KR20200093634A - Surface protective film and optical member having protective film - Google Patents

Surface protective film and optical member having protective film Download PDF

Info

Publication number
KR20200093634A
KR20200093634A KR1020207018989A KR20207018989A KR20200093634A KR 20200093634 A KR20200093634 A KR 20200093634A KR 1020207018989 A KR1020207018989 A KR 1020207018989A KR 20207018989 A KR20207018989 A KR 20207018989A KR 20200093634 A KR20200093634 A KR 20200093634A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
less
surface protection
sensitive adhesive
adhesive layer
Prior art date
Application number
KR1020207018989A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
마사토 야마가타
게이타 오가와
겐이치 가타오카
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority to KR1020247005160A priority Critical patent/KR20240025704A/en
Publication of KR20200093634A publication Critical patent/KR20200093634A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02Electrically-conducting adhesives
    • C09J2201/622
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

표면 보호 필름(10)은, 필름 기재(1)의 주면 위에 고착 적층된 점착제층(2)을 구비한다. 필름 기재(1)의 정면 리타데이션은 100㎚ 이하이다. 표면 보호 필름(10)은, 온도 60℃ 상대 습도 90%에서의 투습도가 300g/m2·24h 이하이고, 아크릴판에 대한 인장 속도 30m/분의 180° 박리력이 3N/25㎜ 이하이다. 광학 부재의 표면에, 표면 보호 필름을 접합함으로써, 보호 필름을 갖는 광학 부재가 얻어진다.The surface protection film 10 is provided with the adhesive layer 2 adhered and laminated on the main surface of the film base material 1. The front retardation of the film base material 1 is 100 nm or less. The surface protective film 10 has a moisture permeability of 300 g/m2·24h or less at a temperature of 60° C. and a relative humidity of 90%, and a 180° peel force of 30 m/min of tensile speed to an acrylic plate is 3 N/25 mm or less. By bonding the surface protective film to the surface of the optical member, an optical member having a protective film is obtained.

Description

표면 보호 필름 및 보호 필름을 갖는 광학 부재Surface protective film and optical member having protective film

본 발명은, 필름 기재 위에 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름, 및 표면 보호 필름이 접착된 광학 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a surface protection film provided with an adhesive layer on a film substrate, and an optical member to which the surface protection film is adhered.

디스플레이 등의 광학 디바이스, 전자 디바이스, 이들 디바이스의 구성 부품인 필름이나 유리 재료 등의 표면에는, 표면 보호나 내충격성 부여 등을 목적으로 하여, 표면 보호 필름이 마련되어 있다. 표면 보호 필름은, 필름 기재의 주면에 점착제층을 구비하고, 이 점착제층을 통해 보호 대상인 피착체의 표면에 접합된다.Surface protective films are provided on the surfaces of optical devices such as displays, electronic devices, and films or glass materials that are components of these devices for the purpose of surface protection and imparting impact resistance. The surface protection film is provided with an adhesive layer on the main surface of the film base material, and is bonded to the surface of the adherend to be protected through the adhesive layer.

표면 보호 필름의 기재로서는, 기계 강도 및 투명성이 우수하다는 점에서, 2축 연신 폴리에스테르 필름이나 2축 연신 폴리프로필렌 필름이 일반적으로 사용되고 있다. 2축 연신 폴리에스테르 필름이나 2축 연신 폴리프로필렌 필름은, 큰 위상차를 갖기 때문에, 편광을 이용한 검사 등에 있어서, 필름 기재의 위상차에 기인한 광 누설, 착색, 무지개 얼룩 등이 발생한다. 또한, 필름 기재의 위상차가 큰 경우에는, 투과광이나 반사광이 무지개 모양으로 착색되어 시인되기 쉽고, 액정 패널, 유기 EL 패널 등의 점등 시험 등의 광학 검사를 방해하는 요인으로 되어 있다.As a base material of a surface protection film, a biaxially stretched polyester film or a biaxially stretched polypropylene film is generally used from the viewpoint of excellent mechanical strength and transparency. Since the biaxially stretched polyester film and the biaxially stretched polypropylene film have a large phase difference, light leakage, coloring, rainbow stains, and the like due to the phase difference of the film base material are generated in inspection using polarized light. Moreover, when the phase difference of a film base material is large, transmitted light and reflected light are colored in a rainbow shape, and it is easy to be recognized, and it becomes a factor which interferes with optical inspection, such as a lighting test, such as a liquid crystal panel and an organic EL panel.

이와 같은 문제에 대해서, 특허문헌 1에서는, 필름 기재로서, 셀룰로오스계 수지 필름, 환상 올레핀계 수지 필름, 무연신 폴리프로필렌 필름 등의 저위상차 필름을 사용하는 것이 제안되어 있다.Regarding such a problem, in Patent Document 1, it is proposed to use a low-phase difference film such as a cellulose-based resin film, a cyclic olefin-based resin film, and a non-stretched polypropylene film as the film substrate.

일본 특허 공개 제2017-190406호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-190406

저위상차 필름으로서는, 일반적으로, 무연신 혹은 저연신 배율의 필름이나, 저복굴절 재료로 이루어지는 필름이 사용된다. 그러나, 폴리에스테르 필름이나 폴리프로필렌 필름 등은, 일반적으로 2축 연신에 의해 필름 면내 방향으로 분자를 배향시킴과 함께 결정화시킴으로써 기계 강도를 높이고 있기 때문에, 무연신 필름은 기계 강도가 작다. 또한, 환상 올레핀이나 아크릴 등의 저복굴절 재료로 이루어지는 필름은, 연신 필름이어도, 2축 연신 폴리에스테르 필름 등에 비하면 기계 강도가 작은 경우가 많다. 그 때문에, 피착체로부터 표면 보호 필름을 박리 제거할 때 필름 기재의 파열이나 파단이 발생하기 쉬워, 박리가 곤란해지는 경우가 있고, 특히, 고속으로 박리를 행할 때 그 경향이 현저해지기 쉽다.As a low-phase difference film, a film of a non-stretched or low-stretch magnification or a film made of a low birefringent material is generally used. However, a polyester film, a polypropylene film, or the like, usually has a mechanical strength of a non-stretched film because the mechanical strength is increased by aligning the molecules in the in-plane direction of the film by biaxial stretching and crystallization. Further, a film made of a low birefringent material such as cyclic olefin or acrylic may be a stretched film, but mechanical strength is often small compared to a biaxially stretched polyester film or the like. Therefore, when peeling and removing the surface protection film from the adherend, rupture or breakage of the film base material is likely to occur, and peeling may be difficult, and the tendency is particularly prominent when peeling at a high speed.

셀룰로오스계 필름은, 무연신의 상태에서도 면내 방향으로 분자가 배향되기 쉬운 성질을 갖고 있으며, 환상 올레핀계 필름에 비하면 높은 기계 강도를 갖고 있다. 그러나, 셀룰로오스계 필름 기재를 사용한 표면 보호 필름은, 피착체와 접합한 상태에서 고온 고습 환경에 노출되면, 피착체로부터의 박리나 들뜸이 발생하기 쉽다는 문제가 있다.The cellulose-based film has a property that molecules are easily oriented in the in-plane direction even in a non-stretched state, and has high mechanical strength as compared to a cyclic olefin-based film. However, the surface protection film using a cellulose-based film base material has a problem that, when exposed to a high temperature and high humidity environment in a state where it is bonded to an adherend, peeling or lifting from the adherend is likely to occur.

상기에 감안하여, 본 발명은, 피착체에 접합한 상태에서의 광학 검사의 방해가 되지 않고, 내습성이 우수하며, 또한 피착체로부터의 박리가 용이한 표면 보호 필름의 제공을 목적으로 한다.In view of the above, the present invention aims to provide a surface protection film that does not interfere with optical inspection in a state bonded to an adherend, has excellent moisture resistance, and is easily peelable from the adherend.

본 발명은, 필름 기재의 제1 주면 위에 고착 적층된 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름에 관한 것이다. 필름 기재의 정면 리타데이션은 100㎚ 이하이다. 필름 기재의 두께 방향 리타데이션은 100㎚ 이하가 바람직하다. 필름 기재의 인장 파단 강도는 예를 들어 200MPa 이하이고, 120MPa 이하 또는 100MPa 이하일 수 있다. 필름 기재로서는, 환상 올레핀계 필름 및 아크릴계 필름 등을 들 수 있다.The present invention relates to a surface protection film comprising an adhesive layer adhered and laminated on a first main surface of a film substrate. The front retardation of the film base material is 100 nm or less. The thickness direction retardation of the film base material is preferably 100 nm or less. The tensile strength at break of the film substrate is, for example, 200 MPa or less, and may be 120 MPa or less or 100 MPa or less. As a film base material, a cyclic olefin type film, an acrylic type film, etc. are mentioned.

표면 보호 필름은, 온도 60℃ 상대 습도 90%에서의 투습도가 300g/㎡·24h이하이다. 표면 보호 필름의 투습도를 상기 범위로 하기 위해서는, 필름 기재의 투습도가 상기 범위인 것이 바람직하다.The surface protective film has a moisture permeability of 300 g/m 2 ·24h or less at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90%. In order to set the moisture permeability of the surface protective film to the above range, it is preferable that the moisture permeability of the film substrate is within the above range.

표면 보호 필름은, 아크릴판에 대한 인장 속도 30m/분의 180° 박리력이 3N/25㎜ 이하이고, 바람직하게는 2.5N/25㎜ 이하이다. 특히, 필름 기재가 저파단 강도(예를 들어, 인장 파단 강도가 120MPa 이하)인 경우에, 고속 박리 시의 필름 파열이나 파단을 방지하기 위해서는, 표면 보호 필름의 인장 속도 30m/분의 180° 박리력은 2N/25㎜ 이하가 바람직하다.The surface protection film has a 180° peel force of 30 m/min of tensile speed to an acrylic plate of 3 N/25 mm or less, and preferably 2.5 N/25 mm or less. In particular, when the film base material has a low breaking strength (for example, a tensile breaking strength of 120 MPa or less), in order to prevent film rupture or breaking during high-speed peeling, 180° peeling of a tensile speed of 30 m/min of the surface protection film The force is preferably 2 N/25 mm or less.

점착제층의 두께는 1 내지 50㎛가 바람직하다. 특히, 고습 환경에서의 점착제층의 백탁을 억제하고, 투명성을 유지하기 위해서는, 점착제층의 두께는 25㎛ 이하가 바람직하다. 점착제층을 구성하는 점착제로서는, 아크릴계 베이스 폴리머를 포함하는 아크릴계 점착제가 바람직하다. 베이스 폴리머에는 가교 구조가 도입되어 있어도 된다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 to 50 μm. In particular, in order to suppress the cloudiness of the pressure-sensitive adhesive layer in a high-humidity environment and maintain transparency, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 25 μm or less. As the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer, an acrylic pressure-sensitive adhesive containing an acrylic base polymer is preferable. A crosslinked structure may be introduced into the base polymer.

표면 보호 필름은, 필름 기재의 제2 주면에 대전 방지층이 마련되어 있어도 된다. 대전 방지층의 표면 저항률은 1.0×1012Ω/□ 이하가 바람직하다.The surface protection film may be provided with an antistatic layer on the second main surface of the film substrate. The surface resistivity of the antistatic layer is preferably 1.0×10 12 Ω/□ or less.

본 발명의 표면 보호 필름은 저위상차이기 때문에, 보호 필름을 접합한 피착체의 광학 검사에 있어서의, 광 누설, 착색, 무지개 얼룩 등을 방지할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 보호 필름은, 각종 광학 부재용 보호 필름으로서 적합하다. 본 발명의 표면 보호 필름은 접착력의 가습 신뢰성이 높고, 표면 보호 필름이 부설된 피착체가 고습 환경에 노출된 경우라도, 표면 보호 필름의 들뜸이나 박리가 발생하기 어렵다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은, 피착체로부터의 박리력이 작기 때문에, 필름 기재가 저강도인 경우라도, 고속 박리 시의 파열이나 파단이 발생하기 어렵다.Since the surface protective film of the present invention has a low phase difference, it is possible to prevent light leakage, coloring, rainbow stains, and the like in optical inspection of an adherend to which the protective film is bonded. Therefore, the protective film of this invention is suitable as a protective film for various optical members. The surface protection film of the present invention has a high humidification reliability of adhesion, and even when the adherend on which the surface protection film is attached is exposed to a high-humidity environment, it is difficult for the surface protection film to be lifted or peeled. In addition, since the peeling force from the adherend of the surface protective film of the present invention is small, even when the film base material is low in strength, rupture or breakage during high-speed peeling is unlikely to occur.

도 1은 표면 보호 필름의 적층 구성을 나타내는 단면도이다.
도 2는 세퍼레이터가 가부착된 표면 보호 필름의 적층 구성을 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a surface protection film.
It is sectional drawing which shows the laminated|stacked structure of the surface protection film to which a separator was temporarily attached.

[표면 보호 필름의 구성][Structure of surface protection film]

도 1은, 표면 보호 필름의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다. 표면 보호 필름(10)은, 필름 기재(1)의 제1 주면 위에 점착제층(2)을 구비한다. 점착제층(2)은, 필름 기재(1)의 제1 주면 위에 고착 적층되어 있다. 필름 기재(1)의 제2 주면에는 대전 방지층(도시생략)이 마련되어 있어도 된다.1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a surface protection film. The surface protection film 10 is provided with an adhesive layer 2 on the first main surface of the film substrate 1. The pressure-sensitive adhesive layer 2 is adhered and laminated on the first main surface of the film substrate 1. An antistatic layer (not shown) may be provided on the second main surface of the film substrate 1.

도 2에 도시한 바와 같이, 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)에는, 세퍼레이터(5)가 가부착되어 있어도 된다. 점착제층(2)의 표면에 가부착된 세퍼레이터(5)를 박리 제거하고, 점착제층(2)의 노출면을 피착체에 접합함으로써, 피착체의 표면을 보호할 수 있다. 또한, 「고착」이란 적층된 2개의 층이 강고하게 접착되어 있고, 양자의 계면에서의 박리가 불가능 또는 곤란한 상태이다. 「가부착」이란, 적층된 2개 층 간의 접착력이 작아, 양자의 계면에서 용이하게 박리할 수 있는 상태이다.As shown in FIG. 2, the separator 5 may be temporarily attached to the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protection film 10. The surface of the adherend can be protected by peeling off the separator 5 temporarily attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and bonding the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 to the adherend. In addition, "fixation" is a state in which two stacked layers are strongly adhered, and peeling at both interfaces is impossible or difficult. "Temporary adhesion" is a state in which the adhesive force between two stacked layers is small and can be easily peeled off at both interfaces.

표면 보호 필름(10)은, 아크릴판에 대한 180° 박리력(인장 속도: 30m/분)이 3N/25㎜ 이하이다. 이하에서는, 특별히 정함이 없는 한, 아크릴판에 대한 인장 속도 30m/분에서의 180°필 시험에서의 박리력을, 단순히 「박리력」이라고 기재한다. 박리력이 3N/25㎜ 이하이면 피착체로부터의 보호 필름의 고속 박리가 용이해서, 작업성이 우수하다.The surface protection film 10 has a 180° peel force (tensile speed: 30 m/min) to an acrylic plate of 3 N/25 mm or less. Hereinafter, unless otherwise specified, the peel force in the 180° peel test at a tensile speed of 30 m/min against an acrylic plate is simply described as “peel force”. When the peeling force is 3 N/25 mm or less, high-speed peeling of the protective film from the adherend is easy, and the workability is excellent.

표면 보호 필름(10)의 박리력은, 2.5N/25㎜ 이하가 바람직하다. 특히, 표면 보호 필름(10)의 강도가 작은 경우(예를 들어, 필름 기재의 인장 파단 강도가 120MPa 이하인 경우)의 박리력은, 2N/25㎜ 이하가 바람직하고, 1.7N/25㎜ 이하가 보다 바람직하며, 1.5N/25㎜ 이하가 더욱 바람직하다. 박리력이 상기 범위이면, 필름 기재의 강도가 작은 경우에도, 고속 박리 시의 필름 파열이나 파단을 방지할 수 있다. 피착체와의 접착성을 확보한다는 관점에서, 박리력은 0.1N/25㎜ 이상이 바람직하고, 0.2N/25㎜ 이상이 보다 바람직하며, 0.3N/25㎜ 이상이 더욱 바람직하다. 표면 보호 필름(10)의 박리력은, 주로 점착제층(2)의 특성에 좌우된다.The peeling force of the surface protection film 10 is preferably 2.5 N/25 mm or less. Particularly, when the strength of the surface protection film 10 is small (for example, when the tensile breaking strength of the film base material is 120 MPa or less), the peel force is preferably 2 N/25 mm or less, and 1.7 N/25 mm or less It is more preferable, and 1.5 N/25 mm or less is more preferable. When the peeling force is within the above range, even when the strength of the film base material is small, it is possible to prevent film rupture or breakage during high-speed peeling. From the viewpoint of ensuring adhesion with the adherend, the peeling force is preferably 0.1 N/25 mm or more, more preferably 0.2 N/25 mm or more, and even more preferably 0.3 N/25 mm or more. The peeling force of the surface protection film 10 mainly depends on the properties of the pressure-sensitive adhesive layer 2.

표면 보호 필름(10)은, 투습도가 300g/㎡·24h 이하이다. 투습도는, JIS Z0208: 1976의 투습도 시험(컵법)에 준하여 측정되는 값이며, 온도 60℃ 상대 습도 90%의 환경에서, 면적 1㎡의 시료를 24시간으로 투과하는 수증기의 중량이다. 이하에서는, 특별히 정함이 없는 한, 이 조건에서 측정된 투습도를, 단순히 「투습도」라고 기재한다. 또한, JIS Z0208의 투습도는, 온도 25℃ 또는 40℃, 상대 습도 90%에서 측정되는 데 반하여, 보다 고온의 60℃에서 측정되는 투습도는 보다 큰 값으로 되는 경향이 있다.The surface protective film 10 has a moisture permeability of 300 g/m 2 ·24h or less. The moisture permeability is a value measured according to the moisture permeability test (cup method) of JIS Z0208: 1976, and is the weight of water vapor that permeates a sample having an area of 1 m 2 in 24 hours in an environment at a temperature of 60° C. and a relative humidity of 90%. Hereinafter, unless otherwise specified, the moisture permeability measured under these conditions is simply referred to as "moisture permeability." In addition, while the moisture permeability of JIS Z0208 is measured at a temperature of 25°C or 40°C and a relative humidity of 90%, the moisture permeability measured at a higher temperature of 60°C tends to be a larger value.

온도 60℃ 상대 습도 90%에서의 투습도가 300g/㎡·24h 이하이면 표면 보호 필름(10)이 접합된 피착체가 고온 고습 환경에 노출된 경우라도 접착성을 유지 가능하며, 피착체로부터의 표면 보호 필름(10)의 들뜸이나 박리를 억제할 수 있다. 표면 보호 필름(10)의 투습도는, 200g/㎡·24h 이하가 바람직하고, 150g/㎡·24h 이하가 보다 바람직하며, 100g/㎡·24h 이하가 더욱 바람직하다.If the moisture permeability at a temperature of 60°C and relative humidity of 90% is 300 g/m 2 ·24h or less, adhesion can be maintained even when the adherend to which the surface protective film 10 is bonded is exposed to a high temperature and high humidity environment, and the surface is protected from the adherend Lifting and peeling of the film 10 can be suppressed. The moisture permeability of the surface protection film 10 is preferably 200 g/m 2 ·24h or less, more preferably 150g/m 2 ·24h or less, and even more preferably 100g/m 2 ·24h or less.

표면 보호 필름(10)의 투습도는, 필름 기재(1) 및 점착제층(2) 양쪽의 영향을 받지만, 주로, 투습도가 낮은 층의 투습도에 좌우된다. 필름 기재(1) 및 점착제층의 재료나 두께 등에 따라 다르지만, 일반적으로는 필름 기재(1)의 쪽이 점착제층(2)보다도 저투습이기 때문에, 표면 보호 필름(10)의 투습도는 필름 기재(1)의 투습도와 대략 동등하다.The moisture permeability of the surface protection film 10 is affected by both the film base 1 and the pressure-sensitive adhesive layer 2, but mainly depends on the moisture permeability of the layer having low moisture permeability. Although it depends on the material and thickness of the film base material 1 and the pressure-sensitive adhesive layer, in general, the moisture permeability of the surface protective film 10 is the film base material ( It is roughly equivalent to the moisture permeability of 1).

[필름 기재][Film description]

필름 기재(1)로서는, 플라스틱 필름이 사용된다. 필름 기재의 두께는, 예를 들어 5 내지 500㎛ 정도이다. 피착체에 대한 보호 성능과 가요성을 양립한다는 관점에서, 필름 기재(1)의 두께는 10 내지 300㎛가 바람직하고, 15 내지 200㎛가 보다 바람직하며, 20 내지 150㎛가 더욱 바람직하다.As the film base 1, a plastic film is used. The thickness of the film substrate is, for example, about 5 to 500 μm. From the viewpoint of achieving both the protective performance and flexibility for the adherend, the thickness of the film substrate 1 is preferably 10 to 300 μm, more preferably 15 to 200 μm, and even more preferably 20 to 150 μm.

표면 보호 필름(10)과 피착체를 접합한 상태에서 피착체의 광학적인 검사가 행해지는 경우에는, 필름 기재(1)는 투명한 것이 바람직하다. 필름 기재(1)의 전체 광선 투과율은 80% 이상이 바람직하고, 85% 이상이 보다 바람직하며, 90% 이상이 더욱 바람직하다. 필름 기재(1)의 헤이즈는, 10% 이하가 바람직하고, 5% 이하가 보다 바람직하며, 2% 이하가 더욱 바람직하다. When the optical inspection of the adherend is performed in a state where the surface protective film 10 and the adherend are joined, the film substrate 1 is preferably transparent. The total light transmittance of the film substrate 1 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. The haze of the film base material 1 is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and even more preferably 2% or less.

필름 기재(1)의 정면 리타데이션 Re는, 100㎚ 이하이다. 정면 리타데이션 Re가 작은 필름 기재(1)를 사용함으로써, 표면 보호 필름(10)의 정면 리타데이션이 작아지기 때문에, 보호 필름을 접합한 피착체의 광학 검사에 있어서의, 광 누설, 착색, 무지개 얼룩 등을 방지할 수 있다. 필름 기재(1)의 정면 리타데이션 Re는, 50㎚ 이하가 바람직하고, 30㎚ 이하가 보다 바람직하며, 20㎚ 이하가 더욱 바람직하다.The front retardation Re of the film base material 1 is 100 nm or less. Since the front retardation of the surface protection film 10 becomes small by using the film base material 1 with a small front retardation Re, light leakage, coloring, rainbow in optical inspection of the adherend to which the protective film is bonded It can prevent stains and the like. The front retardation Re of the film substrate 1 is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and even more preferably 20 nm or less.

필름 기재(1)의 두께 방향 리타데이션 Rth는, 100㎚ 이하가 바람직하고, 50㎚ 이하가 보다 바람직하며, 30㎚ 이하가 더욱 바람직하다. 필름 기재(1)의 두께 방향 리타데이션 Rth가 작음으로써, 경사 방향으로부터의 관찰 시에 있어서도, 광 누설, 착색, 무지개 얼룩 등을 방지할 수 있다. 그 때문에, 고정 카메라에 의한 광범위한 촬영 상(像)에 있어서, 중심 부근(정면 방향)과 주변부(경사 방향)의 색이나 휘도의 차가 작아져, 데이터 처리가 용이해진다.The thickness direction retardation Rth of the film base material 1 is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and even more preferably 30 nm or less. Since the thickness direction retardation Rth of the film base material 1 is small, light leakage, coloring, rainbow stains, and the like can be prevented even during observation from the oblique direction. Therefore, in a wide range of photographed images by a fixed camera, the difference in color or luminance between the center portion (front direction) and the peripheral portion (inclination direction) becomes small, and data processing becomes easy.

정면 리타데이션 Re, 및 두께 방향 리타데이션 Rth는, 이하로 정의되고, 특히 정함이 없는 한 모두 파장 590㎚에 있어서의 측정값이다.The front retardation Re and the thickness direction retardation Rth are defined below, and are all measured values at a wavelength of 590 nm unless otherwise specified.

Figure pct00001
Figure pct00001

nx는 면내 지상축 방향의 굴절률이며, ny는 면내 진상축 방향의 굴절률이며, nz는 두께 방향의 굴절률이며, d는 두께이다.nx is a refractive index in the in-plane slow axis direction, ny is a refractive index in the in-plane progressive axis direction, nz is a refractive index in the thickness direction, and d is thickness.

일반적으로, 점착제층은 필름 기재에 비하여 위상차가 작다. 그 때문에, 필름 기재(1) 위에 점착제층(2)이 마련된 표면 보호 필름(10)의 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth는, 각각, 필름 기재(1)의 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth와 대략 동등하다. 따라서, 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션이 상기 범위인 필름 기재를 사용함으로써, 표면 보호 필름(10)의 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth도 상기 범위로 된다.In general, the pressure-sensitive adhesive layer has a smaller phase difference than the film substrate. Therefore, the front retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the surface protection film 10 provided with the adhesive layer 2 on the film base material 1 are respectively the front retardation Re and the thickness direction of the film base material 1. It is roughly equivalent to the retardation Rth. Therefore, by using the film base material in which the front retardation Re and the thickness direction retardation are the said range, the front retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the surface protection film 10 also become said range.

필름 기재(1)의 투습도는, 투습도가 300g/㎡·24h 이하가 바람직하고, 200g/㎡·24h 이하가 보다 바람직하고, 150g/㎡·24h이하가 더욱 바람직하며, 100g/㎡·24h 이하가 특히 바람직하다. 필름 기재(1)의 투습도가 상기 범위이면, 점착제층(2)의 투습도가 높은 경우에도, 점착제층(2)이나, 점착제층(2)과 피착체의 접착 계면에 대한 수분의 침입을 억제할 수 있다. 그 때문에, 표면 보호 필름(10)이 접합된 피착체가 고온 고습 환경에 노출된 경우에도, 피착체로부터의 표면 보호 필름(10)의 들뜸이나 박리를 억제할 수 있다.The moisture permeability of the film substrate 1 is preferably 300 g/m 2 ·24h or less, more preferably 200 g/m 2 ·24h or less, even more preferably 150 g/m 2 ·24h or less, and 100 g/m 2 ·24h or less Especially preferred. When the moisture permeability of the film substrate 1 is within the above range, even if the moisture permeability of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is high, intrusion of moisture into the adhesive interface between the pressure-sensitive adhesive layer 2 or the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the adherend can be suppressed. Can. Therefore, even when the adherend to which the surface protective film 10 is bonded is exposed to a high temperature and high humidity environment, lifting or peeling of the surface protective film 10 from the adherend can be suppressed.

필름 기재를 구성하는 수지 재료는 특별히 한정되지 않지만, 고투명성, 저위상차 및 저투습성의 요구를 만족 가능한 재료로서, 환상 올레핀계 수지 및 아크릴계 수지를 들 수 있다.Although the resin material which comprises a film base material is not specifically limited, As a material which can satisfy the requirement of high transparency, low phase difference, and low moisture permeability, cyclic olefin resin and acrylic resin are mentioned.

환상 올레핀계 수지로서는, 예를 들어 폴리노르보르넨을 들 수 있다. 환상 올레핀계 수지의 시판품으로서, 니폰 제온제의 제오노아 및 제오넥스, JSR제의 아톤, 미츠이 가가쿠제의 아펠, TOPAS ADVANCED POLYMERS제의 토파스 등을 들 수 있다. 환상 올레핀계 필름은, 환상 올레핀계 수지를 50중량% 이상 함유하는 것이 바람직하다.As a cyclic olefin resin, polynorbornene is mentioned, for example. Examples of commercial products of the cyclic olefin-based resins include Zeonoa and Zeonex manufactured by Nippon Xeon, Atone manufactured by JSR, Apel manufactured by Mitsui Chemicals, and Topas manufactured by TOPAS ADVANCED POLYMERS. It is preferable that a cyclic olefin type film contains 50 weight% or more of cyclic olefin type resins.

아크릴계 수지로서는, 폴리메타크릴산메틸 등의 폴리(메트)아크릴산에스테르, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산 공중합체, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산에스테르 공중합체, 메타크릴산메틸-아크릴산에스테르-(메트)아크릴산 공중합체, (메트)아크릴산메틸-스티렌 공중합체(MS 수지 등), 지환족 탄화수소기를 갖는 중합체(예를 들어, 메타크릴산메틸-메타크릴산시클로헥실 공중합체, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산노르보르닐 공중합체 등)을 들 수 있다. 아크릴계 수지의 시판품으로서, 미츠비시 케미컬제의 아크리페트를 들 수 있다. 락톤환 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지나, 불포화 카르복실산알킬에스테르 단위 및 글루타르이미드 단위를 갖는 (메트)아크릴계 수지 등도, 필름 기재(1)의 구성 재료로서 적용 가능하다. 아크릴계 필름은, 아크릴계 수지를 50중량% 이상 함유하는 것이 바람직하다.As an acrylic resin, poly(meth)acrylic acid esters, such as polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-(meth)acrylic acid copolymer, methyl methacrylate-(meth)acrylic acid ester copolymer, methyl methacrylate-acrylic acid ester -(Meth)acrylic acid copolymer, (meth)acrylate methyl-styrene copolymer (MS resin, etc.), a polymer having an alicyclic hydrocarbon group (for example, methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methacrylic acid) Methyl-(meth)acrylic acid norbornyl copolymer, etc.). As a commercial item of acrylic resin, Mitsubishi Chemical's acripet is mentioned. A (meth)acrylic resin having a lactone ring structure, a (meth)acrylic resin having an unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit and a glutarimide unit, and the like are also applicable as constituent materials of the film substrate 1. It is preferable that an acrylic film contains 50 weight% or more of acrylic resins.

필름 기재에는, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 조핵제, 충전제, 안료, 계면 활성제, 대전 방지제 등이 포함되어 있어도 된다.The film base material may contain an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a nucleating agent, a filler, a pigment, a surfactant, and an antistatic agent.

필름 기재(1)는, 정면 리타데이션 Re가 상기 범위이면, 연신 필름이어도 무연신 필름이어도 된다. 예를 들어, 저굴절률 재료를 사용함으로써, 연신 필름이어도 정면 리타데이션이 상기 범위 내의 저위상차 필름이 얻어진다. 또한, 종횡의 연신 배율을 적절하게 제어하면, 복굴절이 큰 재료라도, 정면 리타데이션을 작게 할 수 있다.The film base material 1 may be a stretched film or a non-stretched film as long as the front retardation Re is within the above range. For example, by using a low-refractive-index material, a low-retardation film having a front retardation within the above range is obtained even if it is a stretched film. In addition, if the stretching ratio in the vertical and horizontal directions is appropriately controlled, even a material having large birefringence can reduce front retardation.

상기한 바와 같이 필름 기재(1)로서, 환상 올레핀계 필름이나 아크릴계 필름을 사용함으로써, 투명성, 저투습 및 저위상차를 실현할 수 있다. 그러나, 이들 재료는 기계 강도가 작아, 연신 필름 및 무연신 필름 중 어느 경우에서도, 인장 파단 강도는 일반적으로 120MPa 이하이다. 저위상차로 하기 위해서, 무연신 필름 또는 저연신 배율 필름을 사용하는 경우, 인장 파단 강도는 더욱 작아, 100MPa 이하로 되는 경우가 많다. 또한, 점착제층(2)은 점성이 높고 변형되기 쉽기 때문에, 필름 기재(1) 위에 점착제층(2)이 마련된 표면 보호 필름(10)의 파열이나 파단은, 주로 필름 기재의 강도에 의존한다. 그 때문에, 표면 보호 필름(10)의 인장 파단 강도는, 필름 기재(1)의 인장 파단 강도와 대략 동등하다.As described above, transparency, low moisture permeability, and low phase difference can be realized by using a cyclic olefin-based film or an acrylic film as the film substrate 1. However, these materials have low mechanical strength, and in either case of a stretched film or a non-stretched film, the tensile breaking strength is generally 120 MPa or less. In order to make a low phase difference, when using an unstretched film or a low stretch magnification film, the tensile strength at break is smaller and often becomes 100 MPa or less. In addition, since the pressure-sensitive adhesive layer 2 is highly viscous and easy to deform, the rupture or fracture of the surface protection film 10 provided with the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the film substrate 1 mainly depends on the strength of the film substrate. Therefore, the tensile breaking strength of the surface protection film 10 is approximately equal to the tensile breaking strength of the film substrate 1.

이와 같은 저강도의 필름 기재(1)를 사용한 표면 보호 필름(10)은, 피착체로부터의 박리 시에 파열이나 파단이 발생하기 쉽다. 본 발명에 있어서는, 점착제층의 특성을 제어하여, 박리력을 작게 함으로써, 저강도의 필름 기재를 사용한 경우에도, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 파열이나 파단을 방지할 수 있다.The surface protection film 10 using such a low-strength film base material 1 is liable to cause rupture or breakage when peeling from an adherend. In the present invention, by controlling the properties of the pressure-sensitive adhesive layer and reducing the peeling force, even when a low-strength film substrate is used, it is possible to prevent rupture or breakage when peeling the surface protective film from the adherend.

필름 기재(1)에는, 코로나 처리, 접착 용이화 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 필름 기재(1)의 점착제층 부설면과 반대측의 주면에는, 대전 방지층이 마련되어 있어도 된다. 필름 기재에 대전 방지층이 마련되는 경우, 대전 방지층 형성면의 표면 저항률은, 1.0×1012Ω/□ 이하가 바람직하고, 1.0×1011Ω/□ 이하가 보다 바람직하고, 1.0×1010Ω/□ 이하가 더욱 바람직하다.The film base 1 may be subjected to a surface treatment such as corona treatment or easy adhesion treatment. An antistatic layer may be provided on the main surface of the film base material 1 on the opposite side of the pressure-sensitive adhesive layer laying surface. When the antistatic layer is provided on the film substrate, the surface resistivity of the surface on which the antistatic layer is formed is preferably 1.0×10 12 Ω/□ or less, more preferably 1.0×10 11 Ω/□ or less, and 1.0×10 10 Ω/ □ The following is more preferable.

필름 기재(1)가 대전 방지층을 구비함으로써, 표면 보호 필름(10)의 정전기에 기인하는 진애의 부착이나 작업성의 저하를 억제할 수 있다. 필름 기재(1)가 대전 방지층을 구비함으로써, 피착체인 액정 패널, 유기 EL 패널 등의 점등 시험을 행할 때, 정전기에 기인하는 패널의 결손 등을 방지할 수 있다. 또한, 필름 기재(1)가 대전 방지층을 구비함으로써, 피착체로부터 표면 보호 필름(10)을 박리할 때의 정전기 발생을 억제하여, 정전기에 기인하는 피착체에 대한 진애의 부착, 피착체의 결손, 작업성의 저하 등의 문제를 방지할 수 있다.When the film base 1 is provided with an antistatic layer, adhesion of dust and degradation of workability due to static electricity of the surface protection film 10 can be suppressed. When the film base material 1 is provided with an antistatic layer, when conducting a lighting test such as a liquid crystal panel or an organic EL panel as an adherend, defects in the panel due to static electricity can be prevented. In addition, by providing the antistatic layer of the film base 1, the generation of static electricity at the time of peeling the surface protective film 10 from the adherend is suppressed, adhesion of dust to the adherend caused by static electricity, and defect of the adherend , It is possible to prevent problems such as deterioration of workability.

대전 방지층으로서는, 예를 들어 각종 수지에 대전 방지 성분을 함유시켜 형성된 층을 들 수 있으며, 수지로서는, 열경화형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지, 2액 혼합형 수지 등의, 각종 타입의 수지를 채용할 수 있다. 대전 방지 성분으로서는, 유기 또는 무기의 도전성 물질, 각종 대전 방지제 등을 들 수 있다. 유기 도전성 물질로서는, 각종 도전성 폴리머를 바람직하게 채용할 수 있다. 이와 같은 도전성 폴리머의 예로서는, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리에틸렌이민, 알릴아민계 중합체 등을 들 수 있다. 무기 도전성 물질로서는, 각종 금속, 합금, 도전성 금속 산화물을 들 수 있다. 무기 도전성 물질은, 입자경이 0.1㎛ 이하(전형적으로는 0.01㎛ 내지 0.1㎛)인 미립자로서 대전 방지층에 포함되어 있는 것이 바람직하다. 대전 방지 성분은, 양이온형 대전 방지제, 음이온형 대전 방지제, 양성 이온형 대전 방지제, 비이온형 대전 방지제 등이어도 된다.Examples of the antistatic layer include a layer formed by containing an antistatic component in various resins. Examples of the resin include various types of resins such as thermosetting resins, ultraviolet curing resins, electron beam curing resins, and two-liquid mixed resins. Can be employed. Examples of the antistatic component include organic or inorganic conductive materials, various antistatic agents, and the like. As the organic conductive material, various conductive polymers can be preferably employed. Examples of such conductive polymers include polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyethyleneimine, and allylamine-based polymers. Examples of the inorganic conductive material include various metals, alloys, and conductive metal oxides. The inorganic conductive material is preferably contained in the antistatic layer as fine particles having a particle diameter of 0.1 µm or less (typically 0.01 µm to 0.1 µm). The antistatic component may be a cationic antistatic agent, an anionic antistatic agent, a positive ion antistatic agent, or a nonionic antistatic agent.

[점착제층][Adhesive layer]

점착제층(2)은 투명한 것이 바람직하다. 특히, 표면 보호 필름의 피착체(보호 대상)가, 디스플레이 등의 광학 디바이스나 그 구성 부품인 경우에는, 투명성이 높은 점착제가 사용된다. 또한, 피착체에 표면 보호 필름(10)을 부설한 상태에서 광학 검사가 행해지는 경우도, 투명성이 높은 점착제를 사용하는 것이 바람직하다. 점착제층(2)의 전체 광선 투과율은 80% 이상이 바람직하고, 85% 이상이 보다 바람직하며, 90% 이상이 더욱 바람직하다. 점착제층(2)의 헤이즈는 10% 이하가 바람직하고, 5% 이하가 보다 바람직하고, 2% 이하가 더욱 바람직하며, 1% 이하가 특히 바람직하다.It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer 2 is transparent. In particular, when the adherend (protection target) of the surface protection film is an optical device such as a display or a component thereof, a highly transparent pressure-sensitive adhesive is used. In addition, it is preferable to use a highly transparent pressure-sensitive adhesive even when optical inspection is performed while the surface protection film 10 is attached to the adherend. The total light transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. The haze of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less.

점착제층(2)을 구성하는 점착제의 조성은 특별히 한정되지 않고, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐 에테르, 아세트산 비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계, 불소계, 천연 고무, 합성 고무 등의 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 특히, 광학적 투명성이 우수하다는 점에서, 아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.The composition of the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 2 is not particularly limited, and acrylic polymer, silicone-based polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyvinyl ether, vinyl acetate/vinyl chloride copolymer, modified polyolefin, epoxy-based, A polymer such as a rubber-based polymer such as fluorine-based, natural rubber or synthetic rubber can be appropriately selected and used. In particular, from the viewpoint of excellent optical transparency, an acrylic pressure sensitive adhesive using an acrylic polymer as a base polymer is preferably used.

아크릴계 베이스 폴리머로서는, (메트)아크릴산알킬에스테르의 모노머 단위를 주골격으로 하는 것이 적합하게 사용된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다.As the acrylic base polymer, one having a main skeleton as a monomer unit of the (meth)acrylic acid alkyl ester is preferably used. In addition, in this specification, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic.

(메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 20인 (메트)아크릴산알킬에스테르가 적합하게 사용된다. 예를 들어, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산네오펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실, (메트)아크릴산이소트리데실, (메트)아크릴산테트라데실, (메트)아크릴산이소테트라데실, (메트)아크릴산펜타데실, (메트)아크릴산세틸, (메트)아크릴산헵타데실, (메트)아크릴산옥타데실, (메트)아크릴산이소옥타데실, (메트)아크릴산노나데실, (메트)아크릴산아르알킬 등을 들 수 있다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group is suitably used. For example, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate , (Meth)acrylic acid isopentyl, (meth)acrylic acid neopentyl, (meth)acrylic acid hexyl, (meth)acrylic acid heptyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth)acrylic acid octyl, (meth)acrylic acid isooctyl, ( Nonyl meth)acrylate, isononyl methacrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, isotridecyl methacrylate, (meth)acrylate ) Tetradecyl acrylate, isotetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, isooctadecyl (meth)acrylate, ( And nonadecyl methacrylate, aralkyl (meth)acrylate, and the like.

(메트)아크릴산알킬에스테르의 함유량은, 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대하여 40중량% 이상이 바람직하고, 50중량% 이상이 보다 바람직하며, 60중량% 이상이 더욱 바람직하다. 아크릴계 폴리머는, 복수의 (메트)아크릴산알킬에스테르의 공중합체여도 된다. 구성 모노머 단위의 배열은 랜덤이어도, 블록이어도 된다.The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and even more preferably 60% by weight or more with respect to the total amount of the monomer components constituting the base polymer. The acrylic polymer may be a copolymer of a plurality of (meth)acrylic acid alkyl esters. The arrangement of the constituent monomer units may be random or may be a block.

아크릴계 폴리머는, 공중합 성분으로서, 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머로서는 히드록시기 함유 모노머나, 카르복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 그 중에서도, 베이스 폴리머의 공중합 성분으로서, 히드록시기 함유 모노머를 함유하는 것이 바람직하다. 베이스 폴리머의 히드록시기나 카르복시기는, 후술하는 가교제와의 반응점으로 된다. 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입됨으로써, 점착제의 응집력이 향상되고, 피착체에 대한 알맞은 접착력을 나타냄과 함께, 피착체로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리력이 저하되는 경향이 있다. 그 때문에, 표면 보호 필름의 박리 시에, 필름에 부가되는 인장 응력이나 변형이 저감되어, 파열이나 파단을 방지할 수 있다.It is preferable that an acrylic polymer contains the monomer component which has a crosslinkable functional group as a copolymerization component. Examples of the monomer having a crosslinkable functional group include a hydroxy group-containing monomer and a carboxyl group-containing monomer. Especially, it is preferable to contain a hydroxy group containing monomer as a copolymerization component of a base polymer. The hydroxy group or carboxy group of the base polymer serves as a reaction point with a crosslinking agent described later. When the crosslinked structure is introduced into the base polymer, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive improves, and while exhibiting proper adhesion to the adherend, the peeling force when peeling the surface protective film from the adherend tends to decrease. Therefore, at the time of peeling of the surface protection film, tensile stress and strain applied to the film are reduced, and rupture and fracture can be prevented.

히드록시기 함유 모노머로서는, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴이나 (4-히드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트 등을 들 수 있다. 카르복시기 함유 모노머로서는, (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic acid 8 -Hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 12-hydroxylauryl or (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methylacrylate. Examples of the carboxyl group-containing monomer include (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid.

아크릴계 폴리머는, 상기 이외에, 공중합 모노머 성분으로서, 산 무수물 기 함유 모노머, 아크릴산의 카프로락톤 부가물, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머 등을 사용할 수도 있다. 또한, 개질 모노머로서, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트나 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 사용할 수 있다.As the copolymer of the acrylic polymer, an acid anhydride group-containing monomer, acrylic acid caprolactone adduct, sulfonic acid group-containing monomer, and phosphoric acid group-containing monomer may be used as the copolymerization monomer component. In addition, as modified monomers, vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole Vinyl monomers such as vinyl oxazole, vinyl morpholine, N-vinyl carboxylic acid amides, styrene, α-methyl styrene, and N-vinyl caprolactam; Cyanoacrylate-based monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Epoxy group-containing acrylic monomers such as (meth)acrylic acid glycidyl; Glycol-based acrylic ester monomers such as (meth)acrylic acid polyethylene glycol, (meth)acrylic acid polypropylene glycol, (meth)acrylic acid methoxyethylene glycol, and (meth)acrylic acid methoxy polypropylene glycol; Acrylic acid ester monomers, such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, fluorine (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, and 2-methoxyethylacrylate, can also be used.

아크릴계 폴리머 중의 공중합 모노머 성분의 비율은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 가교점을 도입할 목적으로 공중합 모노머 성분으로서 히드록시기 함유 모노머나 카르복시기 함유 모노머를 사용하는 경우, 히드록시기 함유 모노머와 카르복시기 함유 모노머의 함유량의 합계는, 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대해서, 1 내지 20% 정도가 바람직하고, 2 내지 15%정도가 보다 바람직하다.Although the proportion of the copolymerized monomer component in the acrylic polymer is not particularly limited, for example, when a hydroxy group-containing monomer or a carboxyl group-containing monomer is used as the copolymerized monomer component for the purpose of introducing a crosslinking point, the content of the hydroxy group-containing monomer and the carboxyl group-containing monomer is The total is about 1 to 20% of the total amount of the monomer components constituting the base polymer, and more preferably about 2 to 15%.

상기 모노머 성분을, 용액 중합, 유화 중합, 괴상 중합, 현탁 중합 등의 각종 공지된 방법에 의해 중합함으로써 베이스 폴리머로서의 아크릴계 폴리머가 얻어진다. 점착제의 접착력, 보유 지지력 등의 특성의 밸런스나, 비용 등의 관점에서, 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합의 용매로서는, 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 용액 농도는 통상 20 내지 80중량% 정도이다. 중합 개시제로서는, 아조계, 과산화물계 등의 각종 공지된 것을 사용할 수 있다. 분자량을 조정하기 위해서, 연쇄 이동제가 사용되고 있어도 된다. 반응 온도는 통상 50 내지 80℃ 정도, 반응 시간은 통상 1 내지 8시간 정도이다.An acrylic polymer as a base polymer is obtained by polymerizing the monomer component by various known methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, and suspension polymerization. From the standpoint of balance of properties such as adhesive strength and holding power of the pressure-sensitive adhesive, cost, and the like, a solution polymerization method is preferred. As a solvent for solution polymerization, ethyl acetate, toluene, or the like is used. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight. As a polymerization initiator, various well-known things, such as azo type and peroxide type, can be used. In order to adjust the molecular weight, a chain transfer agent may be used. The reaction temperature is usually about 50 to 80°C, and the reaction time is usually about 1 to 8 hours.

베이스 폴리머의 분자량은, 점착제층(2)이 소기의 접착력을 갖도록 적절하게 조정되지만, 예를 들어 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 5만 내지 200만 정도, 바람직하게는 7만 내지 180만 정도, 보다 바람직하게는 10만 내지 150만 정도, 더욱 바람직하게는 20만 내지 100만 정도이다. 또한, 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입되는 경우, 가교 구조 도입 전의 베이스 폴리머의 분자량이 상기 범위인 것이 바람직하다.The molecular weight of the base polymer is appropriately adjusted so that the pressure-sensitive adhesive layer 2 has a desired adhesive strength, but for example, the weight average molecular weight in terms of polystyrene is about 50,000 to 2 million, preferably about 70 to 1.8 million, more Preferably about 100,000 to 1.5 million, more preferably about 200 to 1 million. Moreover, when a crosslinked structure is introduce|transduced into a base polymer, it is preferable that the molecular weight of the base polymer before introducing a crosslinked structure is the said range.

상온 환경에 있어서 피착체에 대한 적절한 접착성을 갖는 점착제층(2)을 얻기 위해서는, 베이스 폴리머의 Fox식 환산의 유리 전이 온도(Tg)는 0℃ 이하가 바람직하다. 베이스 폴리머의 Tg는, -10 내지 -80℃가 바람직하고, -15 내지 -75℃가 더욱 바람직하며, -20 내지 -70℃가 더욱 바람직하다.In order to obtain the pressure-sensitive adhesive layer 2 having an appropriate adhesion to an adherend in a normal temperature environment, the glass transition temperature (Tg) of Fox-based conversion of the base polymer is preferably 0°C or less. The Tg of the base polymer is preferably -10 to -80°C, more preferably -15 to -75°C, and even more preferably -20 to -70°C.

점착제층(2)의 접착력의 조정 등을 목적으로 하여, 베이스 폴리머에 가교 구조를 도입해도 된다. 예를 들어, 베이스 폴리머를 중합 후의 용액에 가교제를 첨가하고, 필요에 따라 가열을 행함으로써, 가교 구조가 도입된다. 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 베이스 폴리머의 히드록시기나 카르복시기의 반응성이 높고, 가교 구조의 도입이 용이한 점에서, 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제가 바람직하다. 이들 가교제는, 베이스 폴리머 중에 도입된 히드록시기나 카르복시기 등의 관능기와 반응하여 가교 구조를 형성한다.For the purpose of adjusting the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 2, a crosslinked structure may be introduced into the base polymer. For example, a crosslinking structure is introduced by adding a crosslinking agent to the solution after polymerization of the base polymer and heating as necessary. As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an oxazoline type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, a carbodiimide type crosslinking agent, a metal chelate type crosslinking agent, etc. are mentioned. Among them, an isocyanate-based crosslinking agent and an epoxy-based crosslinking agent are preferable from the viewpoint of high reactivity of the hydroxy group or carboxyl group of the base polymer and easy introduction of the crosslinking structure. These crosslinking agents react with functional groups such as hydroxy groups and carboxy groups introduced into the base polymer to form a crosslinked structure.

이소시아네이트계 가교제로서는, 1 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트가 사용된다. 이소시아네이트계 가교제로서는, 예를 들어 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류; 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류; 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트류; 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(예를 들어, 도소제 「코로네이트 L」), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3량체 부가물(예를 들어, 도소제 「코로네이트 HL」), 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(예를 들어, 미츠이 가가쿠제 「타케네이트 D110N」, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(예를 들어, 도소제 「코로네이트 HX」) 등의 이소시아네이트 부가물 등을 들 수 있다.As an isocyanate crosslinking agent, polyisocyanate which has 2 or more isocyanate groups in 1 molecule is used. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; Aromatic isocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; Trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct (e.g., dosing agent ``Coronate L''), trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adduct (e.g., dosing agent ``Coronate HL'') , Trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate (for example, Mitsui Chemicals "Takenate D110N"), hexamethylene diisocyanate isocyanurate body (for example, tosohide "Coronate HX"), etc. And isocyanate adducts.

에폭시계 가교제로서는, 1 분자 중에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 다관능 에폭시 화합물이 사용된다. 에폭시계 가교제의 에폭시기는 글리시딜기여도 된다. 에폭시계 가교제로서는, 예를 들어 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 디글리시딜아닐린, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 소르비탄폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 아디프산디글리시딜에스테르, o-프탈산디글리시딜에스테르, 트리글리시딜-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 레조르신디글리시딜에테르, 비스페놀-S-디글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 에폭시계 가교제로서, 나가세 켐텍스제의 「데나콜」, 미츠비시 가스 가가쿠제의 「테트래드 X」 「테트래드 C」 등의 시판품을 사용해도 된다.As an epoxy crosslinking agent, a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule is used. The epoxy group of the epoxy-based crosslinking agent may be a glycidyl group. Examples of the epoxy-based crosslinking agent include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, diglycidylaniline, and 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl) )Cyclohexane, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, poly Propylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane Polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, resorcin diglycidyl ether, bisphenol- And S-diglycidyl ether. As the epoxy-based crosslinking agent, commercial products such as "Denacol" manufactured by Nagase Chemtex and "Tetrad X" and "Tetrad C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. may be used.

중합 후의 베이스 폴리머에 가교제를 첨가함으로써, 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입된다. 가교제의 사용량은, 베이스 폴리머의 조성이나 분자량, 목적으로 하는 접착 특성 등에 따라서 적절하게 조정하면 된다. 점착제에 적당한 응집력을 갖게 하여, 피착체로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력을 적절한 범위로 조정하기 위해서는, 가교제의 사용량은, 베이스 폴리머 100중량부에 대해서, 1.5중량부 이상이 바람직하고, 2중량부 이상이 보다 바람직하며, 2.5중량부 이상이 더욱 바람직하다. 피착체에 대한 알맞은 접착성을 갖게 하기 위해서는, 가교제의 사용량은, 베이스 폴리머 100중량부에 대해서, 20중량부 이하가 바람직하고, 15중량부 이하가 보다 바람직하며, 10중량부 이하가 더욱 바람직하다.By adding a crosslinking agent to the base polymer after polymerization, a crosslinking structure is introduced into the base polymer. The amount of the crosslinking agent to be used may be appropriately adjusted depending on the composition, molecular weight of the base polymer, desired adhesive properties and the like. The amount of the crosslinking agent used is preferably 1.5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the base polymer, in order to provide a suitable cohesive force to the pressure-sensitive adhesive and to adjust the peel force when peeling the protective film from the adherend to an appropriate range, 2 It is more preferably at least parts by weight, and even more preferably at least 2.5 parts by weight. In order to have proper adhesion to the adherend, the amount of the crosslinking agent is preferably 20 parts by weight or less, more preferably 15 parts by weight or less, and even more preferably 10 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the base polymer. .

베이스 폴리머에 가교 구조가 도입됨으로써, 점착제의 겔 분율이 상승하고, 점성 거동의 감소에 수반하여, 피착체로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력이 작아지는 경향이 있다. 점착제층(2)의 겔 분율은, 70.0% 이상이 바람직하고, 80.0%이상이 보다 바람직하며, 90.0% 이상이 더욱 바람직하다. 점착제층(2)의 겔 분율이 과도하게 크면, 피착체에 대한 습윤성이 저하되어, 접착력이 불충분해지는 경우가 있다. 그 때문에, 점착제층(2)의 겔 분율은, 99.5% 이하가 바람직하고, 98.5% 이하가 보다 바람직하며, 97.5% 이하가 더욱 바람직하다. 겔 분율은, 아세트산에틸 등의 용매에 대한 불용분으로서 구할 수 있고, 구체적으로는, 점착제층을 아세트산에틸 중에 23℃에서 7일간 침지한 후의 불용 성분의, 침지 전의 시료에 대한 중량 분율(단위: 중량%)로서 구해진다. 일반적으로, 폴리머의 겔 분율은 가교도와 동등하며, 폴리머 중의 가교된 부분이 많을수록, 겔 분율이 커진다.When the crosslinked structure is introduced into the base polymer, the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive increases, and as the viscous behavior decreases, the peeling force at the time of peeling the protective film from the adherend tends to be small. The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 70.0% or more, more preferably 80.0% or more, and even more preferably 90.0% or more. When the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is excessively large, wettability to the adherend is lowered, and the adhesive force may be insufficient. Therefore, the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 99.5% or less, more preferably 98.5% or less, and even more preferably 97.5% or less. The gel fraction can be determined as an insoluble content for a solvent such as ethyl acetate, and specifically, the weight fraction (unit: of the insoluble component after immersing the pressure-sensitive adhesive layer in ethyl acetate at 23°C for 7 days, before immersion) Weight%). Generally, the gel fraction of the polymer is equivalent to the degree of crosslinking, and the more crosslinked portions in the polymer, the larger the gel fraction.

점착제층(2)에 적당한 경도를 갖게 해서 피착체로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력을 작게 한다는 관점에서, 점착제층(2)의 23℃에 있어서의 저장 탄성률 G'는, 5.0×104Pa 이상이 바람직하고, 7.5×104Pa 이상이 보다 바람직하며, 1.0×105Pa 이상이 더욱 바람직하다. 점착제층(2)의 저장 탄성률이 과도하게 크면, 피착체에 대한 습윤성이 저하되어, 접착력이 불충분해지는 경우가 있다. 그 때문에, 점착제층(2)의 23℃에 있어서의 저장 탄성률 G'는, 5.0×106Pa 이하가 바람직하고, 2.5×106Pa 이하가 보다 바람직하며, 1.0×106Pa 이하가 더욱 바람직하다. 저장 탄성률 G'는, 동적 점탄성 측정 장치(예를 들어 레오메트릭스제 「ARES」)를 사용하고, 주파수 1㎐, 온도 범위 -70℃ 내지 150℃, 승온 속도 5℃/min의 조건에서 전단 모드로 점탄성 측정을 행함으로써 구해진다.The storage elastic modulus G'at 23°C of the pressure-sensitive adhesive layer 2 at 23°C is 5.0×10 4 from the viewpoint of giving the pressure-sensitive adhesive layer 2 an appropriate hardness and reducing the peeling force when peeling the protective film from the adherend. Pa or more is preferable, 7.5 x 10 4 Pa or more is more preferable, and 1.0 x 10 5 Pa or more is more preferable. When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is excessively large, wettability to the adherend is lowered, and the adhesive force may be insufficient. Therefore, the storage elastic modulus G'at 23°C of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 5.0×10 6 Pa or less, more preferably 2.5×10 6 Pa or less, and even more preferably 1.0×10 6 Pa or less. Do. Storage modulus G'is a dynamic viscoelasticity measuring device (for example, "ARES" manufactured by Rheometrics) using a frequency of 1 Hz, a temperature range of -70°C to 150°C, and a heating rate of 5°C/min in shear mode. It is obtained by performing viscoelasticity measurement.

점착제층의 저장 탄성률은, 점착제의 조성에 의해 조정할 수 있다. 예를 들어, 유리 전이 온도가 높은 베이스 폴리머를 사용함으로써, 저장 탄성률이 커지는 경향이 있다. 또한, 베이스 폴리머에 대한 가교 구조의 도입에 의해 겔 분율이 높아지면, 저장 탄성률이 커지는 경향이 있다.The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer can be adjusted by the composition of the pressure-sensitive adhesive. For example, the use of a base polymer having a high glass transition temperature tends to increase the storage modulus. In addition, when the gel fraction is increased by the introduction of a crosslinked structure to the base polymer, the storage elastic modulus tends to be large.

점착제 조성물은, 상기 예시된 각 성분 외에, 실란 커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 대전 방지제 등의 첨가제를, 본 발명의 특성을 손상시키지 않는 범위에서 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition, in addition to each of the components exemplified above, additives such as silane coupling agent, tackifier, plasticizer, softener, deterioration inhibitor, filler, colorant, ultraviolet absorber, antioxidant, surfactant, antistatic agent, properties of the present invention It may contain in the range which does not damage.

필름 기재(1) 위에 점착제층(2)을 적층함으로써, 표면 보호 필름(10)이 얻어진다. 점착제층(2)은, 필름 기재(1) 위에 직접 형성해도 되고, 다른 기재 위에서 시트형으로 형성된 점착제층을 필름 기재(1) 위에 전사해도 된다.By laminating the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the film substrate 1, a surface protection film 10 is obtained. The pressure-sensitive adhesive layer 2 may be formed directly on the film substrate 1, or the pressure-sensitive adhesive layer formed in a sheet form on another substrate may be transferred onto the film substrate 1.

점착제 조성물을, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코트 등에 의해, 기재 위에 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거함으로써 점착제층이 형성된다. 건조 방법으로서는, 적당하게 적절한 방법이 채용될 수 있다. 가열 건조 온도는, 바람직하게는 40℃ 내지 200℃, 보다 바람직하게는 50℃ 내지 180℃, 더욱 바람직하게는 70℃ 내지 170℃이다. 건조 시간은, 바람직하게는 5초 내지 20분, 보다 바람직하게는 5초 내지 15분, 더욱 바람직하게는 10초 내지 10분, 특히 바람직하게는 10초 내지 5분이다.The adhesive composition is applied onto the substrate by roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coat, etc. The adhesive layer is formed by applying and drying and removing the solvent as necessary. As a drying method, a suitable method can be suitably employed. The heating and drying temperature is preferably 40°C to 200°C, more preferably 50°C to 180°C, still more preferably 70°C to 170°C. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, still more preferably 10 seconds to 10 minutes, particularly preferably 10 seconds to 5 minutes.

점착제 조성물이 가교제를 함유하는 경우에는, 용매의 건조와 동시, 또는 용매의 건조 후에, 가열 또는 에이징에 의해 가교를 진행시키는 것이 바람직하다. 가열 온도나 가열 시간은, 사용하는 가교제의 종류에 따라 적절히 설정되고, 통상, 20℃ 내지 160℃의 범위에서, 1분에서 7일 정도의 가열에 의해 가교가 행해진다. 용매를 건조 제거하기 위한 가열이, 가교를 위한 가열을 겸하고 있어도 된다.When the pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, it is preferable to advance the crosslinking by heating or aging simultaneously with drying of the solvent or after drying of the solvent. The heating temperature and the heating time are appropriately set depending on the type of the crosslinking agent to be used, and usually crosslinking is performed in the range of 20°C to 160°C by heating for about 1 minute to 7 days. The heating for drying and removing the solvent may also serve as heating for crosslinking.

점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 피착체에 대한 접착력과, 피착체로부터의 박리성을 양립한다는 관점에서, 점착제층(2)의 두께는 1 내지 50㎛가 바람직하고, 2 내지 40㎛가 보다 바람직하며, 3 내지 35㎛가 더욱 바람직하다. 점착제층(2)의 두께가 작을수록, 피착체로부터의 박리성이 향상되는 경향이 있다. 특히, 필름 기재(1)의 파단 강도가 작은 경우에는, 피착체로부터 표면 보호 필름(10)을 고속 박리할 때의 필름 파열이나 파단을 방지한다는 관점에서, 점착제층(2)의 두께는 25㎛ 이하가 바람직하고, 20㎛ 이하가 보다 바람직하다. 또한, 고습 환경에서의 점착제층(2)의 백탁을 억제하여 투명성을 유지한다는 관점에서도, 점착제층의 두께는 25㎛ 이하가 바람직하고, 20㎛ 이하가 보다 바람직하다.Although the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is not particularly limited, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 1 to 50 μm, from the viewpoint of achieving both the adhesive strength to the adherend and the peelability from the adherend. 40 µm is more preferable, and 3 to 35 µm is even more preferable. The smaller the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2, the more the peelability from the adherend tends to be improved. In particular, when the breaking strength of the film base material 1 is small, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is 25 μm from the viewpoint of preventing film rupture or breakage when the surface protective film 10 is peeled from the adherend at high speed. The following is preferable, and 20 µm or less is more preferable. In addition, from the viewpoint of suppressing cloudiness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 in a high-humidity environment and maintaining transparency, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 25 µm or less, and more preferably 20 µm or less.

필름 기재(1) 이외의 기재 위에 점착제층(2)을 형성하는 경우에는, 기재 위에서 용매를 건조 후에, 필름 기재(1) 위에 점착제층(2)을 전사함으로써 표면 보호 필름(10)이 얻어진다. 점착제층의 형성에 사용한 기재를, 그대로 세퍼레이터(5)로 해도 된다.In the case of forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on a substrate other than the film substrate 1, the surface protective film 10 is obtained by drying the solvent on the substrate and then transferring the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the film substrate 1 . The base material used for forming the pressure-sensitive adhesive layer may be used as the separator 5 as it is.

세퍼레이터(5)로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다. 세퍼레이터의 두께는, 통상 3 내지 200㎛, 바람직하게는 10 내지 100㎛ 정도, 보다 바람직하게는 15 내지 50㎛ 정도이다. 세퍼레이터(5)의 점착제층(2)과의 접촉면에는, 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계, 혹은 지방산 아미드계 등의 이형제, 또는 선반 실리카분 등에 의한 이형 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 세퍼레이터(5)를 구성하는 플라스틱 필름은 대전 방지제를 포함하고 있어도 된다.As the separator 5, plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester film are preferably used. The thickness of the separator is usually 3 to 200 μm, preferably about 10 to 100 μm, more preferably about 15 to 50 μm. On the contact surface of the separator 5 with the pressure-sensitive adhesive layer 2, it is preferable that a mold release agent such as silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based, or shelf silica powder is applied. The plastic film constituting the separator 5 may contain an antistatic agent.

[표면 보호 필름의 물성][Physical properties of surface protection film]

전술한 바와 같이, 표면 보호 필름(10)은, 아크릴판에 대한 인장 속도 30m/분의 180° 박리력이 3N/25㎜ 이하이고, 바람직하게는 2.5N/25㎜ 이하이다. 특히, 인장 파단 강도가 120MPa 이하인 필름 기재(1)를 사용하는 경우에는, 피착체로부터의 박리 시의 표면 보호 필름(10)의 파열이나 파단을 방지하여, 박리 작업성을 향상시키는 관점에서, 박리력은 2N/25㎜ 이하가 바람직하고, 1.7N/25㎜ 이하가 보다 바람직하며, 1.5N/25㎜ 이하가 더욱 바람직하다.As described above, the surface protection film 10 has a tensile force of 30 m/min with respect to an acrylic plate and a 180° peel force of 3 N/25 mm or less, and preferably 2.5 N/25 mm or less. Particularly, when the film base material 1 having a tensile breaking strength of 120 MPa or less is used, peeling from the viewpoint of preventing peeling or breaking of the surface protection film 10 upon peeling from the adherend and improving peeling workability The force is preferably 2 N/25 mm or less, more preferably 1.7 N/25 mm or less, and even more preferably 1.5 N/25 mm or less.

점착제층(2)의 접착력을 조정함으로써, 표면 보호 필름(10)의 박리력을 상기 범위로 할 수 있다. 전술한 바와 같이, 점착제층(2)의 두께가 작을수록, 박리력이 작아지는 경향이 있다. 또한, 점착제층(2)을 구성하는 베이스 폴리머에 대한 가교 구조의 도입량을 증가시킴으로써, 겔 분율이 상승되어, 박리력이 작아지는 경향이 있다.By adjusting the adhesive force of the adhesive layer 2, the peeling force of the surface protection film 10 can be made into the said range. As described above, the smaller the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2, the smaller the peel force tends to be. Moreover, by increasing the amount of the crosslinked structure introduced into the base polymer constituting the pressure-sensitive adhesive layer 2, the gel fraction is increased, and the peeling force tends to be small.

고온 고습 환경에서의 피착체로부터의 표면 보호 필름(10)의 박리를 억제한다는 관점에서는, 표면 보호 필름(10)의 박리력(접착력)은 큰 편이 바람직하다. 한편, 상술한 바와 같이, 박리력이 큰 경우에는, 피착체로부터 표면 보호 필름을 박리할 때, 파열이나 파단이 발생하기 쉽다. 박리력을 과도하게 크게 하지 않고 가습 환경에서의 접착 신뢰성을 향상시켜, 피착체로부터의 표면 보호 필름의 박리나 들뜸을 억제한다는 관점에서, 표면 보호 필름의 투습도는 300g/㎡·24h 이하가 바람직하고, 200g/㎡·24h 이하가 보다 바람직하고, 150g/㎡·24h 이하가 더욱 바람직하며, 100g/㎡·24h 이하가 특히 바람직하다.From the viewpoint of suppressing the peeling of the surface protective film 10 from the adherend in a high temperature and high humidity environment, it is preferable that the peeling force (adhesive force) of the surface protective film 10 is large. On the other hand, as described above, when the peeling force is large, when peeling off the surface protective film from the adherend, rupture or breakage is likely to occur. The moisture permeability of the surface protective film is preferably 300 g/m 2 ·24h or less from the viewpoint of improving the adhesion reliability in a humidified environment without excessively increasing the peel force, and suppressing peeling or lifting of the surface protective film from the adherend. , 200 g/m 2 ·24h or less is more preferable, 150g/m 2 ·24h or less is more preferable, and 100g/m 2 ·24h or less is particularly preferable.

전술한 바와 같이, 표면 보호 필름(10)의 투습도는 필름 기재(1)의 투습도와 대략 동등하다. 그 때문에, 표면 보호 필름(10)의 투습도를 상기 범위로 하기 위해서는, 환상 올레핀계 필름이나 아크릴계 필름 등의 저투습도의 필름 기재(1)를 사용하는 것이 바람직하다.As described above, the moisture permeability of the surface protective film 10 is approximately equal to the moisture permeability of the film substrate 1. Therefore, in order to set the moisture permeability of the surface protection film 10 within the above range, it is preferable to use a low moisture permeability film substrate 1 such as a cyclic olefin-based film or an acrylic film.

피착체에 표면 보호 필름(10)을 접합한 상태에서 광학 검사가 행해지는 경우, 표면 보호 필름(10)의 위상차가, 검사광의 착색 원인으로 된다. 광학 검사 시의 광 누설, 착색, 무지개 얼룩 등을 방지한다는 관점에서, 표면 보호 필름(10)의 정면 리타데이션 Re는 100㎚ 이하가 바람직하고, 50㎚ 이하가 보다 바람직하고, 30㎚ 이하가 더욱 바람직하며, 20㎚ 이하가 특히 바람직하다. 동일한 관점에서, 표면 보호 필름(10)의 두께 방향 리타데이션 Rth는, 100㎚ 이하가 바람직하고, 50㎚ 이하가 보다 바람직하며, 30㎚ 이하가 더욱 바람직하다.When optical inspection is performed in a state where the surface protection film 10 is bonded to the adherend, the phase difference of the surface protection film 10 becomes a cause of coloring of the inspection light. From the viewpoint of preventing light leakage, coloring, rainbow stains, and the like during optical inspection, the front retardation Re of the surface protection film 10 is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and further 30 nm or less It is preferred, and 20 nm or less is particularly preferred. From the same viewpoint, the thickness direction retardation Rth of the surface protection film 10 is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and even more preferably 30 nm or less.

전술한 바와 같이, 필름 기재(1) 위에 점착제층(2)이 마련된 표면 보호 필름(10)의 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth는, 각각, 필름 기재(1)의 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth와 대략 동등하다. 그 때문에, 표면 보호 필름(10)의 Re 및 Rth를 상기 범위로 하기 위해서는, 필름 기재(1)로서, 저복굴절 재료 필름이나, 무연신 또는 저연신 배율의 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서는, 표면 보호 필름(10)의 박리력이 적절하게 조정되어 있기 때문에, 필름 기재(1)로서 저강도(예를 들어, 인장 파단 강도가 120MPa 이하)의 필름을 사용한 경우에도, 고속 박리 시의 필름 파열이나 파단을 방지할 수 있다.As described above, the front retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the surface protection film 10 provided with the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the film substrate 1 are respectively the front retardation Re of the film substrate 1 and It is roughly equivalent to the thickness direction retardation Rth. Therefore, in order to make Re and Rth of the surface protection film 10 into the said range, it is preferable to use a low birefringent material film or a film of non-stretching or low stretching ratio as the film base material 1. In the present invention, since the peeling force of the surface protective film 10 is appropriately adjusted, even when a film having a low strength (for example, a tensile breaking strength of 120 MPa or less) is used as the film substrate 1, it is high speed. Film rupture or breakage during peeling can be prevented.

피착체로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압은, 2.5㎸ 이하가 바람직하고, 2㎸ 이하가 보다 바람직하다. 특히, 정전기의 영향을 받기 쉬운 피착체에 표면 보호 필름을 접합하는 경우에는, 박리 대전압은 1.5㎸ 이하가 바람직하고, 1㎸ 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 필름 기재(1)의 점착제층 비부설면에 대전 방지층을 마련함으로써, 표면 보호 필름(10)의 박리 대전압을 저하시킬 수 있는다.The peeling voltage when peeling the surface protection film from the adherend is preferably 2.5 kPa or less, more preferably 2 kPa or less. In particular, in the case of bonding the surface protective film to an adherend susceptible to static electricity, the peeling voltage is preferably 1.5 kV or less, and more preferably 1 kV or less. For example, by providing an antistatic layer on the non-laying surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the film substrate 1, the peeling voltage of the surface protection film 10 can be reduced.

본 발명의 표면 보호 필름을 접합한 피착체는, 표면에 대한 흠집 발생이나 충격에 의한 파손을 방지할 수 있다. 표면 보호 필름은 투습도가 작아, 접착력의 가습 신뢰성이 높기 때문에, 표면 보호 필름이 부설된 피착체가 고습 환경에 노출된 경우에도, 표면 보호 필름의 들뜸이나 박리가 발생하기 어렵다.The adherend to which the surface protection film of the present invention is bonded can prevent damage to the surface or damage due to impact. Since the surface protective film has a low moisture permeability and high humidification reliability of adhesion, even when the adherend on which the surface protective film is attached is exposed to a high-humidity environment, lifting or peeling of the surface protective film is unlikely to occur.

표면 보호 필름의 피착체는 특별히 한정되지 않는다. 본 발명의 표면 보호 필름은, 예를 들어 각종 광학 부재의 표면 보호 필름으로서 사용할 수 있다. 광학 부재로서는, 편광판, 위상차판, 광학 보상 필름, 시야각 확대 필름, 시각 제어 필름, 휘도 향상 필름, 반사 방지 필름, 반사 시트, 투명 도전 필름, 프리즘 시트, 도광판 등의 광학 필름; 액정 패널, 유기 EL 패널 등의 화상 표시 패널; 화상 표시 패널을 내장한 화상 표시 장치 등을 들 수 있다. 광학 부품으로서의 광학 필름에 표면 보호 필름을 접합한 상태에서 어셈블리를 행하고, 화상 표시 패널이나 화상 표시 장치를 형성해도 된다.The adherend of the surface protection film is not particularly limited. The surface protection film of this invention can be used as a surface protection film of various optical members, for example. Examples of the optical member include an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, an optical compensation film, a viewing angle enlargement film, a visual control film, a brightness enhancing film, an antireflection film, a reflective sheet, a transparent conductive film, a prism sheet, and a light guide plate; Image display panels such as liquid crystal panels and organic EL panels; And an image display device incorporating an image display panel. The assembly may be performed in a state where the surface protective film is bonded to the optical film as an optical component, and an image display panel or an image display device may be formed.

본 발명의 표면 보호 필름은 저위상차이기 때문에, 표면 보호 필름이 광학 부재에 접합된 상태에서 광학 검사를 행하는 경우에도, 광학 검사의 방해가 되기 어려워, 검사의 효율 및 확실도의 향상에 기여한다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 박리력이 작기 때문에, 필름 기재가 저강도인 경우에도, 고속 박리 시의 파열이나 파단이 발생하기 어려워, 작업성이 우수하다.Since the surface protection film of the present invention has a low phase difference, even when an optical inspection is performed while the surface protection film is bonded to the optical member, it is difficult to interfere with the optical inspection, which contributes to the improvement of inspection efficiency and certainty. Moreover, since the peeling force of the surface protection film of this invention is small, even when the film base material is low-strength, it is hard to generate|occur|produce rupture and fracture at the time of high-speed peeling, and it is excellent in workability.

실시예Example

이하에 표면 보호 필름의 제작예를 들어 본 발명을 더욱 설명하지만, 본 발명은, 이들의 예에 한정되는 것은 아니다.The present invention will be further described below with reference to production examples of the surface protective film, but the present invention is not limited to these examples.

[측정 방법 및 평가 방법][Measurement method and evaluation method]

필름 기재 및 표면 보호 필름의 각 물성 및 평가는 하기의 방법에 의해 행하였다.Each property and evaluation of the film base material and the surface protection film were performed by the following method.

<정면 리타데이션 및 두께 방향 리타데이션><Front retardation and thickness direction retardation>

필름 기재를 50㎜×50㎜의 사이즈로 잘라내어, 편광·위상차 측정 시스템(엑소메트릭스(Axometrics)제 「AxoScan」)에 의해, 23℃ 상대 습도 50%의 환경(이하 「표준 환경」)하에서, 측정 파장 590㎚로 정면 리타데이션, 및 지상축 방향을 회전 중심으로 하여 필름을 40° 경사진 상태에서의 리타데이션을 측정하였다. 이들 측정값으로부터, 정면 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth를 산출하였다. 두께 방향 리타데이션의 계산 시에는, 아타고제의 아베 굴절률계에 의해 측정한 평균 굴절률을 사용하였다.The film substrate was cut into a size of 50 mm x 50 mm, and measured under a polarization/phase difference measurement system ("AxoScan" manufactured by Axometrics) under an environment of 23% relative humidity of 50% (hereinafter referred to as "standard environment"). The retardation in the state in which the film was inclined by 40° was measured with the front retardation at a wavelength of 590 nm and the slow axis direction as the center of rotation. From these measurements, front retardation Re and thickness direction retardation Rth were calculated. When calculating the thickness direction retardation, the average refractive index measured by the Atago-made Abe refractive index meter was used.

<박리력><Peeling power>

표면 보호 필름을 폭 25㎜, 길이 100㎜의 사이즈로 잘라내어, 세퍼레이터를 박리 후에, 아크릴판(미츠비시 케미컬제 「아크릴라이트」, 두께: 2㎜, 폭: 70㎜, 길이: 100㎜)에, 압력 0.25MPa, 이송 속도 0.3m/분의 속도로 롤 압착하였다. 이 시료를 표준 환경하에 30분간 정치한 후, 동일 환경하에서, 박리 각도 180°, 인장 속도 0.3m/분 또는 30m/분으로 필 시험을 행하고, 각각의 인장 속도에 있어서의 180° 박리력을 측정하였다.The surface protective film was cut to a size of 25 mm in width and 100 mm in length, and after the separator was peeled off, the pressure was applied to an acrylic plate ("Acrylite" manufactured by Mitsubishi Chemical, thickness: 2 mm, width: 70 mm, length: 100 mm). Roll compression was performed at a rate of 0.25 MPa and a feed rate of 0.3 m/min. After the sample was allowed to stand for 30 minutes in a standard environment, under the same environment, a peel test was performed at a peel angle of 180°, a tensile speed of 0.3 m/min or 30 m/min, and the 180° peel force at each tensile speed was measured. Did.

<파단 강도><break strength>

표면 보호 필름으로부터 3호형 덤벨 형상의 시험편(폭 5㎜)을 잘라내어, 세퍼레이터를 박리 후에 점착면에 파우더를 부착시키고, 점착제의 점성에 의한 영향을 제거하였다. 인장 시험기를 사용하고, JIS K7311: 1995에 준하여, 표준 환경하에서, 인장 속도 0.3m/분의 조건에서 인장 시험을 행하고, MD 방향 및 TD 방향의 각각의 인장 파단 강도를 측정하였다.A test piece (5 mm in width) in the form of a dumbbell type 3 was cut out from the surface protection film, and the separator was peeled to adhere the powder to the adhesive surface, and the influence of the adhesive was eliminated. A tensile tester was used, and in accordance with JIS K7311: 1995, under a standard environment, a tensile test was performed under a condition of a tensile speed of 0.3 m/min, and the tensile strength at break in each of the MD direction and the TD direction was measured.

<투습도><Water permeability>

표면 보호 필름을, 표준 환경하에 24시간 정치한 후, 세퍼레이터를 박리하고, JIS Z0208: 1976의 투습도 시험(컵법)에 준거하여, 온도 60℃ 상대 습도 90%의 환경하에서 24시간 동안에 표면 보호 필름을 투과한 수증기의 중량과 시료 면적으로부터 투습도를 산출하였다.After leaving the surface protection film under a standard environment for 24 hours, the separator is peeled off, and the surface protection film is removed for 24 hours under an environment at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90% according to JIS Z0208: 1976, a moisture permeability test (cup method). The moisture permeability was calculated from the weight of the water vapor permeated and the sample area.

<표면 저항률><Surface resistivity>

표준 환경하에서, 저항률계(미츠비시 케미칼 아날리테크제 「하이레스타 UP MCP-HT450형」)를 사용하고, 필름 기재의 점착제층 비부설면에 URS 프로브를 접촉시켜, 인가 전압 10V, 전압 인가 시간 30초의 조건에서 표면 저항률을 측정하였다. Under a standard environment, a resistivity meter (Mitsubishi Chemical Analtech's "High Resta UP MCP-HT450 type") was used, and the URS probe was brought into contact with the non-laying surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the film base, and the applied voltage was 10 V and the applied voltage was 30. The surface resistivity was measured in seconds.

<무지개 얼룩><rainbow stain>

표면 보호 필름으로부터 세퍼레이터를 박리하고, 편광판의 투과축 방향과 필름 기재의 MD 방향이 평행해지도록 접합하였다. 표면 보호 필름 위에 다른 편광판을, 표면 보호 필름에 접합한 편광판과 크로스니콜이 되도록 배치하였다. 한쪽 편광판의 하측으로부터 형광등의 광을 조사하고, 투과광의 눈으로 봄에 의해, 무지개 얼룩의 발생 유무를 평가하였다. 무지개 얼룩이 확인되지 않은 것을 OK, 무지개 얼룩이 확인된 것을 NG로 하였다.The separator was peeled from the surface protection film, and bonded so that the direction of the transmission axis of the polarizing plate and the direction of MD of the film base material were parallel. Another polarizing plate was placed on the surface protective film so that the polarizing plate bonded to the surface protective film would be cross nicol. The light of a fluorescent lamp was irradiated from the lower side of one polarizing plate, and the presence or absence of rainbow stain was evaluated by looking through the eyes of the transmitted light. It was set as OK that rainbow stain was not confirmed and NG that rainbow stain was confirmed.

<박리 시의 파열><rupture of peeling city>

표면 보호 필름을, 폭 25㎜, 길이 100㎜의 사이즈로 잘라내어, 세퍼레이터를 박리하였다. 두께 1㎜의 유리판에 접합한 하드 코트계 편광판(닛토덴코제, 폭 50㎜, 길이 100㎜)의 하드 코트층 형성면에, 핸드 롤러로 표면 보호 필름을 압착하였다. 이 시료를, 온도 60℃ 상대 습도 90%의 항온항습조 내에서 5일간 정치한 후에 취출하고, 표준 환경하에서 30분간 정치하였다. 그 후, 표준 환경하에서, 박리 각도 180°, 인장 속도 0.3m/분 또는 30m/분으로 필 시험을 행하고, 각각의 속도에서의 표면 보호 필름의 파열 유무에 기초하여 하기 기준으로 평가하였다.The surface protection film was cut out to a size of 25 mm in width and 100 mm in length, and the separator was peeled off. A surface protective film was pressed with a hand roller on the hard coat layer forming surface of the hard coat polarizing plate (made by Nitto Denko, width 50 mm, length 100 mm) bonded to a glass plate having a thickness of 1 mm. This sample was taken out for 5 days in a constant temperature and humidity tank at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90%, and then taken out and left for 30 minutes under a standard environment. Thereafter, under a standard environment, peel tests were performed at a peel angle of 180°, a tensile speed of 0.3 m/min or 30 m/min, and evaluated based on the following criteria based on the presence or absence of rupture of the surface protection film at each speed.

A: 어느 인장 속도에서도 파열이 발생하지 않고 박리 가능A: No rupture occurs at any tensile speed and peeling is possible.

B: 인장 속도 0.3m/분에서는 파열이 발생하지 않고 박리 가능하였지만, 인장 속도 30m/분에서는 파열이 발생B: No tearing occurred at a tensile speed of 0.3 m/min, but peeling was possible, but tearing occurred at a tensile speed of 30 m/min.

NG: 어느 인장 속도에서도 파열이 발생NG: Burst occurs at any tensile speed

<가습 접착성><Humidity adhesiveness>

표면 보호 필름을, 폭 25㎜, 길이 50㎜의 사이즈로 잘라내어, 세퍼레이터를 박리하였다. 두께 1㎜의 유리판에 접합한 하드 코트계 편광판(닛토덴코제, 폭 50㎜, 길이 70㎜)의 하드 코트층 형성면에, 의도적으로 10㎜ 정도의 기포가 혼입되도록 접합하였다. 이 시료를, 온도 60℃ 상대 습도 90%의 항온항습조 내에서 5일간 정치한 후에 취출하고, 표준 환경하에서 30분간 정치 후에, 편광판 표면으로부터의 표면 보호 필름의 들뜸 상태를 눈으로 봄으로써 관찰하였다. 가습 전후에서 변화가 보이지 않은 것을 OK, 가습 후에 표면 보호 필름의 박리 영역이 증대되어, 기포를 관통하도록 터널형의 들뜸이 발생한 것을 NG로 하였다.The surface protection film was cut to a size of 25 mm in width and 50 mm in length, and the separator was peeled off. The hard coat layer forming surface of the hard coat polarizing plate (made by Nitto Denko, width 50 mm, length 70 mm) bonded to a glass plate having a thickness of 1 mm was intentionally bonded so that bubbles of about 10 mm were mixed. This sample was taken out after standing for 5 days in a constant temperature and humidity bath at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90%, and after standing for 30 minutes under a standard environment, the floating state of the surface protection film from the surface of the polarizing plate was observed by visual observation. . It was OK that the change was not seen before and after humidification, and after the humidification, the peeling area of the surface protective film increased, and the tunnel-like excitation so as to penetrate the bubbles was taken as NG.

<가습 투명성><Moisture transparency>

표면 보호 필름을 폭 25㎜, 길이 50㎜의 사이즈로 잘라내어, 세퍼레이터를 박리하였다. 두께 1㎜의 유리판에 접합한 하드 코트계 편광판(닛토덴코제, 폭 50㎜, 길이 70㎜)의 하드 코트층 형성면에, 핸드 롤러로 표면 보호 필름을 압착하였다. 이 시료를, 온도 60℃ 상대 습도 90%의 항온항습조 내에서 5일간 정치한 후에 취출하고, 표준 환경하에서 30분간 정치 후에, 암실 내의 형광등 아래에서, 눈으로 봄으로써 표면 보호 필름의 백탁 유무를 관찰하였다. 백탁이 관찰되지 않은 것을 OK, 백탁이 보인 것을 NG로 하였다.The surface protection film was cut out to a size of 25 mm in width and 50 mm in length, and the separator was peeled off. A surface protective film was pressed with a hand roller on the hard coat layer forming surface of a hard coat polarizing plate (made by Nitto Denko, width 50 mm, length 70 mm) bonded to a glass plate having a thickness of 1 mm. This sample was taken out after standing for 5 days in a constant temperature and humidity bath at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90%, and after standing for 30 minutes in a standard environment, the presence or absence of cloudiness of the surface protective film was observed by visually viewing under a fluorescent lamp in a dark room. It was observed. What cloudiness was not observed was set to OK, and what cloudiness was seen was set to NG.

<박리 대전압><Peeling off voltage>

표면 보호 필름을 폭 70㎜, 길이 130㎜의 사이즈로 잘라내어, 세퍼레이터를 박리하였다. 두께 1㎜의 유리판의 표면에, 하드 코트계 편광판(닛토덴코제, 폭 50㎜, 길이 70㎜)을 접합하고, 이 편광판 위에 표면 보호 필름의 한쪽 단부가 편광판의 단으로부터 30㎜ 비어져 나오도록, 핸드 롤러로 압착하였다. 이 시료를 표준 환경하에 24시간 정치한 후, 표준 환경하에서, 높이 20㎜의 샘플 고정대에 세트하였다. 편광판으로부터 30㎜ 비어져 나온 표면 보호 필름의 단부를 자동 권취기로 고정하고, 박리 각도 150°, 인장 속도 30m/분의 조건에서, 편광판으로부터 표면 보호 필름을 박리하고, 이때 발생하는 피착체(편광판)의 표면의 전위를, 편광판의 중앙부터 높이 100㎜의 위치에 고정시킨 전위 측정기(가스가 덴키제 「KSD-0103」)로 측정하였다.The surface protection film was cut to a size of 70 mm in width and 130 mm in length, and the separator was peeled off. A hard coat-based polarizing plate (made by Nitto Denko, width 50 mm, length 70 mm) was bonded to the surface of a glass plate having a thickness of 1 mm, and one end of the surface protection film was protruded 30 mm from the end of the polarizing plate on the polarizing plate. , Compressed with a hand roller. This sample was allowed to stand for 24 hours in a standard environment, and then set in a sample holder having a height of 20 mm under a standard environment. The end portion of the surface protective film protruding 30 mm from the polarizing plate is fixed with an automatic winding machine, and the surface protective film is peeled from the polarizing plate under conditions of a peeling angle of 150° and a tensile speed of 30 m/min, and an adherend generated at this time (polarizing plate) The potential of the surface of the was measured with a potential measuring device ("KSD-0103" manufactured by Denki Denki Co., Ltd.) fixed at a position 100 mm in height from the center of the polarizing plate.

[아크릴계 폴리머의 중합][Acrylic polymer polymerization]

<아크릴 폴리머 A><Acrylic polymer A>

온도계, 교반기, 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에, 모노머 성분으로서, 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA) 96.2중량부, 및 히드록시에틸아크릴레이트(HEA) 3.8중량부, 그리고 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.2중량부를 아세트산에틸 150중량부와 함께 투입하고, 23℃에서 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환을 행하였다. 그 후, 액온을 60℃ 부근으로 유지하여 6시간 중합 반응을 행하고, 아크릴 폴리머 A의 용액(농도 40중량%)을 조제하였다. Fox의 식으로부터 산출되는 아크릴 폴리머 A의 Tg는 -66℃이다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, cooler, and nitrogen gas introduction tube, 96.2 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), and 3.8 parts by weight of hydroxyethyl acrylate (HEA) as a monomer component, and a polymerization initiator As 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), 0.2 parts by weight of ethyl acetate was added together with 150 parts by weight of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced while gently stirring at 23°C to perform nitrogen substitution. Thereafter, the liquid temperature was maintained at about 60°C, and polymerization reaction was carried out for 6 hours to prepare a solution of acrylic polymer A (concentration 40% by weight). The Tg of acrylic polymer A calculated from Fox's formula is -66°C.

<아크릴 폴리머 B><Acrylic polymer B>

온도계, 교반기, 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에, 모노머 성분으로서, 2EHA: 54.1중량부, 아세트산 비닐(Vac): 43.2중량부, 및 아크릴산(AA): 2.7중량부, 그리고 중합 개시제로서 벤조일퍼옥사이드(BPO; 니치유제 「나이퍼 BW」): 0.3중량부를, 톨루엔 143중량부와 함께 투입하고, 23℃에서 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환을 행하였다. 그 후, 액온을 60℃ 부근으로 유지하여 6시간 중합 반응을 행하고, 액온을 80℃로 승온시켜 6시간 숙성을 행하고, 아크릴 폴리머 B의 용액(농도 41중량%)을 얻었다. Fox의 식으로부터 산출되는 아크릴 폴리머 B의 Tg는 -26℃이다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, cooler, and nitrogen gas introduction tube, as monomer components, 2EHA: 54.1 parts by weight, vinyl acetate (Vac): 43.2 parts by weight, and acrylic acid (AA): 2.7 parts by weight, and polymerization initiator As benzoyl peroxide (BPO; Nichiyu Co., Ltd. "Nyper BW"): 0.3 parts by weight was added together with 143 parts by weight of toluene, and nitrogen gas was introduced while gently stirring at 23°C to perform nitrogen substitution. Thereafter, the liquid temperature was maintained at around 60°C to conduct a polymerization reaction for 6 hours, the liquid temperature was raised to 80°C, and aged for 6 hours to obtain a solution of acrylic polymer B (concentration 41% by weight). The Tg of acrylic polymer B calculated from Fox's formula is -26°C.

<아크릴 폴리머 C><Acrylic polymer C>

모노머 성분을, 2EHA: 91중량부, 및 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA): 9중량부로 변경하였다. 그 이외에는 상기 아크릴 베이스 폴리머 A와 마찬가지로 질소 치환 및 중합을 행하고, 아크릴 폴리머 C의 용액(농도 40중량%)을 얻었다. Fox의 식으로부터 산출되는 아크릴 폴리머 C의 Tg는 -67℃이다.The monomer component was changed to 91 parts by weight of 2EHA and 91 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA). Other than that, nitrogen substitution and polymerization were carried out in the same manner as in the above acrylic base polymer A to obtain a solution of acrylic polymer C (concentration 40% by weight). The Tg of the acrylic polymer C calculated from Fox's formula is -67°C.

[필름 기재][Film description]

제작예에서 사용한 필름 기재의 상세는 하기와 같다.The details of the film substrate used in the production example are as follows.

환상 올레핀 필름 1(COP1): 니폰 제온제 「제오노아 필름 ZF-16」(두께 40㎛, Re=1.8㎚, Rth=8.6㎚)Cyclic olefin film 1 (COP1): Nippon Xeon agent "Zeonoa film ZF-16" (thickness 40 µm, Re = 1.8 nm, Rth = 8.6 nm)

환상 올레핀 필름 2(COP2): 니폰 제온제 「제오노아 필름 ZF-14」(두께 40㎛, Re=0.8㎚, Rth=3.5㎚)Cyclic olefin film 2 (COP2): Nippon Xeon agent "Zeonoa film ZF-14" (thickness 40 µm, Re = 0.8 nm, Rth = 3.5 nm)

대전 방지 환상 올레핀 필름(AS-COP): 니폰 제온제 「제오노아 필름 ZF-16」의 한쪽 면에, 후술하는 방법에 의해 대전 방지층을 마련한 것 Antistatic cyclic olefin film (AS-COP): An antistatic layer is provided on one side of the Nippon Xeon agent "Zeo Noah Film ZF-16" by a method described later.

아크릴 필름: 일본 특허 공개 제2017-26939호의 실시예에 기재된 「투명 보호 필름 1A」와 마찬가지로 하여 작성한 이미드화 MS 수지로 이루어지는 2축 연신 필름(두께 40㎛, Re=0.4㎚, Rth=0.7㎚)Acrylic film: Biaxially oriented film made of an imidized MS resin prepared in the same manner as in "Transparent protective film 1A" described in Examples of Japanese Patent Publication No. 2017-26939 (thickness 40 µm, Re=0.4 nm, Rth=0.7 nm)

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET): 미츠비시 케미컬제 「다이어포일T100C38」(두께 38㎛, Re=180㎚, Rth=812㎚)Polyethylene terephthalate film (PET): "Diafoil T100C38" manufactured by Mitsubishi Chemical (38 µm thick, Re=180 nm, Rth=812 nm)

트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC): 코니카 미놀타제 「KC4CT1」(두께 40㎛, Re=0.8㎚, Rth=3.8㎚)Triacetyl cellulose film (TAC): Konica Minolta "KC4CT1" (thickness 40 µm, Re = 0.8 nm, Rth = 3.8 nm)

2축 연신 폴리프로필렌 필름(OPP): 산톡스제 「PA30」(두께 60㎛, Re=195㎚, Rth=555㎚)Biaxially stretched polypropylene film (OPP): "PA30" made by Suntox (60 µm thick, Re=195 nm, Rth=555 nm)

<대전 방지층의 형성><Formation of antistatic layer>

대전 방지 환상 올레핀 필름(AS-COP)의 대전 방지층의 형성에는, 바인더 수지로서의 폴리에스테르 수지의 분산액(도요보제 「바일로날 MD-1480」)을 고형분으로 100중량부, 도전성 폴리머로서의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜) 및 폴리스티렌술포네이트를 포함하는 수용액(Heraeus제 「Clevios P」)을 고형분으로 50중량부, 멜라민계 가교제 10중량부, 그리고 활제로서 카르나우바 왁스의 수분산액을 고형분으로 40중량부를, 물과 에탄올의 혼합 용매 중에서 혼합한 고형분 농도 0.3%의 도포액을 사용하였다. 이 도포액을 상기 COP 필름에 바 코터로 도포하고, 130℃에서 10초간 가열 건조하여, 두께 25㎚의 대전 방지층을 형성하였다.To form the antistatic layer of the antistatic cyclic olefin film (AS-COP), a dispersion of a polyester resin as a binder resin ("Bylonal MD-1480" manufactured by Toyo Co., Ltd.) was 100 parts by weight as a solid content, and poly(3) as a conductive polymer. ,4-ethylene dioxythiophene) and an aqueous solution containing polystyrene sulfonate ("Clevios P" manufactured by Heraeus) as a solid content of 50 parts by weight, 10 parts by weight of a melamine-based crosslinking agent, and an aqueous dispersion of carnauba wax as a lubricant 40 parts by weight of a coating solution having a solid concentration of 0.3% mixed in a mixed solvent of water and ethanol was used. The coating solution was applied to the COP film with a bar coater and dried by heating at 130° C. for 10 seconds to form an antistatic layer having a thickness of 25 nm.

[제작예 1][Production Example 1]

아크릴 폴리머 A의 용액에 아세트산에틸을 첨가하여 농도 25중량%로 희석하였다. 이 용액 400중량부(고형분 100중량부)에, 가교제로서, 도소제 「코로네이트 HX」를 고형분으로 4중량부 및 가교 촉매로서 디라우르산 디옥틸 주석의 아세트산에틸 용액(도쿄 파인케미컬제 「엔비라이저 OL-1」)을 고형분으로 0.02중량부 첨가하여 교반하고, 아크릴계 점착제 용액을 조제하였다.To the solution of acrylic polymer A, ethyl acetate was added and diluted to a concentration of 25% by weight. To 400 parts by weight of this solution (100 parts by weight of solids), 4 parts by weight of the dosing agent "Coronate HX" as a crosslinking agent, and ethyl acetate solution of dioctyl tin dilaurate as a crosslinking catalyst (Tokyo Fine Chemicals "Envy") Riser OL-1") was added and stirred as a solid content by 0.02 parts by weight, and an acrylic pressure-sensitive adhesive solution was prepared.

상기 아크릴계 점착제 용액을, 세퍼레이터(편면에 실리콘 이형 처리된 두께 25㎛의 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)의 이형 처리면에 도포하고, 130℃에서 20초간 가열하여, 두께 10㎛의 점착제층을 형성하였다. 이 점착제층을, 편면을 코로나 처리한 COP 필름의 코로나 처리면에 접합하고, 세퍼레이터를 구비한 표면 보호 필름을 얻었다.The acrylic pressure-sensitive adhesive solution was applied to a release treatment surface of a separator (a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 µm with a silicone release treatment on one side) and heated at 130° C. for 20 seconds to form a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 µm. Did. This pressure-sensitive adhesive layer was bonded to a corona-treated surface of a COP film on one side of which was corona-treated to obtain a surface protection film provided with a separator.

[제작예 2 내지 17][Production Examples 2 to 17]

필름 기재의 종류, 아크릴계 점착제 용액의 조성(아크릴 폴리머의 종류, 그리고 가교제의 종류 및 첨가량), 점착제층의 두께를 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 제작예 1과 마찬가지로 하여, 세퍼레이터를 구비한 표면 보호 필름을 얻었다. 또한, 각 예에서 사용한 가교제의 상세는 하기와 같다. 표 1에 있어서의 가교제의 첨가량은, 폴리머 100중량부에 대한 가교제의 고형분이다. 가교제로서 에폭시계의 테트래드 C만을 사용한 제작예 11, 12에서는, 점착제 용액의 조제에 있어서 가교 촉매를 첨가하지 않았다.A separator was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the type of the film substrate, the composition of the acrylic pressure-sensitive adhesive solution (type of the acrylic polymer, and the type and amount of the crosslinking agent) and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer were changed as shown in Table 1. One surface protection film was obtained. In addition, the detail of the crosslinking agent used in each example is as follows. The addition amount of the crosslinking agent in Table 1 is the solid content of the crosslinking agent with respect to 100 parts by weight of the polymer. In Preparation Examples 11 and 12 using only the epoxy-based Tetrad C as the crosslinking agent, a crosslinking catalyst was not added in the preparation of the pressure-sensitive adhesive solution.

코로네이트 HX: 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(도소제)Coronate HX: an isocyanurate body of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation)

코로네이트 L: 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 75% 용액(도소제)Coronate L: 75% solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (toso)

테트래드 C: 4관능 에폭시계 화합물(미츠비시 가스 가가쿠제)Tetrad C: 4-functional epoxy compound (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)

각 제작예의 표면 보호 필름의 구성(필름 기재의 종류, 점착제의 조성 및 두께), 그리고 표면 보호 필름의 평가 결과를 표 1에 나타낸다. 대전 방지 환상 올레핀(AS-COP) 필름을 사용한 제작예 2의 표면 저항률은 8.1×108Ω/□이며, 다른 예의 표면 저항률은 측정 상한(1×1013Ω/□)을 초과하였다.Table 1 shows the composition of the surface protective film of each production example (type of film substrate, composition and thickness of the adhesive), and evaluation results of the surface protective film. The surface resistivity of Production Example 2 using an antistatic cyclic olefin (AS-COP) film was 8.1×10 8 Ω/□, and the surface resistivity of the other example exceeded the upper measurement limit (1×10 13 Ω/□).

Figure pct00002
Figure pct00002

2축 연신 PET 필름 기재를 사용한 제작예 16 및 OPP 필름 기재를 사용한 제작예 17에서는, 기재 필름의 위상차가 큰 것에 기인하여 크로스니콜 하에 있어서 무지개 얼룩이 확인되어, 광학 검사성이 떨어졌다. TAC 필름 기재를 사용한 제작예 18에서는, 크로스니콜 하에서의 무지개 얼룩은 확인되지 않았지만, 가습 시험 후에 표면 보호 필름의 박리가 발생하기 쉬워, 가습 신뢰성이 떨어졌다. 이것은 필름 기재의 투습도가 낮아, 접착 계면에 대한 수분의 침입량이 많음에 기인하고 있다고 생각된다.In Production Example 16 using a biaxially stretched PET film substrate and Production Example 17 using an OPP film substrate, rainbow stains were observed under cross nicol due to the large retardation of the substrate film, resulting in poor optical inspection. In Production Example 18 using the TAC film base material, rainbow stain under cross nicol was not observed, but peeling of the surface protection film was likely to occur after the humidification test, and humidification reliability was poor. This is considered to be due to the low moisture permeability of the film substrate and a large amount of moisture intrusion into the adhesive interface.

저위상차 또한 저투습도의 필름 기재를 사용한 제작예 1 내지 15에서는, 크로스니콜 하에서의 무지개 얼룩은 확인되지 않고, 가습 시험 후에도 표면 보호 필름의 박리 영역은 증대되지 않았다.In Production Examples 1 to 15 using a low phase difference and a low moisture permeability film substrate, rainbow stain under cross nicol was not observed, and the peeling area of the surface protective film was not increased even after the humidification test.

제작예 8에서는, 가습 시험 후의 저속 박리 및 고속 박리 중 어느 것에서도 파열이 발생하였다. 제작예 8에서는, 필름 기재의 기계 강도(인장 파단 강도)가 작고, 박리력이 크기 때문에, 박리 시에 필름 기재에 부여되는 응력에 기인하여 필름 기재에 파열이 발생하기 쉽다고 생각된다.In Production Example 8, rupture occurred in either low-speed peeling or high-speed peeling after the humidification test. In Production Example 8, since the mechanical strength (tensile breaking strength) of the film base material is small and the peel strength is large, it is considered that the film base material is liable to cause rupture due to the stress applied to the film base material during peeling.

제작예 7 및 제작예 10에서는, 가습 시험 후의 저속 박리에서는 파열이 발생하지 않았다. 제작예 1 내지 6, 9, 11 내지 15에서는, 가습 시험 후의 저속 박리 및 고속 박리 중 어느 것에서도 파열이 발생하지 않았다. 이들 결과로부터, 피착체로부터의 박리력이 작아지도록 점착제층을 설계함으로써, 저위상차에서 기계 강도가 작은 필름 기재를 사용한 경우에도, 고속 박리 시의 파열이나 파단이 발생하기 어려운 표면 보호 필름이 얻어진다는 것을 알 수 있다.In Production Example 7 and Production Example 10, no rupture occurred at low-speed peeling after the humidification test. In Production Examples 1 to 6, 9 and 11 to 15, no rupture occurred in any of the low-speed peeling and the high-speed peeling after the humidification test. From these results, by designing the pressure-sensitive adhesive layer so that the peeling force from the adherend is small, even when a film substrate having a low mechanical strength is used in a low phase difference, a surface protection film that is unlikely to cause rupture or breakage during high-speed peeling is obtained. You can see that

점착제층의 구성과 박리력의 관계에 주목하면, 두께가 동일한 점착제층을 사용한 제작예 1, 4, 5 내지 7의 대비로부터, 점착제 조성물에 있어서의 가교제의 사용량을 증가시킴으로써, 박리력이 저감되는 경향이 있음을 알 수 있다. 제작예 3과 제작예 8의 대비, 및 제작예 11과 제작예 12의 대비로부터도 마찬가지의 경향을 엿볼 수 있다. 또한, 동일한 조성의 점착제를 사용한 제작예 1, 3, 10의 대비로부터, 점착제층의 두께가 작을수록 박리력이 저감되어, 고속 박리 시의 파열를 방지 할 수 있음을 알 수 있다.When attention is paid to the relationship between the composition of the pressure-sensitive adhesive layer and the peeling force, the peel strength is reduced by increasing the amount of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition from the contrast of Production Examples 1, 4, 5 to 7 using the pressure-sensitive adhesive layer. It can be seen that there is a tendency. The same tendency can be seen from the contrast of Production Example 3 and Production Example 8, and the contrast of Production Example 11 and Production Example 12. In addition, it can be seen from the contrast of Production Examples 1, 3, and 10 using the pressure-sensitive adhesive having the same composition that the smaller the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, the lower the peeling force, and the higher the peeling speed can be prevented.

필름 기재 위에 두께 30㎛의 점착제층을 형성한 제작예 10에서는, 가습 시험 후에 필름의 백탁이 보였다. 이 결과로부터, 박리 시의 파열 방지뿐만 아니라, 투명성의 관점에서도, 점착제층의 두께는 작은 편이 바람직하다고 할 수 있다.In Production Example 10 in which an adhesive layer having a thickness of 30 µm was formed on a film substrate, cloudiness of the film was observed after the humidification test. From these results, it can be said that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably smaller from the viewpoint of transparency as well as preventing rupture during peeling.

대전 방지층을 구비하는 필름 기재를 사용한 제작예 2에서는, 다른 예에 비하여 박리 대전압이 작아져 있다. 이 결과로부터, 정전기의 영향을 받기 쉬운 디바이스에 사용되는 표면 보호 필름으로서는, 필름 기재에 대전 방지층을 마련하는 것이 바람직하다고 할 수 있다.In Production Example 2 using a film base material having an antistatic layer, the peeling voltage is smaller than in other examples. From these results, it can be said that it is preferable to provide an antistatic layer on the film base material as a surface protection film used in a device susceptible to static electricity.

상기 제작예의 대비로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 점착제층의 두께나 조성을 조정하여 박리력을 소정 범위로 함으로써, 저위상차에서 기계 강도가 작은 필름 기재를 사용한 경우에도, 고속 박리 시의 파열이나 파단이 발생하기 어려운 표면 보호 필름이 얻어진다는 것을 알 수 있다.As can be understood from the contrast of the above production example, by adjusting the thickness or composition of the pressure-sensitive adhesive layer to set the peel force to a predetermined range, even when a film substrate having low mechanical strength is used in a low phase difference, rupture or breakage occurs at high speed peeling. It can be seen that a surface protective film that is difficult to obtain is obtained.

1: 필름 기재
2: 점착제층
5: 세퍼레이터
10: 표면 보호 필름
1: Film substrate
2: Adhesive layer
5: separator
10: surface protection film

Claims (10)

필름 기재와, 상기 필름 기재의 제1 주면 위에 고착 적층된 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름이며,
상기 필름 기재의 정면 리타데이션이 100㎚ 이하이고,
상기 표면 보호 필름은, 온도 60℃ 상대 습도 90%에서의 투습도가 300g/㎡·24h 이하이고, 아크릴판에 대한 인장 속도 30m/분의 180° 박리력이 3N/25㎜ 이하인, 표면 보호 필름.
It is a surface protection film provided with a film base material and the adhesive layer adhered and laminated on the first main surface of the film base material,
The film substrate has a front retardation of 100 nm or less,
The surface protection film is a surface protection film having a moisture permeability of 300 g/m 2 ·24h or less at a temperature of 60° C. and a relative humidity of 90%, and a 180° peel force of a tensile speed of 30 m/min to an acrylic plate of 3 N/25 mm or less.
제1항에 있어서,
상기 필름 기재의 두께 방향 리타데이션이 100㎚ 이하인, 표면 보호 필름.
According to claim 1,
The surface protective film whose thickness direction retardation of the said film base material is 100 nm or less.
제1항 또는 제2항에 있어서,
인장 파단 강도가 120MPa 이하인, 표면 보호 필름.
The method according to claim 1 or 2,
A surface protective film having a tensile breaking strength of 120 MPa or less.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 필름 기재가, 환상 올레핀계 필름 또는 아크릴계 필름인, 표면 보호 필름.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The said film base material is a cyclic olefin type film or an acryl-type film, The surface protection film.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 점착제층의 두께가 1 내지 50㎛인, 표면 보호 필름.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 to 50㎛, surface protection film.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 점착제층은, 가교 구조를 갖는 아크릴계 베이스 폴리머를 포함하는, 표면 보호 필름.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The pressure-sensitive adhesive layer, a surface protection film comprising an acrylic base polymer having a cross-linked structure.
제6항에 있어서,
상기 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입되어 있는, 표면 보호 필름.
The method of claim 6,
A surface protective film having a crosslinked structure introduced into the base polymer.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 필름 기재의 제2 주면에 대전 방지층이 마련되어 있는, 표면 보호 필름.
The method according to any one of claims 1 to 7,
An antistatic layer is provided on the second main surface of the film substrate, and the surface protection film.
제8항에 있어서,
상기 대전 방지층의 표면 저항률이 1.0×1012Ω/□ 이하인, 표면 보호 필름.
The method of claim 8,
The surface protection film, wherein the surface resistivity of the antistatic layer is 1.0×10 12 Ω/□ or less.
광학 부재의 표면에, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 표면 보호 필름이 접합되어 있는, 보호 필름을 갖는 광학 부재.An optical member having a protective film, wherein the surface protective film according to any one of claims 1 to 9 is bonded to the surface of the optical member.
KR1020207018989A 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member having protective film KR20200093634A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020247005160A KR20240025704A (en) 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member with protective film

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017234684A JP7126306B2 (en) 2017-12-06 2017-12-06 Surface protective film and optical member with protective film
JPJP-P-2017-234684 2017-12-06
PCT/JP2018/044706 WO2019111943A1 (en) 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member with protective film

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020247005160A Division KR20240025704A (en) 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member with protective film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200093634A true KR20200093634A (en) 2020-08-05

Family

ID=66751413

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020247005160A KR20240025704A (en) 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member with protective film
KR1020207018989A KR20200093634A (en) 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member having protective film

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020247005160A KR20240025704A (en) 2017-12-06 2018-12-05 Surface protective film and optical member with protective film

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7126306B2 (en)
KR (2) KR20240025704A (en)
CN (1) CN111433305A (en)
TW (1) TWI800572B (en)
WO (1) WO2019111943A1 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021120437A (en) * 2020-01-30 2021-08-19 日東電工株式会社 Adhesive sheet and image display device
JP7458926B2 (en) * 2020-07-28 2024-04-01 日東電工株式会社 Transparent Conductive Film
KR20230077699A (en) * 2021-11-25 2023-06-01 주식회사 엘지화학 Back plate film
JP2023105601A (en) * 2022-01-19 2023-07-31 日東電工株式会社 Surface-protective film and optical member with surface-protective film
JP2023105602A (en) * 2022-01-19 2023-07-31 日東電工株式会社 Surface-protective film and optical member with surface-protective film
WO2024071386A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 富士フイルム株式会社 Laminate, and optical element-containing laminate
WO2024095957A1 (en) * 2022-10-31 2024-05-10 三菱ケミカル株式会社 Ester compound-containing composition, method for producing same, polymerizable composition, (meth)acrylic polymer, and method for producing same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017190406A (en) 2016-04-14 2017-10-19 日東電工株式会社 Adhesive sheet

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4749587B2 (en) 2001-04-05 2011-08-17 日東電工株式会社 Surface protective film and method for peeling the same
KR101332981B1 (en) * 2006-07-24 2013-11-25 후지필름 가부시키가이샤 Optical compensation film and method for manufacturing the same, polarizor plate, and liquid crystal display
JP4948245B2 (en) 2007-04-17 2012-06-06 リケンテクノス株式会社 Protective film for retardation film
JP2008304672A (en) 2007-06-07 2008-12-18 Toray Advanced Film Co Ltd Surface protective film
JP6153977B2 (en) 2014-10-02 2017-06-28 リケンテクノス株式会社 Adhesive film
JP6370742B2 (en) * 2015-06-04 2018-08-08 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP2017119753A (en) 2015-12-28 2017-07-06 日東電工株式会社 Surface protective film, method for producing surface protective film, and optical member
JP2018002752A (en) 2016-06-27 2018-01-11 正宣 伊藤 Optical member protective film and visual inspection method of optical member

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017190406A (en) 2016-04-14 2017-10-19 日東電工株式会社 Adhesive sheet

Also Published As

Publication number Publication date
TWI800572B (en) 2023-05-01
CN111433305A (en) 2020-07-17
WO2019111943A1 (en) 2019-06-13
KR20240025704A (en) 2024-02-27
JP2019099751A (en) 2019-06-24
TW201930064A (en) 2019-08-01
JP7126306B2 (en) 2022-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20200093634A (en) Surface protective film and optical member having protective film
JP6692599B2 (en) Polarizing plate with adhesive layer
JP6125063B2 (en) Polarizing film with pressure-sensitive adhesive layer, method for producing the same, image display device, and method for continuously producing the same
KR101934940B1 (en) Polarizing film with adhesive layer, production process therefor and image display device
TWI717593B (en) Single-side protective polarizing film with adhesive layer, image display device and continuous manufacturing method thereof
KR102351941B1 (en) Adhesive sheet
KR20200100202A (en) Polarizing film and image display device with pressure-sensitive adhesive layer
JP2013253202A (en) Anchor-layer-forming coating liquid, pressure-sensitive adhesive layer-carrying optical film and method for producing the film
TWI765012B (en) Single-sided protective polarizing film with adhesive layer, image display device and continuous manufacturing method thereof
TWI812726B (en) Single-sided protective polarizing film with adhesive layer, image display device and continuous manufacturing method thereof
KR102159367B1 (en) Polarizing film and image display device
TW202214797A (en) Adhesive sheet used in layered product in flexible image display device, layered product used in flexible image display device, and flexible image display device
KR102614889B1 (en) Surface protecting film and optical member
JP2017173434A (en) Method for manufacturing one-side protection polarizing film with adhesive layer
US20200032113A1 (en) Optical adhesive layer, manufacturing method of optical adhesive layer, optical film with adhesive layer, and image display device
JP2019172839A (en) Adhesive layer, one-side protective polarization film with adhesive layer, image display device, and continuous manufacturing method therefor
WO2016129632A1 (en) Polarizing film provided with adhesive layer, method for manufacturing same, and image display device and method for manufacturing same
JP7289966B2 (en) Surface protective film and optical member with protective film
JP7289967B2 (en) Surface protective film and optical member with protective film
TW201840774A (en) Pressure-sensitive adhesive layer, one-side-protected polarizing film having pressure-sensitive adhesive layer, image display device, and continuous production method therefor
TW202024275A (en) Adhesive composition for optical film, adhesive layer for optical film and optical film attached with adhesive layer inhibiting the foaming and stripping of an adhesive layer for the optical film even if an adhered body is exposed to heating and humidifying conditions
KR20190128629A (en) Adhesive layer, single protection polarizing film provided with adhesive layer, image display apparatus, and its continuous manufacturing method
JP7190268B2 (en) Polarizing film with adhesive layer, method for peeling the same, and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision