KR20210050507A - Organic light emitting display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20210050507A
KR20210050507A KR1020210055723A KR20210055723A KR20210050507A KR 20210050507 A KR20210050507 A KR 20210050507A KR 1020210055723 A KR1020210055723 A KR 1020210055723A KR 20210055723 A KR20210055723 A KR 20210055723A KR 20210050507 A KR20210050507 A KR 20210050507A
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김성훈
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Abstract

An example of the present invention provides a display device which comprises: a pixel defining film disposed on the substrate and defining a pixel area; a pixel electrode disposed in the pixel area; and an auxiliary wire spaced apart from the pixel electrode and disposed on the same layer as the pixel electrode. The pixel defining film includes: a pixel defining unit defining a pixel area; and a spacer protruding from the pixel defining unit. The auxiliary wire provides the display device that does not overlap the spacer. Therefore, the display device increases visibility.

Description

유기발광 표시장치 및 그 제조방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}Organic light emitting display device and its manufacturing method {ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 스페이서를 갖는 화소정의막을 포함하는 유기발광 표시장치 및 그 제조방법에 대한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display device including a pixel defining layer having spacers and a method of manufacturing the same.

유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display)는 유기 발광 소자(OLED: Organic Light Emitting Diode)를 이용하여 화상을 표시하는 표시장치이다. 유기 발광 소자는 정공 주입 전극과 전자 주입 전극을 가지는데, 정공 주입 전극으로부터 공급된 정공과 전자 주입 전극으로부터 공급된 전자가 발광층 내부에서 결합하여 생성된 여기자(exciton)가 여기 상태로부터 기저 상태로 떨어질 때 발생하는 에너지에 의해 유기 발광 소자의 발광이 이루어진다.An organic light emitting diode display is a display device that displays an image using an organic light emitting diode (OLED). The organic light emitting device has a hole injection electrode and an electron injection electrode, and excitons generated by combining the holes supplied from the hole injection electrode and the electrons supplied from the electron injection electrode inside the light emitting layer fall from the excited state to the ground state. The organic light-emitting device emits light by the energy generated during this time.

이러한 유기발광 표시장치는 자발광 특성을 가지며, 액정 표시 장치와 달리 별도의 광원을 필요로 하지 않으므로 두께와 무게를 줄일 수 있다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 낮은 소비 전력, 높은 휘도 및 높은 반응 속도 등의 고품위 특성을 나타내므로 차세대 표시 장치로 주목받고 있다.Such an organic light emitting display device has a self-luminous characteristic, and unlike a liquid crystal display device, since it does not require a separate light source, thickness and weight can be reduced. In addition, the organic light emitting display device is drawing attention as a next-generation display device because it exhibits high quality characteristics such as low power consumption, high luminance, and high response speed.

그런데, 유기발광 표시장치에 배치된 전극들 및 배선들은 외부에서 유입된 빛을 반사한다. 이러한 외광 반사로 인해 유기 발광 표시 장치는 정확한 검은색을 표현하기 어렵고 낮은 콘트라스트를 가지게 되어 표시 특성이 저하된다.However, electrodes and wires arranged in the organic light emitting display device reflect light introduced from the outside. Due to such reflection of external light, the OLED display is difficult to represent an accurate black color and has a low contrast, so that display characteristics are deteriorated.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 외광 반사를 억제하여 시인성을 향상시킨 유기발광 표시장치를 제공하고자 한다.In order to solve the above problems, the present invention is to provide an organic light emitting display device having improved visibility by suppressing reflection of external light.

또한, 본 발명은 상기 유기발광 표시장치의 제조 방법을 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a method of manufacturing the organic light emitting display device.

본 발명의 일례는, 기판; 상기 기판상에 배치되며, 화소영역을 정의하는 화소정의막; 상기 화소영역에 배치된 화소 전극; 상기 화소 전극상에 배치된 발광층;An example of the present invention is a substrate; A pixel defining layer disposed on the substrate and defining a pixel region; A pixel electrode disposed in the pixel region; An emission layer disposed on the pixel electrode;

상기 발광층 상에 배치된 공통 전극; 및 상기 화소 전극과 이격되어 상기 화소 전극과 동일층에 배치된 보조 배선;을 포함하며, 상기 화소정의막은 화소 영역을 정의하는 화소정의부 및 상기 화소정의부로부터 돌출되어 이루어진 스페이서를 포함하며, 상기 보조 배선은 상기 스페이서와 중첩되지 않는 표시장치를 제공한다.A common electrode disposed on the emission layer; And an auxiliary wiring spaced apart from the pixel electrode and disposed on the same layer as the pixel electrode, wherein the pixel definition layer includes a pixel definition portion defining a pixel area and a spacer protruding from the pixel definition portion, wherein the The auxiliary wiring provides a display device that does not overlap with the spacer.

본 발명의 일례에서, 상기 보조 배선은 초기화 전압 배선이다.In one example of the present invention, the auxiliary wiring is an initialization voltage wiring.

본 발명의 일례에서, 상기 화소 전극과 상기 보조 배선은 동일한 재료로 이루어진다.In one example of the present invention, the pixel electrode and the auxiliary wiring are made of the same material.

본 발명의 일례에서, 상기 보조 배선은 적어도 하나의 금속층 및 적어도 하나의 투명 전도성 산화물층을 포함한다.In one example of the present invention, the auxiliary wiring includes at least one metal layer and at least one transparent conductive oxide layer.

본 발명의 일례에서, 상기 보조 배선은 기판상에 배치된 금속층 및 상기 금속층상에 배치된 투명 전도성 산화물층을 포함한다.In one example of the present invention, the auxiliary wiring includes a metal layer disposed on a substrate and a transparent conductive oxide layer disposed on the metal layer.

본 발명의 일례에서, 상기 화소정의막을 사이에 두고 상기 기판과 대향 배치된 밀봉 부재를 더 포함하며, 상기 화소정의막의 상기 스페이서는 상기 기판과 상기 밀봉 부재 사이의 간격을 유지한다.In one example of the present invention, a sealing member disposed opposite to the substrate with the pixel definition layer interposed therebetween is further included, wherein the spacer of the pixel definition layer maintains a gap between the substrate and the sealing member.

본 발명의 일례에서, 상기 화소정의부와 상기 스페이서는 동일한 재료로 이루어진다.In one example of the present invention, the pixel defining portion and the spacer are made of the same material.

본 발명의 일례에서, 상기 스페이서는 각뿔대, 각기둥, 원뿔대, 원기둥, 반구 및 반편구 중 어느 하나의 형상을 갖는다.In one example of the present invention, the spacer has a shape of any one of a pyramid, a pyramid, a cone, a cylinder, a hemisphere, and a hemisphere.

본 발명의 일례에서, 상기 보조 배선은 상기 화소정의부와 중첩된다.In one example of the present invention, the auxiliary wiring overlaps the pixel defining unit.

본 발명의 일례는, 기판상에 화소 전극 및 보조 배선을 형성하는 단계; 상기 화소 전극 및 보조 배선상에 감광 물질층을 형성하는 단계; 상기 감광 물질층을 패터닝하여 상기 화소 전극의 일부가 드러나도록 하는 화소 영역을 갖는 화소정의막을 형성하는 단계; 상기 화소 전극 상에 발광층을 형성하는 단계; 및 상기 발광층상에 공통 전극을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 화소정의막은 화소 영역을 정의하는 화소정의부 및 상기 화소정의부로부터 돌출되어 이루어진 스페이서를 포함하며, 상기 보조 배선은 상기 스페이서와 중첩되지 않는 표시장치의 제조방법을 제공한다.An example of the present invention includes the steps of forming a pixel electrode and an auxiliary wiring on a substrate; Forming a photosensitive material layer on the pixel electrode and auxiliary wiring; Patterning the photosensitive material layer to form a pixel defining layer having a pixel area such that a portion of the pixel electrode is exposed; Forming a light emitting layer on the pixel electrode; And forming a common electrode on the emission layer, wherein the pixel definition layer includes a pixel definition portion defining a pixel region and a spacer protruding from the pixel definition portion, wherein the auxiliary wiring overlaps the spacer It provides a method of manufacturing a display device that does not work.

본 발명의 일례에서, 상기 화소정의막을 형성하는 단계는 차광 패턴을 갖는 마스크를 사용한다.In one example of the present invention, the step of forming the pixel defining layer uses a mask having a light blocking pattern.

본 발명의 일례에서, 상기 화소정의막을 형성하는 단계에서 하프톤 노광이 실시된다.In one example of the present invention, halftone exposure is performed in the step of forming the pixel defining layer.

본 발명의 일례에서, 상기 화소정의막을 사이에 두고 밀봉 부재를 상기 기판과 대향 배치하는 단계를 더 포함하며, 상기 화소정의막의 상기 스페이서는 상기 기판과 상기 밀봉 부재 사이의 간격을 유지한다.In one example of the present invention, the method further includes disposing a sealing member facing the substrate with the pixel definition layer interposed therebetween, wherein the spacer of the pixel definition layer maintains a gap between the substrate and the sealing member.

본 발명의 일례에서, 상기 스페이서는 각뿔대, 각기둥, 원뿔대, 원기둥, 반구 및 반편구 중 어느 하나의 형상으로 형성된다.In one example of the present invention, the spacer is formed in the shape of any one of a pyramid, a pyramid, a cone, a cylinder, a hemisphere, and a hemisphere.

본 발명의 일례에서, 상기 화소 전극 및 보조 배선을 형성하는 단계는, 기판상에 적어도 하나의 금속층 및 적어도 하나의 투명 전도성 산화물층을 포함하는 도전재층을 형성하는 단계; 및 상기 도전재층을 패터닝하는 단계;를 포함한다.In an example of the present invention, the forming of the pixel electrode and the auxiliary wiring may include forming a conductive material layer including at least one metal layer and at least one transparent conductive oxide layer on a substrate; And patterning the conductive material layer.

본 발명의 일례에서, 상기 보조 배선은 상기 화소정의부와 중첩된다.In one example of the present invention, the auxiliary wiring overlaps the pixel defining unit.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시장치는 화소정의막에 구비된 스페이서 및 화소 전극과 동일층에 배치된 보조 배선을 가지며, 보조 배선은 스페이서와 중첩되지 않게 배치된다. 그에 따라, 보조 배선에서의 외광 반사가 감소되어 유기발광 표시장치의 시인성이 향상된다. 또한, 본 발명의 다른 일 실시예는 이와 같은 유기발광 표시장치의 제조방법을 제공한다.The organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention has a spacer provided in the pixel definition layer and an auxiliary wiring disposed on the same layer as the pixel electrode, and the auxiliary wiring is disposed so as not to overlap with the spacer. Accordingly, reflection of external light from the auxiliary wiring is reduced, and the visibility of the organic light emitting display device is improved. In addition, another embodiment of the present invention provides a method of manufacturing such an organic light emitting display device.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기발광 표시장치의 배치도이다.
도 2는 도 1의 I-I'선에 따른 단면도이다.
도 3은 보조 배선으로 입사된 외광의 경로에 대한 모식도이다.
도 4a는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기발광 표시장치의 평면도이고, 도 4b는 비교예에 따른 유기발광 표시장치의 평면도이다
도 5는 도 4a와 4b의 유기발광 표시장치의 반사율을 비교한 그래프이다.
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기발광 표시장치의 배치도이다.
도 7a 내지 7d는 도 1의 유기발광 표시장치의 제조공정을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
1 is a layout diagram of an organic light emitting display device according to a first exemplary embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line II′ of FIG. 1.
3 is a schematic diagram of a path of external light incident on an auxiliary wiring.
4A is a plan view of an organic light emitting display device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a plan view of an organic light emitting display device according to a comparative example.
5 is a graph comparing reflectance of the organic light emitting display device of FIGS. 4A and 4B.
6 is a layout diagram of an organic light emitting display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.
7A to 7D are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of the organic light emitting display device of FIG. 1.

이하, 도면에 개시된 실시예들을 중심으로 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명의 범위가 하기 설명하는 도면이나 실시예들에 의하여 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments disclosed in the drawings. However, the scope of the present invention is not limited by the drawings or examples described below.

첨부된 도면들은 본 발명을 설명하기 위하여 예시적으로 선택된 것이다. 발명의 이해를 돕기 위하여 도면에서 각 구성요소와 그 형상 등이 간략하게 그려지거나 또는 과장되어 그려지기도 하며, 실제 제품에 있는 구성요소가 표현되지 않고 생략되기도 한다. 따라서 도면은 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석되어야 한다. 한편, 도면에서 동일한 역할을 하는 요소들은 동일한 부호로 표시된다. The accompanying drawings are selected by way of example to describe the present invention. In order to aid understanding of the invention, each component and its shape are drawn briefly or exaggeratedly in the drawings, and components in an actual product are not represented and omitted. Therefore, the drawings should be interpreted to aid understanding of the invention. Meanwhile, elements that play the same role in the drawings are indicated by the same reference numerals.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected" with another part, this includes not only "directly connected" but also "electrically connected" with another element interposed therebetween. . In addition, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

또한, 어떤 층이나 구성요소가 다른 층이나 또는 구성요소의 "상"에 있다라고 기재되는 경우, 상기 어떤 층이나 구성요소가 상기 다른 층이나 구성요소와 직접 접촉하여 배치된 경우뿐만 아니라, 그 사이에 제3의 층이 개재되어 배치된 경우까지 모두 포함하는 의미이다.In addition, when it is described that a layer or component is "on" another layer or component, not only when the layer or component is placed in direct contact with the other layer or component, but also between This means that it includes all of the cases where the third layer is interposed and arranged.

이하, 도 1 및 2를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예를 설명한다.Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기발광 표시장치(100)는 스위칭 박막 트랜지스터(10), 구동 박막 트랜지스터(20), 축전 소자(80) 및 유기 발광 소자(organic light emitting diode, OLED)(201, 202)를 포함하는 복수개의 화소를 갖는다. 여기서, 화소는 화상을 표시하는 최소 단위를 말하며, 유기발광 표시장치는 복수의 화소를 통해 화상을 표시한다.1 and 2, the organic light emitting display device 100 according to the first embodiment of the present invention includes a switching thin film transistor 10, a driving thin film transistor 20, a power storage device 80, and an organic light emitting diode. It has a plurality of pixels including organic light emitting diodes (OLEDs) 201 and 202. Here, the pixel refers to a minimum unit for displaying an image, and the organic light emitting display device displays an image through a plurality of pixels.

또한, 하나의 화소에 두 개의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)와 하나의 축전 소자(capacitor)가 배치된 것이 첨부 도면에 도시되어 있지만, 본 발명의 제 1 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 유기발광 표시장치는 하나의 화소에 셋 이상의 박막 트랜지스터와 둘 이상의 축전 소자를 구비할 수도 있으며, 별도의 배선을 더 포함하여 다양한 구조를 가질 수 있다.Further, it is shown in the accompanying drawings that two thin film transistors (TFTs) and one capacitor are disposed in one pixel, but the first embodiment of the present invention is not limited thereto. Accordingly, the organic light emitting display device may include three or more thin film transistors and two or more power storage elements in one pixel, and may have various structures including separate wirings.

그리고, 유기발광 표시장치(100)는 기판(110)상에 배치된 게이트 라인(151)과, 게이트 라인(151)과 절연 교차되는 데이터 라인(171) 및 공통 전원 라인(172)을 포함한다. 하나의 화소 영역은 게이트 라인(151), 데이터 라인(171) 및 공통 전원 라인(172)을 경계로 정의될 수 있지만, 화소 영역이 전술한 정의에 한정되는 것은 아니다. 화소 영역은 블랙 매트릭스 또는 화소정의막에 의하여 정의될 수 있다.In addition, the organic light emitting display device 100 includes a gate line 151 disposed on the substrate 110, a data line 171 and a common power line 172 insulatedly crossing the gate line 151. One pixel region may be defined as a boundary between the gate line 151, the data line 171, and the common power line 172, but the pixel region is not limited to the above definition. The pixel area may be defined by a black matrix or a pixel defining layer.

먼저, 기판(110)은 유리, 석영, 세라믹, 플라스틱 등으로 이루어진 절연성 물질로 만들어진다. 그러나 본 발명의 제 1 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 기판(110)이 스테인리스 강 등의 금속성 물질로 만들어질 수도 있다.First, the substrate 110 is made of an insulating material made of glass, quartz, ceramic, plastic, or the like. However, the first embodiment of the present invention is not limited thereto. Accordingly, the substrate 110 may be made of a metallic material such as stainless steel.

기판(110)상에 버퍼층(120)이 배치된다. 버퍼층(120)은 불순 원소의 침투를 방지하며 표면을 평탄화하는 역할을 하는 것으로, 이러한 역할을 수행할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 일례로, 버퍼층(120)은 질화규소(SiNx)막, 산화규소(SiO2)막, 산질화규소(SiOxNy)막 중 어느 하나로 만들어질 수 있다. 그러나 버퍼층(120)은 반드시 필요한 것은 아니며, 기판(110)의 종류 및 공정 조건에 따라 생략될 수도 있다.A buffer layer 120 is disposed on the substrate 110. The buffer layer 120 serves to prevent penetration of impurity elements and to planarize the surface, and may be formed of various materials capable of performing such a role. For example, the buffer layer 120 may be made of any one of a silicon nitride (SiNx) layer, a silicon oxide (SiO2) layer, and a silicon oxynitride (SiOxNy) layer. However, the buffer layer 120 is not necessarily required, and may be omitted depending on the type of the substrate 110 and processing conditions.

버퍼층(120)상에 스위칭 반도체층(131) 및 구동 반도체층(132)이 형성된다. 스위칭 반도체층(131)과 구동 반도체층(132)은 다결정 규소막, 비정질 규소막 또는 산화물 반도체에 의하여 형성될 수 있다.A switching semiconductor layer 131 and a driving semiconductor layer 132 are formed on the buffer layer 120. The switching semiconductor layer 131 and the driving semiconductor layer 132 may be formed of a polycrystalline silicon film, an amorphous silicon film, or an oxide semiconductor.

스위칭 반도체층(131)과 구동 반도체층(132) 위에 질화규소(SiNx) 또는 산화규소(SiO2) 등으로 된 게이트 절연막(140)이 배치된다. 게이트 절연막(140)상에 구동 게이트 전극(155)을 포함하는 게이트 배선이 배치된다. 게이트 배선은 게이트 라인(151), 제1 축전판(158) 및 그 밖에 배선을 더 포함한다. 그리고 스위칭 게이트 전극(152)은 스위칭 반도체층(131)의 적어도 일부와 중첩되도록 배치되고, 구동 게이트 전극(155)은 구동 반도체층(132)의 적어도 일부와 중첩되도록 배치된다.A gate insulating layer 140 made of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiO 2) is disposed on the switching semiconductor layer 131 and the driving semiconductor layer 132. A gate wiring including a driving gate electrode 155 is disposed on the gate insulating layer 140. The gate wiring further includes a gate line 151, a first capacitor plate 158, and other wirings. In addition, the switching gate electrode 152 is disposed to overlap at least a portion of the switching semiconductor layer 131, and the driving gate electrode 155 is disposed to overlap at least a portion of the driving semiconductor layer 132.

게이트 절연막(140) 상에 구동 게이트 전극(155)을 덮는 층간 절연막(160)이 배치된다. 게이트 절연막(140)과 층간 절연막(160)은 스위칭 반도체층(131) 및 구동 반도체층(132)의 소스 영역 및 드레인 영역을 드러내는 관통공들을 함께 갖는다. 층간 절연막(160)은, 게이트 절연막(140)과 마찬가지로, 질화규소(SiNx) 또는 산화규소(SiO2) 등으로 형성된다.An interlayer insulating layer 160 covering the driving gate electrode 155 is disposed on the gate insulating layer 140. The gate insulating layer 140 and the interlayer insulating layer 160 together have through-holes exposing the source and drain regions of the switching semiconductor layer 131 and the driving semiconductor layer 132. Like the gate insulating film 140, the interlayer insulating film 160 is formed of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiO 2 ).

층간 절연막(160) 상에 스위칭 소스 전극(173), 스위칭 드레인 전극(174), 구동 소스 전극(176) 및 구동 드레인 전극(177)을 포함하는 데이터 배선이 배치된다. 데이터 배선은 데이터 라인(171), 공통 전원 라인(172), 제2 축전판(178) 및 그 밖에 배선을 더 포함한다. 그리고 스위칭 소스 전극(173), 스위칭 드레인 전극(174), 구동 소스 전극(176) 및 구동 드레인 전극(177)은 스위칭 반도체층(131)과 구동 반도체층(132)의 소스 영역 및 드레인 영역과 각각 연결된다.A data line including a switching source electrode 173, a switching drain electrode 174, a driving source electrode 176, and a driving drain electrode 177 is disposed on the interlayer insulating layer 160. The data wiring further includes a data line 171, a common power line 172, a second power storage plate 178, and other wirings. In addition, the switching source electrode 173, the switching drain electrode 174, the driving source electrode 176, and the driving drain electrode 177 are respectively source and drain regions of the switching semiconductor layer 131 and the driving semiconductor layer 132. Connected.

이와 같이, 스위칭 박막 트랜지스터(10)는 스위칭 반도체층(131), 스위칭 게이트 전극(152), 스위칭 소스 전극(173) 및 스위칭 드레인 전극(174)을 포함하고, 구동 박막 트랜지스터(20)는 구동 반도체층(132), 구동 게이트 전극(155), 구동 소스 전극(176) 및 구동 드레인 전극(177)을 포함한다. 박막트랜지스터(10, 20)의 구성은 전술한 예에 한정되지 않고, 당해 기술 분야의 전문가가 용이하게 실시할 수 있는 공지된 구성으로 다양하게 변형 가능하다.As such, the switching thin film transistor 10 includes a switching semiconductor layer 131, a switching gate electrode 152, a switching source electrode 173, and a switching drain electrode 174, and the driving thin film transistor 20 is a driving semiconductor. A layer 132, a driving gate electrode 155, a driving source electrode 176, and a driving drain electrode 177 are included. The configurations of the thin film transistors 10 and 20 are not limited to the above-described examples, and can be variously modified into known configurations that can be easily implemented by experts in the art.

또한, 축전 소자(80)는 층간 절연막(160)을 사이에 두고 배치된 제1 축전판(158)과 제2 축전판(178)을 포함한다.In addition, the power storage device 80 includes a first power storage plate 158 and a second power storage plate 178 disposed with an interlayer insulating layer 160 therebetween.

스위칭 박막트랜지스터(10)는 발광시키고자 하는 화소를 선택하는 스위칭 소자로 사용된다. 스위칭 게이트 전극(152)은 게이트 라인(151)에 연결된다. 스위칭 소스 전극(173)은 데이터 라인(171)에 연결된다. 스위칭 드레인 전극(174)은 스위칭 소스 전극(173)으로부터 이격 배치되며 제1 축전판(158)과 연결된다.The switching thin film transistor 10 is used as a switching element for selecting a pixel to emit light. The switching gate electrode 152 is connected to the gate line 151. The switching source electrode 173 is connected to the data line 171. The switching drain electrode 174 is spaced apart from the switching source electrode 173 and is connected to the first power storage plate 158.

구동 박막 트랜지스터(20)는 선택된 화소 내의 유기 발광 소자(201, 202)의 발광층(221, 222)을 발광시키기 위한 구동 전원을 화소 전극(211, 212)에 인가한다. 구동 게이트 전극(155)은 제1 축전판(158)과 연결된다. 구동 소스 전극(176) 및 제2 축전판(178)은 각각 공통 전원 라인(172)과 연결된다. 구동 드레인 전극(177)은 컨택홀(182)을 통해 유기 발광 소자(201, 202)의 화소 전극(211, 212)과 연결된다.The driving thin film transistor 20 applies driving power to the pixel electrodes 211 and 212 to emit light of the emission layers 221 and 222 of the organic light emitting devices 201 and 202 in the selected pixel. The driving gate electrode 155 is connected to the first capacitor plate 158. The driving source electrode 176 and the second capacitor plate 178 are respectively connected to a common power line 172. The driving drain electrode 177 is connected to the pixel electrodes 211 and 212 of the organic light emitting diodes 201 and 202 through the contact hole 182.

이와 같은 구조에 의하여, 스위칭 박막 트랜지스터(10)는 게이트 라인(151)에 인가되는 게이트 전압에 의해 작동하여 데이터 라인(171)에 인가되는 데이터 전압을 구동 박막 트랜지스터(20)로 전달하는 역할을 한다. 공통 전원 라인(172)으로부터 구동 박막 트랜지스터(20)에 인가되는 공통 전압과 스위칭 박막 트랜지스터(10)로부터 전달된 데이터 전압의 차에 해당하는 전압이 축전 소자(80)에 저장되고, 축전 소자(80)에 저장된 전압에 대응하는 전류가 구동 박막 트랜지스터(20)를 통해 유기 발광 소자(201, 202)로 흘러 유기 발광 소자(201, 202)가 발광하게 된다.With such a structure, the switching thin film transistor 10 serves to transmit the data voltage applied to the data line 171 to the driving thin film transistor 20 by operating by the gate voltage applied to the gate line 151. . A voltage corresponding to the difference between the common voltage applied from the common power line 172 to the driving thin film transistor 20 and the data voltage transferred from the switching thin film transistor 10 is stored in the power storage element 80, and the power storage element 80 A current corresponding to the voltage stored in) flows to the organic light emitting devices 201 and 202 through the driving thin film transistor 20 so that the organic light emitting devices 201 and 202 emit light.

층간 절연막(160) 상에는 데이터 배선(171, 172, 173, 174 176, 177, 178)을 덮는 평탄화막(180)이 배치된다. 평탄화막(180)은 그 위에 형성될 유기 발광 소자(201, 202)의 발광 효율을 높이기 위해 단차를 없애고 평탄화시키는 역할을 한다.A planarization layer 180 is disposed on the interlayer insulating layer 160 to cover the data lines 171, 172, 173, 174 176, 177, 178. The planarization layer 180 serves to eliminate and planarize steps in order to increase the luminous efficiency of the organic light emitting devices 201 and 202 to be formed thereon.

또한, 평탄화막(180)은 드레인 전극(177)의 일부를 노출시키는 컨택홀(182)을 갖는다.In addition, the planarization layer 180 has a contact hole 182 exposing a portion of the drain electrode 177.

평탄화막(180)은 아크릴계 수지(polyacrylates resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드계 수지(polyamides resin), 폴리이미드계 수지(polyimides rein), 불포화 폴리에스테르계 수지(unsaturated polyesters resin), 폴리페닐렌계 수지(polyphenylenethers resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지(polyphenylenesulfides resin), 및 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB) 중 하나 이상의 물질로 만들어질 수 있다.The planarization film 180 is an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamides resin, a polyimide resin, an unsaturated polyester resin. (unsaturated polyesters resin), polyphenylenethers resin, polyphenylenesulfides resin, and benzocyclobutene (benzocyclobutene, BCB).

평탄화막(180) 위에 유기 발광 소자(201, 202)의 화소 전극(211, 212)이 배치된다. 화소 전극(211, 212)은 평탄화막(180)의 컨택홀(182)을 통해 드레인 전극(177)과 연결된다. 화소 전극(211, 212)은 투과형, 반투과형 및 반사형 중 어느 하나로 형성될 수 있다. Pixel electrodes 211 and 212 of the organic light emitting devices 201 and 202 are disposed on the planarization layer 180. The pixel electrodes 211 and 212 are connected to the drain electrode 177 through the contact hole 182 of the planarization layer 180. The pixel electrodes 211 and 212 may be formed of any one of a transmissive type, a transflective type, and a reflective type.

투과형 전극 형성을 위하여 투명 도전성 산화물(TCO; Transparent Conductive Oxide)이 사용될 수 있다. 투명한 도전성 산화물(TCO)로, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(산화 아연) 또는 In2O3(Indium Oxide) 등이 있다.Transparent conductive oxide (TCO) may be used to form the transmissive electrode. As a transparent conductive oxide (TCO), there are Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), ZnO (zinc oxide), Indium Oxide (In 2 O 3 ), and the like.

반투과형 및 반사형 전극 형성을 위하여 마그네슘(Mg), 은(Ag), 금(Au), 칼슘(Ca), 리튬(Li), 크롬(Cr), 알루미늄(Al), 구리(Cu)와 같은 금속 또는 이들의 합금이 사용될 수 있다. 이때, 반투과형 전극과 반사형 전극은 두께로 결정된다. 일반적으로, 반투과형 전극은 약 200nm 이하의 두께를 가지며, 반사형 전극은 300nm 이상의 두께를 가진다. 반투과형 전극의 두께가 얇아질수록 빛의 투과율이 높아지지만 저항이 커지고, 두께가 두꺼워질수록 빛의 투과율이 낮아진다.For the formation of transflective and reflective electrodes, such as magnesium (Mg), silver (Ag), gold (Au), calcium (Ca), lithium (Li), chromium (Cr), aluminum (Al), and copper (Cu). Metals or alloys thereof may be used. At this time, the semi-transmissive electrode and the reflective electrode are determined by the thickness. In general, the transflective electrode has a thickness of about 200 nm or less, and the reflective electrode has a thickness of 300 nm or more. As the thickness of the semi-transmissive electrode decreases, the transmittance of light increases, but the resistance increases, and as the thickness increases, the transmittance of light decreases.

또한, 반투과형 및 반사형 전극은 금속 또는 금속의 합금으로 된 금속층과 금속층상에 적층된 투명 도전성 산화물층을 포함하는 다층구조로 형성될 수 있다. In addition, the transflective and reflective electrodes may have a multilayer structure including a metal layer made of a metal or an alloy of metal and a transparent conductive oxide layer stacked on the metal layer.

화소 전극(211, 212) 및 공통 전극(230)을 형성하는 물질의 종류에 따라, 유기발광 표시장치(100)는 전면 발광형, 배면 발광형 또는 양면 발광형이 될 수 있다. 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기발광 표시장치(100)는 전면 발광형이다. 따라서, 유기 발광 소자(201, 202)는 공통 전극(230) 방향으로 빛을 방출하여 화상을 표시한다. Depending on the type of material forming the pixel electrodes 211 and 212 and the common electrode 230, the organic light emitting display device 100 may be a top emission type, a bottom emission type, or a double-sided emission type. The organic light emitting display device 100 according to the first embodiment of the present invention is a top emission type. Accordingly, the organic light emitting devices 201 and 202 emit light toward the common electrode 230 to display an image.

전면 발광형 유기발광 표시장치의 경우, 유기 발광 소자(201, 202)에서 발생된 빛이 외부로 방출되는 효율이 향상되도록 하기 위하여, 화소 전극(211, 212)은 반사형 전극으로 형성될 수 있다. 이러한 반사형 전극의 예로, 은(Ag)으로 된 금속층 상에 ITO로 된 투명 도전성 산화물이 적층된 전극이 있다. 또한, 은(Ag)-ITO-은(Ag)이 순서대로 적층된 삼중층 구조를 가진 전극이 사용될 수도 있다.In the case of a top emission type organic light emitting display device, the pixel electrodes 211 and 212 may be formed as reflective electrodes in order to improve the efficiency in which light generated from the organic light emitting elements 201 and 202 is emitted to the outside. . As an example of such a reflective electrode, there is an electrode in which a transparent conductive oxide made of ITO is laminated on a metal layer made of silver (Ag). In addition, an electrode having a triple-layer structure in which silver (Ag)-ITO-silver (Ag) is sequentially stacked may be used.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기발광 표시장치(100)는 화소 전극(211, 212)과 이격되어 평탄화막(180) 위에 배치된 보조 배선(410)을 포함한다.The organic light emitting display device 100 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes an auxiliary wiring 410 disposed on the planarization layer 180 to be spaced apart from the pixel electrodes 211 and 212.

보조 배선(410)은, 예를 들어, 초기화 전압 배선(Vint)일 수 있다. 초기화 전압 배선은 구동 박막트랜지스터(20)를 초기화하는 초기화 전압을 제공한다. 초기화 전압 배선은 유기 발광 소자(201, 202)가 구동 후 전하를 방출하거나 또는 동일 전위를 갖게 하기 위하여 사용될 수 있다. 도면에 도시되지 않았지만, 유기 발광 소자(201, 202)와 보조 배선(410)은 박막트랜지스터에 의하여 연결될 수 있다. 그러나 본 발명의 제 1 실시예에서 보조 배선(410)은 초기화 전압 배선(Vint)으로 한정되는 것은 아니며 다른 배선이 될 수도 있다. 보조 배선(410)은 신호 배선이 될 수 있으며, 누설 전류가 흘러나가게 하는 바이패스 배선이 될 수도 있다.The auxiliary wiring 410 may be, for example, an initialization voltage wiring Vint. The initialization voltage wiring provides an initialization voltage for initializing the driving thin film transistor 20. The initialization voltage wiring may be used for the organic light emitting devices 201 and 202 to emit electric charges or to have the same potential after being driven. Although not shown in the drawing, the organic light emitting devices 201 and 202 and the auxiliary wiring 410 may be connected by a thin film transistor. However, in the first embodiment of the present invention, the auxiliary wiring 410 is not limited to the initialization voltage wiring Vint, and may be another wiring. The auxiliary wiring 410 may be a signal wiring or a bypass wiring through which a leakage current flows.

보조 배선(410)은 화소 전극과 동일층(211, 212)에 배치된다. 이러한 보조 배선(410)은 화소 전극(211, 212)의 제조공정과 동일한 공정에 의하여 제조될 수 있으며, 화소 전극(211, 212)과 동일한 재료로 만들어질 수 있으며 동일한 적층 구조를 가질 수 있다. 즉, 화소 전극(211, 212)과 보조 배선은 일괄로 형성될 수 있다. 따라서, 보조 배선(410)도 적어도 하나의 금속층 및 적어도 하나의 투명 전도성 산화물층을 포함할 수 있다. 즉, 보조 배선(410)은 기판(110)상의 평탄화막(180)상에 배치된 금속층 및 상기 금속층상에 배치된 투명 전도성 산화물층을 포함할 수 있다.The auxiliary wiring 410 is disposed on the same layer 211 and 212 as the pixel electrode. The auxiliary wiring 410 may be manufactured by the same process as that of the pixel electrodes 211 and 212, may be made of the same material as the pixel electrodes 211 and 212, and may have the same stacked structure. That is, the pixel electrodes 211 and 212 and the auxiliary wiring may be formed at once. Accordingly, the auxiliary wiring 410 may also include at least one metal layer and at least one transparent conductive oxide layer. That is, the auxiliary wiring 410 may include a metal layer disposed on the planarization layer 180 on the substrate 110 and a transparent conductive oxide layer disposed on the metal layer.

또한, 평탄화막(180) 위에 화소 정의막(190)이 형성된다. 화소 정의막(190)은 화소 전극(211, 212)을 드러내어 화소영역을 정의하는 화소 정의부(191)와, 화소 정의부(191)에서 상부, 즉 평탄화막(180)에 반대방향으로 돌출 형성된 복수의 스페이서(195)들을 포함한다. 이 때, 화소 전극(211, 212)은 화소 정의부(191)의 화소영역인 개구부에 대응하도록 배치된다.Also, a pixel defining layer 190 is formed on the planarization layer 180. The pixel defining layer 190 has a pixel defining portion 191 defining a pixel region by exposing the pixel electrodes 211 and 212, and protruding from the pixel defining portion 191 in a direction opposite to the planarization layer 180. It includes a plurality of spacers 195. In this case, the pixel electrodes 211 and 212 are disposed to correspond to the openings that are the pixel regions of the pixel defining unit 191.

구체적으로, 화소 정의막(190)은 폴리아크릴계(polyacrylates resin) 및 폴리이미드계(polyimides) 등의 수지로 만들어질 수 있다.Specifically, the pixel defining layer 190 may be made of a resin such as polyacrylates resin and polyimides.

화소 정의막(190)의 화소 정의부(191)와 스페이서(195)는 감광성 물질을 소재로 하여 포토리소그래피 공정을 통해 일체로 형성된다. 즉, 화소 정의부(191)와 스페이서(195)는 동일한 재료로 이루어질 수 있다. 구체적으로, 하프톤 노광 공정을 통해 노광량을 조절하여 화소 정의부(191)과 스페이서(195)를 함께 형성한다. 그러나, 본 발명의 제 1 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 화소 정의부(191)와 스페이서(195)은 순차적으로 또는 별개로 형성될 수 있으며, 서로 다른 재료로 만들어질 수도 있다.The pixel defining portion 191 and the spacer 195 of the pixel defining layer 190 are integrally formed using a photosensitive material through a photolithography process. That is, the pixel defining part 191 and the spacer 195 may be made of the same material. Specifically, the pixel defining portion 191 and the spacer 195 are formed together by adjusting the exposure amount through a halftone exposure process. However, the first embodiment of the present invention is not limited thereto. Accordingly, the pixel defining portion 191 and the spacer 195 may be formed sequentially or separately, and may be made of different materials.

스페이서(195)는 화소 전극들(211, 212) 사이의 이격 공간 위에 형성되는데, 각뿔대, 각기둥, 원뿔대, 원기둥, 반구 및 반편구 중 어느 하나의 형상을 가질 수 있다.The spacer 195 is formed on the spaced space between the pixel electrodes 211 and 212 and may have a shape of any one of a pyramid, a pyramid, a cone, a cylinder, a hemisphere, and a hemisphere.

그런데, 본 발명의 제 1 실시예에서 화소 전극(211, 212)이 반사 전극으로 형성됨에 따라, 보조 배선(410)도 반사 전극으로 형성되며, 따라서 보조 배선(410)에서도 외광 반사가 일어난다.By the way, in the first embodiment of the present invention, as the pixel electrodes 211 and 212 are formed as reflective electrodes, the auxiliary wiring 410 is also formed as a reflective electrode, and therefore, external light reflection occurs in the auxiliary wiring 410 as well.

이에, 도 3을 참조하여 보조 배선(410)에 의한 외광 반사를 설명한다.Accordingly, reflection of external light by the auxiliary wiring 410 will be described with reference to FIG. 3.

화소 전극(211, 212)이 위치하는 화소영역을 제외하고 평탄화막(180) 뿐만 아니라 보조 배선(410)상에도 화소정의막(190)이 배치된다. 이 때, 보조 배선(410)상에 배치된 화소정의막(190)이 평탄한 경우, 보조 전극(410)으로 입사된 외광(L1)은 일반적인 반사광(L2)의 양태를 보일 것이다. 따라서, 화소정의막(190) 상부에 외광차단용 편광판이 배치되면, 상기 편광판에 의하여 외광(L1)이 차단될 것이다.A pixel defining layer 190 is disposed on the auxiliary wiring 410 as well as the planarization layer 180 except for the pixel regions in which the pixel electrodes 211 and 212 are located. In this case, when the pixel defining layer 190 disposed on the auxiliary wiring 410 is flat, the external light L1 incident on the auxiliary electrode 410 will exhibit a general reflected light L2. Accordingly, when a polarizing plate for blocking external light is disposed on the pixel defining layer 190, the external light L1 will be blocked by the polarizing plate.

그런데, 도 3의 오른쪽에 도시된 바와 같이, 보조 배선(410)의 상부에 스페이서(195)에 의한 경사면이 존재하는 경우, 정면으로 입사된 외광(L3)이라 할지라도 경사면을 통과하는 과정에서 굴절이 발생하여 보조 배선(410)에서 반사된 광(L4)은 입사광(L3)과 다른 경로를 가지게 된다. 이 경우 편광판(310)이 배치되더라도, 반사광(L4)과 입사광(L3)의 상쇄간섭이 일어나기 어려워진다.However, as shown on the right side of FIG. 3, when an inclined surface by the spacer 195 is present on the upper portion of the auxiliary wiring 410, even the external light L3 incident to the front is refracted in the process of passing through the inclined surface. As a result, the light L4 reflected from the auxiliary wiring 410 has a different path from the incident light L3. In this case, even if the polarizing plate 310 is disposed, it is difficult to cause destructive interference between the reflected light L4 and the incident light L3.

또한, 경사면을 통과한 외광(L3)은 편광상태가 변하게 된다. 구체적으로, 화소정의막(190) 상부에 원평광 특성을 갖는 편광판(310)이 배치되는 경우, 상기 편광판(310)을 거쳐 화소정의막(190)의 경사면을 통과하여 보조 배선(410)에 도달한 외광(L3)은 타원 편광 상태로 반사된다. 타원 편광되어 반사된 광(L4)은 원평광된 입사광(L3)과 제대로 상쇄간섭되지 않는다. In addition, the polarization state of the external light L3 passing through the inclined surface is changed. Specifically, when the polarizing plate 310 having circular polarization characteristics is disposed on the pixel defining layer 190, the auxiliary wiring 410 is reached by passing through the inclined surface of the pixel defining layer 190 through the polarizing plate 310. One external light L3 is reflected in an elliptically polarized state. The elliptically polarized light L4 is not properly destructively interfered with the circularly polarized incident light L3.

이와 같이, 반사성의 보조 배선(410)상에 스페이서(195)가 배치되면 상쇄간섭되지 않은 반사광이 증가되어 유기발광 표시장치(100)의 시인성이 저하된다.In this way, when the spacer 195 is disposed on the reflective auxiliary wiring 410, reflected light that is not destructively interfered increases, and thus the visibility of the organic light emitting display device 100 is deteriorated.

한편, 도 2에 패턴화된 스페이서(195)가 도시되어 있지만, 화소정의막(190)의 형성 후 열경화 과정에서 화소정의막(190) 형성 재료의 리플로우(reflow) 현상이 발생하여 화소정의막(190)의 스페이서(195)의 형태가 일그러질 수 있다. 그에 따라 스페이서(195)의 경사면에서 외광의 경로 및 편광 변화가 더 커질 수도 있다. On the other hand, although the patterned spacer 195 is shown in FIG. 2, a reflow phenomenon of the material for forming the pixel definition layer 190 occurs during the thermal curing process after the formation of the pixel definition layer 190, and thus, the pixel definition layer 190 is formed. The shape of the spacer 195 of the film 190 may be distorted. Accordingly, the path of external light and the change in polarization on the inclined surface of the spacer 195 may be increased.

이에, 스페이서(195)의 경사면으로 입사된 외광이 보조 배선(410)에서 반사되는 것을 방지하기 위하여, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 화소정의막(190)의 스페이서(195)는 보조 배선(410)과 중첩되지 않는다. 즉, 보조 배선(410)의 상부에 스페이서(195)가 배치되지 않는다.Accordingly, in order to prevent external light incident on the inclined surface of the spacer 195 from being reflected from the auxiliary wiring 410, the spacer 195 of the pixel defining layer 190 according to the first exemplary embodiment of the present invention is provided with an auxiliary wiring ( 410) does not overlap. That is, the spacer 195 is not disposed on the auxiliary wiring 410.

화소 정의부(191)의 개구부 내에서 화소 전극(211, 212) 상에 발광층(221, 222)이 배치되고, 화소 정의막(190) 및 발광층(221, 222) 상에 공통 전극(230)이 배치된다.Emission layers 221 and 222 are disposed on the pixel electrodes 211 and 212 within the opening of the pixel definition unit 191, and the common electrode 230 is disposed on the pixel defining layer 190 and the emission layers 221 and 222. Is placed.

발광층(221, 222)은 저분자 유기물 또는 고분자 유기물로 이루어진다. 화소전극(211, 212)과 발광층(221, 222) 상이에 정공 주입층(hole-injection layer, HIL) 및 정공 수송층(hole transporting layer, HTL) 중 적어도 하나가 더 배치될 수 있다. 또한, 발광층(221, 222)과 공통 전극(230) 사이에 전자 수송층(electron transporting layer, ETL) 및 전자 주입층(electron-injection layer, EIL) 중 적어도 하나가 더 배치될 수 있다.The emission layers 221 and 222 are made of a low-molecular organic material or a high-molecular organic material. At least one of a hole-injection layer (HIL) and a hole transporting layer (HTL) may be further disposed on the pixel electrodes 211 and 212 and the emission layers 221 and 222. In addition, at least one of an electron transporting layer (ETL) and an electron-injection layer (EIL) may be further disposed between the emission layers 221 and 222 and the common electrode 230.

공통 전극(230)은 반투과막으로 형성된다. 공통 전극(230)으로 사용되는 반투과막은 마그네슘(Mg), 은(Ag), 칼슘(Ca), 리튬(Li), 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 및 구리(Cu)중 하나 이상의 금속으로 형성될 수 있다. 공통 전극(230)은 마그네슘(Mg), 은(Ag), 칼슘(Ca), 리튬(Li), 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 및 구리(Cu)중 하나 이상을 포함하는 금속층 및 상기 금속층상에 적층된 투명 도전성 산화물(TCO)층을 포함하는 다층막 구조를 가질 수도 있다.The common electrode 230 is formed of a semi-transmissive layer. The semi-permeable film used as the common electrode 230 is made of one or more metals of magnesium (Mg), silver (Ag), calcium (Ca), lithium (Li), chromium (Cr), aluminum (Al), and copper (Cu). Can be formed. The common electrode 230 is a metal layer including at least one of magnesium (Mg), silver (Ag), calcium (Ca), lithium (Li), chromium (Cr), aluminum (Al), and copper (Cu), and the metal It may have a multilayer structure including a transparent conductive oxide (TCO) layer stacked on the layer.

이와 같이, 유기 발광 소자(201, 202)는 화소 전극(211, 212)과, 화소 전극(211, 212) 상에 배치된 발광층(221, 222)과, 발광층(221, 222)상에 배치된 공통 전극(230)을 포함한다. 여기서, 화소 전극(211, 212)은 정공 주입 전극인 양극(애노드)이며, 공통 전극(230)은 전자 주입 전극인 음극(캐소드)이 된다. 그러나 본 발명의 제 1 실시예가 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 유기발광 표시장치(100)의 구동 방법에 따라 화소 전극(211, 212)이 음극이 되고, 공통 전극(230)이 양극이 될 수도 있다. As described above, the organic light emitting devices 201 and 202 include the pixel electrodes 211 and 212, the emission layers 221 and 222 disposed on the pixel electrodes 211 and 212, and the emission layers 221 and 222. And a common electrode 230. Here, the pixel electrodes 211 and 212 are positive electrodes (anodes) that are hole injection electrodes, and the common electrode 230 is a negative electrode (cathode) that is an electron injection electrode. However, the first embodiment of the present invention is not necessarily limited thereto, and the pixel electrodes 211 and 212 may be cathodes and the common electrode 230 may be anodes according to the driving method of the organic light emitting display device 100. .

또한, 유기 발광 표시 장치(100)는, 도 2에 도시한 바와 같이, 화소 정의막(190)과 밀봉 부재(250)를 더 포함한다.In addition, the organic light emitting display device 100 further includes a pixel defining layer 190 and a sealing member 250 as shown in FIG. 2.

밀봉 부재(250)는 유기 발광 소자(201, 202) 사이에 두고 기판(110)과 합착 밀봉된다. 밀봉 부재(250)는 기판(110) 상에 형성된 박막트랜지스터(10, 20) 및 유기 발광 소자(201, 202) 등을 외부로부터 밀봉되도록 커버하여 보호한다. 밀봉 부재(250)로 유리 또는 플라스틱 등의 소재로 만들어진 절연 기판이 사용될 수 있다. The sealing member 250 is interposed between the organic light emitting devices 201 and 202 and bonded and sealed with the substrate 110. The sealing member 250 covers and protects the thin film transistors 10 and 20 and the organic light emitting devices 201 and 202 formed on the substrate 110 so as to be sealed from the outside. An insulating substrate made of a material such as glass or plastic may be used as the sealing member 250.

화소 정의막(190)의 스페이서(195)는 기판(110)과 밀봉 부재(250) 간의 간격을 유지하는 역할을 한다. The spacer 195 of the pixel defining layer 190 serves to maintain a gap between the substrate 110 and the sealing member 250.

또한, 밀봉 부재(250)상에 편광판이 배치될 수 있다.In addition, a polarizing plate may be disposed on the sealing member 250.

도 4a 및 4b는 스페이서(195) 위치에 따른 반사율을 비교하기 위한 유기발광 표시장치의 배치도이다. 도 4a 및 4b에 화소 전극(211, 212), 발광층(221, 222), 스페이서(195) 및 보조배선(410) 만이 도시되어 있다. 구체적으로, 도 4a는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기발광 표시장치(200)의 평면도이고, 도 4b는 비교예에 따른 유기발광 표시장치의 평면도이다. 4A and 4B are layout views of an organic light-emitting display device for comparing reflectance according to the position of the spacer 195. Only the pixel electrodes 211 and 212, the emission layers 221 and 222, the spacers 195, and the auxiliary wiring 410 are shown in FIGS. 4A and 4B. Specifically, FIG. 4A is a plan view of an organic light emitting display device 200 according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a plan view of an organic light emitting display device according to a comparative example.

도 4a와 도 4의 유기발광 표시장치(200)는 스페이서(195)의 위치를 제외하고 다른 구성은 동일하다. 즉, 도 4a의 스페이서(195)는 보조배선(410)과 중첩하지 않으며, 도 4b의 스페이서(195)는 보조배선(410)과 중첩한다.Other configurations of the organic light emitting display device 200 of FIGS. 4A and 4 are the same except for the positions of the spacers 195. That is, the spacer 195 of FIG. 4A does not overlap the auxiliary wiring 410, and the spacer 195 of FIG. 4B overlaps the auxiliary wiring 410.

도 5는 도 4a와 4b의 유기발광 표시장치의 반사율을 비교한 그래프이다. 여기서 SCE(specular component excluded) 반사율이 측정되었다. SCE 반사율은 정반사광를 제외하고 확산반사만 측정하여 구해진다. 사람이 물체를 인식할 때에도 정반사광을 제외한 확산반사만을 인식하기 때문에 SCE 반사율이 측정되었다.5 is a graph comparing reflectance of the organic light emitting display device of FIGS. 4A and 4B. Here, specular component excluded (SCE) reflectance was measured. SCE reflectance is obtained by measuring only diffuse reflection, excluding regular reflected light. Even when a person recognizes an object, the SCE reflectance was measured because it recognizes only diffuse reflections excluding regular reflected light.

도 4a와 4b의 유기발광 표시장치를 이용하여 복수회 반사율을 측정한 후 반사율 값의 분포를 도 5의 그래프로 표시하였다. 도 5을 참조하면, 도 4a의 유기발광 표시장치(A)의 평균 반사율은 0.61%이며, 도 4b의 유기발광 표시장치(B)의 반사율은 0.65%이다(B). 이와 같이, 비교예(B)에 의한 유기발광 표시장치와 비교하여, 본 발명의 제 2 실시예(A)에 의한 유기발광 표시장치는 6.15%로 감소된 반사율을 갖는다는 것을 확인할 수 있다.After measuring the reflectance a plurality of times using the organic light emitting display device of FIGS. 4A and 4B, the distribution of reflectance values is displayed in the graph of FIG. 5. Referring to FIG. 5, the average reflectance of the organic light emitting display device A of FIG. 4A is 0.61%, and the reflectance of the organic light emitting display device B of FIG. 4B is 0.65% (B). As described above, it can be seen that compared to the organic light-emitting display device according to the comparative example (B), the organic light-emitting display device according to the second embodiment (A) of the present invention has a reflectance reduced to 6.15%.

도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기발광 표시장치(300)의 배치도이다. 도 6의 유기발광 표시장치(300)는 도 4b의 유기발광 표시장치(100, 200)와 달리 스페이서(195)가 보조 배선(410)과 중첩하지 않는다.6 is a layout view of an organic light emitting display device 300 according to a third exemplary embodiment of the present invention. In the organic light emitting display device 300 of FIG. 6, unlike the organic light emitting display devices 100 and 200 of FIG. 4B, the spacer 195 does not overlap the auxiliary wiring 410.

이하, 도 7a 내지 도 7d를 참조하여, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the organic light emitting display device 100 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A to 7D.

도 7a에 도시한 바와 같이, 기판(110) 상에 박막 트랜지스터(20)와, 축전 소자(80)와 박막 트랜지스터(20)의 드레인 전극(177)에 연결된 화소 전극(211, 212)을 형성한다. 이 때 화소 전극(211, 212)들 사이에 보조배선(410)이 배치된다. 보조배선(410)은 화소 전극(211, 212)과 동일한 층에 배치된다. 즉, 화소 전극(211, 212)과 보조 배선(410)은 평탄화막(180)상에 배치된다.As shown in FIG. 7A, a thin film transistor 20 and pixel electrodes 211 and 212 connected to the power storage element 80 and the drain electrode 177 of the thin film transistor 20 are formed on the substrate 110. . In this case, the auxiliary wiring 410 is disposed between the pixel electrodes 211 and 212. The auxiliary wiring 410 is disposed on the same layer as the pixel electrodes 211 and 212. That is, the pixel electrodes 211 and 212 and the auxiliary wiring 410 are disposed on the planarization layer 180.

화소 전극(211, 212)과 보조 배선(410)을 형성하는 단계는, 기판(110)상의 평탄화막(180)상에 적어도 하나의 금속층 및 적어도 하나의 투명 전도성 산화물층을 포함하는 도전재층을 형성하는 단계 및 상기 도전재층을 패터닝하는 단계를 포함할 수 있다. 도전재층을 패터닝하는 단계는 포토리소그래피 공정에 의하여 이루어질 수 있다.Forming the pixel electrodes 211 and 212 and the auxiliary wiring 410 includes forming a conductive material layer including at least one metal layer and at least one transparent conductive oxide layer on the planarization layer 180 on the substrate 110 And patterning the conductive material layer. The step of patterning the conductive material layer may be performed by a photolithography process.

이어, 화소 전극(211, 212) 및 보조배선(410)상에 감광 물질을 도포하여 감광 물질층(199)을 형성하고, 마스크(800)를 사용하여 포토리소그래피 공정을 진행한다(도 7b). Then, a photosensitive material is applied on the pixel electrodes 211 and 212 and the auxiliary wiring 410 to form a photosensitive material layer 199, and a photolithography process is performed using the mask 800 (FIG. 7B).

마스크(800)는 마스크 기판(810)과 마스크 기판(810) 상에 형성된 차광 패턴(820)을 포함한다. 그리고, 포토리소그래피 공정은 슬릿 패턴을 갖는 마스크(800)가 사용되는 하프톤(half-tone) 노광을 포함한다. 감광 물질층(199)의 노광된 부분은 현상 공정에서 제거되고, 노광되지 않은 부분은 현상 공정을 거쳐 남게 된다. 이때, 감광 물질층(199)의 종류에 따라 노광된 부분이 남고, 노광되지 않은 부분이 제거될 수도 있다.The mask 800 includes a mask substrate 810 and a light blocking pattern 820 formed on the mask substrate 810. In addition, the photolithography process includes half-tone exposure in which a mask 800 having a slit pattern is used. The exposed portion of the photosensitive material layer 199 is removed in the developing process, and the unexposed portion remains after the developing process. In this case, an exposed portion may remain and an unexposed portion may be removed depending on the type of the photosensitive material layer 199.

이 때, 보조배선(410)상에 스페이서(195)가 형성되지 않도록 하고, 보조배선(410)이 배치되지 않은 영역상에 스페이서(195)가 형성되도록 차광패턴(820)이 만들어진다. 보조배선(410)상에는 화소정의부(195)만 배치된다.In this case, the light shielding pattern 820 is formed so that the spacer 195 is not formed on the auxiliary wiring 410 and the spacer 195 is formed on a region where the auxiliary wiring 410 is not disposed. Only the pixel defining unit 195 is disposed on the auxiliary wiring 410.

다음, 도 7c에 도시한 바와 같이, 현상 공정을 거쳐 화소 정의부(191)와 스페이서(195)를 갖는 화소 정의막(190)을 형성한다. 또한, 현상 후 경화를 실시하여 화소정의막(190)이 안정적인 막이 되도록 한다. 경화를 위하여 화소정의막(190)에 열을 가할 수 있으며, 경우에 따라 광을 조사할 수도 있다. 열경화 과정에서 화소정의막을 형성하는 재료의 일부가 흘러내려 스페이서(195)가 완만한 경사를 갖는 형태가 될 수도 있다.Next, as shown in FIG. 7C, the pixel defining layer 190 including the pixel defining portion 191 and the spacer 195 is formed through a developing process. In addition, curing is performed after development so that the pixel defining layer 190 becomes a stable layer. Heat may be applied to the pixel definition layer 190 for curing, and light may be irradiated in some cases. During the thermal curing process, a part of the material forming the pixel defining layer may flow down, so that the spacer 195 may have a gentle slope.

다음, 도 7d에 도시한 바와 같이, 화소 정의부(191)의 개구부를 통해 드러난 화소 전극(211, 212) 상에 발광층(221, 222)을 형성하고, 발광층(221, 222)과 화소정의막(190)상에 공통 전극(230)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 7D, light emitting layers 221 and 222 are formed on the pixel electrodes 211 and 212 exposed through the openings of the pixel defining unit 191, and the light emitting layers 221 and 222 and the pixel defining layer are formed. A common electrode 230 is formed on 190.

여기서, 공통 전극(230)은 마그네슘(Mg), 은(Ag), 칼슘(Ca), 리튬(Li), 크롬(Cr), 및 알루미늄(Al) 중 하나 이상의 금속을 포함하는 반투과막이다.Here, the common electrode 230 is a semi-permeable film including at least one metal selected from magnesium (Mg), silver (Ag), calcium (Ca), lithium (Li), chromium (Cr), and aluminum (Al).

다음, 공통 전극(230) 상에 밀봉 부재(250)를 배치하여, 앞서 도 2에서 도시한 바와 같은, 유기발광 표시장치(100)를 형성한다. 이때, 화소 정의막(190)의 스페이서(195)는 기판(110)과 밀봉 부재(250) 사이의 간격을 유지한다.Next, the sealing member 250 is disposed on the common electrode 230 to form the organic light emitting display device 100 as shown in FIG. 2. In this case, the spacers 195 of the pixel defining layer 190 maintain a gap between the substrate 110 and the sealing member 250.

이와 같은 제조 방법에 따라, 외광 반사를 억제하여 향상된 시인성을 갖는 유기발광 표시장치(100)를 제조할 수 있다.According to such a manufacturing method, the organic light emitting display device 100 having improved visibility by suppressing reflection of external light can be manufactured.

이상, 도면 및 실시예를 중심으로 본 발명을 설명하였다. 상기 설명된 도면과 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예를 생각해 내는 것이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명의 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention has been described above with reference to the drawings and examples. The drawings and embodiments described above are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will be able to come up with various modifications and equivalent other embodiments therefrom. Therefore, the scope of protection of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

110: 기판 120: 버퍼층
160: 층간절연막 180: 평탄화막
190: 화소정의막 191: 화소정의부
195: 스페이서 201, 201: 유기 발광 소자
211, 212: 화소 전극 221, 222: 발광층
230: 공통전극 250: 밀봉 부재
410: 보조배선
110: substrate 120: buffer layer
160: interlayer insulating film 180: planarization film
190: pixel defining layer 191: pixel defining unit
195: spacer 201, 201: organic light emitting element
211, 212: pixel electrode 221, 222: light emitting layer
230: common electrode 250: sealing member
410: auxiliary wiring

Claims (1)

발명의 내용에 기재된 발명.The invention described in the content of the invention.
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