JP7469088B2 - Optical film and flexible display device - Google Patents

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Description

本発明は、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film containing at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins, and a flexible display device including the optical film.

従来、太陽電池や画像表示装置等の表示部材の材料としてガラスが用いられてきた。しかし、近年の小型化、薄型化、軽量化及びフレキシブル化の要求に対して、ガラスは十分な材質を有するものではなく、ガラスの代替材料として各種フィルムが検討されている。このようなフィルムとしては、例えば、ポリイミドフィルムがある(例えば特許文献1及び2)。 Traditionally, glass has been used as a material for display components in solar cells, image display devices, and the like. However, glass is not a sufficient material for meeting the recent demands for smaller, thinner, lighter, and more flexible products, and various films are being considered as alternative materials to glass. One such film is polyimide film (for example, Patent Documents 1 and 2).

特開2009-215412号公報JP 2009-215412 A 特開2020-3781号公報JP 2020-3781 A

ポリイミド系樹脂フィルムがフレキシブル表示装置の前面板などの透明部材に適用される場合には、画像表示面が屈曲した状態で映像を表示する場合があるため、非屈曲性の画像表示面に比べ広角方向の優れた視認性が要求される。しかしながら、本発明者の検討によれば、従来のポリイミド系樹脂フィルムでは、広角方向の視認性を十分に満足できない場合があった。特に、フレキシブル表示装置を使用する際、該表示装置に含まれる透明部材は繰り返して折り曲げ等されるが、このような折り曲げ操作によって広角方向の視認性が経時的に低下する場合があった。 When a polyimide-based resin film is applied to a transparent member such as the front panel of a flexible display device, images may be displayed on the image display surface in a bent state, and therefore excellent visibility in a wide-angle direction is required compared to a non-flexible image display surface. However, according to the inventor's investigations, there are cases where conventional polyimide-based resin films are unable to fully satisfy visibility in a wide-angle direction. In particular, when a flexible display device is used, the transparent member contained in the display device is repeatedly folded, etc., and such folding operations can cause the visibility in a wide-angle direction to decrease over time.

本発明者が検討したところ、例えば特許文献1および2に記載される光学フィルムは、特に繰り返しの折り曲げ操作後において広角方向の視認性を十分に満足できない場合があることがわかった。 The inventors' investigations revealed that the optical films described in Patent Documents 1 and 2, for example, may not provide sufficient visibility in wide-angle directions, especially after repeated folding operations.

従って、本発明の目的は、繰り返しの折り曲げ操作後であっても広角方向の視認性に優れる光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することである。 Therefore, the object of the present invention is to provide an optical film that has excellent visibility in wide-angle directions even after repeated folding operations, and a flexible display device that includes the optical film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、JIS Z 1707に準拠した突刺し強度が10~100Nであり、前記光学フィルムの透過写像性値(C60(MD)、C60(TD)及びC)が所定の関係を満たす光学フィルムによれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明には、以下の態様が含まれる。 As a result of intensive investigations to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by an optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins, which has a total light transmittance of 85% or more, a haze of 0.5% or less, a puncture strength according to JIS Z 1707 of 10 to 100 N, and transmission image clarity values (C 60 (MD), C 60 (TD) and C 0 ) that satisfy a predetermined relationship, and have thus completed the present invention. That is, the present invention includes the following aspects.

〔1〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、JIS Z 1707に準拠した突刺し強度が10~100Nであり、
前記光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をMD方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をTD方向としたときに、
JIS K 7374に準拠して光学櫛の幅が0.125mmである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該MD方向に60°傾斜した方向の第1透過写像性値C60(MD)と、該垂直方向から該TD方向に60°傾斜した方向の第2透過写像性値C60(TD)と、該垂直方向の第3透過写像性値Cとが、
数式(1):
87%≦C60(MD)≦100%・・・(1)、
数式(2):
87%≦C60(TD)≦100%・・・(2)、及び
数式(3):
0.8≦C60(MD)/C≦1.0・・・(3)
を満たす、光学フィルム。
〔2〕前記第2透過写像性値及び前記第3透過写像性値は、数式(4):
0.9≦C60(TD)/C≦1.0・・・(4)
をさらに満たす、前記〔1〕に記載の光学フィルム。
〔3〕光学フィルムのJIS Z 1707に準拠した突刺し強度試験における破断点変位L(mm)と、引張弾性率E(GPa)とが、数式(5):
0.10≦L/E≦1.00 ・・・(5)
を満たす、前記〔1〕又は〔2〕に記載の光学フィルム。
〔4〕光学フィルムのJIS Z1707に準拠した突刺し強さS(N)と、厚さT(μm)とが、数式(6):
0.10≦S/T≦2.00・・・(6)
を満たす、前記〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔5〕JIS K 5600-5-1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差ΔHazeが0.3%未満である、前記〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔6〕JIS K 5600-5-1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記第1透過写像性値の差ΔC60(MD)、前記第2透過写像性値の差ΔC60(TD)、及び前記第3透過写像性値の差ΔCがそれぞれ15未満である、前記〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔7〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される樹脂の重量平均分子量は350,000以下である、前記〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔8〕厚さが10~150μmである、前記〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔9〕少なくとも一方の面にハードコート層を有する、前記〔1〕~〔8〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔10〕前記ハードコート層の厚さは3~30μmである、前記〔9〕に記載の光学フィルム。
〔11〕前記〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
〔12〕さらに、偏光板を備える、前記〔11〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔13〕さらに、タッチセンサを備える、前記〔11〕又は〔12〕に記載のフレキシブル表示装置。
[1] An optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins, the optical film having a total light transmittance of 85% or more, a haze of 0.5% or less, and a puncture strength of 10 to 100 N according to JIS Z 1707;
In the plane of the optical film, a direction parallel to the machine flow direction during production is defined as an MD direction, and a direction perpendicular to the machine flow direction is defined as a TD direction.
a first transmission image clarity value C 60 (MD) in a direction inclined at 60° from a perpendicular direction to a plane of the optical film toward the MD direction, a second transmission image clarity value C 60 (TD) in a direction inclined at 60 ° from the perpendicular direction toward the TD direction, and a third transmission image clarity value C 0 in the perpendicular direction, which are obtained in accordance with JIS K 7374 when the width of an optical comb is 0.125 mm,
Formula (1):
87%≦ C60 (MD)≦100%... (1),
Formula (2):
87%≦C 60 (TD)≦100% (2), and the formula (3):
0.8≦ C60 (MD) /C0≦1.0 ... (3)
Optical films that meet these requirements.
[2] The second transmission image clarity value and the third transmission image clarity value are expressed by the formula (4):
0.9≦ C60 (TD) /C0≦1.0 ... (4)
The optical film according to [1] above, further satisfying the above.
[3] The fracture displacement L (mm) and the tensile modulus E (GPa) of the optical film in a puncture strength test in accordance with JIS Z 1707 are expressed by the following mathematical formula (5):
0.10≦L/E≦1.00 (5)
The optical film according to [1] or [2] above,
[4] The puncture strength S (N) of the optical film in accordance with JIS Z1707 and the thickness T (μm) are expressed by the formula (6):
0.10≦S/T≦2.00 (6)
The optical film according to any one of [1] to [3] above,
[5] The optical film according to any one of [1] to [4] above, wherein the difference in haze ΔHaze between before and after a bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1 is less than 0.3%.
[6] The optical film according to any one of [1] to [5], wherein the first transmission image clarity value difference ΔC 60 (MD), the second transmission image clarity value difference ΔC 60 (TD), and the third transmission image clarity value difference ΔC 0 before and after a bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1 are each less than 15.
[7] The optical film according to any one of [1] to [6] above, wherein the resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins has a weight average molecular weight of 350,000 or less.
[8] The optical film according to any one of [1] to [7] above, having a thickness of 10 to 150 μm.
[9] The optical film according to any one of [1] to [8] above, which has a hard coat layer on at least one surface.
[10] The optical film according to [9], wherein the hard coat layer has a thickness of 3 to 30 μm.
[11] A flexible display device comprising the optical film according to any one of [1] to [10] above.
[12] The flexible display device according to [11], further comprising a polarizing plate.
[13] The flexible display device according to [11] or [12], further comprising a touch sensor.

本発明によれば、繰り返しの折り曲げ操作後であっても広角方向の視認性に優れる光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することができる。 The present invention provides an optical film that has excellent visibility in wide-angle directions even after repeated folding operations, and a flexible display device that includes the optical film.

図1は、第1透過写像性値の測定における光軸を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an optical axis in measuring the first transmission image clarity value. 図2は、第2透過写像性値の測定における光軸を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an optical axis in the measurement of the second transmission image clarity value. 図3は、第3透過写像性値の測定における光軸を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an optical axis in measuring the third transmission image clarity value. 本発明の光学フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。1A to 1C are cross-sectional views illustrating steps in a preferred embodiment of a method for producing an optical film of the present invention. 本発明の光学フィルムの製造方法における加熱工程の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。1A to 1C are process cross-sectional views that typically illustrate a preferred embodiment of a heating step in the method for producing an optical film of the present invention. 本発明の光学フィルムの製造方法におけるテンター炉内の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。1A to 1C are process cross-sectional views that typically show a preferred embodiment of the inside of a tenter furnace in the optical film producing method of the present invention. 実施例における光学フィルムの製造方法を説明するための概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method for producing an optical film in an example. 実施例における光学フィルムの製造方法を説明するための概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method for producing an optical film in an example.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。また、特定のパラメータについて複数の上限値及び下限値が記載されている場合、これらの上限値及び下限値のうち任意の上限値と下限値とを組合せて好適な数値範囲とすることができる。 The following describes in detail the embodiments of the present invention. Note that the scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. In addition, when multiple upper and lower limit values are listed for a specific parameter, any of these upper and lower limit values can be combined to create a suitable numerical range.

<光学フィルム>
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、JIS Z 1707に準拠した突刺し強度が10~100Nであり、
前記光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をMD方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をTD方向としたときに、
JIS K 7374に準拠して光学櫛の幅が0.125mmである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該MD方向に60°傾斜した方向の第1透過写像性値C60(MD)と、該垂直方向から該TD方向に60°傾斜した方向の第2透過写像性値C60(TD)と、該垂直方向の第3透過写像性値Cとが、
数式(1):
87%≦C60(MD)≦100%・・・(1)、
数式(2):
87%≦C60(TD)≦100%・・・(2)、及び
数式(3):
0.8≦C60(MD)/C≦1.0・・・(3)
を満たす。
<Optical film>
The optical film of the present invention is an optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins, the optical film having a total light transmittance of 85% or more, a haze of 0.5% or less, and a puncture strength according to JIS Z 1707 of 10 to 100 N;
In the plane of the optical film, a direction parallel to the machine flow direction during production is defined as an MD direction, and a direction perpendicular to the machine flow direction is defined as a TD direction.
a first transmission image clarity value C 60 (MD) in a direction inclined at 60° from a perpendicular direction to a plane of the optical film toward the MD direction, a second transmission image clarity value C 60 (TD) in a direction inclined at 60 ° from the perpendicular direction toward the TD direction, and a third transmission image clarity value C 0 in the perpendicular direction, which are obtained in accordance with JIS K 7374 when the width of an optical comb is 0.125 mm,
Formula (1):
87%≦ C60 (MD)≦100%... (1),
Formula (2):
87%≦C 60 (TD)≦100% (2), and the formula (3):
0.8≦ C60 (MD) /C0≦1.0 ... (3)
Meet the following.

MD方向は、光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向であり、例えば、溶液キャスト法で製造された場合における光学フィルムが搬送された方向と平行な方向を示す。TD方向は、前記機械流れ方向に垂直な方向であり、例えば、搬送された方向に垂直な方向を示す。光学フィルム面内のMD方向及びTD方向は、その方向が不明な場合、以下の方法により決定する。MDとTDに関しては、光学フィルムの少なくとも20点以上の異なる方向の断面出しを行う。より詳細には、光学フィルムの任意の1点を中心とする円を想定し、当該光学フィルムからその半円を切り出して、さらにその半円を切断した後の扇形の中心角が略均等になるように、光学フィルムを直線状に切断し、20個以上の断面出しを行う。得られた複数の断面の厚さの中心をレーザーラマンにより測定し、1,620cm-1付近のピーク強度が最も大きいものをMD方向とする。 The MD direction is a direction parallel to the machine flow direction during production in the plane of the optical film, for example, a direction parallel to the direction in which the optical film is transported when produced by a solution casting method. The TD direction is a direction perpendicular to the machine flow direction, for example, a direction perpendicular to the transport direction. When the MD direction and TD direction in the plane of the optical film are unknown, they are determined by the following method. Regarding the MD and TD, cross-sections are taken from at least 20 points of the optical film in different directions. More specifically, a circle is assumed to be centered on any one point of the optical film, and the optical film is cut in a straight line so that the central angles of the sectors after cutting the semicircles are approximately equal, and 20 or more cross-sections are taken. The centers of the thicknesses of the obtained cross-sections are measured by laser Raman spectroscopy, and the one with the largest peak intensity near 1,620 cm −1 is determined as the MD direction.

第1透過写像性値C60(MD)は、日本工業規格(JIS) K 7374に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向からMD方向に60°傾斜した方向の透過写像性値である。図1を参照して、第1透過写像性値C60(MD)をより具体的に説明する。図1は、第1透過写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム1の面上の任意の点(第1入射位置11)を支点として、光学フィルム1に対して垂直な軸(垂直軸3)からMD方向に角度60°傾斜した軸(第1光軸14)に沿って第1入射光10(白色光:図1中、実線で表記)を光学フィルム1に照射する。次いで、光学フィルム1を透過した第1a透過光12(図1中、破線で表記)を、第1光軸14に垂直に延在する第1光学櫛16に透過させる。次いで、第1光学櫛16を透過した第1b透過光18(図1中、一点鎖線で表記)を第1光軸14に垂直に延在する第1受光器19で受光する。第1光学櫛16は、第1a透過光12を透過させる開口部と、第1a透過光12を遮断する遮光部とを有する。第1光学櫛16のスリット幅(開口部の幅)は、0.125mmである。
第1光学櫛16の平面に対して平行であり、かつ第1光学櫛16におけるスリットが配列する方向(矢印Aの方向)に、第1光学櫛16を所定の単位幅移動させて第1b透過光18を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得る。得られたM及びmから数式(7):

Figure 0007469088000001
に基づいて第1透過写像性値C60(MD)を算出する。透過写像性値(第1透過写像性値、並びに後述の第2透過写像性値及び第3透過写像性値)は、写像性測定器を用いて測定することができる。 The first transmission image clarity value C 60 (MD) is a transmission image clarity value in a direction inclined 60° in the MD direction from the perpendicular direction to the plane of the optical film, obtained in accordance with Japanese Industrial Standards (JIS) K 7374. The first transmission image clarity value C 60 (MD) will be described in more detail with reference to FIG. 1. FIG. 1 is a diagram showing an optical axis in measuring the first transmission image clarity value. Using an arbitrary point (first incident position 11) on the surface of the optical film 1 as a fulcrum, the optical film 1 is irradiated with a first incident light 10 (white light: indicated by a solid line in FIG. 1) along an axis (first optical axis 14) inclined at an angle of 60° in the MD direction from an axis (vertical axis 3) perpendicular to the optical film 1. Next, the firsta transmitted light 12 (indicated by a dashed line in FIG. 1) transmitted through the optical film 1 is transmitted through a first optical comb 16 extending perpendicular to the first optical axis 14. Next, the 1b transmitted light 18 (indicated by a dashed line in FIG. 1 ) that has been transmitted through the first optical comb 16 is received by a first light receiver 19 extending perpendicular to the first optical axis 14. The first optical comb 16 has an opening that transmits the 1a transmitted light 12, and a light blocking portion that blocks the 1a transmitted light 12. The slit width (width of the opening) of the first optical comb 16 is 0.125 mm.
The first optical comb 16 is moved a predetermined unit width in a direction parallel to the plane of the first optical comb 16 and in a direction in which the slits in the first optical comb 16 are arranged (the direction of the arrow A), and the 1b transmitted light 18 is repeatedly received to obtain a received light waveform. The maximum value M and minimum value m of the relative light amount are obtained from the obtained received light waveform. The obtained M and m are calculated using the formula (7):
Figure 0007469088000001
The first transmission image clarity value C 60 (MD) is calculated based on the above. The transmission image clarity values (the first transmission image clarity value, and the second transmission image clarity value and the third transmission image clarity value described below) can be measured using an image clarity measurement device.

第1透過写像性値C60(MD)が数式(1)を満たすと、光学フィルムはMD方向における広角方向の視認性に優れる。第1透過写像性値C60(MD)は、数式(1)において87%以上であり、光学フィルムのMD方向における広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、好ましくは88%以上、より好ましくは89%以上、さらに好ましくは90%以上、さらにより好ましくは91%以上、とりわけ好ましくは92%以上であり、通常、100%以下である。 When the first transmission image clarity value C 60 (MD) satisfies the formula (1), the optical film has excellent visibility in the wide-angle direction in the MD direction. The first transmission image clarity value C 60 (MD) is 87% or more in the formula (1), and from the viewpoint of further improving the visibility in the wide-angle direction in the MD direction of the optical film, it is preferably 88% or more, more preferably 89% or more, even more preferably 90% or more, still more preferably 91% or more, particularly preferably 92% or more, and is usually 100% or less.

第2透過写像性値C60(TD)は、JIS K 7374に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向からTD方向に60°傾斜した方向の透過写像性値である。図2を参照して、第2透過写像性値C60(TD)をより具体的に説明する。図2は、第2透過写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム1の面上の任意の点(第2入射位置21)を支点として、光学フィルム1に対して垂直な軸(垂直軸3)からTD方向に角度60°傾斜した軸(第2光軸24)に沿って第2入射光20(白色光:図2中、実線で表記)を光学フィルム1に照射する。次いで、光学フィルム1を透過した第2a透過光22(図2中、破線で表記)を、第2光軸24に垂直に延在する第2光学櫛26に透過させる。次いで、第2光学櫛26を透過した第2b透過光28(図2中、一点鎖線で表記)を第2光軸24に垂直に延在する第2受光器29で受光する。第2光学櫛26は、第2a透過光22を透過させる開口部と、第2a透過光22を遮断する遮光部とを有する。第2光学櫛26のスリット幅(開口部の幅)は、0.125mmである。
第2光学櫛26の平面に対して平行であり、かつ第2光学櫛26におけるスリットの配列する方向(矢印Bの方向)に、第2光学櫛26を所定の単位幅移動させて第2b透過光28を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得る。得られたM及びmから数式(7)に基づいて第2透過写像性値C60(TD)を算出する。
The second transmission image clarity value C 60 (TD) is a transmission image clarity value in a direction inclined 60° in the TD direction from the perpendicular direction to the plane of the optical film, obtained in accordance with JIS K 7374. The second transmission image clarity value C 60 (TD) will be described in more detail with reference to FIG. 2. FIG. 2 is a diagram showing an optical axis in measuring the second transmission image clarity value. Using an arbitrary point (second incident position 21) on the surface of the optical film 1 as a fulcrum, the optical film 1 is irradiated with a second incident light 20 (white light: indicated by a solid line in FIG. 2) along an axis (second optical axis 24) inclined at an angle of 60° in the TD direction from an axis (perpendicular axis 3) perpendicular to the optical film 1. Next, the seconda transmitted light 22 (indicated by a dashed line in FIG. 2) transmitted through the optical film 1 is transmitted through a second optical comb 26 extending perpendicular to the second optical axis 24. Next, the 2b transmitted light 28 (indicated by a dashed line in FIG. 2 ) that has been transmitted through the second optical comb 26 is received by a second light receiver 29 extending perpendicular to the second optical axis 24. The second optical comb 26 has an opening that transmits the 2a transmitted light 22 and a light blocking portion that blocks the 2a transmitted light 22. The slit width (width of the opening) of the second optical comb 26 is 0.125 mm.
The second optical comb 26 is moved a predetermined unit width in a direction parallel to the plane of the second optical comb 26 and in the direction in which the slits in the second optical comb 26 are arranged (the direction of arrow B), and the second b transmitted light 28 is repeatedly received to obtain a received light waveform. The maximum value M and minimum value m of the relative light amount are obtained from the obtained received light waveform. The second transmitted image clarity value C60 (TD) is calculated based on the equation (7) from the obtained M and m.

第2透過写像性値C60(TD)が数式(2)を満たすと、光学フィルムはTD方向における広角方向の視認性に優れる。第2透過写像性値C60(TD)は、数式(2)において87%以上であり、光学フィルムのTD方向における広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、好ましくは88%以上、より好ましくは89%以上、さらに好ましくは90%以上、さらにより好ましくは91%以上、とりわけ好ましくは92%以上であり、通常、100%以下である。 When the second transmission image clarity value C 60 (TD) satisfies the mathematical formula (2), the optical film has excellent visibility in the wide-angle direction in the TD direction. The second transmission image clarity value C 60 (TD) is 87% or more in the mathematical formula (2), and from the viewpoint of further improving the visibility in the wide-angle direction in the TD direction of the optical film, is preferably 88% or more, more preferably 89% or more, even more preferably 90% or more, still more preferably 91% or more, particularly preferably 92% or more, and is usually 100% or less.

第3透過写像性値Cは、JIS K 7374に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向の透過写像性値である。図3を参照して、第3透過写像性値Cにより具体的に説明する。図3は、第3写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム1に対して垂直な軸(垂直軸3)と平行な軸(第3光軸34)に沿って第3入射光30(白色光:図3中、実線で表記)を光学フィルム1の面上の任意の点(第3入射位置31)に照射する。次いで、光学フィルム1を透過した第3a透過光32(図3中、破線で表記)を、第3光軸34に垂直に延在する第3光学櫛36に透過させる。次いで、第3光学櫛36を透過した第3b透過光38(図3中、一点鎖線で表記)を第3光軸34に垂直に延在する受光器39で受光する。第3光学櫛36は、第3a透過光32を透過させる開口部と、第3a透過光32を遮断する遮光部とを有する。第3光学櫛36のスリット幅(開口部の幅)は、0.125mmである。
第3光学櫛36の平面に対して平行であり、かつ第3光学櫛36におけるスリットが配列する方向(矢印Cの方向)に、第3光学櫛36を所定の単位幅移動させて第3b透過光38を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得る。得られたM及びmから数式(7)に基づいて第3透過写像性値Cを算出する。
The third transmission image clarity value C 0 is a transmission image clarity value in a direction perpendicular to the plane of the optical film, obtained in accordance with JIS K 7374. The third transmission image clarity value C 0 will be described in detail with reference to FIG. 3. FIG. 3 is a diagram showing an optical axis in measuring the third image clarity value. A third incident light 30 (white light: indicated by a solid line in FIG. 3) is irradiated to an arbitrary point (third incident position 31) on the surface of the optical film 1 along an axis (third optical axis 34) parallel to an axis (vertical axis 3) perpendicular to the optical film 1. Next, the third a transmitted light 32 (indicated by a dashed line in FIG. 3) transmitted through the optical film 1 is transmitted through a third optical comb 36 extending perpendicular to the third optical axis 34. Next, the third b transmitted light 38 (indicated by a dashed line in FIG. 3) transmitted through the third optical comb 36 is received by a light receiver 39 extending perpendicular to the third optical axis 34. The third optical comb 36 has an opening portion that transmits the thirda transmitted light 32 and a light blocking portion that blocks the thirda transmitted light 32. The slit width (width of the opening portion) of the third optical comb 36 is 0.125 mm.
The third optical comb 36 is moved a predetermined unit width in a direction parallel to the plane of the third optical comb 36 and in a direction in which the slits in the third optical comb 36 are arranged (the direction of arrow C), and the third b transmitted light 38 is repeatedly received to obtain a received light waveform. The maximum value M and minimum value m of the relative light amount are obtained from the obtained received light waveform. The third transmitted image clarity value C0 is calculated based on the obtained M and m according to the formula (7).

第1透過写像性値C60(MD)及び第3透過写像性値Cが数式(3)を満たすと、光学フィルムは、光学フィルムの垂直方向に対するMD方向における視認性に優れる。第3透過写像性値Cに対する第1写像性値C60(MD)の比(C60(MD)/C)は数式(3)において0.8以上であり、MD方向における視認性をさらに向上させる観点から、好ましくは0.89以上、より好ましくは0.90以上、さらに好ましくは0.93以上、さらにより好ましくは0.94以上であり、通常、1.0以下である。 When the first transmission image clarity value C60 (MD) and the third transmission image clarity value C0 satisfy the mathematical formula (3), the optical film has excellent visibility in the MD direction relative to the perpendicular direction of the optical film. The ratio of the first image clarity value C60 (MD) to the third transmission image clarity value C0 ( C60 (MD)/ C0 ) in the mathematical formula (3) is 0.8 or more, and from the viewpoint of further improving the visibility in the MD direction, is preferably 0.89 or more, more preferably 0.90 or more, even more preferably 0.93 or more, still more preferably 0.94 or more, and is usually 1.0 or less.

第3透過写像性値Cは、好ましくは97%以上、より好ましくは98%以上である。第1透過写像性値C60(MD)は、好ましくは89%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは92%以上である。 The third transmission image clarity value C 0 is preferably 97% or more, more preferably 98% or more. The first transmission image clarity value C 60 (MD) is preferably 89% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 92% or more.

透過写像性値(より具体的には、第1透過写像性値C60(MD)、第2透過写像性値C60(TD)、及び第3透過写像性値C)は、光学フィルム表面の平滑性を向上させて、光学フィルム表面における透過光の散乱等を抑制することにより、調整することができる。さらに、光学フィルム表面の平滑性は、例えば、光学フィルムの組成(より具体的には、フィラーの種類、粒子径及び含有量等)、及び光学フィルムの製造条件(より具体的には、乾燥温度、乾燥時間、乾燥系での気流、塗膜の厚さ、乾燥工程での搬送速度及びワニス中の溶媒量等)により調整することができる。光学フィルムがさらにハードコート層を含む場合は、ハードコート層表面の平滑性を向上させて、ハードコート層表面における散乱等を抑制することにより、調整することができる。ハードコート層の平滑性は、上記光学フィルムの平滑性の調整方法に加え、例えば、溶剤の種類、成分比、固形分濃度の調整及びレベリング剤の添加などにより調整することができる。 The transmission image clarity value (more specifically, the first transmission image clarity value C 60 (MD), the second transmission image clarity value C 60 (TD), and the third transmission image clarity value C 0 ) can be adjusted by improving the smoothness of the optical film surface to suppress scattering of transmitted light on the optical film surface. Furthermore, the smoothness of the optical film surface can be adjusted, for example, by the composition of the optical film (more specifically, the type, particle size, and content of the filler, etc.) and the manufacturing conditions of the optical film (more specifically, the drying temperature, drying time, air flow in the drying system, the thickness of the coating film, the conveying speed in the drying process, and the amount of solvent in the varnish, etc.). When the optical film further includes a hard coat layer, the smoothness of the hard coat layer surface can be improved to suppress scattering on the hard coat layer surface, and the like, and the smoothness of the hard coat layer can be adjusted. In addition to the above-mentioned method of adjusting the smoothness of the optical film, the smoothness of the hard coat layer can be adjusted, for example, by adjusting the type of solvent, component ratio, and solid content concentration, and adding a leveling agent.

本発明の光学フィルムの垂直方向に対するTD方向における視認性を高める観点から、前記第2透過写像性値及び前記第3透過写像性値は、数式(4):
0.9≦C60(TD)/C≦1.0・・・(4)
をさらに満たすことが好ましい。本発明のTD方向における視認性をさらに高める観点から、前記第3透過写像性値に対する前記第1透過写像性値の比(C60(TD)/C)は、好ましくは0.9以上、より好ましくは0.91以上、さらに好ましくは0.92以上、さらにより好ましくは0.93以上、とりわけ好ましくは0.94以上であり、通常、1.0以下である。
In terms of improving visibility in a TD direction with respect to a perpendicular direction of the optical film of the present invention, the second transmission image clarity value and the third transmission image clarity value are represented by Formula (4):
0.9≦ C60 (TD) /C0≦1.0 (4)
From the viewpoint of further enhancing visibility in the TD direction of the present invention, the ratio of the first transmission image clarity value to the third transmission image clarity value (C 60 (TD)/C 0 ) is preferably 0.9 or more, more preferably 0.91 or more, even more preferably 0.92 or more, still more preferably 0.93 or more, particularly preferably 0.94 or more, and is usually 1.0 or less.

第2透過写像性値C60(TD)は、好ましくは89%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは92%以上である。第3透過写像性値Cは、好ましくは97%以上、より好ましくは98%以上、さらに好ましくは99%以上である。 The second transmission image clarity value C60 (TD) is preferably 89% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 92% or more. The third transmission image clarity value C0 is preferably 97% or more, more preferably 98% or more, and even more preferably 99% or more.

また、本発明の光学フィルムは、該光学フィルムの少なくともいずれか一方の面から光を透過させた場合に数式(1)~数式(3)(場合によりさらに数式(4))を満たせばよいが、より好ましくは該光学フィルムのいずれの面から光を透過させた場合にも数式(1)~数式(3)(場合によりさらに数式(4))を満たす。いずれの面から光を透過させた場合にも該数式を満たせば、例えば、光学フィルムのいずれの面を電子デバイスの画像表示面に採用したとしても、広角方向への視認性に優れる。 The optical film of the present invention only needs to satisfy formulas (1) to (3) (and optionally formula (4)) when light is transmitted through at least one of the surfaces of the optical film, but more preferably satisfies formulas (1) to (3) (and optionally formula (4)) when light is transmitted through either surface of the optical film. If the formulas are satisfied when light is transmitted through either surface, the optical film will have excellent visibility in wide-angle directions, for example, when either surface of the optical film is used as the image display surface of an electronic device.

特に、本発明の光学フィルムをフレキシブルデバイスの前面板に適用した場合、広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、JIS K 5600-5-1に準拠した耐屈曲性試験前後の第1透過写像性値の差の絶対値ΔC60(MD)、第2透過写像性値の差の絶対値ΔC60(TD)、及び第3透過写像性値の差の絶対値ΔCが好ましくはそれぞれ15未満である。耐屈曲試験前後の該透過写像性値の差が15未満であると、特にフレキシブルデバイスの画像表示面が屈曲した状態で使用しても及び/又は屈曲した状態で使用した後であっても、広角方向の優れた視認性を有する。ΔC60(MD)は、より好ましくは1.5未満、さらに好ましくは1.0未満、さらにより好ましくは0.5未満である。ΔC60(TD)は、より好ましくは2.8未満、さらに好ましくは2.3未満、さらにより好ましくは2.1未満、とりわけ好ましくは1.5未満である。ΔCは、より好ましくは2未満、さらに好ましくは1未満、さらにより好ましくは0.7未満、とりわけ好ましくは0.5未満である。 In particular, when the optical film of the present invention is applied to the front panel of a flexible device, from the viewpoint of further improving visibility in the wide-angle direction, the absolute value of the difference in the first transmission image clarity value ΔC 60 (MD), the absolute value of the difference in the second transmission image clarity value ΔC 60 (TD), and the absolute value of the difference in the third transmission image clarity value ΔC 0 before and after the bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1 are each preferably less than 15. When the difference in the transmission image clarity value before and after the bending resistance test is less than 15, the flexible device has excellent visibility in the wide-angle direction, especially even when the image display surface of the flexible device is used in a bent state and/or after it is used in a bent state. ΔC 60 (MD) is more preferably less than 1.5, even more preferably less than 1.0, and even more preferably less than 0.5. ΔC 60 (TD) is more preferably less than 2.8, even more preferably less than 2.3, even more preferably less than 2.1, and particularly preferably less than 1.5. ΔC 0 is more preferably less than 2, even more preferably less than 1, even more preferably less than 0.7, and especially preferably less than 0.5.

さらに、本発明の光学フィルムにおいては、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、JIS Z 1707に準拠した突刺し強度が10~100Nである。光学フィルムが上記の特徴を満たす場合、光学フィルムに繰り返しの折り曲げ操作を施しても、広角方向の高い視認性を維持することができる。全光線透過率が85%未満であるか、又はヘーズが0.5%を超える場合、光学フィルムの初期の光学特性が低いために、光学フィルムの十分な視認性を達成することができない。また、JIS Z 1707に準拠した突刺し強度が10N未満である場合、繰り返しの折り曲げ操作によって、特に広角方向の良好な視認性を維持することが困難となる。 Furthermore, in the optical film of the present invention, the total light transmittance is 85% or more, the haze is 0.5% or less, and the puncture strength according to JIS Z 1707 is 10 to 100 N. When the optical film satisfies the above characteristics, high visibility in the wide-angle direction can be maintained even when the optical film is subjected to repeated folding operations. When the total light transmittance is less than 85% or the haze is more than 0.5%, the initial optical properties of the optical film are low, and therefore sufficient visibility of the optical film cannot be achieved. Furthermore, when the puncture strength according to JIS Z 1707 is less than 10 N, it becomes difficult to maintain good visibility, especially in the wide-angle direction, by repeated folding operations.

本発明の光学フィルムの全光線透過率は85%以上であり、広角方向の視認性をさらに向上させやすい観点から、好ましくは87%以上、より好ましくは88%以上、さらに好ましくは89%以上であり、通常100%以下である。光学フィルムの全光線透過率は、JIS K 7361-1:1997に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。本発明の光学フィルムは、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学フィルムを画像表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。全光線透過率の上限は、通常100%以下である。なお、全光線透過率は、後述する光学フィルムの厚さの範囲における全光線透過率であってよい。 The total light transmittance of the optical film of the present invention is 85% or more, and from the viewpoint of further improving the visibility in the wide angle direction, it is preferably 87% or more, more preferably 88% or more, and even more preferably 89% or more, and is usually 100% or less. The total light transmittance of the optical film can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7361-1:1997, and can be measured, for example, by the method described in the Examples. Since the optical film of the present invention exhibits a high total light transmittance, it is possible to suppress the luminous intensity of a display element or the like required to obtain a certain brightness, compared to, for example, a film with a low transmittance. This makes it possible to reduce power consumption. For example, when the optical film of the present invention is incorporated into an image display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light from the backlight is reduced, which contributes to energy savings. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. The total light transmittance may be the total light transmittance within the thickness range of the optical film described later.

本発明の光学フィルムのヘーズは0.5%以下であり、広角方向の視認性をさらに向上させやすい観点から、好ましくは0.4%以下、より好ましくは0.3%以下である。光学フィルムのヘーズは、JIS K 7136:2000に準拠して測定することができる。ヘーズは、JIS K 7136:2000に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。また、本発明の光学フィルムは、JIS K 5600-5-1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差の絶対値ΔHazeが好ましくは0.3%以下、より好ましくは0.2%以下である。 The haze of the optical film of the present invention is 0.5% or less, and from the viewpoint of further improving visibility in the wide angle direction, it is preferably 0.4% or less, more preferably 0.3% or less. The haze of the optical film can be measured in accordance with JIS K 7136:2000. The haze can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7136:2000, for example, by the method described in the Examples. Furthermore, the optical film of the present invention has an absolute value ΔHaze of the difference in the haze before and after the bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1 of preferably 0.3% or less, more preferably 0.2% or less.

本発明の光学フィルムの25℃における引張弾性率は、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすく、かつ、光学フィルムに凹み等の欠陥が生じにくい観点から、好ましくは5.1GPa以上、より好ましくは5.2GPa以上、さらに好ましくは5.3GPa以上である。また、該引張弾性率は、光学フィルムのフレキシブル性を向上させやすい観点から、好ましくは10GPa以下、より好ましくは9GPa以下、さらに好ましくは8GPa以下である。該弾性率は、引張試験機(チャック間距離50mm、引張速度10mm/分)を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。引張弾性率が上記範囲内であると、光学フィルムに凹み欠陥が生じにくくなる。また、繰り返しの折り曲げ操作による広角方向の視認性の低下を抑制しやすい。光学フィルムの引張弾性率は、JIS K 7127に準拠して、引張試験機を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。引張弾性率は、例えば光学フィルムを製造する際の延伸倍率を高めること、後述する好ましい構造を有する樹脂を使用すること等により、上記の範囲に調整することができる。 The tensile modulus of the optical film of the present invention at 25°C is preferably 5.1 GPa or more, more preferably 5.2 GPa or more, and even more preferably 5.3 GPa or more, from the viewpoint of easily improving the visibility in the wide angle direction after the bending resistance test and preventing defects such as dents from occurring in the optical film. In addition, the tensile modulus is preferably 10 GPa or less, more preferably 9 GPa or less, and even more preferably 8 GPa or less, from the viewpoint of easily improving the flexibility of the optical film. The modulus can be measured using a tensile tester (chuck distance 50 mm, tensile speed 10 mm/min), for example, by the method described in the Examples. When the tensile modulus is within the above range, dent defects are unlikely to occur in the optical film. In addition, it is easy to suppress the decrease in visibility in the wide angle direction due to repeated bending operations. The tensile modulus of the optical film can be measured using a tensile tester in accordance with JIS K 7127, for example, by the method described in the Examples. The tensile modulus can be adjusted to the above range, for example, by increasing the stretch ratio when producing the optical film or by using a resin having a preferred structure described below.

本発明の光学フィルムの80℃における引張弾性率は、好ましくは4~9GPa、より好ましくは4.5~8.5GPaである。引張弾性率が上記範囲内であると、光学フィルムに凹み欠陥が生じにくくなる。該弾性率はJIS K 7127に準拠して測定することができ、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The tensile modulus of the optical film of the present invention at 80°C is preferably 4 to 9 GPa, more preferably 4.5 to 8.5 GPa. When the tensile modulus is within the above range, the optical film is less likely to develop dent defects. The modulus can be measured in accordance with JIS K 7127, for example, by the method described in the Examples.

本発明の光学フィルムのJIS Z 1707に準拠した突刺し強度は、10~100Nである。突刺し強度が10N未満である場合、繰り返しの折り曲げ操作によって、特に広角方向の良好な視認性を維持することが困難となる。また、突刺し強度が100Nを超える場合、折り曲げ操作する際及びフィルム表面に物体が接触する際にフィルムが変形しにくくなるため、フィルム表面が破壊されることがある。該突刺し強度は、折り曲げ操作後の広角方向の視認性を高めやすい観点から、好ましくは20N以上、より好ましくは22N以上、さらに好ましくは24N以上であり、フィルム表面が破壊されにくいという観点からは、好ましくは90N以下、より好ましくは70N以下、さらに好ましくは60N以下である。突刺し強度は、例えば光学フィルムを製造する際の延伸倍率を高めること、後述する好ましい構造を有する樹脂を使用すること等により、上記の範囲に調整することができる。 The optical film of the present invention has a puncture strength according to JIS Z 1707 of 10 to 100 N. If the puncture strength is less than 10 N, it becomes difficult to maintain good visibility, particularly in the wide-angle direction, by repeated folding operations. If the puncture strength exceeds 100 N, the film becomes difficult to deform during folding operations and when an object comes into contact with the film surface, and the film surface may be destroyed. The puncture strength is preferably 20 N or more, more preferably 22 N or more, and even more preferably 24 N or more from the viewpoint of easily improving visibility in the wide-angle direction after folding operations, and is preferably 90 N or less, more preferably 70 N or less, and even more preferably 60 N or less from the viewpoint of the film surface being difficult to destroy. The puncture strength can be adjusted to the above range, for example, by increasing the stretch ratio when producing the optical film or by using a resin having a preferred structure described later.

本発明の光学フィルムのJIS Z 1707に準拠した突刺し強度試験における破断点変位L(mm)と、引張弾性率E(GPa)とが、数式(5):
0.10≦L/E≦1.00・・・(5)
を満たすことが好ましい。数式(5)中のL/Eは、好ましくは0.25以上、より好ましくは0.35以上、さらに好ましくは0.45以上、より好ましくは0.50以上であり、好ましくは0.95以下、より好ましくは0.90以下である。L/Eが上記の下限以上である場合、フィルムの脆さが十分に低いため、光学フィルムを変形させた時の割れを防止しやすい。また、L/Eが上記の上限以下である場合、フィルムが変形しやすく、フィルムを曲げた時の割れを防止しやすい。
The fracture displacement L (mm) and the tensile modulus E (GPa) of the optical film of the present invention in a puncture strength test in accordance with JIS Z 1707 are expressed by the following mathematical formula (5):
0.10≦L/E≦1.00 (5)
It is preferable to satisfy the above. In the mathematical formula (5), L/E is preferably 0.25 or more, more preferably 0.35 or more, even more preferably 0.45 or more, more preferably 0.50 or more, and is preferably 0.95 or less, more preferably 0.90 or less. When L/E is equal to or more than the above lower limit, the brittleness of the film is sufficiently low, so that it is easy to prevent cracks when the optical film is deformed. On the other hand, when L/E is equal to or less than the above upper limit, the film is easy to deform, so that it is easy to prevent cracks when the film is bent.

本発明の光学フィルムのJIS Z 1707に準拠した突刺し強度試験における破断点変位Lは、特に限定されないが、割れやすさの観点からは、好ましくは1.0~10.0mm、より好ましくは1.5~9.0mmである。 The break point displacement L of the optical film of the present invention in a puncture strength test conforming to JIS Z 1707 is not particularly limited, but from the viewpoint of fragility, it is preferably 1.0 to 10.0 mm, more preferably 1.5 to 9.0 mm.

本発明の光学フィルムのJIS Z 1707に準拠した突刺し強度S(N)と、厚さT(μm)とが、数式(6):
0.10≦S/T≦2.00・・・(6)
を満たすことが好ましい。数式(6)中のS/Tは、好ましくは0.20以上、より好ましくは0.30以上、さらに好ましくは0.40以上であり、好ましくは1.90以下、より好ましくは1.80以下、さらに好ましくは1.50以下である。S/Tが上記の下限以上である場合、フィルムが割れやすいため、フィルムを変形させた時に割れやすい。また、S/Tが上記の上限以下である場合、フィルムが変形しづらいため、フィルムを変形させづらい。なお、突刺し強度Sの測定方法は上記に述べた通りであり、厚さTの測定方法は後述する通りである。
The puncture strength S (N) of the optical film of the present invention in accordance with JIS Z 1707 and the thickness T (μm) are expressed by the following mathematical formula (6):
0.10≦S/T≦2.00 (6)
It is preferable to satisfy the above. S/T in the formula (6) is preferably 0.20 or more, more preferably 0.30 or more, even more preferably 0.40 or more, and is preferably 1.90 or less, more preferably 1.80 or less, and even more preferably 1.50 or less. When S/T is equal to or more than the above lower limit, the film is easily cracked, and is easily cracked when deformed. When S/T is equal to or less than the above upper limit, the film is difficult to deform, and is difficult to deform. The method for measuring the puncture strength S is as described above, and the method for measuring the thickness T is as described below.

本発明の光学フィルムの黄色度の尺度を表すYI値は、視認性をさらに向上させやすい観点から、好ましくは4.0以下、より好ましくは3.0以下、さらに好ましくは2.5以下、さらにより好ましくは2.0以下、とりわけ好ましくは1.9以下、とりわけより好ましくは1.8以下である。またYI値は、好ましくは-5以上、より好ましくは-2以上である。なお、YI値は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300~800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。 The YI value, which represents a scale of yellowness of the optical film of the present invention, is preferably 4.0 or less, more preferably 3.0 or less, even more preferably 2.5 or less, even more preferably 2.0 or less, particularly preferably 1.9 or less, and particularly preferably 1.8 or less, from the viewpoint of facilitating further improvement of visibility. The YI value is preferably -5 or more, more preferably -2 or more. The YI value can be calculated by measuring the transmittance for light of 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer, determining the tristimulus values (X, Y, Z), and then based on the formula YI = 100 x (1.2769X - 1.0592Z) / Y.

本発明の光学フィルムの折曲げ回数は、耐折性を向上させる観点から、好ましくは20,000回以上、より好ましくは100,000回以上、さらに好ましくは200,000回以上、さらにより好ましくは350,000回以上、とりわけ好ましくは400,000回以上、とりわけより好ましくは500,000回以上、とりわけさらに好ましくは600,000回以上、ことさら好ましくは700,000回以上である。折曲げ回数が上記の下限以上であると、光学フィルムを折り曲げてもクラックや割れ等が生じにくい。また、折曲げ回数の上限は、通常50,000,000回以下である。光学フィルムの折曲げ回数は、ASTM規格D2176-16に準拠したMIT耐折疲労試験で測定することができる。MIT耐折疲労試験は、例えば、実施例に記載の試験である。また、本発明の光学フィルムは、上記の条件でのMIT耐折疲労試験後の光学フィルムにおいても高い広角視認性を有することが好ましく、例えば上記の条件でのMIT耐折疲労試験前後における写像性値の差及び/又はヘーズの差が、上記の耐屈曲性試験前後の前記写像性値の差及び/又はヘーズの差の範囲内であることがより好ましい。 From the viewpoint of improving the folding resistance, the number of folding times of the optical film of the present invention is preferably 20,000 times or more, more preferably 100,000 times or more, even more preferably 200,000 times or more, even more preferably 350,000 times or more, particularly preferably 400,000 times or more, particularly preferably 500,000 times or more, particularly more preferably 600,000 times or more, and especially preferably 700,000 times or more. If the number of folding times is equal to or more than the above lower limit, cracks or breaks are unlikely to occur even when the optical film is folded. In addition, the upper limit of the number of folding times is usually 50,000,000 times or less. The number of folding times of the optical film can be measured by the MIT folding fatigue test in accordance with ASTM standard D2176-16. The MIT folding fatigue test is, for example, a test described in the examples. In addition, the optical film of the present invention preferably has high wide-angle visibility even after the MIT folding fatigue test under the above conditions, and it is more preferable that, for example, the difference in image clarity and/or the difference in haze before and after the MIT folding fatigue test under the above conditions is within the range of the difference in image clarity and/or the difference in haze before and after the above bending fatigue test.

本発明の光学フィルムの厚さは、用途に応じて適宜調整してよいが、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、さらにより好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下、さらに好ましくは100μm以下、さらにより好ましくは85μm以下である。光学フィルムの厚さが上記の範囲内であると、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度をより高めやすい。なお、光学フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the optical film of the present invention may be adjusted appropriately depending on the application, but is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, even more preferably 25 μm or more, even more preferably 30 μm or more, and is preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less, even more preferably 100 μm or less, and even more preferably 85 μm or less. When the thickness of the optical film is within the above range, it is easier to increase the tensile modulus and puncture strength of the optical film. The thickness of the optical film can be measured using a micrometer, for example, by the method described in the Examples.

<ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂>
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む。本明細書において、ポリイミド系樹脂とは、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド前駆体樹脂、及び、ポリアミドイミド前駆体樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を表す。ポリイミド樹脂は、イミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂であり、ポリアミドイミド樹脂は、イミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。ポリイミド前駆体樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、それぞれ、イミド化によりポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂を与える、イミド化前の前駆体であり、ポリアミック酸とも称される樹脂である。また、本明細書において、ポリアミド系樹脂は、アミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。本発明の光学フィルムは、1種類のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含んでいてもよいし、2種以上のポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を組合せて含んでいてもよい。本発明の光学フィルムは、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすく、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂を含むことが好ましく、該ポリイミド系樹脂は、好ましくはポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂であり、より好ましくはポリアミドイミド樹脂である。
<Polyimide-based resin and polyamide-based resin>
The optical film of the present invention contains at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins. In this specification, the polyimide resin refers to at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyimide precursor resins, and polyamideimide precursor resins. The polyimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamideimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group. The polyimide precursor resin and the polyamideimide precursor resin are precursors before imidization that give polyimide resins and polyamideimide resins by imidization, respectively, and are also called polyamic acids. In this specification, the polyamide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an amide group. The optical film of the present invention may contain one type of polyimide resin or polyamide resin, or may contain a combination of two or more types of polyimide resins and/or polyamide resins. The optical film of the present invention preferably contains a polyimide-based resin from the viewpoints of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film and easily increasing the visibility in a wide-angle direction after a bending resistance test, and the polyimide-based resin is preferably a polyimide resin or a polyamideimide resin, and more preferably a polyamideimide resin.

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすく、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂であることが好ましい。本明細書において、芳香族系の樹脂とは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる構成単位が主に芳香族系の構成単位である樹脂を表す。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin and polyamide-based resin are preferably aromatic resins, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film and easily increasing the visibility in the wide-angle direction after the bending resistance test. In this specification, aromatic resin refers to a resin in which the structural units contained in the polyimide-based resin and polyamide-based resin are mainly aromatic structural units.

上記の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすく、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合は、好ましくは60モル%以上、より好ましくは70モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、さらにより好ましくは85モル%以上である。ここで、芳香族系モノマーに由来する構成単位とは、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含むモノマーに由来し、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含む構成単位である。芳香族系モノマーとしては、例えば芳香族テトラカルボン酸化合物、芳香族ジアミン、芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。 In the above preferred embodiment, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film and easily increasing the visibility in the wide-angle direction after the bending resistance test, the ratio of the structural units derived from aromatic monomers to the total structural units contained in the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, even more preferably 80 mol% or more, and even more preferably 85 mol% or more. Here, the structural units derived from aromatic monomers are structural units derived from monomers that at least partially contain an aromatic structure (e.g., an aromatic ring) and that at least partially contain an aromatic structure (e.g., an aromatic ring). Examples of aromatic monomers include aromatic tetracarboxylic acid compounds, aromatic diamines, and aromatic dicarboxylic acids.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1):

Figure 0007469088000002
[式(1)中、Yは4価の有機基を表し、Xは2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であるか、又は、式(1)で表される構成単位及び式(2):
Figure 0007469088000003
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式(2)で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であることが好ましい。以下において式(1)及び式(2)について説明するが、式(1)についての説明は、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関し、式(2)についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関する。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin has the formula (1):
Figure 0007469088000002
[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group, X represents a divalent organic group, and * represents a bond.]
or a polyimide resin having a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2):
Figure 0007469088000003
[In formula (2), Z and X each independently represent a divalent organic group, and * represents a bond.]
The polyamide-based resin is preferably a polyamide resin having a structural unit represented by formula (2). Formulas (1) and (2) are described below, but the description of formula (1) relates to both polyimide resins and polyamideimide resins, and the description of formula (2) relates to both polyamide resins and polyamideimide resins.

式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(2)で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。 The structural unit represented by formula (1) is a structural unit formed by the reaction of a tetracarboxylic acid compound with a diamine compound, and the structural unit represented by formula (2) is a structural unit formed by the reaction of a dicarboxylic acid compound with a diamine compound.

式(1)において、Yは、4価の有機基、好ましくは炭素数4~40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすく、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;該式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms and having a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include alicyclic, aromatic, and heterocyclic structures, and from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film and easily increasing the visibility in the wide-angle direction after the bending resistance test, preferably an aromatic ring is used. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of Y, and the multiple types of Y may be the same or different from each other. Examples of Y include groups represented by the following formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (28), and (29); groups in which hydrogen atoms in the groups represented by formulas (20) to (29) are substituted with methyl groups, fluoro groups, chloro groups, or trifluoromethyl groups; and tetravalent chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

Figure 0007469088000004
Figure 0007469088000004

式(20)~式(29)中、*は結合手を表し、Wは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。Arが複数存在する場合、Arは互いに同一であっても異なっていてもよい。式(20)~(29)における環上の水素原子は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基で置換されていてもよい。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基としては、それぞれ、後述する式(3)において例示のものが挙げられる。 In formulas (20) to (29), * represents a bond, and W 1 represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar-, or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a specific example is a phenylene group. When a plurality of Ars are present, the Ars may be the same or different from each other. In formulas (20) to (29), the hydrogen atoms on the rings may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified in formula (3) described below.

式(20)~式(29)で表される基の中でも、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムのYI値を低減しやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-、より好ましくは単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-、さらに好ましくは単結合、-C(CH-又は-C(CF-、最も好ましくは単結合又は-C(CF-である。 Among the groups represented by formulae (20) to (29), from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film, the groups represented by formula (26), formula (28), or formula (29) are preferred, and the group represented by formula (26) is more preferred. From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film and easily reducing the YI value of the optical film, W1 is preferably, independently of one another, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, still more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, and most preferably a single bond or -C(CF 3 ) 2 -.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(26)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(26)、好ましくはWが単結合、-C(CH-又は-C(CF-である式(26)、より好ましくはWが単結合又は-C(CF-である式(26)で表されると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムのYI値を低減しやすい。ポリイミド系樹脂中のYが式(26)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more, and even more preferably 70 mol % or more of Y in the polyimide resin is represented by formula (26). When Y in the polyimide resin within the above range is represented by formula (26), preferably formula (26) in which W 1 is a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably formula (26) in which W 1 is a single bond or -C(CF 3 ) 2 -, the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film are easily increased, and the YI value of the optical film is easily reduced. The proportion of the constitutional unit in which Y in the polyimide resin is represented by formula (26) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される構成単位は、Yとして、式(4):

Figure 0007469088000005
[式(4)中、R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、*は結合手を表す]
で表される基を含む。すなわち、複数の式(1)で表される構成単位中のYのうち、少なくとも一部のYが式(4)で表される基であることが好ましい。このような態様であると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすく、光学フィルムのYI値を低減しやすい。なお、式(1)で表される構成単位は、Yとして式(4)で表される基を1種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the constitutional unit represented by formula (1) is represented by formula (4):
Figure 0007469088000005
[In formula (4), R 2 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; the hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may each independently be substituted with a halogen atom; V represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO-, or -N(R 8 )-; R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom; and * represents a bond]
It contains a group represented by the formula (4). That is, it is preferable that at least some of the Y's in the structural units represented by the formula (1) are groups represented by the formula (4). In such an embodiment, it is easy to increase the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film, and it is easy to reduce the YI value of the optical film. The structural unit represented by the formula (1) may contain one or more groups represented by the formula (4) as Y.

式(4)において、R、R、R、R、R及びRは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基としては、それぞれ、式(3)中のR3aにおける炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。式(3)におけるR3aに関し上記に例示のものが挙げられる。R~Rは、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、後述の式(3)中のWにおけるRに関し、上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、光学特性、表面硬度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であることが好ましく、単結合、-C(CH-又は-C(CF-であることがより好ましく、単結合又は-C(CF-であることがさらに好ましい。 In formula (4), R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified above for the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 3a in formula (3). Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 3a in formula (3) include those exemplified above for R 3a in formula (3). R 2 to R 7 each independently represent preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may each independently be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. V represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO-, or -N(R 8 )-, and R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include those exemplified above for R 9 in W in formula (3) described below. Among these, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, optical properties, surface hardness and bending resistance of the optical film, V is preferably a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, and even more preferably a single bond or -C(CF 3 ) 2 -.

本発明の好ましい一実施形態において、複数の式(1)中のYの少なくとも一部は、式(5):

Figure 0007469088000006
[式(5)中、R18~R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R18~R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
及び/又は式(9):
Figure 0007469088000007
[式(9)中、R35~R40は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R35~R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される。複数の式(1)中のYの少なくとも一部が式(5)で表される、及び/又は、式(9)で表されると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び光学特性を向上させやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, at least a portion of Y in the plurality of formulas (1) is represented by formula (5):
Figure 0007469088000006
[In formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 each independently may be substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]
And/or formula (9):
Figure 0007469088000007
[In formula (9), R 35 to R 40 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 each independently may be substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]
When at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is represented by formula (5) and/or formula (9), the tensile modulus, puncture strength, and optical properties of the optical film are easily improved.

式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基としては、それぞれ、式(3)中のR3aにおける炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R18~R25は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R18~R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。R18~R25は、互いに独立に、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified above as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 3a in formula (3). R 18 to R 25 each independently represent preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may each independently be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of easily increasing the transparency and easily maintaining the transparency, R 18 to R 25 are more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, still more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 , and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

式(9)において、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、R35~R40は、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子である。ここで、R35~R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R35~R40における炭素数1~6のアルキル基及び炭素数6~12のアリール基としては、それぞれ上記に例示のものが挙げられる。 In formula (9), from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of easily increasing the transparency and easily maintaining the transparency, R 35 to R 40 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be substituted, independently of one another, with a halogen atom, and examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 include those exemplified above.

本発明の好ましい一実施形態においては、式(5)は式(5’)で表され、式(9)は式(9’):

Figure 0007469088000008
で表される。すなわち、複数のYの少なくとも一部は、式(5’)及び/又は式(9’)で表される。この場合、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい。さらに、式(5)が式(5’)で表される場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。その結果、数式(1)~数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, formula (5) is represented by formula (5') and formula (9) is represented by formula (9'):
Figure 0007469088000008
That is, at least a part of the multiple Y's is represented by formula (5') and/or formula (9'). In this case, the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film are easily increased. Furthermore, when formula (5) is represented by formula (5'), the fluorine-containing skeleton increases the solubility of the polyimide resin in a solvent, and the storage stability of a varnish containing the resin is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced, which makes it easy to improve the processability of the optical film. As a result, it is easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies formulas (1) to (3). Furthermore, the fluorine-containing skeleton makes it easy to improve the optical properties of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(5)、特に式(5’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。その結果、数式(1)~数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂中のYは式(5)、特に式(5’)であってもよい。ポリイミド系樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more, and even more preferably 70 mol % or more of Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'). When Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5') within the above range, the solubility of the polyimide resin in a solvent is increased by the skeleton containing a fluorine element, the viscosity of a varnish containing the resin is easily reduced, and the processability of the optical film is easily improved. As a result, the optical film of the present invention that satisfies formulas (1) to (3) is easily produced. In addition, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical properties of the optical film. It is preferable that 100 mol % or less of Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'). Y in the polyimide resin may be formula (5), particularly formula (5'). The ratio of the structural unit represented by formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

式(2)において、Zは、2価の有機基であり、好ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、炭素数4~40の2価の有機基であり、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基である。なお、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基の例としては、後述する式(3)中のR3a及びR3bに関する例示が同様にあてはまる。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Zの有機基として、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29):

Figure 0007469088000009
[式(20)~式(29)中、Wは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表し、ここで、Arは、互いに独立に、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基(例えばフェニレン基)を表し、*は結合手を表す]
で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示され、Zのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。光学フィルムのYI値を低減しやすい観点、全光線透過率を高めやすい観点及びヘーズを低減しやすい観点から、Zにおける環状構造としては、式(20)~式(29)で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましく、式(26)、式(28)及び式(29)で表される基がより好ましい。 In formula (2), Z is a divalent organic group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (hydrogen atoms in these groups may be substituted with halogen atoms (preferably fluorine atoms)), a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (hydrogen atoms in these groups may be substituted with halogen atoms (preferably fluorine atoms)), a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. In addition, as examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the examples of R 3a and R 3b in formula (3) described later apply similarly. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. The organic group of Z is represented by the formula (20), the formula (21), the formula (22), the formula (23), the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28), and the formula (29):
Figure 0007469088000009
[In formulae (20) to (29), W 1 represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-, where each Ar is independently an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (e.g., a phenylene group) in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and * represents a bond]
Examples of the heterocyclic structure of Z include a group having a thiophene ring skeleton. From the viewpoints of easily reducing the YI value of the optical film, easily increasing the total light transmittance, and easily reducing haze, the cyclic structure in Z is preferably a group represented by any of formulas (20) to (29) or a group having a thiophene ring skeleton, and more preferably a group represented by formula (26), formula (28), or formula (29).

Zの有機基としては、式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及び式(29’):

Figure 0007469088000010
[式(20’)~式(29’)中、W及び*は、式(20)~式(29)において定義した通りである]
で表される2価の有機基がより好ましい。なお、式(20)~式(29)及び式(20’)~式(29’)における環上の水素原子は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい。 The organic group of Z includes those represented by the formula (20'), (21'), (22'), (23'), (24'), (25'), (26'), (27'), (28') and (29'):
Figure 0007469088000010
[In formulae (20') to (29'), W1 and * are as defined in formulae (20) to (29)]
In addition, the hydrogen atoms on the rings in the formulae (20) to (29) and (20') to (29') may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atoms in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)).

ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が、式(2)中のZが上記の式(20’)~式(29’)のいずれかで表される構成単位を有する場合、中でも式(2)中のZが後述する式(3’)で表される構成単位を有する場合、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、該構成単位に加えて、次の式(d1):

Figure 0007469088000011
[式(d1)中、R41は、互いに独立に、後述する式(3)中のR3aについて定義する基又は水素原子であり、R42は、R41又は-C(=O)-*を表し、*は結合手を表す]
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの成膜性を高めやすく、光学フィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。構成単位(d1)としては、具体的には、R41及びR42がいずれも水素原子である構成単位(ジカルボン酸化合物に由来する構成単位)、R41がいずれも水素原子であり、R42が-C(=O)-*を表す構成単位(トリカルボン酸化合物に由来する構成単位)等が挙げられる。 When the polyamide-based resin or polyamideimide resin has a constitutional unit represented by any one of the above formulas (20') to (29') in which Z in formula (2) has a constitutional unit represented by the formula (3') described later, the polyamide-based resin or polyamideimide resin has, in addition to the constitutional unit, the following formula (d1):
Figure 0007469088000011
[In formula (d1), R 41 each independently represents a group defined for R 3a in formula (3) described later or a hydrogen atom, and R 42 represents R 41 or -C(=O)-*, where * represents a bond.]
From the viewpoint of easily improving the film-forming properties of the varnish and easily improving the uniformity of the optical film, it is preferable that the structural unit (d1) further has a structural unit derived from a carboxylic acid represented by the following formula: Specific examples of the structural unit (d1) include a structural unit in which R 41 and R 42 are both hydrogen atoms (structural unit derived from a dicarboxylic acid compound), a structural unit in which R 41 are both hydrogen atoms and R 42 represents -C(=O)-* (structural unit derived from a tricarboxylic acid compound), and the like.

ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、式(2)中のZとして複数種のZを含んでよく、複数種のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、本発明の光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすく、かつ、光学特性を高めやすい観点から、式(2)中のZが好ましくは式(3):

Figure 0007469088000012
[式(3)中、R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Wは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、sは0~4の整数であり、tは0~4の整数であり、uは0~4の整数であり、*は結合手を表す]
、より好ましくは式(3’):
Figure 0007469088000013
[式(3’)中、R3a、R3b、s、t、u、W及び*は、式(3)において定義した通りである]
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。なお、本明細書において、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が式(2)中のZが式(3)で表される構成単位を有することと、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド系樹脂が式(2)中のZとして式(3)で表される構造を有することとは、同様の意味を有し、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂に含まれ得る複数の式(2)で表される構成単位のうち、少なくとも一部の構成単位におけるZが式(3)で表されることを意味する。当該記載は、他の同様の記載にもあてはまる。 The polyamide-based resin or polyamideimide resin may contain a plurality of types of Z as Z in formula (2), and the plurality of types of Z may be the same or different from each other. In particular, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film of the present invention and easily improving the optical properties, Z in formula (2) is preferably represented by formula (3):
Figure 0007469088000012
[In formula (3), R 3a and R 3b each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b each independently may be substituted with a halogen atom; W each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO-, or -N(R 9 )-; R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom; s represents an integer of 0 to 4, t represents an integer of 0 to 4, u represents an integer of 0 to 4, and * represents a bond]
, more preferably formula (3'):
Figure 0007469088000013
[In formula (3'), R 3a , R 3b , s, t, u, W and * are as defined in formula (3)]
In this specification, the term "polyamide-based resin or polyamideimide resin having a structural unit represented by formula (3) as Z in formula (2)" and the term "polyamide-based resin or polyamideimide resin having a structure represented by formula (3) as Z in formula (2)" have the same meaning, and mean that Z in at least some structural units of a plurality of structural units represented by formula (2) that can be contained in the polyamide-based resin or polyamideimide resin is represented by formula (3). This description also applies to other similar descriptions.

式(3)及び式(3’)中、Wは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは-O-又は-S-、より好ましくは-O-を表す。
3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6~12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、表面硬度及び柔軟性の観点から、R3a及びR3bは、互いに独立に、好ましくは炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のアルコキシ基、より好ましくは炭素数1~3のアルキル基又は炭素数1~3のアルコキシ基を表す。ここで、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチル-ブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In formula (3) and formula (3'), W each independently represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, and from the viewpoint of the bending resistance of the optical film, preferably represents -O- or -S-, more preferably -O-.
R 3a and R 3b each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, a 2-methyl-butyl group, a 3-methylbutyl group, a 2-ethyl-propyl group, and an n-hexyl group. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, and a cyclohexyloxy group. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. From the viewpoint of the tensile modulus, puncture strength, surface hardness and flexibility of the optical film, R 3a and R 3b each independently preferably represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b each independently may be substituted with a halogen atom.
R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, a 2-methyl-butyl group, a 3-methyl-butyl group, a 2-ethyl-propyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a tert-octyl group, an n-nonyl group, and an n-decyl group, which may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

式(3)及び式(3’)中、t及びuは、互いに独立に、0~4の整数、好ましくは0~2の整数、より好ましくは1又は2である。 In formula (3) and formula (3'), t and u are each independently an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 1 or 2.

式(3)中及び式(3’)中、sは0~4の範囲の整数であり、sがこの範囲内であると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を向上しやすい。前記sは、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度及び耐屈曲性をより向上しやすい観点から、好ましくは0~3の範囲の整数、より好ましくは0~2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はZにおいて、式(3)又は式(3’)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよい。 In formula (3) and formula (3'), s is an integer in the range of 0 to 4. When s is within this range, the tensile modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film are easily improved. From the viewpoint of more easily improving the tensile modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film, the s is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, even more preferably 0 or 1, and even more preferably 0. The polyamideimide resin or polyamide-based resin may contain one or more types of structural units represented by formula (3) or formula (3') in Z.

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、弾性率及び耐屈曲性の向上、YI値低減の観点からは、Zは、sが0であり、かつ、uが好ましくは1~3、より好ましくは1又は2である、式(3)又は式(3’)で表されることが好ましい。さらに、また、sが0である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位に加えて、上記の式(d1)で表される構成単位をさらに有することも好ましい。 In a preferred embodiment of the present invention, from the viewpoint of improving the tensile modulus, puncture strength, modulus and flex resistance of the optical film and reducing the YI value, Z is preferably represented by formula (3) or formula (3') in which s is 0 and u is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2. Furthermore, in addition to the structural unit represented by formula (2) having Z represented by formula (3) or formula (3') in which s is 0, it is also preferable to further have a structural unit represented by the above formula (d1).

ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂が、式(3)又は式(3’)で表される構成単位を有する場合、その割合は、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、とりわけ好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい。式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)、式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 When the polyamideimide resin or polyamide-based resin has a structural unit represented by formula (3) or formula (3'), the ratio is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, even more preferably 40 mol% or more, even more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, and preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, and even more preferably 80 mol% or less, when the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) of the polyamideimide resin or polyamide-based resin is taken as 100 mol%. When the ratio of the structural unit represented by formula (3) or formula (3') is equal to or more than the above lower limit, the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film are easily increased. When the ratio of the structural unit represented by formula (3) or formula (3') is equal to or less than the above upper limit, the viscosity increase of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3) is suppressed, and the processability of the film is easily improved. The ratio of the constitutional units represented by formula (1), formula (2), formula (3) or formula (3') can be measured, for example, by 1 H-NMR, or can be calculated from the charge ratio of the raw materials.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上が、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位である。Zの上記の下限以上が、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位であると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい。また、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの100モル%以下が、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, even more preferably 45 mol% or more, and even more preferably 50 mol% or more of Z in the polyamideimide resin or polyamide-based resin is a structural unit represented by formula (3) or formula (3') in which s is 0 to 4. When Z is a structural unit represented by formula (3) or formula (3') in which s is 0 to 4 or more, the tensile modulus, puncture strength, and bending resistance of the optical film are easily improved. In addition, 100 mol% or less of Z in the polyamideimide resin or polyamide-based resin may be a structural unit represented by formula (3) or formula (3') in which s is 0 to 4. The proportion of the structural unit represented by formula (3) or formula (3') in which s is 0 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

式(1)及び式(2)において、Xは、互いに独立に、2価の有機基、好ましくは炭素数4~40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明の一実施形態において、本発明のポリアミド系樹脂及びポリイミド樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (1) and formula (2), X each independently represents a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms and a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. The organic group may have a hydrogen atom in the organic group substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and polyimide resin of the present invention may contain multiple types of X, and the multiple types of X may be the same or different from each other. Examples of X include groups represented by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula (18); groups in which the hydrogen atoms in the groups represented by formulas (10) to (18) are substituted with methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups; and chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

Figure 0007469088000014
Figure 0007469088000014

式(10)~式(18)中、*は結合手を表し、
、V及びVは、互いに独立に、単結合、-O-、-S-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-CO-又は-N(Q)-を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、Rについて上記に述べた基が挙げられる。
1つの例は、V及びVが単結合、-O-又は-S-であり、かつ、Vが-CH-、-C(CH-、-C(CF-又は-SO-である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
In formulas (10) to (18), * represents a bond.
V 1 , V 2 and V 3 each independently represent a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -N(Q)-, where Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .
In one example, V1 and V3 are single bonds, -O- or -S-, and V2 is -CH2- , -C( CH3 ) 2- , -C( CF3 ) 2- or -SO2- . The bonding positions of V1 and V2 to each ring, and the bonding positions of V2 and V3 to each ring, are each independently preferably meta or para positions, more preferably para positions, to each ring.

式(10)~式(18)で表される基の中でも、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V、V及びVは、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、-O-又は-S-、より好ましくは単結合又は-O-である。 Among the groups represented by formulae (10) to (18), from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength and flexibility of the optical film, the groups represented by formulae (13), (14), (15), (16) and (17) are preferred, and the groups represented by formulae (14), (15) and (16) are more preferred. Furthermore, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength and flexibility of the optical film, V 1 , V 2 and V 3 are each independently preferably a single bond, -O- or -S-, more preferably a single bond or -O-.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂及び/又はポリイミド系樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(5):

Figure 0007469088000015
[式(5)中、Arは互いに独立に置換基を有していてもよい2価の芳香族基を表し、Vは、単結合、-O-、ジフェニルメチレン基、フルオレニル基、炭素数1~12の2価の炭化水素基、-SO-、-S-、-CO-、-PO-、-PO-、-N(R)-又は-Si(R-を表し、ここで、該炭化水素基は脂環式構造を含んでいてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R及びRは、互いに独立に、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、mは0~3の整数を表し、*は結合手を表す]
で表される2価の有機基を含む。構成単位(1)及び構成単位(2)が、Xとして式(5)で表される2価の有機基を含む場合、構成単位(1)及び構成単位(2)は、Xとして、式(5)で表される1種類又は2種類以上の2価の有機基を含んでよい。構成単位(1)及び構成単位(2)は、Xとして、式(5)で表される2価の有機基の他に、式(5)で表される2価の有機基に該当しない他の2価の有機基を含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and/or polyimide-based resin is represented by the formula (5):
Figure 0007469088000015
[In formula (5), Ar 2 each independently represents a divalent aromatic group which may have a substituent; V represents a single bond, -O-, a diphenylmethylene group, a fluorenyl group, a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, -SO 2 -, -S-, -CO-, -PO-, -PO 2 -, -N(R a )- or -Si(R b ) 2 -, where the hydrocarbon group may contain an alicyclic structure and hydrogen atoms contained in the hydrocarbon group may each independently be substituted with a halogen atom; R a and R b each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom; m represents an integer of 0 to 3; and * represents a bond]
When the structural unit (1) and the structural unit (2) contain a divalent organic group represented by formula (5) as X, the structural unit (1) and the structural unit (2) may contain one or more types of divalent organic groups represented by formula (5) as X. The structural unit (1) and the structural unit (2) may contain, in addition to the divalent organic group represented by formula (5) as X, other divalent organic groups that do not fall under the divalent organic group represented by formula (5).

式(5)中のArは、置換基を有していてもよい2価の芳香族基を表す。2価の芳香族基は、単環式芳香族環、縮合多環式芳香族環又は環集合芳香族環の2つの水素原子が結合手に置き換わった基である。2価の芳香族基は、炭素原子のみで環(単環、縮合多環又は環集合)が形成された芳香族環を含んでいてもよいし、炭素原子以外の原子を含んで環が形成されたヘテロ芳香族環を含んでいてもよい。炭素原子以外の原子としては、例えば窒素原子、硫黄原子及び酸素原子が挙げられる。芳香族環を形成する炭素原子及び炭素原子以外の原子の合計数は、特に限定されないが、好ましくは5~18、より好ましくは5~14、さらに好ましくは5~12である。式(5)中のmが1以上である場合に複数存在するArは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 Ar 2 in formula (5) represents a divalent aromatic group which may have a substituent. The divalent aromatic group is a group in which two hydrogen atoms of a monocyclic aromatic ring, a condensed polycyclic aromatic ring, or a ring assembly aromatic ring are replaced by bonds. The divalent aromatic group may contain an aromatic ring in which a ring (monocyclic, condensed polycyclic, or ring assembly) is formed only by carbon atoms, or may contain a heteroaromatic ring in which a ring is formed by including atoms other than carbon atoms. Examples of atoms other than carbon atoms include nitrogen atoms, sulfur atoms, and oxygen atoms. The total number of carbon atoms and atoms other than carbon atoms forming an aromatic ring is not particularly limited, but is preferably 5 to 18, more preferably 5 to 14, and even more preferably 5 to 12. When m in formula (5) is 1 or more, the multiple Ar 2s present may be the same or different from each other.

単環式芳香族環としては、例えばベンゼン、フラン、ピロール、チオフェン、ピリジン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾリン等が挙げられる。 Examples of monocyclic aromatic rings include benzene, furan, pyrrole, thiophene, pyridine, imidazole, pyrazole, oxazole, thiazole, and imidazoline.

縮合多環式芳香族環としては、例えばナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インドール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール等が挙げられる。 Fused polycyclic aromatic rings include, for example, naphthalene, anthracene, phenanthrene, indole, benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole.

環集合芳香族環としては、2以上の単環式芳香族環及び/又は縮合多環式芳香族環が単結合で連結された構造が挙げられ、その例としては、単環式芳香族環又は縮合多環式芳香族環の例として上記に記載する環の2以上が単結合で連結された基、例えばビフェニル、テルフェニル、クアテルフェニル、ビナフチル、1-フェニルナフタレン、2-フェニルナフタレン、ビピリジン等が挙げられる。 Examples of ring assembly aromatic rings include structures in which two or more monocyclic aromatic rings and/or fused polycyclic aromatic rings are linked by a single bond, and examples thereof include groups in which two or more of the rings described above as examples of monocyclic aromatic rings or fused polycyclic aromatic rings are linked by a single bond, such as biphenyl, terphenyl, quaterphenyl, binaphthyl, 1-phenylnaphthalene, 2-phenylnaphthalene, and bipyridine.

光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点からは、置換基を有していてもよい2価の芳香族基は、好ましくは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環の2つの水素原子が結合手に置き換わった基、より好ましくは、置換基を有していてもよいベンゼン、ビフェニル、テルフェニル又はクアテルフェニルの2つの水素原子が結合手に置き換わった基、さらに好ましくは、置換基を有していてもよいベンゼン又はビフェニルの2つの水素原子が結合手に置き換わった基である。 From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film, the divalent aromatic group which may have a substituent is preferably a group in which two hydrogen atoms of an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent are replaced by bonds, more preferably a group in which two hydrogen atoms of an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent are replaced by bonds, and even more preferably a group in which two hydrogen atoms of an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent are replaced by bonds, and even more preferably a group in which two hydrogen atoms of an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent are replaced by bonds.

Arにおける置換基としては、ハロゲン基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基、又は、これらに含まれる水素原子がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。 Examples of the substituent for Ar2 include a halogen group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and groups in which a hydrogen atom contained in these groups is substituted with a halogen atom.

炭素数1~12のアルキル基は、炭素数1~12の直鎖状又は分枝状のアルキル基であってよく、好ましくは炭素数1~6の直鎖状又は分枝状のアルキル基である。このような基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基及びn-デシル基等が挙げられる。 The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may be a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of such groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 2-ethylpropyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, tert-octyl, n-nonyl, and n-decyl groups.

炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。 Examples of alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, pentyloxy, hexyloxy, and cyclohexyloxy groups.

炭素数6~12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。 Examples of aryl groups having 6 to 12 carbon atoms include phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, naphthyl groups, and biphenyl groups.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。 Halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, iodine atoms, etc.

Arにおける置換基としては、ハロゲン基、又は、水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12のアルキル基が好ましく、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基がより好ましい。 The substituent in Ar2 is preferably a halogen group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a halogen atom, and more preferably a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group.

式(5)中のVは、単結合、-O-、ジフェニルメチレン基、フルオレニル基、炭素数1~12の2価の炭化水素基、-SO-、-S-、-CO-、-PO-、-PO-、-N(R)-又は-Si(R-を表す。ここで、該炭化水素基は脂環式構造を含んでいてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R及びRは、互いに独立に、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。式(5)中のVは、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を向上させやすい観点から、好ましくは単結合、又は、炭素数1~12の2価の炭化水素基及びこれらの炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも一部をハロゲン原子で置換した基であり、より好ましくは単結合、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であり、さらに好ましくは単結合、-C(CH-又は-C(CF-であり、さらにより好ましくは単結合又は-C(CF-である。 In formula (5), V represents a single bond, -O-, a diphenylmethylene group, a fluorenyl group, a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, -SO 2 -, -S-, -CO-, -PO-, -PO 2 -, -N(R a )- or -Si(R b ) 2 -, where the hydrocarbon group may contain an alicyclic structure, hydrogen atoms contained in the hydrocarbon group may be each independently substituted with a halogen atom, and R a and R b each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 2-ethylpropyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, tert-octyl, n-nonyl, n-decyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups, which may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. From the viewpoint of easily improving the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film, V in formula (5) is preferably a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a group in which at least a portion of the hydrogen atoms contained in such a hydrocarbon group have been substituted with a halogen atom, more preferably a single bond, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 ) -, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, even more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, and even more preferably a single bond or -C(CF 3 ) 2 -.

式(5)中のmは、0~3の整数を表し、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点から、好ましくは0~2、より好ましくは0又は1、さらに好ましくは1である。 In formula (5), m represents an integer of 0 to 3, and from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film, it is preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 1.

本発明の光学フィルムに含まれるポリアミド系樹脂及び/又はポリイミド系樹脂に含まれ得る構成単位(1)及び/又は構成単位(2)が、Xとして、式(5)で表される2価の有機基を含む本発明の好ましい一態様において、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点から、構成単位(1)及び構成単位(2)の合計を100モル%としたときに、式(1)中のXが式(5)で表される2価の有機基である構成単位及び式(2)中のXが式(5)で表される2価の有機基である構成単位の合計の割合は、好ましくは70~100モル%、より好ましくは80~100モル%、さらに好ましくは90~100モル%であり、構成単位(1)及び構成単位(2)の全構成単位において、Xが式(5)で表される2価の有機基であってもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, in which the structural unit (1) and/or structural unit (2) that may be contained in the polyamide-based resin and/or polyimide-based resin contained in the optical film of the present invention contains a divalent organic group represented by formula (5) as X, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film, when the total of the structural units (1) and (2) is taken as 100 mol%, the total proportion of the structural units in which X in formula (1) is a divalent organic group represented by formula (5) and the structural units in which X in formula (2) is a divalent organic group represented by formula (5) is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, and even more preferably 90 to 100 mol%, and X may be a divalent organic group represented by formula (5) in all structural units of the structural units (1) and (2).

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される構成単位及び/又は式(2)で表される構成単位は、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点から、Xとして、式(5a):

Figure 0007469088000016
[式(5a)中、Rは、炭素数1~12のフルオロアルキル基を表し、p及びqは、互いに独立に、1~4の整数を表し、ただし、p及び/又はqが2~4の整数を表す場合に複数存在するRは、互いに同一であっても異なっていてもよく、*は結合手を表す]
で表される2価の有機基を含む。なお、式(5a)で表される2価の有機基は、式(5)で表される2価の有機基に包含される基であり、具体的には、式(5)中のVが単結合を表し、Arが炭素数1~12のフルオロアルキル基(R)で置換されたベンゼン環を表し、mが0~3の整数を表す2価の有機基に相当する基である。構成単位(1)及び構成単位(2)が、Xとして式(5a)で表される2価の有機基を含む場合、構成単位(1)及び構成単位(2)は、Xとして、式(5a)で表される1種類又は2種類以上の2価の有機基を含んでよい。構成単位(1)及び/又は構成単位(2)は、Xとして、式(5a)で表される2価の有機基の他に、式(5a)で表される2価の有機基に該当しない他の2価の有機基を含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film, the structural unit represented by formula (1) and/or the structural unit represented by formula (2) is represented by the formula (5a):
Figure 0007469088000016
[In formula (5a), R 2 represents a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, p and q each independently represent an integer of 1 to 4, provided that when p and/or q each represents an integer of 2 to 4, a plurality of R 2 's may be the same or different, and * represents a bond.]
The divalent organic group represented by formula (5a) is a group included in the divalent organic group represented by formula (5), specifically, V in formula (5) represents a single bond, Ar 2 represents a benzene ring substituted with a fluoroalkyl group (R 2 ) having 1 to 12 carbon atoms, and m is a group corresponding to a divalent organic group representing an integer of 0 to 3. When the structural unit (1) and the structural unit (2) contain a divalent organic group represented by formula (5a) as X, the structural unit (1) and the structural unit (2) may contain one or more types of divalent organic groups represented by formula (5a) as X. The structural unit (1) and/or the structural unit (2) may contain, in addition to the divalent organic group represented by formula (5a) as X, other divalent organic groups not corresponding to the divalent organic group represented by formula (5a).

式(5a)中のRは、炭素数1~12のフルオロアルキル基を表す。炭素数1~12のフルオロアルキル基は、炭素数1~12の直鎖状又は分枝状のアルキル基の少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された基である。炭素数1~12の直鎖状又は分枝状のフルオロアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基及びn-デシル基等における少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された基が挙げられる。炭素数1~12のフルオロアルキル基として、具体的には、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。フルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは1~6、より好ましくは1~4、さらに好ましくは1又は2である。 R 2 in formula (5a) represents a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms is a group in which at least one hydrogen atom of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is substituted with a fluorine atom. Examples of the linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms include groups in which at least one hydrogen atom of a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, a 2-methyl-butyl group, a 3-methylbutyl group, a 2-ethyl-propyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a tert-octyl group, an n-nonyl group, and an n-decyl group is substituted with a fluorine atom. Specific examples of the fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a fluoroethyl group, a difluoroethyl group, a trifluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a nonafluorobutyl group, etc. The number of carbon atoms in the fluoroalkyl group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 or 2.

p及びqは、互いに独立に、1~4の整数を表す。pは、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点から、好ましくは1又は2の整数、より好ましくは2である。qは、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強さを高めやすい観点から、好ましくは1又は2の整数、より好ましくは1である。ここで、p及び/又はqが2~4の整数を表す場合、複数存在するRは、互いに同一であっても異なっていてもよいが、複数存在するRは互いに同一であることが好ましい。 p and q each independently represent an integer of 1 to 4. From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus of elasticity and the puncture strength of the optical film, p is preferably an integer of 1 or 2, more preferably 2. From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus of elasticity and the puncture strength of the optical film, q is preferably an integer of 1 or 2, more preferably 1. Here, when p and/or q represent an integer of 2 to 4, multiple R 2s may be the same or different, but it is preferable that multiple R 2s are the same.

式(5a)中の2つの結合手について、互いの位置は特に限定されず、オルト位、メタ位、パラ位のいずれであってもよいが、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点からは、該結合手は好ましくは互いにパラ位に位置する。 The positions of the two bonds in formula (5a) are not particularly limited and may be ortho, meta, or para, but from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film, the bonds are preferably located in the para position.

式(5a)で表される2価の芳香族基の好ましい例として、式(5a)中のRが炭素数1~12のパーフルオロアルキル基を表す、pが2である、qが1又は2である、及び/又は、2つの結合手が互いにパラ位に位置する、芳香族基が挙げられる。 Preferred examples of the divalent aromatic group represented by formula (5a) include aromatic groups in which R 2 in formula (5a) represents a perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, p is 2, q is 1 or 2, and/or the two bonds are located in the para position relative to each other.

本発明の光学フィルムに含まれる樹脂に含まれ得る構成単位(1)及び/又は構成単位(2)が、Xとして、式(5a)で表される2価の有機基を含む本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい観点から、ポリアミドイミド系樹脂に含まれる構成単位(1)及び構成単位(2)の合計を100モル%としたときに、式(1)中のXが式(5a)で表される2価の有機基である構成単位及び式(2)中のXが式(5a)で表される2価の有機基である構成単位の合計の割合は、好ましくは70~100モル%、より好ましくは80~100モル%、さらに好ましくは90~100モル%であり、構成単位(1)及び構成単位(2)の全構成単位において、Xが式(5a)で表される2価の有機基であってもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, in which the structural unit (1) and/or structural unit (2) that may be contained in the resin contained in the optical film of the present invention contains a divalent organic group represented by formula (5a) as X, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus and puncture strength of the optical film, when the total of the structural units (1) and (2) contained in the polyamideimide resin is taken as 100 mol%, the total proportion of the structural units in which X in formula (1) is a divalent organic group represented by formula (5a) and the structural units in which X in formula (2) is a divalent organic group represented by formula (5a) is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, and even more preferably 90 to 100 mol%, and X may be a divalent organic group represented by formula (5a) in all structural units of the structural units (1) and (2).

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂及びポリイミド系樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):

Figure 0007469088000017
[式(4)中、R10~R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R10~R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される構造を含む。式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部が式(4)で表される構造であると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び透明性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and the polyimide-based resin are represented by the formula (4):
Figure 0007469088000017
[In formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 each independently may be substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]
When at least a part of X in the multiple structural units represented by formula (1) and formula (2) has a structure represented by formula (4), the tensile modulus, puncture strength, and transparency of the optical film are easily increased.

式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基としては、式(3)における炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として例示した基が挙げられる。R10~R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R10~R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10~R17は、互いに独立に、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、さらにより好ましくはR10、R12、R13、R14、R15及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in formula (3) include the groups exemplified as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms. R 10 to R 17 each independently represent preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may each independently be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. From the viewpoints of the tensile modulus and puncture strength, transparency and bending resistance of the optical film, R 10 to R 17 are more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, even more preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are a hydrogen atom, R 11 and R 17 are a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 11 and R 17 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):

Figure 0007469088000018
で表される構成単位であり、すなわち、式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。その結果、数式(1)~数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the constitutional unit represented by formula (4) is represented by formula (4'):
Figure 0007469088000018
That is, at least a part of X in the plurality of structural units represented by formula (1) and formula (2) is a structural unit represented by formula (4'). In this case, the skeleton containing the fluorine element increases the solubility of the polyimide resin or polyamide resin in a solvent, and the storage stability of the varnish containing the resin is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced, and the processability of the optical film is easily improved. As a result, the optical film of the present invention that satisfies formulas (1) to (3) is easily produced. In addition, the skeleton containing the fluorine element makes it easy to improve the optical properties of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂に含まれ得るXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、とりわけ式(4’)で表される。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂における上記範囲内のXが式(4)、特に式(4’)で表される場合、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、数式(1)~数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂中のXは式(4)、特に式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol % or more, more preferably 50 mol % or more, and even more preferably 70 mol % or more of X that can be contained in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is represented by formula (4), particularly formula (4'). When X within the above range in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is represented by formula (4), particularly formula (4'), the resulting optical film has a fluorine-containing skeleton that increases the solubility of the resin in a solvent, and the storage stability of a varnish containing the resin is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced, making it easy to produce the optical film of the present invention that satisfies formulas (1) to (3). In addition, the fluorine-containing skeleton also easily improves the optical properties of the optical film. Preferably, 100 mol % or less of X in the polyimide-based resin or polyamide-based resin is represented by formula (4), particularly formula (4'). X in the resin may be formula (4), particularly formula (4'). The ratio of the structural unit represented by formula (4) of X in the resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charge ratio of the raw materials.

ポリイミド系樹脂は、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよく、また式(1)及び場合により式(2)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよい。

Figure 0007469088000019
The polyimide resin may contain a constitutional unit represented by formula (30) and/or a constitutional unit represented by formula (31), or may contain a constitutional unit represented by formula (30) and/or a constitutional unit represented by formula (31) in addition to the constitutional unit represented by formula (1) and optionally formula (2).
Figure 0007469088000019

式(30)において、Yは4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、該式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y 1 include groups represented by formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (28) and (29), groups in which a hydrogen atom in the groups represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of Y 1 , and the multiple types of Y 1 may be the same or different from each other.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (31), Y2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y2 include a group in which one of the bonds of the groups represented by the above formulas (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), (28) and (29) is replaced with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of Y2 , and the multiple types of Y2 may be the same or different from each other.

式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。X及びXとしては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (30) and formula (31), X1 and X2 are each independently a divalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of X1 and X2 include groups represented by the above formulas (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and (18); groups in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)及び/又は式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、光学特性及び耐屈曲性を高めやすい観点から、上記ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位の合計に対して、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin comprises constitutional units represented by formula (1) and/or formula (2), and optionally constitutional units represented by formula (30) and/or formula (31). From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, optical properties, and bending resistance of the optical film, the proportion of constitutional units represented by formula (1) and formula (2) in the polyimide resin is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and even more preferably 95 mol% or more based on all constitutional units represented by formula (1) and formula (2), and optionally formula (30) and formula (31). In the polyimide resin, the proportion of constitutional units represented by formula (1) and formula (2) is usually 100% or less based on the total of all constitutional units represented by formula (1) and formula (2), and optionally formula (30) and/or formula (31). The above proportion can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charge ratio of the raw materials.

本発明の一実施形態において、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上であり、好ましくは99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、光学特性及び耐屈曲性を向上させやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide-based resin and/or polyamide-based resin in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, and even more preferably 50 parts by mass or more, and is preferably 99.5 parts by mass or less, and more preferably 95 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the optical film. When the content of the polyimide-based resin and/or polyamide-based resin is within the above range, it is easy to improve the tensile modulus, puncture strength, optical properties, and bending resistance of the optical film.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは100,000以上、より好ましくは130,000以上、さらに好ましくは150,000以上、さらにより好ましくは170,000以上、とりわけ好ましくは200,000以上、とりわけより好ましくは230,000以上、とりわけさらに好ましくは250,000以上、ことさら好ましくは260,000以上である。また、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、さらにより好ましくは500,000以下、とりわけ好ましくは400,000以下、とりわけより好ましくは350,000以下、とりわけさらに好ましくは300,000以下である。重量平均分子量は、例えばGPC測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)が上記の上限以下である場合、該樹脂を含むワニスの固形分を高めやすく、かつ、ワニスの粘度を低下させやすくなり、その結果、数式(1)~数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。また、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を維持しやすくなる。 From the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film, the weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin and polyamide resin, in terms of standard polystyrene, is preferably 100,000 or more, more preferably 130,000 or more, even more preferably 150,000 or more, still more preferably 170,000 or more, particularly preferably 200,000 or more, particularly preferably 230,000 or more, particularly still more preferably 250,000 or more, and especially preferably 260,000 or more. In addition, the weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less, even more preferably 700,000 or less, even more preferably 500,000 or less, particularly preferably 400,000 or less, particularly preferably 350,000 or less, and particularly preferably 300,000 or less, from the viewpoint of easily improving the solubility of the resin in a solvent and easily improving the stretchability and processability of the optical film. The weight average molecular weight can be determined, for example, by performing GPC measurement and converting it into standard polystyrene, and may be calculated, for example, by the method described in the Examples. When the weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin and the polyamide resin is equal to or less than the above upper limit, it is easy to increase the solid content of the varnish containing the resin and to reduce the viscosity of the varnish, and as a result, it is easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the formulas (1) to (3). In addition, it is easy to maintain the visibility in the wide angle direction after the bending resistance test.

ポリアミドイミド樹脂において、式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、さらにより好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度を高めやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムを製造する際のワニスの粘度を低下させやすいため、数式(1)~数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。 In the polyamide-imide resin, the content of the structural unit represented by formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, even more preferably 1.0 mol or more, even more preferably 1.5 mol or more, and preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, and even more preferably 4.5 mol or less, per mol of the structural unit represented by formula (1). When the content of the structural unit represented by formula (2) is equal to or more than the above lower limit, the tensile modulus and puncture strength of the optical film are easily increased. When the content of the structural unit represented by formula (2) is equal to or less than the above upper limit, thickening due to hydrogen bonds between amide bonds in formula (2) is suppressed, and the viscosity of the varnish when manufacturing the optical film is easily reduced, making it easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies formulas (1) to (3).

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの引張弾性率を向上させやすく、かつYI値を低減させやすい。光学フィルムの引張弾性率が高いと、傷及びシワ等の発生を抑制しやすいと共に、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。また、前記YI値が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin and/or polyamide resin contained in the optical film may contain halogen atoms such as fluorine atoms, which can be introduced, for example, by the above-mentioned fluorine-containing substituents. When the polyimide resin and/or polyamide resin contains halogen atoms, the tensile modulus of the optical film is easily improved and the YI value is easily reduced. When the tensile modulus of the optical film is high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles, and it is easy to improve the visibility in the wide-angle direction after the bending resistance test. In addition, when the YI value is low, it is easy to improve the transparency and visibility of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Examples of fluorine-containing substituents that are preferable for containing fluorine atoms in the polyimide resin include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1~40質量%、より好ましくは5~40質量%、さらに好ましくは5~30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの引張弾性率をより向上させやすく、かつYI値をより低減させやすい。その結果、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。 The content of halogen atoms in the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, and even more preferably 5 to 30 mass%, based on the mass of the polyimide resin and the polyamide resin, respectively. When the content of halogen atoms is equal to or greater than the above lower limit, it is easier to improve the tensile modulus of the optical film and to reduce the YI value. As a result, it is easier to improve the visibility in the wide-angle direction after the bending resistance test. When the content of halogen atoms is equal to or less than the above upper limit, synthesis is easier.

ポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上である。光学フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization rate of the polyimide resin and the polyamide-imide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and even more preferably 96% or more. From the viewpoint of easily improving the optical properties of the optical film, it is preferable that the imidization rate is equal to or higher than the above lower limit. The upper limit of the imidization rate is 100% or less. The imidization rate indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to twice the molar amount of the constituent units derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. In addition, when the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, it indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to the sum of twice the molar amount of the constituent units derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin and the molar amount of the constituent units derived from the tricarboxylic acid compound. In addition, the imidization rate can be determined by IR method, NMR method, etc.

本発明において、光学フィルムは、ポリアミド系樹脂を含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミド系樹脂は、式(2)で表される繰り返し構成単位を主とする重合体である。ポリアミド系樹脂における式(2)中のZの好ましい例及び具体例は、ポリイミド系樹脂におけるZの好ましい例及び具体例と同じである。前記ポリアミド系樹脂は、Zが異なる2種類以上の式(2)で表される繰り返し構成単位を含んでいてもよい。 In the present invention, the optical film may contain a polyamide-based resin. The polyamide-based resin according to this embodiment is a polymer mainly composed of a repeating structural unit represented by formula (2). Preferred examples and specific examples of Z in formula (2) in the polyamide-based resin are the same as the preferred examples and specific examples of Z in the polyimide-based resin. The polyamide-based resin may contain two or more types of repeating structural units represented by formula (2) with different Z.

(樹脂の製造方法)
本発明の光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の製造方法は特に限定されない。ポリイミド樹脂及びポリイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミド樹脂は、例えば、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を主な原料として製造できる。
(Method of producing resin)
The method for producing the polyimide resin and polyamide resin contained in the optical film of the present invention is not particularly limited. The polyimide resin and polyimide precursor resin can be produced, for example, from a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, the polyamideimide resin and polyamideimide precursor resin can be produced, for example, from a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, and the polyamide resin can be produced, for example, from a diamine compound and a dicarboxylic acid compound as main raw materials.

式(1)及び式(30)で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とから誘導される。式(2)で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とジカルボン酸化合物とから誘導される。式(31)で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とトリカルボン酸化合物とから誘導される。 The structural units represented by formula (1) and formula (30) are usually derived from a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound. The structural unit represented by formula (2) is usually derived from a diamine compound and a dicarboxylic acid compound. The structural unit represented by formula (31) is usually derived from a diamine compound and a tricarboxylic acid compound.

樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環が例示される。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of diamine compounds used in the production of resins include aliphatic diamines, aromatic diamines, and mixtures thereof. In this embodiment, "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituents as part of its structure. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring, but are not limited to these. Of these, a benzene ring is preferable. In addition, "aliphatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and may contain an aromatic ring or other substituents as part of its structure.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, and cyclic aliphatic diamines such as 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4'-diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばp-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Examples of aromatic diamines include aromatic diamines having one aromatic ring, such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and 2,6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, and bis[4-(4-aminophenyl)phenyl]phenyl. Examples of aromatic diamines having two or more aromatic rings include aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、透明性、柔軟性、耐屈曲性を高めやすく、YI値を低減しやすい観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’-ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMB)を用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, transparency, flexibility, and bending resistance of the optical film and easily reducing the YI value, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. It is more preferable to use one or more selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, and 4,4'-diaminodiphenyl ether, and it is even more preferable to use 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Tetracarboxylic acid compounds used in the production of resins include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides. The tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compounds may be dianhydrides or tetracarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDAと記載することがある)、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides. Examples of non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride (sometimes referred to as BPDA), 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxy ... phenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (sometimes referred to as 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. In addition, an example of a monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride is 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and an example of a condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride is 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

これらの中でも、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Among these, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, Examples of the dianhydride include 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, and 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more types.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides include cyclic or non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides. Cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides are tetracarboxylic acid dianhydrides having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include cycloalkane tetracarboxylic acid dianhydrides such as 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, and 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic acid dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic acid dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides include 1,2,3,4-butane tetracarboxylic acid dianhydride and 1,2,3,4-pentane tetracarboxylic acid dianhydride, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. Additionally, a combination of a cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride may be used.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度、表面硬度、透明性、柔軟性及び耐屈曲性を高めやすく、YI値を低減しやすい観点から、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)及び3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)がさらに好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength, surface hardness, transparency, flexibility, and bending resistance of the optical film and easily reducing the YI value, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, Preferred are 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, and mixtures thereof, more preferred are 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, and mixtures thereof, and even more preferred are 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).

樹脂の合成に用いられるジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。具体例としては、テレフタル酸;イソフタル酸;2-メトキシテレフタル酸;2-メチルテレフタル酸;2,5-ビス(トリフルオロメチル)テレフタル酸;イソフタル酸;2,5-ジメチルテレフタル酸;2,5-ジメトキシテレフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロライド化合物が挙げられる。これらのジカルボン酸化合物の中でも、光学フィルムの引張弾性率、突刺し強度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、4,4’-オキシビス安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸、2-メトキシテレフタル酸、2-メチルテレフタル酸、2,5-ジメチルテレフタル酸、2,5-ジメトキシテレフタル酸、2,5-ビス(トリフルオロメチル)テレフタル酸、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ビフェニルジカルボン酸及びそれらの酸クロリドが好ましく、2-メトキシテレフタル酸、2-メチルテレフタル酸、2,5-ジメチルテレフタル酸クロライド(DMTPC)、2,5-ジメトキシテレフタル酸クロライド(MOTPC)、2,5-ビス(トリフルオロメチル)テレフタル酸クロライド(6FTPC)、テレフタロイルクロリド(TPC)、イソフタロイルクロリドがより好ましく、テレフタロイルクロリド(TPC)、2-メトキシテレフタル酸、2-メチルテレフタル酸、2,5-ジメチルテレフタル酸クロライド(DMTPC)、2,5-ジメトキシテレフタル酸クロリド(MOTPC)がさらに好ましく、2-メトキシテレフタル酸、2-メチルテレフタル酸、2,5-ジメチルテレフタル酸クロライド(DMTPC)及び2,5-ジメトキシテレフタル酸クロリド(MOTPC)がさらにより好ましい。 Examples of dicarboxylic acid compounds used in the synthesis of the resin include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and acid chloride compounds and acid anhydrides related thereto, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid, isophthalic acid, 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid, isophthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid, 2,5-dimethoxyterephthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 3,3'-biphenyldicarboxylic acid, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-biphenyldicarboxylic acid, dicarboxylic acid compounds of chain hydrocarbons having 8 or less carbon atoms, compounds in which two benzoic acids are linked by a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group, and acid chloride compounds thereof. Among these dicarboxylic acid compounds, from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus, puncture strength and bending resistance of the optical film, 4,4'-oxybisbenzoic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid, 2,5-dimethoxyterephthalic acid, 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-biphenyldicarboxylic acid and acid chlorides thereof are preferred, and 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC), 2,5-dimethoxyterephthalic acid chloride (DMTPC) and 2,5-dimethoxyterephthalic acid chloride (DMTPC) are preferred. Of these, terephthaloyl chloride (MOTPC), 2,5-bis(trifluoromethyl)terephthalic acid chloride (6FTPC), terephthaloyl chloride (TPC), and isophthaloyl chloride are more preferred, and terephthaloyl chloride (TPC), 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC), and 2,5-dimethoxyterephthalic acid chloride (MOTPC) are even more preferred, and 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC), and 2,5-dimethoxyterephthalic acid chloride (MOTPC) are even more preferred.

なお、上記ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記の樹脂合成に用いられるテトラカルボン酸化合物に加えて、他のテトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 The polyimide resin may be a product obtained by further reacting other tetracarboxylic acids and tricarboxylic acids, as well as their anhydrides and derivatives, in addition to the tetracarboxylic acid compounds used in the synthesis of the resin, as long as the various physical properties of the optical film are not impaired.

他のテトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Other tetracarboxylic acids include water adducts of the anhydrides of the above tetracarboxylic acid compounds.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;1,3,5-ベンゼントリカルボン酸の酸クロリド化合物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and acid chloride compounds and acid anhydrides related thereto, and two or more of these may be used in combination. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, acid chloride compounds of 1,3,5-benzenetricarboxylic acid, 2,3,6-naphthalenetricarboxylic-2,3-anhydride, and compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked via a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とする樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In producing the resin, the amount of the diamine compound, tetracarboxylic acid compound and/or dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired resin.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5~350℃、好ましくは20~200℃、より好ましくは25~100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分~10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, tetracarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, and more preferably 25 to 100°C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under an inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and/or an inert gas atmosphere with stirring. In addition, the reaction is preferably carried out in a solvent that is inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples of the solvent include alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, and the like. Examples of suitable solvents include ketone-based solvents such as methylisobutyl ketone, 2-heptanone, and methylisobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile-based solvents such as acetonitrile; ether-based solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amide-based solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane; carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, amide-based solvents can be preferably used from the viewpoint of solubility.

ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N-エチルピペリジン、N-プロピルピペリジン、N-ブチルピロリジン、N-ブチルピペリジン、及びN-プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2-メチルピリジン(2-ピコリン)、3-メチルピリジン(3-ピコリン)、4-メチルピリジン(4-ピコリン)、2-エチルピリジン、3-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、2,4,6-トリメチルピリジン、3,4-シクロペンテノピリジン、5,6,7,8-テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In the imidization step in the production of polyimide resins, imidization can be carried out in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2. 2] Alicyclic amines (polycyclic) such as nonane; and aromatic amines such as pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline. In addition, from the viewpoint of facilitating the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in imidization reactions, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製し、単離してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 Polyimide-based resins and polyamide-based resins may be separated, purified, and isolated by conventional methods, such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these separation methods. In a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to a reaction solution containing a transparent polyamideimide resin to precipitate the resin, which can then be isolated by concentration, filtration, drying, etc.

<添加剤>
本発明の光学フィルムは、添加剤をさらに含んでもよい。このような添加剤としては、例えば、フィラー、紫外線吸収剤、増白剤、酸化防止剤、pH調整剤及びレベリング剤が挙げられる。
<Additives>
The optical film of the present invention may further contain additives, such as fillers, UV absorbers, brighteners, antioxidants, pH adjusters, and leveling agents.

(フィラー)
本発明の光学フィルムは、少なくとも1種のフィラーを含んでよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、光学フィルムの弾性率及び/又は引裂き強度を高め、耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
(Filler)
The optical film of the present invention may contain at least one filler. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles. Examples of the inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, antimony oxide, and cerium oxide, and metal fluoride particles such as magnesium fluoride and sodium fluoride. Among these, from the viewpoint of increasing the elastic modulus and/or tear strength of the optical film and easily improving the impact resistance, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferably used, and silica particles are more preferably used. These fillers can be used alone or in combination of two or more kinds.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、1nm以上、より好ましくは5nm以上、さらに好ましくは10nm以上、さらにより好ましくは15nm以上、とりわけ好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、さらに好ましくは80nm以下、さらにより好ましくは70nm以下、とりわけ好ましくは60nm以下、とりわけより好ましくは50nm以下、とりわけさらに好ましくは40nm以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。 The average primary particle diameter of the filler, preferably silica particles, is 1 nm or more, more preferably 5 nm or more, even more preferably 10 nm or more, even more preferably 15 nm or more, and particularly preferably 20 nm or more, and is preferably 100 nm or less, more preferably 90 nm or less, even more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, especially preferably 60 nm or less, especially more preferably 50 nm or less, and especially more preferably 40 nm or less. When the average primary particle diameter of the silica particles is within the above range, aggregation of the silica particles is suppressed, and the optical properties of the obtained optical film are easily improved. The average primary particle diameter of the filler can be measured by the BET method. The average primary particle diameter may also be measured by image analysis using a transmission electron microscope or a scanning electron microscope.

本発明の光学フィルムにおけるフィラー、例えば無機粒子、中でもシリカ粒子の含有量は、光学フィルムの全質量に対して、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは45質量%以下、さらにより好ましくは40質量%以下であり、好ましくは0質量%以上である。フィラーの含有量が上記の上限以下であると、得られる光学フィルムの弾性率を高めやすいと共に、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。ここで、光学フィルムの引張弾性率は、シリカ粒子等のフィラーの含有量を高めることによって、高くなる傾向があるが、シリカ粒子等のフィラーの含有量が多すぎる場合には、得られる光学フィルムが上記の数式(1)~数式(3)を満たしにくい。また、光学フィルムの突刺し強度が低下しやすい。そのため、本発明の光学フィルムにおいては、シリカ粒子の含有量を上記の上限以下とすることが、光学フィルムの引張弾性率を高めると共に、突刺し強度を高め、高い広角方向の視認性を維持しやすい観点から好ましい。なお、本明細書において、光学フィルムにおける例えばシリカ粒子の含有量が、光学フィルムの全質量に対して上記の上限以下であるとは、シリカ粒子の含有量が0質量%である、すなわちシリカ粒子を含有しないか、又は、含有するとしても上記の上限以下の量であることを表す。 The content of the filler, for example, inorganic particles, especially silica particles, in the optical film of the present invention is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, even more preferably 45% by mass or less, even more preferably 40% by mass or less, and preferably 0% by mass or more, based on the total mass of the optical film. When the content of the filler is equal to or less than the above upper limit, it is easy to increase the elastic modulus of the obtained optical film and improve the optical properties of the optical film. Here, the tensile elastic modulus of the optical film tends to be increased by increasing the content of fillers such as silica particles, but if the content of fillers such as silica particles is too high, it is difficult for the obtained optical film to satisfy the above formulas (1) to (3). In addition, the puncture strength of the optical film is likely to decrease. Therefore, in the optical film of the present invention, it is preferable to set the content of silica particles to equal to or less than the above upper limit, from the viewpoint of increasing the tensile elastic modulus of the optical film, increasing the puncture strength, and easily maintaining high visibility in a wide angle direction. In this specification, for example, when the content of silica particles in an optical film is equal to or less than the upper limit relative to the total mass of the optical film, this means that the content of silica particles is 0% by mass, i.e., no silica particles are contained, or even if they are contained, the amount is equal to or less than the upper limit.

(紫外線吸収剤)
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含んでもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、及びシアノアクリレート系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、本発明の光学フィルムを表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。好適な市販の紫外線吸収剤としては、例えば、住化ケムテックス(株)製のSumisorb(登録商標) 340、(株)ADEKA製のアデカスタブ(登録商標) LA-31、及びBASFジャパン(株)製のチヌビン(登録商標) 1577等が挙げられる。
(Ultraviolet absorber)
The optical film of the present invention may further contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber may be appropriately selected from those that are commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light with a wavelength of 400 nm or less. Examples of ultraviolet absorbers include triazine-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzoate-based ultraviolet absorbers, cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers, and salicylate-based ultraviolet absorbers. These may be used alone or in combination of two or more. When the optical film contains an ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, so that the visibility can be improved when the optical film of the present invention is applied to a display device or the like. In this specification, the term "based compound" refers to a derivative of the compound to which the term "based compound" is attached. For example, the term "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to benzophenone. Suitable commercially available ultraviolet absorbers include, for example, Sumisorb (registered trademark) 340 manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd., Adeka STAB (registered trademark) LA-31 manufactured by ADEKA Corporation, and Tinuvin (registered trademark) 1577 manufactured by BASF Japan Ltd.

本発明の光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルムに含まれるポリアミドイミド系樹脂の質量100質量部に対して、好ましくは0.01~10質量部、より好ましくは1~8質量部、さらに好ましくは2~7質量部である。紫外線吸収剤の含有量が上記の下限以上であると、紫外線吸収性を向上させやすい。紫外線吸収剤の含有量が上記の上限以下であると、基材製造時の熱による紫外線吸収剤の分解を抑制でき、光学特性を向上させやすく、例えばヘーズを低減させやすい。 When the optical film of the present invention contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 8 parts by mass, and even more preferably 2 to 7 parts by mass, per 100 parts by mass of the polyamideimide resin contained in the optical film. When the content of the ultraviolet absorber is equal to or greater than the above lower limit, ultraviolet absorbency is easily improved. When the content of the ultraviolet absorber is equal to or less than the above upper limit, decomposition of the ultraviolet absorber due to heat during production of the substrate can be suppressed, and optical properties can be easily improved, for example, haze can be easily reduced.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。本発明の光学フィルムは、優れた広角方向の視認性を有するため、画像表示装置等における光学フィルムとして有用である。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。 The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes. The optical film of the present invention may be a single layer or a laminate, and the optical film of the present invention may be used as it is, or may be used as a laminate with other films. The optical film of the present invention has excellent visibility in a wide angle direction, and is therefore useful as an optical film in image display devices and the like. When the optical film is a laminate, all layers laminated on one or both sides of the optical film are referred to as the optical film.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してもよい。本発明の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れるため、画像表示装置等における光学フィルムとして有用である。特に本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、特にフレキシブルディスプレイの前面板(ウインドウフィルム)として有用である。フレキシブルディスプレイは、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する上記光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブルディスプレイの前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。 The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes. The optical film of the present invention has excellent visibility in wide-angle directions, and is therefore useful as an optical film in image display devices and the like. In particular, the optical film of the present invention is useful as a front panel of an image display device, in particular a front panel (window film) of a flexible display. A flexible display has, for example, a flexible functional layer and the above-mentioned optical film that is layered on the flexible functional layer and functions as a front panel. That is, the front panel of the flexible display is placed on the viewing side above the flexible functional layer. This front panel has the function of protecting the flexible functional layer.

<光学フィルムの製造方法>
本発明の光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)前記樹脂及び任意に前記フィラーを含む液(以下、ワニスと記載することがある)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を含む方法によって製造することができる。
<Method of Manufacturing Optical Film>
The optical film of the present invention can be produced, but is not limited to, by the following process, for example:
(a) preparing a liquid containing the resin and optionally the filler (hereinafter, sometimes referred to as varnish) (varnish preparation step);
(b) a step of applying the varnish to a substrate to form a coating film (coating step); and (c) a step of drying the applied liquid (coating film) to form an optical film (optical film forming step).
The composition can be produced by a method comprising the steps of:

ワニス調製工程において、前記樹脂を溶媒に溶解し、必要に応じて前記フィラー及び他の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。 In the varnish preparation process, the resin is dissolved in a solvent, and the filler and other additives are added as necessary, followed by stirring and mixing to prepare the varnish.

ワニスの調製に用いられる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばN,N-ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと略すことがある)、N,N-ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略すことがある)等のアミド系溶媒;γ-ブチロラクトン(以下、GBLと略すことがある)、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点からは、ワニスに用いられる溶媒は、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1~25質量%、より好ましくは5~20質量%である。 The solvent used in preparing the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the resin. Examples of such solvents include amide-based solvents such as N,N-dimethylacetamide (hereinafter sometimes abbreviated as DMAc) and N,N-dimethylformamide (hereinafter sometimes abbreviated as DMF); lactone-based solvents such as γ-butyrolactone (hereinafter sometimes abbreviated as GBL) and γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane; carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, from the viewpoint of easily producing an optical film that satisfies the formulas (1) to (3), the solvent used in the varnish is preferably an amide-based solvent or a lactone-based solvent. These solvents can be used alone or in combination of two or more kinds. The varnish may also contain water, alcohol-based solvents, ketone-based solvents, non-cyclic ester-based solvents, ether-based solvents, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass.

塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating process, the varnish is applied onto the substrate by a known coating method to form a coating film. Known coating methods include, for example, wire bar coating, roll coating methods such as reverse coating and gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, screen coating, fountain coating, and drip molding.

光学フィルム形成工程において、塗膜を乾燥(第1乾燥と称する)し、基材から剥離後、乾燥塗膜をさらに乾燥(第2乾燥又はポストベーク処理と称する)することにより光学フィルムを形成する。第1乾燥は、必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において実施されてもよい。第1乾燥は、例えば陰圧のテンター炉内等の陰圧条件下、比較的低温で時間をかけて行うことが好ましい。陰圧の条件下で第一乾燥を行うと、理由は明らかではないが、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)~数式(3)を満たしやすいと共に、光学フィルムの全光線透過率を高めやすく、ヘーズ及びYIを低下させやすい。これは、第一乾燥の条件下で光学フィルムから揮発して除去される溶媒が光学フィルム表面で滞留することを防止し、その結果、光学フィルムの表面が均一になるためであると考えられる。加えて、比較的低温で時間をかけて第1乾燥を行うことによっても、光学フィルムの表面が均一になりやすく、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)~数式(3)を満たしやすい。また、乾燥時の樹脂の酸化劣化が抑制されるために、光学フィルムの全光線透過率を高めやすく、ヘーズ及びYIを低下させやすい。 In the optical film forming process, the coating film is dried (referred to as first drying), and after peeling from the substrate, the dried coating film is further dried (referred to as second drying or post-baking treatment) to form an optical film. The first drying may be performed under an inert atmosphere or reduced pressure conditions as necessary. The first drying is preferably performed under negative pressure conditions, such as in a negative tenter furnace, at a relatively low temperature over a long period of time. When the first drying is performed under negative pressure conditions, the transmission image clarity value of the optical film produced is likely to satisfy formulas (1) to (3), the total light transmittance of the optical film is likely to be increased, and the haze and YI are likely to be reduced, although the reason is not clear. This is thought to be because the solvent volatilized and removed from the optical film under the first drying conditions is prevented from remaining on the optical film surface, resulting in a uniform surface of the optical film. In addition, the surface of the optical film is likely to be uniform by performing the first drying over a long period of time at a relatively low temperature, and the transmission image clarity value of the optical film produced is likely to satisfy formulas (1) to (3). In addition, because the oxidative deterioration of the resin during drying is suppressed, it is easier to increase the total light transmittance of the optical film and to reduce the haze and YI.

ここで、本発明の光学フィルムを工業的に生産する場合、ラボレベルでの製造環境と比較して実際の製造環境は広角方向の視認性を高めるのに不利である場合が多く、その結果、光学フィルムの広角方向の視認性を高めることが困難となる場合がある。第1乾燥を陰圧条件下、比較的低温で時間をかけて行うことが好ましいことは上記に述べたとおりであるが、実験室レベルでは、第1乾燥を行う際に、乾燥を密閉した乾燥器内で行うことができるため、外的要因による光学フィルムの表面の荒れが比較的生じにくい。これに対し、光学フィルムを工業的に生産する場合には、例えば、第1乾燥において広い面積を加熱する必要があるため、加熱の際に送風装置を使用することもある。その結果、光学フィルムの表面状態が荒れやすくなり、光学フィルムの広角方向の視認性を高めることが困難である。 Here, when the optical film of the present invention is industrially produced, the actual production environment is often unfavorable for increasing the visibility in the wide-angle direction compared to the production environment at the laboratory level, and as a result, it may be difficult to increase the visibility of the optical film in the wide-angle direction. As described above, it is preferable to perform the first drying under negative pressure conditions at a relatively low temperature for a long time. However, at the laboratory level, the first drying can be performed in a sealed dryer, so that the surface of the optical film is relatively unlikely to become rough due to external factors. In contrast, when the optical film is industrially produced, for example, a large area needs to be heated in the first drying, and a blower may be used during heating. As a result, the surface condition of the optical film is easily roughened, making it difficult to increase the visibility of the optical film in the wide-angle direction.

加熱により乾燥を行う場合、特に光学フィルムを工業的に生産する際に上記のような外的要因を考慮すると、第1乾燥の温度は、好ましくは60~150℃、より好ましくは60~130℃、さらに好ましくは70~120℃である。第1乾燥の時間は好ましくは5~60分、より好ましくは10~40分である。特に光学フィルムを工業的に生産する際に上記のような外的要因を考慮すると、第1乾燥は3段階以上の乾燥温度条件で実施することが好ましい。多段階の条件は、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件及び/又は乾燥時間で実施することができ、例えば3~10段階、好ましくは3~8段階で乾燥を行ってもよい。第1乾燥を3段階以上の多段階条件下で実施すると、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)~数式(3)を満たしやすくなり、広角方向の視認性が向上する。3段階以上の多段階条件下の態様では、第1乾燥の温度プロファイルが昇温及び降温を含むことが好ましい。すなわち、光学フィルム形成工程における第1乾燥条件は、温度プロファイルが昇温及び降温を含む3段階以上の加熱温度条件であることが好ましい。このような温度プロファイルとして4段階の場合を例に挙げると、第1乾燥の温度は、順に70~90℃(第1の温度)、90~120℃(第2の温度)、80~120℃(第3の温度)及び80~100℃(第4の温度)である。この例では、第1乾燥の温度は、第1の温度から第2の温度へ昇温し、次いで第2の温度から第3の温度へ降温し、さらに第3の温度から第4の温度に降温する。ここで第1乾燥の時間は各段階において、例えば、5~15分である。乾燥塗膜の溶媒残存量が、乾燥塗膜の質量に対して、好ましくは5~15質量%、より好ましくは6~12質量%となるように、第1乾燥は実施されることが好ましい。溶媒残存量が上記範囲であると、乾燥塗膜の基材からの剥離性が良好となり、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)~数式(3)を満たしやすい。 When drying is performed by heating, the temperature of the first drying is preferably 60 to 150°C, more preferably 60 to 130°C, and even more preferably 70 to 120°C, particularly when considering the above-mentioned external factors in industrial production of optical films. The time of the first drying is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes. Particularly when considering the above-mentioned external factors in industrial production of optical films, it is preferable to perform the first drying under drying temperature conditions of three or more stages. The multi-stage conditions can be performed under the same or different temperature conditions and/or drying times in each stage, and drying may be performed in, for example, 3 to 10 stages, preferably 3 to 8 stages. When the first drying is performed under multi-stage conditions of three or more stages, the transmission image clarity value of the optical film produced is more likely to satisfy the formulas (1) to (3), and the visibility in the wide-angle direction is improved. In an embodiment under multi-stage conditions of three or more stages, it is preferable that the temperature profile of the first drying includes a temperature rise and a temperature fall. That is, the first drying conditions in the optical film forming process are preferably heating temperature conditions with a temperature profile of three or more stages including temperature rise and temperature fall. In an example of a four-stage temperature profile, the temperatures of the first drying are 70 to 90°C (first temperature), 90 to 120°C (second temperature), 80 to 120°C (third temperature), and 80 to 100°C (fourth temperature) in that order. In this example, the temperature of the first drying is raised from the first temperature to the second temperature, then lowered from the second temperature to the third temperature, and further lowered from the third temperature to the fourth temperature. Here, the time of the first drying is, for example, 5 to 15 minutes in each stage. It is preferable that the first drying is performed so that the amount of the remaining solvent in the dried coating film is preferably 5 to 15 mass%, more preferably 6 to 12 mass%, based on the mass of the dried coating film. When the amount of remaining solvent is within the above range, the peelability of the dried coating film from the substrate is good, and the transmission image clarity value of the produced optical film is likely to satisfy formulas (1) to (3).

第2乾燥の温度は、好ましくは150~300℃、より好ましくは180~250℃、さらに好ましくは180~230℃である。第2乾燥の時間は、好ましくは10~60分、より好ましくは30~50分である。 The temperature of the second drying is preferably 150 to 300°C, more preferably 180 to 250°C, and even more preferably 180 to 230°C. The time of the second drying is preferably 10 to 60 minutes, and more preferably 30 to 50 minutes.

第2乾燥は、枚葉式で行ってもよいが、工業的に生産する場合には、製造効率の観点から、ロール・ツー・ロール方式で行うことが好ましい。枚葉式では、面内方向に均一に伸長させた状態で乾燥させることが好ましい。
ロール・ツー・ロール方式では、得られる光学フィルムが数式(1)~数式(3)を満たしやすい観点から、乾燥塗膜を搬送方向に伸長させた状態で乾燥させることが好ましく、搬送速度は、好ましくは0.1~5m/分、より好ましくは0.2~3m/分、さらに好ましくは0.7~2.5m/分である。第2乾燥は1段階又は多段階の条件で実施されてもよい。多段階の条件は、好ましくは、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件、乾燥時間及び熱風の風速から選択される少なくとも1種で実施することができ、例えば、3~10段階、好ましくは3~8段階で乾燥を行ってもよく、光学フィルムが数式(1)~数式(3)の範囲を満たしやすい観点から、多段階の条件で実施することが好ましい。また、各段階では、熱風の風速は、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)~数式(3)を満たしやすい観点から、好ましくは5~20m/分、より好ましくは10~15m/分、さらに好ましくは11~14m/分である。
The second drying may be performed by a sheet-by-sheet method, but in the case of industrial production, it is preferable to perform the second drying by a roll-to-roll method from the viewpoint of production efficiency. In the sheet-by-sheet method, it is preferable to dry the film in a state in which it is uniformly stretched in the in-plane direction.
In the roll-to-roll method, from the viewpoint that the obtained optical film easily satisfies the formulae (1) to (3), it is preferable to dry the dried coating film in a state stretched in the conveying direction, and the conveying speed is preferably 0.1 to 5 m/min, more preferably 0.2 to 3 m/min, and even more preferably 0.7 to 2.5 m/min. The second drying may be performed under one-stage or multi-stage conditions. The multi-stage conditions can be preferably performed under at least one selected from the same or different temperature conditions, drying time, and hot air speed in each stage, and drying may be performed in, for example, 3 to 10 stages, preferably 3 to 8 stages. From the viewpoint that the optical film easily satisfies the ranges of the formulae (1) to (3), it is preferable to perform the drying under multi-stage conditions. In addition, in each stage, the hot air speed is preferably 5 to 20 m/min, more preferably 10 to 15 m/min, and even more preferably 11 to 14 m/min, from the viewpoint that the transmission image clarity value of the produced optical film easily satisfies the formulae (1) to (3).

本発明の光学フィルムがハードコート層を備える場合、ハードコート層は、例えば、光学フィルムの少なくとも一方の面に硬化性組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に高エネルギー線を照射し、塗膜を硬化させて形成することができる。 When the optical film of the present invention has a hard coat layer, the hard coat layer can be formed, for example, by applying a curable composition to at least one surface of the optical film to form a coating film, and then irradiating the coating film with high-energy radiation to cure the coating film.

基材の例としては、金属系であれば、SUS板、樹脂系であればPETフィルム、PENフィルム、他のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマー(COP)フィルム、アクリル系フィルム等又はハードコート層を有するそれら樹脂フィルム、ガラス基板等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点及び光学フィルムの透過写像性値が数式(1)~数式(3)を満たしやすい観点から、PETフィルム、COPフィルム、ハードコート層を有する樹脂フィルム、SUS板、ガラス板等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、SUS板、ハードコート層を有する樹脂フィルムがより好ましく、SUS板、ハードコート層を有するPETフィルムがさらに好ましい。 Examples of the substrate include, for example, a metal-based SUS plate, and for example, a resin-based PET film, PEN film, other polyimide-based resin or polyamide-based resin film, cycloolefin polymer (COP) film, acrylic film, or the like, or a resin film having a hard coat layer, glass substrate, etc. Among them, from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance and from the viewpoint of the optical film's transmission image clarity value easily satisfying the mathematical formulas (1) to (3), PET film, COP film, resin film having a hard coat layer, SUS plate, glass plate, etc. are preferred, and further, from the viewpoint of adhesion to the optical film and cost, SUS plate and resin film having a hard coat layer are more preferred, and SUS plate and PET film having a hard coat layer are even more preferred.

上記数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点からは、上記の光学フィルム形成工程における塗膜の乾燥を、所定の溶媒量まで塗膜を乾燥後、基材を剥離して、原料フィルムを得る工程、及び、該原料フィルムを、内部が複数の空間に分けられているテンター炉で加熱する加熱工程を含む製造方法により行うことが好ましい。さらに、テンター炉では、少なくとも1つの空間において熱風処理方式で加熱工程が行われ、かつ少なくとも1つの空間において輻射線処理方式で加熱工程が行われることが好ましい。なお、テンター炉とは、フィルム幅方向の両端を固定して加熱する炉を指す。なお、テンター炉を包含する、原料フィルムを加熱するための加熱装置を、本明細書においてオーブンとも称する。また、テンター炉内部の圧力は、テンター炉外の圧力に対してテンター炉内が陰圧となるように調整されていることが好ましい。 From the viewpoint of easily manufacturing an optical film satisfying the above formulas (1) to (3), it is preferable to perform the drying of the coating film in the above optical film forming process by a manufacturing method including a process of drying the coating film to a predetermined solvent amount, peeling off the substrate to obtain a raw film, and a heating process of heating the raw film in a tenter furnace whose inside is divided into a plurality of spaces. Furthermore, in the tenter furnace, it is preferable that the heating process is performed by a hot air treatment method in at least one space, and the heating process is performed by a radiation treatment method in at least one space. Note that the tenter furnace refers to a furnace in which both ends in the width direction of the film are fixed and heated. Note that the heating device for heating the raw film, including the tenter furnace, is also referred to as an oven in this specification. It is also preferable that the pressure inside the tenter furnace is adjusted so that the pressure inside the tenter furnace is negative relative to the pressure outside the tenter furnace.

本実施形態の光学フィルムの製造方法について、図を参照しながら説明する。図4は、本発明の一実施形態における光学フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。図4中、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を少なくとも含む原料フィルム44は、テンター炉100に搬入され、テンター炉100内の加熱ゾーンにおいて加熱され、その後テンター炉100から搬出される。本明細書では、加熱工程を経る前と、溶媒の量などの経時変化はあるものの加熱工程中又はオーブンの中を搬送されているフィルムを原料フィルムと称し、加熱工程を経てオーブンから搬出されたフィルムを光学フィルムと称する。 The manufacturing method of the optical film of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a process cross-sectional view that shows a schematic diagram of a preferred embodiment of the manufacturing method of the optical film in one embodiment of the present invention. In FIG. 4, a raw material film 44 containing at least a polyimide resin and/or a polyamide resin is carried into a tenter furnace 100, heated in a heating zone in the tenter furnace 100, and then carried out from the tenter furnace 100. In this specification, the film before the heating process and the film during the heating process or being carried through the oven, although there are changes over time in the amount of solvent, etc., are referred to as the raw material film, and the film carried out of the oven after the heating process is referred to as the optical film.

原料フィルム44は、原料フィルムが巻き取られたロールから繰り出されてテンター炉100に搬入されてもよいし、その直前の工程から連続的にテンター炉に搬入されてもよい。図5は、本発明の光学フィルムの製造方法における加熱工程の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。図5に示すように、原料フィルム44は、フィルムの搬送方向(MD方向、長手方向とも言う)に垂直な方向(TD方向、幅方向とも言う)のフィルムの両端が固定された状態でテンター炉内を搬送されることが好ましい。固定は、例えば把持装置43により行ってよい。 The raw film 44 may be unwound from a roll and fed into the tenter furnace 100, or may be fed into the tenter furnace continuously from the immediately preceding step. FIG. 5 is a process cross-sectional view that shows a schematic diagram of a preferred embodiment of the heating step in the optical film manufacturing method of the present invention. As shown in FIG. 5, the raw film 44 is preferably fed through the tenter furnace with both ends of the film fixed in the direction perpendicular to the film feed direction (MD direction, also called the longitudinal direction). Fixing may be performed, for example, by a gripping device 43.

両端の固定は、ピンシート、クリップ及びフィルムチャック等の一般にフィルムの製造装置に用いられる把持装置を用いて行うことができる。固定する両端は、用いる把持装置により適宜調整することができるが、フィルム端部から50cm以内の距離で固定されることが好ましい。図5に示すように、原料フィルムは、その両端を複数の把持装置43で把持しながら、搬送させてよい。フィルムの一方端に設置される複数の把持装置43は、その隣接する把持装置間の距離が、フィルムのばたつき又は加熱による寸法変化に起因するワレなどの欠陥を抑制できる距離であることが好ましい。隣接する把持装置間の距離は、好ましくは1~50mmであり、より好ましくは3~25mmであり、さらに好ましくは5~10mmである。また、把持装置は、フィルム搬送軸に直交する直線をフィルムの一方端の任意の把持装置の把持部中央に合せたとき、該直線とフィルムの他方の端との交点と、該交点に最も近い把持装置の把持部中央との距離が、好ましくは3mm以下、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1mm以下となるように設置されることが好ましい。これにより、対抗するフィルム両端部のそれぞれに係る応力の差を小さくすることができるため、得られる光学フィルムの均質性を高めることができる。また、このような条件で把持装置を用いてフィルムを固定しながら乾燥を行うことにより、フィルムの乾燥時のばたつきが抑制され、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 Both ends can be fixed using a gripping device such as a pin sheet, clip, or film chuck that is generally used in film manufacturing equipment. The fixed ends can be adjusted appropriately depending on the gripping device used, but it is preferable to fix them at a distance of 50 cm or less from the end of the film. As shown in FIG. 5, the raw film may be conveyed while being gripped at both ends by multiple gripping devices 43. The multiple gripping devices 43 installed at one end of the film are preferably spaced apart from each other such that defects such as cracks caused by flapping of the film or dimensional changes due to heating can be suppressed. The distance between adjacent gripping devices is preferably 1 to 50 mm, more preferably 3 to 25 mm, and even more preferably 5 to 10 mm. In addition, the gripping devices are preferably installed so that when a straight line perpendicular to the film transport axis is aligned with the center of the gripping part of any gripping device at one end of the film, the distance between the intersection of the straight line and the other end of the film and the center of the gripping part of the gripping device closest to the intersection is preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and even more preferably 1 mm or less. This reduces the difference in stress between the opposing ends of the film, improving the homogeneity of the resulting optical film. In addition, by drying the film while fixing it using a gripping device under these conditions, flapping of the film during drying is suppressed, making it easier to produce the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3).

把持装置でフィルムの両端を固定する操作の例としては、テンター炉に搬入される前又はテンター炉に搬入された後の適時に、フィルムの幅方向において、対向するように設けられた複数のフィルムチャックでフィルムの幅方向の両端を固定する方法が挙げられる。これらの操作により、フィルムのばたつきなどが抑制され、厚さムラや傷等の欠陥が十分に抑制された光学フィルムを得ることができる。また、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。フィルム両端の固定は、加熱工程が行われた後、適時解除されればよく、テンター炉内で行ってもよいし、テンター炉から搬出された後に行ってもよい。 An example of an operation for fixing both ends of the film with a gripping device is a method in which both ends of the film in the width direction are fixed with multiple film chucks arranged opposite each other in the width direction of the film before or after the film is carried into the tenter furnace at an appropriate time. These operations suppress the flapping of the film, and an optical film can be obtained in which defects such as uneven thickness and scratches are sufficiently suppressed. In addition, it becomes easier to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3). The fixing of both ends of the film may be performed inside the tenter furnace or after the film is carried out from the tenter furnace, as long as it is released at an appropriate time after the heating process is performed.

加熱工程に用いられるテンター炉のフィルム搬送方向の全長は、通常10~100m、好ましくは15~80m、より好ましくは15~60mである。テンター炉は、その内部が1つの空間であってもよいし、複数の空間に分けられていてもよいが、本発明の実施形態では、加熱工程を行うテンター炉内部が、複数の空間に分けられているものを採用する。前記空間は、温度条件や風速条件等制御可能な空間であってよく、仕切り板等の物理的な境界を持たなくてもよい。テンター炉の内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムの搬送方向と、垂直又は平行に複数の空間に分けられていてもよい。空間の数は、通常2~20個、好ましくは3~18個、より好ましくは4~15個、さらに好ましくは5~10個である。テンター炉の内部構造によらず、テンター炉全体が加熱ゾーンとなってもよいし、内部の一部が加熱ゾーンとなっていてもよい。図4を参照し、ゾーン40、41及び42の3つが全て加熱ゾーンとなっていてもよいし、これらのうちの1つ、例えばゾーン42が加熱ゾーンとなっていてもよい。 The total length of the tenter furnace used in the heating process in the film transport direction is usually 10 to 100 m, preferably 15 to 80 m, and more preferably 15 to 60 m. The inside of the tenter furnace may be one space or may be divided into multiple spaces, but in the embodiment of the present invention, a tenter furnace in which the heating process is performed is adopted in which the inside is divided into multiple spaces. The space may be a space in which the temperature conditions, wind speed conditions, etc. can be controlled, and it does not have to have a physical boundary such as a partition plate. When the inside of the tenter furnace is divided into multiple spaces, it may be divided into multiple spaces perpendicular or parallel to the film transport direction. The number of spaces is usually 2 to 20, preferably 3 to 18, more preferably 4 to 15, and even more preferably 5 to 10. Regardless of the internal structure of the tenter furnace, the entire tenter furnace may be a heating zone, or a part of the inside may be a heating zone. Referring to FIG. 4, all three of zones 40, 41, and 42 may be heating zones, or only one of them, for example, zone 42, may be a heating zone.

テンター炉は、複数個用いることもできる。この場合のテンター炉の数は、特に限定されないが、例えば2~12個とすることができる。各テンター炉の内部は、先に述べた構造であることができる。複数のテンター炉は、フィルムが外気に触れることなく搬送されるように連続して設置することができる。テンター炉を複数用いる場合、全てのテンター炉が加熱ゾーンとなってもよいし、一部のテンター炉が加熱ゾーンとなっていてもよい。また、テンター炉に加え、他の機器としてオーブンを併用してもよい。本明細書において、オーブンとは、フィルムを加熱できる機器を意味し、加熱炉及び乾燥炉を含む。加熱炉は、熱風処理又は輻射線処理のどちらでもよく、これらを併用する加熱炉でもよい。オーブンを併用する場合、オーブンの内部構造、使用する数及び加熱を行う条件は、本発明の光学フィルムを得られる範囲内で適宜調整すればよいが、本明細書に記載のテンター炉と同様とすることが好ましい。 A plurality of tenter furnaces may be used. In this case, the number of tenter furnaces is not particularly limited, but may be, for example, 2 to 12. The inside of each tenter furnace may have the structure described above. A plurality of tenter furnaces may be installed in succession so that the film is transported without being exposed to the outside air. When a plurality of tenter furnaces are used, all of the tenter furnaces may be heating zones, or some of the tenter furnaces may be heating zones. In addition to the tenter furnaces, ovens may be used in combination as other equipment. In this specification, oven means equipment that can heat the film, and includes heating furnaces and drying furnaces. The heating furnace may be either a hot air treatment or a radiation treatment, or may be a heating furnace that uses both. When an oven is used in combination, the internal structure of the ovens, the number of ovens used, and the heating conditions may be appropriately adjusted within the range in which the optical film of the present invention can be obtained, but it is preferable that they are the same as the tenter furnaces described in this specification.

テンター炉内部の空気の循環と排気は、テンター炉の内部が複数の空間に分けられている場合は各空間で行われることが好ましく、テンター炉が複数ある場合は各テンター炉で行われることが好ましい。上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすい観点から、テンター炉内部の圧力は、テンター炉外の圧力に対してテンター炉内が陰圧となるように調整されていることが好ましい。テンター炉内部の温度は、テンター炉毎に調整できることが好ましく、テンター炉の内部が複数の空間に分けられている場合は各空間で独立に温度調整ができることが好ましい。それぞれの空間の温度設定は、同じであっても異なってもよい。ただし、それぞれのテンター炉又は空間の温度は、後述の温度範囲を満たすことが好ましい。 When the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, the circulation and exhaust of air inside the tenter furnace is preferably performed in each space, and when there are a plurality of tenter furnaces, the circulation and exhaust of air inside the tenter furnace is preferably performed in each tenter furnace. From the viewpoint of facilitating the production of the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3), the pressure inside the tenter furnace is preferably adjusted so that the pressure inside the tenter furnace is negative relative to the pressure outside the tenter furnace. The temperature inside the tenter furnace is preferably adjustable for each tenter furnace, and when the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, it is preferable that the temperature can be adjusted independently for each space. The temperature settings for each space may be the same or different. However, it is preferable that the temperature of each tenter furnace or space satisfies the temperature range described below.

加熱工程が行われるテンター炉100は、少なくとも1つの空間において熱風処理方式で加熱工程が行われ、かつ少なくとも1つの空間において輻射線処理方式で加熱工程が行われる。加熱工程は、この工程が行われる全ての空間が熱風処理方式で行われることが好ましい。輻射線処理方式の加熱工程は、熱風処理方式とは別の空間で行われてもよいが、熱風処理方式と併用されて加熱工程が行われることが好ましい。 In the tenter furnace 100 in which the heating process is carried out, the heating process is carried out by the hot air treatment method in at least one space, and the heating process is carried out by the radiation treatment method in at least one space. It is preferable that the heating process is carried out by the hot air treatment method in all spaces in which this process is carried out. The heating process by the radiation treatment method may be carried out in a space separate from the space by the hot air treatment method, but it is preferable that the heating process is carried out in combination with the hot air treatment method.

熱風処理方式の加熱工程は、熱風を吹き出すノズルをテンター炉内に設置することで行うことができる。輻射線処理方式の加熱工程は、IRヒーターなどをテンター炉内に設置して輻射線をフィルムに当てることで行うことができる。 The heating process in the hot air treatment method can be carried out by installing a nozzle that blows out hot air inside the tenter oven. The heating process in the radiation treatment method can be carried out by installing an IR heater or the like inside the tenter oven and exposing the film to radiation.

本発明の実施形態の一例として、ノズルを用いた熱風処理方式、及びIRヒーターを用いた輻射線処理方式について、ノズルを用いた熱風処理方式から順に以下に説明する。 As an example of an embodiment of the present invention, a hot air treatment method using a nozzle and a radiation treatment method using an IR heater will be described below, starting with the hot air treatment method using a nozzle.

図4を参照し、加熱工程が行われるテンター炉100は、その内部の上面100aに、複数の上側ノズル46が設けられており、その内部の下面100bに、複数の下側ノズル47が設けられている。上側ノズル46と下側ノズル47とは、上下方向に対向するように設けられている。ノズルは、例えば、図4のゾーン42のように4対のノズル(計8本)を設けてもよいし、図4のゾーン41のように10対のノズル(計20本)を設けてもよく、オーブンの構造に応じて適宜設置することができる。隣り合うノズルの間隔は、テンター炉の構造を簡素化しつつ原料フィルムを均一に加熱する観点、及び、数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点から、好ましくは0.1~1m、より好ましくは0.1~0.5m、さらに好ましくは0.1~0.3mである。 Referring to FIG. 4, the tenter furnace 100 in which the heating step is performed has a plurality of upper nozzles 46 on its internal upper surface 100a, and a plurality of lower nozzles 47 on its internal lower surface 100b. The upper nozzles 46 and the lower nozzles 47 are provided so as to face each other in the vertical direction. For example, the nozzles may be provided in four pairs of nozzles (total of eight nozzles) as in zone 42 of FIG. 4, or in ten pairs of nozzles (total of twenty nozzles) as in zone 41 of FIG. 4, and can be appropriately installed according to the structure of the oven. The interval between adjacent nozzles is preferably 0.1 to 1 m, more preferably 0.1 to 0.5 m, and even more preferably 0.1 to 0.3 m, from the viewpoint of uniformly heating the raw material film while simplifying the structure of the tenter furnace, and from the viewpoint of easily manufacturing an optical film that satisfies the formulas (1) to (3).

テンター炉の内部が複数の区間に区分される場合、各空間に設けられる熱風吹き出し用のノズルの本数は、通常5~30本とすることができる。上記の数式を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすい観点から、ノズルの本数は8~20本であることが好ましい。ノズル本数が前記の範囲にあるとフローティングしているフィルムの曲率が大きくなりすぎにくい傾向があり、またフィルムがノズルの間で浮き易い、すなわちフローティングし易い傾向がある。 When the inside of the tenter furnace is divided into multiple sections, the number of nozzles for blowing hot air provided in each space can usually be 5 to 30. From the viewpoint of facilitating the production of the optical film of the present invention that satisfies the above formula, the number of nozzles is preferably 8 to 20. When the number of nozzles is within the above range, the curvature of the floating film tends not to become too large, and the film tends to easily float between the nozzles, i.e., to float.

テンター炉100の上面100aに設けられた上側ノズル46は、下部に吹き出し口を有しており、下方向(矢印B方向)に熱風を吹き出すことができる。一方、テンター炉100の下面にそれぞれ設けられた下側ノズル47は、上部に吹き出し口を有しており、上方向(矢印C方向)に熱風を吹き出すことができる。なお、図4には示していないが、上側ノズル46及び下側ノズル47は、原料フィルムを幅方向に均一に加熱することができるように、図4の紙面に垂直方向に所定のサイズの奥行きを有している。ここで、ノズルの向きをフィルム面に対して横向きに設定することも考えらえられるが、その場合、理由は明らかではないが、数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造することは難しい。 The upper nozzle 46 provided on the upper surface 100a of the tenter furnace 100 has an outlet at the bottom and can blow hot air downward (in the direction of arrow B). On the other hand, the lower nozzle 47 provided on the lower surface of the tenter furnace 100 has an outlet at the top and can blow hot air upward (in the direction of arrow C). Although not shown in FIG. 4, the upper nozzle 46 and the lower nozzle 47 have a depth of a predetermined size in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4 so that the raw material film can be heated uniformly in the width direction. Here, it is also possible to set the nozzle direction horizontal to the film surface, but in that case, it is difficult to manufacture an optical film that satisfies formulas (1) to (3), although the reason is not clear.

本実施形態の光学フィルムの製造方法では、加熱ゾーンに設けられた全ての上側ノズル46及び全ての下側ノズル47からの吹き出し口における熱風の吹き出し風速は、好ましくは2~25m/秒である。吹き出し風速は、上記の式を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、また、光学フィルムの光学的な均一性を高めやすい観点から、より好ましくは2~23m/秒、さらに好ましくは8~20m/秒である。また、原料フィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たり、ノズル46又は47の一本当たりの吹き出し口からの吹き出し風量は、同様の観点から、好ましくは0.1~3m/秒、より好ましくは0.1~2.5m/秒、さらに好ましくは0.2~2m/秒である。 In the optical film manufacturing method of this embodiment, the blowing speed of hot air from the outlets of all upper nozzles 46 and all lower nozzles 47 provided in the heating zone is preferably 2 to 25 m/sec. From the viewpoints of facilitating the production of the optical film of the present invention that satisfies the above formula and facilitating the improvement of the optical uniformity of the optical film, the blowing speed is more preferably 2 to 23 m/sec, and even more preferably 8 to 20 m/sec. From the same viewpoints, the blowing volume of air from the outlet of each nozzle 46 or 47 per meter of the nozzle length along the width direction of the raw material film is preferably 0.1 to 3 m 3 /sec, more preferably 0.1 to 2.5 m 3 /sec, and even more preferably 0.2 to 2 m 3 /sec.

前記条件で加熱工程を行うと、上記の数式を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすいと共に、均一に加熱されるため、フィルム中に残る溶媒量のばらつきが小さくなり、フィルム全面でより均一な弾性率の光学フィルムが得られやすい。したがって、フィルム全面において屈曲性のばらつきが生じにくく、フィルム面における屈曲性の違いに起因する破損が生じるのを抑制できる。 When the heating process is performed under the above conditions, it is easy to produce the optical film of the present invention that satisfies the above formula, and since the film is heated uniformly, the variation in the amount of solvent remaining in the film is reduced, making it easier to obtain an optical film with a more uniform elastic modulus across the entire film surface. Therefore, variation in flexibility across the entire film surface is less likely to occur, and damage caused by differences in flexibility across the film surface can be suppressed.

テンター炉内では、原料フィルム44が室温から原料フィルムに含まれる溶媒が蒸発する温度まで加熱されるが、原料フィルムの幅方向の長さがほとんど変わらないように把持装置43で保持されているため、熱膨張により垂れやすくなる傾向にある。吹き出し風速及び吹き出し風量が、前記の範囲であると、原料フィルム44を十分に加熱することができ、且つ原料フィルム44の垂れやばたつきを抑制することができる。 In the tenter furnace, the raw film 44 is heated from room temperature to a temperature at which the solvent contained in the raw film evaporates, but since the raw film is held by the gripping device 43 so that its widthwise length remains almost unchanged, it tends to droop due to thermal expansion. If the blowing air speed and blowing air volume are within the above ranges, the raw film 44 can be heated sufficiently and drooping and flapping of the raw film 44 can be suppressed.

熱風の吹き出し風速は、ノズル46、47の熱風吹き出し口において、市販の熱式風速計を用いて測定することができる。また、吹き出し口からの吹き出し風量は、吹き出し風速と吹き出し口の面積との積により求めることができる。なお、熱風の吹き出し風速は、測定精度の観点から、各ノズルの吹き出し口で10点程度の測定を行い、その平均値とすることが好ましい。 The hot air blowing speed can be measured at the hot air outlet of nozzles 46 and 47 using a commercially available thermal anemometer. The volume of air blown from the outlet can be calculated by multiplying the blowing air speed by the area of the outlet. From the viewpoint of measurement accuracy, it is preferable to measure the hot air blowing speed at about 10 points at the outlet of each nozzle and use the average value.

熱風の吹き出し風速及び吹き出し風量は、製造する光学フィルムの物性(光学特性、機械的物性など)によって、適宜調整してもよいが、いずれの形態においても前記の範囲内にあることが好ましい。これによって、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、該光学フィルムの耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。加熱ゾーンは、全ての加熱ゾーンにおいて、吹き出し風速が25m/秒以下で吹き出し風量が2m/秒以下であることがより好ましい。 The blowing speed and blowing volume of the hot air may be appropriately adjusted depending on the physical properties (optical properties, mechanical properties, etc.) of the optical film to be produced, but in any embodiment, it is preferable that they are within the above range. This makes it easy to produce the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3), and makes it easy to improve the visibility of the optical film in a wide angle direction after a bending resistance test. It is more preferable that the blowing speed of the heating zone is 25 m/sec or less and the blowing volume of the heating zone is 2 m3 /sec or less in all heating zones.

本実施形態では、テンター炉100内に原料フィルム44を導入しない状態において、原料フィルム44が保持されるべき位置における熱風の風速は、好ましくは5m/秒以下であり、少なくとも加熱ゾーンにおいてこのような風速であることがより好ましい。このような熱風を用いて原料フィルム44を加熱することによって、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、該光学フィルムの耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。 In this embodiment, when the raw film 44 is not introduced into the tenter furnace 100, the wind speed of the hot air at the position where the raw film 44 is to be held is preferably 5 m/sec or less, and it is more preferable that the wind speed is at least in this range in the heating zone. By heating the raw film 44 using such hot air, it is easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3), and it is easy to improve the visibility of the optical film in the wide-angle direction after the bending resistance test.

加熱ゾーンにおいて、それぞれのノズル46、47の吹き出し口における熱風の吹き出し風速の幅方向(図4の紙面に垂直な方向)における最大値と最小値との差は、好ましくは4m/秒以下である。このように幅方向に風速のばらつきが少ない熱風を用いることによって、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、該光学フィルムの耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。 In the heating zone, the difference between the maximum and minimum values of the hot air blowing speed at the outlet of each nozzle 46, 47 in the width direction (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4) is preferably 4 m/sec or less. By using hot air with little variation in wind speed in the width direction in this way, it is easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3), and it is easy to improve the visibility of the optical film in wide-angle directions after the bending resistance test.

本実施形態において、フィルムに吹き付けられる熱風の風速は、オーブンに搬入された直後の風速が、オーブン内の他の搬送経路の風速よりも大きくなっていることが好ましい。オーブンに搬入された直後(以下「搬送経路1」と称する)とは、オーブンの内部が複数に区切られていない場合は、オーブン搬入口からオーブン長さ(オーブンの搬入口から搬出口までの長さ)の1/10未満の距離をいう。搬送経路1は、オーブンの内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムが最初に通過する空間をいう。オーブンが複数使用される場合は、最初に使用されるオーブンの内部構造により先の記載と同様であってもよいし、最初に通過するオーブンが2つ目以降のオーブン内の風速よりも大きく設定されていることでもよい。 In this embodiment, the wind speed of the hot air blown onto the film immediately after it is carried into the oven is preferably higher than the wind speed of the other transport paths inside the oven. Immediately after it is carried into the oven (hereinafter referred to as "transport path 1") refers to a distance from the oven entrance to less than 1/10 of the oven length (the length from the oven entrance to the exit) if the inside of the oven is not divided into multiple spaces. Transport path 1 refers to the space through which the film passes first if the inside of the oven is divided into multiple spaces. If multiple ovens are used, the internal structure of the first oven to be used may be the same as described above, or the oven through which the film passes first may be set to a wind speed higher than the wind speed in the second and subsequent ovens.

他の搬送経路とは、オーブンの内部が複数に区切られていない場合は、オーブン搬入口からオーブン長さの1/10以降にある搬送経路部をいう。オーブンの内部が複数の空間に分けられている場合は、フィルムが通過する2つ目以降にある任意の空間をいう。オーブンが複数使用される場合は、最初に使用されるオーブンの内部構造により先の記載と同様であってもよいし、2つ目以降のオーブンで任意のオーブン内の風速が最初に通過するオーブンよりも風速が小さく設定されていることでもよい。 If the inside of the oven is not divided into multiple sections, the other transport path refers to the transport path section located 1/10 of the oven length from the oven entrance or later. If the inside of the oven is divided into multiple spaces, it refers to any space from the second onwards through which the film passes. If multiple ovens are used, the internal structure of the oven used first may be as described above, or the air speed in any of the second and subsequent ovens may be set to be slower than the air speed in the first oven passed through.

搬送経路1の風速とオーブン内の他の搬送経路の風速との差は、好ましくは0.1~15m/秒の範囲である。前記風速の差は、より好ましくは0.2m/秒以上であり、また、より好ましくは12m/秒以下、さらに好ましくは8m/秒以下、さらにより好ましくは5m/秒以下、とりわけ好ましくは3m/秒以下である。風速の差が前記範囲となるようにオーブン搬入直後の風速をオーブン内の他の搬送経路の風速よりも大きくすると、より効率よくフィルム中の溶媒を除去することができる傾向にある。風速の差が大きすぎると、風速差に起因するフィルムのばたつきが生じることがあり、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムが製造しにくい場合がある。また、得られる光学フィルムの表面形状の欠陥又は位相差等の光学特性のばらつきの原因となる可能性がある。 The difference between the wind speed of the transport path 1 and the wind speed of the other transport paths in the oven is preferably in the range of 0.1 to 15 m/sec. The difference in wind speed is more preferably 0.2 m/sec or more, more preferably 12 m/sec or less, even more preferably 8 m/sec or less, even more preferably 5 m/sec or less, and particularly preferably 3 m/sec or less. If the wind speed immediately after the film is introduced into the oven is made higher than the wind speed of the other transport paths in the oven so that the difference in wind speed is in the above range, the solvent in the film tends to be removed more efficiently. If the difference in wind speed is too large, the film may flutter due to the difference in wind speed, and it may be difficult to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3). In addition, this may cause defects in the surface shape of the obtained optical film or variations in optical properties such as phase difference.

搬送経路1の風速とオーブン内の他の搬送経路の風速との差は、搬送経路1に設置されているノズルからの熱風の吹き出し風速と他の搬送経路に設置されているノズルからの熱風の吹き出し風速との差として求めることができる。フィルムに吹き付けられる熱風の風速とノズルからの熱風の吹き出し風速に2m/秒以上の差がある場合は、搬送経路1及び他の搬送経路のそれぞれにおけるフィルム付近の熱風の風速の差として求めてもよい。 The difference between the wind speed of transport path 1 and the wind speed of other transport paths in the oven can be found as the difference between the wind speed of hot air blown from the nozzle installed on transport path 1 and the wind speed of hot air blown from the nozzle installed on the other transport paths. If there is a difference of 2 m/sec or more between the wind speed of hot air blown onto the film and the wind speed of hot air blown from the nozzle, it may be found as the difference in wind speed of hot air near the film on transport path 1 and the other transport paths.

他の搬送経路は、搬送経路1の次に位置する搬送経路(以下「搬送経路2」と称する)であることが好ましい。搬送経路2は、オーブンの内部が複数に区切られていない場合、オーブン搬入口からオーブン長さの2/10に位置する搬送経路部をいう。搬送経路2は、オーブンの内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムが通過する2つ目の空間をいう。オーブンが複数使用される場合は、最初に使用されるオーブンの内部構造により先の記載と同様であってもよいし、2つ目のオーブンの風速が最初に通過するオーブンよりも小さく設定されていることでもよい。 The other transport path is preferably the transport path next to transport path 1 (hereinafter referred to as "transport path 2"). When the inside of the oven is not divided into multiple sections, transport path 2 refers to the transport path section located 2/10 of the oven length from the oven entrance. When the inside of the oven is divided into multiple spaces, transport path 2 refers to the second space through which the film passes. When multiple ovens are used, the internal structure of the oven used first may be the same as described above, or the air speed of the second oven may be set to be slower than that of the oven passed through first.

搬送経路1と搬送経路2との風速の差が前記のように設定されている場合、搬送経路2以降の搬送経路の風速は、前記熱風の吹き出し風速の範囲内であればよい。搬送経路2以降の搬送経路の風速は、搬送経路1又は搬送経路2のそれぞれの風速と、0.1~12m/秒の風速の差であることが好ましく、0.2~8m/秒の風速の差であることがより好ましい。このような範囲の風速の差であれば、風速差に起因するフィルムのばたつきを抑制でき、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、また、得られる光学フィルムの重量減少率を所望の範囲に調整しやすい傾向にある。 When the difference in wind speed between conveying path 1 and conveying path 2 is set as described above, the wind speed of the conveying paths after conveying path 2 may be within the range of the hot air blowing speed. The wind speed of the conveying paths after conveying path 2 is preferably 0.1 to 12 m/sec different from the wind speed of conveying path 1 or conveying path 2, respectively, and more preferably 0.2 to 8 m/sec different from the wind speed of conveying path 1 or conveying path 2. If the wind speed difference is within such a range, the fluttering of the film caused by the wind speed difference can be suppressed, the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3) can be easily manufactured, and the weight reduction rate of the obtained optical film tends to be easily adjusted to a desired range.

前記風速の差は、オーブンの内部が複数の空間に分かれていない場合はノズルを設ける位置、ノズルの熱風の吹き出し速度及び風量、オーブン内の気流の流れなどを調整することで調整すればよい。オーブンの内部が複数の空間に分かれている場合は、最初の空間とそれ以降の空間で、ノズルを設ける位置、ノズルの熱風の吹き出し速度及び風量、オーブン内の気流の流れなどを調整することで調整すればよい。複数のオーブンを用いる場合は、最初のオーブンの構造によって、先の記載と同様に行ってもよいし、最初のオーブンと2つめ以降のオーブンとで風速が異なるように、ノズルを設ける位置、ノズルの熱風の吹き出し速度及び風量、オーブン内の気流などを設定すればよい。 If the inside of the oven is not divided into multiple spaces, the difference in the air speed may be adjusted by adjusting the nozzle position, the hot air blowing speed and volume of the nozzle, the air flow inside the oven, etc. If the inside of the oven is divided into multiple spaces, the difference in the air speed may be adjusted by adjusting the nozzle position, the hot air blowing speed and volume of the nozzle, the air flow inside the oven, etc. in the first space and in subsequent spaces. If multiple ovens are used, the same procedure as described above may be followed depending on the structure of the first oven, or the nozzle position, the hot air blowing speed and volume of the nozzle, the air flow inside the oven, etc. may be set so that the air speed is different between the first oven and the second or subsequent ovens.

テンター炉100における加熱ゾーンにおいて、互いに対向する上側ノズル46と下側ノズル47との間隔L(最短距離)は、好ましくは150mm以上、より好ましくは150~600mm、さらに好ましくは150~400mmである。このような間隔Lで上側ノズルと下側ノズルを配置することによって、各工程におけるフィルムのばたつきを一層確実に抑制することができ、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 In the heating zone of the tenter furnace 100, the distance L (shortest distance) between the opposing upper nozzle 46 and lower nozzle 47 is preferably 150 mm or more, more preferably 150 to 600 mm, and even more preferably 150 to 400 mm. By arranging the upper nozzle and the lower nozzle at such a distance L, it is possible to more reliably suppress the fluttering of the film in each process, and it becomes easier to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3).

また、加熱ゾーンに設けられたそれぞれのノズル46、47の吹き出し口における熱風の幅方向(図4の紙面に垂直方向)における最高温度と最低温度との差(ΔT)は、好ましくは全て2℃以下、より好ましくは全て1℃以下である。このように幅方向における温度差が十分に小さい熱風を用いてフィルムを加熱することによって、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。なお、熱風の温度は、好ましくは150~400℃、より好ましくは150~300℃、さらに好ましくは150~250℃である。 The difference (ΔT) between the maximum and minimum temperatures in the width direction (perpendicular to the paper surface of FIG. 4) of the hot air at the outlet of each nozzle 46, 47 provided in the heating zone is preferably 2°C or less, and more preferably 1°C or less. By heating the film using hot air with a sufficiently small temperature difference in the width direction in this way, it becomes easier to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3). The temperature of the hot air is preferably 150 to 400°C, more preferably 150 to 300°C, and even more preferably 150 to 250°C.

光学フィルムの製造方法で使用できるノズルとしては、一般にフィルムの製造装置に用いられるノズルを使用することができ、その例として、原料フィルムの幅方向に伸びるスリット状の吹き出し口を有するノズルをジェットノズル(スリットノズルとも言う)、及び開口を原料フィルムの搬送方向及び原料フィルムの幅方向にそれぞれ複数配置した吹き出し口を有するノズルをパンチングノズル(多孔ノズルとも言う)が挙げられる。 Nozzles that can be used in the optical film manufacturing method include nozzles that are generally used in film manufacturing equipment, examples of which include a jet nozzle (also called a slit nozzle), which is a nozzle with a slit-shaped outlet that extends in the width direction of the raw material film, and a punching nozzle (also called a multi-hole nozzle), which is a nozzle with an outlet with multiple openings arranged in both the transport direction and width direction of the raw material film.

ノズルは、テンター炉100内の上面100aに設けられて下向きにフィルムに向けて熱風を吹き出す構造、及びテンター炉100内の下面100bに設けられて、上向きにフィルムに向けて熱風を吹き出す構造となっている。 The nozzles are provided on the upper surface 100a of the tenter oven 100 and are structured to blow hot air downward toward the film, and on the lower surface 100b of the tenter oven 100 and are structured to blow hot air upward toward the film.

ジェットノズルは、フィルムの幅方向にのびるスリットを熱風の吹き出し口として有する。スリットのスリット幅は、好ましくは5mm以上、より好ましくは5~20mmである。スリット幅を5mm以上にすることによって、得られる光学フィルムの光学的な均一性をより向上させることができる。なお、ジェットノズル一本当たりの吹き出し口の面積は、ジェットノズルのノズルの幅方向の長さとスリット幅との積によって求めることができる。このノズル一本当たりの吹き出し口の面積と吹き出し風速との積が、ノズル一本当たりの熱風の吹き出し風量となる。この熱風の吹き出し風量を、フィルムの幅方向に沿ったスリットの長さで割ることによって、フィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たりの熱風の吹き出し風量を求めることができる。 The jet nozzle has a slit extending in the width direction of the film as a hot air outlet. The slit width is preferably 5 mm or more, more preferably 5 to 20 mm. By making the slit width 5 mm or more, the optical uniformity of the obtained optical film can be further improved. The area of the outlet per jet nozzle can be calculated by multiplying the length of the nozzle in the width direction of the jet nozzle by the slit width. The product of the area of the outlet per nozzle and the blowing air speed is the amount of hot air blown per nozzle. The amount of hot air blown per meter of the nozzle length in the width direction of the film can be calculated by dividing the amount of hot air blown by the length of the slit along the width direction of the film.

パンチングノズルは、その長手方向に垂直な断面が、長方形の形状を有しているもの又は原料フィルム44に対向する面に向かって末広がり状である台形形状であることができる。パンチングノズルは、フィルムと対向する面である下側の面に複数の開口(例えば円形の開口)を有する。パンチングノズルの熱風の吹き出し口は、吹き出し面に設けられる複数の開口によって構成される。複数の開口は熱風の吹き出し口であり、熱風は開口から所定の風速で吹き出される。開口は、フィルムの長手方向に複数配置されるとともに、幅方向にも複数配置されている。開口は、例えば千鳥状に配置することができる。 The punching nozzle may have a rectangular cross section perpendicular to its longitudinal direction, or a trapezoidal cross section that widens toward the surface facing the raw film 44. The punching nozzle has multiple openings (e.g., circular openings) on the lower surface that faces the film. The hot air outlet of the punching nozzle is composed of multiple openings provided on the outlet surface. The multiple openings are hot air outlets, and hot air is blown out from the openings at a predetermined wind speed. Multiple openings are arranged in the longitudinal direction of the film, and multiple openings are also arranged in the width direction. The openings may be arranged, for example, in a staggered pattern.

パンチングノズルの一本当たりの吹き出し口の面積は、一本のパンチングノズルに設けられる全ての開口の面積の和によって求めることができる。このノズル一本当たりの吹き出し口の面積と吹き出し風速との積が、ノズル一本当たりの熱風の吹き出し風量となる。この熱風の吹き出し風量を、フィルムの幅方向に沿ったスリットの長さで割ることによって、フィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たりの熱風の吹き出し風量を求めることができる。 The area of the outlet of each punching nozzle can be calculated by adding up the areas of all the openings in one punching nozzle. The product of the area of the outlet of each nozzle and the blowing air speed is the volume of hot air blown out from each nozzle. By dividing this volume of hot air blown out by the length of the slit along the width direction of the film, the volume of hot air blown out per meter of nozzle length along the width direction of the film can be calculated.

パンチングノズルを用いる場合の、ノズルの吹き出し口における熱風の幅方向における最大吹き出し風速と最小吹き出し風速との差とは、同一ノズル上に設けられる複数の開口から吹き出される熱風の最大吹き出し速度と最小吹き出し速度との差として求めることができる。ノズルの吹き出し口における熱風の幅方向における最高温度と最低温度との差も同様に求めることができる。 When a punching nozzle is used, the difference between the maximum and minimum blowing speeds of the hot air in the width direction at the nozzle outlet can be calculated as the difference between the maximum and minimum blowing speeds of the hot air blown from multiple openings provided on the same nozzle. The difference between the maximum and minimum temperatures in the width direction of the hot air at the nozzle outlet can also be calculated in a similar manner.

テンター炉100内に設けられるノズルの全てがパンチングノズルであると、テンター炉100全体における熱風吹き出し口の面積の合計を大きくすることができる。このため、フィルムにあたる熱風の風圧を小さくすることができ、フィルムのばたつきを一層小さくすることができる。これにより、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすい。テンター炉内又は加熱ゾーンでは、原料フィルム44が室温から原料フィルムに含まれる溶媒が蒸発する温度まで加熱されるが、原料フィルム44の幅方向の長さがほとんど変わらないように把持装置43で保持されているため、熱膨張により垂れやすくなる傾向にある。加熱ゾーンにパンチングノズルを用いることにより、原料フィルム44の垂れやばたつきを一層抑制することができ、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 If all the nozzles installed in the tenter furnace 100 are punching nozzles, the total area of the hot air outlets in the entire tenter furnace 100 can be increased. This makes it possible to reduce the wind pressure of the hot air hitting the film, and further reduce the flapping of the film. This makes it easier to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3). In the tenter furnace or heating zone, the raw material film 44 is heated from room temperature to a temperature at which the solvent contained in the raw material film evaporates, but since the raw material film 44 is held by the gripping device 43 so that the length in the width direction of the raw material film 44 does not change much, it tends to sag due to thermal expansion. By using punching nozzles in the heating zone, the sagging and flapping of the raw material film 44 can be further suppressed, making it easier to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3).

パンチングノズルの面に設けられる開口のそれぞれのサイズ及び数は、各開口における熱風の吹き出し風速が2~25m/秒となり、且つそれぞれのノズルからの吹き出し風量がフィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たり0.1~3m/秒となる範囲内で適宜調整することができる。 The size and number of each opening on the surface of the punching nozzle can be appropriately adjusted within a range in which the hot air blowing speed at each opening is 2 to 25 m/sec and the air volume blown from each nozzle is 0.1 to 3 m3/sec per meter of the nozzle length along the width direction of the film.

パンチングノズルの各開口からの吹き出し風速をより均一にする観点から、開口の形状は、円形であることが好ましい。この場合、開口の直径は、好ましくは2~10mm、より好ましくは3~8mmである。 From the viewpoint of making the blowing air speed from each opening of the punching nozzle more uniform, it is preferable that the shape of the opening is circular. In this case, the diameter of the opening is preferably 2 to 10 mm, more preferably 3 to 8 mm.

パンチングノズルを用いる場合、ノズル一本当たりの面のフィルム搬送方向の長さは、好ましくは50~300mmである。さらに隣接するパンチングノズルとの間隔は、好ましくは0.3m以下である。また、パンチングノズルのフィルム幅方向の長さに対するパンチングノズルの開口の面積の総和(吹き出し口の面積)の比(パンチングノズルの開口の面積の総和(m)/パンチングノズルのフィルム幅方向の長さ(m))は、好ましくは0.008m以上である。 When punching nozzles are used, the length of the surface of each nozzle in the film transport direction is preferably 50 to 300 mm. Furthermore, the distance between adjacent punching nozzles is preferably 0.3 m or less. Moreover, the ratio of the sum of the opening areas of the punching nozzles (the area of the blowing port) to the length of the punching nozzles in the film width direction (sum of the opening areas of the punching nozzles (m 2 )/length of the punching nozzles in the film width direction (m)) is preferably 0.008 m or more.

このようなパンチングノズルを用いることにより、熱風の吹き出し口の面積を大きくすることができる。これにより、熱風の風速を十分に下げ、かつ十分な風量で熱風を吹き出すことが可能となり、フィルムをより均一に加熱することができる。その結果、上記の数式(1)~数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 By using such a punching nozzle, the area of the hot air outlet can be increased. This makes it possible to sufficiently reduce the speed of the hot air and blow out a sufficient volume of hot air, allowing the film to be heated more uniformly. As a result, it becomes easier to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3).

加熱工程が行われるテンター炉100は、ノズルと同様に、その内部の上面100a又はその内部の下面100bにIRヒーターが設けられており、上下方向に対向するように設けられていてもよい。また、IRヒーターは、複数設けられてもよい。IRヒーターとしては、一般にフィルムの製造装置に用いられるIRヒーターを用いればよい。 The tenter furnace 100 in which the heating process is carried out may have an IR heater on its internal upper surface 100a or its internal lower surface 100b, similar to the nozzle, and may be arranged so as to face each other in the vertical direction. Also, multiple IR heaters may be provided. As the IR heater, an IR heater generally used in film manufacturing equipment may be used.

フィルムに当てる輻射線としては、その波長が3~7μmの熱線であることが好ましい。また、輻射線処理方式では、加熱工程が行われる空間の温度が前記の温度範囲内となれば、空間の温度よりも30℃以上高い温度の輻射線を原料フィルムに当ててもよい。 The radiation irradiated to the film is preferably heat radiation with a wavelength of 3 to 7 μm. In addition, in the radiation treatment method, as long as the temperature of the space in which the heating process is carried out is within the above-mentioned temperature range, radiation at a temperature 30°C or more higher than the temperature of the space may be irradiated to the raw film.

本発明の実施形態では、加熱工程が行われるテンター炉100において、前記ノズル(熱風処理方式)とIRヒーター(輻射線処理方式)とが併用されることが好ましい。その場合は、隣り合うノズルの間か又はノズルとテンター炉の内部壁(空間を仕切る壁も含む)との間に、IRヒーターを設置すればよい。 In an embodiment of the present invention, it is preferable to use the nozzles (hot air treatment method) and IR heaters (radiation treatment method) in combination in the tenter furnace 100 where the heating process is performed. In that case, the IR heaters can be installed between adjacent nozzles or between the nozzles and the inner wall of the tenter furnace (including the wall that divides the space).

この場合、加熱工程が行われる空間の温度が前記の温度範囲内であればよく、輻射線処理方式では、空間の温度よりも高い温度の輻射線をフィルムに当ててもよい。輻射線の温度は、例えば、空間の温度よりも30℃以上高い温度でもよいし、150℃以上高い温度であってもよい。ここで、輻射線の温度とは、例えばIRヒーターの設定温度のように放射熱を出す機器で設定する温度を指す。輻射線の温度と、フィルムに当たる輻射線の温度との差は、好ましくは5℃以下、より好ましくは3℃以下、さらに好ましくは1℃以下である。 In this case, the temperature of the space in which the heating process is carried out needs only to be within the above-mentioned temperature range, and in the radiation treatment method, radiation at a temperature higher than the temperature of the space may be applied to the film. The temperature of the radiation may be, for example, 30°C or more higher than the temperature of the space, or 150°C or more higher. Here, the temperature of the radiation refers to the temperature set by a device that emits radiant heat, such as the set temperature of an IR heater. The difference between the temperature of the radiation and the temperature of the radiation that hits the film is preferably 5°C or less, more preferably 3°C or less, and even more preferably 1°C or less.

テンター炉100において、ノズル(熱風処理方式)とIRヒーター(輻射線処理方式)とが併用されると、加熱ゾーン又はテンター炉内の温度(雰囲気の温度)より高温の輻射線を原料フィルムに当てるにもかかわらず、加熱ゾーン又はテンター炉内の温度が高くなりすぎるのを抑制しながら加熱工程を行うことができる。 When a nozzle (hot air treatment method) and an IR heater (radiation treatment method) are used in combination in the tenter furnace 100, the raw film is exposed to radiation that is higher in temperature than the temperature (ambient temperature) in the heating zone or tenter furnace, but the heating process can be carried out while preventing the temperature in the heating zone or tenter furnace from becoming too high.

熱風処理方式と輻射線処理方式とを併用する加熱工程は、テンター炉内の加熱工程が行われる複数の空間のうち、原料フィルムが最初に通過する空間からテンター炉の全長の中間程度に位置する空間までの間に行われることが好ましい。これにより、加熱工程に要する時間を短縮できるだけでなく、面内位相差の均一性により優れた光学フィルムを製造することができる。 The heating process using both hot air and radiation treatment is preferably carried out between the space through which the raw film first passes and a space located approximately halfway along the length of the tenter furnace, among the multiple spaces in the tenter furnace where the heating process is carried out. This not only shortens the time required for the heating process, but also allows the production of an optical film with superior uniformity of in-plane retardation.

加熱工程は、好ましくは150~350℃の範囲で行われる。本発明の実施形態において加熱工程がこの温度範囲であると、原料フィルムが後述の重量減少率Mとなるように調整しやすい傾向にある。この温度範囲は、より好ましくは170℃以上、さらに好ましくは180℃以上であり、より好ましくは300℃以下、さらに好ましくは250℃以下、とりわけ好ましくは230℃以下である。加熱工程の温度が前記の範囲にあると、得られる光学フィルムのYI値を上記の好ましい範囲内に調整しやすい。また、加熱工程が行われる空間の温度は、より好ましくは170℃以上、さらに好ましくは180℃以上である。加熱工程が行われるテンター炉内の温度は、加熱ゾーンが前記の範囲であればよい。テンター炉が複数ある場合及びテンター炉内が複数の空間に分けられている場合は、適宜調整することができるが、全てのテンター炉又は空間が前記範囲内にあることが好ましい。 The heating step is preferably performed in the range of 150 to 350°C. When the heating step is performed in this temperature range in the embodiment of the present invention, it tends to be easier to adjust the raw material film to the weight loss rate M described below. This temperature range is more preferably 170°C or higher, even more preferably 180°C or higher, more preferably 300°C or lower, even more preferably 250°C or lower, and particularly preferably 230°C or lower. When the temperature of the heating step is in the above range, the YI value of the obtained optical film is easily adjusted to within the above preferred range. In addition, the temperature of the space in which the heating step is performed is more preferably 170°C or higher, even more preferably 180°C or higher. The temperature in the tenter furnace in which the heating step is performed may be within the above range in the heating zone. When there are multiple tenter furnaces or when the tenter furnace is divided into multiple spaces, it can be adjusted as appropriate, but it is preferable that all tenter furnaces or spaces are within the above range.

テンター炉100内の原料フィルム44の移動速度は、通常0.1~50m/分の範囲内で適宜調整することができる。前記移動速度の上限は、好ましくは、20m/分、より好ましくは15m/分である。前記移動速度の下限は、好ましくは0.2m/分、より好ましくは0.5m/分、さらに好ましくは0.7m/分、とりわけ好ましくは0.8m/分である。移動速度が速いと、所望の乾燥時間を確保するために、テンター炉長が長くなってしまい、設備が大きくなる傾向になる。本発明の実施形態において、テンター炉100内の原料フィルム44の移動速度が前記範囲であると、原料フィルムが後述の重量減少率Mとなるように調整しやすい傾向にある。また、数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい。 The moving speed of the raw material film 44 in the tenter furnace 100 can be adjusted appropriately within the range of usually 0.1 to 50 m/min. The upper limit of the moving speed is preferably 20 m/min, more preferably 15 m/min. The lower limit of the moving speed is preferably 0.2 m/min, more preferably 0.5 m/min, even more preferably 0.7 m/min, and particularly preferably 0.8 m/min. If the moving speed is fast, the tenter furnace length will be long in order to ensure the desired drying time, and the equipment will tend to be large. In an embodiment of the present invention, when the moving speed of the raw material film 44 in the tenter furnace 100 is within the above range, it tends to be easy to adjust the raw material film to have the weight loss rate M described below. In addition, it is easy to manufacture an optical film that satisfies the mathematical formulas (1) to (3).

加熱工程の処理時間は、通常60秒~2時間、好ましくは10分~1時間である。処理時間は、前記のテンター炉の温度、移動速度、熱風の風速及び風量などの条件を考慮して、適宜調整すればよい。 The processing time for the heating step is usually 60 seconds to 2 hours, and preferably 10 minutes to 1 hour. The processing time may be adjusted appropriately taking into consideration the conditions such as the temperature of the tenter oven, the moving speed, and the speed and volume of the hot air.

本発明の一実施形態において、光学フィルムの製造方法は、加熱工程中にフィルムの幅を変える操作又はフィルム幅を保持して搬送する操作を行ってもよい。フィルムの幅を変える操作の例としては、フィルムを幅方向に延伸させる操作が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは0.7~1.5倍、より好ましくは0.8~1.4倍、さらに好ましくは0.8~1.3倍である。フィルム幅を保持して搬送する操作の例としては、フィルムの幅方向の長さがほとんど変わらないように保持する操作が挙げられる。これらの操作を経て得た光学フィルムは、原料フィルムの幅方向の長さに対し、0.7~1.5倍程度の長さとすることができ、原料フィルムの幅方向の長さから延伸、等倍又は収縮した長さであってもよい。延伸倍率は、把持する部分を除くフィルムの幅に対する、延伸後のフィルムの幅(把持する部分を除く)の比として求められる。
なお、図5には、フィルムの幅方向を延伸させる操作において、延伸倍率が1倍を超える場合を実線で、延伸倍率が等倍であるか又は1倍未満の場合を点線で示している。
In one embodiment of the present invention, the method for producing an optical film may include an operation of changing the width of the film or an operation of conveying the film while maintaining the width during the heating step. An example of an operation of changing the width of the film includes an operation of stretching the film in the width direction. The stretching ratio is preferably 0.7 to 1.5 times, more preferably 0.8 to 1.4 times, and even more preferably 0.8 to 1.3 times. An example of an operation of conveying the film while maintaining the width includes an operation of maintaining the film so that the length in the width direction remains almost unchanged. The optical film obtained through these operations may have a length of about 0.7 to 1.5 times the length in the width direction of the raw material film, and may be stretched, equal to, or shrunk from the length in the width direction of the raw material film. The stretching ratio is determined as the ratio of the width of the film after stretching (excluding the portion to be gripped) to the width of the film excluding the portion to be gripped.
In FIG. 5, in the operation of stretching the film in the width direction, the stretching ratio exceeding 1 is shown by a solid line, and the stretching ratio being equal to or less than 1 is shown by a dotted line.

加熱工程を経た光学フィルムは、テンター炉から搬出された後、次の工程に連続して供給されてもよいし、ロール状に巻き取られて次の工程に供給されてもよい。光学フィルムをロールに巻き取る場合は、表面保護フィルム及び他の光学フィルム等の他のフィルムを積層して巻き取ってもよい。光学フィルムに積層する表面保護フィルムとしては、後述する原料フィルムに積層する表面保護フィルムと同様のものが使用できる。光学フィルムに積層させる表面保護フィルムの厚さは、通常、10~100μm、好ましくは10~80μmである。 After the heating process, the optical film is removed from the tenter furnace and may be continuously supplied to the next process, or may be wound into a roll and supplied to the next process. When the optical film is wound into a roll, it may be wound with a surface protective film and other films such as other optical films laminated thereon. The surface protective film laminated on the optical film may be the same as the surface protective film laminated on the raw material film described below. The thickness of the surface protective film laminated on the optical film is usually 10 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm.

<原料フィルム>
上記の加熱工程に供給される原料フィルムは、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を少なくとも含む。原料フィルムは、後述する原料フィルムの形成に使用されるワニスに含まれる成分と同じ成分を含むことが好ましいが、成分の構造変化や溶媒の一部の蒸発が生じうるため、同一でなくてもよい。原料フィルムは、自立膜であればよく、ゲルフィルムであってもよい。
<Raw film>
The raw film supplied to the heating step contains at least a polyimide resin and/or a polyamide resin. The raw film preferably contains the same components as those contained in the varnish used to form the raw film described below, but they do not have to be the same because structural changes of the components and evaporation of a part of the solvent may occur. The raw film may be a self-supporting film or may be a gel film.

原料フィルムは、数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点から、無機材料を含有するか否かにかかわらず熱重量-示差熱測定(以下「TG-DTA測定」ということがある。)によって求められる120℃から250℃にかけての重量減少率Mが、好ましくは1~40%程度、より好ましくは3~20%、さらに好ましくは5~15%、とりわけ好ましくは5~12%となるように、前記ワニスから溶媒の一部が除去されることが好ましい。原料フィルムの重量減少率Mは、市販のTG-DTAの測定装置を用いて以下の方法で測定することができる。TG-DTAの測定装置としては、日立ハイテクサイエンス社製TG/DTA6300を使用することができる。 From the viewpoint of facilitating the production of an optical film that satisfies the formulas (1) to (3), it is preferable that a part of the solvent is removed from the varnish so that the weight loss rate M from 120°C to 250°C determined by thermogravimetry-differential thermal analysis (hereinafter sometimes referred to as "TG-DTA measurement") is preferably about 1 to 40%, more preferably 3 to 20%, even more preferably 5 to 15%, and particularly preferably 5 to 12%, regardless of whether the raw material film contains an inorganic material. The weight loss rate M of the raw material film can be measured by the following method using a commercially available TG-DTA measuring device. As the TG-DTA measuring device, a TG/DTA6300 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation can be used.

まず、原料フィルムから約20mgの試料を取得し、試料を室温から120℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、120℃で5分間保持した後、400℃まで10℃/分の昇温速度で昇温する条件で加熱しながら、試料の重量変化を測定する。次に、TG-DTA測定の結果から、120℃から250℃にかけての重量減少率M(%)を下記式によって算出すればよい。下記式において、Wは120℃で5分間保持した後の試料の重量を示し、Wは250℃における試料の重量を示す。
M(%)=100-(W/W)×100
First, about 20 mg of a sample is obtained from the raw material film, and the sample is heated from room temperature to 120° C. at a heating rate of 10° C./min, held at 120° C. for 5 minutes, and then heated to 400° C. at a heating rate of 10° C./min while measuring the change in weight of the sample. Next, from the results of the TG-DTA measurement, the weight loss rate M (%) from 120° C. to 250° C. can be calculated using the following formula. In the formula, W 0 represents the weight of the sample after being held at 120° C. for 5 minutes, and W 1 represents the weight of the sample at 250° C.
M(%)=100−(W 1 /W 0 )×100

原料フィルムの重量減少率Mがある程度大きいと、原料フィルムを基材又は表面保護フィルムとの積層体として巻き取ったときに、積層体の折れ曲がり等の変形が抑制され、積層体の巻き取り性が向上する傾向にある。また、数式(1)~数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすくなる。 If the weight loss rate M of the raw material film is relatively large, when the raw material film is wound up as a laminate with a substrate or a surface protection film, deformation of the laminate such as bending is suppressed, and the winding properties of the laminate tend to improve. In addition, it becomes easier to manufacture an optical film that satisfies the formulas (1) to (3).

原料フィルムの重量減少率Mがある程度小さいと、原料フィルムを基材又は表面保護フィルムとの積層体として巻き取ったときに、原料フィルムが基材又は表面保護フィルムに貼り付き難くなる傾向にある。そのため、原料フィルムの均一な透明性を維持しながら、積層体をロールから容易に巻き出すことができる。 If the weight loss rate M of the raw film is relatively small, when the raw film is wound up as a laminate with a substrate or a surface protective film, the raw film tends not to stick to the substrate or the surface protective film. Therefore, the laminate can be easily unwound from the roll while maintaining the uniform transparency of the raw film.

原料フィルムは上記の塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって形成することができる。塗膜の乾燥は、通常50~350℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。上記のようにして得た原料フィルムを、前記加熱工程に供給し、本発明の光学フィルムを製造することができる。原料フィルムは、連続して搬送されて加熱工程に供給されてもよいし、一旦巻き取られた後に供給されてもよい。 The raw film can be formed by drying the coating film and peeling it off from the substrate. The coating film can usually be dried at a temperature of 50 to 350°C. If necessary, the coating film may be dried in an inert atmosphere or under reduced pressure. The raw film obtained as described above can be supplied to the heating step to produce the optical film of the present invention. The raw film may be continuously transported and supplied to the heating step, or may be wound up and then supplied.

<機能層>
本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、1以上の機能層が積層されていてもよい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上を組合せて使用できる。
<Functional layer>
At least one surface of the optical film of the present invention may be laminated with one or more functional layers. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, and a refractive index adjusting layer. The functional layers may be used alone or in combination of two or more kinds.

(紫外線吸収層)
紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。
(Ultraviolet absorbing layer)
The ultraviolet absorbing layer is a layer having the function of absorbing ultraviolet rays, and is composed of a main material selected from, for example, an ultraviolet curing type transparent resin, an electron beam curing type transparent resin, and a thermosetting type transparent resin, and an ultraviolet absorbing agent dispersed in this main material.

(ハードコート層)
ハードコート層は、例えば、例えば、活性エネルギー線照射、或いは熱エネルギー付与により架橋構造を形成し得る反応性材料を含むハードコート形成用の組成物(以下「ハードコート組成物」とも称する)を硬化させて形成することができる層であり、活性エネルギー線照射により形成することができる層が好ましい。活性エネルギー線は、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などが挙げられ、好ましくは紫外線が挙げられる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。ハードコート層の厚さは特に限定されないが、ハードコート層又はハードコート層と光学フィルムとの界面での割れを防止しやすい観点からは、好ましくは2~50μm、より好ましくは2~40μm、さらに好ましくは3~20μm、さらにより好ましくは3~15μmである。前記ハードコート層の厚さが前記の範囲にあると、十分な耐擦傷性を確保することができ、また耐屈曲性が低下しにくく、硬化収縮によるカール発生の問題が発生し難い傾向がある。
(Hard Coat Layer)
The hard coat layer is, for example, a layer that can be formed by curing a composition for forming a hard coat (hereinafter also referred to as a "hard coat composition") containing a reactive material that can form a crosslinked structure by irradiation with active energy rays or by applying thermal energy, and a layer that can be formed by irradiation with active energy rays is preferable. The active energy rays are defined as energy rays that can decompose a compound that generates active species to generate active species, and examples of such rays include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron beams, and preferably ultraviolet rays. The hard coat composition contains at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cationic polymerizable compound. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but from the viewpoint of easily preventing cracks in the hard coat layer or at the interface between the hard coat layer and the optical film, it is preferably 2 to 50 μm, more preferably 2 to 40 μm, even more preferably 3 to 20 μm, and even more preferably 3 to 15 μm. When the thickness of the hard coat layer is in the above range, sufficient scratch resistance can be ensured, and bending resistance is less likely to decrease, and curling problems due to curing shrinkage tend to be less likely to occur.

ハードコート層形成工程において、塗膜に高エネルギー線(例えば活性エネルギー線)を照射し、塗膜を硬化させてハードコート層を形成する。照射強度は、硬化性組成物の組成によって適宜決定され、特に限定されないが、重合開始剤の活性化に有効な波長領域の照射が好ましい。照射強度は、好ましくは0.1~6,000mW/cm、より好ましくは10~1,000mW/cm、さらに好ましくは20~500mW/cmである。照射強度が前記範囲内であると、適当な反応時間を確保でき、光源から輻射される熱及び硬化反応時の発熱による樹脂の黄変や劣化を抑えることができる。照射時間は、硬化性組成物の組成によって適宜選択すればよく、特に制限されるものではないが、前記照射強度と照射時間との積として表される積算光量が好ましくは10~10,000mJ/cm、より好ましくは50~1,000mJ/cm、さらに好ましくは80~500mJ/cmとなるように設定される。積算光量が前記範囲内であると、重合開始剤由来の活性種を十分量発生させて、硬化反応をより確実に進行させることができ、また、照射時間が長くなりすぎず、良好な生産性を維持できる。また、この範囲での照射工程を経ることでハードコート層の硬度をさらに高め得るため有用である。ハードコート層の平滑性を向上させ、光学フィルムの広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、溶剤の種類、成分比、固形分濃度の最適化及びレベリング剤の添加などが挙げられる。 In the hard coat layer forming step, the coating film is irradiated with high energy rays (e.g., active energy rays) to cure the coating film to form a hard coat layer. The irradiation intensity is appropriately determined depending on the composition of the curable composition and is not particularly limited, but irradiation in a wavelength region effective for activating the polymerization initiator is preferable. The irradiation intensity is preferably 0.1 to 6,000 mW/cm 2 , more preferably 10 to 1,000 mW/cm 2 , and even more preferably 20 to 500 mW/cm 2 . When the irradiation intensity is within the above range, an appropriate reaction time can be ensured, and yellowing and deterioration of the resin due to heat radiated from the light source and heat generated during the curing reaction can be suppressed. The irradiation time may be appropriately selected depending on the composition of the curable composition and is not particularly limited, but is set so that the integrated light amount expressed as the product of the irradiation intensity and the irradiation time is preferably 10 to 10,000 mJ/cm 2 , more preferably 50 to 1,000 mJ/cm 2 , and even more preferably 80 to 500 mJ/cm 2 . When the accumulated light amount is within the above range, a sufficient amount of active species derived from the polymerization initiator can be generated, and the curing reaction can be more reliably promoted, and the irradiation time is not too long, so that good productivity can be maintained. In addition, by undergoing an irradiation process within this range, the hardness of the hard coat layer can be further increased, which is useful. In order to improve the smoothness of the hard coat layer and further improve the visibility of the optical film in the wide angle direction, optimization of the type of solvent, component ratio, solid content concentration, and addition of a leveling agent can be mentioned.

前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には1分子中に2~6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートから選択された1種以上が挙げられる。 The radical polymerizable compound is a compound having a radical polymerizable group. The radical polymerizable group of the radical polymerizable compound may be any functional group capable of generating a radical polymerization reaction, and may include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically includes a vinyl group and a (meth)acryloyl group. When the radical polymerizable compound has two or more radical polymerizable groups, these radical polymerizable groups may be the same or different from each other. The number of radical polymerizable groups that the radical polymerizable compound has in one molecule is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. From the viewpoint of high reactivity, the radical polymerizable compound is preferably a compound having a (meth)acryloyl group, specifically, a compound called a polyfunctional acrylate monomer having 2 to 6 (meth)acryloyl groups in one molecule, or an oligomer having a molecular weight of several hundred to several thousand and having several (meth)acryloyl groups in the molecule, called an epoxy (meth)acrylate, a urethane (meth)acrylate, or a polyester (meth)acrylate, is preferably one or more selected from an epoxy (meth)acrylate, a urethane (meth)acrylate, and a polyester (meth)acrylate.

前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationic polymerizable compound is a compound having a cationic polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group, a vinyl ether group, etc. The number of cationic polymerizable groups that the cationic polymerizable compound has in one molecule is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
In addition, among the cationic polymerizable compounds, compounds having at least one of epoxy group and oxetanyl group as cationic polymerizable group are preferred. Cyclic ether groups such as epoxy group and oxetanyl group are preferred because they have small shrinkage associated with polymerization reaction. In addition, compounds having epoxy group among cyclic ether groups have the advantage that compounds with various structures are easily available, they do not adversely affect the durability of the obtained hard coat layer, and the compatibility with radical polymerizable compound is easy to control. In addition, oxetanyl group among cyclic ether groups has the advantage that the degree of polymerization is easily high compared with epoxy group, and it has the advantage of accelerating the network formation rate obtained from the cationic polymerizable compound of the obtained hard coat layer, and forming an independent network without leaving unreacted monomer in the film even in the region mixed with radical polymerizable compound.
Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group include alicyclic epoxy resins obtained by epoxidizing a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring or a compound containing a cyclohexene ring or a cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or a peracid; aliphatic epoxy resins such as polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or their alkylene oxide adducts, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, and homopolymers and copolymers of glycidyl (meth)acrylate; glycidyl ethers produced by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, and hydrogenated bisphenol A, or derivatives thereof such as alkylene oxide adducts or caprolactone adducts, with epichlorohydrin, and novolak epoxy resins, and the like, which are derived from bisphenols.

前記ハードコート組成物は重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独で又は併用して使用される。
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄(II)錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれか又はいずれでもカチオン重合を開始することができる。
The hard coat composition may further include a polymerization initiator. The polymerization initiator may be a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and cationic polymerization initiator, etc., and may be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating, generating radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization.
The radical polymerization initiator may be any initiator capable of releasing a substance that initiates radical polymerization by at least one of irradiation with active energy rays and heating. For example, examples of thermal radical polymerization initiators include organic peroxides such as hydrogen peroxide and perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.
The active energy ray radical polymerization initiator includes a Type 1 radical polymerization initiator in which radicals are generated by molecular decomposition, and a Type 2 radical polymerization initiator in which radicals are generated by a hydrogen abstraction reaction in the presence of a tertiary amine, and these are used alone or in combination.
The cationic polymerization initiator may be any one that can release a substance that initiates cationic polymerization by at least one of active energy ray irradiation and heating. As the cationic polymerization initiator, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, cyclopentadienyl iron (II) complexes, etc. can be used. These can initiate cationic polymerization by either active energy ray irradiation or heating or both, depending on the difference in structure.

前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体100質量%に対して好ましくは0.1~10質量%を含むことができる。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。 The polymerization initiator may preferably be contained in an amount of 0.1 to 10% by mass relative to 100% by mass of the entire hard coat composition. When the content of the polymerization initiator is within the above range, curing can be sufficiently advanced, the mechanical properties and adhesion of the final coating film can be in a good range, and poor adhesion, cracking, and curling due to cure shrinkage tend to be less likely to occur.

前記ハードコート組成物は、溶剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られている溶剤であれば、本発明の効果を阻害しない範囲で、使用することができる。
前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。
The hard coat composition may further include at least one selected from the group consisting of a solvent and an additive.
The solvent can dissolve or disperse the polymerizable compound and the polymerization initiator, and any solvent known in the art as a solvent for hard coat compositions can be used as long as it does not impair the effects of the present invention.
The additives may further include inorganic particles, leveling agents, stabilizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, antifouling agents, and the like.

(粘着層)
粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。
(Adhesive layer)
The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering the optical film to other members. As a material for forming the adhesive layer, a commonly known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy thereto afterwards.

粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。 The adhesive layer may be a layer called a pressure sensitive adhesive (PSA), which is attached to an object by pressing. The pressure sensitive adhesive may be a pressure sensitive adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with light pressure" (JIS K6800), or it may be a capsule type adhesive that is "an adhesive that contains specific components in a protective coating (microcapsules) and maintains stability until the coating is destroyed by appropriate means (pressure, heat, etc.)" (JIS K6800).

(色相調整層)
色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを含む積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料;並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。
(Hue Adjustment Layer)
The hue adjustment layer is a layer having a function of adjusting the hue, and is a layer capable of adjusting the laminate including the optical film to a desired hue. The hue adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, red iron oxide, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; organic pigments such as azo compounds, quinacridone compounds, anthraquinone compounds, perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, threne compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

(屈折率調整層)
屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。
(Refractive index adjusting layer)
The refractive index adjustment layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, and is, for example, a layer having a refractive index different from that of an optical film, and capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate. The refractive index adjustment layer may be, for example, a resin layer containing an appropriately selected resin and, if necessary, a pigment, or may be a thin metal film. Examples of pigments for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide. The average primary particle diameter of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 μm or less, diffuse reflection of light passing through the refractive index adjustment layer can be prevented, and a decrease in transparency can be prevented. Examples of metals used in the refractive index adjustment layer include metal oxides or metal nitrides such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride.

(保護フィルム)
本発明の一実施態様において、光学フィルムは、少なくとも一方の面(片面又は両面)に保護フィルムを有していてもよい。例えば光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム;ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムは同一であっても異なっていてもよい。
(Protective film)
In one embodiment of the present invention, the optical film may have a protective film on at least one side (one side or both sides). For example, when the optical film has a functional layer on one side, the protective film may be laminated on the surface on the optical film side or the surface on the functional layer side, or may be laminated on both the optical film side and the functional layer side. When the optical film has a functional layer on both sides, the protective film may be laminated on the surface on one functional layer side, or may be laminated on the surfaces on both functional layer sides. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or the functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film that can protect the surface of the optical film or the functional layer. Examples of the protective film include polyester-based resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin-based resin films such as polyethylene and polypropylene films, and acrylic resin films, and are preferably selected from the group consisting of polyolefin-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films, and acrylic resin films. When the optical film has two protective films, each protective film may be the same or different.

保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、10~120μm、好ましくは15~110μm、より好ましくは20~100μmである。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同一であっても異なっていてもよい。 The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 120 μm, preferably 15 to 110 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the optical film has two protective films, the thicknesses of the protective films may be the same or different.

本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、例えば上記のようにして製造される光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。 The optical film of the present invention may be a single layer or a laminate. For example, the optical film produced as described above may be used as it is, or may be used as a laminate with other films.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、特にフレキシブル表示装置の前面板(以下「ウインドウフィルム」とも称する)、特にローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイの前面板として非常に有用である。フレキシブル表示装置は、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブル表示装置の前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention is very useful as a front panel of an image display device, particularly a front panel of a flexible display device (hereinafter also referred to as a "window film"), particularly a front panel of a rollable display or a foldable display. A flexible display device has, for example, a flexible functional layer and an optical film that is overlaid on the flexible functional layer and functions as a front panel. That is, the front panel of a flexible display device is disposed on the viewing side above the flexible functional layer. This front panel has the function of protecting the flexible functional layer.

画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する全ての画像表示装置が挙げられる。 Examples of image display devices include televisions, smartphones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game consoles, electronic paper, indicators, bulletin boards, watches, and wearable devices such as smart watches. Examples of flexible display devices include all image display devices that have flexible properties.

[フレキシブル表示装置]
本発明は、本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置も提供する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、本発明の光学フィルム(ウインドウフィルム)、円偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ又はウインドウフィルム、タッチセンサ、円偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に円偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[Flexible display device]
The present invention also provides a flexible display device comprising the optical film of the present invention. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate may be called a window film. The flexible display device is composed of a laminate for a flexible display device and an organic EL display panel, and the laminate for a flexible display device is arranged on the viewing side of the organic EL display panel and is configured to be foldable. The laminate for a flexible display device may contain the optical film (window film) of the present invention, a circular polarizing plate, and a touch sensor, and although the order of lamination of these is arbitrary, it is preferable that the window film, the circular polarizing plate, the touch sensor, or the window film, the touch sensor, and the circular polarizing plate are laminated from the viewing side. If a circular polarizing plate is present on the viewing side of the touch sensor, the pattern of the touch sensor is less visible, and the visibility of the displayed image is improved, which is preferable. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like. In addition, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any of the layers of the window film, the circular polarizing plate, and the touch sensor can be provided.

[偏光板]
本発明のフレキシブル表示装置は、偏光板、好ましくは円偏光板をさらに備えていてもよい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右円偏光又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。例えば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
[Polarizer]
The flexible display device of the present invention may further include a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only right-handed or left-handed circularly polarized components by laminating a λ/4 retardation plate on a linear polarizing plate. For example, the circular polarizing plate is used to convert external light into right-handed circularly polarized light, block the external light that is reflected by the organic EL panel and becomes left-handed circularly polarized light, and transmit only the light-emitting component of the organic EL, thereby suppressing the influence of reflected light and making the image easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ/4 retardation plate theoretically need to be 45°, but in practice, they are 45±10°. The linear polarizing plate and the λ/4 retardation plate do not necessarily need to be laminated adjacent to each other, and it is sufficient that the relationship between the absorption axis and the slow axis satisfies the above-mentioned range. It is preferable to achieve complete circular polarization at all wavelengths, but this is not necessarily required in practice, so the circular polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also preferable to further laminate a λ/4 phase difference film on the viewing side of the linear polarizing plate to make the emerging light circularly polarized, thereby improving visibility when wearing polarized sunglasses.

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは0.5~100μmである。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。 A linear polarizing plate is a functional layer that transmits light vibrating in the transmission axis direction but blocks polarized light of vibration components perpendicular to the transmission axis. The linear polarizing plate may be a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface of the linear polarizer. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and is preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness of the linear polarizing plate is within the above range, the flexibility tends not to decrease.

前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール(以下「PVA」とも称する)系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したPVA系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はPVAに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はPVA系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるPVA系フィルムの厚さは好ましくは10~100μmであり、延伸倍率は好ましくは2~10倍である。 The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter also referred to as "PVA")-based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to the PVA-based film oriented by stretching, or the dichroic dye is oriented by stretching the film while adsorbed to the PVA, thereby exhibiting polarization performance. The manufacture of the film-type polarizer may include other steps such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying. The stretching and dyeing steps may be performed on the PVA-based film alone, or may be performed on the PVA-based film laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 μm, and the stretching ratio is preferably 2 to 10 times.

さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。
前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
Another example of the polarizer is a liquid crystal coating type polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition. The liquid crystal polarizing composition may contain a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystal compound may have a property of exhibiting a liquid crystal state, and is preferably in a highly oriented state such as a smectic phase, since it can exhibit high polarization performance. It is also preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.
The dichroic dye is a dye that exhibits dichroism by being aligned together with the liquid crystal compound, and may have a polymerizable functional group, or the dichroic dye itself may have liquid crystallinity. Any of the compounds in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.

前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。 The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, etc.

前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは0.5~10μm、より好ましくは1~5μmである。 The liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition onto an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can be formed to be thinner than a film-type polarizer. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば10,000~1,000,000程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは5~10,000nm、より好ましは10~500nmである。 The alignment film can be produced, for example, by applying an alignment film-forming composition onto a substrate and imparting alignment by rubbing, polarized light irradiation, or the like. The alignment film-forming composition may contain, in addition to the alignment agent, a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, or the like. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When applying photoalignment, it is preferable to use an alignment agent containing a cinnamate group. The weight-average molecular weight of the polymer used as the alignment agent may be, for example, about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm, from the viewpoint of alignment control force.

前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 The liquid crystal polarizing layer can be peeled off from the substrate and transferred and laminated, or the substrate can be laminated as is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for a protective film, retardation film, or window film.

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、具体的には、用いられる高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の(変性)セルロース類、メチルメタクリレート(共)重合体等のアクリル類、スチレン(共)重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などのフィルムが挙げられ、透明性及び耐熱性に優れる点で、好ましくはポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステル、オレフィン、アクリル又はセルロース系のフィルムが挙げられる。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。これらのフィルムは未延伸のまま、あるいは1軸又は2軸延伸したフィルムとして使用される。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、好ましくは200μm以下、より好ましくは1~100μmである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。 The protective film may be any transparent polymer film. Specifically, examples of the polymer film that can be used include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, norbornene, or cycloolefin derivatives having monomer units containing cycloolefin; (modified) celluloses such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, and propionyl cellulose; acrylics such as methyl methacrylate (co)polymers; polystyrenes such as styrene (co)polymers; acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers, acrylonitrile-styrene copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers; polyvinyl chlorides; polyvinylidene chlorides; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, and polyarylate; polyamides such as nylon; polyimides; polyamideimides; polyetherimides; polyethersulfones; polysulfones; polyvinyl alcohols; polyvinyl acetals; polyurethanes; and epoxy resins. In terms of excellent transparency and heat resistance, preferred are polyamide, polyamideimide, polyimide, polyester, olefin, acrylic, or cellulose-based films. These polymers can be used alone or in combination of two or more. These films are used as unstretched films or as uniaxially or biaxially stretched films. Cellulose-based films, olefin-based films, acrylic films, and polyester-based films are preferred. The protective film may be a coating type film obtained by applying and curing a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as an acrylate. If necessary, the protective film may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, etc. The thickness of the protective film is preferably 200 μm or less, more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is in the above range, the flexibility of the protective film is less likely to decrease.

前記λ/4位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向、すなわちフィルムの面内方向にλ/4の位相差を与えるフィルムである。前記λ/4位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ/4位相差板は、必要に応じて位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは200μm以下、より好ましくは1~100μmである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。 The λ/4 retardation plate is a film that imparts a phase difference of λ/4 in a direction perpendicular to the direction of propagation of incident light, i.e., in the in-plane direction of the film. The λ/4 retardation plate may be a stretched retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. The λ/4 retardation plate may contain a retardation regulator, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or a dye, a fluorescent whitening agent, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, etc., as necessary. The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 μm or less, more preferably 1 to 100 μm. If the thickness is within the above range, the flexibility of the film tends not to decrease.

さらに前記λ/4位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは0.5~10μm、より好ましくは1~5μmである。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 Another example of the λ/4 retardation plate is a liquid crystal coating type retardation plate formed by coating a liquid crystal composition. The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound having a property of exhibiting a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, or smectic. Any compound in the liquid crystal composition, including the liquid crystal compound, has a polymerizable functional group. The liquid crystal composition may further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, or the like. The liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by coating and curing a liquid crystal composition on an alignment film to form a liquid crystal retardation layer in the same manner as described for the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed to have a smaller thickness than a stretched type retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm. The liquid crystal coating type retardation plate can be peeled off from the substrate, transferred, and laminated, or the substrate can be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for a protective film, a retardation plate, or a window film.

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく、長波長ほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ/4の位相差を達成することはできないので、視感度の高い560nm付近に対してλ/4となるような面内位相差、すなわち好ましくは100~180nm、より好ましくは130~150nmの面内位相差に設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ/4位相差板は、視認性をよくすることができる点で好ましい。このような材料としては、延伸型位相差板の場合は特開2007-232873号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開2010-30979号公報に記載されているものを用いることも好ましい。 In general, there are many materials that exhibit larger birefringence at shorter wavelengths and smaller birefringence at longer wavelengths. In this case, since it is not possible to achieve a phase difference of λ/4 in the entire visible light range, it is often designed to have an in-plane phase difference of λ/4 around 560 nm where visibility is high, that is, preferably 100 to 180 nm, more preferably 130 to 150 nm. A reverse dispersion λ/4 retardation plate using a material with birefringence wavelength dispersion characteristics reverse to those of normal retardation plates is preferable because it can improve visibility. As such materials, it is also preferable to use those described in JP-A-2007-232873 for stretched retardation plates and JP-A-2010-30979 for liquid crystal coated retardation plates.

また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(特開平10-90521号公報)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料及び方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらの場合にも、液晶塗布型位相差板を用いることが、厚さを薄くすることができる点で好ましい。 As another method, a technique is known in which a wideband λ/4 retardation plate is obtained by combining it with a λ/2 retardation plate (JP Patent Publication No. 10-90521). The λ/2 retardation plate is manufactured using the same materials and methods as the λ/4 retardation plate. The combination of a stretched retardation plate and a liquid crystal-coated retardation plate is arbitrary, but in either case, it is preferable to use a liquid crystal-coated retardation plate because it allows for a thinner plate.

前記円偏光板に、斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法も知られている(特開2014-224837号公報)。正のCプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは-200~-20nm、より好ましくは-140~-40nmである。 A method of laminating a positive C plate on the circular polarizer to improve visibility in oblique directions is also known (JP Patent Publication 2014-224837). The positive C plate may be a liquid crystal-coated retardation plate or a stretched retardation plate. The retardation in the thickness direction of the retardation plate is preferably -200 to -20 nm, more preferably -140 to -40 nm.

[タッチセンサ]
本発明のフレキシブル表示装置は、タッチセンサをさらに備えていてもよい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等の様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わないが、静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域である表示部に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域である非表示部に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と;前記基板の活性領域に形成された感知パターンと;前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記高分子フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が2,000MPa%以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000~30,000MPa%であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)-歪み(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
[Touch sensor]
The flexible display device of the present invention may further include a touch sensor. The touch sensor is used as an input means. Various types of touch sensors have been proposed, such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitive type, and any type may be used, but the capacitive type is preferred. The capacitive touch sensor is divided into an active area and a non-active area located on the outer periphery of the active area. The active area is an area corresponding to a display part where a screen is displayed in a display panel, and is an area where a user's touch is sensed, and the non-active area is an area corresponding to a non-display part where a screen is not displayed in a display device. The touch sensor may include a substrate having a flexible characteristic; a sensing pattern formed in the active area of the substrate; and each sensing line formed in the non-active area of the substrate for connecting to an external driving circuit via the sensing pattern and a pad part. The substrate having a flexible characteristic may be made of the same material as the polymer film. The substrate of the touch sensor is preferably one having a toughness of 2,000 MPa% or more in terms of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the area under the curve up to the breaking point in a stress (MPa)-strain (%) curve obtained through a tensile test of a polymer material.

前記感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第2パターンを電気的に接続するための電極としては、周知の透明電極素材を適用することができる。該透明電極素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。該透明電極素材として、好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。 The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first and second patterns are arranged in different directions. The first and second patterns are formed in the same layer, and the patterns must be electrically connected to each other in order to sense a touch point. The first pattern has unit patterns connected to each other via joints, but the second pattern has a structure in which the unit patterns are separated from each other in an island form, so a separate bridge electrode is required to electrically connect the second pattern. A well-known transparent electrode material may be used as the electrode for electrically connecting the second pattern. Examples of the transparent electrode material include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, and metal wires, which can be used alone or in combination of two or more. ITO can be preferably used as the transparent electrode material. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples of the metal include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium, which can be used alone or in combination of two or more.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層として形成する場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。 The bridge electrode can be formed on the insulating layer on the sensing pattern, and the bridge electrode can be formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern can be formed thereon. The bridge electrode can be formed of the same material as the sensing pattern, or can be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer can be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or can be formed as a layer that covers the entire sensing pattern. When formed as a layer that covers the entire sensing pattern, the bridge electrode can connect to the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer.

前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇させることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
The touch sensor may further include an optical adjustment layer between the substrate and the electrode as a means for appropriately compensating for a difference in transmittance between a patterned region where a pattern is formed and a non-patterned region where a pattern is not formed, specifically, a difference in light transmittance caused by a difference in refractive index between these regions. The optical adjustment layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical adjustment layer may be formed by coating a photocurable composition including a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The inorganic particles may increase the refractive index of the optical adjustment layer.
The photocurable organic binder may include a copolymer of each monomer, such as an acrylate monomer, a styrene monomer, a carboxylic acid monomer, etc. The photocurable organic binder may be a copolymer including different repeating units, such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, a carboxylic acid repeating unit, etc.
Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, alumina particles, etc. The photocurable composition may further contain various additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing assistant.

[接着層]
前記フレキシブル表示装置用積層体を形成する、ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサ等の各層、並びに各層を構成する直線偏光板、λ/4位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接着することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧型粘着剤、再湿型接着剤等、汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは0.01~500μm、より好ましくは0.1~300μmである。前記フレキシブル画像表示装置用積層体には、複数の接着層が存在してよいが、それぞれの厚さ及び用いられる接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。
[Adhesive layer]
Each layer such as a window film, a polarizing plate, and a touch sensor, which form the laminate for a flexible display device, and each film member such as a linear polarizing plate and a λ/4 retardation plate which form the laminate for a flexible display device, can be bonded by an adhesive. As the adhesive, a water-based adhesive, an organic solvent-based adhesive, a solvent-free adhesive, a solid adhesive, a solvent volatilization type adhesive, a moisture-curing type adhesive, a heat-curing type adhesive, an anaerobic curing type adhesive, a water-based solvent volatilization type adhesive, an active energy ray curing type adhesive, a curing agent mixed type adhesive, a hot melt type adhesive, a pressure-sensitive adhesive, a pressure-sensitive adhesive, a re-moistening type adhesive, and the like, which are generally used, can be used. Among them, a water-based solvent volatilization type adhesive, an active energy ray curing type adhesive, and an adhesive are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive strength, and is preferably 0.01 to 500 μm, more preferably 0.1 to 300 μm. The laminate for a flexible image display device may have a plurality of adhesive layers, and the thickness of each adhesive layer and the type of adhesive used may be the same or different.

前記水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン-酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン-ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01~10μm、好ましくは0.1~1μmであってもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。 The aqueous solvent volatile adhesive may be a polyvinyl alcohol polymer, a water-soluble polymer such as starch, or an aqueous dispersion polymer such as an ethylene-vinyl acetate emulsion or a styrene-butadiene emulsion. In addition to water and the aqueous polymer, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, or the like may be blended. When bonding is performed using the aqueous solvent volatile adhesive, the aqueous solvent volatile adhesive is injected between the layers to be bonded, the layers are laminated, and the layers are dried to impart adhesiveness. When the aqueous solvent volatile adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm. When the aqueous solvent volatile adhesive is used to form multiple layers, the thickness of each layer and the type of adhesive may be the same or different.

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物について記載した化合物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物としては、ハードコート組成物について記載した化合物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために、該組成物が単官能の化合物を含むことも好ましい。 The active energy ray curable adhesive can be formed by curing an active energy ray curable composition containing a reactive material that forms an adhesive layer by irradiating with active energy rays. The active energy ray curable composition can contain at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cationic polymerizable compound similar to the compounds described for the hard coat composition. As the radical polymerizable compound, the same type of compound as described for the hard coat composition can be used. As the radical polymerizable compound used in the adhesive layer, a compound having an acryloyl group is preferable. In order to reduce the viscosity of the adhesive composition, it is also preferable that the composition contains a monofunctional compound.

前記カチオン重合性化合物としては、ハードコート組成物について記載した化合物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物がより好ましい。接着剤組成物の粘度を下げるために、該組成物が単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。 As the cationic polymerizable compound, the same types of compounds as those described for the hard coat composition can be used. As the cationic polymerizable compound used in the active energy ray curable composition, an epoxy compound is more preferable. In order to reduce the viscosity of the adhesive composition, it is also preferable that the composition contains a monofunctional compound as a reactive diluent.

活性エネルギー線組成物は、重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。 The active energy ray composition may further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, and radical and cationic polymerization initiators, which may be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations, thereby proceeding with radical polymerization and cationic polymerization. In the description of the hard coat composition, an initiator that can initiate at least either radical polymerization or cationic polymerization by active energy ray irradiation may be used.

前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって2つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれか一方の被接着層又は両方の被接着層を通して活性エネルギー線を照射して、該組成物を硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは、好ましくは0.01~20μm、より好ましくは0.1~10μmである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は、同一であっても異なっていてもよい。 The active energy ray curable composition may further contain an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent solvent, an additive, and a solvent. When two adherend layers are bonded using the active energy ray curable adhesive, the active energy ray curable composition is applied to one or both of the adherend layers, and then the layers are laminated together, and the composition is irradiated with active energy rays through one or both of the adherend layers to cure the composition, thereby bonding the layers together. When the active energy ray curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray curable adhesive is used to form multiple layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され、これらの何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着層(接着層)が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは、好ましくは1~500μm、より好ましくは2~300μmである。前記粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は、同一であっても異なっていてもよい。 The adhesive is classified into acrylic adhesives, urethane adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, etc. according to the main polymer, and any of these can be used. In addition to the main polymer, the adhesive may contain a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, etc. The components constituting the adhesive are dissolved and dispersed in a solvent to obtain an adhesive composition, and the adhesive composition is applied to a substrate and then dried to form an adhesive layer (adhesive layer). The adhesive layer may be formed directly, or a layer formed separately on a substrate may be transferred. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. The thickness of the adhesive layer when the adhesive is used is preferably 1 to 500 μm, more preferably 2 to 300 μm. When the adhesive is used to form multiple layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

[遮光パターン]
前記遮光パターンは前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは1~100μm、より好ましくは2~50μmである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
[Shading pattern]
The light-shielding pattern may be applied as at least a part of a bezel or a housing of the flexible image display device. The light-shielding pattern hides wiring arranged at the edge of the flexible image display device, making it difficult to see, thereby improving the visibility of an image. The light-shielding pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and may have various colors such as black, white, and metallic colors. The light-shielding pattern may be formed of a pigment for realizing a color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, a polyurethane, or a silicone. These may be used alone or in a mixture of two or more kinds. The light-shielding pattern may be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light-shielding pattern is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm. It is also preferable to impart a shape such as a slope in the thickness direction of the light-shielding pattern.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部を意味する。まず評価方法について説明する。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples. In the examples, "%" and "parts" refer to mass% and mass parts unless otherwise specified. First, the evaluation method will be described.

<全光線透過率の測定>
光学フィルムの全光線透過率(Tt)は、JIS K 7105:1981に準拠して、スガ試験機(株)製の全自動直読ヘーズコンピュータHGM-2DPにより、測定した。
<Measurement of total light transmittance>
The total light transmittance (Tt) of the optical film was measured in accordance with JIS K 7105:1981 using a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

<ヘーズ>
JIS K 7136:2000に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、ヘーズコンピュータ(スガ試験機(株)製、「HGM-2DP」)を用いてヘーズ(%)を測定した。
<Haze>
In accordance with JIS K 7136:2000, the optical films obtained in the examples and comparative examples were cut to a size of 30 mm x 30 mm, and the haze (%) was measured using a haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., "HGM-2DP").

<YI値>
光学フィルムのYI値(Yellow Index)を、JIS K 7373:2006に準拠して、日本分光(株)製の紫外可視近赤外分光光度計「V-670」を用いて測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、300~800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、下記式に基づいてYI値を算出した。
YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y
<YI value>
The YI value (Yellow Index) of the optical film was measured in accordance with JIS K 7373:2006 using an ultraviolet, visible, near infrared spectrophotometer "V-670" manufactured by JASCO Corporation. After background measurement was performed without a sample, the optical film was set in a sample holder and transmittance measurement was performed for light of 300 to 800 nm to determine tristimulus values (X, Y, Z), and the YI value was calculated based on the following formula.
YI = 100 x (1.2769X - 1.0592Z) / Y

<重量平均分子量の測定>
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
(1)前処理方法
ポリアミドイミドフィルムにDMF溶離液(10mmol/L臭化リチウム溶液)を濃度2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間撹拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
(2)測定条件
カラム:東ソー(株)製TSKgel α-2500((7)7.8mm径×300mm)×1本、α-M((13)7.8mm径×300mm)×2本
溶離液:DMF(10mmol/Lの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Measurement of weight average molecular weight>
Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement (1) Pretreatment Method A DMF eluent (10 mmol/L lithium bromide solution) was added to a polyamideimide film to give a concentration of 2 mg/mL, and the film was heated at 80° C. for 30 minutes with stirring. After cooling, the film was filtered through a 0.45 μm membrane filter to obtain a measurement solution.
(2) Measurement Conditions Column: Tosoh Corporation TSKgel α-2500 ((7) 7.8 mm diameter × 300 mm) × 1, α-M ((13) 7.8 mm diameter × 300 mm) × 2 Eluent: DMF (10 mmol/L lithium bromide added)
Flow rate: 1.0 mL/min Detector: RI detector Column temperature: 40° C.
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standards: Standard polystyrene

<厚さの測定>
光学フィルムの厚さは、ABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID-C112BS」)を用いて測定した。
<Thickness Measurement>
The thickness of the optical film was measured using an ABS Digimatic Indicator (manufactured by Mitutoyo Corporation, "ID-C112BS").

<引張弾性率>
実施例及び比較例で得た光学フィルムの温度25℃、相対湿度50%における弾性率を(株)島津製作所製「オートグラフAG-IS」を用いて測定した。より詳細には、縦横10mm幅のフィルムを作製し、チャック間距離50mm、引張速度10mm/分の条件で応力-歪曲線(S-S曲線)を測定し、その傾きから弾性率を算出した。
<Tensile modulus>
The elastic modulus of the optical films obtained in the Examples and Comparative Examples was measured at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 50% using an “Autograph AG-IS” manufactured by Shimadzu Corporation. More specifically, a film having a length and width of 10 mm was prepared, and a stress-strain curve (S-S curve) was measured under conditions of a chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min, and the elastic modulus was calculated from the slope of the curve.

<突刺し強度>
温度25℃、相対湿度55%の環境下で、JIS Z 1707に準拠してInSTRON社製 5982型万能試験機を用いて、突刺し試験を実施した。幅50mm、長さ50mm、厚さ0.05mmの試験片を用いて、Φ2.5mmかつ先端形状直径2.5mm半円形の針の加圧子をロードセル5kN、試験速度10mm/分の条件で試験を行い、破断点変位を測定し、その際の最大荷重を突刺し強度とした。
<Puncture strength>
A puncture test was carried out in an environment of 25°C temperature and 55% relative humidity using an InSTRON 5982 universal testing machine in accordance with JIS Z 1707. Using a test piece having a width of 50 mm, a length of 50 mm, and a thickness of 0.05 mm, a test was carried out using a needle pressure probe having a diameter of 2.5 mm and a semicircular tip shape of 2.5 mm, a load cell of 5 kN, and a test speed of 10 mm/min, and the fracture displacement was measured. The maximum load at that time was taken as the puncture strength.

<光学フィルムの透過写像性値の測定>
JIS K 7345に準拠して写像性測定器(スガ試験機(株)製「ICM-1」)を用いて、以下のように透過法にて光学フィルムの透過写像性値を測定した。
光学フィルムを写像性測定器に設置した。この光学フィルムは、設置前に両面をエタノールで軽くふき、乾燥させ、表面から異物を除去した状態で設置した。次いで、光量及び断面積を調整し、平行光に調整した白色光を、光学フィルム平面に対してMD方向に60°傾斜した角度(入射角)から設置された光学フィルムに照射した。光学フィルムを透過した透過光を、断面積を調整して照射光の光軸に垂直に延在する光学櫛に透過させ、光学櫛を透過した光を受光器で受光した。
光学櫛の平面に対して平行であり、かつ光学櫛におけるスリットが配列する方向に光学櫛(スリット幅:0.125mm)を所定の単位幅移動させて光学櫛の透過光を受光することを繰り返した。その結果、受光波形を得た。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得た。得られたM及びmから数式(7)に基づいて第1透過写像性値C60(MD)を算出した。
<Measurement of Transmission Image Clarity Value of Optical Film>
The transmission image clarity value of the optical film was measured by a transmission method in accordance with JIS K 7345 using an image clarity measuring instrument ("ICM-1" manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) as follows.
The optical film was placed in the image clarity measuring device. Before the optical film was placed, both sides were lightly wiped with ethanol, dried, and foreign matter was removed from the surface. Then, the light amount and cross-sectional area were adjusted, and white light adjusted to parallel light was irradiated onto the placed optical film from an angle (incident angle) inclined at 60° in the MD direction with respect to the optical film plane. The transmitted light that had passed through the optical film was passed through an optical comb that had an adjusted cross-sectional area and extended perpendicular to the optical axis of the irradiated light, and the light that had passed through the optical comb was received by a light receiver.
The optical comb (slit width: 0.125 mm) was moved by a predetermined unit width in the direction parallel to the plane of the optical comb and in the direction in which the slits in the optical comb were arranged, and the transmitted light of the optical comb was repeatedly received. As a result, a received light waveform was obtained. The maximum value M and minimum value m of the relative light amount were obtained from the obtained received light waveform. The first transmission image clarity value C 60 (MD) was calculated based on the obtained M and m according to the formula (7).

入射角を光学フィルム平面に対して垂直方向からTD方向に60°傾斜した角度、及び光学フィルム平面に対して垂直な角度(0°傾斜した角度)に変更した以外は、第1透過写像性値と同様にして、それぞれ第2透過写像性値C60(TD)及び第3透過写像性値Cを算出した。 A second transmission image clarity value C 60 (TD) and a third transmission image clarity value C 0 were calculated in the same manner as the first transmission image clarity value, except that the incident angle was changed to an angle inclined by 60 ° in the TD direction from the perpendicular direction to the optical film plane, and to an angle perpendicular to the optical film plane (an angle inclined by 0 °).

<イミド化率>
イミド化率は、H-NMR測定により以下のようにして求めた。
(1)前処理方法
ポリイミド系樹脂を含む光学フィルムを重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO-d)に溶解させて2質量%溶液としたものを測定試料とした。
(2)測定条件
測定装置:JEOL製 400MHz NMR装置 JNM-ECZ400S/L1
標準物質:DMSO-d(2.5ppm)
試料温度:室温
積算回数:256回
緩和時間:5秒
(3)イミド化率解析方法
(ポリイミド樹脂のイミド化率)
ポリイミド樹脂を含む測定試料で得られたH-NMRスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来するベンゼンプロトンAの積分値をIntとした。また、観測されたポリイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来するアミドプロトンの積分値をIntとした。これらの積分値から以下の式に基づいてポリイミド樹脂のイミド化率を求めた。
イミド化率(%)=100×(1-Int/Int
<Imidization rate>
The imidization rate was determined by 1 H-NMR measurement as follows.
(1) Pretreatment Method An optical film containing a polyimide resin was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6 ) to prepare a 2% by mass solution, which was used as a measurement sample.
(2) Measurement conditions Measurement device: JEOL 400MHz NMR device JNM-ECZ400S/L1
Standard: DMSO- d6 (2.5 ppm)
Sample temperature: room temperature Number of accumulated times: 256 Relaxation time: 5 seconds (3) Imidization rate analysis method (imidization rate of polyimide resin)
In the 1 H-NMR spectrum obtained from the measurement sample containing the polyimide resin, the integral value of benzene proton A derived from a structure that does not change before and after imidization among the observed benzene protons was taken as Int A. Furthermore, the integral value of amide protons derived from an amic acid structure remaining in the observed polyimide resin was taken as Int B. From these integral values, the imidization rate of the polyimide resin was calculated based on the following formula.
Imidization rate (%)=100×(1−Int B / Int A )

(ポリアミドイミド樹脂のイミド化率)
ポリアミドイミド樹脂を含む測定試料で得られたH-NMRスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリアミドイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けないベンゼンプロトンCの積分値をIntとした。また、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリアミドイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けるベンゼンプロトンDの積分値をIntとした。得られたInt及びIntから以下の式によりβ値を求めた。
β=Int/Int
次に、複数のポリアミドイミド樹脂について上記式のβ値及び上記式のポリイミド樹脂のイミド化率を求め、これらの結果から以下の相関式を得た。
イミド化率(%)=k×β+100
上記相関式中、kは定数である。
βを相関式に代入してポリアミドイミド樹脂のイミド化率(%)を得た。
(Imidization rate of polyamide-imide resin)
In the 1 H-NMR spectrum obtained from the measurement sample containing the polyamideimide resin, the integral value of benzene proton C, which is derived from a structure that does not change before and after imidization among the observed benzene protons and is not affected by a structure derived from an amic acid structure remaining in the polyamideimide resin, was defined as Int C. Furthermore, the integral value of benzene proton D, which is derived from a structure that does not change before and after imidization among the observed benzene protons and is affected by a structure derived from an amic acid structure remaining in the polyamideimide resin, was defined as Int D. The β value was calculated from the obtained Int C and Int D according to the following formula.
β=Int D /Int C
Next, the β value of the above formula and the imidization ratio of the polyimide resin of the above formula were determined for a plurality of polyamide-imide resins, and the following correlation formula was obtained from these results.
Imidization rate (%) = k × β + 100
In the above correlation equation, k is a constant.
The imidization rate (%) of the polyamide-imide resin was obtained by substituting β into the correlation equation.

<ワニスの粘度>
JIS K 8803:2011に準拠して、ブルックフィールド社製E型粘度計DV-II+Proを用いて測定した。測定温度は25℃とした。
<Viscosity of Varnish>
The measurement was performed using a Brookfield E-type viscometer DV-II+Pro in accordance with JIS K 8803:2011. The measurement temperature was 25°C.

<耐屈曲性試験>
光学フィルムについてJIS K 5600-5-1に準拠して耐屈曲性試験を実施した。耐屈曲性試験は、小型卓上屈曲性試験機(ユアサシステム機器(株)製)を用いて実施された。耐屈曲性試験後の光学フィルムについて上述の測定方法と同様にして、透過写像性値及びヘーズをそれぞれ測定した。耐屈曲性試験前後の透過写像性値及びヘーズの差の絶対値をそれぞれとり、透過写像性値の差(第1透過写像性値の差ΔC60(MD)、第2透過写像性値の差ΔC60(TD)及び第3透過写像性値の差ΔC)及びヘーズの差(ΔHaze)をそれぞれ算出した。
<Flexibility test>
The optical film was subjected to a bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1. The bending resistance test was performed using a small tabletop bending resistance tester (manufactured by Yuasa System Co., Ltd.). The optical film after the bending resistance test was measured for transmission image clarity and haze in the same manner as in the above-mentioned measurement method. The absolute values of the differences in transmission image clarity and haze before and after the bending resistance test were taken, and the differences in transmission image clarity (first transmission image clarity value difference ΔC 60 (MD), second transmission image clarity value difference ΔC 60 (TD), and third transmission image clarity value difference ΔC 0 ) and the difference in haze (ΔHaze) were calculated.

<耐折性試験(MIT)>
ASTM規格D2176-16に準拠して、実施例及び比較例における光学フィルムの折曲げ回数を以下のように求めた。該光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて幅15mm、長さ100mmの短冊状にカットし、測定試料を作製した。測定試料をMIT耐折疲労試験機((株)東洋精機製作所製「型式0530」)本体にセットした。詳しくは、測定試料の一端を荷重クランプに固定して、他端を折り曲げクランプに固定し、測定試料にテンションを加えた。この状態で、試験速度175cpm、折り曲げ角度135°、荷重0.75kgf、折り曲げクランプの屈曲半径R=3mmの条件の下、測定試料が破断するまでの裏表方向への往復折曲げ運動を行った。前記折り曲げ回数を測定した。
<Folding endurance test (MIT)>
In accordance with ASTM standard D2176-16, the number of times the optical film was folded in the examples and comparative examples was determined as follows. The optical film was cut into a strip of 15 mm width and 100 mm length using a dumbbell cutter to prepare a measurement sample. The measurement sample was set in the main body of an MIT folding fatigue tester ("Model 0530" manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.). Specifically, one end of the measurement sample was fixed to a load clamp, the other end was fixed to a folding clamp, and tension was applied to the measurement sample. In this state, the measurement sample was folded back and forth in the front and back directions until it broke under the conditions of a test speed of 175 cpm, a folding angle of 135°, a load of 0.75 kgf, and a bending radius R of the folding clamp of 3 mm. The number of foldings was measured.

<視認性>
光学フィルムを10cm角にカットした。同サイズの粘着層付き偏光板のMD方向と、カットした光学フィルムのMD方向とを揃えて、前記光学フィルムに粘着層付き偏光板を貼合し、評価用試料を作製した。1つの実施例及び比較例の光学フィルムに対してそれぞれ2つの評価用試料を作製した。また、耐屈曲性試験後の実施例及び比較例の光学フィルムに対しても、それぞれ2つの評価用試料を作製した。
2つの評価用試料のうち一方の評価用試料を、評価用試料平面の垂直方向に蛍光灯が位置し、かつ評価用試料のMD方向に対して前記蛍光灯の長手方向が水平となるように台の上に固定した。
評価用試料平面の垂直方向に対して30°傾けた角度から、観察者が目視にて評価用試料表面に映る蛍光灯像を観察した。
蛍光灯の長手方向を水平から垂直に変更した以外は同様にして、もう一方の評価用試料を台に固定し、蛍光灯像を観察した。
観察結果から下記の評価基準に基づいて視認性を評価した。
(視認性の評価基準)
◎:蛍光灯像の歪みがほとんど視認されない。
○:蛍光灯像の歪みが若干視認できる。
△:蛍光灯像の歪みが視認される。
×:蛍光灯像の歪みが明確に視認される。
<Visibility>
The optical film was cut into a 10 cm square. The MD direction of a polarizing plate with an adhesive layer of the same size was aligned with the MD direction of the cut optical film, and the polarizing plate with an adhesive layer was attached to the optical film to prepare an evaluation sample. Two evaluation samples were prepared for each of the optical films of the examples and comparative examples. In addition, two evaluation samples were prepared for each of the optical films of the examples and comparative examples after the bending resistance test.
One of the two evaluation samples was fixed on a stand so that the fluorescent lamp was positioned vertically to the plane of the evaluation sample and the longitudinal direction of the fluorescent lamp was parallel to the MD direction of the evaluation sample.
An observer visually observed the image of the fluorescent lamp reflected on the surface of the evaluation sample from an angle of 30° with respect to the vertical direction of the plane of the evaluation sample.
The other evaluation sample was fixed to the stand in the same manner, except that the longitudinal direction of the fluorescent lamp was changed from horizontal to vertical, and the image of the fluorescent lamp was observed.
From the observation results, visibility was evaluated based on the following evaluation criteria.
(Visibility evaluation criteria)
.circle.: Almost no distortion of the fluorescent light image is visible.
◯: Some distortion of the fluorescent light image is visible.
Δ: Distortion of the fluorescent light image is visible.
×: Distortion of the fluorescent light image is clearly visible.

(製造例1:ポリアミドイミド樹脂(1)の調製)
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、TFMB及びDMAcをTFMBの固形分が6.08質量%となるように加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAc中に溶解させた。次に、フラスコに6FDAをTFMBに対して40.82mol%になるように添加し、室温で16時間撹拌した。その後、10℃に冷却した後に、OMTPCをTFMBに対して27.55mol%になるように加え、10分撹拌後に、さらにOMTPCをTFMBに対して27.55mоl%になるように加え、20分間撹拌した。その後、はじめに加えたDMAcと同量のDMAcを加え、10分間撹拌した後に、OMTPCをTFMBに対して6.12mol%になるように加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと4-ピコリンをそれぞれTFMBに対して61.22mol%、無水酢酸をTFMBに対して285.71mol%とを加え、30分間撹拌した後、内温を70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(1)を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(1)の重量平均分子量は、300,000であり、イミド化率は99.1であった。
(Production Example 1: Preparation of polyamideimide resin (1))
Under a nitrogen atmosphere, TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade so that the solid content of TFMB was 6.08 mass%, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6FDA was added to the flask so that it was 40.82 mol% relative to TFMB, and stirred at room temperature for 16 hours. After that, it was cooled to 10 ° C., and OMTPC was added so that it was 27.55 mol% relative to TFMB, and after stirring for 10 minutes, OMTPC was further added so that it was 27.55 mol% relative to TFMB, and stirred for 20 minutes. Then, the same amount of DMAc as the DMAc added initially was added, and after stirring for 10 minutes, OMTPC was added so that it was 6.12 mol% relative to TFMB, and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline were added to the flask in an amount of 61.22 mol % each relative to TFMB, and acetic anhydride was added in an amount of 285.71 mol % relative to TFMB. After stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70° C. and stirring was continued for a further 3 hours to obtain a reaction liquid.
The reaction solution obtained was cooled to room temperature and poured into a large amount of methanol in the form of a filament, and the precipitate was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. The precipitate was then dried under reduced pressure at 60°C to obtain polyamideimide resin (1). The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide resin (1) was 300,000, and the imidization ratio was 99.1.

(製造例2:ポリアミドイミド樹脂(2)の調製)
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、TFMB及びDMAcをTFMBの固形分が5.22質量%となるように加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAc中に溶解させた。次に、フラスコに6FDAをTFMBに対して41.24mol%になるように添加し、室温で16時間撹拌した。その後、10℃に冷却した後に、2,5-ジメチルテレフタル酸クロライド(以下、DMTPCと略すことがある)をTFMBに対して27.84mol%になるように加え、10分撹拌後に、さらにDMTPCをTFMBに対して27.84mоl%になるように加え、20分間撹拌した。その後、はじめに加えたDMAcと同量のDMAcを加え、10分間撹拌した後に、DMTPCをTFMBに対して6.19mol%になるように加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと4-ピコリンをそれぞれTFMBに対して61.86mol%、無水酢酸をTFMBに対して288.66mol%とを加え、30分間撹拌した後、内温を70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(2)を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(2)の重量平均分子量は、280,000であり、イミド化率は98.9であった。
(Production Example 2: Preparation of polyamideimide resin (2))
Under a nitrogen atmosphere, TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade so that the solid content of TFMB was 5.22 mass%, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6FDA was added to the flask so that it was 41.24 mol% relative to TFMB, and stirred at room temperature for 16 hours. After that, after cooling to 10°C, 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (hereinafter sometimes abbreviated as DMTPC) was added so that it was 27.84 mol% relative to TFMB, and after stirring for 10 minutes, DMTPC was further added so that it was 27.84 mol% relative to TFMB, and stirred for 20 minutes. Then, the same amount of DMAc as the DMAc added initially was added, and after stirring for 10 minutes, DMTPC was added so that it was 6.19 mol% relative to TFMB, and stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline were added to the flask in an amount of 61.86 mol % each relative to TFMB, and acetic anhydride was added in an amount of 288.66 mol % relative to TFMB. After stirring for 30 minutes, the internal temperature was raised to 70° C. and stirring was continued for a further 3 hours to obtain a reaction liquid.
The reaction solution obtained was cooled to room temperature and poured into a large amount of methanol in the form of a filament, and the precipitate was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. The precipitate was then dried under reduced pressure at 60°C to obtain polyamideimide resin (2). The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide resin (2) was 280,000, and the imidization ratio was 98.9.

(製造例3:シリカ分散液の調製)
メタノール分散有機化処理シリカ(粒径25nm)中の溶媒メタノールをγ-ブチロラクトン(GBL)に置換し、GBL分散有機化処理シリカ(固形分30.5%)を得た。この分散液を分散液(1)とした。
(Production Example 3: Preparation of Silica Dispersion)
The solvent methanol in the methanol-dispersed organically modified silica (particle size 25 nm) was replaced with γ-butyrolactone (GBL) to obtain GBL-dispersed organically modified silica (solid content 30.5%). This dispersion was named dispersion (1).

(製造例4:ワニスの調製)
ワニス(1)及び(2)は、ポリアミドイミド樹脂を表1に示す固形分となるようにGBLに添加し、室温にて24時間撹拌することで完全に溶解させて得た。
ワニス(3)は、ポリアミドイミド樹脂と分散液1とを、表1に示す固形分となるように室温にてGBL溶媒に添加し、均一になるまで撹拌して得た。なお、ワニス(3)中のポリアミドイミド樹脂と分散液1に含まれるフィラー(シリカ)の質量比は、60:40となるようにした。

Figure 0007469088000020
(Production Example 4: Preparation of varnish)
Varnishes (1) and (2) were obtained by adding polyamideimide resin to GBL so as to obtain a solid content shown in Table 1, and completely dissolving the resin by stirring at room temperature for 24 hours.
Varnish (3) was obtained by adding polyamideimide resin and dispersion liquid 1 to a GBL solvent at room temperature so as to obtain the solid content shown in Table 1, and stirring until homogenous. The mass ratio of the polyamideimide resin in varnish (3) to the filler (silica) contained in dispersion liquid 1 was set to 60:40.
Figure 0007469088000020

(製造例5:ハードコート層形成用組成物の製造)
35質量部のウレタンアクリレート(新中村化学工業(株)製;UA-122P)、35質量部のウレタンアクリレート(新中村化学工業(株)製;UA-232P)、25質量部のメチルエチルケトン、4.5質量部の光開始剤(1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)、0.5質量部のレベリング剤(ビックケミー社製;BYK-3570)を混合してハードコート層形成用組成物(1)を製造した。
(Production Example 5: Production of composition for forming hard coat layer)
A hard coat layer-forming composition (1) was produced by mixing 35 parts by mass of urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; UA-122P), 35 parts by mass of urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; UA-232P), 25 parts by mass of methyl ethyl ketone, 4.5 parts by mass of a photoinitiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone), and 0.5 parts by mass of a leveling agent (manufactured by BYK-Chemie Co., Ltd.; BYK-3570).

<実施例1>
(光学フィルム(1)の製造)
光学フィルム(1)の製造を図7及び図8を参照しながら説明する。まず、図7に示すように、厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材51(東洋紡(株)製:コスモシャイン(登録商標) A4100、以下PETフィルム基材51と称することがある)を巻き出して、線速0.30m/分で搬送しながら、該PETフィルム基材51上に、タンク522に入れたワニス(1)をノズル521から、幅500mmで流涎成形により塗布した。その後、同じ線速で搬送しながら、乾燥機53中で、120℃で20分、95℃で10分、85℃で10分加熱し、塗布されたワニスを乾燥した。続いて、保護フィルム54((株)サンエー化研製;NSA-33T)をロールから巻き出して、該乾燥塗膜のPETフィルム基材51と接する面とは反対側の面に貼合した後、該乾燥塗膜からPETフィルム基材51を剥離してPETフィルム基材ロール55として巻き取り、残る積層体を、長さ100mの積層体ロール56として得た。
Example 1
(Production of Optical Film (1))
The manufacture of the optical film (1) will be described with reference to Figures 7 and 8. First, as shown in Figure 7, a polyethylene terephthalate film substrate 51 (Cosmoshine (registered trademark) A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., hereinafter sometimes referred to as PET film substrate 51) having a thickness of 188 μm was unwound and conveyed at a linear speed of 0.30 m/min, while the varnish (1) contained in a tank 522 was applied onto the PET film substrate 51 by drip molding from a nozzle 521 to a width of 500 mm. Thereafter, while conveying at the same linear speed, the applied varnish was dried by heating in a dryer 53 at 120°C for 20 minutes, 95°C for 10 minutes, and 85°C for 10 minutes. Next, protective film 54 (NSA-33T, manufactured by San-A Chemical Co., Ltd.) was unwound from the roll and attached to the surface of the dried coating film opposite to the surface in contact with PET film substrate 51. Then, PET film substrate 51 was peeled off from the dried coating film and taken up as PET film substrate roll 55, and the remaining laminate was obtained as laminate roll 56 having a length of 100 m.

次に、図8に示すように、得られた積層体ロール56から、搬送速度0.5m/秒で積層フィルムを巻き出し、該積層フィルムから保護フィルム54を剥離して保護フィルムロール57として巻き取り、残る乾燥塗膜を、ニップロール201及び202を通過させた後、テンター式乾燥機58中において、以下の条件で乾燥した。なお、テンター式乾燥機58は、クリップを用いてフィルムの両端部を把持する機構を備えている。また、内部はフィルムの入口側から順に第1室~第6室に区分されている。
<テンター式乾燥機58>
クリップ把持幅(フィルムの一方端から対応するクリップ把持部までの距離):25mm
乾燥機入口におけるフィルム両端のクリップ間距離に対する乾燥機出口でのクリップ間距離の比:1.0
乾燥機内温度:200℃
乾燥機内の各室の風速:第1室13.5m/秒、第2室13m/秒、第3~6室11m/秒
Next, as shown in Fig. 8, the laminate film was unwound from the obtained laminate roll 56 at a transport speed of 0.5 m/sec, the protective film 54 was peeled off from the laminate film and taken up as a protective film roll 57, and the remaining dried coating film was passed through nip rolls 201 and 202, and then dried in a tenter dryer 58 under the following conditions. The tenter dryer 58 is equipped with a mechanism for holding both ends of the film with clips. The inside is divided into a first chamber to a sixth chamber in order from the inlet side of the film.
<Tenter Dryer 58>
Clip gripping width (distance from one end of the film to the corresponding clip gripping part): 25 mm
Ratio of the distance between clips at both ends of the film at the inlet of the dryer to the distance between clips at the outlet of the dryer: 1.0
Dryer temperature: 200°C
Air speed in each chamber in the dryer: Chamber 1 13.5 m/sec, Chamber 2 13 m/sec, Chambers 3 to 6 11 m/sec

テンター式乾燥機58を出た後、フィルム端部でのクリップの把持を解除した。得られたフィルムは、ニップロール203及び204を通過後、フィルムのクリップ把持部分をスリット装置59にてスリットし、次いでPET保護フィルム60を貼合し、ABS製6インチコアに巻き取って、厚さ50μmの光学フィルム61をロールとして得た。得られた光学フィルム61中の溶媒残存量は1.0質量%であった。 After leaving the tenter dryer 58, the clips on the film ends were released. After passing through the nip rolls 203 and 204, the clipped portions of the film were slit by the slitting device 59, and then a PET protective film 60 was laminated and wound around a 6-inch ABS core to obtain a roll of optical film 61 with a thickness of 50 μm. The amount of solvent remaining in the optical film 61 obtained was 1.0% by mass.

<実施例2>
ワニス(1)をワニス(2)に変更して、乾燥機53中での乾燥条件を120℃で20分、100℃で10分、90℃で10分加熱に変更した以外は、光学フィルム(1)の製造方法と同様にして、フィルム中の溶媒残存量が1.0質量%である、厚さ49μmの光学フィルム(2)を製造した。
Example 2
An optical film (2) having a thickness of 49 μm and a residual solvent content of 1.0 mass% in the film was produced in the same manner as in the production method of the optical film (1), except that the varnish (1) was changed to the varnish (2) and the drying conditions in the dryer 53 were changed to heating at 120° C. for 20 minutes, at 100° C. for 10 minutes, and at 90° C. for 10 minutes.

<実施例3>
(光学フィルム(3)の製造)
製造例5で作製したハードコート層形成用組成物(1)を、実施例2で得た光学フィルム(2)の、製膜時にPET基材フィルムと接触していた面に、硬化後の第1ハードコート層の厚さが3μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用いて光量350mJ/cmで光を照射し、塗膜を硬化して第1ハードコート層を形成して、ハードコート層を含む光学フィルム(3)を製造した。
Example 3
(Production of Optical Film (3))
The composition for forming a hard coat layer (1) prepared in Production Example 5 was applied to the surface of the optical film (2) obtained in Example 2 that had been in contact with the PET substrate film during film formation so that the thickness of the first hard coat layer after curing was 3 μm, and the coating was dried for 1 minute in an oven at 80° C. Thereafter, light was irradiated using a high-pressure mercury lamp at a light intensity of 350 mJ/cm 2 to cure the coating film and form a first hard coat layer, thereby producing an optical film (3) including a hard coat layer.

<実施例4>
ワニス(1)をワニス(3)に変更して、線速を0.30m/分から0.50m/分に変更した以外は、光学フィルム(1)の製造方法と同様にして、フィルム中の溶媒残存量が1.0質量%である、厚さ51μmの光学フィルム(4)を製造した。
Example 4
An optical film (4) having a thickness of 51 μm and a residual amount of the solvent in the film of 1.0 mass% was produced in the same manner as in the production method of the optical film (1), except that the varnish (1) was changed to the varnish (3) and the linear speed was changed from 0.30 m/min to 0.50 m/min.

<比較例1>
光学フィルム(5)として厚さ50μmのポリイミドフィルム(宇部興産(株)製;UPILEX)を準備した。
<Comparative Example 1>
As the optical film (5), a polyimide film (UPILEX, manufactured by Ube Industries, Ltd.) having a thickness of 50 μm was prepared.

組成物の処方及び光学フィルムの組成を表2にまとめた。なお、表2中、欄「HC有無
」は、光学フィルムがハードコート層を備える場合を有とし、備えない場合を無とした。
The formulation of the composition and the composition of the optical film are summarized in Table 2. In Table 2, the column "HC presence/absence" indicates that the optical film has a hard coat layer and that the optical film does not have a hard coat layer.

Figure 0007469088000021
Figure 0007469088000021

実施例及び比較例で得たフィルムについて、上記の方法に従い各物性値を測定した。得られた結果を表3~表6に示す。 The physical properties of the films obtained in the examples and comparative examples were measured according to the methods described above. The results are shown in Tables 3 to 6.

Figure 0007469088000022
Figure 0007469088000022

Figure 0007469088000023
Figure 0007469088000023

Figure 0007469088000024
Figure 0007469088000024

Figure 0007469088000025
Figure 0007469088000025

全光線透過率、ヘーズ及び突刺し強度が所定の範囲内であり、数式(1)~(3)を満たす実施例1~4の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れ、特に耐屈曲試験前後の写像性値の差およびヘーズの差が小さいことから、繰り返しの折り曲げ操作後であっても広角方向の視認性に優れるものであることが確認された。なお、繰り返しの折り曲げ操作後であっても広角方向の視認性に優れることを、本実施例では上記耐屈曲試験前後の写像性値の差およびHazeの差が小さいことにより確認したが、例えば上記の耐折性試験を任意の回数行い、その前後の写像性値の差およびHazeの差を評価することや、該試験前後の広角方向の視認性を上記の評価基準にしたがい評価することによって、繰り返しの折り曲げ操作後の視認性を評価してもよい。これに対し、全光線透過率及びヘーズが所定の範囲内ではなく、数式(1)~(3)を満たさない比較例1の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れるものではなかった。 The optical films of Examples 1 to 4, in which the total light transmittance, haze, and puncture strength are within the specified range and satisfy the formulas (1) to (3), are excellent in visibility in the wide-angle direction, and in particular, the difference in image clarity and the difference in haze before and after the bending resistance test are small, so that it was confirmed that the optical films have excellent visibility in the wide-angle direction even after repeated folding operations. In this example, it was confirmed that the visibility in the wide-angle direction is excellent even after repeated folding operations because the difference in image clarity and the difference in haze before and after the bending resistance test are small. However, for example, the above folding resistance test may be performed any number of times, and the difference in image clarity and the difference in haze before and after the test may be evaluated, or the visibility in the wide-angle direction before and after the test may be evaluated according to the above evaluation criteria, to evaluate the visibility after repeated folding operations. In contrast, the optical film of Comparative Example 1, in which the total light transmittance and haze are not within the specified range and do not satisfy the formulas (1) to (3), did not have excellent visibility in the wide-angle direction.

1 光学フィルム
3 垂直軸
10 第1入射光
11 第1入射位置
12 第1a透過光
14 第1光軸
16 第1光学櫛
18 第1b透過光
19 第1受光器
20 第2入射光
21 第2入射位置
22 第2a透過光
24 第2光軸
26 第2光学櫛
28 第2b透過光
29 第2受光器
30 第3入射光
31 第3入射位置
32 第3a透過光
34 第3光軸
36 第3光学櫛
38 第3b透過光
39 第3受光器
40 ゾーン
41 ゾーン
42 ゾーン
43 把持装置
44 原料フィルム
45 樹脂フィルム
46 上側ノズル(ノズル)
47 下側ノズル(ノズル)
48 ノズル
49 IRヒーター
100 テンター炉
100a 上面
100b 下面
A フィルムの搬送方向
51 PETフィルム基材
521 ノズル
522 タンク
53 乾燥機
54 保護フィルム
55 PETフィルム基材ロール
56 積層体ロール
57 保護フィルムロール
58 テンター式乾燥機
201 ニップロール
202 ニップロール
59 スリット装置
60 PET保護フィルム
61 光学フィルム
201~204 ニップロール
101~109 ガイドロール
1 Optical film 3 Vertical axis 10 First incident light 11 First incident position 12 1a transmitted light 14 First optical axis 16 First optical comb 18 1b transmitted light 19 First receiver 20 Second incident light 21 Second incident position 22 2a transmitted light 24 Second optical axis 26 Second optical comb 28 2b transmitted light 29 Second receiver 30 Third incident light 31 Third incident position 32 3a transmitted light 34 Third optical axis 36 Third optical comb 38 3b transmitted light 39 Third receiver 40 Zone 41 Zone 42 Zone 43 Holding device 44 Raw material film 45 Resin film 46 Upper nozzle (nozzle)
47 Lower nozzle (nozzle)
48 Nozzle 49 IR heater 100 Tenter furnace 100a Upper surface 100b Lower surface A Film transport direction 51 PET film substrate 521 Nozzle 522 Tank 53 Dryer 54 Protective film 55 PET film substrate roll 56 Laminate roll 57 Protective film roll 58 Tenter dryer 201 Nip roll 202 Nip roll 59 Slit device 60 PET protective film 61 Optical film 201 to 204 Nip roll 101 to 109 Guide roll

Claims (13)

ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも1種のポリイミド系樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、JIS Z 1707に準拠した突刺し強度が10~100Nであり、
前記光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をMD方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をTD方向としたときに、
JIS K 7374に準拠して光学櫛の幅が0.125mmである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該MD方向に60°傾斜した方向の第1透過写像性値C60(MD)と、該垂直方向から該TD方向に60°傾斜した方向の第2透過写像性値C60(TD)と、該垂直方向の第3透過写像性値Cとが、
数式(1):
87%≦C60(MD)≦100%・・・(1)、
数式(2):
87%≦C60(TD)≦100%・・・(2)、及び
数式(3):
0.8≦C60(MD)/C≦1.0・・・(3)
を満たし、
前記ポリイミド樹脂は、式(1):
Figure 0007469088000026
[式(1)中、Yは芳香環を有する炭素数4~40の4価の有機基を表し、Xは環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であり、前記ポリアミドイミド樹脂は、前記式(1)で表される構成単位及び式(2):
Figure 0007469088000027
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂である、光学フィルム。
An optical film comprising at least one polyimide-based resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamideimide resins , the optical film having a total light transmittance of 85% or more, a haze of 0.5% or less, and a puncture strength according to JIS Z 1707 of 10 to 100 N;
In the plane of the optical film, a direction parallel to the machine flow direction during production is defined as an MD direction, and a direction perpendicular to the machine flow direction is defined as a TD direction.
a first transmission image clarity value C 60 (MD) in a direction inclined at 60° from a perpendicular direction to a plane of the optical film toward the MD direction, a second transmission image clarity value C 60 (TD) in a direction inclined at 60 ° from the perpendicular direction toward the TD direction, and a third transmission image clarity value C 0 in the perpendicular direction, which are obtained in accordance with JIS K 7374 when the width of an optical comb is 0.125 mm,
Formula (1):
87%≦ C60 (MD)≦100%... (1),
Formula (2):
87%≦C 60 (TD)≦100% (2), and the formula (3):
0.8≦ C60 (MD) /C0≦1.0 ... (3)
The filling,
The polyimide resin has the formula (1):
Figure 0007469088000026
[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms and an aromatic ring, X represents a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms and a cyclic structure, and * represents a bond.]
The polyamide-imide resin has a constitutional unit represented by the formula (1) and a constitutional unit represented by the formula (2):
Figure 0007469088000027
[In formula (2), Z and X each independently represent a divalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms, and * represents a bond.]
The optical film is a polyamide-imide resin having a structural unit represented by the formula :
前記第2透過写像性値及び前記第3透過写像性値は、数式(4):
0.9≦C60(TD)/C≦1.0・・・(4)
をさらに満たす、請求項1に記載の光学フィルム。
The second transmission image clarity value and the third transmission image clarity value are calculated using Equation (4):
0.9≦ C60 (TD) /C0≦1.0 (4)
The optical film of claim 1 further comprising:
光学フィルムのJIS Z 1707に準拠した突刺し強度試験における破断点変位L(mm)と、引張弾性率E(GPa)とが、数式(5):
0.10≦L/E≦1.00 ・・・(5)
を満たす、請求項1又は2に記載の光学フィルム。
The fracture displacement L (mm) and the tensile modulus E (GPa) of the optical film in a puncture strength test in accordance with JIS Z 1707 are expressed by the following mathematical formula (5):
0.10≦L/E≦1.00 (5)
The optical film according to claim 1 or 2, which satisfies the above.
光学フィルムのJIS Z1707に準拠した突刺し強さS(N)と、厚さT(μm)とが、数式(6):
0.10≦S/T≦2.00・・・(6)
を満たす、請求項1~3のいずれかに記載の光学フィルム。
The puncture strength S (N) of the optical film in accordance with JIS Z1707 and the thickness T (μm) are expressed by the following mathematical formula (6):
0.10≦S/T≦2.00 (6)
The optical film according to any one of claims 1 to 3,
JIS K 5600-5-1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差ΔHazeが0.3%未満である、請求項1~4のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 4, in which the difference in haze ΔHaze before and after a bending resistance test conforming to JIS K 5600-5-1 is less than 0.3%. JIS K 5600-5-1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記第1透過写像性値の差ΔC60(MD)、前記第2透過写像性値の差ΔC60(TD)、及び前記第3透過写像性値の差ΔCがそれぞれ15未満である、請求項1~5のいずれかに記載の光学フィルム。 6. The optical film according to claim 1, wherein the first transmission image clarity value difference ΔC 60 (MD), the second transmission image clarity value difference ΔC 60 (TD), and the third transmission image clarity value difference ΔC 0 before and after a bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1 are each less than 15. ポリイミド系樹脂の重量平均分子量は350,000以下である、請求項1~6のいずれかに記載の光学フィルム。 7. The optical film according to claim 1, wherein the weight average molecular weight of the polyimide resin is 350,000 or less. 厚さが10~150μmである、請求項1~7のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 7, having a thickness of 10 to 150 μm. 少なくとも一方の面にハードコート層を有する、請求項1~8のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 8, having a hard coat layer on at least one surface. 前記ハードコート層の厚さは3~30μmである、請求項9に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 9, wherein the thickness of the hard coat layer is 3 to 30 μm. 請求項1~10のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。 A flexible display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 10. さらに、偏光板を備える、請求項11に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device of claim 11 further comprising a polarizing plate. さらに、タッチセンサを備える、請求項11又は12に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 11 or 12, further comprising a touch sensor.
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