KR20210031544A - Method for producing laminate - Google Patents

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아키히토 아베
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토시히로 간노
유우지 야마시타
히로노리 마츠야마
히로아키 카와니시
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Abstract

성능이 균일한 편광막을 형성할 수 있는 적층체를 제공한다. 본 발명의 적층체의 제조 방법은 수지 기재(11)를 수지 기재(11)의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 공정과 수지 기재(11) 상에 폴리비닐알코올계 수지층(12)을 형성하는 공정을 이 순서대로 포함한다.It provides a laminate capable of forming a polarizing film with uniform performance. The manufacturing method of the laminate of the present invention includes a step of heating the resin substrate 11 to a glass transition temperature (Tg) of 15° C. or higher of the resin substrate 11, and a polyvinyl alcohol-based resin layer ( The process of forming 12) is included in this order.

Description

적층체의 제조 방법 {METHOD FOR PRODUCING LAMINATE}Manufacturing method of laminated body {METHOD FOR PRODUCING LAMINATE}

본 발명은 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로는 수지 기재와 이 수지 기재 상에 형성된 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층을 가진 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a laminate. Specifically, it relates to a method for producing a laminate having a resin substrate and a polyvinyl alcohol (PVA)-based resin layer formed on the resin substrate.

수지 기재 상에 PVA계 수지층을 도포 형성하고, 이 적층체를 연신, 염색함으로써 편광막을 얻는 방법이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌1, 특허문헌2 참조). 이러한 방법으로부터 두께가 얇은 편광막을 얻을 수 있으므로, 예컨대, 화상 표시 장치의 박형화에 기여할 수 있다는 점에서 주목되고 있다. 그러나 이러한 경우, 얻어지는 편광막의 성능(구체적으로는 막 두께 광학 특성, 외관)에 변형(변동)(irregularity)이 쉽게 발생한다는 문제점이 있다.A method of obtaining a polarizing film by coating and forming a PVA-based resin layer on a resin substrate and stretching and dyeing the laminate has been proposed (for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2). Since a polarizing film having a thin thickness can be obtained from such a method, it is attracting attention because it can contribute to, for example, a thinner image display device. However, in this case, there is a problem that irregularity easily occurs in the performance (specifically, the optical properties of the film thickness and the appearance) of the obtained polarizing film.

선행 기술 문헌Prior art literature

특허 문헌1:일본국 공개특허 특개소51-69644호 공보Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 51-69644

특허 문헌2:일본국 공개특허 특개2001-343521호 공보Patent Document 2: Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2001-343521

본 발명은 상기 기존의 과제를 해결하기 위해서 안출된 것으로 그 주요 목적은 성능이 균일한 편광막을 제조할 수 있는 적층체를 제공하는 것이다.The present invention was conceived to solve the above problems, and its main purpose is to provide a laminate capable of manufacturing a polarizing film having uniform performance.

본 발명의 적층체의 제조 방법은 수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 공정과 상기 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하는 공정을 이 순서대로 포함한다.The manufacturing method of the laminate of the present invention includes a step of heating a resin substrate to a glass transition temperature (Tg) of -15°C or higher of the resin substrate, and a step of forming a polyvinyl alcohol-based resin layer on the resin substrate in this order. Includes.

일 실시예에 있어서는 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취(券取)된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출(券出)하여 상기 가열 공정을 행한다.In one embodiment, the above-described heating step is performed by unwinding the resin substrate from a resin substrate roll in which an elongated resin substrate is wound in a roll shape.

일 실시예에 있어서는 상기 권취된 상태로 보관한 후에 상기의 가열 공정을 행한다.In one embodiment, the heating step is performed after the storage in the wound state.

일 실시예에 있어서는 상기 권출하는 공정과 상기 가열 공정과 상기 폴리비닐알코올계 수지층 형성 공정을 연속하여 행한다.In one embodiment, the unwinding process, the heating process, and the polyvinyl alcohol-based resin layer forming process are successively performed.

일 실시예에 있어서는 상기 가열 공정을 상기 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)+15℃ 이하에서 행한다.In one embodiment, the heating step is performed at a glass transition temperature (Tg) of the resin substrate + 15°C or lower.

*일 실시예에 있어서는 상기 가열 공정을 가열로 내에 설치된 반송롤로 상기 수지 기재를 반송하면서 행한다.* In one embodiment, the heating step is carried out while conveying the resin substrate with a conveying roll installed in a heating furnace.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 포각(抱角)이 90°이상이다.In one embodiment, the shell angle of the conveying roll in the heating furnace is 90° or more.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 중심간 거리가 2m 이하이다.In one embodiment, the distance between the centers of the conveying rolls in the heating furnace is 2m or less.

일 실시예에 있어서는 상기 가열 공정을 텐터(tenter)로 상기 수지 기재를 반송하면서 행한다.In one embodiment, the heating step is performed while conveying the resin substrate with a tenter.

일 실시예에 있어서는 상기 가열에 의한 수지 기재의 수축률이 3% 이하이다.In one embodiment, the shrinkage of the resin substrate by the heating is 3% or less.

일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재가 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 형성되어 있다.In one embodiment, the resin substrate is formed of a polyethylene terephthalate-based resin.

일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재가 미리 연신되어 있다.In one embodiment, the resin substrate is stretched in advance.

일 실시예에 있어서는 상기 폴리비닐알코올계 수지층이 상기 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함한 도포액을 다이코팅법으로 도포하고 건조함으로써 형성된다.In one embodiment, the polyvinyl alcohol-based resin layer is formed by applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on the resin substrate by a die coating method and drying it.

본 발명의 다른 국면에 의하면 편광막의 제조 방법이 제공된다. 이 편광막의 제조 방법은 상기 제조 방법으로 얻어진 적층체를 이용한다.According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a polarizing film is provided. The manufacturing method of this polarizing film uses the laminated body obtained by the said manufacturing method.

일 실시예에 있어서는 상기 적층체를 연신하는 공정을 포함한다.In one embodiment, a process of stretching the laminate is included.

본 발명의 또 다른 국면에 의하면 편광판의 제조 방법이 제공된다. 이 편광판의 제조 방법은 상기 제조 방법으로 얻어진 편광막에 보호 필름을 적층하는 공정을 포함한다.According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a polarizing plate is provided. The manufacturing method of this polarizing plate includes a step of laminating a protective film on the polarizing film obtained by the above manufacturing method.

본 발명의 또 다른 국면에 의하면 연신 적층체가 제공된다. 이 연신 적층체는 수지 기재와 해당 수지 기재 상에 형성된 폴리비닐알코올계 수지층을 갖는다. 상기 폴리비닐알코올계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 막 두께 변동(irregularity)은 0.25㎛ 이하이고, 또한 상기 폴리비닐알코올계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 지상축 변동은 0.50°이하이다. According to another aspect of the present invention, a stretched laminate is provided. This stretched laminate has a resin substrate and a polyvinyl alcohol-based resin layer formed on the resin substrate. The film thickness irregularity within the size of 200 mm (MD) × 200 mm (TD) of the polyvinyl alcohol-based resin layer is 0.25 μm or less, and 200 mm (MD) × 200 mm (of the polyvinyl alcohol-based resin layer) ( The slow axis fluctuation within the size of TD) is 0.50° or less.

본 발명의 또 다른 국면에 의하면 적층체의 제조 장치가 제공된다.According to another aspect of the present invention, an apparatus for manufacturing a laminate is provided.

일 실시예에 있어서는 상기 제조 장치는 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 수단과, 상기 긴 형상의 수지 기재를 반송하는 반송롤을 구비하고 상기 수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 가열로와 가열된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 수단을 구비한다.In one embodiment, the manufacturing apparatus includes a unwinding means for unwinding the resin substrate from a resin substrate roll in which an elongated resin substrate is wound in a roll shape, and a conveying roll for conveying the elongated resin substrate. A heating furnace for heating the resin substrate to a glass transition temperature (Tg) -15°C or higher of the resin substrate, and a coating means for applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on the heated resin substrate.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내에 설치된 반송롤에서 상기 수지 기재를 반송하면서 가열한다.In one embodiment, the resin substrate is heated while being conveyed by a conveying roll installed in the heating furnace.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 포각이 90°이상이다.In one embodiment, the shell angle of the conveying roll in the heating furnace is 90° or more.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 중심간 거리가 2m이하이다.In one embodiment, the distance between the centers of the conveying rolls in the heating furnace is 2m or less.

일 실시예에 있어서는 상기 제조 장치는 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 수단과, 상기 긴 형상의 수지 기재의 양단부를 파지하여 반송하는 텐터를 구비하고, 상기 텐터의 클립으로 양단부를 파지된 상기 수지 기재에 대하여 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 가열 수단과 가열된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 수단을 구비한다.In one embodiment, the manufacturing apparatus includes a unwinding means for unwinding the resin substrate from a resin substrate roll in which an elongated resin substrate is wound in a roll shape, and a tenter for grasping and conveying both ends of the elongated resin substrate. And a heating means for heating the resin substrate held at both ends of the tenter to a glass transition temperature (Tg) -15°C or higher of the resin substrate and a polyvinyl alcohol-based resin on the heated resin substrate. And an application means for applying a coating liquid to be applied.

일 실시예에 있어서는 상기 텐터로 상기 수지 기재를 반송하면서 가열한다.In one embodiment, heating is performed while conveying the resin substrate with the tenter.

본 발명에 의하면 수지 기재에 소정의 온도 이상의 가열 처리를 실시함으로써 수지 기재의 표면 요철(예컨대, 수지 기재를 권취했을 때에 발생하는 게이지 밴드)을 완화(균일화)할 수 있다. 그 결과, 수지 기재 상에 두께의 균일성이 우수한 PVA계 수지층을 형성할 수 있다. 이러한 두께의 균일성이 우수한 PVA계 수지층에 각종 처리를 실시함으로써 성능(구체적으로는 막 두께, 광학 특성, 외관)에 변동이 발생하지 않고, 균일성이 매우 우수한 편광막(예컨대, 액정 텔레비전에 요구되는 품질을 충분히 만족하는)을 제조할 수 있다.According to the present invention, surface irregularities of the resin substrate (eg, a gauge band generated when the resin substrate is wound up) can be alleviated (uniformized) by subjecting the resin substrate to heat treatment at a predetermined temperature or higher. As a result, a PVA-based resin layer excellent in thickness uniformity can be formed on a resin substrate. By performing various treatments on the PVA-based resin layer having excellent uniformity in thickness, there is no fluctuation in performance (specifically, film thickness, optical properties, appearance), and a polarizing film having very excellent uniformity (for example, a liquid crystal television) That satisfies the required quality sufficiently) can be manufactured.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 적층체의 개략 단면도이다.
도 2에서 (a)및 (b)는 일 실시예에 의한 수지 기재의 가열 방법을 설명하는 개략도이다.
도 3은 다른 실시예에 의한 수지 기재의 가열 방법을 설명하는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일례를 도시하는 개략도이다.
도 5는 PVA계 수지층의 외관의 평가 방법을 설명하는 개략도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a laminate according to an embodiment of the present invention.
2, (a) and (b) are schematic diagrams illustrating a method of heating a resin substrate according to an embodiment.
3 is a schematic diagram illustrating a method of heating a resin substrate according to another embodiment.
4 is a schematic diagram showing an example of the present invention.
5 is a schematic diagram illustrating a method for evaluating the appearance of a PVA-based resin layer.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 관하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에는 한정되지 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

A. 적층체A. Laminate

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 적층체의 개략 단면도이다. 적층체(10)는 수지 기재(11) 상에 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층(12)을 형성함으로써 얻을 수 있다.1 is a schematic cross-sectional view of a laminate according to an embodiment of the present invention. The laminate 10 can be obtained by forming a polyvinyl alcohol (PVA)-based resin layer 12 on the resin substrate 11.

A-1. 수지 기재A-1. Resin base

상기 수지 기재는, 대표적으로는, 긴 형상으로 되어 있다. 수지 기재의 두께는 바람직하게는 20㎛∼300㎛, 더욱 바람직하게는 50㎛∼200㎛이다.Typically, the resin substrate has an elongated shape. The thickness of the resin substrate is preferably 20 µm to 300 µm, more preferably 50 µm to 200 µm.

수지 기재의 형성 재료로는 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용할 수 있다. 그 중에서도, 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 바람직하게 이용할 수 있다. 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지의 구체예로서는, 디카르복실산으로서 이소프탈산을 더욱 포함하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 더욱 포함하는 공중합체를 들 수 있다.Examples of the resin base material include ester resins such as polyethylene terephthalate resins, cycloolefin resins, olefin resins such as polypropylene, (meth)acrylic resins, polyamide resins, and polycarbonate resins. And copolymer resins of. Preferably, a polyethylene terephthalate-based resin can be used. Among them, an amorphous polyethylene terephthalate resin can be preferably used. Specific examples of the amorphous polyethylene terephthalate resin include a copolymer further containing isophthalic acid as a dicarboxylic acid, and a copolymer further containing cyclohexanedimethanol as a glycol.

수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 바람직하게는 170℃ 이하이다. 이러한 수지 기재를 이용함으로써 PVA계 수지의 결정화가 급속하게 진행되지 않는 온도에서의 적층체의 연신을 가능하게 하고, 해당 결정화에 의한 트러블(예컨대, 연신에 의한 PVA계 수지층의 배향을 방해)을 억제할 수 있다. 한편 수지 기재의 유리 전이 온도는 바람직하게는 60℃ 이상이다. 또한, 유리 전이 온도(Tg)는 JIS K 7121에 준하여 구할 수 있는 값이다.The glass transition temperature (Tg) of the resin substrate is preferably 170°C or less. By using such a resin substrate, it is possible to stretch the laminate at a temperature at which the crystallization of the PVA-based resin does not proceed rapidly, and troubles caused by the crystallization (e.g., obstructing the orientation of the PVA-based resin layer by stretching) are prevented. Can be suppressed. On the other hand, the glass transition temperature of the resin substrate is preferably 60°C or higher. In addition, the glass transition temperature (Tg) is a value which can be calculated|required according to JIS K 7121.

수지 기재는 임의의 적절한 방법으로 성형된다. 성형 방법으로서는 예컨대,용융 압출법, 용액 캐스트법(용액 유연법), 캘린더법, 압축 성형법 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 용융 압출법이 바람직하다.The resin substrate is molded by any suitable method. Examples of the molding method include a melt extrusion method, a solution casting method (solution casting method), a calender method, and a compression molding method. Among these, the melt extrusion method is preferable.

수지 기재 표면에는 표면 개질 처리(예컨대, 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 되고 역(易)접착층이 형성되어 있어도 된다. 이와 같은 처리에 의하면 수지 기재와 PVA계 수지층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 표면 개질 처리 및/또는 역접착층의 형성은 후술하는 가열 처리 전에 행해도 되고, 가열 처리 후에 행해도 된다. 또, 후술하는 연신을 행할 경우, 그 연신 전에 행해도 되고 연신 후에 행해도 된다.Surface modification treatment (eg, corona treatment, etc.) may be applied to the surface of the resin substrate, or an inverse adhesive layer may be formed. According to such a treatment, the adhesion between the resin substrate and the PVA-based resin layer can be improved. The surface modification treatment and/or formation of the adhesive layer may be performed before the heat treatment described later, or after the heat treatment. In addition, when stretching to be described later is performed, it may be performed before or after stretching.

일 실시예에 있어서는 후술하는 가열 처리 전에 수지 기재를 연신한다. 수지 기재의 연신 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는 고정단 연신이어도 되고 자유단 연신이어도 된다. 또 동시 이축 연신이어도 되고 순차 이축 연신이어도 된다. 수지 기재의 연신은 한 단계로 행해도 되고, 다단계로 행해도 된다. 다단계로 행하는 경우, 후술하는 수지 기재의 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다. 또 연신 방식은 특별히 한정되어 있지 않고 공중 연신 방식이어도 되고 수중 연신 방식이어도 된다.In one embodiment, the resin substrate is stretched before heat treatment described later. Any suitable method can be adopted as the stretching method of the resin substrate. Specifically, the fixed end stretching may be sufficient and the free end stretching may be sufficient. Moreover, simultaneous biaxial stretching may be sufficient and sequential biaxial stretching may be sufficient. The stretching of the resin substrate may be performed in one step or in multiple steps. In the case of performing in multiple steps, the draw ratio of the resin substrate described later is the product of the draw ratio of each step. Further, the stretching method is not particularly limited, and may be an air stretching system or an underwater stretching system.

수지 기재 연신 방향은 적절히 설정할 수 있다. 예컨대, 긴 형상의 수지 기재를 폭 방향으로 연신한다. 구체적으로는, 수지 기재를 길이 방향으로 반송하고, 그 반송 방향(MD)과 직교하는 방향(TD)으로 연신한다. 본 명세서에 있어서 “직교”란 실질적으로 직교하는 경우도 포함한다. 여기에서 “실질적으로 직교”란 90°±5.0°인 경우를 포함하고, 바람직하게는 90°±3.0°, 더 바람직하게는 90°±1.0°이다. 수지 기재를 폭 방향(TD)으로 연신함으로써 수지 기재를 유효하게 이용할 수 있다. 또, 수지 기재의 TD에 있어서의 두께를 균일하게 하고, 후술하는 부분적인 막 두께 변동을 억제할 수 있다.The stretching direction of the resin substrate can be appropriately set. For example, the elongated resin substrate is stretched in the width direction. Specifically, the resin substrate is conveyed in the longitudinal direction, and is stretched in a direction (TD) orthogonal to the conveying direction (MD). In this specification, "orthogonal" also includes a case where it is substantially orthogonal. Here, "substantially orthogonal" includes the case of 90°±5.0°, preferably 90°±3.0°, and more preferably 90°±1.0°. By stretching the resin substrate in the width direction (TD), the resin substrate can be effectively used. Further, the thickness of the resin substrate in the TD can be made uniform, and partial film thickness fluctuations described later can be suppressed.

수지 기재의 연신 온도는 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라서, 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 연신 온도는 대표적으로는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)에 대하여 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+80℃이다. 수지 기재의 형성 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용하는 경우, 연신 온도는 바람직하게는 70℃∼150℃ 더 바람직하게는 90℃∼130℃이다.The stretching temperature of the resin substrate can be set to any appropriate value depending on the material for forming the resin substrate, the stretching method, and the like. The stretching temperature is typically Tg-10°C to Tg+80°C with respect to the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate. When a polyethylene terephthalate-based resin is used as the material for forming the resin substrate, the stretching temperature is preferably 70°C to 150°C, more preferably 90°C to 130°C.

수지 기재의 연신 배율은 수지 기재의 원래의 길이에 대해서 바람직하게는 1.5배 이상이다. 이러한 범위로 함으로써 후술하는 부분적인 막 두께 변동을 양호하게 억제할 수 있다. 한편, 수지 기재의 연신 배율은 수지 기재의 원래의 길이에 대해서 바람직하게는 3.0배 이하이다. 이러한 범위로 함으로써 후술하는 가열 공정에 있어서 주름 발생을 양호하게 억제할 수 있다.The draw ratio of the resin substrate is preferably 1.5 times or more with respect to the original length of the resin substrate. By setting it as such a range, partial film thickness fluctuation mentioned later can be suppressed favorably. On the other hand, the draw ratio of the resin substrate is preferably 3.0 times or less with respect to the original length of the resin substrate. By setting it as such a range, occurrence of wrinkles can be satisfactorily suppressed in the heating process mentioned later.

A-2. 권취 및 보관A-2. Winding and storage

일 실시예에 있어서는 상기 긴 형상의 수지 기재를 롤 형상으로 권취한다. 수지 기재 성형 시에 부분적인 막 두께의 변동이 생겨서 이 상태로 권취하면 수지 기재에 요철이 생길 수 있다. 권취 장력은 대표적으로는 60N/m∼150N/m(단위:N/m은 단위 폭 길이 당 장력)이다. 권취한 수지 기재(수지 기재 롤)는 다음 공정에 쓰일 때까지 임의의 적절한 기간, 권취된 상태인 채로 보관(방치)할 수 있다. 예컨대, 수지 기재의 성형 후, 연속해서 상기 PVA계 수지층을 형성하지 않는(못할) 경우에 수지 기재는 권취된 상태로 보관된다. 이 보관 기간이 길어지면(예컨대, 3일 이상), 요철의 발생(요철의 정도, 요철의 발생 수)이 현저하게 되어 얻어지는 PVA계 수지층(적층체)에 막 두께 변동이 발생하는 경향이 있다. 그러므로, 수지 기재 롤의 보관 기간이 길수록 후술하는 가열 처리에 의한 효과를 현저하게 얻을 수 있다. 또한 수지 기재 롤은 임의의 적절한 분위기 하에 보관될 수 있다. 보관 온도는 예컨대, 15℃∼35℃이다. 상대 습도는 예컨대, 40%RH∼80%RH이다.In one embodiment, the elongated resin substrate is wound in a roll shape. When the resin substrate is molded, a partial variation in the film thickness may occur, and if the resin substrate is wound in this state, irregularities may occur in the resin substrate. The winding tension is typically 60N/m∼150N/m (unit: N/m is the tension per unit width and length). The wound resin substrate (resin substrate roll) can be stored (left) in a wound state for any suitable period until it is used in the next step. For example, after molding the resin substrate, in the case where the PVA-based resin layer is not continuously formed (cannot be), the resin substrate is stored in a wound state. When this storage period is prolonged (e.g., 3 days or more), the occurrence of irregularities (the degree of irregularities, the number of irregularities) becomes remarkable, and there is a tendency that the film thickness fluctuation occurs in the resulting PVA-based resin layer (laminate). . Therefore, the longer the storage period of the resin base roll, the more remarkably the effect of the heat treatment described later can be obtained. In addition, the resin-based roll can be stored under any suitable atmosphere. The storage temperature is, for example, 15°C to 35°C. Relative humidity is, for example, 40%RH to 80%RH.

A-3. 가열A-3. heating

상기 수지 기재를 가열한다. 구체적으로는, 열풍, 적외선 히터, 롤 히터 등에 의해 수지 기재를 가열한다. 가열 온도는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상이고 바람직하게는 Tg-10℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg-5℃ 이상이다. 수지 기재의 형성 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용하는 경우, 가열 온도는 바람직하게는 68℃ 이상이다. 이와 같은 온도로 수지 기재를 가열함으로써 수지 기재의 표면 요철을 완화(균일화)할 수 있다. 그 결과, 후술하는 PVA계 수지층을 양호하게 형성할 수 있고, 두께의 균일성이 우수한 PVA계 수지층을 형성할 수 있다. 한편, 가열 온도는 바람직하게는 (Tg)+15℃ 이하, 더욱 바람직하게는 Tg+10℃ 이하이다. 수지 기재의 형성 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용하는 경우, 가열 온도는 바람직하게는 80℃ 이하이다. 이 온도로 수지 기재를 가열함으로써 주름(열 주름)의 발생을 양호하게 억제할 수 있다.The resin substrate is heated. Specifically, the resin substrate is heated by hot air, an infrared heater, a roll heater, or the like. The heating temperature is the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate -15°C or higher, preferably Tg-10°C or higher, and more preferably Tg-5°C or higher. In the case of using a polyethylene terephthalate-based resin as the material for forming the resin substrate, the heating temperature is preferably 68°C or higher. By heating the resin substrate at such a temperature, it is possible to alleviate (uniform) the surface irregularities of the resin substrate. As a result, a PVA-based resin layer to be described later can be formed satisfactorily, and a PVA-based resin layer excellent in thickness uniformity can be formed. On the other hand, the heating temperature is preferably (Tg)+15°C or less, more preferably Tg+10°C or less. In the case of using a polyethylene terephthalate-based resin as the material for forming the resin substrate, the heating temperature is preferably 80°C or less. By heating the resin substrate at this temperature, the occurrence of wrinkles (heat wrinkles) can be satisfactorily suppressed.

가열 시간은 바람직하게는 70초∼150초, 더욱 바람직하게는 75초∼100초이다.The heating time is preferably 70 seconds to 150 seconds, more preferably 75 seconds to 100 seconds.

수지 기재는 가열에 의해 수축할 수 있다. 예컨대, 가열 전에 수지 기재를 폭 방향으로 연신한 경우, 가열에 의해 수지 기재는 폭 방향으로 수축(TD수축) 될 수 있다. 수지 기재의 수축률(TD수축률)은 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하, 특히 바람직하게는 1.5% 이하이다. 이러한 범위라면, 주름의 발생이 억제되어 우수한 외관을 얻을 수 있다. 또한 TD수축률은 하기 식으로 산출된다.The resin substrate can shrink by heating. For example, when the resin substrate is stretched in the width direction before heating, the resin substrate may shrink (TD shrink) in the width direction by heating. The shrinkage (TD shrinkage) of the resin substrate is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 1.5% or less. Within this range, occurrence of wrinkles is suppressed and an excellent appearance can be obtained. In addition, the TD contraction rate is calculated by the following equation.

TD수축율(%)={1-(가열 후의 수지 기재 폭(W1)/가열 전의 수지 기재 폭(W0))}×100TD shrinkage rate (%) = {1-(the width of the resin substrate after heating (W 1 )/the width of the resin substrate before heating (W 0 ))}×100

일 실시예에 있어서는 수지 기재를 반송하면서 가열한다. 상술한 바와 같이, 수지 기재를 롤 형상으로 권취했을 경우, 수지 기재 롤로부터 권출된 수지 기재에 가열 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 가열 방법으로서는 예컨대, 가열로 내에 설치된 반송롤로 수지 기재를 반송하는 방법, 텐터로 수지 기재를 반송하면서 가열하는 방법을 들 수 있다. 전자에 의하면 설비의 대형화를 억제할 수 있다. 후자에 의하면 주름의 발생을 매우 양호하게 억제할 수 있다.In one embodiment, the resin substrate is heated while being conveyed. As described above, when the resin substrate is wound in a roll shape, it is preferable to heat-treat the resin substrate unwound from the resin substrate roll. Examples of the heating method include a method of conveying a resin substrate with a conveying roll installed in a heating furnace, and a method of heating while conveying the resin substrate with a tenter. According to the former, the enlargement of equipment can be suppressed. According to the latter, the occurrence of wrinkles can be suppressed very well.

반송롤을 이용할 경우의 구체예를 도2(a) 및 도2(b)에 도시한다. 도시예에서는, 오븐로(A) 내에 설치된 프리롤(R2)∼(R5)에 의해 수지 기재(11)를 그 길이 방향으로 반송함으로써 수지 기재(11)를 가열하고 있다. 생산 속도의 관점에서 도시예와 같이 오븐로 내에 프리롤을 4개 이상 설치하는 것이 바람직하다.A specific example in the case of using a conveying roll is shown in Figs. 2(a) and 2(b). In the illustrated example, the resin substrate 11 is heated by conveying the resin substrate 11 in the longitudinal direction by the pre-rolls R2 to R5 provided in the oven A. From the viewpoint of production speed, it is preferable to install four or more pre-rolls in the oven as in the illustrated example.

오븐로 내의 프리롤의 포각은 바람직하게는 90°이상이다. 도 2(a)에 도시하는 예에서는 프리롤(R2 및 R5)의 포각θ를 90°로 하고, 프리롤(R3 및 R4)의 포각θ를 180°로 하고 있다. 도 2(b)에 도시하는 예에서는 프리롤(R2∼R5)의 포각θ를 90°로 하고 있다. 이러한 포각으로 함으로써 수지 기재의 수축이 억제되고 주름의 발생을 억제할 수 있다. 또한 포각이란, 프리롤을 축방향으로 수직인 단면으로 보았을 때의, 프리롤의 중심점과 수지 기재와 프리롤과의 접촉 개시점을 이은 직선과, 프리롤의 중심점과 수지 기재와 프리롤과의 접촉 종료점을 이은 직선이 이루는 각이다. 오븐로 내의 프리롤 간격(롤의 중심 간 거리)은 바람직하게는 2m 이하이다. 또한, 오븐로의 출입구를 걸치듯이 설치되는 2개의 프리롤 간격(도시예에서는 R1-R2사이, R5-R6사이)도 2m이하인 것이 바람직하다. 이러한 간격으로 함으로써 수지 기재의 수축이 억제되어 주름의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 본 실시예에 있어서 수지 기재의 수축은 상기 수지 기재의 연신 배율, 가열 온도 등에도 관련이 있을 수 있다.The shell angle of the pre-roll in the oven is preferably 90° or more. In the example shown in Fig. 2(a), the foam angle θ of the pre-rolls R2 and R5 is set to 90°, and the foam angle θ of the pre-rolls R3 and R4 is set to 180°. In the example shown in Fig. 2(b), the foam angle θ of the pre-rolls R2 to R5 is set to 90°. By setting it as such a shell, shrinkage of the resin substrate can be suppressed and the occurrence of wrinkles can be suppressed. In addition, the shell angle is a straight line connecting the center point of the pre-roll and the starting point of contact between the resin substrate and the pre-roll when viewed as a cross section perpendicular to the axial direction, and the center point of the pre-roll and the resin substrate and the pre-roll. It is the angle formed by the straight line connecting the contact end point. The pre-roll spacing (distance between the centers of the rolls) in the oven is preferably 2 m or less. In addition, it is preferable that the distance between two free rolls (between R1-R2 and between R5-R6 in the illustrated example) that is installed across the entrance to the oven is also 2m or less. By setting it as such an interval, shrinkage of the resin substrate can be suppressed and the occurrence of wrinkles can be suppressed. In addition, in this embodiment, the shrinkage of the resin substrate may be related to the stretching ratio, heating temperature, and the like of the resin substrate.

텐터를 사용할 경우의 구체예를 도 3에 도시한다. 도시예에서는 텐터의 좌우의 클립(21, 21)으로 수지 기재(11)의 양단부(반송 방향과 직교하는 선상에 있는)를 각각 파지하고, 그 길이 방향으로 소정의 속도로 가열 존을 반송시킴으로써 수지 기재(11)를 가열하고 있다. 반송 방향의 클립 간 거리(인접하는 클립단 끼리의 거리)는 바람직하게는 20mm 이하, 더욱 바람직하게는 10mm 이하이다. 클립 폭은 바람직하게는 20mm 이상, 더욱 바람직하게는 30mm 이상이다. 본 실시예에 있어서는 수지 기재의 TD수축은 예컨대, 좌우의 클립 간 거리를 조정함으로써 제어할 수 있다. 구체적으로는 좌우의 클립 간 거리를 변화시키지 않고 이동시킨 경우, TD수축률은 실질적으로 0%가 된다. 반대로 좌우의 클립 간 거리를 넓히는 것으로 수지 기재는 TD연신 될 수 있다. 수지 기재의 TD변화율은 바람직하게는 1.00배 이상, 더욱 바람직하게는 1.00배∼1.10배이다. 또한 TD변화율은 하기 식으로 산출된다.A specific example in the case of using a tenter is shown in FIG. 3. In the illustrated example, both ends of the resin substrate 11 (on a line orthogonal to the conveying direction) are held by the clips 21 and 21 on the left and right of the tenter, and the heating zone is conveyed at a predetermined speed in the longitudinal direction to convey the resin. The substrate 11 is heating. The distance between clips in the conveyance direction (the distance between adjacent clip ends) is preferably 20 mm or less, more preferably 10 mm or less. The clip width is preferably 20 mm or more, more preferably 30 mm or more. In this embodiment, the TD contraction of the resin substrate can be controlled by adjusting the distance between the left and right clips, for example. Specifically, when the distance between the left and right clips is moved without changing, the TD contraction rate becomes substantially 0%. Conversely, by increasing the distance between the left and right clips, the resin substrate can be TD stretched. The rate of change in TD of the resin substrate is preferably 1.00 times or more, more preferably 1.00 times to 1.10 times. In addition, the TD change rate is calculated by the following equation.

TD변화율(배)=가열 후의 수지 기재 폭(W1)/가열 전의 수지 기재 폭(W0)TD change rate (times) = width of resin substrate after heating (W 1 )/width of resin substrate before heating (W 0 )

A-4. PVA계 수지층의 형성A-4. Formation of PVA-based resin layer

상기 PVA계 수지층을 형성하는 PVA계 수지로서는 임의의 적절한 수지를 채용할 수 있다. 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리초산비닐을 감화함으로써 얻을 수 있다. 에틸렌비닐알코올 공중합체는 에틸렌초산비닐 공중합체를 감화함으로써 얻을 수 있다. PVA계 수지의 감화도는 통상 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.95몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%∼99.93몰%이다. 감화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이러한 감화도의 PVA계 수지를 이용함으로써 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 감화도가 지나치게 높은 경우에는 젤라틴화가 될 우려가 있다.Any suitable resin can be employed as the PVA-based resin for forming the PVA-based resin layer. For example, polyvinyl alcohol and an ethylene vinyl alcohol copolymer can be mentioned. Polyvinyl alcohol can be obtained by saponifying polyvinyl acetate. The ethylene vinyl alcohol copolymer can be obtained by saponifying the ethylene vinyl acetate copolymer. The degree of sensitivity of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.95 mol%, more preferably 99.0 mol% to 99.93 mol%. Sensitivity can be obtained according to JIS K 6726-1994. By using a PVA-based resin having such a sensitivity, a polarizing film excellent in durability can be obtained. If the sensitivity is too high, there is a risk of gelatinization.

PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 평균 중합도는 통상 1000∼10000이고 바람직하게는 1200∼4500, 더욱 바람직하게는 1500∼4300이다. 또한 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.The average degree of polymerization of the PVA-based resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually 1000 to 10000, preferably 1200 to 4500, more preferably 1500 to 4300. In addition, the average degree of polymerization can be obtained according to JIS K 6726-1994.

PVA계 수지층은 바람직하게는 수지 기재 상에 PVA계 수지를 포함한 도포액을 도포하고, 건조함으로써 형성된다. 도포액은 대표적으로는 상기 PVA계 수지를 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로는 예컨대, 물, 디메틸설폭시화물, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸프롤리톤, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 이종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이 중에서도 바람직하게는 물이다. 용액의 PVA계 수지 농도는 용매 100 중량부에 대해서 바람직하게는 3 중량부∼20 중량부이다. 이러한 수지 농도라면 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The PVA-based resin layer is preferably formed by applying a coating liquid containing a PVA-based resin on a resin substrate and drying it. The coating liquid is typically a solution obtained by dissolving the PVA-based resin in a solvent. As a solvent, for example, water, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylprolitone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, amines such as ethylenediamine and diethylenetriamine Can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, water is preferable. The concentration of the PVA resin in the solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, it is possible to form a uniform coating film in close contact with the resin substrate.

도포액에는 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 첨가제로는 예컨대, 가소제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 가소제로는, 예컨대, 에틸렌글리콜과 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면 활성제로는, 예컨대, 비이온 계면활성제를 들 수 있다. 이들은 얻어지는 PVA계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 더욱 더 향상시킬 목적으로 사용된다. 또 첨가제로는, 예컨대, 역접착 성분을 들 수 있다. 역접착 성분을 이용함으로써 수지 기재와 PVA계 수지층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 그 결과, 예컨대, 수지 기재에서 PVA계 수지층이 벗겨지는 등의 트러블을 억제하여 후술하는 염색, 수중 연신을 양호하게 실행할 수 있다. 역접착 성분으로서는, 예컨대, 아세토아세틸 변성PVA 등의 변성 PVA를 사용할 수 있다.The coating liquid may contain an additive. As an additive, a plasticizer, a surfactant, etc. are mentioned, for example. Examples of the plasticizer include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. As a surfactant, a nonionic surfactant is mentioned, for example. These are used for the purpose of further improving the uniformity, dyeing property, and stretchability of the obtained PVA-based resin layer. Moreover, as an additive, a fast adhesive component is mentioned, for example. By using the adhesive component, the adhesion between the resin substrate and the PVA-based resin layer can be improved. As a result, for example, troubles such as peeling of the PVA-based resin layer from the resin substrate can be suppressed, and dyeing and stretching in water described later can be satisfactorily performed. As the fast adhesion component, for example, a modified PVA such as acetoacetyl modified PVA can be used.

도포액의 도포 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예컨대, 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 와이어바 코팅법, 딥 코팅법, 다이 코팅법, 커튼 코팅법, 스프레이 코팅법, 나이프 코팅법(코마 코팅법 등) 등을 들 수 있다.Any suitable method can be adopted as a method of applying the coating liquid. For example, a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, a knife coating method (coma coating method, etc.) may be mentioned.

일 실시예에 있어서는 다이 코팅법이 채용된다. 다이 코팅법은 수지 기재와 다이(예컨대, 파운틴다이, 슬롯다이)의 간극을 일정하게 해서 도포액을 도포하므로, 두께의 균일성이 매우 우수한 도포막을 얻을 수 있다. 한편, 수지 기재에 요철이 발생하는 경우, 수지 기재―다이 립 간 거리가 균일하지 않아 균일한 도포막을 형성하기가 어려워진다. 그러므로 다이 코팅법을 채용하는 경우, 상기 가열 처리에 의한 효과를 현저하게 얻을 수 있다.In one embodiment, a die coating method is employed. In the die coating method, since the coating liquid is applied by making the gap between the resin substrate and the die (eg, fountain die, slot die) constant, a coating film having very excellent thickness uniformity can be obtained. On the other hand, when unevenness occurs in the resin substrate, the distance between the resin substrate and the die lip is not uniform, making it difficult to form a uniform coating film. Therefore, in the case of employing the die coating method, the effect of the heat treatment can be remarkably obtained.

상기 도포액을 건조 후의 PVA계 수지층의 두께가 바람직하게는 3㎛∼40㎛, 더욱 바람직하게는 3㎛∼20㎛가 되도록 도포한다. 상기 도포액의 도포·건조 온도는 바람직하게는 50℃ 이상이다.The coating solution is applied so that the thickness of the dried PVA-based resin layer is preferably 3 µm to 40 µm, more preferably 3 µm to 20 µm. The coating/drying temperature of the coating liquid is preferably 50°C or higher.

바람직하게는 상기 가열 후에 연속하여 PVA계 수지층을 형성한다. 예컨대, 가열 후에 수지 기재를 권취하지 않고 수지 기재에 PVA계 수지층을 형성한다. 상기 가열에 의한 효과를 잘 얻을 수 있기 때문이다. Preferably, after the heating, a PVA-based resin layer is continuously formed. For example, after heating, a PVA-based resin layer is formed on the resin substrate without winding up the resin substrate. This is because the effect of the heating can be obtained well.

또한 PVA계 수지층을 형성하기 전에 수지 기재의 PVA계 수지층을 형성하는 측으로 미리 초벌층(undercoat layer)(프라이머층)을 형성해도 된다. 프라이머층을 구성하는 재료로는 수지 기재와 PVA계 수지층의 양쪽에 어느 정도 강한 밀착력을 발휘하는 재료라면 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 투명성, 열 안정성, 연신성 등이 우수한 열 가소성 수지를 이용할 수 있다. 열 가소성 수지로는 예컨대, 아크릴 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐알코올계 수지 또는 그들의 혼합물을 들 수 있다.Further, before forming the PVA-based resin layer, an undercoat layer (primer layer) may be formed in advance on the side where the PVA-based resin layer of the resin substrate is formed. The material constituting the primer layer is not particularly limited as long as it is a material that exhibits some degree of strong adhesion to both the resin substrate and the PVA-based resin layer. For example, a thermoplastic resin excellent in transparency, thermal stability, stretchability, and the like can be used. Examples of the thermoplastic resin include acrylic resins, polyolefin resins, polyester resins, polyvinyl alcohol resins, or mixtures thereof.

A-5. 기타A-5. Other

일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재 롤로부터 수지 기재의 권출(권출 공정)과 수지 기재의 가열(가열 공정)과 PVA계 수지층의 형성(PVA계 수지층 형성 공정)을 연속하여 실시한다. 이와 같은 실시예에 따르면 상기 가열 처리에 의한 효과를 양호하게 얻을 수 있다. 본 실시예의 구체예로서는 도 4에 도시하는 바와 같이 긴 형상의 수지 기재를 반송하는 일련의 라인으로 권출하고, 가열 및 PVA계 수지층 형성 공정을 순차적으로 행하는 형태를 들 수 있다. 도 4에 도시하는 적층체 제조 장치(100)에는 수지 기재 롤(30)로부터 수지 기재(11)를 권출하는 권출 롤(40)과 수지 기재(11)를 가열하는 가열 장치(50)와 수지 기재(11)의 표면에 상기 PVA계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 장치(60)와, 도포된 도포액을 건조하는 건조 장치(70)와 적층체(10)를 권취하는 권취 롤(80)이 구비되어 있다. 이 밖에도 적층체 제조 장치(100)에는 복수의 반송롤(90)이 구비되어 있다.In one embodiment, unwinding of the resin substrate from the resin substrate roll (unwinding process), heating of the resin substrate (heating process), and formation of a PVA-based resin layer (PVA-based resin layer forming process) are successively performed. According to such an embodiment, the effect of the heat treatment can be obtained satisfactorily. As a specific example of this embodiment, as shown in FIG. 4, a form in which the elongated resin substrate is unwound in a series of lines for conveying, and heating and PVA-based resin layer formation steps are sequentially performed. In the laminate manufacturing apparatus 100 shown in FIG. 4, the unwinding roll 40 for unwinding the resin substrate 11 from the resin substrate roll 30, a heating device 50 for heating the resin substrate 11, and a resin. A coating device 60 for applying a coating liquid containing the PVA-based resin to the surface of the substrate 11, a drying device 70 for drying the applied coating liquid, and a winding roll for winding the laminate 10 ( 80) is provided. In addition, the laminate manufacturing apparatus 100 is provided with a plurality of conveying rolls 90.

B. 연신 적층체B. Stretched laminate

본 발명의 연신 적층체는 상기 적층체를 연신함으로써 제작된다. 일 실시예에 있어서는 연신 적층체는 상기 적층체를 공중 연신 방식으로 연신 배율 1.5배 이상 3.0배 이하로 연신함으로써 제작된다. 적층체의 연신 방법의 상세함에 대해서는 후술하는 바와 같다. 연신 적층체에 있어서 PVA계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 막 두께 변동은 바람직하게는 0.25㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.20㎛ 이하이다. 연신 적층체에 있어서 PVA계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 지상축 변동은 바람직하게는 0.50°이하, 더욱 바람직하게는 0.30°이하, 특히 바람직하게는 0.25°이하이다.The stretched laminate of the present invention is produced by stretching the laminate. In one embodiment, the stretched laminate is produced by stretching the laminate at a draw ratio of 1.5 times or more and 3.0 times or less in an aerial stretching method. Details of the stretching method of the laminate are as described later. In the stretched laminate, the variation in the film thickness within the size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD) of the PVA-based resin layer is preferably 0.25 µm or less, more preferably 0.20 µm or less. In the stretched laminate, the variation of the slow axis within the size of 200 mm (MD) × 200 mm (TD) of the PVA-based resin layer is preferably 0.50° or less, more preferably 0.30° or less, particularly preferably 0.25° or less. to be.

C. 편광막C. Polarizing film

본 발명의 편광막은 상기 적층체의 PVA계 수지층을 편광막으로 하기 위한 처리를 실시함으로써 제작된다.The polarizing film of the present invention is produced by subjecting the PVA-based resin layer of the laminate to a polarizing film.

상기 편광막으로 하기 위한 처리로는 예컨대, 염색 처리, 연신 처리, 불용화 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리를 들 수 있다. 이 처리들은 목적에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 또 처리 순서, 처리 시기, 처리 횟수 등을 적절하게 설정할 수 있다. 이하, 각각의 처리에 대해서 설명한다.The treatment for forming the polarizing film includes, for example, dyeing treatment, stretching treatment, insolubilization treatment, crosslinking treatment, washing treatment, and drying treatment. These treatments can be appropriately selected according to the purpose. In addition, the processing order, processing timing, processing number, and the like can be appropriately set. Hereinafter, each process is demonstrated.

(염색 처리)(Dye treatment)

상기 염색 처리는 대표적으로는 PVA계 수지층을 이색성 물질로 염색함으로써 행한다. 바람직하게는 PVA계 수지층에 이색성 물질을 흡착시킴으로써 행한다. 해당 흡착 방법으로서는 예컨대, 이색성 물질을 포함한 염색액에 PVA계 수지층(적층체)을 침지시키는 방법, PVA계 수지층에 해당 염색액을 도공하는 방법, 해당 염색액을 PVA계 수지층에 분무하는 방법 등을 들 수 있다. 바람직하게는 염색액에 적층체를 침지시키는 방법이다. 이색성 물질을 양호하게 흡착할 수 있기 때문이다.The dyeing treatment is typically performed by dyeing the PVA-based resin layer with a dichroic material. Preferably, it is carried out by adsorbing a dichroic substance to the PVA-based resin layer. Examples of the adsorption method include a method of immersing a PVA-based resin layer (laminate) in a dye containing a dichroic substance, a method of applying the dye to a PVA-based resin layer, and spraying the dye to the PVA-based resin layer. And how to do it. Preferably, it is a method of immersing the laminate in a dyeing solution. This is because the dichroic substance can be satisfactorily adsorbed.

상기 이색성 물질로는 예컨대, 요오드, 유기 염료를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 두 종류 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이색성 물질은 바람직하게는 요오드이다. 이색성 물질로 요오드를 사용하는 경우, 상기 염색액은 바람직하게는, 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 0.05 중량부∼5.0 중량부이다. 요오드의 물에 대한 용해도를 높이기 위해 요오드 수용액에 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물로는 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄 등을 들 수 있다. 이 중에서도 바람직하게는 요오드화칼륨이다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 0.3 중량부∼15 중량부이다.Examples of the dichroic material include iodine and organic dyes. These may be used alone or in combination of two or more. The dichroic material is preferably iodine. When iodine is used as the dichroic substance, the dyeing solution is preferably an aqueous iodine solution. The blending amount of iodine is preferably 0.05 parts by weight to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of water. In order to increase the solubility of iodine in water, it is preferable to blend iodide in an aqueous solution of iodine. Examples of iodide include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, titanium iodide, and the like. Among these, potassium iodide is preferred. The blending amount of iodide is preferably 0.3 parts by weight to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of water.

염색액의 염색 시 액체의 온도는 바람직하게는 20℃∼40℃이다. 염색액에 PVA계 수지층을 침지시킬 경우 침지 시간은 바람직하게는 10초∼300초이다. 이와 같은 조건이라면 PVA계 수지층에 충분히 이색성 물질을 흡착시킬 수 있다. 또 염색 조건(농도, 액체 온도, 침지 시간)은 최종적으로 얻을 수 있는 편광막의 편광도 혹은 단체 투과율이 소정의 범위가 되도록 설정할 수 있다. 일 실시예에 있어서는 얻을 수 있는 편광막의 편광도가 99.98% 이상이 되도록 침지 시간을 설정한다. 다른 실시예에서는 얻을 수 있는 편광막의 단체 투과율이 40%정도가 되도록 침지 시간을 설정한다.When dyeing the dyeing solution, the temperature of the liquid is preferably 20°C to 40°C. When the PVA-based resin layer is immersed in the dyeing solution, the immersion time is preferably 10 seconds to 300 seconds. Under such conditions, the dichroic material can be sufficiently adsorbed to the PVA-based resin layer. Moreover, dyeing conditions (concentration, liquid temperature, immersion time) can be set so that the polarization degree or single transmittance of the polarizing film which can be finally obtained becomes a predetermined range. In one embodiment, the immersion time is set so that the polarization degree of the obtained polarizing film is 99.98% or more. In another embodiment, the immersion time is set so that the single transmittance of the polarizing film that can be obtained is about 40%.

(연신 처리)(Stretching treatment)

적층체 연신 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는 고정단 연신(예컨대, 텐터 연신기를 이용하는 방법)이어도 되고 자유단 연신(예컨대, 주속이 상이한 롤 간에 적층체를 통해서 일축 연신하는 방법)이어도 된다. 또 동시 이축 연신(예컨대, 동시 이축 연신기를 이용하는 방법)이어도 되고 순차적으로 이축 연신이어도 된다. 적층체의 연신은 한 단계로 행해도 되고, 다단계로 행해도 된다. 다단계로 행하는 경우 후술하는 적층체의 연신 배율(최대 연신 배율)은 각 단계의 연신 배율의 곱이다.Any suitable method can be adopted as the layered product stretching method. Specifically, it may be a fixed end stretching (for example, a method using a tenter stretching machine) or a free end stretching (for example, a method of uniaxial stretching between rolls having different circumferential speeds through a laminate). Moreover, simultaneous biaxial stretching (for example, a method using a simultaneous biaxial stretching machine) may be sufficient, or sequential biaxial stretching may be sufficient. The stretching of the laminate may be performed in one step or in multiple steps. In the case of performing in multiple steps, the draw ratio (maximum draw ratio) of the laminate to be described later is the product of the draw ratio at each step.

연신 처리는 적층체를 연신욕에 침지시키면서 행하는 수중 연신 방식이어도 된고 공중 연신 방식이어도 된다. 바람직하게는 수중 연신 처리를 적어도 1회 실시하고, 더욱 바람직하게는 수중 연신 처리와 공중 연신 처리를 조합한다. 수중 연신에 의하면 상기 수지 기재나 PVA계 수지층의 유리 전이 온도(대표적으로는 80℃ 정도)보다 낮은 온도로 연신할 수 있고, PVA계 수지층을 그 결정화를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성(예컨대, 편광도)을 가진 편광막을 제조할 수 있다.The stretching treatment may be an underwater stretching method performed while the laminate is immersed in a stretching bath, or an air stretching method may be used. Preferably, the underwater stretching treatment is performed at least once, and more preferably, the underwater stretching treatment and the aerial stretching treatment are combined. According to the underwater stretching, the resin substrate or the PVA-based resin layer can be stretched at a temperature lower than the glass transition temperature (typically about 80° C.), and the PVA-based resin layer can be stretched at a high magnification while suppressing its crystallization. As a result, a polarizing film having excellent optical properties (eg, degree of polarization) can be manufactured.

적층체 연신 방향으로는 임의의 적절한 방향을 선택할 수 있다. 일 실시예에 있어서는 긴 형상의 적층체의 길이 방향으로 연신한다. 구체적으로는 적층체를 길이 방향으로 반송하고 그 반송 방향(MD)이다. 다른 실시예에서는 긴 형상의 적층체의 폭 방향으로 연신한다. 구체적으로는 적층체를 길이 방향으로 반송하고 그 반송 방향(MD)과 직교하는 방향(TD)이다.Any suitable direction can be selected as the stretching direction of the laminate. In one embodiment, the elongated laminate is stretched in the longitudinal direction. Specifically, the laminate is conveyed in the longitudinal direction, and it is the conveying direction (MD). In another embodiment, the elongated laminate is stretched in the width direction. Specifically, it is the direction (TD) which conveys a laminated body in the longitudinal direction and is orthogonal to the conveyance direction (MD).

적층체의 연신 온도는 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라서, 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 공중 연신 방식을 채용할 경우, 연신 온도는 바람직하게는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg) 이상이고, 더욱 바람직하게는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)+10℃ 이상, 특히 바람직하게는 Tg+15℃ 이상이다. 한편 적층체의 연신 온도는 바람직하게는 170℃ 이하이다. 이와 같은 온도로 연신함으로써 PVA계 수지의 결정화가 급속하게 진행되는 것을 억제하여 해당 결정화에 의한 트러블(예컨대, 연신에 따른 PVA계 수지층의 배향을 방해)을 억제할 수 있다.The stretching temperature of the laminate can be set to any appropriate value depending on the material for forming the resin substrate, the stretching method, and the like. When the aerial stretching method is employed, the stretching temperature is preferably at least the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate, more preferably the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate (Tg) + 10°C or higher, particularly preferably Tg+ It is more than 15℃. On the other hand, the stretching temperature of the laminate is preferably 170°C or less. By stretching at such a temperature, it is possible to suppress rapid progress of crystallization of the PVA-based resin, thereby suppressing troubles caused by the crystallization (for example, disturbing the orientation of the PVA-based resin layer due to stretching).

연신 방식으로서 수중 연신 방식을 채용할 경우, 연신욕의 액체 온도는 바람직하게는 40℃∼85℃ 더욱 바람직하게는 50℃∼85℃이다. 이와 같은 온도라면 PVA계 수지층의 용해를 억제하면서 높은 배율로 연신할 수 있다. 구체적으로는 상술한 바와 같이 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 PVA계 수지층의 형성과의 관계에서 바람직하게는 60℃ 이상이다. 이 경우 연신 온도가 40℃를 하회하면 물에 의한 수지 기재의 가소화를 고려하여도 양호하게 연신할 수 없을 우려가 있다. 한편 연신욕의 온도가 고온이 될수록 PVA계 수지층의 용해성이 높아져 우수한 광학 특성을 얻을 수 없을 우려가 있다.When an underwater stretching system is employed as the stretching system, the liquid temperature of the stretching bath is preferably 40°C to 85°C, more preferably 50°C to 85°C. At such a temperature, stretching can be performed at a high magnification while suppressing dissolution of the PVA-based resin layer. Specifically, as described above, the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate is preferably 60°C or higher in relation to the formation of the PVA-based resin layer. In this case, if the stretching temperature is less than 40° C., there is a fear that the stretching may not be satisfactory even in consideration of plasticization of the resin substrate by water. On the other hand, as the temperature of the stretching bath increases, the solubility of the PVA-based resin layer increases, and there is a fear that excellent optical properties cannot be obtained.

수중 연신 방식을 채용할 경우 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것이 바람직하다(붕산 수중 연신). 연신욕으로서 붕산 수용액을 사용함으로써 PVA계 수지층에, 연신 시에 필요한 장력을 견디는 강성과, 물에 용해되지 않는 내수성을 부여할 수 있다. 구체적으로는 붕산은 수용액 중에서 테트라하이드록시붕산 음이온을 생성하여 PVA계 수지와 수소 결합에 의해 가교할 수 있다. 그 결과 PVA계 수지층에 강성과 내수성을 부여하여 양호하게 연신할 수 있어서 우수한 광학 특성을 가진 편광막을 제작할 수 있다.In the case of employing the underwater stretching method, it is preferable to immerse the laminate in an aqueous boric acid solution to stretch (stretching in boric acid in water). By using the aqueous boric acid solution as the stretching bath, the PVA-based resin layer can be imparted to the PVA-based resin layer with rigidity to withstand the tension required at the time of stretching, and water resistance that is not dissolved in water. Specifically, a tetrahydroxyborate anion can be generated in an aqueous silver boric acid solution and crosslinked by hydrogen bonding with a PVA-based resin. As a result, rigidity and water resistance are imparted to the PVA-based resin layer, so that it can be stretched satisfactorily, thereby producing a polarizing film having excellent optical properties.

상기 붕산 수용액은 바람직하게는 용매인 물에 붕산 및/또는 붕산염을 용해시킴으로써 얻을 수 있다. 붕산 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼10 중량부이다. 붕산 농도를 1 중량부 이상으로 함으로써, PVA계 수지층의 용해를 효과적으로 억제할 수 있어 보다 높은 특성을 가진 편광막을 제작할 수 있다. 또한 붕산 또는 붕산염 외에도 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르알데히드 등을 용매에 용해하여 얻어진 수용액도 사용할 수 있다.The aqueous boric acid solution can be obtained by dissolving boric acid and/or boric acid salt in water, which is preferably a solvent. The boric acid concentration is preferably 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of water. When the boric acid concentration is 1 part by weight or more, dissolution of the PVA-based resin layer can be effectively suppressed, and a polarizing film having higher characteristics can be produced. In addition to boric acid or boric acid salt, an aqueous solution obtained by dissolving boron compounds such as borax, glyoxal, glutaraldehyde, and the like in a solvent may also be used.

바람직하게는 상기 연신욕(붕산 수용액)에 요오드화물을 배합한다. 요오드화물을 배합함으로써 PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 구체예는, 상술한 바와 같다. 요오드화물의 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 0.05 중량부∼15 중량부 더욱 바람직하게는 0.5 중량부∼8 중량부이다.Preferably, iodide is blended in the stretching bath (aqueous boric acid solution). By blending iodide, elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. Specific examples of the iodide are as described above. The concentration of iodide is preferably 0.05 parts by weight to 15 parts by weight and more preferably 0.5 parts by weight to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of water.

적층체의 연신욕으로의 침지 시간은 바람직하게는 15초∼5분이다.The immersion time of the layered product in the stretching bath is preferably 15 seconds to 5 minutes.

적층체의 연신률(최대 연신 배율)은 적층체의 원래의 길이에 대해서 대표적으로는 4.0배 이상 바람직하게는 5.0배 이상이다. 이와 같은 높은 연신 배율은, 예컨대,수중 연신 방식(붕산 수중 연신)을 채용함으로써 달성할 수 있다. 또한 본 명세서에서 “최대 연신 배율“이란 적층체가 파단하기 직전의 연신 배율을 의미하며 별도 적층체가 파단하는 연신 배율을 확인하고 그 값보다 0.2 작은 값을 말한다.The elongation rate (maximum draw ratio) of the laminate is typically 4.0 times or more and preferably 5.0 times or more with respect to the original length of the laminate. Such a high draw ratio can be achieved, for example, by employing an underwater stretching method (boric acid underwater stretching). In addition, in the present specification, the "maximum draw ratio" means a draw ratio just before the laminate is broken, and refers to a value that is 0.2 less than the value after confirming the draw ratio at which the separate laminate breaks.

바람직하게는 수중 연신 처리는 염색 처리 후에 실시한다.Preferably, the underwater stretching treatment is performed after the dyeing treatment.

(불용화 처리)(Insolubilization treatment)

상기 불용화 처리는 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 특히 수중 연신 방식을 채용하는 경우, 불용화 처리를 실시함으로써 PVA계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 해당 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼4 중량부이다. 불용화욕(붕산 수용액)의 액체 온도는 바람직하게는 20℃∼50℃이다. 바람직하게는 불용화 처리는 적층체 제작 후, 염색 처리나 수중 연신 처리 전에 실시한다.The insolubilization treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous boric acid solution. In particular, in the case of employing an underwater stretching method, water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer by performing an insolubilization treatment. The concentration of the aqueous boric acid solution is preferably 1 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. The liquid temperature of the insolubilization bath (aqueous boric acid solution) is preferably 20°C to 50°C. Preferably, the insolubilization treatment is performed after fabrication of the laminate and before dyeing treatment or underwater stretching treatment.

(가교 처리)(Crosslinking processing)

상기 가교 처리는 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 가교 처리를 실시함으로써 PVA계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 해당 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼4 중량부이다. 또, 상기 염색 처리 후에 가교 처리를 하는 경우, 요오드화물을 배합하는 것이 더욱 바람직하다. 요오드화물을 배합함으로써 PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼5 중량부이다. 요오드화물의 구체예는 상술한 바와 같다. 가교욕(붕산 수용액)의 액체 온도는 바람직하게는 20℃∼50℃이다. 바람직하게는 가교 처리는 수중 연신 처리 전에 실시한다. 바람직한 실시예에서는 염색 처리, 가교 처리 및 수중 연신 처리를 이 순서대로 진행한다.The crosslinking treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous boric acid solution. Water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer by performing crosslinking treatment. The concentration of the aqueous boric acid solution is preferably 1 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. Further, when crosslinking treatment is performed after the dyeing treatment, it is more preferable to blend iodide. By blending iodide, elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. The blending amount of iodide is preferably 1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of water. Specific examples of the iodide are as described above. The liquid temperature of the crosslinking bath (aqueous boric acid solution) is preferably 20°C to 50°C. Preferably, the crosslinking treatment is carried out before the underwater stretching treatment. In a preferred embodiment, dyeing treatment, crosslinking treatment and underwater stretching treatment are performed in this order.

(세정 처리)(Cleaning treatment)

상기 세정 처리는 대표적으로는 요오드화 칼륨 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다.The washing treatment is typically performed by immersing a PVA-based resin layer in an aqueous potassium iodide solution.

(건조 처리)(Dry processing)

건조 처리에서의 건조 온도는 바람직하게는 30℃∼100℃이다.The drying temperature in the drying treatment is preferably 30°C to 100°C.

얻어진 편광막은 실질적으로는 이색성 물질이 흡착 배향된 PVA계 수지막이다. 편광막의 두께는 바람직하게는 15㎛ 이하, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 7㎛ 이하, 특히 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 이러한 편광막은 환경 시험(예컨대, 80℃ 환경 시험)에서 크랙 등의 발생을 억제할 수 있다. 한편, 편광막의 두께는 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상이다. 이러한 편광막은 제조시 등에서 반송성이 매우 우수할 수 있다.The obtained polarizing film is substantially a PVA-based resin film in which a dichroic substance is adsorbed and oriented. The thickness of the polarizing film is preferably 15 µm or less, more preferably 10 µm or less, still more preferably 7 µm or less, and particularly preferably 5 µm or less. Such a polarizing film can suppress the occurrence of cracks and the like in an environmental test (eg, 80° C. environmental test). On the other hand, the thickness of the polarizing film is preferably 0.5 µm or more, more preferably 1.0 µm or more. Such a polarizing film may be very excellent in transportability at the time of manufacture or the like.

편광막은 바람직하게는 파장 380nm∼780nm 중의 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광막은 단체 투과율 42% 이상에서 편광도가 99.9% 이상인 것이 바람직하다.The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at a wavelength of 380 nm to 780 nm. It is preferable that the polarization film has a polarization degree of 99.9% or more at a single transmittance of 42% or more.

D. 편광판 D. Polarizer

본 발명의 편광판은 상기 편광막을 가진다. 바람직하게는 편광판은 상기 편광막과 이 편광막의 적어도 한편에 배치된 보호 필름을 가진다. 이 보호 필름으로서는 상기 수지 기재를 그대로 사용하여도 되고 상기 수지 기재와는 별도의 필름을 사용해도 된다. 보호 필름의 형성 재료로는 예컨대, (메타)아크릴 수지, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 보호 필름의 두께는 바람직하게는 10㎛∼100㎛이다.The polarizing plate of the present invention has the polarizing film. Preferably, the polarizing plate has the polarizing film and a protective film disposed on at least one side of the polarizing film. As this protective film, the said resin base material may be used as it is, and a film different from the said resin base material may be used. Examples of the material for forming the protective film include cellulose resins such as (meth)acrylic resin, diacetyl cellulose, and triacetyl cellulose, cycloolefin resins, olefin resins such as polypropylene, and esters such as polyethylene terephthalate resins. Resins, polyamide resins, polycarbonate resins, and copolymer resins thereof. The thickness of the protective film is preferably 10 µm to 100 µm.

상술한 바와 같이 일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재는 편광막으로부터 박리되지 않고 보호 필름으로 그대로 사용할 수 있다. 다른 실시예에서는 편광막으로부터 상기 수지 기재가 박리되고 다른 필름을 적층한다. 보호 필름은 편광막에 접착층을 통해 적층해도 되고 밀착시켜(접착층을 통하지 않고) 적층해도 된다. 접착층은 대표적으로는 접착제 또는 점착제로 형성된다. 본 발명에 의하면, 두께의 균일성이 매우 우수한 편광막을 얻을 수 있으므로, 편광막으로의 보호 필름의 적층을 양호하게 행할 수 있다.As described above, in one embodiment, the resin substrate may be used as a protective film without being peeled off from the polarizing film. In another embodiment, the resin substrate is peeled from the polarizing film and another film is laminated. The protective film may be laminated to the polarizing film through an adhesive layer, or may be laminated in close contact (without passing through an adhesive layer). The adhesive layer is typically formed of an adhesive or pressure-sensitive adhesive. According to the present invention, since a polarizing film having very excellent thickness uniformity can be obtained, lamination of the protective film to the polarizing film can be performed satisfactorily.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해서 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이 실시예들로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1-1][Example 1-1]

(적층체의 제작)(Manufacturing of laminate)

흡수율 0.75%, 유리 전이 온도(Tg) 75℃의 비정질의 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA공중합 PET)로 구성되고 미리 115℃에서 2.0배로 TD연신된 긴 형상이고 두께 100㎛의 수지 기재를 장력 100N/m로 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로 하여 권취된 상태에서 25℃, 상대 습도 60% RH환경 하에 30일간 보관했다.It is composed of amorphous isophthalic acid copolymerized polyethylene terephthalate (IPA copolymerized PET) having an absorption rate of 0.75% and a glass transition temperature (Tg) of 75°C, and TD stretched 2.0 times at 115°C in advance. It was stored for 30 days in an environment of 25°C and a relative humidity of 60% RH in a wound state as a resin base roll wound in a roll shape at /m.

그 후 수지 기재 롤부터 수지 기재를 권출하고, 수지 기재를 반송시키면서 70℃에서 60초간 열 처리를 실시하였다.Thereafter, the resin substrate was unwound from the resin substrate roll, and heat treatment was performed at 70° C. for 60 seconds while conveying the resin substrate.

이어서, 수지 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하였다. 이 코로나 처리 면에 폴리비닐알코올(중합도 4200, 감화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸변성PVA(중합도 1200, 아세토아세틸 변성도 4.6%, 감화도 99.0몰%이상, 일본 합성 화학 공업사 제품, 제품명“고세파이머 Z200(GOHSEFIMER Z200)”을 9:1의 비율로 포함하는 수용액을 25℃에서 다이 코팅법으로 도포한 후에 60℃에서 200초 동안 건조하여 두께 10㎛의 PVA계 수지층을 형성하여 적층체를 제작했다.Next, corona treatment was performed on one side of the resin substrate. Polyvinyl alcohol (polymerization degree 4200, sensitivity 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (polymerization degree 1200, acetoacetyl modification degree 4.6%, sensitivity 99.0 mol% or more, manufactured by Japanese Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) An aqueous solution containing “GOHSEFIMER Z200” in a ratio of 9:1 was applied by die coating at 25℃ and dried at 60℃ for 200 seconds to form a PVA-based resin layer with a thickness of 10㎛. Was produced.

(편광막의 제작)(Production of the polarizing film)

얻어진 적층체를 115℃의 오븐 내에서 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 길이 방향으로 2.0배로 자유단 일축 연신했다(공중 연신).The obtained laminate was uniaxially stretched at a free end 2.0 times in the longitudinal direction between rolls having different circumferential speeds in an oven at 115°C (air stretching).

이어서 적층체를 액체 온도 30℃의 불용화욕(물 100중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed for 30 seconds in an insolubilization bath having a liquid temperature of 30°C (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서 액체 온도 30℃의 염색욕(물에 요오드와 요오드화 칼륨을 중량비 1:7로 배합해서 얻어진 요오드 수용액)에 얻어지는 편광막의 단체 투과율(Ts)이 40%이하가 되도록 요오드 농도, 침지 시간을 조정하면서 침지시켰다(염색 처리).Then, while adjusting the iodine concentration and immersion time so that the single transmittance (Ts) of the polarizing film obtained in a dyeing bath at a liquid temperature of 30°C (an iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide in water at a weight ratio of 1:7) is 40% or less. It was immersed (dyeing treatment).

이어서 액체 온도 30℃의 가교욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 3 중량부, 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Subsequently, it was immersed for 30 seconds in a crosslinking bath having a liquid temperature of 30°C (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 3 parts by weight of boric acid) for 100 parts by weight of water (crosslinking treatment).

그 후 적층체를 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(물 100 중량부에 대해서 붕산을 4 중량부, 요오드화 칼륨을 5 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시키면서 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 길이 방향으로 2.7배로 일축 연신을 행했다(수중 연신).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid at a liquid temperature of 70°C (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid and 5 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water), and 2.7 in the longitudinal direction between the rolls having different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed by double (underwater stretching).

그 후 적층체를 액체 온도 30℃의 세정욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 4 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 10초간 침지시킨 후, 60℃의 온풍으로 60초 동안 건조시켰다(세정, 건조 공정).Thereafter, the laminate was immersed for 10 seconds in a washing bath having a liquid temperature of 30°C (aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water), and then dried for 60 seconds with a warm air at 60°C (washing, Drying process).

이렇게 해서 수지 기재 상에 두께 5㎛의 편광막을 형성했다.In this way, a 5 µm-thick polarizing film was formed on the resin substrate.

[실시예 1-2][Example 1-2]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 75℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 75°C.

[실시예 1-3][Example 1-3]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 80℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 80°C.

[실시예 1-4][Example 1-4]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 90℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 90°C.

[실시예 1-5][Example 1-5]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 100℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 100°C.

[실시예 2-1][Example 2-1]

(적층체의 제작) (Manufacturing of laminate)

실시예 1-1과 동일하게 하여 적층체를 제작했다.A laminate was produced in the same manner as in Example 1-1.

(편광막의 형성)(Formation of a polarizing film)

얻어진 적층체를 115℃의 가열 하에서 텐터 연신기를 이용하여 자유단 일축 연신하여 폭 방향으로 4.0배로 연신했다(연신 처리).The obtained laminate was uniaxially stretched at the free end using a tenter stretching machine under heating at 115°C, and stretched in the width direction by 4.0 times (stretching treatment).

이어서 적층체를 액체 온도 30℃의 불용화욕(물 100 중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Subsequently, the laminate was immersed for 30 seconds in an insolubilization bath having a liquid temperature of 30°C (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서 액체 온도 30℃의 염색욕(물에 요오드와 요오드화 칼륨을 중량비 1:7로 배합해서 얻어진 요오드 수용액)에 얻어지는 편광막의 단체 투과율(單體透過率)(Ts)이 40% 이하가 되도록 요오드 농도, 침지 시간을 조정하면서 침지시켰다(염색 처리).Next, the iodine concentration so that the single transmittance (Ts) of the polarizing film obtained in a dyeing bath at a liquid temperature of 30°C (an iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide in water at a weight ratio of 1:7) is 40% or less. , It was immersed while adjusting the immersion time (dyeing treatment).

이어서 액체 온도 30℃의 가교욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 3 중량부, 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Subsequently, it was immersed for 30 seconds in a crosslinking bath having a liquid temperature of 30°C (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 3 parts by weight of boric acid) for 100 parts by weight of water (crosslinking treatment).

그 후 적층체를 액체 온도 30℃의 세정욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 4 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 10초간 침지시킨 후 60℃의 온풍으로 60초 동안 건조시켰다(세정, 건조 공정).Thereafter, the laminate was immersed for 10 seconds in a washing bath having a liquid temperature of 30°C (aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) and then dried for 60 seconds with a warm air at 60°C (washing, drying fair).

이와 같이 하여 수지 기재 상에 두께 2.5㎛의 편광막을 형성했다.In this way, a 2.5 µm-thick polarizing film was formed on the resin substrate.

[실시예 2-2][Example 2-2]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 75℃로 한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 75°C.

[실시예 2-3][Example 2-3]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 100℃로 한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 100°C.

[비교예 1-1][Comparative Example 1-1]

적층체의 제작에 있어서 열 처리를 실시하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that heat treatment was not performed in the production of the laminate.

[비교예 1-2][Comparative Example 1-2]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 50℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 50°C.

[비교예 1-3][Comparative Example 1-3]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 55℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 55°C.

[비교적 2-1][Comparative 2-1]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 55℃로 한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.In the production of the laminate, a polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the temperature of the heat treatment was set to 55°C.

(평가)(evaluation)

각 실시예 및 비교예에 대해서 이하의 평가를 실시하였다.The following evaluation was performed about each Example and a comparative example.

1. 막 두께 변동1. Film thickness fluctuation

(I) 폴리비닐알코올 수용액을 도포하고 건조시킨 후(연신 전) 및 (II) 공중 연신 후의 PVA계 수지층의 막 두께를 오오츠카 전자 제품인 “MCPD3000”을 이용하여 측정했다. 결점부를 포함한 부분(원래 게이지 밴드가 있던 부분)을 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈로 잘라 내어 측정 샘플로 하고 그 막 두께를 MD, TD 모두 1mm 피치로 면 내 측정하고 결점부의 최대 막 두께와 최소 막 두께의 차이를 평가했다.(I) After coating and drying the polyvinyl alcohol aqueous solution (before stretching) and (II) after air stretching, the film thickness of the PVA-based resin layer was measured using “MCPD3000” manufactured by Otsuka Electronics. Cut the part including the defect part (the part with the original gauge band) into a size of 200 mm (MD) × 200 mm (TD) to make a measurement sample, measure the thickness of both MD and TD in-plane at 1 mm pitch, and measure the maximum film of the defect area. The difference between the thickness and the minimum film thickness was evaluated.

2. 지상축 변동·흡수축 변동2. Slow axis fluctuations and absorption axis fluctuations

(I) 폴리비닐알코올 수용액을 도포하고 건조한 후(연신 전)의 PVA계 수지층의 지상축 방향, (II) 공중 연신 후의 PVA계 수지층의 지상축 방향 및 (III) 편광막의 흡수축 방향을 Axometrics사 제품인 “Axoscan”을 이용하여 측정했다. 결점부를 포함한 부분을 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈로 잘라 내어 측정 샘플로 하고 면 내에 있어서의 결점부의 최대축 방향 차를 측정했다. 또한 (I) 및 (II)에 대해서는 유리판에 점착제층을 통해서 PVA계 수지층을 맞붙힌 후 수지 기재를 박리하여 PVA계 수지층의 지상축을 측정했다.(I) the slow axis direction of the PVA-based resin layer after applying and drying the polyvinyl alcohol aqueous solution (before stretching), (II) the slow axis direction of the PVA-based resin layer after air stretching, and (III) the absorption axis direction of the polarizing film. It was measured using “Axoscan”, a product of Axometrics. The portion including the defect portion was cut out to a size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD) to obtain a measurement sample, and the difference in the maximum axis direction of the defect portion in the plane was measured. In addition, for (I) and (II), after affixing the PVA-based resin layer to the glass plate through the pressure-sensitive adhesive layer, the resin substrate was peeled off, and the slow axis of the PVA-based resin layer was measured.

3. 외관3. Appearance

(I) 폴리비닐알코올 수용액을 도포하고 건조한 후(연신 전)의 PVA계 수지층(I) PVA-based resin layer after applying and drying a polyvinyl alcohol aqueous solution (before stretching)

(II) 공중 연신 후의 PVA계 수지층 및 (III)편광막의 외관을 육안으로 관찰했다.(II) The appearance of the PVA-based resin layer and (III) polarizing film after aerial stretching was visually observed.

(I) 및 (II)에 관해서는 도 5(a)에 도시하는 바와 같이 적층체(샘플)의 상하 각각에 시판의 편광판을 중합시킨 상태로 하부로부터 광을 조사하고 상방에서 육안으로 관찰했다. 그때 2장의 편광판을 서로의 흡수축이 직교하도록 배치하고 적층체 연신 방향과, 하측의 편광판의 흡수축이 직교하도록 배치했다.Regarding (I) and (II), as shown in Fig. 5(a), a commercially available polarizing plate was superimposed on each of the top and bottom of the laminate (sample), and light was irradiated from the bottom and observed with the naked eye from the top. At that time, the two polarizing plates were arranged so that their absorption axes were orthogonal to each other, and the stretching direction of the laminate and the absorption axes of the lower polarizing plates were arranged to be orthogonal.

(III)에 관해서는 도 5(b)에 도시하는 바와 같이 적층체(샘플) 아래에 시판의 편광판을 중합시킨 상태로 하부로부터 빛을 조사하고 상방에서 육안으로 관찰했다. 그때, 적층체의 편광막의 흡수축과 하측의 편광판의 흡수축이 직교하도록 배치했다.Regarding (III), as shown in Fig. 5(b), a commercially available polarizing plate was superimposed under the laminate (sample), light was irradiated from the bottom, and visually observed from above. At that time, it was arrange|positioned so that the absorption axis of the polarizing film of a laminated body and the absorption axis of the lower polarizing plate might be orthogonal to each other.

또한 표 1에 도시하는 평가 기준은 다음과 같다.In addition, the evaluation criteria shown in Table 1 are as follows.

○: 결점부의 변동이 시인 불가○: Changes in defects cannot be recognized

×: 결점부의 변동이 시인 가능×: Changes in defects can be visually recognized

4. 편광도4. Polarization

분광 광도계(무라카미 색채사 제품, 제품명 “Dot-41”)를 사용하여 편광막의 단체 투과율(Ts), 평행 투과율(Tp) 및 직교 투과율(Tc)을 측정하고 편광도(P)를 다음 식으로 구했다. 또한 이 투과율들은 JIS Z 8701의 2도 시야(C광원)에 의해 측정하고 시감도 보정을 실시한 Y값이다. Using a spectrophotometer (manufactured by Murakami Color Co., Ltd., product name “Dot-41”), the single transmittance (Ts), parallel transmittance (Tp), and orthogonal transmittance (Tc) of the polarizing film were measured, and the degree of polarization (P) was obtained by the following equation. . In addition, these transmittances are Y values measured by a 2-degree field of view (C light source) of JIS Z 8701 and corrected for visibility.

편광도(P)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100Polarization degree (P)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 × 100

Figure pat00001
Figure pat00001

실시예에서는 모든 시점에 있어서 PVA계 수지층의 막 두께 변동 및 지상축 변동·흡수축 변동이 억제되어 있었다. 외관 또한 우수했다. 또한 실시예 1-5 및 실시예 2-3에서는 주름 발생이 육안으로 확인됐다. 이는 가열 처리에 의해 수지 기재에 발생한 열 주름에 의한 것으로 생각할 수 있다.In the examples, fluctuations in the film thickness of the PVA-based resin layer and fluctuations in slow axis and absorption axis were suppressed at all times. The appearance was also excellent. In addition, in Examples 1-5 and 2-3, occurrence of wrinkles was visually confirmed. This can be considered to be due to thermal wrinkles generated on the resin substrate by heat treatment.

[산업상의 이용 가능성][Industrial availability]

본 발명의 편광막은 예컨대, 화상 표시 장치에 가장 적합하게 사용될 수 있다. 구체적으로는 액정 텔레비전, 액정 디스플레이, 휴대폰, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대 게임기, 자동차 내비게이션, 복사기, 프린터, 팩스, 시계, 전자 레인지 등의 액정 패널, 유기 EL 디바이스의 반사 방지판 등으로 적합하게 사용된다.The polarizing film of the present invention can be most suitably used, for example, in an image display device. Specifically, it is suitably used for liquid crystal panels such as liquid crystal televisions, liquid crystal displays, mobile phones, digital cameras, camcorders, portable game machines, car navigation machines, copiers, printers, fax machines, watches, microwave ovens, and anti-reflection plates for organic EL devices. .

10: 적층체
11: 수지 기재
12: 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층
10: laminate
11: resin substrate
12: polyvinyl alcohol (PVA)-based resin layer

Claims (15)

긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 공정과,
권출된 수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 공정과,
상기 수지 기재의 표면에 코로나 처리를 실시하는 공정과,
상기 코로나 처리가 실시된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하여 도포막을 형성하고, 해당 도포막이 형성된 수지 기재를 연신하지 않고 해당 도포막을 건조하여 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하는 공정
을 이 순서대로 포함하는, 적층체의 제조 방법.
A unwinding step of unwinding the resin substrate from the resin substrate roll in which the elongated resin substrate is wound in a roll shape, and
A step of heating the unwound resin substrate to a glass transition temperature (Tg) of -15°C or higher of the resin substrate, and
A step of performing corona treatment on the surface of the resin substrate, and
A coating liquid containing polyvinyl alcohol-based resin is applied on the corona-treated resin substrate to form a coating film, and the coating film is dried without stretching the resin substrate on which the coating film is formed to form a polyvinyl alcohol-based resin layer Forming process
A method for producing a laminate comprising in this order.
제1항에 있어서,
상기 권취된 상태로 보관한 후에 가열 공정을 행하는, 제조 방법.
The method of claim 1,
The production method, wherein a heating step is performed after storage in the wound state.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 권출된 공정과, 가열 공정과 코로나 처리와 폴리비닐알코올계 수지층 형성 공정을 연속하여 행하는, 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The manufacturing method, wherein the unwinding step, the heating step, the corona treatment, and the polyvinyl alcohol-based resin layer forming step are successively performed.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가열 공정을 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)+15℃ 이하에서 행하는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The manufacturing method, wherein the heating step is performed at a glass transition temperature (Tg) of the resin substrate + 15°C or lower.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가열 공정을 가열로 내에 설치된 반송롤로 수지 기재를 반송하면서 행하는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A manufacturing method, wherein the heating step is carried out while conveying the resin substrate with a conveying roll installed in a heating furnace.
제5항에 있어서,
상기 가열로 내의 반송롤의 포각이 90°이상인, 제조 방법.
The method of claim 5,
The manufacturing method, wherein the foam angle of the conveying roll in the heating furnace is 90° or more.
제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 가열로 내의 반송롤의 중심간 거리가 2m 이하인, 제조 방법.
The method according to claim 5 or 6,
The manufacturing method, wherein the distance between the centers of the conveying rolls in the heating furnace is 2 m or less.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가열 공정을 텐터로 수지 기재를 반송하면서 행하는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A manufacturing method, wherein the heating step is performed while conveying the resin substrate with a tenter.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가열에 의한 수지 기재의 수축률이 3% 이하인, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The production method, wherein the shrinkage of the resin substrate by the heating is 3% or less.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 기재가, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 형성되어 있는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 9,
The production method, wherein the resin substrate is formed of a polyethylene terephthalate-based resin.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 기재가 미리 연신되어 있는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 10,
The production method in which the resin substrate has been previously stretched.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 폴리비닐알코올계 수지층이 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함한 도포액을 다이코팅법에 의해 도포하고 건조함으로써 형성되는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 11,
The production method, wherein the polyvinyl alcohol-based resin layer is formed by applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on a resin substrate by a die coating method and drying it.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 적층체를 이용하는, 편광막의 제조 방법.A method for producing a polarizing film using the laminate obtained by the production method according to any one of claims 1 to 12. 제13항에 있어서,
상기 연신체를 연신하는 공정을 포함하는, 제조 방법.
The method of claim 13,
A manufacturing method comprising the step of stretching the stretched body.
제13항 또는 제14항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 편광막에 보호 필름을 적층하는 공정을 포함하는, 편광판의 제조 방법.A method for manufacturing a polarizing plate, including a step of laminating a protective film on the polarizing film obtained by the manufacturing method according to claim 13 or 14.
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