing.

반도체 장치semiconductor device

본 발명의 일 실시형태의 반도체 장치는 상술한 수지 조성물을 포함하는 접착제 또는 봉지재를 사용하여 형성된 것이다. 반도체 장치는 반도체 특성을 이용함으로써 기능할 수 있는 장치 전반을 가리키고, 전자 부품, 반도체 회로, 이들을 삽입한 모듈, 전자 기기 등을 포함하는 것이다. 본 발명의 일 실시형태의 수지 조성물은 사용시 취급성이 양호하고, 80℃ 정도의 저온에서의 경화가 가능하며, 물성을 저해하지 않고, 응력 흡수성이 우수한 경화물을 얻을 수 있기 때문에, 저온에서의 경화가 요구되는 이미지 센서 모듈의 조립에 사용하는 접착제 또는 봉지재에 포함되는 수지 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.The semiconductor device of one embodiment of the present invention is formed using an adhesive or encapsulant containing the above-described resin composition. A semiconductor device refers to an overall device that can function by using semiconductor characteristics, and includes electronic components, semiconductor circuits, modules, electronic devices, and the like in which they are inserted. The resin composition of one embodiment of the present invention has good handling properties when used, can be cured at a low temperature of about 80° C., does not impair physical properties, and can obtain a cured product excellent in stress absorption, so It can be preferably used as a resin composition included in an adhesive or encapsulant used for assembling an image sensor module requiring curing.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of Examples. The present invention is not limited to these examples.

실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples

하기 표 1 또는 2에 나타내는 배합으로 각 성분을 혼합하여 수지 조성물을 조제했다. 한편, 하기 표에 있어서, (A) 성분∼(F) 성분의 배합 비율을 나타내는 숫자는 모두 질량부를 나타내고 있다. 표 1 또는 2 중의 각 성분은 이하와 같다.Each component was mixed by the compounding shown in following Table 1 or 2, and the resin composition was prepared. In addition, in the following table|surface, all the numbers which show the compounding ratio of (A) component - (F) component have shown the mass part. Each component in Table 1 or 2 is as follows.

(A) 성분: 에폭시 수지(A) component: epoxy resin

(A1) EPICLON EXA-850CRP: 비스페놀 A형 에폭시 수지, DIC 주식회사, 중량 평균 분자량: 344, 에폭시 당량: 172g/eq.(A1) EPICLON EXA-850CRP: bisphenol A epoxy resin, DIC Corporation, weight average molecular weight: 344, epoxy equivalent: 172 g/eq.

(A2) YDF8170: 비스페놀 F형 에폭시 수지, 닛테츠 케미컬&머티리얼 주식회사, 중량 평균 분자량: 316, 에폭시 당량: 158g/eq.(A2) YDF8170: Bisphenol F-type epoxy resin, Nittetsu Chemicals & Materials Co., Ltd., weight average molecular weight: 316, epoxy equivalent: 158 g/eq.

(A3) YX8000: 수첨 비스페놀 A형 에폭시 수지, 미츠비시 케미컬 주식회사 제조, 중량 평균 분자량 410, 에폭시 당량: 205g/eq.(A3) YX8000: Hydrogenated bisphenol A epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 410, epoxy equivalent: 205 g/eq.

(A4) YX7400: 식 (A-1-1)로 나타내고, 식 (A-1-1) 중의 x가 10.3인 에폭시 수지, 미츠비시 케미컬 주식회사 제조, 중량 평균 분자량 870, 에폭시 당량: 435g/eq.(A4) YX7400: Epoxy resin represented by formula (A-1-1) and x in formula (A-1-1) is 10.3, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 870, epoxy equivalent: 435 g/eq.

(A5) TSL9906: 식 (A-2)로 나타내고, 식 (A-2) 중의 R6∼R9가 메틸기인 에폭시 수지, 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼사 제조, 중량 평균 분자량 296, 에폭시 당량 181g/eq.(A5) TSL9906: Epoxy resin represented by Formula (A-2), wherein R 6 to R 9 in Formula (A-2) are methyl groups, manufactured by Momentive Performance Materials, weight average molecular weight 296, epoxy equivalent 181 g/eq.

티올 화합물thiol compound

(B) 성분: 2관능 티올 화합물(B) component: bifunctional thiol compound

(B1) 티올 화합물 1: 식 (B-1-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물, 시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 분자량 389, 티올 당량: 211g/eq.(B1) Thiol compound 1: A bifunctional thiol compound represented by formula (B-1-1), manufactured by Shikoku Chemical Industries, Ltd., molecular weight 389, thiol equivalent: 211 g/eq.

(B2) 티올 화합물 2: 식 (B-2-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물, 시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 분자량 445, 티올 당량: 243g/eq.(B2) thiol compound 2: bifunctional thiol compound represented by formula (B-2-1), manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight 445, thiol equivalent: 243 g/eq.

(B3) 티올 화합물 3: 식 (B-3-1)로 나타내는 2관능 티올 화합물, 시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 분자량 286, 티올 당량: 159g/eq.(B3) Thiol compound 3: A bifunctional thiol compound represented by the formula (B-3-1), manufactured by Shikoku Chemical Industries, Ltd., molecular weight 286, thiol equivalent: 159 g/eq.

(B') (B) 성분 이외의 티올 화합물(B') (B) thiol compounds other than the component

(B'4) DMDO: 3,6-디옥사-1,8-옥탄디티올(1,8-디메르캅토-3,6-디옥사옥탄), 도쿄 화성 공업사 제조, 분자량 182, 티올 당량 91g/eq.(B'4) DMDO: 3,6-dioxa-1,8-octane dithiol (1,8-dimercapto-3,6-dioxaoctane), manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight 182, thiol equivalent 91 g /eq.

(B'5) 1,10-데칸디티올, 도쿄 화성 공업사 제조, 분자량 206, 티올 당량 103g/eq.(B'5) 1,10-decanedithiol, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. make, molecular weight 206, thiol equivalent 103 g/eq.

(B'6) EPMG-4: 테트라에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), SC 유기 화학 주식회사 제조, 분자량 372, 티올 당량 186g/eq.(B'6) EPMG-4: tetraethylene glycol bis(3-mercaptopropionate), manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd., molecular weight 372, thiol equivalent 186 g/eq.

(B'7) PEMP: 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트)(PEMP), SC 유기 화학 주식회사 제조, 분자량 489, 티올 당량 122g/eq.(B'7) PEMP: pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) (PEMP), SC Organic Chemical Co., Ltd. make, molecular weight 489, thiol equivalent 122 g/eq.

(B'8) C3 TS-G: 1,3,4,6-테트라키스(3-메르캅토프로필)글리콜우릴, 시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 분자량 432, 티올 당량 114g/eq.(B'8) C3 TS-G: 1,3,4,6-tetrakis (3-mercaptopropyl) glycoluril, manufactured by Shikoku Chemical Industries, Ltd., molecular weight 432, thiol equivalent 114 g/eq.

(C) 성분: 아민 화합물(C) component: amine compound

(C1) 후지큐어 FXR-1121: 고체 분산형 아민 어덕트, 주식회사 T&K TOKA 제조.(C1) Fujicure FXR-1121: Solid dispersion type amine adduct, manufactured by T&K TOKA Corporation.

(C2) HXA9322HP: 고체 분산형 아민 어덕트계 잠재성 경화 촉매(마이크로캡슐형 이미다졸 어덕트), 아사히 카세이 주식회사 제조, 중량의 1/3이 마이크로캡슐형 이미다졸 어덕트, 2/3가 비스페놀 A형 에폭시 수지와 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물, 에폭시 당량 180g/eq.(C2) HXA9322HP: solid dispersion type amine adduct latent curing catalyst (microcapsule type imidazole adduct), manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., 1/3 of the weight is microcapsule type imidazole adduct, 2/trivalent bisphenol A mixture of A-type epoxy resin and bisphenol F-type epoxy resin, epoxy equivalent 180g/eq.

(C3) 후지큐어 FXR-1020, 3차 아민계 화합물, 주식회사 T&K TOKA 제조.(C3) Fujicure FXR-1020, a tertiary amine compound, manufactured by T&K TOKA Corporation.

(D) 성분: 필러(D) Ingredient: Filler

(D1) SOE5: 실리카 필러, 주식회사 아드마텍스 제조, 평균 입경 1.5㎛.(D1) SOE5: Silica filler, manufactured by Admatex Co., Ltd., average particle diameter of 1.5 µm.

(D2) BSP6: 실리카 필러, 주식회사 다츠모리 제조, 평균 입경 5㎛.(D2) BSP6: Silica filler, manufactured by Tatsumori Co., Ltd., average particle diameter of 5 µm.

(D') (D) 성분 이외의 필러(D') fillers other than the (D) component

(D'3) MSV-25G: 실리카 필러, 주식회사 다츠모리 제조, 평균 입경 25㎛.(D'3) MSV-25G: Silica filler, manufactured by Tatsumori Co., Ltd., average particle diameter of 25 µm.

(E) 성분: 안정제(E) Ingredient: Stabilizer

(E1) TIPB: 트리이소프로필보레이트, 도쿄 화성 공업 주식회사 제조.(E1) TIPB: triisopropyl borate, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

(F) 다른 성분(F) other ingredients

(F1) KBM403: 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(실란 커플링제), 신에츠 화학 주식회사 제조.(F1) KBM403: 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane (silane coupling agent), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

평가 방법Assessment Methods

휘발성volatility

직경 5㎝, 깊이 0.5㎝의 금속 용기의 중량을 측정한다. 여기에 티올 화합물 1.0g을 기준으로 첨가하고, 뚜껑을 씌우지 않고 80℃의 오븐에 1시간 방치했다. 방랭 후, 금속 용기의 중량을 측정하여 티올 수지로부터의 휘발분을 측정했다. 그 결과, 1,10-데칸디티올의 휘발분은 11%, 3,6-디옥사-1,8-옥탄디티올의 휘발분은 27%인 것에 대해, 티올 화합물 1, 2, 3을 포함하는 그 밖의 티올 수지의 휘발분은 모두 1% 이하였다.A metal container having a diameter of 5 cm and a depth of 0.5 cm is measured. 1.0 g of the thiol compound was added thereto, and it was left to stand in an oven at 80° C. without a lid for 1 hour. After standing to cool, the weight of the metal container was measured and the volatile matter from the thiol resin was measured. As a result, the volatile content of 1,10-decanedithiol is 11% and the volatile content of 3,6-dioxa-1,8-octanedithiol is 27%, compared to that containing thiol compounds 1, 2 and 3 All of the volatile matter of the thiol resin outside was 1% or less.

점도의 측정measurement of viscosity

실시예 및 비교예의 수지 조성물의 점도는 25℃부터 승온시켜, 30℃에 있어서의 점도(Pa·s)와 50℃에 있어서의 점도(Pa·s)를 측정했다. 측정은 점탄성계 측정 장치(레오미터)(써모 피셔 사이언티픽 주식회사 제조, 제품 번호: MARS60)를 이용했다. 측정 조건을 이하에 나타낸다. 또한, 수지 조성물의 50℃의 점도에 대한 30℃의 점도의 비(30℃의 점도/50℃의 점도)를 구했다. 이 점도의 비는 1∼4이면 바람직하고, 1∼3.8이면 보다 바람직하며, 1∼3.5이면 더욱 바람직하고, 1∼3이면 보다 더욱 바람직하다.The viscosity of the resin composition of an Example and a comparative example was heated up from 25 degreeC, and the viscosity (Pa*s) in 30 degreeC and the viscosity (Pa*s) in 50 degreeC were measured. For the measurement, a viscoelastic measuring device (rheometer) (manufactured by Thermo Fisher Scientific Co., Ltd., product number: MARS60) was used. Measurement conditions are shown below. Moreover, ratio (30 degreeC viscosity/50 degreeC viscosity) of the viscosity of 30 degreeC with respect to the 50 degreeC viscosity of the resin composition was calculated|required. Ratio of this viscosity is preferable in it being 1-4, more preferably in it being 1-3.8, still more preferable in it being 1-3.5, and still more preferable in it being 1-3.

플레이트 직경: 35㎜φ(패럴렐형)Plate diameter: 35 mmφ (parallel type)

주파수: 1Hz Frequency: 1Hz

왜곡: 0.5Distortion: 0.5

승온 속도: 3℃/분Temperature increase rate: 3°C/min

갭: 500㎛Gap: 500 μm

유리 전이 온도(Tg)의 차(ΔTg)의 산출Calculation of difference (ΔTg) in glass transition temperature (Tg)

동적 점탄성 측정 장치(DMA)(에스아이아이 나노테크놀로지사 제조, 제품명: DMS6100)를 이용하여, 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 경화시킨 경화물의 손실 탄성률 E''(Tg1)(℃)와 손실 정접 tanδ℃를 측정했다. 테프론(등록상표) 테이프를 첩부한 2장의 유리판을 준비하여, 1장의 유리판의 테프론(등록상표) 테이프면 상에, 125㎛의 스페이서 필름 및 수지 조성물을 재치하고, 테프론(등록상표) 테이프 면끼리가 대향하도록, 추가로 1장의 유리판을 재치하여, 송풍 건조기에서 80℃ 180min에서 가열 경화함으로써, 두께: 130㎛ 정도의 경화물을 얻었다. 또한, 얻어진 경화물이 취약한 경우에는, 적절히 스페이서 필름의 두께를 변경하여 경화물을 제작했다. 이 경화물을 유리판으로부터 박리한 후, 경화물로부터 시험편(10±0.5㎜×40±1㎜)을 잘라 내어, 시험편의 폭, 두께를 측정했다. 그 후, 상술한 동적 점탄성 측정 장치를 이용하여 측정했다(승온 속도: 3℃/min, 주파수: 10Hz, 측정 범위: -40∼150℃, 변형 진폭 5.0㎛, 인장법). tanδ(손실 정접)의 피크 온도(극대값이 복수 있는 경우에는 이들 중 최대값의 온도)를 판독하여, 유리 전이 온도(Tg2)로 했다. 또한, 손실 탄성률 E''의 피크 온도(극대값이 복수 있는 경우에는 이들 중 최대값의 온도)를 판독하여, 유리 전이 온도(Tg1)로 했다. 유리 전이 온도(Tg1)(℃)와 유리 전이 온도(Tg2)(℃)의 차인 ΔTg(℃)를 산출했다. ΔTg는 12℃ 이상인 것이 바람직하다.Loss tangent to loss modulus E'' (Tg1) (°C) of cured products obtained by curing the resin compositions of Examples and Comparative Examples using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA) (manufactured by SI Nanotechnology Co., Ltd., product name: DMS6100) The tan δ°C was measured. Prepare two glass plates to which Teflon (registered trademark) tape is affixed, and place a 125 µm spacer film and a resin composition on the Teflon (registered trademark) tape surface of one glass plate, and Teflon (registered trademark) tape surfaces Further, one glass plate was placed so as to oppose, and a cured product having a thickness of about 130 μm was obtained by heat curing at 80° C. 180 min with a blow dryer. Moreover, when the obtained hardened|cured material was brittle, the thickness of a spacer film was changed suitably, and hardened|cured material was produced. After peeling this hardened|cured material from a glass plate, the test piece (10+/-0.5 mm x 40+/-1 mm) was cut out from the hardened|cured material, and the width|variety and thickness of the test piece were measured. Then, it measured using the above-mentioned dynamic viscoelasticity measuring apparatus (temperature increase rate: 3 degreeC/min, frequency: 10 Hz, measurement range: -40 to 150 degreeC, strain amplitude 5.0 micrometers, tensile method). The peak temperature of tan δ (loss tangent) (when there are a plurality of local maximums, the temperature of the maximum value among them) was read, and it was set as the glass transition temperature (Tg2). In addition, the peak temperature of loss elastic modulus E'' (when there are two or more local maximums, the temperature of the maximum value among these) was read, and it was set as the glass transition temperature (Tg1). ΔTg(°C), which is the difference between the glass transition temperature (Tg1) (°C) and the glass transition temperature (Tg2) (°C), was calculated. ΔTg is preferably 12°C or higher.

내가수분해성hydrolysis resistance

상기 DMA 측정과 같은 조건에서, 두께: 130㎛ 정도의 경화물을 제작했다. 수지 조성물 중 에스테르 결합을 포함하는 화합물을 포함하는 경우에는, 고온 고습하에서 가수 분해하여, 비교예 5, 6의 조성물의 수지 경화물을 PCT 조건(121℃, 2기압)에 10시간 넣어둔 결과, 수지 경화물은 액상화하여, 내가수분해성이 양호하지는 않았다. 한편, 수지 조성물 중 에스테르 결합을 포함하는 티올 화합물을 포함하나, 본 발명에 따른 2관능 티올 화합물을 병용한 실시예 15, 16의 조성물은 수지 경화물의 외관에 이상은 발견되지 않았다.Under the same conditions as the above DMA measurement, a cured product having a thickness of about 130 μm was produced. When the resin composition contains a compound containing an ester bond, it is hydrolyzed at high temperature and high humidity, and the cured resin of the compositions of Comparative Examples 5 and 6 was placed under PCT conditions (121° C., 2 atm) for 10 hours. The cured resin was liquefied and had poor hydrolysis resistance. On the other hand, in the compositions of Examples 15 and 16, which included a thiol compound including an ester bond in the resin composition, but in which the bifunctional thiol compound according to the present invention was used in combination, no abnormality was found in the appearance of the cured resin.

Figure pct00020
Figure pct00020

Figure pct00021
Figure pct00021

실시예 1∼20의 수지 조성물로부터 얻어진 경화물은 내가수분해성, 저휘발성이 양호하고, 경화 후의 경화물 중에 보이드가 혼입되지 않았다. 또한, 실시예 1∼20의 수지 조성물의, 50℃의 점도에 대한 30℃의 점도의 비(30℃의 점도/50℃의 점도)가 1∼4인 점에서, 수지 조성물을 사용하는 환경 분위기에 상관없이, 수지 조성물의 취급성이 양호한 것을 확인할 수 있었다. 또한, 실시예 1∼20의 수지 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물의 ΔTg는 12℃ 이상이며, 유리 전이 영역이 넓고, 응력 흡수성이 우수한 것을 확인할 수 있었다.The cured products obtained from the resin compositions of Examples 1 to 20 had good hydrolysis resistance and low volatility, and no voids were mixed in the cured products after curing. Moreover, since the ratio (30 degreeC viscosity/50 degreeC viscosity) of the 30 degreeC viscosity with respect to the 50 degreeC viscosity of the resin composition of Examples 1-20 is 1-4, the environmental atmosphere using a resin composition Regardless, it was confirmed that the handleability of the resin composition was good. Further, it was confirmed that the cured product obtained by curing the resin compositions of Examples 1 to 20 had a ΔTg of 12° C. or higher, a large glass transition region, and excellent stress absorption.

비교예 5, 6의 수지 조성물로부터 얻어진 경화물은 수지 조성물에 에스테르 결합을 포함하는 화합물이 포함되기 때문에, 가수 분해하기 쉽고, 내습성이 개선되어 있지 않았다. 또한, 비교예 3, 4의 수지 조성물을 경화하여 얻어진 경화물 중에는 보이드가 혼입되어 있었다. 비교예 1∼6의 수지 조성물의, 50℃의 점도에 대한 30℃의 점도의 비(30℃의 점도/50℃의 점도)는 모두 4 이상인 점에서, 환경 온도에 따라서는 취급하기 어려운 경우가 있었다. 또한, 비교예 6의 수지 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 ΔTg가 10℃ 정도이며, 다른 조성물과 비교하여 유리 전이 영역이 좁고, 응력 흡수성이 열악한 것을 확인할 수 있었다.The cured products obtained from the resin compositions of Comparative Examples 5 and 6 were easily hydrolyzed because the resin composition contained a compound containing an ester bond, and moisture resistance was not improved. Moreover, voids were mixed in the hardened|cured material obtained by hardening|curing the resin composition of Comparative Examples 3 and 4. In the resin compositions of Comparative Examples 1 to 6, the ratio of the viscosity at 30°C to the viscosity at 50°C (viscosity at 30°C/viscosity at 50°C) is 4 or more, so it is difficult to handle depending on the environmental temperature. there was. In addition, it was confirmed that the cured product obtained by curing the resin composition of Comparative Example 6 had a ΔTg of about 10° C., a narrow glass transition region compared to other compositions, and poor stress absorption.

Claims (15)

(A) 에폭시 수지와,
(B) 분자 내에 방향환 구조 또는 지환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물, 및, 분자 내에 방향환 구조 또는 복소환 구조와, 헤테로 원자를 포함하고 있어도 되고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하며, 분자량이 210 이상인 2관능 티올 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 2관능 티올 화합물과,
(C) 아민 화합물과,
(D) 평균 입경이 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하인 필러를 포함하는 수지 조성물.
(A) an epoxy resin;
(B) a bifunctional thiol compound having an aromatic ring structure or an alicyclic structure in the molecule, and a molecular chain containing a hetero atom and not including an ester bond, having a thiol group at the terminal, and having a molecular weight of 210 or more, and an aromatic in the molecule At least one selected from the group consisting of a ring structure or a heterocyclic structure and a bifunctional thiol compound having a molecular weight of 210 or more, including a molecular chain having a thiol group at the terminal, which may contain a hetero atom or does not contain an ester bond. and a bifunctional thiol compound of
(C) an amine compound;
(D) The resin composition containing the filler whose average particle diameter is 0.1 micrometer or more and 10 micrometers or less.
제 1 항에 있어서,
상기 (B) 성분이 분자 내에 지환 구조와, 티오에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는, 2관능 티올 화합물인 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound comprising an alicyclic structure and a molecular chain containing a thioether bond but not an ester bond and having a thiol group at a terminal in the molecule.
제 1 항에 있어서,
상기 (B) 성분이 분자 내에 방향환 구조와, 에테르 결합을 포함하고 에스테르 결합을 포함하지 않는, 말단에 티올기를 갖는 분자 사슬을 포함하는, 2관능 티올 화합물인 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound comprising an aromatic ring structure in a molecule and a molecular chain having a thiol group at the terminal, including an ether bond but not an ester bond.
제 1 항에 있어서,
상기 (B) 성분이 하기 식 (B-1), (B-2), 또는 (B-3)으로 나타내는 2관능 티올 화합물인 수지 조성물:
Figure pct00022

(식 (B-1) 중, n, m은 각각 독립적으로 1∼3의 정수이다)
Figure pct00023

(식 (B-2) 중, R1, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이다; 단, R1 및 R2 중 어느 한쪽은 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이며, R3 및 R4 중 어느 한쪽은 하기 식 (b-1)로 나타내는 기이다)
Figure pct00024

(식 (b-1) 중, r은 1∼3의 정수이다)
Figure pct00025

(식 (B-3) 중, G1, G2는 각각 독립적으로 -O- 또는 -CH2-로 결합되는 2가의 기이며, p, q는 각각 독립적으로 2∼5의 정수이다).
The method of claim 1,
A resin composition wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound represented by the following formula (B-1), (B-2), or (B-3):
Figure pct00022

(in formula (B-1), n and m are each independently an integer of 1 to 3)
Figure pct00023

(In formula (B-2), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom or a group represented by the following formula (b-1); provided that either R 1 or R 2 is is a group represented by the following formula (b-1), and either one of R 3 and R 4 is a group represented by the following formula (b-1))
Figure pct00024

(in formula (b-1), r is an integer of 1-3)
Figure pct00025

(In formula (B-3), G 1 and G 2 are each independently a divalent group bonded to -O- or -CH 2 -, and p and q are each independently an integer of 2 to 5).
제 1 항에 있어서,
상기 (B) 성분이 하기 식 (B-4) 또는 (B-5)로 나타내는 2관능 티올 화합물인 수지 조성물:
Figure pct00026

(식 (B-4) 중, s, t는 각각 독립적으로 3 또는 4의 정수이다)
Figure pct00027

(식 (B-5) 중, u,v는 각각 독립적으로 3 또는 4의 정수이다).
The method of claim 1,
A resin composition wherein the component (B) is a bifunctional thiol compound represented by the following formula (B-4) or (B-5):
Figure pct00026

(in formula (B-4), s and t are each independently an integer of 3 or 4)
Figure pct00027

(In formula (B-5), u and v are each independently an integer of 3 or 4).
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (A) 성분의 중량 평균 분자량이 240∼1,000인 수지 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The resin composition whose weight average molecular weights of the said (A) component are 240-1,000.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (C) 성분의 아민 화합물이 이미다졸계 화합물, 3차 아민계 화합물, 및 아민 어덕트로부터 선택되는 적어도 1종의 아민 화합물인 수지 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The resin composition wherein the amine compound of the component (C) is at least one amine compound selected from an imidazole compound, a tertiary amine compound, and an amine adduct.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B) 성분의 2관능 티올 화합물의 티올기의 총수가, 수지 조성물 중의 전체 티올기의 수를 100으로 했을 때 20∼100인 수지 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
A resin composition in which the total number of thiol groups in the bifunctional thiol compound of the component (B) is 20 to 100 when the total number of thiol groups in the resin composition is 100.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (D) 성분의 필러의 함유량이 수지 조성물의 전체량 100질량%에 대해 5∼70질량%인 수지 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The resin composition whose content of the filler of the said (D) component is 5-70 mass % with respect to 100 mass % of whole amounts of a resin composition.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
(E) 안정제를 추가로 포함하는 수지 조성물.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
(E) A resin composition further comprising a stabilizer.
제 10 항에 있어서,
상기 (E) 성분의 안정제가 액상 붕산에스테르 화합물, 알루미늄 킬레이트, 및 바르비투르산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인 수지 조성물.
11. The method of claim 10,
The resin composition wherein the stabilizer of the component (E) is at least one selected from the group consisting of a liquid boric acid ester compound, an aluminum chelate, and a barbituric acid.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 수지 조성물을 포함하는 접착제.An adhesive comprising the resin composition of any one of claims 1 to 11. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 수지 조성물을 포함하는 봉지재.An encapsulant comprising the resin composition of any one of claims 1 to 11. 제 12 항의 접착제 또는 제 13 항의 봉지재를 사용하여 제조된 이미지 센서 모듈.An image sensor module manufactured using the adhesive of claim 12 or the encapsulant of claim 13. 제 12 항의 접착제 또는 제 13 항의 봉지재를 사용하여 제조된 반도체 장치.A semiconductor device manufactured using the adhesive of claim 12 or the encapsulant of claim 13.
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