KR20200124240A - 방사선 소스 - Google Patents
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Abstract
레이저 생성 플라즈마 유형의 방사선 소스(SO)가 제시된다. 방사선 소스(SO)는 연료 액적(60)을 제공하도록 구성된 액적 생성기(3a)를 포함한다. 방사선 소스(SO)는 프리 펄스와 메인 펄스를 제공하도록 구성된 레이저 시스템(1)을 포함한다. 프리 펄스는 메인 펄스의 수광을 위해 연료 액적을 컨디셔닝하도록 동작한다. 메인 펄스는 컨디셔닝된 연료 액적(60)을 플라즈마로 변환하도록 동작한다. 방사선 소스(SO)는 연료 액적(60)의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지하도록 구성된 감지 시스템(16)을 포함한다. 방사선 소스(SO)는 감지된 특성의 제어 하에 프리 펄스의 편광을 조절하도록 동작하는 제어 시스템(44)을 포함한다. 프리 펄스의 편광은 컨디셔닝된 연료 액적(60)의 공간적 질량 분포에 영향을 미칠 수 있다.
Description
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2018년 2월 28일자로 출원된 EP 출원 제18159200.7호에 대해 우선권을 주장하며, 이러한 문헌의 내용은 원용에 의해 전체적으로 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 예를 들어, 리소그래피 장치에 방사선을 공급하기 위해 사용될 수 있는 방사선 소스에 관한 것이지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
리소그래피 장치는 기판 상에 원하는 패턴을 적용하도록 구성된 기기이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조에 사용될 수 있다. 리소그래피 장치는, 예를 들어, 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)에서의 패턴을 기판 상에 제공된 방사선-감응 재료(레지스트)의 층 상에 투영할 수 있다.
기판 상에 패턴을 투영하기 위해 리소그래피 장치는 전자기 방사선을 사용할 수 있다. 이러한 방사선의 파장은 기판 상에 형성될 수 있는 피처의 최소 크기를 결정한다. 4-20 nm 범위, 예를 들어 6.7 nm 또는 13.5 nm의 파장을 갖는 극자외(EUV) 방사선을 사용하는 리소그래피 장치는, 예컨대 파장 193 nm의 방사선을 사용하는 리소그래피 장치보다 기판 상에 더 작은 피처를 형성하기 위해 사용될 수 있다.
일부 리소그래피 장치는 레이저 생성 플라즈마 유형의 방사선 소스를 포함할 수 있다. 이러한 타입의 방사선 소스는 연료 액적을 제공하도록 구성된 액적 생성기를 포함할 수 있다. 방사선 소스는 연료 액적과 상호작용하기 위한 프리 펄스 및 메인 펄스를 제공하도록 구성될 수 있다. 프리 펄스는 메인 펄스의 수광을 위해 연료 액적을 컨디셔닝할 수 있다. 그러면 메인 펄스는 컨디셔닝된 연료 액적을 플라즈마로 변환하여 방사선(예컨대, EUV 방사선)을 생성할 수 있다. EUV 방사선의 생성 효율은 컨디셔닝된 연료 액적의 속성에 따라 달라질 수 있다.
일 양태 또는 실시예에 따르면, 레이저 생성 플라즈마(LPP) 유형의 방사선 소스가 제공된다. 방사선 소스는 연료 액적을 제공하도록 구성된 액적 생성기를 포함한다. 방사선 소스는 제1 레이저 방사선 및 제2 레이저 방사선을 연료 액적에 제공하도록 구성된 레이저 시스템을 포함한다. 제1 레이저 방사선은 제2 레이저 방사선의 수광을 위해 연료 액적을 컨디셔닝하도록 동작한다. 제2 레이저 방사선은 컨디셔닝된 연료 액적을 플라즈마로 변환하도록 동작한다. 방사선 소스는 연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지하도록 구성된 감지 시스템을 포함한다. 방사선 소스는 감지된 특성의 제어 하에 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하도록 동작하는 제어 시스템을 포함한다. 제1 레이저 방사선은 하나 이상의 프리 펄스를 포함할 수 있다. 제2 레이저 방사선은 메인 펄스를 포함할 수 있다.
연료 액적의 공간적 질량 분포는 여러 요인으로 인해 오실레이션할 수 있다. 연료 액적의 공간적 질량 분포는 연료 액적의 속성에 따라 달라질 수 있다. 질량, 밀도, 속도 및 연료 유형과 같은 속성이 연료 액적의 공간적 질량 분포에 영향을 미칠 수 있다. 연료 액적의 공간적 질량 분포는 또한 제2 레이저 방사선이 선행하는 연료 액적과 상호작용할 때 방출되는 에너지에 의해 영향을 받을 수도 있다. 방출되는 에너지는 충격파 형태일 수 있다. 방출되는 에너지로 인해, 연료 액적이 이상적이지 않거나 바람직하지 않은 공간적 질량 분포를 갖게 될 수 있다. 컨디셔닝된 연료 액적의 공간적 질량 분포가 이상적이지 않거나 바람직하지 않은 경우 플라즈마 형성 프로세스는 악영향을 받을 수 있다.
제1 레이저 방사선의 편광이 연료 액적의 공간적 질량 분포에 영향을 미칠 수 있다는 점이 인식되었다. 편광을 제어함으로써, 제2 레이저 방사선과 컨디셔닝된 연료 액적 사이의 상호작용이 최적화되거나 개선될 수 있도록 연료 액적을 컨디셔닝하는 것이 가능할 수 있다. 따라서, 최적 또는 개선된 LPP가 컨디셔닝된 연료 액적을 사용하여 생성될 수 있다. 예를 들어, 최적 또는 개선된 LPP는 연료 액적이 이상적으로 컨디셔닝되지 않거나 또는 바람직하게 컨디셔닝되지 않은 경우에 비해 더 높은 효율로 방사선을 생성할 수 있다.
감지 시스템은 제1 레이저 방사선의 전파 축에 수직인 평면 상에서의 연료 액적의 기하학적 투영을 감지하도록 구성될 수 있다. 감지 시스템은 이러한 기하학적 투영이 제1 방향으로 더 작은 치수를 가지고 제1 방향과는 상이한 제2 방향으로 더 큰 치수를 갖는 것을 감지하도록 구성될 수 있다. 감지된 특성에 응답하여, 제어 시스템은, 제1 레이저 방사선이 상기 제1 방향에 평행하고 제1 크기를 갖는 제1 전계 벡터와 상기 제2 방향에 평행하고 상기 제1 크기보다 작은 제2 크기를 갖는 제2 전계 벡터를 갖도록, 제1 레이저 방사선의 편광을 조절할 수 있다.
제어 시스템은, 감지된 특성에 응답하여 상기 제1 크기와 상기 제2 크기 사이의 비율을 조절하도록 동작할 수 있다.
제어 시스템은 제1 레이저 방사선이 제1 방향에 평행하게 배향되는 장축을 갖는 타원 편광을 갖도록 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하도록 동작할 수 있다.
감지 시스템은 연료 액적의 하나 이상의 이미지를 캡처하도록 구성된 센서를 포함할 수 있다.
감지 시스템은, 하나 이상의 이미지로부터, 상기 특성을 나타내는 정보를 결정하도록 구성된 프로세서를 포함할 수 있다.
프로세서는, 상기 특성을 나타내는 정보로부터, 상기 제1 레이저 방사선이 상기 연료 액적과 상호작용할 때 상기 연료 액적의 공간적 질량 분포를 예측하도록 구성될 수 있다.
감지 시스템은 상기 특성을 나타내는 정보를 획득하기 위해 조명 방사선으로 상기 연료 액적을 조명하도록 구성된 조명 시스템을 더 포함할 수 있다.
상기 특성은 상기 공간적 질량 분포의 오실레이션의 진폭, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 나타낼 수 있다.
방사선 소스는, 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하기 위한 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소를 더 포함할 수 있다.
제어 시스템은, 감지된 특성에 응답하여 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소를 조절하도록 동작할 수 있다.
일 양태 또는 실시예에 따르면 리소그래피 시스템이 제공된다. 리소그래피 시스템은 본 명세서에 기술된 임의의 양태 또는 실시예의 방사선 소스를 포함할 수 있다. 리소그래피 시스템은, 기판 상에 패턴을 이미징하기 위해 상기 방사선 소스에 의해 제공되는 방사선을 사용하도록 구성된 리소그래피 장치를 포함할 수 있다.
일 양태 또는 실시예에 따르면 방법이 제공된다. 방법은 연료 액적을 제공하는 단계를 포함한다. 방법은 레이저 시스템을 사용하여 제1 레이저 방사선 및 제2 레이저 방사선을 제공하는 단계를 포함한다. 방법은 연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지 시스템으로 감지하는 단계를 포함한다. 방법은 감지된 특성의 제어 하에 제1 레이저 방사선의 편광을 제어 시스템으로 조절하는 단계를 포함한다. 방법은 제2 레이저 방사선의 수광을 위해 제1 레이저 방사선으로 연료 액적을 컨디셔닝하는 단계를 포함한다. 방법은 제2 레이저 방사선으로, 컨디셔닝된 연료 액적을 플라즈마로 변환하는 단계를 포함한다.
방법은, 제1 레이저 방사선의 전파 축에 수직인 평면 상에서의 연료 액적의 기하학적 투영이 제1 방향으로 더 작은 치수를 가지고 제1 방향과는 상이한 제2 방향으로 더 큰 치수를 가지는 것을 감지하는 단계를 포함할 수 있다. 감지된 특성에 응답하여, 방법은, 제1 레이저 방사선이 상기 제1 방향에 평행하고 제1 크기를 갖는 제1 전계 벡터와 상기 제2 방향에 평행하고 상기 제1 크기보다 작은 제2 크기를 갖는 제2 전계 벡터를 갖도록, 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 감지된 특성에 응답하여 상기 제1 크기와 상기 제2 크기 사이의 비율을 조절하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 제1 레이저 방사선이 제1 방향에 평행하게 배향되는 장축을 갖는 타원 편광을 갖도록 편광을 조절하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 연료 액적의 하나 이상의 이미지를 캡처하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은, 하나 이상의 이미지로부터, 상기 특성을 나타내는 정보를 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 상기 특성을 나타내는 정보로부터, 상기 제1 레이저 방사선이 상기 연료 액적과 상호작용할 때 상기 연료 액적의 공간적 질량 분포를 예측하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 상기 특성을 나타내는 정보를 획득하기 위해 조명 방사선으로 상기 연료 액적을 조명하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 제1 레이저 방사선의 편광을 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소로 조절하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은, 감지된 특성에 응답하여 상기 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소를 조절하는 단계를 포함할 수 있다.
방법은 본 명세서에 기술된 임의의 방사선 소스를 제공하는 것을 포함할 수 있다. 방법은 방사선 소스에 의해 제공되는 방사선을 사용하여 기판 상에 패턴을 이미징하는 단계를 포함할 수 있다.
본 명세서에 기술된 임의의 양태 또는 실시예의 적어도 하나의 특징은 본 명세서에 기술된 임의의 양태 또는 실시예의 임의의 대응하는 특징을 대체할 수 있다. 본 명세서에 기재된 임의의 양태 또는 실시예의 적어도 하나의 특징은 본 명세서에 기술된 임의의 다른 양태 또는 실시예와 조합될 수 있다.
이제 본 발명의 실시예에 관해, 첨부된 도면을 참조로 하여 단지 예시의 목적으로 설명할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치 및 방사선 소스를 포함하는 리소그래피 시스템을 나타낸다.
도 2는 도 1의 방사선 소스의 일부의 개략도이다.
도 3은 도 1의 방사선 소스의 추가 개략도이다.
도 4는 도 1 내지 3의 방사선 소스에 사용되는 연료 액적의 공간적 질량 분포에 대한 편광 제어의 효과를 개략적으로 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치 및 방사선 소스를 포함하는 리소그래피 시스템을 나타낸다.
도 2는 도 1의 방사선 소스의 일부의 개략도이다.
도 3은 도 1의 방사선 소스의 추가 개략도이다.
도 4는 도 1 내지 3의 방사선 소스에 사용되는 연료 액적의 공간적 질량 분포에 대한 편광 제어의 효과를 개략적으로 나타낸다.
도 1은 방사선 소스(SO) 및 리소그래피 장치(LA)를 포함하는 리소그래피 시스템을 나타낸다. 방사선 소스(SO)는 EUV 방사선 빔(B)을 생성하고 EUV 방사선 빔(B)을 리소그래피 장치(LA)에 공급하도록 구성된다. 리소그래피 장치(LA)는, 조명 시스템(IL), 패터닝 디바이스(MA)(예를 들어, 마스크)를 지지하도록 구성된 지지 구조체(MT), 투영 시스템(PS) 및 기판(W)을 지지하도록 구성된 기판 테이블(WT)을 포함한다.
조명 시스템(IL)은 EUV 방사선 빔(B)이 패터닝 디바이스(MA)에 입사하기 전에 EUV 방사선 빔(B)을 컨디셔닝하도록 구성된다. 이에, 조명 시스템(IL)은 패싯 필드 미러 디바이스(10) 및 패싯 퓨필 미러 디바이스(11)를 포함할 수 있다. 패싯 필드 미러 디바이스(10) 및 패싯 퓨필 미러 디바이스(11)는 함께, 원하는 단면 형상 및 원하는 세기 분포를 갖는 EUV 방사선 빔(B)을 제공하게 된다. 조명 시스템(IL)은 패싯 필드 미러 디바이스(10) 및 패싯 퓨필 미러 디바이스(11)에 추가하여 또는 그 대신에 다른 미러 또는 디바이스를 포함할 수 있다.
이렇게 컨디셔닝된 후, EUV 방사선 빔(B)은 패터닝 디바이스(MA)와 상호작용한다. 이러한 상호작용의 결과로 패터닝된 EUV 방사선 빔(B')이 생성된다. 투영 시스템(PS)는 패터닝된 EUV 방사선 빔(B')을 기판(W) 상으로 투영하도록 구성된다. 이를 위해, 투영 시스템(PS)은 기판 테이블(WT)에 의해 유지되는 기판(W) 상으로 패터닝된 EUV 방사선 빔(B')을 투영하도록 구성된 복수의 미러(13, 14)를 포함할 수 있다. 투영 시스템(PS)은 패터닝된 EUV 방사선 빔(B')에 감소 계수를 적용하여 패터닝 디바이스(MA) 상의 대응하는 피처보다 작은 피처를 갖는 이미지를 형성할 수 있다. 예를 들어 4 또는 8의 감소 계수가 적용될 수 있다. 도 1에서 투영 시스템(PS)은 단지 2개의 미러(13, 14)만을 갖는 것으로 도시되어 있지만, 투영 시스템(PS)은 상이한 수의 미러(예를 들어, 6개 또는 8개의 미러)를 포함할 수 있다.
기판(W)은 이전에 형성된 패턴을 포함할 수 있다. 이 경우, 리소그래피 장치(LA)는 패터닝된 EUV 방사선 빔(B')에 의해 형성된 이미지를 기판(W) 상에 이전에 형성된 패턴과 정렬시킨다.
상대적인 진공, 즉 대기압보다 훨씬 낮은 압력의 소량의 가스(예를 들어, 수소)가 방사선 소스(SO), 조명 시스템(IL) 및/또는 투영 시스템(PS)에 제공될 수 있다.
도 1에 도시된 방사선 소스(SO)는 예를 들어 레이저 생성 플라즈마(LPP) 소스로 지칭될 수 있는 유형이다. 예를 들어, CO2 레이저를 포함할 수 있는 레이저 시스템(1)은, 예를 들어 연료 방출기(3)로부터 제공되는 주석(Sn)과 같은 연료에 레이저 빔(2)을 통해 에너지를 가하도록 배열된다. 이하의 설명에서는 주석을 언급하지만, 임의의 적절한 연료가 사용될 수 있다. 연료는 예를 들어 액체 형태일 수 있고, 예를 들어 금속 또는 합금일 수 있다. 연료 방출기(3)는 플라즈마 형성 영역(4)을 향한 궤적을 따라 예를 들어 액적 형태의 주석을 지향시키도록 구성된 노즐을 포함할 수 있다. 레이저 빔(2)은 플라즈마 형성 영역(4)에서 액적에 입사된다. 액적에 레이저 에너지를 가하면 플라즈마 형성 영역(4)에서 플라즈마(7)가 생성된다. 전자들이 플라즈마의 이온과 탈여기 및 재결합하는 동안 EUV 방사선을 포함하는 방사선이 플라즈마(7)로부터 방출된다.
플라즈마를 생성하는 레이저 방사선의 수광을 위해 연료 액적을 컨디셔닝하기 위해, 연료 액적은 먼저 메인 펄스에 선행하는 하나 이상의 레이저 펄스에 의해 컨디셔닝된다. 이러한 컨디셔닝 펄스를 프리 펄스라고 한다. 하나 이상의 프리 펄스는 컨디셔닝된 연료 액적을 플라즈마로 변환하는 레이저 펄스의 수광을 위해 연료 액적을 컨디셔닝하는 역할을 한다. 연료 액적을 플라즈마로 변환하는 레이저 펄스를 메인 펄스라고 한다. 하나 이상의 프리 펄스는 연료 액적을 예를 들어 팬케이크 모양 또는 미스트로 성형함으로써 연료 액적을 컨디셔닝한다. 이러한 컨디셔닝은 메인 펄스의 전자기 방사선의 흡수를 향상시킨다. 따라서, 레이저 시스템(1)은 또한 메인 펄스 레이저 시스템에 추가하여 프리 펄스 레이저 시스템을 포함한다. 예를 들어, 프리 펄스 레이저 시스템은 약 1 마이크론의 파장을 갖는 프리 펄스를 생성하도록 구성된 YAG 레이저를 포함하고, 메인 펄스 레이저는 약 10 마이크론의 메인 펄스를 생성하도록 구성된 CO2 레이저를 포함한다. 대안적으로, 프리 펄스 레이저 시스템은 1 마이크론의 파장을 갖는 프리 펄스를 생성하도록 구성된 YAG 레이저를 포함하고, 메인 펄스 레이저는 약 1 마이크론의 메인 펄스를 생성하기 위한 YAG 레이저를 포함한다. 본 발명은 프리 펄스에 관한 것이므로, 편광의 맥락에서 이하 레이저 시스템(1)을 언급하는 경우 프리 펄스 레이저 시스템을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.
플라즈마로부터의 EUV 방사선은 콜렉터(5)에 의해 집광되고 포커싱된다. 콜렉터(5)는 예를 들어 수직-근방 입사 방사선 콜렉터(5)를 포함한다(종종 보다 일반적으로는 수직 입사 방사선 콜렉터라고도 함). 콜렉터(5)는 EUV 방사선(예를 들어, 13.5nm와 같은 원하는 파장을 갖는 EUV 방사선)을 반사하도록 배열된 다층 미러 구조를 가질 수 있다. 콜렉터(5)는 두 개의 초점을 갖는 타원형 구성을 가질 수 있다. 후술하는 바와 같이, 이러한 초점 중 첫 번째 초점은 플라즈마 형성 영역(4)에 있을 수 있고, 초점 중 두 번째 초점은 중간 초점(6)에 있을 수 있다.
레이저 시스템(1)은 방사선 소스(SO)로부터 공간적으로 분리될 수 있다. 이 경우에, 레이저 빔(2)은 예를 들어 적절한 지향 미러 및/또는 빔 확장기를 포함하는 빔 전달 시스템(미도시), 및/또는 기타 광학 장치의 도움으로 레이저 시스템(1)으로부터 방사선 소스(SO)로 전달될 수 있다. 레이저 시스템(1), 방사선 소스(SO) 및 빔 전달 시스템은 함께 방사선 시스템으로 간주될 수 있다. 일 실시예에서, 레이저 시스템(1)은 프리 펄스를 생성하기 위한 YAG 레이저와 메인 펄스를 생성하기 위한 CO2 레이저를 포함한다. 서로 다른 빔 전달 시스템들을 사용하여 프리 펄스와 메인 펄스를 전달할 수도 있다. 이와 다른 레이저 시스템들이 프리 펄스 및 메인 펄스를 제공하는 데 사용될 수 있다는 점을 인식할 것이다. 예를 들어, 동일한 유형의 레이저 시스템을 사용하여 메인 펄스와 프리 펄스를 제공할 수 있다(예컨대, 10 마이크론 파장에서 메인 펄스와 프리 펄스를 전달하는 두 개의 CO2 레이저, 또는 메인 펄스와 프리 펄스를 전달하는 두 개의 YAG 레이저 등).
콜렉터(5)에 의해 반사되는 방사선은 EUV 방사선 빔(B)을 형성한다. EUV 방사선 빔(B)은 플라즈마 형성 영역(4)에 존재하는 플라즈마의 중간 초점(6)에서 이미지를 형성하기 위해 중간 초점(6)에 포커싱된다. 중간 초점(6)에서의 이미지는 조명 시스템(IL)에 대한 가상 방사선 소스로서 작용한다. 방사선 소스(SO)는, 중간 초점(6)이 방사선 소스(SO)의 외함 구조(9)의 개구(8)에 또는 그 근처에 위치하도록 배열된다.
방사선 소스(SO)는 연료 방출기(3)에 의해 제공된 연료 액적의 공간적 질량 분포를 감지하기 위한 센서(18)를 더 포함한다. 방사선 소스(SO)는 레이저 시스템(1)에 의해 제공되는 프리 펄스의 편광을 변화시키도록 동작하는 포켈스 셀과 같은 요소(38)를 더 포함한다. 방사선 소스(SO)는 센서(18)에 의해 감지되는 공간적 질량 분포로부터 유도된 정보에 기초하여 요소(38)가 프리 펄스의 편광을 변화시키게 하도록 동작하는 제어 시스템(44)을 더 포함한다. 센서(18), 요소(38) 및 제어 시스템(44)의 추가 세부 사항이 이하 제공된다.
도 2는 외함 구조(9)를 포함하는 방사선 소스의 일부의 개략도이다. 앞서 언급한 바와 같이, 방사선 소스(SO)는 연료 방출기(3)를 포함한다. 이러한 실시예에서, 연료 방출기(3)는 연료 액적의 스트림을 제공하도록 구성된 액적 생성기(3a)의 형태이다. 스트림 내의 개개의 액적은 개개의 도면 부호 60, 60'및 60" 표시된다. 연료 액적은 플라즈마 형성 영역(4)으로의 궤적을 따른다. 연료 액적의 궤적은 도 2에 도시된 X 방향에 해당한다. 편의상 도 2와 3에서는 직교 좌표가 사용되며, 방사선 소스(SO)가 특정 방향을 가져야 함을 의미하지는 않는다. 연료 액적의 공간적 질량 분포는 궤적을 따라 이동하는 동안 오실레이션, 즉 진동으로 인해 그 형태가 변할 수 있다. 질량, 밀도, 속도 및 연료 유형과 같은 연료 액적의 속성은 연료 액적의 오실레이션에 영향을 미친다. 연료 액적이 플라즈마 형성 영역(4)에 도달할 때, 연료 액적을 플라즈마(7)로 변환하기 위해 메인 펄스가 사용된다. 플라즈마 형성 영역(4)에 접근하는 연료 액적(60')의 공간적 질량 분포는, 예를 들어 선행하는 연료 액적(60")이 플라즈마로 변환되는 동안의 에너지 방출에 수반되는 압력파에 의해 영향을 받을 수 있다. 이러한 압력파에 충돌하면, 연료 액적(60')의 공간적 질량 분포는 무엇보다도 관성의 영향 및 액적의 표면 장력의 복원 효과로 인해 오실레이션을 시작한다.
이러한 실시예에서, 플라즈마 형성 영역(4)에 접근하는 연료 액적(60')은 연료 액적(60')이 구형의 질량 분포와 다른 공간적 질량 분포를 갖는 순간에 도시된 것이다. 플라즈마 형성 프로세스는, 컨디셔닝된 연료 액적(60')이 플라즈마 형성 영역(4)에 도달하여 메인 펄스와 충돌될 때 연료 액적(60')이 취하게 되는 공간적 질량 분포에 따라 달라질 수 있다. 후속하는 액적들 사이의 거리는, 다음에 플라즈마로 변환될 접근하는 액적의 공간적 질량 분포에 압력파가 영향을 미치는지 여부를 결정하게 되며, 만약에 영향을 미친다면 어떠한 영향을 미치는지를 결정하게 된다. 이러한 액적간 거리는 액적이 플라즈마 형성 영역(4)에 도달하는 레이트와 액적의 속도에 의해 결정된다. 연료 액적 전달 레이트가 50kHz이고 연료 액적 속도가 70m/s 인 일 실시예에서, 1.5mm 이상의 액적간 간격은 어떤 경우에는 접근하는 연료 액적에 도달하기 전에 충격파가 소멸되도록 할 수 있다. 전달 레이트가 증가하면(따라서 간격이 1.5mm 미만으로 감소함), 충격파는 접근하는 연료 액적의 형상에 악영향을 미칠 수 있다. 그러나 충격파의 강도와 연료 액적 사이의 간격에 따라, 충격파는 접근하는 연료 액적의 형상에 영향을 미칠 수 있다. 따라서, 프리 펄스의 편광을 제어하면, 컨디셔닝된 연료 액적이 메인 펄스의 수광을 위해 최적의 공간적 질량 분포를 갖도록 하는데 도움이 될 수 있다. 상기 실시예에서, 액적간 간격이 1.5mm 미만인 경우, 프리 펄스의 편광을 제어하는 것은 컨디셔닝된 연료 액적의 공간적 질량 분포가 최적이 되도록 하는 데 도움이 될 수 있다.
방사선 소스(SO)는 연료 액적(60')의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지하도록 구성된 감지 시스템(16)을 포함한다. 상기 특성은 공간적 질량 분포의 오실레이션의 진폭, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 나타낼 수 있다. 감지 시스템(16)은 연료 액적(60')의 하나 이상의 이미지를 캡처하도록 구성된 센서(18)를 포함한다. 감지 시스템(16)은, 하나 이상의 이미지로부터, 상기 특성을 나타내는 정보를 결정하도록 구성된 프로세서(20)를 포함한다.
감지 시스템(16)은 상기 특성을 나타내는 정보를 획득하기 위해 조명 방사선(24)으로 연료 액적(60')을 조명하도록 구성된 조명 시스템(22)을 포함한다. 조명 방사선(24)은 예를 들어 연료 액적(60')을 조명하기 위한 레이저 방사선의 시트(26)의 형태로 제공된다. 도시된 실시예에서, 이미징 시스템(28)은 연료 액적(60')에 의해 센서(18) 상으로 산란 및/또는 반사된 조명 방사선(30)을 이미징하기 위해 제공된다. 특성에 대한 정보는 센서(18)에 의해 생성된 신호를 분석하여 획득할 수 있다. 프로세서(20)는 센서(18)에 의해 생성된 신호를 분석하도록 구성된다. 이러한 정보는, 프리 펄스가 플라즈마 형성 영역(4)에서 이러한 연료 액적(60')과 상호작용하기 직전에, 추후 연료 액적(60')이 취하게 되는 공간적 질량 분포를 예측하는 데 사용될 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 액적(60')의 오실레이션에 대한 이러한 정보가 이용되어, 액적(60')의 상류에 있는 액적들 중 특정한 하나, 예를 들어 액적(60)이 플라즈마 형성 영역(4)에 도달할 때 프리 펄스에 충돌되기 직전에 이러한 액적(60)이 어떠한 공간적 질량 분포를 취하게 될지를 예측할 수 있다. 레이저 시트(26)는 연료 액적(60')이 레이저 시트(26)를 통해 이동하는 동안 오실레이션이 검출될 수 있도록 적절한 레이저 시트 크기를 가질 수 있다. 조명 방사선(24)의 파라미터는 오실레이션의 검출을 허용하도록 선택될 수 있다. 레이저 시트(26)는 다른 수직 방향의 빔 웨이스트에 비해 한 방향으로 더 큰 빔 웨이스트를 갖는 추가적인 레이저 빔의 형태일 수 있다. 이러한 실시예에서, 더 큰 빔 웨이스트는 X 방향과 실질적으로 평행하도록 배향되는 반면, 더 작은 빔 웨이스트는 X 방향 및 Y 방향에 수직인 Z 방향과 평행하도록 배향된다(도 3 참조).
직경이 30㎛ 인 연료 액적의 예에서, 레이저 시트(26)는 10㎛ 내지 100㎛ 범위의 Z- 방향의 빔 폭을 가질 수 있지만, 상이한 빔 폭이 이용될 수 있다는 점을 이해할 것이다. Z-방향의 이러한 빔 폭은 연료 액적이 레이저 시트(26)를 통과하는 동안 전체 연료 액적이 조명되도록 보장하기 위해 선택될 수 있다. 이러한 실시예에서, 레이저 시트(26)는 50㎛ 내지 1mm 범위의 X-방향 빔 폭을 가질 수 있다. 연료 액적이 레이저 시트(26)를 통과하는 동안 오실레이션을 검출할 수 있도록 임의의 적절한 빔 폭이 선택될 수 있음을 이해할 것이다. 이러한 실시예에서, 조명 방사선(24)의 파장은 UV, 가시 광선 또는 근적외선 범위에 있을 수 있다.
일 실시예에서, 연료 액적은 약 70kHz의 고유 진동 모드를 갖는다. X-방향의 빔 폭이 1mm이고 연료 액적 속도가 70m/s 인 예시적인 레이저 시트(26)의 경우, 연료 액적은 레이저 시트(26)를 통과하는 동안 한 번 오실레이션할 수 있다. 감지 시스템(16)은 특성을 감지하도록 적절하게 구성될 수 있다. 예를 들어, 센서(18)는 연료 액적의 복수의 오실레이션을 검출하도록 구성될 수 있다. 일 실시예에서, 충분히 높은 프레임 레이트를 갖는 센서(18)가 하나 이상의 캡처된 이미지에 걸쳐 개개의 오실레이션을 캡처하도록 제공될 수 있다. 일례에서, 연료 액적의 오실레이션 주파수는 70kHz 정도이다(예컨대, 직경 30㎛ 인 주석 연료 액적의 경우). 다른 실시예에서 센서(18)는 하나의 이미지를 캡처할 수 있고, 오실레이션은 이미지에 걸쳐 예를 들어 공간적 밝기 변화의 자취로서 검출가능하다.
도 3은 도 2에 도시된 X 방향을 따라 볼 때의 방사선 소스(SO)의 개략도이다. 레이저 시스템(1)은 프리 펄스를 제공하도록 구성된다. 프리 펄스는 레이저 빔 경로(32)를 따라 외함 구조(9) 내에 전달된다. 프리 펄스는 메인 펄스의 수광을 위해 연료 액적을 컨디셔닝하도록 동작한다. 연료 액적의 컨디셔닝은 도 3에 도시되어 있지 않다. 그러나 컨디셔닝은 도 4와 관련하여 더 자세히 설명한다. 이러한 실시예에서, 프리 펄스는 전형적으로 하나 이상의 미러를 통해 구현되는 포커싱 시스템(34)을 사용하여 연료 액적 상에 포커싱된다.
본 실시예에서, 프리 펄스의 레이저 빔 경로(32)는 제1 편광 요소(36), 제2 편광 요소(38) 및 제3 편광 요소(40)를 포함한다. 제1 편광 요소(36)는 제2 편광 요소(38)에 의한 수광을 위해 프리 펄스의 편광 방향을 조절하도록 구성된 1/2 파장판(half-wave plate)를 포함한다. 제2 편광 요소(38)는 프리-펄스의 편광을 조절하도록 구성된 조절가능한 편광 요소를 포함한다. 이러한 실시예에서, 조절가능한 편광 요소는 포켈스 셀(38)을 포함한다. 알려진 바와 같이, 포켈스 셀은 포켈스 셀에 인가된 제어 전압에 의해 결정되는 각도에 걸쳐 선형으로 편광되는 방사선의 편광 방향을 회전시키도록 동작한다. 이러한 실시예에서, 포켈스 셀(38)은 제1 편광 요소(36)로부터 프리 펄스의 선형 편광된 방사선을 수광한다. 포켈스 셀은 전자적으로 작동되는 것에 대한 응답으로 빠른 편광 변화를 생성할 수 있다. 방사선 소스(SO)는 편광을 변화시키기 위해 포켈스 셀(38)을 전자적으로 작동시키도록 구성된 제어 시스템(44)을 포함한다. 편광은 임의의 적절한 방식으로 제어될 수 있음을 이해할 것이다. 예를 들어, 제2 편광 요소는 파장판, 포켈스 셀, 패러데이 회전자 등 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
제어 시스템(44)은 감지 시스템(16)에 의해 감지된 특성의 제어 하에 프리 펄스의 편광을 조절하도록 동작한다. 이러한 실시예에서, 제어 시스템(44)은 감지된 특성에 응답하여 제2 편광 요소(38)(이 실시예에서는 포켈스 셀)를 조절하도록 동작한다. 제어 시스템(44)은 프로세서(20)를 포함한다. 센서(18)에 의해 생성된 하나 이상의 이미지는, 레이저 시트(26)를 횡단하는 연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 결정하기 위해 프로세서(20)에 의해 분석된다. 특성을 나타내는 정보는 포켈스 셀(38)을 전자적으로 작동시키기 위해 제어 시스템(44)에 의해 사용될 수 있다.
제3 편광 요소(40)는 1/4 파장판을 포함한다. 1/4 파장판은 제2 편광 요소(38)로부터 수광된 선형 편광된 방사선을 타원 편광된 방사선으로 변환하도록 구성된다. 선형 편광된 방사선의 편광 방향이 제2 편광 요소(38)에 의해 회전된 각도는, 제3 편광 요소(40)를 빠져 나가는 프리 펄스의 편광을 나타내는 타원의 타원율 및 배향을 결정한다. 예를 들어, 선형 편광된 프리 펄스에 대해 1/4 파장 판을 적절하게 정렬하면 원형 또는 타원 편광된 프리 펄스가 생성될 수 있다. 프리 펄스의 편광을 제어하기 위해 편광 요소(36, 38, 40) 중 하나 이상이 조절될 수 있다. 예를 들어, 위에서 언급한 1/2 파장판 및/또는 1/4 파장판은, 예를 들어 교정 목적을 위해 프리 펄스의 전파 방향에 평행한 축을 중심으로 회전될 수 있다. 제어 시스템(44)은 편광 요소(36, 38, 40) 중 하나 이상을 조절하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에서, 포켈스 셀(38)은 연료 액적(60) 전달 레이트에 대응하는 빠른 편광 변화를 제공하기 위해, 즉 액적별 변화를 제공하기 위해 사용될 수 있다. 따라서, 편광을 변화시키기 위해 제1 또는 제3 편광 요소(36, 40)에 대해 어떠한 조절도 할 필요가 없을 수 있다. 그러나, 제1 및 제3 편광 요소(36, 40)는 필요한 경우 프리 펄스의 편광에 대한 개략적인 제어를 제공할 수 있다.
프리 펄스의 편광은 임의의 개수 및 임의의 구성의 편광 요소를 사용하여 임의의 적절한 방식으로 변경될 수 있음을 이해할 것이다. 예를 들어, 편광을 조절하기 위해 단지 하나 또는 두 개의 (또는 임의의 다른 개수의) 편광 요소가 필요할 수 있다.
일 실시예에서, 프리 펄스는 선형 편광, 원형 편광 및 타원 편광 중 하나를 갖도록 제어될 수 있다.
일부 실시예에서, 연료 액적의 특성은 복수의 연료 액적이 프리 펄스에 의해 컨디셔닝되는 기간 동안 실질적으로 변하지 않을 수도 있다. 각각의 연료 액적이 이러한 기간 동안 동일한 공간적 질량 분포를 가질 것으로 예측되면 프리 펄스의 편광을 조절하지 않아도 될 수 있다. 이 경우, 프리 펄스의 편광이 더 이상 연료 액적을 컨디셔닝하는 데 최적이 아니라고 결정될 때까지 프리 펄스의 편광의 변화가 요구되지 않을 수도 있다. 각각의 연료 액적이 이러한 기간 동안 동일한 공간적 질량 분포를 가지게 될 경우, 연료 액적이 동일한 편광의 프리 펄스로 컨디셔닝되도록 프리 펄스의 편광이 적절하게 조절될 수 있다. 그러면 프리 펄스의 편광은 이러한 기간 동안 유지될 수 있다. 예를 들어, 프리 펄스의 편광은 연료 액적의 예측된 공간적 질량 분포의 변화를 정정하기 위해 편광이 조절되어야 한다고 결정될 때까지 동일하게 유지될 수도 있다.
그러나, 일부 실시예에서, 공간적 질량 분포는 각각의 연료 액적에 대해 실질적으로 변화할 수 있다. 연료 액적들이 프리 펄스들에 충돌할 때 상이한 공간적 질량 분포들을 가지는 경우, 각각의 연료 액적을 개별적으로 컨디셔닝하기 위해 프리 펄스의 편광을 조절하면 각각의 연료 액적에 대해 최적의 컨디셔닝을 제공할 수 있다.
감지 시스템(16)은 이전의 측정에서 연료 액적의 거동에 비해 연료 액적의 거동에 변화가 있었는지 여부를 결정하기 위해 연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션을 감지하도록 구성될 수 있다. 감지 시스템(16)은 예를 들어 프리 펄스에 충돌할 때 각 연료 액적이 띠게 되는 공간적 질량 분포를 예측하기 위해 각 연료 액적을 감지할 수 있다. 대안적으로, 감지 시스템(16)은 각각의 연료 액적의 오실레이션을 감지하지 않을 수도 있다. 그 대신에, 감지 시스템(16)은 예를 들어, 이전의 기간에 생성된 연료 액적에 대한 측정에 기초하여 예측된 거동이, 동일한 공간적 질량 분포를 갖도록 이후의 기간 동안 생성된 연료 액적의 거동에 대해 여전히 유효한지 여부를 결정하기 위해 주기적으로 또는 미리 결정된 기간 동안 활성화될 수 있다.
프로세서(20)는 연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 감지된 특성을 이용하여 플라즈마 형성 영역(4)에서 연료 액적의 공간적 질량 분포를 예측하도록 구성될 수 있다. 프로세서(20)는 예측된 공간적 질량 분포를 연료 액적에 대한 이상적인 또는 요구되는 공간적 질량 분포와 비교할 수 있다. 프로세서(20)는 예측된 공간적 질량 분포와 이상적인 또는 요구되는 공간적 질량 분포 사이의 차이를 결정하도록 구성될 수 있다. 그 차이가 임계치 이상이면, 프로세서(20)는 차이가 임계치 미만이 되도록 하는 프리 펄스의 편광을 결정하도록 구성될 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 프로세서(20)는, 프리 펄스의 편광으로 그 차이가 임계값 미만이 될 수 있도록, 제어 시스템(44)으로 하여금 편광 요소(36, 38, 40) 중 적어도 하나를 설정하게 할 수 있다. 프로세서(20)는 예측된 공간적 질량 분포를 결정하고 프리 펄스에 적용할 편광을 결정하기 위해 임의의 적절한 방식으로 구성될 수 있음을 이해할 것이다.
프리 펄스의 편광은 플라즈마 형성 영역(4)에서 연료 액적의 공간적 질량 분포에 영향을 미치기 위해 이용될 수 있다. 편광을 제어함으로써, 메인 펄스와 컨디셔닝된 연료 액적 사이의 상호작용이 최적화되거나 개선될 수 있도록 연료 액적을 컨디셔닝하는 것이 가능할 수 있다. 따라서, 최적 또는 개선된 LPP가 컨디셔닝된 연료 액적을 사용하여 생성될 수 있다. 예를 들어, 최적 또는 개선된 LPP는 연료 액적이 이상적으로 컨디셔닝되지 않거나 또는 바람직하게 컨디셔닝되지 않은 경우에 비해 더 높은 효율로 방사선을 생성할 수 있다.
도 4는 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포에 대한 편광 제어의 효과를 개략적으로 나타낸다. 도 4의 첫 번째 열(46)은 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포의 일례를 나타낸다. 도 4의 두 번째 열(48)은 연료 액적(60")을 컨디셔닝하는 데 사용되는 프리 펄스의 편광을 나타낸다. 프리 펄스에 의한 컨디셔닝은 연료 액적(60")을 팽창시킨다. 도 4의 세 번째 열(50)은 컨디셔닝된 후(메인 펄스에 의해 플라즈마로 변환될 준비가 된) 연료 액적(60")의 팽창된 공간적 질량 분포를 나타낸다.
도 4의 행(A)과 열(46)에서 연료 액적(60")은 대칭적인 공간적 질량 분포를 갖는다. 이는, 도 2에 도시된 바와 같이 연료 액적(60")에 프리 펄스가 입사될 때 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포이다. 따라서 열(46)은 프리 펄스가 연료 액적(60")과 상호작용할 때 연료 액적(60")의 예측된 공간적 질량 분포를 나타낸다. 이러한 실시예에서, 프리 펄스의 전파 축에 수직인 평면 상에서의 연료 액적(60")의 기하학적 투영은 제1 방향(52) 및 제2 방향(54)으로 동일한 치수를 갖는다. 전파 축은 도 3의 레이저 빔 경로(32)에 해당한다. 따라서, 도 4에서 연료 액적(60")에 대한 도면은 도 2 내지 3에서 XY 평면에 해당하는 것이다. 연료 액적(60")의 대칭성은 감지 시스템(16)에 의해 감지된 특성에 상응하는 효과를 갖는다.
열(48)로 도시된 바와 같이, 원형 편광된 프리 펄스가 연료 액적(60")을 컨디셔닝하기 위해 사용된다. 열(50)로 도시된 바와 같이, 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포는 팽창된 후에도 대칭성을 유지한다. 컨디셔닝되기 전의 연료 액적(60")의 위치(열(46) 참조)는 메인 레이저 펄스의 수광을 위해 컨디셔닝된 후의 연료 액적(60")의 위치(열(50) 참조)와 약간 다르다는 점을 인식할 것이다. 컨디셔닝 전후의 연료 액적(60")의 각각의 위치는 속도에 따라 달라진다. 그러나, 도 2는 컨디셔닝 전후에 연료 액적(60")의 위치에 있어서 이러한 차이를 보여주지 않는다.
이러한 실시예에서, 프리 펄스 및 메인 펄스는 대략 동일한 위치에서 연료 액적(60")과 상호작용한다. 연료 액적(60")이 이동함에 따라, 프리 펄스 및 메인 펄스는 서로 다른 시간에 연료 액적(60")과 상호작용한다. 따라서, 상이한 시간에서의 상호작용이란, 프리 펄스 및 메인 펄스가 연료 액적(60")의 중심에 대해 약간 상이한 위치에서 연료 액적(60")과 상호작용한다는 것을 의미한다. 이러한 실시예에서, 프리 펄스 및 메인 펄스는 각각 거의 동일한 초점을 갖는다. 다른 실시예에서, 프리 펄스 및 메인 펄스는 상이한 위치에서 연료 액적(60")에 전달될 수 있다(즉, 레이저 프리 펄스 및 레이저 메인 펄스는 이격된 초점을 가질 수 있다).
원형 편광된 프리 펄스는 제1 방향(52)을 따르는 제1 전계 벡터와 제2 방향(54)을 따르는 제2 전계 벡터를 가짐으로써 규정된다. 제1 및 제2 전계 벡터는 원형 편광에 대해 동일한 크기를 갖는다. 제1 및 제2 방향(52, 54)은 서로 수직이다. 원형 편광된 프리 펄스와 연료 액적(60") 사이의 상호작용으로 인해 연료 액적은 제1 및 제2 방향(52, 54) 모두에서 동일한 레이트로 팽창하게 될 수 있다. 초기에 구형인 연료 액적(60")의 경우, 원형 편광된 프리 펄스는 연료 액적이 팽창하여 구형의 공간적 질량 분포를 갖게 할 수 있다. 프리 펄스가 연료 액적에 입사될 때 연료 액적(60")이 구형의 공간적 질량 분포를 가질 것이라고 감지 시스템(16)이 예측하는 경우 원형 편광된 프리 펄스가 제공될 수 있다. 따라서, 최적 또는 개선된 LPP가 대칭적인 컨디셔닝된 연료 액적(60")을 사용하여 생성될 수 있다.
도 4의 행(B)에서, 연료 액적(60")은 프리 펄스가 연료 액적(60")에 입사될 때 타원형의 공간적 질량 분포를 갖는다. 이러한 실시예에서, 프리 펄스의 전파 축에 수직인 평면 상에서의 연료 액적(60")의 기하학적 투영은 제1 방향(52)으로 더 작은 치수를 가지고 제2 방향(54)으로 더 큰 치수를 가진다. 전파 축은 도 3의 레이저 빔 경로(32)에 해당한다. 따라서, 도 4에서 연료 액적(60")에 대한 도면은 도 2 내지 3에서 XY 평면에 해당하는 것이다.
도 4의 행(B)에 예시된 바와 같이, 연료 액적(60")의 질량은 제1 방향(54)보다 제2 방향(54)을 따라 더 큰 거리에 걸쳐 공간적으로 분포된다. 연료 액적(60")의 타원 형상은 감지 시스템(16)에 의해 감지된 특성에 상응하는 효과를 갖는다. 이러한 실시예에서, 원형 편광된 프리 펄스가 연료 액적(60")을 컨디셔닝하기 위해 사용된다. 그러나, 프리 펄스와 연료 액적(60") 사이의 상호작용으로 인해 연료 액적(60")은 제1 및 제2 방향(52, 54)에서 서로 상이한 레이트로 팽창하게 될 수 있다. 제2 방향(54)을 따르는 질량은 관성으로 인해 제1 방향(52)을 따르는 질량보다 이동에 대해 더 큰 저항을 갖는다. 컨디셔닝되면, 연료 액적(60")은 제2 방향(54)을 따른 팽창 레이트에 비해 제1 방향(52)을 따라 더 빠른 레이트로 팽창한다. 그 결과, 컨디셔닝된 연료 액적(60")은 제1 방향(52)으로 더 큰 치수 및 제2 방향(54)으로 더 작은 치수를 갖는다. 컨디셔닝된 연료 액적(60")은 회전타원체의 분포에서 벗어나는 공간적 질량 분포를 갖기 때문에 이상적이지 않거나 바람직하지 않은 것으로 간주될 수도 있다. 컨디셔닝된 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포가 이상적이지 않거나 바람직하지 않은 경우 플라즈마 형성 프로세스는 악영향을 받을 수 있다.
일 실시예에서, 연료 액적(60")은 1 마이크론의 피코초 또는 낮은 나노초(예를 들어, 5ns 이하) 프리 펄스에 의해 컨디셔닝된다. 다른 펄스 지속시간(예를 들어, 펨토초 등 또는 다른 파장)이 사용될 수 있음을 이해할 것이다. 연료 액적(60")의 결과적인 팽창은 연료 액적(60")의 중심에서 팽창하는 공동을 생성하는 충격파에 의해 유발되는 것으로 이해된다. 구형의 연료 액적(60")의 경우, 공동의 팽창은 레이저 빔 경로(32)에 직교하는 평면에서 등방성일 수 있다. 대조적으로, 비구형의 연료 액적(60")에서 유발된 공동화(cavitation)는 레이저 빔 경로(32)에 직교하는 평면에서 비등방성 팽창을 초래할 수 있다. 비구형의 연료 액적(60")에서의 공동 팽창은, 연료 액적(60")이 더 낮은 관성 질량을 갖는 방향으로 더 빠른 레이트로 팽창하게 하는 것으로 여겨진다. 열(B)의 실시예에서, 연료 액적(60")은 제1 및 제2 방향(52, 54)을 따른 관성 질량의 차이로 인해 제2 방향(54)보다 제1 방향(52)을 따라 더 큰 속도로 팽창한다.
도 4의 행(C)에서, 연료 액적(60")은 프리 펄스가 연료 액적(60")에 입사될 때 비구형의 공간적 질량 분포를 갖는다. 이러한 실시예에서, 감지 시스템(16)은 연료 액적(60')(도 2에 도시됨)의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지한다. 그 다음에 프로세서(20)는 프리 펄스가 연료 액적(60")에 입사될 때 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포를 예측한다. 감지된 특성에 응답하여, 제어 시스템(44)은 프리 펄스의 편광을 조절한다. 프리 펄스의 편광은, 프리 펄스가 연료 액적(60")에 입사될 때 연료 액적(60")의 예측된 공간적 질량 분포에 기초해 결정된다.
도 4의 열(48), 행(C)은 프리 펄스의 편광을 원형 편광과 선형 편광의 조합을 포함하는 것으로 나타낸다. 조합은 타원 편광으로 간주될 수 있다. 프리 펄스는 제1 방향(52)에 평행한 제1 크기의 제1 전계 벡터를 포함한다. 프리 펄스는 제2 방향(54)에 평행한, 제1 크기보다 작은 제2 크기의 제2 전계 벡터를 포함한다. 제어 시스템(44)은, 감지된 특성에 응답하여 제1 크기와 제2 크기 사이의 비율을 조절하도록 동작한다. 이러한 비율은 도 3에 도시된 포켈스 셀(38)에 의해 프리 펄스의 편광을 변화시킴으로써 조절될 수 있다. 이러한 실시예에서, 프리-펄스가 제1 방향(52)에 평행하게 배향된 장축을 갖는 타원 편광을 갖도록 제1 및 제2 크기 사이의 비율이 선택된다.
프리 펄스의 전계 벡터는 가장 큰 크기를 갖는 전계 벡터에 평행한 방향으로 연료 액적(60")의 팽창 레이트를 제한한다고 여겨진다. 연료 액적(60")의 더 작은 치수에 대응하는 방향과 평행하도록 가장 큰 크기를 갖는 전계 벡터를 정렬함으로써, 전계는 해당 방향으로의 연료 액적(60")의 팽창 레이트를 제한하는 역할을 한다. 편광 제어를 사용하여 팽창 레이트를 제한하면 특정 방향에 대한 관성 질량에 따라 달라지는 팽창 레이트를 상쇄할 수 있다. 행(C)으로 도시된 실시예에서, 타원 편광된 프리 펄스는 제2 전계 벡터보다 더 큰 크기를 갖는 제1 전계 벡터를 갖는다. 제1 전계 벡터는 제1 방향(52)과 평행하도록 정렬된다.
제1 및 제2 전계 벡터 사이의 비율은 제1 및 제2 방향(52, 54)에서 연료 액적의 팽창 레이트에 영향을 미칠 수 있다. 제1 전계 벡터의 더 큰 크기는 제1 방향(52)으로의 팽창 레이트를 제한할 수 있다. 대조적으로, 제2 전계 벡터의 상대적으로 더 작은 크기는 제2 방향(54)에서 동일한 정도로 팽창 레이트를 제한하지 않을 수도 있다. 연료 액적(60")의 예측된 공간적 질량 분포는 제1 및 제2 전계 벡터의 크기 사이의 비율을 결정하는 데 사용될 수 있다. 구형의 공간적 질량 분포의 경우, 제1 및 제2 전계 벡터의 크기가 동일하도록 선택될 수 있다. 따라서, 프리 펄스는 행(A)으로 도시된 바와 같이 원형 편광을 가질 수 있다. 비구형의 공간적 질량 분포의 경우, 제1 및 제2 전계 벡터의 크기는 연료 액적(60")의 상이한 치수의 크기에 따라 선택될 수 있다. 프리 펄스는 행(C)으로 도시된 바와 같이 제1 방향(52)에 평행하도록 선택된 장축을 갖는 타원 편광을 가질 수 있다.
컨디셔닝된 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포에 대한 프리 펄스의 편광의 효과를 추가로 예시하기 위해, 선형 편광된 프리 펄스와 구형의 연료 액적(60") 간의 상호작용(열(46), 행(A)으로 도시됨)을 설명한다. 행(D)으로 도시된 실시예에서, 프리 펄스는 제1 방향(52)과 평행하도록 정렬된 제1 전계 벡터를 갖는 선형 편광을 갖는다. 즉, 제2 방향(54)과 정렬된 제2 전계 벡터는 사실상 0의 크기를 갖거나 제1 전계 벡터보다 크기가 훨씬 더 작다. 연료 액적(60")은 프리 펄스가 입사될 때 구형의 공간적 질량 분포를 갖는다. 프리 펄스의 제1 전계 벡터는 제1 방향(52)으로의 팽창을 제한한다. 그러나, 연료 액적(60")은 제2 방향(54)으로 더 큰 레이트로 팽창한다. 따라서, 연료 액적(60")은 컨디셔닝될 때 타원형의 공간적 질량 분포를 갖도록 팽창한다.
따라서 제어 시스템(44)은, 프리 펄스가 연료 액적(60")에 입사되어 연료 액적(60")을 컨디셔닝할 때 연료 액적(60")의 예측된 공간적 질량 분포에 기초하여 프리 펄스에 대한 적절한 편광을 결정할 수 있다.
일 실시예에서, 감지 시스템(16)은 제어 시스템(44)을 교정하기 위한 특성을 결정하는 데에 사용될 수 있다. 이러한 특성은 연료 액적(60)의 오실레이션의 진폭, 주파수 및/또는 위상을 지칭한다. 오실레이션의 주파수 및 위상은 액적 생성기(3a)의 구성 및 연료 액적(60)의 물리적 속성에 의존한다. 다른 요인들도 오실레이션의 주파수와 위상에 영향을 미칠 수 있다. 그러나 오실레이션의 진폭은 특히 플라즈마(7)에 의해 방출되는 에너지의 영향을 받을 수 있다. 특성(예를 들어, 진폭, 주파수 및/또는 위상)은 감지 시스템(16)에 의해 감지된 연료 액적(60')의 공간적 질량 분포(도 2에 도시됨)에 의해 결정된다. 그러면 이러한 특성은, 프리 펄스가 연료 액적(60")과 상호작용할 때 연료 액적(60")의 공간적 질량 분포를 예측하는 데에 사용된다. 각각의 연료 액적은 각각의 연료 액적이 프리 펄스와 상호작용할 때 동일한 공간적 질량 분포를 갖는 것으로 가정되도록 동일한 특성을 갖는 것으로 가정될 수 있다. 그 다음에 제어 시스템(44)은 각각의 프리 펄스가 연료 액적을 컨디셔닝하기 위해 동일한 편광을 갖도록 편광을 조절할 수 있다. 따라서, 일 실시예에서, 제어 시스템(44)은 각각의 연료 액적에 대해 개별적으로 프리 펄스의 편광을 지속적으로 조절하지 않아도 될 수 있다.
다른 실시예에서, 감지 시스템(16)은 각각의 연료 액적에 대한 특성에 관한 정보(예를 들어, 위에서 설명된 바와 같은 오실레이션의 진폭, 주파수 및/또는 위상)를 제공할 수 있다. 이러한 정보는, 프리 펄스가 해당 연료 액적에 입사될 때 각각의 연료 액적에 대한 공간적 질량 분포를 예측하기 위해 프로세서(20)에 의해 처리될 수 있다. 그 다음에 제어 시스템(44)은 각각의 연료 액적을 컨디셔닝하기 위한 프리 펄스의 편광을 제어하기 위해 포켈스 셀(38)을 조절할 수 있다. 그러므로 제어 시스템(44)은, 메인 펄스와 컨디셔닝된 연료 액적 사이의 상호작용이 최적화되거나 개선될 수 있도록 각각의 연료 액적을 컨디셔닝하기 위해 이상적인 또는 최적으로 편광된 프리 펄스를 제공할 수 있다. 이러한 특성이 각각의 연료 액적에 대해 개별적으로 변화하도록 플라즈마 형성 프로세스에 의해 방출된 에너지가 변하는 경우, 각각의 프리 펄스에 대해 상이한 편광을 제공하게 되면 연료 액적 컨디셔닝 프로세스를 적절하게 제어할 수 있다.
감지 시스템(16)은 임의의 적절한 형태를 취할 수 있음을 이해할 것이다. 도시된 실시예에서, 감지 시스템(16)은 레이저 시트(26)를 생성하기 위한 조명 시스템(24)을 포함한다. 임의의 적절한 레이저 시트 치수가 사용될 수 있음을 이해할 것이다. 다른 실시예에서, 대안적인 감지 시스템(16)이 제공될 수 있다. 예를 들어, 감지 시스템(16)은 조명된 연료 액적에 의해 투영된 그림자(shadow)를 이용하여 특성을 감지하도록 구성된 그림자 그래픽(shadowgraphy) 시스템을 포함할 수 있다.
레이저 시스템(1)은 임의의 적절한 방식으로 구성될 수 있음을 이해할 것이다. 레이저 시스템(1)은 임의의 적절한 파장, 펄스 개수, 펄스 지속시간, 펄스 에너지 등을 갖는 제1 및 제2 레이저 방사선을 제공하도록 구성될 수 있다. 일 실시예에서, 프리 펄스는 1 마이크론의 파장, 15 ps의 펄스 지속시간, 4 mJ의 펄스 에너지, 30 ㎛ 이상의 빔 폭(예를 들어, 30 ㎛ 직경의 연료 액적(60)에 대해)을 갖는다. 다른 실시예에서, 프리 펄스의 파장은 약 10㎛ 일 수 있다.
본 명세서에서는 IC의 제조에 리소그래피 장치를 사용하는 것에 대해 특별히 언급할 수 있지만, 여기에 설명된 리소그래피 장치는 다른 응용예를 가질 수 있음을 이해해야 할 것이다. 가능한 다른 응용 분야로는, 통합된 광학 시스템, 자기 도메인 메모리를 위한 안내 및 검출 패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD) 및 박막 자기 헤드 등의 제조가 있다.
문맥상 허용되는 한, 본 명세서의 실시예는 하드웨어, 펌웨어, 소프트웨어 또는 이들의 임의의 조합으로 구현될 수 있다. 본 발명의 실시예는 또한 하나 이상의 프로세서에 의해 판독되고 실행될 수 있는 기계 판독가능한 매체 상에 저장된 명령으로서 구현될 수 있다. 기계 판독가능한 매체는 기계(예를 들어, 컴퓨팅 디바이스)에 의해 판독가능한 형태로 정보를 저장 또는 전송하기 위한 임의의 메커니즘을 포함할 수 있다. 예를 들어, 기계 판독가능한 매체는 판독 전용 메모리(ROM); 랜덤 액세스 메모리(RAM); 자기 저장 매체; 광 저장 매체; 플래시 메모리 디바이스; 전기, 광학, 음향 또는 기타 다른 형태의 전파 신호(예를 들어, 반송파, 적외선 신호, 디지털 신호 등) 등을 포함할 수 있다. 또한, 펌웨어, 소프트웨어, 루틴, 명령이 특정 동작을 수행하는 것으로 본 명세서에서 설명될 수 있다. 그러나, 이러한 설명은 단지 편의를 위한 것이며, 그러한 동작은 실제로 컴퓨팅 디바이스, 프로세서, 제어기, 또는 펌웨어, 소프트웨어, 루틴, 명령 등을 실행하는 다른 디바이스로부터 인한 것이며 이를 행할 때 액추에이터 또는 다른 디바이스가 물리계와 상호작용하게 될 수 있다는 점을 인식할 것이다.
이상에서 발명의 특정 실시예들이 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 앞선 설명은 예시적인 것으로 의도되며, 제한적인 것으로 의도되지 않는다. 따라서, 이하 제시되는 청구 범위로부터 벗어남이 없이, 기술된 본 발명에 대해 수정이 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.
Claims (21)
- 레이저 생성 플라즈마 유형의 방사선 소스로서,
연료 액적을 제공하도록 구성된 액적 생성기;
제1 레이저 방사선 및 제2 레이저 방사선을 제공하도록 구성된 레이저 시스템 - 제1 레이저 방사선은 제2 레이저 방사선의 수광을 위해 상기 연료 액적을 컨디셔닝하도록 동작하고, 상기 제2 레이저 방사선은 컨디셔닝된 연료 액적을 플라즈마로 변환하도록 동작함 -;
연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지하도록 구성된 감지 시스템; 및
감지된 특성의 제어 하에 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하도록 동작하는 제어 시스템을 포함하는, 방사선 소스. - 제1항에 있어서,
감지 시스템은 제1 레이저 방사선의 전파 축에 수직인 평면 상에서의 연료 액적의 기하학적 투영을 감지하도록 구성되며, 기하학적 투영은 제1 방향으로 더 작은 치수를 가지고 제1 방향과는 상이한 제2 방향으로 더 큰 치수를 가지며,
감지된 특성에 응답하여, 제어 시스템은, 제1 레이저 방사선이 상기 제1 방향에 평행하고 제1 크기를 갖는 제1 전계 벡터와 상기 제2 방향에 평행하고 상기 제1 크기보다 작은 제2 크기를 갖는 제2 전계 벡터를 갖도록, 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하는, 방사선 소스. - 제2항에 있어서,
상기 제어 시스템은 상기 감지된 특성에 응답하여 상기 제1 크기와 상기 제2 크기 사이의 비율을 조절하도록 동작하는, 방사선 소스. - 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 제어 시스템은 상기 제1 레이저 방사선이 상기 제1 방향에 평행하게 배향되는 장축을 갖는 타원 편광을 갖도록 편광을 조절하도록 동작하는, 방사선 소스. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 감지 시스템은:
연료 액적의 하나 이상의 이미지를 캡처하도록 구성된 센서; 및
상기 하나 이상의 이미지로부터, 상기 특성을 나타내는 정보를 결정하도록 구성된 프로세서를 포함하는, 방사선 소스. - 제5항에 있어서,
상기 프로세서는, 상기 특성을 나타내는 정보로부터, 상기 제1 레이저 방사선이 상기 연료 액적과 상호작용할 때 상기 연료 액적의 공간적 질량 분포를 예측하도록 구성되는, 방사선 소스. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 감지 시스템은 상기 특성을 나타내는 정보를 획득하기 위해 조명 방사선으로 상기 연료 액적을 조명하도록 구성된 조명 시스템을 더 포함하는, 방사선 소스. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 특성은 상기 공간적 질량 분포의 오실레이션의 진폭, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 나타내는, 방사선 소스. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하기 위한 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소를 더 포함하는, 방사선 소스. - 제9항에 있어서,
상기 제어 시스템은 상기 감지된 특성에 응답하여 상기 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소를 조절하도록 동작하는, 방사선 소스. - 리소그래피 시스템으로서,
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 방사선 소스; 및
기판 상에 패턴을 이미징하기 위해 상기 방사선 소스에 의해 제공되는 방사선을 사용하도록 구성된 리소그래피 장치를 포함하는, 리소그래피 시스템. - 연료 액적을 제공하는 단계;
레이저 시스템을 사용하여 제1 레이저 방사선 및 제2 레이저 방사선을 제공하는 단계;
연료 액적의 공간적 질량 분포의 오실레이션의 특성을 감지 시스템으로 감지하는 단계;
감지된 특성의 제어 하에 제1 레이저 방사선의 편광을 제어 시스템으로 조절하는 단계;
제2 레이저 방사선의 수광을 위해 제1 레이저 방사선으로 연료 액적을 컨디셔닝하는 단계; 및
상기 제2 레이저 방사선으로, 컨디셔닝된 연료 액적을 플라즈마로 변환하는 단계를 포함하는, 방법. - 제12항에 있어서,
제1 레이저 방사선의 전파 축에 수직인 평면 상에서의 연료 액적의 기하학적 투영이 제1 방향으로 더 작은 치수를 가지고 제1 방향과는 상이한 제2 방향으로 더 큰 치수를 가지는 것을 감지하는 단계; 및
감지된 특성에 응답하여, 제1 레이저 방사선이 상기 제1 방향에 평행하고 제1 크기를 갖는 제1 전계 벡터와 상기 제2 방향에 평행하고 상기 제1 크기보다 작은 제2 크기를 갖는 제2 전계 벡터를 갖도록, 제1 레이저 방사선의 편광을 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제13항에 있어서,
상기 감지된 특성에 응답하여 상기 제1 크기와 상기 제2 크기 사이의 비율을 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 제1 레이저 방사선이 상기 제1 방향에 평행하게 배향되는 장축을 갖는 타원 편광을 갖도록 편광을 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
연료 액적의 하나 이상의 이미지를 캡처하는 단계; 및
상기 하나 이상의 이미지로부터, 상기 특성을 나타내는 정보를 결정하는 단계를 포함하는 방법. - 제16항에 있어서,
상기 특성을 나타내는 정보로부터, 상기 제1 레이저 방사선이 상기 연료 액적과 상호작용할 때 상기 연료 액적의 공간적 질량 분포를 예측하는 단계를 포함하는 방법. - 제12항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 특성을 나타내는 정보를 획득하기 위해 조명 방사선으로 상기 연료 액적을 조명하는 단계를 포함하는 방법. - 제12항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 레이저 방사선의 편광을 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소로 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제19항에 있어서,
상기 감지된 특성에 응답하여 상기 적어도 하나의 조절가능한 편광 요소를 조절하는 단계를 포함하는 방법. - 제12항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 방사선 소스를 제공하는 단계; 및
상기 방사선 소스에 의해 제공되는 방사선을 사용하여 기판 상에 패턴을 이미징하는 단계를 포함하는 방법.
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP5765759B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2015-08-19 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および方法 |
| US9366967B2 (en) * | 2011-09-02 | 2016-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
| NL2009358A (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-26 | Asml Netherlands Bv | Radiation source. |
| JP6081711B2 (ja) * | 2011-09-23 | 2017-02-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 放射源 |
| JP2013251100A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Gigaphoton Inc | 極紫外光生成装置及び極紫外光生成方法 |
| US9232623B2 (en) * | 2014-01-22 | 2016-01-05 | Asml Netherlands B.V. | Extreme ultraviolet light source |
| JP6434984B2 (ja) * | 2014-10-24 | 2018-12-05 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム及び極端紫外光を生成する方法 |
| WO2016117118A1 (ja) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | 国立大学法人九州大学 | Ｅｕｖ光生成システム及びｅｕｖ光生成方法、並びにトムソン散乱計測システム |
| WO2017216847A1 (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置及び極端紫外光生成装置 |
| CN206162054U (zh) * | 2016-10-31 | 2017-05-10 | 兰州大学 | 一种双脉冲碰撞等离子体极紫外光刻光源产生装置 |
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Patent Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2015029116A (ja) * | 2010-02-19 | 2015-02-12 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法 |
| JP2015195216A (ja) * | 2010-03-29 | 2015-11-05 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および方法 |
| JP2015520513A (ja) * | 2012-05-21 | 2015-07-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 放射源 |
| JP2017511892A (ja) * | 2014-02-24 | 2017-04-27 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィシステム |
| WO2016146400A1 (en) * | 2015-03-18 | 2016-09-22 | Asml Netherlands B.V. | A radiation system and method |
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