KR20210029937A - Optical functional pattern structure having optical refleting layer - Google Patents

Optical functional pattern structure having optical refleting layer Download PDF

Info

Publication number
KR20210029937A
KR20210029937A KR1020190111234A KR20190111234A KR20210029937A KR 20210029937 A KR20210029937 A KR 20210029937A KR 1020190111234 A KR1020190111234 A KR 1020190111234A KR 20190111234 A KR20190111234 A KR 20190111234A KR 20210029937 A KR20210029937 A KR 20210029937A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
oxide layer
functional oxide
pattern structure
photofunctional
diffraction pattern
Prior art date
Application number
KR1020190111234A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102263833B1 (en
KR102263833B9 (en
Inventor
김현석
Original Assignee
주식회사 와이즈가드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 와이즈가드 filed Critical 주식회사 와이즈가드
Priority to KR1020190111234A priority Critical patent/KR102263833B1/en
Publication of KR20210029937A publication Critical patent/KR20210029937A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102263833B1 publication Critical patent/KR102263833B1/en
Publication of KR102263833B9 publication Critical patent/KR102263833B9/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Abstract

The present specification discloses a photofunctional pattern structure including a functional oxide layer. The photofunctional pattern structure of the present invention comprises: a base substrate; a diffraction pattern formed on the base substrate and capable of reflecting or transmitting light incident from the outside in a specific shape; and a functional oxide layer formed by being deposited on the diffraction pattern and including at least one selected from a group consisting of SiO2 and TiO2.

Description

기능성 산화물층을 포함하는 광기능성 패턴 구조물{OPTICAL FUNCTIONAL PATTERN STRUCTURE HAVING OPTICAL REFLETING LAYER}Optical functional pattern structure including a functional oxide layer {OPTICAL FUNCTIONAL PATTERN STRUCTURE HAVING OPTICAL REFLETING LAYER}

본 명세서는 광기능성 패턴 구조물에 관한 것으로, 보다 구체적으로 기능성 산화물층을 포함하는 광기능성 패턴 구조물에 관한 것이다.The present specification relates to a photofunctional pattern structure, and more particularly, to a photofunctional pattern structure including a functional oxide layer.

회절 광학 소자(DOE: Diffraction Optical Element)는 나노 패턴을 통해 빛을 효율적인 방식으로 분산 또는 집중시킬 수 있는 소자를 의미한다. 최근 DOE를 다양한 분야에 적용하고 있으며, 예를 들면 레이저 소재 가공을 위한 생산 시설, 의료용 레이저 치료 및 진단 장비, 조명, 인쇄 기술, 석판 인쇄 등의 분야, 측정 및 계측 시스템을 들 수 있다.Diffraction Optical Element (DOE) refers to a device capable of dispersing or concentrating light in an efficient manner through a nano pattern. Recently, DOE has been applied to various fields, for example, production facilities for laser material processing, medical laser treatment and diagnostic equipment, lighting, printing technology, fields such as lithography, and measurement and measurement systems.

DOE를 이용하면 빛의 손실을 최소화하면서 빛을 분산시켜 원하는 곳으로 보내는 것이 가능해지므로 전력 사용을 최소화할 수 있고 광원에 따라서 다양한 형태를 빛으로 구현할 수 있게 된다. 그러나 아직까지 DOE를 이용한 제품이 상용화되었다고 볼 수는 없으므로 DOE 제품의 상용화가 시급한 실정이다.With DOE, it is possible to disperse and send light to a desired place while minimizing light loss, thus minimizing power use and implementing various forms of light depending on the light source. However, the commercialization of DOE products is urgent because the products using DOE have not yet been commercialized.

특히, DOE를 이용한 제품 중 일례로 진위 여부를 판별할 수 있는 장치를 제작할 수 있는데 이는 최근 소프트웨어, CD, DVD, 유가증권, 양주, 약품 등과 같은 고가 물품의 위조 빈도가 증가하고 있으며, 이에 따른 기업의 신뢰도 손실, 소비자의 피해가 보고되고 있는 시점에 반드시 필요한 기술이라 할 수 있다.In particular, as an example of products using DOE, it is possible to manufacture a device that can determine the authenticity. This is a recent increase in the frequency of counterfeiting of expensive goods such as software, CDs, DVDs, securities, liquor, and drugs. It can be said that it is a necessary skill at the time when the loss of reliability of the company and damage to the consumer are reported.

진위를 판별하기 위한 제품의 대표로 홀로그램을 들 수 있으나, 홀로그램으로 기록될 수 있는 정보에는 한계가 있고 정교한 홀로그램을 제작하기 어려운 문제가 있다. 또한, 복제가 매우 용이하다는 문제가 있다. A hologram is a representative product for determining the authenticity, but there is a limitation in the information that can be recorded as a hologram, and it is difficult to produce an elaborate hologram. In addition, there is a problem that replication is very easy.

또 다른 제품으로는 QR코드와 같이 이미지에 정보를 입력하여 스마트폰으로 이미지를 인식시키면 진위 여부를 식별할 수 있는 제품이 있다. 이러한 이미지 바탕 제품은 심미적 특성을 줄 수 있으나, 고화질 스캐너 기술이 개발되고 그 기술이 점점 고도화되면서 복제가 매우 용이 해진다는 문제가 있다.Another product is a product that can identify authenticity by entering information into an image such as a QR code and recognizing the image with a smartphone. Such image-based products can give aesthetic characteristics, but there is a problem that reproduction becomes very easy as high-definition scanner technology is developed and the technology is gradually advanced.

또한, 자기장 스티커를 이용하여 진위 여부를 판별하는 특수 장비 제품 등이 있으나, 이러한 제품들은 말 그대로 자석과 같은 특수 장비가 구비되어야 진위 여부를 판별할 수 있어 소비자들에게 불편함을 제공한다.In addition, there are special equipment products that determine authenticity using magnetic field stickers, but these products literally provide inconvenience to consumers as they can determine authenticity only when special equipment such as magnets are provided.

DOE를 이용하는 경우, 소비자들이 용이하게 진위여부를 판별할 수 있는 제품을 제작할 수 있으며 이를 통해 기업의 신뢰도 회복 및 위조 제품 판매업체의 소비자 기만을 막을 수 있으며, 소비자들의 피해를 최소화할 수 있으므로 이러한 기술 개발이 시급한 실정이다.In the case of using DOE, it is possible to manufacture a product that allows consumers to easily determine whether or not it is authentic, and through this, it is possible to restore the company's credibility and prevent consumer deception by counterfeit product sellers. This technology can minimize damage to consumers. Development is urgent.

본 명세서는 기능성 산화물층을 포함하는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.The present specification provides a photofunctional pattern structure including a functional oxide layer.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물은, 베이스 기재, 상기 베이스 기재 상에 형성되며, 외부로부터 입사되는 광을 특정 형상으로 반사 또는 투과시킬 수 있는 회절 패턴, 상기 회절 패턴 상에 증착되어 형성되는 기능성 산화물층을 포함한다.The photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention for solving the above problems is a base substrate, a diffraction pattern formed on the base substrate and capable of reflecting or transmitting light incident from the outside in a specific shape, the It includes a functional oxide layer formed by depositing on the diffraction pattern.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기능성 산화물층은 SiO2 및 TiO2로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the functional oxide layer provides a photofunctional pattern structure comprising at least one selected from the group consisting of SiO 2 and TiO 2.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기능성 산화물층은 제1 기능성 산화물층 및 제2 기능성 산화물층을 포함하며, 상기 제1 기능성 산화물층 및 상기 제2 기능성 산화물층은 SiO2 및 TiO2 중 어느 하나로 각각 증착되어 형성되는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the functional oxide layer includes a first functional oxide layer and a second functional oxide layer, and the first functional oxide layer and the second functional oxide layer are SiO 2 and TiO 2 It provides a photo-functional pattern structure, characterized in that formed by depositing each of any one.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기능성 산화물층은 5nm 내지 100um의 두께로 상기 회절 패턴 상에 증착되는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the functional oxide layer is provided with a photofunctional pattern structure, characterized in that deposited on the diffraction pattern with a thickness of 5nm to 100um.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기능성 산화물층 상에 증착되어 상기 기능성 산화물층을 커버하는 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, there is provided a photofunctional pattern structure further comprising a protective layer deposited on the functional oxide layer to cover the functional oxide layer.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 광의 종류는 하나 이상이며, 각각 독립적으로 380nm 내지 800nm에서 적어도 하나의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, there is provided a photofunctional pattern structure, characterized in that the type of light is at least one, and each independently has at least one wavelength in the range of 380nm to 800nm.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 광기능성 패턴 구조물은 기재 상에 형성된 회절 패턴 상에 무기 산화물을 포함하는 기능성 산화물층을 통하여, 외부로부터 입사되는 광을 반사시켜 회절 패턴의 프로파일에 따라 이미지를 형성할 수 있다.The photofunctional pattern structure according to an exemplary embodiment of the present specification reflects light incident from the outside through a functional oxide layer including an inorganic oxide on a diffraction pattern formed on a substrate to form an image according to the profile of the diffraction pattern. I can.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물의 작동 원리를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view for explaining the principle of operation of the photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating a photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 출원의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 출원의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail in order to describe the present specification in detail. However, the embodiments according to the present specification may be modified in various forms, and the scope of the present application is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present application are provided to more completely describe the present specification to those of ordinary skill in the art.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우 뿐만 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present specification, when a member is said to be positioned "on" another member, this includes not only the case where the member is in contact with the other member, but also the case where another member exists between the two members.

본 명세서에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a certain part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

본 명세서에서, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.In this specification, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first element may be referred to as a second element, and similarly, a second element may be referred to as a first element.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물을 설명하기 위한 단면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물의 작동 원리를 설명하기 위한 단면도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view for explaining the principle of operation of the photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view illustrating a photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명하도록 한다.1 to 3, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 실시예에 따른 광기능성 패턴 구조물은 베이스 기재(10), 회절 패턴(20), 기능성 산화물층(30) 및 보호층(40)을 포함한다.The photofunctional pattern structure according to an embodiment of the present invention includes a base substrate 10, a diffraction pattern 20, a functional oxide layer 30, and a protective layer 40.

상기 베이스 기재(10)는 고분자 수지로 이루어져 있을 수 있으며, 예를 들어, PE, PET, PEN, PI, 우레탄과 같은 고분자 수지일 수 있다.The base substrate 10 may be made of a polymer resin, for example, a polymer resin such as PE, PET, PEN, PI, or urethane.

본 발명의 다른 실시예에서 상기 베이스 기재(10)의 일면에는 후술할 회절 패턴(20)이 형성되어 있을 수 있고, 이의 타면에는 광기능성 패턴 구조물을 제품 케이스의 외장면에 부착하기 위한 점착면에 형성되어 있을 수 있다.In another embodiment of the present invention, a diffraction pattern 20 to be described later may be formed on one side of the base substrate 10, and on the other side of the base substrate 10, a photofunctional pattern structure is attached to an adhesive surface for attaching to the exterior surface of the product case. May be formed.

상기 회절 패턴(20)은 상기 베이스 기재(10) 상에 형성되며, 외부로부터 입사되는 광을 특정 형상으로 반사 또는 투과시킬 수 있다.The diffraction pattern 20 is formed on the base substrate 10 and may reflect or transmit light incident from the outside in a specific shape.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광기능성 패턴 구조물은 외부로부터 입사되는 광을 특정 형상으로 반사 또는 투과시킬 수 있는 회절 패턴을 포함하는 둘 이상의 구조체를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the photofunctional pattern structure may include two or more structures including a diffraction pattern capable of reflecting or transmitting light incident from the outside in a specific shape.

예를 들어, 상기 둘 이상의 구조체는 제1 회절 패턴을 포함하는 제1 구조체 및 제2 회절 패턴을 포함하는 제2 구조체를 포함하고, 상기 제1 구조체를 투과한 상기 외부로부터 입사되는 광은 상기 제1 회절 패턴에 의해서 상기 제2 회절 패턴의 특정 영역으로 입사하며, 상기 제2 회절 패턴은 서로 다른 회절 패턴을 가지는 복수개 영역으로 마련되어 서로 다른 영역에 도달하는 상기 광은 도달하는 위치에 따라 상이한 형상을 반사 또는 투과하여 나타낼 수 있다.For example, the two or more structures include a first structure including a first diffraction pattern and a second structure including a second diffraction pattern, and the light incident from the outside passing through the first structure is 1 The diffraction pattern is incident on a specific area of the second diffraction pattern, and the second diffraction pattern is formed into a plurality of areas having different diffraction patterns, and the light reaching different areas has a different shape depending on the arrival position. It can be reflected or transmitted.

즉, 상기 구조체의 면 방향으로 회절 패턴 고유 거리를 두고 배열되며, 상기 회절 패턴 고유 거리는 상기 제1 구조체가 포함하는 회절 패턴에 따라 결정되는 광기능성 패턴 구조물을 제공한다.That is, the structure is arranged with a diffraction pattern intrinsic distance in the plane direction of the structure, and the diffraction pattern intrinsic distance is determined according to a diffraction pattern included in the first structure.

상기 회절 패턴을 포함하는 둘 이상의 구조체는 개수에 특별히 한정이 있지는 않다. 개수가 늘어날수록 복제의 난이도는 높아진다. 간단하게는 두개의 구조체로도 구성이 가능하나, 필요에 따라서는 2 내지 10개에서 선택될 수 있다.The number of two or more structures including the diffraction pattern is not particularly limited. As the number increases, the difficulty of replication increases. It can be simply composed of two structures, but may be selected from 2 to 10 as necessary.

상기 회절 패턴 고유 거리는 광이 먼저 투과하는 구조체가 포함하는 회절 패턴 및 그 후에 광이 도달하는 구조체의 회절 패턴의 위치에 따라서 결정될 수 있다.The intrinsic distance of the diffraction pattern may be determined according to a position of a diffraction pattern included in a structure through which light first transmits, and a diffraction pattern in a structure through which light reaches thereafter.

상기 기능성 산화물층(30)은 상기 회절 패턴(20) 상에 증착되어 형성되며 SiO2 및 TiO2로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상을 포함한다.The functional oxide layer 30 is formed by being deposited on the diffraction pattern 20 and includes at least one selected from the group consisting of SiO 2 and TiO 2.

상기 기능성 산화물층(30)은 상기 회절 패턴(20)을 형성한 이후, 스퍼터링 공정으로 상기 회절 패턴(20) 상에 상기 회절 패턴(20)의 프로파일에 따라 증착되어 형성된다.After the diffraction pattern 20 is formed, the functional oxide layer 30 is formed by being deposited on the diffraction pattern 20 according to the profile of the diffraction pattern 20 by a sputtering process.

예를 들어, 상기 기능성 산화물층(30)은 제1 기능성 산화물층 및 제2 기능성 산화물층을 포함하며, 상기 제1 기능성 산화물층 및 상기 제2 기능성 산화물층은 SiO2 및 TiO2 중 어느 하나로 각각 증착되어 형성될 수 있다.For example, the functional oxide layer 30 includes a first functional oxide layer and a second functional oxide layer, and the first functional oxide layer and the second functional oxide layer are each one of SiO 2 and TiO 2 It can be formed by vapor deposition.

구체적으로, 상기 제1 기능성 산화물층은 SiO2가 증착된 층이고, 상기 제2 기능성 산화물층은 TiO2가 증착된 층일 수 있고, 이와 달리, 상기 제1 기능성 산화물층은 TiO2가 증착된 층이고, 상기 제2 기능성 산화물층은 SiO2가 증착된 층일 수 있다.Specifically, the first functional oxide layer is a layer on which SiO 2 is deposited, and the second functional oxide layer may be a layer on which TiO 2 is deposited. Unlike this, the first functional oxide layer is a layer on which TiO 2 is deposited. And, the second functional oxide layer may be a layer on which SiO 2 is deposited.

상기 기능성 산화물층(30)은 상기 회절 패턴(20) 상에 투명하게 증착될 수 있으며, 상기 기능성 산화물층(30)은 상기 외부로부터 입사되는 광을 회절 및 반사시켜 상기 회절 패턴(20)의 설계에 따른 특정 이미지를 형성할 수 있다. 상기 SiO2 및 TiO2 중 어느 하나로 각각 증착되어 형성된 상기 기능성 산화물층(30)은 투명 증착되어, 시인되지 않으면서 상기 회절 패턴(20)의 프로파일에 따라 형성된 기능성 산화물층에 의하여 기능성 산화물층이 부재한 경우 보다 더 뚜렷하게 광을 반사시켜 보다 선명한 이미지를 얻을 수 있다.The functional oxide layer 30 may be transparently deposited on the diffraction pattern 20, and the functional oxide layer 30 diffracts and reflects the light incident from the outside to design the diffraction pattern 20 It can form a specific image according to. The functional oxide layer 30 formed by depositing each of SiO 2 and TiO 2 is transparently deposited, so that the functional oxide layer is absent by the functional oxide layer formed according to the profile of the diffraction pattern 20 without being visually recognized. By reflecting light more clearly than in one case, a sharper image can be obtained.

상기 특정 이미지는 본 발명의 광기능성 패턴 구조물이 적용되는 분야에 따른 요구되는 이미지일 수 있다. 예를 들어, 상기 특정 이미지는 바코드 내지 QR 코드일 수 있으며, 이러한 경우, 광기능성 패턴 구조물이 적용된 제품의 진위를 판단하기 위한 바코드 내지 QR 코드 일 수 있다. 이와 달리, 예를 들어, 본 발명의 광기능성 패턴 구조물이 포장용 필름으로 적용되는 경우, 상기 특정 이미지는 소비자들에게 심미성을 줄 수 있는 이미지를 형상화할 수 있다.The specific image may be an image required according to a field to which the photofunctional pattern structure of the present invention is applied. For example, the specific image may be a barcode or a QR code, and in this case, it may be a barcode or a QR code for determining the authenticity of a product to which the photofunctional pattern structure is applied. Alternatively, for example, when the photofunctional pattern structure of the present invention is applied as a packaging film, the specific image may form an image that can give aesthetics to consumers.

상기 기능성 산화물층(30)은 5nm 내지 100um의 두께로 상기 회절 패턴 상에 증착될 수 있다. The functional oxide layer 30 may be deposited on the diffraction pattern to a thickness of 5 nm to 100 μm.

상기 보호층(40)은 상기 기능성 산화물층(30) 상에 증착되어 상기 기능성 산화물층(30)을 커버한다.The protective layer 40 is deposited on the functional oxide layer 30 to cover the functional oxide layer 30.

상기 보호층(40)은 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 광기능성 패턴 구조물과 다른 굴절율 갖는 물질로 이루어질 수 있다. 상기 보호층(400)은 입사되는 광을 보다 많이 투과시킴으로써 이미지를 보다 선명하게 구현할 수 있다.The protective layer 40 is not particularly limited, but may be made of a material having a refractive index different from that of the photofunctional pattern structure. The passivation layer 400 may transmit the incident light more so that the image may be more clearly implemented.

또한, 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 상기 보호층(40)의 일면, 예를 들어, 상기 기능성 산화물층(30)의 반대면은 접착성 수지로 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 보호층을 이용하여 상기 광기능성 패턴 구조물이 특정 대상체에 용이하게 부착될 수 있다.In addition, although there is no particular limitation, one surface of the protective layer 40, for example, the opposite surface of the functional oxide layer 30 may be made of an adhesive resin. In this case, the photofunctional pattern structure may be easily attached to a specific object by using the protective layer.

예를 들어, 상기 광의 종류는 하나 이상이며, 각각 독립적으로 380nm 내지 800nm에서 적어도 하나의 파장을 가질 수 있다.For example, the type of light is one or more, and each may independently have at least one wavelength in the range of 380 nm to 800 nm.

상술한 바에 있어서, 본 발명의 예시적인 실시예들을 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변경 및 변형이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although exemplary embodiments of the present invention have been described, the present invention is not limited thereto, and those of ordinary skill in the art are within the scope not departing from the concept and scope of the following claims. It will be appreciated that various changes and modifications are possible in

10: 베이스 기재
20: 회절 패턴
30: 기능성 산화물층
40: 보호층10: base material
20: diffraction pattern
30: functional oxide layer
40: protective layer

Claims (6)

베이스 기재;
상기 베이스 기재 상에 형성되며, 외부로부터 입사되는 광을 특정 형상으로 반사 또는 투과시킬 수 있는 회절 패턴; 및
상기 회절 패턴 상에 증착되어 형성되는 기능성 산화물층을 포함하는 광기능성 패턴 구조물.Base substrate;
A diffraction pattern formed on the base substrate and capable of reflecting or transmitting light incident from the outside in a specific shape; And
A photofunctional pattern structure including a functional oxide layer deposited on the diffraction pattern and formed. 제1항에 있어서,
상기 기능성 산화물층은 SiO2 및 TiO2로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물.The method of claim 1,
The functional oxide layer is a photofunctional pattern structure comprising at least one selected from the group consisting of SiO 2 and TiO 2. 제1항에 있어서,
상기 기능성 산화물층은 제1 기능성 산화물층 및 제2 기능성 산화물층을 포함하며,
상기 제1 기능성 산화물층 및 상기 제2 기능성 산화물층은 SiO2 및 TiO2 중 어느 하나로 각각 증착되어 형성되는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물.The method of claim 1,
The functional oxide layer includes a first functional oxide layer and a second functional oxide layer,
The first functional oxide layer and the second functional oxide layer is a photofunctional pattern structure, characterized in that formed by depositing any one of SiO 2 and TiO 2 respectively. 제1항에 있어서,
상기 기능성 산화물층은 5nm 내지 100um의 두께로 상기 회절 패턴 상에 증착되는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물.The method of claim 1,
The functional oxide layer is a photofunctional pattern structure, characterized in that deposited on the diffraction pattern to a thickness of 5nm to 100um. 제1항에 있어서,
상기 기능성 산화물층 상에 증착되어 상기 기능성 산화물층을 커버하는 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물.The method of claim 1,
A photofunctional pattern structure, further comprising a protective layer deposited on the functional oxide layer to cover the functional oxide layer. 제1항에 있어서,
상기 광의 종류는 하나 이상이며, 각각 독립적으로 380nm 내지 800nm에서 적어도 하나의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 광기능성 패턴 구조물.The method of claim 1,
The type of light is one or more, and each independently has at least one wavelength in the range of 380nm to 800nm.
KR1020190111234A 2019-09-09 2019-09-09 Optical functional pattern structure having optical refleting layer KR102263833B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190111234A KR102263833B1 (en) 2019-09-09 2019-09-09 Optical functional pattern structure having optical refleting layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190111234A KR102263833B1 (en) 2019-09-09 2019-09-09 Optical functional pattern structure having optical refleting layer

Publications (3)

Publication Number Publication Date
KR20210029937A true KR20210029937A (en) 2021-03-17
KR102263833B1 KR102263833B1 (en) 2021-06-11
KR102263833B9 KR102263833B9 (en) 2023-04-17

Family

ID=75245577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190111234A KR102263833B1 (en) 2019-09-09 2019-09-09 Optical functional pattern structure having optical refleting layer

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102263833B1 (en)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986005300A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-12 Kenneth John Hayden Holographic security devices and systems
JP2004536944A (en) * 2001-07-31 2004-12-09 フレックス プロダクツ インク Diffraction pigment flakes and compositions
JP2009294659A (en) * 2005-04-27 2009-12-17 Asml Netherlands Bv Spectral purification filter for multilayer mirror, lithography equipment comprising such multilayer mirror, method of increasing ratio of desired radiation to undesired radiation, and manufacturing method of device
JP2012032454A (en) * 2010-07-28 2012-02-16 Fujifilm Corp Infrared reflection film
JP2013047789A (en) * 2011-07-26 2013-03-07 Fujifilm Corp Optical film, security product, and authenticity determination method
KR20170122888A (en) * 2016-04-27 2017-11-07 (주) 나노메카 Reflect-type film for preventing counterfeit
KR20180109472A (en) * 2017-03-28 2018-10-08 고려대학교 산학협력단 Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same
KR20180111267A (en) * 2017-03-31 2018-10-11 고려대학교 산학협력단 Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986005300A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-12 Kenneth John Hayden Holographic security devices and systems
JP2004536944A (en) * 2001-07-31 2004-12-09 フレックス プロダクツ インク Diffraction pigment flakes and compositions
JP2009294659A (en) * 2005-04-27 2009-12-17 Asml Netherlands Bv Spectral purification filter for multilayer mirror, lithography equipment comprising such multilayer mirror, method of increasing ratio of desired radiation to undesired radiation, and manufacturing method of device
JP2012032454A (en) * 2010-07-28 2012-02-16 Fujifilm Corp Infrared reflection film
JP2013047789A (en) * 2011-07-26 2013-03-07 Fujifilm Corp Optical film, security product, and authenticity determination method
KR20170122888A (en) * 2016-04-27 2017-11-07 (주) 나노메카 Reflect-type film for preventing counterfeit
KR20180109472A (en) * 2017-03-28 2018-10-08 고려대학교 산학협력단 Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same
KR20180111267A (en) * 2017-03-31 2018-10-11 고려대학교 산학협력단 Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR102263833B1 (en) 2021-06-11
KR102263833B9 (en) 2023-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2972563B1 (en) Variable device exhibiting non-diffractive three-dimensional optical effect
KR101890983B1 (en) Method of manufacturing a reflect-type film for preventing counterfeit
US20040223156A1 (en) Optically variable form birefringent structure and method and system and method for reading same
KR102141744B1 (en) Reflective-transmissive type film for preventing counterfeit
WO2008005724A2 (en) Passive electro-optical identification
US20190086682A1 (en) Diffractive optical element
WO2018215774A1 (en) Security device and method
US20220339957A1 (en) Optical anti-counterfeiting element and anti-counterfeiting product
JP2014071233A (en) Image display body and information medium
KR20150139876A (en) Counterfeit prevention medium, fabrication method thereof, and counterfeit prevention method
KR101077314B1 (en) Stacked film for preventing forgery and method for fabricating thereof
KR20210029937A (en) Optical functional pattern structure having optical refleting layer
JP6799098B2 (en) Semi-transparent anti-counterfeit film
CN110001234B (en) Optical anti-counterfeiting element and optical anti-counterfeiting product
WO2010126485A1 (en) A covert label structure
JP2012021802A (en) Diffraction grating
JP6318677B2 (en) Alignment film manufacturing method and display body manufacturing method
KR102281698B1 (en) Anti-counterfeit film with multi-phase and manufacturing method by the same
KR20200144829A (en) Barcode display apparatus having optical functional pattern structure and apparatus for determining authenticity of an object
KR102176413B1 (en) Optical functional pattern structure, apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing same
JP2014215383A (en) Display body, article having display body and authenticity determination method thereof
KR20050110622A (en) Transparent retroreflection materials
KR102008776B1 (en) Optical functional pattern structure, apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing same
JP2013166334A (en) Optical article for security, method for manufacturing the same, and printed matter
JP2014046667A (en) Information display medium, and authenticity determination method

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]