KR20200124670A - Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 무색투명성 및 광학적 등방성이 우수하고, 또한 탄성률이 낮은 필름의 형성이 가능한 폴리이미드 수지를 제공하며, 테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A가 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1)를 포함하고, 디아민에서 유래하는 구성단위B가 식(b-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-1)와, 식(b-2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-1), 식(b-2-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-2), 및 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인 구성단위(B-2)를 포함하는, 폴리이미드 수지, 그리고 이 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름에 관한 것이다.

Figure pct00007

(식(b-1) 중, R1~R4는, 각각 독립적으로, 1가의 지방족기 또는 1가의 방향족기이고, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기이고, r은, 양의 정수이다.)The present invention provides a polyimide resin capable of forming a film having excellent colorless transparency and optical isotropy and having a low elastic modulus, wherein the structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride is represented by formula (a-1). Constituent unit (B-1) derived from a compound represented by formula (b-1), and formula (b-2) in which the constituent unit B derived from diamine is included in the constituent unit (A-1) derived from the compound. The structural unit derived from the compound represented by -1) (B-2-1), the structural unit derived from the compound represented by formula (b-2-2) (B-2-2), and the formula (b- A polyimide resin containing at least one structural unit (B-2) selected from the group consisting of a structural unit (B-2-3) derived from a compound represented by 2-3), and this polyimide resin It relates to a polyimide varnish and a polyimide film containing.
Figure pct00007

(In formula (b-1), R 1 to R 4 are each independently a monovalent aliphatic group or a monovalent aromatic group, and Z 1 and Z 2 are each independently a divalent aliphatic group or a divalent aromatic Group, and r is a positive integer.)

Description

폴리이미드 수지, 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film

본 발명은 폴리이미드 수지, 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide resin, a polyimide varnish, and a polyimide film.

폴리이미드 수지는, 우수한 기계적 특성 및 내열성을 갖는 점으로부터, 전기·전자부품 등의 분야에 있어서 다양한 이용이 검토되고 있다. 예를 들어, 액정디스플레이나 OLED디스플레이 등의 화상표시장치에 이용되는 유리기판을 플라스틱기판으로 대체하는 것이 요망되고 있으며, 해당 플라스틱기판으로서 적합한 폴리이미드필름의 연구도 진행되고 있다. 이러한 용도의 폴리이미드필름에는 우수한 무색투명성이 요구된다.Since polyimide resin has excellent mechanical properties and heat resistance, various uses in fields such as electric and electronic parts are being studied. For example, it is desired to replace a glass substrate used in an image display device such as a liquid crystal display or an OLED display with a plastic substrate, and research on a polyimide film suitable as a corresponding plastic substrate is also underway. The polyimide film for this purpose is required to have excellent colorless transparency.

또한, 표시소자로부터 발한 광이 위상차필름이나 편광판을 통과하는 화상표시장치(예를 들어, 액정디스플레이)에 이용되는 플라스틱기판으로서 적합하기 위해서는, 폴리이미드필름에는, 우수한 무색투명성뿐만 아니라, 우수한 광학적 등방성도 요구된다.In addition, in order to be suitable as a plastic substrate used in an image display device (for example, a liquid crystal display) in which light emitted from a display device passes through a retardation film or a polarizing plate, polyimide film has not only excellent colorless transparency, but also excellent optical isotropy. Is also required.

상기와 같은 요구성능을 만족하기 위해, 다양한 폴리이미드 수지의 개발이 진행되고 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에는, 투명성, 내열성 및 광학적 등방성이 양호한 폴리이미드 수지로서, 테트라카르본산성분으로서 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산이무수물을 이용하고, 디아민성분으로서 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)플루오렌 및 4,4’-디아미노디페닐에테르를 이용하여 합성된 폴리이미드 수지 등이 개시되어 있다.In order to satisfy the required performance as described above, various polyimide resins are being developed. For example, in Patent Document 1, as a polyimide resin having good transparency, heat resistance and optical isotropy, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride is used as a tetracarboxylic acid component, and 9 as a diamine component. , 9-bis(3-methyl-4-aminophenyl)fluorene and a polyimide resin synthesized using 4,4'-diaminodiphenyl ether, and the like are disclosed.

일본특허 제6010533호 공보Japanese Patent No. 6010533

화상표시장치에 이용되는 유리기판을 플라스틱기판으로 대체하는 목적 중 하나로는, 디바이스의 플렉서블화를 들 수 있다. 폴리이미드 수지는, 유리와 대비하여 말한다면, 플렉시빌리티가 높은(즉, 탄성률이 낮은) 재료라 할 수 있다. 그러나, 일반적으로, 폴리이미드 수지는 주쇄가 강직한 점에서, 다른 플라스틱재료와 대비하면, 탄성률은 높은 경향이 있다. 따라서, 폴리이미드필름을 플렉서블기판으로서 이용하려면 저탄성률화가 하나의 과제인데, 우수한 무색투명성 및 광학적 등방성을 유지하면서, 그것을 달성하기는 용이하지 않았다.One of the purposes of replacing a glass substrate used in an image display device with a plastic substrate is to make the device flexible. Polyimide resin, compared to glass, can be said to be a material having high flexibility (ie, low elastic modulus). However, in general, polyimide resins tend to have a high elastic modulus compared to other plastic materials, since the main chain is rigid. Therefore, in order to use a polyimide film as a flexible substrate, lowering the modulus of elasticity is one problem, and it was not easy to achieve it while maintaining excellent colorless transparency and optical isotropy.

본 발명은 상기의 상황을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 과제는, 무색투명성 및 광학적 등방성이 우수하고, 또한 탄성률이 낮은 필름의 형성이 가능한 폴리이미드 수지를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of the above situation, and an object of the present invention is to provide a polyimide resin capable of forming a film having excellent colorless transparency and optical isotropy, and having a low elastic modulus.

본 발명자들은, 특정 구성단위의 조합을 포함하는 폴리이미드 수지가 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 발명을 완성시켰다.The inventors of the present invention have found that a polyimide resin containing a combination of a specific structural unit can solve the above problem, and have completed the invention.

즉, 본 발명은, 하기의 [1]~[8]에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following [1] to [8].

[1][One]

테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 갖는 폴리이미드 수지로서,As a polyimide resin having a structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from diamine,

구성단위A가 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1)를 포함하고,Constituent unit A includes a structural unit (A-1) derived from a compound represented by the following formula (a-1),

구성단위B가 하기 식(b-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-1)와, 하기 식(b-2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-1), 하기 식(b-2-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-2), 및 하기 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인 구성단위(B-2)를 포함하는, 폴리이미드 수지.Structural unit B is a structural unit (B-1) derived from a compound represented by the following formula (b-1), and a structural unit (B-2-1) derived from a compound represented by the following formula (b-2-1). 1), a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2-2) (B-2-2), and a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2-3) (B A polyimide resin containing at least one structural unit (B-2) selected from the group consisting of -2-3).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식(b-1) 중,(In formula (b-1),

R1~R4는, 각각 독립적으로, 1가의 지방족기 또는 1가의 방향족기이고,R 1 to R 4 are each independently a monovalent aliphatic group or a monovalent aromatic group,

Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기이고,Z 1 and Z 2 are each independently a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group,

r은, 양의 정수이다.)r is a positive integer.)

[2][2]

구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율이 50몰% 이상인, 상기 [1]에 기재된 폴리이미드 수지.The polyimide resin according to the above [1], wherein the proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is 50 mol% or more.

[3][3]

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율이 10~50몰%이고,The proportion of the structural unit (B-1) in the structural unit B is 10 to 50 mol%,

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-2)의 비율이 50~90몰%인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 폴리이미드 수지.The polyimide resin according to [1] or [2], wherein the proportion of the structural unit (B-2) in the structural unit B is 50 to 90 mol%.

[4][4]

구성단위(B-2)가 구성단위(B-2-1)인, 상기 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드 수지.The polyimide resin according to any one of the above [1] to [3], wherein the structural unit (B-2) is a structural unit (B-2-1).

[5][5]

구성단위(B-2)가 구성단위(B-2-2)인, 상기 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드 수지.The polyimide resin according to any one of the above [1] to [3], wherein the structural unit (B-2) is a structural unit (B-2-2).

[6][6]

구성단위(B-2)가 구성단위(B-2-3)인, 상기 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드 수지.The polyimide resin according to any one of the above [1] to [3], wherein the structural unit (B-2) is a structural unit (B-2-3).

[7][7]

상기 [1]~[6] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드 수지가 유기용매에 용해되어 이루어지는 폴리이미드바니시.A polyimide varnish obtained by dissolving the polyimide resin according to any one of the above [1] to [6] in an organic solvent.

[8][8]

상기 [1]~[6] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드 수지를 포함하는, 폴리이미드필름.A polyimide film containing the polyimide resin according to any one of the above [1] to [6].

본 발명에 따르면, 무색투명성 및 광학적 등방성이 우수하고, 또한 탄성률이 낮은 필름을 형성할 수 있다.According to the present invention, a film having excellent colorless transparency and optical isotropy and having a low elastic modulus can be formed.

[폴리이미드 수지][Polyimide resin]

본 발명의 폴리이미드 수지는, 테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 가지며, 구성단위A가 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1)를 포함하고, 구성단위B가 하기 식(b-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-1)와, 하기 식(b-2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-1), 하기 식(b-2-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-2), 및 하기 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인 구성단위(B-2)를 포함한다.The polyimide resin of the present invention has a structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from diamine, and the structural unit A is a structural unit derived from a compound represented by the following formula (a-1) In the structural unit (B-1) derived from the compound represented by the following formula (b-1), and the compound represented by the following formula (b-2-1), in which the structural unit B is The derived structural unit (B-2-1), the structural unit derived from the compound represented by the following formula (b-2-2) (B-2-2), and represented by the following formula (b-2-3) And at least one constitutional unit (B-2) selected from the group consisting of constitutional units (B-2-3) derived from the compound.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식(b-1) 중,(In formula (b-1),

R1~R4는, 각각 독립적으로, 1가의 지방족기 또는 1가의 방향족기이고,R 1 to R 4 are each independently a monovalent aliphatic group or a monovalent aromatic group,

Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기이고,Z 1 and Z 2 are each independently a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group,

r은, 양의 정수이다.)r is a positive integer.)

<구성단위A><Constituent Unit A>

구성단위A는, 폴리이미드 수지에 차지하는 테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위로서, 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1)를 포함한다.Structural unit A is a structural unit derived from tetracarboxylic dianhydride occupied in the polyimide resin, and includes a structural unit (A-1) derived from a compound represented by the following formula (a-1).

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

식(a-1)로 표시되는 화합물은, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산이무수물이다.The compound represented by formula (a-1) is 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride.

구성단위A가 구성단위(A-1)를 포함함으로써, 필름의 무색투명성 향상에 기여한다.When the structural unit A contains the structural unit (A-1), it contributes to the improvement of the colorless transparency of the film.

구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율은, 바람직하게는 50몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 70몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이다. 구성단위(A-1)의 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않고, 즉, 100몰%이다. 구성단위A는 구성단위(A-1)만으로 이루어져 있을 수도 있다.The proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more, and particularly preferably It is more than 99 mol%. The upper limit of the proportion of the structural unit (A-1) is not particularly limited, that is, 100 mol%. Constituent unit A may consist of only constituent units (A-1).

구성단위A는, 구성단위(A-1) 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위를 부여하는 테트라카르본산이무수물로는, 특별히 한정되지 않으나, 피로멜리트산이무수물, 3,3’,4,4’-비페닐테트라카르본산이무수물, 9,9’-비스(3,4-디카르복시페닐)플루오렌이무수물, 및 4,4’-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산무수물 등의 방향족 테트라카르본산이무수물; 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산이무수물 및 노보난-2-스피로-α-시클로펜탄온-α’-스피로-2”-노보난-5,5”,6,6”-테트라카르본산이무수물 등의 지환식 테트라카르본산이무수물(단, 식(a-1)로 표시되는 화합물을 제외한다); 그리고 1,2,3,4-부탄테트라카르본산이무수물 등의 지방족 테트라카르본산이무수물을 들 수 있다.The structural unit A may include structural units other than the structural unit (A-1). The tetracarboxylic acid dianhydride giving such a structural unit is not particularly limited, but pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 9,9'-bis( Aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides such as 3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and nobonan-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2”-novonane-5,5”,6,6”- Alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as tetracarboxylic dianhydride (however, the compound represented by formula (a-1) is excluded); And aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, such as 1,2,3,4-butane tetracarboxylic dianhydride, are mentioned.

한편, 본 명세서에 있어서, 방향족 테트라카르본산이무수물이란 방향환을 1개 이상 포함하는 테트라카르본산이무수물을 의미하고, 지환식 테트라카르본산이무수물이란 지환을 1개 이상 포함하며, 또한 방향환을 포함하지 않는 테트라카르본산이무수물을 의미하고, 지방족 테트라카르본산이무수물이란 방향환도 지환도 포함하지 않는 테트라카르본산이무수물을 의미한다.Meanwhile, in the present specification, the aromatic tetracarboxylic dianhydride refers to a tetracarboxylic acid dianhydride containing at least one aromatic ring, and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride includes at least one alicyclic ring, and It means a tetracarboxylic acid dianhydride which does not contain, and the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride means a tetracarboxylic acid dianhydride which does not contain neither an aromatic ring nor an alicyclic ring.

구성단위A에 임의로 포함되는 구성단위(A-1) 이외의 구성단위는, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.Constituent units other than the constituent unit (A-1) arbitrarily included in the constituent unit A may be one type or two or more types.

또한, 본 발명의 폴리이미드 수지의 일 태양으로서, 구성단위A가 9,9’-비스(3,4-디카르복시페닐)플루오렌이무수물에서 유래하는 구성단위를 포함하지 않는 폴리이미드 수지를 들 수 있다.Further, as an aspect of the polyimide resin of the present invention, a polyimide resin in which the structural unit A does not contain a structural unit derived from 9,9'-bis(3,4-dicarboxyphenyl)fluorene dianhydride is mentioned. I can.

<구성단위B><Constituent Unit B>

구성단위B는, 폴리이미드 수지에 차지하는 디아민에서 유래하는 구성단위로서, 하기 식(b-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-1)와, 하기 식(b-2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-1), 하기 식(b-2-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-2), 및 하기 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인 구성단위(B-2)를 포함한다.Structural unit B is a structural unit derived from a diamine occupied in the polyimide resin, and a structural unit (B-1) derived from a compound represented by the following formula (b-1), and the following formula (b-2-1) A structural unit derived from a compound represented by (B-2-1), a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2-2) (B-2-2), and the following formula (b-2) It includes at least one structural unit (B-2) selected from the group consisting of structural units (B-2-3) derived from the compound represented by -3).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식(b-1) 중,(In formula (b-1),

R1~R4는, 각각 독립적으로, 1가의 지방족기 또는 1가의 방향족기이고,R 1 to R 4 are each independently a monovalent aliphatic group or a monovalent aromatic group,

Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기이고,Z 1 and Z 2 are each independently a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group,

r은, 양의 정수이다.)r is a positive integer.)

식(b-1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 1가의 지방족기 또는 1가의 방향족기를 나타내고, 이들 기는 적어도 일부의 수소원자가 불소원자로 치환되어 있을 수도 있다. 1가의 지방족기로는, 1가의 포화탄화수소기, 1가의 불포화탄화수소기, 1가의 탄화수소옥시기 등을 들 수 있다. 1가의 포화탄화수소기로는 탄소수 1~22의 알킬기를 들 수 있고, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기를 예시할 수 있다. 1가의 불포화탄화수소기로는 탄소수 2~22의 알케닐기를 들 수 있고, 예를 들어, 비닐기, 프로페닐기를 예시할 수 있다. 1가의 탄화수소옥시기로는 탄소수 1~22의 알콕시기를 들 수 있고, 예를 들어, 상기에서 예시한 알킬기에 산소원자가 결합하여 이루어지는 1가의 기를 예시할 수 있다. 1가의 방향족기로는, 탄소수 6~24의 아릴기, 탄소수 7~24의 아랄킬기, 탄소수 6~24의 아릴옥시기 등을 들 수 있고, 예를 들어, 페닐기, 페녹시기 등을 예시할 수 있다. R1, R2, R3 및 R4로는, 특히, 메틸기 또는 페닐기가 바람직하다.R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the formula (b-1) each independently represent a monovalent aliphatic group or a monovalent aromatic group, and at least some of these groups may be substituted with a fluorine atom. . Examples of the monovalent aliphatic group include a monovalent saturated hydrocarbon group, a monovalent unsaturated hydrocarbon group, and a monovalent hydrocarbonoxy group. Examples of the monovalent saturated hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Examples of the monovalent unsaturated hydrocarbon group include an alkenyl group having 2 to 22 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group and a propenyl group. Examples of the monovalent hydrocarbonoxy group include an alkoxy group having 1 to 22 carbon atoms, and for example, a monovalent group formed by bonding an oxygen atom to the alkyl group exemplified above can be exemplified. Examples of the monovalent aromatic group include an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms, and an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a phenoxy group. . As R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , a methyl group or a phenyl group is particularly preferable.

또한, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로 2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기를 나타내고, 이들 기는 적어도 일부의 수소원자가 불소원자로 치환되어 있을 수도 있다. 2가의 지방족기로는, 2가의 포화탄화수소기 또는 2가의 불포화탄화수소기를 들 수 있다. 2가의 포화탄화수소기로는 탄소수 1~22의 알킬렌기를 들 수 있고, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기, 옥타메틸렌기, 데카메틸렌기, 도데카메틸렌기 등을 예시할 수 있다. 2가의 불포화탄화수소기로는, 탄소수 2~22의 불포화탄소수소기를 들 수 있고, 예를 들어, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 말단에 불포화이중결합을 갖는 알킬렌기를 예시할 수 있다. 2가의 방향족기로는 탄소수 6~24의 아릴렌기, 탄소수 7~24의 아랄킬렌기, 탄소수 6~24의 아릴렌옥시기 등을 예시할 수 있다. 이들 기는 방향환을 구성하는 수소원자의 적어도 일부가 알킬기로 치환되어 있을 수도 있다. Z1 및 Z2에 있어서의 탄소수 6~24의 아릴렌기의 구체예로는, o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 4,4’-비페닐릴렌기, 2,6-나프틸렌기 등을 들 수 있다. 탄소수 7~24의 아랄킬렌기의 구체예로는, 벤질렌기, 페네틸렌기 등을 들 수 있다. 탄소수 6~24의 아릴렌옥시기의 구체예로는, 상기에서 예시한 아릴렌기에 산소원자가 결합하여 이루어지는 2가의 기를 들 수 있다. Z1 및 Z2로는, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, p-페닐렌기, 벤질렌기가 바람직하고, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, p-페닐렌기가 보다 바람직하다.Further, Z 1 and Z 2 each independently represent a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group, and at least some of these groups may be substituted with a fluorine atom. Examples of the divalent aliphatic group include a divalent saturated hydrocarbon group or a divalent unsaturated hydrocarbon group. Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include an alkylene group having 1 to 22 carbon atoms. For example, a methylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, octamethylene group, decamethylene group , Dodecamethylene group, etc. can be illustrated. Examples of the divalent unsaturated hydrocarbon group include an unsaturated carbon group having 2 to 22 carbon atoms, and examples thereof include a vinylene group, a propenylene group, and an alkylene group having an unsaturated double bond at the terminal. Examples of the divalent aromatic group include an arylene group having 6 to 24 carbon atoms, an aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms, and an aryleneoxy group having 6 to 24 carbon atoms. At least part of the hydrogen atoms constituting the aromatic ring may be substituted with an alkyl group in these groups. Specific examples of the arylene group having 6 to 24 carbon atoms in Z 1 and Z 2 include o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, 4,4'-biphenylylene group, 2,6- Naphthylene group, etc. are mentioned. As a specific example of a C7-C24 aralkylene group, a benzylene group, a phenethylene group, etc. are mentioned. Specific examples of the aryleneoxy group having 6 to 24 carbon atoms include a divalent group formed by bonding an oxygen atom to the arylene group exemplified above. As Z 1 and Z 2 , a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a p-phenylene group, and a benzylen group are preferable, and a trimethylene group, a tetramethylene group, and a p-phenylene group are more preferable.

또한, r은 양의 정수를 나타내고, 2~50의 정수인 것이 바람직하다. r이 2 이상일 때, 복수의 R1 및 R2는 각각, 서로 동일할 수도 상이할 수도 있다.In addition, r represents a positive integer, and it is preferable that it is an integer of 2-50. When r is 2 or more, a plurality of R 1 and R 2 may each be the same or different from each other.

식(b-1)로 표시되는 화합물로는, 1,3-비스(3-아미노프로필)-1,1,2,2-테트라메틸디실록산, 1,3-비스(3-아미노부틸)-1,1,2,2-테트라메틸디실록산, 1,3-비스(4-아미노페녹시)테트라메틸디실록산, 1,1,3,3-테트라메틸-1,3-비스(4-아미노페닐)디실록산, 1,1,3,3-테트라페녹시-1,3-비스(2-아미노에틸)디실록산, 1,1,3,3-테트라페닐-1,3-비스(2-아미노에틸)디실록산, 1,1,3,3-테트라페닐-1,3-비스(3-아미노프로필)디실록산, 1,1,3,3-테트라메틸-1,3-비스(2-아미노에틸)디실록산, 1,1,3,3-테트라메틸-1,3-비스(3-아미노프로필)디실록산, 1,1,3,3-테트라메틸-1,3-비스(4-아미노부틸)디실록산, 1,3-디메틸-1,3-디메톡시-1,3-비스(4-아미노부틸)디실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸-1,5-비스(4-아미노페닐)트리실록산, 1,1,5,5-테트라페닐-3,3-디메틸-1,5-비스(3-아미노프로필)트리실록산, 1,1,5,5-테트라페닐-3,3-디메톡시-1,5-비스(4-아미노부틸)트리실록산, 1,1,5,5-테트라페닐-3,3-디메톡시-1,5-비스(5-아미노펜틸)트리실록산, 1,1,5,5-테트라메틸-3,3-디메톡시-1,5-비스(2-아미노에틸)트리실록산, 1,1,5,5-테트라메틸-3,3-디메톡시-1,5-비스(4-아미노부틸)트리실록산, 1,1,5,5-테트라메틸-3,3-디메톡시-1,5-비스(5-아미노펜틸)트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸-1,5-비스(3-아미노프로필)트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사에틸-1,5-비스(3-아미노프로필)트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사프로필-1,5-비스(3-아미노프로필)트리실록산 등을 들 수 있다. 식(b-1)로 표시되는 화합물은 단독으로 이용할 수도 있고, 또는 2종류 이상 조합하여 이용할 수도 있다.As the compound represented by formula (b-1), 1,3-bis(3-aminopropyl)-1,1,2,2-tetramethyldisiloxane, 1,3-bis(3-aminobutyl)- 1,1,2,2-tetramethyldisiloxane, 1,3-bis(4-aminophenoxy)tetramethyldisiloxane, 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis(4-amino Phenyl)disiloxane, 1,1,3,3-tetraphenoxy-1,3-bis(2-aminoethyl)disiloxane, 1,1,3,3-tetraphenyl-1,3-bis(2- Aminoethyl)disiloxane, 1,1,3,3-tetraphenyl-1,3-bis(3-aminopropyl)disiloxane, 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis(2- Aminoethyl)disiloxane, 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis(3-aminopropyl)disiloxane, 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis(4- Aminobutyl)disiloxane, 1,3-dimethyl-1,3-dimethoxy-1,3-bis(4-aminobutyl)disiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexamethyl-1, 5-bis(4-aminophenyl)trisiloxane, 1,1,5,5-tetraphenyl-3,3-dimethyl-1,5-bis(3-aminopropyl)trisiloxane, 1,1,5,5 -Tetraphenyl-3,3-dimethoxy-1,5-bis(4-aminobutyl)trisiloxane, 1,1,5,5-tetraphenyl-3,3-dimethoxy-1,5-bis(5 -Aminopentyl) trisiloxane, 1,1,5,5-tetramethyl-3,3-dimethoxy-1,5-bis(2-aminoethyl) trisiloxane, 1,1,5,5-tetramethyl- 3,3-dimethoxy-1,5-bis(4-aminobutyl)trisiloxane, 1,1,5,5-tetramethyl-3,3-dimethoxy-1,5-bis(5-aminopentyl) Trisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexamethyl-1,5-bis(3-aminopropyl)trisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexaethyl-1,5 -Bis(3-aminopropyl)trisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexapropyl-1,5-bis(3-aminopropyl) trisiloxane, etc. are mentioned. The compound represented by formula (b-1) may be used alone, or two or more types may be used in combination.

식(b-1)로 표시되는 화합물의 시판품으로서 입수할 수 있는 것으로는, 신에쓰화학공업주식회사제의 「X-22-9409」, 「X-22-1660B」, 「X-22-161AS」, 「X-22-161A」, 「X-22-161B」 등을 들 수 있다.As commercial products of the compound represented by formula (b-1), "X-22-9409", "X-22-1660B", "X-22-161AS" manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd. , "X-22-161A", "X-22-161B", etc. are mentioned.

구성단위B가 구성단위(B-1)를 포함함으로써, 필름의 광학적 등방성향상 및 저탄성률화에 기여한다.When the structural unit B contains the structural unit (B-1), it contributes to the improvement of the optical isotropy and reduction of the elastic modulus of the film.

식(b-2-1)로 표시되는 화합물은, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕헥사플루오로프로판이다.The compound represented by formula (b-2-1) is 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane.

식(b-2-2)로 표시되는 화합물은, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로판이다.The compound represented by formula (b-2-2) is 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane.

식(b-2-3)으로 표시되는 화합물은, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민이다.The compound represented by formula (b-2-3) is 1-(4-aminophenyl)-2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden-5-amine.

본 발명에서는, 구성단위B가 구성단위(B-2)를 구성단위(B-1)와 조합하여 포함함으로써, 필름의 유리전이온도를 제어할 수 있다. 구성단위(B-1)는, 필름의 광학적 등방성향상 및 저탄성률화에 기여하는데, 한편으로, 유리전이온도를 낮춘다는 측면도 있다. 이에, 구성단위B가 구성단위(B-2)를 포함함으로써, 구성단위(B-1)에 의한 유리전이온도의 저하폭을 줄여, 필름의 유리전이온도를 제어할 수 있다. 또한, 우수한 무색투명성 및 우수한 광학적 등방성을 갖는 필름을 얻는 관점으로부터도, 구성단위B에 구성단위(B-2)가 포함되는 것이 바람직하다.In the present invention, when the structural unit B includes the structural unit (B-2) in combination with the structural unit (B-1), the glass transition temperature of the film can be controlled. The structural unit (B-1) contributes to improving the optical isotropy and lowering the elastic modulus of the film, but also has an aspect of lowering the glass transition temperature. Accordingly, when the structural unit B includes the structural unit (B-2), the decrease in the glass transition temperature due to the structural unit (B-1) can be reduced, and the glass transition temperature of the film can be controlled. Further, from the viewpoint of obtaining a film having excellent colorless transparency and excellent optical isotropy, it is preferable that the structural unit (B-2) is included in the structural unit B.

구성단위(B-2)는, 구성단위(B-2-1)만일 수도 있고, 구성단위(B-2-2)만일 수도 있고, 또는 구성단위(B-2-3)만일 수도 있다.The structural unit (B-2) may be only the structural unit (B-2-1), only the structural unit (B-2-2), or only the structural unit (B-2-3).

또한, 구성단위(B-2)는, 구성단위(B-2-1)와 구성단위(B-2-2)의 조합일 수도 있고, 구성단위(B-2-2)와 구성단위(B-2-3)의 조합일 수도 있고, 또는 구성단위(B-2-1)와 구성단위(B-2-3)의 조합일 수도 있다.In addition, the structural unit (B-2) may be a combination of the structural unit (B-2-1) and the structural unit (B-2-2), or the structural unit (B-2-2) and the structural unit (B It may be a combination of -2-3), or may be a combination of a structural unit (B-2-1) and a structural unit (B-2-3).

또한, 구성단위(B-2)는, 구성단위(B-2-1)와 구성단위(B-2-2)와 구성단위(B-2-3)의 조합일 수도 있다.Further, the structural unit (B-2) may be a combination of the structural unit (B-2-1), the structural unit (B-2-2), and the structural unit (B-2-3).

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율은, 바람직하게는 10~50몰%이고, 보다 바람직하게는 10~40몰%이고, 더욱 바람직하게는 15~30몰%이고, 특히 바람직하게는 15~25몰%이다.The proportion of the structural unit (B-1) in the structural unit B is preferably 10 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, further preferably 15 to 30 mol%, particularly Preferably it is 15 to 25 mol%.

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-2)의 비율은, 바람직하게는 50~90몰%이고, 보다 바람직하게는 60~90몰%이고, 더욱 바람직하게는 70~85몰%이고, 특히 바람직하게는 75~85몰%이다.The proportion of the structural unit (B-2) in the structural unit B is preferably 50 to 90 mol%, more preferably 60 to 90 mol%, still more preferably 70 to 85 mol%, particularly Preferably it is 75 to 85 mol%.

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1) 및 구성단위(B-2)의 합계의 비율은, 바람직하게는 50몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 70몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이다. 구성단위(B-1) 및 구성단위(B-2)의 합계의 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않고, 즉, 100몰%이다. 구성단위B는 구성단위(B-1)와 구성단위(B-2)만으로 이루어져 있을 수도 있다.The proportion of the total of the structural unit (B-1) and the structural unit (B-2) in the structural unit B is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and even more preferably It is 90 mol% or more, particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the ratio of the total of the structural unit (B-1) and the structural unit (B-2) is not particularly limited, that is, 100 mol%. Constituent unit B may consist of only the constituent unit (B-1) and the constituent unit (B-2).

구성단위B는 구성단위(B-1) 및 (B-2) 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위를 부여하는 디아민으로는, 특별히 한정되지 않으나, 1,4-페닐렌디아민, p-자일릴렌디아민, 3,5-디아미노안식향산, 2,2’-디메틸비페닐-4,4’-디아민, 2,2’-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4’-디아미노디페닐에테르, 4,4’-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-아미노페닐)설폰, 4,4’-디아미노벤즈아닐리드, α,α’-비스(4-아미노페닐)-1,4-디이소프로필벤젠, N,N’-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, 4,4’-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 및 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌 등의 방향족 디아민(단, 식(b-1)로 표시되는 화합물, 식(b-2-1)로 표시되는 화합물, 식(b-2-2)로 표시되는 화합물 및 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물을 제외한다); 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 및 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산 등의 지환식 디아민; 그리고 에틸렌디아민 및 헥사메틸렌디아민 등의 지방족 디아민(단, 식(b-1)로 표시되는 화합물을 제외한다)을 들 수 있다.The structural unit B may include structural units other than the structural units (B-1) and (B-2). The diamine giving such a structural unit is not particularly limited, but 1,4-phenylenediamine, p-xylylenediamine, 3,5-diaminobenzoic acid, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4' -Diamine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis(4-aminophenyl) Hexafluoropropane, bis(4-aminophenyl)sulfone, 4,4'-diaminobenzanilide, α,α'-bis(4-aminophenyl)-1,4-diisopropylbenzene, N,N' Aromatic diamines such as -bis(4-aminophenyl)terephthalamide, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, and 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene (however, formula ( The compound represented by b-1), the compound represented by the formula (b-2-1), the compound represented by the formula (b-2-2), and the compound represented by the formula (b-2-3) are excluded. ); Alicyclic diamines such as 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane and 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane; And aliphatic diamines, such as ethylenediamine and hexamethylenediamine (however, the compound represented by formula (b-1) is excluded) can be mentioned.

한편, 본 명세서에 있어서, 방향족 디아민이란 방향환을 1개 이상 포함하는 디아민을 의미하고, 지환식 디아민이란 지환을 1개 이상 포함하며, 또한 방향환을 포함하지 않는 디아민을 의미하고, 지방족 디아민이란 방향환도 지환도 포함하지 않는 디아민을 의미한다.Meanwhile, in the present specification, the aromatic diamine means a diamine containing at least one aromatic ring, the alicyclic diamine means a diamine containing at least one alicyclic ring, and does not contain an aromatic ring, and the aliphatic diamine means It means a diamine which does not contain neither an aromatic ring nor an alicyclic ring.

구성단위B에 임의로 포함되는 구성단위(B-1) 및 (B-2) 이외의 구성단위는, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.The structural units other than the structural units (B-1) and (B-2) optionally included in the structural unit B may be one type, or may be two or more types.

본 발명의 폴리이미드 수지의 수평균분자량은, 얻어지는 폴리이미드필름의 기계적 강도의 관점으로부터, 바람직하게는 5,000~100,000이다. 한편, 폴리이미드 수지의 수평균분자량은, 예를 들어, 겔여과크로마토그래피 측정에 의한 표준폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)환산값으로부터 구할 수 있다.The number average molecular weight of the polyimide resin of the present invention is preferably 5,000 to 100,000 from the viewpoint of the mechanical strength of the obtained polyimide film. On the other hand, the number average molecular weight of the polyimide resin can be obtained from, for example, a standard polymethyl methacrylate (PMMA) conversion value measured by gel filtration chromatography.

본 발명의 폴리이미드 수지를 이용함으로써, 무색투명성 및 광학적 등방성이 우수하고, 또한 탄성률이 낮은 필름을 형성할 수 있다. 본 발명의 폴리이미드 수지를 이용함으로써 얻어지는 필름의 호적한 물성값은 이하와 같다.By using the polyimide resin of the present invention, a film having excellent colorless transparency and optical isotropy and low elastic modulus can be formed. Suitable physical property values of the film obtained by using the polyimide resin of the present invention are as follows.

인장탄성률은, 바람직하게는 2.1GPa 이하이고, 보다 바람직하게는 2.0GPa 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.8GPa 이하이다.The tensile modulus of elasticity is preferably 2.1 GPa or less, more preferably 2.0 GPa or less, and still more preferably 1.8 GPa or less.

인장강도는, 바람직하게는 40MPa 이상이고, 보다 바람직하게는 50MPa 이상이고, 더욱 바람직하게는 60MPa 이상이다.The tensile strength is preferably 40 MPa or more, more preferably 50 MPa or more, and still more preferably 60 MPa or more.

전광선투과율은, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 85% 이상이고, 보다 바람직하게는 88% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다.The total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and still more preferably 90% or more when a film having a thickness of 30 μm is used.

헤이즈는, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 1.0% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.3% 이하이다.Haze is preferably 1.0% or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably 0.3% or less when a film having a thickness of 30 μm is used.

옐로우인덱스(YI)는, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 6.0 이하이고, 보다 바람직하게는 3.0 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.5 이하이다.When the yellow index (YI) is a film having a thickness of 30 μm, it is preferably 6.0 or less, more preferably 3.0 or less, and still more preferably 1.5 or less.

두께위상차(Rth)의 절대값은, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 100nm 이하이고, 보다 바람직하게는 50nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 30nm 이하이다.The absolute value of the thickness phase difference Rth is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and still more preferably 30 nm or less when a film having a thickness of 30 μm is used.

유리전이온도(Tg)는, 바람직하게는 150~300℃, 보다 바람직하게는 150~280℃, 더욱 바람직하게는 150~250℃이다.The glass transition temperature (Tg) is preferably 150 to 300°C, more preferably 150 to 280°C, and still more preferably 150 to 250°C.

한편, 본 발명에 있어서의 인장탄성률, 인장강도, 전광선투과율, 헤이즈, 옐로우인덱스(YI), 두께위상차(Rth) 및 유리전이온도(Tg)는, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.On the other hand, the tensile modulus, tensile strength, total light transmittance, haze, yellow index (YI), thickness phase difference (Rth) and glass transition temperature (Tg) in the present invention can be specifically measured by the method described in the examples. have.

[폴리이미드 수지의 제조방법][Method for producing polyimide resin]

본 발명의 폴리이미드 수지는, 상기 서술한 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물을 함유하는 테트라카르본산성분과, 상기 서술한 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물 및 상기 서술한 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물을 포함하는 디아민성분을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.The polyimide resin of the present invention includes a tetracarboxylic acid component containing a compound that provides the structural unit (A-1) described above, a compound that provides the structural unit (B-1) described above, and the configuration described above. It can be manufactured by reacting the diamine component containing the compound which gives the unit (B-2).

구성단위(A-1)를 부여하는 화합물로는, 식(a-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a-1)로 표시되는 테트라카르본산이무수물에 대응하는 테트라카르본산(즉, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산), 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물로는, 식(a-1)로 표시되는 화합물(즉, 이무수물)이 바람직하다.Examples of the compound to which the structural unit (A-1) is provided include, but are not limited to, the compound represented by the formula (a-1), and may be a derivative thereof within the range to which the same structural unit is provided. Examples of the derivatives include tetracarboxylic acids (i.e. 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acids) corresponding to tetracarboxylic dianhydrides represented by formula (a-1), and alkyls of the tetracarboxylic acids. Esters are mentioned. As the compound giving the structural unit (A-1), a compound represented by formula (a-1) (that is, a dianhydride) is preferable.

테트라카르본산성분은, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물을, 바람직하게는 50몰% 이상 포함하고, 보다 바람직하게는 70몰% 이상 포함하고, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상 포함하고, 특히 바람직하게는 99몰% 이상 포함한다. 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물의 함유량의 상한값은 특별히 한정되지 않고, 즉, 100몰%이다. 테트라카르본산성분은 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물만으로 이루어져 있을 수도 있다.The tetracarboxylic acid component contains preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and still more preferably 90 mol% or more of the compound that imparts the structural unit (A-1), , Particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the content of the compound giving the structural unit (A-1) is not particularly limited, that is, 100 mol%. The tetracarboxylic acid component may consist of only a compound which gives a structural unit (A-1).

테트라카르본산성분은, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 이외의 화합물을 포함할 수도 있고, 해당 화합물로는, 상기 서술한 방향족 테트라카르본산이무수물, 지환식 테트라카르본산이무수물, 및 지방족 테트라카르본산이무수물, 그리고 그들의 유도체(테트라카르본산, 테트라카르본산의 알킬에스테르 등)를 들 수 있다.The tetracarboxylic acid component may contain compounds other than the compound which imparts the structural unit (A-1), and as the compound, the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride described above, the alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, and Aliphatic tetracarboxylic dianhydride, and derivatives thereof (tetracarboxylic acid, alkyl ester of tetracarboxylic acid, etc.) are mentioned.

테트라카르본산성분에 임의로 포함되는 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 이외의 화합물은, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.The number of compounds other than the compound which imparts the structural unit (A-1) optionally contained in the tetracarboxylic acid component may be one, or may be two or more.

구성단위(B-1)를 부여하는 화합물로는, 식(b-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(b-1)로 표시되는 디아민에 대응하는 디이소시아네이트를 들 수 있다. 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물로는, 식(b-1)로 표시되는 화합물(즉, 디아민)이 바람직하다.Examples of the compound to impart the structural unit (B-1) include, but are not limited to, the compound represented by the formula (b-1), and may be a derivative thereof within the range to which the same structural unit is imparted. Examples of the derivatives include diisocyanates corresponding to diamines represented by formula (b-1). As the compound giving the structural unit (B-1), a compound represented by formula (b-1) (ie, diamine) is preferable.

구성단위(B-2)를 부여하는 화합물로는, 구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물, 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물, 및 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 이용한다.As the compound to which the structural unit (B-2) is provided, the compound to which the structural unit (B-2-1) is provided, the compound to which the structural unit (B-2-2) is provided, and the structural unit (B-2-1) At least one selected from the group consisting of compounds to impart 3) is used.

구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물, 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물, 및 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물로는, 각각, 식(b-2-1)로 표시되는 화합물, 식(b-2-2)로 표시되는 화합물, 및 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것들로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그들의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(b-2-1)로 표시되는 화합물로 표시되는 디아민에 대응하는 디이소시아네이트, 식(b-2-2)로 표시되는 화합물로 표시되는 디아민에 대응하는 디이소시아네이트, 및 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물로 표시되는 디아민에 대응하는 디이소시아네이트를 들 수 있다. 구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물, 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물, 및 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물로는, 각각, 식(b-2-1)로 표시되는 화합물(즉, 디아민), 식(b-2-2)로 표시되는 화합물(즉, 디아민), 및 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물(즉, 디아민)이 바람직하다. As the compound giving the structural unit (B-2-1), the compound giving the structural unit (B-2-2), and the compound giving the structural unit (B-2-3), the formula (b The compound represented by -2-1), the compound represented by the formula (b-2-2), and the compound represented by the formula (b-2-3) are exemplified, but are not limited thereto, and the same structural unit It may be a derivative thereof within the range of giving. As the derivative, diisocyanate corresponding to diamine represented by the compound represented by formula (b-2-1), diisocyanate corresponding to diamine represented by the compound represented by formula (b-2-2), and Diisocyanate corresponding to the diamine represented by the compound represented by formula (b-2-3) is mentioned. As the compound giving the structural unit (B-2-1), the compound giving the structural unit (B-2-2), and the compound giving the structural unit (B-2-3), the formula (b The compound represented by -2-1) (i.e., diamine), the compound represented by formula (b-2-2) (i.e., diamine), and the compound represented by formula (b-2-3) (i.e., diamine ) Is preferred.

구성단위(B-2)를 부여하는 화합물로서, 구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물만을 이용할 수도 있고, 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물만을 이용할 수도 있고, 또는 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물만을 이용할 수도 있다.As the compound to which the structural unit (B-2) is provided, only the compound to which the structural unit (B-2-1) is provided may be used, or only the compound to which the structural unit (B-2-2) is provided, or Only the compound which gives the structural unit (B-2-3) can also be used.

또한, 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물로서, 구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물과 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물의 조합을 이용할 수도 있고, 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물과 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물의 조합을 이용할 수도 있고, 또는 구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물과 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물의 조합을 이용할 수도 있다.In addition, as the compound to give the structural unit (B-2), a combination of the compound to give the structural unit (B-2-1) and the compound to give the structural unit (B-2-2) may be used. A combination of the compound giving the unit (B-2-2) and the compound giving the structural unit (B-2-3) may be used, or the compound and the structural unit giving the structural unit (B-2-1) A combination of the compound giving (B-2-3) can also be used.

또한, 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물로서, 구성단위(B-2-1)를 부여하는 화합물과 구성단위(B-2-2)를 부여하는 화합물과 구성단위(B-2-3)를 부여하는 화합물의 조합을 이용할 수도 있다.In addition, as a compound giving the structural unit (B-2), the compound giving the structural unit (B-2-1), the compound giving the structural unit (B-2-2), and the structural unit (B-2- It is also possible to use a combination of compounds to give 3).

디아민성분은, 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물을, 바람직하게는 10~50몰% 포함하고, 보다 바람직하게는 10~40몰% 포함하고, 더욱 바람직하게는 15~30몰% 포함하고, 특히 바람직하게는 15~25몰% 포함한다.The diamine component contains a compound that imparts the structural unit (B-1), preferably 10 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, and still more preferably 15 to 30 mol% And particularly preferably 15 to 25 mol%.

디아민성분은, 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물을, 바람직하게는 50~90몰% 포함하고, 보다 바람직하게는 60~90몰% 포함하고, 더욱 바람직하게는 70~85몰% 포함하고, 특히 바람직하게는 75~85몰% 포함한다.The diamine component contains a compound that imparts the structural unit (B-2), preferably 50 to 90 mol%, more preferably 60 to 90 mol%, and even more preferably 70 to 85 mol% And particularly preferably 75 to 85 mol%.

디아민성분은, 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물을 합계로, 바람직하게는 50몰% 이상 포함하고, 보다 바람직하게는 70몰% 이상 포함하고, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상 포함하고, 특히 바람직하게는 99몰% 이상 포함한다. 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물의 합계의 함유량의 상한값은 특별히 한정되지 않고, 즉, 100몰%이다. 디아민성분은 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물과 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물만으로 이루어져 있을 수도 있다.The diamine component, in total, preferably contains 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, in total, of the compound giving the constituent unit (B-1) and the compound giving the constituent unit (B-2) And more preferably 90 mol% or more, and particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the total content of the compound giving the structural unit (B-1) and the compound giving the structural unit (B-2) is not particularly limited, that is, 100 mol%. The diamine component may consist of only the compound which gives the structural unit (B-1) and the compound which gives the structural unit (B-2).

디아민성분은 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물 이외의 화합물을 포함할 수도 있고, 해당 화합물로는, 상기 서술한 방향족 디아민, 지환식 디아민, 및 지방족 디아민, 그리고 그들의 유도체(디이소시아네이트 등)를 들 수 있다.The diamine component may contain a compound other than the compound giving the structural unit (B-1) and the compound giving the structural unit (B-2), and examples of the compound include the above-described aromatic diamine, alicyclic diamine, And aliphatic diamines, and derivatives thereof (diisocyanate, etc.).

디아민성분에 임의로 포함되는 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물 이외의 화합물은, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.The number of compounds other than the compound which imparts the structural unit (B-1) optionally contained in the diamine component and the compound which imparts the structural unit (B-2) may be one or two or more.

본 발명에 있어서, 폴리이미드 수지의 제조에 이용하는 테트라카르본산성분과 디아민성분의 투입량비는, 테트라카르본산성분 1몰에 대해 디아민성분이 0.9~1.1몰인 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the amount ratio of the tetracarboxylic acid component and the diamine component used in the production of the polyimide resin is 0.9 to 1.1 moles of the diamine component per 1 mole of the tetracarboxylic acid component.

또한, 본 발명에 있어서, 폴리이미드 수지의 제조에는, 상기 서술한 테트라카르본산성분 및 디아민성분 이외에, 말단봉지제를 이용할 수도 있다. 말단봉지제로는 모노아민류 혹은 디카르본산류가 바람직하다. 도입되는 말단봉지제의 투입량으로는, 테트라카르본산성분 1몰에 대해 0.0001~0.1몰이 바람직하고, 특히 0.001~0.06몰이 바람직하다. 모노아민류 말단봉지제로는, 예를 들어, 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 벤질아민, 4-메틸벤질아민, 4-에틸벤질아민, 4-도데실벤질아민, 3-메틸벤질아민, 3-에틸벤질아민, 아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린 등이 추장된다. 이들 중, 벤질아민, 아닐린을 호적하게 사용할 수 있다. 디카르본산류 말단봉지제로는, 디카르본산류가 바람직하고, 그의 일부를 폐환하고 있을 수도 있다. 예를 들어, 프탈산, 무수프탈산, 4-클로로프탈산, 테트라플루오로프탈산, 2,3-벤조페논디카르본산, 3,4-벤조페논디카르본산, 시클로헥산-1,2-디카르본산, 시클로펜탄-1,2-디카르본산, 4-시클로헥센-1,2-디카르본산 등이 추장된다. 이들 중, 프탈산, 무수프탈산을 호적하게 사용할 수 있다.In addition, in the present invention, in the production of the polyimide resin, in addition to the above-described tetracarboxylic acid component and diamine component, an end-sealing agent can also be used. As the terminal sealing agent, monoamines or dicarboxylic acids are preferable. The amount of the terminal sealing agent to be introduced is preferably 0.0001 to 0.1 mol, and particularly preferably 0.001 to 0.06 mol, per 1 mol of the tetracarboxylic acid component. Examples of monoamine end caps include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, benzylamine, 4-methylbenzylamine, 4-ethylbenzylamine, 4-dodecylbenzylamine, and 3-methylbenzylamine , 3-ethylbenzylamine, aniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, etc. are recommended. Among these, benzylamine and aniline can be used suitably. As the dicarboxylic acid terminal sealing agent, dicarboxylic acids are preferable, and a part thereof may be closed ring. For example, phthalic acid, phthalic anhydride, 4-chlorophthalic acid, tetrafluorophthalic acid, 2,3-benzophenone dicarboxylic acid, 3,4-benzophenone dicarboxylic acid, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid, Cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, and the like are recommended. Among these, phthalic acid and phthalic anhydride can be suitably used.

상기 서술한 테트라카르본산성분과 디아민성분을 반응시키는 방법에는 특별히 제한은 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다.There is no restriction|limiting in particular in the method of making the above-mentioned tetracarboxylic acid component and a diamine component react, A well-known method can be used.

구체적인 반응방법으로는, (1)테트라카르본산성분, 디아민성분, 및 반응용제를 반응기에 투입하고, 실온~80℃에서 0.5~30시간 교반하고, 그 후에 승온하여 이미드화반응을 행하는 방법, (2)디아민성분 및 반응용제를 반응기에 투입하여 용해시킨 후, 테트라카르본산성분을 투입하고, 필요에 따라 실온~80℃에서 0.5~30시간 교반하고, 그 후에 승온하여 이미드화반응을 행하는 방법, (3)테트라카르본산성분, 디아민성분, 및 반응용제를 반응기에 투입하고, 즉시 승온하여 이미드화반응을 행하는 방법 등을 들 수 있다.As a specific reaction method, (1) a tetracarboxylic acid component, a diamine component, and a reaction solvent are introduced into a reactor, stirred at room temperature to 80°C for 0.5 to 30 hours, and then heated to perform an imidation reaction, ( 2) After dissolving the diamine component and the reaction solvent in the reactor, the tetracarboxylic acid component is added and, if necessary, stirred at room temperature to 80° C. for 0.5 to 30 hours, and then heated to perform an imidation reaction, (3) A method of introducing a tetracarboxylic acid component, a diamine component, and a reaction solvent into a reactor and immediately raising the temperature to perform an imidation reaction, etc. are mentioned.

폴리이미드 수지의 제조에 이용되는 반응용제는, 이미드화반응을 저해하지 않고, 생성되는 폴리이미드를 용해할 수 있는 것이면 된다. 예를 들어, 비프로톤성 용제, 페놀계 용제, 에테르계 용제, 카보네이트계 용제 등을 들 수 있다.The reaction solvent used for production of the polyimide resin may be any one capable of dissolving the resulting polyimide without inhibiting the imidation reaction. For example, an aprotic solvent, a phenolic solvent, an ether solvent, a carbonate solvent, and the like can be mentioned.

비프로톤성 용제의 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 1,3-디메틸이미다졸리디논, 테트라메틸요소 등의 아미드계 용제, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용제, 헥사메틸포스포릭아미드, 헥사메틸포스핀트리아미드 등의 함인계 아미드계 용제, 디메틸설폰, 디메틸설폭사이드, 설포란 등의 함황계 용제, 아세톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 등의 케톤계 용제, 피콜린, 피리딘 등의 아민계 용제, 아세트산(2-메톡시-1-메틸에틸) 등의 에스테르계 용제 등을 들 수 있다.Specific examples of the aprotic solvent include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethylimidazoli Amide solvents such as dione and tetramethylurea, lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, phosphorus-containing amide solvents such as hexamethylphosphoricamide and hexamethylphosphinetriamide, dimethylsulfone , Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, ketone solvents such as acetone, cyclohexanone, and methylcyclohexanone, amine solvents such as picoline and pyridine, acetic acid (2-methoxy-1-methylethyl) ), and the like.

페놀계 용제의 구체예로는, 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,3-자일레놀, 2,4-자일레놀, 2,5-자일레놀, 2,6-자일레놀, 3,4-자일레놀, 3,5-자일레놀 등을 들 수 있다.Specific examples of the phenolic solvent include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6 -Xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, etc. are mentioned.

에테르계 용제의 구체예로는, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄, 비스〔2-(2-메톡시에톡시)에틸〕에테르, 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산 등을 들 수 있다.Specific examples of the ether solvent include 1,2-dimethoxyethane, bis(2-methoxyethyl)ether, 1,2-bis(2-methoxyethoxy)ethane, and bis[2-(2-methoxyethyl)ether. Oxyethoxy)ethyl] ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane.

또한, 카보네이트계 용제의 구체적인 예로는, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다.Further, specific examples of the carbonate-based solvent include diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

상기 반응용제 중에서도, 아미드계 용제 또는 락톤계 용제가 바람직하다. 또한, 상기의 반응용제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수도 있다.Among the above reaction solvents, an amide-based solvent or a lactone-based solvent is preferable. In addition, the above reaction solvents may be used alone or in combination of two or more.

이미드화반응에서는, 딘스타크장치 등을 이용하여, 제조시에 생성되는 물을 제거하면서 반응을 행하는 것이 바람직하다. 이러한 조작을 행함으로써, 중합도 및 이미드화율을 보다 상승시킬 수 있다.In the imidation reaction, it is preferable to carry out the reaction while removing water generated during production using a Dean Stark apparatus or the like. By performing such an operation, the degree of polymerization and the imidation rate can be further increased.

상기의 이미드화반응에 있어서는, 공지의 이미드화촉매를 이용할 수 있다. 이미드화촉매로는, 염기촉매 또는 산촉매를 들 수 있다.In the above imidization reaction, a known imidization catalyst can be used. Examples of the imidation catalyst include a base catalyst or an acid catalyst.

염기촉매로는, 피리딘, 퀴놀린, 이소퀴놀린, α-피콜린, β-피콜린, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리에틸렌디아민, 이미다졸, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린 등의 유기염기촉매, 수산화칼륨이나 수산화나트륨, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨 등의 무기염기촉매를 들 수 있다.As the base catalyst, pyridine, quinoline, isoquinoline, α-picoline, β-picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine , Triethylenediamine, imidazole, N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, and other organic base catalysts, and inorganic bases such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate Catalysts.

또한, 산촉매로는, 크로톤산, 아크릴산, 트랜스-3-헥세노익산, 계피산, 안식향산, 메틸안식향산, 옥시안식향산, 테레프탈산, 벤젠설폰산, 파라톨루엔설폰산, 나프탈렌설폰산 등을 들 수 있다. 상기의 이미드화촉매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Further, examples of the acid catalyst include crotonic acid, acrylic acid, trans-3-hexenoic acid, cinnamic acid, benzoic acid, methylbenzoic acid, oxyanic acid, terephthalic acid, benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and the like. The imidation catalyst described above may be used alone or in combination of two or more.

상기 중, 취급성의 관점으로부터, 염기촉매를 이용하는 것이 바람직하고, 유기염기촉매를 이용하는 것이 보다 바람직하고, 트리에틸아민을 이용하는 것이 더욱 바람직하고, 트리에틸아민과 트리에틸렌디아민을 조합하여 이용하는 것이 특히 바람직하다.Among the above, from the viewpoint of handling properties, it is preferable to use a base catalyst, more preferably an organic base catalyst, even more preferably triethylamine, and particularly preferably in combination with triethylamine and triethylenediamine. Do.

이미드화반응의 온도는, 반응률 및 겔화 등의 억제의 관점으로부터, 바람직하게는 120~250℃, 보다 바람직하게는 160~200℃이다. 또한, 반응시간은, 생성수의 유출(留出) 개시 후, 바람직하게는 0.5~10시간이다.The temperature of the imidation reaction is preferably 120 to 250°C, more preferably 160 to 200°C, from the viewpoint of the reaction rate and suppression of gelation and the like. In addition, the reaction time is preferably 0.5 to 10 hours after the start of outflow of the generated water.

[폴리이미드바니시][Polyimide Varnish]

본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드 수지가 유기용매에 용해되어 이루어지는 것이다. 즉, 본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드 수지 및 유기용매를 포함하며, 해당 폴리이미드 수지는 해당 유기용매에 용해되어 있다.The polyimide varnish of the present invention is obtained by dissolving the polyimide resin of the present invention in an organic solvent. That is, the polyimide varnish of the present invention contains the polyimide resin and an organic solvent of the present invention, and the polyimide resin is dissolved in the organic solvent.

유기용매는 폴리이미드 수지가 용해되는 것이면 되고, 특별히 한정되지 않으나, 폴리이미드 수지의 제조에 이용되는 반응용제로서 상기 서술한 화합물을, 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다.The organic solvent is not particularly limited as long as the polyimide resin is dissolved, but it is preferable to use the above-described compounds alone or in combination of two or more as the reaction solvent used in the production of the polyimide resin.

본 발명의 폴리이미드바니시는, 중합법에 의해 얻어지는 폴리이미드 수지가 반응용제에 용해된 폴리이미드용액 자체일 수도 있고, 또는 해당 폴리이미드용액에 대해 추가로 희석용제를 추가한 것일 수도 있다.The polyimide varnish of the present invention may be a polyimide solution itself in which a polyimide resin obtained by a polymerization method is dissolved in a reaction solvent, or a diluent solvent may be added to the polyimide solution.

본 발명의 폴리이미드 수지는 용매용해성을 갖고 있으므로, 실온에서 안정된 고농도의 바니시로 할 수 있다. 본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드 수지를 5~40질량% 포함하는 것이 바람직하고, 10~30질량% 포함하는 것이 보다 바람직하다. 폴리이미드바니시의 점도는 1~200Pa·s가 바람직하고, 5~150Pa·s가 보다 바람직하다. 폴리이미드바니시의 점도는, E형 점도계를 이용하여 25℃에서 측정된 값이다.Since the polyimide resin of the present invention has solvent solubility, it can be obtained as a varnish of high concentration stable at room temperature. The polyimide varnish of the present invention preferably contains 5 to 40 mass% of the polyimide resin of the present invention, and more preferably contains 10 to 30 mass%. The viscosity of the polyimide varnish is preferably 1 to 200 Pa·s, more preferably 5 to 150 Pa·s. The viscosity of the polyimide varnish is a value measured at 25°C using an E-type viscometer.

또한, 본 발명의 폴리이미드바니시는, 폴리이미드필름의 요구특성을 손상시키지 않는 범위에서, 무기필러, 접착촉진제, 박리제, 난연제, 자외선흡수제, 계면활성제, 레벨링제, 소포제, 형광증백제, 가교제, 중합개시제, 감광제 등 각종 첨가제를 포함할 수도 있다. 즉, 본 발명의 폴리이미드 수지는, 필요에 따라 상기의 첨가제를 첨가한 수지 조성물로서 구성되어 있을 수도 있다.In addition, the polyimide varnish of the present invention is an inorganic filler, an adhesion promoter, a release agent, a flame retardant, an ultraviolet absorber, a surfactant, a leveling agent, an antifoaming agent, an optical brightening agent, a crosslinking agent, and within the range not impairing the required properties of the polyimide film. It may also contain various additives such as a polymerization initiator and a photosensitizer. That is, the polyimide resin of the present invention may be configured as a resin composition to which the above additives are added, if necessary.

본 발명의 폴리이미드바니시의 제조방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 적용할 수 있다. The method for producing the polyimide varnish of the present invention is not particularly limited, and a known method can be applied.

상기 첨가제로서 예시한 자외선흡수제는, 임의의 적절한 자외선흡수제를 채용할 수 있다. 그 구체예로는, 벤조트리아졸계 자외선흡수제, 벤조페논계 자외선흡수제, 벤조에이트계 자외선흡수제, 트리아진계 자외선흡수제, 힌더드아민계 자외선흡수제, 무기입자계 자외선흡수제, 그 밖에, 옥살산아닐리드계 자외선흡수제나 말론산에스테르계 자외선흡수제 등의 유기계 자외선흡수제를 들 수 있다. 자외선흡수제는 1종만 이용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다. 이 중에서도, 벤조트리아졸계 자외선흡수제 및 트리아진계 자외선흡수제가 바람직하고, 벤조트리아졸계 자외선흡수제가 보다 바람직하다.As the ultraviolet absorber exemplified as the additive, any suitable ultraviolet absorber may be employed. Specific examples thereof include benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, benzoate-based ultraviolet absorbers, triazine-based ultraviolet absorbers, hindered amine-based ultraviolet absorbers, inorganic particles-based ultraviolet absorbers, and other, analylide oxalate-based ultraviolet absorbers. And organic ultraviolet absorbers such as xena malonic acid ester ultraviolet absorbers. Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used in combination. Among these, a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a triazine-based ultraviolet absorber are preferable, and a benzotriazole-based ultraviolet absorber is more preferable.

수지 조성물에 있어서의 자외선흡수제의 첨가량은, 본 발명의 폴리이미드 수지 100질량부에 대해 바람직하게는, 0.01~6질량부, 보다 바람직하게는 0.1~5질량부, 더욱 바람직하게는 0.5~4질량부이다. 자외선흡수제의 양이 많으면, 광학특성이나 내열성 등의 폴리이미드 수지의 특성이 저하되거나, 필름에 헤이즈가 발생하거나 하는 경우가 있다.The amount of the ultraviolet absorber to be added in the resin composition is preferably 0.01 to 6 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and still more preferably 0.5 to 4 parts by mass per 100 parts by mass of the polyimide resin of the present invention. It is wealth. When the amount of the ultraviolet absorber is large, properties of the polyimide resin such as optical properties and heat resistance may be deteriorated, or haze may occur in the film.

본 발명에 있어서, 자외선흡수제는, 수지 조성물 중에 있어서 자외선흡수제의 효과를 달성할 수 있는 것이다. 따라서, 자외선흡수제로서 첨가한 화합물이 그대로의 구조로 수지 조성물 중에 존재해 있을 수도 있고, 혹은 해당 화합물이, 가열처리에 의해, 자외선흡수의 효과를 여전히 갖는 변성물로 변성되어 있을 수도 있다. 또한, 자외선흡수제는, 수지 조성물 중에서 본 발명의 폴리이미드 수지와 균일하게 혼합되어 있는 것이 바람직하다.In the present invention, the ultraviolet absorber can achieve the effect of the ultraviolet absorber in the resin composition. Accordingly, the compound added as the ultraviolet absorber may be present in the resin composition in the same structure, or the compound may be modified by heat treatment into a modified product that still has an effect of absorbing ultraviolet rays. In addition, it is preferable that the ultraviolet absorber is uniformly mixed with the polyimide resin of the present invention in the resin composition.

[폴리이미드필름][Polyimide Film]

본 발명의 폴리이미드필름은, 본 발명의 폴리이미드 수지를 포함한다. 따라서, 본 발명의 폴리이미드필름은, 무색투명성 및 광학적 등방성이 우수하고, 또한 탄성률이 낮다. 본 발명의 폴리이미드필름이 갖는 호적한 물성값은 상기 서술한 바와 같다.The polyimide film of the present invention contains the polyimide resin of the present invention. Therefore, the polyimide film of the present invention is excellent in colorless transparency and optical isotropy, and has a low elastic modulus. The suitable physical property values of the polyimide film of the present invention are as described above.

본 발명의 폴리이미드필름의 제조방법에는 특별히 제한은 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 폴리이미드바니시를, 유리판, 금속판, 플라스틱 등의 평활한 지지체 상에 도포, 또는 필름상으로 성형한 후, 이 바니시 중에 포함되는 반응용제나 희석용제 등의 유기용매를 가열에 의해 제거하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 지지체의 표면에는, 필요에 따라, 미리 이형제를 도포해 둘 수도 있다.The method for producing the polyimide film of the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. For example, after applying the polyimide varnish of the present invention onto a smooth support such as a glass plate, a metal plate, or plastic, or forming a film, an organic solvent such as a reaction solvent or a diluting solvent contained in the varnish is heated. A method of removing by, etc. are mentioned. If necessary, a release agent may be previously applied to the surface of the support.

바니시 중에 포함되는 유기용매를 가열에 의해 제거하는 방법으로는, 이하의 방법이 바람직하다. 즉, 120℃ 이하의 온도에서 유기용매를 증발시켜 자기지지성 필름으로 한 후, 이 자기지지성 필름을 지지체로부터 박리하고, 이 자기지지성 필름의 단부를 고정하고, 이용한 유기용매의 비점 이상의 온도에서 건조하여 폴리이미드필름을 제조하는 것이 바람직하다. 또한, 질소분위기하에서 건조하는 것이 바람직하다. 건조분위기의 압력은, 감압, 상압, 가압 중 어느 것이어도 된다. 자기지지성 필름을 건조하여 폴리이미드필름을 제조할 때의 가열온도는, 특별히 한정되지 않으나, 200~400℃가 바람직하다.As a method of removing the organic solvent contained in the varnish by heating, the following method is preferable. That is, after evaporating the organic solvent at a temperature of 120°C or less to form a self-supporting film, the self-supporting film is peeled from the support, the end of the self-supporting film is fixed, and the temperature is above the boiling point of the used organic solvent It is preferable to dry in to prepare a polyimide film. In addition, it is preferable to dry it in a nitrogen atmosphere. The pressure in the dry atmosphere may be any of reduced pressure, normal pressure, and pressure. The heating temperature when drying the self-supporting film to prepare a polyimide film is not particularly limited, but is preferably 200 to 400°C.

본 발명의 폴리이미드필름의 두께는 용도 등에 따라 적당히 선택할 수 있는데, 바람직하게는 1~250μm, 보다 바람직하게는 5~100μm, 더욱 바람직하게는 10~80μm의 범위이다. 두께가 1~250μm임에 따라, 자립막으로서의 실용적인 사용이 가능해진다.The thickness of the polyimide film of the present invention can be appropriately selected depending on the application, etc., preferably in the range of 1 to 250 μm, more preferably 5 to 100 μm, and still more preferably 10 to 80 μm. As the thickness is 1 to 250 μm, practical use as a self-supporting film becomes possible.

폴리이미드필름의 두께는, 폴리이미드바니시의 고형분농도나 점도를 조정함으로써, 용이하게 제어할 수 있다.The thickness of the polyimide film can be easily controlled by adjusting the solid content concentration or viscosity of the polyimide varnish.

본 발명의 폴리이미드필름은, 컬러필터, 플렉서블디스플레이, 반도체부품, 광학부재 등의 각종 부재용의 필름으로서 호적하게 이용된다. 본 발명의 폴리이미드필름은, 액정디스플레이나 OLED디스플레이 등의 화상표시장치의 기판으로서, 특히 호적하게 이용된다.The polyimide film of the present invention is suitably used as a film for various members such as color filters, flexible displays, semiconductor parts, and optical members. The polyimide film of the present invention is particularly suitably used as a substrate for an image display device such as a liquid crystal display or an OLED display.

실시예Example

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예에 의해 전혀 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited at all by these Examples.

실시예 및 비교예에서 얻은 폴리이미드바니시의 고형분농도 및 폴리이미드필름의 각 물성은 이하에 나타내는 방법에 의해 측정하였다.The solid content concentration of the polyimide varnish obtained in Examples and Comparative Examples and the respective physical properties of the polyimide film were measured by the methods shown below.

(1) 고형분농도(1) solid content concentration

고형분농도는, 애즈원주식회사제의 소형전기로 「MMF-1」로 시료를 320℃×120min로 가열하여, 가열 전후의 시료의 질량차로부터 산출하였다.The solid content concentration was calculated from the mass difference of the sample before and after heating by heating the sample at 320° C. x 120 min with a small electric furnace "MMF-1" manufactured by Asone Corporation.

(2) 필름두께(2) film thickness

필름두께는, 주식회사미쓰토요제의 마이크로미터를 이용하여 측정하였다.The film thickness was measured using a micrometer manufactured by Mitutoyo Corporation.

(3) 인장탄성률, 인장강도(3) Tensile modulus, tensile strength

인장탄성률 및 인장강도는, JIS K7127에 준거하고, 동양정기주식회사제의 인장시험기 「스트로그래프VG-1E」를 이용하여 측정하였다.Tensile modulus and tensile strength were measured in accordance with JIS K7127, using a tensile tester "Strograph VG-1E" manufactured by Dongyang Seiki Co., Ltd.

(4) 전광선투과율, 옐로우인덱스(YI), 헤이즈(4) Total light transmittance, yellow index (YI), haze

전광선투과율, YI 및 헤이즈는, 일본전색공업주식회사제의 색채·탁도동시측정기 「COH400」을 이용하여 측정하였다. 전광선투과율 및 YI의 측정은 JIS K7361-1: 1997에 준거하고, 헤이즈의 측정은 JIS K7136: 2000에 준거하였다.The total light transmittance, YI, and haze were measured using a color and turbidity simultaneous measuring instrument "COH400" manufactured by Nippon Electric Co., Ltd. The measurement of the total light transmittance and YI was based on JIS K7361-1:1997, and the measurement of haze was based on JIS K7136:2000.

(5) 두께위상차(Rth)(5) Thickness phase difference (Rth)

두께위상차(Rth)는, 일본분광주식회사제의 엘립소미터 「M-220」을 이용하여 측정하였다. 측정파장 550nm에 있어서의, 두께위상차의 값을 측정하였다. 한편 Rth는, 폴리이미드필름의 면내의 굴절률 중 최대인 것을 nx, 최소인 것을 ny로 하고, 두께방향의 굴절률을 nz로 하고, 필름의 두께를 d로 했을 때, 하기 식으로 표시되는 것이다.The thickness phase difference (Rth) was measured using an ellipsometer "M-220" manufactured by Japan Spectroscopic Co., Ltd. The value of the thickness phase difference at a measurement wavelength of 550 nm was measured. On the other hand, Rth is expressed by the following formula when the largest in-plane refractive index of the polyimide film is nx, the minimum is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d.

Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×dRth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d

(6) 유리전이온도(Tg)(6) Glass transition temperature (Tg)

주식회사히타치하이테크사이언스제의 열기계적 분석장치 「TMA/SS6100」을 이용하여, 인장모드로 시료사이즈 2mm×20mm, 하중 0.1N, 승온속도 10℃/min의 조건으로, 잔류응력을 제거하기에 충분한 온도까지 승온하여 잔류응력을 제거하고, 그 후 실온까지 냉각하였다. 그 후, 상기 잔류응력을 제거하기 위한 처리와 동일한 조건으로 시험편 신장의 측정을 행하고, 신장의 변곡점이 보인 곳을 유리전이온도로서 구하였다.Using the thermomechanical analysis device "TMA/SS6100" made by Hitachi Hi-Tech Science, in tension mode, the sample size is 2 mm × 20 mm, the load is 0.1 N, and the temperature rise rate is 10°C/min. Temperature sufficient to remove residual stress. The temperature was raised to remove residual stress, and then cooled to room temperature. Thereafter, the elongation of the test piece was measured under the same conditions as the treatment for removing the residual stress, and the place where the inflection point of the elongation was seen was determined as the glass transition temperature.

실시예 및 비교예에서 사용한 테트라카르본산성분 및 디아민성분, 그리고 그 약호는 이하와 같다.The tetracarboxylic acid component and diamine component used in Examples and Comparative Examples, and their abbreviations are as follows.

<테트라카르본산성분><Tetracarboxylic acid component>

HPMDA: 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산이무수물(미쯔비시가스화학주식회사제; 식(a-1)로 표시되는 화합물)HPMDA: 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.; compound represented by formula (a-1))

<디아민성분><Diamine component>

X-22-9409: 양말단아미노변성실리콘오일 「X-22-9409」(신에쓰화학공업주식회사제; 식(b-1)로 표시되는 화합물)X-22-9409: Both-end amino-modified silicone oil "X-22-9409" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.; compound represented by formula (b-1))

HFBAPP: 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕헥사플루오로프로판(세이카주식회사제; 식(b-2-1)로 표시되는 화합물)HFBAPP: 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] hexafluoropropane (manufactured by Seika Corporation; compound represented by formula (b-2-1))

BAPP: 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로판(세이카주식회사제; 식(b-2-2)로 표시되는 화합물)BAPP: 2,2-bis [4-(4-aminophenoxy) phenyl] propane (manufactured by Seika Corporation; compound represented by formula (b-2-2))

TMDA: 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민(일본순량약품주식회사제; 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물)TMDA: 1-(4-aminophenyl)-2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden-5-amine (manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd.; represented by formula (b-2-3) Compound)

BAPS: 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰(세이카주식회사제)BAPS: Bis [4-(4-aminophenoxy) phenyl] sulfone (made by Seika Corporation)

<실시예 1><Example 1>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 0.3L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, HFBAPP를 29.034g(0.056몰), X-22-9409를 18.76g(0.014몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 50g, 및 촉매로서 트리에틸렌디아민(동경화성공업주식회사제)을 0.039g, 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 3.54g, 질소분위기하, 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 15.692g(0.070몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 13.5g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계내온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 200℃로 3시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 78.76g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 0.3L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen introduction pipe, cooling pipe, thermometer, and glass end cap, HFBAPP is 29.034g (0.056mol), X-22- 18.76 g (0.014 mol) of 9409, 50 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), 0.039 g of triethylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 3.54g, under nitrogen atmosphere, stirred at 200rpm to obtain a solution. To this solution, 15.692 g (0.070 mol) of HPMDA and 13.5 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 20 minutes. It was raised to 200°C. The distilled component was collected, and the temperature inside the reaction system was maintained at 200°C for 3 hours. After 78.76 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 230℃에서 질소분위기하, 2시간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 30μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 2 hours in a nitrogen atmosphere at 230°C to obtain a film having a thickness of 30 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 2><Example 2>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 0.5L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, BAPP를 65.683g(0.160몰), X-22-9409를 53.600g(0.040몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 200g, 및 촉매로서, 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 10.12g, 질소분위기하, 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 144.834g(0.200몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 46.2g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계내온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 200℃로 5시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 120.0g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 0.5L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen inlet pipe, cooling pipe, thermometer, and glass end cap, 65.683g (0.160 mole) of BAPP, X-22- 9409 was 53.600 g (0.040 mol), γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 200 g, and triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a catalyst, 10.12 g, and stirred at 200 rpm under a nitrogen atmosphere to prepare a solution. Got it. To this solution, 144.834 g (0.200 mol) of HPMDA and 46.2 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, respectively, then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 20 minutes. It was raised to 200°C. The distilled components were collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 5 hours. After 120.0 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added, the mixture was stirred at about 100° C. for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 230℃에서 질소분위기하, 2시간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 30μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 2 hours in a nitrogen atmosphere at 230°C to obtain a film having a thickness of 30 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 3><Example 3>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 0.5L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, TMDA를 14.906g(0.056몰), X-22-9409를 18.76g(0.014몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 30g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민(동경화성공업주식회사제)을 0.031g, 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 3.54g, 질소분위기하, 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 15.692g(0.070몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 10.4g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계내온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 200℃에서 2.5시간 유지한 상태에서 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 10.91g 첨가하고, 다시 50분 교반을 계속하였다. 그 후 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 10.7g 첨가하고, 75분 교반을 계속하였다. 그 후, γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 13.9g 첨가하고, 4시간 교반을 계속하였다. 마지막으로 N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 35.24g 첨가하고, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 0.5L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen inlet pipe, cooling pipe, thermometer, and glass end cap, TMDA was 14.906g (0.056 mole), X-22- 18.76 g (0.014 mol) of 9409, 30 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), and 0.031 g of triethylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) Was stirred at 3.54g, nitrogen atmosphere, 200rpm to obtain a solution. To this solution, 15.692 g (0.070 mol) of HPMDA and 10.4 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 20 minutes. It was raised to 200°C. The distilled component was collected, and 10.91 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) was added while maintaining the temperature in the reaction system at 200°C for 2.5 hours, and stirring was continued for 50 minutes. After that, 10.7 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added, and stirring was continued for 75 minutes. Then, 13.9 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added, and stirring was continued for 4 hours. Finally, 35.24 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added, followed by stirring at around 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 230℃에서 질소분위기하, 2시간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 24μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 2 hours in a nitrogen atmosphere at 230°C to obtain a film having a thickness of 24 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 4><Example 4>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 3.0L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, HFBAPP를 355.41g(0.684몰), X-22-9409를 295.347g(0.216몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 500g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민(동경화성공업주식회사제)을 0.501g, 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 45.54g, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 201.96g(0.900몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 192.0g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 50분에 걸쳐 반응계내온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 200℃에서 3.75시간 유지하였다. 마지막으로 N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 1205.9g 첨가하고, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 3.0L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen inlet pipe, cooling pipe, thermometer and glass end cap, HFBAPP is 355.41g (0.684 mole), X-22- 295.347 g (0.216 mol) of 9409, 500 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), and 0.501 g of triethylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) The mixture was stirred at 45.54 g and 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 201.96 g (0.900 mol) of HPMDA and 192.0 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, respectively, then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 50 minutes. It was raised to 200°C. The distilled components were collected, and the temperature inside the reaction system was maintained at 200°C for 3.75 hours. Finally, 1205.9 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added, followed by stirring at around 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 190℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 38μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying at 190° C. for 20 minutes in an air atmosphere to obtain a film having a thickness of 38 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 5><Example 5>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 0.3L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, HFBAPP를 28.708g(0.055몰), X-22-9409를 12.870g(0.010몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 44.9g, 및 촉매로서 트리에틸렌디아민(동경화성공업주식회사제)을 0.036g, 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 3.29g, 질소분위기하, 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 14.586g(0.065몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 11.2g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계내온도를 180℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 180℃로 4시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 69.3g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 0.3L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen introduction pipe, cooling pipe, thermometer, and glass end cap, HFBAPP is 28.708g (0.055 mole), X-22- 12.870 g (0.010 mol) of 9409, 44.9 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), and 0.036 g of triethylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) Was stirred at 3.29 g and 200 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 14.586 g (0.065 mol) of HPMDA and 11.2 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 20 minutes. It was raised to 180°C. The distilled components were collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 180°C for 4 hours. After 69.3 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 240℃에서 공기분위기하, 10분 건조한 후, 250℃ 공기분위기하, 10분 추가로 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 36μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, dried at 240° C. for 10 minutes, and then dried for 10 minutes at 250° C. to remove the solvent to obtain a film having a thickness of 36 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 6><Example 6>

실시예 1과 동일한 방법으로 얻어진 폴리이미드바니시에, 자외선흡수제로서 Tinuvin234(BASF재팬주식회사제, 벤조트리아졸계 자외선흡수제)를 폴리이미드 수지 100질량부에 대해 0.5질량부 첨가한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 수법으로 두께 33μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Example 1 to the polyimide varnish obtained in the same manner as in Example 1, except that 0.5 parts by mass of Tinuvin234 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd., a benzotriazole-based ultraviolet absorber) as an ultraviolet absorber was added to 100 parts by mass of the polyimide resin. A film having a thickness of 33 μm was obtained by the same method as described above. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 7><Example 7>

실시예 1과 동일한 방법으로 얻어진 폴리이미드바니시에, 자외선흡수제로서 Tinuvin234(BASF재팬주식회사제, 벤조트리아졸계 자외선흡수제)를 폴리이미드 수지 100질량부에 대해 4.0질량부 첨가한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 수법으로 두께 25μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Example 1 to the polyimide varnish obtained in the same manner as in Example 1, except that 4.0 parts by mass of Tinuvin234 (manufactured by BASF Japan Corporation, a benzotriazole-based ultraviolet absorber) as an ultraviolet absorber was added to 100 parts by mass of the polyimide resin. A film having a thickness of 25 μm was obtained by the same method as described above. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 1><Comparative Example 1>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 0.3L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, HFBAPP를 41.477g(0.080몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 70g, 및 촉매로서, 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 0.405g, 질소분위기하, 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 17.952g(0.080몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 19.1g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계내온도를 180℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 180℃에서 4시간 유지한 상태에서 N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 89.12g 첨가하고, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 0.3L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen inlet pipe, cooling pipe, thermometer, and glass end cap, HFBAPP was 41.477g (0.080 mole), γ-butyro. 70 g of lactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and 0.405 g of triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Corporation) as a catalyst, were stirred at 200 rpm in a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 17.952 g (0.080 mol) of HPMDA and 19.1 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 20 minutes. It was raised to 180°C. The distilled component was collected, and 89.12 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added while maintaining the temperature in the reaction system at 180° C. for 4 hours, followed by stirring at around 100° C. for about 1 hour. A uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass was obtained.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 230℃에서 질소분위기하, 2시간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 35μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다. 한편, 이 폴리이미드필름에 대해서는, Tg는 측정하지 않았다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame and dried at 230° C. under nitrogen atmosphere for 2 hours to remove the solvent to obtain a film having a thickness of 35 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film. On the other hand, about this polyimide film, Tg was not measured.

<비교예 2><Comparative Example 2>

스테인리스제 반달형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크, 온도계, 유리제 엔드캡을 구비한 0.3L의 5개구 유리제 둥근바닥플라스크 중에서, BAPS를 20.76g(0.048몰), X-22-9409를 16.408g(0.012몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 32g, 및 촉매로서 트리에틸아민(관동화학주식회사제)을 3.04g, 질소분위기하, 200rpm으로 교반하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 13.450g(0.060몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 18g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계내온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계내온도를 200℃로 3.5시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)를 62.0g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.In a 0.3L five-hole glass round bottom flask equipped with stainless steel half-moon stirring blades, nitrogen introduction pipe, cooling pipe, thermometer, and glass end cap, BAPS is 20.76g (0.048 mole), X-22- 16.408 g (0.012 mol) of 9409, 32 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), and 3.04 g of triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a catalyst, were stirred at 200 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. . To this solution, 13.450 g (0.060 mol) of HPMDA and 18 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were added in batches, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased to 200 over about 20 minutes. Raised to ℃. The distilled components were collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 3.5 hours. After 62.0 g of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 30분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 일차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 230℃에서 질소분위기하, 2시간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 46μm의 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 FT-IR분석에 의해 원료피크의 소실 및 이미드골격에서 유래하는 피크의 출현을 확인하였다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 30 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-support. Again, this film was fixed to a stainless steel frame and dried at 230° C. in a nitrogen atmosphere for 2 hours to remove the solvent to obtain a film having a thickness of 46 μm. The disappearance of the raw material peak and the appearance of the peak derived from the imide skeleton were confirmed by FT-IR analysis of the obtained film. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

[표 1][Table 1]

Figure pct00005
Figure pct00005

표 1에 나타나는 바와 같이, 실시예 1~7의 필름은, 무색투명성 및 광학적 등방성이 우수하고, 또한 탄성률이 낮았다.As shown in Table 1, the films of Examples 1 to 7 were excellent in colorless transparency and optical isotropy, and had low elastic modulus.

실시예 1의 필름과 비교예 1의 필름의 대비로부터, 폴리이미드 수지가 구성단위(B-1)를 포함하는 것에 따른, 탄성률의 저하가 확인되었다.From the contrast between the film of Example 1 and the film of Comparative Example 1, it was confirmed that the polyimide resin contained the structural unit (B-1), thereby reducing the elastic modulus.

실시예 1~7의 필름과 비교예 2의 필름의 대비로부터, 폴리이미드 수지가 구성단위(B-2)를 포함하는 것에 따른, 우수한 무색투명성의 발현이 확인되었다.From the contrast between the films of Examples 1 to 7 and the film of Comparative Example 2, it was confirmed that the polyimide resin contained the structural unit (B-2), thereby showing excellent colorless transparency.

또한, 실시예 1의 필름과 비교예 1의 필름의 대비로부터, 폴리이미드 수지가 구성단위(B-1)를 포함하는 것에 따른 필름의 광학적 등방성의 향상이 확인되었고, 실시예 1~7의 필름과 비교예 2의 필름의 대비로부터, 폴리이미드 수지가 구성단위(B-1)와 구성단위(B-2)의 양방을 포함하는 것에 따른, 특히 우수한 광학적 등방성의 발현이 확인되었다.In addition, from the contrast between the film of Example 1 and the film of Comparative Example 1, it was confirmed that the optical isotropy of the film was improved according to the polyimide resin containing the structural unit (B-1), and the films of Examples 1 to 7 From the contrast between the film of Comparative Example 2 and the film of Comparative Example 2, it was confirmed that the polyimide resin contained both the constituent unit (B-1) and the constituent unit (B-2), and particularly excellent expression of optical isotropy.

Claims (8)

테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 갖는 폴리이미드 수지로서,
구성단위A가 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1)를 포함하고,
구성단위B가 하기 식(b-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-1)와, 하기 식(b-2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-1), 하기 식(b-2-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-2), 및 하기 식(b-2-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2-3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개인 구성단위(B-2)를 포함하는, 폴리이미드 수지.
[화학식 1]
Figure pct00006

(식(b-1) 중,
R1~R4는, 각각 독립적으로, 1가의 지방족기 또는 1가의 방향족기이고,
Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기이고,
r은, 양의 정수이다.)
As a polyimide resin having a structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from diamine,
Constituent unit A includes a structural unit (A-1) derived from a compound represented by the following formula (a-1),
Structural unit B is a structural unit (B-1) derived from a compound represented by the following formula (b-1), and a structural unit (B-2-1) derived from a compound represented by the following formula (b-2-1). 1), a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2-2) (B-2-2), and a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2-3) (B A polyimide resin containing at least one structural unit (B-2) selected from the group consisting of -2-3).
[Formula 1]
Figure pct00006

(In formula (b-1),
R 1 to R 4 are each independently a monovalent aliphatic group or a monovalent aromatic group,
Z 1 and Z 2 are each independently a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group,
r is a positive integer.)
제1항에 있어서,
구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율이 50몰% 이상인, 폴리이미드 수지.
The method of claim 1,
The polyimide resin, wherein the proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is 50 mol% or more.
제1항 또는 제2항에 있어서,
구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율이 10~50몰%이고,
구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-2)의 비율이 50~90몰%인, 폴리이미드 수지.
The method according to claim 1 or 2,
The proportion of the structural unit (B-1) in the structural unit B is 10 to 50 mol%,
The polyimide resin, wherein the proportion of the structural unit (B-2) in the structural unit B is 50 to 90 mol%.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
구성단위(B-2)가 구성단위(B-2-1)인, 폴리이미드 수지.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A polyimide resin in which the structural unit (B-2) is a structural unit (B-2-1).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
구성단위(B-2)가 구성단위(B-2-2)인, 폴리이미드 수지.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The polyimide resin in which the structural unit (B-2) is a structural unit (B-2-2).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
구성단위(B-2)가 구성단위(B-2-3)인, 폴리이미드 수지.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The polyimide resin in which the structural unit (B-2) is a structural unit (B-2-3).
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 수지가 유기용매에 용해되어 이루어지는 폴리이미드바니시.A polyimide varnish obtained by dissolving the polyimide resin according to any one of claims 1 to 6 in an organic solvent. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 수지를 포함하는, 폴리이미드필름.A polyimide film containing the polyimide resin according to any one of claims 1 to 6.
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