JP2009087756A - Light emitting element - Google Patents

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Masaya Shimogawara
匡哉 下河原
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/115OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting element with a luminescent layer capable of effectively converting an exciton which is easily recombined by trapping charges (hole, electron) and is generated by its recombination to a luminous phenomenon, in the light emitting element having the luminescent layer containing the a quantum dot. <P>SOLUTION: This light emitting element 1 has at least a positive electrode 3, the luminescent layer 5 having the quantum dot 11, and a negative electrode 4 in this order, and the luminescent layer 5 contains a semiconductor particle 12 having a band gap larger than that of the quantum dot 11, and the particle diameter of the semiconductor particle 12 is larger than the particle diameter of the quantum dot 11. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光素子に関し、更に詳しくは、量子ドットを含む発光層を備えた発光素子に関する。   The present invention relates to a light emitting device, and more particularly to a light emitting device including a light emitting layer including quantum dots.

有機エレクトロルミネセンス素子(以下、有機EL素子ともいう。)は、陽極と陰極との間に有機発光層を挟んだ積層構造を有する発光素子であり、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子とが発光層内で起こる再結合に起因して生じる発光を利用した自発光デバイスである。こうした有機EL素子の課題は、有機発光層を構成する発光材料の長寿命化と発光効率の向上であり、現在、その課題克服のための研究が活発に行われている。   An organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an organic EL element) is a light emitting element having a laminated structure in which an organic light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode, and injected from holes and cathodes injected from the anode. It is a self-luminous device that utilizes light emission caused by recombination that occurs in the light-emitting layer. The problem of such an organic EL element is to increase the lifetime of the light emitting material constituting the organic light emitting layer and to improve the light emission efficiency. Currently, research for overcoming the problem is being actively conducted.

一方、粒径によって発光色を調整できる半導体微粒子(「量子ドット」と呼ばれている。)をEL発光材料として用いた発光デバイスが提案されている(例えば、非特許文献1及び特許文献1を参照)。これらの文献には、量子ドットの代表例として、CdSeからなるコアと、その周囲に設けられたZnSシェルと、さらにその周囲に設けられたキャッピング化合物とで構成されたコアシェル構造のものが例示されている。この量子ドットを発光材料として用いた発光素子は、上記の有機EL材料を用いた発光素子よりも長寿命であるという利点がある。   On the other hand, light-emitting devices using semiconductor fine particles (referred to as “quantum dots”) whose emission color can be adjusted by the particle size as EL light-emitting materials have been proposed (for example, Non-Patent Document 1 and Patent Document 1). reference). In these documents, as a representative example of a quantum dot, a core-shell structure composed of a core made of CdSe, a ZnS shell provided around the core, and a capping compound provided further around the core is illustrated. ing. A light emitting element using the quantum dots as a light emitting material has an advantage that it has a longer life than a light emitting element using the organic EL material.

しかし、非特許文献1の図1に示されているように、同文献で提案された発光素子が有する発光層は量子ドット単分子膜であるので、両電極から供給された電荷が再結合して生じた励起子がその単分子膜に到達してEL発光に消費される機会が乏しく、十分な輝度と発光効率を達成できないという問題がある。なお、同文献では、発光層と電子輸送層との間に正孔ブロック層を設けて発光層内での再結合の確率を上げようとした例も提案されているが、十分に高い輝度と発光効率をもたらしてはいない。   However, as shown in FIG. 1 of Non-Patent Document 1, since the light-emitting layer of the light-emitting element proposed in the same document is a quantum dot monomolecular film, the charges supplied from both electrodes are recombined. There is a problem that the exciton generated in this way reaches the monomolecular film and is consumed for EL emission, and sufficient luminance and light emission efficiency cannot be achieved. In the same document, an example in which a hole blocking layer is provided between the light emitting layer and the electron transport layer to increase the probability of recombination in the light emitting layer is proposed. It does not bring about luminous efficiency.

こうした量子ドット単分子膜が有する弱点を解決するため、下記特許文献2,3には、量子ドットをホスト材料内に分散させてなる発光層を有し、その発光層内での電荷の再結合の確率を上げようとした発光素子の例が提案されている。この発光素子は、生じた励起子が発光層内を移動して量子ドットをEL発光させようとするものである。また、特許文献4には、発光中心となる量子ドットと、その量子ドットよりも粒径の小さい半導体微粒子からなる充填材とを混合して発光層領域を形成し、その後に300℃以上の高温で細かい充填材を溶融固化して発光層を形成した発光素子が提案されている。この発光層は、粒径の小さい充填材が容易に溶融しやすいという特徴を利用し、量子ドットを充填材内に溶融固化して導電性の向上と、それに基づく発光効率の向上を図ったものである。
Seth Coe et.al., Nature, 420, 800-803(2002) 特表2005−522005号公報 特表2005−502176号公報 特表2007−513478号公報 特表2007−520077号公報
In order to solve the weak point of such a quantum dot monomolecular film, Patent Documents 2 and 3 below have a light emitting layer in which quantum dots are dispersed in a host material, and charge recombination in the light emitting layer. An example of a light emitting element that attempts to increase the probability is proposed. In this light emitting element, the generated excitons move in the light emitting layer to cause the quantum dots to emit EL. In Patent Document 4, a quantum dot serving as a light emission center and a filler composed of semiconductor fine particles having a particle diameter smaller than that of the quantum dot are mixed to form a light emitting layer region, and then a high temperature of 300 ° C. or higher. A light emitting device in which a light emitting layer is formed by melting and solidifying a fine filler has been proposed. This light-emitting layer utilizes the feature that a filler with a small particle size is easily melted, and the quantum dots are melted and solidified in the filler to improve conductivity and to improve the light emission efficiency based thereon. It is.
Seth Coe et.al., Nature, 420, 800-803 (2002) JP 2005-522005 gazette JP 2005-502176 Gazette JP-T-2007-513478 Special table 2007-520077 gazette

しかしながら、従来の発光素子においては、発光層に正孔を供給するための正孔輸送材料の正孔移動度は、発光層に電子を供給するための電子輸送材料の電子移動度よりも大きい場合が多く、その結果、陽極から供給された正孔が発光層を突き抜けてしまい、発光層での再結合の機会が少ないという問題がある。こうした問題は、量子ドットをホスト材料内に分散させた比較的厚い発光層を有する上記特許文献2,3の発光素子においても同様である。   However, in the conventional light emitting device, the hole mobility of the hole transport material for supplying holes to the light emitting layer is larger than the electron mobility of the electron transport material for supplying electrons to the light emitting layer. As a result, there is a problem that holes supplied from the anode penetrate the light emitting layer and there are few opportunities for recombination in the light emitting layer. Such a problem also applies to the light-emitting elements of Patent Documents 2 and 3 having a relatively thick light-emitting layer in which quantum dots are dispersed in a host material.

また、量子ドットを充填材内に溶融固化してなる発光層は、ある程度、正孔をトラップして電子との再結合の機会を増しているものと考えられるが、発光層を形成する際に、加熱処理や加圧処理が加わるので、例えば有機系薄膜を有する発光素子やプラスチック基材を使用した発光素子では、その加熱処理や加圧処理によってダメージが生じやすく、結果として発光効率が低下してしまうという問題がある。   In addition, the light-emitting layer formed by melting and solidifying the quantum dots in the filler is considered to have increased the chance of recombination with electrons by trapping holes to some extent. Since heat treatment and pressure treatment are added, for example, in a light-emitting element having an organic thin film or a light-emitting element using a plastic substrate, damage is easily caused by the heat treatment or pressure treatment, resulting in a decrease in luminous efficiency. There is a problem that it ends up.

本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであって、その目的は、量子ドットを含む発光層を備えた発光素子において、電荷(ホール、エレクトロン)を効果的にトラップして再結合し易くし、且つその再結合によって生じた励起子を効果的に発光現象に変換できる発光層を備えた発光素子を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and its object is to effectively trap and recombine charges (holes, electrons) in a light-emitting element having a light-emitting layer containing quantum dots. An object of the present invention is to provide a light emitting element including a light emitting layer that can easily convert excitons generated by the recombination into a light emitting phenomenon.

上記課題を解決するための本発明の発光素子は、少なくとも、陽極と、量子ドットを有する発光層と、陰極とをその順で有する発光素子であって、前記発光層は、前記量子ドットよりもバンドギャップが大きい半導体微粒子を含み、該半導体微粒子の粒径が前記量子ドットの粒径よりも大きいことを特徴とする。   The light-emitting element of the present invention for solving the above-described problem is a light-emitting element having at least an anode, a light-emitting layer having quantum dots, and a cathode in that order, and the light-emitting layer is more than the quantum dots. It includes semiconductor fine particles having a large band gap, and the particle size of the semiconductor fine particles is larger than the particle size of the quantum dots.

この発明によれば、発光層が、発光中心となる量子ドットと、その量子ドットよりも粒径が大きく且つバンドギャップも大きい半導体微粒子とを有するので、両電極から注入された正孔と電子は粒径の大きな半導体微粒子でトラップされて再結合し、その再結合によって生じた励起子は、半導体微粒子の周囲に存在するエネルギーの低い量子ドットに容易に移動し、発光中心である量子ドットを発光させる。その結果、注入された電荷が発光現象に効率的に利用されるので、良好な発光効率を実現可能な発光素子となる。   According to the present invention, the light emitting layer has quantum dots that are emission centers and semiconductor fine particles having a larger particle diameter and a larger band gap than the quantum dots, so that holes and electrons injected from both electrodes are The excitons that are trapped and recombined by the semiconductor particles with a large particle size easily move to the low-energy quantum dots that exist around the semiconductor particles, and emit light from the quantum dots that are the emission centers. Let As a result, since the injected charge is efficiently used for the light emission phenomenon, a light emitting element capable of realizing good light emission efficiency is obtained.

本発明の発光素子の好ましい態様として、前記半導体微粒子の粒径が、前記量子ドットの粒径の1.1倍〜40倍であるように構成する。   As a preferred embodiment of the light emitting device of the present invention, the semiconductor fine particles are configured such that the particle diameter thereof is 1.1 to 40 times the particle diameter of the quantum dots.

この発明によれば、半導体微粒子の粒径が量子ドットの粒径の1.1倍〜40倍であるので、多くの量子ドットが半導体微粒子の周囲に存在することになる。その結果、再結合により半導体微粒子で生じた励起子を、周囲の量子ドットに効率的に分配することができる。   According to this invention, since the particle size of the semiconductor fine particles is 1.1 to 40 times the particle size of the quantum dots, many quantum dots exist around the semiconductor fine particles. As a result, excitons generated in the semiconductor fine particles due to recombination can be efficiently distributed to surrounding quantum dots.

本発明の発光素子の好ましい態様として、前記半導体微粒子のバンドギャップと、前記量子ドットのバンドギャップとの差が、0.1eV以上2eV以下であるように構成する。   As a preferred embodiment of the light emitting device of the present invention, the difference between the band gap of the semiconductor fine particles and the band gap of the quantum dots is 0.1 eV or more and 2 eV or less.

この発明によれば、半導体微粒子で生じた励起子を、半導体微粒子の周囲に存在するエネルギーの低い量子ドットに容易に移動させることができる。   According to this invention, excitons generated in the semiconductor fine particles can be easily moved to the quantum dots having low energy existing around the semiconductor fine particles.

本発明の発光素子の特に好ましい一例として、前記半導体微粒子が酸化亜鉛であり、前記量子ドットがCdSe/ZnS型のコアシェル構造からなるように構成する。   As a particularly preferred example of the light emitting device of the present invention, the semiconductor fine particles are zinc oxide, and the quantum dots have a CdSe / ZnS type core-shell structure.

本発明の発光素子によれば、両電極から注入された正孔と電子は粒径の大きな半導体微粒子でトラップされて再結合し、その再結合によって生じた励起子が半導体微粒子の周囲に存在するエネルギーの低い量子ドットに容易に移動するので、発光中心である量子ドットを容易に発光させることができる。その結果、注入された電荷が発光現象に効率的に利用されるので、良好な発光効率を実現可能な発光素子となる。   According to the light emitting device of the present invention, holes and electrons injected from both electrodes are trapped and recombined by semiconductor particles having a large particle diameter, and excitons generated by the recombination exist around the semiconductor particles. Since it moves easily to the quantum dot with low energy, the quantum dot which is a light emission center can be light-emitted easily. As a result, since the injected charge is efficiently used for the light emission phenomenon, a light emitting element capable of realizing good light emission efficiency is obtained.

以下、本発明の発光素子の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実施形態及び図面に限定解釈されるものではない。   Hereinafter, although the embodiment of the light emitting element of the present invention is described, the present invention is not limited to the following embodiment and drawings.

図1は、本発明の発光素子の一例を示す模式断面図であり、図2は、本発明の発光素子の発光原理を説明するための模式図である。本発明の発光素子1は、少なくとも陽極3と量子ドット11を有する発光層5と陰極4とをその順で有し、一例として、図1に示すように、少なくとも、陽極3と、正孔注入輸送層6と、量子ドット11を有する発光層5と、電子注入輸送層7と、陰極4とをその順で有する発光素子1を例示できる。そして、その発光層5は、量子ドット11よりもバンドギャップが大きい半導体微粒子12を含み、その半導体微粒子12の粒径が量子ドット11の粒径よりも大きいように構成されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a light emitting device of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the light emission principle of the light emitting device of the present invention. The light-emitting element 1 of the present invention has at least an anode 3, a light-emitting layer 5 having quantum dots 11, and a cathode 4 in that order. As an example, as shown in FIG. The light emitting element 1 which has the transport layer 6, the light emitting layer 5 which has the quantum dot 11, the electron injection transport layer 7, and the cathode 4 in that order can be illustrated. The light emitting layer 5 includes semiconductor fine particles 12 having a larger band gap than the quantum dots 11, and the particle size of the semiconductor fine particles 12 is configured to be larger than the particle size of the quantum dots 11.

なお、発光素子1を構成する下記の構成要素を選択し、また、反射層等を設けることにより、トップエミッション型の素子として構成してもよいし、ボトムエミッション型の素子として構成してもよい。   It should be noted that the following components constituting the light emitting element 1 are selected and a reflective layer or the like may be provided to constitute a top emission type element or a bottom emission type element. .

次に、本発明の発光素子1の構成要素について詳しく説明するが、以下の具体例のみに限定解釈されるものではない。なお、以下において、「上」「下」との表現を使う場合、図1を平面視した場合における上側が「上」の意味であり、下側が「下」の意味である。   Next, although the component of the light emitting element 1 of this invention is demonstrated in detail, it is not limitedly interpreted only to the following specific examples. In the following, when the expressions “upper” and “lower” are used, the upper side in the plan view of FIG. 1 means “upper”, and the lower side means “lower”.

(基材)
基材2は、図1の例では陽極3の下地基材として設けられているが、特に図1の例に限定されず、陰極4の上側に設けられていてもよいし、その両方に設けられていてもよい。基材2の透明性は光の出射方向によって任意に選択され、ボトムエミッション型の発光素子とする場合には、図1に示す基材2は透明である必要がある。基材の種類や形状、大きさ、厚さ等の構造は特に限定されるものではなく、発光素子1の用途や基材上に積層する各層の材質等により適宜決めることができる。例えば、Al等の金属、ガラス、石英又は樹脂等の各種の材料からなるものを用いることができる。具体的には、例えば、ガラス、石英、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート等を挙げることができる。また、基材2の形状としては、枚葉状でも連続状でもよく、具体的には、例えばカード状、フィルム状、ディスク状、チップ状等を挙げることができる。特にフレキシブルなプラスチック基材は、照明用の白色光源素子のフレキシブル基材として、また、カラーフィルターと組み合わせたRGBフレキシブルパネルの基材として、また、LCD−OLEDやLCD−LEDのバックライトのフレキシブル基材として好ましく用いられる。
(Base material)
The substrate 2 is provided as a base substrate for the anode 3 in the example of FIG. 1, but is not particularly limited to the example of FIG. 1, and may be provided on the upper side of the cathode 4 or provided on both of them. It may be done. The transparency of the base material 2 is arbitrarily selected depending on the light emission direction, and in the case of a bottom emission type light emitting element, the base material 2 shown in FIG. 1 needs to be transparent. The structure such as the type, shape, size, and thickness of the substrate is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the use of the light-emitting element 1 and the material of each layer laminated on the substrate. For example, a material made of various materials such as a metal such as Al, glass, quartz, or resin can be used. Specific examples include glass, quartz, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polymethacrylate, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyester, polycarbonate, and the like. In addition, the shape of the substrate 2 may be a single wafer shape or a continuous shape, and specific examples include a card shape, a film shape, a disk shape, and a chip shape. Particularly flexible plastic substrates are used as flexible substrates for white light source elements for illumination, RGB flexible panels combined with color filters, and LCD-OLED and LCD-LED backlight flexible substrates. It is preferably used as a material.

(電極)
陽極3,陰極4は、EL発光材料である量子ドット11を発光させるための正孔と電子を供給するための電極であり、通常は、図1に示すように、陽極3は基材2上に設けられ、陰極4は、少なくとも発光層5を陽極3との間に挟んだ状態で、その陽極3に対向して設けられる。
(electrode)
The anode 3 and the cathode 4 are electrodes for supplying holes and electrons for emitting light from the quantum dots 11 which are EL light emitting materials. Normally, as shown in FIG. The cathode 4 is provided to face the anode 3 with at least the light emitting layer 5 sandwiched between the anode 3 and the cathode 4.

陽極3としては、金属、導電性酸化物、導電性高分子等の薄膜が用いられる。具体的には、例えば、ITO(インジウム錫オキサイド)、酸化インジウム、IZO(インジウム亜鉛オキサイド)、SnO、ZnO等の透明導電膜、金、クロムのようなホール注入性が良好な仕事関数の大きな金属、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリシラン誘導体のような導電性高分子等を挙げることができる。こうした陽極3は、真空蒸着、スパッタリング、CVD等の真空プロセスあるいは塗布により形成することができ、その膜厚は使用する材料等によっても異なるが、例えば10nm〜1000nm程度であることが好ましい。 As the anode 3, a thin film of metal, conductive oxide, conductive polymer or the like is used. Specifically, for example, a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), Indium Oxide, IZO (Indium Zinc Oxide), SnO 2 , ZnO or the like, a hole injection property such as gold or chromium, and a large work function is large. Examples thereof include conductive polymers such as metals, polyaniline, polyacetylene, polyalkylthiophene derivatives, and polysilane derivatives. Such an anode 3 can be formed by a vacuum process such as vacuum deposition, sputtering, or CVD, or coating, and the film thickness thereof is preferably about 10 nm to 1000 nm, for example, although it varies depending on the material used.

陰極4としては、金属、導電性酸化物、導電性高分子等の薄膜が用いられる。具体的には、例えば、アルミ、銀等の単体金属、MgAg等のマグネシウム合金、AlLi、AlCa、AlMg等のアルミニウム合金、Li、Caをはじめとするアルカリ金属類、それらアルカリ金属類の合金のような電子注入性が良好な仕事関数の小さな金属等を挙げることができる。陰極4は、上述した陽極3の場合と同様、真空蒸着、スパッタリング、CVD等の真空プロセスあるいは塗布により形成され、その膜厚は使用する材料等によっても異なるが、例えば10nm〜1000nm程度であることが好ましい。   As the cathode 4, a thin film made of metal, conductive oxide, conductive polymer or the like is used. Specifically, for example, single metals such as aluminum and silver, magnesium alloys such as MgAg, aluminum alloys such as AlLi, AlCa, and AlMg, alkali metals including Li and Ca, and alloys of these alkali metals A metal having a small work function and a good electron injection property can be given. The cathode 4 is formed by a vacuum process such as vacuum deposition, sputtering, CVD, or coating, as in the case of the anode 3 described above, and the film thickness varies depending on the material used, but is about 10 nm to 1000 nm, for example. Is preferred.

(発光層)
発光層5は、陽極3と陰極4とに挟まれた態様で設けられ、発光中心となる量子ドット11と、その量子ドット11よりも粒径が大きく且つバンドギャップも大きい半導体微粒子12とを有している。
(Light emitting layer)
The light emitting layer 5 is provided in a mode sandwiched between the anode 3 and the cathode 4 and has quantum dots 11 serving as a light emission center and semiconductor fine particles 12 having a larger particle diameter and a larger band gap than the quantum dots 11. is doing.

こうして構成された発光層5での発光原理は、先ず、電極3,4から注入された正孔と電子は粒径の大きな半導体微粒子12でトラップされて再結合し、そして、その再結合によって生じた励起子は半導体微粒子12の周囲に存在するエネルギーの低い量子ドット11に容易に移動し、発光中心である量子ドット11が発光する。こうした発光原理の発光素子は、陽極3と発光層5との間に通常設けられる正孔注入輸送層6の正孔移動度が陰極4と発光層5との間に通常設けられる電子注入輸送層7の電子移動度よりも大きいという通常の場合において、発光層5への電子の供給が不足するとともに正孔の一部は発光層5を突き抜けてしまい、注入された電荷(正孔、電子)量に対する発光効率が低いという傾向があったが、本発明においては、従来、発光層5を突き抜けていた一部の正孔は粒径の大きな半導体微粒子12でトラップされ、トラップされた正孔はその半導体微粒子12で電子と再結合するので、注入された電荷を効率的に再結合させることができ、しかも生じた励起子を、その半導体微粒子の周囲に存在する多数の量子ドット11に配分するので、量子ドットによる発光現象を効率的に行わせることができ、良好な発光効率を実現可能となる。   The light emission principle of the light emitting layer 5 constructed in this way is as follows. First, holes and electrons injected from the electrodes 3 and 4 are trapped and recombined by the semiconductor fine particles 12 having a large particle diameter, and are generated by the recombination. The excitons easily move to the low-energy quantum dots 11 present around the semiconductor fine particles 12, and the quantum dots 11 that are the emission centers emit light. In the light emitting element based on such a light emitting principle, an electron injecting and transporting layer in which the hole mobility of the hole injecting and transporting layer 6 usually provided between the anode 3 and the light emitting layer 5 is usually provided between the cathode 4 and the light emitting layer 5 is used. In the normal case where the electron mobility is higher than 7, the supply of electrons to the light emitting layer 5 is insufficient, and some of the holes penetrate the light emitting layer 5 to inject injected charges (holes, electrons). However, in the present invention, some of the holes that have hitherto penetrated the light-emitting layer 5 are trapped by the semiconductor fine particles 12 having a large particle diameter, and the trapped holes are Since the semiconductor fine particles 12 recombine with electrons, the injected charges can be efficiently recombined, and the generated excitons are distributed to a large number of quantum dots 11 existing around the semiconductor fine particles. So quantum Tsu bets luminous phenomenon can be made to efficiently carried out by, it is possible to realize an excellent emission efficiency.

用いる量子ドット(Quantum dot)11は、粒径によって発光色を調整できる半導体微粒子である。この量子ドット11は、ナノ粒子(Nanoparticle)、ナノ結晶(Nanocrystal)とも呼ばれるものであり、その代表例としては、CdSeからなるコアと、その周囲に設けられたZnSシェルと、さらにその周囲に設けられたキャッピング化合物とで構成されたものを例示できる。この量子ドット11は、その粒径により発光色を異にするものであり、例えば青色発光する粒径は1.0nm〜1.9nmの範囲であり、緑色発光する粒径は2.0nm〜2.4nmの範囲であり、赤色発光する粒径は4.2nm〜6.0nmの範囲である。   The quantum dots 11 used are semiconductor fine particles whose emission color can be adjusted by the particle size. This quantum dot 11 is also called a nanoparticle or a nanocrystal, and a typical example thereof is a core made of CdSe, a ZnS shell provided around the core, and further provided around the core. The capping compound formed can be exemplified. The quantum dots 11 have different emission colors depending on their particle sizes. For example, the particle size for blue emission is in the range of 1.0 nm to 1.9 nm, and the particle size for green emission is 2.0 nm to 2 nm. The particle diameter of red light emission is in the range of 4.2 nm to 6.0 nm.

量子ドット11としては、半導体のナノメートルサイズの微粒子(半導体ナノ結晶)であり、量子閉じ込め効果(量子サイズ効果)を生じる発光材料であれば特に限定されない。具体的には、MgS、MgSe、MgTe、CaS、CaSe、CaTe、SrS、SrSe、SrTe、BaS、BaSe、BaTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe及びHgTeのようなII−VI族半導体化合物、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaAs、GaP、GaN、GaSb、InN、InAs、InP、InSb、TiN、TiP、TiAs及びTiSbのようなIII−V族半導体化合物、Si、Ge及びPbのようなIV族半導体等を含有する半導体結晶の他、InGaPのような3元素以上を含んだ半導体化合物が挙げられる。或いは、上記半導体化合物に、Eu3+、Tb3+、Ag、Cuのような希土類金属のカチオン又は遷移金属のカチオンをドープしてなる半導体結晶を用いることができる。 The quantum dots 11 are not particularly limited as long as they are semiconductor nanometer-sized fine particles (semiconductor nanocrystals) and are light-emitting materials that produce a quantum confinement effect (quantum size effect). Specifically, II such as MgS, MgSe, MgTe, CaS, CaSe, CaTe, SrS, SrSe, SrTe, BaS, BaSe, BaTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe and HgTe. Group VI semiconductor compounds, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaAs, GaP, GaN, GaSb, InN, InAs, InP, InSb, III-V group semiconductor compounds such as TiN, TiP, TiAs and TiSb, Si, Ge In addition to semiconductor crystals containing a group IV semiconductor such as Pb and the like, semiconductor compounds containing three or more elements such as InGaP can be given. Alternatively, a semiconductor crystal obtained by doping the semiconductor compound with a rare earth metal cation or a transition metal cation such as Eu 3+ , Tb 3+ , Ag + , or Cu + can be used.

中でも、作製の容易性、可視域での発光を得られる粒径の制御性、蛍光量子収率の観点から、CdS,CdSe,CdTe、InGaP等の半導体結晶が好適である。   Among these, semiconductor crystals such as CdS, CdSe, CdTe, and InGaP are preferable from the viewpoints of ease of production, controllability of particle diameters for obtaining light emission in the visible range, and fluorescence quantum yield.

量子ドット11は、1種の半導体化合物からなるものであっても、2種以上の半導体化合物からなるものであってもよく、例えば、半導体化合物からなるコアと、該コアと異なる半導体化合物からなるシェルとを有するコアシェル型構造を有していてもよい。コアシェル型の量子ドットとしては、励起子が、コアに閉じ込められるように、シェルを構成する半導体化合物として、コアを形成する半導体化合物よりもバンドギャップの高い材料を用いることで、量子ドットの発光効率を高めることができる。このようなバンドギャップの大小関係を有するコアシェル構造(コア/シェル)としては、例えば、CdSe/ZnS、CdSe/ZnSe、CdSe/CdS、CdTe/CdS、InP/ZnS、GaP/ZnS、Si/ZnS、InN/GaN、InP/CdSSe、InP/ZnSeTe、GaInP/ZnSe、GaInP/ZnS、Si/AlP、InP/ZnSTe、GaInP/ZnSTe、GaInP/ZnSSe等が挙げられる。   The quantum dot 11 may be made of one kind of semiconductor compound or may be made of two or more kinds of semiconductor compounds. For example, the quantum dot 11 is made of a core made of a semiconductor compound and a semiconductor compound different from the core. You may have a core shell type structure which has a shell. The core-shell type quantum dot uses a material with a higher band gap than the semiconductor compound that forms the core as the semiconductor compound that forms the core so that excitons are confined in the core. Can be increased. Examples of the core-shell structure (core / shell) having such a bandgap relationship include CdSe / ZnS, CdSe / ZnSe, CdSe / CdS, CdTe / CdS, InP / ZnS, GaP / ZnS, Si / ZnS, Examples include InN / GaN, InP / CdSSe, InP / ZnSeTe, GaInP / ZnSe, GaInP / ZnS, Si / AlP, InP / ZnSTe, GaInP / ZnSTe, and GaInP / ZnSSe.

量子ドット11のサイズは、所望の波長の光が得られるように、量子ドットを構成する材料によって、半導体微粒子12の大きさとの関係を考慮しつつ、適宜制御すればよい。量子ドットは粒径が小さくなるに従い、エネルギーバンドギャップが大きくなる。すなわち、結晶サイズが小さくなるにつれて、量子ドットの発光は青色側へ、つまり、高エネルギー側へとシフトする。そのため、量子ドットのサイズを変化させることにより、紫外領域、可視領域、赤外領域のスペクトルの波長領域にわたって、その発光波長を調節することができる。   The size of the quantum dots 11 may be appropriately controlled by considering the relationship with the size of the semiconductor fine particles 12 depending on the material constituting the quantum dots so that light with a desired wavelength can be obtained. As the particle size of the quantum dot decreases, the energy band gap increases. That is, as the crystal size decreases, the light emission of the quantum dots shifts to the blue side, that is, to the high energy side. Therefore, by changing the size of the quantum dots, the emission wavelength can be adjusted over the wavelength range of the spectrum in the ultraviolet region, the visible region, and the infrared region.

一般的には、量子ドット11の粒径(直径)は0.5〜20nmの範囲であり、1〜10nmの範囲であることが好ましい。なお、量子ドットのサイズ分布が狭いほど、より鮮明な発光色を得ることができる。   Generally, the particle size (diameter) of the quantum dots 11 is in the range of 0.5 to 20 nm, and preferably in the range of 1 to 10 nm. The narrower the quantum dot size distribution, the clearer the emission color.

また、量子ドット11の形状は特に限定されず、球状、棒状、円盤状、その他の形状であってもよい。量子ドットの粒径は、量子ドットが球状でない場合、同体積を有する真球状であると仮定したときの値とすることができる。   Moreover, the shape of the quantum dot 11 is not specifically limited, A spherical shape, rod shape, disk shape, and other shapes may be sufficient. When the quantum dot is not spherical, the particle diameter of the quantum dot can be a value when it is assumed to be a true sphere having the same volume.

量子ドット11の粒径、形状、分散状態等の情報については、透過型電子顕微鏡(TEM)により得ることができる。また、量子ドットの結晶構造、また粒径については、X線結晶回折(XRD)により知ることができる。さらには、UV−Vis吸収スペクトルによって、量子ドットの粒径、表面に関する情報を得ることもできる。なお、本願でいう「粒径」とは、平均粒径のことである。   Information such as the particle size, shape, and dispersion state of the quantum dots 11 can be obtained by a transmission electron microscope (TEM). Further, the crystal structure and particle size of the quantum dots can be known by X-ray crystal diffraction (XRD). Furthermore, the information regarding the particle diameter and surface of a quantum dot can also be obtained by a UV-Vis absorption spectrum. As used herein, “particle size” refers to the average particle size.

量子ドット11の一例としては、例えば、CdSeからなるコアと、その周囲に設けられたZnSシェルと、さらにその周囲に設けられたキャッピング化合物とを基本構造としたCdSe/ZnS型のコアシェル構造からなるものを好ましく例示できる。こうしたコアシェル構造において、コアは半導体化合物からなり、シェルは該コアと異なる半導体化合物からなり、コアを形成する半導体化合物よりもバンドギャップの高い材料を用いることで、励起子がコアに閉じ込められるように作用する。また、キャッピング化合物は分散剤として作用する。こうしたキャッピング化合物の具体例としては、例えば、TOPO(トリオクチルフォスフィンオキシド)、TOP(トリオクチルホスフィン)、TBP(トリブチルホスフィン)等が挙げられ、そうした材料により、有機溶媒中に分散することができる。   As an example of the quantum dots 11, for example, a CdSe / ZnS type core-shell structure having a basic structure of a core made of CdSe, a ZnS shell provided around the core, and a capping compound provided further around the core is provided. A thing can be illustrated preferably. In such a core-shell structure, the core is made of a semiconductor compound, the shell is made of a semiconductor compound different from the core, and the exciton is confined in the core by using a material having a higher band gap than the semiconductor compound forming the core. Works. Also, the capping compound acts as a dispersant. Specific examples of such capping compounds include TOPO (trioctylphosphine oxide), TOP (trioctylphosphine), TBP (tributylphosphine), and the like, and these materials can be dispersed in an organic solvent. .

一方、半導体微粒子12は、量子ドット11よりも粒径が大きく且つバンドギャップも大きい粒子である。半導体微粒子12の粒径は、量子ドット11の粒径(0.5〜20nm)よりも大きく、且つ1nm以上100nm以下の範囲、好ましくは1nm以上40nm以下の範囲である。半導体微粒子12の粒径が量子ドット11の粒径と同じ又は小さい場合には、この半導体微粒子11の周囲に多くの量子ドット11を配置できない。また、半導体微粒子12の粒径が大きすぎると、半導体微粒子12で生じた励起子の移動が困難になることがある。こうした半導体微粒子12と粒径は、量子ドット11の粒径の1.1倍〜40倍であるように選択することが好ましい。この範囲内の半導体微粒子12と量子ドット11とを選択すれば、量子ドット11は「半導体微粒子12の周囲に多数配置させることができ、その結果、半導体微粒子12で生じた励起子を多くの量子ドット11に配給することができる。   On the other hand, the semiconductor fine particles 12 are particles having a larger particle size and a larger band gap than the quantum dots 11. The particle size of the semiconductor fine particles 12 is larger than the particle size (0.5 to 20 nm) of the quantum dots 11 and in the range of 1 nm to 100 nm, preferably in the range of 1 nm to 40 nm. When the particle size of the semiconductor fine particles 12 is the same as or smaller than the particle size of the quantum dots 11, many quantum dots 11 cannot be arranged around the semiconductor fine particles 11. If the particle size of the semiconductor fine particles 12 is too large, it may be difficult to move excitons generated in the semiconductor fine particles 12. The semiconductor fine particles 12 and the particle size are preferably selected so as to be 1.1 to 40 times the particle size of the quantum dots 11. If the semiconductor fine particles 12 and the quantum dots 11 within this range are selected, the quantum dots 11 can be arranged in a large number around the semiconductor fine particles 12, and as a result, many excitons generated in the semiconductor fine particles 12 The dots 11 can be distributed.

半導体微粒子12は、量子ドット11よりもバンドギャップが大きい粒子である。そうした半導体微粒子12は、組み合わせる量子ドット11のバンドギャップをも考慮して選択する必要がある。そのバンドギャップの差の程度は、半導体微粒子12のバンドギャップと、量子ドット11のバンドギャップとの差が、’0.1eV以上2eV以下であることが好ましく、0.3eV以上2eV以下であることが特に好ましい。こうしたバンドギャップの差によって、半導体微粒子12で生じた励起子をその周囲に存在する量子ドット11に容易に移動させることができ、量子ドット11でのEL発光を容易にする。   The semiconductor fine particles 12 are particles having a larger band gap than the quantum dots 11. Such semiconductor fine particles 12 need to be selected in consideration of the band gap of the quantum dots 11 to be combined. The difference in the band gap is such that the difference between the band gap of the semiconductor fine particles 12 and the band gap of the quantum dots 11 is preferably 0.1 eV or more and 2 eV or less, and 0.3 eV or more and 2 eV or less. Is particularly preferred. Due to such a difference in band gap, excitons generated in the semiconductor fine particles 12 can be easily moved to the quantum dots 11 existing around the semiconductor fine particles 12, and EL emission at the quantum dots 11 is facilitated.

半導体微粒子12の具体例としては、例えば、MgS、MgSe、MgTe、CaS、CaSe、CaTe、SrS、SrSe、SrTe、BaS、BaSe、BaTe、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe及びHgTeのようなII−VI族半導体化合物、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaAs、GaP、GaN、GaSb、InN、InAs、InP、InSb、TiN、TiP、TiAs及びTiSbのようなIII−V族半導体化合物、Si、Ge及びPbのようなIV族半導体等を含有する半導体結晶の他、InGaPのような3元素以上を含んだ半導体化合物等が挙げられる。なお、バンドギャップは、半導体微粒子12に必要に応じてドーパントをドープして調整することも可能である。より具体的には、ZnO、ZnS、ZnSe等を好ましく用いることができる。   Specific examples of the semiconductor fine particles 12 include, for example, MgS, MgSe, MgTe, CaS, CaSe, CaTe, SrS, SrSe, SrTe, BaS, BaSe, BaTe, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS. II-VI group semiconductor compounds such as HgSe and HgTe, III- such as AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaAs, GaP, GaN, GaSb, InN, InAs, InP, InSb, TiN, TiP, TiAs and TiSb In addition to a semiconductor crystal containing a group V semiconductor compound, a group IV semiconductor such as Si, Ge and Pb, a semiconductor compound containing three or more elements such as InGaP, and the like can be given. The band gap can be adjusted by doping the semiconductor fine particles 12 with a dopant as required. More specifically, ZnO, ZnS, ZnSe or the like can be preferably used.

発光層5の形成は各種の方法で行うことができる。一例としては、粒径とバンドギャップとを考慮して選択された量子ドット11と半導体微粒子12とをホスト材料とともに混合して混合溶液を調整し、その混合溶液を正孔注入輸送層6上に塗布し、乾燥硬化する方法を例示できる。このときに用いるホスト材料としては、一般的な発光層のホスト材料として使用されている蛍光材料や燐光材料を用いることができ、具体的には、色素系材料や金属錯体系材料を挙げることができる。   The light emitting layer 5 can be formed by various methods. As an example, a quantum dot 11 selected in consideration of the particle size and the band gap and the semiconductor fine particles 12 are mixed with a host material to prepare a mixed solution, and the mixed solution is placed on the hole injecting and transporting layer 6. The method of apply | coating and drying-curing can be illustrated. As the host material used at this time, a fluorescent material or a phosphorescent material which is used as a host material of a general light emitting layer can be used, and specifically, a dye material or a metal complex material can be mentioned. it can.

色素系材料としては、例えば、アリールアミン誘導体、アントラセン誘導体、フェニルアントラセン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、カルバゾール誘導体、シクロペンタジエン誘導体、シロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、スチルベン誘導体、スピロ化合物、チオフェン環化合物、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリアゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ピラゾリンダイマー、ピリジン環化合物、フルオレン誘導体、フェナントロリン類、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体等を挙げることができる。また、これらの2量体や3量体やオリゴマー、2種類以上の誘導体の化合物も用いることができる。具体的には、トリフェニルアミン誘導体としては、N,N´−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N´−ビス−(フェニル)−ベンジジン(TPDと略す)や、4,4,4−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(MTDATAと略す)等が挙げられ、アリールアミン類としては、ビス(N−(1−ナフチル−N−フェニル)ベンジジン)(α−NPDと略す)等が挙げられ、オキサジアゾール誘導体としては、(2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)(PBDと略す)等が挙げられ、アントラセン誘導体としては、9,10−ジ−2−ナフチルアントラセン(DNAと略す)等が挙げられ、カルバゾール誘導体としては、4,4−N,N´−ジカルバゾール−ビフェニル(CBPと略す)や、1,4−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ベンゼン(DPVBiと略す)等が挙げられ、フェナントロリン類としては、バソキュプロインや、バソフェナントロリン等が挙げられる。これらの材料は単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   Examples of the dye-based material include arylamine derivatives, anthracene derivatives, phenylanthracene derivatives, oxadiazole derivatives, oxazole derivatives, oligothiophene derivatives, carbazole derivatives, cyclopentadiene derivatives, silole derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylpyrazine derivatives. , Distyrylarylene derivatives, silole derivatives, stilbene derivatives, spiro compounds, thiophene ring compounds, tetraphenylbutadiene derivatives, triazole derivatives, triphenylamine derivatives, trifumanylamine derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, hydrazone derivatives, pyrazoline dimers, pyridine A ring compound, a fluorene derivative, a phenanthroline, a perinone derivative, a perylene derivative, and the like can be given. These dimers, trimers, oligomers, and compounds of two or more derivatives can also be used. Specifically, as the triphenylamine derivative, N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (abbreviated as TPD), 4, 4, 4 -Tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (abbreviated as MTDATA) and the like, and arylamines include bis (N- (1-naphthyl-N-phenyl) benzidine) (abbreviated as α-NPD). The oxadiazole derivatives include (2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) (abbreviated as PBD) and the like. Examples of the anthracene derivative include 9,10-di-2-naphthylanthracene (abbreviated as DNA), and examples of the carbazole derivative include 4,4-N, N′-di. Carbazole - and biphenyl (abbreviated as CBP), (abbreviated as DPVBi) 1,4-bis (2,2-diphenyl vinyl) benzene. Examples of the phenanthrolines, bathocuproine and bathophenanthroline and the like. These materials may be used alone or in combination of two or more.

金属錯体系材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、あるいは、中心にAl、Zn、Be等の金属又は、Tb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダール、キノリン構造等を有する金属錯体を挙げることができる。具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3と略す)、ビス(2−メチル−8−キノリラト)(p−フェニルフェノラート)アルミニウム錯体(BAlqと略す)、トリ(ジベンゾイルメチル)フェナントロリンユーロピウム錯体、ビス(ベンゾキノリノラト)ベリリウム錯体(BeBqと略す)等を挙げることができる。これらの材料は単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   Examples of the metal complex material include an aluminum quinolinol complex, a benzoquinolinol beryllium complex, a benzoxazole zinc complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, a europium complex, and mainly Al, Zn, Be, and the like. Or a metal complex having a rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy, and having a oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, or the like as a ligand. Specifically, tris (8-quinolinolato) aluminum complex (abbreviated as Alq3), bis (2-methyl-8-quinolinato) (p-phenylphenolate) aluminum complex (abbreviated as BAlq), tri (dibenzoylmethyl) Phenanthroline europium complex, bis (benzoquinolinolato) beryllium complex (abbreviated as BeBq), and the like can be given. These materials may be used alone or in combination of two or more.

また、上記の色素系材料や金属錯体系材料等の低分子系のホスト材料を分子内に直鎖、側鎖若しくは官能基として導入した中分子系又は高分子系材料を使用することができる。具体的には、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレノン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、及びそれらの共重合体等を挙げることができる。   In addition, a medium molecular or high molecular material obtained by introducing a low molecular weight host material such as the above-described dye-based material or metal complex-based material into the molecule as a straight chain, a side chain, or a functional group can be used. Specific examples include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyvinylcarbazole, polyfluorenone derivatives, polyfluorene derivatives, polyquinoxaline derivatives, and copolymers thereof. Can do.

なお、上記以外の方法でも発光層5を形成してもよい。こうして形成された発光層5の厚さは、例えば1nm以上100nm以下で形成される。特にその厚さは、半導体微粒子12の粒径に近い厚さであることが好ましい。得られた発光層5内には、図2に示すように、半導体微粒子12が横方向に均一に分散し、さらにその半導体微粒子12の周囲には量子ドット11が満遍なく分散している。   In addition, you may form the light emitting layer 5 also by methods other than the above. The thickness of the light emitting layer 5 thus formed is, for example, 1 nm or more and 100 nm or less. In particular, the thickness is preferably close to the particle size of the semiconductor fine particles 12. As shown in FIG. 2, the semiconductor fine particles 12 are uniformly dispersed in the lateral direction in the obtained light emitting layer 5, and the quantum dots 11 are evenly dispersed around the semiconductor fine particles 12.

(正孔注入輸送層)
正孔注入輸送層6は、発光素子1の用途により必要に応じて設けられるものであって、通常は陽極3上に設けられる。この「正孔注入輸送層6」は、正孔注入性と正孔輸送性を兼ねる単一層(図1及び図2参照)として設けてもよいし、正孔注入層と正孔輸送層との積層形態からなるものであってもよい。いずれにおいても、本発明においては、この正孔注入輸送層6が、陽極3から供給された正孔(ホール)を発光層5側に輸送するように作用する。
(Hole injection transport layer)
The hole injecting and transporting layer 6 is provided as necessary depending on the use of the light emitting element 1, and is usually provided on the anode 3. This “hole injection transport layer 6” may be provided as a single layer (see FIGS. 1 and 2) having both hole injection properties and hole transport properties, or a hole injection layer and a hole transport layer. It may consist of a laminated form. In any case, in the present invention, the hole injecting and transporting layer 6 acts to transport holes supplied from the anode 3 to the light emitting layer 5 side.

正孔注入輸送層6の形成材料としては、正孔輸送材料を用いることができる。例えば、アリールアミン誘導体、アントラセン誘導体、カルバゾール誘導体、チオフェン誘導体、フルオレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スピロ化合物等を挙げることができる。上記の発光層5との同時形成を考慮して、上記したN,N´−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N´−ビス−(フェニル)−ベンジジン(TPD)を好ましく用いることができるが、これに限らず、例えば、アリールアミン誘導体の具体的としては、ビス(N−(1−ナフチル−N−フェニル)−ベンジジン(α−NPD)、コポリ[3,3´−ヒドロキシ−テトラフェニルベンジジン/ジエチレングリコール]カーボネート(PC−TPD−DEG)等を挙げることができる。カルバゾール類の具体例としては、ポリビニルカルバゾール(PVK)等を挙げることができる。チオフェン誘導体類の具体例としては、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−co−(ビチオフェン)]等を挙げることができる。フルオレン誘導体の具体例としては、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−co−(4,4´−(N−(4−sec−ブチルフェニル))ジフェニルアミン)](TFB)等を挙げることができる。スピロ化合物の具体例としては、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−alt−co−(9,9´−スピロ−ビフルオレン−2,7−ジイル)]等を挙げることができる。また、例えばポリ(3、4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホネート(略称PEDOT/PSS、バイエル社製、商品名;Baytron P CH8000、水溶液として市販。)等も用いることができる。これらの材料は単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   As a material for forming the hole injection transport layer 6, a hole transport material can be used. For example, arylamine derivatives, anthracene derivatives, carbazole derivatives, thiophene derivatives, fluorene derivatives, distyrylbenzene derivatives, spiro compounds, and the like can be given. In consideration of simultaneous formation with the light emitting layer 5 described above, the above-described N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (TPD) is preferably used. For example, specific examples of arylamine derivatives include bis (N- (1-naphthyl-N-phenyl) -benzidine (α-NPD), copoly [3,3′-hydroxy-tetra Phenylbenzidine / diethylene glycol] carbonate (PC-TPD-DEG), etc. Specific examples of carbazoles include polyvinyl carbazole (PVK), etc. Specific examples of thiophene derivatives include poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (bithiophene)] and the like. Specific examples of the len derivative include poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (4,4 ′-(N- (4-sec-butylphenyl)) diphenylamine)]. Specific examples of spiro compounds include poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -alt-co- (9,9′-spiro-bifluorene). -2,7-diyl)] etc. Further, for example, poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (abbreviation PEDOT / PSS, manufactured by Bayer, trade name: Baytron P CH8000, as an aqueous solution. (Commercially available) etc. These materials may be used alone or in combination of two or more.

こうした正孔注入輸送層6は、各種の方法で成膜でき、その厚さは使用する材料等によっても異なるが、例えば1nm〜50nm程度の範囲内であることが好ましい。   The hole injecting and transporting layer 6 can be formed by various methods, and the thickness thereof varies depending on the material used, but is preferably in the range of, for example, about 1 nm to 50 nm.

(電子注入輸送層)
電子注入輸送層7は、発光素子1の用途により必要に応じて設けられるものであって、発光層5と陰極4との間に設けられる。この「電子注入輸送層7」は、電子注入性と電子輸送性を兼ねる単一層(図1及び図2参照)として設けてもよいし、電子注入層と電子輸送層との積層形態からなるものであってもよい。いずれにおいても、電子注入輸送層7は、陰極4から供給された電子を発光層5側に輸送するように作用する。
(Electron injection transport layer)
The electron injecting and transporting layer 7 is provided as necessary depending on the use of the light emitting element 1, and is provided between the light emitting layer 5 and the cathode 4. This “electron injection transport layer 7” may be provided as a single layer (see FIGS. 1 and 2) having both electron injection properties and electron transport properties, or is formed of a laminated form of an electron injection layer and an electron transport layer. It may be. In any case, the electron injecting and transporting layer 7 functions to transport electrons supplied from the cathode 4 to the light emitting layer 5 side.

電子注入輸送層7の形成材料としては、電子輸送材料を用いることができる。例えば、金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、シリル化合物、フラーレン等が挙げられる。具体的には、フェナントロリン類の具体例としては、バソキュプロイン、バソフェナントロリン等が挙げられ、金属錯体の具体例としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)、ビス(2−メチル−8−キノリラト)(p−フェニルフェノラート)アルミニウム錯体(BAlq2)等が挙げられる。オキサジアゾール誘導体としては、(2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)(PBD)等が挙げられる。こうした電子注入輸送層7は、真空蒸着法あるいは上記材料を含有した電子注入輸送層形成用塗工液を用いた塗布法により形成される。 As a material for forming the electron injecting and transporting layer 7, an electron transporting material can be used. For example, a metal complex, an oxadiazole derivative, a triazole derivative, a phenanthroline derivative, a silyl compound, fullerene, and the like can be given. Specifically, specific examples of phenanthrolines include bathocuproin and bathophenanthroline, and specific examples of metal complexes include tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq 3 ), bis (2-methyl-8). -Quinolinato) (p-phenylphenolate) aluminum complex (BAlq2) and the like. Examples of the oxadiazole derivative include (2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) (PBD). Such an electron injecting and transporting layer 7 is formed by a vacuum deposition method or a coating method using an electron injecting and transporting layer forming coating solution containing the above materials.

こうした電子注入輸送層7は、各種の方法で成膜でき、その厚さは使用する材料等によっても異なるが、例えば1nm〜100nm程度の範囲内であることが好ましい。   Such an electron injecting and transporting layer 7 can be formed by various methods, and its thickness varies depending on the material used, but is preferably in the range of, for example, about 1 nm to 100 nm.

(その他の層)
電子注入層(図示しない)は、陰極4と電子注入輸送層7との間に、さらに電子注入性を高めようとする場合に、必要に応じて設けられ、陰極4から電子が注入され易いように作用する。電子注入層の形成材料としては、アルミニウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレートポリスチレンスルホン酸ナトリウム、リチウム、セシウム、フッ化セシウム等のようにアルカリ金属類、及びアルカリ金属類のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体等を挙げることができる。こうした電子注入層は、各種の方法で成膜でき、その厚さは使用する材料等によっても異なるが、例えば0.1nm〜200nm程度の範囲内であることが好ましい。
(Other layers)
An electron injection layer (not shown) is provided between the cathode 4 and the electron injection / transport layer 7 as needed to further enhance electron injection properties so that electrons can be easily injected from the cathode 4. Act on. As the material for forming the electron injection layer, aluminum, lithium fluoride, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, aluminum oxide, strontium oxide, calcium, polymethyl methacrylate polystyrene sulfonic acid Examples thereof include alkali metals such as sodium, lithium, cesium and cesium fluoride, halides of alkali metals, and organic complexes of alkali metals. Such an electron injection layer can be formed by various methods, and the thickness thereof varies depending on the material used, but is preferably in the range of, for example, about 0.1 nm to 200 nm.

正孔注入層(図示しない)は、陽極3と正孔注入輸送層6との間に、さらに正孔注入性を高めようとする場合に、必要に応じて設けられ、陽極3から正孔(ホール)が注入され易いように作用する。正孔注入層の形成材料としては、例えばポリ(3、4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホネート(略称PEDOT/PSS、バイエル社製、商品名;Baytron P CH8000、水溶液として市販。)等、従来から正孔注入層形成用材料として知られているものを用いることができる。こうした正孔注入層は、各種の方法で成膜でき、その厚さは使用する材料等によっても異なるが、例えば0.1nm〜200nm程度の範囲内であることが好ましい。   A hole injection layer (not shown) is provided between the anode 3 and the hole injection / transport layer 6 as needed to further increase the hole injection property. Hole) acts so as to be easily injected. As a material for forming the hole injection layer, for example, poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (abbreviated as PEDOT / PSS, manufactured by Bayer, trade name: Baytron P CH8000, commercially available as an aqueous solution) is conventionally used. What is known as a hole injection layer forming material can be used. Such a hole injection layer can be formed by various methods, and the thickness thereof varies depending on the material used, but is preferably in the range of, for example, about 0.1 nm to 200 nm.

パッシペーション層(図示しない)も必要に応じて設けられ、形成した発光層5や電子注入輸送層7等が、水蒸気や酸素で劣化しないようにするために、素子全体を覆うように設けられる層である。こうしたパッシペーション層の形成材料としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素等を挙げることができる。その厚さは、形成材料によっても異なるが、水蒸気や酸素で劣化しない程度の厚さで形成される。   A passivation layer (not shown) is also provided as necessary, and is a layer provided so as to cover the entire element so that the formed light emitting layer 5, electron injection transport layer 7 and the like are not deteriorated by water vapor or oxygen. It is. Examples of the material for forming such a passivation layer include silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride. The thickness differs depending on the forming material, but is formed to a thickness that does not deteriorate with water vapor or oxygen.

反射層(図示しない)も必須の層ではないが、発光層5で生じた光を効率的に外部に取り出すための層であり、発光効率を高めるために設けられる層である。
できるので好ましく設けられる。この反射層は独立の層として単独で設けてもよいし、全反射層と半透明反射層とのペアで構成した共振器構造として設けてもよい。こうした反射層は、通常、透明導電膜や、金、クロムのような金属層が好ましく用いられる。
Although the reflective layer (not shown) is not an essential layer, it is a layer for efficiently extracting the light generated in the light emitting layer 5 to the outside, and is a layer provided to increase the light emission efficiency.
Since it is possible, it is provided preferably. This reflective layer may be provided independently as an independent layer, or may be provided as a resonator structure constituted by a pair of a total reflection layer and a semitransparent reflection layer. Usually, a transparent conductive film or a metal layer such as gold or chrome is preferably used for such a reflective layer.

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
先ず、陽極として厚さ150nmのITO膜が形成されたガラス基材上に、正孔注入輸送層として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホン酸(PEDOT−PSS)薄膜(厚さ:80nm)を、PEDOT−PSS溶液を大気中でスピンコート法により塗布して成膜した。PEDOT−PSS成膜後、水分を蒸発させるために大気中でホットプレートを用いて乾燥させた。
Example 1
First, a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonic acid (PEDOT-PSS) thin film (thickness) is used as a hole injecting and transporting layer on a glass substrate on which an ITO film having a thickness of 150 nm is formed as an anode. The film was formed by applying the PEDOT-PSS solution in the air by spin coating. After the PEDOT-PSS film formation, the film was dried using a hot plate in the air in order to evaporate the water.

次に、赤色発光する量子ドット(粒径:5.6nm、エビデントテクノロジー社製、バンドギャップ:2eV)と、ZnOからなる半導体微粒子(粒径:10nm、バンドギャップ:3.4eV)からなる混合溶液を調整し、その混合溶液を正孔注入輸送層上に塗布して厚さ40nmの発光層を形成した。次に、その発光層上に、電子注入輸送層として、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3)(厚さ:20nm)を、真空中(圧力:1×10−4Pa)で抵抗加熱蒸着法により成膜し、次に、その上にさらに電子注入層としてLiF(厚さ:0.5nm)を成膜し、さらにその上にAl(厚さ:100nm)を真空中(圧力:1×10−4Pa)で抵抗加熱蒸着法により成膜した。 Next, a mixture consisting of quantum dots emitting red light (particle size: 5.6 nm, manufactured by Evident Technology, band gap: 2 eV) and semiconductor fine particles composed of ZnO (particle size: 10 nm, band gap: 3.4 eV) The solution was prepared, and the mixed solution was applied onto the hole injecting and transporting layer to form a light emitting layer having a thickness of 40 nm. Next, on the light emitting layer, tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq3) (thickness: 20 nm) is deposited by resistance heating in vacuum (pressure: 1 × 10 −4 Pa) as an electron injecting and transporting layer. Then, LiF (thickness: 0.5 nm) is further formed thereon as an electron injection layer, and Al (thickness: 100 nm) is further formed thereon in a vacuum (pressure: 1 × 10 −4 Pa) was formed by resistance heating vapor deposition.

こうして発光素子を形成した後、グローブボックス内にて、その発光素子を、無アルカリガラスとUV硬化型エポキシ接着剤を用いて封止して、実施例1の発光素子を作製した。   After forming the light emitting element in this way, the light emitting element was sealed with a non-alkali glass and a UV curable epoxy adhesive in a glove box, and the light emitting element of Example 1 was manufactured.

(比較例1)
実施例1において、発光層に赤色発光する量子ドットのみを用いて、厚さ40nmの発光層を形成した他は、実施例1と同様にして、比較例1の発光素子を作製した。
(Comparative Example 1)
A light emitting device of Comparative Example 1 was fabricated in the same manner as in Example 1, except that a light emitting layer having a thickness of 40 nm was formed using only quantum dots emitting red light in the light emitting layer.

(膜厚の測定)
本発明で記述される各層の厚さは、特に記載がない限り、洗浄済みのITO付きガラス基板(三容真空社製)上へ各層を単膜で形成し、作製した段差を測定することによって決定した。膜厚測定には、プローブ顕微鏡(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製、Nanopics1000)を用いた。
(Measurement of film thickness)
Unless otherwise specified, the thickness of each layer described in the present invention is obtained by forming each layer as a single film on a cleaned glass substrate with ITO (manufactured by Sanyo Vacuum Co., Ltd.) and measuring the steps produced. Were determined. A probe microscope (manufactured by SII Nanotechnology Inc., Nanopics 1000) was used for film thickness measurement.

(バンドギャップ)
量子ドットと半導体微粒子のバンドギャップは、光学吸収スペクトルの値からバンドギャップEgを算出した。吸収スペクトルは、洗浄済みの石英基板上に、測定しようとする材料で形成した層を単層として形成し、この薄膜付基板とリファレンスの石英基板との光学吸収の差を、UV−3100PC(日立製)を用いて測定した。
(Band gap)
For the band gap between the quantum dots and the semiconductor fine particles, the band gap Eg was calculated from the value of the optical absorption spectrum. The absorption spectrum is obtained by forming a layer formed of a material to be measured as a single layer on a cleaned quartz substrate, and calculating the difference in optical absorption between the substrate with a thin film and the reference quartz substrate by UV-3100PC (Hitachi). ).

(粒径)
量子ドットと半導体微粒子の粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)、X線結晶回折(XRD)により評価し、平均粒径で表した。
(Particle size)
The particle diameters of the quantum dots and the semiconductor fine particles were evaluated by a transmission electron microscope (TEM) and X-ray crystal diffraction (XRD), and represented by an average particle diameter.

(有機EL素子の電流効率と電力効率)
実施例1及び比較例1の発光素子の電流効率と寿命特性を評価した。電流効率と電力効率は、電流−電圧−輝度(I−V−L)測定により算出した。I−V−L測定は、陰極を接地して陽極に正の直流電圧を100mV刻みで走査(1sec./div.)して印加し、各電圧における電流と輝度を記録して行った。輝度はトプコン社製輝度計BM−8を用いて測定した。得られた結果をもとに、発光効率(cd/A)は発光面積と電流と輝度から計算して算出した。その結果、実施例1の発光素子の発光効率は、比較例1の発光素子の発光効率よりも高い値であった。
(Current efficiency and power efficiency of organic EL elements)
The current efficiency and lifetime characteristics of the light-emitting elements of Example 1 and Comparative Example 1 were evaluated. Current efficiency and power efficiency were calculated by current-voltage-luminance (IV-L) measurement. The IVL measurement was performed by grounding the cathode, applying a positive DC voltage to the anode in 100 mV increments (1 sec./div.), And recording the current and luminance at each voltage. The luminance was measured using a luminance meter BM-8 manufactured by Topcon Corporation. Based on the obtained results, the light emission efficiency (cd / A) was calculated from the light emission area, current, and luminance. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element of Example 1 was higher than the light emission efficiency of the light emitting element of Comparative Example 1.

本発明の発光素子の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the light emitting element of this invention. 本発明の発光素子の発光原理を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the light emission principle of the light emitting element of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 発光素子
2 基材
3 陽極
4 陰極
5 発光層
6 正孔注入輸送層
7 電子注入輸送層
11 量子ドット
12 半導体微粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light emitting element 2 Base material 3 Anode 4 Cathode 5 Light emitting layer 6 Hole injection transport layer 7 Electron injection transport layer 11 Quantum dot 12 Semiconductor fine particle

Claims (4)

少なくとも、陽極と、量子ドットを有する発光層と、陰極とをその順で有する発光素子であって、
前記発光層は、前記量子ドットよりもバンドギャップが大きい半導体微粒子を含み、該半導体微粒子の粒径が前記量子ドットの粒径よりも大きいことを特徴とする発光素子。
A light emitting device having at least an anode, a light emitting layer having quantum dots, and a cathode in that order;
The light emitting layer includes semiconductor fine particles having a larger band gap than the quantum dots, and the particle size of the semiconductor fine particles is larger than the particle size of the quantum dots.
前記半導体微粒子の粒径が、前記量子ドットの粒径の1.1倍〜40倍である、請求項1に記載の発光素子。   The light emitting element of Claim 1 whose particle size of the said semiconductor fine particle is 1.1 to 40 times the particle size of the said quantum dot. 前記半導体微粒子のバンドギャップと、前記量子ドットのバンドギャップとの差が、0.1eV以上2eV以下である、請求項1又は2に記載の発光素子。   The light emitting element of Claim 1 or 2 whose difference of the band gap of the said semiconductor fine particle and the band gap of the said quantum dot is 0.1 eV or more and 2 eV or less. 前記半導体微粒子が酸化亜鉛であり、前記量子ドットがCdSe/ZnS型のコアシェル構造からなる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光素子。   4. The light emitting device according to claim 1, wherein the semiconductor fine particles are zinc oxide, and the quantum dots have a CdSe / ZnS type core-shell structure.
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