KR20200137961A - Dry room for gas replacement - Google Patents

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KR20200137961A
KR20200137961A KR1020200028863A KR20200028863A KR20200137961A KR 20200137961 A KR20200137961 A KR 20200137961A KR 1020200028863 A KR1020200028863 A KR 1020200028863A KR 20200028863 A KR20200028863 A KR 20200028863A KR 20200137961 A KR20200137961 A KR 20200137961A
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low dew
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KR1020200028863A
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와타루 타나카
히토미 니시코쿠바루
카즈히코 카와구치
마유 이와사키
히로아키 에지마
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가부시키가이샤 세이부 기켄
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Abstract

The present invention provides a gas replacement system capable of switching between an atmospheric environment or a low dew point and an inert gas environment within a relatively short time in a drying chamber of an inert gas concentration containing a manufacturing device. The gas replacement system needs to keep the inside clean with a low dew point and inert gas concentration. In the gas replacement system, dry air is introduced into the chamber in a one-way manner to discharge moisture to the outside of the device during performing repairing or maintenance and inert gas circulation pipelines are all closed by valves and the like to independently perform circulation operation, thereby significantly shortening a pause time due to atmospheric replacement even when the plurality of chambers exist. By connecting a low dew point gas supply device and an inert gas purification device to form an integrated type, space can be saved and cost can be reduced.

Description

가스 치환용 드라이룸{DRY ROOM FOR GAS REPLACEMENT}Dry room for gas replacement {DRY ROOM FOR GAS REPLACEMENT}

본 발명은, 유기 EL 디스플레이 제조 장치가 설치된 부스 등의 불활성 가스(이하, 활성 가스 농도를 가능한 한 0ppm에 접근시킨 가스를 "불활성 가스"라고 함) 농도의 건조실, 챔버, 부스에 있어서, 제조 장치의 메인터넌스나 조정 등을 위하여, 저노점(이하, 노점 온도가 0도 이하인 것을 "저노점"이라고 함)의 환경으로 비교적 단시간에 전환을 행할 수 있는 제습 장치, 가스 정제기를 포함한 가스 치환 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a drying chamber, a chamber, and a booth having a concentration of an inert gas (hereinafter, a gas whose active gas concentration is as close to 0 ppm as possible is referred to as "inert gas") such as a booth equipped with an organic EL display manufacturing device. For maintenance or adjustment of the system, a dehumidification device capable of switching to an environment with a low dew point (hereinafter, referred to as "low dew point" when the dew point temperature is 0 degrees or less) in a relatively short time, relates to a gas replacement system including a gas purifier. will be.

종래, 액정 표시 장치를 대신하는 차세대 플랫 패널 디스플레이로서 기대되는 유기 EL 표시 장치 등에 이용되는 유기 EL 소자는, 고체 발광형의 저렴한 대면적 풀 컬러 표시 소자나 기입 광원 어레이로서의 용도가 유망시되고 있으며, 활발한 연구 개발이 진행되어 왔다. 그러나, 유기 EL 소자에 이용되는 유기 발광 재료 등의 유기 물질이나 전극 등은 수분에 약하여, 공기 중의 수분으로 성능이나 특성이 급격히 열화된다. 따라서, 이들의 개발에 따른 실험 시에도, 매우 낮은 노점의 공기나, 액체 질소를 기화시킨 질소 가스 등의 불활성 가스로 공기를 퍼지한 부스 내에서 제조나 실험을 행할 필요가 있다.BACKGROUND ART Conventionally, organic EL elements used in organic EL displays and the like expected as next-generation flat panel displays instead of liquid crystal displays are promising for use as solid-state light-emitting type inexpensive large-area full-color display elements and write light source arrays. Active research and development has been in progress. However, organic materials such as organic light emitting materials used in organic EL devices, electrodes, and the like are weak to moisture, and their performance and characteristics are rapidly deteriorated due to moisture in the air. Therefore, even at the time of experiments according to these developments, it is necessary to carry out production or experiments in a booth purged with air with an inert gas such as air having a very low dew point or nitrogen gas obtained by vaporizing liquid nitrogen.

또 현재, 유기 EL 디스플레이(OLED)의 제조에는, 잉크젯 기술 등의 인쇄 기술을 이용하여, 액상의 유기 EL용 재료를 기판 상에서 균일한 박막으로 하여, 생산 효율이나 성능을 높인 소자를 제작하는 기술의 개발이 행해지고 있다. 이와 같은 제조 기술의 개발을 위해서는, 제조 장치의 주위 환경을 수분 1ppm 이하, 산소 1ppm 이하 등의 저노점에서 불활성 가스 농도로 하기 위하여, 질소 가스 등의 불활성 가스로 부스 내를 채우고 있다. 단, 부스 내에 있어서 제조 장치의 메인터넌스나 조정 등을 행할 경우, 저노점의 불활성 가스 환경을 대기 환경으로 되돌릴(이하, "대기 브레이크"라고 함) 필요가 있다.In addition, currently, in the manufacture of organic EL displays (OLEDs), using printing techniques such as inkjet technology, a liquid organic EL material is formed into a uniform thin film on a substrate, thereby manufacturing a device with improved production efficiency and performance. Development is taking place. In order to develop such a manufacturing technology, the inside of the booth is filled with an inert gas such as nitrogen gas in order to achieve an inert gas concentration at a low dew point such as 1 ppm of moisture or less and 1 ppm of oxygen or the like around the manufacturing apparatus. However, in the case of performing maintenance or adjustment of the manufacturing apparatus in the booth, it is necessary to return the low dew point inert gas environment to the atmospheric environment (hereinafter, referred to as "atmospheric brake").

이때, 통상의 대기에서 불활성 가스 환경을 치환하면 내부에 있는 장치의 다양한 부품이 수분을 흡착하여, 불활성 가스 환경으로 다시 되돌릴 때, 부품이 흡착한 수분을 탈착하는 데에 매우 시간이 걸린다.At this time, when the inert gas environment is replaced in the normal atmosphere, various parts of the device inside the device adsorb moisture, and when it is returned to the inert gas environment, it takes a very long time to desorb the moisture adsorbed by the parts.

대기 브레이크한 대기 환경으로부터 다시 불활성 가스 환경으로 되돌리기 위한 불활성 가스량을 최소로 하고, 장치의 휴지 시간을 최소한화하기 위하여, 가스 인클로저 어셈블리의 내부 용적을 최소한화하는 기술로서 특허문헌 1에 기재된 것이 있다.In order to minimize the amount of inert gas for returning back to the inert gas environment from the atmospheric environment after the atmospheric break, and to minimize the idle time of the apparatus, there is a technique described in Patent Document 1 for minimizing the internal volume of the gas enclosure assembly.

특허문헌 2에는, 불활성 가스 순환 정제 장치 장착 글로브 박스가 개시되어 있다. 이것에 의하면, 글로브 박스 내의 불활성 가스의 분위기를 일정하게 유지하고, 효율적으로 산소와 수분을 제거하기 위하여, 가스 중의 산소를 제거하는 금속 촉매를 충전한 금속 촉매 충전부와, 가스 중의 수분을 흡착 제거하는 몰레큘러 시브의 건조제를 충전한 건조제 충전부로 구성되는 흡착탑에 의하여, 산소 및 수분을 제거한 순환 가스를 공급하도록 구성하며, 글로브 박스 내의 가스를 순환 펌프로 흡출하고, 흡착탑 내를 통과 중에 산소와 수분을 제거하여 다시 글로브 박스로 되돌려, 가스 순환을 행한다.Patent Document 2 discloses a glove box equipped with an inert gas circulation purification device. According to this, in order to maintain a constant atmosphere of the inert gas in the glove box, and to efficiently remove oxygen and moisture, a metal catalyst charging unit filled with a metal catalyst that removes oxygen from the gas, and a metal catalyst charging unit that adsorbs and removes moisture in the gas. By an adsorption tower composed of a desiccant filling part filled with a desiccant of a molar sieve, it is configured to supply a circulating gas from which oxygen and moisture are removed, and the gas in the glove box is sucked out by a circulation pump, and oxygen and moisture are removed while passing through the adsorption tower. It is removed and returned back to the glove box, and gas circulation is performed.

일본 특허공보 6153539호Japanese Patent Publication No. 6153539 일본 특허공보 5676521호Japanese Patent Publication No. 5676521 일본 공개특허공보 2019-52835호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-52835

특허문헌 1에 개시된 것은, 가스 인클로저를 프레임화하고, 내부 용적을 가능한 한 작게 함으로써, 가스 인클로저 내의 불활성 가스량을 최소로 하여 보수 등에 의한 휴지 시간을 최소한화함과 함께, 다양한 OLED 제조 장치의 설치 면적에 적응하도록 작업 공간을 최적화할 수 있는 것이다. 그러나, 휴지 중에 부수하여, 불활성 가스 정제와 수분 제거를 동시에 행하는 가스 정제 시스템도 정지하기 때문에, 다시, 부스 내를 저습도의 불활성 가스 환경으로 되돌리기 위한 시간이 지나치게 걸린다는 문제가 있었다. 또, 가스 정제 장치와 제습 장치가 동일 기구 내에 있고, 산소와 수분에서는 정제 속도가 달라, 산소의 제거와 비교하여 수분의 제거에 매우 시간이 걸리기 때문에, 동시에 제거하는 것은 어렵다는 과제도 있다.Patent Document 1 discloses that the gas enclosure is framed and the internal volume is made as small as possible, thereby minimizing the amount of inert gas in the gas enclosure, minimizing the downtime due to maintenance, etc., and in the installation area of various OLED manufacturing apparatuses. You can optimize your workspace to adapt. However, there is a problem that it takes too much time to return the inside of the booth to an inert gas environment with low humidity again, since the gas purification system that accompanies during rest and simultaneously performs inert gas purification and moisture removal is also stopped. In addition, the gas purification device and the dehumidifying device are in the same mechanism, and the purification rate is different between oxygen and moisture, and there is a problem that it is difficult to remove the moisture at the same time because it takes a very long time to remove the moisture compared to the removal of oxygen.

특허문헌 2와 같은 종래의 시스템에 있어서도, 산소 제거와 수분 제거가 직렬 칼럼으로 행해지기 때문에, 수분 제거 능력 율속(律速)에서의 기기 선정이 행해지고 있었다. 이와 같이, 종래의 기술에서는 대기 브레이크 후, 불활성 가스 환경으로 되돌릴 때까지의 복귀 시간이 길어져, 이에 따른 제조 장치의 라인 기동에도 시간이 걸린다.Even in the conventional system as in Patent Document 2, since oxygen removal and water removal are performed in a series column, equipment selection has been performed in accordance with the water removal capacity rate. As described above, in the prior art, the recovery time from the standby brake to the return to the inert gas environment becomes longer, and thus it takes time to start the line of the manufacturing apparatus.

따라서, 특허문헌 3과 같이 데시컨트 로터를 이용하여 수분을 제거하고, 저노점 가스를 공급함으로써, 소정의 수분 농도로의 도달 시간이 큰폭으로 단축되는 가스 치환용 드라이룸이 개발되었다. 특허문헌 2에서 수분 제거에 이용되고 있는 펠릿상 몰레큘러 시브와 비교하여, 수분 제거에 데시컨트 로터를 이용하는 메리트는, 허니콤상이기 때문에 표면적이 넓고, 저압손이며, 또한 허니콤의 벽은 매우 얇아 흡착 수분의 확산이 빠르기 때문에, 허니콤 엘리먼트 전체에 있어서 순식간에 흡탈착이 행해지는 것이다.Accordingly, as in Patent Document 3, a dry room for gas replacement has been developed in which moisture is removed using a desiccant rotor and a low dew point gas is supplied, so that the time to reach a predetermined moisture concentration is significantly shortened. Compared with the pellet-shaped molecular sieve used for moisture removal in Patent Document 2, the advantage of using a desiccant rotor for moisture removal is that it has a large surface area, low pressure loss, and a very thin honeycomb wall because it is in a honeycomb shape. Since the adsorption moisture diffuses quickly, adsorption and desorption is performed in an instant in the whole honeycomb element.

특허문헌 3의 가스 치환용 드라이룸은, 건조 공기 공급 장치로부터의 건조 공기를 순환시킨 건조실 내부에, OLED의 제조나 연구 개발에 이용하는 제조 장치를 격납하는 기밀(氣密) 용기를 마련하고, 이 기밀 용기에 불활성 가스 및 저노점 가스를 공급하도록 하고 있다. 또, 기밀 용기의 순환로에 불활성 가스 정제 장치와 저노점 가스 공급 장치를 직렬로 배치하고, 그 순환로와 분리된 순환로를 별도로 마련하여, 서로 독립적으로 제어하도록 했으므로, 수분 제거 성능과 산소 제거 성능을 개별로 조정할 수 있다. 또한, 대기 브레이크 중에 별도로 마련한 순환로를 순환시킴으로써, 기밀 용기의 대기 브레이크 후의 대기 환경으로부터 불활성 가스 환경으로 되돌리는 복귀 시간을 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 불활성 가스의 공급을 정지한 상태에서, 저노점 가스의 공급을 유지할 수 있으므로, 대기 브레이크 후에도 신속하게 기밀 부스 내의 노점은 낮은 상태에 도달한다.In the dry room for gas replacement of Patent Document 3, an airtight container for storing a manufacturing device used for manufacturing or research and development of OLEDs is provided inside the drying chamber in which dry air from the dry air supply device is circulated. Inert gas and low dew point gas are supplied to the hermetic container. In addition, the inert gas purification device and the low dew point gas supply device are arranged in series in the circulation path of the airtight container, and a circulation path separated from the circulation path is provided to control each other independently. Can be adjusted with Further, by circulating the circulation path provided separately during the atmospheric brake, the return time for returning from the atmospheric environment after the atmospheric brake of the airtight container to the inert gas environment can be greatly shortened. Since the supply of the low dew point gas can be maintained while the supply of the inert gas is stopped, the dew point in the hermetic booth quickly reaches a low state even after the standby brake.

본 발명은, 특허문헌 3에 기재된 기밀 용기를 덮는 건조실 및 건조실 내부에 건조 공기를 공급 순환시키기 위한 건조 공기 공급 장치를 생략하고, 저노점 가스 정제 장치 및 불활성 가스 정제 장치를 접속시켜 일체형으로서 구성한 것으로, 특허문헌 3의 가스 치환용 드라이룸에 비하여, 장치의 간편화, 공간 절약화, 운전 방법의 간소화를 목표로 하는 것을 목적으로 한다.In the present invention, the drying chamber covering the airtight container described in Patent Document 3 and the drying air supply device for supplying and circulating dry air into the drying chamber are omitted, and a low dew point gas purification device and an inert gas purification device are connected to each other to form an integral structure. , Compared with the dry room for gas replacement of Patent Document 3, it aims at simplifying the apparatus, saving space, and simplifying the operation method.

본 발명은 이상과 같은 과제를 해결하기 위하여, OLED의 제조나 연구 개발에 이용하는 제조 장치를 격납하는 기밀 부스를 마련하고, 이 기밀 부스에 저노점 가스 및 불활성 가스를 공급하도록 하여, 불활성 가스 정제 장치와 저노점 가스 공급 장치를 접속시켜 일체화하고, 필요에 따라 저노점 가스 공급 장치를 통과한 가스가 불활성 가스 정제 장치를 지나지 않도록 바이패스 경로를 지나는 전환 수단을 마련했으므로, 대기 브레이크 중에 조정 등으로 기밀 부스 내부로 사람이 들어오는 경우에, 건조 공기를 기밀 부스로 공급하면서, 불활성 가스는 기밀 부스로의 공급으로부터 분리되어 폐루프 순환으로 유지할 수 있어, 대기 브레이크에 의한 휴지 시간을 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 혹은 폐루프 순환하지 않고, 대기 브레이크 중에 저노점 가스 공급 장치를 운전함으로써, 건조 공기의 공급량을 저감시킬 수 있다. 물의 분자는 극성 물질이며, 저노점으로 유지시킬 필요가 있는 기밀 부스에 대기를 그대로 도입하면, 기밀 부스의 벽면이나 필터 내부에 수분자가 부착된다. 이 부착된 수분자를 배출하기 위하여, 저노점 공기를 장시간 공급할 필요가 있지만, 본 발명의 경우는 불활성 가스의 공급을 정지시킨 상태에서, 건조 공기를 공급하고 있기 때문에, 대기 브레이크 후에도 신속하게 기밀 부스 내의 노점을 낮은 상태에 도달시킬 수 있다.In order to solve the above problems, the present invention provides an airtight booth for storing a manufacturing device used for manufacturing or research and development of OLEDs, and supplying low dew point gas and inert gas to the airtight booth, and an inert gas purification device And the low dew point gas supply device are connected and integrated, and if necessary, a switching means for passing the bypass path so that the gas that has passed the low dew point gas supply device does not pass through the inert gas purification device is provided. When a person enters the booth, dry air is supplied to the airtight booth, while the inert gas is separated from the supply to the airtight booth and can be maintained in closed loop circulation, so that the downtime due to the standby brake can be greatly shortened. . Alternatively, the supply amount of dry air can be reduced by operating the low dew point gas supply device during the atmospheric brake without closed loop circulation. Water molecules are polar substances, and when air is introduced into an airtight booth that needs to be kept at a low dew point, moisture will adhere to the walls of the airtight booth or inside the filter. In order to discharge the adhering moisture, it is necessary to supply low dew point air for a long time, but in the case of the present invention, since dry air is supplied with the supply of inert gas stopped, it is quickly inside the airtight booth even after the atmospheric brake. The dew point can reach a low state.

또, 불활성 가스로서 봄베에 들어있는 질소 가스여도, 액화 질소를 기화시킨 질소 가스여도, 혹은 심랭 분리 또는 압력 스윙 흡착(PSA), 막분리 방식 등에 의하여 공기로부터 산소를 제거한 질소 가스여도 가스의 가격이 높아, 대기 브레이크의 시간이나 대기 브레이크 후의 불활성 가스 환경으로 되돌리는 복귀 시간을 단축하지 않으면 비용이 늘어난다. 한편 저노점 가스를 데시컨트 로터로 만들고, 저노점 가스의 공급을 유지하면서 불활성 가스의 공급을 정지하여 메인터넌스 등을 행함으로써, 비용을 삭감할 수 있다.In addition, even if it is nitrogen gas contained in a cylinder as an inert gas, nitrogen gas obtained by evaporating liquefied nitrogen, or nitrogen gas obtained by removing oxygen from air by deep cooling separation or pressure swing adsorption (PSA), membrane separation method, etc. It is high, and the cost increases if the time of the standby brake or the return time to return to the inert gas environment after the standby brake is not shortened. On the other hand, cost can be reduced by making the low dew point gas into a desiccant rotor and stopping the supply of the inert gas while maintaining the supply of the low dew point gas to perform maintenance or the like.

수분 제거를 데시컨트 제습기로 행하여, 수분 제거 시간을 큰폭으로 단축하고, 동시에 저노점 가스의 일부를 불활성 가스 정제 장치에 도입하여 산소 제거를 행하기 때문에, 데시컨트 제습기로 처리하는 가스량과, 불활성 가스 정제 장치에 도입하는 가스량을 조정함으로써 최적의 운전 조건으로 불활성 가스 농도의 드라이룸을 만들 수 있다.Moisture removal is performed with a desiccant dehumidifier to significantly shorten the moisture removal time, and at the same time, a part of the low dew point gas is introduced into the inert gas purification device to remove oxygen.Therefore, the amount of gas treated with the desiccant dehumidifier and the inert gas By adjusting the amount of gas to be introduced into the refining device, a dry room with an inert gas concentration can be created under optimal operating conditions.

본 발명의 가스 치환용 드라이룸은 상술한 바와 같이 구성했으므로, 대기 브레이크 중에도 용기 내 상부에 설치된 HEPA 필터나 ULPA 필터 등의 공기 정화 필터로부터 순환시키지 않고 일 방향(이하, "원 패스"라고 함)으로 건조 공기를 공급함으로써, 가장 수분을 유지하기 쉬운 필터가 수분을 유지하지 않도록 하여, 메인터넌스나 보수, 전환 등을 실시한다. 또, 데시컨트 제습기 뒤에 불활성 가스 정제 장치를 접속시켜 일체화하고, 대기 브레이크 중에 별도로 마련한 순환로를 순환시킴으로써, 순환 공기가 대기 환경에 가까워지지 않도록 했다. 이와 같이 함으로써, 기밀 부스의 대기 브레이크 후의 대기 환경으로부터, 저노점이며 또한 불활성 가스 환경으로 되돌리는 복귀 시간을 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 또한, 이 제습 장치로부터 불활성 가스 정제 장치로 흐르는 가스의 유량을 조정함으로써, 용이하게 단시간에 저노점이며 또한 불활성 가스 환경으로 최적화할 수 있는 드라이룸으로 할 수 있다.Since the dry room for gas replacement of the present invention is configured as described above, it is not circulated from the air purification filter such as HEPA filter or ULPA filter installed on the upper part of the container even during the atmospheric brake, but in one direction (hereinafter referred to as "one pass"). By supplying dry air to the filter, the filter that is most likely to retain moisture is prevented from retaining moisture, and maintenance, repair, and switching are performed. Further, an inert gas purification device was connected behind the desiccant dehumidifier to be integrated, and the circulation path provided separately during the atmospheric brake was circulated to prevent the circulating air from approaching the atmosphere. By doing in this way, the return time for returning to the low dew point and inert gas environment from the atmospheric environment after the atmospheric brake of the airtight booth can be greatly shortened. In addition, by adjusting the flow rate of the gas flowing from the dehumidifying device to the inert gas purification device, it is possible to obtain a dry room that has a low dew point in a short time and can be optimized for an inert gas environment.

도 1은 본 발명의 드라이룸의 실시예 1에 있어서의 플로도이다.
도 2는 본 발명의 드라이룸의 실시예 2에 있어서의 플로도이다.
1 is a flow diagram in the first embodiment of the dry room of the present invention.
Fig. 2 is a flow diagram in Example 2 of the dry room of the present invention.

이하에 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 도면을 이용하여 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시예에 대하여 한정되지 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for carrying out this invention is demonstrated using drawing. In addition, the present invention is not limited to the following examples.

본 실시형태에서는, 내부를 저노점, 불활성 가스로 청정하게 유지할 필요가 있는 용기의 가스 치환 제습 장치 및 가스 치환 방법으로서, 잉크젯 기술 등의 인쇄 기술을 이용한 유기 EL 디스플레이(OLED)의 제조 혹은 연구 개발 장치의 부스를 예로 설명한다. 또한, 본 발명은, OLED의 제조 혹은 연구 개발 장치에 한정하지 않고, 보관 공간 내를 저노점, 불활성 가스 환경으로 청정하게 유지할 필요가 있는, 리튬 이온 전지 재료나 반도체 분야의 개발에 이용하는 글로브 박스 등의 수납 용기, 또는 폐쇄 공간에 대해서도 이용할 수 있다.In this embodiment, as a gas replacement dehumidification device and gas replacement method for a container that needs to be kept clean with a low dew point and inert gas, the production or research and development of an organic EL display (OLED) using a printing technology such as inkjet technology. The booth of the device will be described as an example. In addition, the present invention is not limited to OLED manufacturing or research and development equipment, and it is necessary to keep the storage space clean in a low dew point, inert gas environment, such as a glove box used for the development of lithium ion battery materials or semiconductor fields. It can also be used for a storage container or a closed space.

실시예 1Example 1

이하, 본 발명의 가스 치환용 드라이룸의 실시예 1에 대하여 도 1을 따라 상세하게 설명한다. 기밀 부스(1)는, 내부를 저노점, 불활성 가스로 청정하게 유지하고 있다. 기밀 부스(1)는, 글로브 박스나 드라이룸 등이어도 된다. 기밀 부스(1)에는 OLED의 제조나 연구 개발에 이용하는 제조 장치(2)를 격납하고 있고, 클린도가 요구되는 경우에는, 기밀 부스(1) 내 상부의 급기 부분에 HEPA 필터나 ULPA 필터 등의 공기 정화 필터(3)를 갖는 구성으로 한다. 또한, 공기 정화 필터(3)에 대해서는, 복수의 팬 필터 유닛으로 해도 된다. 기밀 부스(1)에는 배관(a)을 통하여 유틸리티로서의 질소 가스나 건조 공기가 공급된다.Hereinafter, a first embodiment of a dry room for gas replacement of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1. The airtight booth 1 keeps the inside clean with a low dew point and an inert gas. The airtight booth 1 may be a glove box or a dry room. In the airtight booth 1, a manufacturing apparatus 2 used for manufacturing or research and development of OLEDs is stored, and when cleanliness is required, a HEPA filter or a ULPA filter, etc. It is configured with an air purification filter (3). Moreover, about the air purification filter 3, it is good also as a plurality of fan filter units. The airtight booth 1 is supplied with nitrogen gas or dry air as a utility through a pipe a.

데시컨트 제습기(16)에 있어서, 허니콤 로터(5)는 처리 존(6), 퍼지 존(7), 재생 존(8)으로 분할되어 있다. 허니콤 로터(5)는, 기어드 모터 등의 로터 구동 모터(9)에 의하여 회전하면서, 연속적으로 수분을 흡탈착할 수 있다. 허니콤 로터(5)의 처리 존(6)에는 송풍기(10)를 통하여, 피처리 가스가 프리쿨러(11)에 의하여 냉각 공급된다. 피처리 가스의 일부는, 처리 존(6)의 앞에서 분기되고, 퍼지 존(7)을 통과한 후, 재생 히터(14)에서 가열되어, 재생 존(8)으로 보내진다. 재생 존(8)을 통과한 가스는 냉각기(15)에서 냉각되고, 허니콤으로부터 탈착된 재생 가스 중의 습분이 응축한 물의 드레인으로서 제거되어, 송풍기(10)의 앞으로 되돌려진다. 처리 존(6)에서 허니콤을 통과한 피처리 가스는, 필요에 따라 애프터 히터(12)에서 데워져, 기밀 부스(1)에 급기(SA)로서 공급된다. 본 실시예에서는, 퍼지 존(7)을 갖는 허니콤 로터(5)를 사용했지만, 이에 한정되지 않고, 처리 존과 재생 존으로 2분할된 허니콤 로터를 사용한 구성으로 해도 된다.In the desiccant dehumidifier 16, the honeycomb rotor 5 is divided into a processing zone 6, a purge zone 7, and a regeneration zone 8. The honeycomb rotor 5 can continuously absorb and desorb moisture while rotating by a rotor drive motor 9 such as a geared motor. The gas to be processed is cooled and supplied to the processing zone 6 of the honeycomb rotor 5 by the precooler 11 through the blower 10. A part of the gas to be processed is branched in front of the processing zone 6, passes through the purge zone 7, is heated by the regeneration heater 14, and is sent to the regeneration zone 8. The gas that has passed through the regeneration zone 8 is cooled in a cooler 15, and the moisture in the regeneration gas desorbed from the honeycomb is removed as a drain of condensed water, and is returned to the front of the blower 10. The gas to be processed that has passed through the honeycomb in the processing zone 6 is heated by the after-heater 12 as necessary, and is supplied to the hermetic booth 1 as air supply SA. In this embodiment, the honeycomb rotor 5 having the purge zone 7 is used, but the present invention is not limited thereto, and a honeycomb rotor divided into two into a processing zone and a regeneration zone may be used.

질소 정제기(23)에 있어서, 질소 정제용의 촉매 용기(18, 19)는, 구리 촉매나 백금 촉매 등의 금속 촉매가 수납되어 있고, 이탑으로 구성된다. 촉매가 파과(破過)되면, 질소 가스와 수소 가스를 흘려보내면서 히터(20, 21)에서 온도를 올려 촉매를 재생한다. 또한, 본 실시예에서는, 구리 촉매나 백금 촉매 등에 한정되지 않고, 구리 및/또는 백금을 주성분으로 하는 촉매나 산소를 제거하는 용도에 이용하는 다른 금속 촉매를 활용하는 구성으로 해도 된다. 금속 촉매는 펠릿상 외에, 입상, 분상의 것, 담체에 담지한 것 등을 이용해도 된다. 본 실시예에서는 촉매 용기를 이탑식으로 했지만, 이에 한정되지 않고, 일탑식 혹은 복수탑 마련해도 된다.In the nitrogen purifier 23, the catalyst containers 18 and 19 for purifying nitrogen contain metal catalysts such as a copper catalyst and a platinum catalyst, and are constituted by two towers. When the catalyst breaks through, nitrogen gas and hydrogen gas are flowed and the temperature is raised by the heaters 20 and 21 to regenerate the catalyst. In addition, in this embodiment, it is not limited to a copper catalyst, a platinum catalyst, etc., A catalyst containing copper and/or platinum as a main component, or another metal catalyst used for the purpose of removing oxygen may be used. In addition to pellets, the metal catalyst may be granular, powdery, or supported on a carrier. In the present embodiment, the catalyst container is a two-column type, but it is not limited thereto, and a single-column type or a plurality of columns may be provided.

질소 가스 공급 설비에 여력이 있는 경우는, 데시컨트 제습기 및 질소 정제기를 기밀성이 있는 방 내에 설치하고, 그 방으로 질소 가스를 공급하도록 하여, 데시컨트 제습기(16)로부터의 활성 가스 침입을 억제하는 구성으로 해도 된다.When the nitrogen gas supply facility has sufficient capacity, a desiccant dehumidifier and a nitrogen purifier are installed in an airtight room, and nitrogen gas is supplied to the room to suppress the intrusion of active gas from the desiccant dehumidifier 16. It may be configured.

이상의 구성의 본 발명의 가스 치환용 드라이룸의 동작을 먼저, 기밀 부스(1)의 메인터넌스, 전환, 조정 등을 행하기 위한 대기 브레이크에 대하여 설명한다.The operation of the dry room for gas replacement of the present invention having the above-described configuration is first described with respect to a standby brake for performing maintenance, switching, adjustment, etc. of the hermetic booth 1.

(대기 브레이크)(Standby brake)

밸브(26, 29, 30)를 폐쇄하고, 밸브(27, 28)를 개방하여 건조 공기 공급 장치(도시 생략) 등으로부터의 건조 공기를 배관(a)으로부터 기밀 부스(1)의 상부에서 도입함으로써, 질소 가스를 건조 공기로 치환한다. 저노점의 건조 공기가 기밀 부스(1)의 상부로부터 원 패스로 공급되도록 함으로써, 대량의 공기를 한 번에 안전하게 공급할 수 있기 때문에, 질소와 공기의 치환 속도를 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 기밀 부스(1) 중에서 가장 습분을 유지하기 쉬운 공기 정화 필터(3)의 상부로부터, 기밀 부스(1) 내부를 순환시키지 않고 원 패스로 건조 공기를 공급함으로써, 내부에서 사람이 작업해도 습분은 기밀 부스(1) 내에 남지 않고 밖으로 배출된다.By closing the valves 26, 29, 30, opening the valves 27, 28 to introduce dry air from a dry air supply device (not shown), etc., from the top of the airtight booth 1 from the pipe a , Nitrogen gas is replaced with dry air. By allowing the low dew point dry air to be supplied from the top of the airtight booth 1 in one pass, since a large amount of air can be safely supplied at a time, the rate of substitution of nitrogen and air can be greatly shortened. Among the airtight booths (1), dry air is supplied from the top of the air purification filter (3), which is the easiest to keep moisture, in one pass without circulating the inside of the airtight booth (1). It does not remain in the booth 1 and is discharged outside.

대기 브레이크 중에는 이하의 (1), (2)의 케이스가 있다.Among the standby brakes, there are the following cases (1) and (2).

(1) 한편, 불활성 가스 순환 라인에서는 대기 브레이크 동안, 밸브(29, 30)는 폐쇄되어 있으므로, 불활성 가스는 데시컨트 제습기(16), 질소 정제기(23)를 순환하고 있다. 이때 밸브를 조작함으로써, 각각의 장치에 흐르는 가스의 유량이나 순환 횟수를 변경함으로써 최적의 운전 환경을 조정할 수 있다. 또한, 밸브에 대해서는, 이에 한정되지 않고, 댐퍼나 VAV(Variable Air Volume) 등의 풍량 조정 장치를 이용해도 된다.(1) On the other hand, in the inert gas circulation line, since the valves 29 and 30 are closed during the atmospheric brake, the inert gas circulates through the desiccant dehumidifier 16 and the nitrogen purifier 23. At this time, by operating the valve, the optimum operating environment can be adjusted by changing the flow rate or the number of circulations of the gas flowing through each device. In addition, the valve is not limited to this, and an air volume adjusting device such as a damper or a variable air volume (VAV) may be used.

(2) 또, 도 1과 같이 기밀 부스가 1개인 경우에는, 대기 브레이크 중에 데시컨트 제습기(16)에 의하여 기밀 부스(1) 내를 제습할 수도 있다. 이 경우, 밸브(29, 30, 31)를 개방하고, 밸브(33, 34)를 폐쇄한다. 기밀 부스(1)로부터의 환기(還氣)(RA)는 배관(b)을 통하여, 데시컨트 제습기(16)의 재생 존(8)으로부터의 복귀 가스와 혼합되고, 송풍기(10)에 의하여 프리쿨러(11)에서 냉각되어, 피처리 가스로서 허니콤 로터(5)의 처리 존(6)으로 공급된다. 또, 피처리 가스의 일부는 처리 존(6) 앞에서 분기되고, 퍼지 존(7)을 통과한 후, 재생 히터(14)에서 가열되며, 재생 존(8)으로 보내진다. 처리 존(6)을 통과한 저노점 가스는 급기(SA)로서, 배관(c)을 통하여 기밀 부스(1)로 공급된다. 이와 같이 하여, 순환 운전함으로써, 기밀 부스(1)의 저노점 환경을 유지하면서, 유틸리티로서의 건조 공기의 공급량을 삭감할 수 있다.(2) In addition, when there is one airtight booth as shown in Fig. 1, the inside of the airtight booth 1 can be dehumidified by the desiccant dehumidifier 16 during the standby brake. In this case, the valves 29, 30, 31 are opened, and the valves 33, 34 are closed. Ventilation (RA) from the airtight booth (1) is mixed with the return gas from the regeneration zone (8) of the desiccant dehumidifier (16) through a pipe (b), and is free by the blower (10). It is cooled by the cooler 11 and supplied to the processing zone 6 of the honeycomb rotor 5 as a target gas. In addition, a part of the gas to be processed is branched in front of the processing zone 6, passes through the purge zone 7, is heated by the regeneration heater 14, and is sent to the regeneration zone 8. The low dew point gas that has passed through the treatment zone 6 is supplied to the airtight booth 1 through a pipe c as a supply air SA. In this way, by circulating operation, the supply amount of dry air as a utility can be reduced while maintaining the low dew point environment of the hermetic booth 1.

다음으로, 기밀 부스(1)의 질소 치환 및 순환 운전에 대하여 설명한다.Next, nitrogen substitution and circulation operation of the hermetic booth 1 will be described.

(질소 치환 운전)(Nitrogen substitution operation)

대기 브레이크 후, 기밀 부스(1) 내를 질소로 치환하여 산소 농도를 100ppm 이하와 같은 규정 농도 이하로 한다. 대기 브레이크의 케이스 (1), (2)에 따라, 질소 치환 운전은 이하와 같아진다.After the atmospheric brake, the inside of the airtight booth 1 is replaced with nitrogen so that the oxygen concentration is less than or equal to the specified concentration such as 100 ppm or less. According to the case (1) and (2) of the standby brake, the nitrogen substitution operation is as follows.

(1) 먼저, 밸브(27)를 폐쇄하고, 밸브(26)를 개방한다. 배관(a)을 통과하여 질소 봄베나 질소 가스 공급 장치(도시 생략) 등으로부터의 질소 가스를 기밀 부스(1)에 공급한다. 기밀 부스(1)로부터의 환기(RA)는 배관(b)에 의하여 밸브(28)를 개방하여 배기한다. 질소 가스가 기밀 부스(1)의 상부로부터 원 패스로 공급되도록 함으로써, 한 번에 대량의 가스를 공급할 수 있기 때문에, 기밀 부스에 잔존하는 공기를 질소 가스로 한꺼번에 치환하여, 질소와 공기의 치환 속도를 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 기밀 부스(1) 내의 산소 농도가 100ppm으로 저하될 때까지 계속한다.(1) First, the valve 27 is closed and the valve 26 is opened. Nitrogen gas from a nitrogen cylinder or a nitrogen gas supply device (not shown) is supplied to the hermetic booth 1 through the pipe (a). Ventilation (RA) from the airtight booth (1) is exhausted by opening the valve (28) by the pipe (b). Since nitrogen gas is supplied in one pass from the top of the hermetic booth 1, a large amount of gas can be supplied at a time, so that the air remaining in the hermetic booth is replaced with nitrogen gas at once, and the rate of substitution of nitrogen and air Can be greatly shortened. It continues until the oxygen concentration in the hermetic booth 1 decreases to 100 ppm.

(2) (1)과 동일한 조작을 행한다. 기밀 부스(1) 내에 공급된 질소 가스는 밸브(28)를 통하여 배기되지만, 남은 가스는 허니콤 로터(5)의 재생 존(8)을 통과하고, 냉각기(15)에 의하여 냉각된 가스와 혼합되어, 피처리 가스로서 허니콤 로터(5)의 처리 존(6)으로 도입된다. 피처리 가스의 일부는, 처리 존(6)의 앞에서 분기되고, 퍼지 존(7)을 통과한 후, 재생 히터(14)에서 가열되며, 재생 존(8)으로 보내진다. 또한, 이때 밸브(31)는 개방되어 있고, 밸브(33, 34)는 폐쇄되어 있으므로, 산소 등의 활성 가스가 질소 정제기(23)로 흘러들지 않는다. 처리 존(6)에서 허니콤을 통과한 피처리 가스는, 필요에 따라 애프터 히터(12)에서 데워져, 배관(c)을 통하여 기밀 부스(1)에 급기(SA)로서 공급된다. 이와 같이 하여, 질소 가스를 공급하여 기밀 부스(1) 내의 가스를 치환하면서, 대기 브레이크 후의 기밀 부스(1) 내에 저류된 수분을 제습함으로써, 기밀 부스(1) 내의 수분 농도 및 산소 농도는 서서히 저하된다. 기밀 부스(1) 내의 산소 농도가 100ppm 이하가 될 때까지, 이 순환 운전을 행하여, 기밀 부스(1) 내를 질소 가스로 치환한다.(2) Perform the same operation as in (1). The nitrogen gas supplied in the airtight booth 1 is exhausted through the valve 28, but the remaining gas passes through the regeneration zone 8 of the honeycomb rotor 5 and is mixed with the gas cooled by the cooler 15. As a result, it is introduced into the processing zone 6 of the honeycomb rotor 5 as a target gas. A part of the gas to be processed is branched in front of the processing zone 6, passes through the purge zone 7, is heated by the regeneration heater 14, and is sent to the regeneration zone 8. Further, at this time, since the valve 31 is open and the valves 33 and 34 are closed, an active gas such as oxygen does not flow into the nitrogen purifier 23. The gas to be treated, which has passed through the honeycomb in the treatment zone 6, is heated by the after heater 12 as necessary, and is supplied as a supply air SA to the hermetic booth 1 through the pipe c. In this way, by supplying nitrogen gas to displace the gas in the hermetic booth 1 and dehumidifying the moisture stored in the hermetic booth 1 after the atmospheric brake, the moisture concentration and the oxygen concentration in the hermetic booth 1 gradually decrease. do. This circulation operation is performed until the oxygen concentration in the hermetic booth 1 becomes 100 ppm or less, and the inside of the hermetic booth 1 is replaced with nitrogen gas.

(산소 제거·질소 정제 운전)(Oxygen removal and nitrogen purification operation)

기밀 부스(1) 내의 산소 농도가 100ppm 이하와 같은 규정 농도로 저하한 후, 밸브(28, 31)를 폐쇄하고, 밸브(33, 34, 35, 36)를 개방한다. 이때, 질소 정제기(23)의 다른 밸브는 폐쇄된 채로 둔다. 이로써, 질소 정제기(23)의 촉매 용기(18)에 허니콤 로터(5)의 퍼지 존(7)을 통과한 가스가 도입되고, 촉매 용기(18) 내의 금속 촉매에 의하여 산소 제거가 개시된다. 또, 밸브(26)를 조임으로써 배관(a)을 지나는 질소의 공급 유량을 저감시키고, 질소 가스를 공급하면서, 기밀 부스(1) 내의 정압(正壓)을 유지한다. 기밀 부스(1)로부터의 환기(RA)는 피처리 가스로서, 배관(b)을 통하여 허니콤 로터(5)에 공급된다.After the oxygen concentration in the hermetic booth 1 has decreased to a specified concentration such as 100 ppm or less, the valves 28 and 31 are closed, and the valves 33, 34, 35, and 36 are opened. At this time, the other valve of the nitrogen purifier 23 is left closed. Thereby, the gas that has passed through the purge zone 7 of the honeycomb rotor 5 is introduced into the catalyst container 18 of the nitrogen purifier 23, and oxygen removal is started by the metal catalyst in the catalyst container 18. Further, by tightening the valve 26, the supply flow rate of nitrogen passing through the pipe a is reduced, and a positive pressure in the airtight booth 1 is maintained while supplying nitrogen gas. Ventilation RA from the hermetic booth 1 is a gas to be processed and is supplied to the honeycomb rotor 5 through a pipe b.

데시컨트 제습기(16)에 있어서의 가스의 흐름은 상술한 바와 같다. 퍼지 존(7)을 통과한 가스는, 허니콤의 흡착열에 의하여 승온한다. 한편, 금속 촉매는 비교적 높은 온도 조건에서 산소와 반응하기 쉽기 때문에, 퍼지 존을 통과한 온도가 높은 가스를 촉매 용기로 공급하면 적절하다. 금속 촉매에 예를 들면 구리가 포함되어 있다고 한다면, 다음 식과 같이 구리가 산소와 반응하여 산화하고, 산화 구리가 됨으로써 산소가 제거된다.The flow of gas in the desiccant dehumidifier 16 is as described above. The gas that has passed through the purge zone 7 is heated by the heat of adsorption of the honeycomb. On the other hand, since the metal catalyst easily reacts with oxygen under relatively high temperature conditions, it is appropriate to supply a high-temperature gas that has passed through the purge zone to the catalyst container. Assuming that the metal catalyst contains copper, for example, copper reacts with oxygen and oxidizes as shown in the following equation, and oxygen is removed by becoming copper oxide.

2Cu+O2→2CuO2Cu+O 2 →2CuO

질소 정제기(23)를 통과한 가스는 재생 히터(14)에서 가열되어, 허니콤 로터(5)의 재생 존(8)으로 도입된다. 재생 존(8)을 통과한 가스는 다시 처리 존(6)을 통하여, 기밀 부스(1)에 급기(SA)로서 공급된다. 이와 같이 순환 운전을 함으로써, 산소 농도 및/또는 수분 농도는 서서히 저하된다. 예를 들면, 수분 농도 10ppm, 산소 농도 1ppm 이하 등의 규정 농도가 될 때까지 순환 운전을 행한다. 그 후, 제조 장치(2)의 운전을 개시하고, OLED의 제조나 연구 개발을 위한 실험 등을 개시한다. 또한, 본 실시예에서는 촉매 용기(18)로 가스를 흘려보내는 구성으로 했지만, 촉매 용기(19)로 가스가 흐르는 구성으로 해도 된다. 즉, 2개의 촉매 용기를 병렬로 설치하고(이탑식), 1대의 촉매 용기의 촉매를 재생시키고 있는 동안, 다른 촉매 용기에서 질소 정제 처리를 행한다. 또한, 이에 한정하지 않고, 1개 또는 복수의 촉매 용기로 이루어지는, 1개 또는 복수의 질소 정제기로 구성해도 된다.The gas that has passed through the nitrogen purifier 23 is heated by the regeneration heater 14 and introduced into the regeneration zone 8 of the honeycomb rotor 5. The gas that has passed through the regeneration zone 8 is again supplied to the hermetic booth 1 as a supply air SA through the processing zone 6. By performing the circulation operation in this way, the oxygen concentration and/or the moisture concentration gradually decrease. For example, circulation operation is performed until a specified concentration such as 10 ppm of water concentration and 1 ppm of oxygen concentration is reached. After that, operation of the manufacturing apparatus 2 is started, and an experiment for OLED manufacturing and research and development is started. In addition, in the present embodiment, the gas flows through the catalyst container 18, but the gas flow through the catalyst container 19 may be used. That is, two catalyst vessels are installed in parallel (two-column type), and while the catalyst in one catalyst vessel is being regenerated, nitrogen purification treatment is performed in another catalyst vessel. Further, the present invention is not limited thereto, and may be constituted by one or more nitrogen purifiers comprising one or more catalyst containers.

실시예 1에서는, 퍼지 존을 통과한 가스를 질소 정제기에 보내도록 했지만, 처리 존을 통과한 가스, 혹은 퍼지 존을 통과한 가스와 처리 존을 통과한 가스를 혼합하여 공급해도 된다. 혹은 질소 치환 시에 이용하는 질소 가스를 공급하는 유틸리티와 질소 정제기를 접속하여, 질소 가스를 기밀 부스에 공급하는 구성으로 해도 된다. 또한, 촉매 용기에는 허니콤 로터에서 제습된 저노점 가스가 유통하므로, 수분이 저류되기 어렵다.In Example 1, the gas that has passed through the purge zone is sent to the nitrogen purifier, but the gas that has passed through the treatment zone or the gas that has passed through the purge zone and the gas that has passed through the treatment zone may be mixed and supplied. Alternatively, a utility for supplying nitrogen gas used at the time of nitrogen replacement may be connected to a nitrogen purifier to supply nitrogen gas to an airtight booth. Further, since the low dew point gas dehumidified by the honeycomb rotor circulates through the catalyst container, moisture is difficult to be stored.

(촉매 재생 운전)(Catalyst regeneration operation)

촉매가 파과되고, 촉매 용기를 통과한 가스가 예를 들면 산소 농도 1ppm 등의 규정 농도를 초과한 경우, 촉매의 재생 운전을 개시한다. 예를 들면, 촉매 용기(18) 내의 촉매가 파과된 경우, 밸브(35, 36)를 폐쇄하고, 밸브(37, 38)를 개방하여, 퍼지 존(7)을 통과한 가스가 촉매 용기(19)로 흘러 들어가도록 전환한다. 다음으로, 밸브(39, 40, 43, 44)를 개방하여, 수소 가스를 포함하는 질소 가스 공급 장치나 질소 가스 공급 장치(도시 생략) 등으로부터 소정의 농도로 조정한 수소 가스를 포함하는 질소 가스를 촉매 용기(18)에 공급한다. 동시에 히터(20)에서 가열한다. 예를 들면, 금속 촉매에 예를 들면 구리가 포함되어 있는 경우, 다음 식과 같이 산화 구리가 수소와 반응하여 환원되고, 구리가 됨으로써 산소가 제거되어, 촉매는 재생되고, 진공 펌프(22)에 의하여 진공으로 흡인되어 배기된다.When the catalyst breaks through and the gas that has passed through the catalyst container exceeds a specified concentration such as an oxygen concentration of 1 ppm, the regeneration operation of the catalyst is started. For example, when the catalyst in the catalyst container 18 breaks through, the valves 35 and 36 are closed, the valves 37 and 38 are opened, and the gas that has passed through the purge zone 7 is transferred to the catalyst container 19. ) To flow. Next, by opening the valves 39, 40, 43, 44, nitrogen gas containing hydrogen gas adjusted to a predetermined concentration from a nitrogen gas supply device containing hydrogen gas or a nitrogen gas supply device (not shown), etc. Is supplied to the catalyst vessel 18. At the same time, it is heated by the heater 20. For example, if the metal catalyst contains copper, for example, copper oxide is reduced by reacting with hydrogen as shown in the following equation, and oxygen is removed by becoming copper, and the catalyst is regenerated, and the vacuum pump 22 It is sucked in by vacuum and exhausted.

CuO+H2→Cu+H2OCuO+H 2 →Cu+H 2 O

또한, 반응에 의하여 배출된 물은 밸브(46)를 개방함으로써, 드레인으로서 배출된다.In addition, water discharged by the reaction is discharged as a drain by opening the valve 46.

이상의 구성에 의하여, 공간이 절약되는 가스 치환 시스템으로 하는 것이 가능해져, 배관이나 설치 공사 등에 드는 초기 비용을 억제하는 것이 가능해진다.With the above configuration, it becomes possible to provide a space-saving gas replacement system, and it becomes possible to suppress the initial cost incurred in piping or installation work.

실시예 2Example 2

도 2에 본 발명의 드라이룸의 실시예 2에 있어서의 플로도를 나타낸다. 실시예 1에서는, 기밀 부스를 1개로 했지만, 실시예 2에서는 복수의 기밀 부스로 구성된다. 또한, 도 2에서는 1A, 1B, 1C의 3개의 기밀 부스로 이루어지는 구성으로 했지만, 이에 한정하지 않고, 2개 혹은, 4개 이상 마련해도 된다. 실시예 2는 실시예 1과 장치 구성은 대략 동일하므로, 중복되는 설명은 생략한다.Fig. 2 shows a flow diagram in Example 2 of the dry room of the present invention. In Example 1, one airtight booth was used, but in Example 2, it was constituted by a plurality of airtight booths. In addition, in FIG. 2, although it was made into the structure which consists of three airtight booths 1A, 1B, and 1C, it is not limited to this, You may provide 2 or 4 or more. In the second embodiment, since the configuration of the device in the first embodiment is substantially the same, redundant descriptions are omitted.

기밀 부스가 복수 존재하는 경우, 일부의 기밀 부스가 대기 브레이크 중이어도, 다른 기밀 부스에서는 불활성 가스를 순환시켜, 산소 제거·질소 정제 운전을 유지할 수 있다. 이 때문에, 대기 브레이크 후의 대기 환경으로부터, 저노점이고 불활성 가스 농도인 환경으로 되돌리는 복귀 시간을 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 또, 1대의 데시컨트 제습기 및 질소 정제기에서 각 기밀 부스의 가스 공급을 조달할 수 있기 때문에, 비용을 억제할 수 있다. 본 발명의 시스템은 대규모 라인이 될수록 비용 메리트가 크다는 특징이 있다.When there are a plurality of hermetic booths, even if some hermetic booths are in the air brake, inert gas is circulated in the other hermetic booths to maintain the oxygen removal and nitrogen purification operation. For this reason, the return time for returning from the atmospheric environment after the atmospheric brake to the environment with a low dew point and an inert gas concentration can be greatly shortened. In addition, since one desiccant dehumidifier and nitrogen purifier can supply gas to each hermetic booth, cost can be suppressed. The system of the present invention is characterized in that the larger the line, the greater the cost merit.

또한, 실시예 2에서는 1대의 데시컨트 제습기 및 질소 정제기에서 공급하도록 구성했지만, 복수대의 데시컨트 제습기 및/또는 질소 정제기에서, 기밀 부스로 불활성 가스를 공급하도록 구성해도 된다.Further, in Example 2, it was configured to supply from one desiccant dehumidifier and nitrogen purifier, but may be configured to supply an inert gas to an airtight booth from a plurality of desiccant dehumidifiers and/or nitrogen purifiers.

이하의 실시예 2의 설명에 있어서, 기밀 부스(1A)는 불활성 가스 환경으로부터 대기 브레이크를 행하고, 또한 대기 브레이크 후, 대기 환경으로부터 저노점·불활성 가스 환경으로 되돌려 산소 제거·질소 정제 운전을 행하는 것으로 한다. 그 동안, 기밀 부스(1B, 1C)는 산소 제거·정제 운전을 계속하여 행하는 것으로 한다.In the description of Example 2 below, the airtight booth 1A performs an atmospheric brake from an inert gas environment, and after the atmospheric brake, returns from the atmospheric environment to a low dew point/inert gas environment to perform oxygen removal and nitrogen purification operation. do. In the meantime, it is assumed that the airtight booths 1B and 1C continue to perform oxygen removal and purification operations.

(대기 브레이크)(Standby brake)

기밀 부스(1A)를 대기 브레이크에 의하여, 대기 환경으로 되돌리는 경우에 대하여 설명한다. 밸브(26, 47B, 47C, 48A, 51A)를 폐쇄하고, 밸브(27, 47A, 50A)를 개방하여 건조 공기를 배관(a)을 통하여 기밀 부스(1A)의 상부로부터 도입함으로써, 질소 가스를 건조 공기로 치환한다. 저노점의 건조 공기가 기밀 부스(1A)의 상부로부터 원 패스로 공급되도록 함으로써, 대량의 공기를 한 번에 안전하게 공급할 수 있기 때문에, 질소와 공기의 치환 속도를 큰폭으로 단축시킬 수 있다. 또한, 전체의 기밀 부스에 있어서, 대기 브레이크가 되는 경우에는, 밸브(48)를 전부 폐쇄하고, 밸브(49)를 개방함으로써, 기밀 부스와는 독립적으로, 데시컨트 제습기 및 질소 정제기를 순환 운전함으로써 불활성 가스를 유지할 수 있으므로, 대기 브레이크로부터 불활성 가스 순환 운전까지의 복귀 시간이 짧아진다.A case in which the airtight booth 1A is returned to the atmospheric environment by the atmospheric brake will be described. By closing the valves 26, 47B, 47C, 48A, 51A, opening the valves 27, 47A, 50A to introduce dry air from the top of the hermetic booth 1A through the pipe (a), nitrogen gas is introduced. Replace with dry air. By allowing the low dew point dry air to be supplied from the top of the airtight booth 1A in one pass, since a large amount of air can be safely supplied at a time, the rate of substitution of nitrogen and air can be greatly shortened. In addition, in the case of a standby brake in the entire hermetic booth, by circulating the desiccant dehumidifier and the nitrogen purifier independently from the hermetic booth by closing all the valves 48 and opening the valve 49 Since the inert gas can be held, the return time from the standby brake to the inert gas circulation operation is shortened.

(질소 치환 운전)(Nitrogen substitution operation)

대기 브레이크 후, 기밀 부스(1A) 내를 질소 가스로 치환하여 산소 농도를 소정의 농도 이하로 한다. 먼저, 밸브(27)를 폐쇄하고, 밸브(26), 밸브(47A)를 개방하여, 배관(a)을 통하여 질소 가스를 기밀 부스(1A)로 공급한다. 각 기밀 부스에 있어서, 배관(a)을 통하여 질소 가스를 공급하는 경우는, 유량계(24) 및 밸브(47)에 의하여, 각각 공급하는 가스의 유량을 조정할 수 있다. 기밀 부스로부터의 환기(RA)는 밸브(50A)를 개방하여 배기한다. 이와 같이 하여, 기밀 부스(1) 내의 산소 농도가 규정 농도 이하가 될 때까지, 원 패스로 질소 치환 운전을 행하며, 기밀 부스(1) 내를 질소 가스로 치환한다. 한편, 기밀 부스(1B, 1C)는 산소 제거·질소 정제 운전 중에, 밸브(50B, 50C)는 폐쇄되고, 밸브(51B, 51C)가 개방되어 있으므로, 환기(RA)는 배관(b)에 의하여 불활성 가스가 데시컨트 제습기(16)에 도입된다. 여기에서, 밸브(48A)는 폐쇄되어 있으므로, 산소 가스가 데시컨트 제습기(16) 및 질소 정제기(23)로 유입되어, 영향을 미치지 않는다. 또, 밸브(49)를 개방하여 배관(d)을 통하여 바이패스 운전함으로써 유량을 조정할 수 있다.After the atmospheric brake, the inside of the airtight booth 1A is replaced with nitrogen gas to make the oxygen concentration less than or equal to a predetermined concentration. First, the valve 27 is closed, the valve 26 and the valve 47A are opened, and nitrogen gas is supplied to the hermetic booth 1A through the pipe a. In each hermetic booth, when nitrogen gas is supplied through the pipe (a), the flow rate of the gas to be supplied can be adjusted by the flow meter 24 and the valve 47, respectively. Ventilation RA from the airtight booth opens the valve 50A to exhaust air. In this way, nitrogen replacement operation is performed in one pass until the oxygen concentration in the hermetic booth 1 becomes equal to or less than the specified concentration, and the inside of the hermetic booth 1 is replaced with nitrogen gas. Meanwhile, in the airtight booths 1B and 1C, during the oxygen removal/nitrogen purification operation, the valves 50B and 50C are closed and the valves 51B and 51C are open, so that the ventilation RA is performed by the pipe b. An inert gas is introduced into the desiccant dehumidifier 16. Here, since the valve 48A is closed, oxygen gas flows into the desiccant dehumidifier 16 and the nitrogen purifier 23, and has no effect. Further, the flow rate can be adjusted by opening the valve 49 and performing bypass operation through the pipe d.

기밀 부스(1B, 1C)로부터의 환기(RA)와 배관(d)을 통하여 바이패스 운전되는 불활성 가스를 혼합하고, 또한 허니콤 로터(5)의 재생 존(8)을 통과한 가스를 혼합시켜, 피처리 가스로서 허니콤 로터(5)의 처리 존(6)으로 도입한다. 여기에서 밸브(31)는 폐쇄되어 있으며, 실시예 1과 동일하게, 퍼지 존(7)을 통과한 가스가 질소 정제기(23)로 도입되고, 산소 제거·질소 정제 운전된다.The ventilation (RA) from the airtight booths (1B, 1C) and the inert gas that is bypassed through the pipe (d) are mixed, and the gas that has passed through the regeneration zone 8 of the honeycomb rotor 5 is mixed. , The gas to be processed is introduced into the processing zone 6 of the honeycomb rotor 5. Here, the valve 31 is closed, and as in the first embodiment, the gas that has passed through the purge zone 7 is introduced into the nitrogen purifier 23, and oxygen removal and nitrogen purification are performed.

또한, 전체의 기밀 부스가 대기 브레이크 상태로부터 질소 치환 운전할 때에는 밸브(31)를 개방하고, 밸브(33, 34)를 폐쇄하여, 질소 정제기(23)에 활성 가스가 유입하지 않는 상태로 하여, 실시예 1과 동일하게 운전한다.In addition, when the entire airtight booth is subjected to nitrogen substitution operation from the atmospheric brake state, the valve 31 is opened and the valves 33 and 34 are closed so that no active gas flows into the nitrogen purifier 23. Operate the same as in Example 1.

(산소 제거·질소 정제 운전)(Oxygen removal and nitrogen purification operation)

기밀 부스(1A) 내의 산소 농도가 규정 농도 이하까지 저하된 후, 밸브(50A)를 폐쇄하고, 밸브(51A)를 개방한다. 또, 밸브(26)를 조여, 배관(a)을 통과하는 질소 가스의 공급 유량을 저감시키고, 질소 가스를 공급하면서, 기밀 부스(1) 내의 정압을 유지한다. 기밀 부스(1)로부터의 환기(RA)는 피처리 가스로서, 배관(b)을 통하여 허니콤 로터(5)에 공급된다. 허니콤 로터(5)의 퍼지 존(7)을 통과한 가스는 송풍기(17)에 의하여 질소 정제기(23)에 도입된다. 질소 정제기(23)를 통과한 불활성 가스는 재생 히터(14)에서 가열되고, 허니콤 로터(5)의 재생 존(8)에 도입된다. 재생 존(8)을 통과한 가스는 다시 처리 존(6)을 통하여, 기밀 부스(1)에 급기(SA)로서 공급된다. 이와 같이 순환 운전함으로써, 산소 농도 및/또는 수분 농도는 더 서서히 저하된다. 규정 농도에 도달하면, 제조 장치(2)의 운전을 개시하여, OLED의 제조나 연구 개발을 위한 실험 등을 개시한다. 또한, 도 2에 있어서는, 촉매 용기를 이탑식으로 했지만, 실시예 1과 마찬가지로, 이에 한정하지는 않는다.After the oxygen concentration in the hermetic booth 1A is lowered to the specified concentration or less, the valve 50A is closed and the valve 51A is opened. Further, the valve 26 is tightened to reduce the supply flow rate of the nitrogen gas passing through the pipe (a), and while supplying the nitrogen gas, the positive pressure in the airtight booth 1 is maintained. Ventilation RA from the hermetic booth 1 is a gas to be processed and is supplied to the honeycomb rotor 5 through a pipe b. The gas that has passed through the purge zone 7 of the honeycomb rotor 5 is introduced into the nitrogen purifier 23 by the blower 17. The inert gas that has passed through the nitrogen purifier 23 is heated by the regeneration heater 14 and introduced into the regeneration zone 8 of the honeycomb rotor 5. The gas that has passed through the regeneration zone 8 is again supplied to the hermetic booth 1 as a supply air SA through the processing zone 6. By circulating in this way, the oxygen concentration and/or the moisture concentration decrease more gradually. When the specified concentration is reached, operation of the manufacturing apparatus 2 is started, and an experiment for manufacturing or research and development of OLEDs is started. In addition, in FIG. 2, although the catalyst container was made into a two-column type, as in Example 1, it is not limited to this.

데시컨트 제습기와 질소 정제기를 접속시켜, 일체형의 장치로 함으로써, 특허문헌 3에 비하여 공간이 절약되는 가스 치환 시스템으로 하는 것이 가능해져, 배관이나 설치 공사 등에 드는 초기 비용을 억제하는 것이 가능해진다.By connecting the desiccant dehumidifier and the nitrogen purifier to form an integrated device, it becomes possible to obtain a gas displacement system that saves space compared to Patent Document 3, and it becomes possible to suppress the initial cost incurred for piping or installation work.

이상에 의하여, 기밀 부스(1)의 대기 브레이크 후의 대기 환경으로부터 내부를 저노점, 불활성 가스로 청정한 환경으로 되돌릴 때까지의 복귀 시간을 종래 기술의 1/5~1/10로 단축시킬 수 있다. 또, 기밀 부스(1) 내를 용이하게 저노점이고 불활성 가스 환경으로 최적화할 수 있는 가스 치환 시스템을 실현할 수 있다.As described above, the return time from the atmospheric environment after the atmospheric brake of the airtight booth 1 to the clean environment with a low dew point and inert gas can be shortened to 1/5 to 1/10 of the prior art. Further, it is possible to realize a gas replacement system capable of easily optimizing the interior of the hermetic booth 1 to a low dew point and inert gas environment.

본 발명은, 보관 공간 내를 저노점, 불활성 가스 농도로 청정하게 유지할 필요가 있는, 리튬 이온 전지 재료 등을 개발하기 위하여 이용하는 글로브 박스 등의 수납 용기나 드라이룸에 대해서도 활용할 수 있다.The present invention can also be utilized for storage containers such as glove boxes and dry rooms used to develop lithium ion battery materials and the like, which need to keep the storage space clean at a low dew point and inert gas concentration.

1 기밀 부스
2 제조 장치
3 공기 정화 필터
4 가스 순환로
5 허니콤 로터
6 처리 존
7 퍼지 존
8 재생 존
9 로터 구동 모터
10, 17 송풍기
11 프리쿨러
12 애프터 히터
13 에어 필터
14 재생 히터
15 냉각기
16 데시컨트 제습기
18, 19 촉매 용기
20, 21 히터
22 펌프
23 질소 정제기
24, 25 유량계
26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49, 50, 51 밸브
1 confidential booth
2 manufacturing device
3 air purification filter
4 gas circuit
5 Honeycomb rotor
6 treatment zone
7 purge zone
8 playing zone
9 rotor drive motor
10, 17 blowers
11 precooler
12 after heater
13 air filter
14 regenerative heater
15 cooler
16 desiccant dehumidifier
18, 19 catalyst vessel
20, 21 heater
22 pump
23 nitrogen purifier
24, 25 flow meter
26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49, 50, 51 valve

Claims (7)

건조 공기 공급 장치 및 불활성 가스 공급 장치를 접속한 기밀 부스를 마련하며, 저노점 가스 공급 장치의 뒤에 불활성 가스 정제 장치를 접속하여 일체형으로 하고, 상기 저노점 가스 공급 장치를 통과한 가스가 상기 불활성 가스 정제 장치를 통과하며, 상기 기밀 부스에는 이물을 제거하는 필터를 통하여 상기 저노점 가스 공급 장치를 통과한 저노점 가스를 공급하도록 하고, 상기 기밀 부스 내부의 가스를 상기 저노점 가스 공급 장치로 재순환시키는 관로를 구비한 것을 특징으로 하는 가스 치환용 드라이룸.An airtight booth connecting a dry air supply device and an inert gas supply device is provided, and an inert gas purification device is connected behind the low dew point gas supply device to form an integral body, and the gas passing through the low dew point gas supply device is the inert gas. Passing through a purification device, supplying the low dew point gas that has passed through the low dew point gas supply device through a filter for removing foreign matter to the hermetic booth, and recirculating the gas inside the hermetic booth to the low dew point gas supply device Dry room for gas replacement, characterized in that provided with a pipe. 청구항 1에 있어서,
상기 저노점 가스 공급 장치를 통과한 가스가 상기 불활성 가스 정제 장치를 통과하지 않도록 상기 기밀 부스로 바이패스하는 전환 수단을 마련한 것을 특징으로 하는 가스 치환용 드라이룸.
The method according to claim 1,
And a switching means for bypassing the gas tight booth so that the gas that has passed through the low dew point gas supply device does not pass through the inert gas purification device.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 기밀 부스가 1개 또는 복수로 이루어지는 가스 치환용 드라이룸.
The method according to claim 1 or 2,
A dry room for gas replacement comprising one or more airtight booths.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
이물 제거 필터는, HEPA 필터 및/또는 ULPA 필터를 내장한 팬 필터인 것을 특징으로 하는 가스 치환용 드라이룸.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A dry room for gas replacement, characterized in that the foreign matter removal filter is a fan filter incorporating a HEPA filter and/or a ULPA filter.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 불활성 가스 정제 장치가 구리 및/또는 백금을 주성분으로 하는 촉매를 내장한 질소 정제기인 가스 치환용 드라이룸.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The dry room for gas replacement, wherein the inert gas purification device is a nitrogen purifier incorporating a catalyst containing copper and/or platinum as a main component.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저노점 가스 공급 장치가 데시컨트 제습기인 가스 치환용 드라이룸.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The dry room for gas replacement wherein the low dew point gas supply device is a desiccant dehumidifier.
청구항 6에 있어서,
상기 데시컨트 제습기의 퍼지 존을 통과한 공기가 상기 불활성 가스 정제 장치에 공급되도록 하는 것을 특징으로 하는 가스 치환용 드라이룸.
The method of claim 6,
A dry room for gas replacement, characterized in that air that has passed through the purge zone of the desiccant dehumidifier is supplied to the inert gas purification device.
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