KR20200144325A - Evaporation source - Google Patents

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KR20200144325A
KR20200144325A KR1020190072223A KR20190072223A KR20200144325A KR 20200144325 A KR20200144325 A KR 20200144325A KR 1020190072223 A KR1020190072223 A KR 1020190072223A KR 20190072223 A KR20190072223 A KR 20190072223A KR 20200144325 A KR20200144325 A KR 20200144325A
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KR1020190072223A
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서태원
김영임
백현정
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주식회사 선익시스템
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Abstract

One embodiment of the present invention provides a crucible, which includes: a crucible body in which a deposition substance is received; and a distribution control unit having a base unit mounted on the bottom surface of the crucible body and a water level control unit protruding upward from the center of the base unit. Therefore, the crucible can uniformly maintain a density of evaporation particles ejected from the crucible.

Description

증발원용 도가니 및 이를 구비한 증발원{EVAPORATION SOURCE}Crucible for evaporation source and evaporation source equipped with it{EVAPORATION SOURCE}

본 발명은 증착공정에 사용되는 증발원용 도가니 및 이를 구비한 증발원에 관한 것이다.The present invention relates to a crucible for an evaporation source used in a deposition process and an evaporation source having the same.

유기전계 발광소자의 유기막, 전극 등과 같은 박막을 형성하는 데에는 진공 증착법이 주로 사용된다. 진공 증착법에 사용되는 증발원으로는 간접 가열 방식(또는 유도 가열 방식)의 증발원이 사용되고 있다.Vacuum evaporation is mainly used to form a thin film such as an organic film or an electrode of an organic light emitting device. As an evaporation source used in the vacuum evaporation method, an indirect heating method (or induction heating method) evaporation source is used.

일반적으로 진공 증착법을 이용한 증착 장치는, 챔버의 내부를 진공 분위기로 유지시킨 후, 챔버의 하부에 배치된 증발원으로부터 박막재료인 증착물질을 증발시키도록 구성된다.In general, a vapor deposition apparatus using a vacuum deposition method is configured to evaporate a deposition material, which is a thin film material, from an evaporation source disposed under the chamber after maintaining the interior of the chamber in a vacuum atmosphere.

증발원은 그 내부에 박막재료인 증착물질이 수용되는 도가니(Crucible)와, 도가니의 외주면에 구비되어 도가니를 가열하는 히터를 포함한다. 따라서, 히터의 온도가 상승함에 따라 도가니도 함께 가열되어 일정 온도가 되면 증착물질은 도가니 상부의 개구부 또는 노즐을 통해 증발되기 시작한다.The evaporation source includes a crucible in which a deposition material, which is a thin film material, is accommodated therein, and a heater provided on an outer peripheral surface of the crucible to heat the crucible. Accordingly, as the temperature of the heater rises, the crucible is also heated and when the temperature reaches a certain temperature, the deposition material begins to evaporate through the opening or nozzle of the crucible.

챔버의 내부에는 증발원의 상부로부터 일정 거리 이격된 위치에 박막이 형성될 기판이 로딩된다. 따라서, 도가니 상부의 개구부 또는 노즐로부터 증발된 증착물질은 기판에 증착되어 얇은 박막을 형성한다.Inside the chamber, a substrate on which a thin film is to be formed is loaded at a position spaced apart from the upper part of the evaporation source. Accordingly, the evaporation material evaporated from the opening or the nozzle of the crucible is deposited on the substrate to form a thin film.

즉, 도 1과 같이, 유기물질, 금속물질 등의 증착물질이 수용된 증발원용 도가니(10)를 히터(20)로 가열하면, 증착물질이 증발되어 도가니 상부의 개구부나 노즐(12)을 통해 기판에 분사되면서 박막이 형성된다. 이때, 박막의 두께 균일도는 최종 제품의 품질에 매우 중요한 영향을 미치는 요인이 되며, 두께 균일도 향상을 위해 여러 가지 방안이 모색되고 있다.That is, as shown in FIG. 1, when the evaporation source crucible 10 containing a deposition material such as an organic material or a metal material is heated with the heater 20, the deposition material is evaporated to the substrate through the opening or nozzle 12 at the top of the crucible. A thin film is formed while being sprayed on. At this time, the uniformity of the thickness of the thin film becomes a factor that has a very important effect on the quality of the final product, and various methods are being sought to improve the thickness uniformity.

예를 들면, 증착공정을 실시하기 위해 도가니 안에 증착물질을 충진한 후 히터 가열에 따라 도가니에 충진되어 있는 증착물질이 증발하게 되는데 증착 공정이 진행됨에 따라 도가니에 남아 있는 증착물질의 분포가 달라지게 된다. 즉, 히터가 도가니의 외측을 감싸도록 배치되어 있으므로, 히터의 열이 도가니의 중심부로 집중됨으로써 도가니(10)의 중심부(A1)와 주변부(A2)에서의 증착물질의 증발량이 달라지고 이에 따라 도가니에 남아 있는 증착물질의 분포가 달라지는 것이다.For example, after the deposition material is filled in the crucible to perform the deposition process, the deposition material filled in the crucible is evaporated by heating the heater. As the deposition process proceeds, the distribution of the deposition material remaining in the crucible changes. do. That is, since the heater is arranged to surround the outside of the crucible, the heat of the heater is concentrated to the center of the crucible, so that the amount of evaporation of the deposition material in the center A1 and the peripheral part A2 of the crucible 10 is changed The distribution of the deposition material remaining in the is changed.

구체적으로, 도가니의 바닥면은 평탄하게(flat) 되어 있으며, 이러한 평탄면으로 바닥을 구성한 도가니의 경우, 증착 공정을 진행하는 동안 도가니 내에 수용된 증착물질의 충진량이 감소할 때, 도가니의 중심부에 수용된 증착물질 수위와 주변부에 수용된 증착물질 수위에 차이가 발생한다.Specifically, the bottom surface of the crucible is flat, and in the case of a crucible configured with such a flat surface, when the amount of the deposition material contained in the crucible decreases during the deposition process, There is a difference between the level of deposition material and the level of deposition material accommodated in the periphery.

이와 같이 도가니 내부의 증착물질의 수위가 일정하지 않게 되면, 도가니의 내부 압력에 변화가 발생하게 되고, 이러한 내부 압력의 변화는 증착물질의 변성을 초래할 수 있다. 또한, 도가니 내부의 증착물질의 수위가 일정하지 않게 되면, 도가니 상부로 증발되는 증발입자의 분포를 변형시킬 수 있고 이로 인해 박막의 두께 균일도를 형성하는데 어려움이 있다.When the level of the deposition material inside the crucible is not constant as described above, a change occurs in the pressure inside the crucible, and the change in the internal pressure may cause the deposition material to be denatured. In addition, when the level of the evaporation material inside the crucible is not constant, the distribution of evaporation particles evaporated to the top of the crucible may be modified, and thus, it is difficult to form a uniform thickness of the thin film.

한국공개특허 10-2015-0114098Korean Patent Publication 10-2015-0114098

본 발명의 실시예는, 증착 공정을 진행하는 동안 도가니에 잔류하는 증착물질의 분포 형상을 일정하게 유지할 수 있도록 한 도가니 및 이를 구비한 증발원을 제공한다.An embodiment of the present invention provides a crucible and an evaporation source having the same to maintain a uniform distribution shape of the deposition material remaining in the crucible during the deposition process.

본 발명의 목적은 전술한 바에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있다.The object of the present invention is not limited to the above, and other objects and advantages of the present invention that are not mentioned can be understood by the following description.

본 발명의 실시예에 의한 도가니는, 도가니 몸체; 상기 도가니 몸체의 바닥면에 안착되는 베이스부, 상기 베이스부의 중앙에 상측 방향으로 돌출된 수위조절부를 구비한 분포조절유닛;를 포함할 수 있다.A crucible according to an embodiment of the present invention includes a crucible body; And a distribution control unit having a base portion seated on the bottom surface of the crucible body, and a water level adjustment portion protruding upwardly at the center of the base portion.

본 발명의 실시예에서, 상기 도가니 몸체에는 가이드가 구비되고, 상기 베이스부에는 상기 가이드가 삽입되는 가이드홀이 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, a guide may be provided in the crucible body, and a guide hole into which the guide is inserted may be formed in the base portion.

본 발명의 실시예에서, 상기 수위조절부는 사각형의 단면 또는 상부가 볼록한 반원형의 단면을 가질 수 있다. 또한, 상기 수위조절부는 상측으로 갈수록 테이퍼 형상을 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the water level control unit may have a rectangular cross section or a semicircular cross section with a convex top. In addition, the water level control unit may have a tapered shape toward the upper side.

본 발명의 실시예에 따르면, 증착 공정을 진행하는 동안 도가니에 잔류하는 증착물질의 분포 형상을 일정하게 유지하여 도가니에서 분출되는 증발입자의 밀도를 균일하게 유지할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the density of evaporation particles ejected from the crucible can be uniformly maintained by maintaining a uniform distribution shape of the deposition material remaining in the crucible during the deposition process.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The effects of the present invention are not limited to the above effects, and should be understood to include all effects that can be inferred from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이다. 따라서, 본 발명은 이러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석될 필요는 없다.
도 1은 일반적인 증발원용 도가니를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 증발원을 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 증발원용 도가니를 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 증발원용 도가니를 도시한 분해 사시도이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 증발원용 도가니를 도시한 분해 사시도이다.
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 증발원용 도가니를 도시한 분해 사시도이다.The following drawings attached to the present specification illustrate a preferred embodiment of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the detailed description of the present invention to be described later. Therefore, the present invention is limited only to the matters described in these drawings and need not be interpreted.
1 is a cross-sectional view showing a crucible for a general evaporation source.
2 is a cross-sectional view showing an evaporation source according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a crucible for an evaporation source according to a first embodiment of the present invention.
4 is an exploded perspective view showing a crucible for an evaporation source according to a first embodiment of the present invention.
5 is an exploded perspective view showing a crucible for an evaporation source according to a second embodiment of the present invention.
6 is an exploded perspective view showing a crucible for an evaporation source according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be implemented in various different forms, and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 본 발명의 본질과 관계없는 부분은 그에 대한 상세한 설명을 생략할 수 있으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여할 수 있다.In order to clearly describe the present invention, detailed descriptions thereof may be omitted for parts irrelevant to the essence of the present invention, and the same reference numerals may be assigned to the same or similar elements throughout the specification.

또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 여기서 사용되는 용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것으로서 본 발명을 한정하도록 의도되지 않으며, 본 명세서에서 다르게 정의되지 않는 한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 이해되는 개념으로 해석될 수 있다.In addition, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary. The terms used herein are intended to refer to specific embodiments only and are not intended to limit the present invention, and unless otherwise defined in the present specification, the terms are understood by those of ordinary skill in the art. Can be interpreted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 증발원을 도시한 도면이다.2 is a view showing an evaporation source according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참고하면, 증발원은 도가니(100), 히터(200), 리플렉터(300), 하우징(400)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the evaporation source includes a crucible 100, a heater 200, a reflector 300, and a housing 400.

도가니(100)는 하우징(400)에 대해 착탈 가능하게 구성될 수 있다. 따라서, 증착물질이 소진된 경우 도가니(100)는 하우징(400)으로부터 인출되어 증착물질을 교체하거나 충전할 수 있으며, 증착물질이 충전된 도가니(100)는 하우징(400)에 재수용될 수 있다.The crucible 100 may be configured to be detachable from the housing 400. Accordingly, when the deposition material is exhausted, the crucible 100 may be withdrawn from the housing 400 to replace or charge the deposition material, and the crucible 100 filled with the deposition material may be reaccommodated in the housing 400. .

히터(200)는 도가니(100)를 감싸도록 설치되어 도가니(100)에 열을 가한다. 히터(200)는 도가니(100)의 외주를 따라 구비되는 열선을 포함할 수 있으며, 열선은 도가니(100)의 외측에 나선 또는 지그재그 형태로 권선될 수 있다.The heater 200 is installed to surround the crucible 100 to apply heat to the crucible 100. The heater 200 may include a heating wire provided along the outer circumference of the crucible 100, and the heating wire may be wound on the outside of the crucible 100 in a spiral or zigzag shape.

히터(200)는 도가니(100)의 전체 높이에 걸쳐 배치되거나, 또는 도가니(100)의 일부 구간에 대응 배치될 수 있다. 따라서, 히터(200)는 전원이 인가되면 도가니(100)를 가열하고, 도가니(100)가 가열되면 증착물질은 도가니(100)의 개구부를 통해 증발된다.The heater 200 may be disposed over the entire height of the crucible 100, or may be disposed corresponding to a partial section of the crucible 100. Accordingly, the heater 200 heats the crucible 100 when power is applied, and when the crucible 100 is heated, the deposition material is evaporated through the opening of the crucible 100.

리플렉터(300)는 히터(200)를 감싸도록 배치되며, 히터(200)에서 발생한 열이 도가니(100)를 향하도록 반사시킨다. 리플렉터(300)는 히터(200)에서 방출되는 복사열을 도가니(100) 측으로 다시 반사되도록 하여 히터(200)에서 방출되는 복사열 에너지의 낭비를 최소화할 수 있으며, 복사열 에너지가 도가니(100)를 향해 집중되도록 함으로써 도가니(100) 내의 증착물질의 증발 작용을 보다 촉진할 수 있다.The reflector 300 is disposed to surround the heater 200, and reflects heat generated from the heater 200 toward the crucible 100. The reflector 300 can minimize the waste of radiant heat energy emitted from the heater 200 by reflecting the radiant heat emitted from the heater 200 back to the crucible 100, and the radiant heat energy is concentrated toward the crucible 100 By doing so, it is possible to further promote the evaporation action of the deposition material in the crucible 100.

하우징(400)은 도가니(100), 히터(200), 리플렉터(300)가 내부에 수용되도록 한다. 하우징(400)은 리플렉터(300)를 감싸도록 설치되어 내부에 배치되는 도가니(100), 히터(200), 리플렉터(300) 등을 보호한다.The housing 400 allows the crucible 100, the heater 200, and the reflector 300 to be accommodated therein. The housing 400 is installed to surround the reflector 300 to protect the crucible 100, the heater 200, the reflector 300, and the like disposed therein.

도 3 및 도 4는 본 발명의 제1실시예에 의한 증발원용 도가니를 도시한 도면이다.3 and 4 are views showing a crucible for an evaporation source according to a first embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4를 참고하면, 도가니(100)는 그 내부에 기판 상에 증착시킬 유기물 등의 증착물질을 수용한다. 즉, 도가니(100) 내에는 고순도의 분말 또는 팰릿 형태의 유기물 등이 수용된다.Referring to FIGS. 3 and 4, the crucible 100 accommodates a deposition material such as an organic material to be deposited on a substrate therein. That is, in the crucible 100, high-purity powder or organic matter in the form of a pallet is accommodated.

도가니(100)는 알루미나 또는 파이롤리틱 질화붕소 등의 세라믹이나, 티타늄 등의 금속 재질 또는 탄소 등으로 형성될 수 있다. 도가니는 육면체로 형성될 수 있고, 도가니(100)의 상면에는 증착물질이 증발되도록 개구부가 형성될 수 있다.The crucible 100 may be formed of a ceramic such as alumina or pyrolytic boron nitride, a metal material such as titanium, or carbon. The crucible may be formed as a hexahedron, and an opening may be formed on the upper surface of the crucible 100 to evaporate the deposition material.

도가니(100)의 외측에는 히터(200, 도 2 참고)가 구비되며, 히터는 도가니(100)의 외주를 따라 구비되는 열선일 수 있다. 따라서, 전원이 인가되면 히터는 도가니(100)를 가열하고, 도가니(100)가 가열되면 증착물질은 도가니(100)의 개구부를 통해 증발된다.A heater 200 (refer to FIG. 2) is provided outside the crucible 100, and the heater may be a heating wire provided along the outer circumference of the crucible 100. Accordingly, when power is applied, the heater heats the crucible 100, and when the crucible 100 is heated, the deposition material evaporates through the opening of the crucible 100.

도시하지는 않았으나, 도가니(100)의 상측 개구부에는 노즐플레이트가 설치되고, 노즐플레이트에는 기판에 증착물질을 분사하기 위한 노즐이 복수 구비될 수 있다. 노즐은 기판에 대해 수직 방향으로 분사구가 형성된 관형의 튜브체를 포함할 수 있다. 또한, 노즐은 외측으로 갈수록 상향 경사지게 유도슬릿이 형성된 슬릿형 노즐을 포함할 수 있다.Although not shown, a nozzle plate may be installed in an upper opening of the crucible 100, and a plurality of nozzles for spraying a deposition material onto the substrate may be provided in the nozzle plate. The nozzle may include a tubular tube body in which injection holes are formed in a direction perpendicular to the substrate. In addition, the nozzle may include a slit type nozzle in which the guide slit is formed to be inclined upward toward the outside.

도가니(100)의 내부에는 공정 진행 시 증착물질이 비교적 균일하게 소모되어 도가니(100) 내의 증착물질의 수위 또는 분포가 균일할 수 있도록 분포조절유닛(130)이 구비된다.The inside of the crucible 100 is provided with a distribution control unit 130 so that the deposition material is relatively uniformly consumed during the process so that the level or distribution of the deposition material in the crucible 100 is uniform.

분포조절유닛(130)은 도가니(100)의 바닥면 중앙에 상측으로 돌출되는 수위조절부(132)를 포함한다. 수위조절부(132)는 도가니(100)의 바닥면 중앙에 일체로 형성될 수 있다. 수위조절부(132)는 도가니(100) 높이의 10~20%의 높이를 가질 수 있으나, 이에 한정될 필요는 없다. 예를 들면, 공정 조건이나 증착물질의 종류에 따라 수위조절부(132)의 높이는 조절될 수 있다. 수위조절부(132)는 정면에서 봤을 때 사각형의 단면을 가질 수 있다. 즉, 수위조절부(132)는 전체적으로 육면체의 형상을 가질 수 있다.The distribution control unit 130 includes a water level control unit 132 protruding upward in the center of the bottom surface of the crucible 100. The water level adjustment part 132 may be integrally formed in the center of the bottom surface of the crucible 100. The water level adjustment unit 132 may have a height of 10 to 20% of the height of the crucible 100, but it is not necessary to be limited thereto. For example, the height of the water level control unit 132 may be adjusted according to process conditions or the type of deposition material. The water level adjustment unit 132 may have a rectangular cross section when viewed from the front. That is, the water level control unit 132 may have a shape of a hexahedron as a whole.

또한, 수위조절부(132)는 공정 조건이나 증착물질의 종류 등에 따라 교체가 용이하도록 도가니(100)와 별도로 구비될 수 있다. 이를 위해 분포조절유닛(130)은 수위조절부(132)를 지지하는 베이스부(131)를 더 포함할 수 있다. 베이스부(131)는 도가니(100)의 바닥면과 대응되는 형태 예컨대, 평판 형태로 형성될 수 있다. 수위조절부(132)는 베이스부(131)의 중앙에 상측 방향으로 돌출 형성되며, 이에 따라 수위조절부(132)는 도가니(100)의 내부 중앙에 위치될 수 있다.In addition, the water level control unit 132 may be provided separately from the crucible 100 to facilitate replacement according to process conditions or types of deposition materials. To this end, the distribution control unit 130 may further include a base part 131 supporting the water level control part 132. The base portion 131 may be formed in a shape corresponding to the bottom surface of the crucible 100, for example, in a flat plate shape. The water level control part 132 is formed protruding upwardly in the center of the base part 131, and accordingly, the water level control part 132 may be located in the inner center of the crucible 100.

이때, 도가니(100)의 내부에는 가이드축(111)이 구비될 수 있다. 가이드축(111)은 도가니(100) 내부에 직립 설치되어 분포조절유닛(130)의 체결을 안내한다. 가이드축(111)은 일정한 직경의 봉 형태로 형성될 수 있다. 가이드축(111)은 도가니(100)의 높이에 대응되는 길이를 가질 수 있다.In this case, a guide shaft 111 may be provided inside the crucible 100. The guide shaft 111 is installed upright inside the crucible 100 to guide the fastening of the distribution control unit 130. The guide shaft 111 may be formed in the shape of a rod having a constant diameter. The guide shaft 111 may have a length corresponding to the height of the crucible 100.

또한, 분포조절유닛(130)의 베이스부(131)에는 적어도 하나의 가이드홀(131a)이 형성된다. 가이드홀(131a)은 도가니(100)에 구비된 가이드축(111)의 위치에 대응하여 베이스부(131)의 모서리나 엣지 부분에 형성될 수 있다. 가이드홀(131a)에는 도가니(100)의 가이드축(111)이 삽입되며, 이에 따라 베이스부는 가이드축(111)에 의해 안내되어 도가니(100) 내부에 안정적으로 체결될 수 있다.In addition, at least one guide hole 131a is formed in the base portion 131 of the distribution control unit 130. The guide hole 131a may be formed in a corner or edge portion of the base portion 131 corresponding to the position of the guide shaft 111 provided in the crucible 100. The guide shaft 111 of the crucible 100 is inserted into the guide hole 131a, and accordingly, the base portion is guided by the guide shaft 111 so that the inside of the crucible 100 may be stably fastened.

한편, 분포조절유닛의 수위조절부는 도 4에 도시된 사각형의 단면 이외에 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 수위조절부(142)는 도 5와 같이, 베이스부(141)의 중앙에 구비되며 상측으로 갈수록 테이퍼 형상을 가질 수 있다. 즉, 수위조절부(142)는 삼각형의 단면을 가질 수 있다. 또한, 수위조절부(152)는 도 6과 같이, 베이스부(151)의 중앙에 구비되며 상부가 볼록한 반원형의 단면을 가질 수 있다.On the other hand, the water level control unit of the distribution control unit may have a variety of shapes in addition to the square cross-section shown in FIG. For example, the water level control unit 142 may be provided at the center of the base unit 141 as shown in FIG. 5 and may have a tapered shape toward the upper side. That is, the water level adjustment unit 142 may have a triangular cross section. In addition, the water level control unit 152 may be provided in the center of the base unit 151 as shown in FIG. 6 and may have a semicircular cross section with a convex upper portion.

이와 같이, 분포조절유닛(130)(140)(150)의 중심부 즉, 도가니(100)의 내부 중심부에 상측으로 볼록한 수위조절부(132)(142)(152)가 구비되어 있으므로, 증착 공정을 진행하는 동안 도가니(100)에 잔류하는 증착물질의 분포 형상이 플랫(flat)한 형태를 유지하게 되고, 증착 공정을 진행하는 동안 도가니(100)의 내부 압력 변화를 최소화할 수 있게 된다. 이에 따라 도가니(100) 내부에 잔류하는 증착물질의 변성을 최소화할 수 있고 도가니(100)의 상부로 증발되는 증발입자의 밀도를 균일하게 유지할 수 있다.In this way, since the water level control unit 132, 142, 152 convex upward is provided in the center of the distribution control unit 130, 140, 150, that is, the inner center of the crucible 100, the deposition process is During the process, the distribution shape of the deposition material remaining in the crucible 100 is maintained in a flat shape, and a change in the internal pressure of the crucible 100 can be minimized during the deposition process. Accordingly, the degeneration of the deposition material remaining inside the crucible 100 can be minimized, and the density of evaporated particles evaporated to the top of the crucible 100 can be uniformly maintained.

본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있으므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다.Those skilled in the art to which the present invention pertains, since the present invention may be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof, the embodiments described above are illustrative in all respects and should be understood as non-limiting. Only.

본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the claims to be described later rather than the detailed description, and all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention. .

100; 도가니 110; 도가니 몸체
111; 가이드축 120; 노즐플레이트
121; 노즐 130, 140, 150; 분포조절유닛
131, 141, 151; 베이스부 131a, 141a, 151a; 가이드홀
132, 142, 152; 수위조절부 200; 히터
300; 리플렉터 400; 하우징100; Crucible 110; Crucible body
111; Guide shaft 120; Nozzle plate
121; Nozzles 130, 140, 150; Distribution control unit
131, 141, 151; Base portions 131a, 141a, 151a; Guide hole
132, 142, 152; Water level control unit 200; heater
300; Reflector 400; housing

Claims (7)

증착물질이 수용되는 도가니 몸체;
상기 도가니 몸체의 중앙에 배치되고, 상측 방향으로 수위조절부가 돌출된 분포조절유닛;을 포함하는 증발원용 도가니.A crucible body accommodating the deposition material;
A crucible for an evaporation source including; a distribution control unit disposed in the center of the crucible body and protruding a water level control unit in an upward direction. 제1항에 있어서,
상기 분포조절유닛은 상기 도가니 몸체의 바닥면에 안착되는 베이스부를 더 포함하고, 상기 수위조절부는 상기 베이스부의 중앙에 상측 방향으로 돌출되는 증발원용 도가니.The method of claim 1,
The distribution control unit further includes a base portion seated on a bottom surface of the crucible body, and the water level control portion is a crucible for an evaporation source protruding upward from the center of the base portion. 제2항에 있어서,
상기 도가니 몸체에는 가이드축이 구비되고, 상기 베이스부에는 상기 가이드축이 삽입되도록 가이드홀이 형성된 증발원용 도가니.The method of claim 2,
A crucible for an evaporation source is provided with a guide shaft in the crucible body, and a guide hole is formed in the base portion to insert the guide shaft. 제1항에 있어서,
상기 수위조절부는 사각형의 단면을 갖는 증발원용 도가니.The method of claim 1,
The water level control unit is a crucible for an evaporation source having a rectangular cross section. 제1항에 있어서,
상기 수위조절부는 상측으로 갈수록 테이퍼 형상을 갖는 증발원용 도가니.The method of claim 1,
The water level control unit is a crucible for an evaporation source having a tapered shape toward the upper side. 제1항에 있어서,
상기 수위조절부는 상부가 볼록한 반원형의 단면을 갖는 증발원용 도가니.The method of claim 1,
The water level control part is a crucible for an evaporation source having a semicircular cross section with a convex top. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 도가니;
상기 도가니에 열을 가하는 히터; 및
상기 도가니 및 히터를 감싸도록 배치되며, 상기 히터에서 발생한 열을 도가니 측으로 반사시키는 리플렉터;를 포함하는 증발원.The crucible of any one of claims 1 to 6;
A heater that applies heat to the crucible; And
An evaporation source including; a reflector disposed to surround the crucible and the heater, and reflecting heat generated from the heater toward the crucible.
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