KR20210074319A - laminate - Google Patents

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Abstract

본 발명에 의하여, 기재, 전사층, 접착층을 이 순서로 포함하고, 전사층과 접착층이 인접하며, 전사층의 면적이 접착층의 면적보다 넓고, 또한 전사층의 막두께에 면내 분포가 있어, 접착층의 단부와 전사층이 접한 위치 P1에 있어서의 전사층의 막두께 t1이, 그것보다 내측의 위치 P2에 있어서의 전사층의 막두께 t2보다 얇은 것을 특징으로 하는 적층체가 제공된다.According to the present invention, the substrate, the transfer layer, and the adhesive layer are included in this order, the transfer layer and the adhesive layer are adjacent to each other, the area of the transfer layer is larger than the area of the adhesive layer, and the film thickness of the transfer layer has an in-plane distribution, the adhesive layer A laminate is provided, wherein the film thickness t1 of the transfer layer at the position P1 where the end of the transfer layer is in contact with the transfer layer is smaller than the film thickness t2 of the transfer layer at the position P2 inside it.

Description

적층체laminate

본 발명은, 전사층과 접착층을 포함하는 적층체에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은, 예를 들면 액정 표시 장치 등에 적합하게 이용할 수 있는 광학 필름으로서 유용한 전사층과 접착층을 포함하는 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a laminate comprising a transfer layer and an adhesive layer. More specifically, the present invention relates to a laminate comprising, for example, a transfer layer useful as an optical film that can be suitably used in a liquid crystal display device and the like and an adhesive layer.

최근, 액정 표시 장치 등의 표시 장치는, 박형화나 대형화가 급속히 진행되고 있으며, 의장성의 확보나, 환경 변화에 따른 표시 장치의 광불균일 고장을 억제할 목적으로, 광학 필름을 비롯한 부재의 박형화가 진행되고 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART In recent years, display apparatuses, such as a liquid crystal display device, have progressed rapidly in thickness reduction and enlargement, and thickness reduction of members including an optical film is progressing for the purpose of securing designability and suppressing the optical non-uniformity malfunction of a display apparatus according to environmental change. is becoming

예를 들면, 액정 표시 장치의 필수 부재인 편광판에 있어서, 환경 습도의 변화에 의하여 편광판이 신축된 경우에, 편광판이 첩합된 액정 패널이 휘어, 패널과 백라이트 부재가 접촉함으로써 광불균일이 발생한다고 생각되고 있다.For example, in a polarizing plate, which is an essential member of a liquid crystal display device, when the polarizing plate is stretched and contracted due to a change in environmental humidity, the liquid crystal panel to which the polarizing plate is bonded is bent, and light non-uniformity occurs due to contact between the panel and the backlight member is becoming

이 문제를 해결하기 위하여, 저투습성의 광학 필름을 이용하는 방식(특허문헌 1), 광학 필름의 치수 변화에 의하여 발생하는 힘을 억제하는 방식(특허문헌 2나 특허문헌 3) 등이 제안되고 있다.In order to solve this problem, the system (patent document 1) of using a low moisture permeability optical film, the system (patent document 2, patent document 3) etc. which suppress the force which generate|occur|produces by the dimensional change of an optical film are proposed.

또, 전사성의 광학 필름을 이용하여 박막화하여, 패널의 휨을 억제하는 방식(특허문헌 4) 등이 제안되고 있다.Moreover, the method (patent document 4) etc. which reduce the curvature of a panel by thinning using a transferable optical film are proposed.

한편, 전사층의 품질을 향상시킬 목적으로, 비전사 영역을 다층화하는 방법(특허문헌 5), 전사재를 미리 절곡한 후에 기재를 박리하는 전사 방법(특허문헌 6) 등이 제안되고 있다.On the other hand, for the purpose of improving the quality of the transfer layer, a method of multi-layering the non-transfer region (Patent Document 5), a transfer method of peeling the substrate after bending the transfer material in advance (Patent Document 6), and the like have been proposed.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2015-007768호Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-007768 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2014-095880호Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-095880 특허문헌 3: 국제 공개공보 제2017/138551호Patent Document 3: International Publication No. 2017/138551 특허문헌 4: 일본 공개특허공보 2017-215562호Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-215562 특허문헌 5: 일본 공개특허공보 2003-103997호Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-103997 특허문헌 6: 일본 공개특허공보 평10-067199호Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-067199

특허문헌 4에 개시되어 있는 전사성의 광학 필름은, 우수한 효과를 발휘하는 것이지만, 최근 가일층의 성능의 향상이 요구되고 있으며, 특히 기재 박리성(전사층을 기재로부터 안정적으로 박리할 수 있는 성능)과 결함의 저감에 대하여 검토의 여지가 있다.The transferable optical film disclosed in Patent Document 4 exhibits an excellent effect, but in recent years, further improvement in performance has been demanded, and in particular, substrate releasability (performance capable of stably peeling the transfer layer from the substrate) and There is room for consideration regarding the reduction of defects.

또, 특허문헌 5에 개시되어 있는 방법에서는, 장척상의 적층체를 생산할 때에 반송 위치 어긋남이나, 광폭의 적층체에 있어서의 각 재료의 치수 변화에 기인하는 위치 어긋남이 발생하여, 기재 박리성이 개선되지 않는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 특허문헌 6에 개시되어 있는 방법은, 생산 장치의 구조상의 제약으로, 적용할 수 없는 경우가 있는 것을 알 수 있었다.Moreover, in the method disclosed by patent document 5, when producing a long laminated body, a conveyance position shift and the position shift resulting from the dimensional change of each material in a wide laminated body generate|occur|produce, and base material peelability is improved I found out that there are cases where it doesn't work. Moreover, it turned out that the method disclosed by patent document 6 may not be applicable due to the structural limitation of a production apparatus.

본 발명의 해결하고자 하는 과제는, 기재 박리성이 양호하고, 결함이 적은 전사층과 접착층을 포함하는 적층체를 제공하는 것이다.An object to be solved by the present invention is to provide a laminate including a transfer layer and an adhesive layer having good substrate releasability and fewer defects.

기재 박리성을 개선하기 위하여, 전사층의 막두께에 면내 분포를 마련하고, 접착층의 단부(端部)와 접한 위치 (P1)에 있어서의 전사층의 막두께를, 그것보다 내측의 위치 (P2)에 있어서의 전사층의 막두께보다 얇게 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.In order to improve the base material releasability, an in-plane distribution is provided in the film thickness of the transfer layer, and the film thickness of the transfer layer at the position (P1) in contact with the end of the adhesive layer is set at a position (P2) inside it. By making it thinner than the film thickness of the transfer layer in ), it discovered that the said subject could be solved, and came to complete this invention.

따라서, 상기 과제를 해결하기 위한 구체적 수단인 본 발명은, 이하와 같다.Accordingly, the present invention, which is a specific means for solving the above problems, is as follows.

<1><1>

기재, 전사층, 접착층을 이 순서로 포함하고, 전사층과 접착층이 인접하며, 전사층의 면적이 접착층의 면적보다 넓고, 또한 전사층의 막두께에 면내 분포가 있어, 접착층의 단부와 전사층이 접한 위치 (P1)에 있어서의 전사층의 막두께 (t1)이, 그것보다 내측의 위치 (P2)에 있어서의 전사층의 막두께 (t2)보다 얇은 것을 특징으로 하는 적층체.A substrate, a transfer layer, and an adhesive layer are included in this order, the transfer layer and the adhesive layer are adjacent to each other, the area of the transfer layer is larger than the area of the adhesive layer, and the film thickness of the transfer layer has an in-plane distribution, so that the end of the adhesive layer and the transfer layer A laminate characterized in that a film thickness (t1) of the transfer layer at this contacting position (P1) is smaller than a film thickness (t2) of the transfer layer at a position (P2) inside it.

<2><2>

상기 P1에 있어서의 전사층과 기재의 접착력 (fa1)과, 상기 P2에 있어서의 전사층과 기재의 접착력 (fa2)의 차가, 3N/25mm 미만인 <1>에 기재된 적층체.The laminate according to <1>, wherein a difference between the adhesive force (fa1) between the transfer layer and the substrate in P1 and the adhesion force (fa2) between the transfer layer and the substrate in P2 is less than 3 N/25 mm.

<3><3>

상기 전사층의 주재료가 열가소성 수지인 <1> 또는 <2>에 기재된 적층체.The laminate according to <1> or <2>, wherein the main material of the transfer layer is a thermoplastic resin.

<4><4>

상기 적층체가, 장척상의 적층체인 <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 적층체.The laminate according to any one of <1> to <3>, wherein the laminate is a long laminate.

<5><5>

상기 전사층의 주재료가, 바이닐 방향족계 수지, 또는 환상 올레핀계 수지인 <3>에 기재된 적층체.The laminate according to <3>, wherein the main material of the transfer layer is a vinyl aromatic resin or a cyclic olefin resin.

<6><6>

상기 전사층의 주재료가, 경화성 조성물인 <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 적층체.The laminate according to any one of <1> to <4>, wherein the main material of the transfer layer is a curable composition.

<7><7>

상기 접착층의, 전사층과는 반대 측의 면에, 광학 필름이 인접한 <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 적층체.The laminate according to any one of <1> to <6>, wherein an optical film is adjacent to a surface of the adhesive layer opposite to the transfer layer.

<8><8>

상기 광학 필름이, 편광막, 또는 편광막의 보호 필름인 <7>에 기재된 적층체.The laminate according to <7>, wherein the optical film is a polarizing film or a protective film of the polarizing film.

<9><9>

상기 광학 필름이, 위상차 필름인 <7>에 기재된 적층체.The laminate according to <7>, wherein the optical film is a retardation film.

<10><10>

액정 셀과, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 적층체를 포함하는 액정 표시 장치.A liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell and the laminate according to any one of <1> to <9>.

<11><11>

유기 일렉트로 루미네선스 소자와, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 적층체를 포함하는 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치.An organic electroluminescent display device comprising an organic electroluminescent element and the laminate according to any one of <1> to <9>.

본 발명에 의하면, 기재 박리성이 양호하고, 결함이 적은 전사층과 접착층을 포함하는 적층체를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body containing the transfer layer with few defects and the adhesive layer with favorable base material peelability can be provided.

도 1은 본 발명의 적층체의 일례와 피전사체의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 2는 본 발명의 적층체의 일례의 접착층의 단부 부근을 나타내는 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows an example of the laminated body of this invention, and an example of a to-be-transferred body.
It is a schematic diagram which shows the edge part vicinity of the adhesive layer of an example of the laminated body of this invention.

본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다. 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 다만, 본원 명세서에 있어서 "~"란 그 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 의미로 사용된다.The content of the present invention will be described in detail. Although description of the structural requirements described below may be made based on the typical embodiment of this invention, this invention is not limited to such an embodiment. However, in the present specification, "~" is used in the meaning including the numerical value described before and after it as a lower limit and an upper limit.

<<전사층>><<Warrior Layer>>

본 발명에 있어서의 전사층에 대하여 설명한다.The transfer layer in this invention is demonstrated.

본 발명의 적층체에 있어서, 전사층은 접착층과 인접하고 있으며, 전형적으로는, 다른 물품(피전사체)에 본 발명의 적층체의 접착층을 접착시키거나, 또는 피전사체와 본 발명의 전사층·기재를 접착제(접착층)를 개재하여 적층시키고(도 1 참조), 본 발명의 적층체의 기재를 박리함으로써, 전사층은 기재로부터 박리되어 접착층과 함께 다른 물품 상에 전사되는 것이다.In the laminate of the present invention, the transfer layer is adjacent to the adhesive layer, and typically, the adhesive layer of the laminate of the present invention is adhered to another article (transfer object), or the transfer object and the transfer layer of the present invention are adhered to each other. By laminating the substrate with an adhesive (adhesive layer) interposed therebetween (see Fig. 1) and peeling the substrate of the laminate of the present invention, the transfer layer is peeled from the substrate and transferred onto another article together with the adhesive layer.

이때, 전사층의 인열(引裂)에 필요한 힘이, 전사층을 기재로부터 박리하는 데 필요한 힘을 하회하면, P1보다 내측은 전사층과 기재 사이에서 박리되어, P1보다 외측은 전사층이 기재 측에 남는 상태가 되기 때문에, 예를 들면 후공정에서 전사층이 끊어지는 것 같은 문제가 일어나지 않아, 결함을 저감할 수 있어, 바람직하다.At this time, if the force required to tear the transfer layer is less than the force required to peel the transfer layer from the substrate, the inner side of P1 is peeled between the transfer layer and the substrate, and the outer side of P1 is that the transfer layer is on the substrate side. Since it remains in the state, for example, a problem such as breakage of the transfer layer in a subsequent step does not occur, and defects can be reduced, which is preferable.

<막두께><Thickness>

본 발명의 전사층은, 막두께의 면내 분포가 있어, 전사층과 접착층을 적층할 때에, 접착층의 단부와 전사층이 접할 수 있는 위치 (P1)에 있어서의 전사층의 막두께 (t1)이, 그것보다 내측의 위치 (P2)에 있어서의 전사층의 막두께 (t2)보다 얇은 것을 특징으로 한다. 여기에서, "내측의 위치 (P2)"는, 전형적으로는, 접착층과 전사층이 접하는 위치로서, P1보다 접착층의 중앙에 가까운 측의 위치를 나타낸다(도 1 및 도 2 참조).The transfer layer of the present invention has an in-plane distribution of film thickness, and when the transfer layer and the adhesive layer are laminated, the film thickness (t1) of the transfer layer at the position (P1) where the end of the adhesive layer and the transfer layer can be in contact is , which is thinner than the film thickness t2 of the transfer layer at the position P2 inside it. Here, the "inside position (P2)" is typically a position where the adhesive layer and the transfer layer are in contact, and indicates a position closer to the center of the adhesive layer than P1 (see Figs. 1 and 2).

기재 박리성은, P1 부근의 막두께를 저감하여, 전사층이 인열되기 쉽게 함으로써 개선할 수 있다. 구체적으로는, t1과 t2의 비(t1/t2)는 1 미만이며, 0.9 이하가 바람직하고, 0.8 이하가 보다 바람직하며, 0.7 이하가 더 바람직하고, 0.6 이하가 가장 바람직하다. t1/t2를 작게 함으로써, 상정 외의 위치로부터 인열되는 빈도를 저감할 수 있고, 기재 박리성이 양호해져, 적층체의 결함을 저감할 수 있다.Base material peelability can be improved by reducing the film thickness of P1 vicinity and making a transfer layer easy to tear. Specifically, the ratio (t1/t2) of t1 to t2 is less than 1, preferably 0.9 or less, more preferably 0.8 or less, still more preferably 0.7 or less, and most preferably 0.6 or less. By making t1/t2 small, the frequency of tearing from an unexpected position can be reduced, base material peelability becomes favorable, and the defect of a laminated body can be reduced.

t1은, 상기 t1/t2비를 충족시키는 범위 내에서 설정되며, 0.05~7.0μm가 바람직하고, 0.2~4.5μm가 보다 바람직하며, 0.5~4.0μm가 더 바람직하고, 0.7~3.5μm가 가장 바람직하다. t1이 0.05μm 이상이면 P1 부근의 전사층에, 천공 등의 결함이 발생하는 빈도가 억제되기 때문에 바람직하다.t1 is set within the range satisfying the above t1/t2 ratio, preferably 0.05 to 7.0 μm, more preferably 0.2 to 4.5 μm, still more preferably 0.5 to 4.0 μm, and most preferably 0.7 to 3.5 μm Do. If t1 is 0.05 µm or more, it is preferable because the frequency of occurrence of defects such as perforation in the transfer layer near P1 is suppressed.

또, 본 발명의 적층체에 있어서의 전사층은, 접착층의 단부와 접하는 위치 P1로부터 전사층의 단부에 걸쳐 막두께가 t1인 영역("P1 영역"이라고도 부른다. 도 2 참조.)을 갖고 있는 것이 바람직하다. P1 영역은, 도 1에 나타낸 바와 같이 전사되는 영역(접착층에 접하고 있는 영역("전사 영역"이라고도 부른다.))과 비전사 영역을 포함하는 것이어도 되지만, P1 영역 중의 전사 영역은, 예를 들면 제품으로서의 광학 필름으로서 원하는 성능을 발휘하기 위한 막두께를 갖고 있지 않은 경우에는, 비제품부로서 취급되는 경우도 있다. 이와 같은 관점에서는, 막두께를 t1로 하는 영역(P1 영역)의 폭은, 제품의 득률을 높이는 관점에서는 좁은 편이 바람직하지만, 전사층과 접착층을 적층할 때의 위치 결정의 정밀도나, 전사층이나 피전사체의 치수 변화 등을 고려하여 설정되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 본 발명의 적층체가, 장척상의 적층체인 경우에는 P1은 폭방향 양단부 부근이 되며, t1의 폭은, 웨브의 폭방향의 반송 위치 정밀도를 고려하여, 통상, 편측 3~50mm가 바람직하고, 5~30mm가 보다 바람직하며, 10~20mm가 더 바람직하다. 전사층이나 피전사층의 온도나 습도에 의한 치수 변화가 위치 정밀도에 우위에 영향을 주는 경우에는, 반송 위치 정밀도를 고려한 t1의 폭에, 재료의 치수 변화에 기인하는 폭을 더하는 것이 바람직하다(이 경우, t1의 폭의 추가량은, 치수 변화율을 고려하여 결정하는 것이 바람직하고, 재료의 폭에 따라, 추가량을 증감하는 것이 바람직하다).Further, the transfer layer in the laminate of the present invention has a region having a film thickness of t1 from the position P1 in contact with the end portion of the adhesive layer to the end portion of the transfer layer (also referred to as a “P1 region”; see Fig. 2). it is preferable The P1 region may include a region to be transferred (a region in contact with the adhesive layer (also referred to as a “transfer region”)) and a non-transfer region as shown in Fig. 1, but the transfer region in the P1 region is, for example, When it does not have the film thickness for exhibiting desired performance as an optical film as a product, it may be handled as a non-product part. From such a viewpoint, the width of the region (region P1) in which the film thickness is t1 (region P1) is preferably narrow from the viewpoint of increasing the product yield. It is preferable to set in consideration of the dimensional change of the to-be-transferred object. For example, when the laminate of the present invention is a long laminate, P1 is in the vicinity of both ends in the width direction, and the width of t1 is usually 3 to 50 mm on one side in consideration of the conveyance position accuracy in the width direction of the web. And, 5-30 mm is more preferable, and 10-20 mm is more preferable. In the case where the dimensional change due to temperature or humidity of the transfer layer or the transfer target layer has a dominant influence on the positional accuracy, it is preferable to add the width due to the dimensional change of the material to the width of t1 considering the conveying positional accuracy ( In this case, it is preferable to determine the additional amount of the width of t1 in consideration of the dimensional change rate, and it is preferable to increase or decrease the additional amount according to the width of the material).

본 발명의 적층체에 있어서의 전사층은, 막두께가 t2인 영역("P2 영역"이라고도 부른다. 도 2 참조.)을 갖고 있는 것이 바람직하다. t2는, 전형적으로는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 제품 부분이 되는 전사 영역의 막두께이고, 예를 들면 역학 강도와 같은 다른 성능을 충족시키는 것이 바람직하며, 0.1~10μm가 바람직하고, 0.5~7.0μm가 보다 바람직하며, 1.0~6.0μm가 더 바람직하고, 1.5~5.5μm가 가장 바람직하다. t2가 0.1μm 이상이면 제품이 되는 전사 영역의 다른 성능을 담보하는 관점에서 바람직하고, 10μm 이하이면 기재 박리성이나, 적층체의 박형화의 관점에서 바람직하다.It is preferable that the transfer layer in the laminate of the present invention has a region having a film thickness of t2 (also referred to as a "P2 region"; see Fig. 2). t2 is typically, as shown in Fig. 1, the film thickness of the transfer region serving as the product portion, preferably satisfying other performance such as, for example, mechanical strength, preferably 0.1 to 10 μm, 0.5 to 7.0 micrometers is more preferable, 1.0-6.0 micrometers is still more preferable, and 1.5-5.5 micrometers is the most preferable. If t2 is 0.1 μm or more, it is preferable from the viewpoint of ensuring other performance of the transfer region used as a product, and if it is 10 μm or less, it is preferable from the viewpoint of substrate releasability and thickness reduction of the laminate.

t1을 부분적으로 얇게 하는 구체적인 방법으로서는, 전사층이 코팅막인 경우, 도막의 건조가 종료되기 전에, P1 근방에 도막을 제거하는 판상의 지그를 마련하여 긁어내는 방법이나, P1 근방의 도막에 와이어 바와 같은 지그를 압압하여 얇게 하는 방법 등으로 실시할 수 있다. 와이어 바와 같은 지그를 압압한 경우는, 폭방향으로 막두께의 불균일성이 발생하는 경우가 있고, 그 경우, t1은, 가장 얇은 부분에서 평가된다. 또, 전사층을 중층(重層) 도포로 형성하고, 1층째와 2층째의 도포폭을 변경함으로써 실현하는 방법이 있다. 이 경우, 광폭의 층과 협폭의 층의 재료를 변경하여, 광폭의 층을 인열되기 쉬운 재료로 해 둘 수도 있다.As a specific method for partially thinning t1, when the transfer layer is a coating film, before the drying of the coating film is finished, a method of scraping by providing a plate-shaped jig for removing the coating film in the vicinity of P1, or a wire bar and a wire bar on the coating film in the vicinity of P1 It can be carried out by pressing the same jig to make it thin. When the jig|tool like a wire bar is pressed, the nonuniformity of a film thickness may generate|occur|produce in the width direction, In that case, t1 is evaluated by the thinnest part. Moreover, there exists a method of realizing by forming a transfer layer by multilayer coating, and changing the application|coating width of the 1st layer and 2nd layer. In this case, the material of the wide layer and the narrow layer may be changed, and the wide layer may be made of a material prone to tearing.

t1을 부분적으로 얇게 하는 다른 방법으로서, 전사층이 비정성 폴리머인 경우에, P1 근방의 영역에 가해지는 온도를 전사층의 Tg 미만으로 하고, P2 영역에 가해지는 온도를 전사층의 Tg 이상으로 함으로써, P1 근방의 영역의 면배향을 진행하여, P2 영역은 면배향이 억제된 상태로 하는 방법이 있다. 또, 전사층이 결정성 폴리머인 경우에, P1 근방의 영역을, 부분적으로 결정화 온도 이상까지 가열하는 방법이 있다.As another method of partially thinning t1, when the transfer layer is an amorphous polymer, the temperature applied to the region near P1 is less than the Tg of the transfer layer, and the temperature applied to the region P2 is higher than the Tg of the transfer layer. Thus, there is a method in which the plane orientation of the region near P1 is advanced and the plane orientation of the region P2 is suppressed. Further, when the transfer layer is a crystalline polymer, there is a method in which the region near P1 is partially heated to a crystallization temperature or higher.

<전사층과 기재의 접착력><Adhesive force between the transfer layer and the substrate>

본 발명의 전사층과 기재의 복층 필름에 있어서, 기재를 안정적으로 박리하기 위하여, 전사층과 기재의 접착력의 면내 분포는 작은 편이 바람직하고, P1에 있어서의 접착력과, P2에 있어서의 접착력의 차는, 3N/25mm 미만인 것이 바람직하고, 1N/25mm 미만인 것이 보다 바람직하며, 0.5N/25mm 미만인 것이 더 바람직하다.In the multilayer film of the transfer layer and the substrate of the present invention, in order to stably peel the substrate, the in-plane distribution of the adhesive force between the transfer layer and the substrate is preferably small, and the difference between the adhesive force in P1 and the adhesive force in P2 is , It is preferable that it is less than 3N/25mm, It is more preferable that it is less than 1N/25mm, It is more preferable that it is less than 0.5N/25mm.

P1에 있어서의 접착력은, 0.001~5N/25mm가 바람직하고, 0.01~3N/25mm가 보다 바람직하며, 0.1~1N/25mm가 더 바람직하고, 0.15~0.8N/25mm가 가장 바람직하다. 0.001N/25mm 이상이면, 기재의 박리 공정 이외에 있어서의 상정 외의 박리 고장을 방지할 수 있고, 5N/25mm 이하이면, 박리 공정에 있어서의 박리 불량(예를 들면, 지핑이나, 전사층의 균열)을 방지할 수 있다.0.001-5N/25mm is preferable, as for the adhesive force in P1, 0.01-3N/25mm is more preferable, 0.1-1N/25mm is still more preferable, 0.15-0.8N/25mm is the most preferable. If it is 0.001 N/25 mm or more, an unexpected peeling failure in other than the peeling process of the base material can be prevented, and if it is 5 N/25 mm or less, peeling failure in the peeling process (for example, zipping or cracking of the transfer layer) can prevent

또, P2에 있어서의 접착력은, 높은 편이 기재 박리성은 양호해지지만, 접착력의 면내 분포가 크면, 기재나 피전사체에 주름이나 당김이 발생하여, 산발적으로 기재 박리성이 악화되는 경우가 있기 때문에, 접착력의 면내 분포가 상술한 범위가 되도록, P2는 설정되는 것이 바람직하다. 즉, 전사층의 기재를 박리할 때에, 기재나 피전사체에 주름이나 당김의 발생이 없고, 안정적으로 박리하기 위해서는, 전사층과 기재의 접착력의 면내 분포는 작은 편이 바람직하다.In addition, the higher the adhesive force at P2, the better the substrate releasability, but if the in-plane distribution of the adhesive force is large, wrinkles or tugging may occur on the substrate or the transfer target, and the substrate peelability may sporadically deteriorate. It is preferable that P2 is set so that the in-plane distribution of adhesive force may fall within the above-mentioned range. That is, when the base material of the transfer layer is peeled off, the in-plane distribution of the adhesive force between the transfer layer and the base material is preferably small in order to avoid wrinkling or pulling on the base material or the transfer target, and for stable peeling.

본 발명의 전사층을, 코팅법으로 형성시키는 경우, 전사층과 기재의 사이의 접착력은, 상기 전사층의 재료, 기재의 재료, 전사층의 내부 왜곡 등을 조정하여 제어할 수 있다.When the transfer layer of the present invention is formed by a coating method, the adhesive force between the transfer layer and the substrate can be controlled by adjusting the material of the transfer layer, the material of the substrate, internal distortion of the transfer layer, and the like.

본 명세서에 있어서, 전사층과 기재의 접착력은, 폭 25mm, 길이 80mm로 재단한 복층 필름의 전사층을, 아크릴계 점착 시트를 통하여 유리 기판에 첩합하여 고정한 후에, 인장 시험기((주)에이·앤드·디제 RTF-1210)를 이용하여, 시험편의 길이 방향 일단(폭 25mm의 한 변)의 기재를 잡아, 온도 23℃, 상대 습도 60%의 분위기하, 크로스 헤드 스피드(척 이동 속도) 300mm/분으로, JIS K 6854-1: 1999 "접착제-박리 접착 강도 시험 방법- 제1부: 90도 박리"에 준거한 90° 박리 시험으로 평가했다.In the present specification, the adhesive force of the transfer layer and the substrate is, after bonding and fixing the transfer layer of the multilayer film cut to a width of 25 mm and a length of 80 mm to a glass substrate through an acrylic adhesive sheet, a tensile tester (A and Co., Ltd.) · Using a DJ RTF-1210), hold the substrate at one end (one side of 25 mm in width) in the longitudinal direction of the test piece, in an atmosphere with a temperature of 23°C and a relative humidity of 60%, crosshead speed (chuck movement speed) 300 mm/min and evaluated by a 90° peel test based on JIS K 6854-1: 1999 "Adhesive - Peel Adhesive Strength Test Method - Part 1: 90 Degree Peel".

<파단 신도><Breaking Discipleship>

본 발명의 전사층의 파단 신도는, 특별히 한정되지 않지만, 0.1~10%인 것이 바람직하고, 0.3~7%가 보다 바람직하며, 0.5~5%가 더 바람직하다. 전사층의 파단 신도가 0.1% 이상이면, 전사층에 크랙이 발생하기 어려워지기 때문에 바람직하고, 10% 이하이면, 기재 박리성이 양호화하기 때문에 바람직하다. 전사층의 파단 신도는, 전사층과 기재의 복층 필름의 상태로, 전사층을 굽힘의 외측에 배치하여, JIS K5600-5-1에 준한 원통형 맨드릴법으로 크랙이 일어나지 않았던 직경으로부터, 전사층의 왜곡을 산출하여 구한다.Although the breaking elongation of the transfer layer of this invention is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1 to 10 %, 0.3 to 7 % is more preferable, 0.5 to 5 % is still more preferable. If the elongation at break of the transfer layer is 0.1% or more, it is preferable because cracks are less likely to occur in the transfer layer, and if it is 10% or less, since the base material peelability is improved, it is preferable. The elongation at break of the transfer layer is in the state of a multilayer film of the transfer layer and the substrate, and the transfer layer is arranged on the outside of the bending, and cracks do not occur by the cylindrical mandrel method according to JIS K5600-5-1, from the diameter of the transfer layer. It is obtained by calculating the distortion.

<탄성률><modulus of elasticity>

본 발명의 전사층의 탄성률은, 특별히 한정되지 않지만, 0.5~6.0GPa가 바람직하고, 1.5~4.5GPa가 보다 바람직하며, 2.0~3.5GPa가 더 바람직하다. 전사층의 탄성률이 0.5GPa 이상이면, 기재 박리성이 양호화하기 때문에 바람직하다.Although the elastic modulus of the transfer layer of this invention is not specifically limited, 0.5-6.0 GPa is preferable, 1.5-4.5 GPa is more preferable, 2.0-3.5 GPa is still more preferable. If the elastic modulus of a transfer layer is 0.5 GPa or more, since base material peelability improves, it is preferable.

본 명세서에 있어서, 전사층의 탄성률(인장 탄성률)은, 필요에 따라 자기 지지성을 유지할 수 있도록 막두께를 두껍게 한 필름을 이용하여 측정할 수 있다. 필름의 탄성률은, 측정 방향이 필름 길이 방향이 되고, 측정 부분이 10cm×1cm의 사이즈가 되도록 필름을 잘라내어, 25℃, 상대 습도 60%에 있어서 24시간 조습하고, 도요 볼드윈(주)제 만능 인장 시험기 "STM T50BP"를 이용하여, 인장 속도 10%/분으로 0.1% 신장과 0.5% 신장에 있어서의 응력을 측정하고, 그 기울기로부터 탄성률을 산출한다.In this specification, the elastic modulus (tensile elastic modulus) of a transfer layer can be measured using the film which made the film thickness thick so that self-support can be maintained as needed. For the elastic modulus of the film, the measurement direction is the film longitudinal direction, the film is cut so that the measurement portion has a size of 10 cm x 1 cm, and the humidity is controlled at 25 ° C. and 60% relative humidity for 24 hours, and Toyo Baldwin Co., Ltd. universal tension Using a testing machine "STM T50BP", the stress at 0.1% elongation and 0.5% elongation at a tensile rate of 10%/min is measured, and the elastic modulus is calculated from the inclination.

<유리 전이 온도(Tg)><Glass transition temperature (Tg)>

본 발명의 전사층이나, 전사층에 이용하는 수지의 유리 전이 온도(Tg)는, 특별히 한정되지 않는다. Tg는, 예를 들면 25℃, 상대 습도 10%에 있어서 24시간 조습한 후, 측정 팬에 샘플을 봉입하고, 세이코 인스트루먼트(주)제 시차 주사 열량계 "DSC6200"을 이용하여, 20℃/분으로 승온시켜 얻어진 서모그램으로부터, 베이스라인과 변곡점에서의 접선의 교점 온도로서 구할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the transfer layer of the present invention or the resin used for the transfer layer is not particularly limited. Tg is, for example, after humidity control at 25°C and 10% relative humidity for 24 hours, the sample is sealed in a measurement pan, and using a differential scanning calorimeter "DSC6200" manufactured by Seiko Instruments Co., Ltd., at 20°C/min. From the thermogram obtained by heating up, it can obtain|require as the intersection temperature of the tangent at a baseline and an inflection point.

<그 외 특성><Other characteristics>

본 발명의 전사층의 상술 이외의 특성값은, 특별히 한정되는 경우는 없고, 일반적인 공지의 전사막과 동등한 성능을 적절히 실장할 수 있고, 일반적인 광학 필름에 요구되는 성능을 적절히 실장하고 있는 것이 바람직하다. 구체적인 특성값으로서는, 표시 특성에 관한 헤이즈, 광선 투과율, 분광 특성, 리타데이션, 리타데이션의 습열 내구성 등을 들 수 있고, 역학 특성이나 가공 적성에 관련되는 습도나 온도나 습열 서모에 따른 치수 변화율, 평형 흡습률, 투습도, 접촉각 등을 들 수 있다.The characteristic values other than the above of the transfer layer of the present invention are not particularly limited, and performance equivalent to that of a general known transfer film can be appropriately mounted, and it is preferable that the performance required for a general optical film is appropriately mounted. . Specific characteristic values include haze, light transmittance, spectral characteristics, retardation, and wet-heat durability of retardation for display characteristics, and dimensional change rate due to humidity, temperature, and wet-heat thermostat related to mechanical characteristics and processing aptitude, Equilibrium moisture absorption, moisture permeability, contact angle, etc. are mentioned.

<층 구성><Layer composition>

본 발명의 전사층은, 단층이어도 되고, 2층 이상의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 2층 이상의 적층 구조의 경우에는, 전사층을 구성하는 각층(各層)의 폭이 달라도 되고, 예를 들면 t1과 t2의 막두께차를 부여할 목적으로, 2층 이상의 적층 구조로 해도 된다. 또, 기능층을 적층하여, 다른 기능을 복합화할 수도 있다.A single layer may be sufficient as the transfer layer of this invention, and it may have a laminated structure of two or more layers. In the case of a laminated structure of two or more layers, the width of each layer constituting the transfer layer may be different, for example, in order to provide a film thickness difference between t1 and t2, a laminated structure of two or more layers may be adopted. Moreover, it is also possible to laminate other functions by laminating functional layers.

<주재료><Main ingredient>

본 발명의 전사층을 구성하는 주재료는, 특별히 한정되지 않지만, 열가소성 수지, 또는 반응성 모노머를 포함하는 조성물의 경화 조성물 등을 적합하게 이용할 수 있다.The main material constituting the transfer layer of the present invention is not particularly limited, and a cured composition of a thermoplastic resin or a composition containing a reactive monomer, etc. can be suitably used.

또한, 전사층을 구성하는 주재료란, 전사층에 포함되는 성분 중 가장 함유량(질량 기준)이 많은 성분이다.Note that the main material constituting the transfer layer is a component with the highest content (based on mass) among the components contained in the transfer layer.

·열가소성 수지・Thermoplastic resin

본 발명의 전사층을 구성하는 열가소성 수지는 특별히 한정되지 않지만, 취성(脆性) 및 탄성률 개량의 관점에서 폴리머 분자 간의 상호 작용을 강하게 하는 것 같은, 예를 들면 극성 구조를 포함하는 것이 바람직하고, 결정성 폴리머여도 되며, 비정성 폴리머여도 되고, 액정성 폴리머여도 된다. 구체적인 예로서, 공지의 바이닐 방향족계 수지(스타이렌계 수지, 다이바이닐벤젠계 수지, 바이닐피리딘계 수지 등), 환상 올레핀계 수지, 셀룰로스계 수지(셀룰로스아실레이트 수지, 셀룰로스에터 수지 등), 폴리에스터계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 바이닐 방향족계 수지 이외의 바이닐계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중, 스타이렌계 수지, 환상 올레핀 수지는, 재료의 소수성의 관점에서 바람직하고, 셀룰로스아실레이트 수지는 취성의 관점에서 바람직하다.The thermoplastic resin constituting the transfer layer of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of improving brittleness and elastic modulus, it is preferable to include a polar structure, for example, to strengthen the interaction between polymer molecules, and crystal A polymer may be sufficient, an amorphous polymer may be sufficient, and a liquid crystalline polymer may be sufficient. Specific examples include known vinyl aromatic resins (styrene-based resins, divinylbenzene-based resins, vinylpyridine-based resins, etc.), cyclic olefin-based resins, cellulose-based resins (cellulose acylate resins, cellulose ether resins, etc.), poly Vinyl resins other than ester-type resin, polycarbonate-type resin, vinyl aromatic resin, polyimide-type resin, polyarylate-type resin, etc. are mentioned. Among these, styrene resin and cyclic olefin resin are preferable from a hydrophobic viewpoint of a material, and a cellulose acylate resin is preferable from a brittle viewpoint.

바이닐 방향족계 수지에 대하여, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2017-167514호의 단락 [0035]~[0041]에 바이닐 방향족계 수지, 및 스타이렌계 수지의 기재가 있으며, 적절히 사용할 수 있다.Regarding the vinyl aromatic resin, specifically, paragraphs [0035] to [0041] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-167514 describe a vinyl aromatic resin and a styrene-based resin, and can be appropriately used.

환상 올레핀계 수지에 대하여, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2017-215562호의 단락 [0047]~[0049]에 기재가 있으며, 적절히 사용할 수 있다.About cyclic olefin resin, there exists description in Paragraph [0047] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-215562 - [0049] specifically, It can use suitably.

셀룰로스아실레이트 수지의 예로서는, 셀룰로스아세테이트, 셀룰로스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로스프로피오네이트, 셀룰로스아세테이트뷰티레이트, 셀룰로스아세테이트프로피오네이트뷰티레이트, 셀룰로스아세테이트벤조에이트 등을 들 수 있다. 그중에서도, 미결정성의 성질을 갖고, 역학 강도나 열적인 치수 안정성이 우수한 셀룰로스아세테이트, 셀룰로스아세테이트프로피오네이트가 바람직하다.Cellulose acetate, cellulose acetate propionate, cellulose propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, cellulose acetate benzoate etc. are mentioned as an example of cellulose acylate resin. Among them, cellulose acetate and cellulose acetate propionate having microcrystalline properties and excellent in mechanical strength and thermal dimensional stability are preferable.

폴리카보네이트 수지의 예로서는, 폴리카보네이트, 비스페놀 A가 플루오렌 변성된 구조 단위를 포함하는 폴리카보네이트, 비스페놀 A가 1,3-사이클로헥실리덴 변성된 구조 단위를 포함하는 폴리카보네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polycarbonate resin include a polycarbonate, a polycarbonate containing a structural unit in which bisphenol A is modified with fluorene, and a polycarbonate containing a structural unit in which bisphenol A is modified with 1,3-cyclohexylidene.

바이닐계 수지의 예로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스타이렌, 폴리 염화 바이닐리덴, 폴리바이닐알코올 등을 들 수 있다.Polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol etc. are mentioned as an example of a vinyl resin.

본 발명의 전사층을 구성하는 열가소성 수지는, 1종류여도 되고, 2종류 이상을 포함하고 있어도 된다. 또, 전사층이 다층으로 형성되는 경우, 각층의 열가소성 수지는 달라도 된다.The number of thermoplastic resins which comprise the transfer layer of this invention may be one, and may contain two or more types. Moreover, when a transfer layer is formed in multilayer, the thermoplastic resin of each layer may be different.

·경화성 조성물・Curable composition

본 발명의 전사층의 다른 양태로서 공지의 경화성 조성물을 이용할 수 있다. 경화성 조성물은, 특별히 한정되는 경우는 없고, 공지의 아크릴계 모노머, 에폭시계 모노머 등을 포함한다. 또, 적절히 상술한 열가소성 수지에 경화성 조성물을 혼합하여 실시해도 된다.As another aspect of the transfer layer of the present invention, a known curable composition can be used. A curable composition is not specifically limited, A well-known acrylic monomer, an epoxy monomer, etc. are included. Moreover, you may mix and implement a curable composition with the thermoplastic resin mentioned above suitably.

반응성 모노머에 대하여, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2014-170130호의 단락 [0016]~[0044]에 기재된 환상 지방족 탄화 수소기와 불포화 이중 결합기를 갖는 화합물, 플루오렌환과 불포화 이중 결합기를 갖는 화합물, 일본 공개특허공보 2013-231955호의 단락 [0109]~[0133]에 기재된 다관능성 모노머 등을, 적절히 사용할 수 있다. 또, 편광막과의 물풀 접착성을 부여하기 위하여, WO2015/053359호에 기재된 보론산 모노머를 병용할 수도 있다.With respect to the reactive monomer, specifically, a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an unsaturated double bond group described in paragraphs [0016] to [0044] of JP 2014-170130 A, a compound having a fluorene ring and an unsaturated double bond group, Japan The polyfunctional monomers described in Paragraphs [0109] to [0133] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-231955, etc. can be used suitably. Moreover, in order to provide water glue adhesiveness with a polarizing film, the boronic acid monomer described in WO2015/053359 can also be used together.

·중합 개시제・Polymerization initiator

상기의 경화성 조성물은, 공지의 중합 개시제를 포함할 수 있고, 광중합 개시제가 바람직하다.Said curable composition can contain a well-known polymerization initiator, and a photoinitiator is preferable.

광중합 개시제로서는, 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 싸이오잔톤류, 아조 화합물, 과산화물류, 2,3-다이알킬다이온 화합물류, 다이설파이드 화합물류, 플루오로아민 화합물류, 방향족 설포늄류, 로핀 다이머류, 오늄염류, 보레이트염류, 활성 에스터류, 활성 할로젠류, 무기 착체, 쿠마린류 등을 들 수 있다. 광중합 개시제의 구체예, 및 바람직한 양태, 시판품 등은, 일본 공개특허공보 2009-098658호의 단락 [0133]~[0151]에 기재가 있으며, 적절히 사용할 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfides compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, loffin dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins, and the like. The specific example of a photoinitiator, a preferable aspect, a commercial item, etc. have description in paragraphs [0133] - [0151] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-098658, and can be used suitably.

"최신 UV 경화 기술"{(주)기주쓰 조호 교카이}(1991년), p. 159, 및 "자외선 경화 시스템" 가토 기요미 저(헤이세이 원년, 소고 기주쓰 센터 발행), p. 65~148에도 다양한 예가 기재되어 있으며 본 발명에 유용하다."Advanced UV curing technology" {Kijutsu Joho Kyokai Co., Ltd.} (1991), p. 159, and "Ultraviolet curing system" by Kiyomi Kato (Heisei 1st year, published by Sogo Kijutsu Center), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

<첨가제><Additives>

본 발명의 전사층에는, 공지의 첨가제를 적절히 혼합할 수 있다. 공지의 첨가제로서, 저분자 가소제, 레벨링제, 올리고머계 첨가제, 폴리에스터계 첨가제, 리타데이션 조정제, 미립자, 자외선 흡수제, 열화 방지제, 박리 촉진제, 가시광 흡수제(색소), 적외선 흡수제, 산화 방지제, 필러, 상용화제(相溶化劑), 편광도 향상제, 퇴색 방지제 등을 들 수 있다.A well-known additive can be mixed suitably with the transfer layer of this invention. As known additives, low molecular weight plasticizers, leveling agents, oligomer-based additives, polyester-based additives, retardation regulators, microparticles, ultraviolet absorbers, deterioration inhibitors, peeling accelerators, visible light absorbers (pigments), infrared absorbers, antioxidants, fillers, compatibilizers agent, a polarization degree improver, a discoloration inhibitor, etc. are mentioned.

이들 첨가제는, 일반적으로, 첨가량이 증가하면, 전사층이 인열되기 쉬워지는 경우가 많아, 전사층의 인열 용이성을 제어할 목적으로 사용할 수도 있다. 또, 전사층과 기재의 접착력을 제어할 목적으로 사용할 수도 있다.Generally, when an addition amount increases, these additives become easy to tear a transfer layer in many cases, and can also be used for the purpose of controlling the tearing easiness of a transfer layer. Moreover, it can also be used for the purpose of controlling the adhesive force of a transfer layer and a base material.

전사층이 다층으로 형성되는 경우, 각층의 첨가제의 종류나 양은 달라도 된다.When the transfer layer is formed in multiple layers, the type and amount of the additive in each layer may be different.

·미립자・fine particles

본 발명의 전사층에는, 인열 용이성의 제어, 미끄러짐성이나 블로킹 방지 등의 목적으로, 미립자를 첨가할 수 있다. 미립자의 첨가량은, 전사층의 투명성이 손상되지 않는 범위에서 첨가되는 것이 바람직하다. 이 미립자로서는, 소수기로 표면이 피복되어, 2차 입자의 양태를 취하고 있는 실리카(이산화 규소, SiO2)가 바람직하게 이용된다. 또한, 미립자에는, 실리카와 함께, 혹은 실리카 대신에, 이산화 타이타늄, 산화 알루미늄, 산화 지르코늄, 탄산 칼슘, 탤크, 클레이, 소성 카올린, 소성 규산 칼슘, 수화 규산 칼슘, 규산 알루미늄, 규산 마그네슘, 인산 칼슘 등의 미립자를 이용해도 된다. 시판 중인 상품으로서는, 미립자는 상품명 R972, 또는 NX90S(모두 닛폰 아에로질(주)제) 등을 들 수 있다.Fine particles can be added to the transfer layer of the present invention for the purpose of controlling the easiness of tearing, slipping properties, preventing blocking, and the like. It is preferable that the addition amount of microparticles|fine-particles is added in the range which does not impair the transparency of a transfer layer. As the fine particles, the surface is covered with small number of groups, a silica (silicon dioxide, SiO 2) which takes the aspect of secondary particles is preferably used. In addition, in fine particles, with or instead of silica, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, etc. of fine particles may be used. As a commercial product, the microparticles|fine-particles are mentioned a brand name R972, NX90S (all are Nippon Aerosil Co., Ltd. product), etc. are mentioned.

·폴리에스터계 첨가제・Polyester Additives

본 발명의 전사층에는, 전사층과 기재의 접착력을 제어하는 등의 목적으로, 공지의 폴리에스터계 첨가제를 적절히 혼합할 수 있다. 전사층과 기재의 표면 에너지차가 작아지는 것 같은 화합물이나, 유리 전이 온도가 상온보다 낮은 성분을 포함하는 화합물이나, 기재에 대한 침투성이 있는 화합물을 첨가하면, 전사층과 기재의 접착력을 상승시키는 효과가 있다.A known polyester-based additive may be appropriately mixed with the transfer layer of the present invention for the purpose of controlling the adhesive force between the transfer layer and the substrate. The effect of increasing the adhesion between the transfer layer and the substrate by adding a compound such that the difference in surface energy between the transfer layer and the substrate is small, a compound containing a component having a glass transition temperature lower than room temperature, or a compound having permeability to the substrate there is

폴리에스터계 첨가제에 대하여, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2013-231955호의 단락 [0075]~[0082]에 기재가 있으며, 적절히 사용할 수 있다.The polyester-based additive is specifically described in paragraphs [0075] to [0082] of JP2013-231955A, and can be appropriately used.

·레벨링제・Leveling agent

본 발명의 전사층에는, 공지의 레벨링제(계면활성제)를 적절히 혼합할 수 있다. 레벨링제로서는, 종래 공지의 화합물을 들 수 있지만, 특히 함불소 계면활성제가 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2001-330725호 중의 단락 번호 [0028]~[0056]에 기재된 화합물을 들 수 있다.A well-known leveling agent (surfactant) can be mixed suitably with the transfer layer of this invention. Although a conventionally well-known compound is mentioned as a leveling agent, A fluorine-containing surfactant is especially preferable. Specifically, for example, the compounds described in Paragraph Nos. [0028] to [0056] in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-330725 are exemplified.

·색소・Pigment

본 발명의 전사층에는, 적절히 색소를 첨가할 수 있다. 색소의 최적인 흡수 파장대는, 표시 장치의 설계에 따라 적절히 변경되지만, 예를 들면 파장 460~520nm에 주흡수 파장 대역을 갖는 색소(이하, 염료 A라고 한다.), 또는 파장 560~620nm에 주흡수 파장 대역을 갖는 색소(이하, 염료 B라고 한다.)가 바람직하다. 또, 본 발명의 전사층은 염료 A 및 염료 B 이외의 염료를 함유할 수도 있다.A dye can be suitably added to the transfer layer of this invention. The optimal absorption wavelength band of the dye is suitably changed depending on the design of the display device, but for example, a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 460 to 520 nm (hereinafter referred to as dye A), or a main absorption at a wavelength of 560 to 620 nm. A dye having an absorption wavelength band (hereinafter referred to as dye B) is preferable. Further, the transfer layer of the present invention may contain a dye other than the dye A and the dye B.

염료 A는, 파장 460~520nm에 주흡수 파장 대역을 갖는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 각종 염료를 이용할 수 있다. 이 염료 A는, 형광을 나타내는 것이 많다.The dye A is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 460 to 520 nm, and various dyes can be used. This dye A exhibits fluorescence in many cases.

본 발명에 있어서, 파장 XX~YYnm에 주흡수 파장 대역을 갖는다는 것은, 가시광 흡수 스펙트럼(파장 영역 380~750nm)에 있어서, 극대 흡수 파장을 나타내는 파장이 파장 영역 XX~YYnm에 존재하는 것을 의미한다. 따라서, 이 파장이 상기 파장 영역 내에 있으면, 이 파장을 포함하는 흡수 대역 전체가 상기 파장 영역 내에 있어도 되고, 상기 파장 영역 외까지 확산되어 있어도 된다. 또, 극대 흡수 파장이 복수 존재하는 경우, 최고가 아닌 흡광도를 나타내는 극대 흡수 파장이 파장 영역 XX~YYnm 외에 존재하고 있어도 된다. 또한, 극대 흡수 파장을 나타내는 파장이 복수 존재하는 경우, 그 중의 하나가 상기 파장 영역에 존재하고 있으면 된다.In the present invention, having a main absorption wavelength band at a wavelength of XX to YY nm means that a wavelength showing a maximum absorption wavelength in a visible light absorption spectrum (wavelength range 380 to 750 nm) exists in a wavelength range of XX to YY nm. . Therefore, if this wavelength is within the wavelength region, the entire absorption band including this wavelength may be within the wavelength region, or may be spread out of the wavelength region. Moreover, when two or more maximum absorption wavelengths exist, the maximum absorption wavelength which shows the absorbance which is not the highest may exist outside the wavelength range XX-YYnm. In addition, when a plurality of wavelengths exhibiting the maximum absorption wavelength exist, one of them may exist in the wavelength region.

염료 A의 구체예로서는, 예를 들면 피롤메타인(pyrrole methine, PM)계, 로다민(rhodamine, RH)계, 보론다이피로메텐(boron dipyrromethene, BODIPY)계, 스쿠아린(squarine, SQ)계 등의 각 염료를 들 수 있다. 예를 들면, FDB-007(상품명, 메로사이아닌계 염료, 야마다 가가쿠 고교사제) 등의 시판품도 염료 A로서 바람직하게 이용할 수 있다.Specific examples of the dye A include, for example, pyrrole methine (PM), rhodamine (RH), boron dipyrromethene (BODIPY), and squarine (SQ). of each dye. For example, commercial items, such as FDB-007 (a brand name, merocyanine type dye, Yamada Chemical Co., Ltd. make), can also be used suitably as dye A.

염료 B는, 파장 560~620nm에 주흡수 파장 대역을 갖는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 각종 염료를 이용할 수 있다. 이 염료 B는, 염료 A보다 형광이 약하거나, 또는 형광을 나타내지 않는 것이 많다.The dye B is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 560 to 620 nm, and various dyes can be used. This dye B has weaker fluorescence than dye A, or does not show fluorescence in many cases.

염료 B의 구체예로서는, 예를 들면 테트라아자포피린(tetraaza porphyrin, TAP)계, 스쿠아린계, 사이아닌(cyanine, CY)계의 각 염료를 들 수 있다. 또, PD-311S(상품명, 테트라아자포피린계 염료, 야마모토 가세이사제), FDG-006(상품명, 테트라아자포피린계 염료, 야마다 가가쿠 고교사제) 등의 시판품도 염료 B로서 바람직하게 이용할 수 있다.Specific examples of the dye B include dyes of tetraaza porphyrin (TAP), squarin, and cyanine (CY). In addition, commercially available products such as PD-311S (trade name, tetraazaporphyrin-based dye, manufactured by Yamamoto Chemical Co., Ltd.) and FDG-006 (trade name, tetraazaporphyrin-based dye, manufactured by Yamada Chemical Industries, Ltd.) can also be preferably used as dye B. .

·퇴색 방지제・Fade inhibitor

본 발명의 전사막에는, 적절히 퇴색 방지제를 첨가할 수 있다. 본 발명에 이용하는 퇴색 방지제로서는, 국제 공개공보 제2015/005398호의 단락 [0143]~[0165]에 기재된 산화 방지제, 동 [0166]~[0199]에 기재된 라디칼 포착제, 및 동 [0205]~[0206]에 기재된 열화 방지제를 이용할 수 있다.To the transfer film of the present invention, an anti-fading agent can be added as appropriate. As the fading inhibitor used in the present invention, the antioxidant described in paragraphs [0143] to [0165] of International Publication No. 2015/005398, the radical scavenger described in [0166] to [0199], and [0205] to [ 0206] can be used.

<<기재>><<Report>>

전사층을, 코팅법으로 형성시키기 위하여 이용되는 기재는, 막두께가 5~100μm인 것이 바람직하고, 10~75μm가 보다 바람직하며, 15~55μm가 더 바람직하다. 막두께가 5μm 이상이면, 충분한 기계 강도를 확보하기 쉽고, 컬, 주름, 좌굴 등의 고장이 발생하기 어렵기 때문에, 바람직하다. 또, 막두께가 100μm 이하이면, 기재 박리성이 양호해지는 경향이 있어, 바람직하다. 기재의 막두께가 얇은 편이, 기재 박리성이 양호해지는 메커니즘은 미상이지만, 기재의 박리 각도가 예각에 가까워지기 때문에, 전사층이 인열되기 쉬워지기 때문이라고 생각된다.It is preferable that the film thickness of the base material used in order to form a transfer layer by a coating method is 5-100 micrometers, 10-75 micrometers is more preferable, 15-55 micrometers is still more preferable. A film thickness of 5 µm or more is preferable because it is easy to ensure sufficient mechanical strength, and failures such as curling, wrinkling, and buckling are unlikely to occur. Moreover, there exists a tendency for base material peelability to become favorable that a film thickness is 100 micrometers or less, and it is preferable. Although the mechanism for which the film thickness of a base material becomes the thin film thickness of a base material favorable is unknown, since the peeling angle of a base material approaches an acute angle, it is thought that it is because a transfer layer becomes easy to tear.

기재의 표면 에너지는, 특별히 한정되는 경우는 없지만, 전사층의 재료나 코팅 용액의 표면 에너지와, 기재의 전사층을 형성시키는 측의 표면의 표면 에너지와의 관계성을 조정함으로써, 전사층과 기재의 사이의 접착력을 조정할 수 있다. 표면 에너지차를 작게 하면, 접착력이 상승하는 경향이 있고, 표면 에너지차를 크게 하면, 접착력이 저하되는 경향이 있어, 적절히 설정할 수 있다.The surface energy of the substrate is not particularly limited, but by adjusting the relationship between the surface energy of the material of the transfer layer or the coating solution and the surface energy of the surface of the substrate on which the transfer layer is formed, the transfer layer and the substrate are Adhesion between the two can be adjusted. When the surface energy difference is made small, the adhesive force tends to rise, and when the surface energy difference is enlarged, the adhesive force tends to fall, and it can set suitably.

기재의 표면 에너지는, 물 및 아이오딘화 메틸렌의 접촉각값으로부터 Owens의 방법을 이용하여 계산할 수 있다. 접촉각의 측정에는, 예를 들면 DM901(교와 가이멘 가가쿠(주)제, 접촉각계)을 이용할 수 있다.The surface energy of the substrate can be calculated using the Owens method from the contact angle values of water and methylene iodide. For the measurement of the contact angle, for example, DM901 (manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd., contact angle meter) can be used.

기재의 전사층을 형성하는 측의 표면 에너지는, 특별히 한정되지 않지만, 41.0~48.0mN/m인 것이 바람직하고, 42.0~48.0mN/m인 것이, 보다 바람직하다. 표면 에너지가 41.0mN/m 이상이면, 전사층의 막두께의 균일성을 높일 수 있기 때문에 바람직하고, 48.0mN/m 이하이면, 전사층과 기재의 박리력을 적절한 범위로 제어하기 쉽기 때문에, 바람직하다.Although the surface energy of the side which forms the transfer layer of a base material is not specifically limited, It is preferable that it is 41.0-48.0 mN/m, and it is more preferable that it is 42.0-48.0 mN/m. If the surface energy is 41.0 mN/m or more, it is preferable because the uniformity of the film thickness of the transfer layer can be improved, and if it is 48.0 mN/m or less, it is preferable because it is easy to control the peeling force between the transfer layer and the substrate in an appropriate range. Do.

또, 기재의 표면 요철은, 특별히 한정되는 경우는 없지만, 전사층 표면의 표면 에너지, 경도, 표면 요철과, 기재의 전사층을 형성시키는 측과는 반대 측의 표면의 표면 에너지, 경도와의 관계성에 따라, 예를 들면 본 발명의 복층 필름을 장척의 롤 형태로 보관하는 경우의 접착 고장을 방지할 목적으로 조정할 수 있다. 표면 요철을 크게 하면, 접착 고장을 억제하는 경향이 있고, 표면 요철을 작게 하면, 전사층의 표면 요철이 감소하여, 전사층의 헤이즈가 작아지는 경향이 있어, 적절히 설정할 수 있다.Further, the surface asperity of the substrate is not particularly limited, but the relationship between the surface energy, hardness, and surface unevenness of the transfer layer surface and the surface energy and hardness of the surface opposite to the side on which the transfer layer of the substrate is formed Depending on the properties, for example, it can be adjusted for the purpose of preventing adhesion failure in the case of storing the multilayer film of the present invention in the form of a long roll. When the surface unevenness is increased, adhesion failure tends to be suppressed. When the surface unevenness is decreased, the surface unevenness of the transfer layer tends to decrease and the haze of the transfer layer tends to be small, which can be appropriately set.

이와 같은 기재로서는, 공지의 소재나 필름을 적절히 사용할 수 있다. 구체적인 재료로서, 폴리에스터계 폴리머, 올레핀계 폴리머, 사이클로올레핀계 폴리머, (메트)아크릴계 폴리머, 셀룰로스계 폴리머, 폴리아마이드계 폴리머 등을 들 수 있다. 또, 기재의 표면성을 조정할 목적으로, 적절히 표면 처리를 행할 수 있다. 표면 에너지를 저하시키기 위해서는, 예를 들면 코로나 처리, 상온 플라즈마 처리, 비누화 처리 등을 행할 수 있고, 표면 에너지를 상승시키기 위해서는, 실리콘 처리, 불소 처리, 올레핀 처리 등을 행할 수 있다.As such a base material, a well-known raw material and a film can be used suitably. Specific examples of the material include a polyester-based polymer, an olefin-based polymer, a cycloolefin-based polymer, a (meth)acrylic-based polymer, a cellulose-based polymer, and a polyamide-based polymer. Moreover, in order to adjust the surface property of a base material, it can surface-treat suitably. In order to decrease the surface energy, for example, corona treatment, room temperature plasma treatment, saponification treatment, etc. can be performed, and in order to increase the surface energy, silicon treatment, fluorine treatment, olefin treatment, etc. can be performed.

<<전사층의 제작>><<Production of the Warrior Layer>>

본 발명의 전사층은, 기재 상에 공지의 방법으로 코팅층을 형성하는 방법으로 제작할 수 있고, 전사층의 주재료가 열가소성 수지인 경우에는, 공지의 용액 제막법, 용융 압출법에 준하여, 공유연(共流延)이나 공압출, 적절히 연신 등을 조합하여 제작할 수도 있다.The transfer layer of the present invention can be produced by a method of forming a coating layer on a substrate by a known method, and when the main material of the transfer layer is a thermoplastic resin, according to the known solution film forming method and melt extrusion method, co-cast (共流延), co-extrusion, stretching, etc. may be combined as appropriate.

코팅법은, 기재인 필름에 전사층의 재료를 도포하고, 코팅층을 형성한다. 기재 표면에는, 코팅층과의 접착성을 제어하기 위하여, 적절히 이형제 등을 미리 도포해 두어도 된다. 코팅층은, 후공정에서 접착제나 점착제를 통하여 편광층과 적층시킨 후, 기재를 박리하여 이용할 수 있다. 또한, 기재에 폴리머 용액 또는 코팅층이 적층된 상태로, 적절히 기재마다 연신하여, 광학 특성이나 역학 물성을 조정할 수 있다.In the coating method, a material for a transfer layer is applied to a film, which is a substrate, and a coating layer is formed. In order to control the adhesiveness with a coating layer to the base material surface, you may apply|coat a mold release agent etc. in advance suitably. After the coating layer is laminated with the polarizing layer through an adhesive or pressure-sensitive adhesive in a post-process, the base material may be peeled for use. In addition, in a state in which a polymer solution or a coating layer is laminated on a substrate, the optical properties and mechanical properties can be adjusted by appropriately stretching each substrate.

용액 제막법은, 전사층의 재료를 유기 용매 또는 물에 용해한 용액을 조제하여, 농축 공정이나 여과 공정 등을 적절히 실시한 후에, 지지체 상에 균일하게 유연한다. 다음으로, 반건조된 막을 지지체로부터 박리하여, 적절히 웨브의 양단을 클립 등으로 파지하여 건조 존에서 용매를 건조시킨다. 또, 연신은, 필름의 건조 중이나 건조가 종료된 후에 별도 실시할 수도 있다.The solution film forming method prepares a solution in which the material of the transfer layer is dissolved in an organic solvent or water, and after appropriately performing a concentration step, a filtration step, and the like, it is uniformly cast on a support. Next, the semi-dried film|membrane is peeled from the support body, the both ends of the web are properly clamped with a clip etc., and the solvent is dried in a drying zone. Moreover, extending|stretching can also be performed separately during drying of a film, or after drying is complete|finished.

전사층 재료의 용액에 이용되는 용매는, 전사층 재료를 용해 또는 분산 가능한 것, 도포 공정, 건조 공정에 있어서 균일한 면상이 되기 쉬운 것, 액보존성을 확보할 수 있는 것, 적당한 포화 증기압을 갖는 것 등의 관점에서 적절히 선택할 수 있다.The solvent used for the solution of the transfer layer material is one capable of dissolving or dispersing the transfer layer material, one that tends to form a uniform planar shape in the application process and the drying process, one that can ensure liquid retention, and one having an appropriate saturated vapor pressure. It can be suitably selected from a viewpoint of things etc.

용융 압출법에 대하여, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2017-215562호의 단락 [0085]~[0090]에 기재가 있으며, 적절히 사용할 수 있다.The melt extrusion method is specifically described in paragraphs [0085] to [0090] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-215562, and can be used appropriately.

전사층에는 공지의 글로 방전 처리, 코로나 방전 처리, 또는 알칼리 비누화 처리 등에 의하여 친수화 처리를 실시하는 것이 바람직하고, 코로나 방전 처리가 가장 바람직하게 이용된다. 일본 공개특허공보 평6-094915호, 또는 동 6-118232호 등에 개시되어 있는 방법 등을 적용하는 것도 바람직하다.The transfer layer is preferably subjected to a hydrophilization treatment by a known glow discharge treatment, corona discharge treatment, or alkali saponification treatment, and corona discharge treatment is most preferably used. It is also preferable to apply the method or the like disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-094915 or 6-118232.

또한, 얻어진 필름에는, 필요에 따라, 열처리 공정, 과열 수증기 접촉 공정, 유기 용매 접촉 공정 등을 실시할 수 있다. 또, 표면 처리를 실시하여, 하드 코트 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름으로서 적용할 수도 있다.Moreover, to the obtained film, a heat treatment process, a superheated steam contact process, an organic solvent contact process, etc. can be implemented as needed. Moreover, it can surface-treat and can also apply as a hard-coat film, an anti-glare film, and an antireflection film.

<<접착층>><<Adhesive layer>>

본 발명의 접착층으로서 이용하는 재료는, 특별히 한정되는 경우는 없고, 공지의 접착제나 점착제 조성물을 이용할 수 있다.The material used as the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, and a known adhesive or pressure-sensitive adhesive composition can be used.

·경화형 접착제・Curable adhesive

경화형 접착제로서, 자외선 경화형 접착제를 바람직하게 이용할 수 있다. 자외선 경화형 접착제의 종류로서는, 특별히 한정되지 않지만, 일본 공개특허공보 2015-187744호에 기재된 에폭시계 자외선 경화형 접착제나, 일본 공개특허공보 2015-11094호에 기재된 아크릴레이트계 자외선 경화형 접착제를 사용하는 것이 바람직하다.As the curable adhesive, an ultraviolet curable adhesive can be preferably used. Although it does not specifically limit as a kind of ultraviolet curing adhesive, It is preferable to use the epoxy-type ultraviolet curing adhesive of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-187744, and the acrylate type ultraviolet curing adhesive of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-11094. Do.

·수계 접착제・Water-based adhesive

수계 접착제로서, 폴리바이닐알코올 또는 폴리바이닐아세탈(예를 들면, 폴리바이닐뷰티랄)의 수용액이나, 바이닐계 폴리머(예를 들면, 폴리뷰틸아크릴레이트)의 라텍스를 이용할 수 있다.As the water-based adhesive, an aqueous solution of polyvinyl alcohol or polyvinyl acetal (eg, polyvinyl butyral) or latex of a vinyl-based polymer (eg, polybutyl acrylate) can be used.

·점착제 조성물・Adhesive composition

감압성 접착제(점착제)로서, 점착제 조성물을 이용할 수 있다. 점착제 조성물에 대하여, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2017-215562호의 단락 [0106]~[0111]에 기재된 점착제 조성물, 단락 [0124]에 기재된 가교제를, 적절히 사용할 수 있다.As the pressure-sensitive adhesive (adhesive), a pressure-sensitive adhesive composition can be used. Regarding the pressure-sensitive adhesive composition, specifically, the pressure-sensitive adhesive composition described in paragraphs [0106] to [0111] of JP 2017-215562 A, and the crosslinking agent described in paragraph [0124] can be appropriately used.

<접착층의 막두께><Film thickness of adhesive layer>

본 발명의 접착층의 막두께는, 특별히 한정되지 않지만, 경화형 접착제의 경우는, 피전사체와의 접착성과, 접착의 경화성을 양립하는 관점에서, 0.1~10μm가 바람직하고, 0.5~5μm가 보다 바람직하며, 1~3μm가 더 바람직하다. 또, 수계 접착제의 경우는, 피전사체와의 접착성과, 접착제의 건조성을 양립하는 관점에서, 1~1000nm가 바람직하고, 10~500nm가 보다 바람직하며, 30~300nm가 더 바람직하다.The film thickness of the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, but in the case of a curable adhesive, from the viewpoint of reconciling adhesiveness with a transfer target and sclerosis of adhesion, 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm, , more preferably 1 to 3 µm. Moreover, in the case of a water-based adhesive, from a viewpoint of making adhesiveness with a transfer object and drying property of an adhesive compatible, 1-1000 nm is preferable, 10-500 nm is more preferable, 30-300 nm is still more preferable.

<<적층체>><<Laminate>>

본 발명의 전사층은, 기재, 전사층, 접착층을 이 순서로 포함한다. 본 발명의 적층체는, 공지의 방법으로 제작할 수 있고, 전사층과 접착층이 인접하며, 전사층이 접착층보다 넓어지도록 적층된다. 즉, 본 발명의 적층체에 있어서, 전사층의 면적이 접착층의 면적보다 넓다. 전형적으로는, 본 발명의 적층체는 직사각형(장척상이어도 된다)이며(또한, 기재, 전사층, 및 접착층이 직사각형이며), 전사층의 폭방향의 단부가 노출되도록 접착층을 적층할 수 있다(도 1 및 도 2 참조).The transfer layer of the present invention includes a substrate, a transfer layer, and an adhesive layer in this order. The laminate of the present invention can be produced by a known method, and is laminated so that the transfer layer and the adhesive layer are adjacent to each other, and the transfer layer is wider than the adhesive layer. That is, in the laminate of the present invention, the area of the transfer layer is larger than the area of the adhesive layer. Typically, the laminate of the present invention is rectangular (it may be in the shape of a long picture) (in addition, the substrate, the transfer layer, and the adhesive layer are rectangular), and the adhesive layer can be laminated such that the end of the transfer layer in the width direction is exposed ( 1 and 2).

본 발명의 적층체가, 장척상의 적층체인 경우에는, 접착제를 통하여 적층되는 피전사체, 및 전사층을 포함하는 기재 모두 장척상이며, 롤 투 롤로 첩합할 수 있는 것이 바람직하다. 도 1에 적층체의 일례로서, 본 발명의 적층체가 장척상의 적층체인 경우의 모식도를 나타낸다.When the laminated body of this invention is a long laminated body, it is preferable that both the to-be-transferred object laminated|stacked through an adhesive agent, and the base material containing a transfer layer are elongate, and can be bonded together by roll-to-roll. As an example of a laminated body in FIG. 1, the schematic diagram in case the laminated body of this invention is a long laminated body is shown.

본 발명의 적층체는, 기재 박리성 및 결함의 관점에서 우수한 것이다. 따라서, 본 발명의 적층체를 이용함으로써, 예를 들면 액정 표시 장치 등에 이용되는 광학 필름으로서 유용한 전사층과 접착층의 적층 필름을 양호한 수율로 제공할 수 있다. 또, 본 발명의 적층체를 이용함으로써, 광불균일이 발생하기 어렵고, 신뢰성이 우수한 액정 표시 장치를 제공 가능해진다.The laminate of this invention is excellent from a viewpoint of base material peelability and a defect. Therefore, by using the laminated body of this invention, the laminated|multilayer film of the transfer layer and adhesive layer useful as an optical film used, for example for a liquid crystal display device etc. can be provided with favorable yield. Moreover, by using the laminated body of this invention, light nonuniformity is hard to generate|occur|produce and it becomes possible to provide the liquid crystal display device excellent in reliability.

<편광막><Polarizing film>

본 발명의 접착층의, 전사층과는 반대 측에, 편광막을 배치할 수도 있다. 바람직하게 이용되는 편광막으로서는, 예를 들면 폴리바이닐알코올 필름을 아이오딘 용액 중에 침지하여 연신한 것 등을 이용할 수 있다. 본 발명의 전사층은, 상술한 접착층을 통하여, 편광막의 편면 또는 양면에 대하여, 첩합할 수 있다.A polarizing film can also be arrange|positioned on the opposite side to the transfer layer of the adhesive layer of this invention. As a polarizing film used preferably, the thing etc. which immersed and extended|stretched a polyvinyl alcohol film in iodine solution can be used, for example. The transfer layer of this invention can be bonded together with respect to the single side|surface or both surfaces of a polarizing film via the adhesive layer mentioned above.

<전사층의 기재의 박리><Peeling of base material of transfer layer>

본 발명의 적층체를 제작한 후의 공정에 있어서, 전사층으로부터 기재를 박리 제거하는 공정을 갖는다. 기재의 박리 제거는, 예를 들면 통상의 점착제에 이용되는 세퍼레이터(박리 필름)의 박리 공정과 동일한 방법으로 실시할 수 있고, 박리하는 타이밍은, 다음 공정이나, 일단 롤상으로 권취한 후의 별도 공정 등, 임의의 타이밍에 실시할 수 있다.The process after producing the laminated body of this invention WHEREIN: It has the process of peeling and removing a base material from a transfer layer. Peeling and removal of the base material can be carried out, for example, in the same manner as in the peeling step of a separator (release film) used for a normal pressure-sensitive adhesive, and the timing of peeling is the following step or a separate step after being wound up in a roll shape, etc. , can be performed at any time.

<대전 방지층><Antistatic layer>

본 발명의 전사층을 포함하는 적층체에는, 추가로 대전 방지층을 적층할 수도 있다. 대전 방지층은, 대전 방지제를 함유하고 있으면 특별히 한정되지 않지만, 양호한 대전 방지 성능을 얻는 관점에서, 층의 탄성률이 1GPa 미만인 것이 바람직하고, 0.1GPa 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.05GPa 이하인 것이 더 바람직하다.An antistatic layer may be further laminated on the laminate including the transfer layer of the present invention. The antistatic layer is not particularly limited as long as it contains an antistatic agent, but from the viewpoint of obtaining good antistatic performance, the elastic modulus of the layer is preferably less than 1 GPa, more preferably 0.1 GPa or less, and still more preferably 0.05 GPa or less.

구체적으로는, 대전 방지제를 포함하는 점착제 조성물 등을 들 수 있고, 예를 들면 일본 공개특허공보 2017-215562호의 단락 [0112]~[0122]에 기재된 대전 방지제나, 대전 방지제를 포함하는 점착제 조성물을, 적절히 사용할 수 있다. 대전 방지층은, 예를 들면 약 1×108~1×1011Ω/cm2의 표면 저항값을 갖도록 대전 방지제가 첨가된 점착제 조성물을, 이형 필름, 광학 필름 등의 기재에 도포함으로써 형성할 수 있다.Specific examples thereof include a pressure-sensitive adhesive composition containing an antistatic agent, and for example, the antistatic agent described in paragraphs [0112] to [0122] of JP 2017-215562 A, and an antistatic agent-containing pressure-sensitive adhesive composition , can be used appropriately. The antistatic layer may be formed by, for example, applying an antistatic agent-added pressure-sensitive adhesive composition to a substrate such as a release film or an optical film to have a surface resistance value of about 1×10 8 to 1×10 11 Ω/cm 2 . have.

<<표시 장치>><<Display device>>

본 발명의 적층체는, 공지의 액정 표시 장치나, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치에 사용할 수 있다.The laminate of the present invention can be used for a known liquid crystal display device or an organic electroluminescent display device.

실시예Example

이하에 실시예를 들어 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한, 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. Materials, usage amounts, ratios, processing contents, processing procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

<<복층 필름의 제작>><<Production of multilayer film>>

<복층 필름 A1><Multilayer film A1>

하기에 나타내는 방법으로, 박리성 복층 필름을 제작했다.By the method shown below, the peelable multilayer film was produced.

1) 도포액의 조제1) Preparation of coating solution

하기에 나타내는 조성으로, 복층 필름 형성용의 도포액 1을 조제했다.With the composition shown below, the coating liquid 1 for multilayer film formation was prepared.

2) 도포액 1의 조성2) Composition of Coating Solution 1

SGP-10 50.0질량부SGP-10 50.0 parts by mass

에포크로스 RPS-1005 48.7질량부Epocross RPS-1005 48.7 parts by mass

바이론 550 1.0질량부Byron 550 1.0 parts by mass

A-19-1 0.3질량부A-19-1 0.3 parts by mass

아세트산 에틸 600.0질량부ethyl acetate 600.0 parts by mass

얻어진 도포액은 절대 여과 정밀도 1μm의 필터로 여과하여, 도포액 1S를 얻었다.The obtained coating liquid was filtered with the filter of 1 micrometer of absolute filtration precision, and the coating liquid 1S was obtained.

사용한 재료를 이하에 나타낸다.The materials used are shown below.

·SGP-10: 폴리스타이렌[PS 재팬제]・SGP-10: polystyrene [manufactured by PS Japan]

·에포크로스 RPS-1005: 스틸렌-옥사졸린 공중합체[닛폰 쇼쿠바이제]・Epocross RPS-1005: Styrene-oxazoline copolymer [manufactured by Nippon Shokubai]

·바이론 550[도요보(주)제]・Byron 550 [manufactured by Toyobo Co., Ltd.]

·함불소 공중합체(A-19-1): 하기 구조의 중합체이다. 일본 공개특허공보 2018-005215호의 합성예 22([0183]~[0185])와 동일하게 제작했다.· Fluorinated copolymer (A-19-1): A polymer having the following structure. It was prepared in the same manner as in Synthesis Example 22 ([0183] to [0185]) of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-005215.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

3) 복층 필름의 도설3) Application of multilayer film

시판 중인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 엠블렛 S38(막두께 38μm, 폭 1340mm, 유니티카(주)제)을 기재(코팅 기재)로서 이용하여, 도포액 1S를 사용했다. 도막폭이 1320mm, 건조 후의 폭 중앙 부근의 막두께 (t2)가 표 1에 기재된 값이 되도록 제작하여, 복층 필름 A1을 얻었다. 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2006-122889호 실시예 1에 기재된 슬롯 다이를 이용한 다이코트법으로, 반송 속도 30m/분의 조건으로 도포하고, 도막의 에지로부터 양단 20mm의 부분은, 도포 직후에 도막을 긁어내, 건조 후의 막두께 (t1)이 표 1에 기재된 값이 되도록 하여, 105℃에서 30초 건조시켰다. 그 후, 권취했다.A commercially available polyethylene terephthalate film, Emblet S38 (film thickness 38 µm, width 1340 mm, manufactured by Unitica Corporation) was used as a base material (coating base material), and the coating liquid 1S was used. 1320 mm of coating-film width produced it so that the film thickness (t2) of width center vicinity after drying might become the value of Table 1, and multilayer film A1 was obtained. Specifically, it is a die coating method using a slot die described in JP-A-2006-122889 Example 1, and the coating is carried out under the conditions of a conveying speed of 30 m/min, and the portion at both ends 20 mm from the edge of the coating film is immediately after application. The coating film was scraped off, and the film thickness (t1) after drying was made to become the value shown in Table 1, and it dried at 105 degreeC for 30 second. After that, it was wound up.

<복층 필름 A2><Multilayer film A2>

상기 복층 필름 A1의 도포액을, 하기의 도포액 2로 변경한 것 이외에는 복층 필름 A1과 동일하게 하여 필름을 제작하여, 복층 필름 A2를 얻었다.Except having changed the coating liquid of the said multilayer film A1 into the following coating liquid 2, it carried out similarly to multilayer film A1, the film was produced, and the multilayer film A2 was obtained.

2) 도포액 2의 조성2) Composition of coating solution 2

AS-70 100.0질량부AS-70 100.0 parts by mass

SMA2000P 5.0질량부SMA2000P 5.0 parts by mass

바이론 500 0.9질량부Byron 500 0.9 parts by mass

계면활성제 1 0.1질량부Surfactant 1 0.1 parts by mass

아세트산 메틸 250.0질량부methyl acetate 250.0 parts by mass

아세토나이트릴 225.0질량부acetonitrile 225.0 parts by mass

에탄올 25.0질량부ethanol 25.0 parts by mass

얻어진 도포액은 절대 여과 정밀도 1μm의 필터로 여과했다.The obtained coating liquid was filtered with a filter with an absolute filtration accuracy of 1 µm.

사용한 재료를 이하에 나타낸다.The materials used are shown below.

·AS-70: 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합 수지[신닛테쓰 스미킨 가가쿠(주)제]·AS-70: acrylonitrile-styrene copolymer resin [manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.]

·SMA2000P[가와하라 유카(주)]・SMA2000P [Kawahara Yuka Co., Ltd.]

·바이론 500[도요보(주)제]・Byron 500 [manufactured by Toyobo Co., Ltd.]

·계면활성제 1: 하기 구조의 계면활성제를 이용했다.- Surfactant 1: The surfactant of the following structure was used.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

<복층 필름 A3><Multilayer film A3>

상기 복층 필름 A1의 도포액 중, 바이론 550의 첨가량을 1.0질량부로부터 3.0질량부로 변경하고, 또한 기재를 양단 30mm씩을 코로나 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 변경한 것 이외에는 복층 필름 A1과 동일하게 하여 필름을 제작하여, 복층 필름 A3을 얻었다.In the coating liquid of the multilayer film A1, the addition amount of Byron 550 was changed from 1.0 parts by mass to 3.0 parts by mass, and the substrate was changed to a polyethylene terephthalate film in which 30 mm of both ends were corona-treated. was produced to obtain a multilayer film A3.

<복층 필름 A4><Multilayer film A4>

상기 복층 필름 A1의 도포액을, 하기의 도포액 4로 변경하고, 코팅 기재를, 시판 중인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 엠블렛 SK50(막두께 50μm, 폭 1340mm, 유니티카(주)제)으로 변경하며, 또한 도막의 건조 온도를 120℃로 변경한 것 이외에는 복층 필름 A1과 동일하게 하여 필름을 제작하여, 복층 필름 A4를 얻었다.The coating solution of the multi-layer film A1 is changed to the coating solution 4 below, and the coating substrate is changed to a commercially available polyethylene terephthalate film, Emblem SK50 (film thickness 50 μm, width 1340 mm, manufactured by Unitica Co., Ltd.) Moreover, except having changed the drying temperature of a coating film into 120 degreeC, it carried out similarly to multilayer film A1, the film was produced, and multilayer film A4 was obtained.

2) 도포액 4의 조성2) Composition of coating solution 4

SGP-10 85.6질량부SGP-10 85.6 parts by mass

자이론 S201A 10.0질량부Zyron S201A 10.0 parts by mass

바이론 550 0.10질량부Byron 550 0.10 parts by mass

색소 1 0.33질량부pigment 1 0.33 parts by mass

퇴색 방지제 1 4.0질량부Anti-Fade 1 4.0 parts by mass

계면활성제 2 0.1질량부Surfactant 2 0.1 parts by mass

매트제 1 0.002질량부mat agent 1 0.002 parts by mass

톨루엔 767.3질량부toluene 767.3 parts by mass

얻어진 도포액은 절대 여과 정밀도 1μm의 필터로 여과했다.The obtained coating liquid was filtered with a filter with an absolute filtration accuracy of 1 µm.

사용한 재료를 이하에 나타낸다.The materials used are shown below.

·SGP-10: 폴리스타이렌[PS 재팬제]・SGP-10: polystyrene [manufactured by PS Japan]

·자이론 S201A: 폴리페닐렌 에터 수지[아사히 가세이(주)제]-Xylon S201A: polyphenylene ether resin [manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.]

·바이론 550[도요보(주)제]・Byron 550 [manufactured by Toyobo Co., Ltd.]

·색소 1: 하기 구조의 색소를 이용했다.- Dye 1: A dye having the following structure was used.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

·퇴색 방지제 1: 하기 구조의 계면활성제를 이용했다.- Fade inhibitor 1: Surfactant of the following structure was used.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

·계면활성제 2: 하기 구조의 계면활성제를 이용했다. 하기 구조식 중, t-Bu는 tert-뷰틸기를 의미한다.- Surfactant 2: The surfactant of the following structure was used. In the following structural formula, t-Bu means a tert-butyl group.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

·매트제 1: 이산화 규소 미립자, NX90S[닛폰 아에로질(주)제]・Matte agent 1: Silicon dioxide fine particles, NX90S [manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.]

<<편광판의 제작>><<Production of Polarizer>>

상기 복층 필름, 접착제, 및 편광자, 대향 필름을 이용하여 적층체인 편광판을 제작했다.A polarizing plate as a laminate was produced using the multilayer film, the adhesive, and the polarizer and the opposing film.

1) 접착제의 조제1) Preparation of adhesive

하기에 나타내는 방법으로, 중합성 화합물, 개시제, 증감제를 혼합하여, 접착제 조성물을 조제했다.By the method shown below, the polymeric compound, an initiator, and a sensitizer were mixed, and the adhesive composition was prepared.

2) 접착제 조성물의 조성2) Composition of the adhesive composition

에피올 EH-N 10.0질량부Epiol EH-N 10.0 parts by mass

리카레진 DME-100 20.0질량부Rika Resin DME-100 20.0 parts by mass

셀록사이드 2021P 70.0질량부Celoxide 2021P 70.0 parts by mass

CPI-100P 1.0질량부CPI-100P 1.0 parts by mass

IRGACURE290 4.0질량부IRGACURE290 4.0 parts by mass

DarocurITX 0.5질량부DarocurITX 0.5 parts by mass

사용한 재료를 이하에 나타낸다.The materials used are shown below.

·에피올 EH-N[니치유(주)제]・Epiol EH-N (manufactured by Nichiyu Co., Ltd.)

·리카레진 DME-100[신니혼 리카(주)제]・Rika Resin DME-100 [made by Shin-Nippon Rika Co., Ltd.]

·셀록사이드 2021P[다이셀(주)제]・Celoxide 2021P [manufactured by Daicel Co., Ltd.]

·CPI-100P[산아프로(주)제]・CPI-100P [manufactured by San Apro Co., Ltd.]

·IRGACURE290[BASF제]・IRGACURE290 [manufactured by BASF]

·DarocurITX[BASF제]・DarocurITX [manufactured by BASF]

3) 대향 필름의 제작3) Fabrication of the counter film

일본 공개특허공보 2015-227458호의 실시예 1에 준하여, 두께 60μm의 폴리메틸메타크릴레이트 필름을 제작하여, 대향 필름 A1로 했다.According to Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-227458, the 60-micrometer-thick polymethyl methacrylate film was produced, and it was set as the opposing film A1.

4) 복층 필름의 표면 처리4) Surface treatment of multilayer film

상기 제작한 복층 필름의 기재 측의 계면과는 반대 측의 면, 및 대향 필름 A1에 코로나 처리를 행했다.Corona-treated to the surface on the opposite side to the interface by the side of the base material of the produced multilayer film, and opposing film A1.

5) 편광자의 제작5) Fabrication of polarizer

일본 공개특허공보 2001-141926호의 실시예 1에 따라, 2쌍의 닙롤 사이에 주속차를 부여하고, 길이 방향으로 연신하여, 막두께 15μm의 편광자를 제작했다.According to Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-141926, the circumferential speed difference was provided between two pairs of nip rolls, it extended|stretched in the longitudinal direction, and produced the polarizer with a film thickness of 15 micrometers.

6) 첩합6) bonding

상기 표면 처리한 복층 필름, 편광자, 대향 필름 A1을 이 순서로 적층하여, 편광판을 얻었다. 이때, 필름의 표면 처리한 면이 편광자 측이 되도록 배치하고, 접착에는 상기 접착제 조성물을 이용했다. 또, 편광자의 흡수축, 복층 필름, 및 대향 필름 A1의 길이 방향이 평행이 되도록 롤 투 롤로 적층했다. 이때, 접착제 조성물의 도포폭은 1300mm로 하여, 접착제 조성물의 양방의 단부가, 전사층의 P1 영역에 오도록 적층했다. 계속해서, 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여, 조사량 300mJ/cm2의 자외선을 조사하여 경화시켰다. 얻어진 편광판을 절삭하고 단면을 광학 현미경으로 관찰하여, 복층 필름 측, 대향 필름 측 모두, 접착제(접착층)의 두께가 2.5μm인 것을 확인했다.The said surface-treated multilayer film, a polarizer, and opposing film A1 were laminated|stacked in this order, and the polarizing plate was obtained. At this time, it arrange|positions so that the surface-treated surface of the film may become a polarizer side, and the said adhesive composition was used for adhesion|attachment. Moreover, it laminated|stacked by roll-to-roll so that the absorption axis of a polarizer, a multilayer film, and the longitudinal direction of opposing film A1 might become parallel. At this time, the application width of the adhesive composition was 1300 mm, and it was laminated so that both ends of the adhesive composition came to the P1 area|region of a transfer layer. Then, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), it was cured by irradiating ultraviolet rays with an irradiation amount of 300 mJ/cm 2 . The obtained polarizing plate was cut and the cross section was observed with the optical microscope, and both the multilayer film side and the opposing film side confirmed that the thickness of the adhesive agent (adhesive layer) was 2.5 micrometers.

7) 기재의 박리7) Peeling of the substrate

상기 제작한 적층체인 편광판으로부터, 복층 필름의 기재를, 세퍼레이터의 박리 장치와 동일한 장치를 이용하여 연속 박리하고, 기재를 박리한 후의 적층체에 관하여, P1 부근의 전사층의 절단 상태를 육안으로 확인했다. 결과(기재 박리성)는 이하와 같이 판정하여, 표 1에 나타냈다.From the polarizing plate, which is the produced laminate, the substrate of the multilayer film is continuously peeled using the same device as the separation device of the separator, and with respect to the laminate after peeling the substrate, the cut state of the transfer layer in the vicinity of P1 is visually confirmed did. The result (substrate peelability) was judged as follows, and was shown in Table 1.

<기재 박리성의 평가><Evaluation of base material peelability>

A: 박리 직후의 기재를 당김이나 주름 없이 안정적으로 박리할 수 있고, 기재를 박리한 후의 전사층은 결함이 없고 양호했다.A: The substrate immediately after peeling could be stably peeled without pulling or wrinkling, and the transfer layer after peeling the substrate had no defects and was good.

B: 박리 직후의 기재에, 산발적으로 당김이나 주름이 발생했지만, 기재를 박리한 후의 전사층은 결함이 없고 양호했다.B: Although pulling and wrinkling occurred sporadically in the base material immediately after peeling, the transfer layer after peeling the base material had no defects and was good.

C: 박리 직후의 기재에, 산발적으로 당김이나 주름이 발생하여, 기재를 박리한 후의 전사층에 약간 진애가 발생하거나, 전사층에 약간의 균열이 발생하는 경우가 있었다.C: The substrate immediately after peeling may have sporadically pulling or wrinkling, causing slight dust in the transfer layer after peeling the substrate, or slight cracking in the transfer layer.

D: 박리 직후의 기재에, 상시 당김이나 주름이 확인되어, 기재를 박리한 후의 전사층에 진애가 발생하거나, 전사층에 균열이 발생하거나 했기 때문에, 다음 공정인 점착제의 도공을 실시할 수 없었다.D: Constant pulling or wrinkling was observed on the substrate immediately after peeling, and dust was generated in the transfer layer after peeling the substrate, or cracks occurred in the transfer layer, so the next step, the pressure-sensitive adhesive could not be applied. .

8) 점착제의 도공8) Coating of adhesive

상기 제작한 편광판의, 기재를 박리한 면에, 세퍼레이터 상에 도공한 대전 방지제를 포함하는 아크릴계 점착제를 전사하여, 편광판의 가공을 완료했다.The acrylic adhesive containing the antistatic agent coated on the separator was transcribe|transferred to the surface from which the base material of the produced said polarizing plate was peeled, and the process of a polarizing plate was completed.

[표 1][Table 1]

Figure pct00006
Figure pct00006

또한, 비교예 3에서는, 박리 직후의 기재에, 상시 당김이 확인되어, 이음(異音)을 내면서 박리되어 있었다.Moreover, in the comparative example 3, constant pulling was confirmed by the base material immediately after peeling, and it peeled, giving a noise.

상기 표 1로부터, 본 발명의 전사 필름(적층체)은 기재 박리성이 우수하고, 또한 결함이 적은 것이었다. 이로써, 본 발명의 적층체를 이용하면, 편광판 등의 제품을 양호한 수율로 제작할 수 있는 것을 알 수 있었다.From said Table 1, the transfer film (laminated body) of this invention was excellent in base material peelability, and was a thing with few defects. Thereby, when the laminated body of this invention was used, it turned out that products, such as a polarizing plate, can be produced with a favorable yield.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

본 발명에 의하면, 기재 박리성이 양호하고, 결함이 적은 전사층과 접착층을 포함하는 적층체를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body containing the transfer layer with few defects and the adhesive layer with favorable base material peelability can be provided.

본 발명을 상세하게 또 특정의 실시형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않고 다양한 변경이나 수정을 더할 수 있는 것은 당업자에게 있어 명확하다.Although this invention was detailed also demonstrated with reference to the specific embodiment, it is clear for those skilled in the art that various changes and correction can be added without departing from the mind and range of this invention.

본 출원은, 2018년 12월 26일 출원의 일본 특허출원(특원 2018-243277)에 근거하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 원용된다.This application is based on the Japanese Patent Application (Japanese Patent Application No. 2018-243277) of an application on December 26, 2018, The content is taken in here as a reference.

Claims (4)

기재, 전사층, 접착층을 이 순서로 포함하고, 상기 전사층과 상기 접착층이 인접하며, 상기 전사층의 면적이 상기 접착층의 면적보다 넓고, 또한 상기 전사층의 막두께에 면내 분포가 있어, 상기 접착층의 단부와 상기 전사층이 접한 위치 P1에 있어서의 상기 전사층의 막두께 t1이, 그것보다 내측의 위치 P2에 있어서의 상기 전사층의 막두께 t2보다 얇은 것을 특징으로 하는 적층체.A substrate, a transfer layer, and an adhesive layer are included in this order, wherein the transfer layer and the adhesive layer are adjacent to each other, the area of the transfer layer is larger than the area of the adhesive layer, and there is an in-plane distribution in the film thickness of the transfer layer, A laminate characterized in that a film thickness t1 of the transfer layer at a position P1 where an end of the adhesive layer and the transfer layer are in contact is smaller than a film thickness t2 of the transfer layer at a position P2 inside it. 청구항 1에 있어서,
상기 P1에 있어서의 상기 전사층과 상기 기재의 접착력 fa1과, 상기 P2에 있어서의 상기 전사층과 상기 기재의 접착력 fa2의 차가, 3N/25mm 미만인 적층체.
The method according to claim 1,
The difference between the adhesive force fa1 between the transfer layer and the substrate in P1 and the adhesive force fa2 between the transfer layer and the substrate in P2 is less than 3 N/25 mm.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 전사층의 주재료가 열가소성 수지인 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
A laminate in which the main material of the transfer layer is a thermoplastic resin.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층체가, 장척상의 적층체인 적층체.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The laminated body is a long laminated body.
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