KR20210001128U - 실린더 타겟의 제조방법 - Google Patents

실린더 타겟의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20210001128U
KR20210001128U KR2020200003710U KR20200003710U KR20210001128U KR 20210001128 U KR20210001128 U KR 20210001128U KR 2020200003710 U KR2020200003710 U KR 2020200003710U KR 20200003710 U KR20200003710 U KR 20200003710U KR 20210001128 U KR20210001128 U KR 20210001128U
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
alloy
cylinder target
based material
target
tube
Prior art date
Application number
KR2020200003710U
Other languages
English (en)
Inventor
박은수
전창우
김혜미
Original Assignee
주식회사 이엠엘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 이엠엘 filed Critical 주식회사 이엠엘
Priority to KR2020200003710U priority Critical patent/KR20210001128U/ko
Publication of KR20210001128U publication Critical patent/KR20210001128U/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • B22F3/14Both compacting and sintering simultaneously
    • B22F3/15Hot isostatic pressing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F7/00Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
    • B22F7/02Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3423Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3491Manufacturing of targets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2201/00Treatment under specific atmosphere
    • B22F2201/20Use of vacuum

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

본 고안의 목적은 고효율의 Zr 합금계 실린더 타겟을 제공하되, 인듐 본딩 없이 소결을 통해 백 튜브에 결합된 Zr 합금계 실린더 타겟을 제공하고자 하는 것이다.
즉, 공정 중 인듐 본딩이 용융되는 문제를 방지하고, Zr계 합금과 백 튜브 사이에 열팽창계수의 차이로 인한 타겟 스트레스 문제를 해결하고자 한다.
상기 목적에 따라 본 고안은, Zr 합금과 열팽창 계수가 비슷한 Ti 계 소재을 백 튜브로 택하고, 스테인레스스틸 캔을 제작하여 상기 백 튜브를 에워싸도록 배치하고, 상기 캔 안에 Zr 합금 분말을 넣고 HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시하여 Ti 계 소재 백 튜브에 Zr 합금 타겟을 결합시키고, 캔을 제거하여 Zr 합금계 실린더 타겟을 제조한다.

Description

실린더 타겟의 제조방법{Manufacturing Method of Cylindrical Target}
본 고안은 표면처리에 사용되는 스퍼터링용 타겟 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 스퍼터링용 고효율 실린더 타켓의 제조에 관한 것이다.
실린더 타겟은 평판형 타겟에 비해 사용효율이 매우 높다. 평판 타겟이 일정 부분만 집중 침식되어 30~40% 정도의 사용효율을 지니는 반면, 실린더 타겟은 회전되며 침식되기 때문에 80% 수준의 사용효율을 나타낸다. 이와 같은 실린더 타겟은 스퍼터링 공정에 사용되고 있으며, 특히, 고경도, 고온 내성이 필요한 곳에 적용되는 Zr 합금계 코팅의 경우, 코팅재 및 타겟이 고가이기 때문에 더더욱 고효율의 실린더 타겟을 선호하고 있다. Zr 합금계 실린더 타겟은 일반적으로 다음과 같이 제조되고 있다.
먼저, 캔 안에 Zr 합금 소재 분말을 넣고 탈가스 한 다음 고온/고압하에서 소결하고 캔을 제거한다. 내식성이 우수한 스테인레스스틸 백 튜브 표면에 소결품과 스테일레스스틸 본딩을 위한 인듐(In)을 코팅하고 특정 온도로 가열하여 본딩을 하게된다. 이와 같이 제조된 Zr계 실린더 타겟은 몇가지 문제를 지닌다.
즉, 백 튜브와 Zr 합금 타겟 사이에 본딩 역할을 하는 인듐이 타겟을 이용하는 표면처리 공정 중 용융되어 타겟이 부분적으로 박리가 일어나 소실된다.
또한, 백 튜브인 스테인레스스틸과 Zr 합금 타겟간의 열팽창 계수의 차이로 인해 스트레스가 발생되어 크랙이 생기거나 박리된다.
요컨대, 고전력(High power) 인가시 냉각이 이루어지지 않으면 인듐 용융으로 타겟이 백 튜브로부터 분리되고, 스퍼터링 중 열팽창과 수축이 일어나 타겟이 파손된다.
공개특허 10-2017-0128580호는 실린더 타겟의 제작에 대해 기술하며, 여기서도 인듐 본딩을 실시하고 있어 같은 문제가 있을 수 있다.
따라서 본 고안의 목적은 고효율의 Zr 합금계 실린더 타겟을 제공하되, 인듐 본딩 없이 소결을 통해 백 튜브에 결합된 Zr 합금계 실린더 타겟을 제공하고자 하는 것이다.
즉, 공정 중 인듐 본딩이 용융되는 문제를 방지하고, Zr계 합금과 백 튜브 사이에 열팽창계수의 차이로 인한 타겟 스트레스 문제를 해결하고자 한다.
상기 목적에 따라 본 고안은, Zr 합금과 열팽창 계수가 비슷한 Ti 계 소재를 백 튜브 소재로 택하고, 스테인레스스틸 캔을 제작하여 상기 백 튜브를 에워싸도록 배치하고, 상기 캔 안에 Zr 합금 분말을 넣고 HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시하여 Ti 계 소재 백 튜브에 Zr 합금 타겟을 결합시키고, 캔을 제거하여 Zr 합금계 실린더 타겟을 제조한다.
즉, 본 고안은,
Ti 계 소재 백 튜브를 준비하고,
스테인레스스틸 캔(Can)을 준비하여 상기 Ti 계 소재 백 튜브 주위를 에워싸듯 배치배치하고,
상기 스테인레스스틸 캔 내부에 Zr 합금 분말을 채우고,
HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시하여 Ti 계 소재 백 튜브에 Zr 합금 실린더 타겟이 일체화되게 하고,
소결이 종료되면, 상기 캔을 제거하고 완성된 백 튜브 일체형 실린더 타겟을 얻는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
상기에 있어서, Zr 합금 분말을 채운 다음, 진공분위기에서 탈가스(degassing) 과정을 실시하는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
상기에 있어서, HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시할 때, 산화분위기를 제거하기 위해 비활성 가스를 소결 챔버 내에 공급하는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
상기에 있어서, Zr 합금은 Zr을 70wt% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
상기에 있어서, Ti 계 소재 백 튜브는, Ti, 또는 Ti 합금소재로서, Ti-grade1, Ti-grade2, 또는 Ti-grade5를 포함하는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
상기에 있어서, Zr 합금은, ZrCuSi, ZrSi, ZrCoSi, 또는 ZrMoSi을 포함하는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 고안은,
Ti 계 소재 백 튜브;
상기 Ti 계 소재 백 튜브와 일체형으로 형성된 Zr 합금 소재를 포함하여 이루어지는 실린더 타겟으로서, 상기 Ti 계 소재 백 튜브와 상기 Zr 합금 소재 실린더 타겟의 경계면은 Ti 계 소재와 Zr 합금이 서로 확산되어 형성된 확산층을 포함한 것을 특징으로 하는 백 튜브 일체형 실린더 타겟을 제공한다.
상기에서, Zr 합금은 Zr을 70wt% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 백 튜브 일체형 실린더 타겟을 제공한다.
상기에 있어서, Ti 계 소재 백 튜브는, Ti, 또는 Ti 합금소재로서, Ti-grade1, Ti-grade2, 또는 Ti-grade5를 포함하는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법을 제공한다.
상기의 백 튜브 일체형 실린더 타겟은 상기의 실린더 타겟 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 백 튜브 일체형 실린더 타겟을 제공한다.
본 고안에 따르면 인듐 본딩 없이 Ti 계 소재 백 튜브에 직접 Zr계 합금을 일체형으로 소결하여 실린더 타겟을 제조하기 때문에 열이 가해지는 표면처리 공정에 적용되어도 인듐이 녹아 타겟이 박리되는 문제가 발생되지 않는다.
특히, 실린더 타겟의 소결과정에서 Ti 계 소재와 Zr 합금 경계면에서 확산현상이 일어나 확산층이 형성되어 자체적으로 본딩됨으로써 이후 고온 공정에서 매우 안정된 타겟으로 유지된다.
또한, 백 튜브 소재를 Ti 계 소재로 선택함으로써 Zr계 합금과의 열팽창 계수가 비슷하여 공정 중 열팽창 내지 열수축으로 인한 스트레스 발생 문제를 예방한다.
또한, 본 고안에 의해 제조된 Zr계 합금 실린더 타겟은 고밀도 고청정 특성을 나타낸다.
도 1은 종래 기술에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 구조를 보인 단면도이다.
도 2는 종래 기술에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 구조를 보인 측단면도이다.
도 3은 종래 기술에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 제조과정을 보여주는 순서도이다.
도 4는 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 구조를 보인 단면도이다.
도 5는 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 구조를 보인 측단면도이다.
도 6은 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 제조과정을 보여주는 순서도이다.
도 7은 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟의 단면구조를 보여주는 TEM 사진이다.
도 8은 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟에 대한 경도 시험 결과를 보여주는 사진들이다.
도 9는 몇몇 소재의 열팽창계수에 대한 표이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.
도 4는 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 구조를 보인 단면도이다. Zr계 합금은 고온에서의 내식성과 고경도 특성이 우수하여 연소엔진 부품의 표면처리에 적합하다. Zr계 합금으로는 ZrCuSi, ZrSi, ZrCoSi, ZrMoSi 등이 있다. 그외에도 다양한 금속이 Zr과 합금될 수 있으며, Zr의 함량은 바람직하게는 70wt% 이상이다.
도 9에 보인 바와 같이 Zr의 열팽창 계수는 5.7이고 Ti의 열팽창 계수는 8.6으로 스테인레스스틸(STS304)(열팽창 계수 17.3)에 비해 열팽창 계수의 차이가 크지 않다. 따라서 본 고안은 Zr 합금계 실린더 타겟의 백 튜브를 Ti 소재 또는 Ti 합금 소재로 선택하였다. Ti 합금 소재는 Ti-grade1, Ti-grade2, Ti-grade5 등이 있다. 그외에도 다양한 금속이 Ti와 합금될 수 있으며, Ti의 함량은 바람직하게는 70wt% 이상이다. Ti와 합금을 이루는 소재의 종류와 함량은 Zr계 합금 소재와의 열팽창 계수를 고려하여 서로 비슷한 값을 갖도록 조절될 수 있다.
또한, Ti계 소재 백 튜브에는 Zr 합금계에 대해 별도의 인듐 본딩을 요하지 않는 장점이 있다. 이들은 소결 공정을 통해 서로 확산층을 형성하며 본딩되어 일체화 될 수 있기 때문이다.
그에 따라 스퍼터링 공정에서 열팽창 계수 차이로 인한 스트레스 문제가 예방되는 것은 물론, 종래 인듐 본딩이 고전력 공정조건 하에서 용융되어 실린더 타겟이 백 튜브로부터 분리되는 문제가 완전히 해결된다.
도 5는 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 구조를 보인 측단면도이다.
Ti 계 소재 백 튜브에 Zr 합금계 실린더 타겟이 일체형으로 제작된 것을 보여준다.
상기와 같은 실린더 타겟은 도 6에 도시한 것과 같이 제조된다.
도 6은 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟 제조과정을 보여주는 순서도이다.
먼저, Ti계 소재 백 튜브를 준비하고, 스테인레스스틸 캔(Can)을 제작한다. 스테인레스스틸 캔(Can)은 상기 Ti 계 소재 백 튜브 주변을 에워싸듯이 배치된다.
다음, 상기 스테인레스스틸 캔 내부에 Zr 합금 분말을 채운다. 고밀도화 및 고청정화를 위해 진공분위기에서 탈가스(degassing) 과정을 실시한다. 탈가스 과정을 통해 산화분위기를 제거함으로써 타겟을 좀 더 고밀도화할 수 있다.
다음, HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시하여 Ti 계 소재 백 튜브에 Zr 합금 실린더 타겟이 일체화되게 한다.
Zr 합금 실린더 타겟의 고밀도화를 위해 상술한 바와 같이 산소분위기를 제거하며, 이를 위해 소결 시 진공분위기를 만든 다음, Ar과 같은 비활성 가스를 소결 챔버 내에 공급하는 것이 바람직하며 운전압력은 50 내지 120MPa, 바람직하게는, 100 MPa로 하고, 소결 온도는 800~1050℃로 할 수 있다.
소결이 종료되면, 캔을 제거하고 완성된 일체형 실린더 타겟을 취출한다.
소결 과정을 통해 Ti 계 소재와 Zr 합금과의 경계면에는 확산층이 형성되면서 서로 일체화하게 된다. 이러한 현상은 도 7의 절단면 사진으로 확인된다. 서로 조직이 다른 Ti 계 소재 백 튜브와 Zr 합금의 계면에 약 30 μm 정도 깊이의 확산층이 형성된 것을 볼 수 있다. 이러한 확산층이 별도의 본딩 금속 없이도 서로 일체형으로 된 실린더 타겟을 만들어 준다. 확산층은 고온의 HIP 소결로 형성되었기 때문에 이후 고전력 공정에서 용융되지 않고 안정된 상태를 유지하며, Ti 계 소재 와 Zr 합금 간의 존재하는 열팽창이나 수축 문제에서도 완충현상을 나타낼 수 있다.
도 8은 본 고안에 따른 Zr계 합금 실린더 타겟에 대한 경도 시험 결과를 보여주는 사진들이다.
상기와 같이 하여 고밀도, 고청정의 Zr 합금 실린더 타겟을 튜브 일체형으로 제작할 수 있다.
본 고안의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 고안의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 제작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

Claims (1)

  1. Ti 계 소재 백 튜브를 준비하고,
    스테인레스스틸 캔(Can)을 준비하여 상기 Ti 계 소재 백 튜브 주위를 에워싸듯 배치하고,
    상기 스테인레스스틸 캔 내부에 Zr을 70wt% 이상 포함하는 Zr 합금 분말을 채우고,
    Zr 합금 분말을 채운 다음, 진공분위기에서 탈가스(degassing) 과정을 실시하고,
    HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시하여 소결 공정을 통해 Ti 계 소재 백 튜브와 Zr 합금 분말이 서로 확산층을 형성하며 본딩되어 Ti 계 소재 백 튜브에 Zr 합금 실린더 타겟이 일체화되게 하며,
    Zr 합금은 ZrCuSi, ZrSi, ZrCoSi, 또는 ZrMoSi을 포함하고,
    Ti 계 소재 백 튜브는, Ti, 또는 Ti 합금소재로 하며, Ti와 합금을 이루는 소재는 Zr 합금 소재와의 열팽창 계수를 고려하여 서로 비슷한 값을 갖도록 조절하여, Ti-grade1, Ti-grade2, 또는 Ti-grade5를 포함하고,
    HIP(Hot Isostatic Pressure) 소결을 실시할 때, 산화분위기를 제거하기 위해 비활성 가스를 소결 챔버 내에 공급하고,
    소결이 종료되면, 상기 캔을 제거하고 완성된 백 튜브 일체형 실린더 타겟을 얻는 것을 특징으로 하는 실린더 타겟의 제조방법에 의해 제조되어,
    Ti 계 소재 백 튜브;
    상기 Ti 계 소재 백 튜브와 일체형으로 형성된, ZrCuSi, ZrCoSi, 또는 ZrMoSi중 어느 하나로 된 Zr 합금 소재를 포함하여 이루어지는 실린더 타겟으로서, 상기 Ti 계 소재 백 튜브와 상기 Zr 합금 소재 실린더 타겟의 경계면은 Ti 계 소재와 상기 Zr 합금이 서로 확산되어 형성된 확산층으로 Ti 계 소재 백 튜브와 실린더 타겟이 본딩을 이루어 일체화 된 것을 특징으로 하는 백 튜브 일체형 실린더 타겟.
KR2020200003710U 2020-05-07 2020-10-16 실린더 타겟의 제조방법 KR20210001128U (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020200003710U KR20210001128U (ko) 2020-05-07 2020-10-16 실린더 타겟의 제조방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020200001549 2020-05-07
KR2020200003710U KR20210001128U (ko) 2020-05-07 2020-10-16 실린더 타겟의 제조방법

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020200001549 Division 2020-05-07 2020-05-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210001128U true KR20210001128U (ko) 2021-05-25

Family

ID=76145862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020200003710U KR20210001128U (ko) 2020-05-07 2020-10-16 실린더 타겟의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20210001128U (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7358034B2 (ja) 予備焼結プリフォームを作製する方法
Loh et al. An overview of hot isostatic pressing
US5156321A (en) Powder metallurgy repair technique
EP1727643B1 (en) Method of making sputtering target
US4568516A (en) Method of manufacturing an object of a powdered material by isostatic pressing
CN104451655A (zh) 抗高温材料用表面合金涂层复合材料、涂层及其制备方法
KR20040086198A (ko) 핵융합로용 적층 부품
CN109972100B (zh) 一种管状铬靶材的制备方法
JP2009538984A (ja) 冷間圧縮されたスパッタターゲット
US4104782A (en) Method for consolidating precision shapes
CN111014869B (zh) 一种钼基石墨的真空焊接方法
JPS61190891A (ja) 保護被膜をもつ炭素又は黒鉛体及びその製法
JPH0367985B2 (ko)
KR102524107B1 (ko) 실린더 타겟의 제조방법
KR20190027371A (ko) 터빈 블레이드의 제조 방법
CN108754437A (zh) 溅射靶
JP2950436B2 (ja) 複合化材料の製造方法
KR20210001128U (ko) 실린더 타겟의 제조방법
CN113088883A (zh) 一种高温合金复合金属陶瓷涂层及其制备方法
US6582812B1 (en) Article made of a ceramic foam joined to a metallic nonfoam, and its preparation
JP3261457B2 (ja) 高温用耐酸化性合金材料及びその製造方法
JP6332078B2 (ja) 円筒形スパッタリングターゲットの製造方法
US5903813A (en) Method of forming thin dense metal sections from reactive alloy powders
US5080981A (en) Nickel-containing alloys as an adhesive layer bonding metal substrates to ceramics
US20080179381A1 (en) Diffusion braze repair of single crystal alloys