KR20200140841A - Mixed composition - Google Patents

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KR20200140841A KR1020207031032A KR20207031032A KR20200140841A KR 20200140841 A KR20200140841 A KR 20200140841A KR 1020207031032 A KR1020207031032 A KR 1020207031032A KR 20207031032 A KR20207031032 A KR 20207031032A KR 20200140841 A KR20200140841 A KR 20200140841A
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사야카 사쿠라이
도모히로 이토
도모노리 미야모토
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 발수성, 발유성 및 내황산성이 우수한 피막을 실현할 수 있는 조성물의 제공을 목적으로 한다. 본 발명은, 적어도 1개의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와, 적어도 1개의 가수분해성 기가 규소 원자에 결합해 있는 유기 규소 화합물 (a), 유기 폴리실라잔 (b), 및 용매 (c)의 혼합 조성물로서, 상기 혼합 조성물 100 질량%에 대하여, 상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 합계의 농도가 0.2 질량% 이상 2.6 질량% 미만인 조성물에 관한 것이다.An object of the present invention is to provide a composition capable of realizing a film having excellent water repellency, oil repellency and sulfuric acid resistance. The present invention is a mixture of at least one trialkylsilyl group-containing molecular chain and an organosilicon compound (a), an organic polysilazane (b), and a solvent (c) in which at least one hydrolyzable group is bonded to a silicon atom. The composition relates to a composition wherein the total concentration of the organosilicon compound (a) and the organopolysilazane (b) is 0.2 mass% or more and less than 2.6 mass% with respect to 100 mass% of the mixed composition.

Figure P1020207031032
Figure P1020207031032

Description

혼합 조성물Mixed composition

본 발명은 유기 규소 화합물과 유기 폴리실라잔의 혼합 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a mixed composition of an organosilicon compound and an organopolysilazane.

각종 표시 장치, 광학 소자, 반도체 소자, 건축 재료, 자동차 부품, 나노 임프린트 기술 등에 있어서, 기재의 표면에 액적이 부착됨으로써, 기재의 오염이나 부식, 또한 이 오염이나 부식에 유래하는 성능 저하 등의 문제가 생기는 경우가 있다. 그 때문에, 이들 분야에 있어서, 기재 표면의 발수(撥水)·발유(撥油)성이 양호한 것이 요구되고 있다.In various display devices, optical devices, semiconductor devices, building materials, automobile parts, nanoimprint technology, etc., problems such as contamination or corrosion of the base material due to the adhesion of droplets to the surface of the base material, and performance degradation resulting from this contamination or corrosion May occur. Therefore, in these fields, it is desired to have good water repellency and oil repellency on the surface of the substrate.

이와 같은 발수·발유성을 갖는 조성물로서, 특허문헌 1, 2에는 폴리실라잔 및 실리콘 오일을 함유하는 코팅제가 개시되어 있다.As a composition having such water and oil repellency, Patent Documents 1 and 2 disclose coating agents containing polysilazane and silicone oil.

일본 공개특허 특개2014-139301호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2014-139301 일본 공개특허 특개2012-153849호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-153849

발수·발유성의 피막은, 옥외 등의 용도에 따라서는, 자외선이나 빗물 등의 가혹한 환경에 노출되는 경우가 있어, 가혹한 환경에 노출된 후에도 양호한 성능을 유지할 수 있는 것이 바람직하다. 옥외에서는 대기 중의 SOX나 NOX와 수분이 반응함으로써 생기는 황산이나 질산이, 피막의 열화를 초래한다는 것이 검토 결과 명백하게 되어 왔다. 그 때문에, 내산성(특히 강한 열화 인자인 내황산성)이 양호한 피막이 요구되고 있다. 그러나, 특허문헌 1, 2에 개시되어 있는 코팅제를 이용하여 얻어지는 피막은, 내마모성, 내황산성, 외관 등에 있어서, 검토의 여지가 남겨져 있다.The water-repellent and oil-repellent film may be exposed to harsh environments such as ultraviolet rays or rain, depending on applications such as outdoors, and it is desirable that good performance can be maintained even after exposure to harsh environments. In the outdoors it is that the sulfuric acid and nitric acid generated by the reaction SO X and NO X, and moisture in the air, resulting in deterioration of the film has been apparent review. Therefore, a coating having good acid resistance (especially strong deterioration factor, sulfuric acid resistance) is required. However, the film obtained by using the coating agent disclosed in Patent Documents 1 and 2 leaves room for examination in terms of abrasion resistance, sulfuric acid resistance, appearance, and the like.

본 발명은 상기와 같은 사정에 착안하여 이루어진 것으로서, 발수·발유성이 우수하고, 또한 적어도 내황산성도 우수한 피막을 실현할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a composition capable of realizing a film having excellent water and oil repellency and at least excellent in sulfuric acid resistance.

본 발명의 조성물로부터 얻어지는 피막은, 또한, 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관, 내온수성의 적어도 하나 이상에도 우수한 것이 바람직하고, 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관, 내온수성 모두가 우수한 것이 보다 바람직하다.The film obtained from the composition of the present invention is also preferably excellent in at least one or more of droplet sliding properties, abrasion resistance, appearance, and hot water resistance, and more preferably excellent in both droplet sliding properties, abrasion resistance, appearance, and hot water resistance.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구를 거듭한 결과, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와 가수분해성 기가 규소 원자에 결합해 있는 유기 규소 화합물과 유기 폴리실라잔을 소정의 농도로 혼합함으로써, 발수·발유성과 내황산성이 우수하고, 바람직하게는 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관, 내온수성도 우수한 피막이 얻어진다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하였다. 본 발명은 이하와 같다.The present inventors, as a result of repeated intensive research in order to solve the above problems, by mixing an organosilicon compound in which a trialkylsilyl group-containing molecular chain and a hydrolyzable group are bonded to a silicon atom and an organopolysilazane at a predetermined concentration, The present invention was completed by finding that a film having excellent water/oil repellency and sulfuric acid resistance, preferably excellent in droplet sliding properties, abrasion resistance, appearance, and hot water resistance, can be obtained. The present invention is as follows.

[1] 적어도 1개의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와, 적어도 1개의 가수분해성 기가 규소 원자에 결합해 있는 유기 규소 화합물 (a), 유기 폴리실라잔 (b), 및 용매 (c)의 혼합 조성물로서,[1] Mixed composition of an organosilicon compound (a), an organic polysilazane (b), and a solvent (c) having at least one trialkylsilyl group-containing molecular chain and at least one hydrolyzable group bonded to a silicon atom as,

상기 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,The hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group may be substituted with a fluorine atom,

상기 조성물 100 질량%에 대하여, 상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 합계의 농도가 0.2 질량% 이상 2.6 질량% 미만인 혼합 조성물.A mixed composition wherein the total concentration of the organosilicon compound (a) and the organopolysilazane (b) is 0.2% by mass or more and less than 2.6% by mass based on 100% by mass of the composition.

[2] 상기 유기 폴리실라잔 (b)가, 하기 식 (B2)로 나타내어지는 구조 단위를 갖는 [1]에 기재된 조성물.[2] The composition according to [1], wherein the organic polysilazane (b) has a structural unit represented by the following formula (B2).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

[상기 식 (B2) 중, Rp21, Rp22, 및 Rp23은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다. 단, Rp21 및 Rp22의 적어도 일방(一方)은 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다.][In the formula (B2), R p21 , R p22 , and R p23 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. However, at least one of R p21 and R p22 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.]

[3] 상기 유기 규소 화합물 (a)가 하기 식 (A1)로 나타내어지는 화합물인 [1] 또는 [2]에 기재된 조성물.[3] The composition according to [1] or [2], wherein the organosilicon compound (a) is a compound represented by the following formula (A1).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[상기 식 (A1) 중, Ra1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄를 나타내고,[In the formula (A1), R a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain,

복수의 Aa1은, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타내고,A plurality of A a1 each independently represents a hydrolyzable group,

Za1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 실록산 골격 함유 기, 또는 탄화수소쇄 함유 기를 나타내고, Z a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a siloxane skeleton-containing group, or a hydrocarbon chain-containing group,

Ra1 및 Za1에 있어서의 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,The hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group in R a1 and Z a1 may be substituted with a fluorine atom,

x는 0 또는 1이다.]x is 0 or 1.]

[4] 상기 유기 규소 화합물 (a)가 하기 식 (A2)로 나타내어지는 화합물인 [1]∼[3] 중 어느 것에 기재된 조성물.[4] The composition according to any one of [1] to [3], wherein the organosilicon compound (a) is a compound represented by the following formula (A2).

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

[상기 식 (A2) 중, 복수의 Rs1은, 각각 독립적으로, 탄화수소기 또는 트리알킬실릴옥시기를 나타내고, 당해 탄화수소기 또는 트리알킬실릴옥시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,[In the formula (A2), a plurality of Rs1 each independently represents a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group, and the hydrogen atom contained in the hydrocarbon group or trialkylsilyloxy group may be substituted with a fluorine atom,

복수의 Rs2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내고, A plurality of R s2 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,

n1은 1 이상의 정수를 나타내고, n1 represents an integer of 1 or more,

Zs1은 -O- 또는 2가의 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.Z s1 represents -O- or a divalent hydrocarbon group, and -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O-.

Ys1은 단결합 또는 -Si(Rs2)2-Ls1-를 나타내고, 당해 Ls1은, 2가의 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.Y s1 represents a single bond or -Si(R s2 ) 2 -L s1 -, the L s1 represents a divalent hydrocarbon group, and -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group is substituted with -O- You may have it.

복수의 Aa1은, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타내고, A plurality of A a1 each independently represents a hydrolyzable group,

Za1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 실록산 골격 함유 기, 또는 탄화수소쇄 함유 기를 나타내고, Z a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a siloxane skeleton-containing group, or a hydrocarbon chain-containing group,

Za1에 있어서의 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,The hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group for Z a1 may be substituted with a fluorine atom,

x는 0 또는 1이다.]x is 0 or 1.]

[5] 상기 유기 폴리실라잔 (b)가, 하기 식 (B1)로 나타내어지는 구조 단위를 추가로 갖는 [2]∼[4] 중 어느 것에 기재된 조성물.[5] The composition according to any of [2] to [4], wherein the organic polysilazane (b) further has a structural unit represented by the following formula (B1).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

[상기 식 (B1) 중, Rp10 및 Rp11은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타내고, [In the formula (B1), R p10 and R p11 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,

Y는 탄소수 1∼10의 2가의 탄화수소기를 나타내고, Y represents a C1-C10 divalent hydrocarbon group,

복수의 X는, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타낸다.]Each of a plurality of Xs independently represents a hydrolyzable group.]

[6] 상기 유기 폴리실라잔 (b)가, 상기 식 (B1)의 SiX3기를 2 질량%∼50 질량% 함유하는 [5]에 기재된 조성물.[6] The composition according to [5], wherein the organic polysilazane (b) contains 2% by mass to 50% by mass of the SiX 3 group represented by the formula (B1).

[7] 상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 질량비 (a/b)가 0.2 이상인 [1]∼[6] 중 어느 것에 기재된 조성물.[7] The composition according to any of [1] to [6], wherein the mass ratio (a/b) of the organosilicon compound (a) and the organic polysilazane (b) is 0.2 or more.

[8] [1]∼[7] 중 어느 것에 기재된 조성물의 경화물인 피막.[8] A film which is a cured product of the composition according to any one of [1] to [7].

[9] 기재 상에 [8]에 기재된 피막이 피복된 피복체로서, X선 반사율법에 의해 구해진 기재측의 피막의 밀도가 0.9 g/㎤ 이상인 피복체.[9] A coating body in which the film according to [8] is coated on a base material, wherein the density of the film on the side of the base material determined by the X-ray reflectance method is 0.9 g/cm 3 or more.

본 발명에 의하면, 유기 규소 화합물과 유기 폴리실라잔을 소정의 농도로 혼합함으로써, 발수·발유성 및 내황산성이 우수한 피막을 실현할 수 있는 조성물을 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명의 조성물로부터 얻어지는 피막은, 옥외이더라도 발수·발유성을 장기간 유지할 수 있는 경향이 있다. 본 발명의 조성물로부터 얻어지는 피막은, 또한, 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관, 내온수성의 적어도 하나 이상에도 우수한 것이 바람직하고, 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관, 내온수성의 모두가 우수한 것이 보다 바람직하다.According to the present invention, it is possible to provide a composition capable of realizing a film having excellent water/oil repellency and sulfuric acid resistance by mixing an organosilicon compound and an organic polysilazane at a predetermined concentration. Therefore, the film obtained from the composition of the present invention tends to be able to maintain water and oil repellency for a long time even outdoors. The film obtained from the composition of the present invention is also preferably excellent in at least one or more of droplet sliding properties, abrasion resistance, appearance, and hot water resistance, and more preferably excellent in all of droplet sliding properties, abrasion resistance, appearance, and hot water resistance.

도 1은 XRR 측정에 있어서의 피팅 처리의 일례를 나타낸 그래프이다.1 is a graph showing an example of a fitting process in XRR measurement.

본 발명의 조성물은, 적어도 1개의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와, 적어도 1개의 가수분해성 기가 규소 원자(이하, 이 규소 원자를 「중심 규소 원자」라고 하는 경우가 있음)에 결합해 있는 유기 규소 화합물 (a) 및 유기 폴리실라잔 (b)를 소정의 농도로 혼합함으로써 얻어지고, 피막으로 하였을 때의 발수·발유성 및 내황산성(바람직하게는, 발수·발유성 및 내황산성에 추가하여 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관 및 내온수성)이 우수하다는 것이 발견되었다.The composition of the present invention is an organosilicon in which at least one trialkylsilyl group-containing molecular chain and at least one hydrolyzable group are bonded to a silicon atom (hereinafter, this silicon atom may be referred to as a ``center silicon atom''). It is obtained by mixing the compound (a) and the organic polysilazane (b) at a predetermined concentration, and when it is formed into a film, the water/oil repellency and sulfuric acid resistance (preferably, in addition to the water/oil repellency and sulfuric acid resistance) It was found to be excellent in slip properties, abrasion resistance, appearance and hot water resistance).

또한, 본 발명의 조성물은 혼합 후, 예를 들면, 보관 중에 반응이 진행된 것도 포함한다.In addition, the composition of the present invention includes those in which the reaction proceeds after mixing, for example, during storage.

본 발명에 있어서의 유기 규소 화합물 (a)는, 적어도 1개의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와, 적어도 1개의 가수분해성 기가 중심 규소 원자에 결합해 있다.In the organosilicon compound (a) in the present invention, at least one trialkylsilyl group-containing molecular chain and at least one hydrolyzable group are bonded to a central silicon atom.

유기 규소 화합물 (a)에 있어서, 중심 규소 원자에 결합하는 트리알킬실릴기 함유 분자쇄의 개수는 1 이상이고, 3 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 이하이고, 특히 바람직하게는 1이다.In the organosilicon compound (a), the number of trialkylsilyl group-containing molecular chains bonded to the central silicon atom is 1 or more, preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.

상기 가수분해성 기로서는, 가수분해에 의해 히드록시기(실라놀기)를 부여하는 기이면 되고, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기; 히드록시기; 아세톡시기; 염소 원자; 이소시아네이트기; 등을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼6의 알콕시기인 것이 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알콕시기인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알콕시기인 것이 더 바람직하다.The hydrolyzable group may be a group that provides a hydroxy group (silanol group) by hydrolysis, and examples thereof include alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group; Hydroxy group; Acetoxy group; Chlorine atom; Isocyanate group; Etc. are mentioned preferably. Especially, it is preferable that it is a C1-C6 alkoxy group, it is more preferable that it is a C1-C4 alkoxy group, and it is still more preferable that it is a C1-C2 alkoxy group.

유기 규소 화합물 (a)에 있어서, 중심 규소 원자에 결합하는 가수분해성 기의 개수는 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 통상 3 이하인 것이 바람직하다.In the organosilicon compound (a), the number of hydrolyzable groups bonded to the central silicon atom is 1 or more, preferably 2 or more, and usually 3 or less.

또한, 후술하는 바와 같이, 본 발명의 유기 규소 화합물 (a)는 다수의 규소 원자를 갖고 있고, 가수분해성 기는 두 개 이상의 규소 원자에 결합해 있어도 되지만, 상기 1개의 중심 규소 원자에만 결합해 있는 것이 특히 바람직하다.In addition, as described later, the organosilicon compound (a) of the present invention has a plurality of silicon atoms, and the hydrolyzable group may be bonded to two or more silicon atoms, but it is only bonded to the one central silicon atom. It is particularly preferred.

유기 규소 화합물 (a)의 중심 규소 원자에는, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 가수분해성 기 외에, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄의 분자쇄를 구성하는 원소수보다 적은 원소수의 실록산 골격 함유 기, 또는 트리알킬실릴기 함유 분자쇄의 분자쇄를 구성하는 원소수보다 적은 탄소수의 탄화수소쇄를 함유하는 탄화수소쇄 함유 기가 결합해 있어도 된다.In the central silicon atom of the organosilicon compound (a), in addition to the trialkylsilyl group-containing molecular chain and the hydrolyzable group, a siloxane skeleton-containing group having fewer elements than the number of elements constituting the molecular chain of the trialkylsilyl group-containing molecular chain, Alternatively, a hydrocarbon chain-containing group containing a hydrocarbon chain having fewer carbon atoms than the number of elements constituting the molecular chain of the trialkylsilyl group-containing molecular chain may be bonded.

본 발명의 조성물은 상기 유기 규소 화합물 (a)를 2종 이상 혼합해도 된다.In the composition of the present invention, two or more kinds of the organosilicon compounds (a) may be mixed.

상기 유기 규소 화합물 (a)는, 구체적으로는 하기 식 (A1)로 나타내어지는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the said organosilicon compound (a) is a compound specifically represented by following formula (A1).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

식 (A1) 중, Ra1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄를 나타내고, 복수의 Aa1은, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타내고, Za1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 실록산 골격 함유 기, 또는 탄화수소쇄 함유 기를 나타내고, Ra1 및 Za1에 있어서의 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, x는 0 또는 1이다.In formula (A1), R a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a plurality of A a1 each independently represents a hydrolyzable group, and Z a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a siloxane skeleton-containing group, Or a group containing a hydrocarbon chain, and the hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group in R a1 and Z a1 may be substituted with a fluorine atom, and x is 0 or 1.

Ra1의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄는, 트리알킬실릴 함유 기가 분자쇄의 말단에 결합한 구조를 갖는 1가의 기이고, 분자쇄에 트리알킬실릴 함유 기가 결합해 있음으로써, 본 발명의 조성물로부터 형성되는 피막의 발수성 및 발유성이 향상된다. 또, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄가 존재함으로써, 액적(수적(水滴), 유적(油滴) 등)과 당해 피막의 사이의 저항이 저감되어, 액적이 이동하기 쉬워진다. 트리알킬실릴 함유 기의 알킬기가 플루오로알킬기로 치환되어 있는 경우에 있어서도, 마찬가지로 당해 피막 계면(표면)의 발수·발유성을 향상할 수 있다. 또한, 트리알킬실릴기가 당해 피막 표면에 편재함으로써, 황산이나 온수가 막 중에 확산하는 것을 막아, 높은 내황산성을 갖는 막이 얻어지고, 바람직하게는 높은 내온수성도 갖는 막이 얻어진다.The trialkylsilyl group-containing molecular chain of R a1 is a monovalent group having a structure in which the trialkylsilyl-containing group is bonded to the end of the molecular chain, and formed from the composition of the present invention by the trialkylsilyl-containing group bonded to the molecular chain. The water repellency and oil repellency of the resulting film are improved. In addition, the presence of the trialkylsilyl group-containing molecular chain reduces the resistance between the droplet (water droplets, oil droplets, etc.) and the film, so that the droplet is liable to move. In the case where the alkyl group of the trialkylsilyl-containing group is substituted with a fluoroalkyl group, the water and oil repellency of the film interface (surface) can be similarly improved. Further, when the trialkylsilyl group is unevenly distributed on the surface of the film, diffusion of sulfuric acid or hot water into the film is prevented, a film having high sulfuric acid resistance is obtained, and preferably a film having high temperature water resistance is obtained.

상기 트리알킬실릴 함유 기는, 적어도 1개의 트리알킬실릴기를 포함하는 기이고, 바람직하게는 2개 이상, 더 바람직하게는 3개의 트리알킬실릴기를 포함한다. 트리알킬실릴 함유 기는 식 (s1)로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.The trialkylsilyl-containing group is a group containing at least one trialkylsilyl group, preferably two or more, and more preferably three trialkylsilyl groups. It is preferable that the trialkylsilyl-containing group is a group represented by formula (s1).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (s1) 중, 복수의 Rs1은, 각각 독립적으로, 탄화수소기 또는 트리알킬실릴옥시기를 나타내고, 당해 탄화수소기 또는 트리알킬실릴옥시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. *은 결합손을 나타낸다.In formula (s1), a plurality of Rs1 each independently represents a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group, and the hydrogen atom contained in the hydrocarbon group or trialkylsilyloxy group may be substituted with a fluorine atom. * Represents a bonding hand.

상기 식 (s1)에 있어서, Rs1의 적어도 1개가 트리알킬실릴옥시기이거나, Rs1이 모두 알킬기인 것이 바람직하다.In the formula (s1), with at least one of R s1 or tree silyloxy alkyl, it is preferred that R s1 are both an alkyl group;

Rs1이 탄화수소기인 경우, 그 탄소수는 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2이다. Rs1이 탄화수소기인 경우, 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다. 당해 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등을 들 수 있다. 복수의 Rs1은 동일해도 되고 달라도 되며, 동일한 것이 바람직하다. Rs1이 모두 탄화수소기(특히 알킬기)인 경우, 3개의 Rs1의 합계의 탄소수는 9 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6 이하, 더 바람직하게는 4 이하이다. 3개의 Rs1 중 적어도 1개가 메틸기인 것이 바람직하고, 적어도 2개가 메틸기인 것이 보다 바람직하고, 3개의 Rs1 모두가 메틸기인 것이 특히 바람직하다.When R s1 is a hydrocarbon group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2. When R s1 is a hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group is preferable, and an alkyl group is more preferable. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. A plurality of Rs1 may be the same or different, and the same is preferable. When all of R s1 are hydrocarbon groups (especially alkyl groups), the total number of carbon atoms of the three R s1s is preferably 9 or less, more preferably 6 or less, and still more preferably 4 or less. It is preferable that at least one of the three R s1 is a methyl group, more preferably at least two of the three R s1 are methyl groups, and it is particularly preferable that all of the three R s1 are methyl groups.

Rs1이 모두 탄화수소기(알킬기)인 기(트리알킬실릴기)로서는, 구체적으로는 하기 식으로 나타내어지는 기 등을 들 수 있다. 식 중, *은 결합손을 나타낸다. Examples of the group (trialkylsilyl group) in which all of R s1 are hydrocarbon groups (alkyl groups) include groups specifically represented by the following formulas. In the formula, * represents a bond hand.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

또, 상기 식 (s1)에 있어서, Rs1이 트리알킬실릴옥시기인 경우, Rs1의 적어도 1개가 트리알킬실릴옥시기인 것이 바람직하다. 상기 트리알킬실릴옥시기로서는, Rs1이 모두 탄화수소기(알킬기)인 기(트리알킬실릴기)의 규소 원자에 산소 원자가 결합해 있는 기를 들 수 있다. 상기 식 (s1)에 있어서, 보다 바람직하게는 2개 이상, 더 바람직하게는 3개의 Rs1이 트리알킬실릴옥시기이다.Further, in the above formula (s1), when R s1 is a trialkylsilyloxy group, it is preferable that at least one of R s1 is a trialkylsilyloxy group. Examples of the trialkylsilyloxy group include a group in which an oxygen atom is bonded to a silicon atom of a group (trialkylsilyl group) in which all Rs1 is a hydrocarbon group (alkyl group). In the above formula (s1), more preferably two or more, still more preferably three R s1 are trialkylsilyloxy groups.

Rs1의 적어도 1개가 트리알킬실릴옥시기인 기로서는, 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다.As a group in which at least one of R s1 is a trialkylsilyloxy group, a group represented by the following formula is mentioned.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

트리알킬실릴기 함유 분자쇄에 있어서, 트리알킬실릴 함유 기는 분자쇄의 말단(자유단측), 특히 분자쇄의 주쇄(최장 직쇄)의 말단(자유단측)에 결합해 있는 것이 바람직하다.In the trialkylsilyl group-containing molecular chain, the trialkylsilyl-containing group is preferably bonded to the terminal (free end side) of the molecular chain, particularly to the terminal (free end side) of the main chain (longest straight chain) of the molecular chain.

트리알킬실릴 함유 기가 결합해 있는 분자쇄는, 직쇄상 또는 분기쇄상인 것이 바람직하고, 직쇄상인 것이 바람직하다. 상기 분자쇄는 디알킬실록산쇄를 포함하는 것이 바람직하고, 직쇄상 디알킬실록산쇄를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 상기 분자쇄는 2가의 탄화수소기를 포함하고 있어도 된다. 분자쇄의 일부가 2가의 탄화수소기이더라도, 잔부가 디알킬실록산쇄이기 때문에, 얻어지는 피막의 화학적·물리적 내구성이 양호하다.The molecular chain to which the trialkylsilyl-containing group is bonded is preferably linear or branched, and preferably linear. The molecular chain preferably includes a dialkylsiloxane chain, and preferably includes a linear dialkylsiloxane chain. Further, the molecular chain may contain a divalent hydrocarbon group. Even if a part of the molecular chain is a divalent hydrocarbon group, since the remainder is a dialkylsiloxane chain, the chemical and physical durability of the resulting film is good.

상기 분자쇄는 식 (s2)로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.It is preferable that the molecular chain is a group represented by formula (s2).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식 (s2) 중, 복수의 Rs2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. Zs1은 -O- 또는 2가의 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다. Ys1은 단결합 또는 -Si(Rs2)2-Ls1-를 나타낸다. Ls1은 2가의 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다. 좌측의 *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타내고, 우측의 *은 트리알킬실릴 함유 기와의 결합손을 나타낸다. n1은 1 이상의 정수를 나타낸다.In formula (s2), a plurality of Rs2 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Z s1 represents -O- or a divalent hydrocarbon group, and -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O-. Y s1 represents a single bond or -Si(R s2 ) 2 -L s1 -. L s1 represents a divalent hydrocarbon group, and -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O-. * On the left represents a hand bonded to a central silicon atom, and * on the right represents a hand bonded to a trialkylsilyl-containing group. n1 represents an integer of 1 or more.

Rs2의 탄소수는 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2이다.The number of carbon atoms of R s2 is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.

n1은 1∼100인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼80, 더 바람직하게는 1∼60, 특별히 바람직하게는 1∼45의 정수, 특히 바람직하게는 1∼30이다.n1 is preferably 1 to 100, more preferably 1 to 80, more preferably 1 to 60, particularly preferably an integer of 1 to 45, and particularly preferably 1 to 30.

Zs1 및 Ls1에 있어서의 2가의 탄화수소기의 탄소수는 1∼10인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼6, 더 바람직하게는 1∼4이다. 상기 2가의 탄화수소기는 쇄상인 것이 바람직하고, 쇄상인 경우, 직쇄상, 분기쇄상의 어느 것이어도 된다. 또, 상기 2가의 탄화수소기는 2가의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알칸디일기인 것이 바람직하다. 2가의 탄화수소기로서는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있다.The number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group in Z s1 and L s1 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 4. It is preferable that the said divalent hydrocarbon group is chain, and when it is a chain, either linear or branched chain may be sufficient. Further, the divalent hydrocarbon group is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group, and preferably an alkanediyl group. Examples of the divalent hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.

또한, 상기 2가의 탄화수소기에 포함되는 일부의 -CH2-는 -O-로 치환되어 있어도 된다. 이 경우, 연속하는 2개의 -CH2-가 동시에 -O-로 치환되는 일은 없고, Si 원자에 인접하는 -CH2-가 -O-로 치환되는 일은 없다. 2개 이상의 -CH2-가 -O-로 치환되어 있는 경우, -O-와 -O-의 사이의 탄소 원자 수는 2∼4인 것이 바람직하고, 2∼3인 것이 더 바람직하다. 2가의 탄화수소기의 일부가 -O-로 치환된 기로서는, 구체적으로는 (폴리)에틸렌글리콜 단위를 갖는 기, (폴리)프로필렌글리콜 단위를 갖는 기 등을 예시할 수 있다.In addition, some -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O-. In this case, two consecutive -CH 2 -s are not simultaneously substituted with -O-, and -CH 2 -adjacent to the Si atom is not substituted with -O-. When two or more -CH 2 -are substituted with -O-, the number of carbon atoms between -O- and -O- is preferably 2 to 4, and more preferably 2 to 3. As a group in which part of the divalent hydrocarbon group is substituted with -O-, specifically, a group having a (poly)ethylene glycol unit, a group having a (poly)propylene glycol unit, and the like can be exemplified.

상기 식 (s2)에 있어서, Zs1이 -O-이고, Ys1이 단결합인 것, 즉, 상기 분자쇄가 디알킬실릴옥시기의 반복만으로 이루어지는 것이 바람직하다. 디알킬실록산쇄가 디알킬실릴옥시기의 반복만으로 이루어지는 경우, 얻어지는 피막의 화학적·물리적 내구성이 양호하다.In the formula (s2), it is preferable that Z s1 is -O- and Y s1 is a single bond, that is, that the molecular chain consists only of repetition of dialkylsilyloxy groups. When the dialkylsiloxane chain consists only of repetition of dialkylsilyloxy groups, the chemical and physical durability of the resulting film is good.

트리알킬실릴기 함유 분자쇄에 포함되는 분자쇄로서는, 하기 식으로 나타내어지는 분자쇄를 들 수 있다. 식 중, q1은 1∼60의 정수를 나타내고, 좌측의 *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타내고, 우측의 *은 트리알킬실릴 함유 기와의 결합손을 나타내는 것으로 한다. q1은 1∼45의 정수인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼30의 정수이다.Examples of the molecular chain included in the trialkylsilyl group-containing molecular chain include molecular chains represented by the following formulas. In the formula, q1 represents an integer of 1 to 60, * on the left represents a bond with a central silicon atom, and * on the right represents a bond with a trialkylsilyl-containing group. It is preferable that q1 is an integer of 1 to 45, More preferably, it is an integer of 1 to 30.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

또, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄를 구성하는 원소의 합계수는 24 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 40 이상, 더 바람직하게는 50 이상이고, 또, 5000 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 4000 이하, 더 바람직하게는 2000 이하, 보다 더 바람직하게는 1200 이하, 특별히 바람직하게는 700 이하, 특히 바람직하게 250 이하이다.In addition, the total number of elements constituting the trialkylsilyl group-containing molecular chain is preferably 24 or more, more preferably 40 or more, more preferably 50 or more, and 5000 or less is preferable, and more preferably It is 4000 or less, more preferably 2000 or less, even more preferably 1200 or less, particularly preferably 700 or less, particularly preferably 250 or less.

트리알킬실릴기 함유 분자쇄는 하기 식 (s3)으로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.It is preferable that the trialkylsilyl group-containing molecular chain is a group represented by the following formula (s3).

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (s3) 중, Rs1, Rs2, Zs1, Ys1, n1은 상기와 동의(同義)이다. *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타낸다.In formula (s3), R s1 , R s2 , Z s1 , Y s1 , and n1 are synonymous with the above. * Represents a bond hand with a central silicon atom.

트리알킬실릴기 함유 분자쇄는 하기 식 (s3-1)로 나타내어지는 기인 것이 바람직하고, 하기 식 (s3-1-1)로 나타내어지는 기인 것이 보다 바람직하다.The trialkylsilyl group-containing molecular chain is preferably a group represented by the following formula (s3-1), and more preferably a group represented by the following formula (s3-1-1).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

식 (s3-1) 및 식 (s3-1-1) 중, Rs2, Ys1, Zs1, n1은 상기와 동의이다. Rs3은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타낸다.In formulas (s3-1) and (s3-1-1), R s2 , Y s1 , Z s1 , and n1 have the same meaning as above. Each of R s3 independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. * Represents a bond hand with a central silicon atom.

Rs3으로 나타내어지는 알킬기의 탄소수는 1∼3인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼2이다. 또, 식 (s3-1) 및 식 (s3-1-1) 중, -Si(Rs3)3에 포함되는 Rs3의 합계의 탄소수는 9 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6 이하, 더 바람직하게는 4 이하이다. 또한, -Si(Rs3)3에 포함되는 Rs3 중, Rs3은 적어도 1개가 메틸기인 것이 바람직하고, 2개 이상의 Rs3이 메틸기인 것이 바람직하고, 3개의 Rs3 모두가 메틸기인 것이 특히 바람직하다.The number of carbon atoms in the alkyl group represented by R s3 is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2. In addition, in formulas (s3-1) and (s3-1-1), the total number of carbon atoms of R s3 contained in -Si(R s3 ) 3 is preferably 9 or less, more preferably 6 or less, further It is preferably 4 or less. Also, -Si (R s3) 3 R s3 of, R s3 is preferably at least one is the methyl group, and two or more R s3 is preferably a methyl group, and three R s3 are all a methyl group is particularly included in the desirable.

또, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄는 하기 식 (s3-2)로 나타내어지는 기인 것이 더 바람직하고, 하기 식 (s3-2-1)로 나타내어지는 기인 것이 특히 바람직하다.Further, the trialkylsilyl group-containing molecular chain is more preferably a group represented by the following formula (s3-2), and particularly preferably a group represented by the following formula (s3-2-1).

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

식 (s3-2) 및 (s3-2-1) 중, Rs2, Ys1, Zs1, n1은 상기와 동의이다. Rs4는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타낸다.In formulas (s3-2) and (s3-2-1), R s2 , Y s1 , Z s1 , and n1 are the same as above. R s4 each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. * Represents a bond hand with a central silicon atom.

Rs4로 나타내어지는 탄소수 1∼4의 알킬기로서는, 상기 Rs3에서 설명한 기를 들 수 있고, 그 바람직한 범위도 마찬가지이다.Examples of the C1-C4 alkyl group represented by R s4 include the groups described for R s3 , and the preferred range thereof is also the same.

트리알킬실릴기 함유 분자쇄로서는 식 (s3-I)로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 식 (s3-I) 중, *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타낸다.As the trialkylsilyl group-containing molecular chain, a group represented by formula (s3-I) can be mentioned. In formula (s3-I), * represents a bond with a central silicon atom.

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

[표 1][Table 1]

Figure pct00017
Figure pct00017

[표 2][Table 2]

Figure pct00018
Figure pct00018

상기 표 1, 표 2에 나타낸 n30은 1∼30인 것이 바람직하다.It is preferable that n30 shown in Tables 1 and 2 is 1 to 30.

다음으로, 식 (A1)에 있어서의 Aa1에 대하여 설명한다. 복수의 Aa1은, 각각 독립적으로, 가수분해성 기이고, 가수분해에 의해 히드록시기(실라놀기)를 부여하는 기이면 되고, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기; 히드록시기; 아세톡시기; 염소 원자; 이소시아네이트기; 등을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼6의 알콕시기인 것이 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알콕시기인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알콕시기가 더 바람직하다.Next, A a1 in Formula (A1) will be described. Each of the plurality of A a1 is independently a hydrolyzable group, and may be a group that provides a hydroxy group (silanol group) by hydrolysis, for example, carbon number such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. 1 to 6 alkoxy groups; Hydroxy group; Acetoxy group; Chlorine atom; Isocyanate group; Etc. are mentioned preferably. Especially, it is preferable that it is a C1-C6 alkoxy group, it is more preferable that it is a C1-C4 alkoxy group, and a C1-C2 alkoxy group is still more preferable.

식 (A1)에 있어서의 Za1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 실록산 골격 함유 기, 또는 탄화수소쇄 함유 기를 나타낸다. Za1이 트리알킬실릴기 함유 분자쇄인 경우는, 상기 Ra1과 마찬가지의 것을 들 수 있다.Z a1 in formula (A1) represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a siloxane skeleton-containing group, or a hydrocarbon chain-containing group. When Z a1 is a trialkylsilyl group-containing molecular chain, the same thing as R a1 is mentioned.

또, Za1이 실록산 골격 함유 기인 경우, 상기 실록산 골격 함유 기는, 실록산 단위(Si-O-)를 함유하는 1가의 기이고, Ra1의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄를 구성하는 원소수보다 적은 수의 원소로 구성되는 것인 것이 바람직하다. 이에 의해, 실록산 골격 함유 기는, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄보다 길이가 짧거나, 입체적인 넓이(부피가 커짐)가 작은 기가 된다. 실록산 골격 함유 기에는 2가의 탄화수소기가 포함되어 있어도 된다.Further, when Z a1 is a siloxane skeleton-containing group, the siloxane skeleton-containing group is a monovalent group containing a siloxane unit (Si-O-), and is less than the number of elements constituting the trialkylsilyl group-containing molecular chain of R a1 . It is preferred that it is composed of a number of elements. Thereby, the siloxane skeleton-containing group becomes a group having a shorter length than a trialkylsilyl group-containing molecular chain or a three-dimensional area (increase in volume). The divalent hydrocarbon group may be contained in the siloxane skeleton-containing group.

실록산 골격 함유 기는 하기 식 (s4)로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.It is preferable that the siloxane skeleton-containing group is a group represented by the following formula (s4).

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00019
Figure pct00019

식 (s4) 중, Rs2, Zs1, 및 Ys1은 상기와 동의이다. Rs5는 탄화수소기 또는 히드록시기를 나타내고, 당해 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 되고, 당해 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. n3은 0∼5의 정수를 나타낸다. *은 중심 규소 원자와의 결합손을 나타낸다.In formula (s4), R s2 , Z s1 , and Y s1 are the same as above. R s5 represents a hydrocarbon group or a hydroxy group, -CH 2 -contained in the hydrocarbon group may be substituted with -O-, and a hydrogen atom contained in the hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom. n3 represents the integer of 0-5. * Represents a bond hand with a central silicon atom.

Rs5로 나타내어지는 탄화수소기로서는, Rs1로 나타내어지는 탄화수소기와 마찬가지의 기를 들 수 있고, 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알킬기인 것이 보다 바람직하다. 탄소수는 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2이다. Examples of the hydrocarbon group represented by R s5 include groups similar to the hydrocarbon group represented by R s1 , preferably an aliphatic hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group. The number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.

n3은 1∼5인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3이다.It is preferable that n3 is 1-5, More preferably, it is 1-3.

실록산 골격 함유 기의 원소수의 합계는 100 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 이하, 더 바람직하게는 30 이하이고, 10 이상인 것이 바람직하다. 또, Ra1의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와 Za1의 실록산 골격 함유 기의 원소수의 차는 10 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 이상이고, 1000 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 500 이하, 더 바람직하게는 200 이하이다.The sum of the number of elements in the siloxane skeleton-containing group is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, still more preferably 30 or less, and preferably 10 or more. In addition, the R a1 trialkylsilyl group containing preferably a molecular chain and Z or more siloxane skeleton-containing groups of the original small number of cars 10 of the a1 of, more preferably at least 20, as is preferred, more preferably not more than 1000, 500 Or less, more preferably 200 or less.

실록산 골격 함유 기로서는, 구체적으로는 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다.Specific examples of the siloxane skeleton-containing group include groups represented by the following formulas.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00020
Figure pct00020

Za1이 탄화수소쇄 함유 기인 경우, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄의 분자쇄를 구성하는 원소수보다 탄화수소쇄 부분의 탄소수가 적은 것이면 된다. 또, 트리알킬실릴기 함유 분자쇄의 최장 직쇄를 구성하는 원소수보다, 탄화수소쇄의 최장 직쇄의 탄소수가 적은 것인 것이 바람직하다. 탄화수소쇄 함유 기는 통상 탄화수소기(탄화수소쇄)만으로 구성되지만, 필요에 따라, 이 탄화수소쇄의 일부의 메틸렌기(-CH2-)가 산소 원자로 치환된 기여도 된다. 또, Si 원자에 인접하는 메틸렌기(-CH2-)는 산소 원자로 치환되는 일은 없고, 또, 연속하는 2개의 메틸렌기(-CH2-)가 동시에 산소 원자로 치환되는 일도 없다.When Z a1 is a hydrocarbon chain-containing group, the number of carbon atoms in the hydrocarbon chain portion may be smaller than the number of elements constituting the molecular chain of the trialkylsilyl group-containing molecular chain. Further, it is preferable that the number of carbon atoms in the longest linear chain of the hydrocarbon chain is smaller than the number of elements constituting the longest linear chain of the trialkylsilyl group-containing molecular chain. The hydrocarbon chain-containing group is usually composed of only a hydrocarbon group (hydrocarbon chain), but if necessary, a part of the methylene group (-CH 2 -) of the hydrocarbon chain may be substituted with an oxygen atom. Further, the methylene group (-CH 2 -) adjacent to the Si atom is not substituted with an oxygen atom, and two consecutive methylene groups (-CH 2 -) are not simultaneously substituted with an oxygen atom.

또한, 탄화수소쇄 부분의 탄소수란, 산소 비치환형의 탄화수소쇄 함유 기에서는 탄화수소기(탄화수소쇄)를 구성하는 탄소 원자의 수를 의미하고, 산소 치환형의 탄화수소쇄 함유 기에서는, 산소 원자를 메틸렌기(-CH2-)라고 가정하여 센 탄소 원자의 수를 의미하는 것으로 한다.In addition, the number of carbon atoms in the hydrocarbon chain portion means the number of carbon atoms constituting a hydrocarbon group (hydrocarbon chain) in an oxygen-unsubstituted hydrocarbon chain-containing group, and in an oxygen-substituted hydrocarbon chain-containing group, an oxygen atom is a methylene group. Assuming that it is (-CH 2 -), it means the number of strong carbon atoms.

이하에, 특별히 언급이 없는 한, 산소 비치환형의 탄화수소쇄 함유 기(즉, 1가의 탄화수소기)를 예로 들어 탄화수소쇄 함유 기에 대하여 설명하지만, 어느 설명에서도, 그 메틸렌기(-CH2-) 중 일부를 산소 원자로 치환하는 것이 가능하다.Hereinafter, unless otherwise specified, an oxygen-unsubstituted hydrocarbon chain-containing group (i.e., a monovalent hydrocarbon group) is used as an example to describe a hydrocarbon chain-containing group, but in any description, among the methylene groups (-CH 2 -) It is possible to replace some with oxygen atoms.

상기 탄화수소쇄 함유 기는, 그것이 탄화수소기인 경우에는 탄소수는 1 이상, 3 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1이다. 또, 상기 탄화수소쇄 함유 기는 분기쇄여도 되고 직쇄여도 된다. 상기 탄화수소쇄 함유 기는, 포화 또는 불포화의 지방족 탄화수소쇄 함유 기인 것이 바람직하고, 포화 지방족 탄화수소쇄 함유 기인 것이 보다 바람직하다. 상기 포화 지방족 탄화수소쇄 함유 기로서는 포화 지방족 탄화수소기가 보다 바람직하다. 포화 지방족 탄화수소기에는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등이 포함된다.When the hydrocarbon chain-containing group is a hydrocarbon group, the carbon number is preferably 1 or more and 3 or less, and more preferably 1. Further, the hydrocarbon chain-containing group may be branched or linear. The hydrocarbon chain-containing group is preferably a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon chain-containing group, and more preferably a saturated aliphatic hydrocarbon chain-containing group. The saturated aliphatic hydrocarbon chain-containing group is more preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group. The saturated aliphatic hydrocarbon group includes, for example, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

포화 지방족 탄화수소기의 일부의 메틸렌기(-CH2-)가 산소 원자로 치환되는 경우, 구체적으로는 (폴리)에틸렌글리콜 단위를 갖는 기 등을 예시할 수 있다.When the methylene group (-CH 2 -) of a part of the saturated aliphatic hydrocarbon group is substituted with an oxygen atom, specifically, a group having a (poly)ethylene glycol unit or the like can be exemplified.

식 (A1)에 있어서의 x는 0 또는 1이고, 바람직하게는 0이다.X in formula (A1) is 0 or 1, Preferably it is 0.

식 (A1)로 나타내어지는 유기 규소 화합물 (a)는, 하기 식 (A2)로 나타내어지는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the organosilicon compound (a) represented by the formula (A1) is a compound represented by the following formula (A2).

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00021
Figure pct00021

식 (A2) 중, Rs1, Rs2, Zs1, Ys1, n1, Aa1, Za1, x는 각각 상기와 동의이다.In formula (A2), R s1 , R s2 , Z s1 , Y s1 , n1, A a1 , Z a1 , and x have the same meaning as above, respectively.

식 (A2)로 나타내어지는 유기 규소 화합물 (a)는, 하기 식 (A2-1)로 나타내어지는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (A2-1-1)로 나타내어지는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The organosilicon compound (a) represented by formula (A2) is preferably a compound represented by the following formula (A2-1), and more preferably a compound represented by formula (A2-1-1).

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00022
Figure pct00022

식 (A2-1) 및 식 (A2-1-1) 중, Rs2, Rs3, Ys1, Zs1, n1, Aa1은 상기와 동의이다.In formulas (A2-1) and (A2-1-1), R s2 , R s3 , Y s1 , Z s1 , n1 and A a1 have the same definitions as above.

식 (A2)로 나타내어지는 유기 규소 화합물 (a)는, 하기 식 (A2-2)로 나타내어지는 화합물인 것이 더 바람직하고, 특히 바람직하게는 식 (A2-2-1)로 나타내어지는 화합물이다.The organosilicon compound (a) represented by formula (A2) is more preferably a compound represented by the following formula (A2-2), and particularly preferably is a compound represented by formula (A2-2-1).

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00023
Figure pct00023

식 (A2-2) 및 식 (A2-2-1) 중, Rs2, Rs4, Ys1, Zs1, n1, Aa1은 상기와 동의이다.In formula (A2-2) and formula (A2-2-1), R s2 , R s4 , Y s1 , Z s1 , n1 and A a1 have the same definition as above.

식 (A2)로 나타내어지는 유기 규소 화합물 (a)로서는, 구체적으로는 식 (A-I)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the organosilicon compound (a) represented by formula (A2) include compounds represented by formula (A-I).

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00024
Figure pct00024

[표 3-1][Table 3-1]

Figure pct00025
Figure pct00025

[표 3-2][Table 3-2]

Figure pct00026
Figure pct00026

[표 4-1][Table 4-1]

Figure pct00027
Figure pct00027

[표 4-2][Table 4-2]

Figure pct00028
Figure pct00028

상기 표 3-1, 표 3-2, 표 4-1, 표 4-2에 나타낸 n10은, 바람직하게는 1∼30이다.The n10 shown in Table 3-1, Table 3-2, Table 4-1, and Table 4-2 is preferably 1 to 30.

상기 식 (A-I) 중에서도 (A-I-26)으로 나타내어지는 것이 보다 바람직하다. 즉, 식 (A2)로 나타내어지는 유기 규소 화합물 (a)로서는, 하기 식 (A2-26)으로 나타내어지는 것이 바람직하다.Among the above formulas (A-I), those represented by (A-I-26) are more preferable. That is, as the organosilicon compound (a) represented by the formula (A2), it is preferably represented by the following formula (A2-26).

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00029
Figure pct00029

식 (A2-26) 중, n은 1∼60이고, 바람직하게는 1∼30이다.In formula (A2-26), n is 1 to 60, and preferably 1 to 30.

상기 유기 규소 화합물 (a)의 양으로서는 조성물 100 질량% 중, 0.1 질량% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2 질량% 이상, 더 바람직하게는 0.3 질량% 이상이다. 또, 상한으로서는 2.6 질량% 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.0 질량% 이하, 더 바람직하게는 1.5 질량% 이하, 특히 바람직하게는 1.0 질량% 이하이다. 상기의 유기 규소 화합물 (a)의 양은, 조성물의 조제시의 배합량 및 조성물의 분석 결과로부터 산출한 값 중 어느 것이, 상기 범위를 만족시키는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 각 성분의 양(농도) 또는 질량비의 범위를 기재하고 있는 경우, 상기와 마찬가지로, 조성물의 조제시의 배합량 및 조성물의 분석 결과로부터 산출한 값 중 어느 것이, 당해 범위를 만족시키는 것이 바람직하다.The amount of the organosilicon compound (a) is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, and still more preferably 0.3% by mass or more in 100% by mass of the composition. Moreover, as an upper limit, it is preferable that it is less than 2.6 mass %, More preferably, it is 2.0 mass% or less, More preferably, it is 1.5 mass% or less, Especially preferably, it is 1.0 mass% or less. It is preferable that the amount of the organosilicon compound (a) above satisfies the above range in any of the compounding amount at the time of preparation of the composition and the value calculated from the analysis result of the composition. In addition, in the present specification, when the range of the amount (concentration) or mass ratio of each component is described, similarly to the above, any of the compounding amount at the time of preparation of the composition and the value calculated from the analysis result of the composition is the range It is desirable to satisfy.

유기 규소 화합물 (a)의 합성 방법의 예로서는, 일본 공개특허 특개2017-201009호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다.As an example of the method for synthesizing the organosilicon compound (a), the method described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2017-201009 can be mentioned.

본 발명에 있어서의 유기 폴리실라잔 (b)는 하기 식 (B2)로 나타내어지는 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the organic polysilazane (b) in this invention has a structural unit represented by following formula (B2).

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00030
Figure pct00030

식 (B2) 중, Rp21, Rp22 및 Rp23은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다. 단, Rp21 및 Rp22의 적어도 일방은 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다.In formula (B2), R p21 , R p22 and R p23 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. However, at least one of R p21 and R p22 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.

Rp21, Rp22 및 Rp23이 탄화수소기인 경우, 그 탄소수는 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2이다. 당해 탄화수소기는 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다. 당해 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 메틸기가 바람직하다.When R p21 , R p22 and R p23 are a hydrocarbon group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2. The hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and among them, a methyl group is preferable.

Rp23은 수소 원자인 것이 보다 바람직하다.R p23 is more preferably a hydrogen atom.

상기 유기 폴리실라잔 (b)는, 하기 식 (B1)로 나타내어지는 구조 단위를 추가로 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the said organic polysilazane (b) further has a structural unit represented by following formula (B1).

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00031
Figure pct00031

식 (B1) 중, Rp10 및 Rp11은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타내고, Y는 탄소수 1∼10의 2가의 탄화수소기를 나타내고, 복수의 X는, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타낸다.In formula (B1), R p10 and R p11 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of X's are each independently And a hydrolyzable group.

Rp10 및 Rp11에 있어서의 탄화수소기의 탄소수는 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2이다. Rp10 및 Rp11에 있어서의 탄화수소기로서는 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다. 당해 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 메틸기가 바람직하다.The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R p10 and R p11 is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2. As the hydrocarbon group for R p10 and R p11 , an aliphatic hydrocarbon group is preferable, and an alkyl group is more preferable. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and among them, a methyl group is preferable.

Y의 2가의 탄화수소기로서는 그 탄소수가 1∼4인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2이다. 상기 2가의 탄화수소기는 쇄상인 것이 바람직하고, 쇄상인 경우, 직쇄상, 분기쇄상의 어느 것이어도 된다. 또, 상기 2가의 탄화수소기는 2가의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알칸디일기인 것이 바람직하다. 2가의 탄화수소기로서는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있다.As the divalent hydrocarbon group of Y, the number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2. It is preferable that the said divalent hydrocarbon group is chain, and when it is a chain, either linear or branched chain may be sufficient. Further, the divalent hydrocarbon group is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group, and preferably an alkanediyl group. Examples of the divalent hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.

또한, 상기 2가의 탄화수소기에 포함되는 일부의 -CH2-는 -O-로 치환되어 있어도 된다. 이 경우, 연속하는 2개의 -CH2-가 동시에 -O-로 치환되는 일은 없고, Si 원자에 인접하는 -CH2-가 -O-로 치환되는 일은 없다. 2개 이상의 -CH2-가 -O-로 치환되어 있는 경우, -O-와 -O-의 사이의 탄소 원자 수는 2∼4인 것이 바람직하고, 2∼3인 것이 더 바람직하다. 2가의 탄화수소기의 일부가 -O-로 치환된 기로서는, 구체적으로는 (폴리)에틸렌글리콜 단위를 갖는 기, (폴리)프로필렌글리콜 단위를 갖는 기 등을 예시할 수 있다.In addition, some -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O-. In this case, two consecutive -CH 2 -s are not simultaneously substituted with -O-, and -CH 2 -adjacent to the Si atom is not substituted with -O-. When two or more -CH 2 -are substituted with -O-, the number of carbon atoms between -O- and -O- is preferably 2 to 4, and more preferably 2 to 3. As a group in which part of the divalent hydrocarbon group is substituted with -O-, specifically, a group having a (poly)ethylene glycol unit, a group having a (poly)propylene glycol unit, and the like can be exemplified.

X의 가수분해성 기로서는, 가수분해에 의해 히드록시기(실라놀기)를 부여하는 기이면 되고, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼4의 알콕시기; 히드록시기; 아세톡시기; 염소 원자; 이소시아네이트기; 등을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도 탄소수 1∼4의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알콕시기가 보다 바람직하다. 복수의 X는 동일해도 되고 달라도 되며, 동일한 것이 바람직하다.The hydrolyzable group of X may be a group that provides a hydroxy group (silanol group) by hydrolysis, and examples thereof include alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group; Hydroxy group; Acetoxy group; Chlorine atom; Isocyanate group; Etc. are mentioned preferably. Among these, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms is more preferable. A plurality of Xs may be the same or different, and the same is preferable.

본 발명의 조성물은 상기 유기 폴리실라잔 (b)를 2종 이상 혼합해도 된다.In the composition of the present invention, two or more kinds of the organic polysilazane (b) may be mixed.

상기 유기 폴리실라잔 (b)는, 상기 유기 폴리실라잔 (b) 100 질량%에 대하여, 상기 식 (B1)의 SiX3기를 2 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상, 더 바람직하게는 8 질량% 이상이다. 상한은 한정되지 않지만, 50 질량% 이하여도 되고, 40 질량% 이하여도 되고, 30 질량% 이하여도 된다.The organic polysilazane (b) preferably contains at least 2% by mass, more preferably 5% by mass of the SiX 3 group of the formula (B1) with respect to 100% by mass of the organic polysilazane (b). Or more, more preferably 8% by mass or more. The upper limit is not limited, but may be 50% by mass or less, 40% by mass or less, or 30% by mass or less.

상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 합계의 농도는, 본 발명의 조성물 100 질량%에 대하여 0.2 질량% 이상 2.6 질량% 미만이다. 하한은 0.3 질량% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 질량% 이상이다. 상한은 2.0 질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.8 질량% 이하, 더 바람직하게는 1.3 질량% 이하, 특히 바람직하게는 1.0 질량% 이하이다. 상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 합계의 농도를 상기의 범위로 조정함으로써, 피막으로 하였을 때, 내황산성을 양호하게 할 수 있다. 또한, 내마모성, 내온수성 등도 양호하게 할 수 있고, 또, 백탁이나 도포 불균일이 없는 등 외관도 양호하게 할 수 있다.The total concentration of the organosilicon compound (a) and the organopolysilazane (b) is 0.2 mass% or more and less than 2.6 mass% with respect to 100 mass% of the composition of the present invention. The lower limit is preferably 0.3% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more. The upper limit is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.8% by mass or less, still more preferably 1.3% by mass or less, and particularly preferably 1.0% by mass or less. By adjusting the total concentration of the organosilicon compound (a) and the organopolysilazane (b) within the above range, when a film is formed, sulfuric acid resistance can be improved. In addition, abrasion resistance, hot water resistance, and the like can be improved, and the appearance can be improved, such as no white turbidity or uneven coating.

본 발명의 조성물에 있어서, 상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 질량비 (a/b)는 0.2 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.4 이상, 더 바람직하게는 0.5 이상이다. 상한은 100 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 이하, 더 바람직하게는 10 이하, 특히 바람직하게는 8 이하이다.In the composition of the present invention, the mass ratio (a/b) of the organosilicon compound (a) and the organopolysilazane (b) is preferably 0.2 or more, more preferably 0.4 or more, and even more preferably 0.5 or more. to be. The upper limit is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, more preferably 10 or less, and particularly preferably 8 or less.

상기 유기 폴리실라잔 (b)에 있어서의 Si-H의 수소 원자, 및 Si에 결합한 탄소수 1∼10의 탄화수소기의 함유비는 적절히 선택할 수 있지만, 예를 들면, 탄화수소기/수소 원자의 몰비는 0.1∼50이고, 바람직하게는 0.2∼10이다. 또한, 이들 몰비는 NMR 측정 등으로부터 산출할 수 있다.The content ratio of the hydrogen atom of Si-H and the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms bonded to Si in the organic polysilazane (b) can be appropriately selected, but for example, the molar ratio of the hydrocarbon group/hydrogen atom is It is 0.1-50, preferably 0.2-10. In addition, these molar ratios can be calculated from NMR measurement or the like.

본 발명의 조성물은 용매 (c)가 혼합되어 있다.The composition of the present invention contains a solvent (c).

용매 (c)로서는 알콜계 용매, 에테르계 용매, 케톤계 용매, 에스테르계 용매, 아미드계 용매, 지방족 탄화수소계 용매, 방향족 탄화수소계 용매 등을 들 수 있다.Examples of the solvent (c) include alcohol-based solvents, ether-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, amide-based solvents, aliphatic hydrocarbon-based solvents, and aromatic hydrocarbon-based solvents.

상기 알콜계 용매로서는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1-프로폭시 2-프로판올 등을 들 수 있고, 상기 에테르계 용매로서는 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디부틸에테르 등을 들 수 있고, 케톤계 용매로서는 아세톤, 메틸에틸케톤(2-부탄온) 등을 들 수 있고, 에스테르계 용매로서는 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등을 들 수 있고, 아미드계 용매로서는 디메틸포름아미드 등을 들 수 있고, 지방족 탄화수소계 용매로서는 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 메틸시클로헥산, 미네랄 스피릿 등을 들 수 있고, 방향족 탄화수소계 용매로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등을 들 수 있다. 그 중에서도 케톤계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매, 지방족 탄화수소계 용매가 바람직하고, 지방족 탄화수소계 용매가 보다 바람직하다. 이들 용매는 1종류를 이용해도 되고, 2종류 이상을 적절히 혼합하여 이용해도 된다. 코팅액의 안정성이 늘어나고, 도공 흔들림이나 도공시의 이물을 저감할 수 있기 때문에, 용매 (c)는 수분을 갖고 있지 않은 것이 바람직하다.Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, 1-propoxy 2-propanol, and the like, and examples of the ether solvent include dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and di- Oxane, dibutyl ether, etc. are mentioned, Acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone) etc. are mentioned as a ketone solvent, Ethyl acetate, butyl acetate, etc. are mentioned as ester solvent, An amide solvent Examples of the solvent include dimethylformamide, and examples of the aliphatic hydrocarbon solvent include pentane, hexane, heptane, octane, isooctane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, methylcyclohexane, mineral spirit, and the like, and aromatic hydrocarbon solvents As examples, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and the like can be mentioned. Among them, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aliphatic hydrocarbon solvents are preferred, and aliphatic hydrocarbon solvents are more preferred. One type of these solvents may be used, or two or more types may be appropriately mixed and used. It is preferable that the solvent (c) does not contain moisture because the stability of the coating solution is increased, and coating shake and foreign matter during coating can be reduced.

조성물 100 질량%에 대한 용매 (c)의 농도는 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더 바람직하게는 90 질량% 이상, 특히 바람직하게는 95 질량% 이상이다. 상한은 유기 규소 화합물 (a), 유기 폴리실라잔 (b), 및 이들 이외의 첨가 성분(이하, 제 3 성분 (d)라고 함)의 양에 따라서 설정되고, 유기 규소 화합물 (a), 유기 폴리실라잔 (b), 및 제 3 성분 (d) 이외가 용매 (c)여도 된다The concentration of the solvent (c) relative to 100% by mass of the composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 95% by mass or more. The upper limit is set according to the amount of the organosilicon compound (a), organopolysilazane (b), and additional components other than these (hereinafter referred to as the third component (d)), and the organosilicon compound (a), organic The solvent (c) may be other than the polysilazane (b) and the third component (d).

본 발명의 조성물은 촉매를 공존시켜도 된다. 본 발명에 있어서, 상기 촉매는 유기 폴리실라잔을 경화시킬 수 있는 촉매라면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 1-메틸피페라진, 1-메틸피페리딘, 4,4'-트리메틸렌디피페리딘, 4,4'-트리메틸렌비스(1-메틸피페리딘), 디아자비시클로-[2,2,2]옥탄, 시스-2,6-디메틸피페라진, 4-(4-메틸피페리딘)피리딘, 피리딘, 디피리딘, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 피페리딘, 루티딘, 피리미딘, 피리다진, 4,4'-트리메틸렌디피리딘, 2-(메틸아미노)피리딘, 피라진, 퀴놀린, 퀴녹살린, 트리아진, 피롤, 3-피롤린, 이미다졸, 트리아졸, 테트라졸, 1-메틸피롤리딘 등의 N-헤테로 환상 화합물, 예를 들면, 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 프로필아민, 디프로필아민, 트리프로필아민, 부틸아민, 디부틸아민, 트리부틸아민, 펜틸아민, 디펜틸아민, 트리펜틸아민, 헥실아민, 디헥실아민, 트리헥실아민, 헵틸아민, 디헵틸아민, 옥틸아민, 디옥틸아민, 트리옥틸아민, 페닐아민, 디페닐아민, 트리페닐아민 등의 아민류, 예를 들면, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]7-운데센(DBU), 1,5-디아자비시클로[4,3,0]5-노넨(DBN), 1,5,9-트리아자시클로도데칸, 1,4,7-트리아자시클로노난 등을 들 수 있다.The composition of the present invention may coexist with a catalyst. In the present invention, the catalyst is not particularly limited as long as it is a catalyst capable of curing organic polysilazane, for example, 1-methylpiperazine, 1-methylpiperidine, 4,4'-trimethylenedipiperi Dean, 4,4'-trimethylenebis(1-methylpiperidine), diazabicyclo-[2,2,2]octane, cis-2,6-dimethylpiperazine, 4-(4-methylpiperidine Din)pyridine, pyridine, dipyridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, piperidine, lutidine, pyrimidine, pyridazine, 4,4'-trimethylenedipyridine, 2-( N-heterocyclic compounds such as methylamino) pyridine, pyrazine, quinoline, quinoxaline, triazine, pyrrole, 3-pyrroline, imidazole, triazole, tetrazole, and 1-methylpyrrolidine, for example methyl Amine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, pentylamine, dipentylamine, tripentyl Amines such as amine, hexylamine, dihexylamine, trihexylamine, heptylamine, diheptylamine, octylamine, dioctylamine, trioctylamine, phenylamine, diphenylamine, and triphenylamine, for example 1 ,8-diazabicyclo[5,4,0]7-undecene (DBU), 1,5-diazabicyclo[4,3,0]5-nonene (DBN), 1,5,9-triaza Cyclododecane, 1,4,7-triazacyclononane, etc. are mentioned.

또, 촉매로서는 상기 촉매 외에, 예를 들면, 산성 화합물; 염기성 화합물; 유기 금속 화합물; 등을 들 수 있다. 상기 산성 화합물로서는 염산, 질산, 황산, 인산, 과산화수소, 염소산, 차아염소산 등의 무기산; 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 말레산, 스테아르산 등의 유기산; 등을 들 수 있다. 상기 염기성 화합물로서는 암모니아 등을 들 수 있다. 상기 유기 금속 화합물로서는 Al, Fe, Zn, Sn 등의 금속 원소를 중심 금속으로 하는 유기 금속 화합물을 들 수 있고, 카르본산 알루미늄, 알루미늄아세틸아세톤 착체, 알루미늄에틸아세토아세테이트 착체 등의 유기 알루미늄 화합물; 카르본산 철(옥틸산 철 등) 등의 유기 철 화합물; 아연아세틸아세토나토모노하이드레이트, 나프텐산 아연, 옥틸산 아연 등의 유기 아연 화합물; 디부틸주석디아세테이트 착체 등의 유기 주석 화합물; 기타, 유기 금속 화합물로서는 Ni, Ti, Pt, Rh, Co, Ru, Os, Pd, Ir, 등을 포함하는 금속 카르본산염; Ni, Pt, Pd, Rh 등을 포함하는 아세틸아세토나 착체; Au, Ag, Pd, Ni, Zn, Ti 등의 금속 미립자; 금속 과산화물; 메탈클로라이드; 페로센, 지르코노센 등의 금속의 시클로펜타디에닐 착체 등을 들 수 있다.Moreover, as a catalyst, in addition to the said catalyst, For example, an acidic compound; Basic compounds; Organometallic compounds; And the like. Examples of the acidic compound include inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrogen peroxide, chloric acid, and hypochlorous acid; Organic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, maleic acid and stearic acid; And the like. Examples of the basic compound include ammonia. Examples of the organometallic compound include organometallic compounds containing metal elements such as Al, Fe, Zn, and Sn as a central metal, and organic aluminum compounds such as aluminum carboxylic acid, aluminum acetylacetone complex, and aluminum ethylacetoacetate complex; Organic iron compounds such as iron carboxylate (iron octylate, etc.); Organic zinc compounds such as zinc acetylacetonatomonohydrate, zinc naphthenate, and zinc octylate; Organotin compounds such as dibutyltin diacetate complex; In addition, examples of the organometallic compound include metal carboxates including Ni, Ti, Pt, Rh, Co, Ru, Os, Pd, Ir, and the like; Acetylacetona complexes including Ni, Pt, Pd, Rh, and the like; Metal fine particles such as Au, Ag, Pd, Ni, Zn, and Ti; Metal peroxide; Metal chloride; And cyclopentadienyl complexes of metals such as ferrocene and zirconocene.

본 발명의 조성물은, 효과를 저해하지 않는 범위에서, 산화방지제, 방청제, 자외선흡수제, 광안정제, 곰팡이 방지제, 항균제, 생물 부착 방지제, 소취제, 안료, 난연제, 대전방지제 등의 각종의 첨가제를 공존시켜도 된다.The composition of the present invention may coexist various additives such as antioxidants, rust inhibitors, ultraviolet absorbers, light stabilizers, mold inhibitors, antibacterial agents, bioadhesive inhibitors, deodorants, pigments, flame retardants, and antistatic agents within the range that does not impair the effect. do.

상기의 조성물의 경화물인 피막, 및 기재 상에 당해 피막이 피복된 피복체도 본 발명에 포함된다.The coating, which is a cured product of the above composition, and a coating body coated with the coating on a substrate are also included in the present invention.

본 발명의 조성물로부터 얻어지는 피막은, 통상, 기재 상에 형성되어 있고, 기재와 접촉시키는 방법으로서는, 예를 들면, 조성물을 기재에 코팅하는 방법을 들 수 있고, 스핀 코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법, 롤 코팅법, 바 코팅법, 핸드 코팅(천 등에 액을 스며들게 하여, 기재에 칠하는 방법), 끼얹어 뿌리기(액을 스포이트 등을 이용하여 기재에 그대로 끼얹어 도포하는 방법), 분무(분무를 이용하여 기재에 도포하는 방법) 등을 들 수 있다.The film obtained from the composition of the present invention is usually formed on a substrate, and as a method of contacting the substrate, for example, a method of coating the composition on the substrate, spin coating method, dip coating method, spray Coating method, roll coating method, bar coating method, hand coating (a method of soaking the liquid in a cloth and painting it on the substrate), sprinkling (a method of applying the liquid directly to the substrate using a dropper, etc.), spraying (spraying A method of applying to a substrate using ), and the like.

상기와 같이 하여 기재 상에 접촉시킨 조성물을, 공기 중, 상온에서 정치(예를 들면, 1시간∼48시간)하거나 또는 가열(예를 들면, 300℃ 이하)함으로써, 공기 중의 수분과 반응하고, 분해와 실록시기화가 진행되어, 기재 상에 Si-O 골격 함유 피막을 형성할 수 있다. 피막의 막 두께는 예를 들면, 0.1∼500 ㎚ 정도로 할 수 있다. 바람직하게는 0.2∼200 ㎚, 보다 바람직하게는 0.3∼100 ㎚이다. 이들 막 두께로 조정함으로써, 막 내부까지 균일하게 경화한 막을 얻을 수 있고, 또, 내마모성이 양호한 막을 얻을 수 있다.The composition brought into contact with the substrate as described above is allowed to stand in air at room temperature (for example, 1 hour to 48 hours) or by heating (for example, 300°C or less) to react with moisture in the air, Decomposition and siloxy vaporization proceed, and a Si-O skeleton-containing film can be formed on the substrate. The film thickness of the film can be, for example, about 0.1 to 500 nm. It is preferably 0.2 to 200 nm, more preferably 0.3 to 100 nm. By adjusting to these film thicknesses, a film uniformly cured to the inside of the film can be obtained, and a film having good wear resistance can be obtained.

본 발명의 피막 상의 액적의 접촉각은 90° 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 98° 이상, 더 바람직하게는 100° 이상이다. 이 접촉각은 후술하는 실시예의 측정법에 따라서 결정할 수 있다.The contact angle of the droplets on the film of the present invention is preferably 90° or more, more preferably 98° or more, and still more preferably 100° or more. This contact angle can be determined according to the measurement method of Examples described later.

본 발명의 피막 상의 액적의 활락 속도는 10 ㎜/초 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25 ㎜/초 이상, 더 바람직하게는 30 ㎜/초 이상, 특히 바람직하게는 45 ㎜/초 이상이다. 이 활락 속도는 후술하는 실시예의 측정법에 따라서 결정할 수 있다.The sliding speed of the droplets on the film of the present invention is preferably 10 mm/sec or more, more preferably 25 mm/sec or more, still more preferably 30 mm/sec or more, and particularly preferably 45 mm/sec or more. This sliding speed can be determined according to the measurement method of Examples to be described later.

본 발명의 피막은, 후술하는 실시예의 내마모성의 측정에 있어서, 바람직하게는 3000회 이상, 보다 바람직하게는 5000회 이상, 더 바람직하게는 8000회 이상의 내마모성을 나타낸다.The coating of the present invention preferably exhibits abrasion resistance of 3000 times or more, more preferably 5000 times or more, and still more preferably 8000 times or more in the measurement of the abrasion resistance of the examples described later.

본 발명의 피막의 외관은, 제막 후 육안으로 알 수 있는 이물이나 백애(白靄) 등이 없는 것이 바람직하다. 이물이나 백애가 있으면, 액적을 활락시킬 때에 액적이 걸려서 미끄러지지 않게 되거나, 또는, 유효 성분이 액적과 함께 흘러 떨어져 성능을 잃게 되는 경우가 있다. 이물이나 백애가 발생한 경우, 천 등으로 닦아내어 피막을 사용할 수도 있지만, 닦아내는 작업에 의해서 발수·발유성에 기여하는 성분이 너무 제거되어 성능이 저하되거나, 막의 면 내의 성능의 불균일을 유발하거나 하는 경우가 있기 때문에, 닦아내지 않고 제(諸) 성능을 발현하는 것이 바람직하다.It is preferable that the appearance of the film of the present invention is free from foreign matter, white ae, etc. that can be seen with the naked eye after film formation. If there is foreign matter or white dust, when the droplet is slid, the droplet may be caught and not slipped, or the active ingredient may flow along with the droplet, resulting in loss of performance. If foreign matter or white dust occurs, the film may be wiped off with a cloth, etc., but the components contributing to water and oil repellency are removed too much by the wiping operation, resulting in deterioration of performance or non-uniformity of performance within the surface of the film. In some cases, it is preferable to express the removal performance without wiping off.

온수 시험 후의 본 발명의 피막 상의 액적의 접촉각은 90° 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 97° 이상, 더 바람직하게는 102° 이상이다. 이 온수 시험 후의 접촉각은, 후술하는 실시예의 측정법에 따라서 결정할 수 있다.The contact angle of the droplets on the film of the present invention after the hot water test is preferably 90° or more, more preferably 97° or more, and still more preferably 102° or more. The contact angle after this hot water test can be determined according to the measurement method of Examples described later.

온수 시험 후의 본 발명의 피막 상의 액적의 활락 속도는 20 ㎜/초 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25 ㎜/초 이상, 더 바람직하게는 27 ㎜/초 이상이다. 이 온수 시험 후의 활락 속도는, 후술하는 실시예의 측정법에 따라서 결정할 수 있다.The sliding speed of the droplets on the film of the present invention after the hot water test is preferably 20 mm/sec or more, more preferably 25 mm/sec or more, and still more preferably 27 mm/sec or more. The sliding speed after this hot water test can be determined according to the measurement method of Examples to be described later.

본 발명의 피막은, 후술하는 실시예의 내황산시험의 평가에 있어서, 매직 자국이 1점 이상 닦아내어지는 것이 바람직하고, 2점 이상 닦아내어지는 것이 보다 바람직하고, 3점 모두 닦아내어지는 것이 특히 바람직하다.In the evaluation of the sulfuric acid resistance test of Examples described later, the coating of the present invention is preferably wiped off at least one point, more preferably at least two points, and particularly preferably wiped off all three points.

본 발명의 피막의 막 두께는, 너무 두꺼우면 본 발명의 피막이 흡습 경화성이기 때문에, 내부까지 충분히 경화가 진행되지 않고, 피막이 부드러워짐으로써 내마모성이 나빠진다. 그 때문에, 피막은 적절한 막 두께인 것이 바람직하다. 또, 피막이 너무 두꺼워지면 피막 표면의 요철이나 블리드된 성분에 의해, 피막 표면이 백탁하여 외관이 나빠지는 경향이 있다. 피막이 내마모성을 발현할 정도로 경화가 진행되었는지 여부의 기준으로서는, 피막의 밀도를 측정함으로써 평가할 수 있다. 특히, 기재 근방의 피막의 밀도가 0.90 g/㎤ 이상인 것이 바람직하고, 0.95 g/㎤ 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 2.2 g/㎤ 정도이다. 기재 근방의 피막의 밀도란, 기재 상에 본 발명의 피막이 피복된 피복체에 있어서, 당해 피막에 있어서의 기재측의 피막의 밀도를 말한다. 막의 밀도의 측정 방법으로서는, 예를 들면, X선 반사율법을 이용할 수 있다.If the film thickness of the film of the present invention is too thick, since the film of the present invention has moisture-absorbing curing properties, curing does not sufficiently proceed to the inside, and the film becomes soft, resulting in poor wear resistance. Therefore, it is preferable that the film has an appropriate film thickness. Further, when the film is too thick, the surface of the film tends to become cloudy due to irregularities or bleed components on the surface of the film, resulting in poor appearance. As a criterion for whether or not curing has progressed to the extent that the coating exhibits wear resistance, it can be evaluated by measuring the density of the coating. In particular, the density of the film in the vicinity of the substrate is preferably 0.90 g/cm 3 or more, and more preferably 0.95 g/cm 3 or more. The upper limit is not particularly limited, but is, for example, about 2.2 g/cm 3. The density of the film in the vicinity of the substrate refers to the density of the film on the substrate side in the film in a coating body coated with the film of the present invention on the substrate. As a method of measuring the density of the film, for example, an X-ray reflectance method can be used.

조성이나 막 구조 등이 미지인 다층 박막의 적층 구조, 막 두께 또는 밀도를 측정하는 수단으로서 X선 반사율법이 이용되고 있다. 이 X선 반사율법은 밀도가 다른 층이 접하는 계면에서 반사하는 X선의 간섭 진동을 이용하여 측정하는 것이고, 예를 들면, 전극 상에 형성한 산화 막 등의 막 두께의 측정이나 스핀 밸브 막의 적층 구조의 해석에 이용되고 있다.The X-ray reflectance method is used as a means of measuring the lamination structure, film thickness, or density of a multilayer thin film whose composition or film structure is unknown. This X-ray reflectance method is to measure by using the interference vibration of X-rays reflected at the interface where layers of different densities are in contact. For example, measurement of the thickness of an oxide film formed on an electrode or a stacked structure of a spin valve film. Is used in the interpretation of

이와 같은 X선 반사율 측정(XRR)은, 주로 막의 각 계면에서 반사한 X선이 간섭하는 현상을 상기와 같이 관측하고, 이 측정 결과를 시뮬레이션 연산 데이터를 이용하여 피팅함으로써, 각 층의 밀도, 막 두께 및 러프니스를 해석하는 것이 가능하게 된다. 상기한 기재측의 피막의 밀도는, 피팅 처리한 값을 의미하고, 피팅 처리를 행하여 피막이 복수의 층에 피팅된 경우는, 기재에 가장 가까운 층의 밀도가 기재측의 피막의 밀도가 된다. 또, 피막이 단층에 피팅된 경우는, 그 밀도를 기재측의 피막의 밀도로서 채용한다. 여기서 피팅이란, X선 측정하였을 때에, 검출되는 X선 스펙트럼에 대하여, 스펙트럼 강도의 이론 계산값과 실측 강도의 차를 보정하는 것이다.In such X-ray reflectance measurement (XRR), by observing the phenomenon that the X-rays reflected from each interface of the film interfere as described above, and fitting this measurement result using simulation calculation data, the density of each layer and the film It becomes possible to analyze the thickness and roughness. The above-described density of the film on the substrate side refers to a value obtained by fitting treatment, and when the film is fitted to a plurality of layers by performing a fitting treatment, the density of the layer closest to the substrate becomes the density of the film on the substrate side. In addition, when the film is fitted to a single layer, the density is adopted as the density of the film on the substrate side. Here, fitting means correcting the difference between the theoretical calculated value of the spectral intensity and the measured intensity with respect to the X-ray spectrum detected when X-ray measurement is performed.

도 1에 피막의 XRR 측정 결과를 피팅 처리한 일례를 나타낸다. 최표면으로부터 수십 ㎚의 막 두께를 갖는 박막의 밀도는, 전(全)반사 임계 각도로부터 산출하는 것이 가능하고, 그 이외의 층의 밀도는, 간섭 줄무늬의 진폭의 크기로부터 산출할 수 있다.Fig. 1 shows an example in which the XRR measurement result of the film is fitted. The density of a thin film having a film thickness of several tens of nm from the outermost surface can be calculated from the critical angle of total reflection, and the density of other layers can be calculated from the amplitude of the interference fringes.

또, 각 층의 막 두께는 진동의 주기로부터 산출하는 것이 가능하다. 또한, 러프니스에 대해서는, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2001-349849호 공보에 기재되어 있는 바와 같이, 반사율 측정 데이터 전체의 감쇠율이나 고각도측에 있어서의 간섭 줄무늬의 진폭의 감쇠로부터 산출할 수 있다.In addition, the film thickness of each layer can be calculated from the period of vibration. In addition, roughness can be calculated from the attenuation rate of the entire reflectance measurement data and the amplitude of the interference fringes on the high angle side, as described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2001-349849, for example. have.

피팅 처리의 순서를 이하에 구체적으로 설명한다. 먼저, 단층 막 또는 다층 막으로 이루어지는 막 시료의 표면에 대한 임계각 근방의 각도로부터의 X선 입사에 의해 측정 데이터를 얻는다. 데이터의 측정점 수를 Np라고 하고, 어떤 측정 개소 n에서의 입사 X선의 각도를 α(n)이라고 하였을 때, 예를 들면, α(n)을 0.05°∼5°에서의 반사 X선 강도를 각각 관측하고, 입사 X선의 강도로 규격화함으로써, 입사 각도 α(n)에서의 X선의 반사율 R{α(n)}을 얻는다. R{α(n)}에 대한 α(n)의 상관도를 XRR 프로파일이라고 부른다. 시료의 기판이나 막 두께에 따라, 적절한 조건으로 측정할 필요가 있고, 적절한 조건이란 구체적으로, 입사 X선의 각도 α(n)의 측정 범위나 입사 X선의 발산각[°]이다.The procedure of the fitting process will be described in detail below. First, measurement data is obtained by incidence of X-rays from an angle near the critical angle with respect to the surface of a film sample made of a single layer film or a multilayer film. When the number of measurement points of the data is Np and the angle of the incident X-ray at a certain measurement point n is α(n), for example, α(n) is the reflected X-ray intensity at 0.05° to 5°, respectively. By observation and normalizing to the intensity of the incident X-ray, the reflectance R{α(n)} of the X-ray at the incident angle α(n) is obtained. The correlation of α(n) with R{α(n)} is called the XRR profile. Depending on the substrate or film thickness of the sample, it is necessary to measure under appropriate conditions. Specifically, the appropriate conditions are the measurement range of the angle α(n) of the incident X-ray and the divergence angle [°] of the incident X-ray.

α(n)에 있어서, 측정 개시의 각도는 입사 X선이 전반사하는 조건을 만족시킬 필요가 있다. 일반적으로 X선이 전반사하는 조건은 원소종 및 밀도로부터 추산 가능하고, 유리 기판이나 Si 기판 등에서는 전반사 임계각이 0.23°라고 말해지고 있다. 또한, 측정 종료 각도는 백그라운드와 동일 정도의 신호 강도가 되는 각도인 편이 바람직하다.In α(n), the angle at which the measurement starts is required to satisfy the condition that the incident X-rays are totally reflected. In general, the condition for total reflection of X-rays can be estimated from the element species and density, and it is said that the critical angle of total reflection is 0.23° for a glass substrate or a Si substrate. In addition, it is preferable that the measurement end angle is an angle at which the signal strength is equal to that of the background.

입사 X선의 발산각에 대하여, 기판 상의 막의 막 두께가 두꺼워질수록, X선의 간섭의 주기[°]가 짧아진다는 것이 알려져 있고, 막 두께가 두꺼울수록, 입사 X선의 발산각[°]을 작게 할 필요가 있다. 일반적으로 막의 두께가 100 ㎚ 이상이면 발산각은 0.015°이하, 300 ㎚ 이상이면 발산각을 0.003°이하로 할 필요가 있다고 말해지고 있다. 발산각을 0.015° 이하로 하기 위해서는, Ge(110) 등의 분광 결정에 의해 1회 반사시키는 등의 방법이 있다. 또한, 발산각을 0.003° 이하로 하기 위해서는, Ge(110) 등의 분광 결정에 의해 2회 반사시키는 등의 방법이 있다. 이들 분광 결정은 X선을 반사할 때에 입사 강도가 격감한다. 그 때문에, 필요 이상으로 분광 결정을 도입하지 않는 편이 좋다.With respect to the divergence angle of incident X-rays, it is known that the thicker the film on the substrate, the shorter the period of X-ray interference [°], and the thicker the film, the smaller the divergence angle [°] of incident X-rays. Needs to be. In general, it is said that if the thickness of the film is 100 nm or more, the divergence angle needs to be 0.015° or less, and if the film thickness is 300 nm or more, it is necessary to set the divergence angle to 0.003° or less. In order to set the divergence angle to be 0.015° or less, there is a method such as reflecting once by a spectroscopic crystal such as Ge (110). Moreover, in order to make the divergence angle 0.003° or less, there is a method such as reflecting twice by a spectroscopic crystal such as Ge (110). When these spectral crystals reflect X-rays, the incident intensity decreases sharply. Therefore, it is better not to introduce the spectral crystal more than necessary.

이와 같이 하여 측정하여 얻어진 실측 프로파일에 대하여, 기판 및 막 또는 다층 막의 각각에 대하여, 막 두께, 밀도, 러프니스(공기와 막의 계면, 막과 사이의 계면, 막과 기판의 계면)의 파라미터를 초기 설정하고, 이들 파라미터를 적어도 1개 이상 변화시켜 시뮬레이션 연산에 의해 얻어지는 시뮬레이션 연산 프로파일이라고 부른다. 이 시뮬레이션 연산 프로파일이 실측 프로파일에 가까워지도록 피팅함으로써, 막 시료의 밀도를 결정한다.For the measured profile obtained by measuring in this way, the parameters of the film thickness, density, and roughness (the interface between the air and the film, the interface between the film, and the interface between the film and the substrate) were initially set for each of the substrate and film or multilayer film. It is called a simulation calculation profile obtained by setting and changing at least one or more of these parameters by simulation calculation. The density of the film sample is determined by fitting this simulation calculation profile to be close to the measured profile.

피팅 처리의 순서로서는, 예를 들면, 최소 2승법에 의한 해석이 이용된다. 시뮬레이션 연산 프로파일과 실측 프로파일과의 잔차(殘差) 2승 합을 최소로 하는 것과 같은 파라미터를 결정한다. 이것이 측정 데이터에 가장 피팅하는 1세트의 파라미터이다.As the procedure of the fitting process, for example, an analysis by the least squares method is used. A parameter such as minimizing the sum of 2 powers of the residuals between the simulation calculation profile and the measured profile is determined. This is the one set of parameters that best fits the measurement data.

잔차 2승 합(χ2)은, 스펙트럼 강도의 계산 반사율(Ical)과 실험 반사율(Iexp)과의 차이고, 식 (Y)로 나타내어지고, 0.01 이하인 것이 바람직하다. 여기서, Np는 피팅 범위 내의 데이터 점 수이다. αi는 입사 X선의 각도이다.The residual squared sum (χ 2 ) is the difference between the calculated reflectance (Ical) of the spectral intensity and the experimental reflectance (Iexp), expressed by the formula (Y), and is preferably 0.01 or less. Here, Np is the number of data points within the fitting range. α i is the angle of the incident X-ray.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pct00032
Figure pct00032

···(Y) ···(Y)

상술의 피팅 처리는, 리가쿠사 제 해석 소프트웨어(GlobalFit) 등을 이용함으로써, 해석할 수 있다.The above fitting process can be analyzed by using Rigaku's analysis software (GlobalFit) or the like.

본 발명의 조성물을 접촉시키는 기재는 특별히 한정되지 않고, 기재의 형상은 평면, 곡면의 어느 것이어도 되고, 다수의 면이 조합된 삼차원적 구조여도 된다. 또, 기재의 재질도 한정되지 않고, 유기계 재료, 무기계 재료의 어느 것으로 구성되어 있어도 된다. 상기 유기계 재료로서는 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지, 스티렌 수지, 아크릴-스티렌 공중합 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리올레핀 수지 등의 열가소성 수지; 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르, 실리콘 수지, 우레탄 수지 등의 열경화성 수지; 등을 들 수 있고, 무기계 재료로서는 세라믹스; 유리; 철, 실리콘, 구리, 아연, 알루미늄 등의 금속; 상기 금속을 포함하는 합금; 등을 들 수 있다.The substrate to which the composition of the present invention is brought into contact is not particularly limited, and the shape of the substrate may be either a flat surface or a curved surface, or a three-dimensional structure in which a plurality of surfaces are combined. Moreover, the material of the base material is also not limited, and may be composed of either an organic material or an inorganic material. Examples of the organic material include thermoplastic resins such as acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, styrene resin, acrylic-styrene copolymer resin, cellulose resin, and polyolefin resin; Thermosetting resins such as phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester, silicone resin, and urethane resin; And the like, and examples of the inorganic material include ceramics; Glass; Metals such as iron, silicon, copper, zinc, and aluminum; An alloy containing the metal; And the like.

상기 기재에는 미리 이(易)접착 처리를 실시해 두어도 된다. 이접착 처리로서는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 친수화 처리를 들 수 있다. 또, 수지, 실란 커플링제, 테트라알콕시실란 등에 의한 프라이머 처리를 실시해도 되고, 폴리실라잔 등의 유리 피막을 기재에 미리 도포해 두어도 된다.The substrate may be subjected to an easily bonding treatment in advance. Examples of the easy adhesion treatment include hydrophilic treatment such as corona treatment, plasma treatment, and ultraviolet treatment. Further, a primer treatment with a resin, a silane coupling agent, tetraalkoxysilane, or the like may be performed, or a glass film such as polysilazane may be applied to the substrate in advance.

실시예Example

이하에, 실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 본래 하기 실시예에 의해서 제한을 받는 것은 아니며, 상기·후기의 취지에 적합할 수 있는 범위에서 적당히 변경을 가하여 실시하는 것도 물론 가능하고, 그들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not originally limited by the following examples, and it is also carried out with appropriate changes within the range suitable for the purpose of the above and later. Of course it is possible, and they are all included in the technical scope of the present invention.

본 발명의 실시예에서 이용한 측정법은 하기와 같다.The measurement method used in the examples of the present invention is as follows.

접촉각의 측정Measurement of contact angle

교와계면화학사 제 「DM700」을 사용하고, 액량을 3 μL로 하여, θ/2법으로 투명 피막 표면의 물에 대한 접촉각을 측정하였다.Using "DM700" manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd., the liquid volume was 3 μL, and the contact angle of the transparent film surface with respect to water was measured by the θ/2 method.

활락 속도의 측정Measurement of slide speed

피막 표면에 수적을 적하하였을 때의 활락 속도에 의해서 수적의 활락성을 평가하였다. 구체적으로는 교와계면과학주식회사 제의 접촉각 측정 장치(DM700)를 이용하여, 20°로 기울인 유리 기판 상의 피막 위에 50 μL의 수적을 적하하고, 수적이, 초기 적하 위치로부터 15 ㎜ 활락할 때까지의 시간을 측정하고, 피막 표면에 있어서의 수적의 활락 속도(㎜/초)를 산출하였다.The sliding property of the water droplet was evaluated by the sliding speed when the water droplet was dropped on the surface of the film. Specifically, using a contact angle measuring device (DM700) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., 50 μL of water droplets are dropped onto the film on a glass substrate tilted at 20°, until the water droplets slide 15 mm from the initial drop position. The time of was measured, and the sliding speed (mm/sec) of water droplets on the coating surface was calculated.

내마모성의 측정Measurement of wear resistance

하중 1000 g/㎤, 왕복 속도가 매분 1600 ㎜의 속도로, 20 ㎜의 거리를 사비나 MX(등록상표)로 2000회 문지른 후, 1000회 단위로 문지르고, 마모된 부위의 중앙 부분 3점에 있어서의 접촉각을 각각 측정하고, 3점 중 2점이 90° 이하로 저하될 때까지의 횟수를 측정하였다.With a load of 1000 g/cm 3 and a reciprocating speed of 1600 mm per minute, a distance of 20 mm was rubbed 2000 times with Sabina MX (registered trademark), and then rubbed in units of 1000 times. Each contact angle was measured, and the number of times until two of the three points decreased to 90° or less was measured.

외관 평가Appearance evaluation

조도 1000 룩스의 환경에 있어서, 피막을 육안으로 관찰하고, 백애나 이물의 유무(이하, 일괄하여 「오염」이라고 기재함)를 관능 평가에 의해, 이하와 같이 평가하였다.In an environment with an illuminance of 1000 lux, the film was visually observed, and the presence or absence of white aerosol or foreign matter (hereinafter collectively referred to as "contamination") was evaluated by sensory evaluation as follows.

○: 전혀 오염이 없음○: No contamination at all

△: 막의 부분적인 오염을 확인할 수 있음△: Partial contamination of the membrane can be confirmed

×: 막의 전체적인 오염을 확인할 수 있음×: Overall contamination of the membrane can be confirmed

내온수성의 측정Measurement of hot water resistance

70℃의 이온 교환수에 샘플을 12시간 침지하고, 침지 전후의 수접촉각 및 활락 속도를 측정하였다.The sample was immersed in ion-exchanged water at 70°C for 12 hours, and the water contact angle and sliding speed before and after immersion were measured.

내황산성 및 발유성의 측정Measurement of sulfuric acid resistance and oil repellency

피막 위에, 0.1M 황산 0.035 g을 3개소에 각각 적하하고, 12시간 실온에서 방치하여 수분을 증발시켰다. 수분 증발 후, 황산을 적하한 부위에 매직(사쿠라 제 펜 터치 유성 중자(中字))을 이용하여 원을 그리고, 그 후, 와이핑 클로스의 사비나(등록상표)로 닦아냈다. 매직 자국이 3점 모두 닦아내어진 경우는 ○, 닦아내어지지 않은 점이 있었을 경우는 ×라고 하였다. 또, 매직 자국이 닦아내어진다는 것은 발유성도 양호하다는 것을 나타낸다.On the film, 0.035 g of 0.1M sulfuric acid was added dropwise to each of three places, and left to stand at room temperature for 12 hours to evaporate moisture. After evaporation of water, a circle was drawn on the area where sulfuric acid was dropped using a magic (Sakura pen-touch oily core), and then wiped with Sabina (registered trademark) of wiping cloth. When all three points of the magic mark were wiped off, it was indicated as ◯, and when there was a point that was not wiped off, it was indicated as x. Moreover, the fact that the magic mark is wiped off indicates that the oil repellency is also good.

피막 밀도의 측정Measurement of film density

피막 밀도의 측정에는 리가쿠사 제 X선 반사율 측정 장치(SmartLab)를 이용하였다. X선원으로서 45 kW의 X선 발생 장치, Cu 타겟에 의한 CuKα선의 파장 λ=0.15418 ㎚ 또는 CuKα1선의 파장 λ=0.15406 ㎚를 사용하고, 또, 모노크로미터는 이용하지 않거나 또는 Ge(220) 모노크로 결정을 사용하였다. 설정 조건으로서, 샘플링 폭은 0.01° 또는 0.002°, 수사(搜査) 범위 0.0∼2.5° 또는 0.0∼1.6°로 설정하였다. 그리고, 상기 설정 조건에 의해 측정하여, 반사율 측정값을 얻었다. 얻어진 측정값을 동사(同社) 해석 소프트웨어(GlobalFit)를 이용하여 해석하였다.For the measurement of the film density, an X-ray reflectance measuring apparatus (SmartLab) manufactured by Rigaku Corporation was used. As the X-ray source, a 45 kW X-ray generator, a wavelength of CuKα ray by a Cu target λ=0.15418 nm or a wavelength of CuKα1 ray λ=0.15406 nm is used, and a monochromator is not used or a Ge(220) monochromatic Crystal was used. As setting conditions, the sampling width was set to 0.01° or 0.002°, and the investigation range was set to 0.0 to 2.5° or 0.0 to 1.6°. And it measured under the said setting conditions, and obtained the reflectance measurement value. The obtained measured values were analyzed using the company's analysis software (GlobalFit).

실시예 1Example 1

상기의 식 (A2-26)에 있어서의 n의 평균이 24인 화합물 (1) 0.03 g, Durazane(등록상표) 1500 slow cure(MERCK사 제) 0.03 g을, 이소옥탄 9.94 g에 용해시키고, 실온에서 1분간, 볼텍스를 이용하여 혼합하여, 코팅액을 얻었다. 상기 코팅액을 플라즈마 처리를 행한 무알칼리 유리(이글 XG)에, 스핀 코터(MIKASA사 제)에 의해, 회전수 3000 rpm, 20 sec의 조건으로 제막한 후, 200℃에서 3시간 열 처리를 행하여 기재 상에 피막을 얻었다. 그 후, 상기의 측정 방법으로 피막의 평가를 행하였다. 또한, Durazane(등록상표) 1500 slow cure는, 이하의 하기 식 (B3)으로 나타내어지는 구조 단위를 갖는다.0.03 g of compound (1) having an average of 24 n in the above formula (A2-26), and 0.03 g of Durazane (registered trademark) 1500 slow cure (manufactured by MRCK) were dissolved in 9.94 g of isooctane, and at room temperature For 1 minute, the mixture was mixed using a vortex to obtain a coating solution. The coating solution was formed into a film on an alkali-free glass (Eagle XG) subjected to plasma treatment with a spin coater (manufactured by MIKASA) under conditions of a rotation speed of 3000 rpm and 20 sec, followed by heat treatment at 200°C for 3 hours. A film was obtained on the phase. Thereafter, the coating was evaluated by the above measurement method. In addition, Durazane (registered trademark) 1500 slow cure has a structural unit represented by the following formula (B3).

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00033
Figure pct00033

식 (B3) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In formula (B3), R represents a hydrogen atom or a methyl group.

실시예 2∼11, 비교예 1∼2Examples 2 to 11, Comparative Examples 1 to 2

유기 규소 화합물 (a), 유기 폴리실라잔 (b), 및 용매 (c)의 종류 및/또는 양을, 표 5의 비율로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 피막을 제작하였다. 또한, Durazane(등록상표) 1500 rapid cure(MERCK사 제)도 상기 (B3)과 마찬가지의 구조 단위를 갖고 있다. Durazane(등록상표) 1500 slow cure 및 Durazane(등록상표) 1500 rapid cure의 어느 것이나 9∼27 질량%의 Si(OC2H5)3기를 갖고 있고, 또, 상기 (B3) 중의 구조에 있어서의, SiH기의 수소 원자와 Si-CH3기의 메틸기의 몰비 (메틸기/수소 원자)는 모두 1.5∼3.0이었다.A film was produced in the same manner as in Example 1, except that the types and/or amounts of the organosilicon compound (a), organopolysilazane (b), and solvent (c) were changed in the proportions shown in Table 5. Further, Durazane (registered trademark) 1500 rapid cure (made by MRCK) also has the same structural unit as in (B3) above. Durazane (registered trademark) 1500 slow cure and Durazane (registered trademark) 1500 rapid cure have 9 to 27 mass% of Si(OC 2 H 5 ) 3 groups, and in the structure in (B3), The molar ratios (methyl group/hydrogen atom) of the hydrogen atom of the SiH group and the methyl group of the Si-CH 3 group were all 1.5 to 3.0.

상기 Si(OC2H5)3기의 질량비, 및 수소 원자와 메틸기의 몰비는 1H-NMR(400 MHz, 기준: CDCl3(=7.24 ppm))의 적분값에 기초하여 정했다. 즉, 적분값으로부터 유기 폴리실라잔 중의 SiH, SiCH3, 및 Si(OCH2CH3)3의 몰비를 구하여, 수소 원자와 메틸기의 몰비를 산출하였다. 또, 각각을 질량비로 환산하여, 유기 폴리실라잔 중에 포함되는 Si(OC2H5)3기의 질량%를 산출하였다.The mass ratio of the Si(OC 2 H 5 ) 3 group and the molar ratio of the hydrogen atom and the methyl group were determined based on the integral value of 1 H-NMR (400 MHz, standard: CDCl 3 (=7.24 ppm)). That is, the molar ratio of SiH, SiCH 3 , and Si(OCH 2 CH 3 ) 3 in the organic polysilazane was calculated from the integral value, and the molar ratio of the hydrogen atom and the methyl group was calculated. Moreover, each was converted into a mass ratio, and the mass% of the Si(OC 2 H 5 ) 3 group contained in the organic polysilazane was calculated.

비교예 1에서 이용한 화합물 (2)는, 편(片)말단형 반응성 실리콘 오일(X-24-9011, 신에츠화학공업사 제)을 이용하였다.As the compound (2) used in Comparative Example 1, a piece-terminated reactive silicone oil (X-24-9011, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries Co., Ltd.) was used.

[표 5][Table 5]

Figure pct00034
Figure pct00034

얻어진 피막의 평가 결과를 표 6 및 표 7에 나타낸다.The evaluation results of the obtained film are shown in Tables 6 and 7.

[표 6][Table 6]

Figure pct00035
Figure pct00035

[표 7][Table 7]

Figure pct00036
Figure pct00036

유기 규소 화합물 (a)와 유기 폴리실라잔 (b)를 소정의 농도로 혼합하고 있는 실시예 1∼11에서는, 발수·발유성, 액적 미끄러짐성, 내마모성, 내황산성 및 내온수성, 및 외관이 우수한 피막을 작성할 수 있었다. 유기 규소 화합물은 광에 대한 안정성은 매우 높지만, 한편으로 실록산 결합을 갖기 때문에, 유기 규소 화합물을 혼합한 조성물로부터 얻어지는 피막은 물이나 온수에 대한 내구성을 갖게 하기가 용이하지 않다는 것을 알 수 있었다. 그 때문에, 유기 규소 화합물을 혼합한 조성물로부터 얻어지는 피막에 있어서, 가혹한 환경에 노출된 후에도 양호한 성능을 유지시키기 위해서는, 내온수성이 높은 막인 것이, 실사용 환경에 있어서도 성능을 유지시키기 위하여 중요한 성능이 된다고 할 수 있다. 또, 일반적인 사양 조건 하에서, 여러 가지 물건이나 비 등과 스치거나, 그들이 충돌함으로써 피막이 박리되면, 발수·발유 성능을 유지하기가 곤란해지기 때문에, 내마모성도 피막의 특성으로서 중요하다. 따라서, 내온수성 및 내마모성을 갖는 피막인 것도 바람직하다.In Examples 1 to 11, in which an organosilicon compound (a) and an organopolysilazane (b) are mixed at a predetermined concentration, water and oil repellency, droplet slipping, abrasion resistance, sulfuric acid resistance and hot water resistance, and appearance are excellent. I was able to create a film. Although the organosilicon compound has very high stability to light, on the other hand, since it has a siloxane bond, it has been found that it is not easy to provide a film obtained from a composition in which the organosilicon compound is mixed has durability against water or hot water. Therefore, in a film obtained from a composition in which an organosilicon compound is mixed, in order to maintain good performance even after exposure to a harsh environment, a film having high warm water resistance is said to be an important performance in order to maintain performance even in an actual use environment. can do. In addition, under general specification conditions, if the film is peeled off by rubbing against various objects or rain, or colliding with them, it becomes difficult to maintain the water/oil repellency performance, so abrasion resistance is also important as a characteristic of the film. Therefore, it is also preferable that it is a film having warm water resistance and abrasion resistance.

산업상의 이용 가능성Industrial availability

본 발명의 조성물로부터 얻어지는 피막은, 발수·발유성 및 내황산성(바람직하게는, 발수·발유성 및 내황산성에 추가하여 액적 미끄러짐성, 내마모성, 외관 및 내온수성)이 우수하다. 그 때문에, 터치 패널 디스플레이 등의 표시 장치, 광학 소자, 반도체 소자, 건축 재료, 자동차 부품, 나노 임프린트 기술 등에 있어서의 기재로서 유용하다. 또한, 전차, 자동차, 선박, 항공기 등의 수송 기기에 있어서의 보디, 창 유리(프론트 글래스, 사이드 글래스, 리어 글래스), 미러, 범퍼 등의 물품으로서 적절하게 이용된다. 또, 건축물 외벽, 텐트, 태양광 발전 모듈, 차음판, 콘크리트 등의 옥외 용도에도 이용할 수 있다. 어망, 벌레잡이망, 수조 등에도 이용할 수 있다. 또한, 부엌, 목욕탕, 세면대, 거울, 화장실 주변의 각 부재의 물품, 샹들리에, 타일 등의 도자기, 인공 대리석, 에어컨 등의 각종 옥내 설비에도 이용 가능하다. 또, 공장 내의 지그나 내벽, 배관 등의 방오 처리로서도 이용할 수 있다. 고글, 안경, 헬멧, 파친코, 섬유, 우산, 장난감, 축구공 등에도 적절하다. 또한, 식품용 포재(包材), 화장품용 포재, 포트의 내부 등, 각종 포재의 부착 방지제로서도 이용할 수 있다.The film obtained from the composition of the present invention is excellent in water/oil repellency and sulfuric acid resistance (preferably, in addition to water/oil repellency and sulfuric acid resistance, droplet sliding properties, abrasion resistance, appearance and hot water resistance). Therefore, it is useful as a substrate in a display device such as a touch panel display, an optical element, a semiconductor element, a building material, an automobile part, and a nanoimprint technology. In addition, it is suitably used as an article such as a body, window glass (front glass, side glass, rear glass), mirror, and bumper in transport equipment such as tanks, automobiles, ships, and aircraft. In addition, it can be used for outdoor applications such as exterior walls of buildings, tents, solar power modules, sound insulation panels, and concrete. It can also be used for fishing nets, insect control nets, and fish tanks. In addition, it can be used for various indoor facilities such as kitchens, baths, sinks, mirrors, articles of each member around the toilet, ceramics such as chandeliers and tiles, artificial marble, and air conditioners. In addition, it can be used as an antifouling treatment for jigs, inner walls, and pipes in factories. It is also suitable for goggles, glasses, helmets, pachinko, textiles, umbrellas, toys, soccer balls, etc. In addition, it can be used as an agent for preventing adhesion of various packaging materials, such as a food packaging material, a cosmetic packaging material, and an interior of a pot.

Claims (9)

적어도 1개의 트리알킬실릴기 함유 분자쇄와, 적어도 1개의 가수분해성 기가 규소 원자에 결합해 있는 유기 규소 화합물 (a), 유기 폴리실라잔 (b), 및 용매 (c)의 혼합 조성물로서,
상기 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,
상기 조성물 100 질량%에 대하여, 상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 합계의 농도가 0.2 질량% 이상 2.6 질량% 미만인 혼합 조성물.
A mixed composition of an organosilicon compound (a), an organic polysilazane (b), and a solvent (c) in which at least one trialkylsilyl group-containing molecular chain and at least one hydrolyzable group are bonded to a silicon atom,
The hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group may be substituted with a fluorine atom,
A mixed composition wherein the total concentration of the organosilicon compound (a) and the organopolysilazane (b) is 0.2% by mass or more and less than 2.6% by mass based on 100% by mass of the composition.
제 1 항에 있어서,
상기 유기 폴리실라잔 (b)가, 하기 식 (B2)로 나타내어지는 구조 단위를 갖는 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00037

[상기 식 (B2) 중, Rp21, Rp22, 및 Rp23은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다. 단, Rp21 및 Rp22의 적어도 일방은, 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다.]
The method of claim 1,
The composition wherein the organic polysilazane (b) has a structural unit represented by the following formula (B2).
[Formula 1]
Figure pct00037

[In the formula (B2), R p21 , R p22 , and R p23 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. However, at least one of R p21 and R p22 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 유기 규소 화합물 (a)가 하기 식 (A1)로 나타내어지는 화합물인 조성물.
[화학식 2]
Figure pct00038

[상기 식 (A1) 중, Ra1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄를 나타내고,
복수의 Aa1은, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타내고,
Za1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 실록산 골격 함유 기, 또는 탄화수소쇄 함유 기를 나타내고,
Ra1 및 Za1에 있어서의 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,
x는 0 또는 1이다.]
The method according to claim 1 or 2,
The composition wherein the organosilicon compound (a) is a compound represented by the following formula (A1).
[Formula 2]
Figure pct00038

[In the formula (A1), R a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain,
A plurality of A a1 each independently represents a hydrolyzable group,
Z a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a siloxane skeleton-containing group, or a hydrocarbon chain-containing group,
The hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group in R a1 and Z a1 may be substituted with a fluorine atom,
x is 0 or 1.]
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유기 규소 화합물 (a)가 하기 식 (A2)로 나타내어지는 화합물인 조성물.
[화학식 3]
Figure pct00039

[상기 식 (A2) 중, 복수의 Rs1은, 각각 독립적으로, 탄화수소기 또는 트리알킬실릴옥시기를 나타내고, 당해 탄화수소기 또는 트리알킬실릴옥시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,
복수의 Rs2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내고,
n1은 1 이상의 정수를 나타내고,
Zs1은 -O- 또는 2가의 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.
Ys1은 단결합 또는 -Si(Rs2)2-Ls1-를 나타내고, 당해 Ls1은 2가의 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.
복수의 Aa1은, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타내고,
Za1은 트리알킬실릴기 함유 분자쇄, 실록산 골격 함유 기, 또는 탄화수소쇄 함유 기를 나타내고,
Za1에 있어서의 트리알킬실릴기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,
x는 0 또는 1이다.]
The method according to any one of claims 1 to 3,
The composition wherein the organosilicon compound (a) is a compound represented by the following formula (A2).
[Formula 3]
Figure pct00039

[In the formula (A2), a plurality of Rs1 each independently represents a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group, and the hydrogen atom contained in the hydrocarbon group or trialkylsilyloxy group may be substituted with a fluorine atom,
A plurality of R s2 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
n1 represents an integer of 1 or more,
Z s1 represents -O- or a divalent hydrocarbon group, and -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O-.
Y s1 represents a single bond or -Si(R s2 ) 2 -L s1 -, the L s1 represents a divalent hydrocarbon group, and -CH 2 -contained in the divalent hydrocarbon group is substituted with -O- do.
A plurality of A a1 each independently represents a hydrolyzable group,
Z a1 represents a trialkylsilyl group-containing molecular chain, a siloxane skeleton-containing group, or a hydrocarbon chain-containing group,
The hydrogen atom contained in the trialkylsilyl group for Z a1 may be substituted with a fluorine atom,
x is 0 or 1.]
제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유기 폴리실라잔 (b)가, 하기 식 (B1)로 나타내어지는 구조 단위를 추가로 갖는 조성물.
[화학식 4]
Figure pct00040

[상기 식 (B1) 중, Rp10 및 Rp11은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타내고,
Y는 탄소수 1∼10의 2가의 탄화수소기를 나타내고,
복수의 X는, 각각 독립적으로, 가수분해성 기를 나타낸다.]
The method according to any one of claims 2 to 4,
The composition wherein the organic polysilazane (b) further has a structural unit represented by the following formula (B1).
[Formula 4]
Figure pct00040

[In the formula (B1), R p10 and R p11 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,
Y represents a C1-C10 divalent hydrocarbon group,
Each of a plurality of Xs independently represents a hydrolyzable group.]
제 5 항에 있어서,
상기 유기 폴리실라잔 (b)가, 상기 식 (B1)의 SiX3기를 2 질량%∼50 질량% 함유하는 조성물.
The method of claim 5,
The composition in which the organic polysilazane (b) contains 2% by mass to 50% by mass of SiX 3 groups represented by the formula (B1).
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유기 규소 화합물 (a)와 상기 유기 폴리실라잔 (b)의 질량비 (a/b)가 0.2 이상인 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The composition in which the mass ratio (a/b) of the organosilicon compound (a) and the organic polysilazane (b) is 0.2 or more.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물인 피막.A film which is a cured product of the composition according to any one of claims 1 to 7. 기재 상에 제 8 항에 기재된 피막을 피복하여 이루어지는 피복체로서, X선 반사율법에 의해 구해진 기재측의 피막의 밀도가 0.9 g/㎤ 이상인 피복체.A coating formed by coating the coating according to claim 8 on a substrate, wherein the density of the coating on the substrate side determined by the X-ray reflectance method is 0.9 g/cm 3 or more.
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