KR20200131228A - Curable composition, cured product, method of producing cured product, and method of using curable composition - Google Patents

Curable composition, cured product, method of producing cured product, and method of using curable composition Download PDF

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Abstract

본 발명은, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 포함하는 경화성 조성물로서, (B) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 0 질량부 초과, 3 질량부 이하인 경화성 조성물, 그 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 및, 그 조성물을 광 소자 고정용 접착제 또는 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법이다. 본 발명의 경화성 조성물은, 저온 가열에 의해 경화시킬 수 있고, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어진다.

Figure pct00015

(A) 성분 : 식 (a) 로 나타내는 실란 화합물 중합체 (R1 은, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 아릴기를, Z 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기, 또는, 할로겐 원자를, p 는 양의 정수를, q, r 은, 0 또는 양의 정수를 나타낸다.)
(B) 성분 : 비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속 화합물.The present invention is a curable composition comprising the following component (A) and component (B), wherein the content of the component (B) is more than 0 parts by mass and 3 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the component (A) , A cured product obtained by curing the composition, and a method of using the composition as an adhesive for fixing an optical device or a sealing material for fixing an optical device. The curable composition of the present invention can be cured by low temperature heating, and a cured product having a high adhesive strength is obtained.
Figure pct00015

Component (A): silane compound polymer represented by formula (a) (R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent or not having a substituent, or an aryl group having a substituent or not having a substituent , Z represents a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, p represents a positive integer, and q and r represents 0 or a positive integer.)
Component (B): at least one metal compound selected from the group consisting of bismuth compounds, aluminum compounds, and zirconium compounds.

Description

경화성 조성물, 경화물, 경화물의 제조 방법, 및, 경화성 조성물의 사용 방법Curable composition, cured product, method of producing cured product, and method of using curable composition

본 발명은, 내박리성 및 내열성이 우수하고, 또한, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 경화성 조성물, 그 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 그 제조 방법, 그리고, 상기 조성물을 광 소자 고정용 접착제 또는 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법에 관한 것이다.The present invention is a curable composition from which a cured product having excellent peeling resistance and heat resistance, and having a high adhesive strength is obtained, a cured product obtained by curing the composition, a method for producing the same, and an adhesive for fixing an optical element or It relates to a method of using as a sealing material for fixing optical elements.

종래, 경화성 조성물은 용도에 따라 여러 가지 개량이 이루어져, 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 산업상 널리 이용되고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, various improvements have been made depending on the use of the curable composition, and it is widely used industrially as a raw material for optical parts or molded articles, adhesives, coating agents, and the like.

또한, 경화성 조성물은, 광 소자 봉지체를 제조할 때의, 광 소자 고정용 접착제나 광 소자 고정용 봉지재 등의 광 소자 고정재로서도 주목을 받아 오고 있다.Further, the curable composition has also attracted attention as an optical element fixing material such as an adhesive for fixing an optical element or a sealing material for fixing an optical element when manufacturing an optical element sealing body.

광 소자에는, 반도체 레이저 (LD) 등의 각종 레이저나 발광 다이오드 (LED) 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등이 있다. 최근에 있어서는, 발광의 피크 파장이 보다 단파장인 청색광이나 백색광의 광 소자가 개발되어 널리 사용되어 오고 있다. 이와 같은 발광의 피크 파장이 짧은 발광 소자의 고휘도화가 비약적으로 진행되고, 이에 수반하여 광 소자의 발열량이 더욱 커져 가는 경향이 있다.Examples of optical elements include various lasers such as semiconductor lasers (LD), light-emitting elements such as light-emitting diodes (LEDs), light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits. In recent years, optical devices of blue light or white light having a shorter peak wavelength of light emission have been developed and have been widely used. The increase in luminance of a light-emitting device having a short peak wavelength of light emission is rapidly progressing, and the amount of heat generated by the optical device tends to be further increased.

그런데, 최근에 있어서의 광 소자의 고휘도화에 수반하여, 광 소자 고정재용 조성물의 경화물이, 보다 높은 에너지의 광이나 광 소자로부터 발생하는 것보다 고온의 열에 장시간 노출되어, 열화하여 박리되거나, 접착력이 저하한다는 문제가 발생하였다.However, with the recent increase in luminance of optical elements, the cured product of the composition for optical element fixing materials is exposed to higher energy light or heat at a higher temperature than that generated from the optical element for a long time, deteriorated and peeled off, There was a problem that the adhesion was lowered.

이 문제를 해결하기 위하여, 특허문헌 1 ∼ 3 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물을 주성분으로 하는 광 소자 고정재용 조성물이, 특허문헌 4 에는, 실란 화합물의 가수 분해·중축합물을 사용하는 반도체 발광 디바이스용 부재 등이 제안되어 있다.In order to solve this problem, in Patent Documents 1 to 3, a composition for an optical device fixing material containing a polysilsesquioxane compound as a main component, and in Patent Document 4, semiconductor light emission using a hydrolysis/polycondensation product of a silane compound Device members and the like have been proposed.

그러나, 특허문헌 1 ∼ 4 에 기재된 조성물이나 부재 등의 경화물이어도, 충분한 접착력을 유지하면서, 내박리성, 내열성을 얻는 것은 곤란한 경우가 있었다.However, even in the case of a cured product such as a composition or member described in Patent Documents 1 to 4, it may be difficult to obtain peeling resistance and heat resistance while maintaining sufficient adhesive strength.

이에 대하여, 본 발명자들은, 내박리성, 내열성이 우수하고, 또한, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 경화성 조성물을 알아냈다 (특허문헌 5, 6).On the other hand, the present inventors have found a curable composition which is excellent in peeling resistance and heat resistance, and a cured product having high adhesive strength is obtained (Patent Documents 5 and 6).

그러나, 이들 경화성 조성물을 경화시키기 위해서는, 고온 (170 ℃ 이상) 에서 2 시간 정도 가열할 필요가 있었다. 그 때문에, 이들 경화성 조성물을 광 반도체 발광 디바이스 등에 사용하는 경우, 경화시에 고온에 노출되어, 패키지 주변 부재가 데미지를 받는 경우가 있었다.However, in order to cure these curable compositions, it was necessary to heat at a high temperature (170°C or higher) for about 2 hours. Therefore, when these curable compositions are used in an optical semiconductor light emitting device or the like, there is a case where they are exposed to high temperatures during curing, and the members around the package are damaged.

일본 공개특허공보 2004-359933호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-359933 일본 공개특허공보 2005-263869호Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2005-263869 일본 공개특허공보 2006-328231호Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-328231 일본 공개특허공보 2007-112975호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-112975 WO2012/073988호WO2012/073988 WO2016/031728호(US2017/253781 A1)WO2016/031728 (US2017/253781 A1)

본 발명은, 상기 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 경화성 조성물로서, 종래의 것에 비하여 저온에서 가열 경화시킬 수 있는 경화성 조성물, 그 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 그 제조 방법, 그리고, 그 조성물을 광 소자 고정용 접착제 및 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, as a curable composition from which a cured product having high adhesive strength is obtained, a curable composition that can be cured by heating at a low temperature compared to the conventional one, a cured product obtained by curing the composition, and a method for producing the same And, it is an object to provide a method of using the composition as an adhesive for fixing an optical device and a sealing material for fixing an optical device.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구를 거듭하였다. 그 결과, 특정한 실란 화합물 중합체, 그리고, 비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속 화합물을, 특정한 비율로 함유하는 조성물은, 저온에서 가열 경화시킬 수 있고, 얻어지는 경화물은, 높은 접착력을 갖는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.In order to solve the above problems, the present inventors have conducted extensive research. As a result, a composition containing a specific silane compound polymer and at least one metal compound selected from the group consisting of a bismuth compound, an aluminum compound and a zirconium compound in a specific ratio can be cured by heating at low temperature, The cargo was found to have a high adhesive force, and the present invention was completed.

이렇게 하여 본 발명에 의하면, 하기〔1〕 ∼ 〔7〕의 경화성 조성물,〔8〕,〔9〕의 경화물,〔10〕의 경화물의 제조 방법,〔11〕의 광 소자 고정용 접착제로서 사용하는 방법, 및 ,〔12〕의 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법이 제공된다.In this way, according to the present invention, the curable composition of the following [1] to [7], the cured product of [8] and [9], the method of producing the cured product of [10], and the adhesive for fixing an optical element of [11]. And a method of using as a sealing material for fixing an optical element of [12].

〔1〕하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 포함하는 경화성 조성물로서, (B) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 0 질량부 초과, 3 질량부 이하인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.[1] A curable composition comprising the following component (A) and component (B), wherein the content of component (B) is more than 0 parts by mass and 3 parts by mass or less based on 100 parts by mass of component (A). Curable composition.

(A) 성분 : 하기 식 (a)(A) component: the following formula (a)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, R1 은, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 아릴기를 나타낸다. 복수의 R1 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. Z 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기, 또는, 할로겐 원자를 나타낸다. p 는 양의 정수를 나타내고, q, r 은 각각 독립적으로, 0 또는 양의 정수를 나타낸다.)(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent or not having a substituent group, or an aryl group having a substituent group or not having a substituent. A plurality of R 1s may be the same or different. Z represents a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, p represents a positive integer, and q and r each independently represent 0 or a positive integer.)

로 나타내는 실란 화합물 중합체Silane compound polymer represented by

(B) 성분 : 비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속 화합물(B) component: at least one metal compound selected from the group consisting of bismuth compounds, aluminum compounds and zirconium compounds

〔2〕상기 (A) 성분의 실란 화합물 중합체의 질량 평균 분자량 (Mw) 이 800 ∼ 50,000 인,〔1〕에 기재된 경화성 조성물.[2] The curable composition according to [1], wherein the mass average molecular weight (Mw) of the silane compound polymer of the component (A) is 800 to 50,000.

〔3〕상기 실란 화합물 중합체가, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물의 1 종 또는 2 종 이상의 중축합 생성물인,〔1〕또는 〔2〕에 기재된 경화성 조성물.[3] The curable composition according to [1] or [2], wherein the silane compound polymer is one or two or more polycondensation products of the silane compound represented by the following formula (1).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, R1 은 상기와 동일한 의미를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, s 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 복수의 R2 끼리, 및 복수의 X1 끼리는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.(In the formula, R 1 represents the same meaning as above, X 1 represents a halogen atom, and s represents an integer of 0 to 3. A plurality of R 2 and a plurality of X 1 may be the same as each other, It may be different.

〔4〕추가로, 하기 (C) 성분을 함유하는,〔1〕 ∼ 〔3〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[4] The curable composition according to any one of [1] to [3], further containing the following component (C).

(C) 성분 : 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제(C) Component: Silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule

〔5〕추가로, 하기 (D) 성분을 함유하는,〔1〕 ∼ 〔4〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[5] The curable composition according to any one of [1] to [4], further containing the following (D) component.

(D) 성분 : 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제(D) Component: Silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule

〔6〕추가로, 희석제를 함유하는,〔1〕 ∼ 〔5〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물.[6] The curable composition according to any one of [1] to [5], further containing a diluent.

〔7〕상기 경화성 조성물의 고형분 농도가, 50 질량% 이상, 100 질량% 미만인,〔6〕에 기재된 경화성 조성물.[7] The curable composition according to [6], wherein the solid content concentration of the curable composition is 50 mass% or more and less than 100 mass%.

〔8〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[8] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [7].

〔9〕광 소자 고정재인,〔8〕에 기재된 경화물.[9] The cured product according to [8], which is an optical element fixing material.

〔10〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 110 ℃ ∼ 130 ℃ 로 가열하여 경화시키는 경화물의 제조 방법.[10] A method for producing a cured product in which the curable composition according to any one of [1] to [7] is heated and cured at 110°C to 130°C.

〔11〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정용 접착제로서 사용하는 방법.[11] A method of using the curable composition according to any one of [1] to [7] as an adhesive for fixing an optical element.

〔12〕〔1〕 ∼ 〔7〕중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법.[12] A method of using the curable composition according to any one of [1] to [7] as a sealing material for fixing an optical element.

본 발명의 경화성 조성물은, 종래의 것에 비하여 저온에서 가열 경화시킬 수 있는 것이다. 본 발명의 경화성 조성물을 광 반도체 발광 디바이스의 광 소자의 고정재로서 사용하는 경우, 경화시에 고온으로 할 필요가 없기 때문에, 패키지 부재가 열에 의한 데미지를 받는 경우가 없다.The curable composition of the present invention can be cured by heating at a low temperature compared to the conventional one. When the curable composition of the present invention is used as a fixing material for an optical element of an optical semiconductor light emitting device, since it is not necessary to heat it at the time of curing, the package member is not damaged by heat.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물은 우수한 접착력을 갖는다. 따라서, 본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정용 접착제, 및 광 소자 고정용 봉지재로서 바람직하게 사용할 수 있다.The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention has excellent adhesion. Therefore, the curable composition of the present invention can be preferably used as an adhesive for fixing an optical element and a sealing material for fixing an optical element.

이하, 본 발명을, 1) 경화성 조성물, 2) 경화물 및 그 제조 방법, 그리고, 3) 경화성 조성물의 사용 방법, 으로 항목 분류하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by classifying items into 1) a curable composition, 2) a cured product and a method for producing the same, and 3) a method for using the curable composition.

1) 경화성 조성물1) curable composition

본 발명의 경화성 조성물은, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 포함하는 경화성 조성물로서, (B) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 0 질량부 초과, 3 질량부 이하인 것을 특징으로 한다.The curable composition of the present invention is a curable composition comprising the following component (A) and component (B), wherein the content of component (B) is greater than 0 parts by mass and 3 parts by mass based on 100 parts by mass of component (A) It is characterized by the following.

(A) 성분 : 하기 식 (a) 로 나타내는 실란 화합물 중합체(A) component: silane compound polymer represented by following formula (a)

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

(B) 성분 : 비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속 화합물(B) component: at least one metal compound selected from the group consisting of bismuth compounds, aluminum compounds and zirconium compounds

(A) 성분(A) component

본 발명의 경화성 조성물에 사용하는 (A) 성분은, 상기 식 (a) 로 나타내는 실란 화합물 중합체 (이하, 「실란 화합물 중합체 (A)」 라고 하는 경우가 있다) 이다.The component (A) used in the curable composition of the present invention is a silane compound polymer represented by the above formula (a) (hereinafter sometimes referred to as "silane compound polymer (A)").

상기 식 (a) 에 있어서, 식 : -(R1SiO3/2)- 로 나타내는 반복 단위, 식 : -(R1SiZO2/2)- 로 나타내는 반복 단위, 및, 식 : -(R1SiZ2O1/2)- 로 나타내는 반복 단위는, 각각, 하기 (a1) ∼ (a3) 으로 나타낼 수 있다. 또한 (a1) ∼ (a3) 에 있어서, 「-O-」 는, 인접하는 2 개의 Si 원자에 공유되어 있는 산소 원자를 나타낸다.In the formula (a), the repeating unit represented by the formula: -(R 1 SiO 3/2 )-, the repeating unit represented by the formula: -(R 1 SiZO 2/2 )-, and the formula: -(R 1 The repeating units represented by SiZ 2 O 1/2 )- can be represented by the following (a1) to (a3), respectively. In addition, in (a1) to (a3), "-O-" represents an oxygen atom shared by two adjacent Si atoms.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

본 발명에 사용하는 실란 화합물 중합체 (A) 에 있어서, 상기 식 (a) 중, p, q, r 이 각각 2 이상일 때, 상기 식 (a1) ∼ (a3) 으로 나타내는 반복 단위끼리는 각각, 동일해도 되고 상이해도 된다.In the silane compound polymer (A) used in the present invention, in the formula (a), when p, q, and r are each 2 or more, the repeating units represented by the formulas (a1) to (a3) may be the same. Or different.

상기 식 (a), (a1), (a2) 및 (a3) 중, R1 은, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 아릴기를 나타낸다.In the above formulas (a), (a1), (a2) and (a3), R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which has a substituent or does not have a substituent, or has a substituent or a substituent It represents an aryl group which does not have.

즉, R1 은, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 무치환의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 치환기를 갖는 아릴기, 및 무치환의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 것이다.That is, R 1 is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms unsubstituted, an aryl group having a substituent, and an unsubstituted aryl group.

또한, 「치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기」 의 탄소수는, 알킬기 부분의 탄소수를 의미한다. 따라서, R1 전체의 탄소수는, 10 을 초과하는 경우도 있을 수 있다.In addition, the number of carbon atoms in the "alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent" means the number of carbon atoms in the alkyl group portion. Accordingly, the number of carbon atoms in the entire R 1 may exceed 10 in some cases.

R1 의, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기, n-노닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, etc. are mentioned.

R1 의, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자 ; 시아노기 ; 식 : OG 로 나타내는 기 ; 를 들 수 있다.Examples of the substituent for R 1 's alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom; Cyano group; Formula: Group represented by OG; Can be mentioned.

G 는 수산기의 보호기를 나타낸다. 수산기의 보호기로는, 특별히 제약은 없고, 수산기의 보호기로서 알려져 있는 공지된 보호기를 들 수 있다. 예를 들어, 아실계의 보호기 ; 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, t-부틸디페닐실릴기 등의 실릴계의 보호기 ; 메톡시메틸기, 메톡시에톡시메틸기, 1-에톡시에틸기, 테트라하이드로피란-2-일기, 테트라하이드로푸란-2-일기 등의 아세탈계의 보호기 ; t-부톡시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐계의 보호기 ; 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 옥틸기, 알릴기, 트리페닐메틸기, 벤질기, p-메톡시벤질기, 플루오레닐기, 트리틸기, 벤즈히드릴기 등의 에테르계의 보호기 ; 등을 들 수 있다.G represents a hydroxyl protecting group. There is no restriction|limiting in particular as a protecting group for a hydroxyl group, A well-known protecting group known as a protecting group for a hydroxyl group is mentioned. For example, an acyl-based protecting group; Silyl-based protecting groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, and t-butyldiphenylsilyl group; Acetal protecting groups such as methoxymethyl group, methoxyethoxymethyl group, 1-ethoxyethyl group, tetrahydropyran-2-yl group, and tetrahydrofuran-2-yl group; alkoxycarbonyl-based protecting groups such as t-butoxycarbonyl group; Ether-based protecting groups such as methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, allyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, p-methoxybenzyl group, fluorenyl group, trityl group, and benzhydryl group; And the like.

R1 의 아릴기로는, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기를 들 수 있다.Examples of the aryl group for R 1 include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group.

R1 의, 치환기를 갖는 아릴기의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기 등의 알킬기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 를 들 수 있다.Examples of the substituent of the aryl group having a substituent for R 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group , alkyl groups such as n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and isooctyl group; Halogen atoms such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Can be mentioned.

이들 중에서도, R1 로는, 본 발명의 효과가 얻어지기 쉬운 것으로부터, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 무치환의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 무치환의 아릴기가 바람직하고, 치환기를 갖는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 무치환의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 페닐기가 보다 바람직하고, 시아노기를 갖는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 불소 원자를 갖는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 무치환의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 페닐기가 더욱 바람직하고, 시아노기를 갖는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 불소 원자를 갖는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 무치환의 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 또는 페닐기가 특히 바람직하다.Among these, R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an unsubstituted aryl group having a substituent, since the effect of the present invention is easily obtained. A C1-C6 alkyl group, an unsubstituted C1-C6 alkyl group, or a phenyl group is more preferable, and a C1-C6 alkyl group which has a cyano group, a C1-C6 alkyl group which has a fluorine atom, and an unsubstituted carbon number A 1-6 alkyl group or a phenyl group is more preferable, and a C1-C3 alkyl group having a cyano group, a C1-C3 alkyl group having a fluorine atom, an unsubstituted C1-C3 alkyl group, or a phenyl group is particularly preferred. Do.

복수의 R1 은 모두 동일해도 되고 상이해도 된다.All of a plurality of R 1s may be the same or different.

Z 는, 하이드록실기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기, 또는, 할로겐 원자를 나타낸다.Z represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom.

Z 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, t-부톡시기, 펜틸옥시기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로는, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms for Z include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a t-butoxy group, and a pentyloxy group. As a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned.

이들 중에서도, Z 는, 하이드록실기 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기가 바람직하다.Among these, Z is preferably a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.

p 는 양의 정수를 나타내고, q, r 은 각각 독립적으로, 0 또는 양의 정수를 나타낸다.p represents a positive integer, and q and r each independently represent 0 or a positive integer.

복수의 R1 은 모두 동일해도 되고 상이해도 된다.All of a plurality of R 1s may be the same or different.

또한, 복수의 Z 는 모두 동일해도 되고 상이해도 된다.In addition, a plurality of Z may be all the same or different.

실란 화합물 중합체 (A) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다.The production method of the silane compound polymer (A) is not particularly limited.

예를 들어, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물 (이하, 「실란 화합물 (1)」 이라고 하는 경우가 있다) 의 1 종 또는 2 종 이상을 중축합시킴으로써 제조할 수 있다. 여기서, 「중축합」 은, 가수 분해 및 중축합 반응을 포함하는 넓은 개념으로 사용하고 있다.For example, it can manufacture by polycondensing 1 type or 2 or more types of a silane compound represented by following formula (1) (it may be called "silane compound (1)" hereafter). Here, "polycondensation" is used in a broad concept including hydrolysis and polycondensation reactions.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

식 (1) 중, R1 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R2 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, s 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.In formula (1), R 1 represents the same meaning as above. R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and s represents an integer of 0 to 3.

R2 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 상기 R1 의, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 2 include the same as those exemplified as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 1 .

X1 의 할로겐 원자로는, 염소 원자 및 브롬 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom for X 1 include a chlorine atom and a bromine atom.

s 가 2 이상일 때, 복수의 OR2 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. 또한, (3-s) 가 2 이상일 때, 복수의 X1 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.When s is 2 or more, a plurality of ORs 2 may be the same or different. In addition, when (3-s) is 2 or more, a plurality of X 1s may be the same or different.

실란 화합물 (1) 의 바람직한 구체예로는, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리프로폭시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, n-프로필트리프로폭시실란, n-프로필트리부톡시실란, n-부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-펜틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, 이소옥틸트리메톡시실란, 이소옥틸트리에톡시실란 등의, 알킬트리알콕시실란 화합물류 ; Preferred specific examples of the silane compound (1) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-hexyl Alkyl trialkoxysilane compounds such as trimethoxysilane, isooctyltrimethoxysilane, and isooctyltriethoxysilane;

메틸클로로디메톡시실란, 메틸클로로디에톡시실란, 메틸디클로로메톡시실란, 메틸브로모디메톡시실란, 에틸클로로디메톡시실란, 에틸클로로디에톡시실란, 에틸디클로로메톡시실란, 에틸브로모디메톡시실란, n-프로필클로로디메톡시실란, n-프로필디클로로메톡시실란, n-부틸클로로디메톡시실란, n-부틸디클로로메톡시실란 등의, 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ; Methylchlorodimethoxysilane, methylchlorodiethoxysilane, methyldichloromethoxysilane, methylbromodimethoxysilane, ethylchlorodimethoxysilane, ethylchlorodiethoxysilane, ethyldichloromethoxysilane, ethylbromodimethoxysilane, alkylhalogenoalkoxysilane compounds such as n-propylchlorodimethoxysilane, n-propyldichloromethoxysilane, n-butylchlorodimethoxysilane, and n-butyldichloromethoxysilane;

메틸트리클로로실란, 메틸트리브로모실란, 에틸트리클로로실란, 에틸트리브로모실란, n-프로필트리클로로실란, n-프로필트리브로모실란, n-부틸트리클로로실란, 이소부틸트리클로로실란, n-펜틸트리클로로실란, n-헥실트리클로로실란, 이소옥틸트리클로로실란 등의, 알킬트리할로게노실란 화합물류 ; Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-butyltrichlorosilane, isobutyltrichlorosilane, n-pentyl Alkyl trihalogenosilane compounds such as trichlorosilane, n-hexyltrichlorosilane, and isooctyltrichlorosilane;

페닐트리메톡시실란, 4-메틸페닐트리메톡시실란, 2-클로로페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 2-메톡시페닐트리에톡시실란, 페닐디메톡시에톡시실란, 페닐디에톡시메톡시실란 등의, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐트리알콕시실란 화합물류 ; Phenyltrimethoxysilane, 4-methylphenyltrimethoxysilane, 2-chlorophenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 2-methoxyphenyltriethoxysilane, phenyldimethoxyethoxysilane, phenyldiethoxymethoxy Phenyltrialkoxysilane compounds which may have a substituent such as oxysilane;

페닐클로로디메톡시실란, 페닐디클로로메톡시실란, 페닐클로로메톡시에톡시실란, 페닐클로로디에톡시실란, 페닐디클로로에톡시실란 등의, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐할로게노알콕시실란 화합물류 ; Phenylhalogenoalkoxysilane compounds which may have a substituent such as phenylchlorodimethoxysilane, phenyldichloromethoxysilane, phenylchloromethoxyethoxysilane, phenylchlorodiethoxysilane, and phenyldichloroethoxysilane;

페닐트리클로로실란, 페닐트리브로모실란, 4-메톡시페닐트리클로로실란, 페닐트리클로로실란, 2-에톡시페닐트리클로로실란, 2-클로로페닐트리클로로실란 등의, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐트리할로게노실란 화합물 ; Phenyltri which may have a substituent such as phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, 4-methoxyphenyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, 2-ethoxyphenyltrichlorosilane, and 2-chlorophenyltrichlorosilane Halogenosilane compounds;

시아노메틸트리메톡시실란, 시아노메틸트리에톡시실란, 1-시아노에틸트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리에톡시실란, 2-시아노에틸트리프로폭시실란, 3-시아노프로필트리메톡시실란, 3-시아노프로필트리에톡시실란, 3-시아노프로필트리프로폭시실란, 3-시아노프로필트리부톡시실란, 4-시아노부틸트리메톡시실란, 5-시아노펜틸트리메톡시실란, 2-시아노프로필트리메톡시실란, 2-(시아노메톡시)에틸트리메톡시실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸트리메톡시실란, o-(시아노메틸)페닐트리프로폭시실란, m-(시아노메틸)페닐트리메톡시실란, p-(시아노메틸)페닐트리에톡시실란, p-(2-시아노에틸)페닐트리메톡시실란 등의, 시아노알킬트리알콕시실란 화합물류 ; Cyanomethyltrimethoxysilane, cyanomethyltriethoxysilane, 1-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane, 2-cyano Ethyltripropoxysilane, 3-cyanopropyltrimethoxysilane, 3-cyanopropyltriethoxysilane, 3-cyanopropyltripropoxysilane, 3-cyanopropyltributoxysilane, 4-cyano Butyltrimethoxysilane, 5-cyanopentyltrimethoxysilane, 2-cyanopropyltrimethoxysilane, 2-(cyanomethoxy)ethyltrimethoxysilane, 2-(2-cyanoethoxy)ethyltri Methoxysilane, o-(cyanomethyl)phenyltripropoxysilane, m-(cyanomethyl)phenyltrimethoxysilane, p-(cyanomethyl)phenyltriethoxysilane, p-(2-cyano Cyanoalkyl trialkoxysilane compounds such as ethyl) phenyl trimethoxysilane;

시아노메틸트리클로로실란, 시아노메틸브로모디메톡시실란, 2-시아노에틸디클로로메톡시실란, 2-시아노에틸디클로로에톡시실란, 3-시아노프로필트리클로로실란, 3-시아노프로필트리브로모실란, 3-시아노프로필디클로로메톡시실란, 3-시아노프로필디클로로에톡시실란, 3-시아노프로필클로로디메톡시실란, 3-시아노프로필클로로디에톡시실란, 4-시아노부틸클로로디에톡시실란, 3-시아노-n-부틸클로로디에톡시실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸트리클로로실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸브로모디에톡시실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸디클로로프로폭시실란, o-(2-시아노에틸)페닐트리클로로실란, m-(2-시아노에틸)페닐메톡시디브로모실란, p-(2-시아노에틸)페닐디메톡시클로로실란, p-(2-시아노에틸)페닐트리브로모실란 등의, 시아노알킬할로게노실란 화합물류 ; Cyanomethyltrichlorosilane, cyanomethylbromodimethoxysilane, 2-cyanoethyldichloromethoxysilane, 2-cyanoethyldichloroethoxysilane, 3-cyanopropyltrichlorosilane, 3-cyanopropyl Tribromosilane, 3-cyanopropyldichloromethoxysilane, 3-cyanopropyldichloroethoxysilane, 3-cyanopropylchlorodimethoxysilane, 3-cyanopropylchlorodiethoxysilane, 4-cyanobutylchloro Diethoxysilane, 3-cyano-n-butylchlorodiethoxysilane, 2-(2-cyanoethoxy)ethyltrichlorosilane, 2-(2-cyanoethoxy)ethylbromodiethoxysilane, 2 -(2-cyanoethoxy)ethyldichloropropoxysilane, o-(2-cyanoethyl)phenyltrichlorosilane, m-(2-cyanoethyl)phenylmethoxydibromosilane, p-(2-cyano) Cyanoalkylhalogenosilane compounds such as noethyl)phenyldimethoxychlorosilane and p-(2-cyanoethyl)phenyltribromosilane;

3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리에톡시실란 등의 플루오로알킬트리알콕시실란 화합물류 ; Fluoroalkyltrialkoxysilane compounds such as 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane;

3,3,3-트리플루오로프로필클로로디메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필클로로디에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필디클로로메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필디클로로에톡시실란 등의 플루오로알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ; 3,3,3-trifluoropropylchlorodimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropylchlorodiethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyldichloromethoxysilane, 3,3,3 -Fluoroalkylhalogenoalkoxysilane compounds such as trifluoropropyldichloroethoxysilane;

3,3,3-트리플루오로프로필트리클로로실란 등의 플루오로알킬트리할로게노실란 화합물류 ; 등을 들 수 있다.Fluoroalkyltrihalogenosilane compounds such as 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane; And the like.

실란 화합물 (1) 은 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The silane compound (1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

이들 중에서도, 실란 화합물 (1) 로는, 보다 우수한 접착성을 갖는 경화물이 얻어지기 쉬운 것으로부터, 트리알콕시실란 화합물류가 바람직하고, (i) 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬트리알콕시실란 화합물, (ii) 페닐트리알콕시실란 화합물과, 탄소수 1 ∼ 10 의 시아노알킬기를 갖는 트리알콕시실란 화합물의 조합, 또는 (iii) 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬트리알콕시실란 화합물과, 탄소수 1 ∼ 10 의 플루오로알킬기를 갖는 트리알콕시실란 화합물의 조합이 보다 바람직하다.Among these, as the silane compound (1), since a cured product having more excellent adhesion can be easily obtained, trialkoxysilane compounds are preferable, and (i) an alkyltrialkoxysilane compound having 1 to 10 carbon atoms, (ii) ) Combination of a phenyltrialkoxysilane compound and a trialkoxysilane compound having a cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or (iii) an alkyltrialkoxysilane compound having 1 to 10 carbon atoms and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms The combination of the trialkoxysilane compound having is more preferable.

페닐트리알콕시실란 화합물과 탄소수 1 ∼ 10 의 시아노알킬트리알콕시실란 화합물을 조합하여 사용하는 경우, 페닐트리알콕시실란 화합물과 탄소수 1 ∼ 10 의 시아노알킬트리알콕시실란 화합물의 사용 비율은, 몰비로,〔페닐트리알콕시실란 화합물〕 : 〔탄소수 1 ∼ 10 의 시아노알킬트리알콕시실란 화합물〕= 95 : 5 ∼ 50 : 50 이 바람직하고, 90 : 10 ∼ 60 : 40 이 보다 바람직하다.When a phenyltrialkoxysilane compound and a C1-C10 cyanoalkyltrialkoxysilane compound are used in combination, the ratio of the phenyltrialkoxysilane compound and a C1-C10 cyanoalkyltrialkoxysilane compound is used in a molar ratio. , [Phenyltrialkoxysilane compound]: [Cyanoalkyltrialkoxysilane compound having 1 to 10 carbon atoms] = 95:5 to 50:50 is preferable, and 90:10 to 60:40 is more preferable.

탄소수 1 ∼ 10 의 알킬트리알콕시실란 화합물과, 탄소수 1 ∼ 10 의 플루오로알킬기를 갖는 트리알콕시실란 화합물을 조합하여 사용하는 경우, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬트리알콕시실란 화합물과 탄소수 1 ∼ 10 의 플루오로알킬기를 갖는 트리알콕시실란 화합물의 사용 비율은, 몰비로,〔탄소수 1 ∼ 10 의 알킬트리알콕시실란 화합물〕 : 〔탄소수 1 ∼ 10 의 플루오로알킬기를 갖는 트리알콕시실란 화합물〕= 95 : 5 ∼ 10 : 90 이 바람직하고, 90 : 10 ∼ 30 : 70 이 보다 바람직하고, 85 : 15 ∼ 50 : 50 이 보다 더욱 바람직하다.When a C1-C10 alkyltrialkoxysilane compound and a trialkoxysilane compound having a C1-C10 fluoroalkyl group are used in combination, the C1-C10 alkyltrialkoxysilane compound and the C1-C10 fluoro. The use ratio of the trialkoxysilane compound having a roalkyl group is a molar ratio, [alkyltrialkoxysilane compound having 1 to 10 carbon atoms]: [trialkoxysilane compound having a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms] = 95: 5 to 10:90 is preferable, 90:10 to 30:70 are more preferable, and 85:15 to 50:50 are even more preferable.

상기 실란 화합물 (1) 을 중축합시키는 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 용매 중, 또는 무용매로, 실란 화합물 (1) 에 소정량의 촉매를 첨가하고, 전체 용액을 소정 온도에서 교반하는 방법을 들 수 있다.The method of polycondensing the silane compound (1) is not particularly limited, but a method of adding a predetermined amount of catalyst to the silane compound (1) in a solvent or without a solvent, and stirring the entire solution at a predetermined temperature. Can be mentioned.

사용하는 촉매는, 산 촉매 및 염기 촉매 중 어느 것이어도 된다.The catalyst to be used may be either an acid catalyst or a base catalyst.

또한, 산 촉매와 염기 촉매를 조합하여 사용할 수도 있다. 예를 들어, 산 촉매의 존재하, 실란 화합물의 중축합 반응을 실시한 후에, 반응액에 염기 촉매를 첨가하여 염기성으로 하고, 염기성 조건하에, 추가로 중축합 반응을 실시해도 된다.Further, an acid catalyst and a base catalyst may be used in combination. For example, after performing a polycondensation reaction of a silane compound in the presence of an acid catalyst, a base catalyst is added to the reaction solution to make it basic, and under basic conditions, a polycondensation reaction may be further performed.

산 촉매로는, 염산, 황산, 질산, 인산 등의 무기산 ; 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 아세트산, 트리플루오로아세트산 등의 유기산 ; 등을 들 수 있다.Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid; Organic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, acetic acid and trifluoroacetic acid; And the like.

염기 촉매로는, 암모니아 (수) ; 트리메틸아민, 트리에틸아민, 리튬디이소프로필아미드, 리튬비스(트리메틸실릴)아미드, 피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센 (DBU), 아닐린, 피콜린, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 이미다졸 등의 유기 염기 ; 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄 등의 유기염 수산화물 ; 나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 나트륨 t-부톡시드, 칼륨 t-부톡시드 등의 금속 알콕시드 ; 수소화나트륨, 수소화칼슘 등의 금속 수소화물 ; 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 금속 수산화물 ; 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등의 금속 탄산수소염 ; 등을 들 수 있다.Examples of the base catalyst include ammonia (water); Trimethylamine, triethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene (DBU), aniline, picoline, 1 Organic bases such as ,4-diazabicyclo[2.2.2]octane and imidazole; Organic salt hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; Metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, and potassium t-butoxide; Metal hydrides such as sodium hydride and calcium hydride; Metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide; Metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, and magnesium carbonate; Metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; And the like.

촉매의 사용량은, 실란 화합물 (1) 의 총 몰량에 대하여, 통상적으로, 0.1 몰% ∼ 10 몰%, 바람직하게는 1 몰% ∼ 5 몰% 의 범위이다.The amount of the catalyst used is usually in the range of 0.1 mol% to 10 mol%, preferably 1 mol% to 5 mol% with respect to the total molar amount of the silane compound (1).

사용하는 용매는, 실란 화합물 (1) 의 종류 등에 따라, 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 물 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올 등의 알코올류 ; 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The solvent to be used can be appropriately selected depending on the type of the silane compound (1) and the like. For example, water; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol, and t-butyl alcohol; And the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

용매의 사용량은 특별히 한정되지 않지만, 실란 화합물 (1) 의 총몰량 1 몰 당, 통상적으로 0.1 ∼ 10 리터, 바람직하게는 0.1 ∼ 2 리터이다.Although the amount of the solvent to be used is not particularly limited, it is usually 0.1 to 10 liters, preferably 0.1 to 2 liters, per 1 mole of the total molar amount of the silane compound (1).

실란 화합물 (1) 을 중축합 (반응) 시킬 때의 온도는, 통상적으로 0 ℃ 부터 사용하는 용매의 비점까지의 온도 범위, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 100 ℃ 의 범위이다. 반응 온도가 지나치게 낮으면 축합 반응의 진행이 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 반응 온도가 지나치게 높아지면 겔화 억제가 곤란해진다. 반응은, 통상적으로 30 분 내지 30 시간에 완결한다.The temperature at the time of polycondensation (reaction) of the silane compound (1) is usually in the range from 0°C to the boiling point of the solvent used, preferably in the range of 20°C to 100°C. If the reaction temperature is too low, the progress of the condensation reaction may become insufficient. On the other hand, when the reaction temperature is too high, it becomes difficult to suppress gelation. The reaction is usually completed in 30 minutes to 30 hours.

또한, 사용하는 실란 화합물 (1) 의 종류에 따라서는, 고분자량화가 곤란한 경우가 있다. 예를 들어, R1 이 플루오로알킬기인 실란 화합물은, R1 이 통상적인 알킬기인 실란 화합물보다 반응성이 열등한 경향이 있다. 이와 같은 경우, 촉매량을 줄이고, 또한, 온화한 조건으로 장시간 반응을 실시함으로써, 겔화를 억제하여, 목적으로 하는 분자량의 실란 화합물 중합체 (A) 가 얻어지기 쉬워진다.Further, depending on the type of the silane compound (1) to be used, it may be difficult to achieve high molecular weight. For example, a silane compound in which R 1 is a fluoroalkyl group tends to be inferior in reactivity to a silane compound in which R 1 is a conventional alkyl group. In such a case, by reducing the amount of catalyst and performing the reaction for a long time under mild conditions, gelation is suppressed, and a silane compound polymer (A) having a target molecular weight is easily obtained.

반응 종료 후에는, 산 촉매를 사용한 경우에는, 반응 용액에 탄산수소나트륨 등의 알칼리 수용액을 첨가함으로써, 염기 촉매를 사용한 경우에는, 반응 용액에 염산 등의 산을 첨가함으로써 중화를 실시하고, 그 때에 발생하는 염을 여과 분리 또는 수세 등에 의해 제거하여, 목적으로 하는 실란 화합물 중합체를 얻을 수 있다.After completion of the reaction, when an acid catalyst is used, an aqueous alkali solution such as sodium hydrogencarbonate is added to the reaction solution, and when a base catalyst is used, neutralization is performed by adding an acid such as hydrochloric acid to the reaction solution. The resulting salt is removed by filtration separation, washing with water, or the like, to obtain a target silane compound polymer.

상기 방법에 의해, 실란 화합물 중합체 (A) 를 제조할 때, 실란 화합물 (1) 의 OR2 또는 X1 중, 탈수 및/또는 탈알코올되지 않은 부분은, 실란 화합물 중합체 (A) 중에 잔존한다. 즉, 잔존하는 OR2 또는 X1 이 1 개인 경우에는, 상기 식 (a) 에 있어서, (R1SiZO2/2) 로서 잔존하고, 잔존하는 OR2 또는 X1 이 2 개인 경우에는, 식 (a) 에 있어서, (R1SiZ2O1/2) 로서 잔존한다.When producing a silane compound polymer (A) by the above method, a portion of OR 2 or X 1 of the silane compound (1) that is not dehydrated and/or dealcoholed remains in the silane compound polymer (A). That is, when the remaining OR 2 or X 1 is 1, it remains as (R 1 SiZO 2/2 ) in the above formula (a), and when the remaining OR 2 or X 1 is 2, the formula ( In a), it remains as (R 1 SiZ 2 O 1/2 ).

실란 화합물 중합체 (A) 는, 단독 중합체 (R1 이 1 종의 중합체) 여도 되고, 공중합체 (R1 이 2 종 이상의 중합체) 여도 된다.The silane compound polymer (A) may be a homopolymer (R 1 is a polymer of one type) or a copolymer (R 1 is a polymer of two or more types).

실란 화합물 중합체 (A) 가 공중합체 (R1 이 2 종 이상의 중합체) 인 경우, 실란 화합물 중합체 (A) 는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 교호 공중합체 등의 어느 공중합체여도 되지만, 제조 용이성 등의 관점에서는, 랜덤 공중합체가 바람직하다.When the silane compound polymer (A) is a copolymer (R 1 is two or more polymers), the silane compound polymer (A) may be any copolymer such as a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, or an alternating copolymer. However, from the viewpoint of easiness of manufacture, a random copolymer is preferable.

또한, 실란 화합물 중합체 (A) 의 구조는, 래더형 구조, 더블 데커형 구조, 바구니형 구조, 부분 개열 바구니형 구조, 고리형 구조, 랜덤형 구조의 어느 구조여도 된다.In addition, the structure of the silane compound polymer (A) may be any structure of a ladder structure, a double decker structure, a basket structure, a partially cleaved basket structure, a cyclic structure, and a random structure.

실란 화합물 중합체 (A) 의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 통상적으로 800 ∼ 50,000, 바람직하게는 3,000 ∼ 30,000, 보다 바람직하게는 5,000 ∼ 15,000 의 범위이다. 당해 범위 내에 있음으로써, 조성물의 취급성이 우수하고, 또한, 접착성, 내열성이 우수한 경화물이 얻어진다.The mass average molecular weight (Mw) of the silane compound polymer (A) is usually in the range of 800 to 50,000, preferably 3,000 to 30,000, and more preferably 5,000 to 15,000. By being within this range, a cured product having excellent handling properties of the composition and excellent in adhesion and heat resistance can be obtained.

질량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn) 은, 예를 들어, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산치로서 구할 수 있다 (이하에서 동일하다).The mass average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be obtained, for example, as standard polystyrene conversion values by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent ( It is the same below).

실란 화합물 중합체 (A) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는, 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1.0 ∼ 10.0, 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 의 범위이다. 당해 범위 내에 있음으로써, 접착성, 내열성이 우수한 경화물이 얻어진다.The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the silane compound polymer (A) is not particularly limited, but is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.1 to 6.0. By being in the said range, a cured product excellent in adhesiveness and heat resistance is obtained.

실란 화합물 중합체 (A) 는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The silane compound polymer (A) can be used alone or in combination of two or more.

실란 화합물 중합체 (A) 의 함유량은, 경화성 조성물의 고형분 중, 바람직하게는 40 ∼ 95 질량% 이고, 보다 바람직하게는 50 ∼ 90 질량%, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 85 질량% 이다.The content of the silane compound polymer (A) is preferably 40 to 95% by mass, more preferably 50 to 90% by mass, and still more preferably 60 to 85% by mass in the solid content of the curable composition.

(B) 성분(B) component

본 발명의 경화성 조성물은, (B) 성분으로서, 비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속 화합물을 함유한다.The curable composition of the present invention contains, as component (B), at least one metal compound selected from the group consisting of a bismuth compound, an aluminum compound, and a zirconium compound.

본 발명의 경화성 조성물은, (B) 성분을 함유하는 것이기 때문에, 보다 저온, 단시간에, 이것을 경화시킬 수 있고, 게다가, 접착성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.Since the curable composition of the present invention contains the component (B), it can be cured at a lower temperature and in a short time, and a cured product having excellent adhesiveness can be obtained.

(B) 성분의 금속 화합물로는, 비스무트, 알루미늄 또는 지르코늄을 함유하는 화합물이면 특별히 제한은 없지만, 입수 용이성 등의 관점에서, 3 가 또는 5 가의 비스무트의 화합물, 3 가의 알루미늄의 화합물, 4 가의 지르코늄의 화합물이 각각 바람직하다.The metal compound of the component (B) is not particularly limited as long as it is a compound containing bismuth, aluminum or zirconium, but from the viewpoint of availability, etc., a trivalent or pentavalent bismuth compound, a trivalent aluminum compound, and a tetravalent zirconium The compounds of each are preferable.

비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로는, 예를 들어, 비스무트, 알루미늄 또는 지르코늄의, 할로겐화물, 금속 수산화물, 금속 산화물, 무기염 (질산염, 황산염, 탄산염, 탄산수소염, 인산염 등), 알콕시드, 카르복실산염, 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다.Bismuth compounds, aluminum compounds and zirconium compounds include, for example, bismuth, aluminum or zirconium, halides, metal hydroxides, metal oxides, inorganic salts (nitrates, sulfates, carbonates, hydrogen carbonates, phosphates, etc.), alkoxides, Carboxylate, chelate compound, etc. are mentioned.

보다 구체적으로는, 하기의 것을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.More specifically, although the following are mentioned, it is not limited to these.

염화비스무트, 브롬화비스무트, 염화알루미늄, 브롬화알루미늄, 염화지르코늄, 브롬화지르코늄 등의 할로겐화물 ; Halides such as bismuth chloride, bismuth bromide, aluminum chloride, aluminum bromide, zirconium chloride, and zirconium bromide;

산화비스무트, 산염화비스무트, 산화알루미늄, 이산화지르코늄 등의 금속 산화물 ; Metal oxides such as bismuth oxide, bismuth oxide, aluminum oxide, and zirconium dioxide;

수산화비스무트, 수산화알루미늄, 수산화지르코늄 등의 금속 수산화물 ; Metal hydroxides such as bismuth hydroxide, aluminum hydroxide, and zirconium hydroxide;

질산비스무트, 질산알루미늄, 질산지르코늄 등의 질산염 ; Nitrates such as bismuth nitrate, aluminum nitrate, and zirconium nitrate;

황산비스무트, 황산알루미늄, 황산지르코늄 등의 황산염 ; Sulfates such as bismuth sulfate, aluminum sulfate, and zirconium sulfate;

탄산비스무트, 탄산알루미늄, 탄산지르코늄 등의 탄산염 ; Carbonates such as bismuth carbonate, aluminum carbonate, and zirconium carbonate;

탄산수소비스무트, 탄산수소알루미늄, 탄산수소지르코늄 등의 탄산수소염 ; Hydrogen carbonates such as bismuth hydrogen carbonate, aluminum hydrogen carbonate, and zirconium hydrogen carbonate;

인산비스무트, 인산알루미늄, 인산지르코늄 등의 인산염 ; Phosphates such as bismuth phosphate, aluminum phosphate, and zirconium phosphate;

식 : Bi(OR4)3 으로 나타내는 비스무트 화합물, 식 : Al(OR4)3 으로 나타내는 알루미늄 화합물, 식 : Zr(OR4)4 로 나타내는 지르코늄 화합물 등의 금속 알콕시드 (R4 는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기, 데실기, 도데실기 등의 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기 ; 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기 등의 탄소수 2 ∼ 20 의 알케닐기 ; 페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족기 ; 벤질기, 페네틸기 등의 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기 ; 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로옥틸기 등의 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기 ; 등을 나타낸다.) ; Metal alkoxides such as a bismuth compound represented by a formula: Bi(OR 4 ) 3 , an aluminum compound represented by a formula: Al(OR 4 ) 3 , and a zirconium compound represented by a formula: Zr(OR 4 ) 4 (R 4 is a methyl group, 1 to 20 carbon atoms such as ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, decyl group, dodecyl group, etc. Alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as 1-propenyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, and 3-butenyl group; C6-C20 aromatics such as phenyl group Groups: Aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms such as a benzyl group and a phenethyl group; cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group; );

비스무트, 알루미늄 또는 지르코늄의, 아세트산염, 프로피온산염, 옥탄산염, 노난산염, 도데칸산염 (라우르산염), 테트라데칸산염 (미리스트산염), 헥사데칸산염 (팔미트산염), 옥타데칸산염 (스테아르산염), 나프텐산염, 옥틸산염, 네오데칸산염, 이소스테아르산염 등의 지방산염 ; 벤조산염 등의 방향족 카르복실산염 ; 숙신산염 등의 다가 카르복실산염 ; 말레산염, 리놀렌산염, 리놀레산염, 올레산염, 아라키돈산염 등의 불포화 카르복실산염 ; 로진산염 ; 등의 카르복실산염 ; Of bismuth, aluminum or zirconium, acetate, propionate, octanoate, nonanoate, dodecanoate (laurate), tetradecanoate (myrithate), hexadecanoate (palmitate), octadecanoate ( Stearate), naphthenate, octylate, neodecanoate, isostearate, and other fatty acid salts; Aromatic carboxylate salts such as benzoate; Polyvalent carboxylate salts such as succinate; Unsaturated carboxylate salts such as maleic acid salt, linolenic acid salt, linoleic acid salt, oleic acid salt, and arachidonic acid salt; Rosin acid salt; Carboxylate salts such as;

비스무트, 알루미늄 또는 지르코늄과, 다좌 배위자 (예를 들어, 아세틸아세톤, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤 화합물 ; 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸 등의 β-케토에스테르 ; 카르보나토 ; 에틸렌디아민 ; 등 의 탄소수 1 ∼ 15 의 화합물) 의 킬레이트 화합물.Bismuth, aluminum or zirconium, and a polydentate ligand (for example, β-diketone compounds such as acetylacetone and benzoylacetone; β-ketoesters such as methyl acetoacetate and ethyl acetoacetate; carbonato; ethylenediamine; A chelate compound of a compound having 1 to 15 carbon atoms).

또한, (B) 성분의 금속 화합물은, 비스무트, 알루미늄 또는 지르코늄에, 복수종의 배위자가 결합한 구조를 갖는 것이어도 된다.In addition, the metal compound of component (B) may have a structure in which a plurality of types of ligands are bonded to bismuth, aluminum or zirconium.

배위자로는, 할로겐화물 이온, 수소화물 이온 (하이드리드), 산소 원자 (옥소, 퍼옥소), 하이드록시 (하이드록소), 물 (아쿠아 또는 아코), 일산화탄소 (카르보닐), 탄산 이온 (카르보나토, CO3 2-) 등의 무기 배위자 ; As a ligand, halide ion, hydride ion (hydride), oxygen atom (oxo, peroxo), hydroxy (hydroxyl), water (aqua or aco), carbon monoxide (carbonyl), carbonate ion (carbona Inorganic ligands such as soil and CO 3 2- );

옥살산 이온 (옥살라토, C2O4 2-), 알콕시기 (예를 들어, 메톡시기, 에톡시기), 아실기 (예를 들어, 아세틸기, 프로피오닐기, 벤조일기), 카르복실레이트기, 아세틸아세토네이트, 에틸아세토아세테이트, 시클로알카디에닐 (예를 들어, 시클로펜타디에닐, 디시클로펜타디에닐), 에테르 (예를 들어, 디에틸에테르), 탄화수소기 (예를 들어, 메틸기, 에틸기 등의 알킬기 ; 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기) ; Oxalic acid ion (oxalato, C 2 O 4 2- ), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group), acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, benzoyl group), carboxylate Group, acetylacetonate, ethylacetoacetate, cycloalkadienyl (e.g., cyclopentadienyl, dicyclopentadienyl), ether (e.g. diethyl ether), hydrocarbon group (e.g., methyl group , Alkyl groups such as ethyl groups; aryl groups such as phenyl groups and naphthyl groups);

암모니아, 니트로, 니트리토 (NO2 -), 시아노, 시아나토, 이소시아나토, 알킬아미드 (예를 들어, 디메틸아미드), 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 피리딘, 페난트롤린 등의 질소 함유 배위자 ; Ammonia, nitro, knitted ritonavir (NO 2 -), cyano, cyano NATO, isocyanato, alkyl amide (e.g., dimethyl amide), ethylenediamine, diethylenetriamine, nitrogen-containing amine, pyridine, and phenanthroline Ligand;

티오시아나토, 이소티오시아나토 등의 황 함유 배위자 ; 등의 유기 배위자를 들 수 있다.Sulfur-containing ligands such as thiocyanato and isothiocyanato; And organic ligands such as.

(B) 성분의 금속 화합물의 바람직한 구체예로는, 다음의 것을 들 수 있다.The following are mentioned as a preferable specific example of the metal compound of (B) component.

(비스무트 화합물)(Bismuth compound)

염화산화비스무트, 염화비스무트, 브롬화비스무트 등의 비스무트의 할로겐화물 ; 수산화비스무트, 질산비스무트, 황산비스무트 등의 비스무트의 무기염 ; 아세트산비스무트, 벤조산비스무트, 옥틸산비스무트, 나프텐산비스무트, 옥시살리실산비스무트, 네오데칸산비스무트, 로진산비스무트, 버사틱산비스무트, 2-에틸헥산산비스무트〔비스무트트리스(2-에틸헥사노에이트)〕, 스테아르산비스무트 등의 비스무트의 카르복실산염 ; [카르보나토(2-)-O]트리페닐비스무트 ; 등Bismuth halides such as bismuth chloride oxide, bismuth chloride and bismuth bromide; Inorganic salts of bismuth, such as bismuth hydroxide, bismuth nitrate, and bismuth sulfate; Bismuth acetate, bismuth benzoate, bismuth octylate, bismuth naphthenate, bismuth oxysalicylate, bismuth neodecanoate, bismuth rosinate, bismuth versatate, bismuth 2-ethylhexanoate [bismuth tris (2-ethylhexanoate)], Carboxylate of bismuth such as bismuth stearate; [Carbonato(2-)-O]triphenylbismuth; Etc

(알루미늄 화합물)(Aluminum compound)

염화알루미늄 등의 알루미늄의 할로겐화물 ; 알루미늄트리메톡시드, 알루미늄트리에톡시드, 알루미늄트리이소프로폭시드, 알루미늄트리 sec-부틸레이트, 알루미늄트리부틸레이트 등의 알루미늄의 알콕시드 ; 알루미늄트리스(아세틸아세토네이트), 알루미늄트리스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄모노아세틸아세토네이트비스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄디이소프로폭시아세틸아세토네이트 등의 알루미늄의 킬레이트 화합물 ; Halides of aluminum such as aluminum chloride; Aluminum alkoxides such as aluminum trimethoxide, aluminum triethoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum trisec-butyrate, and aluminum tributylate; Aluminum chelate compounds such as aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), and aluminum diisopropoxyacetylacetonate;

(지르코늄 화합물)(Zirconium compound)

산염화지르코늄 등의 지르코늄의 할로겐화물 ; 황산지르코늄, 질산지르코늄 등의 지르코늄의 무기염 ; 아세트산지르코늄, 옥틸산지르코늄, 스테아르산지르코늄 등의 지르코늄의 카르복실산염 ; 지르코늄테트라 n-프로폭시드, 지르코늄테트라-n-부톡시드, 지르코늄옥톡시·트리데콕시드 등의 지르코늄의 알콕시드 ; 지르코늄테트라키스아세틸아세토네이트, 지르코늄트리부톡시모노아세틸아세토네이트, 지르코늄트리부톡시·모노아세틸아세토네이트 등의 지르코늄의 킬레이트 화합물 ; Halides of zirconium, such as zirconium acid chloride; Inorganic salts of zirconium, such as zirconium sulfate and zirconium nitrate; Carboxylate of zirconium, such as zirconium acetate, zirconium octylate, and zirconium stearate; Zirconium alkoxides such as zirconium tetra n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, and zirconium octoxy tridecoxide; Zirconium chelate compounds such as zirconium tetrakisacetylacetonate, zirconium tributoxy monoacetylacetonate, and zirconium tributoxy monoacetylacetonate;

이들 중에서도, 비스무트의 할로겐화물, 비스무트의 카르복실산염, [카르보나토(2-)-O]트리페닐비스무트, 알루미늄의 킬레이트 화합물, 지르코늄의 카르복실산염이 보다 바람직하고, 비스무트의 할로겐화물, 비스무트의 탄소수 6 ∼ 20 의 카르복실산염, [카르보나토(2-)-O]트리페닐비스무트, 알루미늄의 킬레이트 화합물, 지르코늄의 탄소수 6 ∼ 20 의 카르복실산염이 더욱 바람직하고, 염화비스무트, 옥틸산비스무트, [카르보나토(2-)-O]트리페닐비스무트, 알루미늄킬레이트계 화합물, 옥틸산지르코늄이 특히 바람직하다.Among these, bismuth halide, bismuth carboxylate, [carbonato(2-)-O]triphenylbismuth, aluminum chelate compound, and zirconium carboxylate are more preferred, and bismuth halide, bismuth The carboxylate of 6 to 20 carbon atoms, [carbonato(2-)-O] triphenylbismuth, the chelate compound of aluminum, and the carboxylate of zirconium of 6 to 20 carbon atoms are more preferable, and bismuth chloride and octylic acid Bismuth, [carbonato(2-)-O]triphenylbismuth, aluminum chelate compounds, and zirconium octylate are particularly preferred.

(B) 성분의 함유량의 하한은, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 0 질량부 초과이고, 바람직하게는 0.01 질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.05 질량부 이상이다. 또한, (B) 성분의 함유량의 상한은, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 3 질량부 이하이고, 바람직하게는 1 질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량부 이하이다.The lower limit of the content of the component (B) is more than 0 parts by mass, preferably 0.01 parts by mass or more, and more preferably 0.05 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the component (A). In addition, the upper limit of the content of the component (B) is 3 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or less, and more preferably 0.5 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the component (A).

(B) 성분을 이와 같은 비율로 배합함으로써, 저온 (110 ∼ 130 ℃), 그리고 단시간에 경화시킬 수 있는 경화성 조성물을 얻을 수 있다.By blending the component (B) in such a ratio, a curable composition capable of curing at a low temperature (110 to 130°C) and in a short time can be obtained.

(C) 성분(C) component

본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, 추가로, (C) 성분 : 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제 (이하, 「실란 커플링제 (C)」 라고 하는 경우가 있다) 를 함유하는 것이 바람직하다.In the curable composition of the present invention, it is preferable to further contain (C) component: a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule (hereinafter, sometimes referred to as "silane coupling agent (C)").

(C) 성분을 함유하는 경화성 조성물은, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수하고, 또한, 접착성, 내박리성, 및 내열성이 보다 우수한 경화물을 부여한다.The curable composition containing the component (C) is excellent in workability in the application step, and provides a cured product having more excellent adhesion, peel resistance, and heat resistance.

실란 커플링제 (C) 로는, 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제이면 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 하기 식 (c-1) 로 나타내는 트리알콕시실란 화합물, 식 (c-2) 로 나타내는 디알콕시알킬실란 화합물 또는 디알콕시아릴실란 화합물 등을 들 수 있다.The silane coupling agent (C) is not particularly limited as long as it is a silane coupling agent having a nitrogen atom in its molecule. For example, a trialkoxysilane compound represented by the following formula (c-1), a dialkoxyalkylsilane compound or a dialkoxyarylsilane compound represented by the formula (c-2) may be mentioned.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 식 중, Ra 는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타낸다. 복수의 Ra 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the above formula, R a represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a t-butoxy group. A plurality of R a may be the same or different.

Rb 는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 ; 또는, 페닐기, 4-클로로페닐기, 4-메틸페닐기 등의, 치환기를 갖거나, 또는 치환기를 갖지 않는 아릴기 ; 를 나타낸다.R b is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and a t-butyl group; Or an aryl group which has a substituent or does not have a substituent, such as a phenyl group, a 4-chlorophenyl group, and a 4-methylphenyl group; Represents.

Rc 는, 질소 원자를 갖는, 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기를 나타낸다. 또한, Rc 는, 추가로 다른 규소 원자를 포함하는 기와 결합하고 있어도 된다.R c represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms having a nitrogen atom. In addition, R c may further be bonded to a group containing another silicon atom.

Rc 의 탄소수 1 ∼ 10 의 유기기의 구체예로는, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필기, 3-아미노프로필기, N-(1,3-디메틸-부틸리덴)아미노프로필기, 3-우레이도프로필기, N-페닐-아미노프로필기 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms for R c include N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyl group, 3-aminopropyl group, and N-(1,3-dimethyl-butylidene) An aminopropyl group, a 3-ureidopropyl group, and an N-phenyl-aminopropyl group are mentioned.

상기 식 (c-1) 또는 (c-2) 로 나타내는 화합물 중, Rc 가, 다른 규소 원자를 포함하는 기와 결합한 유기기인 경우의 화합물로는, 이소시아누레이트 골격을 개재하여 다른 규소 원자와 결합하여 이소시아누레이트계 실란 커플링제를 구성하는 것이나, 우레아 골격을 개재하여 다른 규소 원자와 결합하여 우레아계 실란 커플링제를 구성하는 것을 들 수 있다.In the compound represented by the above formula (c-1) or (c-2), as the compound in the case where R c is an organic group bonded with a group containing another silicon atom, the compound is formed with another silicon atom via an isocyanurate skeleton. Combining to constitute an isocyanurate-based silane coupling agent, or bonding with other silicon atoms via a urea skeleton to constitute a urea-based silane coupling agent may be mentioned.

이들 중에서도, 실란 커플링제 (C) 로는, 보다 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지기 쉬운 것으로부터, 이소시아누레이트계 실란 커플링제, 및 우레아계 실란 커플링제가 바람직하고, 추가로, 분자 내에, 규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 것이 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent (C), an isocyanurate-based silane coupling agent and a urea-based silane coupling agent are preferable because a cured product having a higher adhesive strength is easily obtained, and further, in a molecule, It is preferable to have 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom.

규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는다는 것은, 동일한 규소 원자에 결합한 알콕시기와, 상이한 규소 원자에 결합한 알콕시기의 총합계수가 4 이상이라는 의미이다.Having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom means that the total number of alkoxy groups bonded to the same silicon atom and alkoxy groups bonded to different silicon atoms is 4 or more.

규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 이소시아누레이트계 실란 커플링제로는, 하기 식 (c-3) 으로 나타내는 화합물이, 규소 원자에 결합한 알콕시기를 4 이상 갖는 우레아계 실란 커플링제로는, 하기 식 (c-4) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an isocyanurate-based silane coupling agent having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom, the compound represented by the following formula (c-3) is a urea-based silane coupling agent having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom, as follows: The compound represented by formula (c-4) is mentioned.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 중, Ra 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.In the formula, R a represents the same meaning as above.

t1 ∼ t5 는 각각 독립적으로, 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 6 의 정수인 것이 바람직하고, 3 인 것이 특히 바람직하다.Each of t1 to t5 independently represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, and particularly preferably 3.

식 (c-3) 으로 나타내는 화합물의 구체예로는, 1,3,5-N-트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리이소프로폭시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리부톡시실릴프로필)이소시아누레이트 등의 1,3,5-N-트리스〔(트리(탄소수 1 ∼ 6) 알콕시)실릴 (탄소수 1 ∼ 10) 알킬〕이소시아누레이트 ; 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시이소프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시 n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디메톡시페닐실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시이소프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시 n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디에톡시페닐실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디이소프로폭시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디이소프로폭시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디이소프로폭시이소프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디이소프로폭시 n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디이소프로폭시페닐실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시메틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시에틸실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시이소프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시 n-프로필실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-디부톡시페닐실릴프로필)이소시아누레이트 등의 1,3,5-N-트리스〔(디 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시)실릴 (탄소수 1 ∼ 10) 알킬〕이소시아누레이트 ; 등을 들 수 있다.As specific examples of the compound represented by formula (c-3), 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- Triethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-triisopropoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-tributoxy 1,3,5-N-tris [(tri(C1-C6) alkoxy)silyl (C1-C10) alkyl] isocyanurate, such as silylpropyl) isocyanurate; 1,3,5-N-tris(3-dimethoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dimethoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3, 5-N-tris(3-dimethoxyisopropylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dimethoxy n-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5 -N-tris(3-dimethoxyphenylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diethoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris (3-diethoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diethoxyisopropylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- Diethoxy n-propylsilylpropyl) isocyanurate, 1,3,5-N-tris (3-diethoxyphenylsilylpropyl) isocyanurate, 1,3,5-N-tris (3-diiso Propoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diisopropoxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diiso Propoxyisopropylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-diisopropoxy n-propylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3 -Diisopropoxyphenylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dibutoxymethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dibu Toxyethylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dibutoxyisopropylsilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3-dibutoxy n-) 1,3,5-N-tris [(di (carbon number 1 to 6), such as propylsilylpropyl) isocyanurate and 1,3,5-N-tris (3-dibutoxyphenylsilylpropyl) isocyanurate ) Alkoxy)silyl (C1-C10) alkyl] isocyanurate; And the like.

식 (c-4) 로 나타내는 화합물의 구체예로는, N,N'-비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리프로폭시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리부톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(2-트리메톡시실릴에틸)우레아 등의 N,N'-비스〔(트리 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시실릴) (탄소수 1 ∼ 10) 알킬〕우레아 ; N,N'-비스(3-디메톡시메틸실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-디메톡시에틸실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-디에톡시메틸실릴프로필)우레아 등의 N,N'-비스〔(디 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시 (탄소수 1 ∼ 6) 알킬실릴 (탄소수 1 ∼ 10) 알킬)우레아 ; N,N'-비스(3-디메톡시페닐실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-디에톡시페닐실릴프로필)우레아 등의 N,N'-비스〔(디 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시(탄소수 6 ∼ 20) 아릴실릴 (탄소수 1 ∼ 10) 알킬)우레아 ; 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by formula (c-4) include N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea, and N ,N'-bis(3-tripropoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-tributoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(2-trimethoxysilylethyl)urea, etc. N,N'-bis [(tri (carbon number 1 to 6) alkoxysilyl) (carbon number 1 to 10) alkyl] urea; N,N'-bis(3-dimethoxymethylsilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-dimethoxyethylsilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-diethoxymethylsilylpropyl)urea N,N'-bis [(di (carbon number 1 to 6) alkoxy (carbon number 1 to 6) alkylsilyl (carbon number 1 to 10) alkyl) urea; N,N'-bis ((di (carbon number 1 to 6)) such as N,N'-bis(3-dimethoxyphenylsilylpropyl)urea and N,N'-bis(3-diethoxyphenylsilylpropyl)urea Alkoxy (C6-C20) arylsilyl (C1-C10) alkyl) urea; And the like.

이들 중에서도, 실란 커플링제 (C) 로는, 1,3,5-N-트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 1,3,5-N-트리스(3-트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트 (이하, 「이소시아누레이트 화합물」 이라고 한다), N,N'-비스(3-트리메톡시실릴프로필)우레아, N,N'-비스(3-트리에톡시실릴프로필)우레아 (이하, 「우레아 화합물」 이라고 한다), 및, 상기 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물의 조합, 을 사용하는 것이 바람직하다.Among these, examples of the silane coupling agent (C) include 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate and 1,3,5-N-tris(3-triethoxysilyl). Propyl) isocyanurate (hereinafter referred to as "isocyanurate compound"), N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-triethoxysilyl) It is preferable to use propyl) urea (hereinafter, referred to as "urea compound"), and a combination of the isocyanurate compound and a urea compound.

상기 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물을 조합하여 사용하는 경우, 양자의 사용 비율은, (이소시아누레이트 화합물) 과 (우레아 화합물) 의 질량비로, 100 : 1 ∼ 100 : 200 인 것이 바람직하고, 100 : 10 ∼ 100 : 110 이 보다 바람직하다. 이와 같은 비율로, 이소시아누레이트 화합물과 우레아 화합물을 조합하여 사용함으로써, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 경화물을 부여하는 경화성 조성물을 얻을 수 있다.When the above isocyanurate compound and urea compound are used in combination, the ratio of both is preferably 100:1 to 100:200 in terms of the mass ratio of (isocyanurate compound) and (urea compound), 100:10-100:110 is more preferable. By using in combination with an isocyanurate compound and a urea compound in such a ratio, a curable composition providing a cured product having more excellent heat resistance and adhesion can be obtained.

실란 커플링제 (C) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The silane coupling agent (C) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

본 발명의 경화성 조성물이 (C) 성분을 함유하는 경우, (C) 성분의 사용량은, 상기 (A) 성분과 (C) 성분의 사용 비율이, (A) 성분과 (C) 성분의 질량비〔(A) 성분 : (C) 성분〕로, 바람직하게는 100 : 0.3 ∼ 100 : 50, 보다 바람직하게는 100 : 1 ∼ 100 : 40, 더욱 바람직하게는 100 : 3 ∼ 100 : 35 가 되는 양이다.When the curable composition of the present invention contains the component (C), the amount of component (C) is, the ratio of the component (A) and the component (C) is the mass ratio of the component (A) and the component (C) [ (A) component: (C) component], preferably 100: 0.3 to 100: 50, more preferably 100: 1 to 100: 40, still more preferably 100: 3 to 100: 35 .

이와 같은 비율로 (A) 성분 및 (C) 성분을 사용함으로써, 본 발명의 경화성 조성물의 경화물은, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 것이 된다.By using the component (A) and the component (C) in such a ratio, the cured product of the curable composition of the present invention becomes more excellent in heat resistance and adhesiveness.

(D) 성분(D) component

본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, (D) 성분 : 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제 (이하, 「실란 커플링제 (D)」 라고 하는 경우가 있다) 를 함유하는 것이 바람직하다.In the curable composition of the present invention, it is preferable to contain (D) component: a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule (hereinafter, sometimes referred to as "silane coupling agent (D)").

(D) 성분을 함유하는 경화성 조성물은, 도포 공정에 있어서의 작업성이 보다 우수하고, 그리고, 접착성, 내박리성, 및 내열성이 보다 우수한 경화물을 부여한다.The curable composition containing the component (D) is more excellent in workability in the application step, and provides a cured product having more excellent adhesion, peel resistance, and heat resistance.

실란 커플링제 (D) 는, 1 개의 분자 중에, 산 무수물 구조를 갖는 기 (Q) 와, 가수 분해성기 (Re) 의 양자를 겸비하는 유기 규소 화합물이다. 구체적으로는 하기 식 (d) 로 나타내는 화합물이다.The silane coupling agent (D) is an organosilicon compound having both a group (Q) having an acid anhydride structure and a hydrolyzable group (R e ) in one molecule. Specifically, it is a compound represented by the following formula (d).

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

식 중, Q 는 산 무수물 구조를 갖는 기를 나타내고, Rd 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 페닐기를 나타내고, Re 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내고, i, k 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고, j 는 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, I + j + k = 4 이다. j 가 2 일 때, Rd 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. k 가 2 또는 3 일 때, 복수의 Re 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. i 가 2 또는 3 일 때, 복수의 Q 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula, Q represents a group having an acid anhydride structure, R d represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group having a substituent or no substituent, and R e represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or Represents a halogen atom, i and k represents an integer of 1-3, j represents an integer of 0-2, and I+j+k=4. When j is 2, R d may be the same or different. When k is 2 or 3, a plurality of R e may be the same or different. When i is 2 or 3, a plurality of Qs may be the same or different.

Q 로는, 하기 식Q is the following formula

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 중, h 는 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.) 로 나타내는 기 등을 들 수 있고, (Q1) 로 나타내는 기가 특히 바람직하다.(In formula, h represents the integer of 0-10.) The group etc. which are represented by are mentioned, and the group represented by (Q1) is especially preferable.

식 (d) 중, Rd 의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 상기 R1 로 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로서 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있다.In the formula (d), examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms for R d include the same groups as those exemplified as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 1 .

Rd 의 치환기를 갖는 페닐기의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 알킬기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 를 들 수 있다. Examples of the substituents of the phenyl group having a substituent for R d include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n -Alkyl groups, such as a hexyl group; Halogen atoms such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Can be mentioned.

Re 의 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, t-부톡시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms for R e include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, and a t-butoxy group.

Re 의 할로겐 원자로는, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다. Examples of the halogen atom for R e include a chlorine atom and a bromine atom.

이들 중에서도, 식 (d) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (d-1)Among these, as a compound represented by formula (d), the following formula (d-1)

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 중, Re, h, i, j, k 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, R e , h, i, j, k represent the same meaning as above.)

로 나타내는 화합물이 바람직하다. 식 중, h 는 2 ∼ 8 인 것이 바람직하고, 2 또는 3 인 것이 보다 바람직하고, 3 인 것이 특히 바람직하다.The compound represented by is preferable. In the formula, h is preferably 2 to 8, more preferably 2 or 3, and particularly preferably 3.

상기 식 (d-1) 로 나타내는 실란 커플링제의 구체예로는, 2-(트리메톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리에톡시실릴)에틸 무수 숙신산, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산, 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산 등의, 트리 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; 2-(디메톡시메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 디 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; 2-(메톡시디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시디메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; Specific examples of the silane coupling agent represented by the above formula (d-1) include 2-(trimethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 2-(triethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, and 3-(trimethoxysilyl) Tri(C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as propyl succinic anhydride and 3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride; Di (C1-C6) alkoxymethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dimethoxymethylsilyl)ethyl succinic anhydride; (C1-C6) alkoxydimethylsilyl (C2-C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(methoxydimethylsilyl)ethyl succinic anhydride;

2-(트리클로로실릴)에틸 무수 숙신산, 2-(트리브로모실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 트리할로게노실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; 2-(디클로로메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 디할로게노메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; 2-(클로로디메틸실릴)에틸 무수 숙신산 등의, 할로게노디메틸실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산 ; 등을 들 수 있다.Trihalogenosilyl (carbon number 2 to 8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(trichlorosilyl)ethyl succinic anhydride and 2-(tribromosilyl)ethyl succinic anhydride; Dihalogenomethylsilyl (carbon number 2 to 8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dichloromethylsilyl)ethyl succinic anhydride; Halogenodimethylsilyl (carbon number 2 to 8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(chlorodimethylsilyl)ethyl succinic anhydride; And the like.

실란 커플링제 (D) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The silane coupling agent (D) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

이들 중에서도, 실란 커플링제 (D) 로는, 트리 (탄소수 1 ∼ 6) 알콕시실릴 (탄소수 2 ∼ 8) 알킬 무수 숙신산이 바람직하고, 3-(트리메톡시실릴)프로필 무수 숙신산, 3-(트리에톡시실릴)프로필 무수 숙신산이 특히 바람직하다.Among these, as the silane coupling agent (D), tri(C1-C6) alkoxysilyl (C2-C8) alkyl anhydride succinic acid is preferable, and 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride, 3-(trie) Particularly preferred is oxysilyl)propyl succinic anhydride.

본 발명의 경화성 조성물이 (D) 성분을 함유하는 경우, (D) 성분의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 상기 (A) 성분과 (D) 성분의 질량비〔(A) 성분 : (D) 성분〕로, 바람직하게는 100 : 0.01 ∼ 100 : 30, 보다 바람직하게는 100 : 0.1 ∼ 100 : 10 이다.When the curable composition of the present invention contains the component (D), the content of the component (D) is not particularly limited, but the mass ratio of the component (A) and the component (D) [component (A): component (D) ], preferably 100:0.01 to 100:30, more preferably 100:0.1 to 100:10.

이와 같은 비율로 (A) 성분 및 (D) 성분을 함유하는 경화성 조성물의 경화물은, 내열성 및 접착성이 보다 우수한 것이 된다.The cured product of the curable composition containing the component (A) and the component (D) in such a ratio becomes more excellent in heat resistance and adhesiveness.

(E) 희석제(E) diluent

본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, 유동성을 갖게 할 목적으로, 희석제를 추가로 함유하고 있어도 된다.In the curable composition of the present invention, for the purpose of providing fluidity, a diluent may be further contained.

희석제로는, 상기 (A) 성분, (B) 성분과 상용성이 양호한 것이면, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸이미다졸리디논 등의 질소 함유 화합물 ; 디메틸술폭시드 등의 황 함유 화합물 ; 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜 n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜페닐에테르, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올모노이소부틸레이트 (텍사놀), γ-부티로락톤, 락트산에틸, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디아세톤알코올, 테트라하이드로푸르푸릴알코올 등의 산소 함유 화합물 ; 등을 들 수 있다.The diluent is not particularly limited as long as it has good compatibility with the components (A) and (B). For example, nitrogen-containing compounds such as N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and dimethylimidazolidinone; Sulfur-containing compounds such as dimethyl sulfoxide; Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol n-propyl ether, dipropylene glycol n-butyl ether, tripropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol-n-butyl ether , Propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol phenyl ether, 2,2,4- Trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutylate (texanol), γ-butyrolactone, ethyl lactate, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, ethylene glycol mono-n- Oxygen-containing compounds such as propyl ether, diacetone alcohol, and tetrahydrofurfuryl alcohol; And the like.

이들 희석제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These diluents can be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 경화성 조성물이 희석제를 함유하는 경우, 작업성의 관점에서, 희석제의 사용량은, 본 발명의 경화성 조성물의 고형분 농도가 50 질량% 이상, 100 질량% 미만이 되는 양이 바람직하고, 60 ∼ 90 질량% 가 되는 양이 보다 바람직하고, 70 ∼ 85 질량% 가 되는 양이 더욱 바람직하다.When the curable composition of the present invention contains a diluent, from the viewpoint of workability, the amount of the diluent used is preferably an amount such that the solid content concentration of the curable composition of the present invention is 50% by mass or more and less than 100% by mass, and 60 to 90 The amount of mass% is more preferable, and the quantity of 70 to 85 mass% is more preferable.

(F) 그 밖의 성분(F) other ingredients

본 발명의 경화성 조성물에는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 상기 (A) 성분 ∼ (E) 성분 이외의 「다른 성분」 을 함유시켜도 된다.In the curable composition of the present invention, "other components" other than the components (A) to (E) may be contained within a range that does not impair the object of the present invention.

다른 성분으로는, 미립자, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제 등을 들 수 있다.Other components include fine particles, antioxidants, ultraviolet absorbers, and light stabilizers.

미립자를 첨가하면, 도포 공정에 있어서의 작업성이 우수한 경화성 조성물을 얻을 수 있는 경우가 있다. 미립자의 재질로는, 실리카 ; 아크릴, 실리콘 등의 수지 ; 산화알루미늄, 산화티탄 등의 금속 산화물 ; 베마이트 등의 광물 등을 들 수 있다.When fine particles are added, a curable composition excellent in workability in the coating step may be obtained. As the material of the fine particles, silica; Resins such as acrylic and silicone; Metal oxides such as aluminum oxide and titanium oxide; Minerals, such as boehmite, etc. are mentioned.

이들 미립자는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 미립자의 사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상적으로, 10 질량% 이하이다.These fine particles can be used alone or in combination of two or more. The amount of fine particles to be used is usually 10% by mass or less based on the component (A).

산화 방지제는, 가열시의 산화 열화를 방지하기 위해서 첨가된다. 산화 방지제로는, 인계 산화 방지제, 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다.The antioxidant is added to prevent oxidation deterioration during heating. Examples of the antioxidant include phosphorus antioxidants, phenolic antioxidants, and sulfur antioxidants.

인계 산화 방지제로는, 포스파이트류, 옥사포스파페난트렌옥사이드류 등을 들 수 있다. 페놀계 산화 방지제로는, 모노페놀류, 비스페놀류, 고분자형 페놀류 등을 들 수 있다. 황계 산화 방지제로는, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트 등을 들 수 있다.Phosphite, oxaphosphaphenanthrene oxide, etc. are mentioned as a phosphorus antioxidant. Examples of phenolic antioxidants include monophenols, bisphenols, and high molecular phenols. Examples of sulfur-based antioxidants include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, etc. Can be mentioned.

이들 산화 방지제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 산화 방지제의 사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상적으로, 10 질량% 이하이다.These antioxidants can be used alone or in combination of two or more. The amount of the antioxidant to be used is usually 10% by mass or less based on the component (A).

자외선 흡수제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시키는 목적으로 첨가된다.The ultraviolet absorber is added for the purpose of improving the light resistance of the resulting cured product.

자외선 흡수제로는, 살리실산류, 벤조페논류, 벤조트리아졸류, 힌더드아민류 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acids, benzophenones, benzotriazoles, and hindered amines.

자외선 흡수제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.

자외선 흡수제의 사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상적으로, 10 질량% 이하이다.The amount of the ultraviolet absorber to be used is usually 10% by mass or less based on the component (A).

광 안정제는, 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시키는 목적으로 첨가된다.The light stabilizer is added for the purpose of improving the light resistance of the resulting cured product.

광 안정제로는, 예를 들어, 폴리[{6-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}] 등의 힌더드아민류 등을 들 수 있다.As a light stabilizer, for example, poly[{6-(1,1,3,3,-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl}{(2,2 Hindered amines such as, 6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino}]. I can.

이들 광 안정제는 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These light stabilizers can be used alone or in combination of two or more.

광 안정제의 사용량은, (A) 성분에 대하여, 통상적으로, 10 질량% 이하이다.The amount of the light stabilizer to be used is usually 10% by mass or less based on the component (A).

본 발명의 경화성 조성물은, 예를 들어, 상기 (A) 성분, (B) 성분, 및, 원하는 바에 따라 (C) ∼ (F) 성분을 소정 비율로 배합하고, 공지된 방법에 의해 혼합, 탈포함으로써 얻을 수 있다.In the curable composition of the present invention, for example, the (A) component, (B) component, and, if desired, the (C) to (F) components are blended in a predetermined ratio, and mixed and removed by a known method. It can be obtained by inclusion.

본 발명의 경화성 조성물은, 종래의 것에 비하여 저온에서의 가열에 의해 경화시킬 수 있고, 얻어지는 경화물은, 내박리성, 내열성이 우수하고, 높은 접착력을 갖는다.The curable composition of the present invention can be cured by heating at a low temperature as compared with the conventional one, and the resulting cured product is excellent in peeling resistance and heat resistance, and has high adhesive strength.

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 디바이스에 사용한 경우에, 경화성 조성물을 경화시킬 때, 고온에서 가열할 필요가 없는 것이기 때문에, 패키지 주변 부재에 열에 의한 데미지를 부여하는 경우가 없다.When the curable composition of the present invention is used for an optical element device, it is not necessary to heat the curable composition at a high temperature when curing the curable composition, and therefore, damage due to heat is not imparted to members around the package.

따라서, 본 발명의 경화성 조성물은, 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 바람직하게 사용된다.Therefore, the curable composition of the present invention is preferably used as a raw material for an optical component or a molded article, an adhesive, a coating agent, and the like.

2) 경화물 및 그 제조 방법2) Cured product and its manufacturing method

본 발명의 경화물은, 본 발명의 경화성 조성물을 경화시킴으로써 얻어지는 것이다.The cured product of the present invention is obtained by curing the curable composition of the present invention.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시키는 방법으로는, 가열함으로써 경화시키는 방법을 들 수 있다.As a method of curing the curable composition of the present invention, a method of curing by heating may be mentioned.

본 발명의 경화물은, 본 발명의 경화성 조성물을, 통상적으로, 100 ℃ ∼ 150 ℃, 바람직하게는 110 ℃ ∼ 140 ℃, 보다 바람직하게는 110 ℃ ∼ 130 ℃ 로 가열하여 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 가열 시간은, 통상적으로 10 분 내지 5 시간, 바람직하게는 30 분 내지 3 시간이다.The cured product of the present invention can be obtained by curing the curable composition of the present invention by heating to usually 100°C to 150°C, preferably 110°C to 140°C, more preferably 110°C to 130°C. The heating time is usually 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours.

본 발명의 경화물은, 이와 같은 낮은 온도에서, 게다가 단시간의 가열에 의해 경화시켜 얻을 수 있다. 그 때문에, 광 반도체 발광 디바이스 등에 사용하는 경우, 패키지 주변 부재를 고온에 노출시켜 데미지를 부여한다고 하는 경우가 없다.The cured product of the present invention can be obtained by curing at such a low temperature by heating for a short time. Therefore, when used in an optical semiconductor light emitting device or the like, there is no case that damage is imparted by exposing the member around the package to a high temperature.

본 발명의 경화물이, 본 발명의 경화성 조성물을 저온 가열에 의해 단시간에 얻어지는 것은, 예를 들어, 다음과 같이 하여 확인할 수 있다.It can be confirmed that the cured product of the present invention is obtained by heating the curable composition of the present invention at a low temperature in a short time, for example, as follows.

즉, 자동 경화 시간 측정 장치 (주식회사 사이버 제조, 상품명 「마도카」) 를 이용하여, 120 ℃ 로 가열된 스테인리스판 상에, 경화성 조성물의 샘플을 투입하여 교반하고, 교반 토크가 상승하여, 0.392 N·㎝ 가 될 때까지의 시간을 측정한다.In other words, using an automatic curing time measuring device (manufactured by Cyber Co., Ltd., brand name "Madoka"), a sample of the curable composition was added and stirred on a stainless steel plate heated to 120° C., and the stirring torque increased, and 0.392 N· The time until it becomes cm is measured.

0.392 N·㎝ 가 될 때까지의 시간은, 통상적으로 8,000 초 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the time until it becomes 0.392 N·cm is usually 8,000 seconds or less.

또한, 저온 가열에 의해 경화시켜 얻어진 것이어도, 본 발명의 경화물이 높은 접착력을 갖는 것은, 예를 들어, 다음과 같이 하여 확인할 수 있다.In addition, even if it is obtained by curing by low temperature heating, the fact that the cured product of the present invention has a high adhesive strength can be confirmed as follows, for example.

즉, 실리콘 칩의 미러면에 경화성 조성물을 도포하고, 도포면을 피착체 상에 올려 압착하고, 저온 (예를 들어, 120 ℃) 에서 가열 처리하여 경화시킨다. 이 시험편이 부착된 피착체를, 미리 소정 온도 (예를 들어, 23 ℃) 로 한 본드 테스터의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 100 ㎛ 의 높이의 위치로부터, 접착면에 대하여 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여, 시험편과 피착체의 접착력을 측정한다.That is, the curable composition is applied to the mirror surface of the silicon chip, the coated surface is put on an adherend, pressed, and cured by heat treatment at a low temperature (eg, 120° C.). The adherend to which this test piece is attached is left for 30 seconds on a measurement stage of a bond tester at a predetermined temperature (e.g., 23°C) in advance, and from a position at a height of 100 μm from the adherend, horizontally with respect to the adhesive surface. A stress is applied in the direction (shear direction), and the adhesive force between the test piece and the adherend is measured.

이와 같이 하여 측정된 경화물의 접착력은, 23 ℃ 에 있어서 50 N/4 ㎟ 이상인 것이 바람직하고, 70 N/4 ㎟ 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 50 N/4 mm 2 or more, and, as for the adhesive force of the cured product measured in this way, it is more preferable that it is 70 N/4 mm 2 or more.

여기서, 「N/4 ㎟」 는, 2 ㎜ × 2 ㎜ 의 면적 당의 접착력〔N〕이다.Here, "N/4 mm2" is the adhesive force [N] per area of 2 mm x 2 mm.

3) 경화성 조성물의 사용 방법3) How to use the curable composition

본 발명의 사용 방법은, 본 발명의 경화성 조성물을, 광 소자 고정용 접착제 또는 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법이다.The method of use of the present invention is a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for fixing an optical element or a sealing material for fixing an optical element.

광 소자로는, LED, LD 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광 소자, 광 집적 회로 등을 들 수 있다.Examples of the optical element include light-emitting elements such as LEDs and LDs, light-receiving elements, composite optical elements, and optical integrated circuits.

〈광 소자 고정용 접착제〉<Adhesive for fixing optical elements>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 고정용 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of the present invention can be preferably used as an adhesive for fixing an optical element.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정용 접착제로서 사용하는 방법으로는, 접착의 대상으로 하는 재료 (광 소자와 그 기판 등) 의 일방 또는 양방의 접착면에 그 조성물을 소정량 도포하고, 압착한 후, 가열 경화시켜, 접착의 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착시키는 방법을 들 수 있다.As a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for fixing an optical element, a predetermined amount of the composition is applied to one or both adhesive surfaces of a material (optical element and its substrate, etc.) Thereafter, a method of hardening by heating and firmly bonding the materials to be bonded is exemplified.

본 발명에 있어서는, 상기 서술한 바와 같이, 경화성 조성물의 가열 경화를 종래의 것에 비하여 낮은 온도에서 게다가 단시간에 실시할 수 있기 때문에, 광 반도체 발광 디바이스의 주변 부재를 고온에 노출시킬 필요가 없어 패키지 부재에 데미지를 부여하지 않는다.In the present invention, as described above, since heat curing of the curable composition can be carried out at a lower temperature and in a short time compared to the conventional one, it is not necessary to expose the peripheral members of the optical semiconductor light emitting device to high temperatures, and thus the package member Does not inflict damage on.

광 소자를 접착하기 위한 기판 재료로는, 소다 라임 유리, 내열성 경질 유리 등의 유리류 ; 세라믹스 ; 사파이어 ; 철, 구리, 알루미늄, 금, 은, 백금, 크롬, 티탄 및 이들 금속의 합금, 스테인리스 (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309 등) 등의 금속류 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸펜텐, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 노르보르넨계 수지, 시클로올레핀 수지, 유리 에폭시 수지 등의 합성 수지 ; 등을 들 수 있다.Examples of the substrate material for bonding an optical element include glasses such as soda lime glass and heat-resistant hard glass; Ceramics; Sapphire ; Metals such as iron, copper, aluminum, gold, silver, platinum, chromium, titanium and alloys of these metals, and stainless steel (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309, etc.); Polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyetherimide , Polyimide, polyamide, acrylic resin, norbornene resin, cycloolefin resin, and synthetic resin such as glass epoxy resin; And the like.

〈광 소자 고정용 봉지재〉<Encapsulation material for fixing optical elements>

본 발명의 경화성 조성물은, 광 소자 봉지체의 봉지재로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of the present invention can be preferably used as a sealing material for an optical element sealing body.

본 발명의 경화성 조성물을 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법으로는, 예를 들어, 그 조성물을 원하는 형상으로 성형하여, 광 소자를 내포한 성형체를 얻은 후, 이것을 가열 경화시킴으로써 광 소자 봉지체를 제조하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of using the curable composition of the present invention as a sealing material for fixing an optical element, for example, the composition is molded into a desired shape to obtain a molded article containing an optical element, and then heat-cured to obtain an optical element sealing material. The method of manufacturing, etc. are mentioned.

본 발명의 경화성 조성물을 원하는 형상으로 성형하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 통상적인 트랜스퍼 성형법이나, 주형법 등의 공지된 몰드법을 채용할 수 있다.The method for molding the curable composition of the present invention into a desired shape is not particularly limited, and a conventional transfer molding method or a known molding method such as a casting method can be employed.

본 발명에 있어서는, 상기 서술한 바와 같이, 경화성 조성물의 가열 경화를 종래의 것에 비하여 낮은 온도에서 게다가 단시간에 실시할 수 있기 때문에, 광 반도체 발광 디바이스의 주변 부재를 고온에 노출시킬 필요가 없어 패키지 부재에 데미지를 부여하지 않는다.In the present invention, as described above, since heat curing of the curable composition can be carried out at a lower temperature and in a short time compared to the conventional one, it is not necessary to expose the peripheral members of the optical semiconductor light emitting device to high temperatures, and thus the package member Does not inflict damage on.

얻어지는 광 소자 봉지체는, 본 발명의 경화성 조성물을 사용하고 있기 때문에, 높은 접착력을 갖는 것이다.The optical element encapsulation body obtained has a high adhesive force because the curable composition of the present invention is used.

실시예Example

다음으로, 본원 발명을, 실시예 및 비교예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 언급이 없는 한, 「%」, 「부」 는 질량 기준이다.Next, the present invention will be described in more detail with examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, unless otherwise specified, "%" and "part" are based on mass.

(질량 평균 분자량 측정)(Measurement of mass average molecular weight)

하기 제조예로 얻은 실란 화합물 중합체의 질량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn) 은, 표준 폴리스티렌 환산치로 하여, 이하의 장치 및 조건으로 측정하였다.The mass average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the silane compound polymer obtained in the following production examples were measured in terms of standard polystyrene, and were measured with the following apparatus and conditions.

장치명 : HLC-8220GPC, 토소 주식회사 제조Equipment name: HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, 및, TSKgel2000HXL 을 순차적으로 연결한 것Column: TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, and TSKgel2000HXL sequentially connected

용매 : THFSolvent: THF

주입량 : 80 ㎕Injection volume: 80 µl

측정 온도 : 40 ℃Measurement temperature: 40 ℃

유속 : 1 ㎖/분Flow rate: 1 ml/min

검출기 : 시차 굴절계Detector: differential refractometer

(IR 스펙트럼의 측정)(Measurement of IR spectrum)

제조예로 얻은 실란 화합물 중합체의 IR 스펙트럼은, 푸리에 변환 적외 분광 광도계 (퍼킨 엘머사 제조, Spectrum100) 를 사용하여 측정하였다.The IR spectrum of the silane compound polymer obtained in the production example was measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer (manufactured by Perkin Elmer, Spectrum100).

(제조예 1)(Production Example 1)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 메틸트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조, 제품명 : KBE-13) 71.37 g (400 m㏖) 을 주입한 후, 증류수 21.6 ㎖ 에 35 % 염산 0.10 g (실란 화합물의 합계량에 대하여 0.25 몰%) 을 용해시킨 수용액을 교반하면서 첨가하고, 전체 용액을 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온하여 5 시간 교반한 후, 아세트산프로필을 140 g 넣고 교반하였다. 여기에, 28 % 암모니아수 0.12 g (실란 화합물의 합계량에 대하여 0.5 몰%) 을 교반하면서 첨가하고, 전체 용액을 70 ℃ 로 승온하여 3 시간 추가로 교반하였다. 반응액에 정제수를 첨가하고, 분액하여, 수층의 pH 가 7 이 될 때까지 이 조작을 반복하였다. 유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 농축물을 진공 건조시킴으로써, 실란 화합물 중합체 (A1) 을 55.7 g 얻었다. 이것의 질량 평균 분자량 (MW) 은 7,800, 분자량 분포 (PDI) 는 4.52 였다.Into a 300 ml eggplant-shaped flask, 71.37 g (400 mmol) of methyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KBE-13) was poured, and then 0.10 g of 35% hydrochloric acid (silane compound) was added to 21.6 ml of distilled water. With respect to the total amount of (0.25 mol%)) was added while stirring, and the total solution was heated at 30°C for 2 hours and then to 70°C and stirred for 5 hours, followed by adding 140 g of propyl acetate and stirring. Here, 0.12 g of 28% aqueous ammonia (0.5 mol% with respect to the total amount of the silane compound) was added while stirring, and the entire solution was heated to 70°C, followed by stirring for 3 hours. Purified water was added to the reaction solution, followed by separating, and this operation was repeated until the pH of the aqueous layer became 7. The organic layer was concentrated with an evaporator, and the concentrate was vacuum-dried to obtain 55.7 g of a silane compound polymer (A1). Its mass average molecular weight (MW) was 7,800, and molecular weight distribution (PDI) was 4.52.

실란 화합물 중합체 (A1) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다.The IR spectrum data of the silane compound polymer (A1) is shown below.

Si-CH3 : 1272 ㎝-1, 1409 ㎝-1, Si-O : 1132 ㎝-1 Si-CH 3 : 1272 ㎝ -1 , 1409 ㎝ -1 , Si-O: 1132 ㎝ -1

(제조예 2)(Production Example 2)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 페닐트리메톡시실란 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 20.2 g (102 m㏖) 과, 2-시아노에틸트리메톡시실란 (애즈맥스 주식회사 제조) 3.15 g (18 m㏖), 그리고, 용매로서, 아세톤 96 ㎖ 및 증류수 24 ㎖ 를 주입한 후, 내용물을 교반하면서, 촉매로서 인산 (칸토 화학 주식회사 제조) 0.15 g (1.5 m㏖) 을 첨가하고, 25 ℃ 에서 추가로 16 시간 교반하였다.To a 300 ml eggplant-shaped flask, 20.2 g (102 mmol) of phenyltrimethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 3.15 g (18 mmol) of 2-cyanoethyltrimethoxysilane (manufactured by Asmax Corporation) ), and after pouring 96 ml of acetone and 24 ml of distilled water as a solvent, 0.15 g (1.5 mmol) of phosphoric acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was added as a catalyst while stirring the contents, and further 16 at 25°C. Stirred for hours.

반응 종료 후, 반응액을 이배퍼레이터로 50 ㎖ 까지 농축하고, 농축물에 아세트산에틸 100 ㎖ 를 첨가하고, 포화 탄산수소나트륨 수용액으로 중화하였다. 잠시 정치 (靜置) 한 후, 유기층을 분취하였다. 이어서, 유기층을 증류수로 2 회 세정한 후, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 황산마그네슘을 여과 분리 후, 여과액을 이배퍼레이터로 50 ㎖ 까지 농축하고, 얻어진 농축물을 다량의 n-헥산 중에 적하하여 침전시키고, 침전물을 데칸테이션에 의해 분리하였다. 얻어진 침전물을 메틸에틸케톤 (MEK) 에 용해시켜 회수하고, 이배퍼레이터로 용매를 감압 증류 제거하였다. 잔류물을 진공 건조시킴으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2) 를 13.5 g 얻었다. 이것의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 1,870, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.42 였다.After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated to 50 ml with an evaporator, 100 ml of ethyl acetate was added to the concentrate, and neutralized with a saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution. After allowing to stand for a while, the organic layer was separated. Then, the organic layer was washed twice with distilled water and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After separating magnesium sulfate by filtration, the filtrate was concentrated to 50 ml with an evaporator, and the obtained concentrate was dripped in a large amount of n-hexane to precipitate, and the precipitate was separated by decantation. The obtained precipitate was dissolved in methyl ethyl ketone (MEK) and recovered, and the solvent was distilled off under reduced pressure with an evaporator. 13.5 g of polysilsesquioxane compounds (A2) were obtained by vacuum-drying the residue. Its mass average molecular weight (Mw) was 1,870, and molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.42.

폴리실세스퀴옥산 화합물 (A2) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다.The IR spectrum data of the polysilsesquioxane compound (A2) is shown below.

Si-Ph : 698 ㎝-1, 740 ㎝-1, Si-O : 1132 ㎝-1, -CN : 2259 ㎝-1 Si-Ph: 698 ㎝ -1 , 740 ㎝ -1 , Si-O: 1132 ㎝ -1 , -CN: 2259 ㎝ -1

(실시예 1)(Example 1)

(A) 성분으로서 제조예 1 에서 얻은 실란 화합물 중합체 (A1) 100 부에, (E) 성분으로서, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (BDGAC) : 트리프로필렌글리콜-n-부틸에테르 (TPnB) = 40 : 60 (질량비) 의 혼합 용제를 첨가하여, 교반하였다. 그 후, (C) 성분으로서, 1,3,5-N-트리스〔3-(트리메톡시실릴)프로필〕이소시아누레이트 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조 : KBM-9659) 30 질량부, (D) 성분으로서, 3-(트리메톡시실릴)프로필숙신산 무수물 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조 : X-12-967C) 3 질량부, (B) 성분으로서, 푸캣 25 (니혼 화학 산업 주식회사 제조) 0.25 질량부를 첨가하고, 전체 용액을 충분히 혼합, 탈포함으로써, 경화성 조성물을 얻었다.To 100 parts of the silane compound polymer (A1) obtained in Preparation Example 1 as a component (A), as a component (E), diethylene glycol monobutyl ether acetate (BDGAC): tripropylene glycol-n-butyl ether (TPnB) = 40 : A mixed solvent of 60 (mass ratio) was added, and it stirred. Thereafter, as component (C), 1,3,5-N-tris [3-(trimethoxysilyl) propyl] isocyanurate (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KBM-9659) 30 parts by mass, (D ) As a component, 3-(trimethoxysilyl)propylsuccinic anhydride (Shin-Etsu Chemical Industries Co., Ltd.: X-12-967C) 3 parts by mass, (B) As a component, Phucat 25 (Nihon Chemical Industries, Ltd. product) 0.25 parts by mass After addition, the entire solution was sufficiently mixed and defoamed to obtain a curable composition.

(실시예 2 ∼ 12, 비교예 1 ∼ 4)(Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 4)

실시예 1 에 있어서, (A) 성분의 종류, (B) 성분의 종류, 사용량 (부) 을, 하기 표 1 에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 실시예 2 ∼ 12 의 경화성 조성물, 비교예 1 ∼ 4 의 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, in the same manner as in Example 1, Example 2, except that the type of the component (A), the type of the component (B), and the amount used (parts) were changed as described in Table 1 below. The curable composition of -12 and the curable composition of comparative examples 1-4 were obtained.

하기 표 중, (B) 성분 또는 (B) 성분 대신에 사용한 하기 (b) 성분의 종류 : B1 ∼ B5, b1, b2 는 이하를 나타낸다.In the following table, the kind of the following component (b) used instead of the component (B) or the component (B): B1 to B5, b1, and b2 represent the following.

또한, 표 중, (B) 성분 또는 (b) 성분의 사용량 [부] 은, (A) 성분 100 부에 대한 질량부를 나타낸다.In addition, in the table, the used amount [part] of the component (B) or the component (b) represents parts by mass with respect to 100 parts of the component (A).

(B) 성분(B) component

B1 : 푸캣 25 (니혼 화학 산업 주식회사 제조, 옥틸산비스무트 화합물)B1: Phucat 25 (manufactured by Nihon Chemical Industries, Ltd., bismuth octylate compound)

B2 : 오르가틱스 ZC-200 (마츠모토 파인 케미컬 주식회사 제조, 옥틸산지르코늄 화합물B2: Orgatics ZC-200 (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals, Inc., zirconium octylate compound

B3 : M-5A (소켄 화학 주식회사 제조, 알루미늄킬레이트계 화합물)B3: M-5A (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., aluminum chelate compound)

B4 : 염화비스무트B4: Bismuth chloride

B5 : [카르보나토(2-)-O]트리페닐비스무트B5: [carbonato(2-)-O]triphenylbismuth

(b) 성분(b) component

b1 : 오르가틱스 TC-750 (마츠모토 파인 케미컬 주식회사 제조, 티탄디이소프로폭시비스(에틸아세토아세테이트))b1: Orgatics TC-750 (manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., titanium diisopropoxybis (ethylacetoacetate))

b2 : 디아자비시클로운데센 (DBU)b2: Diazabicycloundecene (DBU)

실시예 및 비교예로 얻은 경화성 조성물의 경화물에 대하여, 하기와 같이 하여, 접착 강도의 측정, 및 경화성의 평가를 실시하였다.About the cured product of the curable composition obtained by an Example and a comparative example, it carried out as follows, and the measurement of the adhesive strength and evaluation of curability were performed.

측정 결과 및 평가를 하기 표 1 에 나타낸다.The measurement results and evaluation are shown in Table 1 below.

(접착 강도의 측정)(Measurement of adhesive strength)

1 변의 길이가 2 ㎜ 인 정방형 (2 ㎜ × 2 ㎜ = 4 ㎟) 이고, 두께 350 ㎛ 의 실리콘 칩의 미러면에, 실시예 및 비교예로 얻은 경화성 조성물의 각각을, 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은 도금 동판) 상에 올려 압착하였다. 그 후 120 ℃ 에서 2 시간 가열하여 경화성 조성물을 경화시켜 시험편이 부착된 피착체를 얻었다. 이 시험편이 부착된 피착체를, 미리 소정 온도 (23 ℃) 로 한 본드 테스터 (시리즈 4000, 데이지사 제조) 의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체로부터 100 ㎛ 높이의 위치로부터, 스피드 200 ㎛/s 로 접착면에 대하여 수평 방법 (전단 방향) 으로 응력을 가하여, 23 ℃ 에 있어서의, 시험편과 피착체의 접착 강도〔N/4 ㎟〕를 측정하였다.Each of the curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples was applied to the mirror surface of a silicon chip having a side length of 2 mm (2 mm × 2 mm = 4 mm 2) and a thickness of 350 μm, and a thickness of about 2 μm. It applied so as to be possible, and the coated surface was put on the adherend (silver plated copper plate) and pressed. Then, it heated at 120 degreeC for 2 hours to harden the curable composition, and obtained the adherend with the test piece. The adherend to which this test piece is attached is left for 30 seconds on a measurement stage of a bond tester (series 4000, manufactured by Daisy Corporation) at a predetermined temperature (23° C.) in advance, and a speed 200 from a position 100 μm high from the adherend. Stress was applied to the adhesive surface at µm/s by a horizontal method (shear direction), and the adhesive strength [N/4 mm 2] between the test piece and the adherend at 23°C was measured.

(경화성 평가)(Curability evaluation)

자동 경화 시간 측정 장치 「마도카」 (주식회사 사이버 제조) 를 사용하여 경화 시간을 측정하였다. 120 ℃ 로 가열된 스테인리스판 상에, 0.30 ㎖ 의 샘플을 투입하고, 교반하였다. 시간 경과적으로 교반 토크가 상승하여, 0.392 N·㎝ 가 될 때까지의 시간 (초) 을 측정하였다. 교반 조건은 이하와 같다.The curing time was measured using an automatic curing time measuring device "Madoka" (manufactured by Cyber Corporation). On the stainless steel plate heated to 120 degreeC, 0.30 ml of sample was put and stirred. The stirring torque increased over time and the time (second) until it became 0.392 N·cm was measured. The stirring conditions are as follows.

· 교반 날개의 자전 회전수 : 200 rpm· Rotation speed of stirring blade: 200 rpm

· 교반 날개의 공전 회전수 : 80 rpm· Revolution speed of stirring blade: 80 rpm

· 갭 (가열판과 교반 날개 사이의 거리) : 0.3 ㎜Gap (distance between heating plate and stirring blade): 0.3 ㎜

Figure pct00011
Figure pct00011

(제조예 3)(Production Example 3)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란 (애즈맥스 주식회사 제조) 17.0 g (77.7 m㏖), 및, 메틸트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조, 제품명 「KBE-13」) 32.33 g (181.3 m㏖) 을 주입한 후, 이것을 교반하면서, 증류수 14.0 g 에 35 % 염산 0.0675 g (HCl 의 양이 0.65 m㏖, 실란 화합물의 합계량에 대하여, 0.25 ㏖%) 을 용해시켜 얻어진 수용액을 첨가하고, 전체 용액을 30 ℃ 에서 2 시간, 이어서 70 ℃ 로 승온하여 20 시간 교반하였다.In a 300 ml eggplant flask, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane (manufactured by Asmax Corporation) 17.0 g (77.7 mmol), and methyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd., Product name "KBE-13") After pouring 32.33 g (181.3 mmol), stirring this, 0.0675 g of 35% hydrochloric acid to 14.0 g of distilled water (the amount of HCl is 0.65 mmol, 0.25 mol with respect to the total amount of the silane compound) %) was added, and the resulting aqueous solution was added, and the total solution was heated at 30°C for 2 hours and then to 70°C, followed by stirring for 20 hours.

내용물의 교반을 계속하면서, 거기에, 28 % 암모니아수 0.0394 g (NH3 의 양이 0.65 m㏖) 과 아세트산프로필 46.1 g 의 혼합 용액을 첨가하여 반응액의 pH 를 6.9 로 하고, 그대로 70 ℃ 에서 40 분간 교반하였다.While continuing the stirring of the contents, a mixed solution of 28% aqueous ammonia 0.0394 g (the amount of NH 3 is 0.65 mmol) and 46.1 g of propyl acetate was added, and the pH of the reaction solution was set to 6.9, as it was at 70° C. 40 Stir for a minute.

반응액을 실온까지 방냉한 후, 거기에, 아세트산프로필 50 g 및 물 100 g 을 첨가하여 분액 처리를 실시하여, 반응 생성물을 포함하는 유기층을 얻었다. 이 유기층에 황산마그네슘을 첨가하여 건조 처리를 실시하였다. 황산마그네슘을 여과 분리 제거한 후, 유기층을 이배퍼레이터로 농축하고, 이어서, 얻어진 농축물을 진공 건조시킴으로써, 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 을 얻었다. 이것의 질량 평균 분자량 (Mw) 은 5,500, 분자량 분포는 3.40 이었다.After the reaction solution was allowed to cool to room temperature, 50 g of propyl acetate and 100 g of water were added thereto to perform liquid separation treatment to obtain an organic layer containing a reaction product. Magnesium sulfate was added to this organic layer, and drying treatment was performed. After the magnesium sulfate was removed by filtration, the organic layer was concentrated with an evaporator, and the obtained concentrate was then dried in vacuo to obtain a polysilsesquioxane compound (A3). Its mass average molecular weight (Mw) was 5,500, and molecular weight distribution was 3.40.

경화성 폴리실세스퀴옥산 화합물 (A3) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다.IR spectrum data of the curable polysilsesquioxane compound (A3) is shown below.

Si-CH3 : 1272 ㎝-1, 1409 ㎝-1, Si-O : 1132 ㎝-1, C-F : 1213 ㎝-1 Si-CH 3 : 1272 cm -1 , 1409 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , CF: 1213 cm -1

(실시예 13, 14, 비교예 5)(Examples 13 and 14, Comparative Example 5)

실시예 1 에 있어서, (A) 성분의 종류, (B) 성분의 종류, 사용량 (부) 을, 하기 표 2 에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 실시예 13, 14 의 경화성 조성물, 비교예 5 의 경화성 조성물을 얻었다.In Example 1, in the same manner as in Example 1, Example 13, except that the type of the component (A), the type of the component (B), and the amount used (parts) were changed as described in Table 2 below. , The curable composition of 14 and the curable composition of Comparative Example 5 were obtained.

얻어진 경화성 조성물의 경화물에 대하여, 접착 강도의 측정, 및 경화성의 평가를 실시하였다.About the cured product of the obtained curable composition, the measurement of adhesive strength and evaluation of curability were performed.

측정 결과 및 평가를 하기 표 2 에 나타낸다.The measurement results and evaluation are shown in Table 2 below.

Figure pct00012
Figure pct00012

표 1 및 표 2 로부터, 실시예 1 ∼ 14 의 경화성 조성물은 모두, 경화성 평가 시험에 있어서, 8,000 초 이하라고 하는 짧은 시간에 경화물이 얻어져 있어, 경화성이 우수한 것을 알 수 있다.From Table 1 and Table 2, it is understood that in the curable composition of Examples 1 to 14, a cured product was obtained in a short time of 8,000 seconds or less in a curable evaluation test, and thus curable property was excellent.

또한, 120 ℃ 2 시간 동안 경화시킨 경우에도, 얻어지는 경화물은, 접착 강도는 50 N/4 ㎟ 이상으로, 접착력이 우수한 것을 알 수 있다.In addition, even when cured at 120° C. for 2 hours, the obtained cured product has an adhesive strength of 50 N/4 mm 2 or more, which indicates excellent adhesive strength.

한편, 비교예 1, 4 및 5 의 경화성 조성물은, 경화성 평가 시험에 있어서, 실시예의 경화성 조성물에 대하여, 경화성이 뒤떨어져 있는 것을 알 수 있다.On the other hand, it can be seen that the curable compositions of Comparative Examples 1, 4 and 5 are inferior in curability to the curable compositions of Examples in the curable evaluation test.

또한, 비교예 1 ∼ 5 의 경화성 조성물은, 120 ℃ 2 시간 동안 경화한 경우, 얻어지는 경화물은, 접착 강도는 50 N/4 ㎟ 미만으로, 접착력이 뒤떨어져 있는 것을 알 수 있다.In addition, when the curable compositions of Comparative Examples 1 to 5 were cured at 120° C. for 2 hours, the obtained cured product had an adhesive strength of less than 50 N/4 mm 2, and it was found that the adhesive strength was inferior.

Claims (12)

하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 포함하는 경화성 조성물로서, (B) 성분의 함유량이, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 0 질량부 초과, 3 질량부 이하인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
(A) 성분 : 하기 식 (a)
Figure pct00013

(식 중, R1 은, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 아릴기를 나타낸다. 복수의 R1 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. Z 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기, 또는, 할로겐 원자를 나타낸다. p 는 양의 정수를 나타내고, q, r 은 각각 독립적으로, 0 또는 양의 정수를 나타낸다.)
로 나타내는 실란 화합물 중합체
(B) 성분 : 비스무트 화합물, 알루미늄 화합물 및 지르코늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속 화합물
A curable composition comprising the following component (A) and component (B), wherein the content of component (B) is more than 0 parts by mass and 3 parts by mass or less based on 100 parts by mass of component (A) .
(A) component: the following formula (a)
Figure pct00013

(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent or not having a substituent group, or an aryl group having a substituent group or not having a substituent. A plurality of R 1s may be the same or different. Z represents a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, p represents a positive integer, and q and r each independently represent 0 or a positive integer.)
Silane compound polymer represented by
(B) component: at least one metal compound selected from the group consisting of bismuth compounds, aluminum compounds and zirconium compounds
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 성분의 실란 화합물 중합체의 질량 평균 분자량 (Mw) 이 800 ∼ 50,000 인, 경화성 조성물.
The method of claim 1,
The curable composition, wherein the mass average molecular weight (Mw) of the silane compound polymer of the component (A) is 800 to 50,000.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 실란 화합물 중합체가, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물의 1 종 또는 2 종 이상의 중축합 생성물인, 경화성 조성물.
Figure pct00014

(식 중, R1 은, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는, 치환기를 갖거나, 혹은 치환기를 갖지 않는 아릴기를 나타낸다. 복수의 R1 끼리는 동일해도 되고 상이해도 된다. R2 는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, s 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 복수의 R2 끼리, 및 복수의 X1 끼리는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
The method according to claim 1 or 2,
The curable composition, wherein the silane compound polymer is one or two or more polycondensation products of the silane compound represented by the following formula (1).
Figure pct00014

(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent or not having a substituent group, or an aryl group having a substituent group or not having a substituent. A plurality of R 1s may be the same or different. may. R 2 represents a halogen atom, and are X 1 represents an alkyl group of carbon number 1 ~ 10, s represents an integer of 0 to 3 each other and a plurality of R 2 to each other, and a plurality of X 1, may be the same with each other , May be different.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 하기 (C) 성분을 함유하는, 경화성 조성물.
(C) 성분 : 분자 내에 질소 원자를 갖는 실란 커플링제
The method according to any one of claims 1 to 3,
Further, the curable composition containing the following (C) component.
(C) Component: Silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 하기 (D) 성분을 함유하는, 경화성 조성물.
(D) 성분 : 분자 내에 산 무수물 구조를 갖는 실란 커플링제
The method according to any one of claims 1 to 4,
Further, the curable composition containing the following (D) component.
(D) Component: Silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 희석제를 함유하는, 경화성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5,
Additionally, a curable composition containing a diluent.
제 6 항에 있어서,
상기 경화성 조성물의 고형분 농도가, 50 질량% 이상, 100 질량% 미만인, 경화성 조성물.
The method of claim 6,
The curable composition, wherein the solid content concentration of the curable composition is 50% by mass or more and less than 100% by mass.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of claims 1 to 7. 제 8 항에 있어서,
광 소자 고정재인, 경화물.
The method of claim 8,
A hardened material that is an optical element fixing material.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 110 ℃ ∼ 130 ℃ 로 가열하여 경화시키는 경화물의 제조 방법.A method for producing a cured product in which the curable composition according to any one of claims 1 to 7 is heated and cured at 110°C to 130°C. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정용 접착제로서 사용하는 방법.A method of using the curable composition according to any one of claims 1 to 7 as an adhesive for fixing an optical element. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을, 광 소자 고정용 봉지재로서 사용하는 방법.A method of using the curable composition according to any one of claims 1 to 7 as a sealing material for fixing an optical element.
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