KR20200142390A - Inorganic electroluminescent device comprising luminescent particle surrounded by a coating layer and method for producing same - Google Patents

Inorganic electroluminescent device comprising luminescent particle surrounded by a coating layer and method for producing same Download PDF

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KR20200142390A
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    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources

Abstract

Disclosed are an inorganic electroluminescent device including a luminescent particle surrounded by a coating layer and a method for producing the same. The inorganic electroluminescent device comprises: an anode; an emission layer formed at an upper portion of the anode, and including a luminescent particle of an inorganic compound represented by chemical formula 1 and a coating layer coating a surface of the luminescent particle; and a cathode formed at an upper portion of the emission layer. At least a part of the coating layer adjacent to the anode in the coating layer includes an inorganic compound of chemical formula 2, and at least a part of the coating layer adjacent to the anode in the coating layer includes an inorganic compound of chemical formula 3. The chemical formula 1 is M^1A, the chemical formula 2 is (M^2)_(1+x)A, and the chemical formula 3 is (M^2)_(2-x)A. In the chemical formulas 1 to 3, the M^1 is second or twelfth group element, the A is two or more elements selected from the group consisting of chalcogen elements, the M^2 is a metallic element, and the x is represented as 0 <= x < 0.5. In the inorganic electroluminescent device, a specific inorganic compound is formed on a coating layer surrounding the luminescent particle so that DC driving is possible, the device may be driven at a low voltage, and emission efficiency may be improved.

Description

코팅층으로 둘러싸인 발광 입자를 포함하는 무기 전계 발광소자 및 그 제조방법{Inorganic electroluminescent device comprising luminescent particle surrounded by a coating layer and method for producing same}Inorganic electroluminescent device comprising luminescent particles surrounded by a coating layer and method for producing same}

코팅층으로 둘러싸인 발광 입자를 포함하는 무기 전계 발광소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.It relates to an inorganic electroluminescent device including light-emitting particles surrounded by a coating layer and a method of manufacturing the same.

형광체 재료는 외부로부터의 광, 전기, 압력, 열 또는 전자빔과 같은 에너지가 가해질 때 발광하는 재료이고, 오랫동안 알려져 있는 재료이다. 이러한 재료들 중에서도, 무기 재료들로 이루어진 형광체 재료들은 그들의 발광 특성 및 안정성으로부터 브라운관들, 형광 램프들, 전계발광(EL) 디바이스들 등에 사용되고 있다. 최근, LED들에 있어서의 색 변환 재료들로서 사용하기 위해 그리고 PDP들의 경우와 같이 저속 전자빔들에 의한 여기를 위해 무기 형광체들에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다.The phosphor material is a material that emits light when energy such as light, electricity, pressure, heat, or electron beam from outside is applied, and is a material known for a long time. Among these materials, phosphor materials made of inorganic materials are used in picture tubes, fluorescent lamps, electroluminescent (EL) devices, etc. from their luminous properties and stability. Recently, studies on inorganic phosphors have been actively conducted for use as color conversion materials in LEDs and for excitation by low-speed electron beams as in the case of PDPs.

개개의 입자가 개별적인 발광 소스로서 작용하는 파우더 입자를 사용하는 전계 발광 (electroluminescent, EL) 장치는 휨 또는 연신 변형 시 장치 특성 보존의 이점을 갖는다. 파우더 기반 EL 장치의 이러한 특성은 휴머노이드용 인공 피부 및 변형 가능한 발광 장치와 같은 차세대 장치의 조명 기술 분야에서 유망하다. 또한 인쇄 기술이 제조 공정에 적용될 수도 있으며, 최근, 상온에서 소자 제조 공정을 제공할 수 있는 자외선 경화형 페이스트가 개발되어 박막을 기반으로 하는 OLED에 비하여 원가 경쟁력을 가질 수도 있다.Electroluminescent (EL) devices using powder particles in which individual particles act as individual luminescent sources have the advantage of preserving device properties during bending or stretching deformation. These properties of powder-based EL devices are promising in the field of lighting technology for next-generation devices such as artificial skin for humanoids and deformable light emitting devices. In addition, printing technology may be applied to the manufacturing process, and recently, UV-curable pastes capable of providing a device manufacturing process at room temperature have been developed, and thus, may have cost competitiveness compared to OLEDs based on thin films.

무기 형광체 재료들을 사용한 전계 발광(EL) 디바이스들은 그 구동 방법들에 따라 교류 구동 또는 직류 구동으로서 크게 분류되고 있다. 교류 구동 EL 디바이스들은, 형광체 입자들이 고유전성 바인더에 분산되어 있는 분산형 및 형광체의 박막이 2 개의 유전체층들 사이에 협지되는 박막형의, 2 종류로 나눠진다. 직류 구동 EL 디바이스들로는, 각각이 투명 전극과 금속 전극 사이에 협지된 형광체의 박막을 가지며 저전압 직류에 의해 구동되는 직류 박막 EL 디바이스들이 포함된다.Electroluminescent (EL) devices using inorganic phosphor materials are largely classified as AC drive or DC drive according to their driving methods. The AC drive EL devices are divided into two types: a dispersion type in which phosphor particles are dispersed in a highly dielectric binder, and a thin film type in which a thin film of phosphor is sandwiched between two dielectric layers. As DC drive EL devices, DC thin film EL devices each having a thin film of phosphor sandwiched between a transparent electrode and a metal electrode and driven by low voltage direct current are included.

특히, 파우더 기반의 EL 소자는 높은 구동 전압의 교류(AC)에 의해 구동되기 때문에 널리 사용되지 않는다. 따라서 직류(DC) 구동 장치에 비해 상대적으로 비효율적이다. 최근, AC 구동형 EL 소자의 구조 최적화와 같은 다양한 접근 방식이 낮은 발광 효율 및 높은 구동 전압의 단점을 극복하기 위해 사용되어 왔다. 대표적인 접근 방법으로 방전 효과를 극대화하기 위해 소자에 유전체 물질을 도입하는 방법이 있으며, 최근에는 재귀 반사 전극을 적용하여 발광 휘도를 향상시킬 수 있는 것으로 보고되었다.In particular, powder-based EL devices are not widely used because they are driven by alternating current (AC) of a high driving voltage. Therefore, it is relatively inefficient compared to a direct current (DC) drive device. Recently, various approaches such as optimizing the structure of an AC driven EL device have been used to overcome the disadvantages of low luminous efficiency and high driving voltage. As a representative approach, a dielectric material is introduced into the device to maximize the discharge effect, and it has recently been reported that the luminance of light emission can be improved by applying a retroreflective electrode.

그럼에도 불구하고, EL 소자의 성능은 실용적으로 여전히 불충분하다. 근본적인 관점에서, AC 구동 EL 장치는 발광 다이오드(LED) 및 OLED와 같은 DC 구동 장치에 필적하는 저전압 구동 및 효율 달성에 한계가 있기 때문이다.Nevertheless, the performance of the EL element is still insufficient in practical use. From a fundamental point of view, this is because the AC driving EL device has limitations in achieving low voltage driving and efficiency comparable to DC driving devices such as light emitting diodes (LEDs) and OLEDs.

직류 구동 무기 EL 디바이스들에 대한 연구는 1970 ~ 80 년대에 활발히 이루어졌다 (Journal of Applied Physics, 52(9), 5797, 1981) 이런 종류의 EL 디바이스는, MBE 를 사용하여 GaAs 기판 상에 형성되고 이기판과 Au 전극 사이에 협지되는 ZnSe:Mn 의 막을 가지도록 구조화된 디바이스이다. 이러한 디바이스의 발광 메커니즘은, 약 4 V 의 전압이 디바이스에 인가될 때, 터널 효과에 의해 전극으로부터 전자들이 주입되고 발광 중심으로서 Mn 을 여기시키는 것에 있다. 그러나, 이러한 디바이스는 낮은 발광 효율 (~ 005 lm/W) 및 낮은 재현성을 가지고 있어서, 그 이후 상품화는 물론이거니와, 심지어 그 학술적 연구도 이루어지지 않고 있다.Research on DC-driven inorganic EL devices was actively conducted in the 1970s and 1980s (Journal of Applied Physics, 52(9), 5797, 1981). This kind of EL device is formed on a GaAs substrate using MBE. It is a device structured to have a film of ZnSe:Mn sandwiched between the substrate and the Au electrode. The light-emitting mechanism of such a device consists in that when a voltage of about 4 V is applied to the device, electrons are injected from the electrode by the tunnel effect and excite Mn as the light-emitting center. However, these devices have low luminous efficiency (~ 005 lm/W) and low reproducibility, and since then, commercialization or even academic research has not been conducted.

예를 들어, WO 07/043676 에서 보고되는 새로운 직류 구동 무기 EL 디바이스는 Cu 또는 Mn 과 같이 지금까지 알려진 발광 중심들을 함유하는 ZnS 계를 그 발광 재료로서 사용하고, ZnS 계가 투명전극인 ITO 전극과 배면 전극인 Ag 전극 사이에 협지된 구조를 가진다. 이 문헌은 디바이스의 발광 메커니즘을 기재하지는 않지만, 계 내에 함께 함유된 Cu 및 Cl 이 DA 쌍을 형성하고, 이 쌍을 통해 주입된 전자와 홀이 재결합되고 발광하는 메카니즘이라고 이해할 수 있을 것이다.For example, the new direct current-driven inorganic EL device reported in WO 07/043676 uses a ZnS system containing luminescent centers known so far such as Cu or Mn as its luminous material, and the ZnS system is a transparent electrode, an ITO electrode and a rear surface. It has a structure sandwiched between Ag electrodes, which are electrodes. Although this document does not describe the light emitting mechanism of the device, it will be understood that Cu and Cl contained together in the system form a DA pair, and electrons and holes injected through the pair are recombined and emit light.

또한, JP-A-2006-233147 에서는, 부활제(activator)로서 구리를 함유하고, 공부활제로서 염소 또는 브롬 중 적어도 어느 하나를 함유하고, 그리고 제 2 전이 계열 또는 제 3 전이 계열의 6 족 내지 10 족에 속하는 적어도 하나의 금속 원소를 함유하는 황화아연 입자들로 이루어진 무기 형광체를 사용한 전계 발광 디바이스가 개시되어 있다.In addition, in JP-A-2006-233147, copper is contained as an activator, and at least any one of chlorine or bromine is contained as a study activator, and groups 6 to 6 of the second transition series or the third transition series An electroluminescent device using an inorganic phosphor composed of zinc sulfide particles containing at least one metal element belonging to Group 10 is disclosed.

또, 직류 구동을 채택하는 의도에서, WO 07/139032 에는, 투명 금속 산화물 반도체/절연체가 도입된 면 발광 전계 발광 디바이스가 개시되어 있다.Further, with the intention of adopting direct current driving, WO 07/139032 discloses a surface-emitting electroluminescent device in which a transparent metal oxide semiconductor/insulator is introduced.

상기와 유사한 구동 방법에 의해 발광하는 유기 EL 디바이스들과 비교하면, 모든 구성성분들이 무기 재료들인 직류 구동 무기 EL 디바이스들은 높은 내구성을 가지며, 조명 및 디스플레이와 같은 다양한 분야에서 충분한 이용을 허용한다. 동일하게 구동되는 LED들은 각각의 모든 구성성분들이 무기 재료들인 점에서 유사성을 가지지만, LED들로부터의 발광은 극소 면적이고, 또는 등가적으로 점 발광이다. 따라서, LED들이 단위 면적당 높은 세기의 레이저들을 생성하더라도, 생성된 레이저들은 절대 광량(광속) 이 작고; 결과적으로, LED들은 용도가 제한된다. 한편, 무기 EL 디바이스들은 본래 면 발광이므로, 무기 EL 디바이스들은 많은 광속을 획득할 가능성 면에서 이점을 가진다.Compared with organic EL devices that emit light by a driving method similar to the above, direct-current drive inorganic EL devices in which all components are inorganic materials have high durability and allow sufficient use in various fields such as lighting and displays. LEDs that are driven identically have similarities in that each and every component are inorganic materials, but the light emission from the LEDs is very small area, or equivalently, point light emission. Thus, even though LEDs produce lasers of high intensity per unit area, the generated lasers have a small absolute amount of light (luminous flux); As a result, LEDs have limited use. On the other hand, since inorganic EL devices are originally surface-emitting, inorganic EL devices have an advantage in terms of the possibility of obtaining a large number of light fluxes.

국제공개공보 WO 07/043676International Publication WO 07/043676 일본공개특허공보 JP-A-2006-233147Japanese Published Patent Publication JP-A-2006-233147 국제공개공보 WO 07/139032International Publication WO 07/139032

본 발명의 일 측면에서의 목적은 직류 구동이 가능하도록 코팅층으로 둘러싸인 발광 파우더를 포함하는 무기 전계 발광소자를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide an inorganic electroluminescent device including a light emitting powder surrounded by a coating layer to enable direct current driving.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면에서In order to achieve the above object, in one aspect of the present invention

애노드 전극;Anode electrode;

상기 애노드 전극 상부에 형성되고, 하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자 및 상기 발광 입자 표면에 코팅되는 코팅층을 포함하는 발광층; 및A light-emitting layer formed on the anode electrode and including light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following Formula 1, and a coating layer coated on the surface of the light-emitting particles; And

상기 발광층 상부에 형성된 캐소드 전극;을 포함하고,Includes; a cathode electrode formed on the emission layer,

상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 2의 무기화합물을 포함하며,At least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer contains an inorganic compound of the following formula (2),

상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 3의 무기화합물을 포함하는 무기 전계 발광소자:At least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers comprises an inorganic compound represented by the following formula (3):

<화학식 1><Formula 1>

M1AM 1 A

<화학식 2><Formula 2>

M2 (1+x)AM 2 (1+x) A

<화학식 3><Formula 3>

M2 (2-x)AM 2 (2-x) A

(상기 화학식 1 내지 3에 있어서,(In the formulas 1 to 3,

상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고,M 1 is a Group 2 or 12 element,

상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이고,Wherein A is at least one element selected from the group consisting of chalcogen elements,

상기 M2는 금속 원소이고,M 2 is a metal element,

상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다)Where x is 0 ≤ x <0.5)

가 제공된다.Is provided.

본 발명의 다른 측면에서In another aspect of the present invention

하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자를 준비하는 단계;Preparing light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following Chemical Formula 1;

상기 발광 입자 표면을 금속으로 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;Forming a coating layer by coating the surface of the light emitting particles with a metal;

상기 코팅층이 형성된 발광 입자를 포함하는 발광층이 애노드 전극 및 캐소드 전극 사이에 위치하는 발광소자를 제조하는 단계;Manufacturing a light emitting device in which a light emitting layer including light emitting particles on which the coating layer is formed is positioned between an anode electrode and a cathode electrode;

상기 발광소자에 전압을 인가하여 상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 2의 무기화합물을 형성하고,Applying a voltage to the light emitting device to form an inorganic compound of the following formula (2) on at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer,

상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 3의 무기화합물을 형성하는 단계;Forming an inorganic compound represented by the following Formula 3 on at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers;

를 포함하는 무기 전계 발광소자 제조방법:Inorganic electroluminescent device manufacturing method comprising:

<화학식 1><Formula 1>

M1AM 1 A

<화학식 2><Formula 2>

M2 (1+X)AM 2 (1+X) A

<화학식 3><Formula 3>

M2 (2-X)AM 2 (2-X) A

(상기 화학식 1 내지 3에 있어서,(In the formulas 1 to 3,

상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고,M 1 is a Group 2 or 12 element,

상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이고,Wherein A is at least one element selected from the group consisting of chalcogen elements,

상기 M2는 금속 원소이고,M 2 is a metal element,

상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다)Where x is 0 ≤ x <0.5)

이 제공된다.Is provided.

본 발명의 일 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자에 따르면, 발광 입자를 둘러싼 코팅층에 특정 무기화합물을 형성함으로써, 직류 구동이 가능하며, 더 낮은 전압에서 구동이 가능하고, 발광 효율이 향상될 수 있는 효과가 있다.According to the inorganic electroluminescent device provided in one aspect of the present invention, by forming a specific inorganic compound in the coating layer surrounding the light emitting particles, direct current driving is possible, driving at a lower voltage is possible, and luminous efficiency can be improved. It works.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광층을 나타낸 모식도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자의 구조를 나타낸 모식도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자의 밴드 다이어그램을 나타낸 것이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자의 구조를 나타낸 모식도이고,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자의 밴드 다이어그램을 나타낸 것이고,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 대한 구리 황화물의 원자 비율에 따른 상 평형도를 나타낸 것이고,
도 7은 본 발명의 일 실시예에 대한 구리 황화물의 화학양론비적 변화에 따른 밴드갭을 나타낸 것이고,
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자에 대하여 전압을 인가하지 않은 평형 상태에서의 밴드 다이어그램을 나타낸 것이고,
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자에 대하여 전압을 인가함에 따른 밴드 다이어그램의 변화를 나타낸 것이고,
도 10은 본 발명의 실시예들에 대하여 구동 전압에 따른 발광 휘도를 측정한 그래프이고,
도 11은 본 발명의 실시예들에 대하여 형성 전압에 따른 문턱 전압을 나타낸 것이고,
도 12는 본 발명의 실시예들에 대하여 구동 전압에 따른 발광 휘도를 나타낸 그래프이고,
도 13은 본 발명의 실시예들에 대하여 형성 전압에 따른 문턱 전압을 나타낸 것이고,
도 13은 본 발명의 실시예들에 대하여 구동 전압에 따른 발광 휘도를 정공주입층 유무로 비교한 그래프이다.
1 is a schematic diagram showing a light emitting layer according to an embodiment of the present invention,
2 is a schematic diagram showing the structure of a light emitting device according to an embodiment of the present invention,
3 is a band diagram of a light emitting device according to an embodiment of the present invention,
4 is a schematic diagram showing the structure of a light emitting device according to an embodiment of the present invention,
5 shows a band diagram of a light emitting device according to an embodiment of the present invention,
6 shows a phase equilibrium according to the atomic ratio of copper sulfide for an embodiment of the present invention,
7 shows a band gap according to a stoichiometric change of copper sulfide for an embodiment of the present invention,
8 shows a band diagram in a balanced state in which no voltage is applied to the light emitting device according to an embodiment of the present invention,
9 is a view showing a change in a band diagram as a voltage is applied to a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
10 is a graph measuring emission luminance according to a driving voltage for embodiments of the present invention,
11 is a diagram showing a threshold voltage according to a formed voltage for embodiments of the present invention,
12 is a graph showing light emission luminance according to a driving voltage for embodiments of the present invention,
13 shows a threshold voltage according to a formed voltage for embodiments of the present invention,
13 is a graph comparing emission luminance according to a driving voltage with or without a hole injection layer in the embodiments of the present invention.

다른 식으로 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 숙련된 전문가에 의해서 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로, 본 명세서에서 사용된 명명법은 본 기술 분야에서 잘 알려져 있고 통상적으로 사용되는 것이다. Unless otherwise defined, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by an expert skilled in the art to which the present invention belongs. In general, the nomenclature used in this specification is well known and commonly used in the art.

본 발명의 일 측면에서In one aspect of the present invention

애노드 전극;Anode electrode;

상기 애노드 전극 상부에 형성되고, 하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자 및 상기 발광 입자 표면에 코팅되는 코팅층을 포함하는 발광층; 및A light-emitting layer formed on the anode electrode and including light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following Formula 1, and a coating layer coated on the surface of the light-emitting particles; And

상기 발광층 상부에 형성된 캐소드 전극;을 포함하고,Includes; a cathode electrode formed on the emission layer,

상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 2의 무기화합물을 포함하며,At least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer contains an inorganic compound of the following formula (2),

상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 3의 무기화합물을 포함하는 무기 전계 발광소자:At least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers comprises an inorganic compound represented by the following formula (3):

<화학식 1><Formula 1>

M1AM 1 A

<화학식 2><Formula 2>

M2 (1+x)AM 2 (1+x) A

<화학식 3><Formula 3>

M2 (2-x)AM 2 (2-x) A

(상기 화학식 1 내지 3에 있어서,(In the formulas 1 to 3,

상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고,M 1 is a Group 2 or 12 element,

상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이고,Wherein A is at least one element selected from the group consisting of chalcogen elements,

상기 M2는 금속 원소이고,M 2 is a metal element,

상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다)Where x is 0 ≤ x <0.5)

가 제공된다.Is provided.

이하, 본 발명의 일 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자를 각 구성별로 상세히 설명한다.Hereinafter, the inorganic electroluminescent device provided in one aspect of the present invention will be described in detail for each configuration.

먼저, 본 발명의 일 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자는 애노드 전극 및 캐소드 전극을 포함한다.First, the inorganic electroluminescent device provided in one aspect of the present invention includes an anode electrode and a cathode electrode.

상기 애노드 전극 및 캐소드 전극은 빛을 외부로 방출하기 위해서 두 전극 중 적어도 어느 일방을 투명하게 할 필요가 있다.The anode electrode and the cathode electrode need to make at least one of the two electrodes transparent in order to emit light to the outside.

상기 애노드 전극 및 캐소드 전극 중 일방의 투명전극은 그 재료로서, ITO, ZnO, AZO, TiO2, SnO2, In2O3, ZnSnO3, AgInO2, Zn2In2O5, Zn2Ga2O4 등의 재료를 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니며, 일반적으로 사용하는 투명전극을 사용할 수 있다.One transparent electrode among the anode and cathode electrodes is a material thereof, and is ITO, ZnO, AZO, TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnSnO 3 , AgInO 2 , Zn 2 In 2 O 5 , Zn 2 Ga 2 Materials such as O 4 may be used, but are not limited thereto, and a generally used transparent electrode may be used.

상기 애노드 전극 및 캐소드 전극 중 다른 일방의 전극은 그 재료로서, Al, Au, Cu, Ag, Ni, Pt 등의 금속을 사용할 수 있으며, 무기 전계 발광소자 전체를 투명하게 할 경우에는 상기 다른 일방의 전극의 재료로 ITO, ZnO, AZO, TiO2, SnO2, In2O3, ZnSnO3, AgInO2, Zn2In2O5, Zn2Ga2O4 등의 재료를 사용한 투명전극일 수도 있다. 또한, 고 콘트라스트(High Contrast)의 소자일 경우에는 Mo, Ta, Ti 등의 산화물을 증착하여 상기 다른 일방의 전극으로 흑색의 전극을 사용할 수도 있다.As the material of the other electrode among the anode and cathode electrodes, metals such as Al, Au, Cu, Ag, Ni, and Pt may be used. When the entire inorganic electroluminescent device is made transparent, the other one The electrode material may be a transparent electrode using a material such as ITO, ZnO, AZO, TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnSnO 3 , AgInO 2 , Zn 2 In 2 O 5 , Zn 2 Ga 2 O 4 . In addition, in the case of a high-contrast device, an oxide such as Mo, Ta, or Ti may be deposited to use a black electrode as the other electrode.

또한, 본 발명의 일 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자는 상기 애노드 전극 상부에 형성되고, 하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자 및 상기 발광 입자 표면에 코팅되는 코팅층을 포함하는 발광층을 포함한다.In addition, the inorganic electroluminescent device provided in one aspect of the present invention is formed on the anode electrode and includes a light-emitting layer including light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by Formula 1 below, and a coating layer coated on the surface of the light-emitting particles. .

상기 발광 입자는 하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물이다.The light emitting particles are inorganic compounds represented by the following formula (1).

<화학식 1><Formula 1>

M1AM 1 A

상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고, 상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이다.M 1 is a Group 2 or 12 element, and A is at least one element selected from the group consisting of a chalcogen element.

상기 발광 입자는 예를 들어, ZnS, ZnO, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, CaS, SrS, SrSe 또는 BaS일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The light emitting particles may be, for example, ZnS, ZnO, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, CaS, SrS, SrSe, or BaS, but is not limited thereto.

상기 발광 입자의 평균 입경은 특별히 한정되지는 않으나, 바람직하게는 부피 기준에 의한 50 % 평균 입경이 0.2 ㎛ 내지 2.0 ㎛ 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 0.3 ㎛ 내지 0.7 ㎛ 일 수 있다. 상기 발광 입자의 평균 입경이 2.0 ㎛ 를 초과하는 경우 박형화가 어려울 수 있으며, 구동 전압이 높아질 수 있다는 문제점이 있으며, 상기 발광 입자의 평균 입경이 0.3 ㎛ 미만인 경우 발광 휘도가 낮아질 수 있다는 문제점이 있다. 여기서, 부피 기준에 따른 50 % 평균 입경(이하 「평균 입경」이라 하는 경우가 있음)이란, 레이저 도플러법에 의해 측정되는 부피 기준 입도 분포의 메디안 직경(D50)이며, 예를 들면 나노트랙 UPA-EX250(니키소사 제조, 상품명, 레이저 도플러 방식 입도 분포 측정 장치)을 이용하여 측정할 수 있다.The average particle diameter of the light-emitting particles is not particularly limited, but preferably, the 50% average particle diameter on a volume basis may be 0.2 µm to 2.0 µm, more preferably 0.3 µm to 0.7 µm. When the average particle diameter of the light-emitting particles exceeds 2.0 µm, it may be difficult to reduce the thickness, and there is a problem that the driving voltage may be increased, and when the average particle diameter of the light-emitting particles is less than 0.3 µm, there is a problem that the luminance may be lowered. Here, the 50% average particle diameter according to the volume basis (hereinafter sometimes referred to as ``average particle diameter'') is the median diameter (D50) of the volume-based particle size distribution measured by the laser Doppler method, for example, Nanotrack UPA- It can be measured using EX250 (manufactured by Nikiso Corporation, brand name, laser Doppler method particle size distribution measuring device).

상기 발광 입자는 발광중심 형성원소를 포함할 수 있다.The light-emitting particles may include a light-emitting center forming element.

상기 발광중심 형성원소는 전이금속 및 희토류 금속 원소들로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며, 예를 들어, Mn, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os, Ir, Pt, Au일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들 금속 원소들은 단독으로 포함될 수도 있고, 그 2종 이상의 조합으로 포함될 수도 있다.The emission center forming element may be one or more selected from the group consisting of transition metals and rare earth metal elements, for example, Mn, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os, Ir , Pt, Au may be, but is not limited thereto. These metal elements may be included alone, or may be included in a combination of two or more.

상기 발광중심 형성원소는 상기 발광 입자에서 발광중심을 형성할 수 있으며, 이러한 방법에 특별한 한정은 없다. 예를 들면, 원소들은 소성을 통한 그레인 형성 시에 금속염들의 형태로 혼입될 수도 있고, 또는 소성 조건하에서 그 용융, 승화 또는 반응이 가능하다면, 원소들은 화합물 결정들의 형태로 혼입될 수도 있다. 상기 화합물 1의 무기화합물 결정들에 혼입되는 부분들 이외에, 결정 표면상으로의 석출 부분 및 결정 표면으로의 흡착 부분에서, 금속들은 에칭, 세정 등에 의해 제거되는 것이 바람직하다. 금속염으로서, 산화물들, 황화물들, 황산염들, 옥살산염들, 할로겐화물들, 질산염들 및 질화물들을 포함하는 화합물들 중 임의의 것이 채용될 수도 있다. 이들 염들 중에서도, 산화물들, 황화물들 및 할로겐화물들이 더 바람직하다. 이들 염들은 단독으로 사용될 수도 있고, 또는 그 2종 이상의 조합으로서 사용될 수도 있다.The light emitting center forming element may form a light emitting center in the light emitting particles, and there is no particular limitation on this method. For example, elements may be incorporated in the form of metal salts during grain formation through firing, or if melting, sublimation or reaction is possible under firing conditions, elements may be incorporated in the form of compound crystals. In addition to the portions to be incorporated into the inorganic compound crystals of the compound 1, the metals are preferably removed by etching, cleaning, or the like, in the precipitated portion on the crystal surface and the adsorbed portion on the crystal surface. As the metal salt, any of compounds including oxides, sulfides, sulfates, oxalates, halides, nitrates and nitrides may be employed. Among these salts, oxides, sulfides and halides are more preferred. These salts may be used alone or as a combination of two or more thereof.

상기 발광중심 형성원소의 양은 상기 화학식 1의 무기화합물의 1 몰에 대하여 1×10-7 내지 1×10-1 몰이 바람직하고, 1×10-5 내지 1×10-2 몰이 더 바람직하다.The amount of the light-emitting center forming element is preferably 1×10 -7 to 1×10 -1 mol, and more preferably 1×10 -5 to 1×10 -2 mol with respect to 1 mol of the inorganic compound of Formula 1.

또한, 상기 발광 입자를 표면에 코팅되는 코팅층은 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 2의 무기화합물을 포함하며, 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 3의 무기화합물을 포함한다.In addition, in the coating layer coated on the surface of the light emitting particles, at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode contains an inorganic compound of Formula 2, and at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode includes an inorganic compound of Formula 3 do.

<화학식 2><Formula 2>

M2 (1+X)AM 2 (1+X) A

<화학식 3><Formula 3>

M2 (2-X)AM 2 (2-X) A

상기 M2는 금속 원소이고, 상기 A는 칼코겐 원소로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이며, 상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다.M 2 is a metal element, A is at least one element selected from the group consisting of a chalcogen element, and x is 0≦x<0.5.

상기 M2는 예를 들어, 구리(Cu)일 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.The M 2 may be, for example, copper (Cu), but is not limited thereto.

상기 화학식 2의 무기화합물은 p형 반도체일 수 있으며, 상기 화학식 3의 무기화합물은 n형 반도체일 수 있다.The inorganic compound of Formula 2 may be a p-type semiconductor, and the inorganic compound of Formula 3 may be an n-type semiconductor.

상기 화학식 2의 무기화합물은 상기 발광 입자로 정공을 전달할 수 있으며, 상기 화학식 3의 무기화합물은 상기 발광 입자로 전자를 전달할 수 있다. 이에 따라, 발광 입자에서 정공 및 전자는 결합하여 빛을 방출할 수 있다.The inorganic compound of Formula 2 may transfer holes to the light-emitting particles, and the inorganic compound of Formula 3 may transfer electrons to the light-emitting particles. Accordingly, in the light emitting particle, holes and electrons may combine to emit light.

상기 화학식 2의 무기화합물의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값(conduction band minimum, CBM)은 상기 발광 입자의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값보다 클 수 있다.The minimum energy value of the conduction band (CBM) of the inorganic compound of Formula 2 may be greater than the minimum energy value of the conduction band of the light emitting particle.

상기 화학식 2의 무기화합물의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값이 상기 발광 입자의 값보다 큰 경우, 상기 화학식 2의 무기화합물과 상기 발광입자 사이에 에너지 장벽이 형성될 수 있으며, 그 결과, 상기 화학식 3의 무기화합물에 의하여 상기 발광 입자로 전달된 전자는 애노드 전극 쪽으로 유출되지 않고 상기 발광 입자에서 정공과 결합할 수 있다.When the minimum energy value of the conduction band of the inorganic compound of Formula 2 is greater than the value of the light emitting particle, an energy barrier may be formed between the inorganic compound of Formula 2 and the light emitting particle, and as a result, the The electrons transferred to the light-emitting particles by the inorganic compound of Formula 3 do not flow toward the anode electrode and may bind with holes in the light-emitting particles.

또한, 상기 발광층의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 10 nm 내지 100 ㎛ 일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 100 ㎛를 초과하는 경우 구동 전압이 높아질 수 있다는 문제점이 있으며, 10 nm 미만인 경우 절연 파괴가 발생할 수 있다는 문제점이 있다.In addition, the thickness of the emission layer is not particularly limited, but may preferably be 10 nm to 100 μm. When the thickness of the light emitting layer exceeds 100 μm, there is a problem that the driving voltage may increase, and when the thickness of the emission layer is less than 10 nm, there is a problem that insulation breakdown may occur.

또한, 본 발명의 일 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자는 상기 애노드 전극과 상기 발광층 사이에 정공주입층을 더 포함할 수 있다.In addition, the inorganic electroluminescent device provided in one aspect of the present invention may further include a hole injection layer between the anode electrode and the emission layer.

상기 정공주입층은 예를 들어, PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophere poly(styrene sulfonate), PVK(poly(N-vinylcarbazole), TFB(poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'(N-(4-secbutylphenyl))diphenylamine)), a-NPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'biphenyl-4,4'-diamine), 또는 TPD(N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'-Bis-phenyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine 등일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The hole injection layer is, for example, PEDOT:PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiophere poly(styrene sulfonate)), PVK (poly(N-vinylcarbazole)), TFB (poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl )-co-(4,4'(N-(4-secbutylphenyl))diphenylamine)), a-NPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'biphenyl -4,4'-diamine), or TPD(N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'-Bis-phenyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine, etc. However, it is not limited thereto.

상기 정공주입층이 형성됨으로써 정공이 더욱 쉽게 양극으로부터 발광 입자로 흐를 수 있다.Since the hole injection layer is formed, holes can more easily flow from the anode to the light emitting particles.

본 발명의 다른 측면에서In another aspect of the present invention

하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자를 준비하는 단계;Preparing light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following Chemical Formula 1;

상기 발광 입자 표면을 금속으로 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;Forming a coating layer by coating the surface of the light emitting particles with a metal;

상기 코팅층이 형성된 발광 입자를 포함하는 발광층이 애노드 전극 및 캐소드 전극 사이에 위치하는 발광소자를 제조하는 단계;Manufacturing a light emitting device in which a light emitting layer including light emitting particles on which the coating layer is formed is positioned between an anode electrode and a cathode electrode;

상기 발광소자에 전압을 인가하여 상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 2의 무기화합물을 형성하고,Applying a voltage to the light emitting device to form an inorganic compound of the following formula (2) on at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer,

상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 3의 무기화합물을 형성하는 단계;Forming an inorganic compound represented by the following Formula 3 on at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers;

를 포함하는 무기 전계 발광소자 제조방법:Inorganic electroluminescent device manufacturing method comprising:

<화학식 1><Formula 1>

M1AM 1 A

<화학식 2><Formula 2>

M2 (1+X)AM 2 (1+X) A

<화학식 3><Formula 3>

M2 (2-X)AM 2 (2-X) A

(상기 화학식 1 내지 3에 있어서,(In the formulas 1 to 3,

상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고,M 1 is a Group 2 or 12 element,

상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이고,Wherein A is at least one element selected from the group consisting of chalcogen elements,

상기 M2는 금속 원소이고,M 2 is a metal element,

상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다)Where x is 0 ≤ x <0.5)

이 제공된다.Is provided.

이하, 본 발명의 다른 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자 제조방법을 각 단계별로 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing an inorganic electroluminescent device provided in another aspect of the present invention will be described in detail for each step.

먼저, 본 발명의 다른 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자 제조방법은 하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자를 준비하는 단계를 포함한다.First, a method of manufacturing an inorganic electroluminescent device provided in another aspect of the present invention includes preparing light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following formula (1).

<화학식 1><Formula 1>

M1AM 1 A

상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고, 상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이다.M 1 is a Group 2 or 12 element, and A is at least one element selected from the group consisting of a chalcogen element.

상기 발광 입자는 예를 들어, ZnS, ZnO, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, CaS, SrS, SrSe 또는 BaS일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The light emitting particles may be, for example, ZnS, ZnO, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, CaS, SrS, SrSe, or BaS, but is not limited thereto.

상기 발광 입자의 평균 입경은 특별히 한정되지는 않으나, 바람직하게는 부피 기준에 의한 50 % 평균 입경이 0.2 ㎛ 내지 2.0 ㎛ 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 0.3 ㎛ 내지 0.7 ㎛ 일 수 있다. 상기 발광 입자의 평균 입경이 2.0 ㎛ 를 초과하는 경우 박형화가 어려울 수 있으며, 구동 전압이 높아질 수 있다는 문제점이 있으며, 상기 발광 입자의 평균 입경이 0.3 ㎛ 미만인 경우 발광 휘도가 낮아질 수 있다는 문제점이 있다. 여기서, 부피 기준에 따른 50 % 평균 입경(이하 「평균 입경」이라 하는 경우가 있음)이란, 레이저 도플러법에 의해 측정되는 부피 기준 입도 분포의 메디안 직경(D50)이며, 예를 들면 나노트랙 UPA-EX250(니키소사 제조, 상품명, 레이저 도플러 방식 입도 분포 측정 장치)을 이용하여 측정할 수 있다.The average particle diameter of the light-emitting particles is not particularly limited, but preferably, the 50% average particle diameter on a volume basis may be 0.2 µm to 2.0 µm, more preferably 0.3 µm to 0.7 µm. When the average particle diameter of the light-emitting particles exceeds 2.0 µm, it may be difficult to reduce the thickness, and there is a problem that the driving voltage may be increased, and when the average particle diameter of the light-emitting particles is less than 0.3 µm, there is a problem that the luminance may be lowered. Here, the 50% average particle diameter according to the volume basis (hereinafter sometimes referred to as ``average particle diameter'') is the median diameter (D50) of the volume-based particle size distribution measured by the laser Doppler method, for example, Nanotrack UPA- It can be measured using EX250 (manufactured by Nikiso Corporation, brand name, laser Doppler method particle size distribution measuring device).

상기 발광 입자는 발광중심 형성원소를 포함할 수 있다.The light-emitting particles may include a light-emitting center forming element.

상기 발광중심 형성원소는 전이금속 및 희토류 금속 원소들로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며, 예를 들어, Mn, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os, Ir, Pt, Au일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들 금속 원소들은 단독으로 포함될 수도 있고, 그 2종 이상의 조합으로 포함될 수도 있다.The emission center forming element may be one or more selected from the group consisting of transition metals and rare earth metal elements, for example, Mn, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os, Ir , Pt, Au may be, but is not limited thereto. These metal elements may be included alone, or may be included in a combination of two or more.

상기 발광중심 형성원소는 상기 발광 입자에서 발광중심을 형성할 수 있으며, 이러한 방법에 특별한 한정은 없다. 예를 들면, 원소들은 소성을 통한 그레인 형성 시에 금속염들의 형태로 혼입될 수도 있고, 또는 소성 조건하에서 그 용융, 승화 또는 반응이 가능하다면, 원소들은 화합물 결정들의 형태로 혼입될 수도 있다. 상기 화합물 1의 무기화합물 결정들에 혼입되는 부분들 이외에, 결정 표면상으로의 석출 부분 및 결정 표면으로의 흡착 부분에서, 금속들은 에칭, 세정 등에 의해 제거되는 것이 바람직하다. 금속염으로서, 산화물들, 황화물들, 황산염들, 옥살산염들, 할로겐화물들, 질산염들 및 질화물들을 포함하는 화합물들 중 임의의 것이 채용될 수도 있다. 이들 염들 중에서도, 산화물들, 황화물들 및 할로겐화물들이 더 바람직하다. 이들 염들은 단독으로 사용될 수도 있고, 또는 그 2종 이상의 조합으로서 사용될 수도 있다.The light emitting center forming element may form a light emitting center in the light emitting particles, and there is no particular limitation on this method. For example, elements may be incorporated in the form of metal salts during grain formation through firing, or if melting, sublimation or reaction is possible under firing conditions, elements may be incorporated in the form of compound crystals. In addition to the portions to be incorporated into the inorganic compound crystals of the compound 1, the metals are preferably removed by etching, cleaning, or the like, in the precipitated portion on the crystal surface and the adsorbed portion on the crystal surface. As the metal salt, any of compounds including oxides, sulfides, sulfates, oxalates, halides, nitrates and nitrides may be employed. Among these salts, oxides, sulfides and halides are more preferred. These salts may be used alone or as a combination of two or more thereof.

상기 발광중심 형성원소의 양은 상기 화학식 1의 무기화합물의 1 몰에 대하여 1×10-7 내지 1×10-1 몰이 바람직하고, 1×10-5 내지 1×10-2 몰이 더 바람직하다.The amount of the light-emitting center forming element is preferably 1×10 -7 to 1×10 -1 mol, and more preferably 1×10 -5 to 1×10 -2 mol with respect to 1 mol of the inorganic compound of Formula 1.

상기 발광 입자의 제조방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면 소정의 금속을 함유하는 유기 착체를 열에 의해 분해하여 산화물계 발광 입자를 제조하는 착체 열 분해법; 발광 입자를 구성하는 원소를 포함한 연료의 역할을 하는 화합물과 산화제의 역할을 하는 화합물을 출발 원료로 하여, 고온의 자기전파 반응을 이용하여 발광 입자를 제조하는 연소 합성법; 금속염을 포함하는 용액을 미소 액적으로 만든 후에 열 처리함으로써 발광 입자를 제조하는 분무 열 분해법; 소정의 분말 원료를 혼합한 후에 열 처리함으로써 발광 입자를 제조하는 고상 반응법 등에 의해 수행될 수 있다. 또한, 공침법, 졸-겔법, 수열 합성법 등의 액상 합성법; 증발 응축(PVD)법, 기상 반응 석출(CVD)법 등의 기상 합성법 등에 의해 수행될 수 있다..The method of manufacturing the light-emitting particles is not particularly limited, for example, a complex thermal decomposition method in which an organic complex containing a predetermined metal is decomposed by heat to produce oxide-based light-emitting particles; Combustion synthesis method in which light-emitting particles are produced by using a high-temperature self-propagation reaction using a compound serving as a fuel including an element constituting the light-emitting particles and a compound serving as an oxidizing agent as starting materials; Spray thermal decomposition method in which a solution containing a metal salt is made into microscopic droplets and then subjected to heat treatment to produce light-emitting particles; It can be carried out by a solid-phase reaction method or the like in which a predetermined powder raw material is mixed and then subjected to heat treatment to produce light emitting particles. Further, liquid synthesis methods such as coprecipitation method, sol-gel method, and hydrothermal synthesis method; It can be carried out by a gas phase synthesis method such as evaporation condensation (PVD) method, vapor phase reaction precipitation (CVD) method, or the like.

뿐만 아니라, 분쇄 공정을 더 거침으로써 발광 입자를 제조하는 것이 높은 발광 휘도를 얻을 수 있다는 점에서 바람직하다. 상기 분쇄 공정은 습식 분쇄일 수도 건식 분쇄일 수도 있지만, 습식 분쇄인 것이, 분쇄와 동시에 용제 등에 분산시킬 수 있기 때문에 공정 단축의 관점에서 바람직하다. 습식 분쇄의 경우, 원료 분말에 용제를 혼합하여 습식 분쇄를 행할 수도 있고, 원료 분말에 용제 및 수지 성분을 혼합하여 습식 분쇄를 행할 수도 있으며, 분쇄 조제를 이용할 수도 있다.In addition, it is preferable to produce light-emitting particles by further passing through a pulverization process in that high light-emitting luminance can be obtained. The pulverization step may be wet pulverization or dry pulverization, but wet pulverization is preferable from the viewpoint of shortening the process because it can be dispersed in a solvent or the like simultaneously with pulverization. In the case of wet grinding, a solvent may be mixed with the raw material powder to perform wet grinding, or a solvent and a resin component may be mixed with the raw material powder to perform wet grinding, or a grinding aid may be used.

다음으로, 본 발명의 다른 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자 제조방법은 상기 발광 입자 표면을 금속으로 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다.Next, a method of manufacturing an inorganic electroluminescent device provided in another aspect of the present invention includes forming a coating layer by coating the surface of the light emitting particles with a metal.

상기 단계는 상기 금속을 포함하는 코팅 용액을 준비하는 단계, 상기 코팅 용액을 가열하는 단계, 상기 발광 입자를 상기 코팅 용액에 첨가하는 단계를 거쳐 수행될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The step may be performed by preparing a coating solution containing the metal, heating the coating solution, and adding the light-emitting particles to the coating solution, but is not limited thereto.

상기 금속은 구리(Cu)일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The metal may be copper (Cu), but is not limited thereto.

다음으로, 본 발명의 다른 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자 제조방법은 상기 코팅층이 형성된 발광 입자를 포함하는 발광층이 애노드 전극 및 캐소드 전극 사이에 위치하는 발광소자를 제조하는 단계를 포함한다.Next, a method for manufacturing an inorganic EL device provided in another aspect of the present invention includes manufacturing a light emitting device in which a light emitting layer including light emitting particles on which the coating layer is formed is positioned between an anode electrode and a cathode electrode.

상기 코팅층이 형성된 발광 입자는 바인더와 혼합될 수 있다. 상기 바인더는 고유전율을 갖는 것이 바람직하며, 예를 들어, 시아노에틸 셀룰로오스 수지 등의 시아노화 셀룰로오스 수지, 시아노에틸 플루란(cyanoethyl pullulan) 수지 등을 포함하는 시아노화 플루란 수지, 불화 비닐리덴 고무, 불화 비닐리덴계 공중합체 고무 수지 또는 시아노화 폴리비닐알콜 등일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The light-emitting particles on which the coating layer is formed may be mixed with a binder. The binder preferably has a high dielectric constant, and for example, a cyanoethyl cellulose resin such as a cyanoethyl cellulose resin, a cyanoethyl fluran resin including a cyanoethyl pullulan resin, and vinylidene fluoride It may be rubber, vinylidene fluoride-based copolymer rubber resin, or cyanoated polyvinyl alcohol, but is not limited thereto.

상기 발광 입자와 바인더의 혼합비는 질량비를 기준으로 1:1 내지 1:7 인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:1 내지 1:5 일 수 있다.The mixing ratio of the light emitting particles and the binder is preferably 1:1 to 1:7 based on the mass ratio, and more preferably 1:1 to 1:5.

상기 애노드 전극 및 캐소드 전극은 빛을 외부로 방출하기 위해서 두 전극 중 적어도 어느 일방을 투명하게 할 필요가 있다.The anode electrode and the cathode electrode need to make at least one of the two electrodes transparent in order to emit light to the outside.

상기 애노드 전극 및 캐소드 전극 중 일방의 투명전극은 그 재료로서, ITO, ZnO, AZO, TiO2, SnO2, In2O3, ZnSnO3, AgInO2, Zn2In2O5, Zn2Ga2O4 등의 재료를 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니며, 일반적으로 사용하는 투명전극을 사용할 수 있다.One transparent electrode among the anode and cathode electrodes is a material thereof, and is ITO, ZnO, AZO, TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnSnO 3 , AgInO 2 , Zn 2 In 2 O 5 , Zn 2 Ga 2 Materials such as O 4 may be used, but are not limited thereto, and a generally used transparent electrode may be used.

상기 애노드 전극 및 캐소드 전극 중 다른 일방의 전극은 그 재료로서, Al, Au, Cu, Ag, Ni, Pt 등의 금속을 사용할 수 있으며, 무기 전계 발광소자 전체를 투명하게 할 경우에는 상기 다른 일방의 전극의 재료로 ITO, ZnO, AZO, TiO2, SnO2, In2O3, ZnSnO3, AgInO2, Zn2In2O5, Zn2Ga2O4 등의 재료를 사용한 투명전극일 수도 있다. 또한, 고 콘트라스트(High Contrast)의 소자일 경우에는 Mo, Ta, Ti 등의 산화물을 증착하여 상기 다른 일방의 전극으로 흑색의 전극을 사용할 수도 있다.As the material of the other electrode among the anode and cathode electrodes, metals such as Al, Au, Cu, Ag, Ni, and Pt may be used. When the entire inorganic electroluminescent device is made transparent, the other one The electrode material may be a transparent electrode using a material such as ITO, ZnO, AZO, TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnSnO 3 , AgInO 2 , Zn 2 In 2 O 5 , Zn 2 Ga 2 O 4 . In addition, in the case of a high-contrast device, an oxide such as Mo, Ta, or Ti may be deposited to use a black electrode as the other electrode.

상기 단계에서 상기 발광층은 상기 발광 입자를 일방의 전극 상부에 형성될 수 있으며, 예를 들어, 스핀 코팅 또는 스크린 프린팅 등에 의하여 수행될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니고, 당업계에서 사용하는 통상적인 방법에 의하여 수행될 수 있다.In the above step, the light-emitting layer may be formed on one electrode of the light-emitting particles, and may be performed by, for example, spin coating or screen printing, but is not limited thereto, and is not limited to a conventional method used in the art. Can be done by

또한, 상기 발광층의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 10 nm 내지 100 ㎛ 일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 100 ㎛를 초과하는 경우 구동 전압이 높아질 수 있다는 문제점이 있으며, 10 nm 미만인 경우 절연 파괴가 발생할 수 있다는 문제점이 있다.In addition, the thickness of the emission layer is not particularly limited, but may preferably be 10 nm to 100 μm. When the thickness of the light emitting layer exceeds 100 μm, there is a problem that the driving voltage may increase, and when the thickness of the emission layer is less than 10 nm, there is a problem that insulation breakdown may occur.

또한, 상기 단계는 상기 애노드 전극 및 발광층 사이에 정공주입층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the step may further include forming a hole injection layer between the anode electrode and the light emitting layer.

상기 정공주입층은 예를 들어, PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophere poly(styrene sulfonate), PVK(poly(N-vinylcarbazole), TFB(poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'(N-(4-secbutylphenyl))diphenylamine)), a-NPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'biphenyl-4,4'-diamine), 또는 TPD(N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'-Bis-phenyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine 등일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The hole injection layer is, for example, PEDOT:PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiophere poly(styrene sulfonate)), PVK (poly(N-vinylcarbazole)), TFB (poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl )-co-(4,4'(N-(4-secbutylphenyl))diphenylamine)), a-NPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'biphenyl -4,4'-diamine), or TPD(N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'-Bis-phenyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine, etc. However, it is not limited thereto.

상기 정공주입층이 형성됨으로써 정공이 더욱 쉽게 양극으로부터 발광 입자로 흐를 수 있으며, 또한 추가적인 에너지 장벽을 형성하면서 상기 발광 입자에서의 캐리어 유출을 막을 수 있다.Since the hole injection layer is formed, holes can more easily flow from the anode to the light emitting particles, and it is possible to prevent the outflow of carriers from the light emitting particles while forming an additional energy barrier.

상기 단계는 예를 들어, 스핀 코팅 또는 스크린 프린팅 등에 의하여 수행될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니고, 당업계에서 사용하는 통상적인 방법에 의하여 수행될 수 있다.The above step may be performed by, for example, spin coating or screen printing, but is not limited thereto, and may be performed by a conventional method used in the art.

다음으로, 본 발명의 다른 측면에서 제공되는 무기 전계 발광소자 제조방법은 상기 발광소자에 전압을 인가하여 상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 2의 무기화합물을 형성하고, 상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 3의 무기화합물을 형성하는 단계를 포함한다.Next, in the method for manufacturing an inorganic electroluminescent device provided in another aspect of the present invention, an inorganic compound of Formula 2 is formed on at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode among the coating layers by applying a voltage to the light emitting device, and the And forming an inorganic compound of Formula 3 below on at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers.

<화학식 2><Formula 2>

M2 (1+X)AM 2 (1+X) A

<화학식 3><Formula 3>

M2 (2-X)AM 2 (2-X) A

상기 M2는 금속 원소이고, 상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이며, 상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다.M 2 is a metal element, A is at least one element selected from the group consisting of a chalcogen element, and x is 0≦x<0.5.

상기 단계에서 전압 인가 시, 애노드 측이 양극, 캐소드 쪽이 음극이 되도록 전압을 가함으로써 상기 코팅층 내의 금속 이온이 애노드 측에서 캐소드 쪽으로 이동할 수 있다. 그 결과, 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부에는 상기 화학식 2의 무기화합물을 형성하게 되고, 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부에는 하기 화학식 3의 무기화합물을 형성하게 된다.When voltage is applied in the above step, metal ions in the coating layer may move from the anode side to the cathode by applying a voltage such that the anode side becomes the anode and the cathode side becomes the cathode. As a result, the inorganic compound of Formula 2 is formed on at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode, and the inorganic compound of Formula 3 is formed on at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode.

상기 인가되는 전압은 0.1 V 내지 1000 V 임이 바람직하며, 0.5 V 내지 500 V 임이 더 바람직하며, 1 V 내지 200 V 임이 더 바람직하다. 상기 인가 전압이 1000 V 를 초과하는 경우, 구동 전압이 커질 수 있다는 문제점이 있고, 상기 인가 전압이 0.1 V 미만인 경우, 상기 금속 이온의 캐소드 측으로의 이동이 충분하지 않을 수 있다는 문제점이 있다.The applied voltage is preferably 0.1 V to 1000 V, more preferably 0.5 V to 500 V, and more preferably 1 V to 200 V. When the applied voltage exceeds 1000 V, there is a problem that the driving voltage may increase, and when the applied voltage is less than 0.1 V, there is a problem that movement of the metal ions to the cathode side may not be sufficient.

또한, 상기 단계에서 전압 인가는 열을 가해주면서 동시에 수행될 수 있다.Further, in the above step, voltage application may be performed simultaneously while applying heat.

예를 들어, 핫플레이트 상에서 전압을 인가할 수 있으나, 가열 방법은 이에 제한되는 것은 아니다.For example, a voltage may be applied on the hot plate, but the heating method is not limited thereto.

이와 같이 열을 가해주면서 전압을 인가하는 경우, 금속 이온의 이동이 더 활발해질 수 있다.When a voltage is applied while applying heat as described above, the movement of metal ions may become more active.

상기 단계에서 전압 인가를 통하여 상기 화학식 2의 무기화합물로 p형 반도체가 형성되며, 상기 화학식 3의 무기화합물로 n형 반도체가 형성됨이 바람직하다. 상기 화학식 2의 무기화합물은 상기 발광 입자로 정공을 전달할 수 있으며, 상기 화학식 3의 무기화합물은 상기 발광 입자로 전자를 전달할 수 있다. 이에 따라, 발광 입자에서 정공 및 전자는 결합하여 빛을 방출할 수 있다.It is preferable that a p-type semiconductor is formed from the inorganic compound of Formula 2 through the application of voltage in the above step, and an n-type semiconductor is formed of the inorganic compound of Formula 3 above. The inorganic compound of Formula 2 may transfer holes to the light-emitting particles, and the inorganic compound of Formula 3 may transfer electrons to the light-emitting particles. Accordingly, in the light emitting particle, holes and electrons may combine to emit light.

상기 단계에서 전압 인가를 통하여 상기 화학식 2의 무기화합물의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값이 상기 발광 입자의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값보다 큼이 바람직하다. 상기 화학식 2의 무기화합물의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값이 상기 발광 입자의 값보다 큰 경우, 상기 화학식 2의 무기화합물과 상기 발광입자 사이에 에너지 장벽이 형성될 수 있으며, 그 결과, 상기 화학식 3의 무기화합물에 의하여 상기 발광 입자로 전달된 전자는 애노드 전극 쪽으로 유출되지 않고 상기 발광 입자에서 정공과 결합할 수 있다.It is preferable that the minimum energy value of the conduction band of the inorganic compound of Formula 2 is greater than the minimum energy value of the conduction band of the light-emitting particles through voltage application in the step. When the minimum energy value of the conduction band of the inorganic compound of Formula 2 is greater than the value of the light emitting particle, an energy barrier may be formed between the inorganic compound of Formula 2 and the light emitting particle, and as a result, the The electrons transferred to the light-emitting particles by the inorganic compound of Formula 3 do not flow toward the anode electrode and may bind with holes in the light-emitting particles.

이하, 제조예, 실시예 및 실험예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through Preparation Examples, Examples and Experimental Examples. The scope of the present invention is not limited to specific embodiments, and should be interpreted by the appended claims. In addition, those who have acquired ordinary knowledge in this technical field should understand that many modifications and variations can be made without departing from the scope of the present invention.

<제조예 1> PVK를 포함하지 않는 무기 전계 발광소자<Preparation Example 1> Inorganic electroluminescent device not containing PVK

ZnS 분말에 Mn 이온(4 wt%)을 첨가하여 발광 중심을 황색 파장 영역으로 이동시켰다. 또한, 2차 열처리를 통하여 ZnS의 구조를 우르자이트(wurtzite)에서 스팰러라이트(sphalerite)로 변형시켰다.Mn ions (4 wt%) were added to the ZnS powder to move the emission center to the yellow wavelength region. In addition, the structure of ZnS was transformed from wurtzite to sphalerite through secondary heat treatment.

다음으로, 아세트산 구리를 탈 이온수와 혼합하여 코팅 용액을 제조한 다음, 100℃에서 가열하여 아세트산 구리를 활성화 시킨다. 그 후, ZnS:Mn 분말을 용액에 첨가하여 반응시켜 ZnS:Mn 표면에 Cu를 코팅시킨다. 이와 같이 Cu 코팅된 ZnS:Mn 분말을 5%의 에틸 셀룰로오스(ethyl cellulose) 바인더와 2:1의 비율로 혼합하여 페이스트를 제조하였다.Next, copper acetate is mixed with deionized water to prepare a coating solution, and then heated at 100°C to activate copper acetate. Thereafter, ZnS:Mn powder is added to the solution and reacted to coat Cu on the ZnS:Mn surface. Thus, Cu-coated ZnS:Mn powder was mixed with 5% ethyl cellulose binder in a ratio of 2:1 to prepare a paste.

다음으로 ITO 코팅 유리 기판 상에 상기 페이스트를 스크린 프린팅에 의해 20 ㎛ 두께로 코팅하여 발광층을 형성하였으며, 그 위에 Al 전극을 증착함으로써 무기 전계 발광소자를 제조하였다.Next, the paste was coated on an ITO-coated glass substrate to a thickness of 20 μm by screen printing to form a light emitting layer, and an Al electrode was deposited thereon to manufacture an inorganic electroluminescent device.

<제조예 2> PVK를 포함하는 무기 전계 발광소자<Production Example 2> Inorganic electroluminescent device containing PVK

제조예 1과 동일하게 발광소자를 제조하되, ITO 전극 상에 폴리-N-비닐 카르바졸(PVK, Mn : 25000-50000) 층을 형성하였다. 상기 PVK 용액은 0.3 g의 PVK를 10 ml의 톨루엔에 용해시켜 제조하였으며, 이 용액을 기판에 떨어뜨린 후 500 rpm에서 5초, 2000 rpm에서 15초간 스핀 코팅한 후 대류 오븐에서 10분 동안 80℃에서 건조시켜 800 nm 두께의 PVK 막을 ITO 상에 형성하였다. 이러한 PVK 막 위에 제조예 1과 같이 발광층을 형성하였으며, 그 위에 Al 전극을 증착함으로써 무기 전계 발광소자를 제조하였다.A light emitting device was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, but a poly-N-vinyl carbazole (PVK, Mn: 25000-50000) layer was formed on the ITO electrode. The PVK solution was prepared by dissolving 0.3 g of PVK in 10 ml of toluene, and after dropping the solution on a substrate, spin-coating at 500 rpm for 5 seconds and 2000 rpm for 15 seconds, and then at 80°C for 10 minutes in a convection oven Dried at the 800 nm thick PVK film was formed on the ITO. A light emitting layer was formed on the PVK film as in Preparation Example 1, and an Al electrode was deposited thereon to manufacture an inorganic EL device.

<실시예 1> 10 V의 형성 전압 인가<Example 1> Application of a formation voltage of 10 V

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 10 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A forming voltage of 10 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 2> 20 V의 형성 전압 인가<Example 2> Application of a formation voltage of 20 V

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 20 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A forming voltage of 20 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 3> 30 V의 형성 전압 인가<Example 3> Application of a formation voltage of 30 V

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 30 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A forming voltage of 30 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 4> 70 V의 형성 전압 인가<Example 4> Application of a formation voltage of 70 V

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 70 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A formation voltage of 70 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 5> 90 V의 형성 전압 인가<Example 5> Application of the formation voltage of 90 V

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 90 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A forming voltage of 90 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 6> 110 V의 형성 전압 인가<Example 6> Application of 110 V formation voltage

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 110 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A forming voltage of 110 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 7> 130 V의 형성 전압 인가<Example 7> Application of a forming voltage of 130 V

상기 제조예 1의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 130 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 2와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 3과 같다.A forming voltage of 130 V was applied for 10 minutes by connecting the anode to the anode side and the cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 1 above. The structure of this type of light emitting device is shown in FIG. 2, and its band diagram is shown in FIG.

<실시예 8> PVK를 포함하는 무기 전계 발광소자에 10 V의 형성 전압 인가<Example 8> Application of a formation voltage of 10 V to an inorganic electroluminescent device including PVK

상기 제조예 2의 무기 전계 발광소자의 애노드 측에 양극, 캐소드 측에 음극을 연결하여 10분 동안 10 V의 형성 전압을 가한다. 이러한 형태의 발광소자의 구조는 도 4와 같으며, 그 밴드 다이어그램은 도 5과 같다.A forming voltage of 10 V was applied for 10 minutes by connecting an anode to the anode side and a cathode to the cathode side of the inorganic electroluminescent device of Preparation Example 2 above. The structure of this type of light emitting device is as shown in FIG. 4 and the band diagram is as in FIG. 5.

<실험예 1><Experimental Example 1>

상기 실시예 1 내지 실시예 3에 대하여 구동 전압에 따른 발광 휘도를 측정하여 이를 도 10에 나타내었다.In Examples 1 to 3, the emission luminance according to the driving voltage was measured and shown in FIG. 10.

도 10에서 확인할 수 있는 것과 같이 형성 전압이 작을 수록 그래프가 left-shift 된다. 이는 도 11에서 확인할 수 있는 것과 같이 형성 전압이 작을 수록 문턱 전압이 작아짐을 의미하며, 즉 구동 전압이 낮아질 수 있는 것을 의미한다. 또한, 동일한 구동 전압을 기준으로 형성 전압이 낮을 수록 발광 휘도가 높아지는 것을 확인할 수 있다.As can be seen in FIG. 10, as the formation voltage decreases, the graph is left-shifted. As can be seen in FIG. 11, this means that the smaller the formation voltage is, the smaller the threshold voltage is, that is, the driving voltage can be lowered. In addition, it can be seen that the lower the formation voltage based on the same driving voltage, the higher the emission luminance.

<실험예 2><Experimental Example 2>

상기 실시예 4 내지 실시예 7에 대하여 구동 전압에 따른 발광 휘도를 측정하여 이를 도 12에 나타내었다.In Examples 4 to 7, the emission luminance according to the driving voltage was measured and shown in FIG. 12.

도 12에서 확인할 수 있는 것과 같이, 상기 실험예 1과 마찬가지로, 형성 전압이 작을 수록 그래프가 left-shift 됨을 확인할 수 있다. 이는 상술한 바와 같이 형성 전압이 낮을 수록 문턱 전압이 작아지며(도 13), 발광 휘도가 높아진다는 것을 의미한다.As can be seen in FIG. 12, as in Experimental Example 1, it can be seen that the lower the formation voltage, the left-shifted the graph. This means that as described above, the lower the formation voltage is, the smaller the threshold voltage (FIG. 13) and the higher the emission luminance.

또한, 실험예 2는 실험예 1 보다 높은 형성 전압에 의해 제조되었으므로, 문턱전압이 실험예 1의 경우가 더 낮으며, 동일한 구동 전압에서 비교할 때, 발광 휘도 측면에서 실험예 1이 실험예 2보다 더 우수함을 도 12와 도 10을 비교할 경우 확인할 수 있다.In addition, since Experimental Example 2 was manufactured with a higher formation voltage than that of Experimental Example 1, the threshold voltage was lower in the case of Experimental Example 1, and when compared at the same driving voltage, Experimental Example 1 was compared to Experimental Example 2 in terms of light emission luminance. It can be seen that it is more excellent when comparing FIGS. 12 and 10.

실험예 1 및 실험예 2를 통하여 확인할 수 있는 현상은 Cu 이온의 물질 이동에 의한 것인데, 형성 전압이 가하여지지 않은 경우, 도 8과 같이 ZnS을 중심으로 대칭 에너지 밴드 구조를 형성한다.The phenomena that can be confirmed through Experimental Examples 1 and 2 are caused by mass transfer of Cu ions, and when a formation voltage is not applied, a symmetric energy band structure is formed around ZnS as shown in FIG. 8.

그러나, 순방향의 전압이 가하여지면, 애노드 측 코팅층의 에너지 밴드는 낮아지며, 캐소드 측 코팅층의 에너지 밴드는 높아지게 된다. 그에 따라, 특정 전압에 도달하면 애노드 측 코팅층의 전도대의 최소 에너지값(Conduction Band Minimum, CBM)은 ZnS의 CBM 보다 낮아지게 되고, 그 결과 캐소드 측에서 주입된 전자가 발광층에서 정공과 결합하지 않고 애노드 측으로 유출되게 된다.However, when a forward voltage is applied, the energy band of the coating layer on the anode side decreases and the energy band of the coating layer on the cathode side increases. Accordingly, when a certain voltage is reached, the conduction band minimum (CBM) of the coating layer on the anode side becomes lower than the CBM of ZnS. Will flow out to the side.

반면, 소자에 고전압을 인가하는 경우, Cu의 물질 이동이 일어날 수 있다.On the other hand, when a high voltage is applied to the device, material transfer of Cu may occur.

도 6에서 확인할 수 있는 것과 같이 Cu는 S와 결합하여, CuS, Cu1.96S, Cu1.75S 및 Cu2S를 비롯한 다양한 금속화합물을 형성한다. 이러한 금속화합물의 밴드갭 에너지(Eg)는 예를 들어, Cu2S는 1.2 eV, Cu1.96S는 1.35 eV, Cu1.8S는 1.75 eV, Cu1.75S는 2.11 eV, CuS는 2.2 eV 일 수 있다. 이는 도 7에서 확인할 수 있다.As can be seen in FIG. 6, Cu combines with S to form various metal compounds including CuS, Cu 1.96 S, Cu 1.75 S, and Cu 2 S. The band gap energy (E g ) of these metal compounds can be, for example, 1.2 eV for Cu 2 S, 1.35 eV for Cu 1.96 S, 1.75 eV for Cu 1.8 S, 2.11 eV for Cu 1.75 S, and 2.2 eV for CuS. have. This can be seen in FIG. 7.

즉, 전압 인가에 의하여 Cu 이온의 물질 이동은 양 전극에서 Cu2-xS의 조성 불균형을 유도한다. 이것은 양극에서 Cu2-xS의 에너지 장벽의 변화를 일으킨다. 애노드 측의 Cu2-xS가 CuS로 바뀌면 CBM은 -3.6 eV에서 -1.94 eV로 증가하고, CuS는 전자가 ZnS 층을 넘어 애노드 전극으로 이동하는 것을 막는 에너지 장벽이 될 수 있다. 이러한 점은 도 9에서 확인할 수 있다.That is, mass transfer of Cu ions by voltage application induces composition imbalance of Cu 2-x S at both electrodes. This causes a change in the energy barrier of Cu 2-x S at the anode. When Cu 2-x S on the anode side is changed to CuS, CBM increases from -3.6 eV to -1.94 eV, and CuS can become an energy barrier that prevents electrons from moving to the anode electrode beyond the ZnS layer. This can be seen in FIG. 9.

따라서, 실시예 1 내지 실시예 7은 모두 Cu의 물질 이동으로 인하여, 전자의 애노드 전극 측으로 전자의 유출을 방지할 수 있는 에너지 장벽이 형성되었고, 이에 따라 우수한 발광 특성을 갖는다는 것을 확인할 수 있다.Accordingly, it can be seen that all of Examples 1 to 7 formed an energy barrier capable of preventing the leakage of electrons toward the anode electrode due to the material transfer of Cu, and thus had excellent light emission characteristics.

또한, 일정 이상의 전압을 인가함으로써 에너지 장벽이 형성된 이상, 형성 전압이 작을 수록 발광층으로의 캐리어 이동이 쉽기 때문에 낮은 문턱 전압 및 우수한 발광 효율을 보인다는 것을 도 10 내지 도 13을 통하여 확인할 수 있다.In addition, it can be seen from FIGS. 10 to 13 that the energy barrier is formed by applying a voltage higher than a certain level and that the lower the formation voltage is, the easier the carrier moves to the emission layer, and thus shows a low threshold voltage and excellent luminous efficiency.

<실험예 3><Experimental Example 3>

실시예 1 및 실시예 8에 대하여 구동 전압에 따른 발광 휘도를 측정하였고, 그 결과를 도 14에 나타내었다.In Example 1 and Example 8, the emission luminance according to the driving voltage was measured, and the results are shown in FIG. 14.

PVK 층이 존재하는 실시예 8의 경우가 실시예 1의 경우보다 더 높은 발광휘도를 갖는다는 것을 확인할 수 있다. 이는 PVK와 같이 낮은 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital) 에너지 값을 갖는 물질층을 애노드와 코팅층 사이에 삽입함으로써 발광층에 쉽게 홀을 공급할 수 있다. PVK의 경우 약 -5.6 eV의 HOMO 값을 갖는다.It can be seen that the case of Example 8 in which the PVK layer is present has a higher luminance than that of Example 1. This makes it possible to easily supply holes in the light emitting layer by inserting a material layer having a low HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) energy value such as PVK between the anode and the coating layer. PVK has a HOMO value of about -5.6 eV.

그 결과, 도 14로 확인할 때, 2.7 V/㎛의 구동 전압을 기준으로 할 때, 발광 휘도는 0.49 에서 0.63으로 약 29% 향상됨을 알 수 있다.As a result, it can be seen from FIG. 14 that the emission luminance is improved by about 29% from 0.49 to 0.63 based on a driving voltage of 2.7 V/µm.

10 애노드 전극
20 발광층
21 애노드 전극 인접 코팅층
22 발광 입자
23 캐소드 전극 인접 코팅층
30 캐소드 전극
40 정공주입층
100 무기 전계 발광소자
10 anode electrode
20 emitting layer
21 Coating layer adjacent to anode electrode
22 Luminous Particles
23 Coating layer adjacent to cathode electrode
30 cathode electrode
40 hole injection layer
100 inorganic electroluminescent devices

Claims (13)

애노드 전극;
상기 애노드 전극 상부에 형성되고, 하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자 및 상기 발광 입자 표면에 코팅되는 코팅층을 포함하는 발광층; 및
상기 발광층 상부에 형성된 캐소드 전극;을 포함하고,
상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 2의 무기화합물을 포함하며,
상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분은 하기 화학식 3의 무기화합물을 포함하는 무기 전계 발광소자:
<화학식 1>
M1A
<화학식 2>
M2 (1+x)A
<화학식 3>
M2 (2-x)A
(상기 화학식 1 내지 3에 있어서,
상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고,
상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이고,
상기 M2는 금속 원소이고,
상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다).
Anode electrode;
A light-emitting layer formed on the anode electrode and including light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following Formula 1, and a coating layer coated on the surface of the light-emitting particles; And
Includes; a cathode electrode formed on the emission layer,
At least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer contains an inorganic compound of the following formula (2),
At least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers comprises an inorganic compound represented by the following formula (3):
<Formula 1>
M 1 A
<Formula 2>
M 2 (1+x) A
<Formula 3>
M 2 (2-x) A
(In the formulas 1 to 3,
M 1 is a Group 2 or 12 element,
Wherein A is at least one element selected from the group consisting of chalcogen elements,
M 2 is a metal element,
Where x is 0≦x<0.5).
제1항에 있어서,
상기 발광 입자는 ZnS, ZnO, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, CaS, SrS, SrSe 및 BaS로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 1,
The light emitting particle is an inorganic electroluminescent device, characterized in that at least one selected from the group consisting of ZnS, ZnO, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, CaS, SrS, SrSe and BaS.
제1항에 있어서,
상기 발광 입자는 발광중심 형성원소를 포함하며,
상기 발광중심 형성원소는 전이금속 및 희토류 금속 원소들로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 1,
The light-emitting particles include a light-emitting center forming element,
The light emitting center forming element is an inorganic electroluminescent device, characterized in that at least one selected from the group consisting of transition metals and rare earth metal elements.
제1항에 있어서,
상기 M2는 구리(Cu)인 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 1,
The M 2 is an inorganic electroluminescent device, characterized in that copper (Cu).
제1항에 있어서,
상기 애노드 전극과 상기 발광층 사이에 정공주입층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 1,
An inorganic electroluminescent device further comprising a hole injection layer between the anode electrode and the emission layer.
제5항에 있어서,
상기 정공주입층은 PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophere poly(styrene sulfonate), PVK(poly(N-vinylcarbazole), TFB(poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'(N-(4-secbutylphenyl))diphenylamine)), a-NPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'biphenyl-4,4'-diamine), 및 TPD(N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'-Bis-phenyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine 로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 5,
The hole injection layer is PEDOT:PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiophere poly(styrene sulfonate)), PVK (poly(N-vinylcarbazole)), TFB (poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co- (4,4'(N-(4-secbutylphenyl))diphenylamine)), a-NPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'biphenyl-4,4 '-diamine), and TPD(N,N'-Bis-(3-methylphenyl)-N,N'-Bis-phenyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine selected from the group consisting of Inorganic electroluminescent device, characterized in that at least one type.
제1항에 있어서,
상기 화학식 2의 무기화합물은 p형 반도체이고, 상기 화학식 3의 무기화합물은 n형 반도체인 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 1,
The inorganic compound of Formula 2 is a p-type semiconductor, and the inorganic compound of Formula 3 is an n-type semiconductor.
제1항에 있어서,
상기 화학식 2의 무기화합물의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값은, 상기 발광 입자의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값보다 큰 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자.
The method of claim 1,
The inorganic electroluminescent device, characterized in that the minimum energy value of the conduction band of the inorganic compound of Formula 2 is greater than the minimum energy value of the conduction band of the light emitting particles.
하기 화학식 1로 표시되는 무기화합물인 발광 입자를 준비하는 단계;
상기 발광 입자 표면을 금속으로 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;
상기 코팅층이 형성된 발광 입자를 포함하는 발광층이 애노드 전극 및 캐소드 전극 사이에 위치하는 발광소자를 제조하는 단계;
상기 발광소자에 전압을 인가하여 상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 2의 무기화합물을 형성하고,
상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 3의 무기화합물을 형성하는 단계;
를 포함하는 무기 전계 발광소자 제조방법:
<화학식 1>
M1A
<화학식 2>
M2 (1+X)A
<화학식 3>
M2 (2-X)A
(상기 화학식 1 내지 3에 있어서,
상기 M1은 2족 또는 12족 원소이고,
상기 A는 칼코겐 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소이고,
상기 M2는 금속 원소이고,
상기 x는 0 ≤ x < 0.5 이다).
Preparing light-emitting particles, which are inorganic compounds represented by the following Chemical Formula 1;
Forming a coating layer by coating the surface of the light emitting particles with a metal;
Manufacturing a light emitting device in which a light emitting layer including light emitting particles on which the coating layer is formed is positioned between an anode electrode and a cathode electrode;
Applying a voltage to the light emitting device to form an inorganic compound of the following formula (2) on at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer,
Forming an inorganic compound represented by the following Formula 3 on at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers;
Inorganic electroluminescent device manufacturing method comprising:
<Formula 1>
M 1 A
<Formula 2>
M 2 (1+X) A
<Formula 3>
M 2 (2-X) A
(In the formulas 1 to 3,
M 1 is a Group 2 or 12 element,
A is at least one element selected from the group consisting of chalcogen elements,
M 2 is a metal element,
Where x is 0≦x<0.5).
제9항에 있어서,
상기 발광소자에 전압을 인가하여 상기 코팅층 중 애노드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 2의 무기화합물을 형성하고,
상기 코팅층 중 캐소드 전극과 인접하는 코팅층의 적어도 일부분에 하기 화학식 3의 무기화합물을 형성하는 단계는
열을 가해주면서 동시에 전압 인가를 수행하는 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자 제조방법.
The method of claim 9,
Applying a voltage to the light emitting device to form an inorganic compound of the following formula (2) on at least a portion of the coating layer adjacent to the anode electrode of the coating layer,
The step of forming the inorganic compound of Formula 3 below in at least a portion of the coating layer adjacent to the cathode electrode among the coating layers
A method for manufacturing an inorganic electroluminescent device, characterized in that applying heat while simultaneously applying voltage.
제9항에 있어서,
상기 코팅층이 형성된 발광 입자를 포함하는 발광층이 애노드 전극 및 캐소드 전극 사이에 위치하는 발광소자를 제조하는 단계는
상기 애노드 전극 및 발광층 사이에 정공주입층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자 제조방법.
The method of claim 9,
The step of manufacturing a light emitting device in which the light emitting layer including the light emitting particles on which the coating layer is formed is located between the anode electrode and the cathode electrode
The method of manufacturing an inorganic electroluminescent device, further comprising forming a hole injection layer between the anode electrode and the emission layer.
제9항에 있어서,
상기 화학식 2의 무기화합물은 p형 반도체이고, 상기 화학식 3의 무기화합물은 n형 반도체인 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자 제조방법.
The method of claim 9,
The inorganic compound of Formula 2 is a p-type semiconductor, and the inorganic compound of Formula 3 is an n-type semiconductor.
제9항에 있어서,
상기 화학식 2의 무기화합물의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값은, 상기 발광 입자의 전도대(conduction band)의 최소 에너지 값보다 큰 것을 특징으로 하는 무기 전계 발광소자 제조방법.
The method of claim 9,
The method of manufacturing an inorganic electroluminescent device, wherein the minimum energy value of the conduction band of the inorganic compound of Formula 2 is greater than the minimum energy value of the conduction band of the light emitting particles.
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