JP2021148938A - Optical film and flexible display device - Google Patents

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一喜 大松
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Hitoshi Fukui
仁之 福井
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Masayoshi Karasawa
真義 唐澤
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Abstract

To provide a flexible display device excellent in visibility in a wide-angle direction that includes an optical film having a low in-plane phase difference R0.SOLUTION: An optical film 1 including at least one kind of resin selected from a group composed of polyimide resin and polyamide resin has total light transmittance of 85% or more, haze of 0.5% or less, and an in-plane phase difference R0 of 40-300nm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and a flexible display device including the optical film.

従来、太陽電池や画像表示装置等の表示部材の材料としてガラスが用いられてきた。しかし、近年の小型化、薄型化、軽量化及びフレキシブル化の要求に対して、ガラスは十分な材質を有するものではなく、ガラスの代替材料として各種フィルムが検討されている。このようなフィルムとしては、例えば、ポリイミドフィルムがある(例えば特許文献1及び2)。 Conventionally, glass has been used as a material for display members such as solar cells and image display devices. However, in response to recent demands for miniaturization, thinning, weight reduction, and flexibility, glass does not have a sufficient material, and various films are being studied as alternative materials for glass. Examples of such a film include a polyimide film (for example, Patent Documents 1 and 2).

特開2009−215412号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-2154412 特開2020−3781号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-3781

ポリイミド系樹脂フィルムがフレキシブル表示装置の前面板などの透明部材に適用される場合には、画像表示面が屈曲した状態で映像を表示する場合があるため、非屈曲性の画像表示面に比べ広角方向の優れた視認性が要求される。しかしながら、本発明者の検討によれば、従来のポリイミド系樹脂フィルムでは、広角方向の視認性を十分に満足できない場合があった。また、本発明者は、面内位相差Rが大きすぎる場合には、光学フィルムに高温の熱処理を施した場合に光学フィルムに反りが生じたり、光学フィルムが積層体である場合には、層間剥離が生じ得ることを見出していたが、従来のポリイミド系樹脂フィルムでは面内位相差Rが大きすぎる場合があった。 When a polyimide resin film is applied to a transparent member such as the front plate of a flexible display device, the image may be displayed with the image display surface bent, so the angle is wider than that of the non-flexible image display surface. Excellent visibility in the direction is required. However, according to the study of the present inventor, there are cases where the conventional polyimide resin film cannot sufficiently satisfy the visibility in the wide-angle direction. Further, the present inventor states that when the in-plane retardation R 0 is too large, the optical film is warped when the optical film is subjected to high-temperature heat treatment, or when the optical film is a laminated body, the optical film is warped. Although it has been found that delamination may occur, the in-plane retardation R 0 may be too large in the conventional polyimide resin film.

さらに、例えば特許文献1および2に記載される光学フィルムは、本発明者が検討したところ、広角方向の視認性及び投影像の視認性が低下する場合があった。 Further, for example, the optical films described in Patent Documents 1 and 2 have been examined by the present inventor, and there are cases where the visibility in the wide angle direction and the visibility of the projected image are lowered.

従って、本発明の目的は、広角方向の視認性に優れ、低い面内位相差Rを有する光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to provide an optical film having excellent visibility in a wide-angle direction and having a low in-plane phase difference R 0 , and a flexible display device including the optical film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、25℃における引張弾性率が5.1GPa以上であり、面内位相差Rが40〜300nmであり、前記光学フィルムの透過写像性値(C60(MD)、C60(TD)及びC)が所定の関係を満たす光学フィルムによれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明には、以下の態様が含まれる。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that an optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin has a total light transmittance. 85% or more, haze of 0.5% or less, tensile elasticity at 25 ° C. of 5.1 GPa or more, in-plane retardation R 0 of 40 to 300 nm, and transmission imageability of the optical film. We have found that the above problems can be solved by an optical film in which the values (C 60 (MD), C 60 (TD) and C 0) satisfy a predetermined relationship, and have completed the present invention. That is, the present invention includes the following aspects.

〔1〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、面内位相差Rが40〜300nmであり、
前記光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をMD方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をTD方向としたときに、
JIS K 7374に準拠して光学櫛の幅が0.125mmである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該MD方向に60°傾斜した方向の第1透過写像性値C60(MD)と、該垂直方向から該TD方向に60°傾斜した方向の第2透過写像性値C60(TD)と、該垂直方向の第3透過写像性値Cとが、
数式(1):
87%≦C60(MD)≦100%・・・(1)、
数式(2):
87%≦C60(TD)≦100%・・・(2)、及び
数式(3):
0.8≦C60(MD)/C≦1.0・・・(3)
を満たす、光学フィルム。
〔2〕前記第2透過写像性値及び前記第3透過写像性値は、数式(4):
0.9≦C60(TD)/C≦1.0・・・(4)
をさらに満たす、前記〔1〕に記載の光学フィルム。
〔3〕面内位相差Rnmと厚み方向の位相差Rthnmとが、数式(5):
3≦Rth/R≦200・・・(5)
を満たす、前記〔1〕又は〔2〕に記載の光学フィルム。
〔4〕JIS K 5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差ΔHazeが0.3%未満である、前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔5〕JIS K 5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記第1透過写像性値の差ΔC60(MD)、前記第2透過写像性値の差ΔC60(TD)、及び前記第3透過写像性値の差ΔCがそれぞれ15未満である、前記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔6〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される樹脂の重量平均分子量は350,000以下である前記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔7〕厚さが10〜150μmである、前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔8〕少なくとも一方の面にハードコート層を有する、前記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔9〕前記ハードコート層の厚さは3〜30μmである、前記〔8〕に記載の光学フィルム。
〔10〕前記〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
〔11〕さらに、タッチセンサを備える、前記〔10〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔12〕さらに、偏光板を備える、前記〔10〕又は〔11〕に記載のフレキシブル表示装置。
[1] An optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, having a total light transmittance of 85% or more and a haze of 0.5% or less. , The in-plane phase difference R 0 is 40 to 300 nm.
When the direction parallel to the machine flow direction at the time of manufacture in the optical film plane is the MD direction and the direction perpendicular to the machine flow direction is the TD direction,
The first transmission mapping property value C in the direction inclined by 60 ° in the MD direction from the direction perpendicular to the plane of the optical film, which is obtained when the width of the optical comb is 0.125 mm in accordance with JIS K 7374. The 60 (MD), the second transmission mapping property value C 60 (TD) in the direction inclined by 60 ° from the vertical direction to the TD direction, and the third transmission mapping property value C 0 in the vertical direction are
Formula (1):
87% ≤ C 60 (MD) ≤ 100% ... (1),
Formula (2):
87% ≤ C 60 (TD) ≤ 100% ... (2), and mathematical formula (3):
0.8 ≤ C 60 (MD) / C 0 ≤ 1.0 ... (3)
An optical film that meets the requirements.
[2] The second transmission mapping property value and the third transmission mapping property value are calculated by the mathematical formula (4):
0.9 ≤ C 60 (TD) / C 0 ≤ 1.0 ... (4)
The optical film according to the above [1].
[3] The in-plane phase difference R 0 nm and the phase difference R th nm in the thickness direction are mathematical formulas (5):
3 ≤ R th / R 0 ≤ 200 ... (5)
The optical film according to the above [1] or [2], which satisfies the above conditions.
[4] The optical film according to any one of [1] to [3] above, wherein the difference ΔHaze of the haze before and after the bending resistance test according to JIS K 5600-5-1 is less than 0.3%.
[5] Difference in first transmission mapping property value before and after the bending resistance test according to JIS K 5600-5-1 ΔC 60 (MD), difference in second transmission mapping property value ΔC 60 (TD), and The optical film according to any one of [1] to [4] above, wherein the difference ΔC 0 of the third transmission mapping property value is less than 15, respectively.
[6] The optical film according to any one of [1] to [5] above, wherein the weight average molecular weight of the resin selected from the group consisting of the polyimide resin and the polyamide resin is 350,000 or less.
[7] The optical film according to any one of [1] to [6] above, which has a thickness of 10 to 150 μm.
[8] The optical film according to any one of [1] to [7] above, which has a hard coat layer on at least one surface.
[9] The optical film according to [8], wherein the hard coat layer has a thickness of 3 to 30 μm.
[10] A flexible display device including the optical film according to any one of the above [1] to [9].
[11] The flexible display device according to the above [10], further comprising a touch sensor.
[12] The flexible display device according to the above [10] or [11], further comprising a polarizing plate.

本発明によれば、広角方向の視認性に優れると共に、面内位相差Rが低いために高温で熱処理後であっても反りや剥離が生じにくい光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することができる。 According to the present invention, an optical film having excellent visibility in a wide angle direction and having a low in-plane phase difference R 0 so that warpage and peeling are unlikely to occur even after heat treatment at a high temperature, and a flexible display including the optical film. Equipment can be provided.

図1は、第1透過写像性値の測定における光軸を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an optical axis in measuring the first transmission mapping property value. 図2は、第2透過写像性値の測定における光軸を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an optical axis in the measurement of the second transmission mapping property value. 図3は、第3透過写像性値の測定における光軸を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an optical axis in the measurement of the third transmission mapping property value. 本発明の光学フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。It is a process cross-sectional view which shows typically the preferable embodiment of the manufacturing method of the optical film of this invention. 本発明の光学フィルムの製造方法における加熱工程の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。It is a process cross-sectional view which shows typically the preferable embodiment of the heating process in the manufacturing method of the optical film of this invention. 本発明の光学フィルムの製造方法におけるテンター炉内の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。It is a process cross-sectional view which shows typically the preferable embodiment in the tenter furnace in the manufacturing method of the optical film of this invention. 実施例における光学フィルムの製造方法を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the manufacturing method of the optical film in an Example. 実施例における光学フィルムの製造方法を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the manufacturing method of the optical film in an Example.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。また、特定のパラメータについて複数の上限値及び下限値が記載されている場合、これらの上限値及び下限値のうち任意の上限値と下限値とを組合せて好適な数値範囲とすることができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Further, when a plurality of upper limit values and lower limit values are described for a specific parameter, any upper limit value and lower limit value among these upper limit values and lower limit values can be combined to form a suitable numerical range.

<光学フィルム>
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、面内位相差Rが40nm〜300nmであり、
前記光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をMD方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をTD方向としたときに、
JIS K 7374に準拠して光学櫛の幅が0.125mmである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該MD方向に60°傾斜した方向の第1透過写像性値C60(MD)と、該垂直方向から該TD方向に60°傾斜した方向の第2透過写像性値C60(TD)と、該垂直方向の第3透過写像性値Cとが、
数式(1):
87%≦C60(MD)≦100%・・・(1)、
数式(2):
87%≦C60(TD)≦100%・・・(2)、及び
数式(3):
0.8≦C60(MD)/C≦1.0・・・(3)
を満たす。
<Optical film>
The optical film of the present invention is an optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and has a total light transmittance of 85% or more and a haze of 0.5. % Or less, and the in-plane retardation R 0 is 40 nm to 300 nm.
When the direction parallel to the machine flow direction at the time of manufacture in the optical film plane is the MD direction and the direction perpendicular to the machine flow direction is the TD direction,
The first transmission mapping property value C in the direction inclined by 60 ° in the MD direction from the direction perpendicular to the plane of the optical film, which is obtained when the width of the optical comb is 0.125 mm in accordance with JIS K 7374. The 60 (MD), the second transmission mapping property value C 60 (TD) in the direction inclined by 60 ° from the vertical direction to the TD direction, and the third transmission mapping property value C 0 in the vertical direction are
Formula (1):
87% ≤ C 60 (MD) ≤ 100% ... (1),
Formula (2):
87% ≤ C 60 (TD) ≤ 100% ... (2), and mathematical formula (3):
0.8 ≤ C 60 (MD) / C 0 ≤ 1.0 ... (3)
Meet.

MD方向は、光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向であり、例えば、溶液キャスト法で製造された場合における光学フィルムが搬送された方向と平行な方向を示す。TD方向は、前記機械流れ方向に垂直な方向であり、例えば、搬送された方向に垂直な方向を示す。光学フィルム面内のMD方向及びTD方向は、その方向が不明な場合、以下の方法により決定する。MDとTDに関しては、光学フィルムの少なくとも20点以上の異なる方向の断面出しを行う。より詳細には、光学フィルムの任意の1点を中心とする円を想定し、当該光学フィルムからその半円を切り出して、さらにその半円を切断した後の扇形の中心角が略均等になるように、光学フィルムを直線状に切断し、20個以上の断面出しを行う。得られた複数の断面の厚さの中心をレーザーラマンにより測定し、1,620cm−1付近のピーク強度が最も大きいものをMD方向とする。 The MD direction is a direction parallel to the machine flow direction at the time of manufacture in the plane of the optical film, and indicates, for example, a direction parallel to the direction in which the optical film is conveyed when manufactured by the solution casting method. The TD direction is a direction perpendicular to the machine flow direction, and indicates, for example, a direction perpendicular to the conveyed direction. When the directions are unknown, the MD direction and the TD direction in the optical film plane are determined by the following method. For MD and TD, at least 20 points or more of the optical film are cross-sectioned in different directions. More specifically, assuming a circle centered on any one point of the optical film, the semicircle is cut out from the optical film, and the central angle of the fan shape after cutting the semicircle becomes substantially uniform. As described above, the optical film is cut in a straight line, and 20 or more cross sections are formed. The center of the thickness of the obtained plurality of cross sections is measured by laser Raman, and the one having the highest peak intensity near 1,620 cm -1 is defined as the MD direction.

第1透過写像性値C60(MD)は、日本工業規格(JIS) K 7374に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向からMD方向に60°傾斜した方向の透過写像性値である。図1を参照して、第1透過写像性値C60(MD)をより具体的に説明する。図1は、第1透過写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム1の面上の任意の点(第1入射位置11)を支点として、光学フィルム1に対して垂直な軸(垂直軸3)からMD方向に角度60°傾斜した軸(第1光軸14)に沿って第1入射光10(白色光:図1中、実線で表記)を光学フィルム1に照射する。次いで、光学フィルム1を透過した第1a透過光12(図1中、破線で表記)を、第1光軸14に垂直に延在する第1光学櫛16に透過させる。次いで、第1光学櫛16を透過した第1b透過光18(図1中、一点鎖線で表記)を第1光軸14に垂直に延在する第1受光器19で受光する。第1光学櫛16は、第1a透過光12を透過させる開口部と、第1a透過光12を遮断する遮光部とを有する。第1光学櫛16のスリット幅(開口部の幅)は、0.125mmである。
第1光学櫛16の平面に対して平行であり、かつ第1光学櫛16におけるスリットが配列する方向(矢印Aの方向)に、第1光学櫛16を所定の単位幅移動させて第1b透過光18を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得る。得られたM及びmから数式(7):

Figure 2021148938
に基づいて第1透過写像性値C60(MD)を算出する。透過写像性値(第1透過写像性値、並びに後述の第2透過写像性値及び第3透過写像性値)は、写像性測定器を用いて測定することができる。 The first transmissivity value C 60 (MD) is obtained in accordance with Japanese Industrial Standards (JIS) K 7374, and is a transmissivity in a direction inclined by 60 ° from the vertical direction to the MD direction with respect to the plane of the optical film. The value. The first transmission mapping property value C 60 (MD) will be described more specifically with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing an optical axis in measuring the first transmission mapping property value. An axis (first optical axis) inclined at an angle of 60 ° in the MD direction from an axis perpendicular to the optical film 1 (vertical axis 3) with an arbitrary point (first incident position 11) on the surface of the optical film 1 as a fulcrum. The optical film 1 is irradiated with the first incident light 10 (white light: indicated by a solid line in FIG. 1) along 14). Next, the first a transmitted light 12 (indicated by a broken line in FIG. 1) transmitted through the optical film 1 is transmitted to the first optical comb 16 extending perpendicular to the first optical axis 14. Next, the first b transmitted light 18 (denoted by the alternate long and short dash line in FIG. 1) transmitted through the first optical comb 16 is received by the first receiver 19 extending perpendicular to the first optical axis 14. The first optical comb 16 has an opening for transmitting the first a transmitted light 12 and a light shielding portion for blocking the first a transmitted light 12. The slit width (width of the opening) of the first optical comb 16 is 0.125 mm.
The first optical comb 16 is moved by a predetermined unit width in the direction parallel to the plane of the first optical comb 16 and in which the slits in the first optical comb 16 are arranged (direction of arrow A) to transmit the first b. The light 18 is repeatedly received to obtain a light receiving waveform. From the obtained received light waveform, the maximum value M and the minimum value m of the relative light amount are obtained. Formula (7): from the obtained M and m:
Figure 2021148938
The first transmission mapping property value C 60 (MD) is calculated based on the above. The transmission mapping property value (the first transmission mapping property value, and the second transmission mapping property value and the third transmission mapping property value, which will be described later) can be measured using a mapping property measuring device.

第1透過写像性値C60(MD)が数式(1)を満たすと、光学フィルムはMD方向における広角方向の視認性に優れる。第1透過写像性値C60(MD)は、数式(1)において87%以上であり、光学フィルムのMD方向における広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、好ましくは88%以上、より好ましくは89%以上、さらに好ましくは90%以上、さらにより好ましくは91%以上、とりわけ好ましくは92%以上であり、通常、100%以下である。 When the first transmission mapping property value C 60 (MD) satisfies the mathematical formula (1), the optical film is excellent in visibility in the wide-angle direction in the MD direction. The first transmission mapping property value C 60 (MD) is 87% or more in the mathematical formula (1), and is preferably 88% or more, more preferably 88% or more from the viewpoint of further improving the visibility of the optical film in the wide-angle direction in the MD direction. Is 89% or more, more preferably 90% or more, even more preferably 91% or more, particularly preferably 92% or more, and usually 100% or less.

第2透過写像性値C60(TD)は、JIS K 7374に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向からTD方向に60°傾斜した方向の透過写像性値である。図2を参照して、第2透過写像性値C60(TD)をより具体的に説明する。図2は、第2透過写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム1の面上の任意の点(第2入射位置21)を支点として、光学フィルム1に対して垂直な軸(垂直軸3)からTD方向に角度60°傾斜した軸(第2光軸24)に沿って第2入射光20(白色光:図2中、実線で表記)を光学フィルム1に照射する。次いで、光学フィルム1を透過した第2a透過光22(図2中、破線で表記)を、第2光軸24に垂直に延在する第2光学櫛26に透過させる。次いで、第2光学櫛26を透過した第2b透過光28(図2中、一点鎖線で表記)を第2光軸24に垂直に延在する第2受光器29で受光する。第2光学櫛26は、第2a透過光22を透過させる開口部と、第2a透過光22を遮断する遮光部とを有する。第2光学櫛26のスリット幅(開口部の幅)は、0.125mmである。
第2光学櫛26の平面に対して平行であり、かつ第2光学櫛26におけるスリットの配列する方向(矢印Bの方向)に、第2光学櫛26を所定の単位幅移動させて第2b透過光28を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得る。得られたM及びmから数式(7)に基づいて第2透過写像性値C60(TD)を算出する。
The second transmission mapping property value C 60 (TD) is a transmission mapping property value obtained in accordance with JIS K 7374 in a direction inclined by 60 ° in the TD direction from the direction perpendicular to the plane of the optical film. The second transmission mapping property value C 60 (TD) will be described more specifically with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram showing an optical axis in the measurement of the second transmission mapping property value. An axis (second optical axis) inclined at an angle of 60 ° in the TD direction from an axis perpendicular to the optical film 1 (vertical axis 3) with an arbitrary point (second incident position 21) on the surface of the optical film 1 as a fulcrum. The optical film 1 is irradiated with the second incident light 20 (white light: indicated by a solid line in FIG. 2) along 24). Next, the second a transmitted light 22 (indicated by a broken line in FIG. 2) transmitted through the optical film 1 is transmitted to the second optical comb 26 extending perpendicularly to the second optical axis 24. Next, the second b transmitted light 28 (indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 2) transmitted through the second optical comb 26 is received by the second light receiver 29 extending perpendicular to the second optical axis 24. The second optical comb 26 has an opening for transmitting the second a transmitted light 22 and a light shielding portion for blocking the second a transmitted light 22. The slit width (width of the opening) of the second optical comb 26 is 0.125 mm.
The second optical comb 26 is moved by a predetermined unit width in the direction in which the slits are arranged in the second optical comb 26 (direction of arrow B) and is parallel to the plane of the second optical comb 26, and is transmitted through the second b. The light 28 is repeatedly received to obtain a light receiving waveform. From the obtained received light waveform, the maximum value M and the minimum value m of the relative light amount are obtained. The second transmission mapping property value C 60 (TD) is calculated from the obtained M and m based on the mathematical formula (7).

第2透過写像性値C60(TD)が数式(2)を満たすと、光学フィルムはTD方向における広角方向の視認性に優れる。第2透過写像性値C60(TD)は、数式(2)において87%以上であり、光学フィルムのTD方向における広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、好ましくは88%以上、より好ましくは89%以上、さらに好ましくは90%以上、さらにより好ましくは91%以上、とりわけ好ましくは92%以上であり、通常、100%以下である。 When the second transmission mapping property value C 60 (TD) satisfies the mathematical formula (2), the optical film is excellent in visibility in the wide-angle direction in the TD direction. The second transmission mapping property value C 60 (TD) is 87% or more in the mathematical formula (2), and is preferably 88% or more, more preferably 88% or more, from the viewpoint of further improving the visibility of the optical film in the wide-angle direction in the TD direction. Is 89% or more, more preferably 90% or more, even more preferably 91% or more, particularly preferably 92% or more, and usually 100% or less.

第3透過写像性値Cは、JIS K 7374に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向の透過写像性値である。図3を参照して、第3透過写像性値Cにより具体的に説明する。図3は、第3写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム1に対して垂直な軸(垂直軸3)と平行な軸(第3光軸34)に沿って第3入射光30(白色光:図3中、実線で表記)を光学フィルム1の面上の任意の点(第3入射位置31)に照射する。次いで、光学フィルム1を透過した第3a透過光32(図3中、破線で表記)を、第3光軸34に垂直に延在する第3光学櫛36に透過させる。次いで、第3光学櫛36を透過した第3b透過光38(図3中、一点鎖線で表記)を第3光軸34に垂直に延在する受光器39で受光する。第3光学櫛36は、第3a透過光32を透過させる開口部と、第3a透過光32を遮断する遮光部とを有する。第3光学櫛36のスリット幅(開口部の幅)は、0.125mmである。
第3光学櫛36の平面に対して平行であり、かつ第3光学櫛36におけるスリットが配列する方向(矢印Cの方向)に、第3光学櫛36を所定の単位幅移動させて第3b透過光38を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得る。得られたM及びmから数式(7)に基づいて第3透過写像性値Cを算出する。
The third transmission mapping property value C 0 is a transmission mapping property value in the direction perpendicular to the plane of the optical film, which is obtained in accordance with JIS K 7374. This will be specifically described with reference to FIG. 3 with reference to a third transmission mapping property value C 0. FIG. 3 is a diagram showing an optical axis in the measurement of the third mapping property value. The third incident light 30 (white light: represented by a solid line in FIG. 3) along the axis parallel to the axis (vertical axis 3) perpendicular to the optical film 1 and the axis parallel to the optical film 1 (third optical axis 34) of the optical film 1. Irradiate an arbitrary point (third incident position 31) on the surface. Next, the third a transmitted light 32 (indicated by a broken line in FIG. 3) transmitted through the optical film 1 is transmitted to the third optical comb 36 extending perpendicularly to the third optical axis 34. Next, the third b transmitted light 38 (indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 3) transmitted through the third optical comb 36 is received by the receiver 39 extending perpendicularly to the third optical axis 34. The third optical comb 36 has an opening for transmitting the third a transmitted light 32 and a light shielding portion for blocking the third a transmitted light 32. The slit width (width of the opening) of the third optical comb 36 is 0.125 mm.
The third optical comb 36 is moved by a predetermined unit width in the direction parallel to the plane of the third optical comb 36 and in which the slits in the third optical comb 36 are arranged (direction of arrow C) to transmit the third b. The light 38 is repeatedly received to obtain a light receiving waveform. From the obtained received light waveform, the maximum value M and the minimum value m of the relative light amount are obtained. From the obtained M and m, the third transmission mapping property value C 0 is calculated based on the mathematical formula (7).

第1透過写像性値C60(MD)及び第3透過写像性値Cが数式(3)を満たすと、光学フィルムは、光学フィルムの垂直方向に対するMD方向における視認性に優れる。第3透過写像性値Cに対する第1写像性値C60(MD)の比(C60(MD)/C)は数式(3)において0.8以上であり、MD方向における視認性をさらに向上させる観点から、好ましくは0.89以上、より好ましくは0.90以上、さらに好ましくは0.93以上、さらにより好ましくは0.94以上であり、通常、1.0以下である。 When the first transmission mapping property value C 60 (MD) and the third transmission mapping property value C 0 satisfy the mathematical formula (3), the optical film is excellent in visibility in the MD direction with respect to the vertical direction of the optical film. The ratio (C 60 (MD) / C 0 ) of the first mapping property value C 60 (MD) to the third transmission mapping property value C 0 is 0.8 or more in the formula (3), and the visibility in the MD direction is determined. From the viewpoint of further improvement, it is preferably 0.89 or more, more preferably 0.90 or more, still more preferably 0.93 or more, still more preferably 0.94 or more, and usually 1.0 or less.

第3透過写像性値Cは、好ましくは97%以上、より好ましくは98%以上である。第1透過写像性値C60(MD)は、好ましくは89%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは92%以上である。 The third transmission mapping property value C 0 is preferably 97% or more, more preferably 98% or more. The first transmission mapping property value C 60 (MD) is preferably 89% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 92% or more.

透過写像性値(より具体的には、第1透過写像性値C60(MD)、第2透過写像性値C60(TD)、及び第3透過写像性値C)は、光学フィルム表面の平滑性を向上させて、光学フィルム表面における透過光の散乱等を抑制することにより、調整することができる。さらに、光学フィルム表面の平滑性は、例えば、光学フィルムの組成(より具体的には、フィラーの種類、粒子径及び含有量等)、及び光学フィルムの製造条件(より具体的には、乾燥温度、乾燥時間、乾燥系での気流、塗膜の厚さ、乾燥工程での搬送速度及びワニス中の溶媒量等)により調整することができる。光学フィルムがさらにハードコート層を含む場合は、ハードコート層表面の平滑性を向上させて、ハードコート層表面における散乱等を抑制することにより、調整することができる。ハードコート層の平滑性は、上記光学フィルムの平滑性の調整方法に加え、例えば、溶剤の種類、成分比、固形分濃度の調整及びレベリング剤の添加などにより調整することができる。 The transmission image quality values (more specifically, the first transmission image quality value C 60 (MD), the second transmission image quality value C 60 (TD), and the third transmission image quality value C 0 ) are the optical film surfaces. It can be adjusted by improving the smoothness of the optical film and suppressing scattering of transmitted light on the surface of the optical film. Further, the smoothness of the optical film surface is determined by, for example, the composition of the optical film (more specifically, the type of filler, the particle size and the content, etc.), and the manufacturing conditions of the optical film (more specifically, the drying temperature). , Drying time, airflow in the drying system, thickness of the coating film, transport speed in the drying step, amount of solvent in the varnish, etc.) can be adjusted. When the optical film further contains a hard coat layer, it can be adjusted by improving the smoothness of the surface of the hard coat layer and suppressing scattering or the like on the surface of the hard coat layer. The smoothness of the hard coat layer can be adjusted by, for example, adjusting the type of solvent, component ratio, solid content concentration, adding a leveling agent, and the like, in addition to the method for adjusting the smoothness of the optical film.

本発明の光学フィルムの垂直方向に対するTD方向における視認性を高める観点から、前記第2透過写像性値及び前記第3透過写像性値は、数式(4):
0.9≦C60(TD)/C≦1.0・・・(4)
をさらに満たすことが好ましい。本発明のTD方向における視認性をさらに高める観点から、前記第3透過写像性値に対する前記第1透過写像性値の比(C60(TD)/C)は、好ましくは0.9以上、より好ましくは0.91以上、さらに好ましくは0.92以上、さらにより好ましくは0.93以上、とりわけ好ましくは0.94以上であり、通常、1.0以下である。
From the viewpoint of enhancing the visibility of the optical film of the present invention in the TD direction with respect to the vertical direction, the second transmission mapping property value and the third transmission mapping property value are calculated by the mathematical formula (4):
0.9 ≤ C 60 (TD) / C 0 ≤ 1.0 ... (4)
It is preferable to further satisfy. From the viewpoint of further enhancing the visibility in the TD direction of the present invention, the ratio of the first transmission mapping property value to the third transmission mapping property value (C 60 (TD) / C 0 ) is preferably 0.9 or more. It is more preferably 0.91 or more, still more preferably 0.92 or more, even more preferably 0.93 or more, particularly preferably 0.94 or more, and usually 1.0 or less.

第2透過写像性値C60(TD)は、好ましくは89%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは92%以上である。第3透過写像性値Cは、好ましくは97%以上、より好ましくは98%以上、さらに好ましくは99%以上である。 The second transmission mapping property value C 60 (TD) is preferably 89% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 92% or more. The third transmission mapping property value C 0 is preferably 97% or more, more preferably 98% or more, and further preferably 99% or more.

また、本発明の光学フィルムは、該光学フィルムの少なくともいずれか一方の面から光を透過させた場合に数式(1)〜数式(3)(場合によりさらに数式(4))を満たせばよいが、より好ましくは該光学フィルムのいずれの面から光を透過させた場合にも数式(1)〜数式(3)(場合によりさらに数式(4))を満たす。いずれの面から光を透過させた場合にも該数式を満たせば、例えば、光学フィルムのいずれの面を電子デバイスの画像表示面に採用したとしても、広角方向への視認性に優れる。 Further, the optical film of the present invention may satisfy mathematical formulas (1) to (3) (in some cases, further mathematical formula (4)) when light is transmitted from at least one surface of the optical film. , More preferably, the mathematical formulas (1) to (3) (in some cases, further mathematical formula (4)) are satisfied when light is transmitted from any surface of the optical film. If the mathematical formula is satisfied even when light is transmitted from any surface, for example, even if any surface of the optical film is adopted as the image display surface of the electronic device, the visibility in the wide-angle direction is excellent.

特に、本発明の光学フィルムをフレキシブルデバイスの前面板に適用した場合、広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、JIS K 5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験前後の第1透過写像性値の差の絶対値ΔC60(MD)、第2透過写像性値の差の絶対値ΔC60(TD)、及び第3透過写像性値の差の絶対値ΔCが好ましくはそれぞれ15未満である。耐屈曲試験前後の該透過写像性値の差が15未満であると、特にフレキシブルデバイスの画像表示面が屈曲した状態で使用しても及び/又は屈曲した状態で使用した後であっても、広角方向の優れた視認性を有する。ΔC60(MD)は、より好ましくは1.5未満、さらに好ましくは1.0未満、さらにより好ましくは0.5未満である。ΔC60(TD)は、より好ましくは2.8未満、さらに好ましくは2.3未満、さらにより好ましくは2.1未満、とりわけ好ましくは1.5未満である。ΔCは、より好ましくは2未満、さらに好ましくは1未満、さらにより好ましくは0.7未満、とりわけ好ましくは0.5未満である。 In particular, when the optical film of the present invention is applied to the front plate of a flexible device, the first transmission map before and after the bending resistance test based on JIS K 5600-5-1 from the viewpoint of further improving visibility in the wide angle direction. The absolute value ΔC 60 (MD) of the difference between the sex values, the absolute value ΔC 60 (TD) of the difference between the second transmission mapping properties, and the absolute value ΔC 0 of the difference between the third transmission mapping values are preferably less than 15, respectively. Is. When the difference between the transmission mapability values before and after the bending resistance test is less than 15, the image display surface of the flexible device is used in a bent state and / or even after being used in a bent state. Has excellent visibility in the wide-angle direction. ΔC 60 (MD) is more preferably less than 1.5, even more preferably less than 1.0, even more preferably less than 0.5. ΔC 60 (TD) is more preferably less than 2.8, even more preferably less than 2.3, even more preferably less than 2.1, and particularly preferably less than 1.5. ΔC 0 is more preferably less than 2, even more preferably less than 1, even more preferably less than 0.7, and particularly preferably less than 0.5.

さらに、本発明の光学フィルムにおいては、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、面内位相差Rが40〜300nmである。光学フィルムが上記の特徴を満たす場合、光学フィルムの広角方向の視認性が十分となると共に、高温で熱処理後の光学フィルムの広角方向の視認性及び投影像の視認性を高めることができる。全光線透過率が85%未満であるか、又はヘーズが0.5%未満である場合、光学フィルムの初期の光学特性が低いために、光学フィルムの十分な視認性を達成することができない。さらに、面内位相差Rが40nm未満である光学フィルムは、延伸工程を含む製造方法で製造しにくいため、高い広角視認性を有するフィルムを製造しにくくなる。また、面内位相差Rが300nmを超える場合、光学フィルムを構成する樹脂のひずみが大きすぎるために、光学フィルムに機能層を積層させる際の熱処理等によって、光学フィルムに反り及び/又は層間剥離が生じやすいい。そのため、このような熱処理後の例えば機能層が積層された光学フィルムにおいて、広角方向の視認性及び投影像の視認性が低下すると考えられる。 Further, in the optical film of the present invention, the total light transmittance is 85% or more, the haze is 0.5% or less, and the in-plane retardation R 0 is 40 to 300 nm. When the optical film satisfies the above characteristics, the visibility in the wide angle direction of the optical film is sufficient, and the visibility in the wide angle direction of the optical film after heat treatment at a high temperature and the visibility of the projected image can be enhanced. If the total light transmittance is less than 85% or the haze is less than 0.5%, sufficient visibility of the optical film cannot be achieved due to the low initial optical properties of the optical film. Further, since it is difficult to manufacture an optical film having an in-plane retardation R 0 of less than 40 nm by a manufacturing method including a stretching step, it is difficult to manufacture a film having high wide-angle visibility. When the in-plane retardation R 0 exceeds 300 nm, the strain of the resin constituting the optical film is too large, so that the optical film is warped and / or interlayered by heat treatment when laminating the functional layer on the optical film. Easy to peel off. Therefore, it is considered that the visibility in the wide-angle direction and the visibility of the projected image are lowered in, for example, an optical film in which functional layers are laminated after such heat treatment.

本発明の光学フィルムの全光線透過率は85%以上であり、広角方向の視認性をさらに向上させやすい観点から、好ましくは87%以上、より好ましくは88%以上、さらに好ましくは89%以上であり、通常100%以下である。光学フィルムの全光線透過率は、JIS K 7361−1:1997に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。本発明の光学フィルムは、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学フィルムを画像表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。全光線透過率の上限は、通常100%以下である。なお、全光線透過率は、後述する光学フィルムの厚さの範囲における全光線透過率であってよい。 The total light transmittance of the optical film of the present invention is 85% or more, and is preferably 87% or more, more preferably 88% or more, still more preferably 89% or more from the viewpoint of further improving visibility in the wide-angle direction. Yes, usually 100% or less. The total light transmittance of the optical film can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7361-1: 1997, for example, by the method described in Examples. Since the optical film of the present invention exhibits high total light transmittance, for example, it is necessary to suppress the emission intensity of a display element or the like required to obtain a constant brightness as compared with the case of using a film having low transmittance. Is possible. Therefore, power consumption can be reduced. For example, when the optical film of the present invention is incorporated into an image display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light from the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. The total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the thickness of the optical film described later.

本発明の光学フィルムのヘーズは0.5%以下であり、広角方向の視認性をさらに向上させやすい観点から、好ましくは0.4%以下、より好ましくは0.3%以下である。光学フィルムのヘーズは、JIS K 7136:2000に準拠して測定することができる。ヘーズは、JIS K 7136:2000に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。また、本発明の光学フィルムは、JIS K 5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差の絶対値ΔHazeが好ましくは0.3%以下、より好ましくは0.2%以下である。 The haze of the optical film of the present invention is 0.5% or less, preferably 0.4% or less, more preferably 0.3% or less, from the viewpoint of further improving visibility in the wide-angle direction. The haze of the optical film can be measured according to JIS K 7136: 2000. The haze can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7136: 2000, for example, by the method described in Examples. Further, in the optical film of the present invention, the absolute value ΔHaze of the difference in haze before and after the bending resistance test according to JIS K 5600-5-1 is preferably 0.3% or less, more preferably 0.2% or less. Is.

本発明の光学フィルムの25℃における引張弾性率は、熱処理後の例えば機能層が積層された光学フィルムの広角方向の視認性及び投影像の視認性を高めやすく、かつ、光学フィルムに凹み等の欠陥が生じにくい観点から、好ましくは5.1GPa以上、より好ましくは5.2GPa以上、さらに好ましくは5.3GPa以上である。また、該引張弾性率は、光学フィルムのフレキシブル性を向上させやすい観点から、好ましくは10GPa以下、より好ましくは9GPa以下、さらに好ましくは8GPa以下である。該弾性率は、引張試験機(チャック間距離50mm、引張速度10mm/分)を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。引張弾性率が上記範囲内であると、光学フィルムに凹み欠陥が生じにくくなる。また、繰り返しの折り曲げ操作による広角方向の視認性の低下を抑制しやすい。光学フィルムの引張弾性率は、JIS K 7127に準拠して、引張試験機を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。引張弾性率は、例えば光学フィルムを製造する際の延伸倍率を高めること、後述する好ましい構造を有する樹脂を使用すること等により、上記の範囲に調整することができる。 The tensile elastic modulus of the optical film of the present invention at 25 ° C. makes it easy to improve the visibility in the wide angle direction and the visibility of the projected image of the optical film on which the functional layers are laminated after the heat treatment, and the optical film has dents and the like. From the viewpoint that defects are less likely to occur, it is preferably 5.1 GPa or more, more preferably 5.2 GPa or more, and further preferably 5.3 GPa or more. The tensile elastic modulus is preferably 10 GPa or less, more preferably 9 GPa or less, still more preferably 8 GPa or less, from the viewpoint of easily improving the flexibility of the optical film. The elastic modulus can be measured using a tensile tester (distance between chucks 50 mm, tensile speed 10 mm / min), for example, by the method described in Examples. When the tensile elastic modulus is within the above range, dent defects are less likely to occur in the optical film. In addition, it is easy to suppress a decrease in visibility in the wide-angle direction due to repeated bending operations. The tensile elastic modulus of the optical film can be measured using a tensile tester in accordance with JIS K 7127, for example, by the method described in Examples. The tensile elastic modulus can be adjusted within the above range, for example, by increasing the draw ratio when producing an optical film, or by using a resin having a preferable structure described later.

本発明の光学フィルムの80℃における引張弾性率は、好ましくは4〜9GPa、より好ましくは4.5〜8.5GPaである。引張弾性率が上記範囲内であると、光学フィルムに凹み欠陥が生じにくくなる。該弾性率はJIS K 7127に準拠して測定することができ、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The tensile elastic modulus of the optical film of the present invention at 80 ° C. is preferably 4 to 9 GPa, more preferably 4.5 to 8.5 GPa. When the tensile elastic modulus is within the above range, dent defects are less likely to occur in the optical film. The elastic modulus can be measured according to JIS K 7127, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムの面内位相差Rは、40〜300nmである。面内位相差Rが40nm未満である場合、光学特性に優れるフィルムの取得が困難となる。また、面内位相差Rが300nmを超える場合、光学フィルムに機能層を積層させる際の熱処理等によって、光学フィルムに反り及び/又は層間剥離が生じやすい。該面内位相差Rは、フィルム表面の平滑性の観点から、好ましくは50nm以上、より好ましくは60nm以上、さらに好ましくは70nm以上であり、他部材との積層の観点からは、好ましくは290nm以下、より好ましくは280nm以下である。
は、位相差測定装置により測定することができ、例えば実施例に記載の方法により測定することができる。面内位相差Rは、後述する好ましい樹脂を使用する方法、延伸倍率を調整する方法等により上記の範囲に調整することができる。
The in-plane retardation R 0 of the optical film of the present invention is 40 to 300 nm. When the in-plane phase difference R 0 is less than 40 nm, it becomes difficult to obtain a film having excellent optical characteristics. Further, when the in-plane retardation R 0 exceeds 300 nm, the optical film is likely to be warped and / or delaminated due to heat treatment or the like when laminating the functional layer on the optical film. The in-plane retardation R 0 is preferably 50 nm or more, more preferably 60 nm or more, still more preferably 70 nm or more from the viewpoint of film surface smoothness, and preferably 290 nm from the viewpoint of lamination with other members. Below, it is more preferably 280 nm or less.
R 0 can be measured by a phase difference measuring device, for example, by the method described in Examples. The in-plane phase difference R 0 can be adjusted within the above range by a method using a preferable resin described later, a method of adjusting the draw ratio, or the like.

本発明の光学フィルムの面内位相差Rnmと厚さ方向の位相差Rthnmとが、数式(5):
式(5):
3≦Rth/R≦200・・・(5)
を満たすことが好ましい。数式(5)中のRth/Rは、好ましくは3以上、より好ましくは4以上、さらに好ましくは5以上であり、好ましくは190以下、より好ましくは180以下、さらに好ましくは150以下である。Rth/Rが上記の下限以上である場合、フィルムが硬くなりすぎることを防止し、フィルムを変形させた際の割れを防止しやすい。また、Rth/Rが上記の上限以下である場合、フィルムの平滑性を高めやすい。なお、Rthは、位相差測定装置により測定することができ、例えば実施例に記載の方法により測定することができる。
The in-plane retardation R 0 nm of the optical film of the present invention and the thickness direction retardation R th nm are mathematical formulas (5):
Equation (5):
3 ≤ R th / R 0 ≤ 200 ... (5)
It is preferable to satisfy. R th / R 0 in the formula (5) is preferably 3 or more, more preferably 4 or more, still more preferably 5 or more, preferably 190 or less, more preferably 180 or less, still more preferably 150 or less. .. When R th / R 0 is not more than the above lower limit, it is easy to prevent the film from becoming too hard and to prevent cracking when the film is deformed. Further, when R th / R 0 is not more than the above upper limit, it is easy to improve the smoothness of the film. Rth can be measured by a phase difference measuring device, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムのRthは、特に限定されないが、フィルムの屈曲性の観点からは、好ましくは100nm以上、より好ましくは300nm以上、さらに好ましくは500nm以上であり、光学的な視認性の観点からは、好ましくは4,000nm以下、より好ましくは3,900nm以下、さらに好ましくは3,800nm以下である。 R th of the optical film of the present invention is not particularly limited, from the viewpoint of flexibility of the film, preferably 100nm or more, more preferably 300nm or more, even more preferably 500nm or more, in view of the optical visibility From, it is preferably 4,000 nm or less, more preferably 3,900 nm or less, still more preferably 3,800 nm or less.

本発明の光学フィルムの黄色度の指標であるYI値は、視認性をさらに向上させやすい観点から、好ましくは4.0以下、より好ましくは3.0以下、さらに好ましくは2.5以下、さらにより好ましくは2.0以下、とりわけ好ましくは1.9以下、とりわけより好ましくは1.8以下である。またYI値は、好ましくは−5以上、より好ましくは−2以上である。なお、YI値は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。 The YI value, which is an index of the yellowness of the optical film of the present invention, is preferably 4.0 or less, more preferably 3.0 or less, still more preferably 2.5 or less, and further, from the viewpoint of further improving visibility. It is more preferably 2.0 or less, particularly preferably 1.9 or less, and particularly more preferably 1.8 or less. The YI value is preferably -5 or more, more preferably -2 or more. The YI value was measured by measuring the transmittance of light at 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer, and the tristimulus values (X, Y, Z) were obtained, and YI = 100 × (1.2769X−). It can be calculated based on the formula of 1.0592Z) / Y.

本発明の光学フィルムの折曲げ回数は、耐折性を向上させる観点から、好ましくは20,000回以上、より好ましくは100,000回以上、さらに好ましくは200,000回以上、さらにより好ましくは350,000回以上、とりわけ好ましくは400,000回以上、とりわけより好ましくは500,000回以上、とりわけさらに好ましくは600,000回以上、ことさら好ましくは700,000回以上である。折曲げ回数が上記の下限以上であると、光学フィルムを折り曲げてもクラックや割れ等が生じにくい。また、折曲げ回数の上限は、通常50,000,000回以下である。光学フィルムの折曲げ回数は、ASTM規格D2176−16に準拠したMIT耐折疲労試験で測定することができる。MIT耐折疲労試験は、例えば、実施例に記載の試験である。また、本発明の光学フィルムは、上記の条件でのMIT耐折疲労試験後の光学フィルムにおいても高い広角視認性を有することが好ましく、例えば上記の条件でのMIT耐折疲労試験前後における写像性値の差及び/又はヘーズの差が、上記の耐屈曲性試験前後の前記写像性値の差及び/又はヘーズの差の範囲内であることがより好ましい。 The number of times the optical film of the present invention is bent is preferably 20,000 times or more, more preferably 100,000 times or more, still more preferably 200,000 times or more, still more preferably 200,000 times or more from the viewpoint of improving the folding resistance. It is 350,000 times or more, particularly preferably 400,000 times or more, particularly more preferably 500,000 times or more, particularly preferably 600,000 times or more, and particularly preferably 700,000 times or more. When the number of times of bending is equal to or more than the above lower limit, cracks and cracks are unlikely to occur even if the optical film is bent. The upper limit of the number of bends is usually 50,000,000 or less. The number of times the optical film is bent can be measured by a MIT folding fatigue resistance test conforming to ASTM standard D2176-16. The MIT fold resistance fatigue test is, for example, the test described in Examples. Further, the optical film of the present invention preferably has high wide-angle visibility even in the optical film after the MIT fold resistance test under the above conditions. For example, the mapability before and after the MIT fold resistance test under the above conditions. It is more preferable that the difference in value and / or the difference in haze is within the range of the difference in mapping property value and / or the difference in haze before and after the bending resistance test.

本発明の光学フィルムの厚さは、用途に応じて適宜調整してよいが、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、さらにより好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下、さらに好ましくは100μm以下、さらにより好ましくは85μm以下である。光学フィルムの厚さが上記の範囲内であると、光学フィルムの引張弾性率及び突刺し強度をより高めやすい。なお、光学フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the optical film of the present invention may be appropriately adjusted depending on the intended use, but is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, still more preferably 25 μm or more, still more preferably 30 μm or more, and preferably 200 μm. Below, it is more preferably 150 μm or less, still more preferably 100 μm or less, and even more preferably 85 μm or less. When the thickness of the optical film is within the above range, the tensile elastic modulus and the piercing strength of the optical film can be easily increased. The thickness of the optical film can be measured using a micrometer, for example, by the method described in Examples.

<ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂>
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む。本明細書において、ポリイミド系樹脂とは、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド前駆体樹脂、及び、ポリアミドイミド前駆体樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を表す。ポリイミド樹脂は、イミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂であり、ポリアミドイミド樹脂は、イミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。ポリイミド前駆体樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、それぞれ、イミド化によりポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂を与える、イミド化前の前駆体であり、ポリアミック酸とも称される樹脂である。また、本明細書において、ポリアミド系樹脂は、アミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。本発明の光学フィルムは、1種類のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含んでいてもよいし、2種以上のポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を組合せて含んでいてもよい。本発明の光学フィルムは、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点からは、ポリイミド系樹脂を含むことが好ましく、該ポリイミド系樹脂は、好ましくはポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂であり、より好ましくはポリアミドイミド樹脂である。
<Polyimide-based resin and polyamide-based resin>
The optical film of the present invention contains at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins. In the present specification, the polyimide-based resin represents at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a polyamide-imide resin, a polyimide precursor resin, and a polyamide-imide precursor resin. The polyimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamide-imide resin is a resin containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group. The polyimide precursor resin and the polyamide-imide precursor resin are pre-imidization precursors that give the polyimide resin and the polyamide-imide resin by imidization, respectively, and are also called polyamic acids. Further, in the present specification, the polyamide-based resin is a resin containing a repeating structural unit containing an amide group. The optical film of the present invention may contain one type of polyimide resin or polyamide-based resin, or may contain two or more types of polyimide-based resin and / or polyamide-based resin in combination. From the viewpoint that the optical film of the present invention can easily increase the tensile elasticity and bending resistance of the optical film, easily adjust R 0 to the above range, and easily improve the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature. It preferably contains a polyimide resin, and the polyimide resin is preferably a polyimide resin or a polyamideimide resin, and more preferably a polyamideimide resin.

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点からは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂であることが好ましい。本明細書において、芳香族系の樹脂とは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる構成単位が主に芳香族系の構成単位である樹脂を表す。 In a preferred embodiment of the present invention, the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased, R 0 can be easily adjusted to the above range, and the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature can be easily improved. The polyimide resin and the polyamide resin are preferably aromatic resins. In the present specification, the aromatic resin refers to a resin in which the constituent unit contained in the polyimide resin and the polyamide resin is mainly an aromatic constituent unit.

上記の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点からは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合は、好ましくは60モル%以上、より好ましくは70モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、さらにより好ましくは85モル%以上である。ここで、芳香族系モノマーに由来する構成単位とは、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含むモノマーに由来し、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含む構成単位である。芳香族系モノマーとしては、例えば芳香族テトラカルボン酸化合物、芳香族ジアミン、芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。 In the above preferred embodiment, from the viewpoint that the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased, R 0 can be easily adjusted to the above range, and the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature can be easily improved. The ratio of the structural units derived from the aromatic monomer to all the structural units contained in the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more. , Even more preferably 85 mol% or more. Here, the structural unit derived from an aromatic monomer is derived from a monomer containing at least a part of an aromatic structure (for example, an aromatic ring), and at least a part of the aromatic structure (for example, an aromatic ring). It is a structural unit included in. Examples of the aromatic monomer include an aromatic tetracarboxylic acid compound, an aromatic diamine, and an aromatic dicarboxylic acid.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1):

Figure 2021148938
[式(1)中、Yは4価の有機基を表し、Xは2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であるか、又は、式(1)で表される構成単位及び式(2):
Figure 2021148938
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式(2)で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であることが好ましい。以下において式(1)及び式(2)について説明するが、式(1)についての説明は、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関し、式(2)についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関する。 In one preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin is represented by the formula (1):
Figure 2021148938
[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group, X represents a divalent organic group, and * represents a bond]
It is a polyimide resin having a structural unit represented by, or a structural unit represented by the formula (1) and the formula (2):
Figure 2021148938
[In formula (2), Z and X represent divalent organic groups independently of each other, and * represents a bond]
It is preferable that the polyamide-imide resin has a structural unit represented by. Further, the polyamide resin is preferably a polyamide resin having a structural unit represented by the formula (2). The formulas (1) and (2) will be described below, but the description of the formula (1) relates to both the polyimide resin and the polyamide-imide resin, and the description of the formula (2) describes the polyamide resin and the polyamide-imide resin. Regarding both.

式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(2)で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。 The structural unit represented by the formula (1) is a structural unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by the formula (2) is a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. Is a structural unit formed by the reaction of and.

式(1)において、Yは、4価の有機基、好ましくは炭素数4〜40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. show. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic ring structure, which can easily increase the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film, easily adjust R 0 to the above range, and perform optics after heat treatment at a high temperature. From the viewpoint of easily enhancing the visibility of the film, an aromatic ring is preferable. The organic group is an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine, in which case the hydrocarbon group and the hydrocarbon group substituted with fluorine are used. The number of carbon atoms is preferably 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. As Y, the following formulas (20), formulas (21), formulas (22), formulas (23), formulas (24), formulas (25), formulas (26), formulas (27), formulas (28) And a group represented by the formula (29); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; In addition, a chain hydrocarbon group having 4 or less valences of 6 carbon atoms is exemplified.

Figure 2021148938
Figure 2021148938

式(20)〜式(29)中、*は結合手を表し、Wは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。Arが複数存在する場合、Arは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。式(20)〜(29)における環上の水素原子は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基で置換されていてもよい。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基及び炭素数6〜12のアリール基としては、それぞれ、後述する式(3)において例示のものが挙げられる。 In the formula (20) to (29), * represents a bond, W 1 is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar- CH 2 -Ar -, - Ar- C (CH 3) represents a 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group. When there are a plurality of Ars, the Ars may be the same or different from each other. The hydrogen atom on the ring in the formulas (20) to (29) may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified in the formula (3) described later.

式(20)〜式(29)で表される基の中でも、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点からは、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすく、光学フィルムのYI値を低減しやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−、より好ましくは単結合、−O−、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−、さらに好ましくは単結合、−C(CH−又は−C(CF−、とりわけ好ましくは単結合又は−C(CF−である。 Among the groups represented by the formulas (20) to (29), the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased, R 0 can be easily adjusted to the above range, and the optical film after heat treatment at a high temperature can be easily adjusted. From the viewpoint of easily enhancing the visibility of the above, the group represented by the formula (26), the formula (28) or the formula (29) is preferable, and the group represented by the formula (26) is more preferable. Further, W 1 is easy to increase the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film, and it is easy to adjust R 0 to the above range, and it is easy to improve the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature. from reduced easily viewpoint YI value, independently of one another, preferably a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -Or -C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or-C (CF 3 ) 2 -, More preferably a single bond, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , particularly preferably a single bond or -C (CF 3 ) 2- .

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(26)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(26)、好ましくはWが単結合、−C(CH−又は−C(CF−である式(26)、より好ましくはWが単結合又は−C(CF−である式(26)で表されると、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、Rを上記の範囲に調整しやすく、光学フィルムのYI値を低減しやすい。ポリイミド系樹脂中のYが式(26)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide resin is preferably represented by the formula (26) in an amount of preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more. Y is the formula within the above range in the polyimide resin (26), preferably W 1 is a single bond, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - a is the formula (26), more preferably When W 1 is represented by the equation (26) which is a single bond or −C (CF 3 ) 2−, it is easy to increase the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film, and R 0 is adjusted to the above range. It is easy to reduce the YI value of the optical film. The ratio of the structural unit in which Y in the polyimide resin is represented by the formula (26) can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される構成単位は、Yとして、式(4):

Figure 2021148938
[式(4)中、R〜Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R〜Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Vは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、*は結合手を表す]
で表される基を含む。すなわち、複数の式(1)で表される構成単位中のYのうち、少なくとも一部のYが式(4)で表される基であることが好ましい。このような態様であると、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、光学フィルムのYI値を低減しやすい。なお、式(1)で表される構成単位は、Yとして式(4)で表される基を1種又は複数種含んでいてもよい。 In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (1) is Y, and the formula (4):
Figure 2021148938
[In the formula (4), R 2 to R 7 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. hydrogen atoms contained in R 2 to R 7, independently of each other, may be substituted with a halogen atom, V is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - Represents CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 8 )-, and R 8 Represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and * represents a bond.]
Includes groups represented by. That is, it is preferable that at least a part of Y in the structural unit represented by the plurality of formulas (1) is a group represented by the formula (4). In such an embodiment, the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased, R 0 can be easily adjusted to the above range, and the YI value of the optical film can be easily reduced. The structural unit represented by the formula (1) may contain one or more groups represented by the formula (4) as Y.

式(4)において、R、R、R、R、R及びRは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、それぞれ、式(3)中のR3aにおける炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。式(3)におけるR3aに関し上記に例示のものが挙げられる。R〜Rは、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R〜Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Vは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、後述の式(3)中のWにおけるRに関し、上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、光学フィルムの引張弾性率、光学特性、表面硬度及び耐屈曲性を高めやすく、Rを上記の範囲に調整しやすく、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点から、Vは、単結合、−O−、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−であることが好ましく、単結合、−C(CH−又は−C(CF−であることがより好ましく、単結合又は−C(CF−であることがさらに好ましい。 In formula (4), R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are independent of each other, such as a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and carbon in R 3a in the formula (3), respectively. Examples of the alkoxy group having the number 1 to 6 or the aryl group having the number of carbons 6 to 12 can be mentioned above. Examples of R 3a in the formula (3) are given above. R 2 to R 7 represent independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and here, R 2 to R 7 The hydrogen atom contained in R 7 may be substituted with a halogen atom independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. V is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - Represents SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 8 )-, where R 8 is a monovalent hydrocarbon having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Represents a group. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include those exemplified above with respect to R 9 in W in the formula (3) described later. Among these, the viewpoints that it is easy to improve the tensile elastic modulus, optical characteristics, surface hardness and bending resistance of the optical film, it is easy to adjust R 0 to the above range, and it is easy to improve the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature. Therefore, V is preferably a single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , and is a single bond. , -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond or -C (CF 3 ) 2- .

本発明の好ましい一実施形態において、複数の式(1)中のYの少なくとも一部は、式(5):

Figure 2021148938
[式(5)中、R18〜R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
及び/又は式(9):
Figure 2021148938
[式(9)中、R35〜R40は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R35〜R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される。複数の式(1)中のYの少なくとも一部が式(5)で表される、及び/又は、式(9)で表されると、光学フィルムの引張弾性率及び光学特性を向上させやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is the formula (5) :.
Figure 2021148938
[In formula (5), R 18 to R 25 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. The hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and * represents a bond.]
And / or equation (9):
Figure 2021148938
[In the formula (9), R 35 to R 40 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in R 35 to R 40. Atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other, with * representing a bond]
It is represented by. When at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is represented by the formula (5) and / or is represented by the formula (9), it is easy to improve the tensile elastic modulus and the optical characteristics of the optical film. ..

式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、それぞれ、式(3)中のR3aにおける炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom. Represents an alkoxy group of ~ 6 or an aryl group of 6-12 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and carbon in R 3a in the formula (3), respectively. Examples of the alkoxy group having the number 1 to 6 or the aryl group having the number of carbons 6 to 12 can be mentioned above. R 18 to R 25 represent independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and here, R 18 to R 25. The hydrogen atoms contained in may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 18 to R 25 are more preferably hydrogen atoms from the viewpoint of easily increasing the tensile elasticity and bending resistance of the optical film and easily increasing the transparency and maintaining the transparency independently of each other. , Methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms. , Methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 are methyl groups or trifluoromethyl groups.

式(9)において、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、R35〜R40は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子である。ここで、R35〜R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R35〜R40における炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数6〜12のアリール基としては、それぞれ上記に例示のものが挙げられる。 In the formula (9), R 35 to R 40 are preferably hydrogen from the viewpoint of easily increasing the tensile elasticity and bending resistance of the optical film, and easily increasing the transparency and maintaining the transparency. It is an atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and examples of the halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms. .. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 are exemplified above.

本発明の好ましい一実施形態においては、式(5)は式(5’)で表され、式(9)は式(9’):

Figure 2021148938
で表される。すなわち、複数のYの少なくとも一部は、式(5’)及び/又は式(9’)で表される。この場合、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。さらに、式(5)が式(5’)で表される場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。その結果、数式(1)〜(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, formula (5) is represented by formula (5'), and formula (9) is represented by formula (9') :.
Figure 2021148938
It is represented by. That is, at least a part of the plurality of Ys is represented by the formula (5') and / or the formula (9'). In this case, the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased. Further, when the formula (5) is represented by the formula (5'), the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyimide resin in the solvent and improves the storage stability of the varnish containing the resin. In addition to being easy, it is easy to reduce the viscosity of the varnish and improve the processability of the optical film. As a result, it is easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the formulas (1) to (3). Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(5)、特に式(5’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。その結果、数式(1)〜数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂中のYは式(5)、特に式(5’)であってもよい。ポリイミド系樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, according to the formula (5), particularly the formula (5). It is represented by'). When Y in the above range in the polyimide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'), the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyimide resin in the solvent and contains the resin. It is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the processability of the optical film. As a result, it is easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the mathematical formulas (1) to (3). Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film. It should be noted that preferably, 100 mol% or less of Y in the polyimide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'). Y in the polyimide resin may be of the formula (5), particularly the formula (5'). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

式(2)において、Zは、2価の有機基であり、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、炭素数4〜40の2価の有機基であり、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基である。なお、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基の例としては、後述する式(3)中のR3a及びR3bに関する例示が同様にあてはまる。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Zの有機基として、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29):

Figure 2021148938
[式(20)〜式(29)中、Wは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表し、ここで、Arは、互いに独立に、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基(例えばフェニレン基)を表し、*は結合手を表す]
で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示され、Zのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。光学フィルムのYI値を低減しやすい観点、全光線透過率を高めやすい観点及びヘーズを低減しやすい観点から、Zにおける環状構造としては、式(20)〜式(29)で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましく、式(26)、式(28)及び式(29)で表される基がより好ましい。 In the formula (2), Z is a divalent organic group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (these groups). The hydrogen atom in the above is a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, which may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom), and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Alkyl group, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)). It may be a divalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. Examples of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms include examples relating to R 3a and R 3b in the formula (3) described later. The same applies. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic ring structure. As the organic group of Z, the formula (20), the formula (21), the formula (22), the formula (23), the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28). And equation (29):
Figure 2021148938
Wherein (20) to Formula (29), W 1 represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3 ) 2 -, - Ar -, - SO 2 -, - CO -, - O-Ar-O -, - Ar-O-Ar -, - Ar-CH 2 -Ar-, Represents -Ar-C (CH 3 ) 2- Ar- or -Ar-SO 2- Ar-, where Ar has 6 to 6 carbon atoms in which hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms independently of each other. Represents 20 allylene groups (eg phenylene groups), * represents a bond]
Among the group bonds represented by, a group in which two non-adjacent groups are replaced with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z is a thiophene ring skeleton. The group having is exemplified. From the viewpoint of easily reducing the YI value of the optical film, easily increasing the total light transmittance, and easily reducing the haze, the annular structure in Z includes the groups represented by the formulas (20) to (29). A group having a thiophene ring skeleton is preferable, and a group represented by the formulas (26), (28) and (29) is more preferable.

Zの有機基としては、式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及び式(29’):

Figure 2021148938
[式(20’)〜式(29’)中、W及び*は、式(20)〜式(29)において定義した通りである]
で表される2価の有機基がより好ましい。なお、式(20)〜式(29)及び式(20’)〜式(29’)における環上の水素原子は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい。 Examples of the organic group of Z include the formula (20'), the formula (21'), the formula (22'), the formula (23'), the formula (24'), the formula (25'), the formula (26'), and the formula. (27'), equation (28') and equation (29'):
Figure 2021148938
In formula (20 ') to formula (29'), W 1 and * are as defined in formula (20) to (29)]
The divalent organic group represented by is more preferable. The hydrogen atom on the ring in the formulas (20) to (29) and the formulas (20') to (29') is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. It may be substituted with an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)).

ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が、式(2)中のZが上記の式(20’)〜式(29’)のいずれかで表される構成単位を有する場合、中でも式(2)中のZが後述する式(3’)で表される構成単位を有する場合、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、該構成単位に加えて、次の式(d1):

Figure 2021148938
[式(d1)中、R41は、互いに独立に、後述する式(3)中のR3aについて定義する基又は水素原子であり、R42は、R41又は−C(=O)−*を表し、*は結合手を表す]
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの成膜性を高めやすく、光学フィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。構成単位(d1)としては、具体的には、R41及びR42がいずれも水素原子である構成単位(ジカルボン酸化合物に由来する構成単位)、R41がいずれも水素原子であり、R42が−C(=O)−*を表す構成単位(トリカルボン酸化合物に由来する構成単位)等が挙げられる。 When the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by any of the above formulas (20') to (29'), among them, in the formula (2). When Z has a structural unit represented by the formula (3') described later, the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin is added to the structural unit and has the following formula (d1):
Figure 2021148938
[In the formula (d1), R 41 is a group or a hydrogen atom that defines R 3a in the formula (3) described later independently of each other , and R 42 is R 41 or −C (= O) − *. Represents, * represents a bond]
It is preferable to further have a carboxylic acid-derived structural unit represented by (1) from the viewpoint of easily improving the film-forming property of the varnish and easily improving the uniformity of the optical film. Specifically, as the structural unit (d1), R 41 and R 42 are both hydrogen atoms (constituent units derived from the dicarboxylic acid compound), and R 41 is both hydrogen atoms, and R 42. Examples thereof include a structural unit (a structural unit derived from a tricarboxylic acid compound) representing −C (= O) − *.

ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、式(2)中のZとして複数種のZを含んでよく、複数種のZは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。特に、本発明の光学フィルムの引張弾性率を高めやすく、かつ、光学特性を高めやすい観点から、式(2)中のZが好ましくは式(3):

Figure 2021148938
[式(3)中、R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、sは0〜4の整数であり、tは0〜4の整数であり、uは0〜4の整数であり、*は結合手を表す]
、より好ましくは式(3’):
Figure 2021148938
[式(3’)中、R3a、R3b、s、t、u、W及び*は、式(3)において定義した通りである]
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。なお、本明細書において、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が式(2)中のZが式(3)で表される構成単位を有することと、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド系樹脂が式(2)中のZとして式(3)で表される構造を有することとは、同様の意味を有し、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂に含まれ得る複数の式(2)で表される構成単位のうち、少なくとも一部の構成単位におけるZが式(3)で表されることを意味する。当該記載は、他の同様の記載にもあてはまる。 The polyamide-based resin or the polyamide-imide resin may contain a plurality of types of Z as Z in the formula (2), and the plurality of types of Z may be the same as or different from each other. In particular, from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film of the present invention and easily increasing the optical characteristics, Z in the formula (2) is preferably used in the formula (3):
Figure 2021148938
[In the formula (3), R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 3a. and hydrogen atoms contained in R 3b are each independently may be substituted with a halogen atom, W is, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 - , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )- R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, s is an integer of 0 to 4, and t is an integer of 0 to 4. u is an integer from 0 to 4, and * represents a bond]
, More preferably equation (3'):
Figure 2021148938
[In equation (3'), R 3a , R 3b , s, t, u, W and * are as defined in equation (3)]
It is preferable to have at least a structural unit represented by. In the present specification, the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the formula (3), and the polyamide-based resin or the polyamide-imide-based resin has the formula (2). ) Has the same meaning as having a structure represented by the formula (3) as Z in (), and is a structural unit represented by a plurality of formulas (2) that can be contained in the polyamide-based resin or the polyamide-imide resin. Of these, it means that Z in at least a part of the constituent units is represented by the equation (3). This statement also applies to other similar statements.

式(3)及び式(3’)において、Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−O−又は−S−、より好ましくは−O−を表す。
3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの引張弾性率、表面硬度及び柔軟性の観点、及び、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点から、R3a及びR3bは、互いに独立に、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のアルコキシ基を表す。ここで、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチル−ブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In formulas (3) and (3 '), W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C ( CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, preferably from the viewpoint of bending resistance of the optical film. It represents −O− or −S−, more preferably −O−.
R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-. Butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group and a cyclohexyloxy group. Can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and the like. From the viewpoint of tensile elasticity, surface hardness and flexibility of the optical film, and from the viewpoint of easily improving the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature, R 3a and R 3b are independent of each other, preferably having 1 carbon atom. It represents an alkyl group of to 6 or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of monovalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-pentyl group. 2-Methyl-butyl group, 3-methyl-butyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group Etc., and these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

式(3)及び式(3’)中、t及びuは、互いに独立に、0〜4の整数、好ましくは0〜2の整数、より好ましくは1又は2である。 In the formula (3) and the formula (3'), t and u are independently integers of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 1 or 2.

式(3)中及び式(3’)中、sは0〜4の範囲の整数であり、sがこの範囲内であると、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい。前記sは、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性をより向上しやすい観点から、好ましくは0〜3の範囲の整数、より好ましくは0〜2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はZにおいて、式(3)又は式(3’)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよい。 In the formula (3) and the formula (3'), s is an integer in the range of 0 to 4, and when s is in this range, the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily improved. The s is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, and still more preferably 0 or 1, from the viewpoint of more easily improving the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film. Even more preferably, it is 0. The polyamide-imide resin or the polyamide-based resin may contain one or more structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in Z.

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率、弾性率及び耐屈曲性の向上、YI値低減の観点からは、Zは、sが0であり、かつ、uが好ましくは1〜3、より好ましくは1又は2である、式(3)又は式(3’)で表されることが好ましい。さらに、また、sが0である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位に加えて、上記の式(d1)で表される構成単位をさらに有することも好ましい。 In a preferred embodiment of the present invention, from the viewpoint of improving the tensile elastic modulus, elastic modulus and flexural modulus of the optical film and reducing the YI value, Z has s of 0 and u is preferably 1 to 1. It is preferably represented by the formula (3) or the formula (3'), which is 3, more preferably 1 or 2. Furthermore, in addition to the structural unit represented by the formula (3) in which s is 0 or the structural unit represented by the formula (2) having Z represented by the formula (3'), it is represented by the above formula (d1). It is also preferred to have additional building blocks.

ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂が、式(3)又は式(3’)で表される構成単位を有する場合、その割合は、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、とりわけ好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、また、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい。式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)、式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 When the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin has a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3'), the ratio thereof is the configuration represented by the formula (1) of the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin. When the total of the units and the constituent units represented by the formula (2) is 100 mol%, it is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, still more preferably. It is 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. When the ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') is equal to or higher than the above lower limit, the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased, and the optics after the heat treatment at a high temperature can be easily increased. It is easy to improve the visibility of the film. When the ratio of the constituent units represented by the formula (3) or the formula (3') is not more than the above upper limit, the increase in the viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the formula (3) is suppressed, and the film is formed. It is easy to improve the workability of. The ratio of the structural units represented by the formula (1), the formula (2), the formula (3) or the formula (3') can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or the raw material is charged. It can also be calculated from the ratio.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位である。Zの上記の下限以上が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位であると、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすく、また、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい。また、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のZの100モル%以下が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, still more preferably 50 mol% of Z in the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin. % Or more is a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. When the above lower limit of Z or more is a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4, it is easy to increase the tensile elastic modulus and the bending resistance of the optical film, and , It is easy to improve the visibility of the optical film after heat treatment at high temperature. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide-imide resin or the polyamide-based resin may be a structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. The ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4 in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or the raw material. It can also be calculated from the charge ratio.

式(1)及び式(2)中、Xは、互いに独立に、2価の有機基、好ましくは炭素数4〜40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、本発明のポリアミド系樹脂及びポリイミド樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (1) and (2), X is a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a cyclic structure having 4 to 40 carbon atoms, independently of each other. Represents a divalent organic group of. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine, in which case the number of carbon atoms of the hydrocarbon group and the hydrocarbon group substituted with fluorine is preferable. Is 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyamide resin and the polyimide resin of the present invention may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. X is represented by the formula (10), the formula (11), the formula (12), the formula (13), the formula (14), the formula (15), the formula (16), the formula (17) and the formula (18). Groups; Groups in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain having 6 or less carbon atoms. The formula hydrocarbon group is exemplified.

Figure 2021148938
Figure 2021148938

式(10)〜式(18)中、*は結合手を表し、
、V及びVは、互いに独立に、単結合、−O−、−S−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−CO−又は−N(Q)−を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、Rについて上記に述べた基が挙げられる。
1つの例は、V及びVが単結合、−O−又は−S−であり、かつ、Vが−CH−、−C(CH−、−C(CF−又は−SO−である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
In equations (10) to (18), * represents a bond,
V 1, V 2 and V 3 independently of one another, a single bond, -O -, - S -, - CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3 ) Represents 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -N (Q)-. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups mentioned above for R 9.
In one example, V 1 and V 3 are single bonds, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2. -Or -SO 2- . The bonding positions of V 1 and V 2 with respect to each ring and the bonding positions of V 2 and V 3 with respect to each ring are independent of each other, preferably in the meta position or para position with respect to each ring, and more preferably in the para position. It is a place.

式(10)〜式(18)で表される基の中でも、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V、V及びVは、光学フィルムの引張弾性率及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−又は−S−、より好ましくは単結合又は−O−である。 Among the groups represented by the formulas (10) to (18), the formulas (13), the formula (14), the formula (15), and the formula ( The groups represented by the formulas (16) and (17) are preferable, and the groups represented by the formulas (14), (15) and (16) are more preferable. Further, V 1 , V 2 and V 3 are independent of each other, preferably single bond, -O- or -S-, more preferably single bond or, from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus and flexibility of the optical film. -O-.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂及び/又はポリイミド系樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(5):

Figure 2021148938
[式(5)中、Arは互いに独立に置換基を有していてもよい2価の芳香族基を表し、Vは、単結合、−O−、ジフェニルメチレン基、フルオレニル基、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、−SO−、−S−、−CO−、−PO−、−PO−、−N(R)−又は−Si(R−を表し、ここで、該炭化水素基は脂環式構造を含んでいてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R及びRは、互いに独立に、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、mは0〜3の整数を表し、*は結合手を表す]
で表される2価の有機基を含む。構成単位(1)及び構成単位(2)が、Xとして式(5)で表される2価の有機基を含む場合、構成単位(1)及び構成単位(2)は、Xとして、式(5)で表される1種類又は2種類以上の2価の有機基を含んでよい。構成単位(1)及び構成単位(2)は、Xとして、式(5)で表される2価の有機基の他に、式(5)で表される2価の有機基に該当しない他の2価の有機基を含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and / or the polyimide-based resin is represented by X in the formula (1) or X in the formula (2), and the formula (5):
Figure 2021148938
[In formula (5), Ar 2 represents a divalent aromatic group which may have a substituent independently of each other, and V is a single bond, —O—, a diphenylmethylene group, a fluorenyl group, and the number of carbon atoms. 1 to 12 divalent hydrocarbon groups, -SO 2- , -S-, -CO-, -PO-, -PO 2- , -N ( Ra )-or -Si (R b ) 2- Represented here, the hydrocarbon group may contain an alicyclic structure, and the hydrogen atoms contained in the hydrocarbon group may be independently substituted with halogen atoms, Ra and R. b represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom independently of each other, m represents an integer of 0 to 3, and * represents a bond. show]
Contains a divalent organic group represented by. When the structural unit (1) and the structural unit (2) include a divalent organic group represented by the formula (5) as X, the structural unit (1) and the structural unit (2) are represented by the formula (X). It may contain one kind or two or more kinds of divalent organic groups represented by 5). The structural unit (1) and the structural unit (2) are, as X, a divalent organic group represented by the formula (5) and a non-divalent organic group represented by the formula (5). It may contain a divalent organic group of.

式(5)中のArは、置換基を有していてもよい2価の芳香族基を表す。2価の芳香族基は、単環式芳香族環、縮合多環式芳香族環又は環集合芳香族環の2つの水素原子が結合手に置き換わった基である。2価の芳香族基は、炭素原子のみで環(単環、縮合多環又は環集合)が形成された芳香族環を含んでいてもよいし、炭素原子以外の原子を含んで環が形成されたヘテロ芳香族環を含んでいてもよい。炭素原子以外の原子としては、例えば窒素原子、硫黄原子及び酸素原子が挙げられる。芳香族環を形成する炭素原子及び炭素原子以外の原子の合計数は、特に限定されないが、好ましくは5〜18、より好ましくは5〜14、さらに好ましくは5〜12である。式(5)中のmが1以上である場合に複数存在するArは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Ar 2 in the formula (5) represents a divalent aromatic group which may have a substituent. A divalent aromatic group is a group in which two hydrogen atoms of a monocyclic aromatic ring, a condensed polycyclic aromatic ring, or a ring-assembled aromatic ring are replaced by a bond. The divalent aromatic group may contain an aromatic ring in which a ring (single ring, condensed polycycle or ring assembly) is formed only by carbon atoms, or a ring is formed by containing atoms other than carbon atoms. It may contain a heteroaromatic ring. Examples of atoms other than carbon atoms include nitrogen atoms, sulfur atoms and oxygen atoms. The total number of carbon atoms and atoms other than carbon atoms forming the aromatic ring is not particularly limited, but is preferably 5 to 18, more preferably 5 to 14, and even more preferably 5 to 12. Ar 2 there are a plurality if m in the formula (5) is 1 or more, may be identical to one another or may be different.

単環式芳香族環としては、例えばベンゼン、フラン、ピロール、チオフェン、ピリジン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾリン等が挙げられる。 Examples of the monocyclic aromatic ring include benzene, furan, pyrrole, thiophene, pyridine, imidazole, pyrazole, oxazole, thiazole, imidazoline and the like.

縮合多環式芳香族環としては、例えばナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インドール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール等が挙げられる。 Examples of the fused polycyclic aromatic ring include naphthalene, anthracene, phenanthrene, indole, benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole.

環集合芳香族環としては、2以上の単環式芳香族環及び/又は縮合多環式芳香族環が単結合で連結された構造が挙げられ、その例としては、単環式芳香族環又は縮合多環式芳香族環の例として上記に記載する環の2以上が単結合で連結された基、例えばビフェニル、テルフェニル、クアテルフェニル、ビナフチル、1−フェニルナフタレン、2−フェニルナフタレン、ビピリジン等が挙げられる。 Examples of the ring-assembled aromatic ring include a structure in which two or more monocyclic aromatic rings and / or fused polycyclic aromatic rings are connected by a single bond, and an example thereof is a monocyclic aromatic ring. Alternatively, as an example of a fused polycyclic aromatic ring, a group in which two or more of the rings described above are linked by a single bond, for example, biphenyl, terphenyl, quaterphenyl, binaphthyl, 1-phenylnaphthalene, 2-phenylnaphthalene, Bipyridine and the like can be mentioned.

光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点からは、置換基を有していてもよい2価の芳香族基は、好ましくは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環の2つの水素原子が結合手に置き換わった基、より好ましくは、置換基を有していてもよいベンゼン、ビフェニル、テルフェニル又はクアテルフェニルの2つの水素原子が結合手に置き換わった基、さらに好ましくは、置換基を有していてもよいベンゼン又はビフェニルの2つの水素原子が結合手に置き換わった基である。 From the viewpoint of easily increasing the tensile elasticity of the optical film, the divalent aromatic group which may have a substituent is preferably two aromatic hydrocarbon rings which may have a substituent. A group in which a hydrogen atom is replaced by a bond, more preferably a group in which two hydrogen atoms of benzene, biphenyl, terphenyl or quaterphenyl, which may have a substituent, are replaced in a bond, more preferably. It is a group in which two hydrogen atoms of benzene or biphenyl, which may have a substituent, are replaced with a bond.

Arにおける置換基としては、ハロゲン基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基、又は、これらに含まれる水素原子がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。 As the substituent in Ar 2 , a halogen group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a hydrogen atom contained therein is a halogen atom. Substituted groups can be mentioned.

炭素数1〜12のアルキル基は、炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のアルキル基であってよく、好ましくは炭素数1〜6の直鎖状又は分枝状のアルキル基である。このような基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基及びn−デシル基等が挙げられる。 The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may be a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. be. Examples of such groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3 Examples thereof include -methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group.

炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group and a cyclohexyloxy group. Can be mentioned.

炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

Arにおける置換基としては、ハロゲン基、又は、水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基が好ましく、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基がより好ましい。 As the substituent in Ar 2 , a halogen group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which the hydrogen atom may be substituted with a halogen atom is preferable, and a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group is preferable. More preferred.

式(5)中のVは、単結合、−O−、ジフェニルメチレン基、フルオレニル基、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、−SO−、−S−、−CO−、−PO−、−PO−、−N(R)−又は−Si(R−を表す。ここで、該炭化水素基は脂環式構造を含んでいてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R及びRは、互いに独立に、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。式(5)中のVは、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を向上させやすい観点から、好ましくは単結合、又は、炭素数1〜12の2価の炭化水素基及びこれらの炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも一部をハロゲン原子で置換した基であり、より好ましくは単結合、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−であり、さらに好ましくは単結合、−C(CH−又は−C(CF−であり、さらにより好ましくは単結合又は−C(CF−である。 V in the formula (5) is a single bond, -O-, a diphenylmethylene group, a fluorenyl group, a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, -SO 2- , -S-, -CO-,-. It represents PO −, −PO 2− , −N ( Ra ) − or −Si (R b ) 2− . Here, the hydrocarbon group may contain an alicyclic structure, and the hydrogen atoms contained in the hydrocarbon group may be substituted with halogen atoms independently of each other, and Ra and R b are Represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom independently of each other. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. 2-Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, cyclopentyl group , Cyclohexyl group and the like, which may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. V in the formula (5) is preferably a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and their hydrocarbons from the viewpoint of easily improving the tensile elasticity and bending resistance of the optical film. A group in which at least a part of hydrogen atoms contained in the group is substituted with a halogen atom, more preferably a single bond, −CH 2 −, −CH 2 −CH 2 −, −CH (CH 3 ) −, −C ( CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , even more preferably single bond or -C (CF 3 ) 2- .

式(5)中のmは、0〜3の整数を表し、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点から、好ましくは0〜2、より好ましくは0又は1、さらに好ましくは1である。 M in the formula (5) represents an integer of 0 to 3, and is preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 1 from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film.

本発明の光学フィルムに含まれるポリアミド系樹脂及び/又はポリイミド系樹脂に含まれ得る構成単位(1)及び/又は構成単位(2)が、Xとして、式(5)で表される2価の有機基を含む本発明の好ましい一態様において、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点から、構成単位(1)及び構成単位(2)の合計を100モル%としたときに、式(1)中のXが式(5)で表される2価の有機基である構成単位及び式(2)中のXが式(5)で表される2価の有機基である構成単位の合計の割合は、好ましくは70〜100モル%、より好ましくは80〜100モル%、さらに好ましくは90〜100モル%であり、構成単位(1)及び構成単位(2)の全構成単位において、Xが式(5)で表される2価の有機基であってもよい。 The structural unit (1) and / or the structural unit (2) that can be contained in the polyamide resin and / or the polyimide resin contained in the optical film of the present invention is a divalent group represented by the formula (5) as X. In a preferred embodiment of the present invention containing an organic group, the formula (1) is set to 100 mol% when the total of the structural units (1) and the structural units (2) is 100 mol% from the viewpoint of easily increasing the tensile elasticity of the optical film. The total of the structural units in which X is a divalent organic group represented by the formula (5) and the structural units in which X in the formula (2) is a divalent organic group represented by the formula (5). The ratio is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, still more preferably 90 to 100 mol%, and in all the constituent units of the constituent unit (1) and the constituent unit (2), X is It may be a divalent organic group represented by the formula (5).

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される構成単位及び/又は式(2)で表される構成単位は、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点から、Xとして、式(5a):

Figure 2021148938
[式(5a)中、Rは、炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表し、p及びqは、互いに独立に、1〜4の整数を表し、ただし、p及び/又はqが2〜4の整数を表す場合に複数存在するRは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、*は結合手を表す]
で表される2価の有機基を含む。なお、式(5a)で表される2価の有機基は、式(5)で表される2価の有機基に包含される基であり、具体的には、式(5)中のVが単結合を表し、Arが炭素数1〜12のフルオロアルキル基(R)で置換されたベンゼン環を表し、mが0〜3の整数を表す2価の有機基に相当する基である。構成単位(1)及び構成単位(2)が、Xとして式(5a)で表される2価の有機基を含む場合、構成単位(1)及び構成単位(2)は、Xとして、式(5a)で表される1種類又は2種類以上の2価の有機基を含んでよい。構成単位(1)及び/又は構成単位(2)は、Xとして、式(5a)で表される2価の有機基の他に、式(5a)で表される2価の有機基に該当しない他の2価の有機基を含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (1) and / or the structural unit represented by the formula (2) is represented by the formula X from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film. (5a):
Figure 2021148938
[In formula (5a), R 2 represents a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, p and q represent integers 1 to 4 independently of each other, where p and / or q are 2 to 2. R 2 is more present when representing an integer of 4 may be the same as each other or different, * represents a bond]
Contains a divalent organic group represented by. The divalent organic group represented by the formula (5a) is a group included in the divalent organic group represented by the formula (5), and specifically, V in the formula (5). Represents a single bond, Ar 2 represents a benzene ring substituted with a fluoroalkyl group (R 2 ) having 1 to 12 carbon atoms, and m is a group corresponding to a divalent organic group representing an integer of 0 to 3. be. When the structural unit (1) and the structural unit (2) include a divalent organic group represented by the formula (5a) as X, the structural unit (1) and the structural unit (2) are represented by the formula (X). It may contain one kind or two or more kinds of divalent organic groups represented by 5a). The structural unit (1) and / or the structural unit (2) correspond to a divalent organic group represented by the formula (5a) in addition to the divalent organic group represented by the formula (5a) as X. It may contain other divalent organic groups that do not.

式(5a)中のRは、炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表す。炭素数1〜12のフルオロアルキル基は、炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のアルキル基の少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された基である。炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のフルオロアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基及びn−デシル基等における少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された基が挙げられる。炭素数1〜12のフルオロアルキル基として、具体的には、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。フルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは1〜6、より好ましくは1〜4、さらに好ましくは1又は2である。 R 2 in the formula (5a) represents a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. A fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms is a group in which at least one hydrogen atom of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is substituted with a fluorine atom. Examples of the linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group and n- Examples thereof include a group in which at least one hydrogen atom in a decyl group is replaced with a fluorine atom. Specific examples of the fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a fluoroethyl group, a difluoroethyl group, a trifluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, and a heptafluoro. Examples thereof include a propyl group and a nonafluorobutyl group. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 6, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 or 2.

p及びqは、互いに独立に、1〜4の整数を表す。pは、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点から、好ましくは1又は2の整数、より好ましくは2である。qは、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点から、好ましくは1又は2の整数、より好ましくは1である。ここで、p及び/又はqが2〜4の整数を表す場合、複数存在するRは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、複数存在するRは互いに同一であることが好ましい。 p and q represent integers 1 to 4 independently of each other. p is preferably an integer of 1 or 2, and more preferably 2 from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film. q is preferably an integer of 1 or 2, and more preferably 1 from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film. Here, if p and / or q is an integer of 2 to 4, R 2 existing in plural, may be the same as each other, but may be different, R 2 are identical to each other there are a plurality of Is preferable.

式(5a)中の2つの結合手について、互いの位置は特に限定されず、オルト位、メタ位、パラ位のいずれであってもよいが、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点からは、該結合手は好ましくは互いにパラ位に位置する。 The positions of the two bonds in the formula (5a) are not particularly limited and may be in the ortho position, the meta position, or the para position, but from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film. , The joints are preferably located in para positions with each other.

式(5a)で表される2価の芳香族基の好ましい例として、式(5a)中のRが炭素数1〜12のパーフルオロアルキル基を表す、pが2である、qが1又は2である、及び/又は、2つの結合手が互いにパラ位に位置する、芳香族基が挙げられる。 As a preferable example of the divalent aromatic group represented by the formula (5a), R 2 in the formula (5a) represents a perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, p is 2 and q is 1. Or two, and / or aromatic groups in which the two binding hands are located in para positions with respect to each other.

本発明の光学フィルムに含まれる樹脂に含まれ得る構成単位(1)及び/又は構成単位(2)が、Xとして、式(5a)で表される2価の有機基を含む本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい観点から、ポリアミドイミド系樹脂に含まれる構成単位(1)及び構成単位(2)の合計を100モル%としたときに、式(1)中のXが式(5a)で表される2価の有機基である構成単位及び式(2)中のXが式(5a)で表される2価の有機基である構成単位の合計の割合は、好ましくは70〜100モル%、より好ましくは80〜100モル%、さらに好ましくは90〜100モル%であり、構成単位(1)及び構成単位(2)の全構成単位において、Xが式(5a)で表される2価の有機基であってもよい。 The structural unit (1) and / or the structural unit (2) that can be contained in the resin contained in the optical film of the present invention is preferably a divalent organic group represented by the formula (5a) as X. In one embodiment, from the viewpoint of easily increasing the tensile elasticity of the optical film, when the total of the structural units (1) and the structural units (2) contained in the polyamide-imide resin is 100 mol%, the formula (1) The total of the structural units in which X is a divalent organic group represented by the formula (5a) and the structural units in which X in the formula (2) is a divalent organic group represented by the formula (5a). The ratio is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, still more preferably 90 to 100 mol%, and in all the constituent units of the constituent unit (1) and the constituent unit (2), X is It may be a divalent organic group represented by the formula (5a).

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂及びポリイミド系樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):

Figure 2021148938
[式(4)中、R10〜R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される構造を含む。式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部が式(4)で表される構造であると、光学フィルムの引張弾性率及び透明性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and the polyimide-based resin are represented by X in the formula (1) or X in the formula (2), and the formula (4):
Figure 2021148938
[In formula (4), R 10 to R 17 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. The hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and * represents a bond.]
Includes the structure represented by. When at least a part of X in the plurality of structural units represented by the formulas (1) and (2) has a structure represented by the formula (4), the tensile elastic modulus and transparency of the optical film can be easily increased. ..

式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として例示した基が挙げられる。R10〜R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10〜R17は、互いに独立に、光学フィルムの引張弾性率、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、さらにより好ましくはR10、R12、R13、R14、R15及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom. Represents an alkoxy group of ~ 6 or an aryl group of 6-12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). Examples thereof include groups exemplified as groups or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. R 10 to R 17 represent independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and here, R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained in may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 10 to R 17 are more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, independently of each other, from the viewpoint of tensile elasticity, transparency and bending resistance of the optical film. Even more preferably, R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, and R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups. Particularly preferably, R 11 and R 17 are methyl groups or trifluoromethyl groups.

本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):

Figure 2021148938
で表される構成単位であり、すなわち、式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。その結果、数式(1)〜数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (4) is the formula (4'):
Figure 2021148938
That is, at least a part of X in the plurality of structural units represented by the equations (1) and (2) is the structural unit represented by the equation (4'). .. In this case, the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyimide resin or the polyamide resin in the solvent, and it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish. , It is easy to improve the workability of the optical film. As a result, it is easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the mathematical formulas (1) to (3). Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂に含まれ得るXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、とりわけ式(4’)で表される。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂における上記範囲内のXが式(4)、特に式(4’)で表される場合、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、数式(1)〜数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂中のXは式(4)、特に式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, the formula (4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of X that can be contained in the polyimide resin or the polyamide resin. ), Especially expressed by equation (4'). When X in the above range in the polyimide resin or the polyamide resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4'), the obtained optical film is dissolved in the solvent of the resin by the skeleton containing a fluorine element. It is easy to improve the properties, improve the storage stability of the varnish containing the resin, easily reduce the viscosity of the varnish, and easily produce the optical film of the present invention satisfying the formulas (1) to (3). Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film. It should be noted that preferably, 100 mol% or less of X in the polyimide resin or the polyamide resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4'). X in the resin may be of formula (4), especially of formula (4'). The ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

ポリイミド系樹脂は、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよく、また式(1)及び場合により式(2)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよい。

Figure 2021148938
The polyimide-based resin may contain a structural unit represented by the formula (30) and / or a structural unit represented by the formula (31), and may also include the structural unit represented by the formula (1) and, in some cases, the formula (2). In addition to the structural unit represented by the formula (30), the structural unit represented by the formula (30) and / or the structural unit represented by the formula (31) may be included.
Figure 2021148938

式(30)において、Yは4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 In the formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y 1 include formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by the formula (29), a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a group. A chain hydrocarbon group having a tetravalent carbon number of 6 or less is exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin may include a plurality of kinds of Y 1, Y 1 of the plurality of kinds may be the same as each other or may be different.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 In the formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y 2 include the above equations (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and (28). ) And a group in which any one of the bonds of the group represented by the formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a chain hydrocarbon group having a trivalent carbon number of 6 or less are exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide resin may include a plurality of kinds of Y 2, Y 2 a plurality of species may be the same as each other or may be different.

式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。X及びXとしては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are divalent organic groups independently of each other, and preferably a hydrocarbon group in which a hydrogen atom in the organic group is substituted with a hydrocarbon group or fluorine. It is an organic group that may be substituted with. Examples of X 1 and X 2 include the above equations (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and A group represented by the formula (18); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; A chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)及び/又は式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの引張弾性率、光学特性及び耐屈曲性を高めやすく、また、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい観点から、上記ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位の合計に対して、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin has a structural unit represented by the formulas (1) and / or the formula (2), and optionally a configuration represented by the formulas (30) and / or the formula (31). It consists of units. Further, from the viewpoint that the tensile elastic modulus, optical characteristics and bending resistance of the optical film can be easily improved, and the visibility of the optical film after heat treatment at a high temperature can be easily improved, the above-mentioned polyimide-based resin has the formulas (1) and the formula. The proportion of the structural units represented by (2) is preferably 80 mol based on the formulas (1) and (2) and, optionally, all the structural units represented by the formulas (30) and (31). % Or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferably 95 mol% or more. In the polyimide resin, the proportions of the structural units represented by the formulas (1) and (2) are the formulas (1) and (2), and in some cases, the formulas (30) and / or the formula (31). It is usually 100% or less with respect to the total of all the constituent units represented by. The above ratio can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the raw material charging ratio.

本発明の一実施形態において、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上であり、好ましくは99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、光学フィルムの引張弾性率、光学特性及び耐屈曲性を向上させやすい。また、高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the optical film. It is more preferably 50 parts by mass or more, preferably 99.5 parts by mass or less, and more preferably 95 parts by mass or less. When the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin is within the above range, the tensile elastic modulus, optical characteristics, and bending resistance of the optical film can be easily improved. In addition, it is easy to improve the visibility of the optical film after the heat treatment at a high temperature.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは100,000以上、より好ましくは130,000以上、さらに好ましくは150,000以上、さらにより好ましくは170,000以上、とりわけ好ましくは200,000以上、とりわけより好ましくは230,000以上、とりわけさらに好ましくは250,000以上、ことさら好ましくは260,000以上である。また、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、さらにより好ましくは500,000以下、とりわけ好ましくは400,000以下、とりわけより好ましくは350,000以下、とりわけさらに好ましくは300,000以下である。重量平均分子量は、例えばGPC測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)が上記の上限以下である場合、該樹脂を含むワニスの固形分を高めやすく、かつ、ワニスの粘度を低下させやすくなり、その結果、数式(1)〜数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。また、耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を維持しやすくなる。 The weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 100,000 or more, more preferably 130,000 or more, and further preferably 130,000 or more in terms of standard polystyrene from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus and bending resistance of the optical film. It is preferably 150,000 or more, even more preferably 170,000 or more, particularly preferably 200,000 or more, particularly more preferably 230,000 or more, particularly preferably 250,000 or more, and particularly preferably 260,000 or more. be. The weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1,000,000 from the viewpoint that the solubility of the resin in a solvent is easily improved and the stretchability and processability of the optical film are easily improved. Below, more preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, even more preferably 500,000 or less, particularly preferably 400,000 or less, particularly more preferably 350,000 or less, especially still more preferably 300, It is 000 or less. The weight average molecular weight can be determined by, for example, GPC measurement and standard polystyrene conversion, and may be calculated by, for example, the method described in Examples. When the weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin and the polyamide resin is not more than the above upper limit, it is easy to increase the solid content of the varnish containing the resin and to reduce the viscosity of the varnish. It becomes easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying (1) to (3). In addition, it becomes easier to maintain visibility in the wide-angle direction after the bending resistance test.

ポリアミドイミド樹脂において、式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、さらにより好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの引張弾性率を高めやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムを製造する際のワニスの粘度を低下させやすいため、数式(1)〜数式(3)を満たす本発明の光学フィルムを製造しやすい。 In the polyamide-imide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol, with respect to 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). More than mol, more preferably 1.0 mol or more, even more preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, still more preferably 4.5 mol or less. be. When the content of the structural unit represented by the formula (2) is at least the above lower limit, the tensile elastic modulus of the optical film can be easily increased. Further, when the content of the structural unit represented by the formula (2) is not more than the above upper limit, the thickening due to the hydrogen bond between the amide bonds in the formula (2) is suppressed, and the optical film is produced. Since the viscosity of the varnish is easily lowered, it is easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the formulas (1) to (3).

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの引張弾性率を向上させやすく、かつYI値を低減させやすい。光学フィルムの引張弾性率が高いと、傷及びシワ等の発生を抑制しやすいと共に、特に高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい。また、光学フィルムのYI値が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin and / or the polyamide resin contained in the optical film may contain a halogen atom such as a fluorine atom which can be introduced by, for example, the above-mentioned fluorine-containing substituent or the like. .. When the polyimide resin and / or the polyamide resin contains a halogen atom, the tensile elastic modulus of the optical film can be easily improved and the YI value can be easily reduced. When the tensile elastic modulus of the optical film is high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles, and it is easy to improve the visibility of the optical film after heat treatment at a particularly high temperature. Further, when the YI value of the optical film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for containing a fluorine atom in the polyimide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜40質量%、さらに好ましくは5〜30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの引張弾性率をより向上させやすく、かつYI値をより低減させやすい。その結果、特に高温での熱処理後の光学フィルムの視認性を高めやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。 The content of halogen atoms in the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, still more preferably 5 to 40% by mass, based on the mass of the polyimide resin and the polyamide resin, respectively. It is 5 to 30% by mass. When the content of the halogen atom is at least the above lower limit, the tensile elastic modulus of the optical film can be more easily improved and the YI value can be more easily reduced. As a result, it is easy to improve the visibility of the optical film especially after the heat treatment at a high temperature. When the content of halogen atoms is not more than the above upper limit, synthesis becomes easy.

ポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上である。光学フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization ratio of the polyimide resin and the polyamide-imide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, still more preferably 96% or more. From the viewpoint of easily improving the optical characteristics of the optical film, the imidization ratio is preferably at least the above lower limit. The upper limit of the imidization rate is 100% or less. The imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of the imide bond in the polyimide resin to twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. When the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound. The ratio of the molar amount of the imide bond in the polyimide-based resin to the total of the above is shown. The imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like.

本発明において、光学フィルムは、ポリアミド系樹脂を含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミド系樹脂は、式(2)で表される繰り返し構成単位を主とする重合体である。ポリアミド系樹脂における式(2)中のZの好ましい例及び具体例は、ポリイミド系樹脂におけるZの好ましい例及び具体例と同じである。前記ポリアミド系樹脂は、Zが異なる2種類以上の式(2)で表される繰り返し構成単位を含んでいてもよい。 In the present invention, the optical film may contain a polyamide resin. The polyamide-based resin according to this embodiment is a polymer mainly composed of a repeating structural unit represented by the formula (2). Preferred examples and specific examples of Z in the formula (2) in the polyamide-based resin are the same as preferable examples and specific examples of Z in the polyimide-based resin. The polyamide-based resin may contain two or more types of repeating structural units represented by the formula (2) having different Z's.

(樹脂の製造方法)
本発明の光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の製造方法は特に限定されない。ポリイミド樹脂及びポリイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミド樹脂は、例えば、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を主な原料として製造できる。
(Resin manufacturing method)
The method for producing the polyimide resin and the polyamide resin contained in the optical film of the present invention is not particularly limited. The polyimide resin and the polyimide precursor resin can be produced, for example, using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials, and the polyamide-imide resin and the polyamide-imide precursor resin can be produced, for example, by a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. Can be produced as a main raw material, and the polyamide resin can be produced, for example, using a diamine compound and a dicarboxylic acid compound as the main raw materials.

式(1)及び式(30)で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とから誘導される。式(2)で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とジカルボン酸化合物とから誘導される。式(31)で表される構成単位は、通常、ジアミン化合物とトリカルボン酸化合物とから誘導される。 The structural units represented by the formulas (1) and (30) are usually derived from a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound. The structural unit represented by the formula (2) is usually derived from a diamine compound and a dicarboxylic acid compound. The structural unit represented by the formula (31) is usually derived from a diamine compound and a tricarboxylic acid compound.

樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環が例示される。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of the diamine compound used in the production of the resin include aliphatic diamines, aromatic diamines and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be contained in a part of the structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferably exemplified. Further, the "aliphatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained as a part of the structure thereof.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine and 4,4'. − Examples include cyclic aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylene diamine, p-xylylene diamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene and the like. , 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4) -Aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (with TFMB) (May be described), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene , 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, and other aromatic diamines having two or more aromatic rings. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamines are preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3 , 3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2 , 2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis ( Trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl. Propane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'- Biphenyl (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの引張弾性率、透明性、柔軟性、耐屈曲性を高めやすく、YI値を低減しやすい観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)を用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, it is selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus, transparency, flexibility and bending resistance of the optical film and easily reducing the YI value. It is preferable to use seeds or more. One selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether. It is more preferable to use the above, and it is even more preferable to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride. Be done. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound in addition to dianhydride.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDAと記載することがある)、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, a monocyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, and a condensed polycyclic aromatic tetra. Examples include carboxylic acid dianhydride. Examples of the non-condensation polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, and 2,2. ', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (sometimes referred to as BPDA), 2,2', 3,3 '-Biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2, 2-Bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid Dianhydride (sometimes referred to as 6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride , 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane Dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalide Acid dianhydride can be mentioned. Examples of the monocyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic acid dianhydride, and the condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride. Examples thereof include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride.

これらの中でも、好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Among these, preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride. Anhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic hydride, 3,3', 4,4'-diphenyl Sulfontetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) Etan dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3) , 4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4'-(p-) Phenylene dioxy) diphthalic acid dianhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride are mentioned, more preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3',. 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic hydride. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride is a tetracarboxylic acid dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride. Cycloalkanetetracarboxylic acid dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, bicyclo [2.2] .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, dicyclohexyl-3,3', 4,4'-tetracarboxylic acid dianhydride and their positional isomers. Be done. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの引張弾性率、表面硬度、透明性、柔軟性及び耐屈曲性を高めやすく、YI値を低減しやすい観点から、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)がさらに好ましい。 Among the above tetracarboxylic acid dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic acid dianoxide is easy to increase the tensile elasticity, surface hardness, transparency, flexibility and bending resistance of the optical film, and easily reduce the YI value. Anhydrous, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyl Tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfone Tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'- (Hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, and mixtures thereof, are preferred, with 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid. Dianoxides, as well as mixtures thereof, are more preferred, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride ( BPDA) is even more preferred.

樹脂の合成に用いられるジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。具体例としては、テレフタル酸;イソフタル酸;2−メトキシテレフタル酸;2−メチルテレフタル酸;2,5−ビス(トリフルオロメチル)テレフタル酸;イソフタル酸;2,5−ジメチルテレフタル酸;2,5−ジメトキシテレフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;3,3’−ビフェニルジカルボン酸;2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロライド化合物が挙げられる。これらのジカルボン酸化合物の中でも、光学フィルムの引張弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、4,4’−オキシビス安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸、2−メトキシテレフタル酸、2−メチルテレフタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸、2,5−ジメトキシテレフタル酸、2,5−ビス(トリフルオロメチル)テレフタル酸、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ビフェニルジカルボン酸及びそれらの酸クロリドが好ましく、2−メトキシテレフタル酸、2−メチルテレフタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸クロライド(DMTPC)、2,5−ジメトキシテレフタル酸クロライド(MOTPC)、2,5−ビス(トリフルオロメチル)テレフタル酸クロライド(6FTPC)、テレフタロイルクロリド(TPC)、イソフタロイルクロリドがより好ましく、テレフタロイルクロリド(TPC)、2−メトキシテレフタル酸、2−メチルテレフタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸クロライド(DMTPC)、2,5−ジメトキシテレフタル酸クロリド(MOTPC)がさらに好ましく、2−メトキシテレフタル酸、2−メチルテレフタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸クロライド(DMTPC)及び2,5−ジメトキシテレフタル酸クロリド(MOTPC)がさらにより好ましい。 Examples of the dicarboxylic acid compound used in the synthesis of the resin include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid; isophthalic acid; 2-methoxyterephthalic acid; 2-methylterephthalic acid; 2,5-bis (trifluoromethyl) terephthalic acid; isophthalic acid; 2,5-dimethylterephthalic acid; 2,5. -Dimethoxyterephthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-biphenyldicarboxylic acid; carbon number A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon of 8 or less and two benzoic acids are single-bonded, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or phenylene. Examples include compounds linked by a group and their acid chloride compounds. Among these dicarboxylic acid compounds, 4,4'-oxybis benzoic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid from the viewpoint of easily increasing the tensile elasticity and bending resistance of the optical film. , 2,5-dimethylterephthalic acid, 2,5-dimethoxyterephthalic acid, 2,5-bis (trifluoromethyl) terephthalic acid, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-biphenyldicarboxylic acid And their acid chlorides are preferred, 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC), 2,5-dimethoxyterephthalic acid chloride (MOTPC), 2,5-bis ( Trifluoromethyl) terephthalic acid chloride (6FTPC), terephthaloyl chloride (TPC), isophthaloyl chloride are more preferred, terephthaloyl chloride (TPC), 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5 -Dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC), 2,5-dimethoxyterephthalic acid chloride (MOTPC) is more preferred, 2-methoxyterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (DMTPC) and 2, 5-Dimethoxyterephthalic acid chloride (MOTPC) is even more preferred.

なお、上記ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記の樹脂合成に用いられるテトラカルボン酸化合物に加えて、他のテトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 The polyimide resin contains other tetracarboxylic acids and tricarboxylic acids, and their anhydrides and derivatives, in addition to the tetracarboxylic acid compounds used in the resin synthesis, as long as the various physical properties of the optical film are not impaired. It may be further reacted.

他のテトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Examples of other tetracarboxylic acids include water adducts of the anhydrides of the tetracarboxylic acid compounds.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸の無水物;1,3,5−ベンゼントリカルボン酸の酸クロリド化合物;2,3,6−ナフタレントリカルボン酸−2,3−無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; an acid chloride compound of 1,3,5-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthal. A compound in which an acid anhydride and benzoic acid are single-bonded, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a phenylene group. Can be mentioned.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とする樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and / or the dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired resin.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5〜350℃、好ましくは20〜200℃、より好ましくは25〜100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分〜10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350 ° C., preferably 20 to 200 ° C., and more preferably 25 to 100 ° C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and / or an atmosphere of an inert gas with stirring. The reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, etc. Alcohol-based solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; ester-based solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethyl cyclohexane; toluene and xylene Aromatic hydrocarbon solvents such as; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide. System solvents; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, an amide-based solvent can be preferably used from the viewpoint of solubility.

ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N−エチルピペリジン、N−プロピルピペリジン、N−ブチルピロリジン、N−ブチルピペリジン、及びN−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2−メチルピリジン(2−ピコリン)、3−メチルピリジン(3−ピコリン)、4−メチルピリジン(4−ピコリン)、2−エチルピリジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、3,4−シクロペンテノピリジン、5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In the imidization step in the production of the polyimide resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of imidization catalysts include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidin, N-propylpiperidin, N-butylpyrrolidin, N-butylpiperidin, and N-propylhexahydro. Alicyclic amines such as azepine (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2. 2] Alicyclic amines such as nonane (polycyclic); and pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4-picolin), 2- Ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and Examples include aromatic amines such as isoquinolin. Further, from the viewpoint of easily promoting the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidization reaction, and specific examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, aliphatic acid anhydrides such as butyric anhydride, and aromatics such as phthalic acid. Acid anhydride and the like can be mentioned.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製し、単離してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 Polyimide-based resins and polyamide-based resins are separated, purified, and isolated by conventional methods, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, and column chromatography, or separation means combining these. Also, in a preferred embodiment, it can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to the reaction solution containing the transparent polyamide-imide resin, precipitating the resin, and performing concentration, filtration, drying and the like.

<添加剤>
本発明の光学フィルムは、添加剤をさらに含んでもよい。このような添加剤としては、例えば、フィラー、紫外線吸収剤、増白剤、酸化防止剤、pH調整剤及びレベリング剤が挙げられる。
<Additives>
The optical film of the present invention may further contain additives. Examples of such additives include fillers, UV absorbers, whitening agents, antioxidants, pH regulators and leveling agents.

(フィラー)
本発明の光学フィルムは、少なくとも1種のフィラーを含んでよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、光学フィルムの弾性率及び/又は引裂き強度を高め、耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
(Filler)
The optical film of the present invention may contain at least one filler. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles. Examples of the inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, antimony oxide, and cerium oxide, magnesium fluoride, sodium fluoride, and the like. Among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable from the viewpoint of increasing the elasticity and / or tear strength of the optical film and easily improving the impact resistance. , More preferably silica particles. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、1nm以上、より好ましくは5nm以上、さらに好ましくは10nm以上、さらにより好ましくは15nm以上、とりわけ好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、さらに好ましくは80nm以下、さらにより好ましくは70nm以下、とりわけ好ましくは60nm以下、とりわけより好ましくは50nm以下、とりわけさらに好ましくは40nm以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。 The average primary particle size of the filler, preferably silica particles, is 1 nm or more, more preferably 5 nm or more, still more preferably 10 nm or more, even more preferably 15 nm or more, particularly preferably 20 nm or more, preferably 100 nm or less, more preferably. Is 90 nm or less, more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, particularly more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less. When the average primary particle size of the silica particles is within the above range, the aggregation of the silica particles can be suppressed and the optical characteristics of the obtained optical film can be easily improved. The average primary particle size of the filler can be measured by the BET method. The average primary particle size may be measured by image analysis of a transmission electron microscope or a scanning electron microscope.

本発明の光学フィルムにおけるフィラー、例えば無機粒子、中でもシリカ粒子の含有量は、光学フィルムの全質量に対して、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは45質量%以下、さらにより好ましくは40質量%以下であり、好ましくは0質量%以上である。フィラーの含有量が上記の上限以下であると、得られる光学フィルムの弾性率を高めやすいと共に、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。ここで、光学フィルムの引張弾性率は、シリカ粒子等のフィラーの含有量を高めることによって、高くなる傾向があるが、シリカ粒子等のフィラーの含有量が多すぎる場合には、得られる光学フィルムが上記の数式(1)〜数式(3)を満たしにくい場合がある。そのため、本発明の光学フィルムにおいては、シリカ粒子の含有量を上記の上限以下とすることが、光学フィルムの引張弾性率を高めやすく、高い広角方向の視認性を維持しやすい観点から好ましい。なお、本明細書において、光学フィルムにおける例えばシリカ粒子の含有量が、光学フィルムの全質量に対して上記の上限以下であるとは、シリカ粒子の含有量が0質量%である、すなわちシリカ粒子を含有しないか、又は、含有するとしても上記の上限以下の量であることを表す。 The content of the filler in the optical film of the present invention, for example, inorganic particles, particularly silica particles, is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, still more preferably 45% by mass, based on the total mass of the optical film. Hereinafter, it is even more preferably 40% by mass or less, and preferably 0% by mass or more. When the content of the filler is not more than the above upper limit, the elastic modulus of the obtained optical film can be easily increased, and the optical characteristics of the optical film can be easily improved. Here, the tensile elastic modulus of the optical film tends to be increased by increasing the content of the filler such as silica particles, but when the content of the filler such as silica particles is too large, the obtained optical film is obtained. May be difficult to satisfy the above formulas (1) to (3). Therefore, in the optical film of the present invention, it is preferable to set the content of silica particles to the above upper limit or less from the viewpoint of easily increasing the tensile elastic modulus of the optical film and easily maintaining high visibility in the wide angle direction. In the present specification, when the content of, for example, silica particles in the optical film is equal to or less than the above upper limit with respect to the total mass of the optical film, the content of the silica particles is 0% by mass, that is, the silica particles. Indicates that the amount of silica is not contained, or even if it is contained, the amount is equal to or less than the above upper limit.

(紫外線吸収剤)
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含んでもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、及びシアノアクリレート系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、本発明の光学フィルムを表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。好適な市販の紫外線吸収剤としては、例えば、住化ケムテックス(株)製のSumisorb(登録商標) 340、(株)ADEKA製のアデカスタブ(登録商標) LA−31、及びBASFジャパン(株)製のチヌビン(登録商標) 1577等が挙げられる。
(UV absorber)
The optical film of the present invention may further contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those usually used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include triazine-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzoate-based ultraviolet absorbers, cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers, and salicylate-based ultraviolet absorbers. .. These may be used alone or in combination of two or more. Since the optical film contains an ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, so that visibility can be improved when the optical film of the present invention is applied to a display device or the like. As used herein, the term "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is attached. For example, the "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a maternal skeleton and a substituent attached to benzophenone. Suitable commercially available UV absorbers include, for example, Sumisorb® 340 manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd., ADEKA STAB® LA-31 manufactured by ADEKA Corporation, and BASF Japan Ltd. Chinubin (registered trademark) 1577 and the like can be mentioned.

本発明の光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルムに含まれるポリアミドイミド系樹脂の質量100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは1〜8質量部、さらに好ましくは2〜7質量部である。紫外線吸収剤の含有量が上記の下限以上であると、紫外線吸収性を向上させやすい。紫外線吸収剤の含有量が上記の上限以下であると、基材製造時の熱による紫外線吸収剤の分解を抑制でき、光学特性を向上させやすく、例えばヘーズを低減させやすい。 When the optical film of the present invention contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyamide-imide resin contained in the optical film. It is more preferably 1 to 8 parts by mass, still more preferably 2 to 7 parts by mass. When the content of the ultraviolet absorber is at least the above lower limit, the ultraviolet absorption is likely to be improved. When the content of the ultraviolet absorber is not more than the above upper limit, the decomposition of the ultraviolet absorber due to heat during the production of the base material can be suppressed, the optical characteristics can be easily improved, and for example, the haze can be easily reduced.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。本発明の光学フィルムは、優れた広角方向の視認性を有するため、画像表示装置等における光学フィルムとして有用である。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。 The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes. The optical film of the present invention may be a single layer or a laminated body, the optical film of the present invention may be used as it is, or may be used as a laminated body with another film. .. Since the optical film of the present invention has excellent visibility in a wide-angle direction, it is useful as an optical film in an image display device or the like. When the optical film is a laminated body, it is referred to as an optical film including all the layers laminated on one side or both sides of the optical film.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してもよい。本発明の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れるため、画像表示装置等における光学フィルムとして有用である。特に本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、特にフレキシブルディスプレイの前面板(ウインドウフィルム)として有用である。フレキシブルディスプレイは、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する上記光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブルディスプレイの前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。 The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and the optical film may be used for various purposes. Since the optical film of the present invention is excellent in visibility in the wide angle direction, it is useful as an optical film in an image display device or the like. In particular, the optical film of the present invention is useful as a front plate of an image display device, particularly a front plate (window film) of a flexible display. The flexible display has, for example, a flexible functional layer and the above-mentioned optical film which is superposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display is arranged on the visible side above the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.

<光学フィルムの製造方法>
本発明の光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)前記樹脂及び任意に前記フィラーを含む液(以下、ワニスと記載することがある)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を含む方法によって製造することができる。
<Manufacturing method of optical film>
The optical film of the present invention is not particularly limited, but for example, the following steps:
(A) A step of preparing a liquid containing the resin and optionally the filler (hereinafter, may be referred to as varnish) (varnish preparation step).
(B) A step of applying varnish to a base material to form a coating film (coating step), and (c) a step of drying the applied liquid (coating film) to form an optical film (optical film forming step). )
It can be manufactured by a method including.

ワニス調製工程において、前記樹脂を溶媒に溶解し、必要に応じて前記フィラー及び他の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。 In the varnish preparation step, the varnish is prepared by dissolving the resin in a solvent, adding the filler and other additives as necessary, and stirring and mixing.

ワニスの調製に用いられる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと略すことがある)、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略すことがある)等のアミド系溶媒;γ−ブチロラクトン(以下、GBLと略すことがある)、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点からは、ワニスに用いられる溶媒は、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1〜25質量%、より好ましくは5〜20質量%である。 The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as N, N-dimethylacetamide (hereinafter, may be abbreviated as DMAc) and N, N-dimethylformamide (hereinafter, may be abbreviated as DMF); γ-butyrolactone (hereinafter, may be abbreviated as DMF). , GBL), lactone-based solvents such as γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfon, dimethylsulfoxide and sulfolane; carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Be done. Among these, the solvent used for the varnish is preferably an amide solvent or a lactone solvent from the viewpoint of easily producing an optical film satisfying the formulas (1) to (3). These solvents can be used alone or in combination of two or more. Further, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass.

塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating step, a varnish is applied onto the substrate by a known coating method to form a coating film. Known coating methods include, for example, wire bar coating method, reverse coating, roll coating method such as gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, screen coating method, fountain coating method, salivation molding method and the like. ..

光学フィルム形成工程において、塗膜を乾燥(第1乾燥と称する)し、基材から剥離後、乾燥塗膜をさらに乾燥(第2乾燥又はポストベーク処理と称する)することにより光学フィルムを形成する。第1乾燥は、必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において実施されてもよい。第1乾燥は、例えば陰圧のテンター炉内等の陰圧条件下、比較的低温で時間をかけて行うことが好ましい。陰圧の条件下で第一乾燥を行うと、理由は明らかではないが、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)〜数式(3)を満たしやすいと共に、光学フィルムの全光線透過率を高めやすく、ヘーズ及びYIを低下させやすい。これは、第一乾燥の条件下で光学フィルムから揮発して除去される溶媒が光学フィルム表面で滞留することを防止し、その結果、光学フィルムの表面が均一になるためであると考えられる。加えて、比較的低温で時間をかけて第1乾燥を行うことによっても、光学フィルムの表面が均一になりやすく、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)〜数式(3)を満たしやすい。また、乾燥時の樹脂の酸化劣化が抑制されるために、光学フィルムの全光線透過率を高めやすく、ヘーズ及びYIを低下させやすい。 In the optical film forming step, the coating film is dried (referred to as first drying), peeled from the substrate, and then the dried coating film is further dried (referred to as second drying or post-baking treatment) to form an optical film. .. The first drying may be carried out under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure, if necessary. The first drying is preferably carried out at a relatively low temperature for a long time under negative pressure conditions such as in a negative pressure tenter furnace. When the first drying is performed under negative pressure conditions, the reason is not clear, but the transmittance value of the produced optical film easily satisfies the formulas (1) to (3), and the total light beam of the optical film is formed. It is easy to increase the transmittance and easily decrease the haze and YI. It is considered that this is because the solvent volatilized and removed from the optical film under the first drying condition is prevented from staying on the surface of the optical film, and as a result, the surface of the optical film becomes uniform. In addition, even if the first drying is performed at a relatively low temperature for a long time, the surface of the optical film tends to be uniform, and the transmissibility values of the produced optical film are mathematical formulas (1) to (3). Easy to meet. Further, since the oxidative deterioration of the resin during drying is suppressed, the total light transmittance of the optical film is likely to be increased, and the haze and YI are likely to be lowered.

ここで、本発明の光学フィルムを工業的に生産する場合、ラボレベルでの製造環境と比較して実際の製造環境は広角方向の視認性を高めるのに不利である場合が多く、その結果、光学フィルムの広角方向の視認性を高めることが困難となる場合がある。第1乾燥を陰圧条件下、比較的低温で時間をかけて行うことが好ましいことは上記に述べたとおりであるが、実験室レベルでは、第1乾燥を行う際に、乾燥を密閉した乾燥器内で行うことができるため、外的要因による光学フィルムの表面の荒れが比較的生じにくい。これに対し、光学フィルムを工業的に生産する場合には、例えば、第1乾燥において広い面積を加熱する必要があるため、加熱の際に送風装置を使用することもある。その結果、光学フィルムの表面状態が荒れやすくなり、光学フィルムの広角方向の視認性を高めることが困難である。 Here, in the case of industrially producing the optical film of the present invention, the actual manufacturing environment is often disadvantageous in improving the visibility in the wide-angle direction as compared with the manufacturing environment at the laboratory level, and as a result, It may be difficult to improve the visibility of the optical film in the wide-angle direction. As mentioned above, it is preferable to carry out the first drying under negative pressure conditions at a relatively low temperature for a long time, but at the laboratory level, when the first drying is carried out, the drying is sealed. Since it can be performed in the vessel, the surface of the optical film is relatively less likely to be roughened due to external factors. On the other hand, in the case of industrially producing an optical film, for example, since it is necessary to heat a large area in the first drying, a blower may be used at the time of heating. As a result, the surface condition of the optical film tends to be rough, and it is difficult to improve the visibility of the optical film in the wide-angle direction.

加熱により乾燥を行う場合、特に光学フィルムを工業的に生産する際に上記のような外的要因を考慮すると、第1乾燥の温度は、好ましくは60〜150℃、より好ましくは60〜130℃、さらに好ましくは70〜120℃である。第1乾燥の時間は好ましくは5〜60分、より好ましくは10〜40分である。特に光学フィルムを工業的に生産する際に上記のような外的要因を考慮すると、第1乾燥は3段階以上の乾燥温度条件で実施することが好ましい。多段階の条件は、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件及び/又は乾燥時間で実施することができ、例えば3〜10段階、好ましくは3〜8段階で乾燥を行ってもよい。第1乾燥を3段階以上の多段階条件下で実施すると、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)〜数式(3)を満たしやすくなり、広角方向の視認性が向上する。3段階以上の多段階条件下の態様では、第1乾燥の温度プロファイルが昇温及び降温を含むことが好ましい。すなわち、光学フィルム形成工程における第1乾燥条件は、温度プロファイルが昇温及び降温を含む3段階以上の加熱温度条件であることが好ましい。このような温度プロファイルとして4段階の場合を例に挙げると、第1乾燥の温度は、順に70〜90℃(第1の温度)、90〜120℃(第2の温度)、80〜120℃(第3の温度)及び80〜100℃(第4の温度)である。この例では、第1乾燥の温度は、第1の温度から第2の温度へ昇温し、次いで第2の温度から第3の温度へ降温し、さらに第3の温度から第4の温度に降温する。ここで第1乾燥の時間は各段階において、例えば、5〜15分である。乾燥塗膜の溶媒残存量が、乾燥塗膜の質量に対して、好ましくは5〜15質量%、より好ましくは6〜12質量%となるように、第1乾燥は実施されることが好ましい。溶媒残存量が上記範囲であると、乾燥塗膜の基材からの剥離性が良好となり、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)〜数式(3)を満たしやすい。 When drying by heating, especially when the optical film is industrially produced, the temperature of the first drying is preferably 60 to 150 ° C., more preferably 60 to 130 ° C. in consideration of the above-mentioned external factors. , More preferably 70 to 120 ° C. The first drying time is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes. In particular, in consideration of the above-mentioned external factors when industrially producing an optical film, it is preferable that the first drying is carried out under three or more stages of drying temperature conditions. The multi-step conditions can be carried out at the same or different temperature conditions and / or drying times in each step, for example, drying may be carried out in 3 to 10 steps, preferably 3 to 8 steps. When the first drying is carried out under a multi-step condition of three or more steps, the transmitted mapability value of the produced optical film easily satisfies the mathematical formulas (1) to (3), and the visibility in the wide-angle direction is improved. In aspects of multi-step conditions of three or more steps, it is preferred that the temperature profile of the first drying includes temperature rise and fall. That is, it is preferable that the first drying condition in the optical film forming step is a heating temperature condition in which the temperature profile includes three or more steps including temperature raising and lowering. Taking the case of four stages as such a temperature profile as an example, the temperature of the first drying is 70 to 90 ° C (first temperature), 90 to 120 ° C (second temperature), and 80 to 120 ° C, respectively. (Third temperature) and 80-100 ° C. (fourth temperature). In this example, the temperature of the first drying is raised from the first temperature to the second temperature, then lowered from the second temperature to the third temperature, and further from the third temperature to the fourth temperature. To lower the temperature. Here, the time of the first drying is, for example, 5 to 15 minutes in each step. The first drying is preferably carried out so that the residual amount of the solvent in the dry coating film is preferably 5 to 15% by mass, more preferably 6 to 12% by mass with respect to the mass of the dry coating film. When the residual amount of the solvent is in the above range, the peelability of the dry coating film from the substrate is good, and the transmission mapping property value of the produced optical film easily satisfies the formulas (1) to (3).

第2乾燥の温度は、好ましくは150〜300℃、より好ましくは180〜250℃、さらに好ましくは180〜230℃である。第2乾燥の時間は、好ましくは10〜60分、より好ましくは30〜50分である。 The temperature of the second drying is preferably 150 to 300 ° C, more preferably 180 to 250 ° C, and even more preferably 180 to 230 ° C. The second drying time is preferably 10 to 60 minutes, more preferably 30 to 50 minutes.

第2乾燥は、枚葉式で行ってもよいが、工業的に生産する場合には、製造効率の観点から、ロール・ツー・ロール方式で行うことが好ましい。枚葉式では、面内方向に均一に伸長させた状態で乾燥させることが好ましい。
ロール・ツー・ロール方式では、得られる光学フィルムが数式(1)〜数式(3)を満たしやすい観点から、乾燥塗膜を搬送方向に伸長させた状態で乾燥させることが好ましく、搬送速度は、好ましくは0.1〜5m/分、より好ましくは0.2〜3m/分、さらに好ましくは0.7〜2.5m/分である。第2乾燥は1段階又は多段階の条件で実施されてもよい。多段階の条件は、好ましくは、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件、乾燥時間及び熱風の風速から選択される少なくとも1種で実施することができ、例えば、3〜10段階、好ましくは3〜8段階で乾燥を行ってもよく、光学フィルムが数式(1)〜数式(3)の範囲を満たしやすい観点から、多段階の条件で実施することが好ましい。また、各段階では、熱風の風速は、作製される光学フィルムの透過写像性値が数式(1)〜数式(3)を満たしやすい観点から、好ましくは5〜20m/分、より好ましくは10〜15m/分、さらに好ましくは11〜14m/分である。
The second drying may be carried out by a single-wafer method, but in the case of industrial production, it is preferable to carry out the second drying by a roll-to-roll method from the viewpoint of production efficiency. In the single-wafer type, it is preferable to dry the leaves in a state of being uniformly extended in the in-plane direction.
In the roll-to-roll method, from the viewpoint that the obtained optical film easily satisfies the formulas (1) to (3), it is preferable to dry the dried coating film in a state of being stretched in the transport direction, and the transport speed is set to. It is preferably 0.1 to 5 m / min, more preferably 0.2 to 3 m / min, and even more preferably 0.7 to 2.5 m / min. The second drying may be carried out under one-step or multi-step conditions. The multi-step conditions can preferably be carried out in each step with at least one selected from the same or different temperature conditions, drying time and hot air velocity, eg, 3-10 steps, preferably 3 steps. Drying may be carried out in 8 steps, and it is preferable to carry out the drying under a multi-step condition from the viewpoint that the optical film can easily satisfy the range of the formulas (1) to (3). Further, at each stage, the wind speed of the hot air is preferably 5 to 20 m / min, more preferably 10 to 10 from the viewpoint that the transmitted mapability value of the produced optical film easily satisfies the mathematical formulas (1) to (3). It is 15 m / min, more preferably 11-14 m / min.

本発明の光学フィルムがハードコート層を備える場合、ハードコート層は、例えば、光学フィルムの少なくとも一方の面に硬化性組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に高エネルギー線を照射し、塗膜を硬化させて形成することができる。 When the optical film of the present invention includes a hard coat layer, for example, the hard coat layer is formed by applying a curable composition to at least one surface of the optical film to form a coating film, and high energy rays are applied to the coating film. It can be formed by irradiating and curing the coating film.

基材の例としては、金属系であれば、SUS板、樹脂系であればPETフィルム、PENフィルム、他のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマー(COP)フィルム、アクリル系フィルム等又はハードコート層を有するそれら樹脂フィルム、ガラス基板等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点及び光学フィルムの透過写像性値が数式(1)〜数式(3)を満たしやすい観点から、PETフィルム、COPフィルム、ハードコート層を有する樹脂フィルム、SUS板、ガラス板等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、SUS板、ハードコート層を有する樹脂フィルムがより好ましく、SUS板、ハードコート層を有するPETフィルムがさらに好ましい。 Examples of the base material are a SUS plate for metal, PET film, PEN film for resin, other polyimide resin or polyamide resin film, cycloolefin polymer (COP) film, acrylic film. Etc., or those resin films having a hard coat layer, a glass substrate, and the like can be mentioned. Among them, PET film, COP film, resin film having a hard coat layer, and SUS plate from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance and the viewpoint that the transmission imageability value of the optical film easily satisfies the formulas (1) to (3). , A glass plate or the like is preferable, and a SUS plate or a resin film having a hard coat layer is more preferable, and a SUS plate or a PET film having a hard coat layer is further preferable from the viewpoint of adhesion to an optical film and cost.

上記数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点からは、上記の光学フィルム形成工程における塗膜の乾燥を、所定の溶媒量まで塗膜を乾燥後、基材を剥離して、原料フィルムを得る工程、及び、該原料フィルムを、内部が複数の空間に分けられているテンター炉で加熱する加熱工程を含む製造方法により行うことが好ましい。さらに、テンター炉では、少なくとも1つの空間において熱風処理方式で加熱工程が行われ、かつ少なくとも1つの空間において輻射線処理方式で加熱工程が行われることが好ましい。なお、テンター炉とは、フィルム幅方向の両端を固定して加熱する炉を指す。なお、テンター炉を包含する、原料フィルムを加熱するための加熱装置を、本明細書においてオーブンとも称する。また、テンター炉内部の圧力は、テンター炉外の圧力に対してテンター炉内が陰圧となるように調整されていることが好ましい。 From the viewpoint of facilitating the production of an optical film satisfying the above formulas (1) to (3), the coating film is dried in the above optical film forming step, the coating film is dried to a predetermined amount of solvent, and then the base material is peeled off. Then, it is preferable to carry out by a manufacturing method including a step of obtaining a raw material film and a heating step of heating the raw material film in a tenter furnace in which the inside is divided into a plurality of spaces. Further, in the tenter furnace, it is preferable that the heating step is performed by the hot air treatment method in at least one space, and the heating step is performed by the radiation treatment method in at least one space. The tenter furnace refers to a furnace in which both ends in the film width direction are fixed and heated. The heating device for heating the raw material film, including the tenter furnace, is also referred to as an oven in the present specification. Further, it is preferable that the pressure inside the tenter furnace is adjusted so that the pressure inside the tenter furnace becomes negative with respect to the pressure outside the tenter furnace.

本実施形態の光学フィルムの製造方法について、図を参照しながら説明する。図4は、本発明の一実施形態における光学フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。図4中、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を少なくとも含む原料フィルム44は、テンター炉100に搬入され、テンター炉100内の加熱ゾーンにおいて加熱され、その後テンター炉100から搬出される。本明細書では、加熱工程を経る前と、溶媒の量などの経時変化はあるものの加熱工程中又はオーブンの中を搬送されているフィルムを原料フィルムと称し、加熱工程を経てオーブンから搬出されたフィルムを光学フィルムと称する。 The method for producing the optical film of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a process cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the method for producing an optical film according to an embodiment of the present invention. In FIG. 4, the raw material film 44 containing at least the polyimide resin and / or the polyamide resin is carried into the tenter furnace 100, heated in the heating zone in the tenter furnace 100, and then carried out from the tenter furnace 100. In the present specification, a film that has been transported during the heating process or in the oven although there is a change with time such as the amount of the solvent before the heating process is referred to as a raw material film, and the film is carried out from the oven through the heating process. The film is called an optical film.

原料フィルム44は、原料フィルムが巻き取られたロールから繰り出されてテンター炉100に搬入されてもよいし、その直前の工程から連続的にテンター炉に搬入されてもよい。図5は、本発明の光学フィルムの製造方法における加熱工程の好適な実施形態を模式的に示す工程断面図である。図5に示すように、原料フィルム44は、フィルムの搬送方向(MD方向、長手方向とも言う)に垂直な方向(TD方向、幅方向とも言う)のフィルムの両端が固定された状態でテンター炉内を搬送されることが好ましい。固定は、例えば把持装置43により行ってよい。 The raw material film 44 may be unwound from the roll in which the raw material film is wound and carried into the tenter furnace 100, or may be continuously carried into the tenter furnace from the step immediately before that. FIG. 5 is a process cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the heating process in the method for producing an optical film of the present invention. As shown in FIG. 5, the raw material film 44 is a tenter furnace in a state where both ends of the film are fixed in a direction (also referred to as a TD direction or a width direction) perpendicular to the film transport direction (also referred to as MD direction or longitudinal direction). It is preferable to carry the inside. The fixing may be performed by, for example, the gripping device 43.

両端の固定は、ピンシート、クリップ及びフィルムチャック等の一般にフィルムの製造装置に用いられる把持装置を用いて行うことができる。固定する両端は、用いる把持装置により適宜調整することができるが、フィルム端部から50cm以内の距離で固定されることが好ましい。図5に示すように、原料フィルムは、その両端を複数の把持装置43で把持しながら、搬送させてよい。フィルムの一方端に設置される複数の把持装置43は、その隣接する把持装置間の距離が、フィルムのばたつき又は加熱による寸法変化に起因するワレなどの欠陥を抑制できる距離であることが好ましい。隣接する把持装置間の距離は、好ましくは1〜50mmであり、より好ましくは3〜25mmであり、さらに好ましくは5〜10mmである。また、把持装置は、フィルム搬送軸に直交する直線をフィルムの一方端の任意の把持装置の把持部中央に合せたとき、該直線とフィルムの他方の端との交点と、該交点に最も近い把持装置の把持部中央との距離が、好ましくは3mm以下、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1mm以下となるように設置されることが好ましい。これにより、対抗するフィルム両端部のそれぞれに係る応力の差を小さくすることができるため、得られる光学フィルムの均質性を高めることができる。また、このような条件で把持装置を用いてフィルムを固定しながら乾燥を行うことにより、フィルムの乾燥時のばたつきが抑制され、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 Both ends can be fixed by using a gripping device generally used in a film manufacturing apparatus such as a pin sheet, a clip, and a film chuck. Both ends to be fixed can be appropriately adjusted by the gripping device used, but it is preferable that both ends are fixed at a distance of 50 cm or less from the end of the film. As shown in FIG. 5, the raw material film may be conveyed while gripping both ends thereof with a plurality of gripping devices 43. It is preferable that the distance between the plurality of gripping devices 43 installed at one end of the film is such that the distance between the adjacent gripping devices can suppress defects such as cracks caused by fluttering of the film or dimensional change due to heating. The distance between adjacent gripping devices is preferably 1 to 50 mm, more preferably 3 to 25 mm, and even more preferably 5 to 10 mm. Further, when the straight line orthogonal to the film transport axis is aligned with the center of the grip portion of any gripping device at one end of the film, the gripping device is closest to the intersection of the straight line and the other end of the film. It is preferable that the gripping device is installed so that the distance from the center of the gripping portion is preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, still more preferably 1 mm or less. As a result, the difference in stress between both ends of the opposing film can be reduced, and the homogeneity of the obtained optical film can be improved. Further, by drying the film while fixing it using a gripping device under such conditions, fluttering during drying of the film is suppressed, and the above-mentioned formulas (1) to (3) are satisfied. It becomes easier to manufacture an optical film.

把持装置でフィルムの両端を固定する操作の例としては、テンター炉に搬入される前又はテンター炉に搬入された後の適時に、フィルムの幅方向において、対向するように設けられた複数のフィルムチャックでフィルムの幅方向の両端を固定する方法が挙げられる。これらの操作により、フィルムのばたつきなどが抑制され、厚さムラや傷等の欠陥が十分に抑制された光学フィルムを得ることができる。また、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。フィルム両端の固定は、加熱工程が行われた後、適時解除されればよく、テンター炉内で行ってもよいし、テンター炉から搬出された後に行ってもよい。 As an example of the operation of fixing both ends of the film with the gripping device, a plurality of films provided so as to face each other in the width direction of the film at a timely time before being carried into the tenter furnace or after being carried into the tenter furnace. A method of fixing both ends of the film in the width direction with a chuck can be mentioned. By these operations, it is possible to obtain an optical film in which fluttering of the film is suppressed and defects such as thickness unevenness and scratches are sufficiently suppressed. In addition, it becomes easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above mathematical formulas (1) to (3). The fixing of both ends of the film may be performed in the tenter furnace or after being carried out from the tenter furnace, as long as it is released in a timely manner after the heating step is performed.

加熱工程に用いられるテンター炉のフィルム搬送方向の全長は、通常10〜100m、好ましくは15〜80m、より好ましくは15〜60mである。テンター炉は、その内部が1つの空間であってもよいし、複数の空間に分けられていてもよいが、本発明の実施形態では、加熱工程を行うテンター炉内部が、複数の空間に分けられているものを採用する。前記空間は、温度条件や風速条件等制御可能な空間であってよく、仕切り板等の物理的な境界を持たなくてもよい。テンター炉の内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムの搬送方向と、垂直又は平行に複数の空間に分けられていてもよい。空間の数は、通常2〜20個、好ましくは3〜18個、より好ましくは4〜15個、さらに好ましくは5〜10個である。テンター炉の内部構造によらず、テンター炉全体が加熱ゾーンとなってもよいし、内部の一部が加熱ゾーンとなっていてもよい。図4を参照し、ゾーン40、41及び42の3つが全て加熱ゾーンとなっていてもよいし、これらのうちの1つ、例えばゾーン42が加熱ゾーンとなっていてもよい。 The total length of the tenter furnace used in the heating step in the film transport direction is usually 10 to 100 m, preferably 15 to 80 m, and more preferably 15 to 60 m. The inside of the tenter furnace may be one space or may be divided into a plurality of spaces, but in the embodiment of the present invention, the inside of the tenter furnace in which the heating step is performed is divided into a plurality of spaces. Adopt what is being done. The space may be a space in which temperature conditions, wind speed conditions, etc. can be controlled, and may not have a physical boundary such as a partition plate. When the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, the inside of the tenter furnace may be divided into a plurality of spaces perpendicularly or parallel to the film transport direction. The number of spaces is usually 2 to 20, preferably 3 to 18, more preferably 4 to 15, and even more preferably 5 to 10. Regardless of the internal structure of the tenter furnace, the entire tenter furnace may be a heating zone, or a part of the inside may be a heating zone. With reference to FIG. 4, all three zones 40, 41, and 42 may be heating zones, or one of these, for example, zone 42, may be a heating zone.

テンター炉は、複数個用いることもできる。この場合のテンター炉の数は、特に限定されないが、例えば2〜12個とすることができる。各テンター炉の内部は、先に述べた構造であることができる。複数のテンター炉は、フィルムが外気に触れることなく搬送されるように連続して設置することができる。テンター炉を複数用いる場合、全てのテンター炉が加熱ゾーンとなってもよいし、一部のテンター炉が加熱ゾーンとなっていてもよい。また、テンター炉に加え、他の機器としてオーブンを併用してもよい。本明細書において、オーブンとは、フィルムを加熱できる機器を意味し、加熱炉及び乾燥炉を含む。加熱炉は、熱風処理又は輻射線処理のどちらでもよく、これらを併用する加熱炉でもよい。オーブンを併用する場合、オーブンの内部構造、使用する数及び加熱を行う条件は、本発明の光学フィルムを得られる範囲内で適宜調整すればよいが、本明細書に記載のテンター炉と同様とすることが好ましい。 A plurality of tenter furnaces can be used. The number of tenter furnaces in this case is not particularly limited, but may be, for example, 2 to 12. The inside of each tenter furnace can have the structure described above. The plurality of tenter furnaces can be continuously installed so that the film is conveyed without being exposed to the outside air. When a plurality of tenter furnaces are used, all the tenter furnaces may be in the heating zone, or some tenter furnaces may be in the heating zone. Further, in addition to the tenter furnace, an oven may be used in combination as another device. In the present specification, the oven means a device capable of heating a film, and includes a heating furnace and a drying furnace. The heating furnace may be either hot air treatment or radiation treatment, and may be a heating furnace in which these are used in combination. When an oven is used in combination, the internal structure of the oven, the number to be used, and the heating conditions may be appropriately adjusted within the range in which the optical film of the present invention can be obtained, but the same as in the tenter furnace described in the present specification. It is preferable to do so.

テンター炉内部の空気の循環と排気は、テンター炉の内部が複数の空間に分けられている場合は各空間で行われることが好ましく、テンター炉が複数ある場合は各テンター炉で行われることが好ましい。上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすい観点から、テンター炉内部の圧力は、テンター炉外の圧力に対してテンター炉内が陰圧となるように調整されていることが好ましい。テンター炉内部の温度は、テンター炉毎に調整できることが好ましく、テンター炉の内部が複数の空間に分けられている場合は各空間で独立に温度調整ができることが好ましい。それぞれの空間の温度設定は、同じであっても異なってもよい。ただし、それぞれのテンター炉又は空間の温度は、後述の温度範囲を満たすことが好ましい。 The circulation and exhaust of air inside the tenter furnace is preferably performed in each space when the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, and is performed in each tenter furnace when there are a plurality of tenter furnaces. preferable. From the viewpoint of facilitating the production of the optical film of the present invention satisfying the above formulas (1) to (3), the pressure inside the tenter furnace is set to be negative inside the tenter furnace with respect to the pressure outside the tenter furnace. It is preferable that the pressure is adjusted to. The temperature inside the tenter furnace is preferably adjustable for each tenter furnace, and when the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, it is preferable that the temperature can be adjusted independently in each space. The temperature settings for each space may be the same or different. However, it is preferable that the temperature of each tenter furnace or space satisfies the temperature range described later.

加熱工程が行われるテンター炉100は、少なくとも1つの空間において熱風処理方式で加熱工程が行われ、かつ少なくとも1つの空間において輻射線処理方式で加熱工程が行われる。加熱工程は、この工程が行われる全ての空間が熱風処理方式で行われることが好ましい。輻射線処理方式の加熱工程は、熱風処理方式とは別の空間で行われてもよいが、熱風処理方式と併用されて加熱工程が行われることが好ましい。 In the tenter furnace 100 in which the heating step is performed, the heating step is performed in at least one space by a hot air treatment method, and the heating step is performed in at least one space by a radiation treatment method. In the heating step, it is preferable that all the spaces where this step is performed are performed by a hot air treatment method. The heating step of the radiation treatment method may be performed in a space different from that of the hot air treatment method, but it is preferable that the heating step is performed in combination with the hot air treatment method.

熱風処理方式の加熱工程は、熱風を吹き出すノズルをテンター炉内に設置することで行うことができる。輻射線処理方式の加熱工程は、IRヒーターなどをテンター炉内に設置して輻射線をフィルムに当てることで行うことができる。 The heating process of the hot air treatment method can be performed by installing a nozzle for blowing hot air in the tenter furnace. The heating step of the radiation treatment method can be performed by installing an IR heater or the like in a tenter furnace and irradiating the film with radiation.

本発明の実施形態の一例として、ノズルを用いた熱風処理方式、及びIRヒーターを用いた輻射線処理方式について、ノズルを用いた熱風処理方式から順に以下に説明する。 As an example of the embodiment of the present invention, a hot air treatment method using a nozzle and a radiation treatment method using an IR heater will be described below in order from the hot air treatment method using a nozzle.

図4を参照し、加熱工程が行われるテンター炉100は、その内部の上面100aに、複数の上側ノズル46が設けられており、その内部の下面100bに、複数の下側ノズル47が設けられている。上側ノズル46と下側ノズル47とは、上下方向に対向するように設けられている。ノズルは、例えば、図4のゾーン42のように4対のノズル(計8本)を設けてもよいし、図4のゾーン41のように10対のノズル(計20本)を設けてもよく、オーブンの構造に応じて適宜設置することができる。隣り合うノズルの間隔は、テンター炉の構造を簡素化しつつ原料フィルムを均一に加熱する観点、及び、数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点から、好ましくは0.1〜1m、より好ましくは0.1〜0.5m、さらに好ましくは0.1〜0.3mである。 With reference to FIG. 4, in the tenter furnace 100 in which the heating step is performed, a plurality of upper nozzles 46 are provided on the inner upper surface 100a, and a plurality of lower nozzles 47 are provided on the inner lower surface 100b. ing. The upper nozzle 46 and the lower nozzle 47 are provided so as to face each other in the vertical direction. As the nozzles, for example, 4 pairs of nozzles (8 in total) may be provided as in the zone 42 of FIG. 4, or 10 pairs of nozzles (20 in total) may be provided as in the zone 41 of FIG. Well, it can be installed as appropriate depending on the structure of the oven. The distance between the adjacent nozzles is preferably 0 from the viewpoint of uniformly heating the raw material film while simplifying the structure of the tenter furnace and from the viewpoint of easily producing an optical film satisfying the formulas (1) to (3). It is 1 to 1 m, more preferably 0.1 to 0.5 m, still more preferably 0.1 to 0.3 m.

テンター炉の内部が複数の区間に区分される場合、各空間に設けられる熱風吹き出し用のノズルの本数は、通常5〜30本とすることができる。上記の数式を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすい観点から、ノズルの本数は8〜20本であることが好ましい。ノズル本数が前記の範囲にあるとフローティングしているフィルムの曲率が大きくなりすぎにくい傾向があり、またフィルムがノズルの間で浮き易い、すなわちフローティングし易い傾向がある。 When the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of sections, the number of hot air blowing nozzles provided in each space can usually be 5 to 30. From the viewpoint of facilitating the production of the optical film of the present invention satisfying the above formula, the number of nozzles is preferably 8 to 20. When the number of nozzles is in the above range, the curvature of the floating film tends to be too large, and the film tends to float between the nozzles, that is, to float easily.

テンター炉100の上面100aに設けられた上側ノズル46は、下部に吹き出し口を有しており、下方向(矢印B方向)に熱風を吹き出すことができる。一方、テンター炉100の下面にそれぞれ設けられた下側ノズル47は、上部に吹き出し口を有しており、上方向(矢印C方向)に熱風を吹き出すことができる。なお、図4には示していないが、上側ノズル46及び下側ノズル47は、原料フィルムを幅方向に均一に加熱することができるように、図4の紙面に垂直方向に所定のサイズの奥行きを有している。ここで、ノズルの向きをフィルム面に対して横向きに設定することも考えらえられるが、その場合、理由は明らかではないが、数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造することは難しい。 The upper nozzle 46 provided on the upper surface 100a of the tenter furnace 100 has an outlet at the lower portion, and can blow hot air in the downward direction (arrow B direction). On the other hand, the lower nozzles 47 provided on the lower surface of the tenter furnace 100 each have an outlet at the upper portion, and can blow hot air in the upward direction (arrow C direction). Although not shown in FIG. 4, the upper nozzle 46 and the lower nozzle 47 have a depth of a predetermined size in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4 so that the raw material film can be uniformly heated in the width direction. have. Here, it is conceivable to set the nozzle orientation sideways with respect to the film surface, but in that case, although the reason is not clear, an optical film satisfying the mathematical formulas (1) to (3) is manufactured. It's difficult.

本実施形態の光学フィルムの製造方法では、加熱ゾーンに設けられた全ての上側ノズル46及び全ての下側ノズル47からの吹き出し口における熱風の吹き出し風速は、好ましくは2〜25m/秒である。吹き出し風速は、上記の数式を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、また、光学フィルムの光学的な均一性を高めやすい観点から、より好ましくは2〜23m/秒、さらに好ましくは8〜20m/秒である。また、原料フィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たり、ノズル46又は47の一本当たりの吹き出し口からの吹き出し風量は、同様の観点から、好ましくは0.1〜3m/秒、より好ましくは0.1〜2.5m/秒、さらに好ましくは0.2〜2m/秒である。 In the method for producing an optical film of the present embodiment, the blowing air velocity of hot air at the outlets from all the upper nozzles 46 and all the lower nozzles 47 provided in the heating zone is preferably 2 to 25 m / sec. The blown wind speed is more preferably 2 to 23 m / sec, still more preferably 8 to 8 to 23 m / sec, from the viewpoint of easily producing the optical film of the present invention satisfying the above formula and easily increasing the optical uniformity of the optical film. It is 20 m / sec. Further, from the same viewpoint, the amount of air blown from the outlet of each nozzle 46 or 47 per 1 m of nozzle length along the width direction of the raw material film is preferably 0.1 to 3 m 3 / sec. It is more preferably 0.1 to 2.5 m 3 / sec, and even more preferably 0.2 to 2 m 3 / sec.

また、前記条件で加熱工程を行うと、上記の数式を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすいと共に、均一に加熱されるため、フィルム中に残る溶媒量のばらつきが小さくなり、フィルム全面でより均一な弾性率の光学フィルムが得られやすい。したがって、フィルム全面において屈曲性のばらつきが生じにくく、フィルム面における屈曲性の違いに起因する破損が生じるのを抑制できる。 Further, when the heating step is performed under the above conditions, it is easy to produce the optical film of the present invention satisfying the above formula, and since the film is uniformly heated, the variation in the amount of solvent remaining in the film is small, and the entire surface of the film is covered. It is easy to obtain an optical film with a more uniform elastic modulus. Therefore, variation in flexibility is unlikely to occur on the entire surface of the film, and damage due to the difference in flexibility on the film surface can be suppressed.

テンター炉内では、原料フィルム44が室温から原料フィルムに含まれる溶媒が蒸発する温度まで加熱されるが、原料フィルムの幅方向の長さがほとんど変わらないように把持装置43で保持されているため、熱膨張により垂れやすくなる傾向にある。吹き出し風速及び吹き出し風量が、前記の範囲であると、原料フィルム44を十分に加熱することができ、且つ原料フィルム44の垂れやばたつきを抑制することができる。 In the tenter furnace, the raw material film 44 is heated from room temperature to a temperature at which the solvent contained in the raw material film evaporates, but the length of the raw material film in the width direction is held by the gripping device 43 so as to be almost unchanged. , It tends to hang down easily due to thermal expansion. When the blown air velocity and the blown air volume are within the above ranges, the raw material film 44 can be sufficiently heated, and the raw material film 44 can be suppressed from sagging or fluttering.

熱風の吹き出し風速は、ノズル46、47の熱風吹き出し口において、市販の熱式風速計を用いて測定することができる。また、吹き出し口からの吹き出し風量は、吹き出し風速と吹き出し口の面積との積により求めることができる。なお、熱風の吹き出し風速は、測定精度の観点から、各ノズルの吹き出し口で10点程度の測定を行い、その平均値とすることが好ましい。 The hot air blowing speed can be measured at the hot air outlets of the nozzles 46 and 47 using a commercially available hot anemometer. Further, the amount of air blown out from the air outlet can be obtained by the product of the air velocity of the air blown out and the area of the air outlet. From the viewpoint of measurement accuracy, the hot air blowing air velocity is preferably measured at about 10 points at the blowing port of each nozzle and used as the average value.

熱風の吹き出し風速及び吹き出し風量は、製造する光学フィルムの物性(光学特性、機械的物性など)によって、適宜調整してもよいが、いずれの形態においても前記の範囲内にあることが好ましい。これによって、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、該光学フィルムの耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。加熱ゾーンは、全ての加熱ゾーンにおいて、吹き出し風速が25m/秒以下で吹き出し風量が2m/秒以下であることがより好ましい。 The blown air velocity and the blown air volume of the hot air may be appropriately adjusted depending on the physical properties (optical characteristics, mechanical properties, etc.) of the optical film to be manufactured, but it is preferable that the blown air velocity and the blown air volume are within the above ranges in any form. As a result, it is easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above mathematical formulas (1) to (3), and it is easy to improve the visibility in the wide angle direction after the bending resistance test of the optical film. As the heating zone, it is more preferable that the blowing air velocity is 25 m / sec or less and the blowing air volume is 2 m 3 / sec or less in all the heating zones.

本実施形態では、テンター炉100内に原料フィルム44を導入しない状態において、原料フィルム44が保持されるべき位置における熱風の風速は、好ましくは5m/秒以下であり、少なくとも加熱ゾーンにおいてこのような風速であることがより好ましい。このような熱風を用いて原料フィルム44を加熱することによって、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、該光学フィルムの耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。 In the present embodiment, the wind speed of the hot air at the position where the raw material film 44 should be held is preferably 5 m / sec or less in a state where the raw material film 44 is not introduced into the tenter furnace 100, and at least in the heating zone, such The wind speed is more preferable. By heating the raw material film 44 with such hot air, it is easy to produce the optical film of the present invention satisfying the above mathematical formulas (1) to (3), and after the bending resistance test of the optical film. It is easy to improve visibility in the wide-angle direction.

加熱ゾーンにおいて、それぞれのノズル46、47の吹き出し口における熱風の吹き出し風速の幅方向(図4の紙面に垂直な方向)における最大値と最小値との差は、好ましくは4m/秒以下である。このように幅方向に風速のばらつきが少ない熱風を用いることによって、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、該光学フィルムの耐屈曲性試験後の広角方向の視認性を高めやすい。 In the heating zone, the difference between the maximum value and the minimum value in the width direction (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4) of the hot air blowing air velocity at the outlets of the nozzles 46 and 47 is preferably 4 m / sec or less. .. By using hot air having little variation in wind speed in the width direction in this way, it is easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the above formulas (1) to (3), and after the bending resistance test of the optical film. It is easy to improve the visibility in the wide angle direction.

本実施形態において、フィルムに吹き付けられる熱風の風速は、オーブンに搬入された直後の風速が、オーブン内の他の搬送経路の風速よりも大きくなっていることが好ましい。オーブンに搬入された直後(以下「搬送経路1」と称する)とは、オーブンの内部が複数に区切られていない場合は、オーブン搬入口からオーブン長さ(オーブンの搬入口から搬出口までの長さ)の1/10未満の距離をいう。搬送経路1は、オーブンの内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムが最初に通過する空間をいう。オーブンが複数使用される場合は、最初に使用されるオーブンの内部構造により先の記載と同様であってもよいし、最初に通過するオーブンが2つ目以降のオーブン内の風速よりも大きく設定されていることでもよい。 In the present embodiment, it is preferable that the wind speed of the hot air blown on the film is higher than the wind speed of the other transport paths in the oven immediately after being carried into the oven. Immediately after being delivered to the oven (hereinafter referred to as "transport path 1"), if the inside of the oven is not divided into multiple parts, the length from the oven inlet to the oven length (the length from the oven inlet to the outlet) It means a distance less than 1/10 of the above. The transport path 1 refers to the space through which the film first passes when the inside of the oven is divided into a plurality of spaces. When multiple ovens are used, the internal structure of the oven used first may be the same as described above, or the oven passed first may be set higher than the wind speed in the second and subsequent ovens. It may be done.

他の搬送経路とは、オーブンの内部が複数に区切られていない場合は、オーブン搬入口からオーブン長さの1/10以降にある搬送経路部をいう。オーブンの内部が複数の空間に分けられている場合は、フィルムが通過する2つ目以降にある任意の空間をいう。オーブンが複数使用される場合は、最初に使用されるオーブンの内部構造により先の記載と同様であってもよいし、2つ目以降のオーブンで任意のオーブン内の風速が最初に通過するオーブンよりも風速が小さく設定されていることでもよい。 The other transport path means a transport path portion located at 1/10 or more of the oven length from the oven carry-in port when the inside of the oven is not divided into a plurality of sections. When the inside of the oven is divided into a plurality of spaces, it means an arbitrary space in the second and subsequent spaces through which the film passes. When multiple ovens are used, the internal structure of the oven used first may be the same as described above, or the second and subsequent ovens may be the oven through which the wind speed in any oven passes first. The wind speed may be set lower than that.

搬送経路1の風速とオーブン内の他の搬送経路の風速との差は、好ましくは0.1〜15m/秒の範囲である。前記風速の差は、より好ましくは0.2m/秒以上であり、また、より好ましくは12m/秒以下、さらに好ましくは8m/秒以下、さらにより好ましくは5m/秒以下、とりわけ好ましくは3m/秒以下である。風速の差が前記範囲となるようにオーブン搬入直後の風速をオーブン内の他の搬送経路の風速よりも大きくすると、より効率よくフィルム中の溶媒を除去することができる傾向にある。風速の差が大きすぎると、風速差に起因するフィルムのばたつきが生じることがあり、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムが製造しにくい場合がある。また、得られる光学フィルムの表面形状の欠陥又は位相差等の光学特性のばらつきの原因となる可能性がある。 The difference between the wind speed of the transport path 1 and the wind speed of the other transport paths in the oven is preferably in the range of 0.1 to 15 m / sec. The difference in wind speed is more preferably 0.2 m / sec or more, more preferably 12 m / sec or less, still more preferably 8 m / sec or less, still more preferably 5 m / sec or less, and particularly preferably 3 m / sec. Less than a second. When the wind speed immediately after being brought into the oven is made larger than the wind speed of other transport paths in the oven so that the difference in wind speed is within the above range, the solvent in the film tends to be removed more efficiently. If the difference in wind speed is too large, the film may flutter due to the difference in wind speed, and it may be difficult to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above formulas (1) to (3). In addition, it may cause a defect in the surface shape of the obtained optical film or a variation in optical characteristics such as a phase difference.

搬送経路1の風速とオーブン内の他の搬送経路の風速との差は、搬送経路1に設置されているノズルからの熱風の吹き出し風速と他の搬送経路に設置されているノズルからの熱風の吹き出し風速との差として求めることができる。フィルムに吹き付けられる熱風の風速とノズルからの熱風の吹き出し風速に2m/秒以上の差がある場合は、搬送経路1及び他の搬送経路のそれぞれにおけるフィルム付近の熱風の風速の差として求めてもよい。 The difference between the wind speed of the transport path 1 and the wind speed of the other transport paths in the oven is that of the hot air blown out from the nozzles installed in the transport path 1 and the hot air from the nozzles installed in the other transport paths. It can be calculated as the difference from the blown wind speed. If there is a difference of 2 m / sec or more between the wind speed of the hot air blown onto the film and the wind speed of the hot air blown out from the nozzle, it can be calculated as the difference in the wind speed of the hot air near the film in each of the transport paths 1 and other transport paths. good.

他の搬送経路は、搬送経路1の次に位置する搬送経路(以下「搬送経路2」と称する)であることが好ましい。搬送経路2は、オーブンの内部が複数に区切られていない場合、オーブン搬入口からオーブン長さの2/10に位置する搬送経路部をいう。搬送経路2は、オーブンの内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムが通過する2つ目の空間をいう。オーブンが複数使用される場合は、最初に使用されるオーブンの内部構造により先の記載と同様であってもよいし、2つ目のオーブンの風速が最初に通過するオーブンよりも小さく設定されていることでもよい。 The other transport route is preferably a transport route (hereinafter referred to as “transport route 2”) located next to the transport route 1. The transport path 2 refers to a transport path portion located at 2/10 of the oven length from the oven carry-in port when the inside of the oven is not divided into a plurality of parts. The transport path 2 refers to a second space through which the film passes when the inside of the oven is divided into a plurality of spaces. If more than one oven is used, the internal structure of the first oven may be similar to the one described above, or the wind speed of the second oven may be set lower than the first oven to pass through. It may be.

搬送経路1と搬送経路2との風速の差が前記のように設定されている場合、搬送経路2以降の搬送経路の風速は、前記熱風の吹き出し風速の範囲内であればよい。搬送経路2以降の搬送経路の風速は、搬送経路1又は搬送経路2のそれぞれの風速と、0.1〜12m/秒の風速の差であることが好ましく、0.2〜8m/秒の風速の差であることがより好ましい。このような範囲の風速の差であれば、風速差に起因するフィルムのばたつきを抑制でき、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすく、また、得られる光学フィルムの重量減少率を所望の範囲に調整しやすい傾向にある。 When the difference in wind speed between the transport path 1 and the transport path 2 is set as described above, the wind speed of the transport path after the transport path 2 may be within the range of the blown wind speed of the hot air. The wind speed of the transport path after the transport path 2 is preferably the difference between the wind speeds of the transport path 1 or the transport path 2 and the wind speed of 0.1 to 12 m / sec, and the wind speed is 0.2 to 8 m / sec. It is more preferable that the difference is. If the difference in wind speed is within such a range, the fluttering of the film due to the difference in wind speed can be suppressed, and the optical film of the present invention satisfying the above formulas (1) to (3) can be easily manufactured, and the optical film of the present invention can be easily manufactured. There is a tendency that the weight reduction rate of the obtained optical film can be easily adjusted within a desired range.

前記風速の差は、オーブンの内部が複数の空間に分かれていない場合はノズルを設ける位置、ノズルの熱風の吹き出し速度及び風量、オーブン内の気流の流れなどを調整することで調整すればよい。オーブンの内部が複数の空間に分かれている場合は、最初の空間とそれ以降の空間で、ノズルを設ける位置、ノズルの熱風の吹き出し速度及び風量、オーブン内の気流の流れなどを調整することで調整すればよい。複数のオーブンを用いる場合は、最初のオーブンの構造によって、先の記載と同様に行ってもよいし、最初のオーブンと2つめ以降のオーブンとで風速が異なるように、ノズルを設ける位置、ノズルの熱風の吹き出し速度及び風量、オーブン内の気流などを設定すればよい。 When the inside of the oven is not divided into a plurality of spaces, the difference in wind speed may be adjusted by adjusting the position where the nozzle is provided, the blowing speed and volume of hot air from the nozzle, the flow of airflow in the oven, and the like. If the inside of the oven is divided into multiple spaces, adjust the position where the nozzle is installed, the speed and volume of hot air from the nozzle, the flow of airflow in the oven, etc. in the first space and the space after that. You just have to adjust. When using multiple ovens, depending on the structure of the first oven, the same procedure as described above may be performed, or the position and nozzle where the nozzles are provided so that the wind speed differs between the first oven and the second and subsequent ovens. The blowing speed and volume of hot air, the air flow in the oven, etc. may be set.

テンター炉100における加熱ゾーンにおいて、互いに対向する上側ノズル46と下側ノズル47との間隔L(最短距離)は、好ましくは150mm以上、より好ましくは150〜600mm、さらに好ましくは150〜400mmである。このような間隔Lで上側ノズルと下側ノズルを配置することによって、各工程におけるフィルムのばたつきを一層確実に抑制することができ、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 In the heating zone of the tenter furnace 100, the distance L (shortest distance) between the upper nozzle 46 and the lower nozzle 47 facing each other is preferably 150 mm or more, more preferably 150 to 600 mm, still more preferably 150 to 400 mm. By arranging the upper nozzle and the lower nozzle at such an interval L, the fluttering of the film in each step can be suppressed more reliably, and the present invention satisfying the above formulas (1) to (3). It becomes easier to manufacture the optical film of.

また、加熱ゾーンに設けられたそれぞれのノズル46、47の吹き出し口における熱風の幅方向(図4の紙面に垂直方向)における最高温度と最低温度との差(ΔT)は、好ましくは全て2℃以下、より好ましくは全て1℃以下である。このように幅方向における温度差が十分に小さい熱風を用いてフィルムを加熱することによって、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。なお、熱風の温度は、好ましくは150〜400℃、より好ましくは150〜300℃、さらに好ましくは150〜250℃である。 Further, the difference (ΔT) between the maximum temperature and the minimum temperature in the width direction of hot air (perpendicular to the paper surface in FIG. 4) at the outlets of the nozzles 46 and 47 provided in the heating zone is preferably all 2 ° C. Below, more preferably, all are 1 ° C. or less. By heating the film with hot air having a sufficiently small temperature difference in the width direction in this way, it becomes easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the above formulas (1) to (3). The temperature of the hot air is preferably 150 to 400 ° C, more preferably 150 to 300 ° C, and even more preferably 150 to 250 ° C.

光学フィルムの製造方法で使用できるノズルとしては、一般にフィルムの製造装置に用いられるノズルを使用することができ、その例として、原料フィルムの幅方向に伸びるスリット状の吹き出し口を有するノズルをジェットノズル(スリットノズルとも言う)、及び開口を原料フィルムの搬送方向及び原料フィルムの幅方向にそれぞれ複数配置した吹き出し口を有するノズルをパンチングノズル(多孔ノズルとも言う)が挙げられる。 As a nozzle that can be used in the optical film manufacturing method, a nozzle generally used in a film manufacturing apparatus can be used. As an example, a nozzle having a slit-shaped outlet extending in the width direction of the raw material film is a jet nozzle. (Also referred to as a slit nozzle), and a nozzle having a plurality of outlets arranged in the transport direction of the raw material film and the width direction of the raw material film, respectively, is a punching nozzle (also referred to as a perforated nozzle).

ノズルは、テンター炉100内の上面100aに設けられて下向きにフィルムに向けて熱風を吹き出す構造、及びテンター炉100内の下面100bに設けられて、上向きにフィルムに向けて熱風を吹き出す構造となっている。 The nozzle is provided on the upper surface 100a in the tenter furnace 100 and blows hot air downward toward the film, and is provided on the lower surface 100b in the tenter furnace 100 and blows hot air upward toward the film. ing.

ジェットノズルは、フィルムの幅方向にのびるスリットを熱風の吹き出し口として有する。スリットのスリット幅は、好ましくは5mm以上、より好ましくは5〜20mmである。スリット幅を5mm以上にすることによって、得られる光学フィルムの光学的な均一性をより向上させることができる。なお、ジェットノズル一本当たりの吹き出し口の面積は、ジェットノズルのノズルの幅方向の長さとスリット幅との積によって求めることができる。このノズル一本当たりの吹き出し口の面積と吹き出し風速との積が、ノズル一本当たりの熱風の吹き出し風量となる。この熱風の吹き出し風量を、フィルムの幅方向に沿ったスリットの長さで割ることによって、フィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たりの熱風の吹き出し風量を求めることができる。 The jet nozzle has a slit extending in the width direction of the film as a hot air outlet. The slit width of the slit is preferably 5 mm or more, more preferably 5 to 20 mm. By setting the slit width to 5 mm or more, the optical uniformity of the obtained optical film can be further improved. The area of the outlet per jet nozzle can be obtained by the product of the length of the jet nozzle in the width direction and the slit width. The product of the area of the blowout port per nozzle and the blowout air velocity is the amount of hot air blown out per nozzle. By dividing the amount of hot air blown out by the length of the slit along the width direction of the film, the amount of hot air blown out per 1 m of nozzle length along the width direction of the film can be obtained.

パンチングノズルは、その長手方向に垂直な断面が、長方形の形状を有しているもの又は原料フィルム44に対向する面に向かって末広がり状である台形形状であることができる。パンチングノズルは、フィルムと対向する面である下側の面に複数の開口(例えば円形の開口)を有する。パンチングノズルの熱風の吹き出し口は、吹き出し面に設けられる複数の開口によって構成される。複数の開口は熱風の吹き出し口であり、熱風は開口から所定の風速で吹き出される。開口は、フィルムの長手方向に複数配置されるとともに、幅方向にも複数配置されている。開口は、例えば千鳥状に配置することができる。 The punching nozzle may have a rectangular shape or a trapezoidal shape whose cross section perpendicular to the longitudinal direction is divergent toward the surface facing the raw material film 44. The punching nozzle has a plurality of openings (for example, circular openings) on the lower surface, which is the surface facing the film. The hot air outlet of the punching nozzle is composed of a plurality of openings provided on the outlet surface. The plurality of openings are outlets for hot air, and the hot air is blown out from the openings at a predetermined wind speed. A plurality of openings are arranged in the longitudinal direction of the film, and a plurality of openings are also arranged in the width direction. The openings can be arranged in a staggered pattern, for example.

パンチングノズルの一本当たりの吹き出し口の面積は、一本のパンチングノズルに設けられる全ての開口の面積の和によって求めることができる。このノズル一本当たりの吹き出し口の面積と吹き出し風速との積が、ノズル一本当たりの熱風の吹き出し風量となる。この熱風の吹き出し風量を、フィルムの幅方向に沿ったスリットの長さで割ることによって、フィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たりの熱風の吹き出し風量を求めることができる。 The area of the outlet per punching nozzle can be obtained by the sum of the areas of all the openings provided in one punching nozzle. The product of the area of the blowout port per nozzle and the blowout air velocity is the amount of hot air blown out per nozzle. By dividing the amount of hot air blown out by the length of the slit along the width direction of the film, the amount of hot air blown out per 1 m of nozzle length along the width direction of the film can be obtained.

パンチングノズルを用いる場合の、ノズルの吹き出し口における熱風の幅方向における最大吹き出し風速と最小吹き出し風速との差とは、同一ノズル上に設けられる複数の開口から吹き出される熱風の最大吹き出し速度と最小吹き出し速度との差として求めることができる。ノズルの吹き出し口における熱風の幅方向における最高温度と最低温度との差も同様に求めることができる。 When a punching nozzle is used, the difference between the maximum blowing air velocity and the minimum blowing air velocity in the width direction of the hot air at the nozzle outlet is the maximum blowing speed and the minimum blowing speed of the hot air blown out from a plurality of openings provided on the same nozzle. It can be obtained as the difference from the blowing speed. Similarly, the difference between the maximum temperature and the minimum temperature in the width direction of the hot air at the outlet of the nozzle can be obtained.

テンター炉100内に設けられるノズルの全てがパンチングノズルであると、テンター炉100全体における熱風吹き出し口の面積の合計を大きくすることができる。このため、フィルムにあたる熱風の風圧を小さくすることができ、フィルムのばたつきを一層小さくすることができる。これにより、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすい。テンター炉内又は加熱ゾーンでは、原料フィルム44が室温から原料フィルムに含まれる溶媒が蒸発する温度まで加熱されるが、原料フィルム44の幅方向の長さがほとんど変わらないように把持装置43で保持されているため、熱膨張により垂れやすくなる傾向にある。加熱ゾーンにパンチングノズルを用いることにより、原料フィルム44の垂れやばたつきを一層抑制することができ、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 If all the nozzles provided in the tenter furnace 100 are punching nozzles, the total area of the hot air outlets in the entire tenter furnace 100 can be increased. Therefore, the wind pressure of the hot air that hits the film can be reduced, and the fluttering of the film can be further reduced. This makes it easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above mathematical formulas (1) to (3). In the tenter furnace or in the heating zone, the raw material film 44 is heated from room temperature to a temperature at which the solvent contained in the raw material film evaporates, but is held by the gripping device 43 so that the length of the raw material film 44 in the width direction is almost unchanged. Therefore, it tends to hang down easily due to thermal expansion. By using the punching nozzle in the heating zone, it is possible to further suppress the sagging and fluttering of the raw material film 44, and it becomes easy to manufacture the optical film of the present invention satisfying the above formulas (1) to (3).

パンチングノズルの面に設けられる開口のそれぞれのサイズ及び数は、各開口における熱風の吹き出し風速が2〜25m/秒となり、且つそれぞれのノズルからの吹き出し風量がフィルムの幅方向に沿ったノズルの長さ1m当たり0.1〜3m/秒となる範囲内で適宜調整することができる。 The size and number of openings provided on the surface of the punching nozzle are such that the hot air blown air velocity at each opening is 2 to 25 m / sec, and the blown air volume from each nozzle is the length of the nozzle along the width direction of the film. It can be appropriately adjusted within the range of 0.1 to 3 m 3 / sec per 1 m.

パンチングノズルの各開口からの吹き出し風速をより均一にする観点から、開口の形状は、円形であることが好ましい。この場合、開口の直径は、好ましくは2〜10mm、より好ましくは3〜8mmである。 From the viewpoint of making the blowing air velocity from each opening of the punching nozzle more uniform, the shape of the opening is preferably circular. In this case, the diameter of the opening is preferably 2 to 10 mm, more preferably 3 to 8 mm.

パンチングノズルを用いる場合、ノズル一本当たりの面のフィルム搬送方向の長さは、好ましくは50〜300mmである。さらに隣接するパンチングノズルとの間隔は、好ましくは0.3m以下である。また、パンチングノズルのフィルム幅方向の長さに対するパンチングノズルの開口の面積の総和(吹き出し口の面積)の比(パンチングノズルの開口の面積の総和(m)/パンチングノズルのフィルム幅方向の長さ(m))は、好ましくは0.008m以上である。 When a punching nozzle is used, the length of the surface per nozzle in the film transport direction is preferably 50 to 300 mm. Further, the distance from the adjacent punching nozzle is preferably 0.3 m or less. Further, the ratio of the total area of the punching nozzle openings (the area of the outlet) to the length of the punching nozzle in the film width direction (the total area of the punching nozzle openings (m 2 ) / the length of the punching nozzle in the film width direction). (M)) is preferably 0.008 m or more.

このようなパンチングノズルを用いることにより、熱風の吹き出し口の面積を大きくすることができる。これにより、熱風の風速を十分に下げ、かつ十分な風量で熱風を吹き出すことが可能となり、フィルムをより均一に加熱することができる。その結果、上記の数式(1)〜数式(3)を満足する本発明の光学フィルムを製造しやすくなる。 By using such a punching nozzle, the area of the hot air outlet can be increased. This makes it possible to sufficiently reduce the wind speed of the hot air and blow out the hot air with a sufficient amount of air, so that the film can be heated more uniformly. As a result, it becomes easy to manufacture the optical film of the present invention that satisfies the above mathematical formulas (1) to (3).

加熱工程が行われるテンター炉100は、ノズルと同様に、その内部の上面100a又はその内部の下面100bにIRヒーターが設けられており、上下方向に対向するように設けられていてもよい。また、IRヒーターは、複数設けられてもよい。IRヒーターとしては、一般にフィルムの製造装置に用いられるIRヒーターを用いればよい。 Like the nozzle, the tenter furnace 100 in which the heating step is performed is provided with an IR heater on the upper surface 100a inside the furnace or the lower surface 100b inside the tenter furnace 100, and may be provided so as to face each other in the vertical direction. Further, a plurality of IR heaters may be provided. As the IR heater, an IR heater generally used in a film manufacturing apparatus may be used.

フィルムに当てる輻射線としては、その波長が3〜7μmの熱線であることが好ましい。また、輻射線処理方式では、加熱工程が行われる空間の温度が前記の温度範囲内となれば、空間の温度よりも30℃以上高い温度の輻射線を原料フィルムに当ててもよい。 The radiation beam applied to the film is preferably a heat ray having a wavelength of 3 to 7 μm. Further, in the radiation treatment method, if the temperature of the space where the heating step is performed is within the above temperature range, radiation at a temperature higher than the temperature of the space by 30 ° C. or more may be applied to the raw material film.

本発明の実施形態では、加熱工程が行われるテンター炉100において、前記ノズル(熱風処理方式)とIRヒーター(輻射線処理方式)とが併用されることが好ましい。その場合は、隣り合うノズルの間か又はノズルとテンター炉の内部壁(空間を仕切る壁も含む)との間に、IRヒーターを設置すればよい。 In the embodiment of the present invention, it is preferable that the nozzle (hot air treatment method) and the IR heater (radiation ray treatment method) are used in combination in the tenter furnace 100 in which the heating step is performed. In that case, an IR heater may be installed between adjacent nozzles or between the nozzles and the inner wall of the tenter furnace (including the wall that partitions the space).

この場合、加熱工程が行われる空間の温度が前記の温度範囲内であればよく、輻射線処理方式では、空間の温度よりも高い温度の輻射線をフィルムに当ててもよい。輻射線の温度は、例えば、空間の温度よりも30℃以上高い温度でもよいし、150℃以上高い温度であってもよい。ここで、輻射線の温度とは、例えばIRヒーターの設定温度のように放射熱を出す機器で設定する温度を指す。輻射線の温度と、フィルムに当たる輻射線の温度との差は、好ましくは5℃以下、より好ましくは3℃以下、さらに好ましくは1℃以下である。 In this case, the temperature of the space where the heating step is performed may be within the above temperature range, and in the radiation processing method, radiation at a temperature higher than the temperature of the space may be applied to the film. The temperature of the radiation ray may be, for example, a temperature higher than the temperature of the space by 30 ° C. or more, or a temperature higher than the temperature of the space by 150 ° C. or more. Here, the temperature of the radiant ray refers to a temperature set by a device that emits radiant heat, such as a set temperature of an IR heater. The difference between the temperature of the radiant ray and the temperature of the radiant ray hitting the film is preferably 5 ° C. or lower, more preferably 3 ° C. or lower, still more preferably 1 ° C. or lower.

テンター炉100において、ノズル(熱風処理方式)とIRヒーター(輻射線処理方式)とが併用されると、加熱ゾーン又はテンター炉内の温度(雰囲気の温度)より高温の輻射線を原料フィルムに当てるにもかかわらず、加熱ゾーン又はテンター炉内の温度が高くなりすぎるのを抑制しながら加熱工程を行うことができる。 In the tenter furnace 100, when a nozzle (hot air treatment method) and an IR heater (radiation ray treatment method) are used in combination, radiation rays higher than the temperature in the heating zone or the tenter furnace (atmospheric temperature) are applied to the raw material film. Nevertheless, the heating step can be performed while suppressing the temperature in the heating zone or the tenter furnace from becoming too high.

熱風処理方式と輻射線処理方式とを併用する加熱工程は、テンター炉内の加熱工程が行われる複数の空間のうち、原料フィルムが最初に通過する空間からテンター炉の全長の中間程度に位置する空間までの間に行われることが好ましい。これにより、加熱工程に要する時間を短縮できるだけでなく、面内位相差の均一性により優れた光学フィルムを製造することができる。 The heating process that uses both the hot air treatment method and the radiant ray treatment method is located in the middle of the total length of the tenter furnace from the space where the raw material film first passes among the multiple spaces in which the heating process is performed in the tenter furnace. It is preferable that it is performed before the space. As a result, not only the time required for the heating step can be shortened, but also an optical film having more excellent uniformity of in-plane phase difference can be manufactured.

加熱工程は、好ましくは150〜350℃の範囲で行われる。本発明の実施形態において加熱工程がこの温度範囲であると、原料フィルムが後述の重量減少率Mとなるように調整しやすい傾向にある。この温度範囲は、より好ましくは170℃以上、さらに好ましくは180℃以上であり、より好ましくは300℃以下、さらに好ましくは250℃以下、とりわけ好ましくは230℃以下である。加熱工程の温度が前記の範囲にあると、得られる光学フィルムのYI値を上記の好ましい範囲内に調整しやすい。また、加熱工程が行われる空間の温度は、より好ましくは170℃以上、さらに好ましくは180℃以上である。加熱工程が行われるテンター炉内の温度は、加熱ゾーンが前記の範囲であればよい。テンター炉が複数ある場合及びテンター炉内が複数の空間に分けられている場合は、適宜調整することができるが、全てのテンター炉又は空間が前記範囲内にあることが好ましい。 The heating step is preferably carried out in the range of 150 to 350 ° C. In the embodiment of the present invention, when the heating step is in this temperature range, the raw material film tends to be easily adjusted so as to have the weight loss rate M described later. This temperature range is more preferably 170 ° C. or higher, further preferably 180 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or lower, still more preferably 250 ° C. or lower, and particularly preferably 230 ° C. or lower. When the temperature of the heating step is in the above range, the YI value of the obtained optical film can be easily adjusted within the above preferable range. The temperature of the space where the heating step is performed is more preferably 170 ° C. or higher, still more preferably 180 ° C. or higher. The temperature in the tenter furnace in which the heating step is performed may be such that the heating zone is in the above range. When there are a plurality of tenter furnaces or when the inside of the tenter furnace is divided into a plurality of spaces, adjustments can be made as appropriate, but it is preferable that all the tenter furnaces or spaces are within the above range.

テンター炉100内の原料フィルム44の移動速度は、通常0.1〜50m/分の範囲内で適宜調整することができる。前記移動速度の上限は、好ましくは、20m/分、より好ましくは15m/分である。前記移動速度の下限は、好ましくは0.2m/分、より好ましくは0.5m/分、さらに好ましくは0.7m/分、とりわけ好ましくは0.8m/分である。移動速度が速いと、所望の乾燥時間を確保するために、テンター炉長が長くなってしまい、設備が大きくなる傾向になる。本発明の実施形態において、テンター炉100内の原料フィルム44の移動速度が前記範囲であると、原料フィルムが後述の重量減少率Mとなるように調整しやすい傾向にある。また、数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい。 The moving speed of the raw material film 44 in the tenter furnace 100 can be appropriately adjusted within the range of usually 0.1 to 50 m / min. The upper limit of the moving speed is preferably 20 m / min, more preferably 15 m / min. The lower limit of the moving speed is preferably 0.2 m / min, more preferably 0.5 m / min, still more preferably 0.7 m / min, and particularly preferably 0.8 m / min. If the moving speed is high, the length of the tenter furnace becomes long in order to secure the desired drying time, and the equipment tends to become large. In the embodiment of the present invention, when the moving speed of the raw material film 44 in the tenter furnace 100 is within the above range, the raw material film tends to be easily adjusted to have the weight reduction rate M described later. Further, it is easy to manufacture an optical film satisfying the mathematical formulas (1) to (3).

加熱工程の処理時間は、通常60秒〜2時間、好ましくは10分〜1時間である。処理時間は、前記のテンター炉の温度、移動速度、熱風の風速及び風量などの条件を考慮して、適宜調整すればよい。 The treatment time of the heating step is usually 60 seconds to 2 hours, preferably 10 minutes to 1 hour. The processing time may be appropriately adjusted in consideration of conditions such as the temperature of the tenter furnace, the moving speed, the wind speed of hot air, and the air volume.

本発明の一実施形態において、光学フィルムの製造方法は、加熱工程中にフィルムの幅を変える操作又はフィルム幅を保持して搬送する操作を行ってもよい。フィルムの幅を変える操作の例としては、フィルムを幅方向に延伸させる操作が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは0.7〜1.3倍、より好ましくは0.8〜1.2倍、さらに好ましくは0.8〜1.1倍である。フィルム幅を保持して搬送する操作の例としては、フィルムの幅方向の長さがほとんど変わらないように保持する操作が挙げられる。これらの操作を経て得た光学フィルムは、原料フィルムの幅方向の長さに対し、0.7〜1.3倍程度の長さとすることができ、原料フィルムの幅方向の長さから延伸、等倍又は収縮した長さであってもよい。延伸倍率は、把持する部分を除くフィルムの幅に対する、延伸後のフィルムの幅(把持する部分を除く)の比として求められる。
なお、図5には、フィルムの幅方向を延伸させる操作において、延伸倍率が1倍を超える場合を実線で、延伸倍率が等倍であるか又は1倍未満の場合を点線で示している。
In one embodiment of the present invention, the method for producing an optical film may be an operation of changing the width of the film or an operation of holding and transporting the film width during the heating step. An example of an operation of changing the width of the film is an operation of stretching the film in the width direction. The draw ratio is preferably 0.7 to 1.3 times, more preferably 0.8 to 1.2 times, still more preferably 0.8 to 1.1 times. An example of an operation of holding and transporting the film width is an operation of holding the film so that the length in the width direction is almost unchanged. The optical film obtained through these operations can have a length of about 0.7 to 1.3 times the length in the width direction of the raw material film, and is stretched from the length in the width direction of the raw material film. It may have the same size or a contracted length. The stretch ratio is determined as the ratio of the width of the film after stretching (excluding the gripped portion) to the width of the film excluding the gripped portion.
In FIG. 5, in the operation of stretching the width direction of the film, the case where the stretching ratio exceeds 1 time is shown by a solid line, and the case where the stretching ratio is equal to or less than 1 time is shown by a dotted line.

加熱工程を経た光学フィルムは、テンター炉から搬出された後、次の工程に連続して供給されてもよいし、ロール状に巻き取られて次の工程に供給されてもよい。光学フィルムをロールに巻き取る場合は、表面保護フィルム及び他の光学フィルム等の他のフィルムを積層して巻き取ってもよい。光学フィルムに積層する表面保護フィルムとしては、後述する原料フィルムに積層する表面保護フィルムと同様のものが使用できる。光学フィルムに積層させる表面保護フィルムの厚さは、通常、10〜100μm、好ましくは10〜80μmである。 The optical film that has undergone the heating step may be continuously supplied to the next step after being carried out from the tenter furnace, or may be wound into a roll and supplied to the next step. When the optical film is wound on a roll, another film such as a surface protective film and another optical film may be laminated and wound. As the surface protective film laminated on the optical film, the same surface protective film as the surface protective film laminated on the raw material film described later can be used. The thickness of the surface protective film laminated on the optical film is usually 10 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm.

<原料フィルム>
上記の加熱工程に供給される原料フィルムは、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を少なくとも含む。原料フィルムは、後述する原料フィルムの形成に使用されるワニスに含まれる成分と同じ成分を含むことが好ましいが、成分の構造変化や溶媒の一部の蒸発が生じうるため、同一でなくてもよい。原料フィルムは、自立膜であればよく、ゲルフィルムであってもよい。
<Raw material film>
The raw material film supplied to the above heating step contains at least a polyimide resin and / or a polyamide resin. The raw material film preferably contains the same components as those contained in the varnish used for forming the raw material film described later, but it does not have to be the same because structural changes of the components and evaporation of a part of the solvent may occur. good. The raw material film may be a self-supporting film or a gel film.

原料フィルムは、数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすい観点から、無機材料を含有するか否かにかかわらず熱重量−示差熱測定(以下「TG−DTA測定」ということがある。)によって求められる120℃から250℃にかけての重量減少率Mが、好ましくは1〜40%程度、より好ましくは3〜20%、さらに好ましくは5〜15%、とりわけ好ましくは5〜12%となるように、前記ワニスから溶媒の一部が除去されることが好ましい。原料フィルムの重量減少率Mは、市販のTG−DTAの測定装置を用いて以下の方法で測定することができる。TG−DTAの測定装置としては、日立ハイテクサイエンス社製TG/DTA6300を使用することができる。 The raw material film is referred to as thermogravimetric-differential thermal measurement (hereinafter referred to as "TG-DTA measurement") regardless of whether or not it contains an inorganic material, from the viewpoint of facilitating the production of an optical film satisfying mathematical formulas (1) to (3). The weight loss rate M from 120 ° C. to 250 ° C. determined by) is preferably about 1 to 40%, more preferably 3 to 20%, still more preferably 5 to 15%, and particularly preferably 5 to 5. It is preferable that a part of the solvent is removed from the varnish so as to be 12%. The weight loss rate M of the raw material film can be measured by the following method using a commercially available TG-DTA measuring device. As the TG-DTA measuring device, TG / DTA6300 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation can be used.

まず、原料フィルムから約20mgの試料を取得し、試料を室温から120℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、120℃で5分間保持した後、400℃まで10℃/分の昇温速度で昇温する条件で加熱しながら、試料の重量変化を測定する。次に、TG−DTA測定の結果から、120℃から250℃にかけての重量減少率M(%)を下記式によって算出すればよい。下記式において、Wは120℃で5分間保持した後の試料の重量を示し、Wは250℃における試料の重量を示す。
M(%)=100−(W/W)×100
First, about 20 mg of a sample is obtained from the raw material film, the sample is heated from room temperature to 120 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min, held at 120 ° C. for 5 minutes, and then 10 ° C./min to 400 ° C. The weight change of the sample is measured while heating under the condition that the temperature is raised at the heating rate. Next, from the result of TG-DTA measurement, the weight loss rate M (%) from 120 ° C. to 250 ° C. may be calculated by the following formula. In the following formula, W 0 indicates the weight of the sample after holding at 120 ° C. for 5 minutes, and W 1 indicates the weight of the sample at 250 ° C.
M (%) = 100- (W 1 / W 0 ) x 100

原料フィルムの重量減少率Mがある程度大きいと、原料フィルムを基材又は表面保護フィルムとの積層体として巻き取ったときに、積層体の折れ曲がり等の変形が抑制され、積層体の巻き取り性が向上する傾向にある。また、数式(1)〜数式(3)を満たす光学フィルムを製造しやすくなる。 When the weight reduction rate M of the raw material film is large to some extent, when the raw material film is wound as a laminate with the base material or the surface protection film, deformation such as bending of the laminate is suppressed, and the takeability of the laminate is improved. It tends to improve. Further, it becomes easy to manufacture an optical film satisfying the mathematical formulas (1) to (3).

原料フィルムの重量減少率Mがある程度小さいと、原料フィルムを基材又は表面保護フィルムとの積層体として巻き取ったときに、原料フィルムが基材又は表面保護フィルムに貼り付き難くなる傾向にある。そのため、原料フィルムの均一な透明性を維持しながら、積層体をロールから容易に巻き出すことができる。 If the weight reduction rate M of the raw material film is small to some extent, the raw material film tends to be difficult to adhere to the base material or the surface protective film when the raw material film is wound as a laminate with the base material or the surface protective film. Therefore, the laminate can be easily unwound from the roll while maintaining the uniform transparency of the raw material film.

原料フィルムは上記の塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって形成することができる。塗膜の乾燥は、通常50〜350℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。上記のようにして得た原料フィルムを、前記加熱工程に供給し、本発明の光学フィルムを製造することができる。原料フィルムは、連続して搬送されて加熱工程に供給されてもよいし、一旦巻き取られた後に供給されてもよい。 The raw material film can be formed by drying the above coating film and peeling it from the base material. The coating film can be dried at a temperature of usually 50 to 350 ° C. If necessary, the coating film may be dried under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure. The raw material film obtained as described above can be supplied to the heating step to produce the optical film of the present invention. The raw material film may be continuously conveyed and supplied to the heating step, or may be supplied after being wound once.

<機能層>
本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、1以上の機能層が積層されていてもよい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上を組合せて使用できる。
<Functional layer>
One or more functional layers may be laminated on at least one surface of the optical film of the present invention. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, and a refractive index adjusting layer. The functional layer can be used alone or in combination of two or more.

(紫外線吸収層)
紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。
(UV absorption layer)
The ultraviolet absorbing layer is a layer having an ultraviolet absorbing function. For example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and the main material thereof. It is composed of a dispersed UV absorber.

(ハードコート層)
ハードコート層は、例えば、例えば、活性エネルギー線照射、或いは熱エネルギー付与により架橋構造を形成し得る反応性材料を含むハードコート形成用の組成物(以下「ハードコート組成物」とも称する)を硬化させて形成することができる層であり、活性エネルギー線照射により形成することができる層が好ましい。活性エネルギー線は、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などが挙げられ、好ましくは紫外線が挙げられる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。ハードコート層の厚さは特に限定されないが、ハードコート層又はハードコート層と光学フィルムとの界面での割れを防止しやすい観点からは、好ましくは2〜50μm、より好ましくは2〜40μm、さらに好ましくは3〜20μm、さらにより好ましくは3〜15μmである。前記ハードコート層の厚さが前記の範囲にあると、十分な耐擦傷性を確保することができ、また耐屈曲性が低下しにくく、硬化収縮によるカール発生の問題が発生し難い傾向がある。
(Hard coat layer)
The hard coat layer cures, for example, a composition for forming a hard coat (hereinafter, also referred to as “hard coat composition”) containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by irradiation with active energy rays or application of heat energy. It is a layer that can be formed by allowing the layer to be formed, and a layer that can be formed by irradiation with active energy rays is preferable. Active energy rays are defined as energy rays that can generate active species by decomposing compounds that generate active species, and are visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron beams. And the like, preferably ultraviolet rays. The hard coat composition contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 2 to 50 μm, more preferably 2 to 40 μm, and further, from the viewpoint of easily preventing cracking at the interface between the hard coat layer or the hard coat layer and the optical film. It is preferably 3 to 20 μm, and even more preferably 3 to 15 μm. When the thickness of the hard coat layer is within the above range, sufficient scratch resistance can be ensured, bending resistance is unlikely to decrease, and the problem of curl generation due to curing shrinkage tends to be less likely to occur. ..

ハードコート層形成工程において、塗膜に高エネルギー線(例えば活性エネルギー線)を照射し、塗膜を硬化させてハードコート層を形成する。照射強度は、硬化性組成物の組成によって適宜決定され、特に限定されないが、重合開始剤の活性化に有効な波長領域の照射が好ましい。照射強度は、好ましくは0.1〜6,000mW/cm、より好ましくは10〜1,000mW/cm、さらに好ましくは20〜500mW/cmである。照射強度が前記範囲内であると、適当な反応時間を確保でき、光源から輻射される熱及び硬化反応時の発熱による樹脂の黄変や劣化を抑えることができる。照射時間は、硬化性組成物の組成によって適宜選択すればよく、特に制限されるものではないが、前記照射強度と照射時間との積として表される積算光量が好ましくは10〜10,000mJ/cm、より好ましくは50〜1,000mJ/cm、さらに好ましくは80〜500mJ/cmとなるように設定される。積算光量が前記範囲内であると、重合開始剤由来の活性種を十分量発生させて、硬化反応をより確実に進行させることができ、また、照射時間が長くなりすぎず、良好な生産性を維持できる。また、この範囲での照射工程を経ることでハードコート層の硬度をさらに高め得るため有用である。ハードコート層の平滑性を向上させ、光学フィルムの広角方向の視認性をさらに向上させる観点から、溶剤の種類、成分比、固形分濃度の最適化及びレベリング剤の添加などが挙げられる。 In the hard coat layer forming step, the coating film is irradiated with high energy rays (for example, active energy rays) to cure the coating film to form a hard coat layer. The irradiation intensity is appropriately determined by the composition of the curable composition and is not particularly limited, but irradiation in a wavelength region effective for activating the polymerization initiator is preferable. The irradiation intensity is preferably 0.1~6,000mW / cm 2, more preferably 10~1,000mW / cm 2, more preferably from 20 to 500 mW / cm 2. When the irradiation intensity is within the above range, an appropriate reaction time can be secured, and yellowing and deterioration of the resin due to heat radiated from the light source and heat generated during the curing reaction can be suppressed. The irradiation time may be appropriately selected depending on the composition of the curable composition and is not particularly limited, but the integrated light amount expressed as the product of the irradiation intensity and the irradiation time is preferably 10 to 10,000 mJ /. It is set to be cm 2 , more preferably 50 to 1,000 mJ / cm 2 , and even more preferably 80 to 500 mJ / cm 2. When the integrated light amount is within the above range, a sufficient amount of active species derived from the polymerization initiator can be generated to allow the curing reaction to proceed more reliably, and the irradiation time does not become too long, resulting in good productivity. Can be maintained. Further, it is useful because the hardness of the hard coat layer can be further increased by going through the irradiation step in this range. From the viewpoint of improving the smoothness of the hard coat layer and further improving the visibility of the optical film in the wide-angle direction, optimization of the type of solvent, component ratio, solid content concentration, addition of a leveling agent, and the like can be mentioned.

前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には1分子中に2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートから選択された1種以上が挙げられる。 The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radically polymerizable group contained in the radically polymerizable compound may be a functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically, a vinyl group. , (Meta) acryloyl radicals and the like. When the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same as each other or may be different from each other. The number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. Examples of the radically polymerizable compound include compounds having a (meth) acryloyl group, preferably from the viewpoint of high reactivity, and specifically, 2 to 6 (meth) acryloyl groups in one molecule. Compounds called polyfunctional acrylate monomers and epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates have a molecular weight of several hundreds of (meth) acryloyl groups in the molecule. Thousands of oligomers are mentioned, preferably one or more selected from epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates and polyester (meth) acrylates.

前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. The number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
Further, as the cationically polymerizable compound, a compound having at least one epoxy group and an oxetanyl group as the cationically polymerizable group is preferable. A cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group is preferable because the shrinkage associated with the polymerization reaction is small. Further, among the cyclic ether groups, compounds having an epoxy group are easily available, compounds having various structures are easily available, the durability of the obtained hard coat layer is not adversely affected, and compatibility with radically polymerizable compounds is easily controlled. There is an advantage. Further, among the cyclic ether groups, the oxetanyl group tends to have a higher degree of polymerization than the epoxy group, accelerates the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound of the obtained hard coat layer, and is mixed with the radically polymerizable compound. There are advantages such as forming an independent network without leaving unreacted monomers in the film even in the region where the polymer is formed.
Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group include polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring, or a cyclohexene ring or cyclopentene ring-containing compound with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation; polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or its alkylene oxide adduct, polyglycidyl ester of aliphatic long chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth) acrylate, An aliphatic epoxy resin such as a copolymer; a glycidyl ether produced by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts thereof with epichlorohydrin. And novolak epoxy resin and the like, and glycidyl ether type epoxy resin derived from bisphenols and the like can be mentioned.

前記ハードコート組成物は重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独で又は併用して使用される。
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄(II)錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれか又はいずれでもカチオン重合を開始することができる。
The hard coat composition may further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and a cationic polymerization initiator, and the like, which are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization.
The radical polymerization initiator may be any as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by at least one of active energy ray irradiation and heating. For example, examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides such as hydrogen peroxide and perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.
Active energy ray radical polymerization initiators include Type 1 radical polymerization initiators, which generate radicals by decomposition of molecules, and Type 2 radical polymerization initiators, which coexist with tertiary amines and generate radicals by hydrogen abstraction type reaction. Yes, they are used alone or in combination.
The cationic polymerization initiator may be any one as long as it can release a substance that initiates cationic polymerization by at least one of activation energy ray irradiation and heating. As the cationic polymerization initiator, an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, a cyclopentadienyl iron (II) complex and the like can be used. These can initiate cationic polymerization by either irradiation with active energy rays or heating, depending on the structure.

前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体100質量%に対して好ましくは0.1〜10質量%を含むことができる。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。 The polymerization initiator can preferably contain 0.1 to 10% by mass based on 100% by mass of the entire hard coat composition. When the content of the polymerization initiator is in the above range, curing can proceed sufficiently, and the mechanical properties and adhesive strength of the finally obtained coating film can be in a good range. Poor adhesive strength due to curing shrinkage, cracking phenomenon, and curling phenomenon tend to be less likely to occur.

前記ハードコート組成物は、溶剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られている溶剤であれば、本発明の効果を阻害しない範囲で、使用することができる。
前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。
The hard coat composition may further comprise one or more selected from the group consisting of solvents and additives.
The solvent can dissolve or disperse the polymerizable compound and the polymerization initiator, and any solvent known as a solvent for hard coat compositions in the present technology does not impair the effects of the present invention. In the range, it can be used.
The additive may further contain inorganic particles, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, an antistatic agent, a lubricant, an antifouling agent and the like.

(粘着層)
粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。
(Adhesive layer)
The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering an optical film to another member. As a material for forming the adhesive layer, a commonly known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy after the fact.

粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。 The adhesive layer may be a layer called a pressure-sensitive adhesive (Pressure Sensitive Adhesive, PSA), which is attached to an object by pressing. The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with a light pressure" (JIS K6800), and "protects a specific component (microcapsules). It may be a capsule type adhesive which is "an adhesive which can maintain stability until the film is broken by an appropriate means (pressure, heat, etc.)" (JIS K6800).

(色相調整層)
色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを含む積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料;並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。
(Hue adjustment layer)
The hue adjusting layer is a layer having a hue adjusting function, and is a layer capable of adjusting a laminate containing an optical film to a desired hue. The hue adjusting layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of this colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, petals, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; azo compounds, quinacridone compounds, anthracinone compounds, and the like. Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, slene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and basic dyes, Examples thereof include dyes such as acidic dyes and medium dyes.

(屈折率調整層)
屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。
(Refractive index adjustment layer)
The refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, for example, a layer having a refractive index different from that of an optical film and capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer appropriately selected and, in some cases, a resin layer further containing a pigment, or a thin film of metal. Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide. The average primary particle size of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle size of the pigment to 0.1 μm or less, diffuse reflection of light transmitted through the refractive index adjusting layer can be prevented, and deterioration of transparency can be prevented. Examples of the metal used for the refractive index adjusting layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Oxides or metal nitrides can be mentioned.

(保護フィルム)
本発明の一実施態様において、光学フィルムは、少なくとも一方の面(片面又は両面)に保護フィルムを有していてもよい。例えば光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム;ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムは同一であっても異なっていてもよい。
(Protective film)
In one embodiment of the present invention, the optical film may have a protective film on at least one side (one side or both sides). For example, when the functional layer is provided on one side of the optical film, the protective film may be laminated on the surface on the optical film side or the surface on the functional layer side, and is laminated on both the optical film side and the functional layer side. You may. When the optical film has functional layers on both sides, the protective film may be laminated on the surface on one functional layer side or on the surfaces on both functional layer sides. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or the functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the optical film or the functional layer. Examples of the protective film include polyester resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin resin films such as polyethylene and polypropylene films, acrylic resin films, and the like, and polyolefin resin films and polyethylene. It is preferable to select from the group consisting of a terephthalate resin film and an acrylic resin film. When the optical film has two protective films, each protective film may be the same or different.

保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、10〜120μm、好ましくは15〜110μm、より好ましくは20〜100μmである。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同一であっても異なっていてもよい。 The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 120 μm, preferably 15 to 110 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the optical film has two protective films, the thickness of each protective film may be the same or different.

本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、例えば上記のようにして製造される光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。 The optical film of the present invention may be a single layer or a laminated body, for example, the optical film produced as described above may be used as it is, or a laminated body with another film. May be used as.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、特にフレキシブル表示装置の前面板(以下「ウインドウフィルム」とも称する)、特にローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイの前面板として非常に有用である。フレキシブル表示装置は、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブル表示装置の前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention is in front of a front plate of an image display device, particularly a front plate of a flexible display device (hereinafter also referred to as "window film"), particularly a rollable display or a foldable display. Very useful as a face plate. The flexible display device has, for example, a flexible functional layer and an optical film that is superposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display device is arranged on the visual side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.

画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する全ての画像表示装置が挙げられる。 Examples of the image display device include wearable devices such as televisions, smartphones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game machines, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and smart watches. Examples of the flexible display device include all image display devices having flexible characteristics.

[フレキシブル表示装置]
本発明は、本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置も提供する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、本発明の光学フィルム(ウインドウフィルム)、円偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ又はウインドウフィルム、タッチセンサ、円偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に円偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[Flexible display device]
The present invention also provides a flexible display device including the optical film of the present invention. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate may be referred to as a window film. The flexible display device includes a laminated body for a flexible display device and an organic EL display panel, and the laminated body for the flexible display device is arranged on the visual side with respect to the organic EL display panel and is configured to be bendable. The laminated body for a flexible display device may contain the optical film (window film), the circularly polarizing plate, and the touch sensor of the present invention, and the stacking order thereof is arbitrary, but the window film and the circularly polarized light from the visual side. It is preferable that the plate, the touch sensor or the window film, the touch sensor, and the circularly polarizing plate are laminated in this order. The presence of a circularly polarizing plate on the visible side of the touch sensor is preferable because the pattern of the touch sensor is less likely to be visually recognized and the visibility of the displayed image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, an adhesive, or the like. Further, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any layer of the window film, the circularly polarizing plate, and the touch sensor can be provided.

[偏光板]
本発明のフレキシブル表示装置は、偏光板、好ましくは円偏光板をさらに備えていてもよい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右円偏光又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。例えば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
[Polarizer]
The flexible display device of the present invention may further include a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only a right circularly polarized light or a left circularly polarized light component by laminating a λ / 4 retardation plate on a linear polarizing plate. For example, the external light is converted to right-handed circularly polarized light and reflected by the organic EL panel to block the left-handed circularly polarized light, and only the light emitting component of the organic EL is transmitted to suppress the influence of the reflected light. It is used to make it easier to see. In order to achieve the circularly polarized light function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ / 4 retardation plate must theoretically be 45 °, but practically, they are 45 ± 10 °. The linear polarizing plate and the λ / 4 retardation plate do not necessarily have to be laminated adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow phase axis may satisfy the above range. It is preferable to achieve perfect circularly polarized light at all wavelengths, but it is not always necessary in practical use. Therefore, the circularly polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also preferable to further laminate a λ / 4 retardation film on the visible side of the linear polarizing plate to convert the emitted light into circularly polarized light to improve the visibility when wearing polarized sunglasses.

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは0.5〜100μmである。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。 The linear polarizing plate is a functional layer having a function of passing light vibrating in the transmission axis direction but blocking polarization of a vibration component perpendicular to the linear polarizing plate. The linear polarizing plate may be configured to include a linear polarizing element alone or a linear polarizing element and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, preferably 0.5 to 100 μm. If the thickness of the linear polarizing plate is within the above range, the flexibility tends to be difficult to decrease.

前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール(以下「PVA」とも称する)系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したPVA系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はPVAに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はPVA系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるPVA系フィルムの厚さは好ましくは10〜100μmであり、延伸倍率は好ましくは2〜10倍である。 The linear polarizer may be a film-type polarizer produced by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter, also referred to as “PVA”) film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed on the PVA-based film oriented by stretching, or the dichroic dye is oriented in a state of being adsorbed on the PVA to exhibit polarization performance. In the production of the film-type polarizer, other steps such as swelling, cross-linking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be included. The stretching and dyeing steps may be performed on the PVA-based film alone, or may be performed in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 μm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.

さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。
前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
Further, as another example of the polarizer, there is a liquid crystal coating type polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition. The liquid crystal polarizing composition may contain a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystal compound may have a property of exhibiting a liquid crystal state, and is particularly preferable when it has a higher-order orientation state such as a smectic phase because it can exhibit high polarization performance. It is also preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.
The dichroic dye is a dye that is oriented together with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and may have a polymerizable functional group, and the dichroic dye itself has a liquid crystal property. You may. Any compound in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.

前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。 The liquid crystal polarizing composition can further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent and the like.

前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは1〜5μmである。 The liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can be formed to be thinner than the film-type polarizing element. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば10,000〜1,000,000程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは5〜10,000nm、より好ましは10〜500nmである。 The alignment film can be produced, for example, by applying an alignment film forming composition on a base material and imparting orientation by rubbing, polarized light irradiation, or the like. The alignment film forming composition may contain a solvent, a cross-linking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like in addition to the alignment agent. Examples of the alignment agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When applying photo-orientation, it is preferable to use an orientation agent containing a synnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent may be, for example, about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of orientation regulating force.

前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 The liquid crystal polarizing layer can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, and a window film.

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、具体的には、用いられる高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の(変性)セルロース類、メチルメタクリレート(共)重合体等のアクリル類、スチレン(共)重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などのフィルムが挙げられ、透明性及び耐熱性に優れる点で、好ましくはポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステル、オレフィン、アクリル又はセルロース系のフィルムが挙げられる。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。これらのフィルムは未延伸のまま、あるいは1軸又は2軸延伸したフィルムとして使用される。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、好ましくは200μm以下、より好ましくは1〜100μmである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。 The protective film may be a transparent polymer film, and specifically, the polymer film used has a unit of a monomer containing polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, norbornene or cycloolefin. Polyimides such as cycloolefin derivatives, (modified) celluloses such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, propionyl cellulose, acrylics such as methyl methacrylate (co) polymer, polystyrenes such as styrene (co) polymer, acrylonitrile -Butadiene-styrene copolymers, acrylonitrile-styrene copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, polyvinyl chlorides, polyvinylidene chlorides, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, poly Films such as polyesters such as allylate, polyamides such as nylon, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyethersulfones, polysulfones, polyvinyl alcohols, polyvinylacetals, polyurethanes, epoxy resins, etc. In terms of excellent transparency and heat resistance, preferred examples include polyamide, polyamideimide, polyimide, polyester, olefin, acrylic or cellulose-based film. Each of these polymers can be used alone or in combination of two or more. These films are used unstretched or as uniaxially or biaxially stretched films. Cellulose-based films, olefin-based films, acrylic films, and polyester-based films are preferable. It may be a coating type protective film obtained by applying a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as acrylate and curing the film. Plasticizers, UV absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antioxidants, antioxidants, lubricants, as needed. It may contain a solvent or the like. The thickness of the protective film is preferably 200 μm or less, more preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the protective film is unlikely to decrease.

前記λ/4位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向、すなわちフィルムの面内方向にλ/4の位相差を与えるフィルムである。前記λ/4位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ/4位相差板は、必要に応じて位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは200μm以下、より好ましくは1〜100μmである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。 The λ / 4 retardation plate is a film that gives a phase difference of λ / 4 in a direction orthogonal to the traveling direction of incident light, that is, in the in-plane direction of the film. The λ / 4 retardation plate may be a stretch-type retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. The λ / 4 retardation plate may be used as a retardation adjuster, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or a dye, a fluorescent whitening agent, a dispersant, a heat stabilizer, and the like. It may contain a light stabilizer, an antioxidant, an antioxidant, a lubricant, a solvent and the like. The thickness of the stretched retardation plate is preferably 200 μm or less, more preferably 1 to 100 μm. When the thickness is in the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to decrease.

さらに前記λ/4位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは1〜5μmである。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 Further, as another example of the λ / 4 retardation plate, there is a liquid crystal coating type retardation plate formed by coating a liquid crystal composition. The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound having a property of exhibiting a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, and smectic. Any compound, including the liquid crystal compound in the liquid crystal composition, has a polymerizable functional group. The liquid crystal composition can further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent and the like. The liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by applying and curing a liquid crystal composition on an alignment film to form a liquid crystal retardation layer in the same manner as described in the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed to be thinner than the stretch type retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm. The liquid crystal coating type retardation plate can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, and a window film.

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく、長波長ほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ/4の位相差を達成することはできないので、視感度の高い560nm付近に対してλ/4となるような面内位相差、すなわち好ましくは100〜180nm、より好ましくは130〜150nmの面内位相差に設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ/4位相差板は、視認性をよくすることができる点で好ましい。このような材料としては、延伸型位相差板の場合は特開2007−232873号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開2010−30979号公報に記載されているものを用いることも好ましい。 In general, there are many materials that exhibit greater birefringence at shorter wavelengths and smaller birefringence at longer wavelengths. In this case, since it is not possible to achieve a phase difference of λ / 4 in the entire visible light region, an in-plane phase difference of λ / 4 with respect to the vicinity of 560 nm having high visual sensitivity, that is, preferably 100 to 180 nm. , More preferably, it is often designed with an in-plane phase difference of 130 to 150 nm. A reverse dispersion λ / 4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to the usual one is preferable in that visibility can be improved. As such a material, those described in JP-A-2007-232873 for stretch-type retardation plates and those described in JP-A-2010-30979 for liquid crystal-coated retardation plates should be used. Is also preferable.

また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(特開平10−90521号公報)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料及び方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらの場合にも、液晶塗布型位相差板を用いることが、厚さを薄くすることができる点で好ましい。 Further, as another method, a technique for obtaining a wideband λ / 4 retardation plate by combining with a λ / 2 retardation plate is also known (Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521). The λ / 2 retardation plate is also manufactured by the same material and method as the λ / 4 retardation plate. The combination of the stretchable retardation plate and the liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, but in either case, it is preferable to use the liquid crystal coating type retardation plate in that the thickness can be reduced.

前記円偏光板に、斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法も知られている(特開2014−224837号公報)。正のCプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは−200〜−20nm、より好ましくは−140〜−40nmである。 A method of laminating a positive C plate on the circularly polarizing plate in order to enhance visibility in an oblique direction is also known (Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-224738). The positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretched retardation plate. The phase difference in the thickness direction of the retardation plate is preferably −200 to −20 nm, more preferably −140 to −40 nm.

[タッチセンサ]
本発明のフレキシブル表示装置は、タッチセンサをさらに備えていてもよい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等の様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わないが、静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域である表示部に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域である非表示部に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と;前記基板の活性領域に形成された感知パターンと;前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記高分子フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が2,000MPa%以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000〜30,000MPa%であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)−歪み(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
[Touch sensor]
The flexible display device of the present invention may further include a touch sensor. The touch sensor is used as an input means. Various types of touch sensors have been proposed, such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitance method. Any method may be used, but the capacitance method is preferable. .. The capacitive touch sensor is divided into an active region and an inactive region located outside the active region. The active area is an area corresponding to the display unit, which is the area where the screen is displayed on the display panel, the area where the user's touch is sensed, and the inactive area is the area where the screen is not displayed on the display device. This is the area corresponding to the non-display part. The touch sensor is formed on a substrate having flexible characteristics; a sensing pattern formed in an active region of the substrate; and is formed in an inactive region of the substrate, and is connected to an external drive circuit via the sensing pattern and a pad portion. Each sensing line for can be included. As the substrate having flexible properties, the same material as the polymer film can be used. The substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the lower area of the curve to the fracture point by the stress-strain curve obtained through the tensile experiment of the polymer material.

前記感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第2パターンを電気的に接続するための電極としては、周知の透明電極素材を適用することができる。該透明電極素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4−ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。該透明電極素材として、好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。 The sensing pattern can include a first pattern formed in the first direction and a second pattern formed in the second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions from each other. The first pattern and the second pattern are formed in the same layer, and each pattern must be electrically connected in order to sense the touched point. The first pattern is a form in which each unit pattern is connected to each other via a joint, but the second pattern has a structure in which each unit pattern is separated from each other into an island form, so that the second pattern is electrically connected. A separate bridge electrode is required for connection. As an electrode for electrically connecting the second pattern, a well-known transparent electrode material can be applied. Examples of the transparent electrode material include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide oxide (IZTO), and indium gallium zinc oxide (IGZO). Examples thereof include cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wire, etc., and these can be used alone or in combination of two or more. .. ITO can be preferably used as the transparent electrode material. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, chromium, etc., and these may be used alone or in combination of two or more. Can be done.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層として形成する場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。 The bridge electrode can be formed on the upper part of the insulating layer via the insulating layer on the upper part of the sensing pattern, the bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern can be formed on the bridge electrode. The bridge electrode can also be formed of the same material as the sensing pattern and is made of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or an alloy of two or more of these. You can also do it. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer can be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or can be formed as a layer covering the entire sensing pattern. When formed as a layer covering the entire sensing pattern, the bridge electrode can connect the second pattern via a contact hole formed in the insulating layer.

前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇させることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
The touch sensor has a difference in transmittance between a patterned region in which a pattern is formed and a non-patterned region in which a pattern is not formed, specifically, a light transmittance induced by a difference in refractive index in these regions. An optical control layer may be further included between the substrate and the electrodes as a means to adequately compensate for the difference. The optical control layer may contain an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further contain inorganic particles. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.
The photocurable organic binder may contain, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.
Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, alumina particles and the like. The photocuring composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

[接着層]
前記フレキシブル表示装置用積層体を形成する、ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサ等の各層、並びに各層を構成する直線偏光板、λ/4位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接着することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧型粘着剤、再湿型接着剤等、汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは0.01〜500μm、より好ましくは0.1〜300μmである。前記フレキシブル画像表示装置用積層体には、複数の接着層が存在してよいが、それぞれの厚さ及び用いられる接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。
[Adhesive layer]
Each layer such as a window film, a polarizing plate, and a touch sensor forming the laminated body for a flexible display device, and a film member such as a linear polarizing plate and a λ / 4 retardation plate constituting each layer can be adhered with an adhesive. can. Adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent volatilization adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic curable adhesives, and water-based adhesives. It is widely used in solvent volatilization adhesives, active energy ray-curable adhesives, hardener mixed adhesives, heat-melt adhesives, pressure-sensitive adhesives, pressure-sensitive adhesives, re-wet adhesives, etc. Things can be used. Of these, water-based solvent volatilization adhesives, active energy ray-curable adhesives, and adhesives are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force and the like, and is preferably 0.01 to 500 μm, more preferably 0.1 to 300 μm. The laminated body for a flexible image display device may have a plurality of adhesive layers, but the thickness of each and the type of adhesive used may be the same or different.

前記水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01〜10μm、好ましくは0.1〜1μmであってもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。 As the water-based solvent volatilization type adhesive, a polyvinyl alcohol-based polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate-based emulsion, a styrene-butadiene-based emulsion, or the like in an aqueous-dispersed state can be used as the main component polymer. In addition to water and the main component polymer, a cross-linking agent, a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent and the like may be blended. When adhering with the water-based solvent volatilization type adhesive, the water-based solvent volatilization type adhesive can be injected between the layers to be adhered, the adherend layers are bonded, and then dried to impart adhesiveness. When the water-based solvent volatilization type adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm. When the water-based solvent volatilization type adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive may be the same or different.

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物について記載した化合物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物としては、ハードコート組成物について記載した化合物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために、該組成物が単官能の化合物を含むことも好ましい。 The active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that is irradiated with active energy rays to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition can contain at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the compounds described for the hard coat composition. As the radically polymerizable compound, the same type as the compound described for the hard coat composition can be used. As the radically polymerizable compound used for the adhesive layer, a compound having an acryloyl group is preferable. In order to reduce the viscosity of the adhesive composition, it is also preferable that the composition contains a monofunctional compound.

前記カチオン重合性化合物としては、ハードコート組成物について記載した化合物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物がより好ましい。接着剤組成物の粘度を下げるために、該組成物が単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。 As the cationically polymerizable compound, the same type as the compound described for the hard coat composition can be used. As the cationically polymerizable compound used in the active energy ray-curing composition, an epoxy compound is more preferable. In order to reduce the viscosity of the adhesive composition, it is also preferable that the composition contains a monofunctional compound as a reactive diluent.

活性エネルギー線組成物は、重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。 The active energy ray composition can further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators, and these can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization. In the description of the hard coat composition, an initiator that can initiate at least one of radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって2つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれか一方の被接着層又は両方の被接着層を通して活性エネルギー線を照射して、該組成物を硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは、好ましくは0.01〜20μm、より好ましくは0.1〜10μmである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は、同一であっても異なっていてもよい。 The active energy ray-curing composition further comprises an ion scavenger, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a fluid viscosity modifier, a plasticizer, a defoaming agent solvent, an additive, and a solvent. Can be included. When two layers to be adhered are bonded by the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to one or both of the layers to be adhered, then bonded, and one of them is adhered. Adhesion can be achieved by irradiating active energy rays through the layer or both layers to be adhered to cure the composition. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive used may be the same or different.

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され、これらの何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着層(接着層)が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは、好ましくは1〜500μm、より好ましくは2〜300μmである。前記粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は、同一であっても異なっていてもよい。 The pressure-sensitive adhesive is classified into an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, and the like according to the main component polymer, and any of these can be used. In addition to the main polymer, the pressure-sensitive adhesive may contain a cross-linking agent, a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler and the like. An adhesive layer (adhesive layer) is formed by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, applying the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate, and then drying the mixture. Will be done. The adhesive layer may be directly formed, or a separately formed base material may be transferred. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before bonding. When the pressure-sensitive adhesive is used, the thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 500 μm, more preferably 2 to 300 μm. When the pressure-sensitive adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of pressure-sensitive adhesive used may be the same or different.

[遮光パターン]
前記遮光パターンは前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは1〜100μm、より好ましくは2〜50μmである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
[Shading pattern]
The shading pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device. The light-shielding pattern hides the wiring arranged at the edge of the flexible image display device to make it difficult to see, thereby improving the visibility of the image. The shading pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and can have various colors such as black, white, and metallic. The light-shielding pattern can be formed of a pigment for embodying color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, or silicone. They can also be used alone or in mixtures of two or more. The shading pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the shading pattern is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm. It is also preferable to give a shape such as an inclination in the thickness direction of the light-shielding pattern.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部を意味する。まず評価方法について説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Unless otherwise specified, "%" and "part" in the example mean mass% and parts by mass. First, the evaluation method will be described.

<全光線透過率の測定>
光学フィルムの全光線透過率(Tt)は、JIS K 7105:1981に準拠して、スガ試験機(株)製の全自動直読ヘーズコンピュータHGM−2DPにより、測定した。
<Measurement of total light transmittance>
The total light transmittance (Tt) of the optical film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K 7105: 1981.

<ヘーズ>
JIS K 7136:2000に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、ヘーズコンピュータ(スガ試験機(株)製、「HGM−2DP」)を用いてヘーズ(%)を測定した。
<Haze>
In accordance with JIS K 7136: 2000, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and a haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., “HGM-2DP”) was used. Haze (%) was measured using.

<YI値>
光学フィルムのYI値(Yellow Index)を、JIS K 7373:2006に準拠して、日本分光(株)製の紫外可視近赤外分光光度計「V−670」を用いて測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、下記式に基づいてYI値を算出した。
YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Y
<YI value>
The YI value (Yellow Index) of the optical film was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer "V-670" manufactured by JASCO Corporation in accordance with JIS K 7373: 2006. After performing background measurement without a sample, an optical film is set in the sample holder, transmittance is measured for light of 300 to 800 nm, and tristimulus values (X, Y, Z) are obtained, and the following formula is used. The YI value was calculated based on.
YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

<重量平均分子量の測定>
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
(1)前処理方法
ポリアミドイミドフィルムにDMF溶離液(10mmol/L臭化リチウム溶液)を濃度2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間撹拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
(2)測定条件
カラム:東ソー(株)製TSKgel α−2500((7)7.8mm径×300mm)×1本、α−M((13)7.8mm径×300mm)×2本
溶離液:DMF(10mmol/Lの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Measurement of weight average molecular weight>
Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement (1) Pretreatment Method Add DMF eluent (10 mmol / L lithium bromide solution) to a polyamide-imide film to a concentration of 2 mg / mL, and stir at 80 ° C. for 30 minutes. After heating and cooling, the solution was filtered through a 0.45 μm membrane filter to prepare a measurement solution.
(2) Measurement condition Column: TSKgel α-2500 manufactured by Tosoh Corporation ((7) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 1, α-M ((13) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 2 eluent : DMF (10 mmol / L lithium bromide added)
Flow rate: 1.0 mL / min Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene

<厚さの測定>
光学フィルムの厚さは、ABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID−C112BS」)を用いて測定した。
<Measurement of thickness>
The thickness of the optical film was measured using an ABS Digimatic Indicator (“ID-C112BS” manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.).

<引張弾性率>
実施例及び比較例で得た光学フィルムの温度25℃、相対湿度50%における弾性率を(株)島津製作所製「オートグラフAG−IS」を用いて測定した。より詳細には、縦横10mm幅のフィルムを作製し、チャック間距離50mm、引張速度10mm/分の条件で応力−歪曲線(S−S曲線)を測定し、その傾きから弾性率を算出した。
<Tension modulus>
The elastic modulus of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% was measured using "Autograph AG-IS" manufactured by Shimadzu Corporation. More specifically, a film having a width of 10 mm in length and width was produced, a stress-strain curve (SS curve) was measured under the conditions of a distance between chucks of 50 mm and a tensile speed of 10 mm / min, and the elastic modulus was calculated from the inclination.

<R及びRth
得られた光学フィルムを縦横10cm角に切りだし、大塚電子(株)製位相差フィルム・光学材料検査装置 RETS−100を用いて、面内位相差(R)及び厚さ方向の位相差(Rth)を算出した。
<R 0 and R th >
The obtained optical film was cut into 10 cm squares in length and width, and using the retardation film / optical material inspection device RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., the in-plane retardation (R 0 ) and the phase difference in the thickness direction (R 0) R th ) was calculated.

<光学フィルムの透過写像性値の測定>
JIS K 7345に準拠して写像性測定器(スガ試験機(株)製「ICM−1」)を用いて、以下のように透過法にて光学フィルムの透過写像性値を測定した。
光学フィルムを写像性測定器に設置した。この光学フィルムは、設置前に両面をエタノールで軽くふき、乾燥させ、表面から異物を除去した状態で設置した。次いで、光量及び断面積を調整し、平行光に調整した白色光を、光学フィルム平面に対してMD方向に60°傾斜した角度(入射角)から設置された光学フィルムに照射した。光学フィルムを透過した透過光を、断面積を調整して照射光の光軸に垂直に延在する光学櫛に透過させ、光学櫛を透過した光を受光器で受光した。
光学櫛の平面に対して平行であり、かつ光学櫛におけるスリットが配列する方向に光学櫛(スリット幅:0.125mm)を所定の単位幅移動させて光学櫛の透過光を受光することを繰り返した。その結果、受光波形を得た。得られた受光波形から相対光量の最大値M及び最小値mを得た。得られたM及びmから数式(7)に基づいて第1透過写像性値C60(MD)を算出した。
<Measurement of transmission mapping property value of optical film>
Using a mapping property measuring device (“ICM-1” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) in accordance with JIS K 7345, the transmission mapping property value of the optical film was measured by the transmission method as follows.
The optical film was placed on the image quality measuring instrument. Before installation, both sides of this optical film were lightly wiped with ethanol and dried to remove foreign matter from the surface before installation. Next, the amount of light and the cross-sectional area were adjusted, and white light adjusted to parallel light was applied to the optical film installed from an angle (incident angle) inclined by 60 ° in the MD direction with respect to the optical film plane. The transmitted light transmitted through the optical film was transmitted to an optical comb extending perpendicular to the optical axis of the irradiation light by adjusting the cross-sectional area, and the light transmitted through the optical comb was received by the receiver.
It is parallel to the plane of the optical comb, and the optical comb (slit width: 0.125 mm) is moved by a predetermined unit width in the direction in which the slits in the optical comb are arranged, and the transmitted light of the optical comb is repeatedly received. rice field. As a result, a received light waveform was obtained. From the obtained received light waveform, the maximum value M and the minimum value m of the relative light amount were obtained. The first transmission mapping property value C 60 (MD) was calculated from the obtained M and m based on the mathematical formula (7).

入射角を光学フィルム平面に対して垂直方向からTD方向に60°傾斜した角度、及び光学フィルム平面に対して垂直な角度(0°傾斜した角度)に変更した以外は、第1透過写像性値と同様にして、それぞれ第2透過写像性値C60(TD)及び第3透過写像性値Cを算出した。 The first transmission mapping property value except that the angle of incidence was changed from a direction perpendicular to the optical film plane to an angle inclined by 60 ° in the TD direction and an angle perpendicular to the optical film plane (an angle inclined by 0 °). In the same manner as above, the second transmission mapping property value C 60 (TD) and the third transmission mapping property value C 0 were calculated, respectively.

<イミド化率>
イミド化率は、H−NMR測定により以下のようにして求めた。
(1)前処理方法
ポリイミド系樹脂を含む光学フィルムを重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d)に溶解させて2質量%溶液としたものを測定試料とした。
(2)測定条件
測定装置:JEOL製 400MHz NMR装置 JNM−ECZ400S/L1
標準物質:DMSO−d(2.5ppm)
試料温度:室温
積算回数:256回
緩和時間:5秒
(3)イミド化率解析方法
(ポリイミド樹脂のイミド化率)
ポリイミド樹脂を含む測定試料で得られたH−NMRスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来するベンゼンプロトンAの積分値をIntとした。また、観測されたポリイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来するアミドプロトンの積分値をIntとした。これらの積分値から以下の式に基づいてポリイミド樹脂のイミド化率を求めた。
イミド化率(%)=100×(1−Int/Int
<Imidization rate>
The imidization ratio was determined by 1 H-NMR measurement as follows.
(1) Pretreatment Method An optical film containing a polyimide resin was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6 ) to prepare a 2% by mass solution, which was used as a measurement sample.
(2) Measuring conditions Measuring device: JEOL 400MHz NMR device JNM-ECZ400S / L1
Standard substance: DMSO-d 6 (2.5 ppm)
Sample temperature: Room temperature Accumulation number: 256 times Relaxation time: 5 seconds (3) Imidization rate analysis method (imidization rate of polyimide resin)
In the 1 H-NMR spectrum obtained from the measurement sample containing the polyimide resin, the integrated value of benzene proton A derived from the structure that does not change before and after imidization among the observed benzene protons was defined as Int A. In addition, the integral value of the amide proton derived from the amic acid structure remaining in the observed polyimide resin was defined as Int B. From these integrated values, the imidization rate of the polyimide resin was determined based on the following formula.
Imidization rate (%) = 100 × (1-Int B / Int A )

(ポリアミドイミド樹脂のイミド化率)
ポリアミドイミド樹脂を含む測定試料で得られたH−NMRスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリアミドイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けないベンゼンプロトンCの積分値をIntとした。また、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリアミドイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けるベンゼンプロトンDの積分値をIntとした。得られたInt及びIntから以下の式によりβ値を求めた。
β=Int/Int
次に、複数のポリアミドイミド樹脂について上記式のβ値及び上記式のポリイミド樹脂のイミド化率を求め、これらの結果から以下の相関式を得た。
イミド化率(%)=k×β+100
上記相関式中、kは定数である。
βを相関式に代入してポリアミドイミド樹脂のイミド化率(%)を得た。
(Imidization rate of polyamide-imide resin)
In the 1 H-NMR spectrum obtained from the measurement sample containing the polyamide-imide resin, the structure derived from the structure of the observed benzene protons that does not change before and after imidization and the structure derived from the amic acid structure remaining in the polyamide-imide resin. The integrated value of the benzene proton C, which is not affected by the above, was defined as Int C. Further, among the observed benzene protons, the integrated value of benzene proton D, which is derived from the structure that does not change before and after imidization and is influenced by the structure derived from the amic acid structure remaining in the polyamide-imide resin, was defined as Int D. The β value was calculated from the obtained Int C and Int D by the following formula.
β = Int D / Int C
Next, the β value of the above formula and the imidization rate of the polyimide resin of the above formula were obtained for a plurality of polyamide-imide resins, and the following correlation formula was obtained from these results.
Imidization rate (%) = k × β + 100
In the above correlation equation, k is a constant.
By substituting β into the correlation equation, the imidization rate (%) of the polyamide-imide resin was obtained.

<ワニスの粘度>
JIS K 8803:2011に準拠して、ブルックフィールド社製E型粘度計DV−II+Proを用いて測定した。測定温度は25℃とした。
<Varnish viscosity>
The measurement was performed using an E-type viscometer DV-II + Pro manufactured by Brookfield Co., Ltd. in accordance with JIS K 8803: 2011. The measurement temperature was 25 ° C.

<耐屈曲性試験>
光学フィルムについてJIS K 5600−5−1に準拠して耐屈曲性試験を実施した。耐屈曲性試験は、小型卓上屈曲性試験機(ユアサシステム機器(株)製)を用いて実施された。耐屈曲性試験後の光学フィルムについて上述の測定方法と同様にして、透過写像性値及びヘーズをそれぞれ測定した。耐屈曲性試験前後の透過写像性値及びヘーズの差の絶対値をそれぞれとり、透過写像性値の差(第1透過写像性値の差ΔC60(MD)、第2透過写像性値の差ΔC60(TD)及び第3透過写像性値の差ΔC)及びヘーズの差(ΔHaze)をそれぞれ算出した。
<Bending resistance test>
The optical film was subjected to a bending resistance test in accordance with JIS K 5600-5-1. The bending resistance test was carried out using a small tabletop bending tester (manufactured by Yuasa System Co., Ltd.). For the optical film after the bending resistance test, the transmission mapping property value and the haze were measured in the same manner as in the above-mentioned measuring method. Take the absolute values of the difference between the transmission mapping property value and the haze before and after the bending resistance test, and take the difference between the transmission mapping property values (difference in the first transmission mapping property value ΔC 60 (MD), difference in the second transmission mapping property value). The difference between ΔC 60 (TD) and the third transmission mapability value ΔC 0 ) and the difference in haze (ΔHaze) were calculated, respectively.

<耐折性試験(MIT)>
ASTM規格D2176−16に準拠して、実施例及び比較例における光学フィルムの折曲げ回数を以下のように求めた。該光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて幅15mm、長さ100mmの短冊状にカットし、測定試料を作製した。測定試料をMIT耐折疲労試験機((株)東洋精機製作所製「型式0530」)本体にセットした。詳しくは、測定試料の一端を荷重クランプに固定して、他端を折り曲げクランプに固定し、測定試料にテンションを加えた。この状態で、試験速度175cpm、折り曲げ角度135°、荷重0.75kgf、折り曲げクランプの屈曲半径R=3mmの条件の下、測定試料が破断するまでの裏表方向への往復折曲げ運動を行った。前記折り曲げ回数を測定した。
<Fold resistance test (MIT)>
In accordance with ASTM standard D2176-16, the number of times the optical film was bent in Examples and Comparative Examples was determined as follows. The optical film was cut into strips having a width of 15 mm and a length of 100 mm using a dumbbell cutter to prepare a measurement sample. The measurement sample was set in the main body of the MIT folding fatigue tester (“Model 0530” manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.). Specifically, one end of the measurement sample was fixed to the load clamp, the other end was fixed to the bending clamp, and tension was applied to the measurement sample. In this state, under the conditions of a test speed of 175 cpm, a bending angle of 135 °, a load of 0.75 kgf, and a bending radius of the bending clamp R = 3 mm, a reciprocating bending motion was performed in the front and back directions until the measurement sample broke. The number of bends was measured.

<視認性>
光学フィルムを10cm角にカットした。同サイズの粘着層付き偏光板のMD方向と、カットした光学フィルムのMD方向とを揃えて、前記光学フィルムに粘着層付き偏光板を貼合し、評価用試料を作製した。1つの実施例及び比較例の光学フィルムに対してそれぞれ2つの評価用試料を作製した。また、耐屈曲性試験後の実施例及び比較例の光学フィルムに対しても、それぞれ2つの評価用試料を作製した。
2つの評価用試料のうち一方の評価用試料を、評価用試料平面の垂直方向に蛍光灯が位置し、かつ評価用試料のMD方向に対して前記蛍光灯の長手方向が水平となるように台の上に固定した。
評価用試料平面の垂直方向に対して30°傾けた角度から、観察者が目視にて評価用試料表面に映る蛍光灯像を観察した。
蛍光灯の長手方向を水平から垂直に変更した以外は同様にして、もう一方の評価用試料を台に固定し、蛍光灯像を観察した。
観察結果から下記の評価基準に基づいて視認性を評価した。
(視認性の評価基準)
◎:蛍光灯像の歪みがほとんど視認されない。
○:蛍光灯像の歪みが若干視認できる。
△:蛍光灯像の歪みが視認される。
×:蛍光灯像の歪みが明確に視認される。
<Visibility>
The optical film was cut into 10 cm squares. The MD direction of the polarizing plate with an adhesive layer of the same size and the MD direction of the cut optical film were aligned, and the polarizing plate with an adhesive layer was bonded to the optical film to prepare a sample for evaluation. Two evaluation samples were prepared for each of the optical films of one example and the comparative example. In addition, two evaluation samples were prepared for each of the optical films of the examples and comparative examples after the bending resistance test.
For one of the two evaluation samples, the fluorescent lamp is located in the direction perpendicular to the evaluation sample plane, and the longitudinal direction of the fluorescent lamp is horizontal to the MD direction of the evaluation sample. Fixed on the table.
The observer visually observed the fluorescent lamp image reflected on the surface of the evaluation sample from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the evaluation sample plane.
The other evaluation sample was fixed on a table and the fluorescent lamp image was observed in the same manner except that the longitudinal direction of the fluorescent lamp was changed from horizontal to vertical.
From the observation results, the visibility was evaluated based on the following evaluation criteria.
(Visibility evaluation criteria)
⊚: The distortion of the fluorescent lamp image is hardly visible.
◯: The distortion of the fluorescent lamp image is slightly visible.
Δ: Distortion of the fluorescent lamp image is visually recognized.
X: Distortion of the fluorescent lamp image is clearly visible.

(製造例1:ポリアミドイミド樹脂(1)の調製)
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、TFMB及びDMAcをTFMBの固形分が6.08質量%となるように加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAc中に溶解させた。次に、フラスコに6FDAをTFMBに対して40.82mol%になるように添加し、室温で16時間撹拌した。その後、10℃に冷却した後に、OMTPCをTFMBに対して27.55mol%になるように加え、10分撹拌後に、さらにOMTPCをTFMBに対して27.55mоl%になるように加え、20分間撹拌した。その後、はじめに加えたDMAcと同量のDMAcを加え、10分間撹拌した後に、OMTPCをTFMBに対して6.12mol%になるように加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと4−ピコリンをそれぞれTFMBに対して61.22mol%、無水酢酸をTFMBに対して285.71mol%とを加え、30分間撹拌した後、内温を70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(1)を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(1)の重量平均分子量は、300,000であり、イミド化率は99.1%であった。
(Production Example 1: Preparation of Polyamide-imide Resin (1))
Under a nitrogen atmosphere, TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade so that the solid content of TFMB was 6.08% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6 FDA was added to the flask so as to be 40.82 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Then, after cooling to 10 ° C., OMTPC was added so as to be 27.55 mol% with respect to TFMB, and after stirring for 10 minutes, OMTPC was further added so as to be 27.55 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred for 20 minutes. bottom. Then, the same amount of DMAc as the initially added DMAc was added, and after stirring for 10 minutes, OMTPC was added so as to be 6.12 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred for 2 hours. Next, 61.22 mol% of diisopropylethylamine and 4-picoline were added to the flask with respect to TFMB, and 285.71 mol% of acetic anhydride was added with respect to TFMB, and the mixture was stirred for 30 minutes, and then the internal temperature was raised to 70 ° C. Then, the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of filaments, the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide-imide resin (1). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (1) was 300,000, and the imidization ratio was 99.1%.

(製造例2:ポリアミドイミド樹脂(2)の調製)
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、TFMB及びDMAcをTFMBの固形分が5.22質量%となるように加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAc中に溶解させた。次に、フラスコに6FDAをTFMBに対して41.24mol%になるように添加し、室温で16時間撹拌した。その後、10℃に冷却した後に、2,5−ジメチルテレフタル酸クロライド(以下、DMTPCと略すことがある)をTFMBに対して27.84mol%になるように加え、10分攪拌後に、さらにDMTPCをTFMBに対して27.84mоl%になるように加え、20分間撹拌した。その後、はじめに加えたDMAcと同量のDMAcを加え、10分間撹拌した後に、DMTPCをTFMBに対して6.19mol%になるように加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミンと4−ピコリンをそれぞれTFMBに対して61.86mol%、無水酢酸をTFMBに対して288.66mol%とを加え、30分間撹拌した後、内温を70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(2)を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(2)の重量平均分子量は、280,000であり、イミド化率は98.9%であった。
(Production Example 2: Preparation of Polyamide-imide Resin (2))
Under a nitrogen atmosphere, TFMB and DMAc were added to a separable flask equipped with a stirring blade so that the solid content of TFMB was 5.22% by mass, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6 FDA was added to the flask so as to be 41.24 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Then, after cooling to 10 ° C., 2,5-dimethylterephthalic acid chloride (hereinafter, may be abbreviated as DMTPC) is added so as to be 27.84 mol% with respect to TFMB, and after stirring for 10 minutes, DMTPC is further added. It was added to 27.84 mL with respect to TFMB, and the mixture was stirred for 20 minutes. Then, the same amount of DMAc as the initially added DMAc was added, and the mixture was stirred for 10 minutes, then DMTPC was added so as to be 6.19 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred for 2 hours. Next, diisopropylethylamine and 4-picoline were added to the flask in an amount of 61.86 mol% based on TFMB, and acetic anhydride was added in an amount of 288.66 mol% based on TFMB, and the mixture was stirred for 30 minutes, and then the internal temperature was raised to 70 ° C. Then, the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of filaments, the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide-imide resin (2). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (2) was 280,000, and the imidization ratio was 98.9%.

(製造例3:シリカ分散液の調製)
メタノール分散有機化処理シリカ(平均一次粒子径25nm)中の溶媒メタノールをγ−ブチロラクトン(GBL)に置換し、GBL分散有機化処理シリカ(固形分30.5%)を得た。この分散液を分散液(1)とした。
(Production Example 3: Preparation of silica dispersion)
The solvent methanol in the methanol-dispersed organic-treated silica (average primary particle size 25 nm) was replaced with γ-butyrolactone (GBL) to obtain GBL-dispersed organic-treated silica (solid content 30.5%). This dispersion was designated as the dispersion (1).

(製造例4:ワニスの調製)
ワニス(1)及び(2)は、ポリアミドイミド樹脂を表1に示す固形分となるようにGBLに添加し、室温にて24時間撹拌することで完全に溶解させて得た。
ワニス(3)は、ポリアミドイミド樹脂と分散液1とを、表1に示す固形分となるように室温にてGBL溶媒に添加し、均一になるまで撹拌して得た。なお、ワニス(3)中のポリアミドイミド樹脂と分散液1に含まれるフィラー(シリカ)の質量比は、60:40となるようにした。

Figure 2021148938
(Production Example 4: Preparation of varnish)
The varnishes (1) and (2) were obtained by adding a polyamide-imide resin to GBL so as to have the solid content shown in Table 1 and stirring at room temperature for 24 hours to completely dissolve the varnishes (1) and (2).
The varnish (3) was obtained by adding the polyamide-imide resin and the dispersion liquid 1 to the GBL solvent at room temperature so as to have the solid content shown in Table 1 and stirring until uniform. The mass ratio of the polyamide-imide resin in the varnish (3) to the filler (silica) contained in the dispersion 1 was set to 60:40.
Figure 2021148938

(製造例5:ハードコート層形成用組成物の製造)
35質量部のウレタンアクリレート(新中村化学工業(株)製;UA−122P)、35質量部のウレタンアクリレート(新中村化学工業(株)製;UA−232P)、25質量部のメチルエチルケトン、4.5質量部の光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)、0.5質量部のレベリング剤(ビックケミー社製;BYK−3570)を混合してハードコート層形成用組成物(1)を製造した。
(Production Example 5: Production of composition for forming a hard coat layer)
35 parts by mass of urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd .; UA-122P), 35 parts by mass of urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd .; UA-232P), 25 parts by mass of methyl ethyl ketone, 4. A hard coat layer forming composition (1) was produced by mixing 5 parts by mass of a photoinitiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone) and 0.5 parts by mass of a leveling agent (manufactured by Big Chemie; BYK-3570). ..

<実施例1>
(光学フィルム(1)の製造)
光学フィルム(1)の製造を図7及び図8を参照しながら説明する。まず、図7に示すように、厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材51(東洋紡(株)製:コスモシャイン(登録商標) A4100、以下PETフィルム基材51と称することがある)を巻き出して、線速0.30m/分で搬送しながら、該PETフィルム基材51上に、タンク522に入れたワニス(1)をノズル521から、幅500mmで流涎成形により塗布した。その後、同じ線速で搬送しながら、乾燥機53中で、120℃で20分、95℃で10分、85℃10分加熱し、塗布されたワニスを乾燥した。続いて、保護フィルム54((株)サンエー化研製;NSA−33T)をロールから巻き出して、該乾燥塗膜のPETフィルム基材51と接する面とは反対側の面に貼合した後、該乾燥塗膜からPETフィルム基材51を剥離してPETフィルム基材ロール55として巻き取り、残る積層体を、長さ100mの積層体ロール56として得た。
<Example 1>
(Manufacturing of optical film (1))
The production of the optical film (1) will be described with reference to FIGS. 7 and 8. First, as shown in FIG. 7, a polyethylene terephthalate film base material 51 having a thickness of 188 μm (manufactured by Toyobo Co., Ltd .: Cosmo Shine (registered trademark) A4100, hereinafter sometimes referred to as PET film base material 51) is unwound. The varnish (1) contained in the tank 522 was coated on the PET film base material 51 from the nozzle 521 by salivation molding with a width of 500 mm while being conveyed at a linear speed of 0.30 m / min. Then, while transporting at the same linear speed, the applied varnish was dried by heating in a dryer 53 at 120 ° C. for 20 minutes, 95 ° C. for 10 minutes, and 85 ° C. for 10 minutes. Subsequently, the protective film 54 (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd .; NSA-33T) is unwound from the roll and bonded to the surface of the dry coating film opposite to the surface in contact with the PET film base material 51. The PET film base material 51 was peeled off from the dry coating film and wound up as a PET film base material roll 55, and the remaining laminate was obtained as a laminate roll 56 having a length of 100 m.

次に、図8に示すように、得られた積層体ロール56から、搬送速度0.5m/秒で積層フィルムを巻き出し、該積層フィルムから保護フィルム54を剥離して保護フィルムロール57として巻き取り、残る乾燥塗膜を、ニップロール201及び202を通過させた後、テンター式乾燥機58中において、以下の条件で乾燥した。なお、テンター式乾燥機58は、クリップを用いてフィルムの両端部を把持する機構を備えている。また、内部はフィルムの入口側から順に第1室〜第6室に区分されている。
<テンター式乾燥機58>
クリップ把持幅(フィルムの一方端から対応するクリップ把持部までの距離):25mm
乾燥機入口におけるフィルム両端のクリップ間距離に対する乾燥機出口でのクリップ間距離の比:1.0
乾燥機内温度:200℃
乾燥機内の各室の風速:第1室13.5m/秒、第2室13m/秒、第3〜6室11m/秒
Next, as shown in FIG. 8, the laminated film is unwound from the obtained laminated body roll 56 at a transport speed of 0.5 m / sec, the protective film 54 is peeled from the laminated film, and the film is wound as the protective film roll 57. The remaining dry coating film was passed through the nip rolls 201 and 202, and then dried in the tenter type dryer 58 under the following conditions. The tenter type dryer 58 includes a mechanism for gripping both ends of the film using clips. Further, the inside is divided into rooms 1 to 6 in order from the entrance side of the film.
<Tenter type dryer 58>
Clip grip width (distance from one end of the film to the corresponding clip grip): 25 mm
Ratio of the distance between clips at the outlet of the dryer to the distance between clips at both ends of the film at the inlet of the dryer: 1.0
Dryer temperature: 200 ° C
Wind speed of each room in the dryer: 13.5 m / sec in the 1st room, 13 m / sec in the 2nd room, 11 m / sec in the 3rd to 6th rooms

テンター式乾燥機58を出た後、フィルム端部でのクリップの把持を解除した。得られたフィルムは、ニップロール203及び204を通過後、フィルムのクリップ把持部分をスリット装置59にてスリットし、次いでPET保護フィルム60を貼合し、ABS製6インチコアに巻き取って、厚さ50μmの光学フィルム61をロールとして得た。得られた光学フィルム61中の溶媒残存量は1.0質量%であった。 After leaving the tenter dryer 58, the clip was released from being gripped at the edge of the film. After passing through the nip rolls 203 and 204, the obtained film is slit at the clip gripping portion of the film by the slit device 59, then the PET protective film 60 is attached, and the film is wound around an ABS 6-inch core to have a thickness of 50 μm. The optical film 61 of the above was obtained as a roll. The residual amount of solvent in the obtained optical film 61 was 1.0% by mass.

<実施例2>
ワニス(1)をワニス(2)に変更して、乾燥機53中での乾燥条件を120℃で20分、100℃で10分、90℃で10分加熱に変更した以外は、光学フィルム(1)の製造方法と同様にして、フィルム中の溶媒残存量が1.0質量%である、厚さ49μmの光学フィルム(2)を製造した。
<Example 2>
The optical film (except that the varnish (1) was changed to the varnish (2) and the drying conditions in the dryer 53 were changed to heating at 120 ° C. for 20 minutes, 100 ° C. for 10 minutes, and 90 ° C. for 10 minutes. In the same manner as in the production method of 1), an optical film (2) having a thickness of 49 μm and having a residual amount of solvent in the film of 1.0% by mass was produced.

<実施例3>
(光学フィルム(3)の製造)
製造例5で作製したハードコート層形成用組成物(1)を、実施例2で得た光学フィルム(2)の、製膜時にPET基材フィルムと接触していた面に、硬化後の第1ハードコート層の厚さが3μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用いて光量350mJ/cmで光を照射し、塗膜を硬化して第1ハードコート層を形成して、ハードコート層を含む光学フィルム(3)を製造した。
<Example 3>
(Manufacturing of optical film (3))
The composition (1) for forming a hard coat layer produced in Production Example 5 was applied to the surface of the optical film (2) obtained in Example 2 in contact with the PET base film at the time of film formation, after curing. 1 The hard coat layer was applied so as to have a thickness of 3 μm, and dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. Then, light was irradiated with a light amount of 350 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to cure the coating film to form a first hard coat layer, thereby producing an optical film (3) containing the hard coat layer.

<実施例4>
ワニス(1)をワニス(3)に変更して、線速を0.30m/分から0.50m/分に変更した以外は、光学フィルム(1)の製造方法と同様にして、フィルム中の溶媒残存量が1.0質量%である、厚さ51μmの光学フィルム(4)を製造した。
<Example 4>
The solvent in the film was the same as the method for producing the optical film (1), except that the varnish (1) was changed to the varnish (3) and the linear velocity was changed from 0.30 m / min to 0.50 m / min. An optical film (4) having a thickness of 51 μm and having a residual amount of 1.0% by mass was produced.

<比較例1>
光学フィルム(5)として厚さ50μmのポリイミドフィルム(宇部興産(株)製;UPILEX)を準備した。
<Comparative example 1>
As the optical film (5), a polyimide film having a thickness of 50 μm (manufactured by Ube Industries, Ltd .; UPILEX) was prepared.

組成物の処方及び光学フィルムの組成を表2にまとめた。なお、表2中、欄「HC有無
」は、光学フィルムがハードコート層を備える場合を有とし、備えない場合を無とした。
The formulation of the composition and the composition of the optical film are summarized in Table 2. In Table 2, the column "with or without HC" indicates that the optical film has a hard coat layer and does not have a hard coat layer.

Figure 2021148938
Figure 2021148938

実施例及び比較例で得たフィルムについて、上記の方法に従い各物性値を測定した。得られた結果を表3〜表6に示す。 For the films obtained in Examples and Comparative Examples, the physical property values were measured according to the above method. The obtained results are shown in Tables 3 to 6.

Figure 2021148938
Figure 2021148938

Figure 2021148938
Figure 2021148938

Figure 2021148938
Figure 2021148938

Figure 2021148938
Figure 2021148938

全光線透過率及びヘーズが所定の範囲内であり、数式(1)〜(3)を満たす実施例1〜4の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れるフィルムであることが確認された。また、本発明の光学フィルムは、本発明の好ましい一態様において、耐屈曲試験前後の写像性値の差およびヘーズの差が小さく、繰り返しの折り曲げ操作後であっても広角方向の視認性に優れることが確認された。また、本発明の光学フィルムは上記特徴を有すると共に、Rが40〜300nmの範囲内であった。このような光学フィルムは、高温処理時の反りや層間剥離が生じにくいと考えられる。これに対し、全光線透過率及びヘーズが所定の範囲内ではなく、数式(1)〜(3)を満たさない比較例1の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れるものではなかった。また、Rが300nmを超えており、歪みの大きいフィルムであると考えられる。 It was confirmed that the optical films of Examples 1 to 4 in which the total light transmittance and the haze were within the predetermined ranges and the formulas (1) to (3) were satisfied were excellent in visibility in the wide angle direction. Further, in a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention has a small difference in mapping property values and a difference in haze before and after the bending resistance test, and is excellent in visibility in the wide-angle direction even after repeated bending operations. It was confirmed that. Further, the optical film of the present invention has the above-mentioned characteristics and R 0 is in the range of 40 to 300 nm. It is considered that such an optical film is unlikely to cause warpage or delamination during high temperature treatment. On the other hand, the optical film of Comparative Example 1 in which the total light transmittance and the haze were not within the predetermined ranges and did not satisfy the mathematical formulas (1) to (3) was not excellent in visibility in the wide-angle direction. Further, R 0 exceeds 300 nm, and it is considered that the film has a large distortion.

1 光学フィルム
3 垂直軸
10 第1入射光
11 第1入射位置
12 第1a透過光
14 第1光軸
16 第1光学櫛
18 第1b透過光
19 第1受光器
20 第2入射光
21 第2入射位置
22 第2a透過光
24 第2光軸
26 第2光学櫛
28 第2b透過光
29 第2受光器
30 第3入射光
31 第3入射位置
32 第3a透過光
34 第3光軸
36 第3光学櫛
38 第3b透過光
39 第3受光器
40 ゾーン
41 ゾーン
42 ゾーン
43 把持装置
44 原料フィルム
45 樹脂フィルム
46 上側ノズル(ノズル)
47 下側ノズル(ノズル)
48 ノズル
49 IRヒーター
100 テンター炉
100a 上面
100b 下面
A フィルムの搬送方向
51 PETフィルム基材
521 ノズル
522 タンク
53 乾燥機
54 保護フィルム
55 PETフィルム基材ロール
56 積層体ロール
57 保護フィルムロール
58 テンター式乾燥機
201 ニップロール
202 ニップロール
59 スリット装置
60 PET保護フィルム
61 光学フィルム
201〜204 ニップロール
101〜109 ガイドロール
1 Optical film 3 Vertical axis 10 1st incident light 11 1st incident position 12 1st a transmitted light 14 1st optical axis 16 1st optical comb 18 1st b transmitted light 19 1st receiver 20 2nd incident light 21 2nd incident Position 22 2nd a transmitted light 24 2nd optical axis 26 2nd optical comb 28 2nd b transmitted light 29 2nd receiver 30 3rd incident light 31 3rd incident position 32 3a transmitted light 34 3rd optical axis 36 3rd optical Comb 38 3b transmitted light 39 3rd receiver 40 zone 41 zone 42 zone 43 gripping device 44 raw material film 45 resin film 46 upper nozzle (nozzle)
47 Lower nozzle (nozzle)
48 Nozzle 49 IR heater 100 Tenter furnace 100a Upper surface 100b Lower surface A Film transport direction 51 PET film base material 521 Nozzle 522 Tank 53 Dryer 54 Protective film 55 PET film base material roll 56 Laminated roll 57 Protective film roll 58 Tenter type drying Machine 201 Nip Roll 202 Nip Roll 59 Slit Device 60 PET Protective Film 61 Optical Film 201-204 Nip Roll 101-109 Guide Roll

Claims (12)

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、全光線透過率が85%以上であり、ヘーズが0.5%以下であり、面内位相差Rが40nm〜300nmであり、
前記光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をMD方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をTD方向としたときに、
JIS K 7374に準拠して光学櫛の幅が0.125mmである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該MD方向に60°傾斜した方向の第1透過写像性値C60(MD)と、該垂直方向から該TD方向に60°傾斜した方向の第2透過写像性値C60(TD)と、該垂直方向の第3透過写像性値Cとが、
数式(1):
87%≦C60(MD)≦100%・・・(1)、
数式(2):
87%≦C60(TD)≦100%・・・(2)、及び
数式(3):
0.8≦C60(MD)/C≦1.0・・・(3)
を満たす、光学フィルム。
An optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, having a total light transmittance of 85% or more, a haze of 0.5% or less, and in-plane. The phase difference R 0 is 40 nm to 300 nm, and the phase difference R 0 is 40 nm to 300 nm.
When the direction parallel to the machine flow direction at the time of manufacture in the optical film plane is the MD direction and the direction perpendicular to the machine flow direction is the TD direction,
The first transmission mapping property value C in the direction inclined by 60 ° in the MD direction from the direction perpendicular to the plane of the optical film, which is obtained when the width of the optical comb is 0.125 mm in accordance with JIS K 7374. The 60 (MD), the second transmission mapping property value C 60 (TD) in the direction inclined by 60 ° from the vertical direction to the TD direction, and the third transmission mapping property value C 0 in the vertical direction are
Formula (1):
87% ≤ C 60 (MD) ≤ 100% ... (1),
Formula (2):
87% ≤ C 60 (TD) ≤ 100% ... (2), and mathematical formula (3):
0.8 ≤ C 60 (MD) / C 0 ≤ 1.0 ... (3)
An optical film that meets the requirements.
前記第2透過写像性値及び前記第3透過写像性値は、数式(4):
0.9≦C60(TD)/C≦1.0・・・(4)
をさらに満たす、請求項1に記載の光学フィルム。
The second transmission mapping property value and the third transmission mapping property value are calculated by the mathematical formula (4):
0.9 ≤ C 60 (TD) / C 0 ≤ 1.0 ... (4)
The optical film according to claim 1, further satisfying the above.
面内位相差Rnmと厚み方向の位相差Rthnmとが、数式(5):
3≦Rth/R≦200・・・(5)
を満たす、請求項1又は2に記載の光学フィルム。
The in-plane phase difference R 0 nm and the thickness direction phase difference R th nm are mathematical formulas (5):
3 ≤ R th / R 0 ≤ 200 ... (5)
The optical film according to claim 1 or 2, which satisfies the above conditions.
JIS K 5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差ΔHazeが0.3%未満である、請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the haze difference ΔHaze before and after the bending resistance test according to JIS K 5600-5-1 is less than 0.3%. JIS K 5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験前後の前記第1透過写像性値の差ΔC60(MD)、前記第2透過写像性値の差ΔC60(TD)、及び前記第3透過写像性値の差ΔCがそれぞれ15未満である、請求項1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。 The difference in the first transmission mapping property value before and after the bending resistance test according to JIS K 5600-5-1 ΔC 60 (MD), the difference in the second transmission mapping property value ΔC 60 (TD), and the third. The optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the difference ΔC 0 of the transmission mapping property values is less than 15, respectively. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される樹脂の重量平均分子量は350,000以下である、請求項1〜5のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin has a weight average molecular weight of 350,000 or less. 厚さが10〜150μmである、請求項1〜6のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 6, which has a thickness of 10 to 150 μm. 少なくとも一方の面にハードコート層を有する、請求項1〜7のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 7, which has a hard coat layer on at least one surface. 前記ハードコート層の厚さは3〜30μmである、請求項8に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 8, wherein the hard coat layer has a thickness of 3 to 30 μm. 請求項1〜9のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。 A flexible display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 9. さらに、タッチセンサを備える、請求項10に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 10, further comprising a touch sensor. さらに、偏光板を備える、請求項10又は11に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 10 or 11, further comprising a polarizing plate.
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