KR20210047484A - Electroluminescent Display - Google Patents

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KR20210047484A
KR20210047484A KR1020190131134A KR20190131134A KR20210047484A KR 20210047484 A KR20210047484 A KR 20210047484A KR 1020190131134 A KR1020190131134 A KR 1020190131134A KR 20190131134 A KR20190131134 A KR 20190131134A KR 20210047484 A KR20210047484 A KR 20210047484A
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spacer
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electrode
display device
stacked
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KR1020190131134A
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Inventor
변현태
이상규
조광남
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

This application relates to an electroluminescent display device. According to this application, the electroluminescent display device includes a substrate, pixels, a first electrode, a bank, a spacer, a spacer dam, an organic light emitting layer, a second electrode, a compensation pattern, and an encapsulation layer. The plurality of pixels are defined in a matrix manner on the substrate. The first electrode is disposed in one pixel. The bank is stacked over the substrate to define an opening area at the first electrode. The spacer is formed over the bank. The spacer dam surrounds the spacer over the bank. The organic light emitting layer is stacked on the opening area. The second electrode is stacked over the bank, the spacer, the spacer dam, and the organic light emitting layer. The compensation pattern covers the spacer over the second electrode. The encapsulation layer covers the second electrode and the compensation pattern. The present invention provides the electroluminescent display device capable of compensating for damage to the spacer due to interference with a screen mask.

Description

전계발광 표시장치{Electroluminescent Display}Electroluminescent Display {Electroluminescent Display}

이 출원은 전계발광 표시장치에 관한 것이다. 특히, 이 출원은 소자와 스크린 마스크 사이의 간섭을 방지하는 스페이서가 스크린 마스크에 의해 손상되는 경우 이 손상을 보상하는 구조를 갖는 전계발광 표시장치에 관한 것이다.This application relates to an electroluminescent display device. In particular, this application relates to an electroluminescent display device having a structure that compensates for the damage when a spacer preventing interference between an element and a screen mask is damaged by the screen mask.

영상을 표시하는 장치는 CRT(Cathode Ray Tube), LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(Luminescent Display) 등 다양한 형태가 개발되어 발전하고 있다. 이 같이 다양한 형태의 표시 장치는 각각의 고유 특성에 맞춰 컴퓨터, 휴대폰, 은행의 입출금장치(ATM) 및 차량의 네비게이션 시스템 등과 같은 다양한 제품의 영상 데이터 나타내기 위해 사용되고 있다.Various types of image display devices such as CRT (Cathode Ray Tube), LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), and electroluminescent devices (Luminescent Display) have been developed and developed. As such, various types of display devices are used to display image data of various products such as computers, mobile phones, bank deposit and withdrawal devices (ATM), and vehicle navigation systems according to their respective characteristics.

특히, 자발광 표시 장치인 전계발광 표시 장치는 시야각 및 색 구현도와 같은 광학적 성능이 우수하여, 점차 그 응용 분야가 넓어지며, 영상 표시 장치용으로 각광을 받고 있다. 유기 전계발광 표시장치의 경우, 유기 발광층을 도포하는 과정에서 스크린 마스크에 의해 소자가 손상될 수 있다. 이러한 문제를 해소하기 위해 스페이서를 표시 패널의 표면에 산포하여 스크린 마스크와 소자 사이의 간섭을 방지하기도 한다.Particularly, an electroluminescent display device, which is a self-luminous display device, has excellent optical performance such as a viewing angle and color realization, and thus its application field is gradually expanded, and is in the spotlight for an image display device. In the case of an organic electroluminescent display device, the device may be damaged by a screen mask in the process of applying the organic emission layer. In order to solve this problem, spacers are spread over the surface of the display panel to prevent interference between the screen mask and the device.

이와 같이 스크린 마스크와 소자 사이에 간섭은 방지할 수 있으나, 스페이서가 스크린 마스크에 의해 손상될 수 있다. 이런 경우, 손상된 스페이서의 형상이 그 위에 적층되는 인-캡에 그대로 투영되어 손상부가 해소되지 않을 수 있다. 이러한 상태에서 장시간 사용하는 경우, 손상부를 통해 수분이나 가스가 침투하여, 유기발광 소자를 손상시킬 수 있다. 따라서, 스크린 마스크와의 간섭으로 인한 스페이서의 손상 부분을 보상할 수 있는 구조적 개선이 필요하다.In this way, interference between the screen mask and the device can be prevented, but the spacer may be damaged by the screen mask. In this case, the shape of the damaged spacer is projected onto the in-cap stacked thereon as it is, and the damaged portion may not be resolved. When used for a long time in such a state, moisture or gas may penetrate through the damaged portion, thereby damaging the organic light-emitting device. Accordingly, there is a need for structural improvement capable of compensating for a damaged portion of the spacer due to interference with the screen mask.

이 출원의 목적은 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 스크린 마스크와의 간섭에 의한 스페이서의 손상부를 보상할 수 있는 전계발광 표시장치를 제공하는 데 있다. 이 출원의 다른 목적은, 기판에 일정 밀도로 산포된 모든 스페이서 위에 보상 패턴들을 적용하여 특정 스페이서가 손상되더라도, 그 손상부를 덮음으로써, 그 위에 적층되는 인-캡 층에 손상부가 투영되지 않도록 하는 전계발광 표시장치를 제공하는 데 있다. 이 출원의 또 다른 목적은 스페이서의 손상을 방지하는 보상 패턴이 스페이서를 온전히 덮도록 제한함으로써, 손상부에 의한 표시 품질 저하를 방지하는 구조를 갖는 전계발광 표시장치를 제공하는 데 있다.The object of this application is to overcome the problems of the prior art, and to provide an electroluminescent display device capable of compensating for a damaged portion of a spacer due to interference with a screen mask. Another object of this application is to apply compensation patterns on all spacers scattered at a certain density on the substrate to cover the damaged part even if a specific spacer is damaged, so that the damaged part is not projected onto the en-cap layer deposited thereon. It is to provide a light-emitting display device. Another object of this application is to provide an electroluminescent display device having a structure that prevents deterioration of display quality by a damaged portion by limiting a compensation pattern for preventing damage to the spacer to completely cover the spacer.

상기 목적을 달성하기 위해, 이 출원에 의한 전계 발광 표시장치는, 기판, 화소들, 제1 전극, 뱅크, 스페이서, 스페이서 댐, 유기 발광층, 제2 전극, 보상 패턴 및 봉지층을 포함한다. 다수 개의 화소들은 기판 위에 매트릭스 방식으로 정의된다. 제1 전극은, 화소 하나에 배치되어 있다. 뱅크는, 기판 위에 적층되어 제1 전극에서 개구 영역을 정의한다. 스페이서는, 뱅크 위에 형성된다. 스페이서 댐은, 뱅크 위에서 스페이서를 둘러싼다. 유기 발광층은, 개구 영역에 적층된다. 제2 전극은, 뱅크, 스페이서, 스페이서 댐 및 유기 발광층 위에 적층된다. 보상 패턴은, 제2 전극 위에서 스페이서를 덮는다. 봉지층은, 제2 전극 및 보상 패턴을 덮는다.In order to achieve the above object, the electroluminescent display device according to this application includes a substrate, pixels, a first electrode, a bank, a spacer, a spacer dam, an organic emission layer, a second electrode, a compensation pattern, and an encapsulation layer. A plurality of pixels are defined in a matrix manner on a substrate. The first electrode is disposed on one pixel. The bank is stacked on the substrate to define an opening region in the first electrode. The spacers are formed on the bank. The spacer dam surrounds the spacer on the bank. The organic light emitting layer is laminated in the opening region. The second electrode is stacked on the bank, the spacer, the spacer dam, and the organic light emitting layer. The compensation pattern covers the spacer on the second electrode. The encapsulation layer covers the second electrode and the compensation pattern.

일례로, 보상 패턴은, 유기 물질을 포함한다.In one example, the compensation pattern includes an organic material.

일례로, 보상 패턴은, 스페이서 댐이 둘러싸는 내부 공간에 국한되어 스페이서를 덮는다.For example, the compensation pattern is limited to the inner space surrounded by the spacer dam to cover the spacer.

일례로, 보상 패턴은, 스페이서에 발생한 파손부 및 파손부를 노출하는 제2 전극 위에 적층되어 파손부를 덮는다.As an example, the compensation pattern is stacked on the damaged portion generated in the spacer and the second electrode exposing the damaged portion to cover the damaged portion.

일례로, 스페이서는, 기둥 형상을 갖는다. 스페이서 댐은, 스페이서와 일정 간격 떨어져 스페이서를 둘러싸는 폐곡선 형상을 갖는다.As an example, the spacer has a columnar shape. The spacer dam has a closed curve shape surrounding the spacer at a predetermined distance from the spacer.

일례로, 봉지층은, 캐소드 전극 및 상기 보상 패턴을 덮는 제1 무기막, 제1 무기막 위에 적층된 유기막 그리고 유기막 위에 적층된 제2 무기막을 구비한다.For example, the encapsulation layer includes a cathode electrode, a first inorganic layer covering the compensation pattern, an organic layer stacked on the first inorganic layer, and a second inorganic layer stacked on the organic layer.

일례로, 유기 발광층은, 적색 유기 발광층, 청색 유기 발광층 및 녹색 유기 발광층 중 어느 하나를 포함한다.For example, the organic emission layer includes any one of a red organic emission layer, a blue organic emission layer, and a green organic emission layer.

일례로, 유기 발광층은, 백색광을 출광하는 유기 발광 물질을 포함한다. 유기 발광층 상부 및 하부 중 어느 한 방향에 배치된 칼라 필터를 더 포함한다.For example, the organic light-emitting layer includes an organic light-emitting material that emits white light. It further includes a color filter disposed in one of the upper and lower portions of the organic emission layer.

일례로, 기판은, 화상을 표시하는 표시 영역; 및 발광 영역의 주변을 둘러싸는 비 표시 영역을 포함한다. 스페이서 및 스페이서 댐은, 표시 영역 및 비 표시 영역에 일정 밀도로 분포된다.For example, the substrate may include a display area for displaying an image; And a non-display area surrounding the light emitting area. The spacers and the spacer dams are distributed in the display area and the non-display area at a certain density.

일례로, 표시 영역은, 제1 전극, 유기 발광층 및 제2 전극이 적층되어 이루어진 발광 소자들이 배치된다.For example, in the display area, light-emitting elements formed by stacking a first electrode, an organic emission layer, and a second electrode are disposed.

일례로, 스페이서는, 화소들의 배열 4x4 단위당 하나씩 배치된다.As an example, the spacers are disposed one per unit of 4x4 array of pixels.

일례로, 화소들 각각에 배치된 구동 소자; 및 구동 소자를 덮는 평탄화 막을 더 포함한다. 제1 전극은, 평탄화 막 위에 배치되어 구동 소자와 연결된다.For example, a driving element disposed in each of the pixels; And a planarization film covering the driving element. The first electrode is disposed on the planarization film and connected to the driving element.

또한, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치는, 기판, 제1 전극, 뱅크, 스페이서, 스페이서 댐, 보상 패턴, 유기 발광층 및 제2 전극을 포함한다. 제1 전극은, 기판 위에 배치된다. 뱅크는, 제1 전극 위에서 개구 영역을 정의한다. 스페이서는, 뱅크 위에 배치된다. 스페이서 댐은, 스페이서를 둘러싼다. 보상 패턴은, 스페이서 댐 내부에 국한되어 스페이서를 덮는다. 유기 발광층은, 개구 영역에 배치된다. 제2 전극은, 유기 발광층 위에 적층된다.In addition, the electroluminescent display device according to this application includes a substrate, a first electrode, a bank, a spacer, a spacer dam, a compensation pattern, an organic emission layer, and a second electrode. The first electrode is disposed on the substrate. The bank defines an opening area on the first electrode. The spacer is disposed on the bank. The spacer dam surrounds the spacer. The compensation pattern is limited inside the spacer dam to cover the spacer. The organic light-emitting layer is disposed in the opening region. The second electrode is stacked on the organic light-emitting layer.

일례로, 제2 전극은, 스페이서 및 스페이서 댐 위에 그리고 보상 패턴 아래에 적층된다.In one example, the second electrode is deposited over the spacer and spacer dam and under the compensation pattern.

일례로, 봉지층을 더 포함한다. 봉지층은, 스페이서 및 스페이서 댐 위에 적층된 제1 무기막, 제1 무기막 위의 유기막, 그리고 유기막 위의 제2 무기막을 포함한다.In one example, it further includes an encapsulation layer. The encapsulation layer includes a first inorganic layer stacked on the spacer and the spacer dam, an organic layer on the first inorganic layer, and a second inorganic layer on the organic layer.

일례로, 제2 전극은, 보상 패턴 위에 적층된다.For example, the second electrode is stacked on the compensation pattern.

일례로, 봉지층을 더 포함한다. 봉지층은, 제2 전극 위에 적층된 제1 무기막, 제1 무기막 위의 유기막, 그리고 유기막 위의 제2 무기막을 포함한다.In one example, it further includes an encapsulation layer. The encapsulation layer includes a first inorganic film stacked on the second electrode, an organic film on the first inorganic film, and a second inorganic film on the organic film.

일례로, 보상 패턴은, 스페이서에 발생한 파손부를 덮어, 보상 패턴 위에 적층되는 층들에 파손부의 형상이 전이되는 것을 방지한다.For example, the compensation pattern covers the damaged portion generated in the spacer, and prevents the shape of the damaged portion from being transferred to layers stacked on the compensation pattern.

이 출원에 의한 전계발광 표시장치는, 스크린 마스크와 소자 사이에 간섭이 발생하지 않도록 스페이서가 기 설정된 밀도로 산포된 구조를 갖는다. 특히, 스페이서 주변에는 스페이서 댐이 배치되어 있고, 스페이서 댐의 내부 공간에 제한되어 스페이서를 덮는 보상 패턴을 더 구비한다. 따라서, 스페이서가 스크린 마스크에 의해 손상되더라도, 그 손상된 부분이 보상 패턴에 의해 덮인 구조를 갖는다. 그 결과, 손상부의 형상이 그 위에 적층되는 봉지층에 투영되지 않아, 봉지 구조 및 기능이 온전히 유지될 수 있다. 이 출원에 따른 표시 장치는 스크린 마스크와 스페이서 사이에 간섭이 발생하여 스페이서가 손상되더라도, 보상 패턴으로 손상부를 보상하여, 외부 이물질이 침투하는 것을 방지할 수 있고, 소자의 기능 및 수명을 개선할 수 있다.The electroluminescent display device according to this application has a structure in which spacers are scattered at a preset density so that interference does not occur between a screen mask and an element. In particular, a spacer dam is disposed around the spacer, and a compensation pattern is further provided that is limited to the inner space of the spacer dam to cover the spacer. Therefore, even if the spacer is damaged by the screen mask, the damaged portion has a structure covered by the compensation pattern. As a result, the shape of the damaged portion is not projected onto the encapsulation layer laminated thereon, so that the encapsulation structure and function can be fully maintained. In the display device according to this application, even if the spacer is damaged due to interference between the screen mask and the spacer, the damaged part is compensated with a compensation pattern, thereby preventing the penetration of external foreign substances and improving the function and life of the device. have.

위에서 언급된 이 출원의 효과 외에도, 이 출원의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 이 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the effects of this application mentioned above, other features and advantages of this application will be described below, or will be clearly understood by those of ordinary skill in the art from such description and description.

도 1은 이 출원의 일 예에 의한 전계발광 표시장치의 개략적인 구조를 나타내는 도면이다.
도 2는 이 출원의 일 예에 의한 전계발광 표시장치를 구성하는 한 화소의 회로 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 이 출원의 일 예에 의한 화소들의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제1 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다.
도 5는 도 4에서 보상 패턴이 없는 경우에 의한 표시장치의 구조를 나타내는 비교 도면이다.
도 6은 본 발명에 의한 스페이서와 스페이서 댐의 분포 밀도의 일례를 나타내는 평면도이다.
도 7은 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제2 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다.
도 8은 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제3 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다.
도 9는 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제4 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다.
1 is a diagram illustrating a schematic structure of an electroluminescent display device according to an example of this application.
2 is a diagram illustrating a circuit configuration of one pixel constituting an electroluminescent display device according to an example of this application.
3 is a plan view showing a structure of pixels according to an example of this application.
4 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to the first embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3.
5 is a comparison diagram illustrating a structure of a display device in the case where there is no compensation pattern in FIG. 4.
6 is a plan view showing an example of the distribution density of a spacer and a spacer dam according to the present invention.
7 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to a second embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3.
FIG. 8 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to a third embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3.
9 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to a fourth embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3.

이 출원의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 일 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 이 출원은 이하에서 개시되는 일 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 이 출원의 일 예들은 이 출원의 개시가 완전하도록 하며, 이 출원의 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 이 출원의 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of this application, and a method of achieving them will become apparent with reference to examples described below in detail together with the accompanying drawings. However, this application is not limited to the examples disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms. It is provided to completely inform the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention of this application is only defined by the scope of the claims.

이 출원의 일 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 여기에 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 이 출원의 예를 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 출원의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.The shape, size, ratio, angle, number, etc. disclosed in the drawings for explaining an example of this application are exemplary, and are not limited to the matters shown here. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification. In addition, in describing an example of this application, when it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the application, the detailed description thereof will be omitted.

이 출원 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.When'include','have','consists of' and the like mentioned in the specification of this application are used, other parts may be added unless'only' is used. In the case of expressing the constituent elements in the singular, it includes the case of including the plural unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is interpreted as including an error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as'upper','upper of','lower of','next to','right' Or, unless'direct' is used, one or more other parts may be located between the two parts.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, when a temporal predecessor relationship is described as'after','following','after','before', etc.,'right' or'direct' It may also include cases that are not continuous unless this is used.

제 1, 제 2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성 요소는 이 출원의 기술적 사상 내에서 제 2 구성 요소일 수도 있다.First, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first constituent element mentioned below may be a second constituent element within the technical idea of this application.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다.The term “at least one” is to be understood as including all possible combinations from one or more related items. For example, the meaning of “at least one of the first item, the second item, and the third item” means that each of the first item, the second item, or the third item, as well as the first item, the second item, and the third item, It may mean a combination of all items that can be presented from more than one.

이 출원의 여러 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various examples of this application can be partially or completely combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the examples can be implemented independently of each other or can be implemented together in an association relationship. .

이하에서는 이 출원에 따른 표시장치의 다양한 구조에 대하여, 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다.Hereinafter, various structures of the display device according to this application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, the same elements may have the same numerals as possible even if they are indicated on different drawings.

도 1은 이 출원에 의한 전계발광 표시장치의 개략적인 구조를 나타내는 도면이다. 도 1에서 X축은 스캔 배선과 나란한 방향을 나타내고, Y축은 데이터 배선과 나란한 방향을 나타내며, Z축은 표시 장치의 높이 방향을 나타낸다.1 is a diagram showing a schematic structure of an electroluminescent display device according to this application. In FIG. 1, the X axis represents a direction parallel to the scan wiring, the Y axis represents a direction parallel to the data wiring, and the Z axis represents the height direction of the display device.

도 1을 참조하면, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치는 기판(110), 게이트(혹은 스캔) 구동부(200), 데이터 패드부(300), 소스 구동 집적회로(410), 연성필름(430), 회로 보드(450), 및 타이밍 제어부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the electroluminescent display device according to this application includes a substrate 110, a gate (or scan) driver 200, a data pad part 300, a source driving integrated circuit 410, and a flexible film 430. , A circuit board 450, and a timing controller 500.

기판(110)은 절연 물질, 또는 유연성(flexibility)을 가지는 재료를 포함할 수 있다. 기판(110)은 유리, 금속, 또는 플라스틱 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 전계발광 표시장치가 플렉서블(flexible) 표시장치인 경우, 기판(110)은 플라스틱 등과 같은 유연한 재질로 이루어질 수도 있다. 예를 들어 투명 폴리이미드(polyimide) 재질을 포함할 수 있다.The substrate 110 may include an insulating material or a material having flexibility. The substrate 110 may be made of glass, metal, or plastic, but is not limited thereto. When the electroluminescent display device is a flexible display device, the substrate 110 may be made of a flexible material such as plastic. For example, it may include a transparent polyimide material.

기판(110)은 표시 영역(DA), 및 비 표시 영역(NDA)으로 구분될 수 있다. 표시 영역(DA)은 영상이 표시되는 영역으로서, 기판(110)의 중앙부를 포함한 대부분 영역에 정의될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 표시 영역(DA)에는 스캔 배선들(혹은 게이트 배선들), 데이터 배선들 및 화소들이 형성된다. 화소들은 복수의 서브 화소들을 포함하며, 복수의 서브 화소들은 각각 스캔 배선들과 데이터 배선들을 포함한다.The substrate 110 may be divided into a display area DA and a non-display area NDA. The display area DA is an area in which an image is displayed, and may be defined in most areas including the central portion of the substrate 110, but is not limited thereto. Scan lines (or gate lines), data lines, and pixels are formed in the display area DA. The pixels include a plurality of sub-pixels, and each of the plurality of sub-pixels includes scan lines and data lines.

비 표시 영역(NDA)은 영상이 표시되지 않는 영역으로서, 표시 영역(DA)의 전체 또는 일부를 둘러싸도록 기판(110)의 가장자리 부분에 정의될 수 있다. 비 표시 영역(NDA)에는 게이트 구동부(200)와 데이터 패드부(300)가 형성될 수 있다.The non-display area NDA is an area in which an image is not displayed, and may be defined at an edge portion of the substrate 110 so as to surround all or part of the display area DA. A gate driving part 200 and a data pad part 300 may be formed in the non-display area NDA.

게이트 구동부(200)는 타이밍 제어부(500)로부터 입력되는 게이트 제어신호에 따라 스캔 배선들에 스캔(혹은 게이트) 신호들을 공급한다. 게이트 구동부(200)는 베이스 기판(110)의 표시 영역(DA)의 일측 바깥쪽의 비 표시 영역(NDA)에 GIP(gate driver in panel) 방식으로 형성될 수 있다. GIP 방식은 박막 트랜지스터 및 커패시터를 포함하는 게이트 구동부(200)가 기판(110) 상에 직접 형성되어 있는 구조를 일컫는다.The gate driver 200 supplies scan (or gate) signals to scan lines according to a gate control signal input from the timing controller 500. The gate driver 200 may be formed in a non-display area NDA outside one side of the display area DA of the base substrate 110 in a GIP (gate driver in panel) method. The GIP method refers to a structure in which a gate driver 200 including a thin film transistor and a capacitor is directly formed on the substrate 110.

데이터 패드부(300)는 타이밍 제어부(500)로부터 입력되는 데이터 제어신호에 따라 데이터 배선들에 데이터 신호들을 공급한다. 데이터 패드부(300)는 구동 칩으로 제작되어 연성 필름(430)에 실장되고 TAB(tape automated bonding) 방식으로 기판(110)의 표시 영역(DA)의 일측 바깥 쪽의 비 표시 영역(NDA)에 부착될 수 있다.The data pad unit 300 supplies data signals to data lines according to a data control signal input from the timing controller 500. The data pad unit 300 is manufactured as a driving chip and mounted on the flexible film 430, and is mounted on the non-display area NDA outside one side of the display area DA of the substrate 110 in a TAB (tape automated bonding) method. Can be attached.

소스 구동 집적 회로(410)는 타이밍 제어부(500)로부터 디지털 비디오 데이터와 소스 제어신호를 입력 받는다. 소스 구동 집적 회로(410)는 소스 제어 신호에 따라 디지털 비디오 데이터를 아날로그 데이터 전압들로 변환하여 데이터 배선들에 공급한다. 소스 구동 집적 회로(410)가 칩으로 제작되는 경우, COF(chip on film) 또는 COP(chip on plastic) 방식으로 연성 필름(430)에 실장될 수 있다.The source driving integrated circuit 410 receives digital video data and a source control signal from the timing controller 500. The source driving integrated circuit 410 converts digital video data into analog data voltages according to a source control signal and supplies them to data lines. When the source driving integrated circuit 410 is manufactured as a chip, it may be mounted on the flexible film 430 in a chip on film (COF) or chip on plastic (COP) method.

연성 필름(430)에는 데이터 패드부(300)와 소스 구동 집적 회로(410)를 연결하는 배선들, 데이터 패드부(300)와 회로 보드(450)를 연결하는 배선들이 형성될 수 있다. 연성 필름(430)은 이방성 도전 필름(anisotropic conducting film)을 이용하여 데이터 패드부(300) 상에 부착되며, 이로 인해 데이터 패드부(300)와 연성 필름(430)의 배선들이 연결될 수 있다.Wires connecting the data pad part 300 and the source driving integrated circuit 410 and wires connecting the data pad part 300 and the circuit board 450 may be formed on the flexible film 430. The flexible film 430 is attached on the data pad unit 300 using an anisotropic conducting film, whereby the data pad unit 300 and the wires of the flexible film 430 may be connected.

회로 보드(450)는 연성 필름(430)들에 부착될 수 있다. 회로 보드(450)는 구동 칩들로 구현된 다수의 회로들이 실장될 수 있다. 예를 들어, 회로 보드(450)에는 타이밍 제어부(500)가 실장될 수 있다. 회로 보드(450)는 인쇄회로보드(printed circuit board) 또는 연성 인쇄회로보드(flexible printed circuit board)일 수 있다.The circuit board 450 may be attached to the flexible films 430. The circuit board 450 may mount a plurality of circuits implemented with driving chips. For example, the timing controller 500 may be mounted on the circuit board 450. The circuit board 450 may be a printed circuit board or a flexible printed circuit board.

타이밍 제어부(500)는 회로 보드(450)의 케이블을 통해 외부의 시스템 보드로부터 디지털 비디오 데이터와 타이밍 신호를 입력 받는다. 타이밍 제어부(500)는 타이밍 신호에 기초하여 게이트 구동부(200)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 제어신호와 소스 구동 집적 회로(410)들을 제어하기 위한 소스 제어신호를 발생한다. 타이밍 제어부(500)는 게이트 제어신호를 게이트 구동부(200)에 공급하고, 소스 제어신호를 소스 구동 집적 회로(410)들에 공급한다. 제품에 따라 타이밍 제어부(500)는 소스 구동 집적 회로(410)와 한 개의 구동 칩으로 형성되어 기판(110) 상에 실장될 수도 있다.The timing controller 500 receives digital video data and a timing signal from an external system board through a cable of the circuit board 450. The timing controller 500 generates a gate control signal for controlling the operation timing of the gate driver 200 and a source control signal for controlling the source driving integrated circuits 410 based on the timing signal. The timing controller 500 supplies a gate control signal to the gate driver 200 and supplies a source control signal to the source driving integrated circuits 410. Depending on the product, the timing controller 500 may be formed of the source driving integrated circuit 410 and one driving chip and mounted on the substrate 110.

도 2는 이 출원에 의한 전계발광 표시장치를 구성하는 한 화소의 회로 구성을 나타낸 도면이다. 도 3은 이 출원에 의한 화소들의 구조를 나타내는 평면도이다. 도 2 내지 도 3에서는 전계발광 표시장치의 한 종류인 유기발광 표시장치를 예로서 설명한다.2 is a diagram showing a circuit configuration of one pixel constituting the electroluminescent display device according to this application. 3 is a plan view showing a structure of pixels according to this application. In FIGS. 2 to 3, an organic light emitting display device, which is a type of electroluminescent display device, will be described as an example.

도 2 내지 도 3을 참조하면, 유기발광 표시장치의 한 화소는 스캔 배선(SL), 데이터 배선(DL) 및 구동 전류 배선(VDD)에 의해 정의된다. 또한, 한 화소는 회로 영역(CA) 및 발광 영역(EA)을 포함할 수 있다. 유기발광 표시장치 한 화소의 회로 영역(CA) 에는 스위칭 박막 트랜지스터(ST), 구동 박막 트랜지스터(DT), 발광 소자(OLE), 보조 용량(Cst) 그리고 각종 배선들을 포함한다.2 to 3, one pixel of the organic light emitting display device is defined by a scan line SL, a data line DL, and a driving current line VDD. Also, one pixel may include a circuit area CA and a light emitting area EA. The circuit area CA of one pixel of the organic light emitting display device includes a switching thin film transistor ST, a driving thin film transistor DT, a light emitting element OLE, an auxiliary capacitor Cst, and various wires.

예를 들어, 스위칭 박막 트랜지스터(ST)는 스캔 배선(SL)과 데이터 배선(DL)이 교차하는 부분에 배치될 수 있다. 스위칭 박막 트랜지스터(ST)는 스위칭 게이트 전극(SG), 스위칭 소스 전극(SS) 및 스위칭 드레인 전극(SD)을 포함한다. 스위칭 게이트 전극(SG)은 스캔 배선(SL)에 연결된다. 스위칭 소스 전극(SS)은 데이터 배선(DL)에 연결되며, 스위칭 드레인 전극(SD)은 구동 박막 트랜지스터(DT)에 연결된다. 일례로, 스위칭 소스 전극(SS)은 데이터 배선(DL)에서 분기된 구조를 갖고, 스위칭 드레인 전극(SD)은 드레인 콘택홀(DH)을 통해 구동 박막 트랜지스터(DT)의 구동 게이트 전극(DG)과 연결된다. 스위칭 박막 트랜지스터(ST)는 구동 박막 트랜지스터(DT)에 데이터 신호를 인가함으로써 구동하고자 하는 화소를 선택하는 기능을 한다.For example, the switching thin film transistor ST may be disposed at a portion where the scan line SL and the data line DL cross each other. The switching thin film transistor ST includes a switching gate electrode SG, a switching source electrode SS, and a switching drain electrode SD. The switching gate electrode SG is connected to the scan line SL. The switching source electrode SS is connected to the data line DL, and the switching drain electrode SD is connected to the driving thin film transistor DT. For example, the switching source electrode SS has a structure branched from the data line DL, and the switching drain electrode SD is the driving gate electrode DG of the driving thin film transistor DT through the drain contact hole DH. Is connected with. The switching thin film transistor ST serves to select a pixel to be driven by applying a data signal to the driving thin film transistor DT.

구동 박막 트랜지스터(DT)는 스위칭 박막 트랜지스터(ST)에 의해 선택된 화소의 발광 소자(OLE)를 구동하는 기능을 한다. 구동 박막 트랜지스터(DT)는 구동 게이트 전극(DG), 구동 소스 전극(DS) 및 구동 드레인 전극(DD)을 포함한다. 구동 게이트 전극(DG)은 스위칭 박막 트랜지스터(ST)의 스위칭 드레인 전극(SD)에 연결된다. 구동 소스 전극(DS)은 구동 전류 배선(VDD)에 연결되며, 구동 드레인 전극(DD)은 발광 소자(OLE)의 제1 전극 혹은 애노드 전극(ANO)에 연결된다. 일례로, 구동 소스 전극(DS)은 구동 전류 배선(VDD)에서 분기된 구조를 갖고, 구동 드레인 전극(DD)은 화소 콘택홀(PH)을 통해 애노드 전극(ANO)과 연결된다. 구동 박막 트랜지스터(DT)의 구동 게이트 전극(DG)과 발광 소자(OLE)의 애노드 전극(ANO) 사이에는 보조 용량(Cst)이 배치된다.The driving thin film transistor DT serves to drive the light emitting element OLE of a pixel selected by the switching thin film transistor ST. The driving thin film transistor DT includes a driving gate electrode DG, a driving source electrode DS, and a driving drain electrode DD. The driving gate electrode DG is connected to the switching drain electrode SD of the switching thin film transistor ST. The driving source electrode DS is connected to the driving current line VDD, and the driving drain electrode DD is connected to the first electrode or the anode electrode ANO of the light emitting element OLE. For example, the driving source electrode DS has a structure branched from the driving current line VDD, and the driving drain electrode DD is connected to the anode electrode ANO through the pixel contact hole PH. An auxiliary capacitor Cst is disposed between the driving gate electrode DG of the driving thin film transistor DT and the anode electrode ANO of the light emitting element OLE.

구동 박막 트랜지스터(DT)는 구동 전류 배선(VDD)과 발광 소자(OLE) 사이에 배치된다. 구동 전류 배선(VDD)은 발광 소자(OLE)를 구동하기 위한 고 전위 전압이 인가된다. 구동 박막 트랜지스터(DT)는 스위칭 박막 트랜지스터(ST)의 드레인 전극에 연결된 게이트 전극의 전압의 크기에 따라 구동 전류 배선(VDD)으로부터 발광 소자(OLE)로 흐르는 전류량를 조정한다.The driving thin film transistor DT is disposed between the driving current line VDD and the light emitting element OLE. The high potential voltage for driving the light emitting element OLE is applied to the driving current line VDD. The driving thin film transistor DT adjusts the amount of current flowing from the driving current line VDD to the light emitting element OLE according to the magnitude of the voltage of the gate electrode connected to the drain electrode of the switching thin film transistor ST.

발광 소자(OLE)는 유기발광 다이오드 혹은 무기발광 다이오드 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 유기발광 다이오드의 경우, 발광 소자(OLE)는 애노드 전극(ANO), 유기 발광층(OL) 및 캐소드 전극(CAT)을 포함한다. 발광 소자(OLE)는 구동 박막 트랜지스터(DT)에 의해 조절되는 전류에 따라 발광한다. 다시 설명하면, 발광 소자(OLE)는 구동 박막 트랜지스터(DT)에 의해 조절되는 전류에 따라 발광량이 조절되므로, 전계발광 표시장치의 휘도를 조절할 수 있다. 발광 소자(OLE)의 애노드 전극(ANO)은 구동 박막 트랜지스터(DT)의 구동 드레인 전극(DD)에 접속된다. 한편, 제2 전극인 캐소드 전극(CAT)은 저 전위 전압이 공급되는 저전원 배선(VSS)에 접속된다. 즉, 발광 소자(OLE)는 저 전위 전압과 구동 박막 트랜지스터(DT)에 의해 조절된 고 전위 전압에 의해 구동된다.The light emitting device OLE may include either an organic light emitting diode or an inorganic light emitting diode. For example, in the case of an organic light emitting diode, the light emitting element OLE includes an anode electrode ANO, an organic light emitting layer OL, and a cathode electrode CAT. The light emitting device OLE emits light according to a current controlled by the driving thin film transistor DT. In other words, since the light emission amount of the light emitting element OLE is adjusted according to the current controlled by the driving thin film transistor DT, the luminance of the electroluminescent display device can be adjusted. The anode electrode ANO of the light emitting element OLE is connected to the driving drain electrode DD of the driving thin film transistor DT. Meanwhile, the cathode electrode CAT, which is the second electrode, is connected to the low power wiring VSS to which the low potential voltage is supplied. That is, the light emitting device OLE is driven by a low potential voltage and a high potential voltage controlled by the driving thin film transistor DT.

이하, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치의 단면 구조를 나타내는 여러 단면도들을 참조하여, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치의 다양한 실시 예들에 대해 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the electroluminescent display device according to this application will be described with reference to various cross-sectional views showing the cross-sectional structure of the electroluminescent display device according to this application.

<제1 실시 예><First embodiment>

도 4를 더 참조하여, 이 출원의 제1 실시 예에 대해 설명한다. 도 4는 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제1 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다. 도 4에 도시하지 않은 도면 부호는 도 1 내지 도 3에서 설명한 도면 부호를 참조한다.With further reference to Fig. 4, the first embodiment of this application will be described. 4 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to the first embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3. Reference numerals not shown in FIG. 4 refer to reference numerals described in FIGS. 1 to 3.

도 4를 참조하면, 이 출원의 제1 실시 예에 의한 표시장치는 상부 발광(탑 에미션; Top Emission) 방식으로 구현하는 경우에 가장 적합하게 응용될 수 있다. 하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 하부 발광 (바텀 에미션; Bottom Emission) 방식으로 구현될 수 있다. 제1 실시 예에 의한 표시장치는 기판(SUB), 소자층(200) 그리고 봉지층(ENC)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the display device according to the first exemplary embodiment of this application may be most suitably applied when implemented in a top emission (top emission) method. However, it is not necessarily limited thereto, and may be implemented in a bottom emission (bottom emission) method. The display device according to the first embodiment includes a substrate SUB, a device layer 200, and an encapsulation layer ENC.

기판(SUB)은 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)을 둘러싸는 비 표시 영역(NDA)을 포함한다. 기판(SUB)의 표시 영역(DA)은 회로 영역(CA) 및 발광 영역(EA)을 포함할 수 있다. 기판(SUB)의 회로 영역(CA)은 발광 소자(OLE)를 구동하는 구동 회로를 포함할 수 있고, 구동 회로는 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 구동 회로는 구동 트랜지스터(DT) 및 적어도 하나의 스위칭 트랜지스터(ST)를 포함할 수 있다.The substrate SUB includes a display area DA and a non-display area NDA surrounding the display area DA. The display area DA of the substrate SUB may include a circuit area CA and a light emitting area EA. The circuit area CA of the substrate SUB may include a driving circuit for driving the light emitting element OLE, and the driving circuit may include at least one thin film transistor. For example, the driving circuit may include a driving transistor DT and at least one switching transistor ST.

기판(SUB)의 발광 영역(EA)은 구동 회로에 의해 광을 발생시키는 발광 소자(OLE)를 포함할 수 있다. 일 예에 따르면, 발광 영역(EA)은 뱅크(BA)에 의해 정의되는, 복수의 화소 각각에 형성된 개구 영역에 해당할 수 있다.The light emitting area EA of the substrate SUB may include a light emitting element OLE that generates light by a driving circuit. According to an example, the emission area EA may correspond to an opening area formed in each of the plurality of pixels defined by the bank BA.

기판(SUB)의 상부 표면 위에는 소자층(200)이 적층될 수 있다. 소자층(200)은 구동 소자층(210)과 발광 소자층(220)을 포함할 수 있다. 구동 소자층(210)에는 도 2 및 도 3에서 설명한 것과 같은 구동 박막 트랜지스터(DT)와 스위칭 박막 트랜지스터(ST)가 형성될 수 있다. 발광 소자층(220)에는 발광 소자(OLE)가 형성될 수 있다.The device layer 200 may be stacked on the upper surface of the substrate SUB. The device layer 200 may include a driving device layer 210 and a light emitting device layer 220. A driving thin film transistor DT and a switching thin film transistor ST as described in FIGS. 2 and 3 may be formed on the driving element layer 210. A light-emitting element OLE may be formed on the light-emitting element layer 220.

스위칭 박막 트랜지스터(ST) 및 구동 박막 트랜지스터(DT)는 회로 영역(CA)에 배치될 수 있다. 일 예에 따르면, 스위칭 박막 트랜지스터(ST)는 스위칭 반도체 층(SA), 스위칭 게이트 전극(SG), 스위칭 드레인 전극(SD) 및 스위칭 소스 전극(SS)을 포함할 수 있다. 또한, 구동 박막 트랜지스터(DT)는 구동 반도체 층(DA), 구동 게이트 전극(DG), 구동 드레인 전극(DD) 및 구동 소스 전극(DS)을 포함할 수 있다.The switching thin film transistor ST and the driving thin film transistor DT may be disposed in the circuit area CA. According to an example, the switching thin film transistor ST may include a switching semiconductor layer SA, a switching gate electrode SG, a switching drain electrode SD, and a switching source electrode SS. In addition, the driving thin film transistor DT may include a driving semiconductor layer DA, a driving gate electrode DG, a driving drain electrode DD, and a driving source electrode DS.

스위칭 게이트 전극(SG) 및 구동 게이트 전극(DG)은 기판(SUB)의 회로 영역(CA)에 마련될 수 있다. 게이트 전극(SA, DA)은 기판(SUB) 위에 배치된다. 게이트 전극(SA, DA) 위에는 게이트 절연막(GI)이 기판(SUB) 전체를 덮도록 적층될 수 있다. 스위칭 반도체 층(SA)과 구동 반도체 층(DA)이 게이트 절연막(GI) 위에서 각각 스위칭 게이트 전극(SG) 및 구동 게이트 전극(DG)과 중첩되어 배치될 수 있다. 게이트 절연막(GI)은 반도체 층(SA, DA)과 게이트 전극(SG, DG)을 절연시킬 수 있다. 게이트 절연막(GI)은 무기 절연 물질, 예를 들어, 실리콘 산화물(SiO2), 실리콘 질화물(SiNx), 및 실리콘 산질화물(SiON)을 포함하는 단일 박막 또는 이들의 다중 박막으로 이루어 질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The switching gate electrode SG and the driving gate electrode DG may be provided in the circuit area CA of the substrate SUB. The gate electrodes SA and DA are disposed on the substrate SUB. A gate insulating layer GI may be stacked on the gate electrodes SA and DA to cover the entire substrate SUB. The switching semiconductor layer SA and the driving semiconductor layer DA may be disposed on the gate insulating layer GI to overlap the switching gate electrode SG and the driving gate electrode DG, respectively. The gate insulating layer GI may insulate the semiconductor layers SA and DA from the gate electrodes SG and DG. The gate insulating layer GI may be formed of an inorganic insulating material, for example, a single thin film including silicon oxide (SiO2), silicon nitride (SiNx), and silicon oxynitride (SiON), or multiple thin films thereof. Not limited.

반도체 층(SA, DA)은 소스 전극(SS, DS) 및 드레인 전극(SD, DD)과 직접 접촉하고, 게이트 전극(SG, DG)과 게이트 절연막(GI)을 사이에 두고 마주할 수 있다.The semiconductor layers SA and DA may directly contact the source electrodes SS and DS and the drain electrodes SD and DD, and may face each other with the gate electrodes SG and DG and the gate insulating layer GI interposed therebetween.

드레인 전극(SD, DD) 및 소스 전극(SS, DS)은 게이트 절연막(GI) 및 반도체 층(SA, DA)상에서 서로 이격되어 마련될 수 있다. 드레인 전극(SD, DD)은 반도체 층(SA, DA)의 일단과 접촉하고, 소스 전극(SS, DS)은 반도체 층(SA, DA)의 타단과 접촉할 수 있다.The drain electrodes SD and DD and the source electrodes SS and DS may be provided to be spaced apart from each other on the gate insulating layer GI and the semiconductor layers SA and DA. The drain electrodes SD and DD may contact one end of the semiconductor layers SA and DA, and the source electrodes SS and DS may contact the other ends of the semiconductor layers SA and DA.

드레인 전극(SD, DD) 및 소스 전극(SS, DS)이 형성된 기판(SUB) 전체 표면 위에는 평탄 보호층(PL)이 적층되어 있다. 평탄 보호층(PL)은 소스 전극(SS, DS) 및 드레인 전극(SD, DD) 그리고 반도체 층(SA, DA)을 보호하는 기능을 수행할 수 있다. 평탄 보호층(PL)은 애노드 전극(ANO)이 관통하는 화소 컨택홀(PH)을 포함할 수 있다. 도면으로 도시하지 않았으나, 평탄 보호층(PL) 아래에는 무기물질로 형성한 보호막이 더 적층되어 소스 전극(SS, DS) 및 드레인 전극(SD, DD) 그리고 반도체 층(SA, DA)을 보호할 수도 있다.A flat protective layer PL is stacked on the entire surface of the substrate SUB on which the drain electrodes SD and DD and the source electrodes SS and DS are formed. The flat protective layer PL may function to protect the source electrodes SS and DS, the drain electrodes SD and DD, and the semiconductor layers SA and DA. The planarization passivation layer PL may include a pixel contact hole PH through which the anode electrode ANO passes. Although not shown in the drawing, a protective film made of an inorganic material is further stacked under the flat protective layer PL to protect the source electrodes (SS, DS), drain electrodes (SD, DD), and the semiconductor layers (SA, DA). May be.

박막 트랜지스터들(ST, DT) 위에는 평탄 보호층(PL)이 기판(SUB) 전체를 덮도록 적층되어 있다. 평탄 보호층(PL) 위에는 애노드 전극(ANO)이 형성되어 있다. 애노드 전극(ANO)은 평탄 보호층(PL)에 형성된 화소 콘택홀(PH)을 통해 구동 박막 트랜지스터(DT)의 드레인 전극(DD)과 연결되어 있다.A flat protective layer PL is stacked on the thin film transistors ST and DT to cover the entire substrate SUB. An anode electrode ANO is formed on the flat protective layer PL. The anode electrode ANO is connected to the drain electrode DD of the driving thin film transistor DT through the pixel contact hole PH formed in the flat protective layer PL.

애노드 전극(ANO) 위에는 뱅크(BA)가 형성되어 있다. 뱅크(BA)는 애노드 전극(ANO)의 중앙부인 개구 영역을 개방하며, 테두리 영역을 덮음으로써 발광 영역(EA)을 정의한다. 즉, 뱅크(BA)에 의해 개방된 개구 영역이 발광 영역(EA)으로 정의된다.A bank BA is formed on the anode electrode ANO. The bank BA opens an opening area, which is the central part of the anode electrode ANO, and defines the light emission area EA by covering the edge area. That is, the opening area opened by the bank BA is defined as the light emitting area EA.

뱅크(BA)는 회로 영역(CA)에서 평탄 보호층(PL) 상에 배치될 수 있다. 일 예에 따르면, 뱅크(BA)는 복수의 화소 각각의 발광 영역(EA) 사이에 배치됨으로써, 복수의 화소 각각의 발광 영역(EA)을 정의할 수 있다. 예를 들어, 뱅크(BA)는 애노드 전극(ANO)의 일부를 덮을 수 있고, 뱅크(BA)에 의해 덮이지 않는 애노드 전극(ANO)의 다른 일부는 복수의 화소 각각의 발광 영역(EA)을 통해 노출될 수 있다.The bank BA may be disposed on the flat protective layer PL in the circuit area CA. According to an example, the bank BA is disposed between the emission areas EA of each of the plurality of pixels, so that the emission area EA of each of the plurality of pixels may be defined. For example, the bank BA may cover a part of the anode electrode ANO, and the other part of the anode electrode ANO, which is not covered by the bank BA, covers the light emitting area EA of each of the plurality of pixels. Can be exposed through.

뱅크(BA) 위에는 스페이서(SP)가 배치되어 있다. 또한, 스페이서(SP)의 주변에는 스페이서 댐(SPD)이 배치되어 있다. 스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)로부터 일정 거리 이격되어 주변을 둘러싸는 폐곡선 형상을 가질 수 있다.A spacer SP is disposed on the bank BA. Further, a spacer dam SPD is disposed around the spacer SP. The spacer dam SPD may be spaced apart from the spacer SP by a predetermined distance and may have a closed curve shape surrounding the periphery.

뱅크(BA)에 의해 정의된 개구 영역에는 유기 발광층(OL)이 적층되어 있다. 유기 발광층(OL)은 화소별로 구분되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 적색 화소에는 적색 유기 발광층이 배치되고, 녹색 화소에는 녹색 유기 발광층이 배치되며, 청색 화소에는 청색 유기 발광층이 배치될 수 있다.The organic emission layer OL is stacked in the opening area defined by the bank BA. The organic emission layer OL may be divided and disposed for each pixel. For example, a red organic emission layer may be disposed on a red pixel, a green organic emission layer may be disposed on a green pixel, and a blue organic emission layer may be disposed on a blue pixel.

이와 같이 각 화소 별로 고유의 색상을 나타내는 유기 발광층(OL)이 배치되는 경우, 스크린 마스크를 사용할 수 있다. 스크린 마스크를 기판(SUB) 위에 배치하고, 유기 발광층을 증착하는 과정에서 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면과 접촉하여 소자가 손상될 수 있다. 이를 방지하기 위해, 스페이서(SP)가 뱅크(BA) 위에 배치되어 있다.In this way, when the organic emission layer OL representing a unique color for each pixel is disposed, a screen mask may be used. In the process of disposing the screen mask on the substrate SUB and depositing the organic emission layer, the screen mask may contact the surface of the substrate SUB, thereby damaging the device. To prevent this, the spacer SP is disposed on the bank BA.

스페이서(SP)에 의해 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면에 형성된 소자와 간섭이 발생하는 것이 방지될 수 있다. 하지만, 스페이서(SP)는 스크린 마스크와 접촉하는 과정에서 손상될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시한 바와 같이, 스페이서(SP)에는 손상부(ERR)가 발생할 수 있다.Interference with an element in which the screen mask is formed on the surface of the substrate SUB may be prevented by the spacer SP. However, the spacer SP may be damaged during contact with the screen mask. For example, as illustrated in FIG. 4, a damaged portion ERR may be generated in the spacer SP.

유기 발광층(OL) 위에는 제2 전극인 캐소드 전극(CAT)이 적층될 수 있다. 캐소드 전극(CAT)은 화소별로 구분되지 않고 전체 화소에 공통되는 면 전극(sheet electrode)) 형태로 구현될 수 있다. 일 예에 따르면, 캐소드 전극(CAT)은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 산화물(TCO)로 이루어질 수 있다.A cathode electrode CAT, which is a second electrode, may be stacked on the organic emission layer OL. The cathode electrode CAT may not be classified for each pixel and may be implemented in the form of a sheet electrode common to all pixels. According to an example, the cathode electrode CAT may be made of a transparent conductive oxide (TCO) such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

캐소드 전극(CAT)은 무기 물질로 매우 얇은 두께로 증착될 수 있다. 따라서, 도 4에 도시한 바와 같이 스페이서(SP)에 발생된 손상부(ERR)를 완전히 덮지 못하고, 손상부(ERR)의 형상이 그대로 반영 및 노출될 수 있다.The cathode electrode CAT may be deposited with an inorganic material to have a very thin thickness. Accordingly, as illustrated in FIG. 4, the damaged part ERR generated in the spacer SP may not be completely covered, and the shape of the damaged part ERR may be reflected and exposed as it is.

스페이서(SP) 위에는 보상 패턴(IK)이 덮여있다. 스페이서 댐(SPD) 내부 공간에 제한되며, 스페이서(SP)를 완전히 덮는 형상을 갖도록 보상 패턴(IK)이 배치될 수 있다. 일례로, 잉크 젯 장비를 이용하여, 액상의 유기 물질을 스페이서(SP) 위에 떨어뜨리면, 유기 물질은 스페이서 댐(SPD)에 의해 스페이서(SP) 주변에만 국한되도록 한정되며 스페이서(SP)를 완전히 덮도록 도포될 수 있다. 이후, 액상 유기 물질이 경화되면서 보상 패턴(IK)이 완성된다. 이 경우, 도 4에 도시한 바와 같이 스페이서(SP)에 발생한 손상부(IK)는 캐소드 전극(CAT)에 의해 덮이지 않더라도, 보상 패턴(IK)에 의해 완전히 덮이는 구조를 가질 수 있다.The compensation pattern IK is covered on the spacer SP. The compensation pattern IK may be disposed so as to have a shape that is limited to the space inside the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. As an example, when a liquid organic material is dropped on the spacer SP using an ink jet device, the organic material is limited to be limited to the spacer SP by the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. It can be applied so as to. Thereafter, as the liquid organic material is cured, the compensation pattern IK is completed. In this case, as illustrated in FIG. 4, even if the damaged portion IK generated in the spacer SP is not covered by the cathode electrode CAT, it may have a structure completely covered by the compensation pattern IK.

캐소드 전극(CAT)과 보상 패턴(IK)을 포함하는 소자층(200) 위에는, 특히 발광 소자층(220) 위에는, 봉지층(ENC)이 적층될 수 있다. 봉지층(ENC)은 발광 소자(OLE)로 수분이나 공기가 침투하는 것을 방지하기 위한 구조물이다. 예를 들어, 봉지층(ENC)은 제1 무기막(PA1), 유기막(PCL) 및 제2 무기막(PA2)이 순차 적층된 구조를 가질 수 있다. 구체적으로, 캐소드 전극(CAT)과 보상 패턴(IK) 위에는 제1 무기막(PA1)이 증착될 수 있다. 제1 무기막(PA1)은 산화 실리콘(SiOx) 혹은 질화 실리콘(SiNx)을 포함할 수 있다. 제1 무기막 및 제2 무기막 각각은 단일층으로 이루어질 수도 있고, 여러 개의 무기막들이 적층된 구조를 가질 수도 있다.An encapsulation layer ENC may be stacked on the device layer 200 including the cathode electrode CAT and the compensation pattern IK, particularly on the light emitting device layer 220. The encapsulation layer ENC is a structure for preventing moisture or air from penetrating into the light emitting device OLE. For example, the encapsulation layer ENC may have a structure in which a first inorganic layer PA1, an organic layer PCL, and a second inorganic layer PA2 are sequentially stacked. Specifically, the first inorganic layer PA1 may be deposited on the cathode electrode CAT and the compensation pattern IK. The first inorganic layer PA1 may include silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx). Each of the first inorganic layer and the second inorganic layer may be formed of a single layer, or may have a structure in which several inorganic layers are stacked.

이 출원의 제1 실시 예에 의한 전계발광 표시장치는, 스페이서(SP) 위에 보상 패턴(IK)이 덮는 구조를 갖는다. 스페이서(SP)에 손상부(ERR)가 발생하더라도, 보상 패턴(IK)이 손상부(ERR)를 완전히 덮기 때문에, 그 이후에 적층되는 봉지층(ENC)에는 손상부(ERR)가 영향을 주지 못한다. 그 결과, 봉지층(ENC)의 기능이 온전히 보장되어 외부로부터 이물질이 침투되는 것을 완전히 방지할 수 있다.The electroluminescent display device according to the first embodiment of this application has a structure in which the compensation pattern IK covers the spacer SP. Even if the damaged part ERR occurs in the spacer SP, the damaged part ERR does not affect the encapsulation layer ENC stacked after that because the compensation pattern IK completely covers the damaged part ERR. can not do it. As a result, the function of the encapsulation layer ENC is completely guaranteed, so that foreign substances can be completely prevented from penetrating from the outside.

이하, 도 5를 참조하여, 이 출원과 달리 보상 패턴(IK)을 구비하지 않은 경우에 의한 전계발광 표시장치에서 발생할 수 있는 문제점에 대해 설명한다. 도 5는 도 4에서 보상 패턴이 없는 경우에 의한 표시장치의 구조를 나타내는 비교 도면이다. 도 5에 도시한 전계발광 표시장치의 구조는 기본적으로 도 4에 도시한 이 출원에 의한 전계발광 표시장치와 동일하다. 따라서, 동일한 설명에 대해서는 생략한다.Hereinafter, with reference to FIG. 5, a problem that may occur in the electroluminescent display device due to the case in which the compensation pattern IK is not provided unlike this application will be described. 5 is a comparison diagram illustrating a structure of a display device in the case where there is no compensation pattern in FIG. 4. The structure of the electroluminescent display device shown in FIG. 5 is basically the same as that of the electroluminescent display device according to this application shown in FIG. 4. Therefore, the same description will be omitted.

차이점이 있다면, 보상 패턴(IK)을 구비하지 않는다는 데 있다. 예를 들어, 스페이서(SP)에 손상부(ERR)가 발생할 수 있다. 스페이서(SP) 위에는 캐소드 전극(CAT)가 적층되어 있다. 캐소드 전극(CAT)은 금속 물질 혹은 투명 도전 물질을 포함할 수 있다. 이러한 도전 물질은 무기 물질로서 매우 얇은 두께로 증착된다. 따라서, 캐소드 전극(CAT)은 손상부(ERR)를 덮지 못하고, 손상부(ERR)의 형상이 캐소드 전극(CAT)에 그대로 투영 혹은 재현된다.The difference is that the compensation pattern IK is not provided. For example, a damaged portion ERR may occur in the spacer SP. A cathode electrode CAT is stacked on the spacer SP. The cathode electrode CAT may include a metal material or a transparent conductive material. This conductive material is an inorganic material and is deposited to a very thin thickness. Accordingly, the cathode electrode CAT cannot cover the damaged portion ERR, and the shape of the damaged portion ERR is projected or reproduced as it is on the cathode electrode CAT.

캐소드 전극(CAT)을 증착함으로써, 소자층(200)이 완성된다. 소자층(200) 위에는 봉지층(ENC)이 적층된다. 봉지층(ENC)은 제1 무기막(PA1), 유기막(PCL) 및 제2 무기막(PA2)을 포함한다. 제1 무기막(PA1)이 캐소드 전극(CAT) 위에 적층된다. 제1 무기막(PA1) 역시 얇은 두께로 증착된다. 따라서, 제1 무기막(PA1) 역시 손상부(ERR)를 덮지 못하고, 손상부(ERR)의 형상이 제1 무기막(PA1)에 그대로 투영 혹은 재현될 수 있다.By depositing the cathode electrode CAT, the device layer 200 is completed. An encapsulation layer ENC is stacked on the device layer 200. The encapsulation layer ENC includes a first inorganic layer PA1, an organic layer PCL, and a second inorganic layer PA2. The first inorganic layer PA1 is stacked on the cathode electrode CAT. The first inorganic layer PA1 is also deposited to a thin thickness. Accordingly, the first inorganic layer PA1 also cannot cover the damaged portion ERR, and the shape of the damaged portion ERR may be projected or reproduced as it is on the first inorganic layer PA1.

제1 무기막(PA1) 위에는 유기막(PCL)이 도포된다. 유기막(PCL)은 외부 물질이 침투된 경우 이를 완전히 덮을 수 있도록 상당히 두꺼운 두께로 도포된다. 따라서, 유기막(PCL)은 손상부(ERR)을 완전히 덮을 수 있다. 이 후에, 유기막(PCL) 위에는 제2 무기막(PA2)이 증착된다. 이와 같은 구조에서는, 스페이서(SP)에 발생한 손상부(ERR)가 제1 무기막(PA1)에 의해 노출되어 있으므로, 이 부분으로 수분이 침투할 수 있다. 그 결과, 봉지층(ENC) 하부에 있는 발광 소자(OLE)로 수분이 침투하여, 소자를 손상할 수 있다.An organic layer PCL is applied on the first inorganic layer PA1. The organic film (PCL) is applied to a fairly thick thickness so that it can completely cover when an external material penetrates. Accordingly, the organic layer PCL may completely cover the damaged portion ERR. After that, a second inorganic layer PA2 is deposited on the organic layer PCL. In such a structure, since the damaged portion ERR generated in the spacer SP is exposed by the first inorganic film PA1, moisture may penetrate into this portion. As a result, moisture may penetrate into the light emitting device OLE under the encapsulation layer ENC, thereby damaging the device.

도 5와 도 4를 비교하면, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치는, 보상 패턴(IK)이 스페이서(SP)를 덮고, 보상 패턴(IK) 위에 봉지층(ENC)이 적층됨으로써, 봉지층(ENC)에 손상부(ERR)가 발생하지 않는다. 따라서, 봉지층(ENC)의 기능이 온전히 유지되어, 외부로부터 수분의 침투를 완전히 방지할 수 있다.5 and 4, in the electroluminescent display according to this application, the compensation pattern IK covers the spacer SP, and the encapsulation layer ENC is stacked on the compensation pattern IK, so that the encapsulation layer ( ERR does not occur in ENC). Accordingly, the function of the encapsulation layer ENC is maintained intact, and penetration of moisture from the outside can be completely prevented.

이하, 도 6을 참조하여, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치에서 스페이서(SP) 및 스페이서 댐(SPD)의 분포 구조에 대해 설명한다. 도 6은 본 발명에 의한 스페이서와 스페이서 댐의 분포 밀도의 일례를 나타내는 평면도이다.Hereinafter, a distribution structure of the spacer SP and the spacer dam SPD in the electroluminescent display device according to this application will be described with reference to FIG. 6. 6 is a plan view showing an example of the distribution density of a spacer and a spacer dam according to the present invention.

도 6을 참조하면, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치는 기판(SUB) 위에 매트릭스 방식으로 배열된 다수 개의 화소들(PXL)을 포함한다. 하나의 화소(PXL)에는 발광 소자(OLE)가 하나씩 배치되어 있다. 도 6에 도시하지 않았으나, 도 3에 도시한 것과 같이, 하나의 화소(PXL)에는 스위칭 박막 트랜지스터(ST) 및 구동 박막 트랜지스터(DT)를 포함할 수 있다. 화소(PXL)에서 발광 소자(OLE)를 제외한 부분에는 뱅크(BA)가 덮여있다. 뱅크(BA) 위에는 스페이서(SP), 스페이서 댐(SPD) 및 보상 패턴(IK)이 배치되어 있다.Referring to FIG. 6, the electroluminescent display device according to this application includes a plurality of pixels PXL arranged on a substrate SUB in a matrix manner. One light-emitting element OLE is disposed in one pixel PXL. Although not shown in FIG. 6, as shown in FIG. 3, a switching thin film transistor ST and a driving thin film transistor DT may be included in one pixel PXL. The bank BA is covered in a portion of the pixel PXL excluding the light emitting element OLE. A spacer SP, a spacer dam SPD, and a compensation pattern IK are disposed on the bank BA.

스페이서(SP)는 원 기둥 형상을 가질 수 있다. 하지만, 이에 국한되는 것은 아니며, 다각 기둥 형상을 가질 수 있다. 또한, 밑면과 윗명의 크기가 동일한 기둥 형상을 가질 수도 있고, 윗면의 크기가 밑면의 크기보다 큰 사다리꼴 기둥 형상을 가질 수 있다.The spacer SP may have a circular column shape. However, it is not limited thereto, and may have a polygonal column shape. In addition, the size of the bottom and the top may have the same column shape, and the size of the top surface may have a trapezoidal column shape that is larger than the size of the bottom surface.

스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)와 일정 거리 이격하여, 스페이서(SP)를 완전히 둘러싸는 폐곡선 형상을 가질 수 있다. 스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)의 외곽 형상과 동일한 폐곡선 형상을 가질 수 있다. 하지만, 이에 국한되는 것은 아니며, 스페이서(SP)의 외곽 형상과 상관 없이, 원형 혹은 다각형 형상을 가질 수 있다. 스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)보다 낮은 높이를 가질 수 있다.The spacer dam SPD may have a closed curve shape that completely surrounds the spacer SP by being spaced apart from the spacer SP by a predetermined distance. The spacer dam SPD may have the same closed curve shape as the outer shape of the spacer SP. However, the present invention is not limited thereto, and may have a circular or polygonal shape regardless of the outer shape of the spacer SP. The spacer dam SPD may have a height lower than that of the spacer SP.

보상 패턴(IK)은 스페이서 댐(SPD)의 내측 영역에 형성되어 있다. 보상 패턴(IK)은 스페이서 댐(SPD)에 의해 그 위치가 제한되며, 스페이서(SP)를 완전히 덮는 형상을 갖는다.The compensation pattern IK is formed in the inner region of the spacer dam SPD. The position of the compensation pattern IK is limited by the spacer dam SPD, and has a shape that completely covers the spacer SP.

스페이서(SP), 스페이서 댐(SPD) 및 보상 패턴(IK)은 일정 밀도 분포로 기판(SUB) 위에 배치되어 있다. 예를 들어, 스페이서(SP), 스페이서 댐(SPD) 및 보상 패턴(IK)은 화소 밀도를 기준으로, 4X4 화소 단위 별로 하나씩 배치될 수 있다. 도 5와 같이 스페이서(SP)만 배치되는 경우, 스페이서(SP)가 스크린 마스크와 간섭될 경우, 완전히 분리될 가능성이 매우 높다. 하지만, 이 출원에 의한 스페이서(SP)는 스페이서 댐(SPD)에 의해 둘러싸여 있으므로, 완전히 분리되지 않고, 강건한 구조를 가질 수 있다. 또한, 이 후에 보상 패턴(IK)에 의해 스페이서 댐(SPD) 내부에서 스페이서(SP)가 고정 및 보호될 수 있다. 따라서, 이 출원에 의한 전계발광 표시장치는 스페이서(SP)의 손실이 적으므로, 스페이서(SP)의 분포 밀도를 더 낮게 할 수 있다. 예를 들어, 도 5와 같은 구조에서는 화소 밀도를 기준으로 2X2 화소 단위 당 하나씩 배치하여야만 하지만, 이 출원은 도 6에 도시한 바와 같이 4X4 화소 단위 당 하나씩 배치할 수 있다.The spacer SP, the spacer dam SPD, and the compensation pattern IK are disposed on the substrate SUB in a predetermined density distribution. For example, the spacer SP, the spacer dam SPD, and the compensation pattern IK may be disposed one by one for each 4X4 pixel unit based on the pixel density. As shown in FIG. 5, when only the spacer SP is disposed, when the spacer SP interferes with the screen mask, it is highly likely to be completely separated. However, since the spacer SP according to this application is surrounded by the spacer dam SPD, it is not completely separated and may have a robust structure. In addition, afterwards, the spacer SP may be fixed and protected inside the spacer dam SPD by the compensation pattern IK. Accordingly, in the electroluminescent display according to this application, since the loss of the spacer SP is small, the distribution density of the spacer SP can be lowered. For example, in the structure shown in FIG. 5, one must be disposed per 2X2 pixel unit based on the pixel density, but this application may be disposed one per 4X4 pixel unit as shown in FIG. 6.

<제2 실시 예><Second Example>

도 7을 참조하여, 이 출원의 제2 실시 예에 대해 설명한다. 도 7은 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제2 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다. 도 7에 도시하지 않은 도면 부호는 도 1 내지 도 3에서 설명한 도면 부호를 참조한다.With reference to Fig. 7, a second embodiment of this application will be described. 7 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to a second embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3. Reference numerals not shown in FIG. 7 refer to reference numerals described in FIGS. 1 to 3.

도 7을 참조하면, 이 출원의 제2 실시 예에 의한 표시장치는 상부 발광(탑 에미션; Top Emission) 방식으로 구현하는 경우에 적합하게 응용될 수 있다. 제2 실시 예에 의한 표시장치는 기판(SUB), 소자층(200) 그리고 봉지층(ENC)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the display device according to the second exemplary embodiment of this application may be suitably applied when implemented in a top emission (top emission) method. The display device according to the second embodiment includes a substrate SUB, a device layer 200, and an encapsulation layer ENC.

기판(SUB)은 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)을 둘러싸는 비 표시 영역(NDA)을 포함한다. 기판(SUB)의 표시 영역(DA)은 회로 영역(CA) 및 발광 영역(EA)을 포함할 수 있다. 기판(SUB)의 회로 영역(CA)은 발광 소자(OLE)를 구동하는 구동 회로를 포함할 수 있고, 구동 회로는 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 구동 회로는 구동 트랜지스터(DT) 및 적어도 하나의 스위칭 트랜지스터(ST)를 포함할 수 있다.The substrate SUB includes a display area DA and a non-display area NDA surrounding the display area DA. The display area DA of the substrate SUB may include a circuit area CA and a light emitting area EA. The circuit area CA of the substrate SUB may include a driving circuit for driving the light emitting element OLE, and the driving circuit may include at least one thin film transistor. For example, the driving circuit may include a driving transistor DT and at least one switching transistor ST.

기판(SUB)의 발광 영역(EA)은 구동 회로에 의해 광을 발생시키는 발광 소자(OLE)를 포함할 수 있다. 일 예에 따르면, 발광 영역(EA)은 뱅크(BA)에 의해 정의되는, 복수의 화소 각각에 형성된 개구 영역에 해당할 수 있다.The light emitting area EA of the substrate SUB may include a light emitting element OLE that generates light by a driving circuit. According to an example, the emission area EA may correspond to an opening area formed in each of the plurality of pixels defined by the bank BA.

기판(SUB)의 상부 표면 위에는 소자층(200)이 적층될 수 있다. 소자층(200)은 구동 소자층(210)과 발광 소자층(220)을 포함할 수 있다. 구동 소자층(210)에는 도 2 및 도 3에서 설명한 것과 같은 구동 박막 트랜지스터(DT)와 스위칭 박막 트랜지스터(ST)가 형성될 수 있다. 발광 소자층(220)에는 발광 소자(OLE)가 형성될 수 있다.The device layer 200 may be stacked on the upper surface of the substrate SUB. The device layer 200 may include a driving device layer 210 and a light emitting device layer 220. A driving thin film transistor DT and a switching thin film transistor ST as described in FIGS. 2 and 3 may be formed on the driving element layer 210. A light-emitting element OLE may be formed on the light-emitting element layer 220.

이하, 스위칭 박막 트랜지스터(ST) 및 구동 박막 트랜지스터(DT)에 대한 상세한 설명은, 제1 실시 예와 동일하므로, 중복 설명은 생략한다. Hereinafter, detailed descriptions of the switching thin film transistor ST and the driving thin film transistor DT are the same as those of the first embodiment, and thus redundant descriptions will be omitted.

박막 트랜지스터들(ST, DT) 위에는 평탄 보호층(PL)이 기판(SUB) 전체를 덮도록 적층되어 있다. 평탄 보호층(PL) 위에는 애노드 전극(ANO)이 형성되어 있다. 애노드 전극(ANO)은 평탄 보호층(PL)에 형성된 화소 콘택홀(PH)을 통해 구동 박막 트랜지스터(DT)의 드레인 전극(DD)과 연결되어 있다.A flat protective layer PL is stacked on the thin film transistors ST and DT to cover the entire substrate SUB. An anode electrode ANO is formed on the flat protective layer PL. The anode electrode ANO is connected to the drain electrode DD of the driving thin film transistor DT through the pixel contact hole PH formed in the flat protective layer PL.

애노드 전극(ANO) 위에는 뱅크(BA)가 형성되어 있다. 뱅크(BA)는 애노드 전극(ANO)의 중앙부인 개구 영역을 개방하며, 테두리 영역을 덮음으로써 발광 영역(EA)을 정의한다. 즉, 뱅크(BA)에 의해 개방된 개구 영역이 발광 영역(EA)으로 정의된다.A bank BA is formed on the anode electrode ANO. The bank BA opens an opening area, which is the central part of the anode electrode ANO, and defines the light emission area EA by covering the edge area. That is, the opening area opened by the bank BA is defined as the light emitting area EA.

뱅크(BA)는 회로 영역(CA)에서 평탄 보호층(PL) 상에 배치될 수 있다. 일 예에 따르면, 뱅크(BA)는 복수의 화소 각각의 발광 영역(EA) 사이에 배치됨으로써, 복수의 화소 각각의 발광 영역(EA)을 정의할 수 있다. 예를 들어, 뱅크(BA)는 애노드 전극(ANO)의 일부를 덮을 수 있고, 뱅크(BA)에 의해 덮이지 않는 애노드 전극(ANO)의 다른 일부는 복수의 화소 각각의 발광 영역(EA)을 통해 노출될 수 있다.The bank BA may be disposed on the flat protective layer PL in the circuit area CA. According to an example, the bank BA is disposed between the emission areas EA of each of the plurality of pixels, so that the emission area EA of each of the plurality of pixels may be defined. For example, the bank BA may cover a part of the anode electrode ANO, and the other part of the anode electrode ANO, which is not covered by the bank BA, covers the light emitting area EA of each of the plurality of pixels. Can be exposed through.

뱅크(BA) 위에는 스페이서(SP)가 배치되어 있다. 또한, 스페이서(SP)의 주변에는 스페이서 댐(SPD)이 배치되어 있다. 스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)로부터 일정 거리 이격되어 주변을 둘러싸는 폐곡선 형상을 가질 수 있다.A spacer SP is disposed on the bank BA. Further, a spacer dam SPD is disposed around the spacer SP. The spacer dam SPD may be spaced apart from the spacer SP by a predetermined distance and may have a closed curve shape surrounding the periphery.

뱅크(BA)에 의해 정의된 개구 영역에는 유기 발광층(OL)이 적층되어 있다. 유기 발광층(OL)은 화소별로 구분되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 적색 화소에는 적색 유기 발광층이 배치되고, 녹색 화소에는 녹색 유기 발광층이 배치되며, 청색 화소에는 청색 유기 발광층이 배치될 수 있다.The organic emission layer OL is stacked in the opening area defined by the bank BA. The organic emission layer OL may be divided and disposed for each pixel. For example, a red organic emission layer may be disposed on a red pixel, a green organic emission layer may be disposed on a green pixel, and a blue organic emission layer may be disposed on a blue pixel.

이와 같이 각 화소 별로 고유의 색상을 나타내는 유기 발광층(OL)이 배치되는 경우, 스크린 마스크를 사용할 수 있다. 스크린 마스크를 기판(SUB) 위에 배치하고, 유기 발광층을 증착하는 과정에서 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면과 접촉하여 소자가 손상될 수 있다. 이를 방지하기 위해, 스페이서(SP)가 뱅크(BA) 위에 배치되어 있다.In this way, when the organic emission layer OL representing a unique color for each pixel is disposed, a screen mask may be used. In the process of disposing the screen mask on the substrate SUB and depositing the organic emission layer, the screen mask may contact the surface of the substrate SUB, thereby damaging the device. To prevent this, the spacer SP is disposed on the bank BA.

스페이서(SP)에 의해 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면에 형성된 소자와 간섭이 발생하는 것이 방지될 수 있다. 하지만, 스페이서(SP)는 스크린 마스크와 접촉하는 과정에서 손상될 수 있다. 예를 들어, 도 7에 도시한 바와 같이, 스페이서(SP)에는 손상부(ERR)가 발생할 수 있다.Interference with an element in which the screen mask is formed on the surface of the substrate SUB may be prevented by the spacer SP. However, the spacer SP may be damaged during contact with the screen mask. For example, as illustrated in FIG. 7, a damaged portion ERR may be generated in the spacer SP.

스페이서(SP) 위에는 보상 패턴(IK)이 덮여있다. 스페이서 댐(SPD) 내부 공간에 제한되며, 스페이서(SP)를 완전히 덮는 형상을 갖도록 보상 패턴(IK)이 배치될 수 있다. 일례로, 잉크 젯 장비를 이용하여, 액상의 유기 물질을 스페이서(SP) 위에 떨어뜨리면, 유기 물질은 스페이서 댐(SPD)에 의해 스페이서(SP) 주변에만 국한되도록 한정되며 스페이서(SP)를 완전히 덮도록 도포될 수 있다. 이후, 액상 유기 물질이 경화되면서 보상 패턴(IK)이 완성된다. 이 경우, 도 7에 도시한 바와 같이 스페이서(SP)에 발생한 손상부(IK)는 보상 패턴(IK)에 의해 완전히 덮이는 구조를 가질 수 있다.The compensation pattern IK is covered on the spacer SP. The compensation pattern IK may be disposed so as to have a shape that is limited to the space inside the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. As an example, when a liquid organic material is dropped on the spacer SP using an ink jet device, the organic material is limited to be limited to the spacer SP by the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. It can be applied so as to be. Thereafter, as the liquid organic material is cured, the compensation pattern IK is completed. In this case, as shown in FIG. 7, the damaged portion IK generated in the spacer SP may have a structure completely covered by the compensation pattern IK.

뱅크(BA), 스페이서 댐(SPD), 보상 패턴(IK) 및 유기 발광층(OL)이 배치된 기판(SUB)의 전체 표면 위에는 제2 전극인 캐소드 전극(CAT)이 적층될 수 있다. 캐소드 전극(CAT)은 화소별로 구분되지 않고 전체 화소에 공통되는 면 전극(sheet electrode)) 형태로 구현될 수 있다. 일 예에 따르면, 캐소드 전극(CAT)은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 산화물(TCO)로 이루어질 수 있다.A second electrode, a cathode electrode CAT, may be stacked on the entire surface of the substrate SUB on which the bank BA, the spacer dam SPD, the compensation pattern IK, and the organic emission layer OL are disposed. The cathode electrode CAT may not be classified for each pixel and may be implemented in the form of a sheet electrode common to all pixels. According to an example, the cathode electrode CAT may be made of a transparent conductive oxide (TCO) such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

캐소드 전극(CAT)은 보상 패턴(IK) 위에 증착되기 때문에, 스페이서(SP)에 손상부(ERR)가 있더라도, 손상부(ERR)에 의한 영향을 받지 않고, 온전하 박막의 상태를 갖고 형성된다.Since the cathode electrode CAT is deposited on the compensation pattern IK, even if there is a damaged part ERR in the spacer SP, it is not affected by the damaged part ERR, and is formed in a state of an intact thin film. .

캐소드 전극(CAT)을 포함하는 소자층(200) 위에는, 특히 발광 소자층(220) 위에는, 봉지층(ENC)이 적층될 수 있다. 봉지층(ENC)은 발광 소자(OLE)로 수분이나 공기가 침투하는 것을 방지하기 위한 구조물이다. 예를 들어, 봉지층(ENC)은 제1 무기막(PA1), 유기막(PCL) 및 제2 무기막(PA2)이 순차 적층된 구조를 가질 수 있다. 구체적으로, 보상 패턴(IK)을 덮는 캐소드 전극(CAT) 위에는 제1 무기막(PA1)이 증착될 수 있다. 제1 무기막(PA1)은 산화 실리콘(SiOx) 혹은 질화 실리콘(SiNx)을 포함할 수 있다. 제1 무기막 및 제2 무기막 각각은 단일층으로 이루어질 수도 있고, 여러 개의 무기막들이 적층된 구조를 가질 수도 있다.An encapsulation layer ENC may be stacked on the device layer 200 including the cathode electrode CAT, particularly on the light emitting device layer 220. The encapsulation layer ENC is a structure for preventing moisture or air from penetrating into the light emitting device OLE. For example, the encapsulation layer ENC may have a structure in which a first inorganic layer PA1, an organic layer PCL, and a second inorganic layer PA2 are sequentially stacked. Specifically, the first inorganic layer PA1 may be deposited on the cathode electrode CAT covering the compensation pattern IK. The first inorganic layer PA1 may include silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx). Each of the first inorganic layer and the second inorganic layer may be formed of a single layer, or may have a structure in which several inorganic layers are stacked.

이 출원의 제2 실시 예에 의한 전계발광 표시장치는, 스페이서(SP) 위에 보상 패턴(IK)이 덮는 구조를 갖는다. 스페이서(SP)에 손상부(ERR)가 발생하더라도, 보상 패턴(IK)이 손상부(ERR)를 완전히 덮기 때문에, 그 이후에 적층되는 캐소드 전극(CAT) 및 봉지층(ENC)에는 손상부(ERR)가 영향을 주지 못한다. 그 결과, 봉지층(ENC)의 기능이 온전히 보장되어 외부로부터 이물질이 침투되는 것을 완전히 방지할 수 있다.The electroluminescent display device according to the second exemplary embodiment of the present application has a structure in which the compensation pattern IK covers the spacer SP. Even if the damaged part ERR occurs in the spacer SP, the compensation pattern IK completely covers the damaged part ERR, so that the damaged part ( ERR) has no effect. As a result, the function of the encapsulation layer ENC is completely guaranteed, so that foreign substances can be completely prevented from penetrating from the outside.

지금까지 설명한 이 출원의 실시 예들에서는, 화소 단위 별로 고유 색상의 발광층을 구분하여 증착하는 경우를 중심으로 설명하였다. 하지만, 이 출원은 이 경우에만 국한되는 것은 아니며, 기판 전체에 백색광을 출광하는 유기 발광 물질을 증착하는 경우에도 적용할 수 있다.In the embodiments of this application described so far, a case in which a light emitting layer of a unique color is separated and deposited for each pixel unit has been described. However, this application is not limited to this case, and can also be applied to the case of depositing an organic light emitting material that emits white light on the entire substrate.

백색광을 출광하는 유기 발광층을 적층하는 경우, 표시 영역(DA) 전체를 개방하고, 비 표시 영역(NDA)을 가리는 스크린 마스크를 사용할 수 있다. 이러한 경우에도, 비 표시 영역(NDA)을 가리는 스크린 마스크가 기판 위의 소자들과 간섭하여, 소자들이 손상될 수 있다. 이러한 손상을 방지하기 위해, 스페이서(SP), 스페이서 댐(SPD) 및 보상 패턴(IK)을 비 표시 영역(NDA)에 배치할 수 있다. 이 구조에서는, 발광 소자(OLE)의 상부 혹은 하부에 칼라 필터(도시하지 않음)가 더 배치될 수 있다.When an organic emission layer that emits white light is stacked, a screen mask may be used to open the entire display area DA and cover the non-display area NDA. Even in this case, the screen mask covering the non-display area NDA interferes with the devices on the substrate, and the devices may be damaged. In order to prevent such damage, the spacer SP, the spacer dam SPD, and the compensation pattern IK may be disposed in the non-display area NDA. In this structure, a color filter (not shown) may be further disposed above or below the light emitting element OLE.

물론, 앞에서 설명한 경우에도, 스크린 마스크가 비 표시 영역(NDA)과 간섭을 방지하기 위해, 표시 영역(DA) 및 비 표시 영역(NDA) 모두에 스페이서(SP), 스페이서 댐(SPD) 및 보상 패턴(IK)을 배치할 수 있다.Of course, even in the case described above, in order to prevent the screen mask from interfering with the non-display area NDA, a spacer SP, a spacer dam SPD, and a compensation pattern are provided in both the display area DA and the non-display area NDA. (IK) can be placed.

<제 3 실시 예><Third Example>

이하, 도 8을 참조하여, 이 출원의 제3 실시 예를 설명한다. 도 8은 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제3 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다. 도 8에서는 유기 발광층(OL)의 구체적인 적층 구조를 상세하게 나타낸다. 다른 구조물들은 제1 실시 예와 동일하므로, 중복 설명은 생략한다.Hereinafter, a third embodiment of this application will be described with reference to FIG. 8. FIG. 8 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to a third embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3. 8 shows in detail a specific stacked structure of the organic emission layer OL. Other structures are the same as those of the first embodiment, and thus redundant descriptions are omitted.

도 8을 참조하면, 기판(SUB)의 상부 표면 위에는 소자층(200)이 적층될 수 있다. 소자층(200)은 구동 소자층(210)과 발광 소자층(220)을 포함할 수 있다. 구동 소자층(210)에는 도 2 및 도 3에서 설명한 것과 같은 구동 박막 트랜지스터(DT)와 스위칭 박막 트랜지스터(ST)가 형성될 수 있다. 발광 소자층(220)에는 발광 소자(OLE)가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8, a device layer 200 may be stacked on the upper surface of the substrate SUB. The device layer 200 may include a driving device layer 210 and a light emitting device layer 220. A driving thin film transistor DT and a switching thin film transistor ST as described in FIGS. 2 and 3 may be formed on the driving element layer 210. A light-emitting element OLE may be formed on the light-emitting element layer 220.

박막 트랜지스터들(ST, DT) 위에는 평탄 보호층(PL)이 기판(SUB) 전체를 덮도록 적층되어 있다. 평탄 보호층(PL) 위에는 애노드 전극(ANO)이 형성되어 있다. 애노드 전극(ANO)은 평탄 보호층(PL)에 형성된 화소 콘택홀(PH)을 통해 구동 박막 트랜지스터(DT)의 드레인 전극(DD)과 연결되어 있다.A flat protective layer PL is stacked on the thin film transistors ST and DT to cover the entire substrate SUB. An anode electrode ANO is formed on the flat protective layer PL. The anode electrode ANO is connected to the drain electrode DD of the driving thin film transistor DT through the pixel contact hole PH formed in the flat protective layer PL.

애노드 전극(ANO) 위에는 뱅크(BA)가 형성되어 있다. 뱅크(BA)는 애노드 전극(ANO)의 중앙부인 개구 영역을 개방하며, 테두리 영역을 덮음으로써 발광 영역(EA)을 정의한다. 즉, 뱅크(BA)에 의해 개방된 개구 영역이 발광 영역(EA)으로 정의된다.A bank BA is formed on the anode electrode ANO. The bank BA opens an opening area, which is the central part of the anode electrode ANO, and defines the light emission area EA by covering the edge area. That is, the opening area opened by the bank BA is defined as the light emitting area EA.

뱅크(BA) 위에는 스페이서(SP)가 배치되어 있다. 또한, 스페이서(SP)의 주변에는 스페이서 댐(SPD)이 배치되어 있다. 스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)로부터 일정 거리 이격되어 주변을 둘러싸는 폐곡선 형상을 가질 수 있다.A spacer SP is disposed on the bank BA. Further, a spacer dam SPD is disposed around the spacer SP. The spacer dam SPD may be spaced apart from the spacer SP by a predetermined distance and may have a closed curve shape surrounding the periphery.

뱅크(BA)에 의해 정의된 개구 영역에는 각 화소 별로 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL) 및 유기 발광층(OL)이 배치되어 있다. 이 경우, 스크린 마스크를 사용할 수 있다. 스크린 마스크를 기판(SUB) 위에 배치하고, 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL) 및 유기 발광층(OL)을 순차적으로 증착하는 과정에서 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면과 접촉하여 소자가 손상될 수 있다. 이를 방지하기 위해, 스페이서(SP)가 뱅크(BA) 위에 배치되어 있다.In the opening area defined by the bank BA, a hole injection layer HIL, a hole transport layer HTL, and an organic emission layer OL are disposed for each pixel. In this case, a screen mask can be used. In the process of placing the screen mask on the substrate SUB and sequentially depositing the hole injection layer HIL, the hole transport layer HTL, and the organic light emitting layer OL, the screen mask contacts the surface of the substrate SUB, causing the device to It can be damaged. To prevent this, the spacer SP is disposed on the bank BA.

스페이서(SP)에 의해 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면에 형성된 소자와 간섭이 발생하는 것이 방지될 수 있다. 하지만, 스페이서(SP)는 스크린 마스크와 접촉하는 과정에서 손상될 수 있다. 예를 들어, 도 8에 도시한 바와 같이, 스페이서(SP)에는 손상부(ERR)가 발생할 수 있다.Interference with an element in which the screen mask is formed on the surface of the substrate SUB may be prevented by the spacer SP. However, the spacer SP may be damaged during contact with the screen mask. For example, as illustrated in FIG. 8, a damaged portion ERR may be generated in the spacer SP.

스크린 마스크를 제거한 후, 기판(SUB) 전체 표면 위에는 공통적으로 적층되는 이후의 층들이 형성될 수 있다. 예를 들어, 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL) 및 캐소드(CAT)가 순차적으로 적층될 수 있다.After removing the screen mask, subsequent layers commonly stacked on the entire surface of the substrate SUB may be formed. For example, the electron transport layer ETL, the electron injection layer EIL, and the cathode CAT may be sequentially stacked.

그 결과, 손상부(ERR)가 발생한 스페이서(SP) 위에는 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL) 및 캐소드(CAT)가 적층되지만, 도 8에 도시한 바와 같이 손상부(ERR)는 완전히 덮이지 않고, 노출될 수 있다.As a result, the electron transport layer ETL, the electron injection layer EIL, and the cathode CAT are stacked on the spacer SP where the damaged part ERR has occurred, but as shown in FIG. 8, the damaged part ERR is completely It is not covered and can be exposed.

하지만, 스페이서(SP) 위에는 보상 패턴(IK)이 덮여있다. 스페이서 댐(SPD) 내부 공간에 제한되며, 스페이서(SP)를 완전히 덮는 형상을 갖도록 보상 패턴(IK)이 배치될 수 있다. 일례로, 잉크 젯 장비를 이용하여, 액상의 유기 물질을 스페이서(SP) 위에 떨어뜨리면, 유기 물질은 스페이서 댐(SPD)에 의해 스페이서(SP) 주변에만 국한되도록 한정되며 스페이서(SP)를 완전히 덮도록 도포될 수 있다. 이후, 액상 유기 물질이 경화되면서 보상 패턴(IK)이 완성된다. 따라서, 도 8에 도시한 바와 같이 스페이서(SP)에 발생한 손상부(ERR)는 보상 패턴(IK)에 의해 완전히 덮이는 구조를 가질 수 있다.However, the compensation pattern IK is covered on the spacer SP. The compensation pattern IK may be disposed so as to have a shape that is limited to the space inside the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. As an example, when a liquid organic material is dropped on the spacer SP using an ink jet device, the organic material is limited to be limited to the spacer SP by the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. It can be applied so as to. Thereafter, as the liquid organic material is cured, the compensation pattern IK is completed. Accordingly, as illustrated in FIG. 8, the damaged portion ERR generated in the spacer SP may have a structure completely covered by the compensation pattern IK.

소자층(200) 위에는, 특히 발광 소자층(220) 위에는, 봉지층(ENC)이 적층될 수 있다. 봉지층(ENC)은 발광 소자(OLE)로 수분이나 공기가 침투하는 것을 방지하기 위한 구조물이다. 예를 들어, 봉지층(ENC)은 제1 무기막(PA1), 유기막(PCL) 및 제2 무기막(PA2)이 순차 적층된 구조를 가질 수 있다. 구체적으로, 보상 패턴(IK) 및 캐소드(CAT) 위에는 제1 무기막(PA1)이 증착될 수 있다. 제1 무기막(PA1)은 산화 실리콘(SiOx) 혹은 질화 실리콘(SiNx)을 포함할 수 있다. 제1 무기막 및 제2 무기막 각각은 단일층으로 이루어질 수도 있고, 여러 개의 무기막들이 적층된 구조를 가질 수도 있다.An encapsulation layer ENC may be stacked on the device layer 200, in particular, on the light emitting device layer 220. The encapsulation layer ENC is a structure for preventing moisture or air from penetrating into the light emitting device OLE. For example, the encapsulation layer ENC may have a structure in which a first inorganic layer PA1, an organic layer PCL, and a second inorganic layer PA2 are sequentially stacked. Specifically, the first inorganic layer PA1 may be deposited on the compensation pattern IK and the cathode CAT. The first inorganic layer PA1 may include silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx). Each of the first inorganic layer and the second inorganic layer may be formed of a single layer, or may have a structure in which several inorganic layers are stacked.

이 출원의 제3 실시 예에 의한 전계발광 표시장치는, 스페이서(SP) 위에 보상 패턴(IK)이 덮는 구조를 갖는다. 스페이서(SP)에 손상부(ERR)가 발생하더라도, 보상 패턴(IK)이 손상부(ERR)를 완전히 덮기 때문에, 그 이후에 적층되는 봉지층(ENC)에는 손상부(ERR)가 영향을 주지 못한다. 그 결과, 봉지층(ENC)의 기능이 온전히 보장되어 외부로부터 이물질이 침투되는 것을 완전히 방지할 수 있다.The electroluminescent display according to the third embodiment of this application has a structure in which the compensation pattern IK covers the spacer SP. Even if the damaged part ERR occurs in the spacer SP, the damaged part ERR does not affect the encapsulation layer ENC stacked after that because the compensation pattern IK completely covers the damaged part ERR. can not do it. As a result, the function of the encapsulation layer ENC is completely guaranteed, so that foreign substances can be completely prevented from penetrating from the outside.

도면으로 도시하지 않았으나, 이 출원의 제3 실시 예에 의한 발광 소자(OLE)의 구체적인 적층 구조를 제2 실시 예에도 적용할 수 있다.Although not shown in the drawings, a specific stacked structure of the light emitting device OLE according to the third embodiment of this application may also be applied to the second embodiment.

<제 4 실시 예><Fourth embodiment>

이하, 도 9를 참조하여, 이 출원의 제4 실시 예를 설명한다. 도 9는 도 3의 I-I'를 따라 도시한, 이 출원의 제4 실시 예에 의한 전계발광 표시장치의 단면도이다. 도 9에서는 유기 발광층(OL)의 구체적인 적층 구조를 상세하게 나타낸다. 다른 구조물들은 제1 실시 예와 동일하므로, 중복 설명은 생략한다.Hereinafter, a fourth embodiment of this application will be described with reference to FIG. 9. 9 is a cross-sectional view of an electroluminescent display device according to a fourth exemplary embodiment of this application, taken along line II′ of FIG. 3. 9 shows in detail a specific stacked structure of the organic emission layer OL. Other structures are the same as those of the first embodiment, and thus redundant descriptions are omitted.

도 9를 참조하면, 기판(SUB)의 상부 표면 위에는 소자층(200)이 적층될 수 있다. 소자층(200)은 구동 소자층(210)과 발광 소자층(220)을 포함할 수 있다. 구동 소자층(210)에는 도 2 및 도 3에서 설명한 것과 같은 구동 박막 트랜지스터(DT)와 스위칭 박막 트랜지스터(ST)가 형성될 수 있다. 발광 소자층(220)에는 발광 소자(OLE)가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 9, a device layer 200 may be stacked on the upper surface of the substrate SUB. The device layer 200 may include a driving device layer 210 and a light emitting device layer 220. A driving thin film transistor DT and a switching thin film transistor ST as described in FIGS. 2 and 3 may be formed on the driving element layer 210. A light-emitting element OLE may be formed on the light-emitting element layer 220.

박막 트랜지스터들(ST, DT) 위에는 평탄 보호층(PL)이 기판(SUB) 전체를 덮도록 적층되어 있다. 평탄 보호층(PL) 위에는 애노드 전극(ANO)이 형성되어 있다. 애노드 전극(ANO)은 평탄 보호층(PL)에 형성된 화소 콘택홀(PH)을 통해 구동 박막 트랜지스터(DT)의 드레인 전극(DD)과 연결되어 있다.A flat protective layer PL is stacked on the thin film transistors ST and DT to cover the entire substrate SUB. An anode electrode ANO is formed on the flat protective layer PL. The anode electrode ANO is connected to the drain electrode DD of the driving thin film transistor DT through the pixel contact hole PH formed in the flat protective layer PL.

애노드 전극(ANO) 위에는 뱅크(BA)가 형성되어 있다. 뱅크(BA)는 애노드 전극(ANO)의 중앙부인 개구 영역을 개방하며, 테두리 영역을 덮음으로써 발광 영역(EA)을 정의한다. 즉, 뱅크(BA)에 의해 개방된 개구 영역이 발광 영역(EA)으로 정의된다.A bank BA is formed on the anode electrode ANO. The bank BA opens an opening area, which is the central part of the anode electrode ANO, and defines the light emission area EA by covering the edge area. That is, the opening area opened by the bank BA is defined as the light emitting area EA.

뱅크(BA) 위에는 스페이서(SP)가 배치되어 있다. 또한, 스페이서(SP)의 주변에는 스페이서 댐(SPD)이 배치되어 있다. 스페이서 댐(SPD)은 스페이서(SP)로부터 일정 거리 이격되어 주변을 둘러싸는 폐곡선 형상을 가질 수 있다.A spacer SP is disposed on the bank BA. Further, a spacer dam SPD is disposed around the spacer SP. The spacer dam SPD may be spaced apart from the spacer SP by a predetermined distance and may have a closed curve shape surrounding the periphery.

뱅크(BA)에 의해 정의된 개구 영역에는 각 화소 별로 유기 발광층(OL)이 배치되어 있다. 이 경우, 스크린 마스크를 사용할 수 있다. 스크린 마스크를 기판(SUB) 위에 배치하고, 유기 발광층(OL)을 증착하는 과정에서 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면과 접촉하여 소자가 손상될 수 있다. 이를 방지하기 위해, 스페이서(SP)가 뱅크(BA) 위에 배치되어 있다.An organic emission layer OL is disposed for each pixel in the opening area defined by the bank BA. In this case, a screen mask can be used. In the process of disposing the screen mask on the substrate SUB and depositing the organic emission layer OL, the screen mask may contact the surface of the substrate SUB, thereby damaging the device. To prevent this, the spacer SP is disposed on the bank BA.

스페이서(SP)에 의해 스크린 마스크가 기판(SUB)의 표면에 형성된 소자와 간섭이 발생하는 것이 방지될 수 있다. 하지만, 스페이서(SP)는 스크린 마스크와 접촉하는 과정에서 손상될 수 있다. 예를 들어, 도 9에 도시한 바와 같이, 스페이서(SP)에는 손상부(ERR)가 발생할 수 있다.Interference with an element in which the screen mask is formed on the surface of the substrate SUB may be prevented by the spacer SP. However, the spacer SP may be damaged during contact with the screen mask. For example, as illustrated in FIG. 9, a damaged portion ERR may be generated in the spacer SP.

스크린 마스크를 제거한 후, 기판(SUB) 전체 표면 위에는 캐소드(CAT) 및 캡핑층(CPL)이 순차적으로 적층될 수 있다. 캡핑층(CPL)은, 다양한 목적을 위해 유기발광 표시장치에서 추가되는 기능층일 수 있다. 예를 들어, 상부 발광형의 경우, 애노드(ANO)는 광 반사 물질을 사용한다. 이 경우, 발광층(OL)에서 발생한 빛이 애노드(ANO)에 의해 반사되어 캐소드(CAT) 방향으로 출광된다. 이 때, 특정 파장의 빛이 캐소드(CAT)의 표면에서 재 반사되어 소멸되는 경우가 발생할 수 있다. 이와 같은 경우에, 투명한 고 굴절 층을 캐소드(CAT) 위에 적층하여, 마이크로 캐비티 효과를 이용하여, 재 반사되는 빛을 재 활용함으로써, 광 휘도를 향상할 수 있다. 다른 예로, 캐소드(CAT)가 매우 얇은 두께로 형성되는 데, 캐소드(CAT)의 취약부를 보완하거나 이후의 공정에서 이물질로부터 보호하기 위한 목적으로 캡핑층(CPL)을 형성할 수도 있다.After removing the screen mask, a cathode CAT and a capping layer CPL may be sequentially stacked on the entire surface of the substrate SUB. The capping layer CPL may be a functional layer added in an organic light emitting display device for various purposes. For example, in the case of the top emission type, the anode ANO uses a light reflecting material. In this case, light generated from the light-emitting layer OL is reflected by the anode ANO and is emitted in the direction of the cathode CAT. In this case, there may be a case in which light of a specific wavelength is re-reflected from the surface of the cathode CAT and disappears. In such a case, a transparent high refractive layer is stacked on the cathode CAT, and the re-reflected light is reused by using the micro-cavity effect, thereby improving light luminance. As another example, the cathode CAT is formed to have a very thin thickness, and a capping layer CPL may be formed for the purpose of supplementing a weak portion of the cathode CAT or protecting it from foreign substances in a subsequent process.

손상부(ERR)가 발생한 스페이서(SP) 위에는 캐소드(CAT) 및 캡핑층(CPL)이 적층되지만, 도 9에 도시한 바와 같이 손상부(ERR)는 완전히 덮이지 않고, 노출될 수 있다. 하지만, 스페이서(SP) 위에는 보상 패턴(IK)이 덮여있다. 스페이서 댐(SPD) 내부 공간에 제한되며, 스페이서(SP)를 완전히 덮는 형상을 갖도록 보상 패턴(IK)이 배치될 수 있다. 일례로, 잉크 젯 장비를 이용하여, 액상의 유기 물질을 스페이서(SP) 위에 떨어뜨리면, 유기 물질은 스페이서 댐(SPD)에 의해 스페이서(SP) 주변에만 국한되도록 한정되며 스페이서(SP)를 완전히 덮도록 도포될 수 있다. 이후, 액상 유기 물질이 경화되면서 보상 패턴(IK)이 완성된다. 따라서, 도 9에 도시한 바와 같이 스페이서(SP)에 발생하고, 캐소드(CAT) 및 캡핑층(CPL)에 의해 덮이지 않고 노출된 손상부(ERR)는 보상 패턴(IK)에 의해 완전히 덮이는 구조를 가질 수 있다.Although the cathode CAT and the capping layer CPL are stacked on the spacer SP where the damaged part ERR has occurred, the damaged part ERR may not be completely covered and exposed as shown in FIG. 9. However, the compensation pattern IK is covered on the spacer SP. The compensation pattern IK may be disposed so as to have a shape that is limited to the space inside the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. As an example, when a liquid organic material is dropped on the spacer SP using an ink jet device, the organic material is limited to be limited to the spacer SP by the spacer dam SPD and completely covers the spacer SP. It can be applied so as to. Thereafter, as the liquid organic material is cured, the compensation pattern IK is completed. Therefore, as shown in FIG. 9, the damaged portion ERR that occurs in the spacer SP and is not covered by the cathode CAT and the capping layer CPL, is completely covered by the compensation pattern IK. Can have a structure.

소자층(200) 위에는, 특히 발광 소자층(220) 위에는, 봉지층(ENC)이 적층될 수 있다. 봉지층(ENC)은 발광 소자(OLE)로 수분이나 공기가 침투하는 것을 방지하기 위한 구조물이다. 예를 들어, 봉지층(ENC)은 제1 무기막(PA1), 유기막(PCL) 및 제2 무기막(PA2)이 순차 적층된 구조를 가질 수 있다. 구체적으로, 보상 패턴(IK) 및 캡핑층(CPL) 위에는 제1 무기막(PA1)이 증착될 수 있다. 제1 무기막(PA1)은 산화 실리콘(SiOx) 혹은 질화 실리콘(SiNx)을 포함할 수 있다. 제1 무기막 및 제2 무기막 각각은 단일층으로 이루어질 수도 있고, 여러 개의 무기막들이 적층된 구조를 가질 수도 있다.An encapsulation layer ENC may be stacked on the device layer 200, in particular, on the light emitting device layer 220. The encapsulation layer ENC is a structure for preventing moisture or air from penetrating into the light emitting device OLE. For example, the encapsulation layer ENC may have a structure in which a first inorganic layer PA1, an organic layer PCL, and a second inorganic layer PA2 are sequentially stacked. Specifically, the first inorganic layer PA1 may be deposited on the compensation pattern IK and the capping layer CPL. The first inorganic layer PA1 may include silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx). Each of the first inorganic layer and the second inorganic layer may be formed of a single layer, or may have a structure in which several inorganic layers are stacked.

이 출원의 제3 실시 예에 의한 전계발광 표시장치는, 스페이서(SP) 위에 보상 패턴(IK)이 덮는 구조를 갖는다. 스페이서(SP)에 손상부(ERR)가 발생하더라도, 보상 패턴(IK)이 손상부(ERR)를 완전히 덮기 때문에, 그 이후에 적층되는 봉지층(ENC)에는 손상부(ERR)가 영향을 주지 못한다. 그 결과, 봉지층(ENC)의 기능이 온전히 보장되어 외부로부터 이물질이 침투되는 것을 완전히 방지할 수 있다.The electroluminescent display according to the third embodiment of this application has a structure in which the compensation pattern IK covers the spacer SP. Even if the damaged part ERR occurs in the spacer SP, the damaged part ERR does not affect the encapsulation layer ENC stacked after that because the compensation pattern IK completely covers the damaged part ERR. can not do it. As a result, the function of the encapsulation layer ENC is completely guaranteed, so that foreign substances can be completely prevented from penetrating from the outside.

도면으로 도시하지 않았으나, 이 출원의 제4 실시 예에서 설명한 캐소드(CAT) 위에 캡핑층(CPL)을 더 구비한 구조를 제2 실시 예 및 제3 실시 예에도 적용할 수 있다.Although not shown in the drawings, the structure further including the capping layer CPL on the cathode CAT described in the fourth embodiment of this application may also be applied to the second and third embodiments.

상술한 이 출원의 예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 이 출원의 적어도 하나의 예에 포함되며, 반드시 하나의 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 이 출원의 적어도 하나의 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 이 출원이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 이 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, and the like described in the examples of this application described above are included in at least one example of this application, and are not necessarily limited to only one example. Furthermore, the features, structures, effects, and the like illustrated in at least one example of this application may be combined or modified for other examples by a person having ordinary knowledge in the field to which this application belongs. Accordingly, contents related to such combinations and modifications should be construed as being included in the scope of this application.

이상에서 설명한 이 출원은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 이 출원의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 이 출원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 이 출원의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 이 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.This application described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and that various substitutions, modifications and changes are possible within the scope of the technical matters of this application. It will be obvious to those who have the knowledge of. Therefore, the scope of this application is indicated by the claims to be described later, and all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of this application.

SUB: 기판 200: 소자층
ENC: 봉지층 OLE: 발광 소자
ST: 스위칭 박막 트랜지스터 DT: 구동 박막 트랜지스터
ANO: 제1 전극(애노드 전극) OL: 발광층
CAT: 제2 전극(캐소드 전극) CF: 컬러 필터
P: 화소 EA: 발광 영역
CA: 회로 영역 SP: 스페이서
SPD: 스페이서 댐 IK: 보상 패턴
SUB: substrate 200: element layer
ENC: Encapsulation layer OLE: Light-emitting element
ST: switching thin film transistor DT: driving thin film transistor
ANO: first electrode (anode electrode) OL: light-emitting layer
CAT: second electrode (cathode electrode) CF: color filter
P: Pixel EA: Light-emitting area
CA: Circuit area SP: Spacer
SPD: Spacer Dam IK: Compensation Pattern

Claims (18)

기판 위에 매트릭스 방식으로 정의된 다수 개의 화소들;
상기 화소 하나에 배치된 제1 전극;
상기 기판 위에 적층되어 상기 제1 전극에서 개구 영역을 정의하는 뱅크;
상기 뱅크 위에 형성된 스페이서;
상기 뱅크 위에서 상기 스페이서를 둘러싸는 스페이서 댐;
상기 개구 영역에 적층된 유기 발광층;
상기 뱅크, 상기 스페이서, 상기 스페이서 댐 및 상기 유기 발광층 위에 적층된 제2 전극;
상기 제2 전극 위에서 상기 스페이서를 덮는 보상 패턴; 그리고
상기 제2 전극 및 상기 보상 패턴을 덮는 봉지층을 포함하는 전계발광 표시장치.
A plurality of pixels defined in a matrix manner on the substrate;
A first electrode disposed on one of the pixels;
A bank stacked on the substrate to define an opening area in the first electrode;
A spacer formed on the bank;
A spacer dam surrounding the spacer on the bank;
An organic emission layer stacked on the opening area;
A second electrode stacked on the bank, the spacer, the spacer dam, and the organic emission layer;
A compensation pattern covering the spacer on the second electrode; And
An electroluminescent display device including an encapsulation layer covering the second electrode and the compensation pattern.
제 1 항에 있어서,
상기 보상 패턴은,
유기 물질을 포함하는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The compensation pattern,
An electroluminescent display device including an organic material.
제 1 항에 있어서,
상기 보상 패턴은,
상기 스페이서 댐이 둘러싸는 내부 공간에 국한되어 상기 스페이서를 덮는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The compensation pattern,
The electroluminescent display device is limited to an inner space surrounded by the spacer dam to cover the spacer.
제 1 항에 있어서,
상기 보상 패턴은,
스페이서에 발생한 파손부 및 상기 파손부를 노출하는 상기 제2 전극 위에 적층되어 상기 파손부를 덮는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The compensation pattern,
An electroluminescent display device that is stacked on the damaged portion generated in the spacer and the second electrode exposing the damaged portion to cover the damaged portion.
제 1 항에 있어서,
상기 스페이서는, 기둥 형상을 갖고; 그리고
상기 스페이서 댐은, 상기 스페이서와 일정 간격 떨어져 상기 스페이서를 둘러싸는 폐곡선 형상을 갖는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The spacer has a columnar shape; And
The spacer dam has a closed curve shape surrounding the spacer at a predetermined distance apart from the spacer.
제 1 항에 있어서,
상기 봉지층은,
상기 캐소드 전극 및 상기 보상 패턴을 덮는 제1 무기막;
상기 제1 무기층 위에 적층된 유기막;
상기 유기층 위에 적층된 제2 무기막을 구비하는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The encapsulation layer,
A first inorganic layer covering the cathode electrode and the compensation pattern;
An organic layer stacked on the first inorganic layer;
An electroluminescent display device comprising a second inorganic layer stacked on the organic layer.
제 1 항에 있어서,
상기 유기 발광층은,
적색 유기 발광층, 청색 유기 발광층 및 녹색 유기 발광층 중 어느 하나를 포함하는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The organic emission layer,
An electroluminescent display device comprising any one of a red organic emission layer, a blue organic emission layer, and a green organic emission layer.
제 1 항에 있어서,
상기 유기 발광층은,
백색광을 출광하는 유기 발광 물질을 포함하고,
상기 유기 발광층 상부 및 하부 중 어느 한 방향에 배치된 칼라 필터를 더 포함하는 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The organic emission layer,
Including an organic light emitting material that emits white light,
The electroluminescent display device further comprising a color filter disposed in one direction of an upper portion and a lower portion of the organic emission layer.
제 1 항에 있어서,
상기 기판은,
화상을 표시하는 표시 영역; 그리고
상기 발광 영역의 주변을 둘러싸는 비 표시 영역을 포함하며,
상기 스페이서 및 상기 스페이서 댐은 상기 표시 영역 및 상기 비 표시 영역에 일정 밀도로 분포된 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The substrate,
A display area for displaying an image; And
A non-display area surrounding the light-emitting area,
The spacer and the spacer dam are distributed at a predetermined density in the display area and the non-display area.
제 9 항에 있어서,
상기 표시 영역은,
상기 제1 전극, 상기 유기 발광층 및 상기 제2 전극이 적층되어 이루어진 발광 소자들이 배치된 전계발광 표시장치.
The method of claim 9,
The display area,
An electroluminescent display device in which light-emitting elements formed by stacking the first electrode, the organic emission layer, and the second electrode are disposed.
제 1 항에 있어서,
상기 스페이서는,
상기 화소들의 매트릭스 배열에서 4x4 단위당 하나씩 배치된 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The spacer,
An electroluminescent display device arranged one per 4x4 unit in the matrix arrangement of the pixels.
제 1 항에 있어서,
상기 화소들 각각에 배치된 구동 소자; 그리고
상기 구동 소자를 덮는 평탄화 막을 더 포함하고,
상기 제1 전극은 상기 평탄화 막 위에 배치되어 상기 구동 소자와 연결된 전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
A driving element disposed on each of the pixels; And
Further comprising a planarization film covering the driving element,
The first electrode is disposed on the planarization layer and connected to the driving element.
기판 위에 배치된 제1 전극;
상기 제1 전극 위에서 개구 영역을 정의하는 뱅크;
상기 뱅크 위에 배치된 스페이서;
상기 스페이서를 둘러싸는 스페이서 댐;
상기 스페이서 댐 내부에 국한되어 상기 스페이서를 덮는 보상 패턴;
상기 개구 영역에 배치된 유기 발광층; 그리고
상기 유기 발광층 위에 적층된 제2 전극을 포함하는 전계발광 표시장치.
A first electrode disposed on the substrate;
A bank defining an opening area on the first electrode;
A spacer disposed on the bank;
A spacer dam surrounding the spacer;
A compensation pattern limited to the spacer dam and covering the spacer;
An organic emission layer disposed in the opening area; And
An electroluminescent display device including a second electrode stacked on the organic emission layer.
제 13 항에 있어서,
상기 제2 전극은,
상기 스페이서 및 상기 스페이서 댐 위에 그리고 상기 보상 패턴 아래에 적층된 전계발광 표시장치.
The method of claim 13,
The second electrode,
An electroluminescent display device stacked on the spacer and the spacer dam and under the compensation pattern.
제 14 항에 있어서,
상기 스페이서 및 상기 스페이서 댐 위에 적층된,
제1 무기막;
상기 제1 무기막 위의 유기막;
상기 유기막 위의 제2 무기막을 포함하는 봉지층을 더 구비한 전계발광 표시장치.
The method of claim 14,
Stacked on the spacer and the spacer dam,
A first inorganic film;
An organic layer on the first inorganic layer;
An electroluminescent display device further comprising an encapsulation layer including a second inorganic layer on the organic layer.
제 13 항에 있어서,
상기 제2 전극은,
상기 보상 패턴 위에 적층된 전계발광 표시장치.
The method of claim 13,
The second electrode,
An electroluminescent display device stacked on the compensation pattern.
제 16 항에 있어서,
상기 제2 전극 위에 적층된,
제1 무기막;
상기 제1 무기막 위의 유기막;
상기 유기막 위의 제2 무기막을 포함하는 봉지층을 더 구비한 전계발광 표시장치.
The method of claim 16,
Stacked on the second electrode,
A first inorganic film;
An organic layer on the first inorganic layer;
An electroluminescent display device further comprising an encapsulation layer including a second inorganic layer on the organic layer.
제 13 항에 있어서,
상기 보상 패턴은,
상기 스페이서에 발생한 파손부를 덮어, 상기 보상 패턴 위에 적층되는 층들에 상기 파손부의 형상이 전이되는 것을 방지하는 전계발광 표시장치.
The method of claim 13,
The compensation pattern,
An electroluminescent display device that covers the damaged part in the spacer and prevents the shape of the damaged part from being transferred to layers stacked on the compensation pattern.
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