KR20200119056A - 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기 및 이를 구비한 가스처리장치 - Google Patents

유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기 및 이를 구비한 가스처리장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기 및 이를 구비한 가스처리장치에 관한 것으로, 플라즈마 반응기는 플라즈마 반응부를 형성하도록 설치된 제1방전전극과 제2방전전극을 구비하여 제작된 플라즈마 반응기에서, 제1방전전극과 제2방전전극 중 적어도 하나는 구형으로 제작되고, 가스 처리 용량별로 모듈화가 가능하며, 가스처리장치는 상기 플라즈마 반응기를 구비함으로써, 피처리 가스의 유동이 교란되고, 이로 인해 피처리 가스와 플라즈마 간의 혼합 반응이 촉진되어 멸균, 탈취 및 분해 등의 가스처리 성능이 향상될 수 있다.

Description

유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기 및 이를 구비한 가스처리장치{Plasma Reactor of Dielectric Barrier Discharge and Gas Treatment Equipment}
본 발명은 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 제1방전전극과 제2방전전극 중 적어도 하나는 구형 전극이고, 전극의 표면에 유전체층이 형성됨으로써, 방전 플라즈마의 안전성, 제어성 및 내구성이 향상되도록 한 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기 및 이를 구비한 가스처리장치에 관한 것이다.
일반적으로, 소각장, 제조공장 등의 각종 산업시설이나 자동차에서 배출되는 각종 유해가스를 처리하기 위해 플라즈마 반응기가 유해가스정화장치로 사용되고 있으며, 최근에는 멸균, 탈취 및 공기 중의 유해물질 분해 등을 목적으로 하는 각종 공기정화장치로서도 폭 넓게 응용되고 있다. 이 플라즈마 반응기는 방전 플라즈마 발생하는 과정에서 발생하는 음이온, 양이온, 라디칼, 오존 등을 포함한 다양한 활성종에 의해 휘발성 유기화합물 등을 비롯한 각종 유해물질의 분해, 멸균, 탈취 등의 작용이 효과적으로 이루어지도록 활용되고 있다.
여기서, 대기압에서 이용되는 방전방식으로는 코로나 방전, 유전체방전, 및 스파크 방전 등이 있다. 특히, 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge)은 유전체를 사이에 두고 대향하는 두 전극에 고전압을 인가하는 방전 방식이다. 이 유전체 장벽 방전은 대기압 하에서 급격하고 불안정한 스파크 방전의 발생을 억제하면서 플라즈마를 비교적 안정적으로 생성하는 방식으로, 최근 그 개발과 실용적인 응용이 확대되고 있다.
이러한 유전체 장벽 방전을 이용한 플라즈마 반응기에 대한 선행 기술은 일례로, 대한민국 등록특허 제10-1156604호에서 유전체를 사이에 두고 평판의 전극들이 배치되어 구성되어 있다. 다른 예로, 대한민국 등록특허 10-1450551에서는 전극의 선단이 예리한 원추형 돌기인 것으로 구성되어 있다. 이처럼 다양한 플라즈마 반응기 및 이를 구비한 가스처리 장치가 제안되고 있다.
하지만, 평판형전극인 경우 고강도의 전계 형성이 불리하다는 문제점이 있다.
또한, 원추형 돌기 형태인 경우 스파크 포인트가 전극의 선단에 집중되므로 전극의 방전 플라즈마에 의한 열화 침식 및 마모가 집중되어 전극의 수명이 단축되는 문제점이 있다.
또한, 전극 간의 간격이 고정되어 있으므로 전극 간격에 적합한 최적의 방전 전압을 결정하여 플라즈마를 형성에 유리하지만, 안정적인 방전 전압의 범위는 한정되므로 가스조성의 변화, 플라즈마 존재 유무, 전압의 변동 등이 발생하는 경우 방전 플라즈마의 상태도 변동되거나 불안정하다는 문제점이 있다.
일본 2017-157298 A (2017.09.07. 공개) 대한민국 등록특허 제10-1156604호(2012.06.15 공고) 대한민국 등록특허 제10-1450551호(2014.10.15 공고) 대한민국 등록특허 제10-1500420호(2015.03.10 공고) 대한민국 등록특허 제10-0285239호(2001.04.02 공고)
상기된 문제점을 해소하기 위해 안출된 본 발명의 목적은 적어도 하나의 전극이 구형으로 형성되고, 전극 표면에 유전체층이 구비됨으로써, 방전전압의 인가 범위가 확대되고, 고농도 플라즈마가 안정적으로 생성되고, 고효율의 가스처리 능력을 갖는 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기를 제공함에 있다.
한편, 본 발명의 다른 목적은 상기된 플라즈마 반응기가 일정 처리 용량 단위로 모듈화된 가스처리장치를 제공함에 있다.
상술된 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기는 플라즈마 반응부를 형성하도록 설치된 제1방전전극과 제2방전전극을 구비하여 제작된 플라즈마 반응기에서, 제1방전전극과 제2방전전극 중 적어도 하나는 구형일 수 있다.
일례로, 평판의 제1방전전극과 접촉 또는 인접하게 구형의 제2방전전극이 배치될 수 있다.
다른 예로, 구형의 제1방전전극들 사이에 구형의 제2방전전극이 배치될 수 있다.
또 다른 예로, 중공의 원통형의 제1방전전극 내부에 구형의 제2방전전극이 배치될 수 있다.
여기서, 제1방전전극과 제2방전전극은 서로 접촉하거나 인접하여 배치될 수 있다.
또한, 제1방전전극과 제2방전전극 중 적어도 하나의 전극 표면에는 유전체층이 성형될 수 있다.
한편, 제1방전전극이 장착되면서 피처리 가스가 통과하는 내부 공간이 마련되도록 제작되고, 제1방전전극의 적어도 일부위 표면이 내부 공간에 노출되도록 배치되며, 내부 공간에 플라즈마 방전부가 형성되도록 제2방전전극이 배치된 절연체;와 제1방전전극 또는 제2방전전극에 직접 접속 또는 전극연결축을 통해 접속되어 전력을 공급하도록 설치된 방전전원; 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.
또한, 상술된 제1방전전극, 제2방전전극과 절연체 및 고전압 방전전원 등을 포함한 구성요소가 내장되는 케이스;를 더 포함하고, 일정 처리 용량별로 모듈화될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 가스처리장치는 상술된 플라즈마 반응기; 제1방전전극과 제2방전전극에 전력을 공급하도록 설치된 방전전원; 플라즈마 반응기로 유입되는 피처리 가스를 전처리하도록 설치된 전처리필터; 플라즈마 반응기를 통과한 피처리 가스를 후처리하도록 설치된 후처리필터;와 플라즈마 반응기를 통과한 피처리 가스를 강제 배출하도록 설치된 송풍기; 중 적어도 하나를 포함하여 제작될 수 있다.
전술된 바와 같이 본 발명에 따르면, 제1방전전극 및/또는 제2방전전극 중 적어도 하나의 전극이 구형 형태로 제작되어 피처리 가스의 유동이 교란됨으로써, 피처리 가스와 플라즈마 간의 혼합 반응이 촉진되어 멸균, 탈취 및 분해 등의 가스처리 성능이 향상될 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1방전전극 및/또는 제2방전전극이 구형 형태로 제작됨으로써, 구형 전극 부분에 고강도 전계가 형성됨으로써, 방전전압 및 전력이 저감되고, 전류 밀도가 높은 고농도의 플라즈마가 생성되며, 낮은 방전 전압으로도 멸균, 탈취 및 분해 등의 가스처리 성능이 향상될 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1방전전극 및/또는 제2방전전극의 표면에 소정의 두께로 유전체층을 피복하여 유전체층의 장벽 효과를 유도함으로써, 플라즈마 방전이 급격하고 불안정한 스파크방전으로 전이되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1방전전극 및/또는 제2방전전극이 구형 형태로 제작되어 전극 간의 간격이 비선형으로 증가함으로써, 방전 영역이 확대되고, 이로 인해 방전 전압의 인가 범위가 확대되어 안정성이 향상되며, 피처리 가스 성분, 플라즈마 유무 및 인가전압 등의 전기적 특성 변동에도 안정적인 방전 플라즈마가 생성될 수 있다. 이와 더불어 피처리 가스의 조성과 압력 등의 물리 화학적 특성, 전압 및 전류 등의 전기적 특성 등의 변동에 대응하는 전극 간격의 범위가 넓기 때문에 방전 플라즈마의 안정적인 운전 범위가 크게 향상될 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1방전부 및 제2방전부가 플라즈마 반응부를 형성하고, 피처리 가스가 플라즈마 반응부를 통과함으로써, 피처리 가스와 플라즈마의 직접 접촉 반응을 유도하여 멸균, 탈취 및 분해 등의 가스처리 성능이 향상될 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1방전전극 및/또는 제2방전전극이 구형 형태로 제공되어 스파크 포인트 또한 넓은 영역에 분포됨으로써, 내침식, 내마모성이 현저히 향상되어 전극의 수명이 연장될 수 있는 효과가 있다.
그리고 본 발명에 따른 플라즈마 반응기가 처리 용량 단위로 모듈화됨으로써, 각종 다양한 가스처리장치에 간단히 적용 가능하고, 가스처리 용량의 변화에도 용이하게 대응할 수 있는 효과가 있다.
본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 안 된다.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 플라즈마 반응기기 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 플라즈마 반응기의 정면 및 측면이 도시된 단면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 플라즈마 반응기의 방전 효율 특성이 도시된 그래프이다.
도 4는 도 1에 도시된 플라즈마 반응기의 방전 에너지 특성이 도시된 그래프이다.
도 5는 도 1에 도시된 플라즈마 반응기의 전극 마모량 특성이 도시된 그래프이다.
도 6은 본 발명의 제2실시 예에 따른 플라즈마 반응기의 정면이 도시된 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제3실시 예에 따른 플라즈마 반응기의 정면이 도시된 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제1실시 예에 따른 플라즈마 반응기의 모듈이 도시된 구성도이다.
도 9는 본 발명의 제1실시 예에 따른 플라즈마 반응기를 구비한 가스처리장치가 도시된 구성도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 쉽게 실시할 수 있도록 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 동작 원리를 상세하게 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2구성요소는 제1구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2구성요소로 명명될 수 있다.
및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.
본 출원에서 "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
<플라즈마 반응기>
본 발명의 제1실시 예에 따른 플라즈마 반응기(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 절연체(110), 제1방전전극(120), 유전체층(130)과 제2방전전극(140)을 포함하여 이루어진다.
절연체(110)는 부도체인 고분자 합성수지, 세라믹 등으로 제작될 수 있고, 피처리 가스가 유입되어 통과하도록 전면(前面)과 후면(後面)이 개방되도록 설치될 수 있다. 이 절연체(110)의 내부에는 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)이 배치되고, 제1방전전극(120) 및 제2방전전극(140)에 의해 발생하는 플라즈마가 외부와 차단되도록 제작될 수 있다. 여기서, 절연체(110), 제1방전전극(120) 및 제2방전전극(140)의 자세한 설치 구조는 후술한다.
제1방전전극(120)은 도 1 내지 도 2b에서 보듯이, 절연체(110)의 내부에 일부 표면이 노출되도록 배치되고, 방전전원(300)으로부터 전력을 인가받도록 설치될 수 있다. 이때, 제1방전전극(120)은 일부위의 표면이 절연체(110)의 내부 공간에 노출되고, 나머지 부위가 절연체(110)에 매립되도록 설치될 수 있다. 이러한 제1방전전극(120)은 평판형 전극인 것이 바람직하고, 구형의 전극으로 제작될 수 있다. 이 제1방전전극(120)은 피처리 가스의 유동 구조와 제2방전전극(140)의 형태를 고려하여 구형 전극을 비롯하여 다양한 형태로 제작될 수 있다.
유전체층(130)은 절연체(110)의 내부에 노출된 제1방전전극(120)의 표면과, 절연체(110)의 내부에 위치된 제2방전전극(140)의 표면 중 적어도 하나의 표면에 소정 두께로 피복되어 성형될 수 있다. 다른 측면에서 설명하자면, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)에 의해 플라즈마 반응부(160)가 형성되고, 이 플라즈마 반응부(160)에 노출된 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140) 중 적어도 하나의 표면에 피복되어 유전체층(130)이 성형될 수 있다.
이러한 유전체층(130)은 세라믹, 석영, 유리, 파이렉스 유리, 고무, 테프론, 실리콘, 알루미나, 산화티탄, 실리카, 산화주석, 이산화티타늄, 산화지르코늄과 메타타이타늄산바륨 등과 같은 전기적 절연성과 유전성을 동시에 갖는 재질이 단독 또는 2이상 혼합된 유전체가 단층 또는 다층으로 도포되어 성형될 수 있다. 여기서, 유전체층(130)이 다층인 경우 각 층마다 재질이 동일하거나 다를 수 있다. 또한, 유전체층(130)의 층수, 총 두께 및 재질의 변화를 통해 플라즈마의 특성을 변화시킬 수 있고, 층별 재질을 다르게 하여 전극 특성을 강화하거나 방수기능을 갖도록 할 수도 있다.
제2방전전극(140)은 구형으로 제작된다. 각 제2방전전극(140)에는 전극연결축(150)이 설치되고, 이들 전극연결축(150)은 외부의 방전전원(300)으로부터 전력을 공급받도록 설치될 수 있다. 또한, 제2방전전극(140)들은 절연체(110)에 내부에 설치되고, 절연체(110)의 크기에 따라 평면상 가로 및 세로의 1열 이상 배치될 수 있다. 이러한 제2방전전극(140)들은 절연체(110)의 내부에 노출된 제1방전전극(120)들 사이에 배치될 수 있다. 이때, 제2방전전극(140)과 제1방전전극(120)은 상호 접촉하거나, 미리 설정된 소정의 간격 이하로 인접하도록 배치될 수 있다. 여기서, 제2방전전극(140)은 평판형으로 제작될 수 있다. 그러므로 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)이 모두 구형이거나, 제1방전전극(120)은 평판이고 제2방전전극(140)은 구형이거나, 제1방전전극(120)은 구형이고 제2방전전극(140)은 평판일 수 있다.
제1방전전극(120) 및 제2방전전극(140)은 스테인리스, 텅스텐 등의 금속 또는 도전성 세라믹일 수 있다. 특히, 구형으로 제작된 전극은 구형으로 가공된 세라믹 또는 고분자 수지 등의 표면에 피복된 금속으로 가공될 수 있고, 도 7에서 보듯이 내부가 비어있는 중공구(170;Hollow Ball)로 성형될 수 있다.
이와 같이 구성된 플라즈마 반응기(100)는 외부의 방전전원(300)으로부터 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)에 전력이 인가되면 방전 플라즈마가 발생되어 플라즈마 반응부(160)가 형성되도록 제작될 수 있다. 그리고 도 2b에서 보듯이, 플라즈마 반응부(160)를 피처리 가스가 일방향으로 유동하여 통과하게 되면 피처리 가스에 포함된 각종 유해 물질이 분해, 멸균 및 탈취될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 반응기(100)는 도 3에서 보듯이, 인가전압 대비 정화효율이 평판형 전극을 갖는 종래 기술보다 더 우수할 수 있다. 또한, 도 4에서 보듯이, 평판형 전극을 구비한 종래의 기술에 비해 낮은 인가전압의 영역에서도 고밀도의 플라즈마가 발생하는 장점이 있다. 그리고 구형의 전극을 구비하여 넓은 영역에서 스파크 포인트가 발생함으로써, 예리한 선단의 원추형 전극을 갖는 종래의 기술에서 발생하는 열화에 의한 침식 및 마모 등이 전극의 선단에 집중되는 현상이 방지될 수 있다. 이로 인해, 종래 기술보다 전극의 수명이 연장될 수 있다.
<실시 예>
본 발명의 제2실시 예에 따른 플라즈마 반응기(100)는 도 6에서 보듯이, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)이 구형으로 제작되고, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140) 중 적어도 하나의 표면에 유전체층(130)이 도포될 수 있다. 또한, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)이 절연체(110) 내부에 배치되고, 측면상 제1방전전극(120)이 상, 하부에 배치되며, 제1방전전극(120)들 사이에 제2방전전극(140)이 배치되며, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)들 사이에 플라즈마 반응부(160)가 형성될 수 있다. 이때, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)은 각각의 전극연결축(150)에 의해 방전전원(300)으로부터 전력을 인가받도록 설치될 수 있다.
한편, 본 발명의 제3실시 예에 따른 플라즈마 반응기(100)는 도 7에서 보듯이, 제1방전전극(120)은 원통의 파이프 형상으로 제작되고, 제1방전전극(120)의 내면에 유전체층(130)이 형성되며, 제1방전전극(120)의 내부에 구형의 제2방전전극(140)이 배치될 수 있다. 또한, 제2방전전극(140)은 전극연결축(150)에 의해 방전전원(300)으로부터 전력을 인가받도록 설치될 수 있다. 물론, 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140) 사이에 플라즈마 반응부(160)가 형성될 수 있다.
<모듈화된 플라즈마 반응기>
상술된 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 플라즈마 반응기(100)는 도 8에서 보는 바와 같이 절연체(110), 제1방전전극(120), 제2방전전극(140), 방전전원(300)과 전원단자(310) 등을 포함한 구성요소들이 일정 크기의 케이스(600)에 내장되어 모듈화하여 제작할 수 있다. 이때, 모듈화된 플라즈마 반응기(100) 및 방전전원(300)은 미리 설정된 피처리 가스의 처리 용량별 또는 설치 조건에 적합한 피처리 가스의 처리 용량별로 제작 가능할 수 있다.
<가스처리장치>
본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 가스처리장치는 상기된 플라즈마 반응기(100) 또는 모듈화된 플라즈마 반응기를 구비할 수 있다. 좀 더 자세히 설명하자면, 도 8 및 도 9에서 보는 바와 같이, 전처리필터(200), 플라즈마 반응기(100), 방전전원(300), 후처리필터(400)와 송풍기(500)를 포함하여 이루어질 수 있다. 이들 구성요소는 피처리 가스가 유입되면 전처리필터(200)에서 먼저 필터링된 후, 플라즈마 반응기(100)에 의해 유해물질의 분해, 멸균 및 탈취 등이 이루어지고, 후처리필터(400)를 거쳐 송풍기(500)에 의해 강제로 배출되도록 구성될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술한 실시 예들은 모든 면에 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허등록청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허등록청구범위의 의미 및 범위 그리고 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100:플라즈마 반응기
110:절연체 120:제1방전전극
130:유전체층 140:제2방전전극
150:전극연결축 160:플라즈마 반응부
170:중공부
200:전처리필터
300:방전전원
310:전원단자
400:후처리필터
500:송풍기.
600:케이스.

Claims (7)

  1. 플라즈마 반응부(160)를 형성하도록 설치된 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)을 구비하여 제작된 플라즈마 반응기에서,
    상기 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140) 중 적어도 하나는 구형인 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기.
  2. 제1항에서,
    상기 평판의 제1방전전극(120)과 접촉 또는 인접하게 구형의 제2방전전극(140)이 배치되거나,
    상기 구형의 제1방전전극(120)들 사이에 구형의 제2방전전극(140)이 배치되거나,
    상기 중공의 원통형의 제1방전전극(120) 내부에 구형의 제2방전전극(140)이 배치된 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기.
  3. 제1항에서,
    상기 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)은 서로 접촉하거나 인접하여 배치된 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에서,
    상기 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140) 중 적어도 하나의 전극 표면에는 유전체층(130)이 성형된 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기.
  5. 제4항에서,
    상기 제1방전전극(120)가 장착되면서 피처리 가스가 통과하는 내부 공간이 마련되도록 제작되고, 제1방전전극(120)의 적어도 일부위 표면이 내부 공간에 노출되도록 배치되며, 내부 공간에 플라즈마 반응부(160)가 형성되도록 제2방전전극(140)이 배치된 절연체(110);와
    상기 제1방전전극(120) 또는 제2방전전극(140)에 직접 접속 또는 전극연결축(150)을 통해 접속되어 전력을 공급하도록 설치된 방전전원(300); 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기.
  6. 제5항에서,
    상기 제1방전전극(120), 제2방전전극(140), 절연체(110)와 방전전원(300)이 내장되는 케이스(600);를 더 포함하고,
    일정 처리 용량별로 모듈화된 것을 특징으로 유전체 장벽 방전 플라즈마 반응기.
  7. 제5항의 플라즈마 반응기(100);
    상기 제1방전전극(120)과 제2방전전극(140)에 전력을 공급하도록 설치된 방전전원(300);
    상기 플라즈마 반응기(100)로 유입되는 피처리 가스를 전처리하도록 설치된 전처리필터(200);
    상기 플라즈마 반응기(100)를 통과한 피처리 가스를 후처리하도록 설치된 후처리필터(400);와
    상기 플라즈마 반응기(100)를 통과한 피처리 가스를 강제 배출하도록 설치된 송풍기(500); 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스처리장치.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100285239B1 (ko) 1998-05-29 2001-04-02 윤덕용 Srtio₃계입계절연형유전체
WO2002082488A2 (en) * 2001-04-04 2002-10-17 Ecozone Technologies Ltd. Dielectric barrier discharge fluid purification system
KR101156604B1 (ko) 2010-06-29 2012-06-15 (주)수도프리미엄엔지니어링 이온클러스터 발생장치
KR101450551B1 (ko) 2008-02-21 2014-10-15 엘지전자 주식회사 조리기기의 냄새제거장치 및 상기 냄새제거장치를 포함하는조리기기.
CN104284502A (zh) * 2014-10-28 2015-01-14 南京苏曼等离子科技有限公司 一种单电极产生低温等离子体的装置
KR101500420B1 (ko) 2012-07-13 2015-03-10 주식회사 에스피텍 전극상에 도전체 돌출부를 갖는 유전체장벽 방전 방식의 플라즈마 발생 전극 구조체
JP2017157298A (ja) 2016-02-29 2017-09-07 シャープ株式会社 プラズマ生成装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100285239B1 (ko) 1998-05-29 2001-04-02 윤덕용 Srtio₃계입계절연형유전체
WO2002082488A2 (en) * 2001-04-04 2002-10-17 Ecozone Technologies Ltd. Dielectric barrier discharge fluid purification system
KR101450551B1 (ko) 2008-02-21 2014-10-15 엘지전자 주식회사 조리기기의 냄새제거장치 및 상기 냄새제거장치를 포함하는조리기기.
KR101156604B1 (ko) 2010-06-29 2012-06-15 (주)수도프리미엄엔지니어링 이온클러스터 발생장치
KR101500420B1 (ko) 2012-07-13 2015-03-10 주식회사 에스피텍 전극상에 도전체 돌출부를 갖는 유전체장벽 방전 방식의 플라즈마 발생 전극 구조체
CN104284502A (zh) * 2014-10-28 2015-01-14 南京苏曼等离子科技有限公司 一种单电极产生低温等离子体的装置
JP2017157298A (ja) 2016-02-29 2017-09-07 シャープ株式会社 プラズマ生成装置

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