KR20200057682A - Resin film and method for producing the same - Google Patents

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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

An object of the present invention is to provide a resin film which has optical properties required for a front panel while being suppressed in defects such as damage due to rattling of the film during production and a manufacturing method thereof. According to the present invention, the resin film comprises at least one of a polymer resin or a polyamide resin, and the center point in the width direction of the film is set as TD_c; the in-plane phase difference value R (TD_c) of TD_c and the in-plane phase difference value R (TD_80) of TD_80, which are measured at a wavelength of 590 nm, satisfy formula (1), where TD_80 is the point of 80% of the length from the center point in the width direction to the end portion with the center point being 0%. R (TD_c) / R (TD_80) >= 0.35 (1).

Description

수지 필름 및 그 제조 방법{RESIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME}RESIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

본 발명은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a resin film containing at least one of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin and a method for manufacturing the same.

최근, 화상 표시 장치의 박형화, 경량화 및 플렉시블화가 요구되고 있지만, 종래 사용되어 온 유리 기재 또는 유리 전면판은, 상기 요구에 대응할 수 있는 충분한 재질 특성을 갖지 못했다. 이로 인하여, 유리를 대신하는 재료 또는 기재의 개발이 진행되고 있다. 그 하나로 폴리이미드 수지를 함유하는 수지 필름이 있다. 폴리이미드 수지를 함유하는 수지 필름은, 유연성, 투명성 및 내열성의 관점에서 다양한 용도로 사용되고 있다(특허문헌 1).In recent years, thinning, lightening, and flexible of image display devices have been demanded, but conventionally used glass substrates or glass front plates do not have sufficient material properties to meet the above requirements. For this reason, the development of materials or substrates in place of glass is progressing. One of them is a resin film containing a polyimide resin. The resin film containing a polyimide resin is used for various uses from a viewpoint of flexibility, transparency, and heat resistance (Patent Document 1).

일본 공개특허공보 2009-286826호Japanese Patent Application Publication No. 2009-286826

폴리이미드계 수지를 포함하는 필름을 화상 표시 장치의 전면판으로서 사용하는 경우, 표면 경도를 높이는 것 등을 목적으로, 필름을 고온 조건하에서 가열하는 공정이 이루어지고 있다. 그러나, 고온 조건하에서의 가열에 의해, 필름이 황변하여 필름의 품질이 손상된다는 문제가 있었다. 또, 전면판은, 화상 표시 장치의 시인측에 배치되기 때문에, 시인성에 영향을 줄 수 있는 흠집 등의 결함이 없고, 또 전면판에 요구되는 광학적 성질 및 물리적 성질을 가질 것이 요구되고 있다.When a film containing a polyimide-based resin is used as a front plate of an image display device, a process of heating the film under high temperature conditions is performed for the purpose of increasing the surface hardness. However, there has been a problem that, by heating under high temperature conditions, the film turns yellow and the quality of the film is impaired. Moreover, since the front plate is disposed on the viewing side of the image display device, there are no defects such as scratches that may affect visibility, and it is required to have the optical and physical properties required for the front plate.

본 발명은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 제조 과정에 있어서의 필름의 펄럭임에 기인한 흠집 등의 결함이 억제되며, 전면판에 요구되는 광학적 성질을 구비하는 수지 필름 및 그 제조 방법을 제공한다. 즉, 본 발명은, 이하의 양태의 수지 필름의 제조 방법을 제공한다.The present invention has been made in view of the above problems, and provides defects such as scratches due to flapping of the film in the manufacturing process, and provides a resin film having the optical properties required for the front plate and a method for manufacturing the same . That is, this invention provides the manufacturing method of the resin film of the following aspects.

[1] 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름으로서,[1] A resin film comprising at least either a polyimide resin or a polyamide resin,

필름 폭 방향의 중심점을 TDc로 하고, 폭 방향의 중심점으로부터 단부(端部)까지의 길이에 있어서, 중심점을 0%로 하여 80%의 길이의 점을 TD80으로 했을 때, 파장 590nm에서 측정한 TDc의 면내 위상차값 R(TDc) 및 TD80의 면내 위상차값 R(TD80)이 식 (1)을 충족시키는 수지 필름.When the center point in the width direction of the film is TD c and the length from the center point in the width direction to the end is 0% and the length of 80% is TD 80 , the measurement is performed at a wavelength of 590 nm. a TD of c-plane retardation value R (TD c) and the in-plane retardation value R of the TD 80 to the resin film (TD 80) meet the formula (1).

R(TDc)/R(TD80)≥0.35 (1)R (TD c ) / R (TD 80 ) ≥0.35 (1)

[2] 수지 필름은, 필름 폭 방향의 중심점을 TDc로 하고, 폭 방향의 중심점으로부터 단부까지의 길이에 있어서, 중심점을 0%로 하여 66%의 길이의 점을 TD66으로 했을 때, 파장 590nm에서 측정한 TDc의 면내 위상차값 R(TDc) 및 TD66의 면내 위상차값 R(TD66)이 식 (2)를 충족시키는 [1]에 기재된 수지 필름.[2] The resin film, in the center of the film width direction in the length of the end portion from the center point of a TD c, and the width direction, when the length of that of the 66% to the center point of 0% by TD 66, a wavelength c-plane retardation value of the TD measured at 590nm R (TD c) and the in-plane retardation value R of the TD 66 (TD 66) resin film as defined in [1] which satisfies the expression (2).

R(TDc)/R(TD66)≥0.40 (2)R (TD c ) / R (TD 66 ) ≥0.40 (2)

[3] 수지 필름은, 식 (3)을 충족시키는 [1] 또는 [2]에 기재된 수지 필름.[3] The resin film according to [1] or [2], in which the resin film satisfies Expression (3).

R(TDc)/R(TD66)-R(TDc)/R(TD80)<0.15 (3)R (TD c ) / R (TD 66 ) -R (TD c ) / R (TD 80 ) <0.15 (3)

[4] 수지 필름은, 그 중량 감소율이 3% 이하인 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 수지 필름.[4] The resin film according to any one of [1] to [3], wherein the weight reduction ratio is 3% or less.

[5] 수지 필름 폭 방향의 전체폭이 300~2,200mm인 [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 수지 필름.[5] The resin film according to any one of [1] to [4], wherein the overall width in the resin film width direction is 300 to 2,200 mm.

[6] [1]~[5] 중 어느 하나에 기재된 수지 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치.[6] A flexible display device comprising the resin film according to any one of [1] to [5].

[7] 터치 센서를 추가로 구비하는, [6]에 기재된 플렉시블 표시 장치.[7] The flexible display device according to [6], further comprising a touch sensor.

[8] 편광판을 추가로 구비하는, [6] 또는 [7]에 기재된 플렉시블 표시 장치.[8] The flexible display device according to [6] or [7], further comprising a polarizing plate.

[9] 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름의 제조 방법으로서,[9] A method for producing a resin film comprising at least either a polyimide resin or a polyamide resin,

내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 텐터로(爐)에서 원료 필름을 가열하는 가열 공정을 갖고,Has a heating process for heating the raw material film in a tenter furnace that is divided into a plurality of spaces inside,

상기 텐터로에서는, 적어도 1개의 공간에 있어서 열풍 처리 방식으로 가열 공정이 행해지며, 또한 적어도 1개의 공간에 있어서 복사선 처리 방식으로 가열 공정이 행해지는, 수지 필름의 제조 방법.In the tenter furnace, a heating process is performed in a hot air treatment system in at least one space, and a heating process is performed in a radiation treatment system in at least one space.

[10] 상기 가열 공정이, 텐터로의 동일한 공간에 있어서, 열풍 처리 방식 및 복사선 처리 방식의 양 방식으로 행해지는 [9]에 기재된 수지 필름의 제조 방법.[10] The method for producing the resin film according to [9], wherein the heating step is performed in both the hot air treatment method and the radiation treatment method in the same space as the tenter.

[11] 상기 복사선 처리 방식의 가열 공정이, 복사선 처리 방식으로 가열 공정이 행해지는 공간의 온도보다 30℃ 이상 높은 온도의 복사선을 원료 필름에 쏘임으로써 행해지는, [9] 또는 [10]에 기재된 수지 필름의 제조 방법.[11] The method according to [9] or [10], wherein the heating process of the radiation treatment method is performed by shooting a radiation film at a temperature of 30 ° C or higher higher than the temperature of the space where the heating process is performed by the radiation treatment method. Manufacturing method of resin film.

[12] 상기 원료 필름이 용매를 포함하고, 또한 원료 필름의 중량 감소율이 40% 이하인 [9]~[11] 중 어느 하나에 기재된 수지 필름의 제조 방법.[12] The method for producing a resin film according to any one of [9] to [11], wherein the raw material film contains a solvent and the weight reduction rate of the raw material film is 40% or less.

본 발명에 의하면, 흠집 등의 결함이 억제되어, 균일한 면내 위상차 및 낮은 황색도 등, 전면판에 요구되는 우수한 광학적 성질을 구비하는 수지 필름이 제공된다.According to the present invention, defects such as scratches are suppressed, and a resin film having excellent optical properties required for the front plate, such as uniform in-plane retardation and low yellowness, is provided.

본 발명에 의해 얻어지는 수지 필름은, 플렉시블 디스플레이의 전면판 등의 광학 필름으로서 사용할 수 있다.The resin film obtained by the present invention can be used as an optical film such as a front plate of a flexible display.

도 1은 본 발명의 수지 필름의 제조 방법의 적합한 실시형태를 모식적으로 나타내는 공정 단면도이다.
도 2는 본 발명의 수지 필름의 제조 방법에 있어서의 가열 공정의 적합한 실시형태를 모식적으로 나타내는 공정 단면도이다.
도 3은 본 발명의 수지 필름의 제조 방법에 있어서의 텐터로 내의 적합한 실시형태를 모식적으로 나타내는 공정 단면도이다.
1 is a process sectional view schematically showing a suitable embodiment of a method for producing a resin film of the present invention.
2 is a process cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of a heating process in the method for producing a resin film of the present invention.
3 is a process cross-sectional view schematically showing a suitable embodiment in a tenter furnace in the method for producing a resin film of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

<수지 필름><Resin film>

본 발명의 수지 필름은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름으로서, 필름 폭 방향의 중심점을 TDc로 하고, 폭 방향의 중심점으로부터 단부까지의 길이에 있어서, 중심점을 0%로 하여 80%의 길이의 점을 TD80으로 했을 때, 파장 590nm에서 측정한 TDc의 면내 위상차값 R(TDc) 및 TD80의 면내 위상차값 R(TD80)이 식 (1)을 충족시킨다.The resin film of the present invention is a resin film containing at least one of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin, wherein the center point in the film width direction is TD c , and the length from the center point in the width direction to the end is the center point of time when the 80% of the length point to 0% in TD 80, a one TD c of the in-plane retardation value R (TD c) and TD 80-plane retardation value R (TD 80) of measurement at a wavelength of 590nm formula ( 1) is satisfied.

R(TDc)/R(TD80)≥0.35 (1)R (TD c ) / R (TD 80 ) ≥0.35 (1)

상기 식 (1)을 충족시키는 수지 필름은, 본 발명에 관한 수지 필름이 연속적으로 제조될 때의 필름 반송 방향(MD 방향이라고도 한다)과 수직인 방향(필름 폭 방향, TD 방향이라고도 한다)에 있어서, TD 방향의 중심부로부터 필름 양단부의 범위에서, 면내 위상차의 수치에 편차가 작다. 이러한 수지 필름은, 플렉시블 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 전면판에 이용하면, 시인되는 화상의 선명도에 편차가 발생하는 것이 억제되기 때문에, 시인성이 우수하다.The resin film satisfying the above formula (1) is in a direction perpendicular to the film transport direction (also referred to as MD direction) when the resin film according to the present invention is continuously produced (also referred to as film width direction and TD direction). , In the range of both ends of the film from the center in the TD direction, the variation in the in-plane retardation value is small. When such a resin film is used for a front plate of an image display device such as a flexible display device, it is excellent in visibility because the occurrence of variations in the clarity of the visually recognized image is suppressed.

식 (1)의 R(TDc)/R(TD80)은, 바람직하게는 0.36 이상, 보다 바람직하게는 0.37 이상, 더 바람직하게는 0.38 이상, 보다 더 바람직하게는 0.42 이상, 특히 바람직하게는 0.44 이상이다. 식 (1)의 R(TDc)/R(TD80)은, 1에 가까울 수록, TD 방향의 필름 중심부와 필름 양단부에 있어서의 면내 위상차값의 편차가 작은 것을 의미하기 때문에 바람직하다.R (TD c ) / R (TD 80 ) in the formula (1) is preferably 0.36 or more, more preferably 0.37 or more, still more preferably 0.38 or more, even more preferably 0.42 or more, particularly preferably 0.44 or more. R (TD c ) / R (TD 80 ) in the formula (1) is preferable because the closer to 1, the smaller the deviation in the in-plane retardation value between the center portion of the film and both ends of the film in the TD direction.

수지 필름은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름으로서, 필름 폭 방향의 중심점을 TDc로 하고, 폭 방향의 중심점으로부터 단부까지의 길이에 있어서, 중심점을 0%로 하여 66%의 길이의 점을 TD66으로 했을 때, 파장 590nm에서 측정한 TDc의 면내 위상차값 R(TDc) 및 TD66의 면내 위상차값 R(TD66)이 식 (2)를 충족시키는 것이 바람직하다.The resin film is a resin film containing at least one of a polyimide-based resin or a polyamide-based resin, the center point in the film width direction is TD c , and the center point is 0 in the length from the center point to the end in the width direction. when the% by the longitudinal point of 66% of the TD 66, the in-plane retardation value of a TD c measured at a wavelength of 590nm R (TD c) and the in-plane retardation value of the TD 66 R (TD 66) for the equation (2) It is desirable to meet.

R(TDc)/R(TD66)≥0.40 (2)R (TD c ) / R (TD 66 ) ≥0.40 (2)

식 (2)의 R(TDc)/R(TD66)은, 보다 바람직하게는 0.45 이상, 더 바람직하게는 0.50 이상이며, 보다 더 바람직하게는 0.52 이상, 특히 바람직하게는 0.58 이상이다. R(TDc)/R(TD66)은, 1에 가까울 수록, TD 방향의 필름 중심부와 필름 양단부에 있어서의 면내 위상차값의 편차가 작은 것을 의미하기 때문에 바람직하다.R (TD c ) / R (TD 66 ) of the formula (2) is more preferably 0.45 or more, further preferably 0.50 or more, even more preferably 0.52 or more, particularly preferably 0.58 or more. R (TD c ) / R (TD 66 ) is preferable because the closer to 1, the smaller the deviation of the in-plane retardation value between the film center portion and the film end portion in the TD direction.

식 (1) 또는 식 (2)의 값이 상기의 범위 내이면, 수지 필름을 전면판으로서 사용할 때, 필름 양단에 가까운 부위이더라도 제품에 사용할 수 있어, 보다 높은 수율이 되기 때문에 바람직하다.When the value of the formula (1) or the formula (2) is within the above range, when the resin film is used as a front plate, it can be used in the product even if it is a part close to both ends of the film, and is preferable because it has a higher yield.

수지 필름은, 비 R(TDc)/R(TD66)과 비 R(TDc)/R(TD80)의 차가, 식 (3)을 충족시키는 것이 바람직하다. 이 비의 차는, 보다 바람직하게는 0.13 이하, 더 바람직하게는 0.12 이하, 보다 더 바람직하게는 0.11 이하, 특히 바람직하게는 0.10 이하이다. 이 비의 차가, 이 범위이면, 수지 필름의 면내에 있어서의 위상차의 편차가 작다.It is preferable that the difference between the ratio R (TD c ) / R (TD 66 ) and the ratio R (TD c ) / R (TD 80 ) of the resin film satisfies Expression (3). The difference in the ratio is more preferably 0.13 or less, more preferably 0.12 or less, even more preferably 0.11 or less, particularly preferably 0.10 or less. When the difference in the ratio is within this range, the variation in the phase difference in the plane of the resin film is small.

R(TDc)/R(TD66)-R(TDc)/R(TD80)<0.15 (3)R (TD c ) / R (TD 66 ) -R (TD c ) / R (TD 80 ) <0.15 (3)

수지 필름은, 식 (1) 및 식 (2)를 충족시키고, 또한 식 (3)을 충족시키는 것이 바람직하며, 식 (1)~식 (3)의 하위인 식 (4)~식 (6)을 모두 충족시키는 것이 보다 바람직하다. 이러한 수지 필름은, 수지 필름의 면내에 있어서의 위상차의 편차가 보다 작아, 수지 필름을 전면판으로서 사용할 때, 필름 양단에 가까운 부위이더라도 제품에 사용할 수 있어, 보다 높은 수율이 되기 때문에 바람직하다.It is preferable that a resin film satisfies Formula (1) and Formula (2), and also satisfies Formula (3), and it is a formula (4)-Formula (6) which is a subordinate of Formula (1)-Formula (3). It is more preferable to satisfy all. Such a resin film is preferable because the deviation of the phase difference in the in-plane of the resin film is smaller, and when the resin film is used as a front plate, it can be used for a product even if it is a part close to both ends of the film, resulting in a higher yield.

R(TDc)/R(TD80)≥0.37 (4)R (TD c ) / R (TD 80 ) ≥0.37 (4)

R(TDc)/R(TD66)≥0.45 (5)R (TD c ) / R (TD 66 ) ≥0.45 (5)

R(TDc)/R(TD66)-R(TDc)/R(TD80)≤0.13 (6)R (TD c ) / R (TD 66 ) -R (TD c ) / R (TD 80 ) ≤0.13 (6)

수지 필름에 있어서 폭 방향의 전체폭은, 바람직하게는 300~2,200mm이다. 본 명세서에 있어서, 「전체폭」이란, 본 발명에 관한 수지 필름에 있어서, 연속적으로 제조될 때의 필름의 반송 방향과 수직인 방향(폭 방향, TD 방향이라고도 한다)의 전체를 가리킨다. 필름 폭 방향의 전체폭은, 보다 바람직하게는 400~2,100mm, 더 바람직하게는 500~2,000mm이다.In the resin film, the overall width in the width direction is preferably 300 to 2,200 mm. In the present specification, the "total width" refers to the entirety of the direction perpendicular to the transport direction of the film (which is also referred to as the width direction and the TD direction) in the resin film according to the present invention. The overall width in the film width direction is more preferably 400 to 2,100 mm, and more preferably 500 to 2,000 mm.

수지 필름의 두께는, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상, 더 바람직하게는 30μm 이상이다. 또, 당해 두께는, 바람직하게는 120μm 이하, 보다 바람직하게는 100μm 이하, 더 바람직하게는 80μm 이하이다. 두께가 30μm 이상이면 수지 필름을 표시 장치에 도입했을 때의 내부 보호의 관점에서 유리하고, 두께가 120μm 이하이면 내절성(耐折性), 코스트, 투명성 등의 관점에서 유리하다. 측정 방법은, 실시예에서 상세하게 설명한다.The thickness of the resin film is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and even more preferably 30 μm or more. Moreover, the said thickness is preferably 120 micrometers or less, More preferably, it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 80 micrometers or less. When the thickness is 30 µm or more, it is advantageous from the viewpoint of internal protection when the resin film is introduced into the display device, and when the thickness is 120 µm or less, it is advantageous from the viewpoints of corrosion resistance, cost, and transparency. The measurement method will be described in detail in Examples.

가열 공정을 거친 수지 필름은, TG-DTA 측정에 의해 구해지는 120℃에서 250℃에 걸친 중량 감소율 M이 3% 이하인 것이 바람직하다. 중량 감소율 M은, 보다 바람직하게는 2% 이하, 더 바람직하게는 1.5% 이하, 보다 더 바람직하게는 1% 이하이다. 또, 중량 감소율 M의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.1%로 할 수 있다.It is preferable that the weight reduction rate M over 120 degreeC to 250 degreeC calculated | required by TG-DTA measurement of the resin film which passed the heating process is 3% or less. The weight loss ratio M is more preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less, and even more preferably 1% or less. Moreover, although the lower limit of the weight loss rate M is not specifically limited, it can be made into 0.1%, for example.

수지 필름의 중량 감소율 M이 상기 범위이면, 플렉시블 표시 장치의 전면판에 요구되는 충분한 경도 및 굴곡성을 모두 구비하는 필름이 얻어지는 경향이 있다. 잔류 용매량이 상기의 상한값보다 많은 경우, 필름 표면이 물러 흠집이 발생하기 쉽기 때문에, 후속 공정에 있어서 필름의 취급이 어려워지는 경우가 있다.When the weight reduction rate M of the resin film is within the above range, a film having both sufficient hardness and flexibility required for the front plate of the flexible display device tends to be obtained. When the residual solvent amount is more than the above upper limit, the film surface is likely to be soft and scratched, so that handling of the film may be difficult in a subsequent step.

수지 필름의 헤이즈는, 시인성의 관점에서 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.8% 이하, 더 바람직하게는 0.5% 이하, 특히 바람직하게는 0.3% 이하이다. 수지 필름의 헤이즈는, JIS K 7136:2000에 준거하여 측정할 수 있다. 측정 방법은, 실시예에서 상세하게 설명한다.The haze of the resin film is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.3% or less from the viewpoint of visibility. The haze of the resin film can be measured according to JIS K 7136: 2000. The measurement method will be described in detail in Examples.

수지 필름의 전광선 투과율은, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 87% 이상, 더 바람직하게는 89% 이상이다. 수지 필름의 전광선 투과율은, JIS K 7361-1:1997에 준거하여 측정할 수 있다. 측정 방법은, 실시예에서 상세하게 설명한다. 수지 필름의 전광선 투과율이 상기 수치 범위이면, 화상 표시 장치에 도입했을 때에, 충분한 필름 외관을 확보할 수 있다.The total light transmittance of the resin film is preferably 85% or more, more preferably 87% or more, and even more preferably 89% or more. The total light transmittance of the resin film can be measured according to JIS K 7361-1: 1997. The measurement method will be described in detail in Examples. When the total light transmittance of the resin film is within the above numerical range, sufficient film appearance can be ensured when introduced into the image display device.

수지 필름의 황색도는, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.7 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하이다. 수지 필름의 황색도는, JIS K 7373:2006에 준거하여 측정할 수 있다. 측정 방법은, 실시예에서 상세하게 설명한다. 이 범위이면 시인성이 우수하여 전면판 등의 디스플레이 부재로서 적합하게 사용할 수 있다.The yellowness of the resin film is preferably 3.0 or less, more preferably 2.7 or less, and even more preferably 2.5 or less. The yellowness of the resin film can be measured according to JIS K 7373: 2006. The measurement method will be described in detail in Examples. It is excellent in visibility within this range, and can be suitably used as a display member such as a front panel.

<수지 필름의 제조 방법><Method for manufacturing resin film>

본 실시형태의 수지 필름의 제조 방법은, 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 텐터로에서 원료 필름을 가열하는 가열 공정을 갖고, 텐터로에서는, 적어도 1개의 공간에 있어서 열풍 처리 방식으로 가열 공정이 행해지며, 또한 적어도 1개의 공간에 있어서 복사선 처리 방식으로 가열 공정이 행해지는 것이다. 텐터로란, 필름 폭 방향의 양단을 고정하여 가열하는 노를 가리킨다.The manufacturing method of the resin film of this embodiment has a heating process of heating a raw material film in a tenter furnace which is divided into a plurality of spaces inside, and in the tenter furnace, a heating process is performed in a hot air treatment system in at least one space In addition, a heating process is performed in a radiation treatment method in at least one space. The tenter furnace refers to a furnace in which both ends of the film width direction are fixed and heated.

본 실시형태의 수지 필름의 제조 방법에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1은, 본 발명에 관한 수지 필름의 제조 방법의 적합한 실시형태를 모식적으로 나타내는 공정 단면도이다. 도 1을 참조하면, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 원료 필름(20)은, 텐터로(100)에 반입되어, 텐터로(100) 내의 가열 존에 있어서 가열되고, 그 후 텐터로(100)로부터 반출된다. 본 명세서에서는, 가열 공정을 거치기 전과, 용매의 양 등의 경시 변화는 있지만 가열 공정중 또는 오븐 내에서 반송되고 있는 필름을 원료 필름이라고 하고, 가열 공정을 거쳐 오븐으로부터 반출된 필름을 수지 필름이라고 한다.The manufacturing method of the resin film of this embodiment is demonstrated, referring drawings. 1 is a process sectional view schematically showing a preferred embodiment of a method for producing a resin film according to the present invention. Referring to FIG. 1, a raw material film 20 containing at least either a polyimide-based resin or a polyamide-based resin is brought into the tenter furnace 100 and heated in a heating zone in the tenter furnace 100. , It is then taken out from the tenter 100. In this specification, the film that is conveyed during the heating process or in the oven, although there is a change over time such as the amount of the solvent and before the heating process, is referred to as a raw material film, and the film taken out from the oven through the heating process is referred to as a resin film. .

원료 필름(20)은, 원료 필름이 권취(捲取)된 롤로부터 조출(繰出)되어 텐터로(100)에 반입되어도 되고, 그 직전의 공정으로부터 연속적으로 텐터로에 반입되어도 된다. 도 2는, 본 발명에 관한 수지 필름의 제조 방법에 있어서의 가열 공정의 적합한 실시형태를 모식적으로 나타내는 공정 단면도이다. 도 2를 참조하면, 원료 필름(20)은, 필름의 반송 방향(MD 방향, 길이 방향이라고도 한다)과 수직인 방향(TD 방향, 폭 방향이라고도 한다)의 필름의 양단이 고정되어 텐터로 내에서 반송되는 것이 바람직하다.The raw material film 20 may be taken out from the roll on which the raw material film is wound and taken into the tenter furnace 100, or may be continuously carried into the tenter furnace from the immediately preceding process. 2 is a process cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of a heating step in the method for producing a resin film according to the present invention. Referring to FIG. 2, in the tenter furnace, the raw film 20 is fixed at both ends of a film in a direction perpendicular to the transport direction of the film (also referred to as MD direction and longitudinal direction) (also referred to as TD direction and width direction). It is preferable to be conveyed.

양단의 고정은, 핀 시트, 클립 및 필름 척 등의 일반적으로 필름의 제조 장치에 이용되는 파지 장치를 이용하여 행할 수 있다. 고정하는 양단은, 이용하는 파지 장치에 의해 적절히 조정할 수 있지만, 필름 단부로부터 50cm 이내의 거리에서 고정되는 것이 바람직하다. 도 2를 참조하면, 필름의 양단은, 복수개의 파지 장치(18)로 파지되면서 반송할 수 있다. 필름의 한쪽 단에 설치되는 복수개의 파지 장치(18)는, 그 인접하는 파지 장치 간의 거리가, 필름의 펄럭임 또는 가열에 의한 치수 변화에 기인한 벌어짐 등의 결함을 억제할 수 있는 거리인 것이 바람직하다. 인접하는 파지 장치(18) 간의 거리는, 바람직하게는 1~50mm이고, 보다 바람직하게는 3~25mm이며, 더 바람직하게는 5~10mm이다. 또, 파지 장치는, 필름 반송축과 직교하는 직선을 필름의 한쪽 단의 임의의 파지 장치의 파지부 중앙에 맞췄을 때, 당해 직선과 필름의 다른 한쪽 단의 교점과, 당해 교점에 가장 가까운 파지 장치의 파지부 중앙의 거리가, 바람직하게는 3mm 이하, 보다 바람직하게는 2mm 이하, 더 바람직하게는 1mm 이하가 되도록 설치되는 것이 바람직하다. 이로써, 대항하는 필름 양단부의 각각에 관한 응력의 차를 작게 할 수 있기 때문에, 얻어지는 수지 필름은, 광학적 성질의 편차가 발생하는 것을 억제할 수 있다.Fixing of both ends can be performed using a gripping apparatus generally used for a film production apparatus such as a pin sheet, a clip, and a film chuck. Both ends to be fixed can be appropriately adjusted by a gripping device to be used, but are preferably fixed at a distance within 50 cm from the end of the film. Referring to FIG. 2, both ends of the film can be conveyed while being gripped by a plurality of gripping devices 18. It is preferable that the plurality of gripping devices 18 provided at one end of the film have a distance between adjacent gripping devices to suppress defects such as flaking due to flapping of the film or dimensional changes due to heating. Do. The distance between adjacent gripping devices 18 is preferably 1 to 50 mm, more preferably 3 to 25 mm, and further preferably 5 to 10 mm. In addition, when the gripping device aligns a straight line orthogonal to the film conveying axis with the center of the gripping portion of any gripping device at one end of the film, the intersection of the straight line with the other end of the film and the grip closest to the intersection point It is preferable that the distance of the center of the gripping portion of the device is preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and more preferably 1 mm or less. Thereby, since the difference in stress with respect to each of both ends of the opposing film can be made small, the resulting resin film can suppress the occurrence of variations in optical properties.

파지 장치로 필름의 양단을 고정하는 조작의 예로서는, 텐터로에 반입되기 전 또는 텐터로에 반입된 후의 적시에, 필름의 폭 방향에 있어서, 대향하도록 마련된 복수개의 필름 척으로 필름의 폭 방향의 양단을 고정하는 방법을 들 수 있다. 이러한 조작에 의해, 필름의 펄럭임 등이 억제되어, 두께 불균일이나 흠집 등의 결함이 충분히 억제된 수지 필름을 얻을 수 있다. 필름 양단의 고정은, 가열 공정이 행해진 후, 적시 해제되면 되며, 텐터로 내에서 행해도 되고, 텐터로에서 반출된 뒤에 행해도 된다.As an example of the operation of fixing both ends of the film with the gripping device, both ends of the width direction of the film with a plurality of film chucks arranged to face each other in the width direction of the film before or after being carried into the tenter furnace. How to fix it. By such an operation, the flapping of the film is suppressed, and a resin film in which defects such as thickness unevenness and scratches are sufficiently suppressed can be obtained. The fixing of both ends of the film may be released in a timely manner after the heating step is performed, or may be performed in a tenter furnace or after being taken out from the tenter furnace.

가열 공정에 이용되는 텐터로의 필름 반송 방향의 전체 길이는, 통상 10~100m, 바람직하게는 15~80m, 보다 바람직하게는 15~60m이다. 텐터로는, 그 내부가 1개의 공간이어도 되고, 복수개의 공간으로 나뉘어져 있어도 되지만, 본 발명의 실시형태에서는, 가열 공정을 행하는 텐터로의 내부가, 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 것을 채용한다. 상기 공간은, 온도 조건이나 풍속 조건 등이 제어 가능한 공간이어도 되고, 구획판 등의 물리적인 경계를 갖지 않아도 된다. 텐터로의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우, 필름의 반송 방향과 수직 또는 평행으로 복수개의 공간으로 나뉘어져 있어도 된다. 공간의 수는, 통상 2~20개, 바람직하게는 3~18개, 보다 바람직하게는 4~15개, 더 바람직하게는 5~10개이다. 텐터로의 내부 구조에 관계없이, 텐터로 전체가 가열 존이 되어도 되고, 내부의 일부가 가열 존으로 되어 있어도 된다. 도 1을 참조하면, 존 10, 12 및 14의 3개 모두 가열 존으로 되어 있어도 되고, 이 중 하나, 예를 들면 존(14)이 가열 존으로 되어 있어도 된다.The total length of the film conveying direction to the tenter used in the heating step is usually 10 to 100 m, preferably 15 to 80 m, more preferably 15 to 60 m. As the tenter, the inside may be a single space or may be divided into a plurality of spaces, but in the embodiment of the present invention, the inside of the tenter performing the heating process is divided into a plurality of spaces. The space may be a space in which temperature conditions, wind speed conditions, or the like can be controlled, and may not have physical boundaries such as partition plates. When the inside of the tenter is divided into a plurality of spaces, the spaces may be divided into a plurality of spaces vertically or parallel to the transport direction of the film. The number of spaces is usually 2 to 20, preferably 3 to 18, more preferably 4 to 15, and more preferably 5 to 10. Regardless of the internal structure of the tenter, the entire tenter furnace may be a heating zone, or a part of the interior may be a heating zone. Referring to FIG. 1, all three of zones 10, 12, and 14 may be heating zones, or one of them, for example, zone 14 may be a heating zone.

텐터로는 복수개 이용할 수도 있다. 이 경우의 텐터로의 수는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 2~12개로 할 수 있다. 각 텐터로의 내부는 앞서 설명한 구조일 수 있다. 복수개의 텐터로는, 필름이 외기에 접하지 않고 반송되도록 연속해서 설치할 수 있다. 텐터로를 복수개 이용하는 경우, 모든 텐터로가 가열 존으로 되어있어도 되고, 일부의 텐터로가 가열 존으로 되어 있어도 된다. 또, 텐터로에 더해 다른 기기로서 오븐을 병용해도 된다. 본 명세서에 있어서, 오븐이란, 필름을 가열할 수 있는 기기를 의미하며, 가열로 및 건조로를 포함한다. 가열로는, 열풍 처리 또는 복사선 처리 중 어느 처리를 이용해도 되고, 이것들을 병용하는 가열로여도 된다. 오븐을 병용하는 경우, 오븐의 내부 구조, 사용하는 수 및 가열을 행하는 조건은, 본 발명에 관한 수지 필름이 얻어지는 범위 내에서 적절히 조정하면 되지만, 본 명세서에 기재된 텐터로와 마찬가지로 하는 것이 바람직하다.Multiple tenters may be used. The number of tenters in this case is not particularly limited, but can be, for example, 2 to 12 pieces. The interior of each tenter may have the structure described above. With a plurality of tenters, the film can be continuously installed so as to be conveyed without contact with the outside air. When using multiple tenter furnaces, all the tenter furnaces may be heating zones, or some tenter furnaces may be heating zones. Moreover, you may use an oven as another apparatus in addition to a tenter furnace. In the present specification, the oven means an apparatus capable of heating a film, and includes a heating furnace and a drying furnace. As the heating furnace, either a hot air treatment or a radiation treatment may be used, or a heating furnace using these in combination. When the oven is used in combination, the internal structure of the oven, the number to be used, and the conditions for heating may be appropriately adjusted within the range in which the resin film according to the present invention is obtained, but it is preferable to do the same as the tenter furnace described in this specification.

텐터로의 내부의 공기의 순환과 배기는, 텐터로의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우에는 각 공간에서 이루어지는 것이 바람직하고, 텐터로가 복수개 있는 경우에는 각 텐터로에서 이루어지는 것이 바람직하다. 텐터로의 내부의 온도(텐터로 내의 분위기의 온도)는, 텐터로마다 조정할 수 있는 것이 바람직하고, 텐터로의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우에는 각 공간에서 독립적으로 온도 조정을 할 수 있는 것이 바람직하다. 각각의 공간의 온도 설정은 같아도 되고 달라도 된다. 단, 각각의 텐터로 또는 공간의 온도는, 후술하는 온도 범위를 충족시키는 것이 바람직하다.Circulation and exhaust of the air inside the tenter is preferably performed in each space when the interior of the tenter is divided into a plurality of spaces, and preferably in each tenter furnace when there are multiple tenter furnaces. It is preferable that the temperature inside the tenter furnace (the temperature of the atmosphere in the tenter furnace) can be adjusted for each tenter, and when the interior of the tenter is divided into a plurality of spaces, the temperature can be independently adjusted in each space. It is preferred. The temperature setting of each space may be the same or different. However, it is preferable that the temperature of each tenter or space satisfies the temperature range described later.

가열 공정이 행해지는 텐터로(100)는, 적어도 1개의 공간에 있어서 열풍 처리 방식으로 가열 공정이 행해지며, 또한 적어도 1개의 공간에 있어서 복사선 처리 방식으로 가열 공정이 행해진다. 가열 공정은, 이 공정이 행해지는 모든 공간이 열풍 처리 방식으로 행해지는 것이 바람직하다. 복사선 처리 방식의 가열 공정은, 열풍 처리 방식과는 다른 공간에서 행해져도 되지만, 열풍 처리 방식과 병용되어 가열 공정이 행해지는 것이 바람직하다.In the tenter furnace 100 in which the heating process is performed, a heating process is performed in a hot air treatment system in at least one space, and a heating process is performed in a radiation treatment system in at least one space. As for the heating process, it is preferable that all spaces in which this process is performed are performed by a hot air treatment system. Although the heating process of the radiation treatment method may be performed in a space different from the hot air treatment method, it is preferable that the heating process is performed in combination with the hot air treatment method.

열풍 처리 방식의 가열 공정은, 열풍을 취출(吹出)하는 노즐을 텐터로 내에 설치함으로써 행할 수 있다. 복사선 처리 방식의 가열 공정은, IR 히터 등을 텐터로 내에 설치하여 복사선을 필름에 쏘임으로써 행할 수 있다.The heating process of the hot air treatment method can be performed by installing a nozzle that blows out hot air in a tenter furnace. The heating process of the radiation treatment method can be performed by installing an IR heater or the like in a tenter furnace and radiating radiation onto the film.

본 발명의 실시형태의 일례로서, 노즐을 이용한 열풍 처리 방식, 및 IR 히터를 이용한 복사선 처리 방식에 대해서, 노즐을 이용한 열풍 처리 방식부터 순서대로 이하에 설명한다.As an example of the embodiment of the present invention, the hot air treatment method using a nozzle and the radiation treatment method using an IR heater will be described below in order from the hot air treatment method using a nozzle.

도 1을 참조하면, 가열 공정이 행해지는 텐터로(100)는, 그 내부의 상면(100a)에, 복수개의 상측 노즐(30)이 마련되어 있고, 그 내부의 하면(100b)에, 복수개의 하측 노즐(32)이 마련되어 있다. 상측 노즐(30)과 하측 노즐(32)은, 상하 방향으로 대향하도록 마련되어 있다. 노즐은 예를 들면, 도 1의 존(14)과 같이 4쌍의 노즐(합계 8개)을 마련해도 되고, 도 1의 존(12)과 같이 10쌍의 노즐(합계 20개)을 마련해도 되며, 오븐의 구조에 따라 적절히 설치할 수 있다. 인접하는 노즐의 간격은, 텐터로의 구조를 간소화하면서 원료 필름을 균일하게 가열하는 관점에서 바람직하게는 0.1~1m, 보다 바람직하게는 0.1~0.5m, 더 바람직하게는 0.1~0.3m이다.Referring to FIG. 1, the tenter furnace 100 in which the heating process is performed is provided with a plurality of upper nozzles 30 on the inner upper surface 100a and a plurality of lower sides on the inner lower surface 100b. The nozzle 32 is provided. The upper nozzle 30 and the lower nozzle 32 are provided to face in the vertical direction. For example, four pairs of nozzles (eight total) may be provided as in the zone 14 of FIG. 1, or ten pairs of nozzles (20 total) may be provided as in the zone 12 of FIG. And can be properly installed according to the structure of the oven. The interval between adjacent nozzles is preferably 0.1 to 1 m, more preferably 0.1 to 0.5 m, and even more preferably 0.1 to 0.3 m from the viewpoint of uniformly heating the raw material film while simplifying the structure of the tenter.

텐터로의 내부가 복수개의 구간으로 구분되는 경우, 각 공간에 마련되는 열풍 취출용의 노즐의 수는 통상 5~30개로 할 수 있다. 광학적인 균일성이 보다 우수한 수지 필름을 얻는 관점에서 노즐의 수는 8~20개인 것이 바람직하다. 노즐 수가 상기의 범위에 있으면 플로팅하고 있는 필름의 곡률이 너무 커지기 어려운 경향이 있고, 또 필름이 노즐의 사이에서 뜨기 쉬운, 즉 플로팅하기 쉬운 경향이 있다.When the interior of the tenter is divided into a plurality of sections, the number of hot air blowing nozzles provided in each space may be usually 5 to 30. From the viewpoint of obtaining a resin film having better optical uniformity, the number of nozzles is preferably 8-20. When the number of nozzles is within the above range, the curvature of the film being floated tends to be too large, and the film tends to float between nozzles, that is, it is easy to float.

텐터로(100)의 상면(100a)에 마련된 상측 노즐(30)은, 하부에 취출구를 갖고 있어, 하방향(화살표 B방향)으로 열풍을 취출할 수 있다. 한편, 텐터로(100)의 하면에 각각 마련된 하측 노즐(32)은, 상부에 취출구를 갖고 있어, 상방향(화살표 C방향)으로 열풍을 취출할 수 있다. 또한, 도 1에는 나타내지 않지만, 상측 노즐(30) 및 하측 노즐(32)은, 원료 필름을 폭 방향으로 균일하게 가열할 수 있도록, 도 1의 지면(紙面)과 수직 방향으로 소정의 사이즈의 안길이를 갖고 있다.The upper nozzle 30 provided on the upper surface 100a of the tenter furnace 100 has a blow-out port at the bottom, so that hot air can be blown out in the downward direction (arrow B direction). On the other hand, the lower nozzles 32 respectively provided on the lower surface of the tenter furnace 100 have a blowout port at the top, and can blow out hot air in an upward direction (arrow C direction). In addition, although not shown in FIG. 1, the upper nozzle 30 and the lower nozzle 32 have a predetermined size in the vertical direction with respect to the ground surface of FIG. 1 so that the raw material film can be uniformly heated in the width direction. Have it.

본 실시형태의 수지 필름의 제조 방법에서는, 가열 존에 마련된 모든 상측 노즐(30) 및 모든 하측 노즐(32)로부터의 취출구에 있어서의 열풍의 취출 풍속은, 바람직하게는 2~25m/초이다. 취출 풍속은, 광학적인 균일성이 보다 더 우수한 수지 필름을 얻는 관점에서 2~23m/초인 것이 보다 바람직하며, 8~20m/초인 것이 더 바람직하다. 또, 원료 필름의 폭 방향을 따르는 노즐의 길이 1m당, 노즐(30 또는 32) 1개당 취출구로부터의 취출 풍량은, 바람직하게는 0.1~3m3/초이다. 또, 취출 풍량은, 광학적인 균일성이 보다 더 우수한 수지 필름을 얻는 관점에서 필름의 폭 방향을 따르는 노즐의 길이 1m당, 보다 바람직하게는 0.1~2.5m3/초, 더 바람직하게는 0.2~2m3/초이다.In the manufacturing method of the resin film of this embodiment, the blowing wind speed of the hot air in the blowing ports from all the upper nozzles 30 and all the lower nozzles 32 provided in the heating zone is preferably 2 to 25 m / sec. From the viewpoint of obtaining a resin film having better optical uniformity, the blowing wind speed is more preferably 2 to 23 m / sec, and more preferably 8 to 20 m / sec. Moreover, the blow-out air volume from the blow-out opening per 1 m of nozzle 30 or 32 per length of the nozzle along the width direction of a raw material film is preferably 0.1 to 3 m 3 / sec. In addition, the blown air amount is per 1 m of the length of the nozzle along the width direction of the film from the viewpoint of obtaining a resin film with better optical uniformity, more preferably 0.1 to 2.5 m 3 / sec, more preferably 0.2 to 2 m 3 / sec.

노즐로부터의 취출 풍속 및 풍량이 상기 범위 내이면, 원료 필름의 가열이 균일하게 행해지기 때문에, 필름 전면에 있어서 광학적 및 물리적으로 균일한 물성이 되는 필름이 얻어지기 쉬운 경향이 있어 바람직하다. 구체적으로, 상기 조건으로 가열 공정을 행하면, 필름 폭 방향의 면내 위상차값의 편차가 작아져, 필름 전면에서 보다 균일한 면내 위상차값을 갖는 수지 필름이 얻어지기 쉽다. 따라서, 표시 장치에 적용했을 때에, 콘트라스트의 편차가 억제되어, 시인성이 보다 우수한 전면판이 된다.If the wind speed and the air volume taken out from the nozzle are within the above range, the raw film is uniformly heated, and therefore, a film having optical and physically uniform physical properties tends to be easily obtained. Specifically, when the heating step is performed under the above conditions, the variation in the in-plane retardation value in the film width direction becomes small, and a resin film having a more uniform in-plane retardation value in the entire film is likely to be obtained. Therefore, when applied to a display device, variations in contrast are suppressed, and a front plate having better visibility is obtained.

또, 상기 조건으로 가열 공정을 행하면, 균일하게 가열되기 때문에, 필름 중에 남는 용매량의 편차가 작아져, 필름 전면에서 보다 균일한 탄성률의 수지 필름이 얻어지기 쉽다. 따라서, 필름 전면에 있어서 굴곡성의 편차가 발생하기 어려워, 필름면에 있어서의 굴곡성의 차이에 기인한 파손이 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, when the heating step is performed under the above conditions, since it is uniformly heated, the variation in the amount of solvent remaining in the film becomes small, and a resin film having a more uniform elastic modulus is easily obtained on the entire surface of the film. Therefore, it is difficult to cause variations in flexibility in the entire film surface, and it is possible to suppress occurrence of damage caused by a difference in flexibility in the film surface.

텐터로 내에서는, 원료 필름(20)이 실온에서부터 원료 필름에 포함되는 용매가 증발하는 온도까지 가열되지만, 원료 필름의 폭 방향의 길이가 거의 변하지 않도록 파지 장치(18)로 보지(保持)되고 있기 때문에, 열팽창에 의해 처지기 쉬워지는 경향이 있다. 취출 풍속 및 취출 풍량이 상기의 범위이면, 원료 필름(20)을 충분히 가열할 수 있고, 또한 원료 필름(20)의 처짐이나 펄럭임을 억제할 수 있다.In the tenter furnace, the raw material film 20 is heated from room temperature to a temperature at which the solvent contained in the raw material film evaporates, but is held by the gripping device 18 so that the length in the width direction of the raw material film hardly changes. Therefore, it tends to be liable to sag due to thermal expansion. When the blowing air velocity and the blowing air volume are within the above range, the raw material film 20 can be sufficiently heated, and sagging and flapping of the raw material film 20 can be suppressed.

열풍의 취출 풍속은, 노즐(30, 32)의 열풍 취출구에 있어서, 시판의 열식 풍속계를 이용하여 측정할 수 있다. 또, 취출구로부터의 취출 풍량은, 취출 풍속과 취출구의 면적의 곱에 의해 구할 수 있다. 또한, 열풍의 취출 풍속은, 측정 정밀도의 관점에서 각 노즐의 취출구에서 10점 정도의 측정을 행하여, 그 평균값으로 하는 것이 바람직하다.The blowing wind speed of the hot air can be measured by using a commercially available thermal anemometer at the hot air blowing ports of the nozzles 30 and 32. In addition, the blow-off air volume from the blow-out port can be obtained by multiplying the blow-off wind speed by the area of the blow-out port. In addition, it is preferable to measure the wind speed of the hot air from the viewpoint of measurement accuracy at about 10 points at the outlet of each nozzle, and set the average value.

열풍의 취출 풍속 및 취출 풍량은, 제조하는 수지 필름의 물성(광학 특성, 기계적 물성 등)에 따라 적절히 조정해도 되지만, 어느 형태에 있어서도 상기의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 이로써, 위상차가 보다 충분히 균일하고, 보다 충분히 높은 축 정밀도를 갖는 수지 필름을 얻을 수 있다. 가열 존은, 모든 가열 존에 있어서, 취출 풍속이 25m/초 이하로 취출되고, 풍량이 2m3/초 이하인 것이 보다 바람직하다.The blowing wind speed and the blowing air amount of the hot air may be appropriately adjusted depending on the physical properties (optical properties, mechanical properties, etc.) of the resin film to be produced, but it is preferable that they are within the above ranges in any form. Thereby, a resin film in which the phase difference is more sufficiently uniform and has a sufficiently high axial precision can be obtained. In the heating zone, in all the heating zones, it is more preferable that the blowing wind speed is taken out at 25 m / sec or less, and the air volume is 2 m 3 / sec or less.

본 실시형태에서는, 텐터로(100) 내에 원료 필름(20)을 도입하지 않는 상태에 있어서, 원료 필름(20)이 보지되어야 할 위치에 있어서의 열풍의 풍속은, 바람직하게는 5m/초 이하이며, 적어도 가열 존에 있어서 이러한 풍속인 것이 보다 바람직하다. 이러한 열풍을 이용하여 원료 필름(20)을 가열하는 것에 의해, 광학적인 균일성이 보다 충분히 우수한 수지 필름을 얻을 수 있다.In the present embodiment, in a state in which the raw film 20 is not introduced into the tenter furnace 100, the wind speed of the hot air at the position where the raw film 20 should be held is preferably 5 m / sec or less. , It is more preferable that these wind speeds are at least in the heating zone. By heating the raw material film 20 using such hot air, a resin film having more excellent optical uniformity can be obtained.

가열 존에 있어서, 각각의 노즐(30, 32)의 취출구에 있어서의 열풍의 취출 풍속의 폭 방향(도 1의 지면과 수직인 방향)에 있어서의 최대값과 최소값의 차는, 바람직하게는 4m/초 이하이다. 이와 같이 폭 방향으로 풍속의 편차가 적은 열풍을 이용하는 것에 의해, 폭 방향의 광학적인 균일성이 보다 높은 수지 필름을 얻을 수 있다. 이와 같이 풍속의 편차가 적은 열풍을 이용하는 것에 의해, 광학적인 균일성이 보다 더 높은 수지 필름을 얻을 수 있다.In the heating zone, the difference between the maximum value and the minimum value in the width direction (direction perpendicular to the ground surface in FIG. 1) of the blowing wind velocity of the hot air at the outlet of each nozzle 30, 32 is preferably 4 m / Seconds or less. As described above, by using hot air having a small variation in wind speed in the width direction, a resin film with higher optical uniformity in the width direction can be obtained. By using hot air with a small variation in wind speed in this way, a resin film with higher optical uniformity can be obtained.

본 실시형태에 있어서, 필름에 분사되는 열풍의 풍속은, 오븐에 반입된 직후의 풍속이, 오븐 내의 다른 반송 경로의 풍속보다 큰 것이 바람직하다. 오븐에 반입된 직후(이하, 반송 경로 1이라고 한다)란, 오븐의 내부가 복수개로 구획되어 있지 않은 경우에는, 오븐 반입구로부터 오븐 길이(오븐의 반입구로부터 반출구까지의 길이)의 1/10 미만의 거리를 말한다. 반송 경로 1은, 오븐의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우, 필름이 최초로 통과하는 공간을 말한다. 오븐이 복수개 사용되는 경우에는, 최초로 사용되는 오븐의 내부 구조에 따라 앞의 기재와 마찬가지여도 되고, 최초로 통과하는 오븐이 2번째 이후의 오븐 내의 풍속보다 크게 설정되어 있는 것이어도 된다.In the present embodiment, it is preferable that the wind speed of the hot air sprayed on the film is greater than the wind speed of another conveyance path in the oven, immediately after being brought into the oven. Immediately after being brought into the oven (hereinafter referred to as conveyance route 1) means that when the inside of the oven is not divided into a plurality, it is 1 / of the oven length from the oven inlet to the oven (the length from the oven inlet to the outlet). Refers to a distance less than 10. The conveyance path 1 refers to a space through which the film first passes when the inside of the oven is divided into a plurality of spaces. In the case where a plurality of ovens are used, it may be the same as the previous description depending on the internal structure of the first used oven, or the first passing oven may be set larger than the wind speed in the second or later oven.

다른 반송 경로란, 오븐의 내부가 복수개로 구획되어 있지 않은 경우에는, 오븐 반입구로부터 오븐 길이의 1/10 이후에 있는 반송 경로부를 말한다. 오븐의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우에는, 필름이 통과하는 2번째 이후에 있는 임의의 공간을 말한다. 오븐이 복수개 사용되는 경우에는, 최초로 사용되는 오븐의 내부 구조에 따라 앞의 기재와 마찬가지여도 되고, 2번째 이후의 오븐에서 임의의 오븐 내의 풍속이 최초로 통과하는 오븐보다 풍속이 작게 설정되어 있는 것이어도 된다.The other conveyance path means a conveyance path portion 1/10 after the oven length from the oven inlet when the inside of the oven is not divided into a plurality. When the inside of the oven is divided into a plurality of spaces, it refers to any space after the second through which the film passes. When a plurality of ovens are used, the same may be the same as the previous description depending on the internal structure of the first used oven, or even if the wind speed in any oven is initially set to be smaller than the first oven in the second and subsequent ovens. do.

반송 경로 1의 풍속과 오븐 내의 다른 반송 경로의 풍속의 차는, 바람직하게는 0.1~15m/초의 범위이다. 상기 풍속의 차는, 보다 바람직하게는 0.2m/초 이상이고 또, 보다 바람직하게는 12m/초 이하, 더 바람직하게는 8m/초 이하, 보다 더 바람직하게는 5m/초 이하, 특히 바람직하게는 3m/초 이하이다. 풍속의 차가 상기 범위가 되도록 오븐 반입 직후의 풍속을 오븐 내의 다른 반송 경로의 풍속보다 크게 하면, 보다 효율적으로 필름 중의 용매를 제거할 수 있는 경향이 있다. 풍속의 차가 너무 크면, 풍속차에 기인한 필름의 펄럭임이 발생하는 경우가 있어, 얻어지는 수지 필름의 표면 형상의 결함 또는 위상차 등의 광학 특성의 편차의 원인이 될 가능성이 있다.The difference between the wind speed of conveyance route 1 and the wind speed of other conveyance routes in the oven is preferably in the range of 0.1 to 15 m / sec. The difference in wind speed is more preferably 0.2 m / sec or more, more preferably 12 m / sec or less, more preferably 8 m / sec or less, even more preferably 5 m / sec or less, particularly preferably 3 m / Sec or less. When the wind speed immediately after entering the oven is made larger than the wind speed of other conveyance paths in the oven so that the difference in wind speed is within the above range, the solvent in the film tends to be more efficiently removed. If the difference in wind speed is too large, flapping of the film due to the wind speed difference may occur, and there is a possibility that it may cause a defect in the surface shape of the resulting resin film or an optical property variation such as a phase difference.

반송 경로 1의 풍속과 오븐 내의 다른 반송 경로의 풍속의 차는, 반송 경로 1에 설치되어 있는 노즐로부터의 열풍의 취출 풍속과 다른 반송 경로에 설치되어 있는 노즐로부터의 열풍의 취출 풍속의 차로서 구할 수 있다. 필름에 분사되는 열풍의 풍속과 노즐로부터의 열풍의 취출 풍속에 2m/초 이상의 차가 있는 경우에는, 반송 경로 1 및 다른 반송 경로의 각각에 있어서의 필름 부근의 열풍의 풍속의 차로서 구해도 된다.The difference between the wind speed of the conveyance path 1 and the wind speed of the other conveyance paths in the oven can be obtained as the difference between the wind speed of the hot air blowout from the nozzle installed in the conveyance path 1 and the wind speed of the hot air blowout from the nozzle installed in the other conveyance path. have. When there is a difference of 2 m / sec or more between the wind speed of the hot air sprayed onto the film and the wind speed of the hot air blown out from the nozzle, it may be determined as the difference between the wind speed of the hot air around the film in each of the transport path 1 and the other transport path.

다른 반송 경로는, 반송 경로 1의 다음에 위치하는 반송 경로(반송 경로 2라고 한다)인 것이 바람직하다. 반송 경로 2는, 오븐의 내부가 복수개로 구획되어 있지 않은 경우, 오븐 반입구로부터 오븐 길이의 2/10에 위치하는 반송 경로부를 말한다. 반송 경로 2는, 오븐의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우, 필름이 통과하는 2번째의 공간을 말한다. 오븐이 복수개 사용되는 경우에는, 최초로 사용되는 오븐의 내부 구조에 따라 앞의 기재와 마찬가지여도 되고, 2번째의 오븐의 풍속이 최초로 통과하는 오븐보다 작게 설정되어 있는 것이어도 된다.It is preferable that another conveyance path is a conveyance path (referred to as conveyance path 2) located next to conveyance path 1. The conveyance path 2 means a conveyance path part positioned 2/10 of the oven length from the oven inlet when the inside of the oven is not divided into a plurality. The conveyance path 2 refers to a second space through which the film passes when the inside of the oven is divided into a plurality of spaces. In the case where a plurality of ovens are used, it may be the same as the above description depending on the internal structure of the first used oven, or the wind speed of the second oven may be set smaller than the first passing oven.

반송 경로 1과 반송 경로 2의 풍속의 차가 상기와 같이 설정되어 있는 경우, 반송 경로 2 이후의 반송 경로의 풍속은, 상기 열풍의 취출 풍속의 범위 내이면 된다. 반송 경로 2 이후의 반송 경로의 풍속은, 반송 경로 1 또는 반송 경로 2의 각각의 풍속과 0.1~12m/초의 풍속의 차인 것이 바람직하고, 0.2~8m/초의 풍속의 차인 것이 보다 바람직하다. 이러한 범위의 풍속의 차이면, 풍속차에 기인한 필름의 펄럭임을 억제할 수 있고, 또 얻어지는 수지 필름의 중량 감소율을 원하는 범위로 조정하기 쉬운 경향이 있다.When the difference between the wind speeds of the conveyance path 1 and the conveyance path 2 is set as described above, the wind speed of the conveyance path after the conveyance path 2 may be within the range of the blowing wind speed of the hot air. The wind speed of the transport path after the transport path 2 is preferably the difference between the wind speed of each of the transport path 1 or the transport path 2 and the wind speed of 0.1 to 12 m / sec, and more preferably the difference between the wind speed of 0.2 to 8 m / sec. If the difference in wind speed in this range, the flutter of the film due to the wind speed difference can be suppressed, and the weight reduction rate of the resulting resin film tends to be easily adjusted to a desired range.

상기 풍속의 차는, 오븐의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있지 않은 경우에는 노즐을 마련하는 위치, 노즐의 열풍의 취출 속도 및 풍량, 오븐 내의 기류의 흐름 등을 조정함으로써 조정하면 된다. 오븐의 내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우에는, 최초의 공간과 그 이후의 공간에서, 노즐을 마련하는 위치, 노즐의 열풍의 취출 속도 및 풍량, 오븐 내의 기류의 흐름 등을 조정함으로써 조정하면 된다. 복수개의 오븐을 이용하는 경우에는, 최초의 오븐의 구조에 따라, 앞의 기재와 마찬가지로 행해도 되고, 최초의 오븐과 2번째 이후의 오븐에서 풍속이 다르도록, 노즐을 마련하는 위치, 노즐의 열풍의 취출 속도 및 풍량, 오븐 내의 기류 등을 설정하면 된다.The difference in wind speed may be adjusted by adjusting the position at which the nozzle is provided, the speed and amount of air blown out of the nozzle, and the flow of airflow in the oven when the inside of the oven is not divided into a plurality of spaces. In the case where the inside of the oven is divided into a plurality of spaces, adjustment may be made by adjusting the position at which the nozzle is provided, the speed and amount of air blown out of the nozzle, and the flow of airflow in the oven in the first and subsequent spaces. . When using a plurality of ovens, depending on the structure of the first oven, it may be carried out in the same manner as described above, and the position at which the nozzle is provided so that the wind speed is different in the first oven and the second and subsequent ovens, the hot air of the nozzle It is sufficient to set the take-out speed, air volume, and airflow in the oven.

텐터로(100)에 있어서의 가열 존에 있어서, 서로 대향하는 상측 노즐(30)과 하측 노즐(32)의 간격(L)(최단 거리)은, 바람직하게는 150mm 이상, 보다 바람직하게는 150~600mm, 더 바람직하게는 150~400mm이다. 이러한 간격(L)으로 상측 노즐과 하측 노즐을 배치하는 것에 의해, 각 공정에 있어서의 필름의 펄럭임을 보다 확실히 억제할 수 있다.In the heating zone in the tenter furnace 100, the interval L (shortest distance) between the upper nozzle 30 and the lower nozzle 32 facing each other is preferably 150 mm or more, more preferably 150 to 600 mm, more preferably 150 to 400 mm. By arranging the upper nozzle and the lower nozzle at such intervals L, the flutter of the film in each step can be suppressed more reliably.

또, 가열 존에 마련된 각각의 노즐(30, 32)의 취출구에 있어서의 열풍의 폭 방향(도 1의 지면과 수직 방향)에 있어서의 최고 온도와 최저 온도의 차(ΔT)는, 바람직하게는 모두 2℃ 이하, 보다 바람직하게는 모두 1℃ 이하이다. 이와 같이 폭 방향에 있어서의 온도차가 충분히 작은 열풍을 이용하여 필름을 가열하는 것에 의해, 폭 방향의 배향성의 불균일을 보다 억제할 수 있다. 또한, 열풍의 온도는, 바람직하게는 150~400℃, 보다 바람직하게는 150~300℃, 더 바람직하게는 150~250℃이다.Moreover, the difference (ΔT) between the highest temperature and the lowest temperature in the width direction (vertical direction to the ground in FIG. 1) of the hot air at the outlet of each nozzle 30 and 32 provided in the heating zone is preferably All are 2 degrees C or less, More preferably, all are 1 degree C or less. As described above, by heating the film using hot air having a sufficiently small temperature difference in the width direction, it is possible to further suppress variation in orientation in the width direction. Further, the temperature of the hot air is preferably 150 to 400 ° C, more preferably 150 to 300 ° C, and even more preferably 150 to 250 ° C.

수지 필름의 제조 방법에서 사용할 수 있는 노즐로서는, 일반적으로 필름의 제조 장치에 이용되는 노즐을 사용할 수 있고, 그 예로서, 원료 필름의 폭 방향으로 뻗어 있는 슬릿 형상의 취출구를 갖는 노즐을 제트 노즐(슬릿 노즐이라고도 한다), 및 개구를 원료 필름의 반송 방향 및 원료 필름의 폭 방향으로 각각 복수개 배치한 취출구를 갖는 노즐을 펀칭 노즐(다공 노즐이라고도 한다)을 들 수 있다.As a nozzle that can be used in a method for producing a resin film, a nozzle that is generally used in a film production apparatus can be used, and as an example, a nozzle having a slit-shaped ejection port extending in the width direction of a raw film can be used as a jet nozzle ( And a slit nozzle) and a punching nozzle (also referred to as a porous nozzle) with a nozzle having a plurality of openings each having a plurality of openings arranged in the transport direction of the raw film and the width direction of the raw film.

노즐은, 텐터로(100) 내의 상면(100a)에 마련되어, 하향으로 필름을 항하여 열풍을 취출하는 구조, 및 텐터로(100) 내의 하면(100b)에 마련되어, 상향으로 필름을 항하여 열풍을 취출하는 구조로 되어 있다.The nozzle is provided on the upper surface 100a in the tenter furnace 100, and a structure for taking out hot air against the film downward, and is provided on the lower surface 100b in the tenter furnace 100, and provides hot air against the film upward It is structured to be taken out.

제트 노즐은, 필름의 폭 방향으로 뻗어 있는 슬릿을 열풍의 취출구로서 갖는다. 슬릿의 슬릿 폭은, 바람직하게는 5mm 이상, 보다 바람직하게는 5~20mm이다. 슬릿 폭을 5mm 이상으로 하는 것에 의해, 얻어지는 수지 필름의 광학적인 균일성을 보다 더 향상시킬 수 있다. 또한, 제트 노즐 1개당 취출구의 면적은, 제트 노즐의 노즐의 폭 방향의 길이와 슬릿 폭의 곱에 의해 구할 수 있다. 이 노즐 1개당 취출구의 면적과 취출 풍속의 곱이, 노즐 1개당 열풍의 취출 풍량이 된다. 이 열풍의 취출 풍량을, 필름의 폭 방향을 따르는 슬릿의 길이로 나누는 것에 의해, 필름의 폭 방향을 따르는 노즐의 길이 1m당 열풍의 취출 풍량을 구할 수 있다.The jet nozzle has a slit extending in the width direction of the film as a hot air outlet. The slit width of the slit is preferably 5 mm or more, and more preferably 5 to 20 mm. By making the slit width 5 mm or more, the optical uniformity of the obtained resin film can be further improved. In addition, the area of the ejection opening per jet nozzle can be obtained by multiplying the slit width by the length in the width direction of the nozzle of the jet nozzle. The product of the area of the blow-out port per nozzle and the blow-off wind speed becomes the blow-out air volume of hot air per nozzle. By dividing the blowing air volume of the hot air by the length of the slit along the width direction of the film, the blowing air volume of hot air per 1 m of the nozzle along the width direction of the film can be obtained.

펀칭 노즐은, 그 길이 방향과 수직인 단면이, 직사각형의 형상을 갖고 있는 것 또는 원료 필름(20)에 대향하는 면을 향해 확장되는 형상인 사다리꼴 형상일 수 있다. 펀칭 노즐은, 필름과 대향하는 면인 하측의 면에 복수개의 개구(예를 들면 원형의 개구)를 갖는다. 펀칭 노즐의 열풍의 취출구는, 취출면에 마련되는 복수개의 개구에 의해 구성된다. 복수개의 개구는 열풍의 취출구이며, 열풍은 개구로부터 소정의 풍속으로 취출된다. 개구는, 필름의 길이 방향으로 복수개 배치됨과 함께, 폭 방향으로도 복수개 배치되어 있다. 개구는, 예를 들면 지그재그형으로 배치할 수 있다.The punching nozzle may have a trapezoidal shape in which a cross section perpendicular to the longitudinal direction has a rectangular shape or extends toward a surface facing the raw film 20. The punching nozzle has a plurality of openings (for example, circular openings) on the lower surface which is the surface facing the film. The hot air blowing port of the punching nozzle is constituted by a plurality of openings provided on the blowing surface. The plurality of openings are hot air outlets, and hot air is blown out at the predetermined wind speed from the openings. A plurality of openings are arranged in the longitudinal direction of the film, and a plurality of openings are also arranged in the width direction. The opening can be arranged in a zigzag form, for example.

펀칭 노즐 1개당 취출구의 면적은, 1개의 펀칭 노즐에 마련되는 모든 개구의 면적의 합에 의해 구할 수 있다. 이 노즐 1개당 취출구의 면적과 취출 풍속의 곱이, 노즐 1개당 열풍의 취출 풍량이 된다. 이 열풍의 취출 풍량을, 필름의 폭 방향을 따르는 슬릿의 길이로 나누는 것에 의해, 필름의 폭 방향을 따르는 노즐의 길이 1m당 열풍의 취출 풍량을 구할 수 있다.The area of the ejection opening per punching nozzle can be determined by the sum of the areas of all openings provided in one punching nozzle. The product of the area of the blow-out port per nozzle and the blow-off wind speed becomes the blow-out air volume of hot air per nozzle. By dividing the blowing air volume of the hot air by the length of the slit along the width direction of the film, the blowing air volume of hot air per 1 m of the nozzle along the width direction of the film can be obtained.

펀칭 노즐을 이용하는 경우의, 노즐의 취출구에 있어서의 열풍의 폭 방향에 있어서의 최대 취출 풍속과 최소 취출 풍속의 차는, 동일 노즐 상에 마련되는 복수개의 개구로부터 취출되는 열풍의 최대 취출 속도와 최소 취출 속도의 차로서 구할 수 있다. 노즐의 취출구에 있어서의 열풍의 폭 방향에 있어서의 최고 온도와 최저 온도의 차도 마찬가지로 구할 수 있다.In the case of using a punching nozzle, the difference between the maximum blowing wind speed and the minimum blowing wind speed in the width direction of the hot air at the nozzle outlet is the maximum blowing speed and minimum blowing speed of the hot air blown out from a plurality of openings provided on the same nozzle. It can be calculated as the difference in speed. The difference between the highest temperature and the lowest temperature in the width direction of the hot air at the outlet of the nozzle can also be obtained.

텐터로(100) 내에 마련되는 노즐 전부가 펀칭 노즐이면, 텐터로(100) 전체에 있어서의 열풍 취출구의 면적의 합계를 크게 할 수 있다. 이로 인하여, 필름에 닿는 열풍의 풍압을 작게 할 수 있어, 필름의 펄럭임을 보다 작게 할 수 있다. 이로써, 얻어지는 수지 필름의 광학적인 균일성을 보다 향상시킬 수 있다. 텐터로 내 또는 가열 존에서는, 원료 필름(20)이 실온에서부터 원료 필름에 포함되는 용매가 증발하는 온도까지 가열되지만, 원료 필름의 폭 방향의 길이가 거의 변하지 않도록 파지 장치(18)로 보지되어 있기 때문에, 열팽창에 의해 처지기 쉬워지는 경향이 있다. 가열 존에 펀칭 노즐을 이용하는 것에 의해, 원료 필름(20)의 처짐이나 펄럭임을 보다 억제할 수 있다.If all of the nozzles provided in the tenter furnace 100 are punching nozzles, the sum of the areas of the hot air blowout ports in the entire tenter furnace 100 can be increased. For this reason, the wind pressure of the hot air coming into contact with the film can be made small, and the flutter of the film can be made smaller. Thereby, the optical uniformity of the obtained resin film can be improved more. In the tenter furnace or in the heating zone, the raw film 20 is heated from room temperature to the temperature at which the solvent contained in the raw film evaporates, but is held by the gripping device 18 so that the length in the width direction of the raw film hardly changes. Therefore, it tends to be liable to sag due to thermal expansion. By using a punching nozzle for the heating zone, sagging and flapping of the raw material film 20 can be further suppressed.

펀칭 노즐의 면에 마련되는 개구 각각의 사이즈 및 수는, 각 개구에 있어서의 열풍의 취출 풍속이 2~25m/초가 되고, 또한 각각의 노즐로부터의 취출 풍량이 필름의 폭 방향을 따르는 노즐의 길이 1m당 0.1~3m3/초가 되는 범위 내에서 적절히 조정할 수 있다.The size and number of each of the openings provided on the surface of the punching nozzles are the lengths of nozzles in which the blowing wind speed of the hot air in each opening is 2 to 25 m / sec, and the blowing air volume from each nozzle follows the film width direction. It can be appropriately adjusted within a range of 0.1 to 3 m 3 / sec per 1 m.

펀칭 노즐의 각 개구로부터의 취출 풍속을 보다 균일하게 하는 관점에서 개구의 형상은 원형인 것이 바람직하다. 이 경우, 개구의 직경은 바람직하게는 2~10mm, 보다 바람직하게는 3~8mm이다.It is preferable that the shape of the opening is circular from the viewpoint of making the wind speed taken out from each opening of the punching nozzle more uniform. In this case, the diameter of the opening is preferably 2 to 10 mm, more preferably 3 to 8 mm.

펀칭 노즐을 이용하는 경우, 노즐 1개당 면의 필름 반송 방향의 길이는, 바람직하게는 50~300mm이다. 또한 인접하는 펀칭 노즐과의 간격은 바람직하게는 0.3m 이하이다. 또, 펀칭 노즐의 필름 폭 방향의 길이에 대한 펀칭 노즐의 개구의 면적의 총합(취출구의 면적)의 비(펀칭 노즐의 개구의 면적의 총합(m2)/펀칭 노즐의 필름 폭 방향의 길이(m))는, 바람직하게는 0.008m 이상이다.When using a punching nozzle, the length of the film conveying direction of the surface per nozzle is preferably 50 to 300 mm. Further, the distance from adjacent punching nozzles is preferably 0.3 m or less. Further, the ratio of the total area of the opening of the punching nozzle (the area of the outlet) to the length in the film width direction of the punching nozzle (the total area of the opening area of the punching nozzle (m 2 ) / the length in the film width direction of the punching nozzle ( m)) is preferably 0.008 m or more.

이러한 펀칭 노즐을 이용하는 것에 의해, 열풍의 취출구의 면적을 크게 할 수 있다. 이로써, 열풍의 풍속을 충분히 낮추고 또한 충분한 풍량으로 열풍을 취출하는 것이 가능해져, 필름을 보다 더 균일하게 가열할 수 있다. 따라서, 위상차가 보다 더 균일하고, 보다 더 높은 축 정밀도를 갖는 필름을 제조할 수 있다.By using such a punching nozzle, the area of the hot air blow-out port can be increased. Thereby, it is possible to sufficiently lower the wind speed of the hot air and take out the hot air with a sufficient amount of air, so that the film can be heated more uniformly. Thus, a film having a more uniform phase difference and higher axial precision can be produced.

가열 공정이 행해지는 텐터로(100)는, 노즐과 마찬가지로, 그 내부의 상면(100a) 또는 그 내부의 하면(100b)에 IR 히터가 마련되어 있고, 상하 방향으로 대향하도록 마련되어 있어도 된다. 또, IR 히터는 복수개 마련되어도 된다. IR 히터로서는, 일반적으로 필름의 제조 장치에 이용되는 IR 히터를 이용하면 된다.In the tenter furnace 100 in which the heating process is performed, an IR heater may be provided on the upper surface 100a or the lower surface 100b therein, like the nozzle, and may be provided to face in the vertical direction. Further, a plurality of IR heaters may be provided. As the IR heater, an IR heater generally used in a film production apparatus may be used.

필름에 쏘이는 복사선으로서는, 그 파장이 3~7μm의 열선인 것이 바람직하다. 또, 복사선 처리 방식으로는, 가열 공정이 행해지는 공간의 온도가 상기의 온도 범위 내가 되면, 공간의 온도보다 30℃ 이상 높은 온도의 복사선을 원료 필름에 쏘여도 된다.It is preferable that the wavelength is 3 to 7 µm as a radiation ray radiated on the film. In addition, in the radiation treatment method, when the temperature of the space in which the heating step is performed is within the above-mentioned temperature range, radiation of a temperature higher than the temperature of the space by 30 ° C. or higher may be shot on the raw film.

본 발명의 실시형태에서는, 가열 공정이 행해지는 텐터로(100)에 있어서, 상기 노즐(열풍 처리 방식)과 IR 히터(복사선 처리 방식)가 병용되는 것이 바람직하다. 그 경우에는, 인접하는 노즐의 사이 또는 노즐과 텐터로의 내부벽(공간을 구획하는 벽도 포함한다)의 사이에, IR 히터를 설치하면 된다.In the embodiment of the present invention, in the tenter furnace 100 in which the heating step is performed, it is preferable that the nozzle (hot air treatment method) and IR heater (radiation treatment method) are used in combination. In that case, an IR heater may be provided between adjacent nozzles or between an inner wall of the nozzle and the tenter (including a wall defining a space).

이 경우, 가열 공정이 행해지는 공간의 온도가 상기의 온도 범위 내이면 되고, 복사선 처리 방식에서는, 공간의 온도보다 높은 온도의 복사선을 필름에 쏘여도 된다. 복사선의 온도는 예를 들면, 공간의 온도보다 30℃ 이상 높은 온도여도 되고, 150℃ 이상 높은 온도여도 된다. 여기에서, 복사선의 온도란, 예를 들면 IR 히터의 설정 온도와 같이 방사열을 내는 기기에서 설정하는 온도를 가리킨다. 복사선의 온도와 필름에 조사되는 복사선의 온도의 차는, 바람직하게는 5℃ 이하, 보다 바람직하게는 3℃ 이하, 더 바람직하게는 1℃ 이하이다.In this case, the temperature of the space in which the heating step is performed may be within the above temperature range, and in the radiation treatment method, radiation of a temperature higher than the temperature of the space may be shot on the film. The temperature of the radiation may be, for example, a temperature of 30 ° C or higher higher than the temperature of the space, or a temperature higher than 150 ° C. Here, the temperature of the radiation refers to a temperature set by a device that emits radiant heat, such as a set temperature of an IR heater. The difference between the temperature of the radiation and the temperature of the radiation irradiated on the film is preferably 5 ° C. or less, more preferably 3 ° C. or less, and more preferably 1 ° C. or less.

텐터로(100)에 있어서, 노즐(열풍 처리 방식)과 IR 히터(복사선 처리 방식)가 병용되면, 가열 존 또는 텐터로 내의 온도(분위기의 온도)보다 고온의 복사선을 원료 필름에 쏘임에도 불구하고, 가열 존 또는 텐터로 내의 온도가 너무 높아지는 것을 억제하면서 가열 공정을 행할 수 있다. 이로써, 어느 한 처리 방식만을 채용하여 가열 공정을 행하는 경우에 비해, 얻어지는 수지 필름의 황색도(YI)를 작은 값으로 유지한 채, 보다 빨리 중량 감소율을 소정의 범위로 조정할 수 있다. 또, 가열 존 또는 텐터로 내의 온도보다 고온의 복사선을 원료 필름에 쏘임으로써, 원료 필름 중의 수지가 배향 또는 재배향하기 쉬워지기 때문에, 얻어지는 수지 필름은, 중심부와 필름 양단부에서 면내 위상차값의 편차가 작아지는 경향이 있다. 따라서, 얻어지는 수지 필름은, 상기한 바와 같이, 표시 장치에 적용했을 때에 화상의 시인성이 보다 우수한 것이 된다.In the tenter furnace 100, when a nozzle (hot air treatment method) and an IR heater (radiation treatment method) are used in combination, the radiation in a temperature higher than the temperature in the heating zone or tenter furnace (atmosphere temperature) is shot on the raw film. , The heating step can be performed while suppressing the temperature in the heating zone or the tenter from becoming too high. Thereby, the weight reduction rate can be adjusted to a predetermined range more quickly while maintaining the yellowness (YI) of the obtained resin film at a small value as compared to a case where only one treatment method is employed to perform the heating process. In addition, since the resin in the raw material film tends to be oriented or reorientated by radiating radiation at a temperature higher than the temperature in the heating zone or tenter to the raw film, the resulting resin film has a small variation in the in-plane retardation value at the center and both ends of the film. Tend to lose. Therefore, as described above, the obtained resin film becomes more excellent in visibility of an image when applied to a display device.

열풍 처리 방식과 복사선 처리 방식을 병용하는 가열 공정은, 텐터로 내의 가열 공정이 행해지는 복수개의 공간 중, 원료 필름이 최초로 통과하는 공간으로부터 텐터로의 전체 길이의 중간 정도에 위치하는 공간까지의 사이에 행해지는 것이 바람직하다. 이로써, 가열 공정에 필요한 시간을 단축 가능할 뿐만 아니라, 면내 위상차의 균일성이 보다 우수한 수지 필름을 제조할 수 있다.In the heating process using the hot air treatment method and the radiation treatment method, the space between the space through which the raw material film first passes and the space located in the middle of the entire length of the tenter among the plurality of spaces where the heating process in the tenter furnace is performed. It is preferably done on. Thereby, not only the time required for a heating process can be shortened, but also the resin film which is excellent in uniformity of in-plane retardation can be manufactured.

가열 공정은, 바람직하게는 150~350℃의 범위에서 행해진다. 본 발명의 실시형태에 있어서 가열 공정이 이 온도 범위이면, 원료 필름이 후술하는 중량 감소율 M이 되도록 조정하기 쉬운 경향이 있다. 이 온도 범위는, 보다 바람직하게는 170℃ 이상, 더 바람직하게는 180℃ 이상이며, 보다 더 바람직하게는 300℃ 이하, 더 바람직하게는 250℃ 이하, 특히 바람직하게는 230℃ 이하이다. 가열 공정의 온도가 상기의 범위에 있으면, 얻어지는 수지 필름의 황색도가 바람직한 범위인 3을 넘는 경향이 있다. 또, 가열 공정이 행해지는 공간의 온도는, 보다 바람직하게는 170℃ 이상, 더 바람직하게는 180℃ 이상이다. 가열 공정이 행해지는 텐터로 내의 온도는, 가열 존이 상기의 범위이면 된다. 텐터로가 복수개 있는 경우 및 텐터로 내가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 경우에는, 적절히 조정할 수 있지만, 모든 텐터로 또는 공간이 상기 범위 내에 있는 것이 바람직하다.The heating step is preferably performed in the range of 150 to 350 ° C. In the embodiment of the present invention, when the heating step is within this temperature range, it tends to be easy to adjust the raw material film so that the weight reduction rate M will be described later. The temperature range is more preferably 170 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, even more preferably 300 ° C. or lower, further preferably 250 ° C. or lower, particularly preferably 230 ° C. or lower. When the temperature of the heating step is within the above range, the yellowness of the obtained resin film tends to exceed 3, which is a preferable range. Moreover, the temperature of the space in which the heating step is performed is more preferably 170 ° C or higher, and even more preferably 180 ° C or higher. As for the temperature in a tenter furnace in which a heating process is performed, the heating zone should just be the said range. When there are a plurality of tenter furnaces and when the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, it can be appropriately adjusted, but it is preferable that all tenter furnaces or spaces are within the above range.

텐터로(100) 내의 원료 필름(20)의 이동 속도는, 통상 0.1~50m/분의 범위 내에서 적절히 조정할 수 있다. 상기 이동 속도의 상한은, 바람직하게는, 20m/분, 보다 바람직하게는 15m/분이다. 상기 이동 속도의 하한은, 바람직하게는 0.2m/분, 보다 바람직하게는 0.5m/분, 더 바람직하게는 0.7m/분, 특히 바람직하게는 0.8m/분이다. 이동 속도가 빠르면, 원하는 건조 시간을 확보하기 위해서 텐터로의 길이가 길어져 설비가 커지는 경향이 된다. 본 발명의 실시형태에 있어서, 텐터로(100) 내의 원료 필름(20)의 이동 속도가 상기 범위이면, 원료 필름이 후술하는 중량 감소율 M이 되도록 조정하기 쉬운 경향이 있다. 또, 필름의 펄럭임이 억제되어, 필름면에 흠집이 발생하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다.The moving speed of the raw material film 20 in the tenter furnace 100 can be appropriately adjusted within a range of usually 0.1 to 50 m / min. The upper limit of the moving speed is preferably 20 m / min, more preferably 15 m / min. The lower limit of the moving speed is preferably 0.2 m / min, more preferably 0.5 m / min, more preferably 0.7 m / min, particularly preferably 0.8 m / min. When the moving speed is fast, the length of the tenter becomes longer in order to secure a desired drying time, and the equipment tends to become large. In the embodiment of the present invention, when the moving speed of the raw material film 20 in the tenter furnace 100 is within the above range, the raw material film tends to be easily adjusted to a weight reduction rate M, which will be described later. Moreover, the flapping of a film is suppressed and there exists a tendency which can suppress that a flaw is generated in a film surface.

가열 공정의 처리 시간은, 통상 60초~2시간, 바람직하게는 10분~1시간이다. 처리 시간은, 상기의 텐터로의 온도, 이동 속도, 열풍의 풍속 및 풍량 등의 조건을 고려하여 적절히 조정하면 된다.The treatment time of the heating step is usually 60 seconds to 2 hours, preferably 10 minutes to 1 hour. The treatment time may be appropriately adjusted in consideration of conditions such as temperature, movement speed, hot air wind speed, and air volume of the tenter.

본 실시형태의 수지 필름의 제조 방법은, 가열 공정중에 필름의 폭을 변경하는 조작 또는 필름 폭을 보지하여 반송하는 조작을 행해도 된다. 필름의 폭을 변경하는 조작의 예로서는, 필름의 폭 방향을 연신시키는 조작을 들 수 있다. 연신 배율은, 바람직하게는 0.7~1.3배, 보다 바람직하게는 0.8~1.2배, 더 바람직하게는 0.8~1.1배이다. 필름 폭을 보지하여 반송하는 조작의 예로서는, 필름의 폭 방향의 길이가 거의 변하지 않도록 보지하는 조작을 들 수 있다. 이러한 조작을 행한 수지 필름은, 원료 필름의 폭 방향의 길이에 대해서, 0.7~1.3배 정도의 길이로 할 수 있고, 원료 필름의 폭 방향의 길이로부터 연신, 등배 또는 수축한 길이이어도 된다. 연신 배율은, 파지하는 부분을 제외한 필름의 폭에 대한, 연신 후의 필름의 폭(파지하는 부분을 제외한다)의 비로서 구해진다.The manufacturing method of the resin film of this embodiment may perform the operation of changing the width of a film during the heating process, or the operation of holding and conveying the film width. An example of an operation for changing the width of the film is an operation for stretching the width direction of the film. The draw ratio is preferably 0.7 to 1.3 times, more preferably 0.8 to 1.2 times, further preferably 0.8 to 1.1 times. As an example of the operation of holding and conveying the film width, an operation of holding the film so that the length in the width direction of the film hardly changes is mentioned. The resin film subjected to such an operation can be about 0.7 to 1.3 times as long as the length in the width direction of the raw film, and may be a length that is stretched, equally stretched or contracted from the length in the width direction of the raw film. The stretching magnification is determined as the ratio of the width of the film after stretching (excluding the gripping portion) to the width of the film excluding the gripping portion.

또한, 도 2에는, 필름의 폭 방향을 연신시키는 조작에 있어서, 연신 배율이 1배를 넘는 경우를 실선으로, 연신 배율이 등배 또는 1배 미만인 경우를 점선으로 가리키고 있다.Moreover, in FIG. 2, in the operation of extending | stretching the width direction of a film, the case where the draw ratio is more than 1 time is represented by the solid line, and the case where the draw ratio is equal to or less than 1 time is indicated by the dotted line.

가열 공정을 거친 수지 필름은, 텐터로에서 반출된 후, 다음 공정으로 연속해서 공급되어도 되고, 롤형으로 권취되어 다음 공정으로 공급되어도 된다. 수지 필름을 롤에 권취하는 경우에는, 표면 보호 필름 및 다른 광학 필름 등의 다른 필름을 적층하여 권취해도 된다. 수지 필름에 적층하는 표면 보호 필름으로서는, 후술하는 원료 필름에 적층하는 표면 보호 필름과 마찬가지의 것을 사용할 수 있다. 수지 필름에 적층하는 표면 보호 필름의 두께는 통상, 10~100μm, 바람직하게는 10~80μm이다.After being taken out of the tenter furnace, the resin film that has undergone the heating step may be continuously supplied to the next step, or may be wound into a roll shape to be supplied to the next step. When winding a resin film on a roll, you may wind up by laminating | stacking other films, such as a surface protection film and another optical film. As a surface protection film laminated on a resin film, the thing similar to the surface protection film laminated on a raw material film mentioned later can be used. The thickness of the surface protective film laminated on the resin film is usually 10 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm.

<원료 필름><Raw film>

가열 공정에 공급되는 원료 필름은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함한다. 원료 필름은, 후술하는 원료 필름의 형성에 사용되는 바니시에 포함되는 성분과 동일한 성분을 포함하는 것이 바람직하지만, 성분의 구조 변화나 용매의 일부의 증발이 발생할 수 있기 때문에, 동일하지 않아도 된다. 원료 필름은, 자립막이면 되고, 겔 필름이어도 된다.The raw material film supplied to a heating process contains at least either polyimide resin or polyamide resin. It is preferable that the raw material film contains the same components as those contained in the varnish used for the formation of the raw material film to be described later, but it is not necessary that the raw material film is the same, since structural changes of components and evaporation of a part of the solvent may occur. The raw material film may be a freestanding film, or a gel film.

원료 필름은, 무기 재료의 함유 여부에 관계없이 열중량-시차열 측정(이하 「TG-DTA 측정」이라고 하는 경우가 있다.)에 의해 구해지는 120℃에서 250℃에 걸친 중량 감소율 M이 바람직하게는 1~40% 정도, 보다 바람직하게는 3~20%, 더 바람직하게는 5~15%, 특히 바람직하게는 5~12%가 되도록, 상기 바니시로부터 용매의 일부가 제거되는 것이 바람직하다. 원료 필름의 중량 감소율 M은, 시판의 TG-DTA의 측정 장치를 이용하여 이하의 방법으로 측정할 수 있다. TG-DTA의 측정 장치로서는, 히타치 하이테크 사이언스사(Hitachi High-Tech Science Corporation)제 TG/DTA6300을 사용할 수 있다.The raw material film preferably has a weight reduction rate M ranging from 120 ° C to 250 ° C determined by thermogravimetric-differential thermal measurement (hereinafter sometimes referred to as "TG-DTA measurement") regardless of whether the inorganic material is contained. It is preferable that a portion of the solvent is removed from the varnish so that it is about 1 to 40%, more preferably 3 to 20%, more preferably 5 to 15%, and particularly preferably 5 to 12%. The weight reduction ratio M of the raw film can be measured by the following method using a commercially available TG-DTA measuring device. As a measuring device for TG-DTA, TG / DTA6300 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation can be used.

우선, 원료 필름으로부터 약 20mg의 시료를 취득하고, 시료를 실온에서 120℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온하여 120℃에서 5분간 보지한 후, 400℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온하는 조건으로 가열하면서, 시료의 중량 변화를 측정한다. 다음으로, TG-DTA 측정의 결과로부터, 120℃에서 250℃에 걸친 중량 감소율 M(%)을 하기 식에 의해 산출하면 된다. 하기 식에 있어서, W0은 120℃에서 5분간 보지한 후의 시료의 중량을 나타내고, W1은 250℃에 있어서의 시료의 중량을 나타낸다.First, a sample of about 20 mg is obtained from the raw film, and the sample is heated from room temperature to 120 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min, held at 120 ° C. for 5 minutes, and then to 400 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min. While heating under heating conditions, the weight change of the sample is measured. Next, from the results of the TG-DTA measurement, the weight loss rate M (%) ranging from 120 ° C to 250 ° C can be calculated by the following equation. In the following formula, W 0 represents the weight of the sample after holding at 120 ° C for 5 minutes, and W 1 represents the weight of the sample at 250 ° C.

M(%)=100-(W1/W0)×100M (%) = 100- (W 1 / W 0 ) × 100

원료 필름의 중량 감소율 M이 어느 정도 크면, 원료 필름을 기재 또는 표면 보호 필름과의 적층체로서 권취했을 때에, 적층체의 절곡(折曲) 등의 변형이 억제되어, 적층체의 권취성이 향상되는 경향이 있다.When the weight reduction rate M of the raw material film is large to some extent, when the raw material film is wound as a laminate with a base material or a surface protection film, deformation such as bending of the laminate is suppressed, and the winding property of the laminate is improved. Tend to be.

원료 필름의 중량 감소율 M이 어느 정도 작으면, 원료 필름을 기재 또는 표면 보호 필름과의 적층체로서 권취했을 때에, 원료 필름이 기재 또는 표면 보호 필름에 달라붙기 어려워지는 경향이 있다. 이로 인하여, 원료 필름의 균일한 투명성을 유지하면서, 적층체를 롤로부터 용이하게 권출(捲出)할 수 있다.When the weight reduction rate M of the raw material film is somewhat small, when the raw material film is wound as a laminate with a base material or a surface protective film, the raw material film tends to become difficult to stick to the base material or the surface protective film. For this reason, the laminated body can be easily unwound from the roll while maintaining uniform transparency of the raw film.

(폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지)(Polyimide resin and polyamide resin)

원료 필름 및 수지 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체(이하, 폴리이미드라고 기재하는 경우가 있다)와, 이미드기 및 아미드기를 모두 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체(이하, 폴리아미드이미드라고 기재하는 경우가 있다)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체를 나타낸다. 또, 폴리아미드계 수지란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다.The polyimide-based resin contained in the raw film and the resin film is a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter, sometimes referred to as polyimide), and a repeating structure containing both an imide group and an amide group. At least one polymer selected from the group consisting of a polymer containing a unit (hereinafter sometimes referred to as polyamideimide) is shown. Moreover, a polyamide resin represents a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group.

폴리이미드계 수지는, 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다. 여기에서, G는 4가의 유기기이며, A는 2가의 유기기이다. 폴리이미드계 수지는, G 및/또는 A가 상이한, 2종류 이상의 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위를 포함하고 있어도 된다.It is preferable that a polyimide resin has a repeating structural unit represented by Formula (10). Here, G is a tetravalent organic group, and A is a divalent organic group. The polyimide-based resin may contain repeating structural units represented by two or more kinds of formulas (10) in which G and / or A are different.

Figure pat00001
Figure pat00001

폴리이미드계 수지는, 수지 필름의 각종 물성을 해치지 않는 범위에서, 식 (11), 식 (12) 및 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 이상을 포함하고 있어도 된다.The polyimide-based resin may contain one or more selected from the group consisting of repeating structural units represented by formulas (11), (12), and (13) in a range that does not impair various physical properties of the resin film.

Figure pat00002
Figure pat00002

식 (10) 및 식 (11) 중, G 및 G1은, 각각 독립적으로, 4가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G 및 G1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다. 수지 필름의 황색도(YI값)를 억제하기 쉬운 점에서, 그 중에서도, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26) 또는 식 (27)로 나타나는 기가 바람직하다.In formulas (10) and (11), G and G 1 are each independently a tetravalent organic group, and preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As G and G 1 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) Or a group represented by Formula (29) and a tetravalent C 6 or less chain hydrocarbon group are exemplified. Since the yellowness (YI value) of the resin film is easily suppressed, among them, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula The group represented by (26) or formula (27) is preferable.

Figure pat00003
Figure pat00003

식 (20)~식 (29) 중,In equation (20) to equation (29),

*는 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

Z는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.Z is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -,- Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.

식 (12) 중, G2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G2로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formula (12), G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As G 2 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or formula A group in which any one of the bonds of the group represented by (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent carbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified.

식 (13) 중, G3은 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G3으로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formula (13), G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As G 3 , equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), equation (28) or equation Among the bonding hands of the group represented by (29), a group in which two nonadjacent groups are replaced by hydrogen atoms and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified.

식 (10)~식 (13) 중, A, A1, A2 및 A3은, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. A, A1, A2 및 A3으로서는, 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 또는 식 (38)로 나타나는 기; 그것들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 그리고 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formulas (10) to (13), A, A 1 , A 2 and A 3 are each independently a divalent organic group, and may be preferably substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is an organic group. As A, A 1 , A 2 and A 3 , equation (30), equation (31), equation (32), equation (33), equation (34), equation (35), equation (36), equation (37) ) Or a group represented by formula (38); Groups in which they are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

Figure pat00004
Figure pat00004

식 (30)~식 (38) 중,In equation (30) to equation (38),

*는 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or -CO-.

1개의 예는, Z1 및 Z3이 -O-이며, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. Z1과 Z2의 각 환에 대한 결합 위치, 및 Z2와 Z3의 각 환에 대한 결합 위치는 각각, 각 환에 대해서 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치이다.In one example, Z 1 and Z 3 are -O-, and Z 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -or -SO 2- . The bonding position of each ring of Z 1 and Z 2 and the bonding position of each ring of Z 2 and Z 3 are preferably a meta position or a para position for each ring.

폴리이미드계 수지는, 시인성을 향상시키기 쉬운 관점에서 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위와 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위를 적어도 갖는 폴리아미드이미드인 것이 바람직하다. 또, 폴리아미드계 수지는, 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위를 적어도 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the polyimide resin is a polyamideimide having at least a repeating structural unit represented by formula (10) and a repeating structural unit represented by formula (13) from the viewpoint of easy to improve visibility. Moreover, it is preferable that a polyamide resin has at least the repeating structural unit represented by Formula (13).

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 디아민 및 테트라카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르복실산 이무수물 등의 테트라카르복실산 화합물 유연체(類緣體))과, 필요에 따라, 디카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르복실산 화합물 유연체), 트리카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르복실산 무수물 등의 트리카르복실산 화합물 유연체) 등을 반응(중축합)시켜 얻어지는 축합형 고분자이다. 식 (10) 또는 식 (11)로 나타나는 반복 구조 단위는 통상, 디아민 및 테트라카르복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타나는 반복 구조 단위는 통상, 디아민 및 트리카르복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위는 통상, 디아민 및 디카르복실산 화합물로부터 유도된다.In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin includes diamines and tetracarboxylic acid compounds (tetracarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tetracarboxylic dianhydrides), If necessary, dicarboxylic acid compounds (dicarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds), tricarboxylic acid compounds (trichloric acid compound analogs of acid chloride compounds, tricarboxylic acid anhydrides, etc.), etc. It is a condensation type polymer obtained by reacting (polycondensation). The repeating structural unit represented by formula (10) or formula (11) is usually derived from diamine and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by formula (12) is usually derived from diamine and tricarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by formula (13) is usually derived from diamine and dicarboxylic acid compounds.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 디아민과 디카르복실산 화합물을 반응(중축합)시켜 얻어지는 축합형 고분자이다. 즉, 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위는 통상, 디아민 및 디카르복실산 화합물로부터 유도된다.In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is a condensation-type polymer obtained by reacting (polycondensing) a diamine and a dicarboxylic acid compound. That is, the repeating structural unit represented by formula (13) is usually derived from diamine and dicarboxylic acid compounds.

테트라카르복실산 화합물로서는, 방향족 테트라카르복실산 이무수물 등의 방향족 테트라카르복실산 화합물; 및 지방족 테트라카르복실산 이무수물 등의 지방족 테트라카르복실산 화합물을 들 수 있다. 테트라카르복실산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르복실산 화합물은, 이무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르복실산 화합물 유연체여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition to the dianhydride, the tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

방향족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.As a specific example of aromatic tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'- Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane Dihydrate, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA), 1,2-bis ( 2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1, 1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4 '-( and p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4 '-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물이란, 지환식 탄화 수소 구조를 갖는 테트라카르복실산 이무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물 등의 시클로알칸테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물 및 이것들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있으며, 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물 및 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 조합해서 이용해도 된다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2, Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as 3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7 -Ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. Silver may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use combining a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and a non-cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르복실산 이무수물 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 그리고 이것들의 혼합물이 바람직하다. 또, 테트라카르복실산으로서, 상기 테트라카르복실산 화합물의 무수물의 수부가체를 이용해도 된다.Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3 from the viewpoint of high transparency and low colorability Preference is given to, 5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, and mixtures thereof. Moreover, as a tetracarboxylic acid, you may use the water addition body of the anhydride of the said tetracarboxylic-acid compound.

트리카르복실산 화합물로서는, 방향족 트리카르복실산, 지방족 트리카르복실산 및 그것들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르복실산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르복실산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and their flexible acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and may be used in combination of two or more. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; And a compound in which phthalic anhydride and benzoic acid are single-linked, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , or a phenylene group.

디카르복실산 화합물로서는, 방향족 디카르복실산, 지방족 디카르복실산 및 그것들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 그것들을 2종 이상 병용해도 된다. 그것들의 구체예로서는, 테레프탈산 디클로라이드(테레프탈로일클로라이드(TPC)); 이소프탈산 디클로라이드; 나프탈렌디카르복실산 디클로라이드; 4,4'-비페닐디카르복실산 디클로라이드; 3,3'-비페닐디카르복실산 디클로라이드; 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC); 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화 수소의 디카르복실산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, their flexible acid chloride compounds, and acid anhydrides, and two or more of them may be used in combination. Specific examples of these include terephthalic acid dichloride (terephthaloyl chloride (TPC)); Isophthalic acid dichloride; Naphthalenedicarboxylic acid dichloride; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid dichloride; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid dichloride; 4,4'-oxybis (benzoylchloride) (OBBC); A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acid single bonds, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or phenylene And compounds linked by groups.

디아민으로서는 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이것들로 한정되는 것은 아니다. 이 중에서도, 방향환이 벤젠환인 것이 바람직하다. 또 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다.Examples of diamines include aliphatic diamines, aromatic diamines, and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" refers to the diamine in which the amino group is directly bonded to the aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituents in a part of the structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring, but are not limited thereto. Among these, it is preferable that the aromatic ring is a benzene ring. Moreover, "aliphatic diamine" refers to the diamine in which the amino group is directly bonded to the aliphatic group, and may include an aromatic ring or other substituents in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine and 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4'- And cyclic aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민으로서는 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-자일릴렌디아민, p-자일릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6- Aromatic diamines having one aromatic ring, such as diaminonaphthalene; 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dia Minodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (tri Fluoromethyl) benzidine (2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB)), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9 , 9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9, And aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as 9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

상기 디아민 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하고, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하며, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the above diamines, from the viewpoint of high transparency and low coloration, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure, and 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis ( It is more preferable to use at least one member selected from the group consisting of trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether, 2 It is even more preferable to use, 2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.

폴리이미드계 수지는, 상기 디아민, 테트라카르복실산 화합물, 트리카르복실산 화합물, 디카르복실산 화합물 등의 각 원료를 관용의 방법 예를 들면, 교반 등의 방법에 의해 혼합한 후, 얻어진 중간체를 이미드화 촉매 및 필요에 따라 탈수제의 존재하에서, 이미드화하는 것에 의해 얻어진다. 폴리아미드계 수지는, 상기 디아민, 디카르복실산 화합물 등의 각 원료를 관용의 방법 예를 들면, 교반 등의 방법에 의해 혼합함으로써 얻어진다.The polyimide-based resin is an intermediate obtained after mixing each raw material such as the diamine, tetracarboxylic acid compound, tricarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound by a conventional method such as stirring. Is obtained by imidizing in the presence of an imidization catalyst and, if necessary, a dehydrating agent. The polyamide-based resin is obtained by mixing each of the raw materials such as the diamine and the dicarboxylic acid compound by a conventional method such as stirring.

이미드화 공정에서 사용되는 이미드화 촉매로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 그리고 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다.The imidization catalyst used in the imidization step is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.2] nonane; And 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4 And aromatic amines such as cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline.

이미드화 공정에서 사용되는 탈수제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 무수 아세트산, 프로피온산 무수물, 이소부티르산 무수물, 피발산 무수물, 부티르산 무수물, 이소발레르산 무수물 등을 들 수 있다.The dehydrating agent used in the imidization step is not particularly limited, and examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, pivalic anhydride, butyric anhydride, and isovaleric anhydride.

각 원료의 혼합 및 이미드화 공정에 있어서, 반응 온도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 15~350℃, 바람직하게는 20~100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10분~10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 또, 반응은 용매 중에서 행해도 되고, 용매로서는, 예를 들면 바니시의 조제에 사용되는 용매로서 예시된 것을 들 수 있다. 반응 후, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 정제한다. 정제 방법으로서는, 예를 들면 반응액에 빈용매를 첨가하여 재침전법에 의해 수지를 석출시켜, 건조해 침전물을 취출하고, 필요에 따라 침전물을 메탄올 등의 용매로 세정해 건조시키는 방법 등을 들 수 있다.In the mixing and imidization step of each raw material, the reaction temperature is not particularly limited, but is, for example, 15 to 350 ° C, preferably 20 to 100 ° C. The reaction time is not particularly limited, but is, for example, about 10 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or a reduced pressure condition. Moreover, reaction may be performed in a solvent, and what was illustrated as a solvent used for preparation of a varnish is mentioned as a solvent, for example. After the reaction, the polyimide resin or polyamide resin is purified. As a purification method, for example, a poor solvent is added to the reaction solution to precipitate a resin by reprecipitation, dried to extract the precipitate, and if necessary, the precipitate is washed with a solvent such as methanol and dried. have.

또한, 폴리이미드계 수지의 제조는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2006-199945호 또는 일본 공개특허공보 2008-163107호에 기재된 제조 방법을 참조해도 된다. 또, 폴리이미드계 수지는, 시판품을 사용할 수도 있고, 그 구체예로서는, 미츠비시 가스화학(주)(Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.)제 네오프림(등록상표), 카와무라 산교(주)(Kawamura Sangyo Co., Ltd)제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.Moreover, you may refer the manufacturing method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-199945 or Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-163107, for example for manufacture of a polyimide type resin. In addition, commercially available products may be used for the polyimide-based resin, and specific examples thereof include Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., Neoprem (registered trademark), and Kawamura Sangyo Co., Ltd. (Kawamura Sangyo Co., Ltd.) ., Ltd) KPI-MX300F.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 200,000 이상, 보다 바람직하게는 250,000 이상, 더 바람직하게는 300,000 이상이며, 바람직하게는 600,000 이하, 보다 바람직하게는 500,000 이하이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량이 클수록, 필름화했을 때의 높은 내굴곡성을 발현하기 쉬운 경향이 있다. 이로 인하여, 수지 필름의 내굴곡성을 높이는 관점에서는, 중량 평균 분자량이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 한편, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량이 작을 수록, 바니시의 점도를 낮게 하기 쉽고, 가공성을 향상시키기 쉬운 경향이 있다. 또, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 연신성이 향상되기 쉬운 경향이 있다. 이로 인하여, 가공성 및 연신성의 관점에서는, 중량 평균 분자량이 상기의 상한 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본원에 있어서 중량 평균 분자량은 겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 산출할 수 있다.The weight average molecular weight of the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 200,000 or more, more preferably 250,000 or more, more preferably 300,000 or more, preferably 600,000 or less, and more preferably 500,000 or less. The larger the weight-average molecular weight of the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the higher the tendency to exhibit high flex resistance when filmed. For this reason, it is preferable that the weight average molecular weight is more than the said lower limit from a viewpoint of raising the bending resistance of a resin film. On the other hand, the smaller the weight-average molecular weight of the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the lower the viscosity of the varnish tends to be, and tends to be easy to improve the processability. Moreover, the stretchability of a polyimide-type resin or a polyamide-type resin tends to improve easily. For this reason, from the viewpoint of processability and stretchability, it is preferable that the weight average molecular weight is equal to or less than the above upper limit. In addition, in this application, the weight average molecular weight can be calculated | required by gel permeation chromatography (GPC) measurement and calculated | required by standard polystyrene conversion, for example, can be calculated by the method described in the Example.

폴리이미드계 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 95~100%, 보다 바람직하게는 97~100%, 더 바람직하게는 98~100%, 특히 바람직하게는 100%이다. 바니시의 안정성, 얻어진 수지 필름의 기계 물성의 관점에서는, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이미드화율은, IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있다. 상기 관점에서 바니시 중에 포함되는 폴리이미드계 수지의 이미드화율이 상기 범위 내인 것이 바람직하다. 상기 이미드화율은 예를 들면, 일본 특허출원 2018-007523호에 기재된 방법에 의해 구할 수 있다.The imidation ratio of the polyimide-based resin is preferably 95 to 100%, more preferably 97 to 100%, further preferably 98 to 100%, particularly preferably 100%. From the viewpoint of the stability of the varnish and the mechanical properties of the obtained resin film, it is preferable that the imidation ratio is equal to or greater than the above lower limit. Moreover, the imidation rate can be calculated | required by IR method, NMR method, etc. From the above viewpoint, it is preferable that the imidation ratio of the polyimide resin contained in the varnish is within the above range. The imidation rate can be obtained, for example, by the method described in Japanese Patent Application No. 2018-007523.

본 발명의 바람직한 일 실시형태에 있어서, 본 발명의 수지 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면 상기의 함불소 치환기 등에 의해 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 수지 필름의 탄성률을 향상시키고 또한 황색도(YI값)를 저감시키기 쉽다. 수지 필름의 탄성률이 높으면 당해 필름에 있어서의 흠집 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽고, 또, 수지 필름의 황색도가 낮으면 당해 필름의 투명성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위하여 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin or polyamide-based resin contained in the resin film of the present invention can be introduced by, for example, the above fluorine-containing substituents, halogen atoms such as fluorine atoms. You may include. When the polyimide-based resin or the polyamide-based resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the resin film and reduce the yellowness (YI value). When the elastic modulus of the resin film is high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles in the film, and when the yellowness of the resin film is low, it is easy to improve the transparency of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. As a preferable fluorine-containing substituent in order to contain a fluorine atom in a polyimide resin or a polyamide resin, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned, for example.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로, 바람직하게는 1~40질량%, 보다 바람직하게는 5~40질량%, 보다 더 바람직하게는 5~30질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 1질량% 이상이면, 필름화했을 때의 탄성률을 보다 향상시키고, 흡수율을 낮추며, 황색도(YI값)를 보다 저감하여, 투명성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 40질량% 이하이면, 합성이 용이해지는 경우가 있다.The content of the halogen atom in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, based on the mass of the polyimide-based resin or polyamide-based resin. %, More preferably 5 to 30% by mass. When the content of the halogen atom is 1% by mass or more, the elastic modulus at the time of film formation is further improved, the absorption rate is lowered, the yellowness (YI value) is further reduced, and the transparency is more easily improved. When the content of the halogen atom is 40% by mass or less, synthesis may be easy.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 수지 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 수지 필름의 전체 질량을 기준으로, 바람직하게는 40질량% 이상, 보다 바람직하게는 50질량% 이상, 더 바람직하게는 70질량% 이상이다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량이 상기의 하한 이상인 것이, 내굴곡성 등을 높이기 쉬운 관점에서 바람직하다. 또한, 수지 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 수지 필름의 전체 질량을 기준으로, 통상 100질량% 이하이다.In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide-based resin and / or polyamide-based resin in the resin film is preferably 40% by mass or more, more preferably based on the total mass of the resin film. 50 mass% or more, More preferably, it is 70 mass% or more. The content of the polyimide-based resin and / or the polyamide-based resin is more than the above lower limit, and it is preferable from the viewpoint of easy to increase bending resistance and the like. The content of the polyimide-based resin and / or polyamide-based resin in the resin film is usually 100% by mass or less based on the total mass of the resin film.

(첨가제)(additive)

본 발명의 수지 필름은 첨가제를 추가로 포함해도 된다. 이러한 첨가제로서는 예를 들면, 실리카 입자, 자외선 흡수제, 증백제, 실리카 분산제, 산화 방지제, pH조정제, 및 레벨링제를 들 수 있다.The resin film of the present invention may further contain an additive. Examples of such additives include silica particles, ultraviolet absorbers, brighteners, silica dispersants, antioxidants, pH adjusters, and leveling agents.

(실리카 입자)(Silica particles)

본 발명의 수지 필름은 첨가제로서 실리카 입자를 추가로 포함해도 된다. 실리카 입자의 함유량은, 당해 수지 필름의 총질량을 기준으로, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 3질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상이며, 바람직하게는 60질량% 이하, 보다 바람직하게는 50질량% 이하, 더 바람직하게는 45질량% 이하이다. 또, 실리카 입자의 함유량은, 이들 상한값 및 하한값 중, 임의의 하한값과 상한값을 선택하여 조합할 수 있다. 실리카 입자의 함유량이 상기 상한값 및/또는 하한값의 수치 범위이면, 본 발명의 수지 필름에 있어서, 실리카 입자가 응집하기 어렵고, 일차 입자 상태로 균일하게 분산하는 경향이 있기 때문에, 본 발명의 수지 필름의 시인성의 저하를 억제할 수 있다.The resin film of the present invention may further contain silica particles as an additive. The content of the silica particles is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and preferably 60% by mass or less, based on the total mass of the resin film. , More preferably, it is 50 mass% or less, More preferably, it is 45 mass% or less. Moreover, content of a silica particle can select and combine arbitrary lower limit and an upper limit among these upper limit and a lower limit. If the content of the silica particles is in the numerical range of the upper and / or lower limits, the resin film of the present invention is difficult to aggregate, and the particles tend to be uniformly dispersed in the primary particle state. The decrease in visibility can be suppressed.

실리카 입자의 입자경은, 바람직하게는 1nm 이상, 보다 바람직하게는 3nm 이상, 더 바람직하게는 5nm 이상, 특히 바람직하게는 8nm 이상이며, 바람직하게는 30nm 이하, 보다 바람직하게는 28nm 이하, 더 바람직하게는 25nm 이하, 특히 바람직하게는 20nm 이하이다. 실리카 입자의 입자경은, 이들 상한값 및 하한값 중, 임의의 하한값과 상한값을 선택하여 조합할 수 있다. 실리카 입자의 함유량이 상기 상한값 및/또는 하한값의 수치 범위이면, 본 발명의 수지 필름에 있어서, 백색광에 있어서의 특정 파장의 광과 상호작용을 하기 어렵기 때문에, 본 발명의 수지 필름의 시인성의 저하를 억제할 수 있다. 본 명세서에 있어서, 실리카 입자의 입자경은, 평균 일차 입자경을 나타낸다. 수지 필름 내의 실리카 입자의 입자경은, 투과형 전자현미경(TEM)을 이용한 촬상으로 측정할 수 있다. 수지 필름을 제작하기 전(예를 들면, 바니시에 첨가하기 전)의 실리카 입자의 입자경은, 레이저 회절식 입도 분포계에 의해 측정할 수 있다. 실리카 입자의 입자경의 측정 방법은, 실시예에서 상세하게 설명한다.The particle size of the silica particles is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, particularly preferably 8 nm or more, preferably 30 nm or less, more preferably 28 nm or less, and more preferably Is 25 nm or less, particularly preferably 20 nm or less. The particle diameter of the silica particles can be combined by selecting an arbitrary lower limit and an upper limit from these upper and lower limits. When the content of the silica particles is in the numerical range of the upper limit and / or lower limit, the resin film of the present invention is difficult to interact with light of a specific wavelength in white light, and thus the visibility of the resin film of the present invention is lowered. Can be suppressed. In this specification, the particle diameter of the silica particles represents the average primary particle diameter. The particle diameter of the silica particles in the resin film can be measured by imaging using a transmission electron microscope (TEM). The particle diameter of the silica particles before producing the resin film (for example, before adding to the varnish) can be measured by a laser diffraction particle size distribution system. The method for measuring the particle diameter of the silica particles is described in detail in Examples.

실리카 입자의 형태로서는 예를 들면, 실리카 입자가 유기 용매 등에 분산된 실리카 졸, 및 기상법으로 조제한 실리카 분말을 들 수 있다. 이 중에서도, 작업성의 관점에서 실리카 졸이 바람직하다.Examples of the form of the silica particles include silica sol in which the silica particles are dispersed in an organic solvent and the like, and silica powder prepared by a gas phase method. Among these, silica sol is preferable from the viewpoint of workability.

실리카 입자는, 표면 처리를 행해도 되고 예를 들면, 수용성 알코올 분산 실리카 졸로부터 용매(보다 구체적으로는, γ-부티로락톤 등) 치환한 실리카 입자여도 된다. 수용성 알코올은, 당해 수용성 알코올 분자 1개에 있어서 히드록시기 1개당 탄소수가 3 이하인 알코올이며, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 및 2-프로판올 등을 들 수 있다. 실리카 입자와 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 종류의 상성(相性)에 따르지만 통상, 실리카 입자가 표면 처리되면, 수지 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지와의 상용성이 향상되고, 실리카 입자의 분산성이 향상되는 경향이 있기 때문에, 본 발명의 시인성의 저하를 억제할 수 있다.The silica particles may be subjected to a surface treatment or may be, for example, silica particles substituted with a solvent (more specifically, γ-butyrolactone) from a water-soluble alcohol-dispersed silica sol. The water-soluble alcohol is an alcohol having 3 or less carbon atoms per hydroxy group in one water-soluble alcohol molecule, and examples thereof include methanol, ethanol, 1-propanol, and 2-propanol. According to the reciprocity of the type of the silica particles and the polyimide resin or polyamide resin, usually, when the silica particles are surface treated, the compatibility between the polyimide resin contained in the resin film is improved, and the silica particles Since the dispersibility tends to be improved, the decrease in visibility of the present invention can be suppressed.

(자외선 흡수제)(Ultraviolet absorbent)

본 발명의 수지 필름은 자외선 흡수제를 추가로 포함해도 된다. 예를 들면, 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제, 및 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 적합한 시판의 자외선 흡수제로서는 예를 들면, 스미카 켐텍스(주)(Sumika Chemtex Company, Limited)제의 Sumisorb(등록상표) 340, (주)ADEKA제의 아데카스타브(등록상표) LA-31, 및 BASF 재팬(주)제의 티누빈(등록상표) 1577 등을 들 수 있다. 자외선 흡수제의 함유량은, 본 발명의 수지 필름의 질량을 기준으로, 바람직하게는 1phr 이상 10phr 이하, 보다 바람직하게는 3phr 이상 6phr 이하이다.The resin film of the present invention may further include an ultraviolet absorber. Examples thereof include triazine-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzoate-based ultraviolet absorbers, and cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers. These may be used alone or in combination of two or more. Suitable commercially available ultraviolet absorbers include, for example, Sumisorb (registered trademark) 340 manufactured by Sumika Chemtex Company, Limited, Adekastab (registered trademark) LA-31 manufactured by ADEKA Corporation, and And Tinuvin (registered trademark) 1577 manufactured by BASF Japan Corporation. The content of the ultraviolet absorber is preferably 1 phr or more and 10 phr or less, more preferably 3 phr or more and 6 phr or less, based on the mass of the resin film of the present invention.

(증백제)(Whitening agent)

본 발명의 수지 필름은 증백제를 추가로 포함해도 된다. 증백제는 예를 들면, 증백제 이외의 첨가제를 첨가한 경우에, 색감을 조정하기 위하여 첨가할 수 있다. 증백제로서는 모노아조계 염료, 트리아릴메탄계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 및 안트라퀴논계 염료를 들 수 있다. 이 중에서도 안트라퀴논계 염료가 바람직하다. 적합한 시판의 증백제로서는 예를 들면, 랑세스사(LANXESS)제의 마크로렉스(등록상표) 바이올렛 B, 스미카 켐텍스(주)제의 스미플라스트(등록상표) Violet B, 및 미쓰비시 화학(주)(Mitsubishi Chemical Corporation)제의 다이아레진(등록상표) 블루 G 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 증백제의 함유량은, 본 발명의 수지 필름의 질량을 기준으로, 바람직하게는 0~50ppm, 보다 바람직하게는 1~45ppm, 더 바람직하게는 3~40ppm, 특히 바람직하게는 5~35ppm이다.The resin film of the present invention may further contain a brightener. The brightener can be added, for example, in order to adjust the color sense when additives other than the brightener are added. Examples of the brightener include monoazo dyes, triarylmethane dyes, phthalocyanine dyes, and anthraquinone dyes. Among these, anthraquinone-based dyes are preferred. Suitable commercially available brighteners include, for example, Macrolex (registered trademark) Violet B manufactured by LANXESS, Sumiplast (registered trademark) Violet B manufactured by Sumika Chemtex, and Mitsubishi Chemical Co., Ltd. And Diaresin (registered trademark) Blue G manufactured by (Mitsubishi Chemical Corporation). These may be used alone or in combination of two or more. The content of the brightener is preferably 0 to 50 ppm, more preferably 1 to 45 ppm, further preferably 3 to 40 ppm, particularly preferably 5 to 35 ppm, based on the mass of the resin film of the present invention.

(원료 필름의 제조 방법)(Manufacturing method of raw film)

원료 필름은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 이하의 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.Although the raw material film is not particularly limited, for example, it can be produced by a method including the following steps.

(a) 상기 수지 및 상기 필러를 포함하는 액(이하, 바니시라고 기재하는 경우가 있다)을 조제하는 바니시 조제 공정,(a) a varnish preparation step of preparing a liquid (hereinafter sometimes referred to as varnish) containing the resin and the filler,

(b) 바니시를 기재에 도포하여 도막을 형성하는 도포 공정, 및(b) a coating step of applying a varnish to the substrate to form a coating film, and

(c) 상기 도막을 건조시켜, 원료 필름을 형성하는 형성 공정.(c) A forming step of drying the coating film to form a raw film.

바니시 조제 공정에서는, 상기 수지를 용매에 용해하고, 상기 필러 및 필요에 따라 다른 첨가제를 첨가하여 교반 혼합하는 것에 의해 바니시를 조제한다. 또한, 필러로서 실리카를 이용하는 경우, 실리카를 포함하는 실리카 졸의 분산액을, 상기 수지가 용해 가능한 용매, 예를 들면 하기의 바니시의 조제에 이용되는 용매로 치환한 실리카 졸을 수지에 첨가해도 된다.In the varnish preparation step, the varnish is prepared by dissolving the resin in a solvent and adding and stirring the above filler and other additives as necessary. Moreover, when using silica as a filler, you may add the silica sol which substituted the dispersion of the silica sol containing silica with the solvent which the said resin is soluble, for example, the solvent used for preparation of the following varnish to resin.

바니시의 조제에 이용되는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤(GBL), γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸설폰, 디메틸설폭시드, 설포란 등의 함황계 용매; 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그것들의 조합을 들 수 있다. 이 중에서도, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다. 또, 바니시에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1~25질량%, 보다 바람직하게는 5~20질량%이다.The solvent used for the preparation of the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as N, N-dimethylacetamide (DMAc) and N, N-dimethylformamide; lactone-based solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof. Among these, an amide-based solvent or a lactone-based solvent is preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass.

도포 공정에 있어서, 공지의 도포 방법에 의해, 기재 상에 바니시를 도포하여 도막을 형성한다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비어 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.In the coating step, a varnish is coated on the substrate by a known coating method to form a coating film. As a known coating method, for example, a wire bar coating method, a reverse coating method, a roll coating method such as gravure coating, a die coating method, a comma coating method, a lip coating method, a spin coating method, a screen coating method, a fountain coating method, a di And a ping method, a spraying method, and a flexible molding method.

형성 공정에 있어서, 도막을 건조하여 기재로부터 박리하는 것에 의해, 원료 필름을 형성할 수 있다. 도막의 건조는, 통상 50~350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다. 얻어진 원료 필름은, 상기 가열 공정에 공급되지만, 연속해서 반송되어 가열 공정에 공급되어도 되고, 일단 권취된 후에 공급되어도 된다.In a forming process, a raw film can be formed by drying and peeling a coating film from a base material. Drying of the coating film can be usually performed at a temperature of 50 to 350 ° C. If necessary, the coating film may be dried under an inert atmosphere or under reduced pressure. Although the obtained raw material film is supplied to the said heating process, it may be conveyed continuously and supplied to a heating process, or may be supplied after it is once wound up.

기재의 예로서는, 금속계라면 엔드리스 SUS 벨트, 수지계라면 PET 필름, PEN 필름, 다른 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 필름, 시클로올레핀계 폴리머(COP) 필름, 아크릴계 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 평활성, 내열성이 우수하다는 관점에서 PET 필름, COP 필름 등이 바람직하고, 또 수지 필름과의 밀착성 및 코스트의 관점에서 PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the base material include endless SUS belts for metals, PET films for resins, PEN films, other polyimide resins or polyamide resin films, cycloolefin polymer (COP) films, and acrylic films. Especially, a PET film, a COP film, etc. are preferable from a viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, and a PET film is more preferable from a viewpoint of adhesiveness with a resin film and cost.

원료 필름은, 그 표면에 표면 보호 필름을 적층하여 적층체로 해도 되고, 적층된 표면 보호 필름은, 가열 공정이 행해지기 전에 박리되면 된다. 표면 보호 필름은, 원료 필름의 기재와는 반대측의 면에 적층된다. 적층체를 롤형으로 권취할 때에, 블로킹 등의 권취성에 문제가 있는 경우에는, 더 추가하여, 기재의 원료 필름은 반대측의 면에 표면 보호 필름을 적층해도 된다. 원료 필름에 첩합(貼合)되는 표면 보호 필름은, 원료 필름의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름으로서, 원료 필름의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있으며, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 적층체의 양면에 표면 보호 필름이 첩합되어 있는 경우, 각면의 표면 보호 필름은 서로 같아도 되고 달라도 된다.The raw material film may be a laminate by laminating a surface protection film on its surface, and the laminated surface protection film may be peeled off before the heating step is performed. The surface protection film is laminated on a surface opposite to the base material of the raw film. When winding up a laminated body in roll form, when there is a problem with winding property, such as blocking, further, a raw material film of a base material may laminate a surface protection film on the surface on the opposite side. The surface protection film bonded to the raw material film is a film for temporarily protecting the surface of the raw material film, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the raw material film. For example, polyester resin films, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; And polyolefin-based resin films such as polyethylene and polypropylene films, and acrylic-based resin films, and are preferably selected from the group consisting of polyolefin-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films, and acrylic-based resin films. When the surface protection film is stuck on both surfaces of a laminated body, the surface protection film of each surface may be mutually same or different.

표면 보호 필름의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만 통상, 10~100μm, 바람직하게는 10~80μm이다. 적층체의 양면에 표면 보호 필름이 첩합되어 있는 경우, 각면의 표면 보호 필름의 두께는 같아도 되고 달라도 된다.Although the thickness of a surface protection film is not specifically limited, Usually, it is 10-100 micrometers, Preferably it is 10-80 micrometers. When the surface protection film is pasted on both surfaces of the laminate, the thickness of the surface protection film on each surface may be the same or different.

상기 적층체(기재, 원료 필름 및 필요에 따라 표면 보호 필름)가 권심(卷芯)에 롤형으로 권취된 것을 적층체 필름 롤이라고 부른다. 적층체 필름 롤은, 연속적인 제조에 있어서, 스페이스 기타 제약으로부터 일단 필름 롤의 형태로 보관하는 경우가 많으며, 적층체 필름 롤도 그 하나이다.The above-mentioned layered product (base material, raw material film and surface protection film if necessary) is wound in a roll form to a core, and is referred to as a layered film roll. In the case of continuous production, the laminate film roll is often stored in the form of a film roll once from space or other constraints, and the laminate film roll is one of them.

적층체 필름 롤의 권심를 구성하는 재료로서는, 예를 들면 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리염화 비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, ABS 수지 등의 합성 수지; 알루미늄 등의 금속; 섬유강화 플라스틱(FRP: 유리 섬유 등의 섬유를 플라스틱에 함유시켜 강도를 향상시킨 복합재료) 등을 들 수 있다. 권심는 원통형 또는 원기둥형 등의 형상을 이루며, 그 직경은, 예를 들면 80~170mm이다. 또, 필름 롤의 직경(권취 후의 직경)은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 200~800mm이다.As a material constituting the core of the laminated film roll, for example, polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, polyurethane resin, polycarbonate resin , ABS resin and other synthetic resins; Metals such as aluminum; And fiber-reinforced plastics (FRP: composite materials containing fibers such as glass fibers in plastics to improve strength) and the like. The winding core has a shape such as a cylindrical shape or a cylindrical shape, and its diameter is, for example, 80 to 170 mm. Moreover, although the diameter (diameter after winding) of a film roll is not specifically limited, Usually, it is 200-800 mm.

<수지 필름의 용도><Use of resin film>

본 발명의 수지 필름은, 수지 필름 단층(單層)으로 사용해도 되고, 다른 층을 적층한 적층체로 사용해도 된다. 이 수지 필름 또는 이것을 포함하는 적층체는, 우수한 면품질을 갖기 때문에, 화상 표시 장치 등에 있어서의 광학 필름, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도 필름)으로서 유용하다.The resin film of the present invention may be used as a single layer of a resin film or may be used as a laminate in which other layers are laminated. Since this resin film or a laminate containing the same has excellent surface quality, it is useful as an optical film in an image display device or the like, especially as a front panel (window film) of a flexible display.

수지 필름에 적층할 수 있는 다른 층으로서는, 하드 코트층, 자외선 흡수층, 점착층, 굴절률 조정층, 프라이머층 등의 다양한 기능을 갖는 층(기능층)을 들 수 있다. 수지 필름은, 단수 또는 복수개의 기능층을 구비하고 있어도 된다. 또, 1개의 기능층이 복수개의 기능을 가져도 된다.Examples of other layers that can be laminated on the resin film include a layer (functional layer) having various functions such as a hard coat layer, an ultraviolet absorbing layer, an adhesive layer, a refractive index adjusting layer, and a primer layer. The resin film may be provided with a single or multiple functional layers. Moreover, one functional layer may have a plurality of functions.

또, 기능층 이외의 다른 층으로서는, 편광막, 편광판, 터치 센서, 단층 또는 복수층의 형태를 갖는 테두리를 둘러싸고 인쇄된 유색의 차광 패턴 등, 표시 장치가 구비하는 광학 부재를 들 수 있다.Further, examples of layers other than the functional layer include a polarizing film, a polarizing plate, a touch sensor, an optical member provided by a display device, such as a colored light-shielding pattern printed around a border having a single layer or multiple layers.

하드 코트층은, 필름의 시인측 표면에 배치되는 것이 바람직하다. 하드 코트층은 단층 구조여도 되고, 다층 구조여도 된다. 하드 코트층은, 광 또는 열에너지를 조사하여 가교 구조를 형성하는 반응성 재료를 포함하는 하드 코트용 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다.It is preferable that the hard coat layer is disposed on the viewer-side surface of the film. The hard coat layer may have a single layer structure or a multilayer structure. The hard coat layer can be formed by curing a composition for a hard coat containing a reactive material that forms a crosslinked structure by irradiating light or thermal energy.

반응성 재료로서는, 광 또는 열 경화성 수지를 들 수 있다. 그 예로서는, (메트)아크릴레이트 모노머 및 올리고머 등의 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 벤질클로라이드계 수지, 비닐계 수지, 실리콘계 수지 또는 이것들의 혼합 수지 등의 자외선 경화형, 전자선 경화형 또는 열 경화형의 수지를 들 수 있다. 표면 경도 등의 기계 물성 및 공업상의 관점에서 하드 코트용 조성물은 아크릴계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.As a reactive material, light or a thermosetting resin is mentioned. Examples thereof include ultraviolet curing type, electron beam curing type or heat curing type such as acrylic resins such as (meth) acrylate monomers and oligomers, epoxy resins, urethane resins, benzyl chloride resins, vinyl resins, silicone resins or mixed resins thereof. And resin. From the viewpoints of mechanical properties such as surface hardness and industrial viewpoint, it is preferable that the composition for a hard coat contains an acrylic resin.

하드 코트용 조성물은, 상기 수지 외에, 필요에 따라 용제, 광중합 개시제를 포함할 수 있다. 또는 하드 코트용 조성물에는, 발명의 효과를 해치지 않는 범위에 있어서, 무기 필러, 레벨링제, 안정제, 항산화제, UV흡수제, 계면활성제, 윤활제, 방오(防汚)제 등의 첨가제를 포함해도 된다.The composition for a hard coat may contain a solvent and a photopolymerization initiator as needed in addition to the resin. Alternatively, the composition for the hard coat may contain additives such as inorganic fillers, leveling agents, stabilizers, antioxidants, UV absorbers, surfactants, lubricants, antifouling agents, and the like within a range not impairing the effects of the invention.

하드 코트층은, 하드 코트용 조성물을, 본 발명에 의해 얻어지는 수지 필름의 적어도 일면에 도포하여 경화시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 하드 코트층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 5~100μm여도 된다. 하드 코트층의 두께가 상기의 범위에 있으면, 충분한 표면 경도를 확보하는 것이 가능하고, 또, 내굴곡성이 저하되기 어려워, 경화 수축에 의한 컬 발생의 문제가 발생하기 어려운 경향이 있다.The hard coat layer can be formed by applying a hard coat composition to at least one surface of the resin film obtained by the present invention and curing it. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, and may be, for example, 5 to 100 μm. When the thickness of the hard coat layer is within the above range, it is possible to ensure sufficient surface hardness, and also, the flexural resistance is less likely to decrease, and there is a tendency that the problem of curling due to curing shrinkage is less likely to occur.

자외선 흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열 경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선 흡수제로 구성된다. 기능층으로서 자외선 흡수층을 마련하는 것에 의해, 광조사에 의한 황색도의 변화를 용이하게 억제할 수 있다.The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays. For example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a heat curable transparent resin, and dispersed in the main material It is composed of ultraviolet absorbers. By providing an ultraviolet absorbing layer as a functional layer, a change in yellowness due to light irradiation can be easily suppressed.

점착층은, 점착성의 기능을 갖는 층이며, 본 발명의 필름을 다른 부재에 접착시키는 기능을 갖는다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열 경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다.The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering the film of the present invention to another member. As a material for forming the adhesive layer, a commonly known one can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used.

점착층은, 중합성 관능기를 갖는 성분을 포함하는 수지 조성물로 구성되어 있어도 된다. 이 경우, 필름을 다른 부재에 밀착시킨 후에 점착층을 구성하는 수지 조성물을 더 중합시키는 것에 의해, 강고한 접착을 실현할 수 있다. 본 발명의 필름과 점착층의 접착 강도는, 0.1N/cm 이상, 또는 0.5N/cm 이상이어도 된다.The adhesive layer may be composed of a resin composition containing a component having a polymerizable functional group. In this case, strong adhesion can be realized by further polymerizing the resin composition constituting the adhesive layer after the film is brought into close contact with the other member. The adhesive strength of the film of the present invention and the adhesive layer may be 0.1 N / cm or more, or 0.5 N / cm or more.

점착층은, 열 경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 재료로서 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.The adhesive layer may contain a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition as a material. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)로 불리는, 압압에 의해 대상물에 첩착(貼着)되는 접착제로 구성되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착하는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로 캡슐)에 내용하고, 압력이나 열 등의 적당한 수단에 의해 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The adhesive layer may be a layer composed of an adhesive that is adhered to an object by pressing under pressure, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be a pressure-sensitive adhesive that is `` a substance having tackiness at room temperature and adheres to an adherend at light pressure '' (JIS K 6800), and `` contains a specific component in a protective film (microcapsule), pressure, heat, etc. It may be a capsule adhesive, which is an adhesive capable of maintaining stability until the film is destroyed by suitable means of (JIS K 6800).

색상 조정층은, 색상 조정의 기능을 갖는 층이며, 본 발명의 필름을 목적으로 하는 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는 예를 들면, 산화 티타늄, 산화 아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산 칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.The color adjustment layer is a layer having a function of color adjustment, and is a layer that can be adjusted to the color targeting the film of the present invention. The color adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based fired pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, perylene-based compounds, isoindolinone-based compounds, phthalocyanine-based compounds, quinophthalone-based compounds, styrene-based compounds, and diketopyrrolopyrrole-based compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes and mordant dyes.

굴절률 조정층은, 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이며, 본 발명의 필름에 있어서의 폴리아미드이미드 수지 A를 포함하는 층과는 다른 굴절률을 갖고, 본 발명의 필름에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 보다 더 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다.The refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, and has a different refractive index from the layer containing the polyamideimide resin A in the film of the present invention, and can give a predetermined refractive index to the film of the present invention. It is a layer. The refractive index adjusting layer may be, for example, an appropriately selected resin, and a resin layer containing a pigment even more in some cases, or a thin metal film.

굴절률을 조정하는 안료로서는 예를 들면, 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 안티모니, 산화 주석, 산화 티타늄, 산화 지르코늄 및 산화 탄탈럼을 들 수 있다. 안료의 평균 일차 입자경은, 0.1μm 이하여도 된다. 안료의 평균 일차 입자경을 0.1μm 이하로 하는 것에 의해, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지하여 투명도의 저하를 방지할 수 있다.Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide. The average primary particle size of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle size of the pigment to 0.1 μm or less, diffuse reflection of light passing through the refractive index adjusting layer can be prevented, and a decrease in transparency can be prevented.

굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는 예를 들면, 산화 티타늄, 산화 탄탈럼, 산화 지르코늄, 산화 아연, 산화 주석, 산화 규소, 산화 인듐, 산질화 티타늄, 질화 티타늄, 산질화 규소, 질화 규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.Examples of the metal used in the refractive index adjusting layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride and silicon nitride. Oxides or metal nitrides.

수지 필름에 적층되는 광학 부재는, 점착층 또는 접착층을 개재하여 수지 필름에 적층해도 되고, 점착층 또는 접착층을 개재하지 않고 적층해도 된다.The optical member laminated on the resin film may be laminated on the resin film via an adhesive layer or an adhesive layer, or may be laminated without an adhesive layer or an adhesive layer.

<플렉시블 화상 표시 장치><Flexible image display device>

본 발명은, 상기 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치를 포함한다. 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 플렉시블 화상 표시 장치에 있어서 전면판으로서 이용되며, 당해 전면판은 윈도 필름이라고 불리는 경우가 있다. 당해 플렉시블 화상 표시 장치는, 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체와, 유기 EL표시 패널로 이루어지며, 유기 EL표시 패널에 대해서 시인측에 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체로서는, 편광판, 터치 센서를 추가로 함유하고 있어도 되고, 그것들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 또는 윈도 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서보다 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또, 상기 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 한 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.The present invention includes a flexible display device provided with the optical film. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible image display device, and the front plate may be called a window film. The flexible image display device is composed of a laminate for a flexible image display device and an organic EL display panel, and a laminate for a flexible image display device is disposed on the viewer side with respect to the organic EL display panel, and is configured to be bendable. As a laminate for a flexible image display device, a polarizing plate and a touch sensor may be further included, and the lamination order thereof is arbitrary, but in the order of a window film, a polarizing plate, a touch sensor or a window film, a touch sensor and a polarizing plate from the viewing side. It is preferable that they are laminated. When the polarizing plate is present on the viewing side than the touch sensor, it is preferable because the pattern of the touch sensor is difficult to visualize and the visibility of the display image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, an adhesive, or the like. In addition, a light blocking pattern formed on at least one surface of any one of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor may be provided.

[편광판][Polarizing plate]

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 편광판, 바람직하게는 원 편광판을 구비한다. 원 편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차판을 적층하는 것에 의해 우원 또는 좌원 편광 성분만을 투과시키는 기능을 갖는 기능층이다. 예를 들어 외광을 우원 편광으로 변환하여 유기 EL패널에서 반사되어 좌원 편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제하여 화상을 보기 쉽게 하기 위하여 이용된다. 원 편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차판의 지상축(遲相軸)은 이론상 45°일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10°이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차판은 반드시 인접하게 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 상기 설명한 범위를 만족하면 된다. 전체 파장에 있어서 완전한 원 편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상 반드시 그러할 필요는 없기 때문에 본 발명에 있어서의 원 편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4 위상차 필름을 적층하고, 출사광을 원 편광으로 함으로써 편광 선글라스를 걸친 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.As described above, the flexible display device of the present invention includes a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only the right or left circularly polarized components by laminating a λ / 4 phase difference plate on the linear polarizing plate. For example, it is used to convert external light into right-circular polarization, block external light reflected from the organic EL panel and become left-circular polarization, and transmit only the light-emitting component of the organic EL to suppress the influence of reflected light and make the image easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ / 4 retardation plate need to be theoretically 45 °, but practically 45 ± 10 °. The linear polarizing plate and the λ / 4 retardation plate do not necessarily need to be stacked adjacently, and the relationship between the absorption axis and the slow axis may satisfy the above-described range. Although it is desirable to achieve full circular polarization for the entire wavelength, the circular polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate because it is not necessary in practice. It is also desirable to further improve the visibility in a state in which polarized sunglasses are put on by further stacking a λ / 4 phase difference film on the viewing side of the linear polarizing plate and making the emitted light circularly polarized.

직선 편광판은, 투과축 방향으로 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광은 차단하는 기능을 갖는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일면에 부착된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는, 0.5~100μm이다. 직선 편광판의 두께가 상기의 범위에 있으면 직선 편광판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linear polarizing plate is a functional layer having a function of passing light oscillating in the direction of the transmission axis, but blocking polarization of a vibration component perpendicular to it. The linear polarizer may be configured with a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness of the linear polarizing plate is within the above range, the flexibility of the linear polarizing plate tends to be difficult to deteriorate.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알코올(이하, PVA라고 약기하는 경우가 있다)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해 배향된 PVA계 필름에, 아이오딘 등의 2색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착된 상태로 연신됨으로써 2색성 색소가 배향되어, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그 밖에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 갖고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 같은 다른 필름과 적층된 상태로 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10~100μm이며, 상기 연신 배율은 바람직하게는 2~10배이다.The linear polarizer may be a film-type polarizer produced by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes abbreviated as PVA) -based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to a PVA-based film oriented by stretching, or stretched in a state adsorbed to PVA to orient the dichroic dye to exhibit polarization performance. In the production of the above-mentioned film type polarizer, other processes such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be performed. The stretching or dyeing process may be performed alone with a PVA-based film, or may be carried out in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 μm, and the stretching ratio is preferably 2 to 10 times.

또 상기 편광자의 다른 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자를 들 수 있다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 2색성 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은, 액정 상태를 나타내는 성질을 갖고 있으면 되고, 특히 스멕틱상 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, as another example of the said polarizer, the liquid crystal coating type polarizer formed by apply | coating a liquid crystal polarizing composition is mentioned. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The above-mentioned liquid crystal compound should have the property of showing a liquid crystal state, and it is preferable because it can exhibit high polarization performance especially if it has a high degree of alignment state, such as a smectic phase. Moreover, it is preferable that a liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 2색성 색소 화합물은, 상기 액정 화합물과 함께 배향되어 2색성을 나타내는 색소로서, 중합성 관능기를 갖고 있어도 되고, 또, 2색성 색소 자신이 액정성을 갖고 있어도 된다.The dichroic dye compound may be oriented with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and may have a polymerizable functional group, or the dichroic dye itself may have liquid crystallinity.

액정 편광 조성물에 포함되는 화합물 중 어느 하나는 중합성 관능기를 갖는다. 상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.Any of the compounds included in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, and a silane coupling agent.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성하는 것에 의해 제조된다. 액정 편광층은, 필름형 편광자에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있고, 그 두께는 바람직하게는 0.5~10μm, 보다 바람직하게는 1~5μm이다.The said liquid crystal polarizing layer is manufactured by apply | coating a liquid crystal polarizing composition on an alignment film, and forming a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can have a thickness thinner than that of the film-type polarizer, and the thickness is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 배향막은, 예를 들면 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하여, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여하는 것에 의해 제조된다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제를 포함하며, 추가로 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는 예를 들면, 폴리비닐알코올류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 들 수 있다. 편광 조사에 의해 배향성을 부여하는 배향제를 이용하는 경우, 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량 평균 분자량은 예를 들면, 10,000~1,000,000 정도이다. 상기 배향막의 두께는, 바람직하게는 5~10,000nm이며, 배향 규제력이 충분히 발현되는 점에서, 보다 바람직하게는 10~500nm이다.The alignment film is produced, for example, by applying an alignment film-forming composition on a substrate and imparting alignment property by rubbing, polarization irradiation, or the like. The alignment film forming composition contains an alignment agent, and may further include a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersing agent, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When using the alignment agent which gives orientation by polarization irradiation, it is preferable to use the alignment agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent is, for example, about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of sufficiently expressing the orientation regulating force.

상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사해 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도 필름의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate and transferred and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for the protective film, retardation plate, and window film.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고 상기 윈도 필름의 투명 기재에 사용되는 재료나 첨가제와 같은 것을 사용할 수 있다. 또, 에폭시 수지 등의 카티온 이온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화시켜 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 당해 보호 필름은, 필요에 따라 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열 안정제, 광 안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 윤활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 당해 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 200μm 이하, 보다 바람직하게는 1~100μm이다. 보호 필름의 두께가 상기의 범위에 있으면, 당해 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.As the protective film, a transparent polymer film may be used, and materials such as materials and additives used in the transparent base material of the window film can be used. Moreover, the coating type protective film obtained by apply | coating and curing a cationic ion curing composition, such as an epoxy resin, or a radical curing composition, such as an acrylate, may be sufficient. The protective film may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, and the like, if necessary. . The thickness of the protective film is preferably 200 μm or less, and more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is in the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to deteriorate.

상기 λ/4 위상차판은, 입사광의 진행 방향과 직교하는 방향(필름의 면내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차판은, 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차판이어도 된다. 상기 λ/4 위상차판은, 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열 안정제, 광 안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 윤활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다.The lambda / 4 phase difference plate is a film that gives a lambda / 4 phase difference in a direction orthogonal to the traveling direction of the incident light (in-plane direction of the film). The λ / 4 retardation plate may be a stretched retardation plate produced by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. The λ / 4 retardation plate is a retardation regulator, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, and a solvent, if necessary. Etc. may be included.

상기 연신형 위상차판의 두께는, 바람직하게는 200μm 이하, 보다 바람직하게는 1~100μm이다. 연신형 위상차판의 두께가 상기의 범위에 있으면, 당해 연신형 위상차판의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 μm or less, and more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the stretched retardation plate is within the above range, the flexibility of the stretched retardation plate tends to be difficult to deteriorate.

또 상기 λ/4 위상차판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차판을 들 수 있다.Moreover, as another example of the (lambda) / 4 retardation plate, the liquid crystal coating type retardation plate formed by apply | coating a liquid crystal composition is mentioned.

상기 액정 조성물은, 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 액정성 화합물을 포함한다. 상기 액정성 화합물은, 중합성 관능기를 갖는다.The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound that exhibits liquid crystal states such as nematic, cholesteric, and smectic. The liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 액정 조성물은, 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, and a silane coupling agent.

상기 액정 도포형 위상차판은, 상기 액정 편광층과 마찬가지로, 액정 조성물을 하지(下地) 위에 도포, 경화시켜 액정 위상차 층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차판은, 연신형 위상차판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 바람직하게는 0.5~10μm, 보다 바람직하게는 1~5μm이다.The liquid crystal coating-type retardation plate can be produced by coating and curing a liquid crystal composition on a base, as in the liquid crystal polarizing layer, to form a liquid crystal retardation layer. The liquid crystal-coated retardation plate can be formed to have a thinner thickness than the stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

상기 액정 도포형 위상차판은 기재로부터 박리하여 전사해 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도 필름의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled off from a substrate, transferred, and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for the protective film, retardation plate, and window film.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수 없기 때문에, 시감도가 높은 560nm 부근에 대해서 λ/4가 되도록, 면내 위상차는, 바람직하게는 100~180nm, 보다 바람직하게는 130~150nm가 되도록 설계된다. 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차판은, 시인성이 양호해지는 점에서 바람직하다. 이러한 재료로서는, 예를 들면 연신형 위상차판은 일본 공개특허공보 2007-232873호 등에, 액정 도포형 위상차판은 일본 공개특허공보 2010-30979호 등에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다.In general, the shorter the wavelength, the greater the birefringence, and the longer the longer the wavelength, the smaller the material exhibiting the birefringence. In this case, since the phase difference of λ / 4 cannot be achieved in the entire visible light region, the in-plane retardation is preferably 100 to 180 nm, more preferably 130 to 150 nm, so that it becomes λ / 4 in the vicinity of 560 nm with high visibility. It is designed to be. The reverse dispersion λ / 4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic as opposed to normal is preferable in view of good visibility. As such a material, for example, those described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-232873 and the like, as described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-30979, can be used.

또, 다른 방법으로서는 λ/2 위상차판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차판을 얻는 기술도 알려져 있다(예를 들면, 일본 공개특허공보 평10-90521호 등). λ/2 위상차판도 λ/4 위상차판과 마찬가지의 재료 방법으로 제조된다. 연신형 위상차판과 액정 도포형 위상차판의 조합은 임의이지만, 어느 쪽도 액정 도포형 위상차판을 이용하는 것에 의해 두께를 얇게 할 수 있다.As another method, a technique of obtaining a broadband λ / 4 phase difference plate by combining with a λ / 2 phase difference plate is also known (for example, JP-A-10-90521). The λ / 2 phase difference plate is also manufactured by the same material method as the λ / 4 phase difference plate. The combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coating retardation plate is arbitrary, but both can be made thinner by using the liquid crystal coating retardation plate.

상기 원 편광판에는 경사 방향의 시인성을 높이기 위하여, 정(正)의 C플레이트를 적층하는 방법이 알려져 있다(예를 들면, 일본 공개특허공보 2014-224837호 등). 정의 C플레이트는, 액정 도포형 위상차판이어도 되고 연신형 위상차판이어도 된다. 당해 위상차판의 두께 방향의 위상차는, 바람직하게는 -200~-20nm, 보다 바람직하게는 -140~-40nm이다.In order to increase visibility in the oblique direction, a method of laminating a positive C plate is known to the original polarizing plate (for example, JP 2014-224837 A). The definition C plate may be a liquid crystal coated retardation plate or a stretched retardation plate. The phase difference in the thickness direction of the retardation plate is preferably -200 to -20 nm, more preferably -140 to -40 nm.

[터치 센서][Touch sensor]

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 구비하는 것이 바람직하다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 다양한 양식을 들 수 있으며, 바람직하게는 정전 용량 방식을 들 수 있다.It is preferable that the flexible display device of the present invention has a touch sensor as described above. The touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various forms, such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitive method, are mentioned, Preferably, a capacitive method is mentioned.

정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이며, 비활성 영역은 표시 장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블 특성을 갖는 기판과, 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과, 상기 기판의 비활성 영역에 형성되어, 상기 감지 패턴과 패드부를 통하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 윈도 필름의 투명기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다.The capacitive touch sensor is divided into an active area and an inactive area located on an outer portion of the active area. The active area is an area corresponding to an area (display area) where a screen is displayed on the display panel, and an area where a user's touch is detected, and an inactive area is an area corresponding to an area (non-display area) where a screen is not displayed on the display device. . The touch sensor includes a substrate having flexible characteristics, a sensing pattern formed in an active region of the substrate, and a sensing pattern formed in an inactive region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and the pad portion. can do. As a substrate having flexible properties, a material similar to the transparent substrate of the window film can be used.

상기 감지 패턴은, 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비할 수 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제1 패턴 및 제2 패턴은, 동일층에 형성되며, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어 있어야 한다. 제1 패턴은 복수개의 단위 패턴이 이음새를 통하여 서로 접속된 형태이지만, 제2 패턴은 복수개의 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 제2 패턴의 접속을 위한 전극에는, 주지의 투명 전극을 적용할 수 있다. 당해 투명 전극의 소재로서는 예를 들면, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 아연 주석 산화물(IZTO), 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO), 카드뮴 주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 ITO를 들 수 있다. 이것들은 단독 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티타늄, 셀레늄, 크로뮴 등을 들 수 있으며, 이것들은 단독 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and in order to sense a touched point, each pattern must be electrically connected. The first pattern is a form in which a plurality of unit patterns are connected to each other through a seam, but the second pattern is a structure in which a plurality of unit patterns are separated from each other in an island form, so a separate bridge is used to electrically connect the second pattern. Electrodes are required. A well-known transparent electrode can be applied to the electrode for connecting the second pattern. As a material of the transparent electrode, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide ( CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wires, and the like, and preferably ITO. These can be used alone or in combination of two or more. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These may be used alone or in combination of two or more. .

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 통하여 상기 절연층 상부에 형성될 수 있으며, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 같은 소재로 형성할 수도 있고, 몰리브데넘, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이 중 2종 이상의 합금으로 형성할 수도 있다.The bridge electrode may be formed on the insulating layer over the sensing pattern, and the bridge electrode may be formed on the substrate, and an insulating layer and the sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of a material such as a sensing pattern, or may be formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of them.

제1 패턴과 제2 패턴은 전기적으로 절연되어 있어야 하기 때문에, 감지 패턴과 브리지 전극 사이에는 절연층이 형성된다. 당해 절연층은, 제1 패턴의 이음새와 브리지 전극 사이에만 형성하거나, 감지 패턴 전체를 덮는 층으로서 형성할 수도 있다. 감지 패턴 전체를 덮는 층의 경우, 브리지 전극은 절연층에 형성된 컨택트 홀을 통하여 제2 패턴을 접속할 수 있다.Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the seam of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer covering the entire sensing pattern. In the case of the layer covering the entire sensing pattern, the bridge electrode may connect the second pattern through the contact hole formed in the insulating layer.

상기 터치 센서는, 감지 패턴이 형성된 패턴 영역과, 감지 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역 사이의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해 유발되는 광투과율의 차를 적절히 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극 사이에 광학 조절층을 추가로 포함할 수 있다. 당해 광학 조절층은, 무기 절연물질 또는 유기 절연물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해 광학 조절층의 굴절률을 높게 할 수 있다.The touch sensor may be configured to detect a difference in transmittance between a pattern area where a sensing pattern is formed and a non-pattern area where no sensing pattern is formed, specifically, a difference in light transmittance caused by a difference in refractive index in these areas. As a means for properly compensating, an optical control layer may be further included between the substrate and the electrode. The optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition comprising a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르복실산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르복실산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include, for example, copolymers of monomers such as acrylate-based monomers, styrene-based monomers, and carboxylic acid-based monomers, in a range that does not impair the effects of the present invention. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.

상기 무기 입자로서는 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, and alumina particles.

상기 광경화 조성물은, 광중합 개시제, 중합성 모노머, 경화 보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The photocurable composition may further include additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

[접착층][Adhesive layer]

상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체를 형성하는 각층(윈도 필름, 원 편광판, 터치 센서)과, 각층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차판 등)는 접착제에 의해 접합할 수 있다. 당해 접착제로서는, 수계 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 유기 용제계, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 용제 휘산형 접착제, 습기 경화형 접착제, 가열 경화형 접착제, 혐기 경화형, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열 용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습형 접착제 등, 통상 사용되고 있는 접착제 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제를 사용할 수 있다. 접착제층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라 적절히 조절할 수 있으며, 바람직하게는 0.01~500μm, 보다 바람직하게는 0.1~300μm이다. 상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체에는, 복수개의 접착층이 존재하지만, 각각의 두께나 종류는, 같아도 되고 달라도 된다.Each layer (window film, circular polarizing plate, touch sensor) forming the laminate for the flexible image display device, and the film member (linear polarizing plate, λ / 4 retardation plate, etc.) constituting each layer can be bonded by an adhesive. Examples of the adhesive include water-based adhesives, water-based solvent-based adhesives, organic solvent-based, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent-volatile adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic curing type, active energy ray-curable adhesives, and curing agent mixed adhesives. Hot melt adhesives, pressure sensitive adhesives (adhesives), rewet adhesives, and other commonly used adhesives can be used. Preferably, a water-based solvent volatilization adhesive, an active energy ray-curable adhesive, or an adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive strength, and is preferably 0.01 to 500 μm, more preferably 0.1 to 300 μm. Although the plurality of adhesive layers exist in the laminate for the flexible image display device, the thickness and type of each may be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는, 폴리비닐알코올계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀젼, 스티렌-부타디엔계 에멀젼 등 수분산 상태의 폴리머를 주제 폴리머로서 사용할 수 있다. 상기 주제 폴리머와 물에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기 용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층 간에 주입하여 피착층을 첩합한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01~10μm, 보다 바람직하게는 0.1~1μm이다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수층에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 같아도 되고 달라도 된다.As the aqueous solvent-based adhesive, a water-dispersible polymer such as a polyvinyl alcohol-based polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate-based emulsion, or a styrene-butadiene-based emulsion can be used as the main polymer. In addition to the above main polymer and water, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, etc. may be blended. In the case of bonding with the water-based solvent volatilization-type adhesive, the water-based solvent volatilization-type adhesive is injected between the adhesive layers to bond the adhesive layers, followed by drying to impart adhesiveness. In the case of using the water-based solvent-based adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When the above-mentioned water-based solvent volatilization type adhesive is used for a plurality of layers, the thickness or type of each layer may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코트 조성물에 포함되는 것과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 이온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물은, 하드 코트 조성물에 있어서의 라디칼 중합성 화합물과 같은 화합물을 이용할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive may be formed by curing an active energy ray-curing composition comprising a reactive material that irradiates active energy rays to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition may contain at least one polymerizable product of a radically polymerizable compound and a cationic ion polymerizable compound similar to those contained in the hard coat composition. As the radically polymerizable compound, a compound similar to the radically polymerizable compound in the hard coat composition can be used.

상기 카티온 이온 중합성 화합물은, 하드 코트 조성물에 있어서의 카티온 이온 중합성 화합물과 같은 화합물을 이용할 수 있다.As the cationic ion-polymerizable compound, the same compound as the cationic ion-polymerizable compound in the hard coat composition can be used.

활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 카티온 이온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위하여 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.As the cation ion polymerizable compound used in the active energy ray curing composition, an epoxy compound is particularly preferred. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

활성 에너지선 조성물은, 점도를 저하시키기 위하여, 단관능의 화합물을 포함할 수 있다. 당해 단관능의 화합물로서는, 1분자 중에 1개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 아크릴레이트계 단량체나, 1분자 중에 1개의 에폭시기 또는 옥세타닐기를 갖는 화합물 예를 들면, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The active energy ray composition may contain a monofunctional compound in order to lower the viscosity. As the monofunctional compound, an acrylate-based monomer having one (meth) acryloyl group in one molecule or a compound having one epoxy group or oxetanyl group in one molecule, for example, glycidyl (meth) acrylic Rate etc. are mentioned.

활성 에너지선 조성물은, 추가로 중합 개시제를 포함할 수 있다. 당해 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 카티온 이온 중합 개시제, 라디칼 및 카티온 이온 중합 개시제 등을 들 수 있으며, 이것들은 적절히 선택하여 이용된다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 일종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 카티온 이온을 발생시켜 라디칼 중합과 카티온 이온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코트 조성물에 관한 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 카티온 이온 중합 중 적어도 어느 것을 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cationic ion polymerization initiator, a radical and a cationic ion polymerization initiator, and these are suitably selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radical or cation ions to advance radical polymerization and cation ion polymerization. Among the substrates for the hard coat composition, an initiator capable of initiating at least either radical polymerization or cationic ion polymerization by active energy ray irradiation can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로 이온 포착제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 밀착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제 용제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해 2개의 피접착층을 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 하나 또는 양쪽 모두에 도포한 후에 첩합하고, 어느 한 피착층 또는 양 피접착층에 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 것에 의해, 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.01~20μm, 보다 바람직하게는 0.1~10μm이다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수개의 접착층 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께나 종류는 같아도 되고 달라도 된다.The active energy ray curing composition may further include an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, a defoamer solvent, an additive, and a solvent. When the two to-be-adhesive layers are adhered by the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to one or both of the to-be-adhesive layers and then bonded, and the active energy is applied to either or both of the adhered layers. It can bond by irradiating a line and hardening it. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used to form a plurality of adhesive layers, the thickness or type of each layer may be the same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류되며 어떤 것을 사용해도 된다. 점착제에는 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 점착 부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시키는 것에 의해, 점착제층 접착층이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도의 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 그 접착층의 두께는, 바람직하게는 0.1~500μm, 보다 바람직하게는 1~300μm이다. 상기 점착제를 복수층 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께나 종류는 같아도 되고 달라도 된다.As the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, depending on the main polymer, acrylic pressure-sensitive adhesive, urethane-based pressure-sensitive adhesive, rubber-based pressure-sensitive adhesive, silicone pressure-sensitive adhesive, etc. may be used. In addition to the main polymer, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, etc. may be added to the adhesive. The adhesive layer is formed by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and then applying the pressure-sensitive adhesive composition to a substrate and drying it. The adhesive layer may be formed directly, or may be transferred to one formed on a separate substrate. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 500 μm, more preferably 1 to 300 μm. When using multiple layers of the said adhesive, the thickness and kind of each layer may be the same or different.

[차광 패턴][Shading pattern]

상기 차광 패턴은, 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 변연부(邊緣部)에 배치되는 배선이 숨겨져 시인되기 어렵게 함으로써 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되지 않으며, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러여도 된다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이것들 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은, 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는, 바람직하게는 1~100μm, 보다 바람직하게는 2~50μm이다. 또, 차광 패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light-shielding pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device. Visibility of the image is improved by shielding the wiring arranged at the edge portion of the flexible image display device by the light-shielding pattern, making it difficult to visually recognize. The light shielding pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light shielding pattern is not particularly limited, and various colors such as black, white, and metallic may be used. The light-shielding pattern may be formed of a pigment for realizing color, and a polymer such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, and silicone. These may be used alone or as a mixture of two or more. The light-shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light shielding pattern is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm. Moreover, it is also preferable to give a shape, such as a slope, in the thickness direction of a light-shielding pattern.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 실시예 중, 각 항목의 측정 방법 및 평가 방법은, 이하의 방법으로 실시했다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples. In the examples, "%" and "parts" mean mass% and parts by mass unless otherwise specified. Among the examples, the measurement method and evaluation method of each item were performed by the following method.

(수지 필름의 두께)(Resin film thickness)

마이크로미터((주)미쓰토요(Mitutoyo Corporation)제 「ID-C112XBS」)를 이용하여, 10점 이상의 수지 필름의 두께를 측정하고 그 평균값을 산출했다.Using a micrometer ("ID-C112XBS" manufactured by Mitutoyo Corporation), the thickness of the resin film of 10 points or more was measured, and the average value was calculated.

(수지 필름의 전광선 투과율 및 헤이즈)(Total light transmittance and haze of resin film)

수지 필름의 전광선 투과율 및 헤이즈는, 각각 JIS K 7361-1:1997, JIS K 7136:2000에 준거하여, 스가 시험기(주)(Suga Test Instruments Co.,Ltd.)제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP를 이용하여 측정했다. 측정 시료는, 실시예 및 비교예의 수지 필름을 30mm×30mm의 크기로 재단하여 제작했다. 표 2 중, 전광선 투과율은 Tt라고 기재한다.The total light transmittance and haze of the resin film are based on JIS K 7361-1: 1997 and JIS K 7136: 2000, respectively, and are fully automated direct reading haze computers HGM- manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. It measured using 2DP. The measurement sample was produced by cutting the resin films of Examples and Comparative Examples to a size of 30 mm × 30 mm. In Table 2, the total light transmittance is described as Tt.

(수지 필름의 황색도)(Yellowness of resin film)

수지 필름의 황색도(Yellow Index: YI값)는, JIS K 7373:2006에 준거하여, 자외 가시 근적외 분광 광도계(일본 분광(주)(JASCO Corporation)제 「V-670」)를 이용하여 측정했다. 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 실시예 및 비교예에서 얻어진 수지 필름을 샘플 홀더에 세팅하고, 300~800nm의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구했다. 얻어진 3자극값으로부터 ASTM D1925의 규격에 근거하여, 하기의 식에 근거하여 YI값을 산출했다. 또한, 표 2 중, 수지 필름의 황색도는 YI라고 기재한다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of the resin film was measured using an ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer ("V-670" manufactured by JASCO Corporation) according to JIS K 7373: 2006. did. After performing the background measurement in the absence of a sample, the resin films obtained in Examples and Comparative Examples were set in a sample holder, and the transmittance of 300-800 nm was measured for light to obtain three stimulus values (X, Y, Z). I got it. Based on the standard of ASTM D1925 from the obtained tristimulus value, YI value was computed based on the following formula. In addition, in Table 2, the yellowness of the resin film is described as YI.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

(열중량-시차열(TG-DTA) 측정)(Measurement of thermal weight-differential heat (TG-DTA))

TG-DTA의 측정 장치로서(주)히타치 하이테크 사이언스제 TG/DTA6300을 이용했다. 제작된 수지 필름으로부터 약 20mg의 시료를 취득했다. 시료를, 실온에서 120℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온하여 120℃에서 5분간 보지한 후, 400℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온하는 조건으로 가열하면서, 시료의 중량 변화를 측정했다.TG / DTA6300 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. was used as the measuring device for the TG-DTA. About 20 mg of sample was obtained from the produced resin film. The sample was heated from room temperature to 120 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min, held for 5 minutes at 120 ° C., and then heated under the conditions of heating at 400 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min. Measured.

TG-DTA 측정 결과로부터, 120℃에서 250℃에 걸친 중량 감소율 M(%)을 하기 식에 의해 산출했다.From the TG-DTA measurement results, the weight loss rate M (%) from 120 ° C to 250 ° C was calculated by the following formula.

M(%)=100-(W1/W0)×100M (%) = 100- (W 1 / W 0 ) × 100

여기에서, W0은 120℃에서 5분간 보지한 후의 시료의 중량을 나타내고, W1은 250℃에 있어서의 시료의 중량을 나타낸다.Here, W 0 represents the weight of the sample after holding at 120 ° C for 5 minutes, and W 1 represents the weight of the sample at 250 ° C.

(수지 필름의 면내 위상차값의 측정)(Measurement of in-plane retardation value of resin film)

수지 필름의 면내 위상차는, 오츠카 전자(주)(Otsuka Electronics Co.,Ltd.)제의 위상차 필름·광학 재료 검사 장치(상품명 "RETS-100")를 이용하여, 파장 590nm의 면내 위상차값 R을 측정했다. 측정은, 수지 필름의 폭 방향 중앙을 중심으로 폭 700mm의 범위를 취하고, 그 700mm 폭의 범위를 20mm 간격으로 분할해, 합계 36점에 대해서 행하여, 이 36점에서 측정된 값의 평균값으로서 산출했다.The in-plane retardation of the resin film is an in-plane retardation value R having a wavelength of 590 nm using a retardation film / optical material inspection apparatus (trade name "RETS-100") manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. Measured. The measurement took a range of 700 mm in width around the center of the width direction of the resin film, divided the range of the 700 mm width into 20 mm intervals, and performed on 36 points in total, and calculated as the average value of the values measured at these 36 points. .

표 2 중의, 면내 위상차값의 비는 다음과 같이 산출한 값이다. 우선, 수지 필름의 필름 폭의 중심점을 TDc로 하고, TDc를 0%로 하여 필름 양단을 향해 80% 떨어진 점(2점)의 면내 위상차값을 측정했다. 이 2점의 면내 위상차값의 평균을 TD80으로 했다. R(TDC)/R(TD80)은, TD80에 대한 TDc의 면내 위상차값의 비를 나타낸다.In Table 2, the ratio of the in-plane retardation value is a value calculated as follows. First, the center point of the film width of the resin film was TD c , and TD c was 0%, and the in-plane retardation value of a point (2 points) 80% apart toward both ends of the film was measured. The in-plane retardation value of these two points was taken as TD 80 . R (TD C ) / R (TD 80 ) represents the ratio of the in-plane retardation value of TD c to TD 80 .

마찬가지로, TDc를 0%로 하여 필름 양단을 향해 66% 떨어진 점(2점)의 면내 위상차값을 측정했다. 이 2점의 면내 위상차값의 평균을 TD66으로 했다. R(TDC)/R(TD66)은, TD66에 대한 TDc의 면내 위상차값의 비를 나타낸다.Similarly, the in-plane retardation value of a point (2 points) 66% apart toward both ends of the film was measured using TD c as 0%. The average of these two points in-plane retardation was TD 66 . R (TD C ) / R (TD 66 ) represents the ratio of the in-plane retardation value of TD c to TD 66 .

(고형분과 점도)(Solid content and viscosity)

바니시의 점도(cps)는, JIS K 8803:2011에 따라, E형 점도계를 이용하여 25℃에서 측정된다. 또, 바니시의 수지 농도는, 바니시에 함유되는 수지의 농도(질량%)를 나타내고, 바니시의 전체 질량에 근거한 바니시에 함유되는 수지의 질량으로부터 산출된다.The viscosity (cps) of the varnish is measured at 25 ° C using an E-type viscometer according to JIS K 8803: 2011. In addition, the resin concentration of the varnish indicates the concentration (mass%) of the resin contained in the varnish, and is calculated from the mass of the resin contained in the varnish based on the total mass of the varnish.

(실리카 입자의 입자경)(Particle diameter of silica particles)

실리카 입자의 입자경은, JIS Z 8830에 준하고 BET 흡착법에 의한 비표면적 측정값으로부터 산출했다. 실리카 졸을 300℃에서 건조시킨 분말의 비표면적을 비표면적 측정 장치(유아사 아이오닉스(주)(Yuasa Ionics Inc.)제 「모노소브(등록상표) MS-16」)를 이용하여 측정했다.The particle size of the silica particles was calculated according to the specific surface area measured by the BET adsorption method according to JIS Z 8830. The specific surface area of the powder obtained by drying the silica sol at 300 ° C was measured using a specific surface area measuring device ("monosov (registered trademark) MS-16" manufactured by Yuasa Ionics Inc.).

(중량 평균 분자량)(Weight average molecular weight)

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel permeation chromatography (GPC) measurements

(1) 전처리 방법(1) Pretreatment method

시료를 γ-부티로락톤(GBL)에 용해시켜 20질량% 용액으로 한 후, DMF 용리액으로 100배로 희석하여, 0.45μm 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 했다.The sample was dissolved in γ-butyrolactone (GBL) to make a 20% by mass solution, diluted 100-fold with DMF eluent, and filtered with a 0.45 μm membrane filter as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

칼럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0mm I.D.×150mm×3개)Column: TSKgel SuperAWM-H × 2 + SuperAW2500 × 1 (6.0mm I.D. × 150mm × 3 pieces)

용리액: DMF(10mmol/L의 브로민화 리튬 첨가)Eluent: DMF (addition of 10 mmol / L lithium bromide)

유량: 0.6mL/분Flow rate: 0.6 mL / min

검출기: RI검출기Detector: RI detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ° C

주입량: 20μLInjection volume: 20 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular weight standard: standard polystyrene

<제조예 1: 폴리이미드계 수지 1의 제조)<Production Example 1: Preparation of polyimide resin 1)

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 45g(140.52mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 768.55g을 첨가하여 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(6FDA) 18.92g(42.58mmol)을 첨가하여 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 4.19g(14.19mmol), 이어서 테레프탈로일클로라이드(TPC) 17.29g(85.16mmol)을 플라스크에 첨가하여 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-메틸피리딘 4.63g(49.68mmol)과 무수 아세트산 13.04g(127.75mmol)을 첨가하여 실온에서 30분간 교반 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3.5시간 교반하여 반응액을 얻었다.Under a nitrogen gas atmosphere, in a 1L separable flask with a stirring vane, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) 45 g (140.52 mmol) and N, N -768.55 g of dimethylacetamide (DMAc) was added and stirred at room temperature to dissolve TFMB in DMAc. Next, 18.92 g (42.58 mmol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA) was added to the flask and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 4.19 g (14.19 mmol) of 4,4'-oxybis (benzoylchloride) (OBBC), and then 17.29 g (85.16 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) were added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.63 g (49.68 mmol) of 4-methylpyridine and 13.04 g (127.75 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, stirred at room temperature for 30 minutes, heated to 70 ° C using an oil bath, and further stirred for 3.5 hours. A reaction solution was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실(絲)형상으로 투입하여, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리이미드계 수지 1을 얻었다. 폴리이미드계 수지 1의 중량 평균 분자량은 455,000이었다. 폴리이미드의 이미드화율은 98.9%였다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, charged into a large amount of methanol in a thread form, and the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain polyimide resin 1. The weight average molecular weight of the polyimide resin 1 was 455,000. The imidation ratio of the polyimide was 98.9%.

<제조예 2: 분산액 1의 제조><Production Example 2: Preparation of dispersion 1>

메탄올 분산 유기화 처리 실리카(BET법으로 측정한 입자경: 27nm)를 GBL로 치환하여, GBL 분산 유기화 처리 실리카(고형분 30.3질량%)를 얻었다. 이 분산액을 분산액 1로 한다.The methanol-dispersed organic-treated silica (particle diameter measured by BET method: 27 nm) was replaced with GBL to obtain GBL-dispersed organic-treated silica (solid content: 30.3% by mass). Let this dispersion liquid be dispersion liquid 1.

<제조예 3: 바니시 1의 제조><Production Example 3: Preparation of varnish 1>

바니시 1은, 표 1에 나타내는 조성으로, 실온에서 GBL 용매에 폴리머와 필러의 조성비가 60:40이 되도록 혼합하고, 거기에 Sumisorb 340(UVA), Sumiplast Violet B(BA)를, 폴리머와 실리카의 합계 질량에 대해서 각각, 5.7phr 또는 35ppm이 되도록 첨가하고 균일하게 될 때까지 교반했다. 고형분 10.3질량%, 25℃에 있어서의 점도 38,500cps인 바니시 1을 얻었다.Varnish 1 is the composition shown in Table 1, and the mixture of the polymer and the filler in a GBL solvent at room temperature is 60:40, Sumisorb 340 (UVA), Sumiplast Violet B (BA), and polymer and silica. With respect to the total mass, respectively, 5.7 phr or 35 ppm was added and stirred until uniform. Varnish 1 having a solid content of 10.3% by mass and a viscosity at 25 ° C of 38,500 cps was obtained.

Figure pat00005
Figure pat00005

<제조예 4: 원료 필름 1의 제막><Production Example 4: Formation of raw film 1>

바니시 1을, PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트) 필름(도요보(주)(TOYOBO CO., LTD.)제 「코스모샤인(등록상표) A4100」, 두께 188μm, 두께 분포 ±2μm) 위에 있어서 유연 성형에 의해 도막을 성형했다. 이때, 선속은 0.3m/분이었다. 또, 80℃에서 10분 가열한 후, 100℃에서 10분 가열하고, 이어서 90℃에서 10분 가열하며, 마지막으로 80℃에서 10분 가열하는 조건으로 도막을 건조했다. 그 후, PET 필름으로부터 도막을 박리하여, 두께 58μm, 폭 700mm의 원료 필름 1을 얻었다. 원료 필름 1은, 중량 감소율이 9.2%, 전광선 투과율이 89.5%, 헤이즈가 0.2%, 황색도 YI가 1.5였다.Varnish 1 is formed by flexible molding on a PET (polyethylene terephthalate) film ("Toyobo Co., Ltd." "Cosmoshine (registered trademark) A4100", thickness 188 μm, thickness distribution ± 2 μm). The coating film was molded. At this time, the ship speed was 0.3 m / min. Moreover, after heating at 80 degreeC for 10 minutes, it heated at 100 degreeC for 10 minutes, and then heated at 90 degreeC for 10 minutes, and finally, the coating film was dried on condition of heating at 80 degreeC for 10 minutes. Then, the coating film was peeled off from the PET film to obtain a raw film 1 having a thickness of 58 μm and a width of 700 mm. The raw film 1 had a weight reduction rate of 9.2%, total light transmittance of 89.5%, haze of 0.2%, and yellowness of YI of 1.5.

<실시예 1><Example 1>

파지구로서 클립을 구비하고, 복사선원인 IR 히터가 설치된 텐터식 건조기(1~6실 구성)를 이용하며, 제조예 4에서 얻어진 원료 필름 1로부터 용매를 제거하여, 두께 49μm의 수지 필름 1을 얻었다. 텐터식 건조기는, 3실 및 4실에, 도 3에 나타내듯이 노즐 및 IR 히터가 병설되어 있었다. 이때, 1~6실의 건조로 내의 온풍 온도를 200℃, 3실 및 4실의 IR 히터를 230℃로 설정하고, 클립 파지폭이 25mm, 필름의 반송 속도가 1.8m/분, 건조로 입구의 필름 폭(클립 간 거리)과 건조로 출구의 필름 폭의 비가 0.98인 조건으로 행했다. 또, 각 실의 풍속을, 1실이 13.5m/초, 2실이 13m/초, 및 3~6실이 11m/초가 되도록 조정하고, 또 레일에 윤활유로서 NOK 크뤼버(주)(NOK KLUBER CO., LTD.)제 「바리에르타 J400V」를 이용하여 가열 공정을 행했다. 필름이 클립으로부터 떨어진 후, 클립부를 슬릿(절단)하여, 그 필름에 PET계 표면 보호 필름을 첩합하고, ABS제 6인치의 권심에 권취하여, 롤 필름을 얻었다. 텐터식 건조로 후의 수지 필름 1의 광학 특성(위상차값, 전광선 투과율, 헤이즈, 황색도 YI) 및 중량 감소율을 표 2에 나타낸다.Using a tenter dryer (1-6 rooms) equipped with a clip as a gripper and equipped with an IR heater as a radiation source, the solvent was removed from the raw film 1 obtained in Production Example 4 to obtain a resin film 1 with a thickness of 49 μm. . In the tenter-type dryer, a nozzle and an IR heater were provided in three rooms and four rooms as shown in FIG. 3. At this time, the temperature of the warm air in the drying furnace of 1 to 6 rooms was set to 200 ° C, and the IR heaters of 3 and 4 rooms were set to 230 ° C, the clip gripping width was 25 mm, the conveyance speed of the film was 1.8 m / min, and the entrance to the drying furnace The ratio of the film width (distance between clips) and the film width at the outlet of the drying furnace was 0.98. In addition, the wind speed of each room was adjusted so that 1 room was 13.5 m / s, 2 rooms were 13 m / s, and 3 to 6 rooms were 11 m / s, and NOK KLUBER (NOK KLUBER) was used as a lubricant for the rails. The heating process was performed using "Varierta J400V" manufactured by CO., LTD.). After the film fell off the clip, the clip portion was slit (cut), a PET-based surface protection film was affixed to the film, and wound into a 6-inch ABS core to obtain a roll film. Table 2 shows the optical properties (phase difference value, total light transmittance, haze, and yellowness YI) and weight loss of the resin film 1 after the tenter drying furnace.

<실시예 2><Example 2>

반송 속도를 2.7m/분으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 수지 필름 2를 얻었다. 텐터식 건조로 후의 필름 광학 특성(위상차값, 전광선 투과율, 헤이즈, 황색도 YI) 및 중량 감소율을 표 2에 나타낸다.The resin film 2 was obtained by the method similar to Example 1 except having changed the conveyance speed to 2.7 m / min. Table 2 shows the film optical properties (phase difference value, total light transmittance, haze, yellowness YI) and weight reduction rate after the tenter drying furnace.

Figure pat00006
Figure pat00006

18…파지 장치, 20…원료 필름, 30…상측 노즐(노즐), 32…하측 노즐(노즐), 35…노즐, 37…IR 히터, 100…텐터로, 100a…상면, 100b…하면, A…필름의 반송 방향.18… Gripping device, 20 ... Raw film, 30 ... Upper nozzle (nozzle), 32 ... Lower nozzle (nozzle), 35… Nozzle, 37 ... IR heater, 100… As a tenter, 100a ... Top, 100b… If you do, A ... Film conveying direction.

Claims (12)

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름으로서,
필름 폭 방향의 중심점을 TDc로 하고, 폭 방향의 중심점으로부터 단부까지의 길이에 있어서, 중심점을 0%로 하여 80%의 길이의 점을 TD80으로 했을 때, 파장 590nm에서 측정한 TDc의 면내 위상차값 R(TDc) 및 TD80의 면내 위상차값 R(TD80)이 식 (1)을 충족시키는 수지 필름.
R(TDc)/R(TD80)≥0.35 (1)
A resin film comprising at least either a polyimide resin or a polyamide resin,
When the center point in the width direction of the film is TD c and the length from the center point in the width direction to the end is 0% with the center point being 0% and TD 80 is the length of the TD c measured at a wavelength of 590 nm. in-plane retardation value R (TD c) and the in-plane retardation value R of the TD 80 to the resin film (TD 80) meet the formula (1).
R (TD c ) / R (TD 80 ) ≥0.35 (1)
제1항에 있어서,
수지 필름은, 필름 폭 방향의 중심점을 TDc로 하고, 폭 방향의 중심점으로부터 단부까지의 길이에 있어서, 중심점을 0%로 하여 66%의 길이의 점을 TD66으로 했을 때, 파장 590nm에서 측정한 TDc의 면내 위상차값 R(TDc) 및 TD66의 면내 위상차값 R(TD66)이 식 (2)를 충족시키는 수지 필름.
R(TDc)/R(TD66)≥0.40 (2)
According to claim 1,
The resin film was measured at a wavelength of 590 nm when the center point in the film width direction was TD c , and in the length from the center point in the width direction to the end, the center point was 0% and a point of length 66% was TD 66 . in-plane retardation value of R c TD (TD c) and the in-plane retardation value R of the TD 66 to the resin film (TD 66) meet the formula (2).
R (TD c ) / R (TD 66 ) ≥0.40 (2)
제1항에 있어서,
수지 필름은, 식 (3)을 충족시키는 수지 필름.
R(TDc)/R(TD66)-R(TDc)/R(TD80)<0.15 (3)
According to claim 1,
The resin film is a resin film that satisfies Expression (3).
R (TD c ) / R (TD 66 ) -R (TD c ) / R (TD 80 ) <0.15 (3)
제1항에 있어서,
수지 필름은, 그 중량 감소율이 3% 이하인 수지 필름.
According to claim 1,
The resin film is a resin film whose weight reduction rate is 3% or less.
제1항에 있어서,
수지 필름 폭 방향의 전체폭이 300~2,200mm인 수지 필름.
According to claim 1,
A resin film having a total width of 300 to 2,200 mm in the resin film width direction.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 수지 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치.A flexible display device comprising the resin film according to any one of claims 1 to 5. 제6항에 있어서,
터치 센서를 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 6,
A flexible display device further comprising a touch sensor.
제6항에 있어서,
편광판을 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 6,
A flexible display device further comprising a polarizing plate.
폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중 어느 하나를 적어도 포함하는 수지 필름의 제조 방법으로서,
내부가 복수개의 공간으로 나뉘어져 있는 텐터로에서 원료 필름을 가열하는 가열 공정을 갖고,
상기 텐터로에서는, 적어도 1개의 공간에 있어서 열풍 처리 방식으로 가열 공정이 행해지며, 또한 적어도 1개의 공간에 있어서 복사선 처리 방식으로 가열 공정이 행해지는, 수지 필름의 제조 방법.
A method for producing a resin film containing at least either a polyimide resin or a polyamide resin,
Has a heating process for heating the raw material film in a tenter furnace, which is divided into a plurality of spaces inside,
In the tenter furnace, a heating process is performed in a hot air treatment system in at least one space, and a heating process is performed in a radiation treatment system in at least one space.
제9항에 있어서,
상기 가열 공정이, 텐터로의 동일한 공간에 있어서, 열풍 처리 방식 및 복사선 처리 방식의 양 방식으로 행해지는 수지 필름의 제조 방법.
The method of claim 9,
The said heating process is a manufacturing method of the resin film performed by both methods of a hot air treatment system and a radiation treatment system in the same space as a tenter.
제9항에 있어서,
상기 복사선 처리 방식의 가열 공정이, 복사선 처리 방식으로 가열 공정이 행해지는 공간의 온도보다 30℃ 이상 높은 온도의 복사선을 원료 필름에 쏘임으로써 행해지는, 수지 필름의 제조 방법.
The method of claim 9,
The method for producing a resin film, wherein the heating process of the radiation treatment method is performed by shooting a radiation film having a temperature of 30 ° C. or higher higher than the temperature of a space in which the heating process is performed by the radiation treatment method.
제9항에 있어서,
상기 원료 필름이 용매를 포함하고, 또한 원료 필름의 중량 감소율이 40% 이하인 수지 필름의 제조 방법.
The method of claim 9,
A method for producing a resin film, wherein the raw film contains a solvent, and the weight reduction rate of the raw film is 40% or less.
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