KR20210008192A - 유체 공급유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 처리공간을 가지는 공정챔버; 상기 처리공간으로 유체를 공급하는 유체 공급유닛을 포함하되, 상기 유체 공급유닛은, 상기 처리공간과 연결되어, 상기 처리공간으로 공급되는 유체가 흐르는 공급관; 상기 공급관에 설치되어 상기 유체에 유동압을 제공하는 펌프; 상기 펌프와 상기 공정챔버 사이에 설치되어 상기 유체 내의 압력을 외부로 배출하는 벤트라인; 상기 벤트라인에 설치되어 상기 벤트라인을 개폐하는 릴리프 밸브; 상기 벤트라인이 상기 공급관에서 분기되는 분기점과 상기 펌프 사이에 설치되며, 상기 펌프와 상기 분기점 사이에 위치한 상기 공급관의 횡단면보다 넓은 횡단면을 가지는 레저버를 포함한다.

Description

유체 공급유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치{FLUID SUPPLY UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS HAVING THE SAME}
본 발명은 유체 공급유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 웨이퍼와 같은 기판으로부터 제조한다. 구체적으로, 반도체 소자는 증착 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정 등을 수행하여 기판의 상부면에 미세한 회로 패턴을 형성하여 제조된다.
기판은 상기의 공정들을 수행하면서 상기 회로 패턴이 형성된 상부면에 각종 이물질이 오염될 수 있음에 따라, 이물질을 제거하기 위하여 세정 공정을 수행할 수 있다.
최근에는 기판을 세정하는 공정에 초임계 유체가 사용된다. 일 예에 의하면, 세정 공정은 이소프로필알코올(isopropyl alcohol; 이하, IPA)을 통해 기판의 상부면을 세정한 다음, 이산화탄소(CO2)를 초임계 상태로 기판의 상부면에 공급하여 기판에 남아 있는 IPA를 제거하는 방식으로 진행될 수 있다.
이러한 세정 장치에서 이산화탄소를 공급하기 위한 배관(이산화탄소 공급 라인)에는 콘덴서(condenser)와 펌프 그리고 기준 압력 이상의 이산화탄소를 배출하기 위한 릴리프 밸브가 설치된다. 이러한 세정 장치를 세팅하는 과정 또는 시험 운전 과정에서 비정상 멈춤이 발생하게 되면 이산화탄소 공급 라인의 온오프 밸브가 닫히면서 순간적인 압력 상승 현상이 발생하게 된다. 이산화탄소 공급 라인 내의 순간적인 압력 상승시 릴리프 밸브가 작동하게 되면서 릴리프 밸브 내의 벨로우즈 파손 및 공정 오염 가능성이 높아질 수 있다.
본 발명은 초임계 유체의 공급 라인에서의 압력 헌팅 현상을 억제할 수 있는 유체 공급유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 기판을 처리하는 처리공간을 가지는 공정챔버; 상기 처리공간으로 유체를 공급하는 유체 공급유닛을 포함하되, 상기 유체 공급유닛은, 상기 처리공간과 연결되어, 상기 처리공간으로 공급되는 유체가 흐르는 공급관; 상기 공급관에 설치되어 상기 유체에 유동압을 제공하는 펌프; 상기 펌프와 상기 공정챔버 사이에 설치되어 상기 유체 내의 압력을 외부로 배출하는 벤트라인; 상기 벤트라인에 설치되어 상기 벤트라인을 개폐하는 릴리프 밸브; 상기 벤트라인이 상기 공급관에서 분기되는 분기점과 상기 펌프 사이에 설치되며, 상기 펌프와 상기 분기점 사이에 위치한 상기 공급관의 횡단면보다 넓은 횡단면을 가지는 레저버를 가지는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 레저버는 배관 형상을 가질 수 있다.
또한, 상기 레저버는 양단이 상기 공급관의 횡단면과 동일하고, 중앙으로 갈수록 그 횡단면이 넓어지는 럭비공 형상을 가질 수 있다.
또한, 상기 유체는 초임계 상태의 유체일 수 있다.
또한, 상기 레저버에는 유체의 압력 헌팅 현상 억제를 위한 관성을 갖는 관성용 유체가 저장되어 있을 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 유체가 흐르는 공급관; 상기 공급관에 설치되어 상기 유체에 유동압을 제공하는 펌프; 상기 펌프 후단에 설치되어 상기 유체 내의 압력을 외부로 배출하는 벤트라인; 상기 벤트라인에 설치되어 상기 벤트라인을 개폐하는 릴리프 밸브를 포함하되; 상기 공급관은 상기 펌프와 상기 벤트라인이 상기 공급관에서 분기되는 분기점 사이에 설치되고, 상기 공급관 내의 압력 변동을 완화시키도록 상기 공급관의 횡단면보다 넓은 횡단면을 가지는 유로 확대관을 포함하는 유체 공급유닛이 제공될 수 있다.
또한, 상기 유체는 초임계 상태의 유체일 수 있다.
또한, 상기 유로 확대관에는 유체의 압력 헌팅 현상 억제를 위한 관성을 갖는 관성용 유체가 저장되어 있을 수 있다.
또한, 상기 유로 확대관은 양단이 상기 공급관의 횡단면과 동일하고, 중앙으로 갈수록 그 횡단면이 넓어지는 럭비공 형상을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 초임계 유체의 공급 라인에서의 압력 헌팅 현상을 억제할 수 있다
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 2는 도 1의 액 처리 장치의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 도 1의 세정 장치의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 4는 도 3에 도시된 레저버를 보여주는 도면이다.
도 5는 레저버의 다른 예를 보여주는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 시스템를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 시스템은 인덱스 모듈(10), 처리 모듈(20), 그리고 제어기(30)를 포함한다. 일 실시예에 의하며, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)은 일방향을 따라 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)이 배치된 방향을 제1방향(92)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1방향(92)과 수직한 방향을 제2방향(94)이라 하고, 제1방향(92) 및 제2방향(94)에 모두 수직한 방향을 제3방향(96)이라 한다.
인덱스 모듈(10)은 기판(W)이 수납된 용기(80)로부터 기판(W)을 처리 모듈(20)로 반송하고, 처리 모듈(20)에서 처리가 완료된 기판(W)을 용기(80)로 수납한다. 인덱스 모듈(10)의 길이 방향은 제2방향(94)으로 제공된다. 인덱스 모듈(10)은 로드포트(12, loadport)와 인덱스 프레임(14)을 가진다. 인덱스 프레임(14)을 기준으로 로드포트(12)는 처리 모듈(20)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(80)는 로드포트(12)에 놓인다. 로드포트(12)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(12)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다.
용기(80)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 용기(80)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드포트(12)에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(14)에는 인덱스 로봇(120)이 제공된다. 인덱스 프레임(14) 내에는 길이 방향이 제2방향(94)으로 제공된 가이드 레일(140)이 제공되고, 인덱스 로봇(120)은 가이드 레일(140) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(120)은 기판(W)이 놓이는 핸드(122)를 포함하며, 핸드(122)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(122)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(122)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진이동할 수 있다.
처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(200), 반송 장치(300), 액 처리 장치(400), 그리고 세정 장치(500)를 포함한다. 버퍼 유닛(200)은 처리 모듈(20)로 반입되는 기판(W)과 처리 모듈(20)로부터 반출되는 기판(W)이 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 액 처리 장치(400)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 액 처리 공정을 수행한다. 세정 장치(500)는 기판(W) 상에 잔류하는 액을 제거하는 건조 공정을 수행한다. 반송 장치(300)는 버퍼 유닛(200), 액 처리 장치(400), 그리고 세정 장치(500) 간에 기판(W)을 반송한다.
반송 장치(300)는 그 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 인덱스 모듈(10)과 반송 장치(300) 사이에 배치될 수 있다. 액 처리 장치(400)와 세정 장치(500)는 반송 장치(300)의 측부에 배치될 수 있다. 액 처리 장치(400)와 반송 장치(300)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 세정 장치(500)와 반송 장치(300)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 반송 장치(300)의 일단에 위치될 수 있다.
일 예에 의하면, 액 처리 장치(400)들은 반송 장치(300)의 양측에 배치되고, 세정 장치(500)들은 반송 장치(300)의 양측에 배치되며, 액 처리 장치(400)들은 세정 장치(500)들보다 버퍼 유닛(200)에 더 가까운 위치에 배치될 수 있다. 반송 장치(300)의 일측에서 액 처리 장치(400)들은 제1방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 각각 A X B(A, B는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수) 배열로 제공될 수 있다. 또한, 반송 장치(300)의 일측에서 세정 장치(500)들은 제1방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 각각 C X D(C, D는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수)개가 제공될 수 있다. 상술한 바와 달리, 반송 장치(300)의 일측에는 액 처리 장치(400)들만 제공되고, 그 타측에는 세정 장치(500)들만 제공될 수 있다.
반송 장치(300)는 반송 로봇(320)을 가진다. 반송 장치(300) 내에는 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공된 가이드 레일(340)이 제공되고, 반송 로봇(320)은 가이드 레일(340) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 로봇(320)은 기판(W)이 놓이는 핸드(322)를 포함하며, 핸드(322)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(322)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(322)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진이동할 수 있다.
버퍼 유닛(200)은 기판(W)이 놓이는 버퍼(220)를 복수 개 구비한다. 버퍼(220)들은 제3방향(96)을 따라 서로 간에 이격되도록 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 전면(front face)과 후면(rear face)이 개방된다. 전면은 인덱스 모듈(10)과 마주보는 면이고, 후면은 반송 장치(300)와 마주보는 면이다. 인덱스 로봇(120)은 전면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근하고, 반송 로봇(320)은 후면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근할 수 있다.
도 2는 도 1의 액 처리 장치(400)의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 2를 참조하면, 액 처리 장치(400)는 하우징(410), 컵(420), 지지 유닛(440), 액 공급 유닛(460), 그리고 승강 유닛(480)을 가진다. 하우징(410)은 대체로 직육면체 형상으로 제공된다. 컵(420), 지지 유닛(440), 그리고 액 공급 유닛(460)은 하우징(410) 내에 배치된다.
컵(420)은 상부가 개방된 처리 공간을 가지고, 기판(W)은 처리 공간 내에서 액 처리 된다. 지지 유닛(440)은 처리 공간 내에서 기판(W)을 지지한다. 액 공급 유닛(460)은 지지 유닛(440)에 지지된 기판(W) 상으로 액을 공급한다. 액은 복수 종류로 제공되고, 기판(W) 상으로 순차적으로 공급될 수 있다. 승강 유닛(480)은 컵(420)과 지지 유닛(440) 간의 상대 높이를 조절한다.
일 예에 의하면, 컵(420)은 복수의 회수통(422, 424, 426)을 가진다. 회수통들(422, 424, 426)은 각각 기판 처리에 사용된 액을 회수하는 회수 공간을 가진다. 각각의 회수통들(422, 424, 426)은 지지 유닛(440)을 감싸는 링 형상으로 제공된다. 액 처리 공정이 진행시 기판(W)의 회전에 의해 비산되는 전 처리액은 각 회수통(422, 424, 426)의 유입구(422a, 424a, 426a)를 통해 회수 공간으로 유입된다. 일 예에 의하면, 컵(420)은 제1회수통(422), 제2회수통(424), 그리고 제3회수통(426)을 가진다. 제1회수통(422)은 지지 유닛(440)을 감싸도록 배치되고, 제2회수통(424)은 제1회수통(422)을 감싸도록 배치되고, 제3회수통(426)은 제2회수통(424)을 감싸도록 배치된다. 제2회수통(424)으로 액을 유입하는 제2유입구(424a)는 제1회수통(422)으로 액을 유입하는 제1유입구(422a)보다 상부에 위치되고, 제3회수통(426)으로 액을 유입하는 제3유입구(426a)는 제2유입구(424a)보다 상부에 위치될 수 있다.
지지 유닛(440)은 지지판(442)과 구동축(444)을 가진다. 지지판(442)의 상면은 대체로 원형으로 제공되고 기판(W)보다 큰 직경을 가질 수 있다. 지지판(442)의 중앙부에는 기판(W)의 후면을 지지하는 지지핀(442a)이 제공되고, 지지핀(442a)은 기판(W)이 지지판(442)으로부터 일정 거리 이격되도록 그 상단이 지지판(442)으로부터 돌출되게 제공된다. 지지판(442)의 가장자리부에는 척핀(442b)이 제공된다. 척핀(442b)은 지지판(442)으로부터 상부로 돌출되게 제공되며, 기판(W)이 회전될 때 기판(W)이 지지 유닛(440)으로부터 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 구동축(444)은 구동기(446)에 의해 구동되며, 기판(W)의 저면 중앙과 연결되며, 지지판(442)을 그 중심축을 기준으로 회전시킨다.
일 예에 의하면, 액 공급 유닛(460)은 제1노즐(462), 제2노즐(464), 그리고 제3노즐(466)을 가진다. 제1노즐(462)은 제1액을 기판(W) 상으로 공급한다. 제1액은 기판(W) 상에 잔존하는 막이나 이물을 제거하는 액일 수 있다. 제2노즐(464)은 제2액을 기판(W) 상으로 공급한다. 제2액은 제3액에 잘 용해되는 액일 수 있다. 예컨대, 제2액은 제1액에 비해 제3액에 더 잘 용해되는 액일 수 있다. 제2액은 기판(W) 상에 공급된 제1액을 중화시키는 액일 수 있다. 또한, 제2액은 제1액을 중화시키고 동시에 제1액에 비해 제3액에 잘 용해되는 액일 수 있다. 일 예에 의하면, 제2액은 물일 수 있다. 제3노즐(466)은 제3액을 기판(W) 상으로 공급한다. 제3액은 세정 장치(500)에서 사용되는 초임계 유체에 잘 용해되는 액일 수 있다. 예컨대, 제3액은 제2액에 비해 세정 장치(500)에서 사용되는 초임계 유체에 잘 용해되는 액일 수 있다. 일 예에 의하면, 제3액은 유기용제일 수 있다. 유기용제는 이소프로필알코올(IPA)일 수 있다. 일 예에 의하면, 초임계 유체는 이산화탄소일 수 있다. 제1노즐(462), 제2노즐(464), 그리고 제3노즐(466)은 서로 상이한 아암(461)에 지지되고, 이들 아암(461)들은 독립적으로 이동될 수 있다. 선택적으로 제1노즐(462), 제2노즐(464), 그리고 제3노즐(466)은 동일한 아암에 장착되어 동시에 이동될 수 있다.
승강 유닛(480)은 컵(420)을 상하 방향으로 이동시킨다. 컵(420)의 상하 이동에 의해 컵(420)과 기판(W) 간의 상대 높이가 변경된다. 이에 의해 기판(W)에 공급되는 액의 종류에 따라 전 처리액을 회수하는 회수통(422, 424, 426)이 변경되므로, 액들을 분리회수할 수 있다. 상술한 바와 달리, 컵(420)은 고정 설치되고, 승강 유닛(480)은 지지 유닛(440)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
도 3은 도 1의 세정 장치(500)의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 일 실시예에 의하면, 세정 장치(500)는 초임계 유체를 이용하여 기판(W) 상의 액을 제거한다. 세정 장치(500)는 바디(520), 지지체(미도시), 유체 공급 유닛(600), 그리고 차단 플레이트(미도시)를 가진다.
바디(520)는 세정 공정이 수행되는 처리 공간(502)을 제공한다. 바디(520)는 상체(522, upper body)와 하체(524, lower body)를 가지며, 상체(522)와 하체(524)는 서로 조합되어 상술한 처리 공간(502)을 제공한다. 상체(522)는 하체(524)의 상부에 제공된다. 상체(522)는 그 위치가 고정되고, 하체(524)는 실린더와 같은 구동부재(590)에 의해 승하강될 수 있다. 하체(524)가 상체(522)로부터 이격되면 처리 공간(502)이 개방되고, 이 때 기판(W)이 반입 또는 반출된다. 공정 진행시에는 하체(524)가 상체(522)에 밀착되어 처리 공간(502)이 외부로부터 밀폐된다. 세정 장치(500)는 히터(570)를 가진다. 일 예에 의하면, 히터(570)는 바디(520)의 벽 내부에 위치된다. 히터(570)는 바디(520)의 내부공간 내로 공급된 유체가 초임계 상태를 유지하도록 바디(520)의 처리 공간(502)을 가열한다. 처리 공간(502)의 내부는 초임계 유체에 의한 분위기가 형성된다.
지지체(미도시)는 바디(520)의 처리 공간(502) 내에서 기판(W)을 지지한다. 지지체(미도시)는 고정 로드(미도시)와 거치대(미도시)를 가진다. 고정 로드(미도시)는 상체(522)의 저면으로부터 아래로 돌출되도록 상체(522)에 고정 설치된다. 고정 로드(미도시)는 그 길이방향이 상하 방향으로 제공된다. 고정 로드(미도시)는 복수 개 제공되며 서로 이격되게 위치된다. 고정 로드(미도시)들은 이들에 의해 둘러싸인 공간으로 기판(W)이 반입 또는 반출될 때, 기판(W)이 고정 로드(미도시)들과 간섭하지 않도록 배치된다. 각각의 고정 로드(미도시)에는 거치대(미도시)가 결합된다. 거치대(미도시)는 고정 로드(미도시)의 하단으로부터 고정 로드(미도시)들에 의해 둘러싸인 공간을 향하는 방향으로 연장된다. 상술한 구조로 인해, 바디(520)의 처리 공간(502)으로 반입된 기판(W)은 그 가장자리 영역이 거치대(미도시) 상에 놓이고, 기판(W)의 상면 전체 영역, 기판(W)의 저면 중 중앙 영역, 그리고 기판(W)의 저면 중 가장자리 영역의 일부는 처리 공간(502)으로 공급된 세정 유체에 노출된다.
유체 공급 유닛(600)은 바디(520)의 처리 공간(502)으로 세정 유체를 공급한다. 일 예에 의하면, 세정 유체는 초임계 상태로 처리 공간(502)으로 공급될 수 있다. 이와 달리 세정 유체는 가스 상태로 처리 공간(502)으로 공급되고, 처리 공간(502) 내에서 초임계 상태로 상변화될 수 있다.
일 예에 의하면, 유체 공급 유닛(600)은 유체 공급원(610), 공급 라인(620), 펌프(630), 벤트라인(640), 릴리프 밸브(642), 레저버(650), 개폐 밸브(660)를 포함할 수 있다.
공급 라인(620)의 일단은 유체 공급원(610)과 연결된다. 공급 라인은 유체 공급원으로부터 초임계 상태의 이산화탄소를 제공받을 수 있다. 공급 라인(620)은 메인 공급 라인(622), 상부 분기 라인(624), 그리고 하부 분기 라인(626)을 포함할 수 있다.
상부 분기 라인(624)과 하부 분기 라인(626)은 메인 공급 라인(622)으로부터 분기된다. 상부 분기 라인(624)은 상체(622)에 결합되어 지지체(540)에 놓인 기판(W)의 상부에서 세정 유체를 공급한다. 일 예에 의하면, 상부 분기 라인(624)은 상체(522)의 중앙에 결합된다. 하부 분기 라인(626)은 하체(524)에 결합되어 지지체(540)에 놓인 기판(W)의 하부에서 세정 유체를 공급한다. 일 예에 의하면, 하부 분기 라인(626)은 하체(524)의 중앙에 결합될 수 있다. 하체(524)에는 배기 유닛(550) 이 결합된다. 하부 분기 라인(626)이 하체(524)의 중앙에 결합되는 경우, 배기 유닛(550)의 배기 포트는 하체(524)의 중앙으로부터 편향되게 위치될 수 있다. 바디(520)의 처리 공간(502) 내의 초임계 유체는 배기 유닛(550) 을 통해서 바디(520)의 외부로 배기된다.
펌프(630)는 메인 배기 라인(622)에 설치되어 유체에 유동압을 제공한다. 벤트 라인(6은 메인 공급 라인(622)으로부터 상부 분기 라인(624)과 하부 분기 라인(626)이 분기되는 지점과 펌프(630) 사이에 설치되어 유체 내의 압력을 외부로 배출할 수 있다. 릴리프 밸브(642)는 벤트 라인(640)에 설치되며, 메인 공급 라인(622) 상의 유체 압력이 기설정 압력 이상으로 상승할 경우 벤트 라인(640)을 개방할 수 있도록 제공된다. 개폐 밸브(660)는 메인 공급 라인(622) 상에 설치되어 유체의 공급을 제어한다.
레저버(650)는 벤트라인(640)이 메인 공급라인(622)에서 분기되는 분기점과 펌프(630) 사이에 설치된다.
도 4는 도 3에 도시된 레저버를 보여주는 도면이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 레저버(650)는 메인 공급 라인(622)의 횡단면보다 넓은 횡단면을 갖는 유로 확대 배관 형상을 갖는다. 일 예로, 레저버(650)에는 유체의 압력 헌팅 현상 억제를 위한 관성을 갖는 관성용 유체가 저장될 수 있다. 예를들어, 관성용 유체는 이산화탄소가 포함된 액체일 수 있다. 레저버(650)는 메인 공급 라인(622)의 횡단면보다 넓은 횡단면을 가짐으로써, 설비의 비정상 멈춤시 메인 공급 라인(622) 내의 압력 헌팅을 레저버(650)에 저장된 관성용 유체의 관성을 통해 억제함으로써 릴리프 밸브(642)의 파손 및 오염 가능성을 방지할 수 있다. 또한, 펌프(630) 측 메인 공급 라인(622)에서의 압력 헌팅이 발생된 경우, 유체가 레저버(650)의 넓은 공간으로 유입되면서 압력 헌팅이 완화될 수 있다.
도 5는 레저버의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 5에 도시된 레저버(650a)는 메인 공급 라인(622)과 연결되는 양단(652a,652b)은 메인 공급 라인(622)의 횡단면과 동일하고, 레저버(650a)의 중심으로 갈수록 점점 그 횡단면이 넓어지는 럭비공 형상을 갖는데 그 특징이 있다. 이러한 럭비공 형상의 레저버(650a)는 유체가 유입되어 확산될 때 화살표와 같이 그 흐름이 원활하게 이루어질 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
400 : 액 처리 장치 410 : 하우징
420 : 컵 440 : 지지유닛
500 : 세정 장치 600 : 액 공급 유닛
610 : 유체 공급원 620 공급 라인
630 : 펌프 640 : 벤트 라인
650 : 레저버 660 : 개폐 밸브

Claims (9)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판을 처리하는 처리공간을 가지는 공정챔버;
    상기 처리공간으로 유체를 공급하는 유체 공급유닛을 포함하되,
    상기 유체 공급유닛은,
    상기 처리공간과 연결되어, 상기 처리공간으로 공급되는 유체가 흐르는 공급관;
    상기 공급관에 설치되어 상기 유체에 유동압을 제공하는 펌프;
    상기 펌프와 상기 공정챔버 사이에 설치되어 상기 유체 내의 압력을 외부로 배출하는 벤트라인;
    상기 벤트라인에 설치되어 상기 벤트라인을 개폐하는 릴리프 밸브;
    상기 벤트라인이 상기 공급관에서 분기되는 분기점과 상기 펌프 사이에 설치되며, 상기 펌프와 상기 분기점 사이에 위치한 상기 공급관의 횡단면보다 넓은 횡단면을 가지는 레저버를 가지는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레저버는 배관 형상을 가지는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 레저버는 양단이 상기 공급관의 횡단면과 동일하고, 중앙으로 갈수록 그 횡단면이 넓어지는 럭비공 형상을 가지는 기판 처리 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 유체는 초임계 상태의 유체인 기판 처리 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 레저버에는
    유체의 압력 헌팅 현상 억제를 위한 관성을 갖는 관성용 유체가 저장되어 있는 기판 처리 장치.
  6. 유체 공급유닛에 있어서:
    유체가 흐르는 공급관;
    상기 공급관에 설치되어 상기 유체에 유동압을 제공하는 펌프;
    상기 펌프 후단에 설치되어 상기 유체 내의 압력을 외부로 배출하는 벤트라인;
    상기 벤트라인에 설치되어 상기 벤트라인을 개폐하는 릴리프 밸브를 포함하되;
    상기 공급관은
    상기 펌프와 상기 벤트라인이 상기 공급관에서 분기되는 분기점 사이에 설치되고, 상기 공급관 내의 압력 변동을 완화시키도록 상기 공급관의 횡단면보다 넓은 횡단면을 가지는 유로 확대관을 포함하는 유체 공급유닛.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 유체는 초임계 상태의 유체인 유체 공급유닛.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 유로 확대관에는
    유체의 압력 헌팅 현상 억제를 위한 관성을 갖는 관성용 유체가 저장되어 있는 유체 공급유닛.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 유로 확대관은 양단이 상기 공급관의 횡단면과 동일하고, 중앙으로 갈수록 그 횡단면이 넓어지는 럭비공 형상을 가지는 유체 공급유닛.

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