KR20210075382A - Method for manufacturing the glossy and matte emblem and glossy and matte produced by the same - Google Patents

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Abstract

The present invention is to provide a matte and glossy emblem, which is excellent in expressive power of glossy and matte, and also excellent in corrosion resistance by using an electroplating method, and a method for manufacturing the same. According to the present invention, the method for manufacturing a matte and glossy emblem comprises the steps of: preparing a master having a plated surface processed according to the shape of an object; processing the surface of the plated surface; plating a plating material on the plated surface to produce an electroform piece; and forming the electroform piece.

Description

유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼 {METHOD FOR MANUFACTURING THE GLOSSY AND MATTE EMBLEM AND GLOSSY AND MATTE PRODUCED BY THE SAME}A method for manufacturing a matte or matte emblem and an emblem produced by the process {METHOD FOR MANUFACTURING THE GLOSSY AND MATTE EMBLEM AND GLOSSY AND MATTE PRODUCED BY THE SAME}

본 발명은 휴대용 단말기 등의 외장 케이스를 주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼에 관한 것으로서, 특히 전기 주조 방법을 이용한 자동차 외장 부품인 엠블럼이 유광과 무광을 성질을 동시에 구현되도록 제조된 유무광 엠블럼 제조방법 및 이를 통해 제조된 유무광 엠블럼에 관한 것이다.The present invention relates to a method for casting an exterior case of a portable terminal, etc. and an emblem manufactured through the casting method, and in particular, a method for manufacturing a glossy or matte emblem manufactured so that an emblem, which is an automotive exterior component using an electroforming method, has both glossy and matte properties. And it relates to a non-glossy emblem manufactured through this.

근래에 세계 각국에서 다양한 종류의 차종이 출시되면서 각 브랜드별 디자인들은 중요한 요소가 되고 있으며, 그중 차량의 외장은 소비자의 소비욕구의 충동하는 매력적인 요소로 자리매김하고 있다.In recent years, as various types of car models are released in various countries around the world, the designs of each brand have become an important factor, and among them, the exterior of the vehicle is positioned as an attractive factor that stimulates consumers' desire for consumption.

이러한 소비자의 욕구를 만족하기 위해 자동차의 기능성 개선뿐만 아니라 디자인적인 기능미의 개선도 매우 중요하게 연구되고 있다. 특히 최근에는 자동차의 기능성 및 기능미 개선을 위하여 각 부품에 대한 연구가 격화되고 있으며 그 중에 엠블럼은 회사의 상징 및 차량의 가치를 나타내는 중요한 요소로 평가되고 있다.In order to satisfy the needs of these consumers, not only the functional improvement of automobiles but also the improvement of design functional beauty is being studied very importantly. In particular, in recent years, research on each part has intensified in order to improve the functionality and aesthetics of automobiles. Among them, the emblem is evaluated as a symbol of the company and an important factor representing the value of the vehicle.

엠블렘은 회사나 단체의 이미지를 도형, 문자, 기호 또는 이들을 조합시켜 형상화한 문장으로, 상품을 제조하는 제조회사의 엠블렘은 보통 그 회사에서 제작된 상품의 표면에 부착되어, 제조회사나 상품을 광고하는 용도로 이용된다. 이와 같은 엠블렘은 이미지 전달이 확연히 이루어질 수 있도록 눈에 잘 띄는 소재를 이용하여 제작된다. 예를 들어, 자동차 등에 부착되는 엠블렘의 경우에는 제조회사의 이미지 형상에 맞게 형성된 플라스틱 또는 금속 표면에 크롬이나 니켈 도금을 하여 제작한다.An emblem is a sentence that embodies the image of a company or group by combining figures, characters, symbols, or a combination thereof. The emblem of a manufacturer that manufactures a product is usually attached to the surface of the product manufactured by that company to advertise the manufacturer or product. used for the purpose of Such an emblem is produced using a conspicuous material so that the image can be conveyed clearly. For example, in the case of an emblem attached to a car, etc., it is manufactured by plating chrome or nickel on the plastic or metal surface formed to match the image shape of the manufacturer.

근래에서 엠블럼의 정교한 형상과 더불어 유광 및 무광을 표현함으로써 엠블럼 자체의 심미성 같도록 하는 연구가 진행되고 있다.In recent years, research to make the emblem the same as the aesthetics of the emblem itself by expressing the glossy and matte shape along with the elaborate shape of the emblem is in progress.

하지만 도금을 하는 과정에서 광택제를 분리하는 공정 중에 도금이 떨어져 나가거나 부착력이 낮아서 유광 및 무광을 표현하는데 한계점이 있다.However, during the process of separating the luster during the plating process, the plating is peeled off or the adhesion is low, so there is a limit in expressing glossy and matte.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 전기도금법을 이용하여 유광과 무광의 표현력이 우수하고 내식성 또한 우수한 유무광 엠블럼 및 이를 제조하는 방법을 제공하는 것이 과제이다.The present invention is to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a matte and glossy emblem and a method for manufacturing the same, which are excellent in expressive power of glossy and matte and corrosion resistance by using an electroplating method.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않는 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 해결하기 위한 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼은, 대상물의 형상에 따라 가공된 도금면을 가지는 마스터를 준비하는 단계, 상기 도금면의 표면을 가공하는 단계, 상기 도금면에 도금 재료를 도금하여 전주편을 생성하는 단계 및 상기 전주편을 성형하는 단계를 포함할 수 있다.A method for manufacturing a matte or glazed emblem for solving the above problems and a matte or glazed emblem manufactured through the method include preparing a master having a plated surface processed according to the shape of an object, processing the surface of the plated surface, the It may include the step of forming an electric slab by plating a plating material on the plating surface and forming the electric slab.

또한 상기 표면을 가공하는 단계는 상기 도금면과 상기 도금 재료의 부착력을 높이는 양극전해 과정 및 상기 도금면 중 일부를 코팅하는 이형처리 과정을 포함할 수 있다.In addition, the processing of the surface may include an anodic electrolysis process for increasing adhesion between the plating surface and the plating material, and a release treatment process for coating a portion of the plating surface.

또한 상기 마스터를 준비하는 단계는 상기 도금면의 일부를 부식시키는 과정을 더 포함할 수 있다.In addition, the step of preparing the master may further include a step of corroding a portion of the plating surface.

또한 상기 전주편을 생성하는 단계는 상기 도금면에 제1재료를 도금하는 과정 및 상기 제1재료에 제3재료를 도금하는 과정을 포함할 수 있다.Also, the generating of the electric slab may include plating a first material on the plating surface and plating a third material on the first material.

또한 상기 제1재료는 광택 니켈(Brightenss Nickel)이고, 상기 제3재료는 반광 니켈(Semi-Bright Nickel)인 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the first material may be brightens nickel (Brightenss Nickel), the third material may be characterized in that the semi-bright nickel (Semi-Bright Nickel).

또한 상기 제1재료를 도금하는 과정은 제1광택제 0.5~1.2ml/l, 제2광택제 10~15ml/l, 제3광택제 1~3ml 및 습윤제 1~2ml를 보조재료로 사용할 수 있다.In addition, in the process of plating the first material, 0.5 to 1.2 ml/l of a first varnish, 10 to 15 ml/l of a second varnish, 1-3 ml of a third glaze, and 1-2 ml of a wetting agent may be used as auxiliary materials.

또한 상기 제1재료를 도금하는 과정은 섭씨 50~65℃에서 15~25분동안 전류 1~6 A/dm2의 조건으로 7.5~7.8㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the process of plating the first material, a plating layer of 7.5 μm to 7.8 μm may be formed under the condition of a current of 1 to 6 A/dm 2 for 15 to 25 minutes at 50 to 65 degrees Celsius.

또한 상기 제3재료를 도금하는 과정은 제6광택제 0~1ml/l, 제7광택제 1~2ml/l 및 습윤제 1~3ml/l를 보조재료로 사용할 수 있다.In addition, in the process of plating the third material, 0 to 1 ml/l of the sixth varnish, 1 to 2 ml/l of the 7th varnish, and 1-3 ml/l of the wetting agent may be used as auxiliary materials.

또한 상기 제3재료를 도금하는 과정은 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the process of plating the third material, a plating layer of 13.1 to 13.7 μm may be formed under a current of 0.5 to 5 A/dm 2 for 13 to 23 minutes at 50 to 60 ° C.

또한 상기 전주편을 생성하는 단계는 제4광택제 2~6ml/l, 제5광택제 5~15ml/l, 제1MP파우더 0.5~1g/l, 제2MP파우더 0.02~0.2g/l, 제3MP파우더 소량을 보조재료로 사용하는 제2재료를 도금하는 과정을 더 포함할 수 있다.In addition, the step of generating the pole pieces is a 4th varnish 2 ~ 6ml / l, 5 ~ 15ml / l of 5th varnish, 1st MP powder 0.5 ~ 1g / l, 2nd MP powder 0.02 ~ 0.2g / l, a small amount of 3MP powder It may further include a process of plating a second material using as an auxiliary material.

또한 상기 제2재료를 도금하는 과정은 섭씨 50~60℃에서 2~10분동안 전류 3~5 A/dm2의 조건으로 1.12~1.16㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the process of plating the second material, a plating layer having a thickness of 1.12 to 1.16 μm may be formed under a current of 3 to 5 A/dm 2 for 2 to 10 minutes at 50 to 60° C.

또한 전류 9.2 A/dm2에서 2분의 조건으로 0.44~0.5㎛의 도금층을 형성하는 3가 크롬을 도금하는 과정을 더 포함할 수 있다.In addition, the process may further include a process of plating trivalent chromium to form a plating layer of 0.44 ~ 0.5㎛ under the condition of 2 minutes at a current of 9.2 A / dm2.

또한 상기 전주편을 생성하는 단계는 황산니켈 280~300g/l와 염화니켈 30~35g/l와 붕산 35~40g/l을 주재료로 하는 전기 주조액 내에서 상기 도금 재료를 도금할 수 있다.In addition, in the step of generating the slab, the plating material may be plated in an electroforming solution containing 280 to 300 g/l of nickel sulfate, 30 to 35 g/l of nickel chloride, and 35 to 40 g/l of boric acid as main materials.

또한 금형으로 제작된 마스터의 도금면에 전기 주조로 제작되는 엠블럼으로서, 상기 도금면에 적어도 두개 이상의 도금 재료가 적층되고, 상기 도금면에 대응되는 패턴이 형성되되, 유광영역 및 무광영역을 구분하도록 구비될 수 있다.In addition, as an emblem produced by electroforming on the plating surface of the master made with a mold, at least two plating materials are laminated on the plating surface, and a pattern corresponding to the plating surface is formed, so as to distinguish between a glossy area and a non-glossy area. can be provided.

또한 상기 엠블럼은 상기 무광영역이 형성되도록 상기 도금면의 일부를 부식시킬 수 있다.In addition, the emblem may corrode a portion of the plating surface to form the matte area.

또한 상기 무광영역은 샌드 블라스터를 통해 상기 도금면의 일부가 부식될 수 있다.In addition, a portion of the plated surface may be corroded in the matte region through sand blaster.

또한 상기 도금재료는 상기 광택 니켈을 포함할 수 있다.In addition, the plating material may include the bright nickel.

또한 상기 도금재료는 상기 광택 니켈의 일면에 도금될 수 있다.In addition, the plating material may be plated on one surface of the bright nickel.

또한 상기 도금재료는 상기 반광 니켈 사이의 일면에 도금되는 MP니켈을 포함할 수 있다.In addition, the plating material may include MP nickel plated on one surface between the semi-gloss nickel.

또한 상기 도금면은 상기 도금 재료의 부착력을 높이기 위해 양극전해가 실시될 수 있다.In addition, the plating surface may be subjected to anodic electrolysis in order to increase the adhesion of the plating material.

또한 상기 도금면은 상기 도금면에 코팅된 상기 도금 재료가 분리되는 것을 보조하도록 이형제를 코팅할 수 있다.In addition, the plating surface may be coated with a release agent to assist in separation of the plating material coated on the plating surface.

아래에서 설명하는 본 출원의 바람직한 실시예의 상세한 설명뿐만 아니라 위에서 설명한 요약은 첨부된 도면과 관련해서 읽을 때에 더 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 발명을 예시하기 위한 목적으로 도면에는 바람직한 실시예들이 도시되어 있다. 그러나, 본 출원은 도시된 정확한 배치와 수단에 한정되는 것이 아님을 이해해야 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼을 설명하기 위한 모식도;
도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼을 설명하기 위한 흐름도;
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 마스터에 샌드 블라스팅으로 무광 코팅되는 영역을 형성한 모습을 나타낸 도면;
도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 광택니켈이 도금된 모습을 나타낸 도면;
도 5은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 광택 니켈, 반광 니켈 및 베이스 니켈 도금된 모습을 나타낸 도면;
도 6은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 도 5의 전주편을 마스터에서 제거한 모습을 나타낸 도면;
도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 도 6에 MP니켈 및 크롬을 적층하여 도금한 모습을 나타낸 도면;
도 8은 전주편에 복수의 도금층을 형성하기 위해 전기 주조를 하는 실제 장비를 나타낸 도면;
도 9는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼의 최종 전주편을 나타낸 도면;
도 10은 종래 기술로서 전주편에 크롬이 도금된 엠블럼의 부식 시험을 통해 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면;
도 11는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼의 부식 시험에서 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이다.
The summary set forth above as well as the detailed description of the preferred embodiments of the present application set forth below may be better understood when read in conjunction with the accompanying drawings. For the purpose of illustrating the invention, there are shown in the drawings preferred embodiments. It should be understood, however, that the present application is not limited to the precise arrangements and instrumentalities shown.
1 is a schematic diagram for explaining a method for manufacturing a non-glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a non-glare emblem manufactured through the method;
2 is a flowchart for explaining a method for manufacturing a non-glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a method for manufacturing a non-glare or non-glossy emblem;
3 is a view showing a state in which a matte-coated area is formed on the master by sand blasting in a method for manufacturing a matte or non-glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention, and a method for manufacturing a matte or matte emblem produced through the same;
4 is a view showing a state in which polished nickel is plated in a method for manufacturing a matte or matte emblem according to a preferred embodiment of the present invention, and a matte or matte emblem manufactured through this method;
5 is a view showing a glossy nickel, semi-gloss nickel and base nickel plating in a method for manufacturing a matte or matte emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a matte or matte emblem produced through the same;
6 is a view showing a state in which the front slab of FIG. 5 is removed from the master in a method for manufacturing a non-glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a non-glossy emblem produced through this;
7 is a view showing a state in which MP nickel and chromium are laminated and plated in FIG. 6 in a method for manufacturing a glossy or matte emblem according to a preferred embodiment of the present invention;
Figure 8 is a view showing the actual equipment for electroforming to form a plurality of plating layers on the pole piece;
9 is a view showing a final pole piece of a matte or glare emblem manufacturing method and a matte or glare emblem manufactured through this method according to a preferred embodiment of the present invention;
Figure 10 is a view showing the corrosion size of the plating layer through the corrosion test of the emblem plated with chrome on the pole as a prior art;
11 is a view showing the corrosion size of the plating layer in a method for manufacturing a matte or matte emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a corrosion test of the matte or matte emblem manufactured through the method.

이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the objects of the present invention can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiment, the same names and the same reference numerals are used for the same components, and an additional description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼을 설명하기 위한 모식도이고, 도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼을 설명하기 위한 흐름도이며, 도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 마스터(110)에 샌드 블라스팅으로 무광 코팅되는 영역을 형성한 모습을 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 광택 니켈(220)이 도금된 모습을 나타낸 도면이며, 도 5은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 광택 니켈(220), 반광 니켈(240) 및 베이스 니켈(250)이 도금된 모습을 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 도 5의 전주편(200)을 마스터(110)에서 제거한 모습을 나타낸 도면이며, 도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼에서 도 6에 MP 니켈(260) 및 크롬(270)을 적층하여 도금한 모습을 나타낸 도면이고, 도 8은 전주편(200)에 복수의 도금층을 형성하기 위해 전기 주조를 하는 실제 장비를 나타낸 도면이며, 도 9는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼의 최종 전주편(200)을 나타낸 도면이고, 도 10은 종래 기술로서 전주편(200)에 크롬(270)이 도금된 엠블럼의 부식 시험을 통해 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이며, 도 11는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼의 부식 시험에서 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이다.1 is a schematic diagram for explaining a method for manufacturing a matte or glare emblem according to a preferred embodiment of the present invention, and a method for manufacturing a glossy or matte emblem produced through the same, and FIG. 2 is a method for manufacturing a matte or glare emblem according to a preferred embodiment of the present invention, and through this It is a flow chart for explaining the produced matte/glossy emblem, and FIG. 3 is a method for manufacturing a matte/glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention and an area to be matte coated by sandblasting on the master 110 in the produced/unglazed emblem. It is a view showing the formed state, and FIG. 4 is a view showing a state in which glossy nickel 220 is plated in a method for manufacturing a matte or glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a matte or glossy emblem manufactured through this method, It is a view showing a state in which glossy nickel 220, semi-gloss nickel 240 and base nickel 250 are plated in a method for manufacturing a matte or matte emblem according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a view showing a state in which the electric pole 200 of FIG. 5 is removed from the master 110 in a method for manufacturing a non-glossy emblem according to a preferred embodiment of the present invention and a non-glossy emblem manufactured through the same, and FIG. 7 is a diagram of the present invention. 6 is a view showing a state in which MP nickel 260 and chromium 270 are laminated and plated in a method for manufacturing a matte or glossy emblem according to a preferred embodiment, and FIG. 8 is an electric pole 200 ) is a view showing actual equipment for electroforming to form a plurality of plating layers, and FIG. 9 is a method for manufacturing a non-glare emblem according to a preferred embodiment of the present invention, and a final electric slab 200 ), and FIG. 10 is a view showing the corrosion size of the plating layer through a corrosion test of the emblem plated with chrome 270 on the electric slab 200 as a prior art, and FIG. 11 is a preferred embodiment of the present invention. It is a diagram showing the corrosion size of the plating layer in the method for manufacturing a matte or glossy emblem according to the method and the corrosion test of the matte or matte emblem manufactured through the method.

이하, 본 발명의 유무광 엠블럼 제조 방법 및 이를 통해 제작된 유무광 엠블럼의 일 실시예에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing a non-glossy emblem of the present invention and a non-glossy emblem manufactured through the method will be described.

먼저 도 1에서 전기주조법을 통해 마스터(110)에 전주편(200)을 도금하는 모습을 나타내었다.First, in FIG. 1, the appearance of plating the electric slab 200 on the master 110 through the electroforming method is shown.

전기주조 방법{ELECTROFORMING METHOD}은 금속제품을 성형하기 위한 전기주조(電氣鑄造) 방법에 관한 것이다.The electroforming method TECHNICAL FIELD It relates to the electroforming method for shaping|molding a metal product.

기계 가공으로는 제작 곤란한 미세 금속제품을 제조하는 방법으로서, 전기주조 기술(전기주조법)이 알려져 있다. 이것은, 모형(母型)에 대해 금속을 후막(厚膜) 도금하고, 그 후막 도금(금속 성형품)을 모형으로부터 박리시킴으로써 금속제품을 성형하는 두껍게 붙이는 전기도금 프로세스로서, 일반적으로 20㎛을 초과하는 두께의 전기도금을 전주(電鑄: 이하 아래 전주편(200))라고 말한다.Electroforming technology (electroforming method) is known as a method for manufacturing fine metal products that are difficult to manufacture by machining. This is an electroplating process in which a metal is thickly plated against a model, and then the thick film plating (metal molded article) is peeled off from the model to form a metal product, which is generally thicker than 20 µm. The thickness of the electroplating is called an electric pole (hereinafter referred to as the electric pole 200 below).

도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기 주조 방법은 CNC 가공되어 음각에 엠블럼 형상이 형성된 금형(이하 마스터(110))를 먼저 생산한다(S01).2 to 7, the emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention is CNC-processed to first produce a mold (hereinafter, the master 110) in which the emblem shape is formed on the intaglio (S01).

그리고 제작된 마스터(110)를 통해서 도금 재료를 적층 형태로 도금하고 이를 박리하여 전주편(200)을 생산하게 된다.Then, the plating material is plated in a laminated form through the manufactured master 110 and peeled off to produce the electric pole 200 .

이를 위해 마스터(110)을 제작하고 음각의 도금면(120)의 오차 등을 설계 값과 비교하여 이를 재가공하는 작업하면서 엠블럼의 모서리나 치수부분 등을 전체적으로 수정하며 마스터(110)의 최종적인 형태를 잡게 된다.To this end, the master 110 is manufactured and the error of the intaglio plating surface 120 is compared with the design value and reprocessed, while the corners or dimension parts of the emblem are corrected as a whole, and the final shape of the master 110 is determined. will catch

계속해서 본 발명의 일 실시예에 따라 엠블럼에 음각을 형성하기 위해 마스터(110)의 표면을 가공할 수 있다(S02).Subsequently, according to an embodiment of the present invention, the surface of the master 110 may be processed to form an intaglio on the emblem (S02).

최초의 마스터(110)는 엠블럼의 형상대로 음각의 도금면(120)을 가지며, 이 중 엠블럼에서 양각영역과 음각영역을 구분하여 음각영역인 곳에 표면처리를 하게 된다.The first master 110 has an engraved plating surface 120 according to the shape of the emblem, and among them, an embossed area and an engraved area are divided in the emblem, and a surface treatment is performed on the intaglio area.

본 발명에서 사용된 표면처리 방법은 샌드 블라스터(SAND BLAST)이며, 모래를 세차게 뿜어 도금면(120) 표면에 모래를 분사하여 에칭할 수 있다.The surface treatment method used in the present invention is sand blaster (SAND BLAST), and it can be etched by spraying sand on the surface of the plating surface 120 by blowing sand vigorously.

이를 통해 음각영역의 표면을 거칠기를 가지며 도금 재료가 도금된 후에도 음각영역이 남아 있게 된다.Through this, the surface of the intaglio region has a roughness and the intaglio region remains even after the plating material is plated.

계속해서 마스터(110)의 도금면(120)에서 도금을 하기 이전에 양극전해 및 이형처리를 하게 된다.Subsequently, before plating on the plating surface 120 of the master 110 , an anode electrolysis and release treatment are performed.

양극전해는 도금 재료가 도금될 때 부착력을 높이기 위한 과정인 것이고, 이형처리는 양극처리 후에 전주편(200)이 제거되는 것을 용이하게 하기 위한 과정인 것이다.The anodic electrolysis is a process for increasing adhesion when the plating material is plated, and the release treatment is a process for facilitating the removal of the electroform 200 after anodizing.

양극전해는 마스터(110)의 음각을 양극으로 사용하여 전해중 제품에 산소가스가 발생하며, 도금면(120)의 표면은 산화되어 부동태 막이 발생할 수 있다.In the anode electrolysis, oxygen gas is generated in the product during electrolysis by using the intaglio of the master 110 as an anode, and the surface of the plating surface 120 is oxidized to form a passivation film.

그리고 이 산화막을 도금전에 활성화하여 박리하면 표면에 미세한 에칭(ETCHING)이 만들어져서 밀착력을 향상시킬 수 있다.And when this oxide film is activated and peeled off before plating, fine etching is made on the surface to improve adhesion.

그리고 이렇게 산화막이 형성된 도금면(120)에 이형제를 도포하여 이후 도금 재료가 도금된 후 마스터(110)에서 전주편(200)을 분리할 때, 전주편(200)이 일그러지거나, 뭉치거나 파손되는 것을 방지할 수 있다.And when a release agent is applied to the plating surface 120 on which the oxide film is formed and then the plating material is plated and then the electric pole 200 is separated from the master 110, the electric pole 200 is distorted, agglomerated or damaged it can be prevented

한편 양극전해 및 이형처리가 완료된 도금면(120)에는 제1재료(220), 제2재료(240) 및 제3재료(260)가 도금된다.Meanwhile, the first material 220 , the second material 240 , and the third material 260 are plated on the plating surface 120 on which the anodic electrolysis and release treatment have been completed.

먼저 제1재료(220) 및 제2재료(240)가 도금될 수 있다.First, the first material 220 and the second material 240 may be plated.

여기서 제1재료(220)는 광택 니켈(220)(Brightenss Nickel) 일 수 있고, 여기서 제2재료(240)는 반광 니켈(240)(Semi-Bright Nickel)일 수 있으며, 제3재료(260)는 MP 니켈(260)(Micro Porous Nickel) 일 수 있다.Here, the first material 220 may be bright nickel 220 (Brightenss Nickel), wherein the second material 240 may be semi-bright nickel 240 (Semi-Bright Nickel), and the third material 260 may be MP Nickel 260 (Micro Porous Nickel).

마스터(110)에 제1재료(220)가 도금되고 그 위에 제2재료(240)가 도금되며, 제2재료(240) 위에 베이스 니켈(250)이 도금된다.A first material 220 is plated on the master 110 , a second material 240 is plated thereon, and a base nickel 250 is plated on the second material 240 .

제1재료(220), 제2재료(240) 및 베이스 니켈(250)은 적층 형태로 도금이 된다.The first material 220 , the second material 240 , and the base nickel 250 are plated in a stacked form.

이렇게 도금이 완료되면 마스터(110)에서 제1재료(220), 제2재료(240) 및 베이스 니켈(250)이 도금된 전주편(200)을 분리한다(S06).When the plating is completed in this way, the first material 220 , the second material 240 , and the electric pole 200 plated with the base nickel 250 are separated from the master 110 ( S06 ).

이후 전주편(200)에 제3재료(260) 및 크롬(270)이 적층된다.Thereafter, a third material 260 and chromium 270 are laminated on the front slab 200 .

마스터(110)에 전주층을 형성한 다음, 이를 박리하여 전주편(200)이 생성되는 모습을 나타낸 도면이다.After forming the electroforming layer on the master 110, it is a view showing a state in which the electroforming piece 200 is generated by peeling it.

박리된 전주편(200)에 대해 가공을 반복하여 구체적인 형상을 제조할 수 있다.It is possible to manufacture a specific shape by repeating the processing for the peeled former slab 200.

다음으로 제3재료(260)를 도금하고 이후 크롬(270)을 추가적으로 도금하여 유무광 엠블럼을 완성할 수 있다.Next, the third material 260 is plated, and thereafter, chrome 270 is additionally plated to complete the glossy emblem.

도 11에서는 도금층을 형성하기 위한 전기주조 도금되는 모습을 나타내는 그림이다.11 is a diagram illustrating a state in which electroforming plating is performed to form a plating layer.

도금이 완료되면 표면에 잔류하는 전기 주조액 또는 도금액을 세척하고 각인 형상 이외의 연장된 부분을 프레스 가공하여 후처리를 하면 최종 엠블럼이 완성된다(S07).When plating is completed, the final emblem is completed by washing the electroforming solution or plating solution remaining on the surface and press-working the extended part other than the engraved shape to perform post-processing (S07).

도 12에 최종 엠블럼을 나타냈다.12 shows the final emblem.

본 발명에서 전주품을 엠블럼으로 한정하였지만 휴대폰, 가전의 내/외장 데코물 및 로고배지 등에도 동일한 방법이 사용될 수 있다.In the present invention, electric poles are limited to emblems, but the same method can be used for mobile phones, interior/exterior decorations of home appliances, logo badges, and the like.

여기서 니켈을 주조함에 있어서 전기 주조액에 상기 마스터(110)을 침잠시키고 전기 주조를 실시하게 되는데, 음극판으로는 스테인리스 스틸(stainless steel)을, 양극판으로는 니켈을 각각 이용함으로써 전기 주조가 진행되어 상기 전주층의 두께가 점차 증가하더라도 전기 주조액의 조성에서 니켈의 성분이 감소하는 것을 방지할 수 있다.Here, in casting nickel, the master 110 is immersed in an electroforming solution and electroforming is performed. Electroforming is performed by using stainless steel as a negative plate and nickel as a positive plate, respectively. Even if the thickness of the electroforming layer is gradually increased, it is possible to prevent a decrease in the component of nickel in the composition of the electroforming solution.

즉, 음극판과 양극판을 스테인리스 스틸과 니켈을 이용함으로써 상기 전주층 형성 단계가 계속 진행되더라도 상기 전기 주조액의 성분을 일정하게 유지할 수 있으며, 이로써 상기 전주층의 결정 구조 등의 특성을 균일하게 유지할 수 있는 것이다. 또한, 상기 전주층 형성 단계가 진행되는 동안 상기 전기 주조액 내에서는 지속적으로 교반을 실시함으로써 상기 전기 주조액 내의 성분 분포를 균일하게 유지하면서 상기 전주층 형성을 보다 활성화시킬 수 있다.That is, by using stainless steel and nickel for the negative electrode plate and the positive electrode plate, even if the electroforming layer forming step continues, the composition of the electroforming solution can be kept constant, thereby uniformly maintaining the properties such as the crystal structure of the electroforming layer. there will be In addition, the electroforming layer formation can be more activated while maintaining a uniform distribution of components in the electroforming solution by continuously stirring the electroforming solution while the electroforming layer forming step is in progress.

여기서 전주층은 전주편(200)의 도금층을 말한다.Here, the electric pole layer refers to the plating layer of the electric pole piece 200 .

한편 전주편(200) 형성한 다음에는 도금층을 형성하게 되는데 본 실시예에서 제1재료(220)를 도금하는 조건은 황산니켈 240~320g/l와 염화니켈 40~60g/l와 붕산 35~45g/l을 주재료로 하는 전기 주조액 내에서 전주편(200)의 음각(52) 도금면(120)에 상기 제1재료(220) 및 상기 제2재료(240)를 각각 도금하게 된다.On the other hand, a plating layer is formed after the pole 200 is formed. In this embodiment, the conditions for plating the first material 220 are 240 to 320 g/l of nickel sulfate, 40 to 60 g/l of nickel chloride, and 35 to 45 g of boric acid. The first material 220 and the second material 240 are respectively plated on the plating surface 120 of the intaglio 52 of the electric slab 200 in an electroforming solution using /l as a main material.

전술한 바와 같이 제1재료(220)는 광택 니켈(220) 일 수 있고, 제2재료(240)는 반광 니켈(240) 일 수 있다.As described above, the first material 220 may be bright nickel 220 , and the second material 240 may be semi-gloss nickel 240 .

건욕 준비는 욕탕(10)에 약 60%의 물을 넣고 약 50℃로 가운하여 상기 황산니켈, 붕산, 염산니켈을 첨가하고 교반하여 용해를 시킨다. 교반 중에 pH(산성도)가 낮은 경우에는 탄산니켈을 첨가하며, 활성탄을 추가적으로 3~5시간 동안 교반하여 준비하게 된다.To prepare the dry bath, about 60% of water is added to the bath 10, and the temperature is about 50° C., the nickel sulfate, boric acid, and nickel hydrochloride are added and stirred to dissolve. When the pH (acidity) is low during stirring, nickel carbonate is added, and activated carbon is additionally stirred for 3 to 5 hours to prepare.

위와 같은 주재료 외에 제1재료(220)는 제1광택제 0.5~1.2ml/l, 제2광택제 10~15ml/l, 제3광택제 1~3ml 및 습윤제 1~2ml를 보조재료로 추가하여 도금을 수행하게 된다.In addition to the above main material, the first material 220 is plated by adding 0.5 to 1.2 ml/l of a first varnish, 10 to 15 ml/l of a second varnish, 1-3 ml of a third glaze, and 1-2 ml of a wetting agent as auxiliary materials. will do

이때 전기 도금의 조건은 섭씨 50~65℃에서 15~25분동안 전류 1~6 A/dm2의 조건으로 7.5~7.8㎛의 제1도금층(134)을 형성한다.At this time, the conditions of the electroplating are to form the first plating layer 134 of 7.5 ~ 7.8㎛ under the condition of a current of 1 ~ 6 A / dm 2 for 15 ~ 25 minutes at 50 ~ 65 ℃ ℃.

전주편(200)에 제1재료(220)를 도금하는 것은 도금피막 전위의 보정이 용이하고 도금층의 외관, 레벨링을 통해 내식성을 우수하게 한다.Plating the first material 220 on the electric slab 200 facilitates the correction of the plating film potential and improves the corrosion resistance through the appearance and leveling of the plating layer.

제2재료(240)는 제1재료(220) 위에 도금되는 것으로 제2재료(240)의 건욕 준비는 욕탕(10)에 황산니켈 280~300g/l와 염화니켈 30~35g/l와 붕산 35~40g/l을 주재료로 하며, 제6광택제 0~1ml/l, 제7광택제 1~2ml/l 및 습윤제 1~3ml/l를 보조재료로 사용하여 건욕을 준비한다.The second material 240 is plated on the first material 220, and the dry bath preparation of the second material 240 is 280-300 g/l of nickel sulfate, 30-35 g/l of nickel chloride, and 35 of boric acid in the bath 10. Prepare a dry bath using ~40g/l as the main material, and 0~1ml/l of the 6th polish, 1-2ml/l of the 7th polish, and 1~3ml/l of the wetting agent as auxiliary materials.

제2재료(240) 도금 조건은 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 얻을 수 있으며, 이후 베이스 니켈(250)이 도금된다.The plating condition of the second material 240 is to obtain a plating layer of 13.1 to 13.7 μm under the condition of a current of 0.5 to 5 A/dm2 for 13 to 23 minutes at 50 to 60° C., and then the base nickel 250 is plated. .

계속해서 제2재료(240) 적층되면 물성이 뛰어나고 경도가 낮은 도금층을 얻을 수 있게 되는 효과가 있다.If the second material 240 is continuously laminated, there is an effect that a plating layer having excellent physical properties and low hardness can be obtained.

한편 제2재료(240) 위에는 도금되는 제3재료(260)는 제4광택제 2~6ml/l, 제5광택제 5~15ml/l, 제1MP파우더 0.5~1g/l, 제2MP파우더 0.02~0.2g/l, 제3MP파우더 소량을 보조재료로 사용한다.On the other hand, the third material 260 to be plated on the second material 240 is the fourth varnish 2 to 6 ml/l, the fifth varnish 5 to 15 ml/l, the 1 MP powder 0.5 to 1 g/l, and the 2 MP powder 0.02 to 0.2 g/l, a small amount of 3MP powder is used as an auxiliary material.

제3재료(260)를 도금하게 되면 피막 자신의 내식성이 향상되어 부식의 진행이 한층 더 완화되고, 욕의 pH 변동이나, 크롬(270)도금 피막두께의 증가에 따른 미공수의 변화가 완화되어 미공수의 관리도 용이하게 되는 효과를 가진다.When the third material 260 is plated, the corrosion resistance of the film itself is improved, the progress of corrosion is further alleviated, and the change in the number of micropores due to the pH fluctuation of the bath or the increase in the thickness of the chromium 270 plating film is alleviated. It has the effect that the management of unaired water also becomes easy.

그리고 균일한 미공수를 얻을 수 있고 표면의 광택성이 뛰어나며, 고형 미립자의 첨가량이 적으므로 여과성이 뛰어나게 된다. 이로 인하여 도금액의 정화에 필요한 번거로움이 대폭 경감되는 장점이 있다.In addition, uniform micropore water can be obtained, the surface glossiness is excellent, and the amount of solid fine particles added is small, so the filterability is excellent. Due to this, there is an advantage in that the hassle required for purification of the plating solution is greatly reduced.

본 발명의 바람직한 실시예에 따라 제3재료(260)가 도금된 후에는 3가 크롬(270)을 도금한다.After the third material 260 is plated according to a preferred embodiment of the present invention, trivalent chromium 270 is plated.

3가 크롬(270)은 제3재료(260) 일면에 도금이 되는 것으로 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 얻게 되면 도금 조건으로는 전류 9.2 A/dm2에서 2분의 조건으로 0.44~0.5㎛가 된다.The trivalent chromium 270 is plated on one surface of the third material 260. When a plating layer of 13.1 to 13.7 μm is obtained under the condition of a current of 0.5 to 5 A/dm2 for 13 to 23 minutes at 50 to 60 degrees Celsius, plating is performed. As a condition, it becomes 0.44~0.5㎛ under the condition of 2 minutes at a current of 9.2 A/dm2.

위와 같이 제3재료(260) 위에 3가 크롬(270)을 도금하게 되면 3가 크롬(270)도금층(138)에 무수한 포어가 생성되어 피막상에서 부식전류가 분산되므로 도금의 부식속도를 저감 시키고, 제품의 표면을 매끄럽게 한다는 장점이 있다.When the trivalent chromium 270 is plated on the third material 260 as above, countless pores are generated in the trivalent chromium 270 plating layer 138 and the corrosion current is dispersed on the film, thereby reducing the corrosion rate of plating, It has the advantage of smoothing the surface of the product.

그리고 완성된 전주편(200)은 세척하게 되는데 먼저 전주편(200)을 섭씨 50~55℃에서 5~10분정도 산세 및 수세하고 4~7V의 전압으로 50~55℃의 조건으로 전해탈지를 수행한다.And the finished pole 200 is washed. First, the pole slab 200 is pickled and washed for 5-10 minutes at 50-55 ° C., and then electrolytically degreased under the condition of 50-55 ° C with a voltage of 4-7 V. carry out

그리고 15~30초동안 산세를 하여 전주편(200) 표면의 산화 피막을 제거하는 작업을 한다.Then, pickling is carried out for 15 to 30 seconds to remove the oxide film on the surface of the former slab 200 .

이와 같은 전기 주조 방법을 제작된 엠블럼은 제1재료(220), 제2재료(240), 및 베이스 니켈(250)이 도금된 후 마스터(110)에서 앞서 도금된 전주편(200)을 분리하며, 이후 제3재료(260)가 적층되는 형태로 구비되고, 이들이 적층되는 순서는 전주편(200)에 광택 니켈(220)이 도금층을 형성하고, 광택 니켈(220)의 도금층에 반광 니켈(240)이 도금층을 형성하며, 반광 니켈(240)의 도금층에 베이스 니켈(250)의 도금층이 형성되고, 이후 전주편(200)을 마스터(110)에서 분리한 후 MP 니켈(260)이 도금되어 도금층을 형성하며, 그 위에 3가 크롬(270)이 도금되어 다수가 적층되어 도금층은 20~50㎛이고, 최종적으로 200~250㎛의 엠블럼을 완성시킬 수 있다.The emblem produced by this electroforming method separates the previously plated electric slab 200 from the master 110 after the first material 220, the second material 240, and the base nickel 250 are plated, , and then the third material 260 is provided in a laminated form, and the order in which they are laminated is that the glossy nickel 220 forms a plating layer on the electric pole 200 , and semi-gloss nickel 240 on the plating layer of the glossy nickel 220 . ) forms a plating layer, a plating layer of the base nickel 250 is formed on the plating layer of the semi-gloss nickel 240 , and after the electric pole 200 is separated from the master 110 , the MP nickel 260 is plated and the plating layer is formed, and trivalent chromium 270 is plated on it, and a plurality of layers are laminated thereon, so that the plating layer is 20-50 μm, and finally an emblem of 200 to 250 μm can be completed.

한편, 앞서 설명한 바와 같이 본 발명으로 제작된 엠블럼은 종래의 엠블럼과 비교하여 우수한 내식성을 가진다고 앞서 설명하였다.On the other hand, as described above, the emblem manufactured by the present invention has been described above that it has excellent corrosion resistance compared to the conventional emblem.

또한 마스터(110)를 가공하여 바로 도금 재료를 도금하므로 광택이 우수하며 따라서 유광영역(122)과 무광영역(124)의 구분이 명확해진다.In addition, since the plating material is directly plated by processing the master 110 , the gloss is excellent, and thus the division between the glossy area 122 and the non-glossy area 124 becomes clear.

이와 같이 완성된 엠블럼에 대한 부식환경(제설염 시험)을 통해 부식 정도를 관찰한 그림을 도 10 및 도 11에 나타내었다.Figures 10 and 11 show the degree of corrosion of the completed emblem through the corrosion environment (snow salt test).

도 10은 종래 기술로서 전주편(200)에 크롬(270)이 도금된 엠블럼의 부식 시험을 통해 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이고, 도 11은 본 발명에 따른 제조방법으로 재조된 엠블럼의 부식 시험에서 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이다.10 is a view showing the corrosion size of the plating layer through the corrosion test of the emblem plated with chromium 270 on the electric slab 200 as a prior art, and FIG. 11 is a corrosion test of the emblem manufactured by the manufacturing method according to the present invention. It is a diagram showing the size of corrosion of the plating layer.

도 10 및 도 11 살펴보면, 종래에 전기주조로 제작된 엠블럼의 경우에는 전주편(200)에 크롬(270)이 도금되었고, 본 실시예의 엠블럼은 전주편(200)에 제1재료(220), 제2재료(240) 및 제3재료(260)가 도금된 후 3가 크롬(270)이 도금된다.10 and 11, in the case of the emblem produced by electroforming in the prior art, chrome 270 is plated on the electric pole 200, and the emblem of this embodiment is a first material 220 on the electric pole 200, After the second material 240 and the third material 260 are plated, the trivalent chromium 270 is plated.

도면을 살펴보면, 종래 기술로 제작된 엠블럼의 경우 부식 시험 결과, 엠블럼의 표면에 부식의 크기가 각각285㎛, 478㎛가 관찰되어 불합격으로 판정되었다.Referring to the drawings, in the case of the emblem manufactured in the prior art, as a result of the corrosion test, the size of corrosion on the surface of the emblem was observed to be 285 μm and 478 μm, respectively, and it was judged to be rejected.

이와 상대적으로 본 발명에 의해 제조된 엠블럼은 부식의 크기가 각각 25㎛, 46㎛인 것으로 관찰되었다.Relatively, it was observed that the size of the corrosion of the emblem prepared by the present invention was 25㎛ and 46㎛, respectively.

이는 앞서 설명한 바와 같이 제1재료(220), 제2재료(240) 및 제3재료(260)의 도금층이 크롬(270) 표면이 부식되는 것을 크게 억제하는 것을 확인할 수 있었다.As described above, it was confirmed that the plating layers of the first material 220 , the second material 240 , and the third material 260 greatly suppressed corrosion of the surface of the chrome 270 .

이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit or scope of the present invention in addition to the above-described embodiments is one of ordinary skill in the art. It is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments are to be regarded as illustrative rather than restrictive, and accordingly, the present invention is not limited to the above description, but may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.

10: 욕
110: 마스터
120: 도금면
122: 유광영역
124: 무광영역
200: 전주편
220: 제1재료
240: 제2재료
250: 베이스 니켈
260: 제3재료
270: 크롬
10: swear
110: master
120: plating surface
122: glossy area
124: matte area
200: Jeonju
220: first material
240: second material
250: base nickel
260: third material
270: chrome

Claims (23)

대상물의 형상에 따라 가공된 도금면을 가지는 마스터를 준비하는 단계;
상기 도금면의 표면을 가공하는 단계;
상기 도금면에 도금 재료를 도금하여 전주편을 생성하는 단계; 및
상기 전주편을 성형하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
Preparing a master having a plated surface processed according to the shape of the object;
processing the surface of the plating surface;
forming an electric slab by plating a plating material on the plating surface; and
forming the former slab;
characterized in that it comprises,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제1항에 있어서,
상기 표면을 가공하는 단계는,
상기 도금면과 상기 도금 재료의 부착력을 높이는 양극전해 과정; 및
상기 도금면 중 일부를 코팅하는 이형처리 과정;
을 포함하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엘블럼 제조 방법.
According to claim 1,
The step of processing the surface,
an anodic electrolysis process for increasing adhesion between the plating surface and the plating material; and
a release treatment process of coating a portion of the plating surface;
characterized in that it comprises,
A method for manufacturing a matte or unglazed elblum
제1항에 있어서,
상기 마스터를 준비하는 단계는,
상기 도금면의 일부를 부식시키는 과정;
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
According to claim 1,
The step of preparing the master,
a process of corroding a portion of the plating surface;
characterized in that it further comprises,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제1항에 있어서,
상기 전주편을 생성하는 단계는,
상기 도금면에 제1재료를 도금하는 과정 및 상기 제1재료에 제2재료를 도금하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
According to claim 1,
The step of generating the previous slab,
It characterized in that it comprises a process of plating a first material on the plating surface and a process of plating a second material on the first material,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제4항에 있어서,
상기 제1재료는 광택 니켈(Brightenss Nickel)이고, 상기 제2재료는 반광 니켈(Semi-Bright Nickel)인 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The first material is bright nickel (Brightenss Nickel), characterized in that the second material is semi-bright nickel (Semi-Bright Nickel),
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제4항에 있어서,
상기 제1재료를 도금하는 과정은,
제1광택제 0.5~1.2ml/l, 제2광택제 10~15ml/l, 제3광택제 1~3ml 및 습윤제 1~2ml를 보조재료로 사용하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The process of plating the first material,
It is characterized in that 0.5~1.2ml/l of the first brightener, 10~15ml/l of the second brightener, 1~3ml of the third brightening agent, and 1~2ml of the wetting agent are used as auxiliary materials,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제6항에 있어서,
상기 제1재료를 도금하는 과정은,
섭씨 50~65℃에서 15~25분동안 전류 1~6 A/dm2의 조건으로 7.5~7.8㎛의 도금층을 형성하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The process of plating the first material,
Characterized in forming a plating layer of 7.5 ~ 7.8㎛ under the condition of current 1 ~ 6 A / dm 2 for 15 ~ 25 minutes at 50 ~ 65 ℃ Celsius,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제4항에 있어서,
상기 제2재료를 도금하는 과정은,
제6광택제 0~1ml/l, 제7광택제 1~2ml/l 및 습윤제 1~3ml/l를 보조재료로 사용하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The process of plating the second material,
It is characterized in that 0-1ml/l of the 6th glazing agent, 1-2ml/l of the 7th glazing agent and 1-3ml/l of the wetting agent are used as auxiliary materials,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제8항에 있어서,
상기 제2재료를 도금하는 과정은,
섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 형성하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The process of plating the second material,
characterized in that a plating layer of 13.1 to 13.7 μm is formed under the condition of a current of 0.5 to 5 A/dm2 at 50 to 60 ° C for 13 to 23 minutes,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제1항에 있어서,
상기 전주편을 생성하는 단계는,
제4광택제 2~6ml/l, 제5광택제 5~15ml/l, 제1MP파우더 0.5~1g/l, 제2MP파우더 0.02~0.2g/l, 제3MP파우더 소량을 보조재료로 사용하는 제3재료를 도금하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
According to claim 1,
The step of generating the previous slab,
The third material using a small amount of the 4th varnish 2~6ml/l, the 5th glaze 5~15ml/l, the 1st MP powder 0.5~1g/l, the 2nd MP powder 0.02~0.2g/l, and the 3rd MP powder as an auxiliary material Characterized in that it further comprises the process of plating,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제10항에 있어서,
상기 제3재료를 도금하는 과정은,
섭씨 50~60℃에서 2~10분동안 전류 3~5 A/dm2의 조건으로 1.12~1.16㎛의 도금층을 형성하는 엠블럼 전기 주조 방법.
11. The method of claim 10,
The process of plating the third material,
Emblem electroforming method to form a plating layer of 1.12 ~ 1.16㎛ under the condition of current 3 ~ 5 A/dm 2 for 2 ~ 10 minutes at 50 ~ 60 ℃ ℃.
제11항에 있어서,
상기 제3재료는 MP 니켈(Micro Porous Nickel)로 구비되는 엠블럼 전기 주조 방법.
12. The method of claim 11,
The third material is an emblem electroforming method provided with MP Nickel (Micro Porous Nickel).
제1항에 있어서,
전류 9.2 A/dm2에서 2분의 조건으로 0.44~0.5㎛의 도금층을 형성하는 3가 크롬을 도금하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
According to claim 1,
Characterized in that it further comprises the step of plating trivalent chromium to form a plating layer of 0.44 ~ 0.5㎛ under the condition of 2 minutes at a current of 9.2 A / dm2,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제3항에 있어서,
상기 전주편을 생성하는 단계는,
황산니켈 280~300g/l와 염화니켈 30~35g/l와 붕산 35~40g/l을 주재료로 하는 전기 주조액 내에서 상기 도금 재료를 도금하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼 제조 방법.
4. The method of claim 3,
The step of generating the previous slab,
characterized in that the plating material is plated in an electroforming solution containing 280 to 300 g/l of nickel sulfate, 30 to 35 g/l of nickel chloride, and 35 to 40 g/l of boric acid as main materials,
A method for manufacturing a matte or non-glossy emblem.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 유무광 엠블럼 제조 방법으로 제작된 엠블럼.
An emblem produced by the method of any one of claims 1 to 13.
제15항에 있어서,
마스터의 도금면에 전기 주조로 제작되는 엠블럼으로서,
상기 도금면에 적어도 두개 이상의 도금 재료가 적층되고, 상기 도금면에 대응되는 패턴이 형성되되, 유광영역 및 무광영역을 구분하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 유무광 엠블럼.
16. The method of claim 15,
As an emblem produced by electroforming on the plating surface of the master,
At least two or more plating materials are stacked on the plating surface, and a pattern corresponding to the plating surface is formed, and the matte or non-glossy emblem is provided to distinguish between a glossy area and a non-glossy area.
제16항에 있어서,
상기 엠블럼은,
상기 무광영역이 형성되도록 상기 도금면의 일부를 부식시키는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼.
17. The method of claim 16,
The emblem is
Characterized in that a portion of the plating surface is corroded to form the matte area,
Glossy Emblem.
제17항에 있어서,
상기 무광영역은,
샌드 블라스터를 통해 상기 도금면의 일부가 부식되는 것을 특징으로 하는 유무광 엠블럼.
18. The method of claim 17,
The non-glossy area is
Glossy or non-glossy emblem, characterized in that a part of the plating surface is corroded through a sand blaster.
제16항에 있어서,
상기 도금재료는,
상기 광택 니켈을 포함하는 유무광 엠블럼.
17. The method of claim 16,
The plating material is
Matte or matte emblem containing the glossy nickel.
제19항에 있어서,
상기 도금재료는,
상기 광택 니켈의 일면에 적층 형태로 도금되는 반광 니켈을 포함하는 유무광 엠블럼.
20. The method of claim 19,
The plating material is
A matte or non-glossy emblem comprising semi-gloss nickel plated on one side of the glossy nickel in a laminated form.
제20항에 있어서,
상기 도금재료는,
상기 반광 니켈 일면에 적층 형태로 도금되는 MP니켈을 포함하는 유무광 엠블럼.
21. The method of claim 20,
The plating material is
A non-glossy emblem comprising MP nickel plated in a laminated form on one surface of the semi-gloss nickel.
제16항에 있어서,
상기 도금면은,
상기 도금 재료의 부착력을 높이기 위해 양극전해가 실시되는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼.
17. The method of claim 16,
The plating surface is
Characterized in that anodic electrolysis is performed to increase the adhesion of the plating material,
Glossy Emblem.
제22항에 있어서,
상기 도금면은,
상기 도금면에 코팅된 상기 도금 재료가 분리되는 것을 보조하도록 이형제를 코팅하는 것을 특징으로 하는,
유무광 엠블럼.



23. The method of claim 22,
The plating surface is
characterized in that by coating a release agent to assist the separation of the plating material coated on the plating surface,
Glossy Emblem.



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