KR20170039191A - Method for producing laminate - Google Patents

Method for producing laminate Download PDF

Info

Publication number
KR20170039191A
KR20170039191A KR1020177004312A KR20177004312A KR20170039191A KR 20170039191 A KR20170039191 A KR 20170039191A KR 1020177004312 A KR1020177004312 A KR 1020177004312A KR 20177004312 A KR20177004312 A KR 20177004312A KR 20170039191 A KR20170039191 A KR 20170039191A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
base material
resin base
heating
laminate
Prior art date
Application number
KR1020177004312A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102450433B1 (en
Inventor
타츠야 아라키
아키히토 아베
세이지 곤도
토시히로 간노
유우지 야마시타
히로노리 마츠야마
히로아키 카와니시
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority to KR1020227020960A priority Critical patent/KR20220092637A/en
Priority to KR1020217007420A priority patent/KR102450442B1/en
Publication of KR20170039191A publication Critical patent/KR20170039191A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102450433B1 publication Critical patent/KR102450433B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/06Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the heating method
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/306Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl acetate or vinyl alcohol (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/24Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/03Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers with respect to the orientation of features
    • B32B7/035Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers with respect to the orientation of features using arrangements of stretched films, e.g. of mono-axially stretched films arranged alternately
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/24Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
    • B32B2037/243Coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/0012Mechanical treatment, e.g. roughening, deforming, stretching
    • B32B2038/0028Stretching, elongating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42Polarizing, birefringent, filtering
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/02Temperature

Abstract

성능이 균일한 편광막을 형성할 수 있는 적층체를 제공한다. 본 발명의 적층체의 제조 방법은 수지 기재(11)를 수지 기재(11)의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 공정과 수지 기재(11) 상에 폴리비닐알코올계 수지층(12)을 형성하는 공정을 이 순서대로 포함한다.A laminate capable of forming a polarizing film having uniform performance is provided. The method for producing a laminate of the present invention comprises the steps of heating the resin base material 11 to a glass transition temperature (Tg) of -15 ° C or higher of the resin base material 11 and heating the polyvinyl alcohol-based resin layer 12 are formed in this order.

Description

적층체의 제조 방법 {METHOD FOR PRODUCING LAMINATE}[0001] METHOD FOR PRODUCING LAMINATE [0002]

본 발명은 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로는 수지 기재와 이 수지 기재 상에 형성된 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층을 가진 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a laminate. More specifically, the present invention relates to a method for producing a laminate having a resin substrate and a polyvinyl alcohol (PVA) resin layer formed on the resin substrate.

수지 기재 상에 PVA계 수지층을 도포 형성하고, 이 적층체를 연신, 염색함으로써 편광막을 얻는 방법이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌1, 특허문헌2 참조). 이러한 방법으로부터 두께가 얇은 편광막을 얻을 수 있으므로, 예컨대, 화상 표시 장치의 박형화에 기여할 수 있다는 점에서 주목되고 있다. 그러나 이러한 경우, 얻어지는 편광막의 성능(구체적으로는 막 두께 광학 특성, 외관)에 변형(변동)(irregularity)이 쉽게 발생한다는 문제점이 있다.There has been proposed a method in which a PVA resin layer is applied and formed on a resin substrate, and the laminate is stretched and stained to obtain a polarizing film (for example, refer to Patent Document 1 and Patent Document 2). From such a method, attention can be paid to the fact that a thin polarizing film can be obtained, for example, contributing to the thinning of an image display apparatus. However, in this case, there is a problem that the irregularity easily occurs in the performance (specifically, the film thickness optical property, appearance) of the obtained polarizing film.

선행 기술 문헌Prior art literature

특허 문헌1:일본국 공개특허 특개소51-69644호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-69644

특허 문헌2:일본국 공개특허 특개2001-343521호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343521

본 발명은 상기 기존의 과제를 해결하기 위해서 안출된 것으로 그 주요 목적은 성능이 균일한 편광막을 제조할 수 있는 적층체를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and its main object is to provide a laminate capable of producing a polarizing film having uniform performance.

본 발명의 적층체의 제조 방법은 수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 공정과 상기 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하는 공정을 이 순서대로 포함한다.The method for producing a laminate of the present invention comprises the steps of heating a resin substrate to a glass transition temperature (Tg) of -15 ° C or higher of the resin substrate and forming a polyvinyl alcohol-based resin layer on the resin substrate in this order .

일 실시예에 있어서는 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취(券取)된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출(券出)하여 상기 가열 공정을 행한다.In one embodiment, the resin base material is withdrawn from the resin base roll in which the elongated resin base material is rolled up, and the heating step is performed.

일 실시예에 있어서는 상기 권취된 상태로 보관한 후에 상기의 가열 공정을 행한다.In one embodiment, the heating step is performed after being stored in the wound state.

일 실시예에 있어서는 상기 권출하는 공정과 상기 가열 공정과 상기 폴리비닐알코올계 수지층 형성 공정을 연속하여 행한다.In one embodiment, the step of winding, the step of heating, and the step of forming the polyvinyl alcohol-based resin layer are successively performed.

일 실시예에 있어서는 상기 가열 공정을 상기 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)+15℃ 이하에서 행한다.In one embodiment, the heating process is performed at a glass transition temperature (Tg) of the resin base + 15 DEG C or less.

일 실시예에 있어서는 상기 가열 공정을 가열로 내에 설치된 반송롤로 상기 수지 기재를 반송하면서 행한다.In one embodiment, the heating step is performed while conveying the resin base material with a conveying roll installed in a heating furnace.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 포각(抱角)이 90°이상이다.In one embodiment, the holding angle of the transport roll in the heating furnace is 90 DEG or more.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 중심간 거리가 2m 이하이다.In one embodiment, the center-to-center distance of the transport rolls in the heating furnace is 2 m or less.

일 실시예에 있어서는 상기 가열 공정을 텐터(tenter)로 상기 수지 기재를 반송하면서 행한다.In one embodiment, the heating step is performed while the resin base material is transported with a tenter.

일 실시예에 있어서는 상기 가열에 의한 수지 기재의 수축률이 3% 이하이다.In one embodiment, the shrinkage percentage of the resin substrate by the heating is 3% or less.

일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재가 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 형성되어 있다.In one embodiment, the resin substrate is formed of a polyethylene terephthalate resin.

일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재가 미리 연신되어 있다.In one embodiment, the resin substrate is preliminarily stretched.

일 실시예에 있어서는 상기 폴리비닐알코올계 수지층이 상기 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함한 도포액을 다이코팅법으로 도포하고 건조함으로써 형성된다.In one embodiment, the polyvinyl alcohol-based resin layer is formed by applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on the resin substrate by die coating and drying.

본 발명의 다른 국면에 의하면 편광막의 제조 방법이 제공된다. 이 편광막의 제조 방법은 상기 제조 방법으로 얻어진 적층체를 이용한다.According to another aspect of the present invention, a method for manufacturing a polarizing film is provided. The method for producing the polarizing film uses a laminate obtained by the above-mentioned production method.

일 실시예에 있어서는 상기 적층체를 연신하는 공정을 포함한다.In one embodiment, it includes a step of stretching the laminate.

본 발명의 또 다른 국면에 의하면 편광판의 제조 방법이 제공된다. 이 편광판의 제조 방법은 상기 제조 방법으로 얻어진 편광막에 보호 필름을 적층하는 공정을 포함한다.According to yet another aspect of the present invention, a method of manufacturing a polarizing plate is provided. The polarizing plate manufacturing method includes a step of laminating a protective film on the polarizing film obtained by the above manufacturing method.

본 발명의 또 다른 국면에 의하면 연신 적층체가 제공된다. 이 연신 적층체는 수지 기재와 해당 수지 기재 상에 형성된 폴리비닐알코올계 수지층을 갖는다. 상기 폴리비닐알코올계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 막 두께 변동(irregularity)은 0.25㎛ 이하이고, 또한 상기 폴리비닐알코올계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 지상축 변동은 0.50°이하이다. According to yet another aspect of the present invention, a drawn laminate is provided. This oriented laminate has a resin substrate and a polyvinyl alcohol-based resin layer formed on the resin substrate. The film thickness irregularity of the polyvinyl alcohol-based resin layer within a size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD) was 0.25 탆 or less, and the film thickness of the polyvinyl alcohol-based resin layer was 200 mm (MD) TD) is 0.50 or less.

본 발명의 또 다른 국면에 의하면 적층체의 제조 장치가 제공된다.According to yet another aspect of the present invention, an apparatus for producing a laminate is provided.

일 실시예에 있어서는 상기 제조 장치는 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 수단과, 상기 긴 형상의 수지 기재를 반송하는 반송롤을 구비하고 상기 수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 가열로와 가열된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 수단을 구비한다.In one embodiment, the manufacturing apparatus includes an unwinding means for unwinding the resin base material from a resin base roll wound in a roll shape, and a transport roll for transporting the resin base material in a long shape, A heating furnace for heating the resin base material to a glass transition temperature (Tg) of -15 ° C or higher of the resin base material; and a coating means for applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on the heated resin base material.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내에 설치된 반송롤에서 상기 수지 기재를 반송하면서 가열한다.In one embodiment, the resin substrate is heated while being conveyed in a conveying roll provided in the heating furnace.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 포각이 90°이상이다.In one embodiment, the angle of the conveying roll in the heating furnace is 90 DEG or more.

일 실시예에 있어서는 상기 가열로 내의 반송롤의 중심간 거리가 2m이하이다.In one embodiment, the center-to-center distance of the transport rolls in the heating furnace is 2 m or less.

일 실시예에 있어서는 상기 제조 장치는 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 수단과, 상기 긴 형상의 수지 기재의 양단부를 파지하여 반송하는 텐터를 구비하고, 상기 텐터의 클립으로 양단부를 파지된 상기 수지 기재에 대하여 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 가열 수단과 가열된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 수단을 구비한다.In one embodiment, the manufacturing apparatus includes a winding means for winding the resin base material from a resin base roll wound in a roll shape, and a tenter for holding and conveying both ends of the long base resin base material Heating means for heating the resin base material held at both ends with a clip of the tenter to a glass transition temperature (Tg) of the resin base material at a temperature not lower than -15 ° C, and a polyvinyl alcohol-based resin And an application unit for applying the application liquid.

일 실시예에 있어서는 상기 텐터로 상기 수지 기재를 반송하면서 가열한다.In one embodiment, the resin substrate is heated while conveying the resin substrate with the tenter.

본 발명에 의하면 수지 기재에 소정의 온도 이상의 가열 처리를 실시함으로써 수지 기재의 표면 요철(예컨대, 수지 기재를 권취했을 때에 발생하는 게이지 밴드)을 완화(균일화)할 수 있다. 그 결과, 수지 기재 상에 두께의 균일성이 우수한 PVA계 수지층을 형성할 수 있다. 이러한 두께의 균일성이 우수한 PVA계 수지층에 각종 처리를 실시함으로써 성능(구체적으로는 막 두께, 광학 특성, 외관)에 변동이 발생하지 않고, 균일성이 매우 우수한 편광막(예컨대, 액정 텔레비전에 요구되는 품질을 충분히 만족하는)을 제조할 수 있다.According to the present invention, it is possible to alleviate (uniformize) the surface unevenness of the resin base material (for example, the gage band generated when the resin base material is wound) by subjecting the resin base material to heat treatment at a predetermined temperature or more. As a result, a PVA resin layer having excellent thickness uniformity can be formed on the resin substrate. By applying various treatments to the PVA resin layer having excellent thickness uniformity, it is possible to obtain a polarizing film (for example, a liquid crystal display panel having excellent transparency) without fluctuation in performance (specifically, Satisfying the required quality sufficiently) can be produced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 적층체의 개략 단면도이다.
도 2에서 (a)및 (b)는 일 실시예에 의한 수지 기재의 가열 방법을 설명하는 개략도이다.
도 3은 다른 실시예에 의한 수지 기재의 가열 방법을 설명하는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일례를 도시하는 개략도이다.
도 5는 PVA계 수지층의 외관의 평가 방법을 설명하는 개략도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a laminate according to an embodiment of the present invention.
2 (a) and 2 (b) are schematic views for explaining a heating method of a resin substrate according to an embodiment.
3 is a schematic view for explaining a heating method of a resin substrate according to another embodiment.
4 is a schematic diagram showing an example of the present invention.
5 is a schematic view for explaining a method for evaluating the appearance of the PVA resin layer.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 관하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에는 한정되지 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

A. 적층체A. Laminate

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 적층체의 개략 단면도이다. 적층체(10)는 수지 기재(11) 상에 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층(12)을 형성함으로써 얻을 수 있다.1 is a schematic cross-sectional view of a laminate according to an embodiment of the present invention. The laminate 10 can be obtained by forming a polyvinyl alcohol (PVA) resin layer 12 on a resin substrate 11. [

A-1. 수지 기재A-1. Resin substrate

상기 수지 기재는, 대표적으로는, 긴 형상으로 되어 있다. 수지 기재의 두께는 바람직하게는 20㎛∼300㎛, 더욱 바람직하게는 50㎛∼200㎛이다.Typically, the resin base material has a long shape. The thickness of the resin base material is preferably 20 mu m to 300 mu m, more preferably 50 mu m to 200 mu m.

수지 기재의 형성 재료로는 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용할 수 있다. 그 중에서도, 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 바람직하게 이용할 수 있다. 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지의 구체예로서는, 디카르복실산으로서 이소프탈산을 더욱 포함하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 더욱 포함하는 공중합체를 들 수 있다.As the material for forming the resin substrate, for example, an ester resin such as a polyethylene terephthalate resin, a cycloolefin resin, an olefin resin such as polypropylene, a (meth) acrylic resin, a polyamide resin, a polycarbonate resin , And the like. Preferably, a polyethylene terephthalate resin can be used. Among them, an amorphous polyethylene terephthalate resin can be preferably used. Specific examples of the amorphous polyethylene terephthalate resin include a copolymer further containing isophthalic acid as the dicarboxylic acid and a copolymer further containing cyclohexanedimethanol as the glycol.

수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 바람직하게는 170℃ 이하이다. 이러한 수지 기재를 이용함으로써 PVA계 수지의 결정화가 급속하게 진행되지 않는 온도에서의 적층체의 연신을 가능하게 하고, 해당 결정화에 의한 트러블(예컨대, 연신에 의한 PVA계 수지층의 배향을 방해)을 억제할 수 있다. 한편 수지 기재의 유리 전이 온도는 바람직하게는 60℃ 이상이다. 또한, 유리 전이 온도(Tg)는 JIS K 7121에 준하여 구할 수 있는 값이다.The glass transition temperature (Tg) of the resin substrate is preferably 170 占 폚 or less. By using such a resin base material, the laminate can be stretched at a temperature at which the crystallization of the PVA-based resin does not progress rapidly, and troubles due to the crystallization (for example, the orientation of the PVA-based resin layer by stretching is prevented) . On the other hand, the glass transition temperature of the resin substrate is preferably 60 DEG C or more. The glass transition temperature (Tg) is a value that can be obtained in accordance with JIS K 7121.

수지 기재는 임의의 적절한 방법으로 성형된다. 성형 방법으로서는 예컨대,용융 압출법, 용액 캐스트법(용액 유연법), 캘린더법, 압축 성형법 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 용융 압출법이 바람직하다.The resin substrate is molded by any suitable method. Examples of the molding method include a melt extrusion method, a solution casting method (solution casting method), a calendering method, and a compression molding method. Of these, the melt extrusion method is preferable.

수지 기재 표면에는 표면 개질 처리(예컨대, 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 되고 역(易)접착층이 형성되어 있어도 된다. 이와 같은 처리에 의하면 수지 기재와 PVA계 수지층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 표면 개질 처리 및/또는 역접착층의 형성은 후술하는 가열 처리 전에 행해도 되고, 가열 처리 후에 행해도 된다. 또, 후술하는 연신을 행할 경우, 그 연신 전에 행해도 되고 연신 후에 행해도 된다.The surface of the resin substrate may be subjected to surface modification treatment (e.g., corona treatment or the like) or may be formed with an easy adhesive layer. By such a treatment, the adhesion between the resin base material and the PVA-based resin layer can be improved. The surface modification treatment and / or the formation of the reverse adhesion layer may be performed before or after the heat treatment described later. When stretching described later is carried out, it may be carried out before the stretching or after stretching.

일 실시예에 있어서는 후술하는 가열 처리 전에 수지 기재를 연신한다. 수지 기재의 연신 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는 고정단 연신이어도 되고 자유단 연신이어도 된다. 또 동시 이축 연신이어도 되고 순차 이축 연신이어도 된다. 수지 기재의 연신은 한 단계로 행해도 되고, 다단계로 행해도 된다. 다단계로 행하는 경우, 후술하는 수지 기재의 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다. 또 연신 방식은 특별히 한정되어 있지 않고 공중 연신 방식이어도 되고 수중 연신 방식이어도 된다.In one embodiment, the resin base material is stretched before the heat treatment to be described later. As the stretching method of the resin base material, any appropriate method can be employed. Specifically, it may be a fixed-end drawing or a free-end drawing. It may be simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching. The resin base material may be stretched in one step or in multiple steps. In the case of multi-stage operation, the drawing magnification of the resin substrate described later is the product of the drawing magnifications of the respective steps. The stretching method is not particularly limited, and may be a pneumatic stretching method or an underwater stretching method.

수지 기재 연신 방향은 적절히 설정할 수 있다. 예컨대, 긴 형상의 수지 기재를 폭 방향으로 연신한다. 구체적으로는, 수지 기재를 길이 방향으로 반송하고, 그 반송 방향(MD)과 직교하는 방향(TD)으로 연신한다. 본 명세서에 있어서 “직교”란 실질적으로 직교하는 경우도 포함한다. 여기에서 “실질적으로 직교”란 90°±5.0°인 경우를 포함하고, 바람직하게는 90°±3.0°, 더 바람직하게는 90°±1.0°이다. 수지 기재를 폭 방향(TD)으로 연신함으로써 수지 기재를 유효하게 이용할 수 있다. 또, 수지 기재의 TD에 있어서의 두께를 균일하게 하고, 후술하는 부분적인 막 두께 변동을 억제할 수 있다.The resin base material stretching direction can be appropriately set. For example, the elongated resin base material is stretched in the width direction. Specifically, the resin base material is transported in the longitudinal direction and stretched in the direction (TD) perpendicular to the transport direction (MD). In the present specification, the term " orthogonal " includes the case where the orthogonal direction is substantially orthogonal. Here, " substantially orthogonal " includes the case of 90 DEG +/- 5.0 DEG, preferably 90 DEG +/- 3.0 DEG, more preferably 90 DEG +/- 1.0 DEG. The resin base material can be effectively used by stretching the resin base material in the transverse direction (TD). In addition, the thickness of the resin base material in the TD can be made uniform, and partial film thickness fluctuation, which will be described later, can be suppressed.

수지 기재의 연신 온도는 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라서, 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 연신 온도는 대표적으로는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)에 대하여 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+80℃이다. 수지 기재의 형성 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용하는 경우, 연신 온도는 바람직하게는 70℃∼150℃ 더 바람직하게는 90℃∼130℃이다.The drawing temperature of the resin base material can be set to any appropriate value in accordance with the forming material of the resin base material, the drawing method, and the like. The stretching temperature is typically from Tg-10 deg. C to Tg + 80 deg. C with respect to the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate. When a polyethylene terephthalate resin is used as the material for forming the resin substrate, the drawing temperature is preferably 70 占 폚 to 150 占 폚, more preferably 90 占 폚 to 130 占 폚.

수지 기재의 연신 배율은 수지 기재의 원래의 길이에 대해서 바람직하게는 1.5배 이상이다. 이러한 범위로 함으로써 후술하는 부분적인 막 두께 변동을 양호하게 억제할 수 있다. 한편, 수지 기재의 연신 배율은 수지 기재의 원래의 길이에 대해서 바람직하게는 3.0배 이하이다. 이러한 범위로 함으로써 후술하는 가열 공정에 있어서 주름 발생을 양호하게 억제할 수 있다.The stretch magnification of the resin base material is preferably 1.5 times or more the original length of the resin base material. By setting this range, it is possible to satisfactorily suppress partial film thickness fluctuation, which will be described later. On the other hand, the draw ratio of the resin base material is preferably 3.0 times or less with respect to the original length of the resin base material. By setting this range, the occurrence of wrinkles in the heating step to be described later can be satisfactorily suppressed.

A-2. 권취 및 보관A-2. Winding and Storage

일 실시예에 있어서는 상기 긴 형상의 수지 기재를 롤 형상으로 권취한다. 수지 기재 성형 시에 부분적인 막 두께의 변동이 생겨서 이 상태로 권취하면 수지 기재에 요철이 생길 수 있다. 권취 장력은 대표적으로는 60N/m∼150N/m(단위:N/m은 단위 폭 길이 당 장력)이다. 권취한 수지 기재(수지 기재 롤)는 다음 공정에 쓰일 때까지 임의의 적절한 기간, 권취된 상태인 채로 보관(방치)할 수 있다. 예컨대, 수지 기재의 성형 후, 연속해서 상기 PVA계 수지층을 형성하지 않는(못할) 경우에 수지 기재는 권취된 상태로 보관된다. 이 보관 기간이 길어지면(예컨대, 3일 이상), 요철의 발생(요철의 정도, 요철의 발생 수)이 현저하게 되어 얻어지는 PVA계 수지층(적층체)에 막 두께 변동이 발생하는 경향이 있다. 그러므로, 수지 기재 롤의 보관 기간이 길수록 후술하는 가열 처리에 의한 효과를 현저하게 얻을 수 있다. 또한 수지 기재 롤은 임의의 적절한 분위기 하에 보관될 수 있다. 보관 온도는 예컨대, 15℃∼35℃이다. 상대 습도는 예컨대, 40%RH∼80%RH이다.In one embodiment, the elongated resin substrate is wound in a roll shape. There is a partial change in film thickness at the time of molding the resin substrate, and winding up in this state may cause irregularities in the resin substrate. The winding tension is typically 60 N / m to 150 N / m (unit: N / m is the tension per unit width length). The wound resin substrate (resin base roll) can be stored (left) in a wound state for an arbitrary suitable period until it is used in the next step. For example, if the PVA resin layer is not continuously formed after molding of the resin base material, the resin base material is kept in a wound state. When the storage period is prolonged (for example, 3 days or more), the occurrence of unevenness (the degree of irregularity, the number of irregularities generated) becomes conspicuous, and the film thickness variation tends to occur in the PVA resin layer (laminate) . Therefore, the longer the storage period of the resin base roll, the more remarkable the effect of the heat treatment to be described later can be obtained. The resin base roll may also be stored under any suitable atmosphere. The storage temperature is, for example, 15 占 폚 to 35 占 폚. The relative humidity is, for example, 40% RH to 80% RH.

A-3. 가열A-3. heating

상기 수지 기재를 가열한다. 구체적으로는, 열풍, 적외선 히터, 롤 히터 등에 의해 수지 기재를 가열한다. 가열 온도는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상이고 바람직하게는 Tg-10℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg-5℃ 이상이다. 수지 기재의 형성 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용하는 경우, 가열 온도는 바람직하게는 68℃ 이상이다. 이와 같은 온도로 수지 기재를 가열함으로써 수지 기재의 표면 요철을 완화(균일화)할 수 있다. 그 결과, 후술하는 PVA계 수지층을 양호하게 형성할 수 있고, 두께의 균일성이 우수한 PVA계 수지층을 형성할 수 있다. 한편, 가열 온도는 바람직하게는 (Tg)+15℃ 이하, 더욱 바람직하게는 Tg+10℃ 이하이다. 수지 기재의 형성 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 이용하는 경우, 가열 온도는 바람직하게는 80℃ 이하이다. 이 온도로 수지 기재를 가열함으로써 주름(열 주름)의 발생을 양호하게 억제할 수 있다.The resin base material is heated. Specifically, the resin base material is heated by hot air, an infrared heater, a roll heater, or the like. The heating temperature is a glass transition temperature (Tg) of the resin base of -15 ° C or higher, preferably Tg-10 ° C or higher, more preferably Tg-5 ° C or higher. When a polyethylene terephthalate resin is used as the resin base material, the heating temperature is preferably 68 占 폚 or higher. By heating the resin substrate at such a temperature, the surface irregularities of the resin substrate can be alleviated (uniform). As a result, a PVA-based resin layer to be described later can be formed well, and a PVA-based resin layer having excellent thickness uniformity can be formed. On the other hand, the heating temperature is preferably (Tg) + 15 deg. C or less, more preferably Tg + 10 deg. When a polyethylene terephthalate resin is used as the material for forming the resin substrate, the heating temperature is preferably 80 DEG C or less. By heating the resin base material at this temperature, occurrence of wrinkles (thermal creases) can be suppressed well.

가열 시간은 바람직하게는 70초∼150초, 더욱 바람직하게는 75초∼100초이다.The heating time is preferably 70 seconds to 150 seconds, more preferably 75 seconds to 100 seconds.

수지 기재는 가열에 의해 수축할 수 있다. 예컨대, 가열 전에 수지 기재를 폭 방향으로 연신한 경우, 가열에 의해 수지 기재는 폭 방향으로 수축(TD수축) 될 수 있다. 수지 기재의 수축률(TD수축률)은 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하, 특히 바람직하게는 1.5% 이하이다. 이러한 범위라면, 주름의 발생이 억제되어 우수한 외관을 얻을 수 있다. 또한 TD수축률은 하기 식으로 산출된다.The resin substrate can be shrunk by heating. For example, when the resin substrate is stretched in the width direction before heating, the resin substrate may shrink (TD shrink) in the width direction by heating. The shrinkage ratio (TD shrinkage ratio) of the resin substrate is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, particularly preferably 1.5% or less. In such a range, generation of wrinkles is suppressed and excellent appearance can be obtained. The TD shrinkage ratio is calculated by the following formula.

TD수축율(%)={1-(가열 후의 수지 기재 폭(W1)/가열 전의 수지 기재 폭(W0))}×100TD shrinkage ratio (%) = {1- (width of resin base after heating (W 1 ) / width of resin base before heating (W 0 )) × 100

일 실시예에 있어서는 수지 기재를 반송하면서 가열한다. 상술한 바와 같이, 수지 기재를 롤 형상으로 권취했을 경우, 수지 기재 롤로부터 권출된 수지 기재에 가열 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 가열 방법으로서는 예컨대, 가열로 내에 설치된 반송롤로 수지 기재를 반송하는 방법, 텐터로 수지 기재를 반송하면서 가열하는 방법을 들 수 있다. 전자에 의하면 설비의 대형화를 억제할 수 있다. 후자에 의하면 주름의 발생을 매우 양호하게 억제할 수 있다.In one embodiment, the resin substrate is heated while being conveyed. As described above, when the resin base material is rolled up, it is preferable to heat the resin base material wound from the resin base roll. Examples of the heating method include a method of transporting a resin substrate by a transport roll provided in a heating furnace, and a method of heating while transporting a resin substrate by a tenter. According to the former, it is possible to suppress the enlargement of the facility. According to the latter, the generation of wrinkles can be suppressed very well.

반송롤을 이용할 경우의 구체예를 도2(a) 및 도2(b)에 도시한다. 도시예에서는, 오븐로(A) 내에 설치된 프리롤(R2)∼(R5)에 의해 수지 기재(11)를 그 길이 방향으로 반송함으로써 수지 기재(11)를 가열하고 있다. 생산 속도의 관점에서 도시예와 같이 오븐로 내에 프리롤을 4개 이상 설치하는 것이 바람직하다.2 (a) and 2 (b) show specific examples of the case where the transport roll is used. In the illustrated example, the resin base material 11 is heated by conveying the resin base material 11 in its longitudinal direction by the pre-rolls R2 to R5 provided in the oven furnace A. From the viewpoint of production speed, it is preferable to install four or more pre rolls in the oven furnace as shown in the drawing.

오븐로 내의 프리롤의 포각은 바람직하게는 90°이상이다. 도 2(a)에 도시하는 예에서는 프리롤(R2 및 R5)의 포각θ를 90°로 하고, 프리롤(R3 및 R4)의 포각θ를 180°로 하고 있다. 도 2(b)에 도시하는 예에서는 프리롤(R2∼R5)의 포각θ를 90°로 하고 있다. 이러한 포각으로 함으로써 수지 기재의 수축이 억제되고 주름의 발생을 억제할 수 있다. 또한 포각이란, 프리롤을 축방향으로 수직인 단면으로 보았을 때의, 프리롤의 중심점과 수지 기재와 프리롤과의 접촉 개시점을 이은 직선과, 프리롤의 중심점과 수지 기재와 프리롤과의 접촉 종료점을 이은 직선이 이루는 각이다. 오븐로 내의 프리롤 간격(롤의 중심 간 거리)은 바람직하게는 2m 이하이다. 또한, 오븐로의 출입구를 걸치듯이 설치되는 2개의 프리롤 간격(도시예에서는 R1-R2사이, R5-R6사이)도 2m이하인 것이 바람직하다. 이러한 간격으로 함으로써 수지 기재의 수축이 억제되어 주름의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 본 실시예에 있어서 수지 기재의 수축은 상기 수지 기재의 연신 배율, 가열 온도 등에도 관련이 있을 수 있다.The inclination of the pre-roll in the oven is preferably 90 DEG or more. In the example shown in Fig. 2 (a), the angle of inclination of the pre-rolls R2 and R5 is 90 degrees, and the angle of inclination of the pre-rolls R3 and R4 is 180 degrees. In the example shown in Fig. 2 (b), the angle of inclination of the pre-rolls R2 to R5 is 90 degrees. By such a grazing angle, shrinkage of the resin base material can be suppressed and occurrence of wrinkles can be suppressed. The term "envelope" as used herein means a straight line connecting the center point of the pre-roll and the point of contact between the resin base material and the pre-roll when viewed in a section perpendicular to the axial direction, and a straight line connecting the center point of the pre- The angle formed by the straight line connecting the contact end point. The pre-roll interval in the oven furnace (center-to-center distance of the roll) is preferably 2 m or less. In addition, it is preferable that the two pre-roll intervals (between R1 and R2 and between R5 and R6 in the illustrated example) installed so as to extend over the entrance to the oven are 2 m or less. With such an interval, shrinkage of the resin substrate is suppressed, and occurrence of wrinkles can be suppressed. In addition, in the present embodiment, shrinkage of the resin base material may also be related to the drawing magnification and heating temperature of the resin base material.

텐터를 사용할 경우의 구체예를 도 3에 도시한다. 도시예에서는 텐터의 좌우의 클립(21, 21)으로 수지 기재(11)의 양단부(반송 방향과 직교하는 선상에 있는)를 각각 파지하고, 그 길이 방향으로 소정의 속도로 가열 존을 반송시킴으로써 수지 기재(11)를 가열하고 있다. 반송 방향의 클립 간 거리(인접하는 클립단 끼리의 거리)는 바람직하게는 20mm 이하, 더욱 바람직하게는 10mm 이하이다. 클립 폭은 바람직하게는 20mm 이상, 더욱 바람직하게는 30mm 이상이다. 본 실시예에 있어서는 수지 기재의 TD수축은 예컨대, 좌우의 클립 간 거리를 조정함으로써 제어할 수 있다. 구체적으로는 좌우의 클립 간 거리를 변화시키지 않고 이동시킨 경우, TD수축률은 실질적으로 0%가 된다. 반대로 좌우의 클립 간 거리를 넓히는 것으로 수지 기재는 TD연신 될 수 있다. 수지 기재의 TD변화율은 바람직하게는 1.00배 이상, 더욱 바람직하게는 1.00배∼1.10배이다. 또한 TD변화율은 하기 식으로 산출된다.A specific example of the case of using a tenter is shown in Fig. In the illustrated example, both ends (on a line perpendicular to the conveying direction) of the resin base material 11 are gripped by the left and right clips 21 and 21 of the tenter, respectively, and the heating zone is conveyed at a predetermined speed in the longitudinal direction thereof, The substrate 11 is heated. The distance between the clips in the transport direction (the distance between adjacent clips) is preferably 20 mm or less, more preferably 10 mm or less. The clip width is preferably 20 mm or more, and more preferably 30 mm or more. In the present embodiment, the TD shrinkage of the resin base can be controlled by, for example, adjusting the distance between the left and right clips. Specifically, when the distance between the left and right clips is changed without changing the distance, the TD shrinkage ratio is substantially 0%. On the contrary, by stretching the distance between the left and right clips, the resin base material can be stretched in TD. The TD change rate of the resin base material is preferably 1.00 times or more, more preferably 1.00 times to 1.10 times. The TD change rate is calculated by the following equation.

TD변화율(배)=가열 후의 수지 기재 폭(W1)/가열 전의 수지 기재 폭(W0)TD change ratio (times) = width of resin substrate after heating (W 1 ) / width of resin substrate before heating (W 0 )

A-4. PVA계 수지층의 형성A-4. Formation of PVA resin layer

상기 PVA계 수지층을 형성하는 PVA계 수지로서는 임의의 적절한 수지를 채용할 수 있다. 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리초산비닐을 감화함으로써 얻을 수 있다. 에틸렌비닐알코올 공중합체는 에틸렌초산비닐 공중합체를 감화함으로써 얻을 수 있다. PVA계 수지의 감화도는 통상 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.95몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%∼99.93몰%이다. 감화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이러한 감화도의 PVA계 수지를 이용함으로써 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 감화도가 지나치게 높은 경우에는 젤라틴화가 될 우려가 있다.As the PVA-based resin forming the PVA-based resin layer, any suitable resin can be employed. Examples thereof include polyvinyl alcohol and ethylene vinyl alcohol copolymer. The polyvinyl alcohol can be obtained by subjecting the polyvinyl acetate to exposure. The ethylene vinyl alcohol copolymer can be obtained by subjecting the ethylene vinyl acetate copolymer to an impression. The degree of saponification of the PVA resin is usually from 85 mol% to 100 mol%, preferably from 95.0 mol% to 99.95 mol%, and more preferably from 99.0 mol% to 99.93 mol%. The degree of sensitization can be obtained according to JIS K 6726-1994. By using the PVA-based resin having such degree of impression, a polarizing film having excellent durability can be obtained. If the degree of impurity is excessively high, gelatinization may occur.

PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 평균 중합도는 통상 1000∼10000이고 바람직하게는 1200∼4500, 더욱 바람직하게는 1500∼4300이다. 또한 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.The average degree of polymerization of the PVA resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually 1000 to 10000, preferably 1200 to 4500, and more preferably 1500 to 4300. The average degree of polymerization can be obtained according to JIS K 6726-1994.

PVA계 수지층은 바람직하게는 수지 기재 상에 PVA계 수지를 포함한 도포액을 도포하고, 건조함으로써 형성된다. 도포액은 대표적으로는 상기 PVA계 수지를 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로는 예컨대, 물, 디메틸설폭시화물, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸프롤리톤, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 이종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이 중에서도 바람직하게는 물이다. 용액의 PVA계 수지 농도는 용매 100 중량부에 대해서 바람직하게는 3 중량부∼20 중량부이다. 이러한 수지 농도라면 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The PVA-based resin layer is preferably formed by applying a coating liquid containing a PVA-based resin on a resin substrate and drying the coating liquid. The coating liquid is typically a solution prepared by dissolving the PVA resin in a solvent. Examples of the solvent include water, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolitone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, amines such as ethylenediamine and diethylenetriamine Can be used. These may be used singly or in combination of two or more. Of these, water is preferred. The concentration of the PVA resin in the solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. If such a resin concentration is used, a uniform coating film adhered to the resin base material can be formed.

도포액에는 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 첨가제로는 예컨대, 가소제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 가소제로는, 예컨대, 에틸렌글리콜과 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면 활성제로는, 예컨대, 비이온 계면활성제를 들 수 있다. 이들은 얻어지는 PVA계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 더욱 더 향상시킬 목적으로 사용된다. 또 첨가제로는, 예컨대, 역접착 성분을 들 수 있다. 역접착 성분을 이용함으로써 수지 기재와 PVA계 수지층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 그 결과, 예컨대, 수지 기재에서 PVA계 수지층이 벗겨지는 등의 트러블을 억제하여 후술하는 염색, 수중 연신을 양호하게 실행할 수 있다. 역접착 성분으로서는, 예컨대, 아세토아세틸 변성PVA 등의 변성 PVA를 사용할 수 있다.The coating liquid may contain an additive. Examples of additives include plasticizers, surfactants, and the like. Examples of the plasticizer include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. Examples of the surfactant include nonionic surfactants. These are used for further improving the uniformity, dyeability and stretchability of the resulting PVA-based resin layer. As an additive, for example, an adherent component may be mentioned. Adhesion between the resin base material and the PVA resin layer can be improved by using the reverse adhesive component. As a result, troubles such as peeling of the PVA resin layer in the resin base can be suppressed, and dyeing and underwater stretching described later can be satisfactorily performed. As the reverse adhesive component, for example, modified PVA such as acetoacetyl modified PVA can be used.

도포액의 도포 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예컨대, 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 와이어바 코팅법, 딥 코팅법, 다이 코팅법, 커튼 코팅법, 스프레이 코팅법, 나이프 코팅법(코마 코팅법 등) 등을 들 수 있다.Any suitable method may be employed as the coating method of the coating liquid. For example, a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, and a knife coating method (coma coating method)

일 실시예에 있어서는 다이 코팅법이 채용된다. 다이 코팅법은 수지 기재와 다이(예컨대, 파운틴다이, 슬롯다이)의 간극을 일정하게 해서 도포액을 도포하므로, 두께의 균일성이 매우 우수한 도포막을 얻을 수 있다. 한편, 수지 기재에 요철이 발생하는 경우, 수지 기재―다이 립 간 거리가 균일하지 않아 균일한 도포막을 형성하기가 어려워진다. 그러므로 다이 코팅법을 채용하는 경우, 상기 가열 처리에 의한 효과를 현저하게 얻을 수 있다.In one embodiment, a die coating method is employed. In the die coating method, since the gap between the resin base material and the die (e.g., fountain die, slot die) is kept constant, the coating liquid is applied, so that a coating film having excellent thickness uniformity can be obtained. On the other hand, when unevenness is generated in the resin base material, the distance between the resin base material and the die lips is not uniform, and it becomes difficult to form a uniform coating film. Therefore, when the die coating method is employed, the effect of the heat treatment can be remarkably obtained.

상기 도포액을 건조 후의 PVA계 수지층의 두께가 바람직하게는 3㎛∼40㎛, 더욱 바람직하게는 3㎛∼20㎛가 되도록 도포한다. 상기 도포액의 도포·건조 온도는 바람직하게는 50℃ 이상이다.The above-mentioned coating liquid is applied so that the thickness of the dried PVA resin layer is preferably 3 탆 to 40 탆, more preferably 3 탆 to 20 탆. The coating and drying temperature of the coating liquid is preferably 50 DEG C or more.

바람직하게는 상기 가열 후에 연속하여 PVA계 수지층을 형성한다. 예컨대, 가열 후에 수지 기재를 권취하지 않고 수지 기재에 PVA계 수지층을 형성한다. 상기 가열에 의한 효과를 잘 얻을 수 있기 때문이다. Preferably, the PVA resin layer is continuously formed after the heating. For example, a PVA resin layer is formed on a resin substrate without winding the resin substrate after heating. This is because the effect of the heating can be obtained well.

또한 PVA계 수지층을 형성하기 전에 수지 기재의 PVA계 수지층을 형성하는 측으로 미리 초벌층(undercoat layer)(프라이머층)을 형성해도 된다. 프라이머층을 구성하는 재료로는 수지 기재와 PVA계 수지층의 양쪽에 어느 정도 강한 밀착력을 발휘하는 재료라면 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 투명성, 열 안정성, 연신성 등이 우수한 열 가소성 수지를 이용할 수 있다. 열 가소성 수지로는 예컨대, 아크릴 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐알코올계 수지 또는 그들의 혼합물을 들 수 있다.In addition, an undercoat layer (primer layer) may be previously formed on the side of the resin-based PVA resin layer before forming the PVA resin layer. The material constituting the primer layer is not particularly limited as long as it is a material exhibiting a strong adhesion to the resin base material and the PVA resin layer to some extent. For example, a thermoplastic resin having excellent transparency, thermal stability, stretchability and the like can be used. Examples of the thermoplastic resin include an acrylic resin, a polyolefin resin, a polyester resin, a polyvinyl alcohol resin or a mixture thereof.

A-5. 기타A-5. Other

일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재 롤로부터 수지 기재의 권출(권출 공정)과 수지 기재의 가열(가열 공정)과 PVA계 수지층의 형성(PVA계 수지층 형성 공정)을 연속하여 실시한다. 이와 같은 실시예에 따르면 상기 가열 처리에 의한 효과를 양호하게 얻을 수 있다. 본 실시예의 구체예로서는 도 4에 도시하는 바와 같이 긴 형상의 수지 기재를 반송하는 일련의 라인으로 권출하고, 가열 및 PVA계 수지층 형성 공정을 순차적으로 행하는 형태를 들 수 있다. 도 4에 도시하는 적층체 제조 장치(100)에는 수지 기재 롤(30)로부터 수지 기재(11)를 권출하는 권출 롤(40)과 수지 기재(11)를 가열하는 가열 장치(50)와 수지 기재(11)의 표면에 상기 PVA계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 장치(60)와, 도포된 도포액을 건조하는 건조 장치(70)와 적층체(10)를 권취하는 권취 롤(80)이 구비되어 있다. 이 밖에도 적층체 제조 장치(100)에는 복수의 반송롤(90)이 구비되어 있다.In one embodiment, the resin substrate is taken out from the resin base roll (unwinding step), the resin substrate is heated (heating step), and the PVA resin layer is formed (PVA resin layer forming step). According to this embodiment, the effect of the heat treatment can be satisfactorily obtained. As a specific example of this embodiment, there is a form in which the heating and the PVA resin layer forming step are sequentially performed by winding up a series of lines for conveying the resin substrate having a long shape as shown in Fig. 4 includes an unwinding roll 40 for winding a resin substrate 11 from a resin base roll 30, a heating device 50 for heating the resin base material 11, A coating apparatus 60 for applying a coating liquid containing the PVA resin to the surface of the base material 11, a drying apparatus 70 for drying the applied coating liquid and a take-up roll 80 are provided. In addition, the laminate manufacturing apparatus 100 is provided with a plurality of conveying rolls 90.

B. 연신 적층체B. Stretch laminate

본 발명의 연신 적층체는 상기 적층체를 연신함으로써 제작된다. 일 실시예에 있어서는 연신 적층체는 상기 적층체를 공중 연신 방식으로 연신 배율 1.5배 이상 3.0배 이하로 연신함으로써 제작된다. 적층체의 연신 방법의 상세함에 대해서는 후술하는 바와 같다. 연신 적층체에 있어서 PVA계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 막 두께 변동은 바람직하게는 0.25㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.20㎛ 이하이다. 연신 적층체에 있어서 PVA계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에서의 지상축 변동은 바람직하게는 0.50°이하, 더욱 바람직하게는 0.30°이하, 특히 바람직하게는 0.25°이하이다.The oriented laminate of the present invention is produced by stretching the above-mentioned laminate. In one embodiment, the oriented laminate is produced by stretching the above laminate to a drawing magnification of 1.5 times or more and 3.0 times or less by a pneumatic drawing method. The details of the stretching method of the laminate will be described later. The film thickness variation within the size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD) of the PVA resin layer in the drawn laminate is preferably 0.25 탆 or less, more preferably 0.20 탆 or less. In the stretched laminate, the PVA resin layer has a fluctuation in the slow axis within a size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD), preferably 0.50 deg. Or less, more preferably 0.30 deg. Or less, particularly preferably 0.25 deg. to be.

C. 편광막C. polarizer film

본 발명의 편광막은 상기 적층체의 PVA계 수지층을 편광막으로 하기 위한 처리를 실시함으로써 제작된다.The polarizing film of the present invention is produced by carrying out a treatment for converting the PVA resin layer of the laminate into a polarizing film.

상기 편광막으로 하기 위한 처리로는 예컨대, 염색 처리, 연신 처리, 불용화 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리를 들 수 있다. 이 처리들은 목적에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 또 처리 순서, 처리 시기, 처리 횟수 등을 적절하게 설정할 수 있다. 이하, 각각의 처리에 대해서 설명한다.Examples of the treatment for forming the polarizing film include a dyeing treatment, a stretching treatment, an insolubilizing treatment, a crosslinking treatment, a washing treatment, and a drying treatment. These processes can be appropriately selected according to the purpose. Also, the processing order, the processing timing, and the number of processing can be appropriately set. Each process will be described below.

(염색 처리)(Dyeing treatment)

상기 염색 처리는 대표적으로는 PVA계 수지층을 이색성 물질로 염색함으로써 행한다. 바람직하게는 PVA계 수지층에 이색성 물질을 흡착시킴으로써 행한다. 해당 흡착 방법으로서는 예컨대, 이색성 물질을 포함한 염색액에 PVA계 수지층(적층체)을 침지시키는 방법, PVA계 수지층에 해당 염색액을 도공하는 방법, 해당 염색액을 PVA계 수지층에 분무하는 방법 등을 들 수 있다. 바람직하게는 염색액에 적층체를 침지시키는 방법이다. 이색성 물질을 양호하게 흡착할 수 있기 때문이다.The dyeing treatment is typically performed by staining the PVA resin layer with a dichroic material. Preferably by adsorbing a dichroic substance to the PVA-based resin layer. Examples of the adsorption method include a method of immersing a PVA resin layer (laminate) in a dyeing solution containing a dichroic substance, a method of coating the PVA resin layer with the dye solution, a method of spraying the dye solution onto the PVA resin layer And the like. Preferably, the laminate is immersed in the dyeing solution. This is because the dichroic material can be adsorbed well.

상기 이색성 물질로는 예컨대, 요오드, 유기 염료를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 두 종류 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이색성 물질은 바람직하게는 요오드이다. 이색성 물질로 요오드를 사용하는 경우, 상기 염색액은 바람직하게는, 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 0.05 중량부∼5.0 중량부이다. 요오드의 물에 대한 용해도를 높이기 위해 요오드 수용액에 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물로는 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄 등을 들 수 있다. 이 중에서도 바람직하게는 요오드화칼륨이다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 0.3 중량부∼15 중량부이다.Examples of the dichroic material include iodine and organic dyes. These may be used alone or in combination of two or more. The dichroic material is preferably iodine. When iodine is used as the dichroic substance, the dyeing solution is preferably an iodine aqueous solution. The blending amount of iodine is preferably 0.05 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of water. In order to increase the solubility of iodine in water, it is preferable to add iodide to an aqueous solution of iodine. Examples of the iodide include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide and titanium iodide. Of these, potassium iodide is preferable. The compounding amount of iodide is preferably 0.3 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of water.

염색액의 염색 시 액체의 온도는 바람직하게는 20℃∼40℃이다. 염색액에 PVA계 수지층을 침지시킬 경우 침지 시간은 바람직하게는 10초∼300초이다. 이와 같은 조건이라면 PVA계 수지층에 충분히 이색성 물질을 흡착시킬 수 있다. 또 염색 조건(농도, 액체 온도, 침지 시간)은 최종적으로 얻을 수 있는 편광막의 편광도 혹은 단체 투과율이 소정의 범위가 되도록 설정할 수 있다. 일 실시예에 있어서는 얻을 수 있는 편광막의 편광도가 99.98% 이상이 되도록 침지 시간을 설정한다. 다른 실시예에서는 얻을 수 있는 편광막의 단체 투과율이 40%정도가 되도록 침지 시간을 설정한다.The temperature of the liquid during dyeing of the staining solution is preferably 20 ° C to 40 ° C. When the PVA resin layer is immersed in the dyeing solution, the immersion time is preferably 10 seconds to 300 seconds. Under such conditions, the dichroic material can be sufficiently adsorbed to the PVA resin layer. The dyeing conditions (concentration, liquid temperature, immersion time) can be set so that the polarization degree or the simple transmittance of the finally obtained polarizing film is in a predetermined range. In one embodiment, the immersion time is set so that the obtained degree of polarization of the polarizing film is 99.98% or more. In another embodiment, the immersion time is set so that the obtained polarizing film has a simple transmittance of about 40%.

(연신 처리)(Drawing process)

적층체 연신 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는 고정단 연신(예컨대, 텐터 연신기를 이용하는 방법)이어도 되고 자유단 연신(예컨대, 주속이 상이한 롤 간에 적층체를 통해서 일축 연신하는 방법)이어도 된다. 또 동시 이축 연신(예컨대, 동시 이축 연신기를 이용하는 방법)이어도 되고 순차적으로 이축 연신이어도 된다. 적층체의 연신은 한 단계로 행해도 되고, 다단계로 행해도 된다. 다단계로 행하는 경우 후술하는 적층체의 연신 배율(최대 연신 배율)은 각 단계의 연신 배율의 곱이다.Any suitable method may be employed for the laminate stretching method. Specifically, it may be a fixed-end stretching (for example, a method using a tenter stretcher) or a free-end stretching (for example, a method of uniaxially stretching between rolls different in circumferential speed). Further, simultaneous biaxial stretching (for example, a method using a simultaneous biaxial stretching machine) or biaxial stretching may be sequentially performed. The stretching of the laminate may be performed in one step or in multiple steps. In the case of multi-stage operation, the draw ratio (maximum draw ratio) of the laminate to be described later is the product of the draw ratio at each step.

연신 처리는 적층체를 연신욕에 침지시키면서 행하는 수중 연신 방식이어도 된고 공중 연신 방식이어도 된다. 바람직하게는 수중 연신 처리를 적어도 1회 실시하고, 더욱 바람직하게는 수중 연신 처리와 공중 연신 처리를 조합한다. 수중 연신에 의하면 상기 수지 기재나 PVA계 수지층의 유리 전이 온도(대표적으로는 80℃ 정도)보다 낮은 온도로 연신할 수 있고, PVA계 수지층을 그 결정화를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성(예컨대, 편광도)을 가진 편광막을 제조할 수 있다.The stretching treatment may be an in-water stretching method in which the laminate is immersed in a stretching bath, or a pneumatic stretching method. Preferably, the underwater stretching treatment is carried out at least once, and more preferably the underwater stretching treatment and the pneumatic stretching treatment are combined. According to the underwater stretching, the resin substrate or the PVA resin layer can be stretched at a temperature lower than the glass transition temperature (typically about 80 캜), and the PVA resin layer can be stretched at a high magnification while suppressing its crystallization. As a result, a polarizing film having excellent optical characteristics (for example, polarization degree) can be produced.

적층체 연신 방향으로는 임의의 적절한 방향을 선택할 수 있다. 일 실시예에 있어서는 긴 형상의 적층체의 길이 방향으로 연신한다. 구체적으로는 적층체를 길이 방향으로 반송하고 그 반송 방향(MD)이다. 다른 실시예에서는 긴 형상의 적층체의 폭 방향으로 연신한다. 구체적으로는 적층체를 길이 방향으로 반송하고 그 반송 방향(MD)과 직교하는 방향(TD)이다.Any suitable direction can be selected in the laminate elongation direction. In one embodiment, the elongated laminate is stretched in the longitudinal direction. Specifically, the laminate is transported in the longitudinal direction and its transport direction (MD). In another embodiment, the elongated laminate is stretched in the width direction. Specifically, it is the direction (TD) in which the stack is transported in the longitudinal direction and is perpendicular to the transport direction (MD).

적층체의 연신 온도는 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라서, 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 공중 연신 방식을 채용할 경우, 연신 온도는 바람직하게는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg) 이상이고, 더욱 바람직하게는 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)+10℃ 이상, 특히 바람직하게는 Tg+15℃ 이상이다. 한편 적층체의 연신 온도는 바람직하게는 170℃ 이하이다. 이와 같은 온도로 연신함으로써 PVA계 수지의 결정화가 급속하게 진행되는 것을 억제하여 해당 결정화에 의한 트러블(예컨대, 연신에 따른 PVA계 수지층의 배향을 방해)을 억제할 수 있다.The drawing temperature of the laminate can be set to any appropriate value in accordance with the forming material of the resin base material, the drawing method, and the like. In the case of adopting a pneumatic drawing method, the drawing temperature is preferably not less than the glass transition temperature (Tg) of the resin base, more preferably not less than the glass transition temperature (Tg) of the resin base + 10 DEG C or more, 15 ° C or higher. On the other hand, the stretching temperature of the laminate is preferably 170 占 폚 or less. By such stretching at such a temperature, rapid progress of crystallization of the PVA-based resin can be suppressed, and troubles due to the crystallization (for example, the orientation of the PVA-based resin layer due to stretching can be prevented) can be suppressed.

연신 방식으로서 수중 연신 방식을 채용할 경우, 연신욕의 액체 온도는 바람직하게는 40℃∼85℃ 더욱 바람직하게는 50℃∼85℃이다. 이와 같은 온도라면 PVA계 수지층의 용해를 억제하면서 높은 배율로 연신할 수 있다. 구체적으로는 상술한 바와 같이 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 PVA계 수지층의 형성과의 관계에서 바람직하게는 60℃ 이상이다. 이 경우 연신 온도가 40℃를 하회하면 물에 의한 수지 기재의 가소화를 고려하여도 양호하게 연신할 수 없을 우려가 있다. 한편 연신욕의 온도가 고온이 될수록 PVA계 수지층의 용해성이 높아져 우수한 광학 특성을 얻을 수 없을 우려가 있다.When an underwater stretching method is employed as the stretching method, the liquid temperature of the stretching bath is preferably 40 ° C to 85 ° C, more preferably 50 ° C to 85 ° C. With such a temperature, stretching can be performed at a high magnification while suppressing the dissolution of the PVA-based resin layer. Concretely, as described above, the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate is preferably 60 ° C or more in relation to the formation of the PVA-based resin layer. In this case, when the stretching temperature is lower than 40 캜, there is a possibility that the stretching can not be performed satisfactorily even considering the plasticization of the resin substrate by the water. On the other hand, as the temperature of the drawing bath becomes higher, the solubility of the PVA resin layer becomes higher, and there is a possibility that excellent optical characteristics can not be obtained.

수중 연신 방식을 채용할 경우 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것이 바람직하다(붕산 수중 연신). 연신욕으로서 붕산 수용액을 사용함으로써 PVA계 수지층에, 연신 시에 필요한 장력을 견디는 강성과, 물에 용해되지 않는 내수성을 부여할 수 있다. 구체적으로는 붕산은 수용액 중에서 테트라하이드록시붕산 음이온을 생성하여 PVA계 수지와 수소 결합에 의해 가교할 수 있다. 그 결과 PVA계 수지층에 강성과 내수성을 부여하여 양호하게 연신할 수 있어서 우수한 광학 특성을 가진 편광막을 제작할 수 있다.When the underwater stretching method is adopted, it is preferable to immerse the laminate in an aqueous boric acid solution to stretch it (stretching in boric acid in water). By using an aqueous boric acid solution as the drawing bath, the PVA-based resin layer can be provided with rigidity for enduring the tension required for drawing and water resistance not dissolving in water. Specifically, the boric acid can be crosslinked by hydrogen bonding with the PVA resin by generating a tetrahydroxyboric acid anion in an aqueous solution. As a result, the PVA resin layer can be stiffened and water-resistance imparted to the PVA resin layer, and a polarizing film having excellent optical characteristics can be produced.

상기 붕산 수용액은 바람직하게는 용매인 물에 붕산 및/또는 붕산염을 용해시킴으로써 얻을 수 있다. 붕산 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼10 중량부이다. 붕산 농도를 1 중량부 이상으로 함으로써, PVA계 수지층의 용해를 효과적으로 억제할 수 있어 보다 높은 특성을 가진 편광막을 제작할 수 있다. 또한 붕산 또는 붕산염 외에도 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르알데히드 등을 용매에 용해하여 얻어진 수용액도 사용할 수 있다.The aqueous solution of boric acid is preferably obtained by dissolving boric acid and / or borate in water as a solvent. The boric acid concentration is preferably 1 part by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of water. By setting the boric acid concentration to 1 part by weight or more, the dissolution of the PVA resin layer can be effectively suppressed, and a polarizing film having higher characteristics can be produced. In addition to boric acid or borate, an aqueous solution obtained by dissolving a boron compound such as borax, glyoxal, glutaraldehyde or the like in a solvent can also be used.

바람직하게는 상기 연신욕(붕산 수용액)에 요오드화물을 배합한다. 요오드화물을 배합함으로써 PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 구체예는, 상술한 바와 같다. 요오드화물의 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 0.05 중량부∼15 중량부 더욱 바람직하게는 0.5 중량부∼8 중량부이다.Preferably, iodide is added to the drawing bath (boric acid aqueous solution). By combining iodide, the elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. Specific examples of the iodide are as described above. The concentration of iodide is preferably 0.05 to 15 parts by weight, more preferably 0.5 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of water.

적층체의 연신욕으로의 침지 시간은 바람직하게는 15초∼5분이다.The immersing time of the laminate in the drawing bath is preferably 15 seconds to 5 minutes.

적층체의 연신률(최대 연신 배율)은 적층체의 원래의 길이에 대해서 대표적으로는 4.0배 이상 바람직하게는 5.0배 이상이다. 이와 같은 높은 연신 배율은, 예컨대,수중 연신 방식(붕산 수중 연신)을 채용함으로써 달성할 수 있다. 또한 본 명세서에서 “최대 연신 배율“이란 적층체가 파단하기 직전의 연신 배율을 의미하며 별도 적층체가 파단하는 연신 배율을 확인하고 그 값보다 0.2 작은 값을 말한다.The elongation percentage (maximum draw ratio) of the laminate is typically at least 4.0 times, and preferably at least 5.0 times, the original length of the laminate. Such a high stretching magnification can be achieved, for example, by adopting an in-water stretching method (boric acid in-water stretching). In the present specification, the "maximum draw ratio" means the draw ratio immediately before the laminate breaks, and refers to a value smaller than the value obtained by confirming the draw ratio at which the laminate breaks.

바람직하게는 수중 연신 처리는 염색 처리 후에 실시한다.Preferably, the underwater stretching treatment is carried out after the dyeing treatment.

(불용화 처리)(Insolubilization treatment)

상기 불용화 처리는 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 특히 수중 연신 방식을 채용하는 경우, 불용화 처리를 실시함으로써 PVA계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 해당 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼4 중량부이다. 불용화욕(붕산 수용액)의 액체 온도는 바람직하게는 20℃∼50℃이다. 바람직하게는 불용화 처리는 적층체 제작 후, 염색 처리나 수중 연신 처리 전에 실시한다.The insolubilization treatment is typically performed by immersing a PVA-based resin layer in an aqueous solution of boric acid. In particular, in the case of adopting an underwater stretching method, water resistance can be imparted to the PVA resin layer by performing the insolubilization treatment. The concentration of the boric acid aqueous solution is preferably 1 part by weight to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. The liquid temperature of the insoluble base (aqueous solution of boric acid) is preferably 20 ° C to 50 ° C. Preferably, the insolubilization treatment is carried out after the production of the laminate, before the dyeing treatment or underwater stretching treatment.

(가교 처리)(Crosslinking treatment)

상기 가교 처리는 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 가교 처리를 실시함으로써 PVA계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 해당 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼4 중량부이다. 또, 상기 염색 처리 후에 가교 처리를 하는 경우, 요오드화물을 배합하는 것이 더욱 바람직하다. 요오드화물을 배합함으로써 PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해서 바람직하게는 1 중량부∼5 중량부이다. 요오드화물의 구체예는 상술한 바와 같다. 가교욕(붕산 수용액)의 액체 온도는 바람직하게는 20℃∼50℃이다. 바람직하게는 가교 처리는 수중 연신 처리 전에 실시한다. 바람직한 실시예에서는 염색 처리, 가교 처리 및 수중 연신 처리를 이 순서대로 진행한다.The crosslinking treatment is typically performed by immersing a PVA-based resin layer in an aqueous solution of boric acid. By subjecting the PVA resin layer to crosslinking treatment, water resistance can be imparted to the PVA resin layer. The concentration of the boric acid aqueous solution is preferably 1 part by weight to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. When the cross-linking treatment is performed after the dyeing treatment, it is more preferable to blend iodide. By combining iodide, the elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. The blending amount of iodide is preferably 1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of water. Specific examples of the iodide are as described above. The liquid temperature of the crosslinking bath (boric acid aqueous solution) is preferably 20 ° C to 50 ° C. Preferably, the crosslinking treatment is carried out before the underwater stretching treatment. In a preferred embodiment, dyeing treatment, crosslinking treatment and underwater stretching treatment are carried out in this order.

(세정 처리)(Cleaning treatment)

상기 세정 처리는 대표적으로는 요오드화 칼륨 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다.The cleaning treatment is typically performed by immersing the PVA resin layer in an aqueous solution of potassium iodide.

(건조 처리)(Dry treatment)

건조 처리에서의 건조 온도는 바람직하게는 30℃∼100℃이다.The drying temperature in the drying treatment is preferably 30 ° C to 100 ° C.

얻어진 편광막은 실질적으로는 이색성 물질이 흡착 배향된 PVA계 수지막이다. 편광막의 두께는 바람직하게는 15㎛ 이하, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 7㎛ 이하, 특히 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 이러한 편광막은 환경 시험(예컨대, 80℃ 환경 시험)에서 크랙 등의 발생을 억제할 수 있다. 한편, 편광막의 두께는 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상이다. 이러한 편광막은 제조시 등에서 반송성이 매우 우수할 수 있다.The obtained polarizing film is substantially a PVA-based resin film in which a dichroic substance is adsorbed and oriented. The thickness of the polarizing film is preferably 15 占 퐉 or less, more preferably 10 占 퐉 or less, further preferably 7 占 퐉 or less, particularly preferably 5 占 퐉 or less. Such a polarizing film can suppress the occurrence of cracks or the like in an environmental test (for example, an environmental test at 80 캜). On the other hand, the thickness of the polarizing film is preferably 0.5 탆 or more, and more preferably 1.0 탆 or more. Such a polarizing film can be very excellent in transportability at the time of production and the like.

편광막은 바람직하게는 파장 380nm∼780nm 중의 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광막은 단체 투과율 42% 이상에서 편광도가 99.9% 이상인 것이 바람직하다.The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at a wavelength within a wavelength range of 380 nm to 780 nm. It is preferable that the polarizing film has a polarization degree of 99.9% or more at a single transmittance of 42% or more.

D. 편광판 D. Polarizer

본 발명의 편광판은 상기 편광막을 가진다. 바람직하게는 편광판은 상기 편광막과 이 편광막의 적어도 한편에 배치된 보호 필름을 가진다. 이 보호 필름으로서는 상기 수지 기재를 그대로 사용하여도 되고 상기 수지 기재와는 별도의 필름을 사용해도 된다. 보호 필름의 형성 재료로는 예컨대, (메타)아크릴 수지, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 보호 필름의 두께는 바람직하게는 10㎛∼100㎛이다.The polarizing plate of the present invention has the polarizing film. Preferably, the polarizing plate has the polarizing film and a protective film disposed on at least one of the polarizing film. As the protective film, the resin base material may be used as it is or a film separate from the resin base material may be used. Examples of the material for forming the protective film include cellulose resins such as (meth) acrylic resin, diacetylcellulose and triacetylcellulose, olefinic resins such as cycloolefin resins and polypropylene, and ester resins such as polyethylene terephthalate resins Resins, polyamide resins, polycarbonate resins, and copolymer resins thereof. The thickness of the protective film is preferably 10 mu m to 100 mu m.

상술한 바와 같이 일 실시예에 있어서는 상기 수지 기재는 편광막으로부터 박리되지 않고 보호 필름으로 그대로 사용할 수 있다. 다른 실시예에서는 편광막으로부터 상기 수지 기재가 박리되고 다른 필름을 적층한다. 보호 필름은 편광막에 접착층을 통해 적층해도 되고 밀착시켜(접착층을 통하지 않고) 적층해도 된다. 접착층은 대표적으로는 접착제 또는 점착제로 형성된다. 본 발명에 의하면, 두께의 균일성이 매우 우수한 편광막을 얻을 수 있으므로, 편광막으로의 보호 필름의 적층을 양호하게 행할 수 있다.As described above, in one embodiment, the resin base material can be used as a protective film without peeling from the polarizing film. In another embodiment, the resin substrate is peeled off from the polarizing film and another film is laminated. The protective film may be laminated to the polarizing film through the adhesive layer or may be laminated (without passing through the adhesive layer). The adhesive layer is typically formed of an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. According to the present invention, since a polarizing film having an excellent thickness uniformity can be obtained, it is possible to favorably laminate the protective film to the polarizing film.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해서 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이 실시예들로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1-1][Example 1-1]

(적층체의 제작)(Preparation of laminate)

흡수율 0.75%, 유리 전이 온도(Tg) 75℃의 비정질의 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA공중합 PET)로 구성되고 미리 115℃에서 2.0배로 TD연신된 긴 형상이고 두께 100㎛의 수지 기재를 장력 100N/m로 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로 하여 권취된 상태에서 25℃, 상대 습도 60% RH환경 하에 30일간 보관했다.A resin substrate made of amorphous isophthalic acid copolymerized polyethylene terephthalate (IPA copolymerized PET) having a water absorption rate of 0.75% and a glass transition temperature (Tg) of 75 캜 and TD-elongated TD stretched 2.0 times at 115 캜 in advance and having a thickness of 100 탆 was stretched at a tension of 100 N / m in a rolled resin base material roll and kept at 25 DEG C and 60% relative humidity for 30 days.

그 후 수지 기재 롤부터 수지 기재를 권출하고, 수지 기재를 반송시키면서 70℃에서 60초간 열 처리를 실시하였다.Thereafter, the resin base material was taken out from the resin base roll, and heat treatment was carried out at 70 DEG C for 60 seconds while conveying the resin base material.

이어서, 수지 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하였다. 이 코로나 처리 면에 폴리비닐알코올(중합도 4200, 감화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸변성PVA(중합도 1200, 아세토아세틸 변성도 4.6%, 감화도 99.0몰%이상, 일본 합성 화학 공업사 제품, 제품명“고세파이머 Z200(GOHSEFIMER Z200)”을 9:1의 비율로 포함하는 수용액을 25℃에서 다이 코팅법으로 도포한 후에 60℃에서 200초 동안 건조하여 두께 10㎛의 PVA계 수지층을 형성하여 적층체를 제작했다.Then, one surface of the resin substrate was subjected to corona treatment. (Polymerization degree: 4200, degree of saponification: 99.2 mol%) and acetoacetyl modified PVA (degree of polymerization: 1200, degree of acetoacetyl modification: 4.6%, degree of saponification: 99.0 mol% or more, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., (GOHSEFIMER Z200) " at a ratio of 9: 1 was applied by a die coating method at 25 DEG C and then dried at 60 DEG C for 200 seconds to form a PVA resin layer having a thickness of 10 mu m, .

(편광막의 제작)(Preparation of polarizing film)

얻어진 적층체를 115℃의 오븐 내에서 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 길이 방향으로 2.0배로 자유단 일축 연신했다(공중 연신).The resulting laminate was subjected to free-end uniaxial stretching in an oven at 115 DEG C in 2.0 times the longitudinal direction between rolls having different circumferential velocities (air drawing).

이어서 적층체를 액체 온도 30℃의 불용화욕(물 100중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Subsequently, the laminate was immersed (insolubilization treatment) for 30 seconds in an insolubilizing bath having a liquid temperature of 30 DEG C (an aqueous boric acid solution obtained by mixing 3 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water).

이어서 액체 온도 30℃의 염색욕(물에 요오드와 요오드화 칼륨을 중량비 1:7로 배합해서 얻어진 요오드 수용액)에 얻어지는 편광막의 단체 투과율(Ts)이 40%이하가 되도록 요오드 농도, 침지 시간을 조정하면서 침지시켰다(염색 처리).Subsequently, the iodine concentration and the immersion time were adjusted so that the single light transmittance (Ts) of the obtained polarizing film was 40% or less in a dyeing bath at a liquid temperature of 30 ° C (an iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide in water at a weight ratio of 1: 7) (Dyed).

이어서 액체 온도 30℃의 가교욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 3 중량부, 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Subsequently, the substrate was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide and 3 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 占 폚 for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후 적층체를 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(물 100 중량부에 대해서 붕산을 4 중량부, 요오드화 칼륨을 5 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시키면서 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 길이 방향으로 2.7배로 일축 연신을 행했다(수중 연신).Thereafter, the laminate was immersed in a boric acid aqueous solution having a liquid temperature of 70 DEG C (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid and 5 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) Uniaxial stretching was carried out by doubling (underwater stretching).

그 후 적층체를 액체 온도 30℃의 세정욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 4 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 10초간 침지시킨 후, 60℃의 온풍으로 60초 동안 건조시켰다(세정, 건조 공정).Thereafter, the laminate was immersed in a cleansing bath (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) for 10 seconds at a liquid temperature of 30 DEG C, and then dried for 60 seconds with hot air at 60 DEG C Drying process).

이렇게 해서 수지 기재 상에 두께 5㎛의 편광막을 형성했다.Thus, a polarizing film having a thickness of 5 占 퐉 was formed on the resin substrate.

[실시예 1-2][Example 1-2]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 75℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was changed to 75 캜 in the production of the laminate.

[실시예 1-3][Example 1-3]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 80℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1 except that the temperature of the heat treatment was changed to 80 캜 in the production of the laminate.

[실시예 1-4][Example 1-4]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 90℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1 except that the temperature of the heat treatment was changed to 90 캜 in the production of the laminate.

[실시예 1-5][Example 1-5]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 100℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature of the heat treatment was changed to 100 캜 in the production of the laminate.

[실시예 2-1][Example 2-1]

(적층체의 제작) (Preparation of laminate)

실시예 1-1과 동일하게 하여 적층체를 제작했다.A laminate was produced in the same manner as in Example 1-1.

(편광막의 형성)(Formation of polarizing film)

얻어진 적층체를 115℃의 가열 하에서 텐터 연신기를 이용하여 자유단 일축 연신하여 폭 방향으로 4.0배로 연신했다(연신 처리).The laminate thus obtained was subjected to free-end uniaxial stretching using a tenter stretcher under heating at 115 캜 and stretched 4.0 times in the width direction (stretching treatment).

이어서 적층체를 액체 온도 30℃의 불용화욕(물 100 중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Subsequently, the laminate was immersed (insolubilization treatment) for 30 seconds in a insolubilizing bath having a liquid temperature of 30 DEG C (an aqueous boric acid solution obtained by mixing 3 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water).

이어서 액체 온도 30℃의 염색욕(물에 요오드와 요오드화 칼륨을 중량비 1:7로 배합해서 얻어진 요오드 수용액)에 얻어지는 편광막의 단체 투과율(單體透過率)(Ts)이 40% 이하가 되도록 요오드 농도, 침지 시간을 조정하면서 침지시켰다(염색 처리).Subsequently, the iodine concentration (iodine concentration) was measured so that the single transmittance (Ts) of the obtained polarizing film was 40% or less in a dyeing bath having a liquid temperature of 30 DEG C (iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide in water at a weight ratio of 1: 7) , And immersed while adjusting the immersion time (dyeing treatment).

이어서 액체 온도 30℃의 가교욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 3 중량부, 붕산을 3 중량부 배합해서 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Subsequently, the substrate was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide and 3 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 占 폚 for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후 적층체를 액체 온도 30℃의 세정욕(물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 4 중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 10초간 침지시킨 후 60℃의 온풍으로 60초 동안 건조시켰다(세정, 건조 공정).Thereafter, the laminate was immersed in a cleansing bath (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 DEG C for 10 seconds, followed by drying for 60 seconds with hot air at 60 DEG C fair).

이와 같이 하여 수지 기재 상에 두께 2.5㎛의 편광막을 형성했다.Thus, a polarizing film having a thickness of 2.5 mu m was formed on the resin substrate.

[실시예 2-2][Example 2-2]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 75℃로 한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the temperature of the heat treatment was changed to 75 캜 in the production of the laminate.

[실시예 2-3][Example 2-3]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 100℃로 한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the temperature of the heat treatment was changed to 100 캜 in the production of the laminate.

[비교예 1-1][Comparative Example 1-1]

적층체의 제작에 있어서 열 처리를 실시하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1, except that the heat treatment was not performed in the production of the laminate.

[비교예 1-2][Comparative Example 1-2]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 50℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 1-1 except that the temperature of the heat treatment was changed to 50 캜 in the production of the laminate.

[비교예 1-3][Comparative Example 1-3]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 55℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1-1 except that the temperature of the heat treatment was changed to 55 캜 in the production of the laminate.

[비교적 2-1][Relative 2-1]

적층체의 제작에 있어서 열 처리의 온도를 55℃로 한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일하게 하여 수지 기재 상에 편광막을 형성했다.A polarizing film was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the temperature of the heat treatment was changed to 55 캜 in the production of the laminate.

(평가)(evaluation)

각 실시예 및 비교예에 대해서 이하의 평가를 실시하였다.The following evaluations were conducted on each of the examples and comparative examples.

1. 막 두께 변동1. Film thickness variation

(I) 폴리비닐알코올 수용액을 도포하고 건조시킨 후(연신 전) 및 (II) 공중 연신 후의 PVA계 수지층의 막 두께를 오오츠카 전자 제품인 “MCPD3000”을 이용하여 측정했다. 결점부를 포함한 부분(원래 게이지 밴드가 있던 부분)을 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈로 잘라 내어 측정 샘플로 하고 그 막 두께를 MD, TD 모두 1mm 피치로 면 내 측정하고 결점부의 최대 막 두께와 최소 막 두께의 차이를 평가했다.The film thickness of the PVA resin layer after (I) polyvinyl alcohol aqueous solution was applied and dried (before stretching) and (II) pneumatic stretching was measured using "MCPD3000" manufactured by Otsuka Electronics. The portion including the defect portion (the portion where the gauge band originally existed) was cut into a size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD), and the film thickness was measured in a plane of 1 mm in both MD and TD, The difference between the thickness and the minimum film thickness was evaluated.

2. 지상축 변동·흡수축 변동2. Variations of ground axis and absorption axis

(I) 폴리비닐알코올 수용액을 도포하고 건조한 후(연신 전)의 PVA계 수지층의 지상축 방향, (II) 공중 연신 후의 PVA계 수지층의 지상축 방향 및 (III) 편광막의 흡수축 방향을 Axometrics사 제품인 “Axoscan”을 이용하여 측정했다. 결점부를 포함한 부분을 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈로 잘라 내어 측정 샘플로 하고 면 내에 있어서의 결점부의 최대축 방향 차를 측정했다. 또한 (I) 및 (II)에 대해서는 유리판에 점착제층을 통해서 PVA계 수지층을 맞붙힌 후 수지 기재를 박리하여 PVA계 수지층의 지상축을 측정했다.(II) the slow axis direction of the PVA-based resin layer after the pneumatic stretching and the absorption axis direction of the (III) polarizing film after (I) a polyvinyl alcohol aqueous solution is applied and dried (before stretching) Axoscan " manufactured by Axometrics. The portion including the defect portion was cut into a size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD) to obtain a measurement sample, and the maximum axial difference of the defect portion in the surface was measured. For (I) and (II), the PVA resin layer was attached to a glass plate through a pressure-sensitive adhesive layer, and the resin substrate was peeled off to measure the slow axis of the PVA resin layer.

3. 외관3. Appearance

(I) 폴리비닐알코올 수용액을 도포하고 건조한 후(연신 전)의 PVA계 수지층(I) a polyvinyl alcohol aqueous solution is applied and dried (before stretching), the PVA-based resin layer

(II) 공중 연신 후의 PVA계 수지층 및 (III)편광막의 외관을 육안으로 관찰했다.(II) the PVA resin layer after the air drawing and (III) the polarizing film were visually observed.

(I) 및 (II)에 관해서는 도 5(a)에 도시하는 바와 같이 적층체(샘플)의 상하 각각에 시판의 편광판을 중합시킨 상태로 하부로부터 광을 조사하고 상방에서 육안으로 관찰했다. 그때 2장의 편광판을 서로의 흡수축이 직교하도록 배치하고 적층체 연신 방향과, 하측의 편광판의 흡수축이 직교하도록 배치했다.(I) and (II), as shown in Fig. 5 (a), a commercially available polarizing plate was polymerized on each of the upper and lower sides of the laminate (sample). At that time, the two polarizing plates were arranged so that their absorption axes were orthogonal to each other, and the laminate elongation direction and the absorption axis of the lower polarizing plate were orthogonal to each other.

(III)에 관해서는 도 5(b)에 도시하는 바와 같이 적층체(샘플) 아래에 시판의 편광판을 중합시킨 상태로 하부로부터 빛을 조사하고 상방에서 육안으로 관찰했다. 그때, 적층체의 편광막의 흡수축과 하측의 편광판의 흡수축이 직교하도록 배치했다.(III), as shown in Fig. 5 (b), a commercially available polarizing plate was polymerized under a layered product (sample), and light was irradiated from the bottom and observed from above. At that time, the absorption axis of the polarizing film of the laminate and the absorption axis of the lower polarizing plate were arranged to be perpendicular to each other.

또한 표 1에 도시하는 평가 기준은 다음과 같다.The evaluation criteria shown in Table 1 are as follows.

○: 결점부의 변동이 시인 불가○: Variation of defects is not allowed

×: 결점부의 변동이 시인 가능X: Variation of defects is visible

4. 편광도4. Polarization degree

분광 광도계(무라카미 색채사 제품, 제품명 “Dot-41”)를 사용하여 편광막의 단체 투과율(Ts), 평행 투과율(Tp) 및 직교 투과율(Tc)을 측정하고 편광도(P)를 다음 식으로 구했다. 또한 이 투과율들은 JIS Z 8701의 2도 시야(C광원)에 의해 측정하고 시감도 보정을 실시한 Y값이다. (Ts), a parallel transmittance (Tp) and a quadrature transmittance (Tc) of a polarizing film were measured using a spectrophotometer (product of Murakami Color Company, product name "Dot-41") and the degree of polarization P was obtained by the following formula . These transmittances are Y values measured by the second view field (C light source) of JIS Z 8701 and subjected to visibility correction.

편광도(P)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100Polarization degree (P) = {(Tp-Tc) / (Tp + Tc)} 1/2 100

Figure pct00001
Figure pct00001

실시예에서는 모든 시점에 있어서 PVA계 수지층의 막 두께 변동 및 지상축 변동·흡수축 변동이 억제되어 있었다. 외관 또한 우수했다. 또한 실시예 1-5 및 실시예 2-3에서는 주름 발생이 육안으로 확인됐다. 이는 가열 처리에 의해 수지 기재에 발생한 열 주름에 의한 것으로 생각할 수 있다.The film thickness variation and the ground axis variation and the absorption axis variation of the PVA resin layer were suppressed at all the time points in the Examples. The appearance was also excellent. In Examples 1-5 and 2-3, wrinkles were visually observed. It can be considered that this is caused by heat wrinkles generated in the resin substrate by the heat treatment.

[산업상의 이용 가능성][Industrial Availability]

본 발명의 편광막은 예컨대, 화상 표시 장치에 가장 적합하게 사용될 수 있다. 구체적으로는 액정 텔레비전, 액정 디스플레이, 휴대폰, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대 게임기, 자동차 내비게이션, 복사기, 프린터, 팩스, 시계, 전자 레인지 등의 액정 패널, 유기 EL 디바이스의 반사 방지판 등으로 적합하게 사용된다.The polarizing film of the present invention can be most suitably used, for example, in an image display apparatus. Specifically, it is suitably used as a liquid crystal panel such as a liquid crystal television, a liquid crystal display, a mobile phone, a digital camera, a camcorder, a portable game machine, a car navigation system, a copier, a printer, a fax machine, a clock, a microwave oven, .

10: 적층체
11: 수지 기재
12: 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층
10:
11: resin substrate
12: polyvinyl alcohol (PVA) -based resin layer

Claims (23)

수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 공정과,
상기 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하는 공정을 이 순서대로 포함하는 적층체의 제조 방법.
A step of heating the resin base material to a glass transition temperature (Tg) of -15 ° C or higher of the resin base material,
And a step of forming a polyvinyl alcohol-based resin layer on the resin substrate in this order.
제1항에 있어서, 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하여 상기 가열 공정을 행하는 제조 방법.The manufacturing method according to claim 1, wherein the resin substrate is wound from a resin base roll wound in a roll shape to form a long resin base material, and the heating step is performed. 제2항에 있어서, 상기 권취된 상태로 보관한 후에 상기 가열 공정을 행하는 제조 방법.The manufacturing method according to claim 2, wherein the heating step is performed after being stored in the wound state. 제2항에 있어서, 상기 권출하는 공정과 상기 가열 공정과 상기 폴리비닐알코올계 수지층 형성 공정을 연속하여 행하는 제조 방법.The manufacturing method according to claim 2, wherein the step of winding, the step of heating, and the step of forming the polyvinyl alcohol-based resin layer are continuously performed. 제1항에 있어서, 상기 가열 공정을 상기 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)+15℃ 이하에서 행하는 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the heating step is performed at a glass transition temperature (Tg) + 15 ° C or less of the resin base material. 제1항에 있어서, 상기 가열 공정을 가열로 내에 설치된 반송롤로 상기 수지 기재를 반송하면서 행하는 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the heating step is carried out while conveying the resin base material with a conveying roll provided in a heating furnace. 제6항에 있어서, 상기 가열로 내의 반송롤의 포각이 90°이상인 제조 방법.The manufacturing method according to claim 6, wherein the angle of the conveying rolls in the heating furnace is 90 degrees or more. 제6항에 있어서, 상기 가열로 내의 반송롤의 중심 간 거리가 2m 이하인 제조 방법.The production method according to claim 6, wherein the center-to-center distance of the transport rolls in the heating furnace is 2 m or less. 제1항에 있어서, 상기 가열 공정을 텐터로 상기 수지 기재를 반송하면서 행하는 제조 방법.The manufacturing method according to claim 1, wherein the heating step is carried out while conveying the resin base material with a tenter. 제1항에 있어서, 상기 가열에 의한 수지 기재의 수축률이 3% 이하인 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the shrinkage percentage of the resin base material by heating is 3% or less. 제1항에 있어서, 상기 수지 기재가 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 형성되어 있는 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the resin substrate is formed of a polyethylene terephthalate resin. 제1항에 있어서, 상기 수지 기재가 미리 연신되어 있는 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the resin substrate is stretched in advance. 제1항에 있어서, 상기 폴리비닐알코올계 수지층이 상기 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 다이코팅법으로 도포하고 건조함으로써 형성되는 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the polyvinyl alcohol-based resin layer is formed by applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on the resin substrate by a die coating method and drying the coating liquid. 제1항에 기재된 제조 방법으로 얻어진 적층체를 사용하는 편광막의 제조 방법.A method for producing a polarizing film using the laminate obtained by the manufacturing method according to claim 1. 제14항에 있어서, 상기 적층체를 연신하는 공정을 포함하는 편광막의 제조 방법.15. The method of manufacturing a polarizing film according to claim 14, comprising a step of stretching the laminate. 제14항에 기재된 제조 방법으로 얻어진 편광막에 보호 필름을 적층하는 공정을 포함하는 편광판의 제조 방법.A process for producing a polarizing plate comprising a step of laminating a protective film on a polarizing film obtained by the manufacturing method according to claim 14. 수지 기재와 해당 수지 기재 상에 형성된 폴리비닐알코올계 수지층을 갖는 연신 적층체로서,
상기 폴리비닐알코올계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에 있어서의 막 두께 변동이 0.25μm 이하이고, 또한 상기 폴리비닐알코올계 수지층의 200mm(MD)×200mm(TD)의 사이즈 내에 있어서의 지상축 변동이 0.50°이하인 연신 적층체.
A stretched laminate having a resin substrate and a polyvinyl alcohol-based resin layer formed on the resin substrate,
(MD) x 200 mm (TD) of the polyvinyl alcohol-based resin layer in the size of 200 mm (MD) x 200 mm (TD) of the polyvinyl alcohol-based resin layer is 0.25 m or less Wherein a variation of the slow axis in the size is 0.50 or less.
긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 수단과,
상기 긴 형상의 수지 기재를 반송하는 반송롤을 구비하고 상기 수지 기재를 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 가열로와,
가열된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 수단을 구비하는 적층체 제조 장치.
A winding means for winding the resin base material from a resin base roll wound in a roll shape in a long resin base material,
A heating furnace provided with a conveying roll for conveying the elongated resin substrate and heating the resin substrate to a glass transition temperature (Tg) of -15 ° C or higher of the resin substrate;
And a coating means for applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on a heated resin base material.
제18항에 있어서, 상기 가열로 내에 설치된 반송롤에서 상기 수지 기재를 반송하면서 가열하는 제조 장치.The manufacturing apparatus according to claim 18, wherein the resin substrate is transported while being heated in a transport roll provided in the heating furnace. 제18항에 있어서, 상기 가열로 내의 반송롤의 포각이 90°이상인 제조 장치.19. The manufacturing apparatus according to claim 18, wherein the angle of the conveying roll in the heating furnace is 90 DEG or more. 제18항에 있어서, 상기 가열로 내의 반송롤의 중심 간 거리가 2m 이하인 제조 장치.19. The production apparatus according to claim 18, wherein a distance between centers of the transport rolls in the heating furnace is 2 m or less. 긴 형상의 수지 기재가 롤 형상으로 권취된 수지 기재 롤로부터 해당 수지 기재를 권출하는 권출 수단과,
상기 긴 형상의 수지 기재 양 단부를 파지하여 반송하는 텐터를 구비하고, 상기 텐터의 클립으로 양 단부가 파지된 상기 수지 기재에 대하여 해당 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)-15℃ 이상으로 가열하는 가열 수단과,
가열된 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 수단을 구비하는 적층체 제조 장치.
A winding means for winding the resin base material from a resin base roll wound in a roll shape in a long resin base material,
(Tg) of the resin base material to -15 占 폚 or higher with respect to the resin base material held at both ends by a clip of the tenter, and a tenter for holding and conveying both ends of the elongated resin base material Heating means,
And a coating means for applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on a heated resin base material.
제22항에 있어서, 상기 텐터로 상기 수지 기재를 반송하면서 가열하는 제조 장치.23. The manufacturing apparatus according to claim 22, wherein the resin substrate is heated while being transported by the tenter.
KR1020177004312A 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate KR102450433B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020227020960A KR20220092637A (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020217007420A KR102450442B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2014-145574 2014-07-16
JP2014145574 2014-07-16
JP2015004658A JP6109862B2 (en) 2014-07-16 2015-01-14 Manufacturing method of laminate
JPJP-P-2015-004658 2015-01-14
PCT/JP2015/053071 WO2016009663A1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217007420A Division KR102450442B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020227020960A Division KR20220092637A (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170039191A true KR20170039191A (en) 2017-04-10
KR102450433B1 KR102450433B1 (en) 2022-10-05

Family

ID=55078169

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177004312A KR102450433B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020217007420A KR102450442B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020227020960A KR20220092637A (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020227020962A KR102580445B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217007420A KR102450442B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020227020960A KR20220092637A (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate
KR1020227020962A KR102580445B1 (en) 2014-07-16 2015-02-04 Method for producing laminate

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6109862B2 (en)
KR (4) KR102450433B1 (en)
CN (2) CN109910410B (en)
TW (2) TWI660846B (en)
WO (1) WO2016009663A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105729962B (en) * 2014-12-24 2018-01-05 住友化学株式会社 The manufacture method of polarizing coating, polarizer and polarizing coating
CN105223639B (en) * 2015-11-16 2019-06-25 云南云天化股份有限公司 The preparation method of slim Pva Polarizing Film
JP2017173793A (en) * 2016-03-22 2017-09-28 住友化学株式会社 Polarizer, polarization film, and method for producing polarizer
CN107219583B (en) * 2016-03-22 2021-12-03 住友化学株式会社 Polarizing plate, polarizing film, and method for producing polarizing plate

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110139115A (en) * 2010-06-21 2011-12-28 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Polarizing film and process for producing for polarizing plate
JP2012058383A (en) * 2010-09-07 2012-03-22 Nitto Denko Corp Method for producing thin polarizing film
JP2014074786A (en) * 2012-10-04 2014-04-24 Nitto Denko Corp Method for manufacturing stretched laminate

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4661504B2 (en) * 2005-09-29 2011-03-30 富士フイルム株式会社 Thermoplastic resin film and method for producing the same
JP2008122502A (en) * 2006-11-09 2008-05-29 Sumitomo Chemical Co Ltd Method of manufacturing polarizing plate
JP4651054B2 (en) * 2008-04-11 2011-03-16 日東電工株式会社 Manufacturing method of polarizer and wet stretching apparatus used therefor
JP4868266B2 (en) * 2010-03-31 2012-02-01 住友化学株式会社 Method for producing laminated film and method for producing polarizing plate
JP5563412B2 (en) * 2010-09-07 2014-07-30 日東電工株式会社 Manufacturing method of thin polarizing film
JP6045826B2 (en) * 2012-07-09 2016-12-14 住友化学株式会社 Manufacturing method of polarizing plate

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110139115A (en) * 2010-06-21 2011-12-28 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Polarizing film and process for producing for polarizing plate
JP2012058383A (en) * 2010-09-07 2012-03-22 Nitto Denko Corp Method for producing thin polarizing film
JP2014074786A (en) * 2012-10-04 2014-04-24 Nitto Denko Corp Method for manufacturing stretched laminate

Also Published As

Publication number Publication date
KR102450433B1 (en) 2022-10-05
TW201604016A (en) 2016-02-01
CN106537196B (en) 2020-02-07
KR20220093005A (en) 2022-07-04
JP6109862B2 (en) 2017-04-05
WO2016009663A1 (en) 2016-01-21
CN106537196A (en) 2017-03-22
JP2016028875A (en) 2016-03-03
KR20210031544A (en) 2021-03-19
KR102580445B1 (en) 2023-09-21
TW201919909A (en) 2019-06-01
TWI660846B (en) 2019-06-01
KR102450442B1 (en) 2022-10-06
TWI693156B (en) 2020-05-11
CN109910410A (en) 2019-06-21
KR20220092637A (en) 2022-07-01
CN109910410B (en) 2021-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101943664B1 (en) Method of producing thin polarizing film
JP5162695B2 (en) Manufacturing method of thin polarizing film
KR101430801B1 (en) Polarizing membrane and polarizing film
CN105739005B (en) Method for manufacturing polarizing plate
TWI693156B (en) Manufacturing method of laminate
TWI580574B (en) Method for manufacturing optical continuum
KR101738801B1 (en) Method for producing polarizing film
JP6050881B2 (en) Manufacturing method of laminate
JP6410503B2 (en) Manufacturing method of laminate
KR102625781B1 (en) Method for manufacturing optical laminates
JP6656444B2 (en) Manufacturing method of polarizing plate
JP2016078219A (en) Manufacturing method of resin film
CN115989138A (en) Optical laminate and method for manufacturing polarizing plate using same
KR20230082573A (en) Method for manufacturing polarizer and method for manufacturing polarizing plate
KR20160079666A (en) Method of manufacturing polarizing plate

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant