KR20200085677A

KR20200085677A - 반사 방지 필름 및 이를 포함한 광학소자

Info

Publication number: KR20200085677A
Application number: KR1020200002225A
Authority: KR
Inventors: 원즈 거; 루지 키무라
Original assignee: 항저우 엠디케이 옵토 일렉트로닉스 컴퍼니 리미티드; 코퍼레이션 엔ㆍ더블유
Priority date: 2019-01-07
Filing date: 2020-01-07
Publication date: 2020-07-15
Anticipated expiration: 2040-01-07
Also published as: CN109581549A; KR102292648B1; CN109581549B; US11204446B2; US20200264338A1

Abstract

본 발명은 신규한 반사 방지 필름 및 이를 포함한 광학 소자를 제공한다. 반사 방지 필름은 기재층 표면에 장착되고, 상기 반사 방지 필름은 기재층 표면에 있는 다층 필름, 다층 필름 외측의 보호 필름을 포함하고, 상기 다층 필름은 반사층에 2층 혹은 3층 적층 형성되며, 상기 반사 방지 필름의 다층 필름 외측은 순차적으로 두 층 보호 필름이 형성되어 있고; 광학소자는 상기 반사 방지 필름이 광학소자 필터의 양면 혹은 단면에 형성된다. 본 발명은 400nm~800nm 대역폭에서 고성능, 반사방지기능의 반사 방지 필름을 얻을 수 있고 반사 방지 필름을 광학 시스템이 이용 시 더블이미지(double image) 혹은 플레어(flare)가 발생하는 것을 감소할 수 있다.

Description

반사 방지 필름 및 이를 포함한 광학소자{ANTI-REFLECTION FILM AND OPTICAL COMPONENT INCLUDING THE ANTI-REFLECTION FILM}

본 발명은 광학설비, 특히나 반사 방지 필름 및 이를 포함한 광학소자에 관한 것이다.

광학 시스템에 포함되는 렌즈와 광학 필터 등 광학소자의 대부분은 광학 유리 혹은 광학 플라스틱 등 투명 부품재료(기판)으로 만들어진다, 이러한 기판은 굴절률이 커질 시 광입사면과 광출사면(광입출사면)의 반사율이 높아지고 광입출사면 반사율이 비교적 높은 광학소자를 이용할 시 이미지 표면에 닿는 유효한 광의 양이 감소하는 동시에 광학소자의 입출사면에서 반사되는 불필요한 반사광이 이미지 표면에서 더블이미지와 플레어가 형성되는데 이는 광학성능이 저하되도록 하는 원인이 된다. 하여 기판을 사용하는 광학소자 중 광입출사면에 반사 기능을 주고자 한다.

그리고, 광입출사면 반사를 통해 이미지 표면에 이르는 불필요한 더블이미지와 플레어는 광학소자의 광속입사각과 광학소자의 형상에 따라 커다란 변화를 가져올 수 있다. 그러므로 기판에 추가되는 반사 방지 필름은 되도록 넓은 파장 구역에 있으면서 각 입사각도(CRA)에서 양호한 반사방지효과를 가지도록 한다. 기판에 추가되는 광입출사면 반사 방지 필름은 필름코팅을 통해 기판의 광입출사면에 박막의 유전체필름이 다층으로 적층되어 다층 반사 방지 필름이 형성되는 것으로 많이 알려져 있다. 일반적으로 반사 방지 필름은 많이 적층되어 반사방지효과도 커지고 반사방지 대역폭도 넓어지게 된다.

또한 증기코팅필름 중 사용되는 재료로, 예를 들면 굴절률이 1.38인 MgF₂보다 더 낮은 굴절률 재료를 반사 방지 필름의 상단표면층(공기층과 제일 근접한 측)에 사용할 시 고성능의 반사방지 성능을 얻게 된다, 이 외 굴절률이 낮은 재료에 이미 알려진 것들은 Si, Mg등 무기재료, Si수지와 비결정체의 F수지 등 유기재료가 있다, 이러한 재료들은 층 내에서 간극을 형성하여 굴절률을 낮춘다, 예를 들면 반사 방지 필름이 파장 400nm~700nm 범위 내에서 굴절률이 1.3까지 낮아지는 불소 류 수지가 있고, 파장 400nm~700nm 범위 내에서 굴절률이 1.2좌우까지 낮아지는 불화마그네슘 필름을 최상층으로 하는 9층 구조의 반사 방지 필름도 있다.

일부 증기코팅필름의 다층 필름 중 400nm~700nm 대역폭 범위 내에서 반사율을 낮추고 양호한 반사방지효과를 가지려면 다량의 필름층수를 요구한다, 만약 필름층 수가 많아지면 엄격한 경사각으로 입사 시 가시역대 웨이브, 파장의 변위에 대한 영향이 커지고 대역폭 범위 내에서 양호한 반사방지효과를 가지기 어렵다. 대역폭 400nm~730nm 범위 내에서 반사율을 낮추고 양호한 반사방지기능을 가지기에는 상단표면층에 저(낮은)굴절률 재료(C0024)를 배치하고, 저굴절률 재료 배치는 Sol-Cel법으로 제조하는 것이 유효하지만 이러한 필름구조는 매우 취약하여 카메라 조립 시 필요한 닦기 작업 등을 진행하기 어렵다.

상기 문제를 해결하기 위해 본 발명은 대역폭 범위 내에서 양호한 반사방지기능을 가지고 양호한 필름강도를 가지는 반사 방지 필름 및 이를 포함하는 반사 방지 필름 광학소자와 시스템을 제공한다.

상기 목적을 이루기 위해 본 발명은 하기와 같은 기술방안을 제공한다: 기재층 표면에 장착되고, 상기 기재층 표면의 다층 필름과 상기 다층 필름 외측에 장착된 보호 필름을 포함하는 반사 방지 필름에서, 상기 다층 필름은 2층 혹은 3층의 저반사층이 적층되어 형성되고, 상기 기재층 굴절률은 1.43이상, 1.70이하이며, 상기 다층 필름이 2층 저반사층 구조 시 상기 2층 저반사층 중 제1 저반사층 굴절률은 1.30~1.50이고 광학 필름 두께는 60~80nm이며, 제2 저반사층 굴절률은 1.15~1.23이고 광학 필름의 두께는 60~120nm이며, 상기 다층 필름이 3층 저반사층 구조 시 상기 3층 저반사층 중 제1 저반사층 굴절률은 1.30~1.70이고 광학 필름 두께는 30~170nm이며, 제2 저반사층 굴절률은 1.30~1.50이고 광학 필름 두께는 80~120nm이며, 제3 저반사층 굴절률은 1.15~1.23이고 광학 필름 두께는 80~130nm이며, 상기 반사 방지 필름의 다층 외측에 순차적으로 두 층의 보호 필름이 장착되어 있고 상기 두 층의 보호 필름 중 제1층 보호 필름의 굴절률은 1.30~2.40이고 광학 필름 두께는 20nm이하, 제2층 보호 필름의 굴절률은 1.30~1.60이고 광학 필름 두께는 10~30nm인 것으로 한다.

상기 기재층과 다층 필름의 굴절률은 He광원의 d선 하에 획득하는 것이 바람직하다. 상기 d선 파장은 587.56nm이다.

상기 반사 방지 필름은 입사각이 0도 시 빛의 반사율 최대치가 0.2%를 초과하지 않고, 최소치는 0.1%를 초과하지 않으며 상기 빛의 파장이 450nm~600nm 범위 내에 있는 것이 바람직하다.

상기 반사 방지 필름은 입사각이 0도 시 빛의 반사율 최대치가 0.2%를 초과하지 않고 상기 빛의 파장이 380nm~780nm 범위 내에 있는 것이 바람직하다.

상기 다층 필름과 보호 필름은 굴절률이 다른 두 가지 혹은 세 가지 재료로 구성되고, 그 중 굴절률이 1.30~1.70인 필름층은 Si, Mg, Al 모노머 혹은 혼합물로 조성되고, 굴절률이 1.15~1.23인 필름층은 규소산화물의 모노머 혹은 이를 포함한 혼합물로 조성되는 것이 바람직하다.

상기 다층 필름이 2층 저반사층 구조 시 상기 2층 저반사층 중 제2 저반사층은 Si를 포함한 중공미립자로 조성되고, 상기 다층 필름이 3층 저반사층 구조 시 상기 3층 저반사층 중 제3 저반사층은 Si를 포함한 중공미립자로 조성되는 것이 바람직하다.

상기 다층 필름이 2층 저반사층 구조 혹은 3층 저반사층 구조 시 상기 제1 저반사층은 SiO₂, MgF₂, Al₂O₅의 모노머 혹은 그 화합물로 조성된 것이 바람직하다.

상기 반사 방지 필름을 포함한 광학소자는 상기 반사 방지 필름이 광학소자필터의 양면 혹은 단면에 장착된다.

본 발명의 반사 방지 필름은 기준 파장이 550nm, 굴절률이 1.30~1.70인 재료로 형성된 기판의 광입사면 혹은 광출사면 중 적어도 일면에 4층 혹은 5층으로 구성된 반사 방지 필름이고, 반사 방지 필름은 기판 측으로부터 공기측으로 가면서 순차적으로 제1층, 제2층, 제3층, 제4층, 제5층으로 하고, 굴절률은 기준파장의 굴절률, 광학 필름 두께는 광학 필름 두께=(기준파장의 굴절률)*(두께)로 한다. 본 발명은 각 층의 굴절률과 광학 필름의 두께를 알맞게 설정하였다. 본 발명의 반사 방지 필름의 입사각이 0도 시 대역폭 420nm부터 730nm 범위 내 반사율의 최대치는 0.2%이하로 한다.

본 발명의 반사 방지 필름 중 다층 필름의 제1층은 기재층과 접촉하고 기재층의 굴절률 영향을 용이하게 받으며 제1층의 굴절률은 기재층의 굴절률보다 작게 하는 것이 바람직하다. 제1층의 굴절률 n1과 제2층의 굴절률n2 중 n1이 n2보다 크게 설정하여 반사특성의 민감도를 낮추는 것이 바람직하고, 제2층의 굴절률은 제3층의 굴절률보다 높게 설정하는 것이 바람직하다, 그리고 2층 보호 필름은 굴절률을 낮출 필요가 있어 저굴절률 재료로 구성된 저굴절률층을 형성하고, 2 층 보호 필름은 Si를 주요 성분으로 하는 중공미립자로 하는 것이 바람직하다. 여기에서 주요 성분은 질량비중이 50%이상인 성분을 말한다.

중공미립자는 접착제로 결합하고, 중공미립자 내부에 있는 빈틈(빈 공) 속에 함유된 공기(굴절률1.0)으로 하여 굴절률을 낮출 수 있다. 빈 공은 단공 혹은 다공 모두 가능하고 적절히 선택 가능하며, 중공미립자 내부에 빈틈들이 존재하는데 이러한 빈틈은 중공미립자가 수분과 불순물을 흡수하는 것을 방지할 수 있다. 그러므로 환경에 잘 견디고 굴절률 변화가 비교적 작은 안정적인 광학적 특성을 가질 수 있다. 중공미립자는 접착제로 결합하여야 하는데 Sol-Gel법으로 제작하는 것이 바람직하고 도포 방법은 특별한 한정이 없이 GipCoat, 회전도포법, 스프레이법, RollCoat법 등 액상 도포재료에 적용하는 방법을 적용할 수 있다. 렌즈와 마찬가지로 곡면이 있는 기재에 필름 두께가 일정한 박막을 형성하여야 하는 관점에서 볼 때 스프레이법으로 하는 것이 필름 형성에 바람직하다. 도포 후 건조를 진행하는데, 건조는 건조기, 열판, 전기보일러 등을 사용할 수 있다. 건조 조건은 기판에 영향을 주지 않고 중공입자 내의 유기용매가 증발하는 온도와 시간은 일반적으로 300 ℃이하 인 것이 바람직하며 도포 횟수는 1회로 하는 것이 바람직하나 여러 번 중복하여 건조하고 도포하는 것도 가능하다.

본 발명을 생산할 때 기판(기재층)에 금속필름을 코팅할 시 도포층(즉 반사 방지 필름)과 기판의 필름밀착성을 높이기 위해 금속필름의 재료는 Si, Mg, Al 등으로 하는 것이 바람직하고, 필름을 코팅하는 방법 중 IAD코팅 혹은 RAS를 하는 것이 유효하다, 동시에 경화필름을 생성하는 방법으로 로스팅 조건에서 온도 상승은 Step방식(온도를 점차적으로 높이는 방식)으로 하는 것이 유효하며, 공기는 N₂등 기체를 주입하는 것이 바람직하다. 얼룩과 필름 두께 편차를 억제하는 방법으로 도포 시 기판은 밀봉 공간을 활용하는 것이 바람직하다, 밀폐식 공간은 용매공기에 비교적 좋고 용매공기는 포화상태에 있는 것이 바람직하다. 그리고 필름의 균일성을 확보하기 위해 회전속도를 높이는 것이 유효하다, 예를 들면 2,000rpm이 바람직하고, 더 바람직하게는 6,000rpm이상이다. 도포된 필름은 로스팅 전 접촉하게 되면 필름이 나빠질 수 있다, 다른 한면이 로스팅 잘 되었다 해도, 예를 들어 기판 주위를 억제하여 도포를 진행하였다 해도, 반대 면이 로스팅 되지 않은 상태라면 기판을 접촉하지 않고 도포를 진행하여야 한다, 왜냐하면 반대면을 접촉하지 않고 도포를 진행하여 로스팅 전의 상태로 양면 도포를 하게 되면 전체 과정의 효율을 높이는데 유리하다.

RAS등으로 필름 코팅 시 점성막으로 유지하는 방법이 있으나 이때 점성 재료가 기판 표면에 부착되어야 하고 필름 코팅 시 일정한 온도가 요구된다, 하여 점성재료의 전사 영향이 커서 표면 품질이 저하될 수 있다, 하지만 예를 들어 필름코팅 툴(tool) 위에서 고정된 방식으로 진행하면 이러한 문제를 회피할 수 있다.

연속 생산 시 도포액이 장시간 상온에서 공기에 노출되는 상황이 있을 수 있다, 예를 들면 Sol-Gel 법을 사용하면 저굴절률 재료는 환경의 원인으로 반응을 일으킬 수 있는데, 대기하는 과정 중 고체부분의 비율이 높아지고 필름 형성 후 도포필름이 파열되는 현상이 일어날 수 있다. 이러한 불량을 방지하기 위해 용매공기로 대기 중 도포액의 공기를 관리하는 것이 바람직하다. 기판에 도포 시 자동주사기로 도포할 수 있는데, 액체가 적하되면 짧은 시간 내 1차적으로 도포되는 것이 바람직하다, 도포 시간이 길어지면 무늬와 얼룩이 생길 수 있어 외관 불량이 발생하게 된다, 이러한 것을 억제하기 위한 방법으로 기판과 자동주사기의 거리는 3~10mm로 하는 것이 바람직하고, 도포액은 5초 이하, 더 바람직하게는 1초 이하의 시간에 필요한 양으로 적하하는 것이 바람직하다. 도포 후 기판 회수율을 높이는 방법으로 균일하게 기판의 주변에 도포하는 것이 바람직하고, 이때 도포액은 0.03~1.0cc/80mm²로 하는 것이 바람직하다, 그 외 회전 속도와 결합하여 도포양을 최소화하여 도포액의 손실을 감소하고 재료비를 감소할 수 있다.

본 발명의 제품은 절단할 수 있다, 절단은 하나의 방법이지만 이러한 방법으로 절단 시 uv테이프 등 점성이 강한 필름고정을 할 필요가 있다. 그러면 점성 재료가 제품에 전사되어 외관 불량과 스펙트럼 특성 변화 등 성능에 문제가 생기는 문제가 발생할 수 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위한 방법으로 테이프를 선택하거나 절단 후 세척하는데 공을 들이는 것이 바람직할 수 있다, 예를 들면 절단 전 제품을 고정할 때 점성이 약한 필름을 사용하거나 세척하는 방법을 사용할 때 uv세척을 할 수 있다.

그러므로 본 발명은 하기의 효과를 가진다: 대역폭 400nm~800nm에서 고성능, 반사방지기능을 가진 반사 방지 필름을 형성할 수 있고, 이를 광학시스템에 사용 시 더블이미지와 플레어가 발생하는 것을 감소할 수 있다.

도 1은, 본 발명의 구조를 나타낸 것이다.
도 2는, 본 발명의 광로소자의 구조를 나타낸 것이다.
도 3은, 본 발명 반사 방지 필름의 반사율 특성을 나타내는 1도면이다.
도 4는, 본 발명 반사 방지 필름의 반사율 특성을 나타내는 2도면이다.
도 5는, 본 발명 반사 방지 필름의 반사율 특성을 나타내는 3도면이다.
도 6은, 본 발명 반사 방지 필름의 반사율 특성을 나타내는 4도면이다.

이하 도면을 결합하여 본 발명에 대해 구체적인 설명을 한다.

기재층 표면에 장착되고, 상기 기재층 표면의 다층 필름과 상기 다층 필름 외측에 장착된 보호 필름을 포함하는 반사 방지 필름에서, 상기 다층 필름은 2층 혹은 3층의 저반사층이 적층되어 형성되고, 상기 기재층 굴절률은 1.43이상, 1.70이하이며, 상기 다층 필름이 2층 저반사층 구조 시 상기 2층 저반사층 중 제1 저반사층 굴절률은 1.30~1.50이고 광학 필름 두께는 60~80nm이며, 제2 저반사층 굴절률은 1.15~1.23이고 광학 필름의 두께는 60~120nm이며,

다층 필름이 3층 저반사층 구조 시 상기 3층 저반사층 중 제1 저반사층 굴절률은 1.30~1.70이고 광학 필름 두께는 30~170nm이며, 제2 저반사층 굴절률은 1.30~1.50이고 광학 필름 두께는 80~120nm이며, 제3 저반사층 굴절률은 1.15~1.23이고 광학 필름 두께는 80~120nm이며,

반사 방지 필름의 다층 외측에 순차적으로 두 층의 보호 필름이 장착되어 있고 상기 두 층의 보호 필름 중 제1층 보호 필름의 굴절률은 1.30~2.40이고 광학 필름 두께는 20nm이하, 제2층 보호 필름의 굴절률은 1.30~1.60이고 광학 필름 두께는 10~30nm이며,

기재층과 다층 필름의 굴절률은 He광원의 d선 하에 획득하고, d선 파장은 587.56nm이며,

반사 방지 필름은 입사각이 0도 시 빛의 반사율 최대치가 0.2%를 초과하지 않고, 최소치는 0.1%를 초과하지 않으며 상기 빛의 파장이 450nm~600nm 범위 내에 있고,

반사 방지 필름은 입사각이 0도 시 빛의 반사율 최대치가 0.2%를 초과하지 않고 상기 빛의 파장이 380nm~780nm 범위 내에 있으며,

다층 필름과 보호 필름은 굴절률이 다른 두 가지 혹은 세 가지 재료로 구성되고, 그 중 굴절률이 1.30~1.70인 필름층은 Si, Mg, Al 모노머 혹은 혼합물로 조성되고, 굴절률이 1.15~1.23인 필름층은 규소산화물의 모노머 혹은 이를 포함한 혼합물로 조성되고,

다층 필름이 2층 저반사층 구조 시 2층 저반사층 중 제2 저반사층은 Si를 포함한 중공미립자로 조성되고, 상기 다층 필름이 3층 저반사층 구조 시 상기 3층 저반사층 중 제3 저반사층은 Si를 포함한 중공미립자로 조성되고,

다층 필름이 2층 저반사층 구조 혹은 3층 저반사층 구조 시 제1 저반사층은 SiO₂, MgF₂, Al₂O₅의 모노머 혹은 그 화학물로 조성되고,

반사 방지 필름을 포함한 광학소자는 반사 방지 필름이 광학소자필터의 양면 혹은 단면에 장착된다.

실시예1에서, 도 1에서 나타낸 바와 같이 기재층(1)에 장착된 반사 방지 필름(2)는 5층 구조를 포함한다, 즉 다층 필름의 제1 저반사층(3), 제2 저반사층(4), 제3 저반사층(5), 및 보호 필름에 속하는 제1층 보호 필름(6)과 제2층 보호 필름(7)을 포함한다.

실시예2에서, 도 1, 도 2에서 나타낸 바와 같이 본 발명의 기재층(1)과 반사 방지 필름(2)를 사용한 광학소자(8)의 구조이다. 광학소자(80의 일단은 공기층(9)과 접촉하고 광학소자(8)의 양끝단은 각 기 기재층(1)이 장착되어 있으며 광학소자8는 렌즈, 필터 등을 포함한 기초상에서 기재층(1)의 광입출사면 중 적어도 일면에 반사 방지 필름(2)을 포함하고, 반사 방지 필름(2)는 기재층(1)의 일측 혹은 기재층(1)의 일측에서 공기층(9)의 일측까지에 순차적으로 제1 저반사층(3), 제2 저반사층(4), 제3 저반사층(5), 제1층 보호 필름(6), 제2층 보호 필름(7)이 기재층(1)에 적층되어 형성되었다.

구체적인 실시과정은, 본 실시예에서, 제1 저반사층(3) 혹은 제1 저반사층(3)에서 제2 저반사층(4)까지는 진공 필름코팅 방법 혹은 회전도포법을 이용하여 형성되고, 제1 저반사층(3)혹은 제1 저반사층(3)에서 제2 저반사층(4)까지의 굴절률은 1.35~1.45이고, 한가지 혹은 두 가지 재료로 구성되고, 그 외 제2 저반사층(4) 혹은 제3 저반사층(5)는 굴절률을 1.16의 중공SiO₂의 혼합조정액으로 회전 도포 후 1시간 로스팅하여 필름을 형성한다, 그리고 제1층 보호 필름(6)과 제2층 보호 필름(7)은 스퍼터링을 통해 필름을 형성한다. 두 층 보호 필름의 굴절률은 1.30~1.48이고 두 가지 재료로 구성되며 상단표면층에 불소막이 되어있다.

도 3, 도 4, 도 5, 도 6은 각 기 대역폭 380nm~780nm의 범위 내에 0도각으로 입사된 실시예의 반사율 특성 및 기재층 굴절률은 1.43, 1.52, 1.61, 1.70인 특성을 나타낸다. 실시예1의 반사 방지 필름은 대역폭 380nm~780nm의 범위 내에서 반사율 0.2% 이하의 대역폭은 130nm~400nm이고, 반사율 0.1% 이하의 대역폭은 60~350nm이다.

1 기재층,
2 반사 방지 필름,
3 제1 저반사층
4 제2 저반사층,
5 제3 저반사층,
6 제1층 보호 필름
7 제2층 보호 필름

Claims

기재층 표면에 장착되는 반사 방지 필름에 있어서,
상기 기재층 표면에 장착되는 다층 필름과 상기 다층 필름의 외측에 장착되는 보호 필름을 포함하며,
상기 다층 필름은 2층 혹은 3층의 저반사층이 적층되어 형성되고,
상기 기재층의 굴절률은 1.43이상, 1.70이하이며,
상기 다층 필름이 2층의 저반사층 구조일 경우, 상기 2층의 저반사층 중 제1 저반사층의 굴절률은 1.30 ~ 1.50이고 광학 필름의 두께는 60 ~ 80nm이며, 제2 저반사층의 굴절률은 1.15 ~ 1.23이고 광학 필름의 두께는 60~120nm이며,
상기 다층 필름이 3층의 저반사층 구조일 경우, 상기 3층의 저반사층 중 제1 저반사층의 굴절률은 1.30 ~ 1.70이고 광학 필름의 두께는 30~170nm이며, 제2 저반사층의 굴절률은 1.30 ~ 1.50이고 광학 필름의 두께는 80~120nm이며, 제3 저반사층의 굴절률은 1.15 ~ 1.23이고 광학 필름의 두께는 80~130nm이며,
상기 반사 방지 필름의 다층 필름의 외측에 순차적으로 2층의 보호 필름이 장착되어 있고, 상기 2층의 보호 필름 중 제1층 보호 필름의 굴절률은 1.30 ~ 2.40이고 광학 필름의 두께는 20nm이하이며, 제2층 보호 필름의 굴절률은 1.30 ~ 1.60이고 광학 필름의 두께는 10~30nm인,
반사 방지 필름.
제1항에 있어서,
상기 기재층과 다층 필름의 굴절률은 He 광원의 d선에서의 굴절률로 설정되고, 상기 d선의 파장은 587.56nm인, 반사 방지 필름.
제1항에 있어서,
상기 반사 방지 필름은 입사각이 0도일 때의 빛에 대한 반사율의 최대치가 0.2%를 초과하지 않고, 최소치는 0.1%를 초과하지 않으며, 상기 빛의 파장이 450nm ~ 600nm 범위 내에 있는, 반사 방지 필름.
제1항에 있어서,
상기 반사 방지 필름은 입사각이 0도일 때의 빛에 대한 반사율의 최대치가 0.2%를 초과하지 않고, 상기 빛의 파장이 380nm ~ 780nm 범위 내에 있는, 반사 방지 필름.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름과 보호 필름은 굴절률이 다른 두 가지 혹은 세 가지 재료로 구성되며, 굴절률이 1.30 ~ 1.70인 필름층은 Si, Mg, Al 모노머 혹은 이들의 혼합물로 조성되고, 굴절률이 1.15 ~ 1.23인 필름층은 규소산화물의 모노머 혹은 이를 포함한 혼합물로 조성되는, 반사 방지 필름.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 2층의 저반사층 구조일 경우, 상기 2층의 저반사층 중 제2 저반사층은 Si를 포함한 중공미립자로 조성되고, 상기 다층 필름이 3층의 저반사층 구조일 경우, 상기 3층의 저반사층 중 제3 저반사층은 Si를 포함한 중공미립자로 조성되는, 반사 방지 필름.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 2층의 저반사층 구조 혹은 3층의 저반사층 구조일 경우, 상기 제1 저반사층은 SiO₂, MgF₂, Al₂O₅의 모노머 혹은 그 화합물로 조성된, 반사 방지 필름.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 반사 방지 필름을 포함하는 광학 소자에 있어서,
상기 반사 방지 필름은 광학 소자 필터의 양면 혹은 일면에 장착된, 광학 소자.