KR20210017127A - A large X-RAY Generator - Google Patents

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KR20210017127A
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이충렬
박관수
김대준
전태진
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(주) 브이에스아이
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    • H01J2201/30469Carbon nanotubes (CNTs)

Abstract

The present invention relates to a large-area X-ray generating device, capable of performing various functions, which comprises: a vacuum chamber including first and second openings on which a target and a window are seated; and an integrated electron beam emitting module inserted and withdrawn through the second opening.

Description

대면적 엑스선 발생장치 {A large X-RAY Generator}Large area X-ray generator {A large X-RAY Generator}

본 발명은 대면적 엑스선 발생장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공 챔버 및 진공 챔버에 수용되는 전자빔 발생장치를 포함하고, 상기 전자빔 발생장치는 상기 진공 챔버로부터 용이하게 탈부착할 수 있는 대면적 엑스선 발생장치에 관한 것이다.The present invention relates to a large-area X-ray generator, and more particularly, includes a vacuum chamber and an electron beam generator accommodated in the vacuum chamber, wherein the electron beam generator generates a large-area X-ray that can be easily attached and detached from the vacuum chamber. It relates to the device.

일반적으로, 엑스선 발생장치(튜브)는 의료 진단용이나 비파괴 검사용 또는 화학분석용 등 다양한 검사장치 또는 진단장치에 응용되어 폭넓게 사용되고 있다. In general, X-ray generators (tubes) are widely used in various test devices or diagnostic devices such as medical diagnosis, non-destructive testing, or chemical analysis.

엑스선 튜브는 필라멘트를 사용하는 열음극 방식과 CNT(Carbon Nano Tube) 등의 나노 구조물을 사용하는 냉음극 방식으로 구분된다.X-ray tubes are divided into a hot cathode method using filaments and a cold cathode method using nanostructures such as CNT (Carbon Nano Tube).

열음극 방식은 필라멘트에서 방출되는 전자가 아노드 전극에 형성된 타겟과 충돌하는 것에 의해 엑스선이 발생되며, 냉음극 방식은 CNT 등의 나노 구조물에서 방출되는 전자가 아노드 전극에 형성된 타겟에 충돌하는 것에 의해 엑스선이 발생된다.In the hot cathode method, X-rays are generated when electrons emitted from the filament collide with a target formed on the anode electrode, and in the cold cathode method, electrons emitted from a nanostructure such as CNT collide with a target formed on the anode electrode. X-rays are generated.

종래의 열음극 방식과 냉음극 방식의 엑스선 튜브는 내부의 진공 유지를 위해 필라멘트 또는 CNT 등의 나노구조물이 형성되는 캐소드 전극과 아노드 전극이 절연 케이스에 유리관 밀봉 혹은 세라믹 브레이징 등으로 결합된다.In the conventional hot-cathode type and cold-cathode type X-ray tube, a cathode electrode and an anode electrode on which nanostructures such as filaments or CNTs are formed are combined in an insulating case by sealing a glass tube or by ceramic brazing to maintain an internal vacuum.

하지만, 종래 엑스선 튜브는 엑스선 튜브 내부에서 발생하는 가스 등으로 인한 진공 상태 저하, 장시간 사용으로 인해 전자를 방출하는 필라멘트 또는 CNT 등의 나노 구조물의 성능이 저하되거나 파괴되어도 캐소드 전극만 교체가 불가능하여 비용이 증가하는 문제가 있다.However, the conventional X-ray tube is costly because only the cathode electrode cannot be replaced even if the performance of nanostructures such as filaments or CNTs that emit electrons is degraded or destroyed due to a decrease in vacuum due to gases generated inside the X-ray tube, etc. There is a problem with this increasing.

또한, 종래 엑스선 튜브는 전자를 방출하는 필라멘트 또는 CNT 등의 나노 구조물이 형성되는 캐소드 전극의 교체가 불가능하여 필요로 하는 엑스선 튜브의 성능에 따라 엑스선 튜브를 구매해야 하는 문제가 있다.In addition, in the conventional X-ray tube, it is impossible to replace a cathode electrode on which a nanostructure such as a filament emitting electrons or a nanostructure such as CNT is formed, and thus there is a problem in that an X-ray tube has to be purchased according to the required performance of the X-ray tube.

또한, 종래 엑스선 튜브는 전자를 방출하는 에미터의 면적이 작을 수밖에 없는 관계로 점광원 형태의 엑스선이 조사되어 대면적 엑스선 발생은 불가능하거나 혹은 엑스선 튜브를 다수개 배치해야 하는 문제가 있다. 그러나 다수개의 엑스선 튜브를 배치하는 것 또한 콘빔형태의 엑스선이 중첩되는 영역과 비중첩되는 영역에서의 엑스선 선량 불균일을 피할 수 없는 문제가 있다. 이로 인하여 피검체의 해상도의 저하 등이 나타날 수 있다. In addition, in the conventional X-ray tube, since the area of the emitter emitting electrons is inevitably small, X-rays in the form of a point light source are irradiated, so that large-area X-rays cannot be generated, or a plurality of X-ray tubes must be arranged. However, arranging a plurality of X-ray tubes also has a problem in that non-uniformity of X-ray doses in regions where cone-beam-shaped X-rays overlap and non-overlap regions is inevitable. As a result, a decrease in the resolution of the subject may occur.

따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 진공 챔버로부터 전자빔 발생장치를 용이하게 분리 및 결합할 수 있어 엑스선 발생장치의 효율을 유지할 수 있고, 엑스선 튜브에서 엑스선이 방출되는 면적을 넓게 하여 피검체의 해상도를 향상시킬 수 있는 대면적 엑스선 발생장치를 제공한다.Therefore, the present invention is to take into account such a problem, it is possible to easily separate and combine the electron beam generating device from the vacuum chamber, it is possible to maintain the efficiency of the X-ray generating device, and avoided by increasing the area where X-rays are emitted from the X-ray tube. It provides a large-area X-ray generator capable of improving the resolution of a specimen.

본 발명의 일 특징에 따른 대면적 엑스선 발생장치는 타겟 및 윈도우가 안착되는 제1개구부 및 제 2개구부를 포함하는 진공챔버, 상기 제2개구부를 통하여 인출입되는 일체형 전자빔 방출 모듈을 포함하는 대면적 엑스선 발생장치에 있어서, 상기 일체형 전자빔 방출 모듈은 일측이 외부 전원과 연결되고 타측은 전자빔 방출장치와 전기적으로 연결된 리셉터클, 상기 타겟으로 전자빔을 방출하는 전자빔 발생장치, 상기 전자빔 방출장치의 캐소드판 및 게이트판을 각각 상기 리셉터클과 전기적으로 연결하면서, 상기 전자빔 방출장치를 상기 리셉터클에 고정하는 지지대 및 상기 제2개구부에 안착되는 결합부를 포함한다. A large-area X-ray generator according to one aspect of the present invention includes a vacuum chamber including a first opening and a second opening in which a target and a window are seated, and a large area including an integrated electron beam emission module drawn in and out through the second opening. In the X-ray generator, the integrated electron beam emission module includes a receptacle having one side connected to an external power source and the other side electrically connected to an electron beam emission device, an electron beam generation device emitting an electron beam to the target, and a cathode plate and a gate of the electron beam emitting device. Each plate is electrically connected to the receptacle, and includes a support for fixing the electron beam emitting device to the receptacle, and a coupling portion seated in the second opening.

상기 대면적 엑스선 발생장치는 진공챔버 내부를 진공으로 만드는 터보펌프 및 로터리 펌프를 더 포함할 수 있다. The large-area X-ray generator may further include a turbo pump and a rotary pump to vacuum the inside of the vacuum chamber.

상기 대면적 엑스선 발생장치는 상기 타겟 및 윈도우를 탈부착이 가능하게 결합될 수 있다. The large-area X-ray generator may be coupled to the target and the window to be detachably attached.

본 발명의 다른 특징에 따른 대면적 엑스선 발생장치의 전자빔 발생장치는 캐소드판, 상기 캐소드판 상에 상기 캐소드판과 결합되는 CNT 인쇄전극기판, 상기 CNT 인쇄전극기판 상에 형성되는 CNT 에미터, 상기 CNT 인쇄전극기판과 상기 CNT 에미터를 둘러싸도록 형성되는 캐소드판 절연 연결부, 상기 캐소드판 절연 연결부 상부에 형성되는 절연 스페이서, 상기 절연 스페이서 상부에 형성되어 상기 절연 스페이서와 결합되는 게이트판 절연 연결부, 상기 게이트판 절연 연결부 상부에서 상기 게이트 절연 연결부와 결합되고 상기 게이트판 및 상기 게이트판에 형성되는 게이트 메쉬를 포함한다. The electron beam generator of the large-area X-ray generator according to another aspect of the present invention includes a cathode plate, a CNT printed electrode substrate bonded to the cathode plate on the cathode plate, a CNT emitter formed on the CNT printed electrode substrate, the CNT printed electrode substrate and a cathode plate insulating connection portion formed to surround the CNT emitter, an insulating spacer formed on the cathode plate insulating connection portion, a gate plate insulating connection portion formed on the insulating spacer and coupled to the insulating spacer, the And a gate mesh formed on the gate plate and the gate plate and coupled to the gate insulation connection part above the gate plate insulation connection part.

상기 게이트판은 상기 게이트판 절연 연결부 상부에서 수평방향으로 연장되는 제1영역과 상기 제1영역으로부터 상기 캐소드판 방향으로 수직으로 연장되는 제2영역을 포함하고, 상기 제2영역은 상기 게이트판 절연 연결부, 상기 절연 스페이서 및 상기 캐소드판 절연 연결부 내부에 형성되고, 상기 제2영역은 상기 게이트 절연 연결부, 상기 절연 스페이서를 포함하여 상기 캐소드판 절연 연결부의 적어도 일부를 덮는 길이로 연장되며, 상기 제2영역은 상기 CNT 인쇄전극기판의 면적보다 넓은 면적으로 형성될 수 있다. The gate plate includes a first region extending in a horizontal direction from an upper portion of the gate plate insulating connection part and a second region extending vertically from the first region in a direction of the cathode plate, and the second region is insulated from the gate plate. A connection part, the insulating spacer, and the cathode plate are formed inside the insulating connection part, and the second region extends to a length covering at least a part of the insulation connection part of the cathode plate including the gate insulation connection part and the insulation spacer, and the second The area may be formed to have a larger area than that of the CNT printed electrode substrate.

상기 캐소드판은 상기 CNT 인쇄전극기판을 수용할 수 있는 수용홈이 형성될 수 있다. The cathode plate may have a receiving groove capable of accommodating the CNT printed electrode substrate.

이와 같은 대면적 엑스선 발생장치에 따르면, 진공챔버로부터 전자빔 발생장치를 필요에 따라 인출입이 가능하도록 결합되므로, 전자빔 발생장치의 수명이 다하거나 전자빔 발생장치에 문제가 발생하여 성능이 저하된 경우 전자빔 발생장치만 새롭게 교체할 수 있어 대면적 엑스선 발생장치의 성능 저하를 방지할 수 있다.According to such a large-area X-ray generator, since the electron beam generator is coupled so that it is possible to draw in and out of the vacuum chamber as needed, the electron beam generator is deteriorated when the life of the electron beam generator is over or a problem occurs in the electron beam generator. Since only the generator can be newly replaced, it is possible to prevent performance degradation of the large-area X-ray generator.

또한, CNT 에미터의 면적, 타겟 및 윈도우의 면적이 넓게 형성되어 엑스선 발생장치로부터 엑스선이 넓은 면적으로 방출되므로, 피검체의 검사를 진행할 경우 해상도가 향상된다.In addition, since the area of the CNT emitter, the area of the target, and the window are formed wide, X-rays are emitted in a wide area from the X-ray generator, so that the resolution is improved when the subject is inspected.

또한, 진공챔버로부터 타겟 및 윈도우를 탈부착이 가능하도록 결합되므로, 타겟 및 윈도우의 수명이 다하거나 타겟 및 윈도우에 문제가 발생하여 성능이 저하된 경우 새로운 타겟 및 윈도우로 교체할 수 있어 대면적 엑스선 발생장치의 성능 저하를 방지할 수 있다.In addition, since the target and the window are combined to be detachable from the vacuum chamber, the target and window can be replaced with a new target and window when the lifespan of the target and window is over or when the target and window are degraded due to problems, large-area X-rays are generated. Device performance degradation can be prevented.

또한, 진공챔버에 다양한 종류의 타겟 및 윈도우 즉, 엑스선을 발생시키기 위한 타겟 및 윈도우, 빛을 발광하기 위한 형광판 및 윈도우, 전자를 방출하기 위한 박막 및 윈도우를 탈부착하는 것에 의해 다양한 기능을 수행할 수 있다.In addition, various functions can be performed by attaching and attaching various types of targets and windows, that is, targets and windows for generating X-rays, fluorescent plates and windows for emitting light, and thin films and windows for emitting electrons, in the vacuum chamber. have.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 엑스선 발생장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공챔버 및 펌프의 구성도이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공챔버로부터 자유롭게 인출입이 용이하도록 형성된 일체형 전자빔 방출 모듈로, 리셉터클, 전자빔 방출장치, 지지대 및 결합부의 연결 구조를 도시한 도면이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자빔 방출장치의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a large area X-ray generator according to an embodiment of the present invention.
2 is a block diagram of a vacuum chamber and a pump according to an embodiment of the present invention.
3 and 4 are an integrated electron beam emission module formed to be freely withdrawn from a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention, and are views showing a connection structure of a receptacle, an electron beam emission device, a support and a coupling part.
5 and 6 are cross-sectional views of an electron beam emitting device according to an embodiment of the present invention.

상술한 본 발명의 특징 및 효과는 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다. 또한, 본 출원에서, 상부, 하부, 상단, 하단과 같이 상하를 포함하는 표현은 절대적인 높이에 따른 구분이 아니라, 장치의 내부 공간을 중심으로 한 상대적인 위치를 나타낸다.The features and effects of the present invention described above will become more apparent through the following detailed description in connection with the accompanying drawings, and accordingly, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement the technical idea of the present invention. I will be able to. In the present invention, various modifications may be made and various forms may be applied, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific form disclosed, it should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or a combination thereof described in the specification, but one or more other features or It is to be understood that the presence or addition of numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof does not preclude the possibility of preliminary exclusion. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are only used for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first component may be referred to as a second component, and similarly, a second component may be referred to as a first component. In addition, in the present application, expressions including top and bottom, such as top, bottom, top, and bottom, are not classified according to absolute height, but represent a relative position centered on the internal space of the device.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 엑스선 발생장치의 단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공챔버 및 펌프의 구성도이며, 도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공챔버로부터 자유롭게 인출입이 용이하도록 형성된 일체형 전자빔 방출 모듈로, 리셉터클, 전자빔 방출장치, 지지대 및 결합부의 연결 구조를 도시한 도면이고, 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자빔 방출장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a large area X-ray generator according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a configuration diagram of a vacuum chamber and a pump according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 and 4 are an embodiment of the present invention. An integrated electron beam emission module formed to facilitate freely withdrawal from a vacuum chamber according to an embodiment, and is a view showing a connection structure of a receptacle, an electron beam emission device, a support and a coupling part, and FIGS. 5 and 6 are an embodiment of the present invention. Is a cross-sectional view of the electron beam emission device according to.

도 1를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 엑스선 발생장치(1000)는 진공챔버(100), 진공챔버(100)내로 인출입이 가능한 리셉터클(200), 전자빔을 방출시키는 전자빔 발생장치(300), 전자빔 발생장치(300)를 리셉터클(200)과 전기적으로 연결시키고 전자빔 발생장치(300)가 움직이지 않도록 리셉터클(200)에 고정 및 지지하는 지지대(400), 진공챔버(100) 내부를 진공으로 유지시키는 터보펌프(500) 및 로터리 펌프(600)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a large-area X-ray generator 1000 according to an embodiment of the present invention includes a vacuum chamber 100, a receptacle 200 capable of being drawn in and out of the vacuum chamber 100, and an electron beam generating an electron beam. The apparatus 300, the support 400 for electrically connecting the electron beam generating device 300 to the receptacle 200 and fixing and supporting the electron beam generating device 300 to the receptacle 200 so that the electron beam generating device 300 does not move, and the vacuum chamber 100 It includes a turbo pump 500 and a rotary pump 600 to maintain the interior in a vacuum.

도 1 및 도 2를 참조하면, 진공챔버(100)는 터보펌프(500)와 로터리펌프(600)에 의해 내부가 진공 상태를 유지한다. 진공챔버(100) 내부가 진공조건을 만족하지 않을 경우 터보펌프(500)와 로터리펌프(600)가 구동하여 진공챔버(100) 내부를 진공으로 유지한다.Referring to FIGS. 1 and 2, the vacuum chamber 100 maintains a vacuum state inside the turbo pump 500 and the rotary pump 600. When the inside of the vacuum chamber 100 does not satisfy the vacuum condition, the turbo pump 500 and the rotary pump 600 are driven to maintain the inside of the vacuum chamber 100 in a vacuum.

진공챔버(100)는 제1개구부(110), 타겟 및 윈도우(120), 제2개구부(130)를 포함한다.The vacuum chamber 100 includes a first opening 110, a target and a window 120, and a second opening 130.

제1개구부(110)는 도 1에서 도시된 바와 같이 전자빔 발생장치(300)가 진공챔버(100)에 안착된 상태에서 전자빔 발생장치(300)의 상부에 위치되도록 형성되고, 제1개구부(110)에는 타겟 및 윈도우(120)가 결합된다.The first opening 110 is formed to be positioned above the electron beam generating device 300 in a state in which the electron beam generating device 300 is seated in the vacuum chamber 100 as shown in FIG. 1, and the first opening 110 ), the target and the window 120 are combined.

타겟 및 윈도우(120)는 제1개구부(110)에 브레이징에 의해 결합될 수도 있고, 제1개구부(120)에 탈부착이 용이하도록 끼워맞춤 또는 볼트, 너트, 나사 등의 체결부재 의해 결합될 수도 있다.The target and the window 120 may be coupled to the first opening 110 by brazing, or may be fitted to the first opening 120 to facilitate attachment or detachment, or may be coupled by a fastening member such as a bolt, nut, or screw. .

타겟 및 윈도우(120)가 제1개구부(110)에 탈부착이 용이하도록 끼워맞춤, 볼트, 너트, 나사 등의 체결부재에 의해 결합될 경우에는 타겟 및 윈도우(120)와 제1개구부(110) 중 적어도 하나에 가스켓 및 O-ring 등의 실링 부재를 형성하여 진공챔버(100) 내부를 밀폐하고, 외부로부터 진공챔버(100) 내로 공기, 수분 등의 이물이 침입하는 것을 방지하며, 전자빔 발생장치(300)에서 방출되는 전자빔이 외부로 누출되지 않도록 하는 것이 바람직하다. 타겟 및 윈도우(120)가 제1개구부(110)에 탈부착이 가능하게 결합됨으로써, 타겟의 수명이 다해 엑스선 발생 효율이 떨어지거나 타겟 및/또는 윈도우에 결함이 생기는 경우 교체가 가능하여 진공챔버(100) 전체를 교체하지 않아 비용 절감 등이 가능하다.When the target and the window 120 are fitted to the first opening 110 for easy attachment and detachment, and are coupled by fastening members such as bolts, nuts, and screws, among the target and the window 120 and the first opening 110 Sealing members such as a gasket and an O-ring are formed in at least one to seal the inside of the vacuum chamber 100, prevent foreign matter such as air and moisture from entering into the vacuum chamber 100 from the outside, and an electron beam generator ( It is desirable to prevent the electron beam emitted from 300) from leaking to the outside. Since the target and the window 120 are detachably coupled to the first opening 110, the target and the window 120 can be replaced when the lifespan of the target is over and the X-ray generation efficiency decreases, or when a defect occurs in the target and/or window, the vacuum chamber 100 ) It is possible to reduce costs by not replacing the whole.

타겟 및 윈도우(120)는 전자빔 발생장치(300)에서 방출되는 전자빔으로부터 엑스선을 생성하고, 진공챔버(100) 외부로 방출하는 역할을 수행한다. 보다 상세하게 타겟은 전자빔 발생장치(300)로부터 방출된 전자빔과 충돌하여 엑스선을 생성시키고, 윈도우는 타겟과의 충돌에 의해 생성되는 상기 엑스선을 진공챔버(100) 외부로 방출하는 역할을 수행한다.The target and the window 120 generate X-rays from the electron beam emitted from the electron beam generator 300 and emit them to the outside of the vacuum chamber 100. In more detail, the target collides with the electron beam emitted from the electron beam generator 300 to generate X-rays, and the window serves to emit the X-rays generated by the collision with the target to the outside of the vacuum chamber 100.

타겟 및 윈도우(120)의 면적은 전자빔 방출장치(300)의 면적과 동일하거나 전자빔 방출장치(300)의 면적보다 넓게 형성한다. 종래에는 타겟 및 윈도우의 면적이 좁게 형성되어 좁은 면적으로 엑스선이 방출되고, 방출된 엑스선이 넓게 퍼지면서 피검체에 도달하게 되어 해상도가 떨어졌으나, 본 발명은 타겟 및 윈도우의 면적을 넓게 형성하여 처음부터 넓은 면적으로 엑스선이 방출되므로 엑스선이 넓게 퍼지기 전에 엑스선이 피검체에 도달하게 되므로 해상도를 향상시킬 수 있다. 이러한 엑스선 영상 측면에서 뿐만이 아니라 엑스선을 이용한 정전기 제거가 대면적으로 적용될 수 있는 등 다양한 엑스선 응용분야에서 활용될 수 있다.The area of the target and the window 120 is equal to or larger than the area of the electron beam emitting device 300. Conventionally, the area of the target and the window is formed to be narrow so that X-rays are emitted in a narrow area, and the emitted X-rays spread widely and reach the subject, resulting in a decrease in resolution. Since X-rays are emitted in a wide area from the start, the resolution can be improved because the X-rays reach the subject before the X-rays spread widely. In addition to such an X-ray image, static electricity removal using X-rays may be applied to a large area, and thus may be used in various X-ray applications.

타겟 및 윈도우(120)은 베릴륨(Be) 윈도우의 하면에 직접 텅스텐(W) 타겟이 코팅된 투과형 구조이다.The target and the window 120 have a transmissive structure in which a tungsten (W) target is directly coated on a lower surface of a beryllium (Be) window.

타겟 및 윈도우(120)는 위에서 설명한 투과형 구조로 한정되지 않고, 타겟과 윈도우가 따로 형성되는 반사형 구조로 형성될 수도 있다. 예를 들어 진공챔버(100)의 제1개구부(110)에 타겟이 형성된 아노드 전극을 결합하고, 진공챔버(100)의 다른 부분에 윈도우가 결합될 수 있다. 제1개구부(110)에 결합되는 타겟은 전자빔 발생장치(300)에서 방출되는 전자빔과 충돌하여 엑스선을 생성시키고, 진공챔버(100)의 다른 부분에 결합되는 윈도우는 타겟과의 충돌에 의해 생성되고, 타겟에 의해 반사되는 엑스선을 진공챔버(100) 외부로 방출한다. 윈도우가 진공챔버(100)에 결합되는 위치는 전자빔이 타겟과 충돌하고 반사되는 경로에 형성되어 엑스선이 진공챔버(100) 외부로 방출될 수 있도록 한다.The target and the window 120 are not limited to the transmissive structure described above, but may be formed in a reflective structure in which the target and the window are separately formed. For example, an anode electrode having a target formed thereon may be coupled to the first opening 110 of the vacuum chamber 100, and a window may be coupled to another portion of the vacuum chamber 100. The target coupled to the first opening 110 collides with the electron beam emitted from the electron beam generator 300 to generate X-rays, and the window coupled to the other part of the vacuum chamber 100 is generated by collision with the target. , X-rays reflected by the target are emitted to the outside of the vacuum chamber 100. The position at which the window is coupled to the vacuum chamber 100 is formed in a path through which the electron beam collides with the target and is reflected so that X-rays can be emitted outside the vacuum chamber 100.

위에서는 엑스선을 발생시키기 위해 베릴륨 윈도우 하면에 텡스텐이 코팅된 타겟 및 윈도우(120)에 대해서 설명하였으나, 진공챔버(100)에는 다양한 종류의 타겟 및 윈도우(120)가 결합될 수 있다. 일례로, 유리 등 투명한 윈도우 하면에 형광체가 코팅된 발광판 및 윈도우가 결합되고 전자빔 발생장치(300)에서 방출되는 전자가 형광체 타겟과 충돌하여 빛을 발광하는 램프로 사용될 수도 있고, 알루미늄 박막 윈도우가 결합되고 전자빔 발생장치(300)에서 방출되는 전자가 윈도우를 통해 직접 외부로 방출되어 반도체 등의 시료를 표면처리 하는 용도로 사용될 수도 있으며, 식품을 살균하는 용도로 사용될 수도 있다.Although the target and the window 120 coated with tungsten on the lower surface of the beryllium window to generate X-rays have been described above, various types of targets and windows 120 may be coupled to the vacuum chamber 100. For example, a light emitting plate coated with a phosphor and a window may be combined on a lower surface of a transparent window such as glass, and electrons emitted from the electron beam generator 300 may be used as a lamp to emit light by colliding with the phosphor target, and an aluminum thin film window Electrons that are coupled and emitted from the electron beam generator 300 are directly emitted to the outside through a window, and may be used for surface treatment of a sample such as a semiconductor, or may be used for sterilizing food.

제2개구부(130)는 진공챔버(100)의 일면에 형성되고, 제2개구부(130)를 통하여 리셉터클, 전자빔 방출장치, 지지대 및 결합부를 포함하는 일체형 전자빔 방출 모듈을 필요에 따라 인출입할 수 있도록 형성한다. The second opening 130 is formed on one surface of the vacuum chamber 100, and through the second opening 130, an integrated electron beam emission module including a receptacle, an electron beam emission device, a support and a coupling unit can be withdrawn as necessary. To be formed.

일체형 전자빔 방출 모듈이 인출입할 수 있도록 결합부는 진공챔버에 끼워맞춤, 볼트, 너트, 나사 등의 체결부재에 의해 결합되고, 가스켓 및 O-ring 등의 실링 부재를 형성하여 진공챔버(100)의 내부를 완전히 밀폐로 유지하고, 외부로부터 진공챔버(100) 내로 공기, 수분 등의 이물이 침입하는 것을 방지하며, 전자빔 발생장치(300)에서 방출되는 전자빔이 외부로 누출되지 않도록 하는 것이 바람직하다.The coupling part is fitted into the vacuum chamber so that the integrated electron beam emission module can be drawn in and out, and is coupled by fastening members such as bolts, nuts, screws, etc., and forming sealing members such as gaskets and O-rings to allow the vacuum chamber 100 to It is preferable to keep the inside completely sealed, prevent foreign matters such as air and moisture from entering into the vacuum chamber 100 from the outside, and prevent the electron beam emitted from the electron beam generator 300 from leaking to the outside.

도 1 및 도 3을 참조하면, 리셉터클(200)은 지지대(400)를 통해 전자빔 발생장치(300)와 연결되고, 전자빔 발생장치(300)와 연결된 리셉터클(200)은 연결부(220)를 통해 진공챔버(100)와 결합된다.1 and 3, the receptacle 200 is connected to the electron beam generating device 300 through the support 400, and the receptacle 200 connected to the electron beam generating device 300 is vacuum through the connection part 220. It is combined with the chamber 100.

리셉터클(200)은 외부 전원(미도시)과 연결되는 외부 단자부(210), 진공챔버(100)와 결합되는 결합부(220), 지지대(400)와 연결되고 내부적으로 외부 단자부(210)와 연결되어 지지대(400)로 외부 전원을 인가할 수 있는 내부 단자부(230)를 포함한다.The receptacle 200 is connected to an external terminal part 210 connected to an external power source (not shown), a coupling part 220 connected to the vacuum chamber 100, a support 400, and internally connected to the external terminal part 210 It includes an internal terminal unit 230 capable of applying external power to the support 400.

외부 단자부(210)는 하나 이상의 외부 단자(미도시)를 포함하고, 상기 하나 이상의 외부 단자는 전원 케이블 등을 통해 외부 전원과 연결되어 대면적 엑스선 발생장치(1000)에 전원을 인가한다.The external terminal unit 210 includes one or more external terminals (not shown), and the one or more external terminals are connected to an external power source through a power cable or the like to apply power to the large-area X-ray generator 1000.

결합부(220)는 일체형 전자빔 방출 모듈을 진공챔버(100)내부로 인입시킨채 진공챔버(100)를 밀폐시킨다. 결합부(220)는 다양한 방법으로 밀폐시킬 수 있다. 예를 들어 결합부(220)와 제2개구부(130)에 나사선을 형성하여 리셉터클(200)을 진공챔버(100)에 결합시킬 수도 있고, 결합부(220)를 제2개구부(130)에 억지끼움 방식으로 끼워맞춰 리셉터클(200)을 진공챔버(100)에 결합시킬 수도 있으며, 결합부(220)와 제2개구부(130)를 나사, 볼트 등의 체결부재로 결합시킬 수도 있다. 결합부(220)와 제2개구부(130)를 결합하는 방법은 위에서 설명한 방법으로 한정되지 않고, 리셉터클(200)를 진공챔버(100)에 결합 및 고정시킬 수 있는 방법이라면 어떠한 방법이라도 사용될 수 있다. The coupling part 220 seals the vacuum chamber 100 while introducing the integrated electron beam emission module into the vacuum chamber 100. The coupling part 220 can be sealed in various ways. For example, the receptacle 200 may be coupled to the vacuum chamber 100 by forming a thread in the coupling portion 220 and the second opening 130, or the coupling portion 220 may be prevented from the second opening 130 The receptacle 200 may be coupled to the vacuum chamber 100 by fitting in a fitting manner, and the coupling portion 220 and the second opening 130 may be coupled with a fastening member such as screws or bolts. The method of coupling the coupling part 220 and the second opening 130 is not limited to the method described above, and any method may be used as long as it is a method capable of coupling and fixing the receptacle 200 to the vacuum chamber 100. .

결합부(220)가 진공챔버(100)의 제2개구부(130)에 결합될 때 진공챔버(100) 내부의 진공을 유지하고, 진공챔버(100) 내부로 공기, 수분 등의 이물이 들어가는 것은 방지하며, 전자빔 방출장치(300)로부터 방출되는 전자빔이 진공챔버(100) 외부로 방출되지 않도록 가스켓 및 O-ring 등의 실링 부재가 결합부(220)와 제2개구부(130) 중 적어도 하나에 형성될 수 있다.When the coupling part 220 is coupled to the second opening 130 of the vacuum chamber 100, the vacuum inside the vacuum chamber 100 is maintained, and foreign substances such as air and moisture enter the vacuum chamber 100. In order to prevent the electron beam emitted from the electron beam emission device 300 from being emitted to the outside of the vacuum chamber 100, a sealing member such as a gasket and an O-ring is provided in at least one of the coupling part 220 and the second opening 130 Can be formed.

내부 단자부(230)는 리셉터클(200) 내부로 외부 단자부(210)와 연결되어 외부 전원과 연결된다.The internal terminal unit 230 is connected to the external terminal unit 210 inside the receptacle 200 to be connected to an external power source.

내부 단자부(230)는 제1내부 단자(232)와 제2내부 단자(234)를 포함하고, 제1내부 단자(232)는 제1지지대(410)와 결합되어 제1지지대(410)를 통해 전자빔 발생장치(300)에 외부 전원을 인가하고, 제2내부 단자(234)는 제2지지대(420)와 결합되어 제2지지대(420)를 통해 전자빔 발생장치(300)에 외부 전원을 인가한다.The inner terminal unit 230 includes a first inner terminal 232 and a second inner terminal 234, and the first inner terminal 232 is coupled to the first support 410 and passes through the first support 410. External power is applied to the electron beam generating device 300, and the second internal terminal 234 is coupled to the second support 420 to apply external power to the electron beam generating device 300 through the second support 420. .

도 1, 도 3, 도 4 및 도 5를 참조하면, 지지대(400)는 리셉터클(200)과 전자빔 발생장치(300)를 전기적으로 연결하고, 전자빔 발생장치(300)가 움직이지 않도록 리셉터클(200)에 전자빔 발생장치(300)를 고정 및 지지하는 역할을 수행한다.1, 3, 4, and 5, the support 400 electrically connects the receptacle 200 and the electron beam generator 300, and the receptacle 200 so that the electron beam generator 300 does not move. ) Serves to fix and support the electron beam generator 300.

지지대(400)는 제1지지대(410)와 제2지지대(420)을 포함하고, 제1지지대(410)는 리셉터클(200)의 제1내부 단자(232)와 전자빔 발생장치(300)의 캐소드판(310)을 전기적으로 연결하여 캐소드판(310)에 외부 전원을 인가하고, 제2지지대(420)는 리셉터클(200)의 제2내부 단자(234)와 전자빔 발생장치(300)의 게이트판(370)을 전기적으로 연결하여 게이트판(370)에 외부 전원을 인가한다.The support 400 includes a first support 410 and a second support 420, and the first support 410 is a first internal terminal 232 of the receptacle 200 and a cathode of the electron beam generator 300 The plate 310 is electrically connected to apply external power to the cathode plate 310, and the second support 420 is a second inner terminal 234 of the receptacle 200 and a gate plate of the electron beam generator 300 External power is applied to the gate plate 370 by electrically connecting the 370.

제1지지대(410) 및 제2지지대(420)는 리셉터클(200)과 전자빔 발생장치(300)를 전기적으로 연결할 뿐만 아니라 전자빔 발생장치(300)가 움직이지 않도록 리셉터클(200)에 고정 및 지지하는 역할을 수행한다. 제1지지대(410) 및 제2지지대(420)는 전자빔 발생장치(300)가 리셉터클(200)에 연결되어 움직이지 않도록 즉, 휘어지지 않도록 강도가 높은 재질로 형성된다. 앞에서는 제1지지대(410) 및 제2지지대(420)의 재질은 외부전원과 연결된 리셉터클(200)로부터 외부전원을 전자빔 발생장치(300)로 인가할 수 있고, 전자빔 발생장치(300)가 휘지 않고 고정 및 지지될 수 있는 재질이라면 어떠한 재질로도 형성될 수 있다. 지지대(400)에 의해 전자빔 발생장치(300)가 고정 및 지지되어 대면적 엑스선 튜브(1000)가 구동 시 전자빔이 타겟 및 윈도우(120)로 정확하게 방출되어 엑스선 방출 효율을 향상시킬 수 있다. The first support 410 and the second support 420 not only electrically connect the receptacle 200 and the electron beam generating device 300, but also fix and support the electron beam generating device 300 to the receptacle 200 so as not to move. Play a role. The first support 410 and the second support 420 are formed of a material having high strength so that the electron beam generating device 300 is connected to the receptacle 200 and does not move, that is, does not bend. From the front, the material of the first support 410 and the second support 420 may apply external power to the electron beam generator 300 from the receptacle 200 connected to the external power source, and the electron beam generator 300 is bent. It can be formed of any material as long as it can be fixed and supported. When the electron beam generator 300 is fixed and supported by the support 400, when the large-area X-ray tube 1000 is driven, the electron beam is accurately emitted to the target and the window 120, thereby improving X-ray emission efficiency.

도 1, 도 3, 도 5 및 도 6를 참조하면, 전자빔 발생장치(300)는 리셉터클(200)과 지지대(400)를 통해 외부 전원을 인가받아 전자빔을 발생시킨다. 1, 3, 5, and 6, the electron beam generator 300 generates an electron beam by receiving external power through the receptacle 200 and the support 400.

전자빔 발생장치(300)는 캐소드판(310), CNT(Carbon Nano Tube) 인쇄전극기판(320), CNT 에미터(330), 캐소드판 절연 연결부(340), 절연 스페이서(350), 게이트판 절연 연결부(360), 게이트판(370), 게이트 메쉬(380)를 포함한다.The electron beam generator 300 includes a cathode plate 310, a carbon nano tube (CNT) printed electrode substrate 320, a CNT emitter 330, a cathode plate insulation connection 340, an insulation spacer 350, and a gate plate insulation. A connection part 360, a gate plate 370, and a gate mesh 380 are included.

캐소드판(310)은 제1지지대(410) 상부에 위치하고, 제1지지대(410)과 연결되어 외부 전원이 인가된다. 캐소드판(310)이 제1지지대(410) 상부에 결합되는 것에 의해 전자빔 방출장치(300)가 리셉터클(200)에 단단하게 고정 및 지지된다. 캐소드판(310)과 제1지지대(410)를 결합하는 방법은 위에서 설명한 방법으로 한정되지 않고 다양한 방법으로 결합될 수 있다. 예를 들어 캐소드판(310)의 측부와 제1지지대(410)의 측부를 나사, 볼트 등의 체결부재로 결합할 수도 있다.The cathode plate 310 is located above the first support 410 and is connected to the first support 410 to apply external power. When the cathode plate 310 is coupled to the upper portion of the first support 410, the electron beam emitting device 300 is firmly fixed and supported by the receptacle 200. The method of combining the cathode plate 310 and the first support 410 is not limited to the method described above, and may be combined in various ways. For example, the side portion of the cathode plate 310 and the side portion of the first support 410 may be coupled with a fastening member such as screws or bolts.

캐소드판(310)은 도 6에 도시된 바와 같이 CNT 인쇄전극기판(320)이 삽입되도록 중앙에 수용홈이 형성될 수 있다. 수용홈은 작업자의 선택에 따라 형성되지 않을 수도 있다. 수용홈이 형성되지 않을 경우 CNT 인쇄전극기판(320)은 캐소드판(310)의 상부에 결합된다. 캐소드판(310)과 CNT 인쇄전극기판(320)은 다양한 방법에 의해 결합될 수 있다. 예를 들어 캐소드판(310)과 CNT 인쇄전극기판(320)은 접착제에 의해 결합될 수도 있고, 볼트 또는 나사에 의해 결합될 수도 있다. 캐소드판(310)과 CNT 인쇄전극기판(320)의 결합은 위에서 설명한 방법 외에도 캐소드판(310)에 CNT 인쇄전극기판(320)을 고정시킬 수 있는 방법이라면 어떠한 방법이라도 사용이 가능하다.As shown in FIG. 6, the cathode plate 310 may have a receiving groove formed in the center so that the CNT printed electrode substrate 320 is inserted therein. The receiving groove may not be formed according to the operator's choice. When the receiving groove is not formed, the CNT printed electrode substrate 320 is coupled to the upper portion of the cathode plate 310. The cathode plate 310 and the CNT printed electrode substrate 320 may be combined by various methods. For example, the cathode plate 310 and the CNT printed electrode substrate 320 may be coupled by an adhesive, or may be coupled by bolts or screws. The combination of the cathode plate 310 and the CNT printed electrode substrate 320 may use any method as long as it is a method capable of fixing the CNT printed electrode substrate 320 to the cathode plate 310 in addition to the method described above.

CNT 인쇄전극기판(320)은 캐소드판(310)의 상부에 결합되고, CNT 인쇄전극기판(320)의 상부에는 CNT 에미터(330)가 형성된다. CNT 인쇄전극기판(320) 상부에 형성되는 CNT 에미터(330)는 CNT 인쇄전극기판(320)의 일부 영역에 패턴 형상으로 형성될 수도 있고, CNT 인쇄전극기판(320) 일부영역 전체에 벌크(bulk)형상으로 형성될 수도 있다. CNT 에미터(330)를 형성하는 방법은 종래 CNT 에미터를 형성하는 방법과 동일하므로 자세한 설명은 생략한다.The CNT printed electrode substrate 320 is coupled to the upper portion of the cathode plate 310, and a CNT emitter 330 is formed on the upper portion of the CNT printed electrode substrate 320. The CNT emitter 330 formed on the CNT printed electrode substrate 320 may be formed in a pattern shape in a partial region of the CNT printed electrode substrate 320, or bulk ( It can also be formed in a bulk) shape. Since the method of forming the CNT emitter 330 is the same as the method of forming the conventional CNT emitter, a detailed description will be omitted.

캐소드판 절연 연결부(340)는 캐소드판(310) 상부에 형성되고, CNT 인쇄전극기판(320)과 CNT 에미터(330)를 둘러싸도록 형성된다. 캐소드판 절연 연결부(340)의 높이는 CNT 에미터(330)에서 방출되는 전자가 외부로 누출되는 것을 방지하여 전자방출 효율을 향상시키기 위해 CNT 에미터(330)의 끝단보다 높게 형성하는 것이 바람직하다.The cathode plate insulating connection part 340 is formed on the cathode plate 310 and is formed to surround the CNT printed electrode substrate 320 and the CNT emitter 330. It is preferable that the height of the insulating connection portion 340 of the cathode plate is formed higher than the end of the CNT emitter 330 in order to prevent electrons emitted from the CNT emitter 330 from leaking to the outside, thereby improving electron emission efficiency.

캐소드판 절연 연결부(340)는 캐소드판(310)과 따로 형성되어 결합될 수도 있고, 사출 성형 등을 통해 일체로 형성될 수도 있다. 캐소드판(310)과 캐소드판 절연 연결부(340)의 결합은 접착, 볼트, 나사 등의 체결부재를 통하거나 브레이징 등의 방법 등 다양한 방법으로 결합이 가능하다.The cathode plate insulating connection part 340 may be formed separately from the cathode plate 310 and combined, or may be integrally formed through injection molding or the like. The cathode plate 310 and the cathode plate insulating connection part 340 may be coupled by various methods such as bonding, bolts, screws, or other fastening members, or brazing.

절연 스페이서(350)는 캐소드판 절연 연결부(340) 상부와 게이트판 절연 연결부(360) 하부 사이에 형성되어 캐소드판 절연 연결부(340)와 게이트판 절연 연결부(360)을 절연시킨다. 절연 스페이서(350)를 통해 캐소드판 절연 연결부(340)와 게이트판 절연 연결부(360)가 절연되므로, 제1지지대(410)를 통해 외부 전원이 인가되는 캐소드판(310)과 제2지지대(420)를 통해 외부 전원이 인가되는 게이트판(370)이 절연된다. The insulating spacer 350 is formed between the upper portion of the cathode plate insulating connection part 340 and the lower portion of the gate plate insulating connection part 360 to insulate the cathode plate insulating connection part 340 and the gate plate insulating connection part 360. Since the cathode plate insulation connection part 340 and the gate plate insulation connection part 360 are insulated through the insulation spacer 350, the cathode plate 310 and the second support 420 to which external power is applied through the first support 410. ), the gate plate 370 to which external power is applied is insulated.

절연 스페이서(350)는 세라믹 등과 같은 절연 재질로 형성되고, 절연 스페이서(350)는 캐소드판 절연 연결부(340)의 전체 영역에 형성될 수도 있고, 캐소드판 절연 연결부(340)의 일부 영역에서만 형성될 수도 있다. 절연 스페이서(350)는 캐소드판 절연 연결부(340)와 게이트판 절연 연결부(360) 사이를 절연시키기 위한 것으로, 일부 영역에만 형성되어 캐소드판 절연 연결부(340)와 게이트판 절연 연결부(360)를 절연시키는 것이 비용 감소 등에서 바람직하다. The insulating spacer 350 is formed of an insulating material such as ceramic, and the insulating spacer 350 may be formed on the entire area of the insulating connection part 340 of the cathode plate, or only a partial area of the insulating connection part 340 of the cathode plate. May be. The insulating spacer 350 is to insulate between the cathode plate insulating connection part 340 and the gate plate insulating connection part 360, and is formed only in some areas to insulate the cathode plate insulating connection part 340 and the gate plate insulating connection part 360 It is preferable in terms of cost reduction and the like.

절연 스페이서(350)는 캐소드판 절연 연결부(340)과 게이트판 절연 연결부(360)에 결합된다. 졀연 스페이서(350)는 억지끼움, 볼트 나사 등의 체결부재를 통하거나 브레이징 등의 방법으로 캐소드판 절연 연결부(340) 및 게이트판 절연 연결부(360)에 결합될 수 있다.The insulating spacer 350 is coupled to the cathode insulating connection part 340 and the gate plate insulating connection part 360. The existing spacer 350 may be coupled to the cathode plate insulation connection part 340 and the gate plate insulation connection part 360 through a fastening member such as a force fitting, a bolt screw, or a brazing method.

게이트판 절연 연결부(360)는 절연 스페이서(350) 상부에 형성되고, 절연 스페이서(350)와 결합된다.The gate plate insulating connection part 360 is formed on the insulating spacer 350 and is coupled to the insulating spacer 350.

게이트판(370)은 게이트판 절연 연결부(360) 상부에 형성되고, 게이트판 절연 연결부(360)와 접착, 볼트, 나사 등의 체결부재를 통하거나 브레이징 등의 방법으로 결합된다.The gate plate 370 is formed on the gate plate insulating connection part 360, and is coupled to the gate plate insulating connection part 360 through a fastening member such as bonding, bolts, screws, or brazing.

게이트판(370)은 수평으로 연장되어 게이트판 절연 연결부(360) 상부에 결합되는 제1영역과 상기 제1영역으로 수직방향으로 연장되는 제2영역을 포함한다. 즉, 게이트판(370)은 ‘ㄱ'자 형상으로 형성된다. 이때, 제2영역은 게이트판 절연 연결부(360), 절연 스페이서 (350) 및 캐소드판 절연 연결부(340)의 내부에 형성되고, 제2영역은 CNT 에미터 기판(320)보다 넓게 형성된다.The gate plate 370 includes a first region extending horizontally and coupled to an upper portion of the gate plate insulating connection part 360 and a second region extending vertically to the first region. That is, the gate plate 370 is formed in a'L' shape. In this case, the second region is formed inside the gate plate insulating connection part 360, the insulating spacer 350, and the cathode plate insulating connection 340, and the second region is formed wider than the CNT emitter substrate 320.

게이트판(370)의 제2영역는 게이트판 절연 연결부(360)과 절연 스페이서(350)뿐만 아니라 캐소드판 절연 연결부(340)의 적어도 일부를 덮는 길이로 연장되고, CNT 인쇄전극기판(320)보다 넓은 면적으로 형성되어 CNT 에미터(330)에서 방출되는 전자가 캐소드판 절연 연결부(340) 상부의 일부 영역에만 형성되는 절연 스페이서(350) 사이를 통해 외부로 방출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. The second region of the gate plate 370 extends to a length covering at least a portion of the gate plate insulating connection part 360 and the insulating spacer 350 as well as the cathode plate insulating connection part 340, and is wider than the CNT printed electrode substrate 320. Electrons formed in an area and emitted from the CNT emitter 330 can be effectively prevented from being emitted to the outside through the insulating spacers 350 formed only in a partial area above the insulating connection part 340 of the cathode plate.

게이트 메쉬(380)는 게이트판(370)의 제2역역의 끝단에 형성된다. 게이트 메쉬(380)는 복수의 게이트 홀(미도시)이 형성되고, 복수의 게이트 홀은 CNT 인쇄전극기판(320) 상부에 형성되는 CNT 에미터(330)가 형성되는 패턴과 정렬되는 위치에 형성된다. 게이트 메쉬(380)에 형성되는 복수의 게이트 홀과 CNT 인쇄전극기판(320) 상부에 형성되는 CNT 에미터(330)가 정렬되는 것에 의해 CNT 에미터로부터 방출되는 전자가 다른 곳에 부딪히지 않고 바로 게이트 홀을 통과하는 전자 량이 많아져 방출 전자의 효율을 향상시킬 수 있다.The gate mesh 380 is formed at the end of the second station area of the gate plate 370. The gate mesh 380 is formed at a position in which a plurality of gate holes (not shown) are formed, and the plurality of gate holes are formed in a position aligned with the pattern in which the CNT emitter 330 formed on the CNT printed electrode substrate 320 is formed. do. As the plurality of gate holes formed in the gate mesh 380 and the CNT emitter 330 formed on the CNT printed electrode substrate 320 are aligned, electrons emitted from the CNT emitter do not collide with other places, and are directly gate holes. As the amount of electrons passing through is increased, the efficiency of emitted electrons can be improved.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above, it has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, but those skilled in the art or those of ordinary skill in the art will have the spirit of the present invention described in the claims to be described later. And it will be appreciated that various modifications and changes can be made to the present invention within a range not departing from the technical field.

1000 : 대면적 엑스선 튜브 100 : 진공챔버
110 : 제1개구부 120 : 타겟 및 윈도우
130 : 제2개구부 200 : 리셉터클
210 : 외부 단자부 220 : 결합부
230 : 내부 단자부 232 : 제1내부 단자
234 : 제2내부 단자 300 : 전자빔 발생장치
310 : 캐소드판 320 : CNT 인쇄전극기판
330 : CNT 에미터 340 : 캐소드판 절연 연결부
350 : 절연 스페이서 360 : 게이트판 절연 연결부
370 : 게이트판 380 : 게이트 메쉬
400 : 지지대 410 : 제1지지대
420 : 제2지지대 500 : 터보 펌프
600 : 로터리 펌프
1000: large area X-ray tube 100: vacuum chamber
110: first opening 120: target and window
130: second opening 200: receptacle
210: external terminal part 220: coupling part
230: internal terminal part 232: first internal terminal
234: second internal terminal 300: electron beam generator
310: cathode plate 320: CNT printed electrode substrate
330: CNT emitter 340: cathode plate insulation connection
350: insulation spacer 360: gate plate insulation connection
370: gate plate 380: gate mesh
400: support 410: first support
420: second support 500: turbo pump
600: rotary pump

Claims (6)

타겟 및 윈도우가 안착되는 제1개구부 및 제 2개구부를 포함하는 진공챔버;
상기 제2개구부를 통하여 인출입되는 일체형 전자빔 방출 모듈을 포함하는 대면적 엑스선 발생장치에 있어서,
상기 일체형 전자빔 방출 모듈은
일측이 외부 전원과 연결되고 타측은 전자빔 방출장치와 전기적으로 연결된 리셉터클;
상기 타겟으로 전자빔을 방출하는 전자빔 발생장치;
상기 전자빔 방출장치의 캐소드판 및 게이트판을 각각 상기 리셉터클과 전기적으로 연결되면서, 상기 전자빔 방출장치를 상기 리셉터클에 고정하는 지지대; 및
상기 제2개구부에 안착되는 결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 엑스선 발생장치.
A vacuum chamber including a first opening and a second opening in which the target and the window are seated;
In the large-area X-ray generator comprising an integrated electron beam emission module that is drawn in and out through the second opening,
The integrated electron beam emission module
A receptacle having one side connected to an external power source and the other side being electrically connected to an electron beam emission device;
An electron beam generator for emitting an electron beam to the target;
A support for fixing the electron beam emitting device to the receptacle while electrically connecting the cathode plate and the gate plate of the electron beam emitting device to the receptacle, respectively; And
A large-area X-ray generator comprising: a coupling portion seated in the second opening.
제1항에 있어서,
상기 진공챔버 내부를 진공으로 만드는 터보펌프 및 로터리 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 엑스선 발생장치.
The method of claim 1,
A large-area X-ray generator further comprising a turbo pump and a rotary pump for making the inside of the vacuum chamber vacuum.
제1항에 있어서,
상기 타겟 및 윈도우는 탈부착이 가능하게 결합되는 것을 특징으로 하는 대면적 엑스선 발생장치.
The method of claim 1,
The target and the window are large-area X-ray generating apparatus, characterized in that the detachably coupled.
제1항에 있어서,
상기 전자빔 발생장치는,
캐소드판, 상기 캐소드판 상에 상기 캐소드판과 결합되는 CNT 인쇄전극기판, 상기 CNT 인쇄전극기판 상에 형성되는 CNT 에미터, 상기 CNT 인쇄전극기판과 상기 CNT 에미터를 둘러싸도록 형성되는 캐소드판 절연 연결부, 상기 캐소드판 절연 연결부 상부에 형성되는 절연 스페이서, 상기 절연 스페이서 상부에 형성되어 상기 절연 스페이서와 결합되는 게이트판 절연 연결부, 상기 게이트판 절연 연결부 상부에서 상기 게이트 절연 연결부와 결합되고 상기 게이트판 및 상기 게이트판에 형성되는 게이트 메쉬를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 엑스선 발생장치.
The method of claim 1,
The electron beam generating device,
Insulation of a cathode plate, a CNT printed electrode substrate coupled to the cathode plate on the cathode plate, a CNT emitter formed on the CNT printed electrode substrate, and a cathode plate formed to surround the CNT printed electrode substrate and the CNT emitter A connection part, an insulating spacer formed on the cathode plate insulating connection part, a gate plate insulating connection part formed on the insulating spacer and coupled to the insulating spacer, the gate insulating connection part and the gate insulating connection part on the gate plate insulating connection part, and the gate plate and A large-area X-ray generator comprising a gate mesh formed on the gate plate.
제4항에 있어서,
상기 게이트판은 상기 게이트판 절연 연결부 상부에서 수평방향으로 연장되는 제1영역과 상기 제1영역으로부터 상기 캐소드판 방향으로 수직으로 연장되는 제2영역을 포함하고,
상기 제2영역은 상기 게이트판 절연 연결부, 상기 절연 스페이서 및 상기 캐소드판 절연 연결부 내부에 형성되고, 상기 제2영역은 상기 게이트 절연 연결부, 상기 절연 스페이서를 포함하여 상기 캐소드판 절연 연결부의 적어도 일부를 덮는 길이로 연장되며, 상기 제2영역은 상기 CNT 인쇄전극기판의 면적보다 넓은 면적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 엑스선 발생장치.
The method of claim 4,
The gate plate includes a first region extending in a horizontal direction from an upper portion of the gate plate insulating connection part and a second region extending vertically from the first region in a direction of the cathode plate,
The second region is formed inside the gate plate insulating connection part, the insulating spacer, and the cathode plate insulating connection part, and the second region includes the gate insulating connection part and the insulating spacer, and includes at least a portion of the cathode plate insulating connection part. A large area X-ray generator, characterized in that it extends to a covering length, and wherein the second area is formed to have a larger area than an area of the CNT printed electrode substrate.
제4항에 있어서,
상기 캐소드판은 상기 CNT 인쇄전극기판을 수용할 수 있는 수용홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 엑스선 발생장치.
The method of claim 4,
The cathode plate is a large area X-ray generating apparatus, characterized in that the receiving groove is formed to accommodate the CNT printed electrode substrate.
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