KR20200056902A - Metal nanowire embedded transparent electrode having concavoconvex structure integrated on both sides and method for manufacturing the same - Google Patents

Metal nanowire embedded transparent electrode having concavoconvex structure integrated on both sides and method for manufacturing the same Download PDF

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KR20200056902A
KR20200056902A KR1020190073425A KR20190073425A KR20200056902A KR 20200056902 A KR20200056902 A KR 20200056902A KR 1020190073425 A KR1020190073425 A KR 1020190073425A KR 20190073425 A KR20190073425 A KR 20190073425A KR 20200056902 A KR20200056902 A KR 20200056902A
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Abstract

The present invention relates to a transparent electrode which has an integrated concavo-convex structure on both sides and is embedded with metal nanowires, and a method for manufacturing the same. According to the present invention, excellent optical properties can be ensured by the integrated concavo-convex structure on both sides of the transparent electrode.

Description

양면에 일체화된 요철구조를 갖는 금속 나노와이어 함침형 투명전극 및 이의 제조방법{METAL NANOWIRE EMBEDDED TRANSPARENT ELECTRODE HAVING CONCAVOCONVEX STRUCTURE INTEGRATED ON BOTH SIDES AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}METAL NANOWIRE EMBEDDED TRANSPARENT ELECTRODE HAVING CONCAVOCONVEX STRUCTURE INTEGRATED ON BOTH SIDES AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은, 광학적 특성을 향상시키기 위한 표면 요철구조를 갖는, 금속 나노와이어 함침형 투명전극에 관한 것이다.The present invention relates to a metal nanowire-impregnated transparent electrode having a surface uneven structure for improving optical properties.

투명전극은 광학적, 전기적 특성을 갖는 전도성 박막으로 디스플레이, 태양전지, 터치패널, 광센서 등 다양한 광전자소자에 사용되고 있는 소재이다. 이러한 광전자소자 시장은 IT산업의 발전으로 인해 매년 급격히 확대되고 있어, 투명전극에 대한 수요 역시 점점 증가하고 있다.The transparent electrode is a conductive thin film having optical and electrical properties, and is a material used in various optoelectronic devices such as displays, solar cells, touch panels, and optical sensors. The optoelectronic device market is rapidly expanding every year due to the development of the IT industry, and the demand for transparent electrodes is also increasing.

현재 투명전극 재료로는, ITO(Indium Tin Oxide)가 우수한 광학적, 전기적 특성으로 인하여 가장 많이 사용되고 있다. 하지만 현대 과학 기술이 급속도로 발달해 가면서 투명전극은 광학적, 전기적 특성뿐만 아니라 차세대 전자소자에 필요한 유연성, 웨어러블 특성들이 요구되고 있다. ITO 박막은 산화물의 취성 특성으로 인하여 차세대 플렉서블 광전자소자에 적합하지 않다는 단점과 인듐 자원의 희소성으로 인한 가격 상승, ITO 박막 제작 시 고진공 장비를 필요로 하기 때문에 높은 공정비용이 발생한다는 문제점이 있다. 따라서 차세대 전자소자에 적용하기 어려운 단점이 있어, 대체 투명전극에 대한 다양한 연구가 진행되고 있으며, 대표적으로 CNT(carbon nanotube), 그래핀, 금속 나노와이어, 전도성 고분자 등이 있다.Currently, as a transparent electrode material, ITO (Indium Tin Oxide) is most often used due to its excellent optical and electrical properties. However, with the rapid development of modern science and technology, transparent electrodes require not only optical and electrical properties, but also flexibility and wearable properties required for next-generation electronic devices. The ITO thin film has disadvantages that it is not suitable for the next-generation flexible optoelectronic device due to the brittleness of the oxide, and a high process cost occurs due to the high price due to the scarcity of indium resources and high vacuum equipment when manufacturing the ITO thin film. Therefore, there are disadvantages that are difficult to apply to next-generation electronic devices, and various studies on alternative transparent electrodes have been conducted, and there are typically CNTs (carbon nanotubes), graphene, metal nanowires, and conductive polymers.

이 중, 금속 나노와이어는 우수한 광학적, 전기적, 기계적 특성뿐만 아니라, 용액 공정을 통해 생산 가능하다는 장점이 있다. 또한, 금속 나노와이어를 고분자 기지에 함침시켜 제작된 투명전극은, 기존의 문제점인 높은 표면 거칠기, 산화, 기판과의 접착력 부족 문제를 해결할 수 있는 장점이 있어, 대체 투명전극으로 특히 부각되고 있다.Among these, metal nanowires have an advantage of being capable of being produced through a solution process as well as excellent optical, electrical, and mechanical properties. In addition, a transparent electrode made by impregnating a metal nanowire with a polymer base has an advantage that can solve the problems of high surface roughness, oxidation, and lack of adhesion with a substrate, which is an existing problem, and is particularly highlighted as an alternative transparent electrode.

한편, 투명전극을 도입한 유기태양전지는, 광흡수층의 도너물질이 빛을 받아 엑시톤(전자-전공 쌍)을 생성하고, 엑시톤이 무작위로 움직이다가 도너물질과 억셉터물질의 계면에서 전자와 정공으로 분리되어, 전극으로 이동, 전기가 발생하는 원리이다. 이때 엑시톤의 수명은 매우 짧아, 유기태양전지의 광흡수층은 50 내지 300 nm로 얇게 설계될 수 밖에 없다. 이러한 광흡수층은 입사되는 빛을 충분히 흡수하지 못해, 유기태양전지는 낮은 전류밀도 특성이 나타나는 문제가 발생한다. 이에, 유기태양전지의 상용화를 위해서는 광흡수 효율의 개선은 반드시 해결되어야 할 문제이다.On the other hand, in the organic solar cell incorporating a transparent electrode, the donor material in the light absorbing layer receives light to generate excitons (electron-electron pairs), and the excitons move randomly, and then the electrons and electrons at the interface between the donor material and the acceptor material. It is a principle that is separated into holes, moves to an electrode, and generates electricity. At this time, the life of the exciton is very short, and the light absorbing layer of the organic solar cell is inevitably designed to be 50 to 300 nm thin. Since the light absorbing layer does not sufficiently absorb the incident light, the organic solar cell exhibits a problem of exhibiting low current density characteristics. Therefore, in order to commercialize the organic solar cell, improvement of light absorption efficiency is a problem that must be solved.

따라서, 이를 위한 다양한 연구가 진행되어 왔으며, 대표적으로는, 새로운 광흡수층 물질의 개발, 계면 특성 제어, 물리구조의 도입을 통한 광학적 설계 등이 있다. 이 중 물리구조의 도입은, 광흡수층의 두께 변화 없이, 물리구조를 통해 입사되는 빛의 광학적 거동을 제어하는 방법으로, 다른 방법에 비해 간단하면서도 효과적인 장점이 있다. 구체적으로, 유기태양전지의 투명전극에 입사되는 빛이 물리구조에 의해 굴절, 산란, 재반사되어, 광손실을 줄이고, 내부에서의 광경로를 증가시킴으로써, 광흡수를 증가시키는 원리이다.Accordingly, various studies have been conducted for this purpose, and representative examples include the development of a new light absorbing layer material, control of interfacial properties, and optical design through the introduction of a physical structure. Among them, the introduction of the physical structure is a method of controlling the optical behavior of light incident through the physical structure without changing the thickness of the light absorbing layer, and has a simple and effective advantage compared to other methods. Specifically, the light incident on the transparent electrode of the organic solar cell is refracted, scattered and re-reflected by the physical structure, thereby reducing light loss and increasing the optical path inside, thereby increasing light absorption.

이러한 물리구조를 도입하기 위한 종래의 방법으로는, 포토리소그래피를 이용한 방법, 또는 별도의 물리구조체를 부착, 적층하는 방법이 있다. 다만, 포토리소그래피를 이용한 방법의 경우, 공정이 복잡하고, 고가의 장비가 필요한 단점이 있다. 또한, 별도의 물리구조체를 부착, 적층하는 방법의 경우, 물리구조체의 제조 및 적층 등의 공정이 추가로 필요하게 되어, 공정이 복잡화되며, 제조된 투명전극은 물리구조체의 굴절률 차이로 광학적 특성이 저하되는 문제가 있다.As a conventional method for introducing such a physical structure, there is a method using photolithography, or a method of attaching and laminating separate physical structures. However, in the case of a method using photolithography, the process is complicated and requires expensive equipment. In addition, in the case of a method of attaching and stacking a separate physical structure, processes such as manufacturing and stacking of the physical structure are additionally required, and the process is complicated, and the manufactured transparent electrode has optical characteristics due to a difference in refractive index of the physical structure. There is a problem of deterioration.

이에, 우수한 광학적 특성을 갖고, 광전자소자의 광흡수율 및 광효율을 현저히 향상시킬 수 있는 투명전극, 및 이를 고가의 장비가 없이, 보다 간단하게 제조할 수 있는, 최적의 방법이 필요하다.Accordingly, there is a need for a transparent electrode having excellent optical properties and capable of significantly improving the light absorption and light efficiency of an optoelectronic device, and an optimal method that can be manufactured more simply and without expensive equipment.

대한민국 공개특허공보 제10-2018-0057898호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2018-0057898

본 발명은, 상술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 포토리소그래피 등을 사용하는 종래의 방법과 달리, 고가의 장비 없이, 보다 간단한 공정으로, 양면에 요철구조가 형성되어 있는, 투명전극의 제조방법을 제공하는 데 목적이 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problem, and unlike the conventional method using photolithography, a method of manufacturing a transparent electrode having uneven structures formed on both surfaces in a simpler process without expensive equipment The purpose is to provide.

또한, 본 발명은, 별도의 물리구조체의 적층 공정 없이, 양면에 요철구조가 일체로 형성되어 있는, 투명전극의 제조방법을 제공하는 데 있다.In addition, the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode in which uneven structures are integrally formed on both sides without a separate process of stacking physical structures.

또한, 본 발명의 목적은, 정교하고, 견고한, 미세 요철구조가 양면에 일체로 형성되어 있는, 투명전극의 제조방법을 제공하는 데 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode in which a fine, rugged, fine uneven structure is integrally formed on both sides.

또한, 본 발명의 목적은, 우수한 광학적 특성을 갖고, 광전자소자에 적용 시 광흡수율 및 광효율을 현저히 향상시킬 수 있는, 투명전극을 제공하는 데 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a transparent electrode having excellent optical properties and capable of significantly improving light absorption and light efficiency when applied to an optoelectronic device.

상술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, (a)기판 상에, 전사 및 경화에 의해 상면에 요철구조를 갖는, 제 1 경화수지층을 형성하는 단계, (b)상기 제 1 경화수지층 상에, 상기 요철구조의 형상을 갖는, 이형층을 형성하는 단계, (c)상기 이형층 상에, 상기 요철구조의 형상을 갖는, 금속 나노와이어층을 형성하는 단계, (d)상기 금속 나노와이어층 상에, 전사 및 경화에 의해 상면에 요철구조를 갖고, 금속 나노와이어의 함침이 이루어진 제 2 경화수지층을 형성하는 단계, 및 (e)상기 제 2 경화수지층을 분리하여, 상면 및 하면에 요철구조를 갖고, 금속 나노와이어가 함침된, 경화필름을 수득하는 단계,를 포함하는, 투명전극의 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, (a) forming a first cured resin layer having a concavo-convex structure on the upper surface by transfer and curing on the substrate, (b) the first cured resin layer On, forming a release layer having a shape of the uneven structure, (c) forming a metal nanowire layer having the shape of the uneven structure on the release layer, (d) the metal nano Forming a second cured resin layer having a concavo-convex structure on the upper surface by transfer and curing, and impregnating the metal nanowires, and (e) separating the second cured resin layer to form an upper surface and It provides a method of manufacturing a transparent electrode, including the step of obtaining a cured film having an uneven structure on the lower surface and impregnated with metal nanowires.

본 발명의 일 예에 따른 경우, 상기 (a) 또는 (d)단계는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 경화성 수지층을 형성하는 단계; 상기 경화성 수지층에, 요철구조를 갖는 실록산계 수지 몰드를 밀착시키는 단계; 상기 경화성 수지층을 경화시키는 단계; 및 상기 실록산계 수지 몰드를 제거하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.According to an example of the present invention, the step (a) or (d) is not particularly limited, forming a curable resin layer; Adhering a siloxane-based resin mold having an uneven structure to the curable resin layer; Curing the curable resin layer; And removing the siloxane-based resin mold.

이때, 상기 실록산계 수지 몰드의 요철구조는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 마이크로렌즈 어레이 구조인 것일 수 있다.At this time, the uneven structure of the siloxane-based resin mold is not particularly limited, but may be a microlens array structure.

또한, 상기 (a)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 0.1 내지 10 ㎛일 수 있다.In addition, the diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the siloxane-based resin mold in the step (a) is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but is not limited to 0.1 to 10 μm. Can be

또한, 상기 (d)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 3 내지 30 ㎛일 수 있다.In addition, the diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the siloxane-based resin mold in the step (d) is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but is 3 to 30 μm. Can be

또한 본 발명은, 경화필름을 포함하는 투명전극으로서, 상기 경화필름은 상면 및 하면에 일체의 요철구조를 갖고 금속 나노와이어가 함침되어 있는 것인, 투명전극을 제공한다.In addition, the present invention, as a transparent electrode comprising a cured film, the cured film has a concavo-convex structure on the upper and lower surfaces, and the metal nanowires are impregnated.

본 발명의 일 예에 따른 경우, 상기 요철구조는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 마이크로렌즈 어레이 구조일 수 있다.According to an example of the present invention, the uneven structure is not particularly limited, but may be a microlens array structure.

이때, 상기 경화필름 상면의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 3 내지 30 ㎛인 것일 수 있다.At this time, the diameter of each micro-lens constituting the micro-lens array structure on the top surface of the cured film is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but may be 3 to 30 μm.

또한, 상기 경화필름 하면의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 0.1 내지 10 ㎛인 것일 수 있다.In addition, the diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the lower surface of the cured film is not particularly limited, but may be 0.1 to 10 μm, as long as the objective of the present invention is achieved.

본 발명에 따른 경우, 포토리소그래피 등을 사용하는 종래의 방법과 달리, 고가의 장비 없이, 간단한 공정으로, 양면에 일체의 요철구조를 갖는 투명전극을 제조할 수 있다.In the case of the present invention, unlike the conventional method using photolithography or the like, a transparent electrode having an uneven structure on both surfaces can be manufactured in a simple process without expensive equipment.

또한, 본 발명에 따른 경우, 별도의 물리구조체의 적층 공정 없이, 양면에 일체의 요철구조를 갖는 투명전극을 간단하고도 효율적으로 제조할 수 있다.In addition, in the case of the present invention, a transparent electrode having an uneven structure on both surfaces can be manufactured simply and efficiently, without a separate process of stacking physical structures.

또한, 본 발명은, 정교하고 견고한 미세 요철구조가 양면에 일체로 형성되어 있는, 투명전극을 제조할 수 있는 최적의 방법을 제공한다.In addition, the present invention provides an optimal method for manufacturing a transparent electrode in which a fine and rugged fine uneven structure is integrally formed on both sides.

또한, 본 발명은, 양면의 일체화된 요철구조에 의해 광학적 특성이 우수하고, 광전자소자에 적용 시 광흡수율 및 광효율을 현저히 향상시킬 수 있는 투명전극을 제공한다.In addition, the present invention provides a transparent electrode that has excellent optical properties due to an integrated uneven structure on both sides, and can significantly improve light absorption and light efficiency when applied to an optoelectronic device.

본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 다른 정의가 없다면 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.All terms used in this specification (including technical and scientific terms) may be used in a sense that can be commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, unless otherwise defined. When a certain part of the specification "includes" a certain component, this means that other components may be further included instead of excluding other components unless specifically stated otherwise. Also, the singular form includes the plural form unless otherwise specified in the phrase.

본 발명에서의 "요철구조"는, 오목한 부분과 볼록한 부분이 주기적이고 규칙적으로, 또는 무작위로 형성된 것을 의미할 수 있으며, 그 형상에는 특별한 제한이 없다. 구체적인 일 예로, 요철구조로는, 격자구조, 주름구조, 마이크로렌즈 어레이 구조 등의 다양한 구조가 채택, 응용될 수 있다.In the present invention, "concave-convex structure" may mean that the concave and convex portions are formed periodically, regularly, or randomly, and there is no particular limitation on the shape. As a specific example, as the uneven structure, various structures such as a lattice structure, a wrinkle structure, and a micro lens array structure may be adopted and applied.

본 발명에서의 "비상용성"은, 서로 친화성이 없고, 용해도 상수(solubility parameter)가 서로 달라, 이형성(release properties)을 갖는 것을 의미한다."Incompatibility" in the present invention means that they have no release properties because they are not compatible with each other and have different solubility parameters.

구체적으로는, 용해도 상수의 차이인 Δδ가 하기 식 2를 만족하는 것을 의미한다.Specifically, it means that Δδ, which is a difference in solubility constant, satisfies Expression 2 below.

[식 2][Equation 2]

2 ≤Δδ2 ≤Δδ

상기 식 2에서 단위는 J1/2/cm2/3이다.In Equation 2, the unit is J 1/2 / cm 2/3 .

본 발명에서 "이형성(release properties)"이라 함은, 서로 간에 느슨하게 부착되어 있어, 손가락이나 면봉 등을 이용하여 물리적인 힘을 가해 밀어냄으로써 쉽게 제거될 수 있음을 의미한다.In the present invention, the term "release properties" means that they are loosely attached to each other and can be easily removed by applying a physical force using a finger or a cotton swab.

본 발명은, 양면에 일체의 요철구조를 갖고 금속 나노와이어가 함침되어 있는 경화필름을 포함하는, 투명전극 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent electrode and a method for manufacturing the same, including a cured film having an uneven structure on both sides and impregnated with metal nanowires.

구체적으로, 본 발명은, (a)기판 상에, 전사 및 경화에 의해 상면에 요철구조를 갖는, 제 1 경화수지층을 형성하는 단계, (b)상기 제 1 경화수지층 상에, 상기 요철구조의 형상을 갖는, 이형층을 형성하는 단계, (c)상기 이형층 상에, 상기 요철구조의 형상을 갖는, 금속 나노와이어층을 형성하는 단계, (d)상기 금속 나노와이어층 상에, 전사 및 경화에 의해 상면에 요철구조를 갖고, 금속 나노와이어의 함침이 이루어진, 제 2 경화수지층을 형성하는 단계, 및 (e)상기 제 2 경화수지층을 분리하여, 상면 및 하면에 요철구조를 갖고, 금속 나노와이어가 함침된, 경화필름을 수득하는 단계,를 포함하는, 투명전극의 제조방법을 제공한다.Specifically, the present invention, (a) forming a first cured resin layer having an uneven structure on the upper surface by transfer and curing on a substrate, (b) on the first cured resin layer, the unevenness Forming a release layer having a shape of a structure, (c) forming a metal nanowire layer having the shape of the uneven structure, on the release layer, (d) on the metal nanowire layer, Forming a second cured resin layer having an uneven structure on the upper surface by transfer and curing and impregnating metal nanowires, and (e) separating the second cured resin layer, thereby forming an uneven structure on the upper and lower surfaces It provides a method of manufacturing a transparent electrode, comprising, the step of obtaining a cured film, impregnated with metal nanowires.

본 발명에 따른 경우, 이형층과 금속 나노와이어층 사이의 비상용성으로 인해, 금속 나노와이어가, 제 2 경화수지층으로 보다 쉽게 함침될 수 있다. 이에, 금속 나노와이어가 함침되어 있는 경화필름을 간단하고도 쉽게 제조할 수 있다.According to the present invention, due to the incompatibility between the release layer and the metal nanowire layer, the metal nanowire can be more easily impregnated with the second cured resin layer. Accordingly, a cured film impregnated with metal nanowires can be manufactured simply and easily.

또한, 이형층과 제 2 경화수지층 사이의 이형성으로 인해, 이형층으로부터 제 2 경화수지층을 쉽게 분리할 수 있다. 이에, 분리 시, 제 2 경화수지층 상면 및 하면에 존재하는 미세한 요철구조가 정교히 유지될 수 있어, 분리된 경화필름은 양면에 정교하고도 미세한 요철구조를 가질 수 있다.In addition, due to the releasability between the release layer and the second cured resin layer, the second cured resin layer can be easily separated from the release layer. Accordingly, when separating, the finely uneven structures existing on the upper and lower surfaces of the second cured resin layer can be precisely maintained, so that the separated cured film can have fine and fine uneven structures on both sides.

이러한 본 발명의 경화필름은, 그 자체로 투명전극으로 사용될 수도 있고, 이에 다른 필름을 적층하거나, 막을 형성시켜, 복합화된 투명전극으로 사용될 수도 있다. 다만, 본 발명의 경화필름은 그 자체로도 투명전극으로 사용 시, 우수한 광학적 특성을 갖는 특징이 있다.The cured film of the present invention may be used as a transparent electrode by itself, or may be used as a composite transparent electrode by laminating another film or forming a film. However, the cured film of the present invention is characterized by having excellent optical properties when used as a transparent electrode itself.

또한, 본 발명에 따른 경우, 별도의 물리구조체의 제조 및 적층 공정 없이, 양면에 일체의 요철구조를 갖는 투명전극을 제조할 수 있어, 공정이 보다 간단하다. 또한, 종래와 달리, 고가의 장비 없이 요철구조를 형성시킬 수 있어, 양면에 일체의 요철구조를 갖는 투명전극의 제조에 있어, 최적의 방법을 제공할 수 있다.In addition, in the case of the present invention, a transparent electrode having an uneven structure on both surfaces can be manufactured without a separate physical structure manufacturing and laminating process, and the process is simpler. In addition, unlike the conventional method, an uneven structure can be formed without expensive equipment, and thus, an optimal method can be provided in the production of a transparent electrode having an uneven structure on both sides.

이하 본 발명에 대해 보다 더 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 기판은, 특별히 제한되는 것은 아니나, 실리콘 기판, 석영 기판, 유리 기판, 실리콘 웨이퍼, 고분자 기판, 금속 기판 및 금속 산화물 기판에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.The substrate of the present invention is not particularly limited, but may be any one selected from silicon substrates, quartz substrates, glass substrates, silicon wafers, polymer substrates, metal substrates, and metal oxide substrates.

상기 고분자 기판으로는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에틸렌나프탈레이트, 시클로올레핀 폴리머 등과 같은 필름 기판을 채택할 수 있다. 다만, 제조 및 수급이 용이한 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼가 선호될 수 있다.The polymer substrate is not particularly limited, and a film substrate such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer may be used. However, a glass substrate or a silicon wafer that can be easily manufactured and supplied may be preferred.

본 발명의 제 1 경화수지층은, 경화성 수지를 기판 상에 도포하여, 경화성 수지층을 형성하고, 상기 경화성 수지층 상면에 전사 및 경화를 통해 요철구조를 형성시킴으로써, 형성할 수 있다.The first cured resin layer of the present invention can be formed by applying a curable resin on a substrate to form a curable resin layer, and forming an uneven structure through transfer and curing on the upper surface of the curable resin layer.

상기 경화성 수지는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 자외선 경화성 수지, 열경화성 수지, 상온 습기 경화성 수지, 및 적외선 경화성 수지에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.The curable resin is not particularly limited, but may be any one selected from ultraviolet curable resin, thermosetting resin, room temperature moisture curable resin, and infrared curable resin.

다만, 보다 구체적으로 상기 경화성 수지는, 자외선 경화성 수지일 수 있고, 이때, 상기 자외선 경화성 수지로는, 자외선 광에 노출 시 완전히 경화되는 특성을 갖는 것이라면, 특별히 제한되지 않고 채택될 수 있다. 보다 구체적인 일 예로, Norland Products사의 Norland Optical Adhesive 시리즈의 NOA60, NOA61, NOA63, NOA65, NOA68, NOA68T, NOA71, NOA72, NOA73, NOA74, NOA75, NOA76, NOA78, NOA81, NOA83H, NOA84, NOA85, NOA85V, NOA86, NOA86H, NOA87, NOA88, NOA89 등에서 채택될 수 있으며, 물론 이에 제한되는 것은 아니다.However, more specifically, the curable resin may be an ultraviolet curable resin, and at this time, as the ultraviolet curable resin, as long as it has a property of being completely cured upon exposure to ultraviolet light, it is not particularly limited and may be adopted. More specific examples include NOA60, NOA61, NOA63, NOA65, NOA68, NOA68T, NOA71, NOA72, NOA73, NOA74, NOA75, NOA76, NOA78, NOA81, NOA83H, NOA84, NOA85, NOA85V, NOA86 from the Norland Optical Adhesive series of Norland Products , NOA86H, NOA87, NOA88, NOA89, and the like, but are not limited thereto.

상기 도포의 방법으로는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 스핀 코팅, 바 코팅, 롤투롤 코팅 등의 방법이 채용될 수 있다.The coating method is not particularly limited, but a method such as spin coating, bar coating, and roll-to-roll coating may be employed.

상기 전사 방법으로는, 소프트 리소그래피(soft lithography) 프린팅 방법 또는 소프트 리소그래피 몰딩 방법이 사용될 수 있다.As the transfer method, a soft lithography printing method or a soft lithography molding method may be used.

보다 구체적으로, 이에 특별히 제한되는 것은 아니지만, 상기 프린팅 방법은, 미세접촉 프린팅(microcontact printing), 데칼전사 리소그래피(decal transfer microlithography), 광 스탬프(light stamp) 등의 프린팅 방법일 수 있으며, 상기 몰딩 방법은, 레플리카 몰딩(replica molding), 모세관 힘 리소그래피(capillary force lithography), 모세관 미세 몰딩(micromolding in capillaries), 미세전사 몰딩(microtransfer molding), 나노 임프린팅(nano imprinting), 액체 중재 전사 몰딩(liquid bridge mediated nanotransfer molding) 등의 몰딩 방법일 수 있다.More specifically, although not particularly limited thereto, the printing method may be a printing method such as microcontact printing, decal transfer microlithography, light stamp, or the like, and the molding method. Silver, replica molding, capillary force lithography, capillary micromolding in capillaries, microtransfer molding, nano imprinting, liquid-mediated transfer molding It may be a molding method such as mediated nanotransfer molding.

본 발명의 이형층은, 상면에 요철구조를 갖는 제 1 경화수지층 상에, 소수성 수지를 도포하여 형성할 수 있다. 이때 경화를 추가로 진행할 수 있다.The release layer of the present invention can be formed by applying a hydrophobic resin on the first cured resin layer having an uneven structure on the upper surface. At this time, curing may be further performed.

상기 이형층은, 제 1 경화수지층 상면의 요철구조에 따라 형상이 제어되어, 상기 요철구조의 형상을 갖는 특징이 있다. 이때 도포는, 상기 요철구조에 따라 이형층의 형상이 제어될 수 있는 코팅 방법이라면 어느 것이든 채용될 수 있으나, 이를 위한 보다 쉬운 방법으로, 스핀 코팅 방법이 선호될 수 있다.The release layer is characterized in that the shape is controlled according to the uneven structure on the upper surface of the first cured resin layer, and has the shape of the uneven structure. At this time, the coating may be any of the coating methods in which the shape of the release layer can be controlled according to the uneven structure, but as an easier method for this, the spin coating method may be preferred.

상기 소수성 수지로는, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 즉, 금속 나노와이어층과 비상용성을 갖고, 제 2 경화수지층과 이형성을 갖는 것이라면, 특별한 제한 없이 채택될 수 있다.As the hydrophobic resin, as long as the object of the present invention is achieved, that is, it has incompatibility with the metal nanowire layer and has a release property with the second cured resin layer, it can be adopted without particular limitation.

보다 구체적으로, 상기 소수성 수지는, 올레핀계 수지, 비닐계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 셀룰로오스계 수지, 실리콘계 수지, 폴리설폰계 수지, 폴리에테르 설폰계 수지, 폴리아세탈계 수지 및 폴리(메타)아크릴계수지 중에서 선택되는 1종, 또는 2종 이상의 공중합체일 수 있다. 다만 이에 제한되는 것은 아니다.More specifically, the hydrophobic resin, olefin-based resin, vinyl-based resin, polyester-based resin, polyurethane-based resin, polyamide-based resin, polyimide-based resin, cellulose-based resin, silicone-based resin, polysulfone-based resin, polyether It may be a sulfone-based resin, a polyacetal-based resin and a poly (meth) acrylic resin selected from one, or two or more copolymers. However, it is not limited thereto.

본 발명에서, 이형층과 제 2 경화수지층 사이의 비상용성의 보장을 위해, 특별히 제한되는 것은 아니나, 이형층을 형성하는, 소수성 수지의 용해도 상수 δ1과 경화수지층을 형성하는, 경화성 수지의 용해도 상수 δ2 차이 값인, 하기 식 1의 Δδ가 하기 식 2를 만족하는 것일 수 있다.In the present invention, in order to ensure incompatibility between the release layer and the second cured resin layer, the solubility constant δ 1 of the hydrophobic resin forming the release layer and the curable resin layer forming the cured resin layer is not particularly limited. Solubility constant of δ 2 The difference value, Δδ of Equation 1 below may satisfy Equation 2 below.

[식 1][Equation 1]

Δδ = |δ2 - δ1| Δδ = | δ 2- δ 1 |

[식 2][Equation 2]

2 ≤Δδ2 ≤Δδ

상기 식 2에서 단위는 J1/2/cm2/3이다.In Equation 2, the unit is J 1/2 / cm 2/3 .

상기 용해도 상수는 Van Krevelen의 저서 (Van Krevelen, "Properties of Polymers: Their Correlation with Chemical Structure", 3rd Ed, Elsevier, 1990)의 Hoftyzer-Van Krevelen에 기재된 방법에 따라 계산될 수 있다.The solubility constant can be calculated according to the method described by Hoftyzer-Van Krevelen in Van Krevelen's book (Van Krevelen, "Properties of Polymers: Their Correlation with Chemical Structure", 3rd Ed, Elsevier, 1990).

본 발명의 금속 나노와이어층은, 요철구조의 형상을 갖는 이형층 상에, 금속 나노와이어 분산액을 도포하고, 건조하여 형성할 수 있다.The metal nanowire layer of the present invention can be formed by coating a metal nanowire dispersion on a release layer having a concavo-convex structure and drying it.

상기 금속 나노와이어층은, 요철구조의 형상을 갖는 이형층의 형상에 따라 그 형상이 제어되어, 상기 요철구조의 형상을 갖는 특징이 있다. 이때 도포는, 상기 요철구조에 따라 금속 나노와이어층의 형상이 제어될 수 있는 코팅 방법이라면 어느 것이든 채용될 수 있으나, 이를 위한 보다 쉬운 방법으로, 스핀 코팅 방법이 선호될 수 있다. 이 경우, 특별히 제한되는 것은 아니나, 500 내지 700 rpm으로, 30초 내지 2분간 스핀 코팅하고, 80 내지 110 ℃에서 30초 내지 2분간 열처리할 수 있다.The metal nanowire layer is characterized in that the shape is controlled according to the shape of the release layer having the shape of the uneven structure, and thus has the shape of the uneven structure. At this time, the application, any coating method that can control the shape of the metal nanowire layer according to the uneven structure may be employed, but as an easier method for this, a spin coating method may be preferred. In this case, it is not particularly limited, but may be spin coated at 500 to 700 rpm for 30 seconds to 2 minutes, and heat treated at 80 to 110 ° C for 30 seconds to 2 minutes.

상기 금속 나노와이어 분산액은, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 금속 나노와이어가 정제수, 에탄올, 이소프로필알콜, 부틸카비톨에서 선택되는 어느 하나 이상의 용매에 0.1 내지 1.0 중량% 분산된 것일 수 있다.The metal nanowire dispersion is not particularly limited, but the metal nanowire may be 0.1 to 1.0 wt% dispersed in any one or more solvents selected from purified water, ethanol, isopropyl alcohol, and butyl carbitol.

또한, 상기 금속 나노와이어는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 이때, 특별히 제한되는 것은 아니나, 상기 금속 나노와이어의 직경은 10 내지 50 nm, 길이는 10 내지 50 ㎛, 종횡비는 500 내지 800일 수 있다.In addition, the metal nanowires are not particularly limited, but silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), titanium (Ti), and these It may be any one selected from alloys. In this case, the diameter of the metal nanowire is not particularly limited, but may be 10 to 50 nm, a length of 10 to 50 μm, and an aspect ratio of 500 to 800.

본 발명의 제 2 경화수지층은, 요철구조의 형상을 갖는 금속 나노와이어층 상에, 경화성 수지를 도포하여, 경화성 수지층을 형성한 후, 상기 경화성 수지층 상면에 전사 및 경화를 통해 요철구조를 형성시킴으로써, 형성할 수 있다.The second cured resin layer of the present invention, after forming a curable resin layer by applying a curable resin on a metal nanowire layer having a shape of an uneven structure, after transferring and curing the curable resin layer on the upper surface of the curable resin layer By forming, it can be formed.

이때, 이형층과 금속 나노와이어층 사이의 비상용성 및 이형성으로 인해, 상기 경화성 수지층으로 금속 나노와이어의 함침이 쉽게 이루어지는 특징이 있다.At this time, due to the incompatibility and releasability between the release layer and the metal nanowire layer, there is a feature that the metal nanowires are easily impregnated with the curable resin layer.

상기 경화성 수지는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 자외선 경화성 수지, 열경화성 수지, 상온 습기 경화성 수지, 및 적외선 경화성 수지에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 다만, 금속 나노와이어의 물성을 저해하지 않고, 투과율이 우수한 경화필름을 형성하기 위해, 자외선 경화성 수지일 수 있다.The curable resin is not particularly limited, but may be any one selected from ultraviolet curable resin, thermosetting resin, room temperature moisture curable resin, and infrared curable resin. However, in order to form a cured film having excellent transmittance without inhibiting the physical properties of the metal nanowire, it may be an ultraviolet curable resin.

상기 자외선 경화성 수지로는, 자외선 광에 노출 시 완전히 경화되는 특성을 갖는 것이라면, 특별히 제한되지 않고 채택될 수 있다. 보다 구체적인 일 예로, Norland Products사의 Norland Optical Adhesive 시리즈의 NOA60, NOA61, NOA63, NOA65, NOA68, NOA68T, NOA71, NOA72, NOA73, NOA74, NOA75, NOA76, NOA78, NOA81, NOA83H, NOA84, NOA85, NOA85V, NOA86, NOA86H, NOA87, NOA88, NOA89 등에서 채택될 수 있으며, 물론 이에 제한되는 것은 아니다.The ultraviolet curable resin may be adopted without particular limitation, as long as it has a property of being completely cured upon exposure to ultraviolet light. More specific examples include NOA60, NOA61, NOA63, NOA65, NOA68, NOA68T, NOA71, NOA72, NOA73, NOA74, NOA75, NOA76, NOA78, NOA81, NOA83H, NOA84, NOA85, NOA85V, NOA86 from the Norland Optical Adhesive series of Norland Products , NOA86H, NOA87, NOA88, NOA89, and the like, but are not limited thereto.

상기 도포의 방법으로는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 특별히 제한되는 것은 아니나, 스핀 코팅, 바 코팅, 롤투롤 코팅 등의 방법이 채용될 수 있다.As a method of applying, the method is not particularly limited, but is not particularly limited, and spin coating, bar coating, roll-to-roll coating, or the like may be employed.

다만, 특별히 제한되는 것은 아니나, 균일한 두께의 경화필름 및 투명전극의 제조를 위해, 스핀 코팅 방법이 보다 선호될 수 있다. 이 경우, 스핀 코팅 속도는 사용되는 경화성 수지의 점도 및 무게에 따라, 다르게 조절되어야 한다. 구체적인 일 예로, Norland Products사의 2500 cps의 NOA63의 경우, 0.1 내지 5 g 사용 시, 500 rpm 이상부터 상기 범위의 무게에 관계 없이, 균일한 두께로 코팅될 수 있다.However, it is not particularly limited, but for the production of a uniform thickness cured film and a transparent electrode, a spin coating method may be more preferred. In this case, the spin coating speed should be adjusted differently depending on the viscosity and weight of the curable resin used. As a specific example, in the case of NOA63 of 2500 cps of Norland Products, when 0.1 to 5 g is used, it can be coated with a uniform thickness, regardless of the weight in the range from 500 rpm or more.

상기 전사 방법으로는, 소프트 리소그래피(soft lithography) 프린팅 방법 또는 소프트 리소그래피 몰딩 방법이 사용될 수 있다.As the transfer method, a soft lithography printing method or a soft lithography molding method may be used.

보다 구체적으로, 이에 특별히 제한되는 것은 아니지만, 상기 프린팅 방법은, 미세접촉 프린팅(microcontact printing), 데칼전사 리소그래피(decal transfer microlithography), 광 스탬프(light stamp) 등의 프린팅 방법일 수 있으며, 상기 몰딩 방법은, 레플리카 몰딩(replica molding), 모세관 힘 리소그래피(capillary force lithography), 모세관 미세 몰딩(micromolding in capillaries), 미세전사 몰딩(microtransfer molding), 나노 임프린팅(nano imprinting), 액체 중재 전사 몰딩(liquid bridge mediated nanotransfer molding) 등의 몰딩 방법일 수 있다.More specifically, although not particularly limited thereto, the printing method may be a printing method such as microcontact printing, decal transfer microlithography, light stamp, or the like, and the molding method. Silver, replica molding, capillary force lithography, capillary micromolding in capillaries, microtransfer molding, nano imprinting, liquid-mediated transfer molding It may be a molding method such as mediated nanotransfer molding.

본 발명의 일 예에 있어서, 상기 (a) 또는 (d)단계는, 경화성 수지층을 형성하는 단계; 상기 경화성 수지층에, 요철구조를 갖는 실록산계 수지 몰드를 밀착시키는 단계; 상기 경화성 수지층을 경화시키는 단계; 및 상기 실록산계 수지 몰드를 제거하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.In one example of the present invention, the step (a) or (d) comprises: forming a curable resin layer; Adhering a siloxane-based resin mold having an uneven structure to the curable resin layer; Curing the curable resin layer; And removing the siloxane-based resin mold.

이 경우, 탄성체이며, 낮은 표면 에너지를 갖는 실록산계 수지 몰드를 사용함으로써, 균일한 밀착이 가능하고 분리가 용이해, 정교한 미세 요철구조를 보다 쉽게 형성시킬 수 있다. 또한, 실록산계 수지 몰드는 광 투과율이 높아, UV 경화를 이용하기 용이해, 견고한 요철구조 형성이 가능하다. 또한, 고가의 장비가 필요 없이, 간단한 공정으로 이루어질 수 있는 이점이 있다.In this case, by using a siloxane-based resin mold that is an elastic body and has a low surface energy, uniform adhesion is possible and separation is easy, so that a fine fine concavo-convex structure can be more easily formed. In addition, the siloxane-based resin mold has a high light transmittance and is easy to use UV curing, so that it is possible to form a solid uneven structure. In addition, there is an advantage that can be made in a simple process, without the need for expensive equipment.

상기 경화성 수지층은, 경화성 수지를 도포함으로써 형성할 수 있고, 상기 경화성 수지 및 이의 도포 방법에 대한 구체적 설명은, 이미 전술한 바 있으므로, 여기에서는 그 구체적 설명은 생략한다.The said curable resin layer can be formed by apply | coating curable resin, and the specific description about the said curable resin and its application method has already been mentioned above, and the detailed description is abbreviate | omitted here.

상기 실록산계 수지 몰드란, 실록산계 수지, 예를 들어 폴리디메틸실록산을 구성 성분으로 포함하는 몰드를 의미할 수 있다.The siloxane-based resin mold may mean a mold containing a siloxane-based resin, for example, polydimethylsiloxane as a constituent component.

상기 (a) 및 (d)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 요철구조는, 서로 동일한 것일 수도 있고, 서로 상이한 것일 수도 있다. 또한, 요철구조가 동일하더라도, 그 구체적인 형상, 예를 들면 직경 등은 상이할 수 있다. 다만, 투명전극은 상면 및 하면의 요철구조에 따라, 광학적 특성이 다르므로, 최적의 요철구조를 위해, 각각의 실록산계 수지 몰드의 요철구조는, 적어도 구체적인 형상에 있어서는, 서로 상이한 것이 선호될 수 있다.The uneven structures of the siloxane-based resin molds in steps (a) and (d) may be the same as each other or may be different from each other. Further, even if the uneven structure is the same, the specific shape, for example, the diameter may be different. However, since the optical characteristics of the transparent electrode are different depending on the uneven structure of the upper surface and the lower surface, for the optimal uneven structure, the uneven structure of each siloxane resin mold may be different from each other at least in a specific shape. have.

상기 실록산계 수지 몰드의 요철구조는, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되지 않고, 어떠한 것이든 채택, 응용될 수 있다. 구체적인 일 예로, 마이크로렌즈 어레이 구조, 주름 구조, 격자 구조 등이 채택, 응용될 수 있다.The concavo-convex structure of the siloxane-based resin mold is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, and any of them can be adopted and applied. As a specific example, a microlens array structure, a wrinkle structure, a grid structure, etc. may be adopted and applied.

다만, 본 발명의 일 예에 따른 경우, 상기 요철구조는, 특별히 제한되지는 않지만, 투명전극의 광전자소자 적용 시, 증대된 광경로의 안정적 확보가 가능한, 마이크로렌즈 어레이 구조일 수 있다.However, in accordance with an example of the present invention, the uneven structure is not particularly limited, but may be a microlens array structure capable of stably securing an increased optical path when the optoelectronic device of the transparent electrode is applied.

이때, 상기 (a)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 특별히 제한되는 것은 아니나, 0.1 내지 10 ㎛, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 ㎛, 보다 더 바람직하게는 0.1 내지 3 ㎛일 수 있다. 이 경우, 특히 우수한 광학적 특성을 갖는 투명전극을 제조할 수 있는 이점이 있다.At this time, the diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the siloxane-based resin mold in the step (a) is not particularly limited, but is 0.1 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm, and more More preferably, it may be 0.1 to 3 μm. In this case, there is an advantage that a transparent electrode having particularly excellent optical properties can be manufactured.

또한, 상기 (d)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 특별히 제한되는 것은 아니나, 3 내지 30 ㎛, 보다 바람직하게는 5 내지 20 ㎛, 보다 더 바람직하게는 7 내지 20 ㎛일 수 있다. 이 경우, 특히 우수한 광학적 특성을 갖는 투명전극을 제조할 수 있다.In addition, the diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the siloxane-based resin mold in the step (d) is not particularly limited, but is 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, and more It may be more preferably 7 to 20 μm. In this case, a transparent electrode having particularly excellent optical properties can be manufactured.

본 발명의 일 예에 있어서, 상기 실록산계 수지 몰드를 밀착시키는 단계 이전에, 상기 실록산계 수지 몰드를 준비하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one example of the present invention, prior to the step of adhering the siloxane-based resin mold, the method may further include preparing the siloxane-based resin mold.

상기 실록산계 수지 몰드를 준비하는 단계로는, 당 기술분야에서 채용할 수 있는 몰드 제작 방법이라면, 특별한 제한 없이, 어느 것이든 채택, 응용될 수 있다.As a step of preparing the siloxane-based resin mold, any method of manufacturing a mold that can be employed in the art may be adopted and applied without any particular limitation.

다만, 본 발명의 일 예에 있어서, 상기 실록산계 수지 몰드를 준비하는 단계는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 요철구조를 갖는 마스터 기판을 준비하는 단계; 상기 마스터 기판에 실록산계 수지를 붓고, 경화시키는 단계; 및 경화된 실록산계 수지를 분리하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다. 이 경우, 보다 간단히, 미세하고 정교한 요철구조를 갖는 실록산계 수지 몰드를 지속적, 안정적으로 제공할 수 있는 이점이 있다.However, in one example of the present invention, the step of preparing the siloxane-based resin mold is not particularly limited, but the step of preparing a master substrate having an uneven structure; Pouring and curing a siloxane-based resin on the master substrate; And separating the cured siloxane-based resin; may be to include. In this case, more simply, there is an advantage that can continuously and stably provide a siloxane-based resin mold having a fine and sophisticated uneven structure.

상기 마스터 기판은, 특별히 제한되는 것은 아니나, 수전사 공정 또는 러빙 공정을 통해 제조된 것일 수 있다. 또한, 그 재질 역시 특별한 제한 없이, 고분자, 고무, 금속 등 다양한 재질 중에서 선택될 수 있다.The master substrate is not particularly limited, but may be manufactured through a water transfer process or a rubbing process. In addition, the material can also be selected from various materials such as polymer, rubber, metal, etc. without particular limitation.

상기 실록산계 수지로는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 구체적인 일 예로, 폴리디메틸실록산이 사용될 수 있다. 이때, 상기 경화는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 70 내지 100℃에서, 12시간 내지 36시간 동안 이루어질 수 있다.The siloxane-based resin is not particularly limited, but as a specific example, polydimethylsiloxane may be used. In this case, the curing is not particularly limited, but may be performed at 70 to 100 ° C. for 12 to 36 hours.

또한 본 발명은, 경화필름을 포함하는 투명전극으로서, 상기 경화필름은 상면 및 하면에 일체의 요철구조를 갖고 금속 나노와이어가 함침되어 있는 것인, 투명전극을 제공한다.In addition, the present invention, as a transparent electrode comprising a cured film, the cured film has a concavo-convex structure on the upper and lower surfaces, and the metal nanowires are impregnated.

본 발명의 투명전극은, 상기 경화필름 그 자체일 수도 있고, 이에 다른 필름을 더 적층하거나, 막을 형성시켜, 복합화된 것일 수도 있다. 다만, 상기 경화필름은 그 자체로도 투명전극으로 사용 시, 우수한 광학적 특성을 갖는 특징이 있다.The transparent electrode of the present invention may be the cured film itself, or another film may be further laminated or a film formed thereon to be composited. However, the cured film itself is characterized by having excellent optical properties when used as a transparent electrode.

본 발명의 투명전극은, 태양전지, 유기발광 다이오드(OLED), 면조명, e-페이퍼, e-북, 터치패널, 및 디스플레이 기판 등의 다양한 광전자소자에 채용될 수 있다.The transparent electrode of the present invention can be employed in various optoelectronic devices such as solar cells, organic light emitting diodes (OLEDs), surface lighting, e-papers, e-books, touch panels, and display substrates.

본 발명의 투명전극은, 양면에 요철구조를 가짐으로써, 종래의 투명전극, 일 예로, 요철구조가 없는 투명전극, 및 일면에 요철구조를 갖는 투명전극에 비해, 현저히 향상된 광학적 특성을 갖는 이점이 있다.The transparent electrode of the present invention has a concavo-convex structure on both sides, and thus has an advantage of significantly improved optical properties compared to a conventional transparent electrode, for example, a transparent electrode without concavo-convex structure, and a transparent electrode having a concavo-convex structure on one side. have.

또한, 상기 경화필름 자체를 투명전극으로 사용하는 경우, 이는 일체의 요철구조를 가져, 별도의 물리구조체를 부착한 종래의 투명전극과 달리, 굴절률 차이에 의한 광학적 특성의 저하가 없는 이점이 있다. 이에, 이를 채용한 태양전지 등의 광전자소자는 우수한 광흡수율, 전류밀도 및 광효율의 특성을 가질 수 있다.In addition, when the cured film itself is used as a transparent electrode, it has an uneven structure and, unlike a conventional transparent electrode with a separate physical structure, there is an advantage that there is no deterioration in optical properties due to a difference in refractive index. Accordingly, an optoelectronic device such as a solar cell employing this may have excellent light absorption, current density, and light efficiency characteristics.

보다 구체적으로, 본 발명의 투명전극은, 양면의 요철구조에 의해, 총투과도 대비 높은 분산투과도 값을 갖는다. 따라서, 이를 적용한 광전자소자는 증대된 광경로로 인해, 광흡수율이 향상되어, 우수한 전류밀도 및 광효율을 가질 수 있다.More specifically, the transparent electrode of the present invention has a high dispersion transmittance value compared to the total transmittance due to the uneven structure on both sides. Therefore, the optoelectronic device to which it is applied can have excellent current density and light efficiency by improving light absorption rate due to an increased optical path.

또한, 본 발명의 투명전극을 유기태양전지에 적용 시, 광흡수층에 흡수되지 않고 투과된 빛 또한, 후면전극에 의해 반사된 경우, 투명전극의 양면의 요철구조에 의해 투명전극의 하면 및 상면에서 이중으로 재반사, 산란될 수 있다. 이는 광흡수층에 흡수되지 못한 빛을 재차 반복적으로 광흡수층에 도달하도록 하여, 흡수될 수 있도록 한다. 따라서, 요철구조가 없거나, 일면에만 형성되어 있는 투명전극에 비해, 상술한 바와 같은 효과가 더욱 증대될 수 있다.In addition, when the transparent electrode of the present invention is applied to an organic solar cell, the light that is not absorbed by the light absorbing layer and transmitted is also reflected by the back electrode, and the bottom and top surfaces of the transparent electrode are formed by the uneven structure on both sides of the transparent electrode. Double reflection and scattering may occur. This allows light that has not been absorbed by the light absorbing layer to reach the light absorbing layer repeatedly, so that it can be absorbed. Therefore, the effect as described above can be further increased compared to a transparent electrode having no uneven structure or formed only on one surface.

상기 경화필름은, 경화성 수지를 경화시켜 얻어지는 필름을 의미할 수 있다. 이때, 상기 경화성 수지는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 자외선 경화성 수지, 열경화성 수지, 상온 습기 경화성 수지, 및 적외선 경화성 수지에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 상기 자외선 경화성 수지로는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 구체적인 일 예로, Norland Products사의 Norland Optical Adhesive 시리즈의 NOA60, NOA61, NOA63, NOA65, NOA68, NOA68T, NOA71, NOA72, NOA73, NOA74, NOA75, NOA76, NOA78, NOA81, NOA83H, NOA84, NOA85, NOA85V, NOA86, NOA86H, NOA87, NOA88, NOA89 등에서 채택될 수 있다.The cured film may mean a film obtained by curing a curable resin. In this case, the curable resin is not particularly limited, but may be any one selected from ultraviolet curable resin, thermosetting resin, room temperature moisture curable resin, and infrared curable resin. The UV curable resin is not particularly limited, and as a specific example, NOA60, NOA61, NOA63, NOA65, NOA68, NOA68T, NOA71, NOA72, NOA73, NOA74, NOA75, NOA76, NOA78 of the Norland Optical Adhesive series of Norland Products , NOA81, NOA83H, NOA84, NOA85, NOA85V, NOA86, NOA86H, NOA87, NOA88, NOA89, etc.

상기 금속 나노와이어는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 이때, 특별히 제한되는 것은 아니나, 상기 금속 나노와이어의 직경은 10 내지 50 nm, 길이는 10 내지 50 ㎛, 종횡비는 500 내지 800일 수 있다.The metal nanowires are not particularly limited, but silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), titanium (Ti), and alloys thereof It can be any one selected from. In this case, the diameter of the metal nanowire is not particularly limited, but may be 10 to 50 nm, a length of 10 to 50 μm, and an aspect ratio of 500 to 800.

상기 요철구조로는, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별한 제한 없이, 다양한 구조가 채택, 응용될 수 있다. 보다 구체적인 일 예로, 상기 요철구조로는, 마이크로렌즈 어레이 구조, 주름 구조, 격자 구조 등이 채택될 수 있다.As the uneven structure, various structures may be adopted and applied without particular limitations, provided that the object of the present invention is achieved. As a more specific example, as the concavo-convex structure, a micro lens array structure, a wrinkle structure, a lattice structure, or the like may be adopted.

다만, 본 발명의 일 예에 따른 경우, 상기 요철구조는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 투명전극의 광전자소자 적용 시, 증대된 광경로의 안정적 확보가 가능한, 마이크로렌즈 어레이 구조일 수 있다.However, according to an example of the present invention, the concavo-convex structure is not particularly limited, but may be a microlens array structure capable of stably securing an increased optical path when an optoelectronic device of a transparent electrode is applied.

이때, 상기 경화필름 상면의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되는 것은 아니나, 3 내지 30 ㎛, 보다 바람직하게는, 5 내지 20 ㎛, 보다 더 바람직하게는 7 내지 20 ㎛일 수 있다. 이 경우, 본 발명의 투명전극은 보다 우수한 광학적 특성을 가질 수 있고, 이에, 우수한 광흡수율, 전류밀도 및 광효율은 갖는 광전자소자를 제공할 수 있다.At this time, the diameter of each micro-lens constituting the micro-lens array structure on the upper surface of the cured film is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, 3 to 30 μm, more preferably 5 To 20 μm, even more preferably 7 to 20 μm. In this case, the transparent electrode of the present invention may have better optical properties, and thus, an optoelectronic device having excellent light absorption, current density, and light efficiency may be provided.

또한, 상기 경화필름 하면의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내라면, 특별히 제한되는 것은 아니나, 0.1 내지 10 ㎛ 보다 바람직하게는, 0.1 내지 5 ㎛, 보다 더 바람직하게는 0.1 내지 3 ㎛일 수 있다. 이 경우, 본 발명의 투명전극은 보다 우수한 광학적 특성을 가질 수 있고, 이에, 우수한 광흡수율, 전류밀도 및 광효율은 갖는 광전자소자를 제공할 수 있다.In addition, the diameter of each microlens constituting the microlens array structure on the lower surface of the cured film is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. 5 μm, even more preferably 0.1 to 3 μm. In this case, the transparent electrode of the present invention may have better optical properties, and thus, an optoelectronic device having excellent light absorption, current density, and light efficiency may be provided.

특히, 상기 경화필름 상면의 마이크로렌즈의 직경이 7 내지 20 ㎛이고, 상기 경화필름 하면의 마이크로렌즈의 직경이 0.1 내지 5 ㎛, 보다 더 좋게는 0.1 내지 3㎛인 경우, 경화필름 그 자체로도 특히 우수한 광학적 특성을 나타내, 이를 투명전극으로 한 광전자소자는, 탁월히 우수한 광흡수율 및 광효율을 가질 수 있다.In particular, when the diameter of the microlens on the upper surface of the cured film is 7 to 20 μm, and the diameter of the microlens on the lower surface of the cured film is 0.1 to 5 μm, more preferably 0.1 to 3 μm, the cured film itself Particularly, an optoelectronic device having excellent optical properties and using it as a transparent electrode can have excellent light absorption and light efficiency.

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention will be described. However, the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

<평가방법 - 투명전극의 광학적 특성 평가><Evaluation method-Evaluation of optical properties of transparent electrode>

UV-Visible-NiR 분광분석기(Agilent, Cary-5000)를 이용하였다. 300 내지 800 nm의 빛을 투명전극의 상면에 조사하여, 총투과도, 직진투과도 및 반사도를 측정하여, 이의 평균값을 계산하였다.UV-Visible-NiR spectroscopy (Agilent, Cary-5000) was used. Light of 300 to 800 nm was irradiated on the upper surface of the transparent electrode, and the total transmittance, linear transmittance and reflectivity were measured, and the average value thereof was calculated.

또한, 이로부터 분산투과도 및 투과효율을 계산하였다. 여기서 투과효율이란, 총투과도 대비 분산투과도 값을 나타내는 것이다. 분산투과도 및 투과효율은 아래와 같이 계산하였다.In addition, the dispersion transmittance and transmission efficiency were calculated therefrom. Here, the transmission efficiency refers to a value of distributed transmittance compared to total transmittance. Dispersion permeability and permeation efficiency were calculated as follows.

분산투과도(%) = 총투과도(%) - 직진투과도(%) Dispersion Permeability (%) = Total Permeability (%)-Straight Permeability (%)

투과효율(%) = 분산투과도(%)/총투과도(%) × 100Transmission efficiency (%) = dispersion transmittance (%) / total transmittance (%) × 100

[제조예 - 표면에 마이크로렌즈 어레이 구조가 형성되어 있는, PDMS 몰드의 제작][Production Example-Fabrication of a PDMS mold with a microlens array structure formed on the surface]

마스터 기판으로는, 수전사 또는 러빙공정을 통해 제작된 오목/볼록 마이크로렌즈 어레이 구조를 갖는 몰드를 사용하였다. 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 마이크로렌즈의 직경은, 각 마스터 기판마다 0.5, 3, 5, 7, 10, 15, 20 μm이었다. Sylgard 184 silicone elastomer kit(Dow cornung)의 PDMS 모노머와 PDMS 개시제를 10:1의 비율로 혼합하여 준비하였다. 페트리디시 밑면에, 마스터 기판의 마이크로렌즈 어레이 구조가 위로 향하도록 마스터 기판을 고정시키고, 준비한 PDMS를 부어 주었다. 이후 80℃의 온도로 12시간 동안 경화시켰다. 경화가 완료된 PDMS를 마스터 기판과 분리하여 PDMS 몰드 제작을 완료하였다.As a master substrate, a mold having a concave / convex microlens array structure produced through a water transfer or rubbing process was used. The diameter of the microlens forming the microlens array structure was 0.5, 3, 5, 7, 10, 15, 20 μm for each master substrate. PDMS monomer and PDMS initiator of Sylgard 184 silicone elastomer kit (Dow cornung) were prepared by mixing in a ratio of 10: 1. On the underside of the Petri dish, the master substrate was fixed with the microlens array structure of the master substrate facing upward, and the prepared PDMS was poured. Then, it was cured at a temperature of 80 ° C. for 12 hours. PDMS mold production was completed by separating the cured PDMS from the master substrate.

2.5 cm × 3 cm 유리 기판을 아세톤, 이소프로필알콜과 초음파 세척기를 이용하여 각각 60℃에서 15분간 세척하였다. 이후, 세척된 유리 기판을 100℃ 오븐에 넣어 잔류물을 제거하였다.The 2.5 cm × 3 cm glass substrates were washed with acetone, isopropyl alcohol and ultrasonic cleaner at 60 ° C. for 15 minutes each. Thereafter, the washed glass substrate was placed in an oven at 100 ° C. to remove the residue.

이후 유리 기판에, 광경화성 고분자로 폴리우레탄(PU) 계열의 NOA63(Norland Products사)을 1 g 도포하고, 500 rpm으로 1분간 스핀 코팅하여, 제 1 NOA63층을 형성하였다. 이후 제 1 NOA63층 상에, 위에서 제작한 PDMS 몰드(오목, 마이크로렌즈의 직경 0.5 μm)를 밀착시킨 상태에서, 365 nm의 UV에 30분간 노출시켜 제 1 NOA63층을 경화하고, PDMS 몰드를 제거하여, 제 1 NOA63층 상면에 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록)를 형성하였다.Then, 1 g of a polyurethane (PU) -based NOA63 (Norland Products) was applied to the glass substrate as a photocurable polymer, and spin-coated at 500 rpm for 1 minute to form a first NOA63 layer. Subsequently, on the first NOA63 layer, in a state in which the PDMS mold (concave, 0.5 μm diameter of the microlens) fabricated above is in close contact, the first NOA63 layer is cured by exposure to 365 nm UV for 30 minutes, and the PDMS mold is removed. Thus, a microlens array structure (convex) was formed on the top surface of the first NOA63 layer.

이후 제 1 NOA63층 상에, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, Microchem사)를 마이크로 피펫을 이용하여 300 ㎕ 도포하고, 3000 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅 처리한 후, 180℃에서 30초간 열처리하여, PMMA 이형층을 형성하였다. 이때 PMMA 이형층은 제 1 NOA63층의 상면에 형성된 마이크로렌즈 어레이 구조를 따라 그 형상이 제어됨을 확인하였다.Subsequently, on the first NOA63 layer, 300 µl of polymethyl methacrylate (PMMA, Microchem) was applied using a micropipette, spin-coated for 60 seconds at 3000 rpm, and then heat-treated at 180 ° C. for 30 seconds, A PMMA release layer was formed. At this time, it was confirmed that the shape of the PMMA release layer was controlled along the microlens array structure formed on the top surface of the first NOA63 layer.

이후 직경 35±5 nm, 길이 20±5㎛, 종횡비 500 이상의 은 나노와이어(나노 픽시스사)를 정제수(DI water)에 0.3 wt% 분산한, 은 나노와이어 분산액을 PMMA 이형층 상에 마이크로 피펫을 이용하여 500 ㎕ 도포한 후, 600 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅하고, 100℃에서 1분간 열처리하여, 은 나노와이어층을 형성하였다. 이때 은 나노와이어층 역시 PMMA 이형층의 형상, 즉, 제 1 NOA63층의 상면에 형성된 마이크로렌즈 어레이 구조를 따라 그 형상이 제어됨을 확인하였다.Subsequently, a silver pipe with a diameter of 35 ± 5 nm, a length of 20 ± 5 μm, an aspect ratio of 500 or more, and 0.3 wt% of silver nanowires (Nano Pixis) dispersed in purified water (DI water), and a micropipette with a silver nanowire dispersion on the PMMA release layer After 500 µl application, spin coating was performed for 60 seconds at 600 rpm, and heat treatment was performed at 100 ° C for 1 minute to form a silver nanowire layer. At this time, it was confirmed that the shape of the silver nanowire layer was also controlled according to the shape of the PMMA release layer, that is, the microlens array structure formed on the top surface of the first NOA63 layer.

이후 은 나노와이어층 상에, NOA63 1 g을 도포하고, 500 rpm으로 1분간 스핀 코팅하여, 하면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)가 형성되어 있고, 은 나노와이어의 함침이 이루어진, 제 2 NOA63층을 형성하였다.Subsequently, on the silver nanowire layer, 1 g of NOA63 was applied, spin-coated at 500 rpm for 1 minute, and a microlens array structure (concave) was formed on the bottom surface, and the second NOA63 layer impregnated with the silver nanowire was formed. Formed.

이후 제 2 NOA63층 상에, PDMS 몰드(볼록, 마이크로렌즈의 직경 10 μm)를 밀착시킨 상태에서, 365 nm의 UV에 30분간 노출시켜 제 2 NOA63층을 경화하고, PDMS 몰드를 제거하여, 제 2 NOA63층 상면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)를 형성하였다.Then, on the second NOA63 layer, in a state in which the PDMS mold (convex, microlens diameter 10 μm) is closely adhered, the second NOA63 layer is cured by exposure to UV at 365 nm for 30 minutes, and the PDMS mold is removed to remove 2 A microlens array structure (concave) was formed on the top surface of the NOA63 layer.

이후 제 2 NOA63층을 PMMA 이형층으로부터 분리하여, 은 나노와이어가 함침되어 있으며, 상면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목, 마이크로렌즈의 직경 10 μm), 하면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목, 마이크로렌즈의 직경 0.5 μm)가 형성되어 있는, NOA63 필름을 제조하였다. 이를 투명전극으로 사용하였다.Thereafter, the second NOA63 layer was separated from the PMMA release layer, and the silver nanowires were impregnated, and the microlens array structure (concave, microlens diameter 10 μm) on the top surface, and the microlens array structure (concave, microlens surface) A NOA63 film having a diameter of 0.5 μm) was formed. This was used as a transparent electrode.

위 과정을 PDMS 몰드만 달리하여 반복하여, 상면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목, 마이크로렌즈의 직경 10 μm), 하면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목, 마이크로렌즈의 직경 각각 3, 5, 7 μm)가 형성되어 있는, 투명전극 3개를 추가로 제조하였다.The above process is repeated with different PDMS molds, and the microlens array structure (concave, microlens diameter 10 μm) on the upper surface and the microlens array structure (concave, microlens diameter 3, 5, 7 μm respectively) on the lower surface. Three transparent electrodes formed were further manufactured.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 1에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 1.

실시예 1에서, PDMS 몰드를 달리하여, 상면 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록), 하면 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록)가 형성되어 있는, 투명전극을 제조한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 수행하였다.In Example 1, the PDMS mold is different, and the same procedure as in Example 1 is performed, except that a transparent electrode is formed on which an upper surface microlens array structure (convex) and a lower surface microlens array structure (convex) are formed. Did.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 1에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 1.

실시예 1에서, PDMS 몰드를 달리하여, 상면 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록), 하면 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)가 형성되어 있는, 투명전극을 제조한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 수행하였다.In Example 1, by performing a PDMS mold, the same procedure as in Example 1 was performed, except that a transparent electrode having a top microlens array structure (convex) and a bottom microlens array structure (concave) was formed. Did.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 1에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 1.

실시예 1에서, PDMS 몰드를 달리하여, 상면 마이크로렌즈 어레이 구조(오목), 하면 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록)가 형성되어 있는, 투명전극을 제조한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 수행하였다.In Example 1, by performing a PDMS mold, the same procedure as in Example 1 was performed, except that a transparent electrode having a top microlens array structure (concave) and a bottom microlens array structure (convex) was formed. Did.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 1에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

2.5 cm × 3 cm 유리 기판을 아세톤, 이소프로필알콜과 초음파 세척기를 이용하여 각각 60℃에서 15분간 세척하였다. 이후, 세척된 유리 기판을 100℃ 오븐에 넣어 잔류물을 제거하였다.The 2.5 cm × 3 cm glass substrates were washed with acetone, isopropyl alcohol and ultrasonic cleaner at 60 ° C. for 15 minutes each. Thereafter, the washed glass substrate was placed in an oven at 100 ° C. to remove the residue.

이후 유리 기판에, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, Microchem사)를 마이크로 피펫을 이용해 300 ㎕ 도포하고, 3000 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅 처리한 후, 180℃에서 30초간 열처리하여, PMMA 이형층을 형성하였다.Subsequently, 300 μl of polymethyl methacrylate (PMMA, Microchem) was applied to the glass substrate using a micropipette, spin-coated for 60 seconds at 3000 rpm, and then heat-treated at 180 ° C. for 30 seconds to form a PMMA release layer. Formed.

이후 직경 35±5 nm, 길이 20±5㎛, 종횡비 500 이상의 은 나노와이어(나노 픽시스사)를 정제수(DI water)에 0.3 wt% 분산한, 은 나노와이어 분산액을 PMMA 이형층 상에 마이크로 피펫을 이용해 500 ㎕ 도포한 후, 600 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅하고, 100℃에서 1분간 열처리하여, 은 나노와이어층을 형성하였다.Subsequently, a silver pipe with a diameter of 35 ± 5 nm, a length of 20 ± 5 μm, an aspect ratio of 500 or more, and 0.3 wt% of silver nanowires (Nano Pixis) dispersed in purified water (DI water), and a micropipette with a silver nanowire dispersion on the PMMA release layer After 500 µl of the coating was used, spin coating was performed for 60 seconds at 600 rpm, and heat treatment was performed at 100 ° C. for 1 minute to form a silver nanowire layer.

이후 은 나노와이어층 상에, NOA63 1 g을 도포하고, 500 rpm으로 1분간 스핀 코팅하여, 은 나노와이어의 함침이 이루어진, NOA63층을 형성하였다.Thereafter, 1 g of NOA63 was applied onto the silver nanowire layer, and spin-coated at 500 rpm for 1 minute to form a NOA63 layer impregnated with the silver nanowire.

이후 NOA63층을 PMMA 이형층으로부터 분리하여, 은 나노와이어가 함침되어 있는, NOA63 필름을 제조하였다. 이를 투명전극으로 사용하였다.Thereafter, the NOA63 layer was separated from the PMMA release layer to prepare a NOA63 film impregnated with silver nanowires. This was used as a transparent electrode.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 2에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 2.

[비교예 2][Comparative Example 2]

2.5 cm × 3 cm 유리 기판을 아세톤, 이소프로필알콜과 초음파 세척기를 이용하여 각각 60℃에서 15분간 세척하였다. 이후, 세척된 유리 기판을 100℃ 오븐에 넣어 잔류물을 제거하였다.The 2.5 cm × 3 cm glass substrates were washed with acetone, isopropyl alcohol and ultrasonic cleaner at 60 ° C. for 15 minutes each. Thereafter, the washed glass substrate was placed in an oven at 100 ° C. to remove the residue.

이후 유리 기판에, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, Microchem사)를 마이크로 피펫을 이용해 300 ㎕ 도포하고, 3000 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅 처리한 후, 180℃에서 30초간 열처리하여, PMMA 이형층을 형성하였다.Subsequently, 300 μl of polymethyl methacrylate (PMMA, Microchem) was applied to the glass substrate using a micropipette, spin-coated for 60 seconds at 3000 rpm, and then heat-treated at 180 ° C. for 30 seconds to form a PMMA release layer. Formed.

이후 직경 35±5 nm, 길이 20±5㎛, 종횡비 500 이상의 은 나노와이어(나노 픽시스사)를 정제수(DI water)에 0.3 wt% 분산한, 은 나노와이어 분산액을 PMMA 이형층 상에 500 ㎕ 도포한 후, 600 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅하고, 100℃에서 1분간 열처리하여, 은 나노와이어층을 형성하였다.Subsequently, silver nanowires (nano pixis) having a diameter of 35 ± 5 nm, length of 20 ± 5 μm, and an aspect ratio of 500 or more are 0.3 wt% dispersed in purified water (DI water), and 500 μl of silver nanowire dispersion is applied onto the PMMA release layer. Then, spin coating was performed for 60 seconds at 600 rpm, and heat treatment was performed at 100 ° C. for 1 minute to form a silver nanowire layer.

이후 은 나노와이어층 상에, NOA63 1 g을 도포하고, 500 rpm으로 1분간 스핀 코팅하여, 은 나노와이어의 함침이 이루어진, NOA63층을 형성하였다.Thereafter, 1 g of NOA63 was applied onto the silver nanowire layer, and spin-coated at 500 rpm for 1 minute to form a NOA63 layer impregnated with the silver nanowire.

이후 NOA63층 상에, PDMS 몰드(볼록, 마이크로렌즈의 직경 0.5 μm)를 밀착시킨 상태에서, 365 nm의 UV에 30분간 노출시켜 NOA63층을 경화하고, PDMS 몰드를 제거하여, NOA63층 상면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)를 형성시켰다.Then, on the NOA63 layer, in a state in which a PDMS mold (convex, 0.5 μm in diameter of the microlens) is in close contact, the NOA63 layer is cured by exposing to UV at 365 nm for 30 minutes, and the PDMS mold is removed, and the microparticles on the top surface of the NOA63 layer A lens array structure (concave) was formed.

이후 NOA63층을 PMMA 이형층으로부터 분리하여, 은 나노와이어가 함침되어 있으며, 상면에만 0.5 μm 직경의 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)가 형성되어 있는, NOA63 필름을 제조하였다. 이를 투명전극으로 사용하였다.Then, the NOA63 layer was separated from the PMMA release layer, and a silver nanowire was impregnated, and a 0.5 μm diameter microlens array structure (concave) was formed only on the top surface, thereby producing a NOA63 film. This was used as a transparent electrode.

위 과정을 PDMS 몰드만 달리하여 반복하여, 상면에만 마이크로렌즈 어레이 구조(오목, 마이크로렌즈의 직경 각각 3, 5, 7, 10, 15, 20 μm)가 형성되어 있는, 투명전극 6개를 추가로 제조하였다.The above process is repeated with different PDMS molds only, and additional 6 transparent electrodes with microlens array structures (concave and microlens diameters of 3, 5, 7, 10, 15, 20 μm, respectively) are formed only on the top surface. It was prepared.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 2에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 2.

[비교예 3][Comparative Example 3]

2.5 cm × 3 cm 유리 기판을 아세톤, 이소프로필알콜과 초음파 세척기를 이용하여 각각 60℃에서 15분간 세척하였다. 이후, 세척된 유리 기판을 100℃ 오븐에 넣어 잔류물을 제거하였다.The 2.5 cm × 3 cm glass substrates were washed with acetone, isopropyl alcohol and ultrasonic cleaner at 60 ° C. for 15 minutes each. Thereafter, the washed glass substrate was placed in an oven at 100 ° C. to remove the residue.

이후 유리 기판에, NOA63(Norland Products사)을 1 g 도포하고, 500 rpm으로 1분간 스핀 코팅하여, 제 1 NOA63층을 형성하였다. 이후 위에서 제작한 PDMS 몰드(오목, 마이크로렌즈의 직경 0.5 μm)를 제 1 NOA63층에 밀착시킨 상태에서, 365 nm의 UV에 30분간 노출시켜 제 1 NOA63층을 경화하고, PDMS 몰드를 제거하여, 제 1 NOA63층 상면에 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록)를 형성하였다.Thereafter, 1 g of NOA63 (Norland Products) was applied to the glass substrate, and spin coating was performed at 500 rpm for 1 minute to form a first NOA63 layer. Subsequently, the PDMS mold prepared above (concave, 0.5 μm diameter of microlens) was in close contact with the first NOA63 layer, and exposed to UV at 365 nm for 30 minutes to cure the first NOA63 layer and remove the PDMS mold, A microlens array structure (convex) was formed on the top surface of the first NOA63 layer.

이후 제 1 NOA63층 상에, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, Microchem사)를 마이크로 피펫을 이용해 300 ㎕ 도포하고, 3000 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅 처리한 후, 180℃에서 30초간 열처리하여, PMMA 이형층을 형성하였다. 이때 PMMA 이형층은 제 1 NOA63층의 상면에 형성된 마이크로렌즈 어레이 구조를 따라 그 형상이 제어됨을 확인하였다.Subsequently, 300 µl of polymethyl methacrylate (PMMA, Microchem) was applied onto the first NOA63 layer using a micropipette, spin-coated for 60 seconds at 3000 rpm, and then heat-treated at 180 ° C. for 30 seconds, PMMA A release layer was formed. At this time, it was confirmed that the shape of the PMMA release layer was controlled along the microlens array structure formed on the top surface of the first NOA63 layer.

이후 직경 35±5 nm, 길이 20±5㎛, 종횡비 500 이상의 은 나노와이어(나노 픽시스사)를 정제수(DI water)에 0.3 wt% 분산한, 은 나노와이어 분산액을 PMMA 이형층 상에 마이크로 피펫을 이용해 500 ㎕ 도포한 후, 600 rpm 조건에서 60초간 스핀 코팅하고, 100℃에서 1분간 열처리하여, 은 나노와이어층을 형성하였다. 이때 은 나노와이어층 역시 PMMA 이형층의 형상, 즉, 제 1 NOA63층의 상면에 형성된 마이크로렌즈 어레이 구조를 따라 그 형상이 제어됨을 확인하였다.Subsequently, a silver pipe with a diameter of 35 ± 5 nm, a length of 20 ± 5 μm, an aspect ratio of 500 or more, and 0.3 wt% of silver nanowires (Nano Pixis) dispersed in purified water (DI water), and a micropipette with a silver nanowire dispersion on the PMMA release layer After 500 µl of the coating was used, spin coating was performed for 60 seconds at 600 rpm, and heat treatment was performed at 100 ° C. for 1 minute to form a silver nanowire layer. At this time, it was confirmed that the shape of the silver nanowire layer was also controlled according to the shape of the PMMA release layer, that is, the microlens array structure formed on the top surface of the first NOA63 layer.

이후 은 나노와이어층 상에, NOA63 1 g을 도포하고, 500 rpm으로 1분간 스핀 코팅하여, 하면에 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)가 형성되어 있고, 은 나노와이어의 함침이 이루어진, 제 2 NOA63층을 형성하였다.Subsequently, on the silver nanowire layer, 1 g of NOA63 was applied, spin-coated at 500 rpm for 1 minute, and a microlens array structure (concave) was formed on the bottom surface, and the second NOA63 layer impregnated with the silver nanowire was formed. Formed.

이후 제 2 NOA63층을 PMMA 이형층으로부터 분리하여, 은 나노와이어가 함침되어 있으며, 하면에만 0.5 μm 직경의 마이크로렌즈 어레이 구조(오목)가 형성되어 있는, NOA63 필름을 제조하였다. 이를 투명전극으로 사용하였다.Subsequently, the second NOA63 layer was separated from the PMMA release layer, and a silver nanowire was impregnated and a microlens array structure (concave) having a diameter of 0.5 μm was formed only on the bottom surface to prepare a NOA63 film. This was used as a transparent electrode.

위 과정을 PDMS 몰드만 달리하여 반복하여, 하면에만 마이크로렌즈 어레이 구조(오목, 마이크로렌즈의 직경 각각 3, 5, 7, 10, 15, 20 μm)가 형성되어 있는, 투명전극 6개를 추가로 제조하였다.The above process is repeated with different PDMS molds, and additional 6 transparent electrodes are formed on the bottom surface only with microlens array structures (3, 5, 7, 10, 15, and 20 μm in diameter, respectively). It was prepared.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 2에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 2.

[비교예 4][Comparative Example 4]

비교예 2에서, PDMS 몰드를 달리하여, 상면에만 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록)가 형성되어 있는, 투명전극을 제조한 것을 제외하고는, 비교예 2와 동일하게 수행하였다.In Comparative Example 2, the PDMS mold was different, except that a transparent electrode having a microlens array structure (convex) formed only on the top surface was prepared, and was performed in the same manner as in Comparative Example 2.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 2에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 2.

[비교예 5][Comparative Example 5]

비교예 3에서, PDMS 몰드를 달리하여, 하면에만 마이크로렌즈 어레이 구조(볼록)가 형성되어 있는, 투명전극을 제조한 것을 제외하고는, 비교예 3과 동일하게 수행하였다.In Comparative Example 3, the PDMS mold was changed, and the same procedure was performed as in Comparative Example 3, except that a transparent electrode in which a microlens array structure (convex) was formed only on the lower surface was manufactured.

제조된 투명전극의 광학적 특성을, 상기 평가 방법에 따라 평가하여, 표 2에 기재하였다.The optical properties of the prepared transparent electrode were evaluated according to the evaluation method, and are listed in Table 2.

직경diameter 총투과도Total transmittance 직진투과도Straight Transmittance 분산투과도Dispersion permeability 반사도Reflectivity 투과효율Transmission efficiency 상면Top 하면if 실시예1
(오/오)
Example 1
(Oh oh)
1010 0.50.5 81.8981.89 3.453.45 78.4578.45 9.299.29 95.80%95.80%
1010 33 80.9680.96 3.313.31 77.6577.65 9.439.43 95.91%95.91% 1010 55 77.2777.27 2.132.13 75.1475.14 10.4810.48 97.24%97.24% 1010 77 77.6777.67 1.921.92 75.7575.75 11.3711.37 97.53%97.53% 실시예2
(볼/볼)
Example 2
(Ball / Ball)
1010 0.50.5 88.5688.56 4.874.87 83.7083.70 8.058.05 94.51%94.51%
1010 33 87.5987.59 4.254.25 83.3483.34 9.069.06 95.15%95.15% 1010 55 72.3172.31 1.411.41 70.9070.90 16.6616.66 98.05%98.05% 1010 77 61.7761.77 1.291.29 60.4860.48 20.1420.14 97.91%97.91% 실시예3
(볼/오)
Example 3
(Ball / Oh)
1010 0.50.5 84.9284.92 4.584.58 80.3580.35 8.308.30 94.62%94.62%
1010 33 82.7082.70 2.082.08 80.6180.61 10.8710.87 97.47%97.47% 1010 55 75.6275.62 4.384.38 71.2471.24 8.698.69 94.21%94.21% 1010 77 80.2680.26 1.771.77 78.5078.50 12.3912.39 97.81%97.81% 실시예4
(오/볼)
Example 4
(Oh / Ball)
1010 0.50.5 85.7785.77 3.283.28 82.4882.48 9.419.41 96.16%96.16%
1010 33 88.4688.46 3.133.13 85.3385.33 9.489.48 96.46%96.46% 1010 55 78.4778.47 1.401.40 77.0777.07 15.2815.28 98.22%98.22% 1010 77 64.8164.81 1.151.15 63.6663.66 21.8021.80 98.23%98.23%

직경diameter 총투과도Total transmittance 직진투과도Straight Transmittance 분산투과도Dispersion permeability 반사도Reflectivity 투과효율Transmission efficiency 상면Top 하면if 비교예1Comparative Example 1 -- -- 78.7978.79 76.1276.12 2.672.67 3.703.70 3.393.39 비교예2
(오/-)
Comparative Example 2
(Five/-)
0.50.5 -- 77.2377.23 72.9572.95 4.294.29 4.294.29 5.555.55
33 -- 77.8677.86 25.3425.34 52.5252.52 8.758.75 67.4567.45 55 -- 79.2379.23 7.997.99 71.2371.23 8.738.73 89.9089.90 77 -- 78.5178.51 3.643.64 74.8774.87 8.878.87 95.3695.36 1010 -- 77.4877.48 3.543.54 73.9473.94 9.249.24 95.4395.43 1515 -- 77.8777.87 3.893.89 73.9873.98 8.798.79 95.0095.00 2020 -- 78.2078.20 5.805.80 72.4172.41 8.518.51 92.6092.60 비교예3
(-/오)
Comparative Example 3
(-/Five)
-- 0.50.5 80.3880.38 76.8576.85 3.533.53 3.213.21 4.394.39
-- 33 78.6278.62 64.2264.22 14.4114.41 4.564.56 18.3318.33 -- 55 75.1675.16 12.1212.12 63.0463.04 5.035.03 83.8783.87 -- 77 75.2675.26 5.805.80 69.4769.47 5.995.99 92.3192.31 -- 1010 64.6364.63 4.194.19 60.4360.43 11.4411.44 93.5093.50 -- 1515 58.2458.24 3.803.80 54.4354.43 18.7918.79 93.4693.46 -- 2020 56.9256.92 5.125.12 51.8051.80 17.3817.38 91.0091.00 비교예4
(볼/-)
Comparative Example 4
(ball/-)
0.50.5 -- 77.8277.82 74.2974.29 3.533.53 3.233.23 4.544.54
33 -- 77.3677.36 49.5749.57 27.7827.78 8.028.02 35.9135.91 55 -- 78.6778.67 5.505.50 73.1773.17 9.329.32 93.0193.01 77 -- 81.4981.49 6.096.09 75.4075.40 8.698.69 92.5392.53 1010 -- 80.4380.43 4.534.53 75.9075.90 8.778.77 94.3794.37 1515 -- 77.5277.52 4.824.82 72.7172.71 8.648.64 93.8093.80 2020 -- 82.0882.08 7.387.38 74.7074.70 8.488.48 91.0191.01 비교예5
(-/볼)
Comparative Example 5
(-/ball)
-- 0.50.5 78.7978.79 73.6773.67 5.125.12 3.003.00 6.506.50
-- 33 80.3380.33 60.9560.95 19.3819.38 3.743.74 24.1324.13 -- 55 69.0169.01 5.405.40 63.6263.62 4.774.77 92.1992.19 -- 77 60.9860.98 5.405.40 55.5855.58 11.8711.87 91.1491.14 -- 1010 55.3855.38 3.533.53 51.8551.85 18.0418.04 93.6393.63 -- 1515 55.0755.07 4.064.06 51.0151.01 17.8717.87 92.6392.63 -- 2020 54.3254.32 6.946.94 47.3847.38 22.8522.85 87.2287.22

상기 표 1 및 2에서 확인할 수 있듯이, 실시예의 투명전극은, 비교예의 투명전극에 비해 투과효율, 즉, 총투과도 대비 분산투과도 값이 높게 나타났다. 이는 양면의 마이크로렌즈 어레이 구조로 인한 것으로 판단된다.As can be seen from Tables 1 and 2, the transparent electrode of the embodiment exhibited a higher transmittance efficiency, that is, a dispersion transmittance value than the total transmittance, compared to the transparent electrode of the comparative example. This is believed to be due to the structure of the microlens array on both sides.

실시예의 투명전극은 높은 분산투과도 값을 가져, 이를 적용한 광전자소자는 증대된 광경로로 인해, 우수한 광흡수율 및 전류밀도를 나타낼 수 있다. 또한 높은 투과효율 값을 가져, 이를 적용한 광전자소자는 우수한 광효율을 가질 수 있다.The transparent electrode of the embodiment has a high dispersion transmittance value, and the optoelectronic device to which it is applied can exhibit excellent light absorption and current density due to an increased optical path. In addition, having a high transmission efficiency value, the optoelectronic device to which it is applied can have excellent light efficiency.

또한, 실시예의 투명전극을 유기태양전지에 적용 시, 광흡수층에 흡수되지 않고 투과된 빛 또한, 후면전극에 의해 반사되어, 투명전극의 하면 및 상면의 마이크로렌즈 어레이 구조에 의해 이중으로 재반사, 산란, 광흡수층으로 흡수될 수 있다. 이에, 유기태양전지에 적용되는 경우, 양면 모두에 마이크로렌즈 어레이 구조가 없거나, 일면에만 형성되어 있는 비교예의 투명전극에 비해, 상술한 효과가 더욱 증대될 수 있다.In addition, when the transparent electrode of the embodiment is applied to an organic solar cell, the light that is not absorbed by the light absorbing layer and transmitted is also reflected by the back electrode, and is double-reflected by the microlens array structure of the bottom and top surfaces of the transparent electrode, It can be absorbed by the scattering, light absorbing layer. Accordingly, when applied to an organic solar cell, the above-described effect may be further increased as compared to the transparent electrode of the comparative example having no microlens array structure on both surfaces or formed on only one surface.

보다 구체적으로, 비교해 보면, 실시예의 투명전극은, 대부분이 95%가 넘는 투과효율 값을 보였으며, 실시예 2 및 4에서 하면의 마이크로렌즈 직경이 5 또는 7 μm인 투명전극의 경우 약 98%로 현저히 우수한 투과효율 값을 보였다.More specifically, by comparison, most of the transparent electrodes of the Examples showed a transmission efficiency value of more than 95%, and in Examples 2 and 4, about 98% of the transparent electrodes having a microlens diameter of 5 or 7 μm on the bottom surface It showed a remarkably excellent transmission efficiency value.

또한, 하면의 마이크로렌즈의 직경이 0.5 또는 3 μm인 투명전극의 경우, 약 95%의 투과효율 값을 보이면서도, 현저히 높은 총투과도 값도 나타냈다.In addition, in the case of a transparent electrode having a diameter of 0.5 or 3 µm of the microlens on the lower surface, a transmittance efficiency value of about 95% was shown, while a significantly higher total transmittance value was also exhibited.

특히, 실시예 2 및 4에서 하면의 마이크로렌즈의 직경이 0.5 또는 3 μm인 투명전극의 경우, 약 95%의 투과효율 값과 80 후반대의 총투과도 값을 나타내, 총투과도 자체 값, 및 투과효율 모두 탁월히 우수하였다.In particular, in Examples 2 and 4, in the case of the transparent electrode having a diameter of 0.5 or 3 μm of the microlens of the lower surface, a transmission efficiency value of about 95% and a total transmittance value in the second half of 80 are exhibited, and the total transmittance value itself and the transmission efficiency All were excellent.

반면, 양면 모두 마이크로렌즈 구조가 없는 비교예 1의 경우, 투과효율이 약 3%로 매우 낮은 값을 나타내었다.On the other hand, in Comparative Example 1 without both microlens structures, the transmission efficiency was very low, about 3%.

또한, 일면에만 마이크로렌즈 구조가 형성되어 있는 비교예 2 내지 5의 경우, 투과효율이 95%를 넘는 경우가 극히 드물고, 넘는 경우에도 비교적 낮은 총투과도 값을 나타내었다.In addition, in the case of Comparative Examples 2 to 5 in which the microlens structure was formed on only one surface, the transmittance efficiency rarely exceeded 95%, and even when it exceeded, it exhibited a relatively low total transmittance value.

Claims (9)

(a)기판 상에, 전사 및 경화에 의해 상면에 요철구조를 갖는, 제 1 경화수지층을 형성하는 단계,
(b)상기 제 1 경화수지층 상에, 상기 요철구조의 형상을 갖는, 이형층을 형성하는 단계,
(c)상기 이형층 상에, 상기 요철구조의 형상을 갖는, 금속 나노와이어층을 형성하는 단계,
(d)상기 금속 나노와이어층 상에, 전사 및 경화에 의해 상면에 요철구조를 갖고, 금속 나노와이어의 함침이 이루어진, 제 2 경화수지층을 형성하는 단계, 및
(e)상기 제 2 경화수지층을 분리하여, 상면 및 하면에 요철구조를 갖고, 금속 나노와이어가 함침된, 경화필름을 수득하는 단계,를 포함하는, 투명전극의 제조방법.
(a) forming a first cured resin layer having an uneven structure on an upper surface by transfer and curing on a substrate,
(b) forming a release layer having a shape of the uneven structure on the first cured resin layer,
(c) forming a metal nanowire layer having the shape of the uneven structure on the release layer,
(d) forming a second cured resin layer on the metal nanowire layer, having a concavo-convex structure on the upper surface by transfer and curing, and impregnating the metal nanowire, and
(e) separating the second cured resin layer, having a concavo-convex structure on the upper and lower surfaces, and impregnating the metal nanowires to obtain a cured film, including, a method of manufacturing a transparent electrode.
제 1항에 있어서,
상기 (a) 또는 (d)단계는, 경화성 수지층을 형성하는 단계,
상기 경화성 수지층에, 요철구조를 갖는 실록산계 수지 몰드를 밀착시키는 단계,
상기 경화성 수지층을 경화시키는 단계, 및
상기 실록산계 수지 몰드를 제거하는 단계를 포함하는, 투명전극의 제조방법.
According to claim 1,
The (a) or (d) step, forming a curable resin layer,
Adhering a siloxane-based resin mold having an uneven structure to the curable resin layer,
Curing the curable resin layer, and
And removing the siloxane-based resin mold.
제 2항에 있어서,
상기 실록산계 수지 몰드의 요철구조는, 마이크로렌즈 어레이 구조인, 투명전극의 제조방법.
According to claim 2,
The uneven structure of the siloxane resin mold is a microlens array structure, a method of manufacturing a transparent electrode.
제 3항에 있어서,
상기 (a)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 0.1 내지 10 ㎛인, 투명전극의 제조방법.
According to claim 3,
The method of manufacturing a transparent electrode having a diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the siloxane resin mold in the step (a) is 0.1 to 10 μm.
제 3항에 있어서,
상기 (d)단계에서의 실록산계 수지 몰드의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 3 내지 30 ㎛인, 투명전극의 제조방법.
According to claim 3,
The method of manufacturing a transparent electrode having a diameter of each microlens constituting the microlens array structure of the siloxane-based resin mold in step (d) is 3 to 30 μm.
경화필름을 포함하는 투명전극으로서, 상기 경화필름은 상면 및 하면에 일체의 요철구조를 갖고 금속 나노와이어가 함침되어 있는 것인, 투명전극.A transparent electrode comprising a cured film, wherein the cured film has an uneven structure on the upper and lower surfaces, and is impregnated with metal nanowires. 제 6항에 있어서,
상기 요철구조는, 마이크로렌즈 어레이 구조인, 투명전극.
The method of claim 6,
The concavo-convex structure is a micro-lens array structure, a transparent electrode.
제 7항에 있어서,
상기 경화필름 상면의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 3 내지 30 ㎛인, 투명전극.
The method of claim 7,
The diameter of each micro-lens forming the micro-lens array structure on the top surface of the cured film is 3 to 30 μm, a transparent electrode.
제 7항에 있어서,
상기 경화필름 하면의 상기 마이크로렌즈 어레이 구조를 이루는 각각의 마이크로렌즈의 직경은, 0.1 내지 10 ㎛인, 투명전극.
The method of claim 7,
The diameter of each micro lens constituting the micro lens array structure on the lower surface of the cured film is 0.1 to 10 μm, transparent electrode.
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