KR20210028394A - 기판처리장치 - Google Patents

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KR20210028394A
KR20210028394A KR1020190109404A KR20190109404A KR20210028394A KR 20210028394 A KR20210028394 A KR 20210028394A KR 1020190109404 A KR1020190109404 A KR 1020190109404A KR 20190109404 A KR20190109404 A KR 20190109404A KR 20210028394 A KR20210028394 A KR 20210028394A
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processing apparatus
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윤슬이
박성철
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주식회사 원익아이피에스
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Abstract

본 발명은 공정을 위하여 튜브 내의 보트(Boat)에 가스를 공급하는 구조를 개선한 기판처리장치를 개시하며, 기판처리장치는 튜브와 단열부 사이에 실린더 형의 디스트리뷰터(Distributor)를 구비함으로써 디스트리뷰터의 내부로 유입되는 가스를 지연에 의해 충분히 히팅하고 활성할 수 있다. 그러므로, 보트에 차지된 전체 웨이퍼의 에지의 박막 성장이 증대될 수 있고, 웨이퍼 수율이 향상될 수 있다.

Description

기판처리장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 공정을 위하여 튜브 내의 보트(Boat)에 가스를 공급하는 구조를 개선한 기판처리장치에 관한 것이다.
기판처리장치는 웨이퍼와 같은 기판에 절연막, 보호막, 산화막, 금속막 등을 증착하기 위한 장치이다.
기판처리장치의 일례로 리액터(Reactor)가 예시될 수 있다.
리액터는 고온의 열처리를 통하여 기판인 웨이퍼에 박막을 증착하는 장치이며, 한 번에 많은 수의 웨이퍼를 처리하기 위하여 보트(Boat)를 이용하도록 구성된다.
보트는 일정한 매수 단위(예시적으로 180매)로 웨이퍼들을 다층으로 차지(Charge)하도록 구성되며, 리액터는 웨이퍼들을 차지(Charge)한 보트를 수직으로 반입하거나 반출하는 구조를 갖는다.
리액터 내의 공정 환경은 보트에 차지된 웨이퍼들 각각에 균일하게 적용될 수 있도록 제어되어야 한다. 이를 위하여, 리액터는 보트의 웨이퍼들로 공급되는 가스가 공정에 적합한 유속과 활성화 상태를 갖도록 구성될 필요가 있으며, 이를 위하여 단열부가 보트의 하부에 구성된다.
예시적으로, 단열부는 서로 이격되며 다층으로 적층된 단열판들을 이용하여 구성될 수 있다.
공정의 진행을 위하여, 보트와 단열부는 수직으로 리액터에 반입되며 튜브 내에 수용된다. 리액터에 반입된 보트와 단열부는 튜브에 의하여 외부와 분리된 공정 환경을 가질 수 있다.
그리고, 보트는 차지된 웨이퍼들에 대한 균일한 공정 환경을 형성하기 위하여 회전될 수 있다.
공정의 진행을 위하여 가스는 매니폴더의 인렛(Inlet)을 통하여 단열부의 하부로 분사되고, 분사된 가스는 튜브를 통하여 상부의 단열부를 거쳐서 보트의 웨이퍼 쪽으로 안내된다.
가스는 상부로 안내되는 과정에 웨이퍼와 반응하기 적절한 유속과 활성화 상태로 변화되어야 한다. 그러나, 인렛에서 분사된 가스는 튜브와 단열부 사이의 공간을 통하여 한 쪽으로 몰려서 이동되며, 그 결과 가스의 유속은 단열부에 의해 완화되기 어렵고 불충분하게 활성화되어서 보트로 공급된다.
보트에 차지된 웨이퍼들 중 단열부에 인접한 하층의 웨이퍼들이 불충분하게 활성화된 가스에 영향을 받을 수 있다.
웨이퍼 상의 박막은 수율 확보를 위하여 에지가 중심보다 두꺼워서 전체적으로 오목한 형상으로 성장되어야 한다.
활성화가 불충분한 가스가 보트의 웨이퍼에 공급되는 경우, 웨이퍼 에지에 대한 박막의 성장률이 저하되며, 웨이퍼 상의 박막은 에지가 중심보다 얇은 전체적으로 볼록한 형상으로 성장된다.
따라서, 종래의 기판처리장치는 양호한 수율을 확보할 수 있도록 웨이퍼 상에 박막을 성장시키는데 어려움이 있다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 웨이퍼 상에 박막을 성장시키는데 적합한 유속과 활성화 상태를 갖도록 튜브 내에서 단열부를 거쳐서 보트의 웨이퍼로 공급되는 가스를 제어할 수 있는 기판처리장치를 제공함을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 튜브와 단열부 사이에 가스의 흐름을 제어하는 디스트리뷰터를 구성함으로써 보트의 웨이퍼로 공급되는 가스의 흐름을 제어할 수 있는 기판처리장치를 제공함을 다른 목적으로 한다.
상기 기술적 과제를 이루기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 기판들을 차지(Charge)하는 보트; 상기 보트 하부에 구성되는 단열부; 상기 보트와 상기 단열부를 수용하는 튜브; 및 상기 튜브와 상기 단열부 사이에 삽입되며 상기 단열부를 수용하는 실린더 형의 디스트리뷰터(Distributor);를 구비하며, 상기 디스트리뷰터의 내부로 유입되는 가스가 상기 디스트리뷰터의 상단과 상기 보트의 하부 간의 갭을 통하여 상기 튜브의 상부로 공급됨을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 기판처리장치는, 기판들을 차지(Charge)하는 보트; 상기 보트 하부의 단열부; 상기 단열부의 하부의 플랜지; 상기 보트와 상기 단열부를 수용하며 상부가 개방된 이너 튜브; 상기 이너 튜브를 내부에 수용하는 아우터 튜브; 상기 플랜지와 상기 단열부 사이에 가스를 공급하는 매니폴드; 및 상기 이너 튜브와 상기 단열부 사이에 삽입되면서 상기 단열부를 수용하는 실린더 형으로 구성되고, 상기 플랜지의 상면에 안착되며, 측면의 하부에 상기 가스가 유입되는 유입구가 형성된 디스트리뷰터;를 포함하며, 상기 가스가 상기 매니폴드로부터 상기 유입구를 거쳐서 상기 디스트리뷰터의 내부로 유입되며 상기 디스트리뷰터의 상단과 상기 보트의 하부 간의 갭을 통하여 상기 이너 튜브의 상부로 공급됨을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 인렛에서 직진으로 분사되는 가스가 디스트리뷰터 내에서 충분한 시간 동안 지연되면서 단열부를 경유한 후 보트의 웨이퍼로 공급되도록 제어될 수 있다.
그러므로, 보트의 웨이퍼로 공급되는 가스가 웨이퍼 상에 박막을 성장시키기 적합한 유속과 활성화 상태를 가질 수 있으며, 웨이퍼 에지의 박막 성장을 극대화 할 수 있다.
따라서, 기판처리장치는 보트에 차지된 웨이퍼들 중 단열부에 인접한 하층의 웨이퍼들에도 안정된 유속을 가지며 충분하게 활성화된 가스를 공급할 수 있으며, 보트에 차지된 웨이퍼들 전체적으로 에지가 중심보다 두꺼워서 전체적으로 오목한 형상으로 박막을 성장시킬 수 있다.
결과적으로, 본 발명에 의한 기판처리장치는 웨이퍼 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 기판처리장치의 실시예를 나타내는 단면도.
도 2는 도 1의 디스트리뷰터를 예시한 부분 사시도.
도 3은 본 발명의 기판처리장치의 다른 실시예를 나타내는 단면도.
도 4는 도 3의 디스트리뷰터를 예시한 부분 사시도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 본 명세서 및 특허청구범위에 사용된 용어는 통상적이거나 사전적 의미로 한정되어 해석되지 아니하며, 본 발명의 기술적 사항에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.
본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예이며, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것이 아니므로, 본 출원 시점에서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있다.
도 1의 기판처리장치(100)는 이너 튜브(10)와 아우터 튜브(20)를 갖는 이중 튜브 구조를 갖는 리액터를 예시한 것이다.
기판처리장치(10)에서, 이너 튜브(10)는 상부와 하부가 개방된 실린더형으로 예시되며, 아우터 튜브(20)는 하부만 개방되고 이너 튜브(10)의 직경보다 큰 실린더형으로 예시되며 이너 튜브(10)를 내부에 수용하도록 구성된다.
이너 튜브(10)는 외벽과 아우터 튜브(20)의 내벽 간에는 이격된 공간이 형성된다. 이너 튜브(10)는 웨이퍼에 박막이 형성되는 반응 공간을 형성하기 위한 것이며, 아우터 튜브(20)는 이너 튜브(10)가 내부 및 외부의 환경 차(압력 차 및 온도 차)에 의해 손상되는 것을 방지하기 위한 완충 공간 즉 이격된 공간을 형성하기 위한 것이다.
아우터 튜브(20)의 외부에는 히팅 블록(도시되지 않음)이 구성된다. 히팅 블록은 이너 튜브(10) 내부의 반응 공간을 가열하기 위해서 발열된다.
또한, 기판처리장치(10)는 보트(30), 단열부(40), 매니폴드(50), 지지판(60), 플랜지(70) 및 디스트리뷰터(80)를 포함한다. 이들 중, 플랜지(70)는 이너 튜브(10) 및 아우터 튜브(20)와 같이 고정되며, 보트(30), 단열부(40), 지지판(60), 플랜지(70) 및 디스트리뷰터(80)는 상호 결합되며 승강 또는 하강되도록 구성된다. 보트(30)와 단열부(40)는 승강 또는 하강에 의해 이너 튜브(10)의 내부로 반입 또는 반출될 수 있다. 상기한 승강 또는 하강을 위한 동력은 승하강 모듈(도시되지 않음)에 의해 제공될 수 있으며, 승강 또는 하강을 위한 구성 및 구동 방법의 설명은 생략한다. 도 1의 보트(30), 단열부(40), 지지판(60), 플랜지(70) 및 디스트리뷰터(80)는 승강된 상태를 예시한다.
상기한 구성 요소들 중, 보트(30)는 기판들을 차지(Charge)하도록 구성된다. 보트(30)는 상부 지지판(32), 하부 지지판(34) 및 복수의 라드(Rod, 36)를 구비한다. 상부 지지판(32)과 하부 지지판(34)은 서로 평행하게 이격 배치되며 이들 사이에 수직으로 설치되는 복수의 라드(36)에 의해 고정된다. 그리고, 복수의 라드(36) 각각에는 웨이퍼를 차지하기 위한 슬롯들이 복수의 층을 이루도록 형성된다. 각 층의 웨이퍼는 복수의 라드(36) 사이에 위치된 후 라드(36)의 동일 층의 슬롯들에 안착될 수 있다.
단열부(40)는 보트(30)의 하부에 구성되며 하부 단열판들(42)과 상부 단열판들(44)을 포함한다. 보다 구체적으로, 단열부(40)는 보트(30)와 지지판(60) 사이에 구성된다.
하부 단열판들(42)은 지지판(60)의 상부에 구성되며 다층을 이루며 서로 이격되고 제1 직경을 갖도록 구성된다. 그리고, 상부 단열판들(44)은 하부 단열판들(42)의 상부 및 보트(30)의 하부에 배치되며, 다층을 이루며 서로 이격되고 제1 직경과 다른 제2 직경을 갖도록 구성된다. 본 발명의 실시예는 하부 단열판들(42)의 제1 직경이 상부 단열판들(44)의 제2 직경보다 큰 것으로 예시된다. 그러나, 본 발명은 이에 제한되지 않고 제1 직경과 제2 직경이 같거나 제1 직경보다 제2 직경이 크게 실시될 수 있다.
지지판(60)은 실린더형 디스트리뷰터(80)의 내부에 위치될 수 있으며, 단열부(40)와 플랜지(70) 사이에 구성된다. 지지판(60)의 상면은 단열부(40)의 하부 단열판들(42)과 상부 단열판들(44)을 관통하는 복수 개의 지지 기둥(62)을 통하여 보트(30)의 하부의 지지부와 결합된다. 이때 보트(30)의 하부의 지지부는 상기한 하부 지지판(34)으로 이해될 수 있다. 상기한 상부 단열판들(44)과 하부 단열판들(42) 각각은 지지 기둥(62)이 관통되는 관통구(도시되지 않음)를 갖도록 구성되며, 지지 기둥(62)을 이용하여 층 별 이격 상태를 유지하도록 체결될 수 있다. 한편, 지지판(60)의 하면은 축(64)을 통하여 플랜지(70)와 결합되며, 플랜지(70) 하부의 축(74)와 축이음에 의해 회전력 및 승하강력을 전달받도록 구성될 수 있다.
매니폴드(50)는 플랜지(70)와 단열부(40) 사이, 보다 구체적으로 플랜지(70)와 지지판(60) 사이에 가스를 공급하도록 구성된다.
매니폴드(50)는 가스를 공급하기 위한 인렛(도시되지 않음)이 설치되는 관통구(52)를 구비한다.
매니폴드(50)는 상측이 아우터 튜브(20)의 하단과 접하도록 구성되고, 이들 사이는 오링(O-ring, 도시되지 않음)에 의해 기밀을 유지하도록 구성될 수 있다. 그리고, 매니폴드(50)는 하측이 플랜지(70)와 접하도록 구성되고, 이들 사이도 오링에 의해 기밀을 유지하도록 구성될 수 있다.
상기한 매니폴드(50)는 가스를 공급하는 배관의 단부에 구성되는 인렛이 관통구(52)에 삽입되도록 구성되며, 인렛은 단부가 디스트리뷰터(80)의 유입구(82)를 지향하여 가스를 공급하거나 디스트리뷰터(80)의 내측에 위치하여 가스를 공급하도록 구성될 수 있다.
플랜지(70)는 상부에 구성되는 보트(30), 단열부(40), 지지판(60) 및 디스트리뷰터(80)를 지지하며 승강 또는 하강되도록 구성될 수 있다. 플랜지(70)는 상술한 바와 같이 지지판(60)을 통하여 보트(30) 및 단열부(40)를 지지하도록 구성될 수 있다. 플랜지(70)의 승강 또는 하강은 하부에 구성되는 승하강 모듈에 의해 제어될 수 있다. 플랜지(70)의 승강에 의해 보트(30) 및 단열부(40)가 이너 튜브(10) 내에 반입될 수 있으며, 이때 플랜지(70)의 에지는 매니폴드(50)의 하측과 접하여 실링을 유지하도록 고정된다. 이와 반대로, 플랜지(70)의 하강에 의해 보트(30) 및 단열부(40)가 이너 튜브(10)의 외부로 반출될 수 있다.
한편, 디스트리뷰터(80)는 이너 튜브(10)와 단열부(40) 사이에 삽입되면서 단열부(40)를 수용하는 실린더 형으로 구성된다. 디스트리뷰터(80)는 보트(30)의 하부의 지지부 즉 하부 지지판(34)보다 낮은 높이를 가지면서 상부의 반응 공간 즉 보트(30)가 위치한 상부로 가스를 공급할 수 있도록 하부 지지판(34)과 이격된 갭을 확보하는 높이를 가짐이 바람직하다.
디스트리뷰터(80)의 하단은 플랜지(70)의 상면에 안착되며, 측면의 하부에 가스가 유입되는 유입구(82)가 구성될 수 있다.
디스트리뷰터(80)는 플랜지(70)의 상면에 고정된 위치를 갖도록 안착되어야 한다. 이를 위하여 플랜지(70)는 상면에 마주하는 디스트리뷰터(80)의 하단에 대응하는 홈(72)을 구비할 수 있다. 플랜지(70)의 상면에 형성된 홈(72)은 소정 깊이를 가지며 삽입되는 디스트리뷰터(80)의 하단이 유동되지 않도록 지지하는 역할을 한다. 즉, 디스트리뷰터(80)는 하단이 플랜지(70) 상면의 홈(72)에 삽입됨으로써 견고히 고정될 수 있다. 그리고, 디스트리뷰터(80)가 플랜지(70) 상부에 견고히 안착된 상태를 보강하기 위하여 부가적인 체결 장치들이 더 구성될 수 있으나, 상기한 부가적인 체결 장치들은 당업자에 의하여 다양하게 실시될 수 있으므로 이들에 대한 구체적이 설명은 생략한다.
상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예는 인렛이 구성되는 매니폴드(50)로부터 유입구(82)를 거쳐서 디스트리뷰터(80)의 내부로 유입되며 디스트리뷰터(80)의 상단과 보트(30)의 하부 간의 갭을 통하여 이너 튜브(10)의 상부로 공급될 수 있다. 상기한 가스의 흐름은 이해를 위하여 각 도면에 화살표로 표시된다.
도 1 및 도 2의 실시예는 균일한 내경을 갖는 디스트리뷰터(80)가 구성된 것을 예시한다. 이때, 디스트리뷰터(80)의 내경은 하부 단열판들(42)의 제1 직경과 상부 단열판들(44)의 제2 직경 중 큰 것보다 더 크게 형성됨이 바람직하다.
상기한 바에 의해, 디스트리뷰터(80) 내에는 가스의 흐름을 위한 공간이 형성된다. 즉, 디스트리뷰터(80)의 내벽과 하부 단열판들(42) 또는 상부 단열판들(44) 사이의 이격된 공간을 통해 가스가 상부로 흐른다. 또한, 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 갭은 디스트리뷰터(80)의 내부보다 좁은 단면적을 갖는다.
상기한 구조에 의해서, 디스트리뷰터(80)의 상부를 향한 가스의 흐름은 디스트리뷰터(80)에 의해 제한된 공간과 하부 단열판들(42)과 상부 단열판들(44)에 의해 지연되며 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 좁은 갭에 의해 지연된다.
가스는 디스트리뷰터(80)의 내부에서 지연되는 동안 충분히 히팅되면서 활성화될 수 있다.
이와 같이 디스트리뷰터(80) 내부에서 충분히 히팅되고 활성화된 가스는 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 갭을 통하여 보트(30)가 위치한 반응 공간으로 공급될 수 있다.
또한, 가스는 디스트리뷰터(80)의 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 좁을 갭을 통하여 배출된다. 그러므로, 가스는 디스트리뷰터(80)와 갭의 가스는 단면적 차이에 의해서 디스트리뷰터(80) 내부에서 이동되는 것 보다 빠른 속도록 디스트리뷰터(80) 외부로 배출될 수 있다. 즉, 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 갭의 크기에 의해 보트(30)를 향하여 공급되는 가스의 유속이 제어될 수 있다.
상기한 가스의 유속을 제어하기 위하여 도 1 및 도 2의 실시예와 같이 디스트리뷰터(80)는 상단의 내경이 보트(30)의 하부의 지지부의 직경보다 크게 형성됨이 바람직하다.
본 발명의 실시예로서 도 1 및 도 2는 전체적으로 균일한 내경을 갖는 디스트리뷰터(80)가 구성된 것을 예시하고 있다. 그러나, 본 발명은 도 3 및 도 4와 같이 서로 다른 직경 단관이 단차를 갖도록 연결된 실린더 구조의 디스트리뷰터(80)를 이용하여 실시될 수 있다.
도 3 및 도 4에서 도 1 및 도 2와 동일한 구성요소는 동일 부호로 표시하고 이들에 대한 중복 설명은 생략한다.
도 3 및 도 4에서, 디스트리뷰터(80)는 하부 단열판들(42)을 수용하며 제1 직경보다 큰 제1 내경을 갖는 제1 단관(84)과 상부 단열판들(44)을 수용하며 제2 직경보다 큰 제2 내경을 갖는 제2 단관(86)을 구비하며, 제1 단관(84)과 제2 단관(86)은 단차(88)를 통하여 연결되도록 구성된다.
상술한 바와 같이 도 3에서 상부 단열판들(44)의 제2 직경은 하부 단열판들(42)의 제1 직경보다 작게 구성된 것으로 예시된다. 그러므로, 제2 단관(86)의 제2 내경은 제1 단관(84)의 제1 내경보다 작도록 설계됨이 바람직하다. 제1 단관(84)의 제1 내경은 하부 단열판들(42)의 제1 직경보다 더 크게 형성됨이 바람직하며, 제2 단관(86)의 제2 내경은 상부 단열판들(44)의 제2 직경보다 더 크게 형성됨이 바람직하다.
그리고, 도 3과 같이, 디스트리뷰터(80)의 상단을 형성하는 제2 단관(86)의 제2 내경은 보트(30)의 하부의 지지부의 직경보다 작게 형성된다.
상기한 바에 의하여 도 3 및 도 4의 디스트리뷰터(80) 내에도 가스의 흐름을 위한 공간이 형성된다. 즉, 디스트리뷰터(80)에서, 제1 단관(84)의 내벽과 하부 단열판들(42) 사이 또는 제2 단관(86)의 내벽과 상부 단열판들(44) 사이의 이격된 공간을 통해 가스가 상부로 흐른다. 또한, 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 갭은 디스트리뷰터(80)의 내부보다 좁은 단면적을 갖는다.
상기한 구조에 의해서, 도 3 및 도 4의 실시예도 디스트리뷰터(80)의 상부를 향한 가스의 흐름은 디스트리뷰터(80), 하부 단열판들(42) 및 상부 단열판들(44)에 구성에 의해 지연되고 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 좁은 갭에 의해 지연된다.
따라서, 가스는 디스트리뷰터(80)의 내부에서 지연되는 동안 충분히 히팅되면서 활성화될 수 있다.
또한, 디스트리뷰터(80) 상단과 보트(30)의 하부의 지지부 간의 갭의 크기에 의해 보트(30)를 향하여 공급되는 가스의 유속이 제어될 수 있다.
상기한 가스의 유속을 제어하기 위하여 도 3 및 도 4의 실시예는 디스트리뷰터(80)의 상단과 보트(30)의 하부의 지지부의 간의 이격 거리를 조정할 수 있다.
본 발명은 상술한 실시예들에 의해서 가스를 디스트리뷰터 내에서 충분한 시간 동안 지연시키면서 단열부를 경유한 후 보트의 웨이퍼로 공급할 수 있다.
그러므로, 본 발명에 의하면 웨이퍼 상에 박막을 성장시키기 적합한 유속과 활성화 상태의 가스가 보트의 웨이퍼들로 공급될 수 있으며, 보트의 하층에 위치한 웨이퍼들의 에지에도 충분한 두께로 박막이 성장될 수 있다.
그러므로, 보트에 차지된 웨이퍼들 전체적으로 에지가 중심보다 두꺼워서 전체적으로 오목한 형상으로 박막이 성장될 수 있으며, 그 결과 웨이퍼 수율이 향상될 수 있다.

Claims (19)

  1. 기판들을 차지(Charge)하는 보트;
    상기 보트 하부에 구성되는 단열부;
    상기 보트와 상기 단열부를 수용하는 튜브; 및
    상기 튜브와 상기 단열부 사이에 삽입되며 상기 단열부를 수용하는 실린더 형의 디스트리뷰터(Distributor);를 구비하며,
    상기 디스트리뷰터의 내부로 유입되는 가스가 상기 디스트리뷰터의 상단과 상기 보트의 하부 간의 갭을 통하여 상기 튜브의 상부로 공급됨을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상단의 내경이 상기 보트의 하부의 지지부의 직경보다 크게 형성되는 기판처리장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터의 하단에 상기 가스가 유입되는 유입구가 형성되는 기판처리장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 균일한 내경을 갖는 기판처리장치.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 단열부는,
    다층을 이루며 서로 이격되고 제1 직경을 갖는 하부 단열판들; 및
    상기 하부 단열판들의 상부에 배치되며, 다층을 이루며 서로 이격되고 상기 제1 직경과 다른 제2 직경을 갖는 상부 단열판들;을 포함하는 기판처리장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상기 제1 직경 및 상기 제2 직경보다 크며 균일한 내경을 갖는 기판처리장치.
  7. 제5 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상기 하부 단열판들을 수용하며 상기 제1 직경보다 큰 제1 내경을 갖는 제1 단관과 상기 상부 단열판들을 수용하며 상기 제2 직경보다 큰 제2 내경을 갖는 제2 단관을 구비하며, 상기 제1 단관과 상기 제2 단관은 단차를 통하여 연결되는 기판처리장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 제2 직경은 상기 제1 직경보다 작고, 상기 제2 내경은 상기 제1 내경보다 작은 기판처리장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상단을 형성하는 상기 제2 단관의 내경이 상기 보트의 하부의 지지부의 직경보다 작게 형성되는 기판처리장치.
  10. 기판들을 차지(Charge)하는 보트;
    상기 보트 하부의 단열부;
    상기 단열부의 하부의 플랜지;
    상기 보트와 상기 단열부를 수용하며 상부가 개방된 이너 튜브;
    상기 이너 튜브를 내부에 수용하는 아우터 튜브;
    상기 플랜지와 상기 단열부 사이에 가스를 공급하는 매니폴드; 및
    상기 이너 튜브와 상기 단열부 사이에 삽입되면서 상기 단열부를 수용하는 실린더 형으로 구성되고, 상기 플랜지의 상면에 안착되며, 측면의 하부에 상기 가스가 유입되는 유입구가 형성된 디스트리뷰터;를 포함하며,
    상기 가스가 상기 매니폴드로부터 상기 유입구를 거쳐서 상기 디스트리뷰터의 내부로 유입되며 상기 디스트리뷰터의 상단과 상기 보트의 하부 간의 갭을 통하여 상기 이너 튜브의 상부로 공급됨을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 매니폴드는 상기 플랜지의 상부에 결합되고, 인렛을 통하여 상기 디스트리뷰터의 상기 유입구로 상기 가스를 공급하도록 구성되는 기판처리장치.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 플랜지의 상면에 상기 디스트리뷰터의 하단에 대응하는 홈이 형성되며,
    상기 디스트리뷰터의 하단은 상기 홈에 삽입됨으로써 고정되는 기판처리장치.
  13. 제10 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터의 내부에 위치하는 지지판을 더 구비하고,
    상기 지지판의 상면은 상기 단열부를 관통하는 복수 개의 지지 기둥을 통하여 상기 보트의 하부의 지지부와 결합되며,
    상기 지지판의 하면은 상기 플랜지를 관통하는 축과 결합되어 회전력을 전달받도록 상기 플랜지와 결합되는 기판처리장치.
  14. 제10 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상단의 내경이 상기 보트의 하부의 지지부의 직경보다 크게 형성되는 기판처리장치.
  15. 제10 항에 있어서, 상기 단열부는,
    다층을 이루며 서로 이격되고 제1 직경을 갖는 하부 단열판들; 및
    상기 하부 단열판들의 상부에 배치되며, 다층을 이루며 서로 이격되고 상기 제1 직경과 다른 제2 직경을 갖는 상부 단열판들;을 포함하는 기판처리장치.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상기 제1 직경 및 상기 제2 직경보다 크며 균일한 내경을 갖는 기판처리장치.
  17. 제15 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상기 하부 단열판들을 수용하며 상기 제1 직경보다 큰 제1 내경을 갖는 제1 단관과 상기 상부 단열판들을 수용하며 상기 제2 직경보다 큰 제2 내경을 갖는 제2 단관을 구비하며, 상기 제1 단관과 상기 제2 단관은 단차를 통하여 연결되는 기판처리장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 제2 직경은 상기 제1 직경보다 작고, 상기 제2 내경은 상기 제1 내경보다 작은 기판처리장치.
  19. 제17 항에 있어서,
    상기 디스트리뷰터는 상단을 형성하는 상기 제2 단관의 내경이 상기 보트의 하부의 지지부의 직경보다 작게 형성되는 기판처리장치.
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