KR102141744B1 - Reflective-transmissive type film for preventing counterfeit - Google Patents
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Abstract
반투과형 위조 방지용 필름은 베이스, 상기 베이스 상에 구비되며, 진위 판정용 이미지를 구현하기 위한 회절 패턴을 갖는 회절성 광학 소자층 및 상기 회절성 광학 소자층 상에 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성되며, 입사되는 입사광을 부분적으로 반사 및 투과시킬 수 있는 광투과도 조절 박막을 포함한다. 이로써, 반투과형 위조 방지용 필름은 입사광을 반사 및 투과시켜 필름 양 측에 회절 이미지를 구현할 수 있다.A semi-transmissive anti-counterfeiting film is provided on a base, the base, and is formed on the diffractive optical element layer having a diffraction pattern for realizing an image for authenticity determination and along the profile of the diffraction pattern on the diffractive optical element layer. , A light transmittance control thin film that can partially reflect and transmit incident incident light. As a result, the semi-transmissive anti-counterfeiting film can reflect and transmit incident light to implement diffraction images on both sides of the film.
Description
본 발명은 반투과형 위조 방지용 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 진위 판정용 패턴을 이용하여 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 반투과형 위조 방지용 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a semi-transmissive anti-counterfeiting film. More specifically, it relates to a semi-transmissive anti-counterfeiting film capable of realizing an image for authenticity determination using a pattern for authenticity determination.
소프트웨어, CD, DVD, 유가증권, 양주, 약품 등과 같은 고가 물품의 위조 행위가 큰 사회적 문제로 대두되고 있다. 위조되어 생산된 물품은 대부분 낮은 품질을 가지기 때문에 위와 같은 위조 행위에 의해서 해당 기업은 많은 노력을 기울여 얻게 된 신뢰를 실추 당하는 등 막대한 피해를 입고 있다. 이러한 위조 문제를 해결하기 위해서 기업들은 위조를 곤란하게 하는 기술 또는 진품과 위조품을 판정하는 기술 등을 제품에 부여함으로써 위조품의 유통방지에 노력을 기울이고 있다.Counterfeiting of expensive items such as software, CDs, DVDs, securities, liquor, and drugs is a major social problem. Since most of the forged and produced goods have low quality, the counterfeiting acts of the company have suffered enormous damages, such as losing the trust gained through many efforts. In order to solve the counterfeit problem, companies are making efforts to prevent the distribution of counterfeit products by giving the product the technology that makes counterfeiting difficult or the technology to judge genuine and counterfeit products.
위조 방지를 위해 제품에 부여되는 대표적인 것으로서는 홀로그램(hologram)을 들 수 있다. 홀로그램을 설계하기 위하여, 빔스플리터를 이용하여 대상물에 조사하는 물체광 및 기준광으로 상기 대상물로부터 반사되는 물체광 및 상기 기준광 사이의 간섭 형상을 이용하여 홀로그램을 설계한다. A hologram is a typical example given to the product to prevent forgery. In order to design a hologram, a hologram is designed using an interference shape between the object light and the reference light reflected from the object as object light and reference light irradiated to the object using a beam splitter.
상기 홀로그램은 입체상을 재현하는 간섭 줄무늬를 기록한 매체로서 홀로그래피의 원리를 이용하여 만들어진다. 이로써, 상기 홀로그램은 기준광과 동일한 진동수, 파장 및 위상을 갖는 재현광을 특정 각도로 간섭 무늬에 조사하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 또한, 보는 각도에 따라 반사되는 빛의 색깔 또는 형태가 변화할 수 있다.The hologram is a medium in which an interference fringe reproducing a stereoscopic image is recorded, and is made using the principle of holography. As a result, the hologram may embody a specific image by irradiating the interference fringe at a specific angle with the reproduced light having the same frequency, wavelength, and phase as the reference light. In addition, the color or shape of the reflected light may change depending on the viewing angle.
그러나, 홀로그램으로 기록될 수 있는 정보에는 한계가 있기 때문에 정교한 홀로그램을 제작하기가 어려운 문제점이 있었다. 나아가, 상기 재현광은 반드시 기준광과 동일한 위상, 파장 및 진동수를 가져야 하는 한계가 있다. 이러한 문제점은 디지털 스캐너와 같은 홀로그램 복제 기구 등에 의해 홀로그램이 복제되기 시작하면서 복제가 용이하다는 문제가 심각하게 되었다. 또한, 상기 홀로그램을 이루는 홀로그램 패턴은 일정한 형상을 가짐에 따라 규칙적이다.However, since there is a limit to information that can be recorded as a hologram, there is a problem in that it is difficult to manufacture a sophisticated hologram. Furthermore, there is a limitation that the reproduced light must have the same phase, wavelength and frequency as the reference light. Such a problem has become serious as the hologram is started to be copied by a hologram copying mechanism such as a digital scanner, so that the copying is easy. In addition, the hologram pattern forming the hologram is regular as it has a certain shape.
이에 따라 근래에는 나노 임프린팅 방법으로 위조 방지용 필름에 정보를 기록하는 기술이 소개되었다. 나노 임프린팅 방법은 나노 패턴을 가지는 몰드를 이용하여 위조 방지용 필름 상에 회절 패턴을 형성하는 방법으로서 저비용으로도 많은 정보를 기록할 수 있기 때문에 근래에 들어 널리 이용되고 있다.Accordingly, a technique for recording information on a forgery-preventing film by a nanoimprinting method has been recently introduced. The nano-imprinting method is a method of forming a diffraction pattern on a forgery-preventing film using a mold having a nano-pattern, and since it can record a lot of information at a low cost, it has been widely used in recent years.
일반적으로 위조 방지 필름은 직진 방향으로 조사되어 내부를 투과된 레이저가 일정한 방향으로 회절 되도록 한다. 이에 따라, 위조 방지용 필름에 직진 방향으로 조사된 레이저가 위조 방지용 필름을 투과한 후 회절 패턴에 의하여 회절된 광에 의하여 위조 방지 패턴이 구현된다. In general, the anti-counterfeiting film is irradiated in a straight direction so that the laser transmitted therein is diffracted in a constant direction. Accordingly, the anti-counterfeiting pattern is realized by the light diffracted by the diffraction pattern after the laser irradiated in the straight direction to the anti-counterfeiting film passes through the anti-counterfeiting film.
하지만, 상기 투과형 위조 방지 필름은 3차원 벌크를 포함하는 다양한 형상의 제품에 적용이 어려운 문제가 있다. 또한, 투과형 위조 방지 필름 자체가 전체적으로 광투과성을 확보하여야 하므로, 상기 투과형 위조 방지 필름을 이루는 소재에 제한이 있다.However, the transmissive anti-counterfeiting film has a problem that it is difficult to apply to products of various shapes including 3D bulk. In addition, since the transmissive anti-counterfeiting film itself needs to secure light transmittance as a whole, there is a limit to the material forming the transmissive anti-counterfeiting film.
이에 본 발명의 일 목적은 투과형 위조 방지 필름이 갖는 광투과성의 제한을 극복한 반투과형 위조 방지용 필름을 제공하는 것이다.Accordingly, one object of the present invention is to provide a semi-transmissive anti-counterfeiting film that overcomes the limitation of light transmittance of the transmissive anti-counterfeiting film.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름은 베이스, 상기 베이스 상에 구비되며, 진위 판정용 이미지를 구현하기 위한 회절 패턴을 갖는 회절성 광학 소자층 및 상기 회절성 광학 소자층 상에 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성되며, 입사되는 입사광을 부분적으로 반사 및 투과시킬 수 있는 광투과도 조절 박막을 포함한다.In order to achieve the above object, a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention is provided on a base, the base, and a diffractive optical element layer having a diffraction pattern for realizing an image for authenticity determination and the It is formed along the profile of the diffraction pattern on the diffractive optical element layer, and includes a light transmittance control thin film that can partially reflect and transmit incident incident light.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은 가시광선 영역의 파장을 갖는 광에 대하여 40 내지 60% 범위 내의 광투과도를 갖고, 상기 베이스의 상부 및 하부 모두를 향하여 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다,In one embodiment of the present invention, the light transmittance adjustment thin film has a light transmittance within a range of 40 to 60% with respect to light having a wavelength in the visible light region, and displays an image for authenticity toward both the upper and lower parts of the base. Can be implemented,
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은, 금, 은 및 알루미늄이 이루는 광반사성 금속군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the light transmittance control thin film may include at least one selected from a group of light reflective metals made of gold, silver, and aluminum.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 베이스의 상부 또는 하부에 정보를 저장하는 적어도 하나의 정보 패턴부가 더 구비될 수 있다.In one embodiment of the present invention, at least one information pattern unit for storing information in the upper or lower portion of the base may be further provided.
여기서, 상기 광투과도 조절 박막은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 최대 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다.Here, the light transmittance control thin film may have a thickness adjusted to have a maximum transmittance for incident light having a wavelength of 500 to 600 nm.
여기서, 상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 하면에 구비되고, QR 정보를 포함하는 QR 패턴층을 포함할 수 있다.Here, the information pattern portion may be provided on the lower surface of the base, and may include a QR pattern layer including QR information.
한편, 상기 광투과도 조절 박막은 상기 광투과도 조절 박막은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 50% 미만의 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다.Meanwhile, the light transmittance control thin film may have a thickness adjusted to have a transmittance of less than 50% for incident light having a wavelength of 500 to 600 nm.
이 경우, 상기 정보 패턴부는 상기 광투과도 조절 박막 상에 구비되어 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광을 재현광으로 이용하는 홀로그램 패턴층을 포할 수 있다. 또한, 상기 광투과 조절 박막 및 상기 홀로그램 패턴층 사이에 개재되며, 상기 상기 광투과 조절 박막 및 상기 홀로그램 패턴층을 상호 본딩하는 투명 본딩층이 더 구비될 수 있다.In this case, the information pattern portion may include a hologram pattern layer provided on the light transmittance control thin film and using incident light having a wavelength of 500 to 600 nm as reproducing light. In addition, a transparent bonding layer interposed between the light transmittance control thin film and the hologram pattern layer, and a transparent bonding layer that mutually bonds the light transmittance control thin film and the hologram pattern layer may be further provided.
한편, 상기 광투과도 조절 박막은 가시광선 영역의 파장을 갖는 광에 대하여 40 내지 60% 범위 내의 광투과도를 갖고, 상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 상부에 형성된 홀로그램 패턴층 및 상기 베이스의 하부에 형성된 QR 패턴층을 포함할 수 있다.On the other hand, the light transmittance control thin film has a light transmittance within a range of 40 to 60% with respect to light having a wavelength in the visible light region, and the information pattern portion is a hologram pattern layer formed on the top of the base and a QR formed on the bottom of the base It may include a pattern layer.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광투과 조절 박막의 상부에 구비된 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막 및 상기 평탄화층 사이에 개재되어 상기 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막을 상호 본딩하는 본딩층이 추가적으로 구비될 수 있다.In one embodiment of the present invention, a flattening layer provided on the light-transmitting control thin film and a bonding layer interposed between the light-transmitting control thin film and the flattening layer to bond the flattening layer and the light-transmitting control thin film to each other This may be additionally provided.
본 발명의 실시예들에 따른 반투과형 위조방지용 필름에 따르면, 홀로그램을 대체할 수 있는 회절성 광학 소자를 구비함으로써, 나노 사이즈의 미세 패턴을 구현할 수 있다. 이로써, 복잡한 이미지를 용이하게 구현할 수 있으며, 불규칙적으로 랜덤한 형상 또는 크기를 갖는 회절 패턴이 구현될 수 있다. 또한, 다양한 파장 및 위상을 갖는 광을 이용하여 복수의 색을 갖는 이미지가 용이하게 구현될 수 있다.According to the semi-transmissive anti-counterfeiting film according to embodiments of the present invention, by providing a diffractive optical element that can replace the hologram, it is possible to implement a nano-sized fine pattern. Thus, a complex image can be easily implemented, and a diffraction pattern having an irregularly random shape or size can be implemented. In addition, an image having a plurality of colors can be easily implemented using light having various wavelengths and phases.
한편, 기존의 투과형 위조 방지용 필름과 다르게 베이스의 상면 및 하면 모두를 향하여 위조 판정용 이미지를 구현할 수 있다. 따라서, 대상체가 갖는 광투과성의 정도에 무관하게 대상체의 진위가 용이하게 판정될 수 있다.On the other hand, unlike the conventional transmissive anti-counterfeiting film, it is possible to implement a forgery determination image toward both the upper and lower surfaces of the base. Therefore, the authenticity of the object can be easily determined regardless of the degree of light transmission of the object.
나아가, 별도의 홀로그램 패턴층 또는 QR 패턴층이 추가적으로 구비됨에 따라, 위조 판정이 보다 정확하게 수행되거나, 제품의 추적 및 관리를 위한 추가 정보가 저장될 수 있다.Furthermore, as a separate hologram pattern layer or QR pattern layer is additionally provided, forgery determination may be performed more accurately, or additional information for tracking and managing products may be stored.
한편, 평탄화층 및 본딩층이 추가적으로 구비됨에 따라 본딩층의 두께 변화에 따라, 반투과형 위조 방지용 필름의 두께가 효과적으로 조절될 수 있다.Meanwhile, as the planarization layer and the bonding layer are additionally provided, the thickness of the anti-transmissive anti-counterfeiting film can be effectively adjusted according to the change in the thickness of the bonding layer.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 2는 도 1의 광투과도 조절 박막의 두께에 따른 광투과도를 도시한 그래프이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름의 제조 방법을 설명하는 순서도이다.
도 7a는 비교예로서 홀로그램을 촬상한 사진이다.
도 7b는 본 발명의 회절성 광학 소자를 갖는 반투과형 위조 방지용 필름을 촬상한 사진이다.
도 8은 투과형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.
도 9는 반사형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph illustrating light transmittance according to the thickness of the light transmittance control thin film of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to another embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to another embodiment of the present invention.
6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
7A is a photograph of a hologram taken as a comparative example.
7B is a photograph of a semi-transmissive anti-counterfeiting film having the diffractive optical element of the present invention.
8 is a cross-sectional view for explaining a phase difference of light passing through a diffraction pattern included in a transmissive anti-counterfeiting film.
9 is a cross-sectional view for describing a phase difference of light transmitted through a diffraction pattern included in a reflective anti-counterfeiting film.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 첨부된 도면에 있어서, 대상물들의 크기와 양은 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대 또는 축소하여 도시한 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be variously modified and may have various forms, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosure form, and it should be understood that all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention are included. In the accompanying drawings, the size and amount of objects are enlarged or reduced than actual values for clarity of the present invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from other components. For example, the first component may be referred to as a second component without departing from the scope of the present invention, and similarly, the second component may be referred to as a first component.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 다른 특징들이나 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in this application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises" or "includes" are intended to designate the existence of features, steps, functions, components, or combinations thereof described in the specification, other features or steps, functions, components Or it should be understood that the possibility of the presence or addition of those in combination is not excluded in advance.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.On the other hand, unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as generally understood by a person skilled in the art to which the present invention pertains. Terms, such as those defined in a commonly used dictionary, should be interpreted as having meanings consistent with meanings in the context of related technologies, and should not be interpreted as ideal or excessively formal meanings unless explicitly defined in the present application. Does not.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130) 및 광투과도 조절 박막(150)을 포함한다. 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 외부로부터 입사되는 엘이디 광 또는 레이저 광이 상기 광투과도 조절 박막(150)으로부터 일부는 반사되고 일부는 투과된다. 이로써, 상기 베이스(110)의 상부 및 하부 모두를 향하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 이때, 특정 이미지는 진위 판정용 이미지에 해당할 수 있다. 예를 들면, 상기 특정 이미지는 진위 판정이 필요한 대상체의 제조 회사의 상표 또는 로그 등을 포함할 수 있다.1, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a
상기 베이스(110)는 고분자 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(110)는 PET 재질로 이루어질 수 있다. 또한 상기 베이스(110)의 하면 상에는 양면 접착 테이프(미도시)가 형성됨으로써, 상기 베이스(110)를 특정 제품에 부착시킬 수 있도록 구비될 수 있다. The base 110 may be made of a polymer material. For example, the
상기 베이스(110)의 상면에는 회절성 광학 소자층(130)이 구비된다.A diffractive
상기 회절성 광학 소자층(130)의 상면에는 회절 패턴이 형성된다. 상기 회절 패턴은 다양한 크기 및 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 회절 패턴의 형상은 스트라이프 형상, 모자이크 형상, 피라미드 형상 등을 포함할 수 있다. 상기 회절 패턴은 푸리에 변환 및 푸리에 역변환 과정을 포함하는 설계 알고리즘을 거쳐 특정 이미지를 구현하기 위한 회절 특성을 이용하기 위한 패턴으로 정의될 수 있다.A diffraction pattern is formed on the top surface of the diffractive
상기 회절 패턴은 핫 엠보싱 공정, 나노 임프린팅 공정 또는 트랜스퍼 프린팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. The diffraction pattern may be formed through a hot embossing process, a nano-imprinting process, or a transfer printing process.
상기 광투과도 조절 박막(150)은 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성된다. 이로써, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 균일한 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 상기 광투과도 조절 박막(150)은 상기 외부로 입사되는 광을 일부는 반사시켜 그 상부로 특정 이미지를 구현할 수 있는 한편, 상기 외부 광의 일부는 투과시켜, 그 하부로 특정 이미지를 구현할 수 있다. 따라서, 상기 광투과도 조절 박막(150)을 포함하는 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 진위 판정용 대상체의 광투과도에 관계없이 사용될 수 있다.The light transmittance control
상기 광투과도 조절 박막(150)은 금, 은 및 알루미늄과 같은 광반사성 금속 물질을 포함할 수 있다. The light transmittance adjustment
상기 광투과도 조절 박막(150)의 광투과도는 그 두께에 따라 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 1 nm 내지 4 nm 의 두께를 가질 수 있다.The light transmittance of the light transmittance control
상기 광투과도 조절 박막(150)이 상기 회절 패턴에 형성된 단차로 인하여 상기 광투과도 조절 박막(150)의 표면에서 반사된 빛이 위상이 달라지게 된다. 이로써 상기 반사광들이 상호 간섭됨으로써 특정 회절 이미지를 구현할 수 있다. Due to the step difference in the light transmittance control
도 2는 도 1의 광투과도 조절 박막의 두께에 따른 광투과도를 도시한 그래프이다.FIG. 2 is a graph illustrating light transmittance according to the thickness of the light transmittance control thin film of FIG. 1.
도 2를 참조하면, 광투과도 조절 박막(150)이 금으로 이루어질 경우, 그 두께별 파장에 따른 광투과도가 도시된다.Referring to FIG. 2, when the light transmittance control
상기 광투과도 조절 박막(150)이 금으로 이루어 질 경우, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 2 내지 4 nm 의 두께를 가질 수 있다. 이로써, 가시광선 영역에서 상기 광투과도 조절 박막이 40 내지 60 %의 광투과도를 가질 수 있다.When the light transmittance control
특히, 550 nm 의 외부광에서, 3nm 의 두께를 갖는 상기 광투과도 조절 박막이 50% 정도의 광투과도를 가질 것으로 추정된다.In particular, in the external light of 550 nm, it is estimated that the light transmittance control thin film having a thickness of 3 nm has a light transmittance of about 50%.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기존의 투과형 위조 방지용 필름과 다르게 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 3차원 벌크를 포함하는 다양한 형상을 갖는 대상체에 부착될 수 있다. 즉, 기존의 투과형 위조 방지용 필름의 경우 광이 상기 제품을 투과하는 투과광을 이용하여 진위 판정용 이미지를 구현함으로써, 상기 대상체가 불투명할 경우 상기 투과형 위조 방지용 필름이 이용되는 데 어려움이 있다.According to an embodiment of the present invention, unlike the conventional transmissive anti-counterfeiting film, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 may be attached to an object having various shapes including three-dimensional bulk. That is, in the case of the existing transmissive anti-counterfeiting film, by implementing the image for authenticity determination using transmitted light through which the light passes through the product, it is difficult to use the transmissive anti-counterfeiting film when the object is opaque.
반면에, 본 발명의 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 부착되는 대상체의 다양한 형상 또는 재질에 무관하게 이용될 수 있는 장점을 가질 수 있다.On the other hand, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention may have an advantage that can be used regardless of various shapes or materials of the object to which it is attached.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은, 평탄화층(190) 및 본딩층(170)을 더 포함한다.In one embodiment of the present invention, the anti-transmissive anti-counterfeiting film 100 further includes a
상기 평탄화층(190)은 상기 광투과 조절 박막(150)의 상부에 구비된다. 상기 평탄화층(190)은 회절 패턴에 형성된 단차를 제거하여 그 상면을 전체적으로 평탄화한다. The
상기 평탄화층(190)은 상기 광투과도 조절 박막(150)을 덮도록 구비된다. 이로써, 상기 평탄화층(190)은 상기 광투과도 조절 박막(150) 나아가, 회절 광학 소자층(130)을 외부 충격으로부터 보호할 수 있다. 나아가, 상기 평탄화층(190)이 회절 광학 소자층(130)을 전체적으로 덮음으로써, 반투과형 위조 방지용 필름(100)의 복제를 억제할 수 있다. The
상기 평탄화층(190)은 PVC, PMMA, PET, PT, 아크릴 및 에폭시가 이루는 광투과성 수지 중에서 어는 하나로 형성될 수 있다.The
상기 본딩층(170)은 상기 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막 사이에 개재된다. 상기 본딩층(170)은 상기 평탄화층(190) 및 상기 광투과 조절 박막(150)을 상호 본딩한다. 상기 본딩층(170)은 라미네이팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. 상기 본딩층(170)은, 예를 들면 냉각됨으로써 상기 평탄화층(190) 및 상기 광투과 조절 박막(150)을 상호 본딩할 수 있다.The
상기 본딩층(170)을 이루는 물질의 예로는, Examples of the material forming the
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130), 광투과도 조절 박막(150) 및 정보 패턴부를 포함한다. 상기 정보 패턴부는 예를 들면, 홀로그램 패턴층(180)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 3, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a
상기 홀로그램 패턴층(180)은 상기 광투과도 조절 박막(150)의 상부에 구비된다. 상기 홀로그램 패턴층(180)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)으로부터 반사되는 반사광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 그 상부에 홀로그램을 구현할 있다. The
한편, 상기 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)을 투과하는 투과광은 상기 회절 광학 소자층(130)에 형성된 회절 패턴 및 상기 광투과도 조절 박막(150) 및 상기 회절 광학 소자층(130) 간의 굴절율 차이에 의하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 상기 특정 이미지를 이용하여 위조 여부를 판정할 수 있다.Meanwhile, the transmitted light through which some of the incident light incident to the outside passes through the light transmittance control
결과적으로 상기 반사투과형 위조 방지용 필름(100)은, 그 상부에 홀로그램을 구현하는 한편, 그 하부에 특정 이미지를 동시에 구현할 수 있다.As a result, the reflective transmissive anti-counterfeiting film 100 may implement a hologram on its upper part and simultaneously implement a specific image on its lower part.
여기서, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 50% 미만의 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다. 이로써, 상기 입사광에 대하여 상기 광투과도 조절 박막(150)이 상대적으로 높은 광반사도를 가짐에 따라, 홀로그램의 구현에 필요한 광이 상기 홀로그램 패턴층(180)에 보다 많은 양으로 도달할 수 있다.Here, the light transmittance adjustment
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130), 광투과도 조절 박막(150) 및 정보 패턴부를 포함한다. 상기 정보 패턴부는 예를 들면, QR 패턴층(120)을 포함할 수 있다. 4, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a
상기 QR 패턴층(120)은, 상기 베이스(110)의 하부에 위치한다. 상기 QR 패턴층(120)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)을 투과한 투과광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 본딩층(170)의 하부에 위치한 QR 패턴층(120)에 저장된 정보를 인식할 수 있도록 한다. 즉, QR 스캐너(미도시)는 상기 QR 패턴층(120)을 스캐닝함으로써, 상기 정보, 예를 들면, 생산 로트 등을 이용하여 대상체를 추적 및 관리를 용이하게 할 수 있다.The
결과적으로 상기 반사투과형 위조 방지용 필름(100)은, 그 하부에 특정 이미지를을 구현하는 한편, 그 하부에 형성된 QR 정보를 읽을 수 있다.As a result, the anti-counterfeiting anti-counterfeiting film 100 may implement a specific image on its lower portion and read QR information formed on its lower portion.
여기서, 상기 광투과도 조절 박막(150)은500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 최대 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다. 이로써, 상기 입사광에 대하여 상기 광투과도 조절 박막(150)이 상대적으로 높은 광투과도를 가짐에 따라, QR 패턴층(120)에 보다 많은 양으로 도달할 수 있다. 따라서, QR 패턴층(120)에 저장된 정보를 QR 스캐너가 효과적으로 인식할 수 있다.Here, the light transmittance control
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130), 광투과도 조절 박막(150) 및 정보 패턴부를 포함한다. 상기 정보 패턴부는 예를 들면, 홀로그램 패턴층(180) 및 QR 패턴층(120)을 포함할 수 있다. 5, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a
상기 홀로그램 패턴층(180)은 상기 광투과도 조절 박막(150)의 상부에 구비된다. 상기 홀로그램 패턴층(180)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)으로부터 반사되는 반사광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 그 상부에 홀로그램을 구현할 있다. The
한편, 상기 QR 패턴층(120)은, 상기 베이스(110)의 하부에 위치한다. 상기 QR 패턴층(120)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)을 투과한 투과광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110)의 하부에 위치한 QR 패턴층(120)에 저장된 정보를 인식할 수 있도록 한다. 즉, QR 스캐너는 상기 QR 패턴층(120)을 스캐닝함으로써, 상기 정보, 예를 들면, 생산 로트 등을 이용하여 대상체를 추적 및 관리를 용이하게 할 수 있다.Meanwhile, the
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름의 제조 방법을 설명하는 순서도이다.6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
도 1 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름의 제조 방법에 있어서, 먼저, 베이스(110) 의 일면 상에 회절 광학 소자층(130)을 형성한다(S110). 상기 회절 패턴을 갖는 회절 광학 소자층(130)은 핫 엠보싱 공정, 나노 임프린팅 공정 또는 트랜스퍼 프린팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. 1 and 6, in the method of manufacturing a semi-transmissive anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention, first, the diffractive
이어서, 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라, 상기 외부로 입사되는 광을 반사 및 투과시키는 광투과도 조절 박막(150)을 형성한다(S130). 상기 광투과도 조절 박막(150)은, 원자층 증착 공정, 스퍼터링 공정 또는 이온 빔 공정을 통하여 형성될 수 있다.Subsequently, along with the profile of the diffraction pattern, a light transmittance control
상기 광투과도 조절 박막(150)은 금, 은, 알루미늄과 같은 광반사성 금속 물질을 이용하여 형성될 수 있다. 상기 광투과도 조절 박막(150)은 1 nm 내지 4 nm 의 두께를 갖도록 형성될 수 있다. The light transmittance adjustment
한편, 베이스(110)의 타면 상에 QR 패턴층(120)과 같은 정보 패턴층을 형성한다. 이와 다르게, 별도의 베이스 상에 홀로그팸 패턴층(180; 도 5 참조)과 같은 정보 패턴층을 형성한다. Meanwhile, an information pattern layer such as the
이후, 정보 패턴층을 광투과도 조절 박막(150) 상에 본딩한다. 이로써, 정보 패턴층 및 상기 광투과도 조절 박막(150)을 포함하는 반투과성 위조 방지용 필름(100)이 제조된다. Thereafter, the information pattern layer is bonded onto the light transmittance control
도 7a는 비교예로서 홀로그램을 촬상한 사진이다. 도 7b는 본 발명의 회절성 광학 소자를 갖는 반투과형 위조 방지용 필름을 촬상한 사진이다.7A is a photograph of a hologram taken as a comparative example. 7B is a photograph of a semi-transmissive anti-counterfeiting film having the diffractive optical element of the present invention.
도 7a 및 도 7b를 참조하면, 홀로그램은 간섭 무늬가 주기성을 반복적으로 형성되어 있는 반면에, 본 발명의 회절성 광학 소자를 갖는 반투과형 위조 방지용 필름은 불규칙한 무늬가 복층으로 형성되어 있는 구조를 가짐을 확인할 수 있다.7A and 7B, the hologram has a structure in which an interference fringe is formed with a periodicity repeatedly, whereas a transflective anti-counterfeiting film having the diffractive optical element of the present invention has a structure in which an irregular pattern is formed in multiple layers. can confirm.
도 8은 투과형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.8 is a cross-sectional view for explaining a phase difference of light passing through a diffraction pattern included in a transmissive anti-counterfeiting film.
도 8을 참조하면, 회절 패턴들 사이의 높이차(h)가 존재하고, 회절 패턴이 np(=1+p)를 가질 경우, Referring to FIG. 8, when a height difference (h) between diffraction patterns exists and the diffraction pattern has n p (=1+p),
서로 다른 위치에서의 위상차(φ1-φ2)는 아래 수학식1과 같습니다.The phase difference (φ 1 -φ 2 ) at different positions is as shown in
여기서, k0(=2π/λ)이며, p는 공기의 굴절율인 1보다 큰 차이값이며, h는 회절 패턴의 높이차이다. Here, k 0 (=2π/λ), p is a difference value greater than 1, which is the refractive index of air, and h is the height difference of the diffraction pattern.
상기 위상차를 이용하여 회절패턴으로부터 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.By using the phase difference, an image for authenticity determination can be implemented from a diffraction pattern.
도 9는 반사형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.9 is a cross-sectional view for describing a phase difference of light transmitted through a diffraction pattern included in a reflective anti-counterfeiting film.
도 9를 참조하면, 회절 패턴들 사이의 높이차(h)가 존재하고, 회절 패턴이 np(=1+p)를 가질 경우, Referring to FIG. 9, when a height difference (h) between diffraction patterns exists and the diffraction pattern has n p (=1+p),
서로 다른 위치에서의 위상차(φ1-φ2)는 아래 수학식1과 같습니다.The phase difference (φ 1 -φ 2 ) at different positions is as shown in
여기서, k0(=2π/λ)이며, p는 공기의 굴절율인 1보다 큰 차이값이며, h는 회절 패턴의 높이차이다. Here, k 0 (=2π/λ), p is a difference value greater than 1, which is the refractive index of air, and h is the height difference of the diffraction pattern.
상기 위상차를 이용하여 회절패턴으로부터 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.By using the phase difference, an image for authenticity determination can be implemented from a diffraction pattern.
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.The present invention has been illustrated and described with reference to preferred embodiments, as described above, but is not limited to the above embodiments and is varied by those skilled in the art to which the present invention pertains without departing from the spirit of the present invention. Modifications and modifications are possible. Such modifications and variations should be considered within the scope of the invention and appended claims.
100 : 반투과형 위조 방지용 필름 110 : 베이스
130 : 회절성 광학 소자층 150 : 광투과도 조절 박막
170 : 본딩층 190 : 평탄화층100: semi-transmissive anti-counterfeiting film 110: base
130: diffractive optical element layer 150: light transmittance control thin film
170: bonding layer 190: planarization layer
Claims (11)
상기 베이스 상에 구비되며, 진위 판정용 이미지를 구현하기 위한 회절 패턴을 갖는 회절성 광학 소자층;
상기 회절성 광학 소자층 상에 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성되며, 입사되는 입사광을 부분적으로 반사 및 투과시킬 수 있는 광투과도 조절 박막; 및
상기 베이스의 상부 또는 하부에 정보를 저장하는 적어도 하나의 정보 패턴부를 포함하고,
상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 하면에 구비되고, QR 정보를 포함하는 QR 패턴층 및 상기 광투과도 조절 박막 상에 구비되어 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광을 재현광으로 이용하는 홀로그램 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름. Base;
A diffractive optical element layer provided on the base and having a diffraction pattern for realizing an image for authenticity determination;
A light transmittance control thin film formed along the profile of the diffraction pattern on the diffractive optical element layer and partially reflecting and transmitting incident incident light; And
It includes at least one information pattern unit for storing information in the upper or lower portion of the base,
The information pattern portion is provided on the lower surface of the base, and includes a QR pattern layer including QR information and a hologram pattern layer provided on the light transmittance control thin film and using incident light having a wavelength of 500 to 600 nm as reproducing light. Semi-transmissive anti-counterfeiting film.
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