KR20200056689A - Gradation Method of Magnesium member and Magnesium Product with a Gradation Layer - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 마그네슘 부재의 그라데이션 방법에 관한 것으로서, 특히 마그네슘 부재의 표면이 복잡한 형상을 가지더라도 내부식성, 내마모성, 전기절연성이 우수한 PEO산화막층을 균일하게 형성할 수 있으며, 상기 PEO산화막층과 상기 마그네슘 부재 및 그라데이션층과의 접착특성이 매우 우수한 마그네슘 부재의 그라데이션 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of gradation of a magnesium member, in particular, even if the surface of the magnesium member has a complex shape, it is possible to uniformly form a PEO oxide film layer excellent in corrosion resistance, abrasion resistance and electrical insulation, and the PEO oxide layer and the magnesium The present invention relates to a method for gradation of a magnesium member having excellent adhesion properties to a member and a gradation layer.
마그네슘 부재는 가볍운 소재이지만 내식성이 좋지않아 자동차 부품재로 사용하기에 많은 제한을 받고 있다. 국내에서 생산되고 있는 마그네슘 합금의 경우 일반적으로 판재로 생산되며 대기중에 산소와 만나 표면에 불순물인 산화물 내지 산화막이 생성되기 쉬워, 후공정 도금, 아노다이징, 화성피막 처리등을 하는 경우에, 부착성 저하나 막결함을 유발시켜 표면 품질이 좋지 않게 되는 문제점이 있다.The magnesium member is a lightweight material, but has poor corrosion resistance, and thus has many limitations for use as an auto parts material. In the case of magnesium alloys produced in Korea, it is generally produced as a plate material, and it is easy to generate oxides or oxide films as impurities on the surface when it meets oxygen in the atmosphere. However, there is a problem in that surface quality is not good by causing film defects.
따라서, 마그네슘 표면처리에서 마그네슘 부재의 불순 산화물을 제거하는것이 매우 중요하며 이러한 전처리공정은 이차적인 문제를 제거하는데 필수적인 공정이 되고 있다.Therefore, it is very important to remove the impurity oxide of the magnesium member in the surface treatment of magnesium, and this pre-treatment process has become an essential process for eliminating secondary problems.
일반적으로 마그네슘 표면의 불순 산화막을 제거할 때, 소재의 표면 균일성을 유지하기 위해 화학적인 용액을 많이 사용한다. 이때 사용되는 에칭용액은 빙초산과 질산염을 포함하기도 한다.In general, when removing the impurity oxide film on the magnesium surface, a lot of chemical solutions are used to maintain the surface uniformity of the material. The etching solution used at this time may also include glacial acetic acid and nitrate.
그러나 마그네슘 부재의 표면에 발생한 불순 산화막을 화하적인 용액으로 제거하더라도, 마그네슘 합금 등의 소재는 대기 환경 중이나 습식 표면처리 공정 중에서도 쉽게 산화가 진행하는 문제점이 있다. 특히 이렇게 대기와의 접촉에 의하여 생성되는 불순 산화막은 비교적 두께가 얇아서 프라이머층이나 그라데이션층 등과의 부착력이 매우 나쁘다는 문제점도 존재한다.However, even if the impurity oxide film generated on the surface of the magnesium member is removed with a chemical solution, the material such as magnesium alloy has a problem that oxidation easily proceeds in an atmospheric environment or in a wet surface treatment process. In particular, there is also a problem that the impurity oxide film produced by contact with the atmosphere is very thin and has poor adhesion to a primer layer or a gradient layer.
따라서, 화학적인 용액에 의한 불순 산화막의 제거만으로는 후속 공정의 안정적인 작업이 어려워지는 바, 후속 공정의 안정화를 위한 추가적인 표면 처리 공정이 요구되고 있는 상황이다.Therefore, since the stable operation of the subsequent process is difficult only by removing the impurity oxide film by the chemical solution, an additional surface treatment process for stabilizing the subsequent process is required.
본 발명은 상기 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은 마그네슘 부재의 표면이 복잡한 형상을 가지더라도 내부식성, 내마모성, 전기절연성이 우수한 PEO산화막층을 균일하게 형성할 수 있고, 상기 PEO산화막층과 상기 마그네슘 부재 및 그라데이션층과의 접착특성이 매우 우수하도록 개선된 마그네슘 부재의 그라데이션 방법을 제공하기 위함이다.The present invention has been devised to solve the above problems, and its purpose is to uniformly form a PEO oxide film layer excellent in corrosion resistance, abrasion resistance, and electrical insulation even if the surface of the magnesium member has a complicated shape, and the PEO oxide film layer And to provide an improved method of gradation of a magnesium member so that the adhesion properties between the magnesium member and the gradation layer are very excellent.
본 발명의 다른 목적은 PEO산화막층과 상기 마그네슘 부재 및 그라데이션층과의 접착특성이 매우 우수하도록 개선된 마그네슘 가공품을 제공하기 위함이다.Another object of the present invention is to provide an improved magnesium processed product so that the PEO oxide layer and the magnesium member and the gradation layer have excellent adhesion properties.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 마그네슘을 포함하는 마그네슘 부재를 마련하는 마그네슘 부재 마련 단계; 플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재의 표면에 PEO산화막층을 형성하는 PEO산화막층 형성 단계; 상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층을 형성하는 그라데이션층 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the gradient method of the magnesium member according to the present invention includes: a magnesium member preparation step of providing a magnesium member containing magnesium; Forming a PEO oxide layer on the surface of the magnesium member by plasma electrolytic oxidation; It is formed by depositing a predetermined thickness on the upper surface of the PEO oxide layer, forming a gradient layer to form a gradient layer that becomes thinner or thicker as the deposition thickness increases from one point to another point of the magnesium member. It is characterized by.
여기서, 상기 그라데이션층 형성 단계에서는, 상기 그라데이션층이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 상기 PEO산화막층의 상면에 형성되는 것이 바람직하다.Here, in the step of forming the gradient layer, it is preferable that the gradient layer is formed on the top surface of the PEO oxide layer by DC sputtering.
여기서, 상기 그라데이션층 형성 단계에서는, 증착 물질의 표면에 이동 가능하게 배치되어 있는 차폐물이 상기 증착 물질의 일부분을 가린 상태에서 증착이 이루어짐으로써, 증착부와 미증착부를 구비하는 그라데이션층이 형성되는 것이 바람직하다.Here, in the step of forming the gradation layer, the deposition is performed in a state in which a shield that is movably disposed on the surface of the deposition material covers a part of the deposition material, so that a gradation layer having a deposition portion and an undeposition portion is formed. desirable.
여기서, 상기 마그네슘 부재 마련 단계는, 상기 마그네슘 부재의 표면에 형성된 불순 산화막을 제거하는 불순 산화막 제거 단계; 상기 불순 산화막 제거 단계를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 마그네슘 부재의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 제1 세정 단계;를 포함하는 것이 바람직하다.Here, the preparing the magnesium member may include: removing an impurity oxide film formed on the surface of the magnesium member; After performing the impurity oxide film removal step, it is preferable to include; a first cleaning step of removing impurities remaining on the surface of the magnesium member using a cleaning solution.
여기서, 상기 PEO산화막 형성 단계를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 PEO산화막층의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 제2 세정 단계; 상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지는 프라이머층을 형성하는 프라이머층 형성 단계; 상기 프라이머층 형성 단계를 수행한 후, 잔류하는 수분을 제거하여 상기 프라이머층의 표면을 건조시키는 건조 단계;를 더 포함하는 것이 바람직하다.Here, after performing the PEO oxide film forming step, a second cleaning step of removing impurities remaining on the surface of the PEO oxide layer using a cleaning solution; A primer layer forming step of forming a primer layer having a predetermined thickness on the top surface of the PEO oxide layer; After performing the primer layer forming step, it is preferable to further include a drying step of removing the residual moisture to dry the surface of the primer layer.
여기서, 상기 그라데이션층 형성 단계를 수행한 후, 상기 그라데이션층의 보호를 위한 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계;를 더 포함하는 것이 바람직하다.Here, after performing the step of forming the gradient layer, it is preferable to further include; a protective layer forming step of forming a protective layer for protecting the gradient layer.
상기 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 마그네슘 가공품은, 마그네슘 부재; 플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재의 표면에 형성된 PEO산화막층; 상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.Magnesium processed product according to the present invention to achieve the other object, the magnesium member; A PEO oxide layer formed on the surface of the magnesium member by a plasma electrolytic oxidation technique; It is characterized in that it comprises; it is formed to be deposited to have a predetermined thickness on the upper surface of the PEO oxide layer, and the gradient layer becomes thinner or thicker as the deposition thickness increases from one point to another point of the magnesium member.
여기서, 상기 PEO산화막층은 두께가 5 내지 15㎛인 다공성층으로 형성되며, 상기 그라데이션층이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 상기 PEO산화막층의 상면에 형성되어 있으며, 상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 형성된 프라이머층; 상기 그라데이션층의 상면에 형성된 보호층;을 더 포함하는 것이 바람직하다.Here, the PEO oxide layer is formed of a porous layer having a thickness of 5 to 15㎛, the gradient layer is formed on the top surface of the PEO oxide layer by DC sputtering method, the predetermined thickness on the top surface of the PEO oxide layer A primer layer formed to have a; It is preferable to further include; a protective layer formed on the top surface of the gradient layer.
본 발명에 따르면, 마그네슘을 포함하는 마그네슘 부재를 마련하는 마그네슘 부재 마련 단계; 플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재의 표면에 PEO산화막층을 형성하는 PEO산화막층 형성 단계; 상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층을 형성하는 그라데이션층 형성 단계;를 포함하므로, 상기 마그네슘 부재의 표면이 복잡한 형상을 가지더라도 내부식성, 내마모성, 전기절연성이 우수한 상기 PEO산화막층을 균일하게 형성할 수 있으며, 상기 PEO산화막층과 상기 마그네슘 부재 및 그라데이션층과의 접착특성이 매우 우수하다는 효과가 있다.According to the present invention, a magnesium member preparing step of providing a magnesium member including magnesium; Forming a PEO oxide layer on the surface of the magnesium member by plasma electrolytic oxidation; It is formed by depositing a predetermined thickness on the upper surface of the PEO oxide layer, forming a gradient layer to form a gradient layer that becomes thinner or thicker as the deposition thickness increases from one point to another point of the magnesium member. Therefore, even if the surface of the magnesium member has a complicated shape, the PEO oxide film layer excellent in corrosion resistance, abrasion resistance, and electrical insulation can be uniformly formed, and adhesion properties between the PEO oxide film layer and the magnesium member and the gradient layer It has the effect of being very good.
도 1은 본 발명의 일 실시예인 마그네슘 부재의 그라데이션 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예인 마그네슘 가공품을 나타내는 단면도이다.
도 3은 증착 물질(T)에 차폐물(C)을 부착하는 상태를 나타내는 도면이다.
도 4는 도 3에 도시된 증착 물질(T)에 대하여 차폐물(C)이 상하로 위치 이동할 수 있는 상태를 나타내는 도면이다.
도 5는 차폐물(C)이 증착 물질(T)의 중간부에 위치하는 경우에 피도물(M)의 중간부에 미증착부(ND)가 형성되고 피도물(M)의 상단부 및 하단부에 증착부(D)가 형성된 상태를 나타내는 도면이다.
도 6은 차폐물(C)이 증착 물질(T)의 상단부에 위치하는 경우에 피도물(M)의 상단부에 미증착부(ND)가 형성된 상태를 나타내는 도면이다.
도 7은 차폐물(C)이 증착 물질(T)의 하단부에 위치하는 경우에 피도물(M)의 하단부에 미증착부(ND)가 형성된 상태를 나타내는 도면이다.1 is a flow chart for explaining the gradient method of the magnesium member, which is an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a magnesium processed product according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing a state in which the shield (C) is attached to the deposition material (T).
4 is a view showing a state in which the shield (C) can be moved up and down with respect to the deposition material (T) shown in FIG. 3.
5 shows that when the shield (C) is located in the middle of the deposition material (T), an undeposited portion (ND) is formed in the middle portion of the object (M) and a deposition portion (in the upper and lower parts of the object (M)) It is a figure which shows the state in which D) was formed.
FIG. 6 is a view showing a state in which an undeposited portion ND is formed on an upper portion of an object M when the shield C is located at an upper portion of the deposition material T.
FIG. 7 is a view showing a state in which an undeposited portion ND is formed at a lower end of an object M when the shield C is located at a lower end of the deposition material T.
이하에서, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예인 마그네슘 부재의 그라데이션 방법을 설명하기 위한 흐름도이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예인 마그네슘 가공품을 나타내는 단면도이다. 도 3은 증착 물질(T)에 차폐물(C)을 부착하는 상태를 나타내는 도면이다.1 is a flow chart for explaining a gradient method of a magnesium member, which is an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a magnesium processed product which is an embodiment of the present invention. 3 is a view showing a state in which the shield (C) is attached to the deposition material (T).
도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 자동차 부품인 엔진룸 커버등의 부재로 사용될 수 있는 마그네슘 부재의 표면 처리 방법으로서, 마그네슘 부재 마련 단계와, PEO산화막층 형성 단계(S30)와, 제2 세정 단계(S40)와, 프라이머층 형성 단계(S50)와, 건조 단계(S60)와, 그라데이션층 형성 단계(S70)와, 보호층 형성 단계(S80)을 포함하여 구성된다.1 to 2, the method of gradation of a magnesium member according to a preferred embodiment of the present invention is a method for treating a surface of a magnesium member that can be used as a member such as an engine compartment cover as an automobile part, and a step of providing a magnesium member. , PEO oxide layer forming step (S30), second cleaning step (S40), primer layer forming step (S50), drying step (S60), gradient layer forming step (S70), protective layer forming step ( S80).
상기 마그네슘 부재 마련 단계는, 마그네슘을 포함하는 마그네슘 부재(10)를 마련하는 단계로서, 본 실시예에서는 상기 마그네슘 부재 마련 단계는 불순 산화막 제거 단계(S10)와 제1 세정 단계(S20)를 포함한다. 이하에서는 상기 마그네슘 부재(10)가 고주파 가열 프레스기법으로 형성된 마그네슘 판재이며 두께는 대략 0.5 내지 3mm인 것을 전제로 설명하기로 한다.The preparing of the magnesium member is a step of preparing a
상기 불순 산화막 제거 단계(S10)는, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 형성된 불순 산화막을 제거하는 단계로서, 본 실시예에서는 에칭용액을 사용하여 불순 산화막을 제거하게 된다. 이에 사용되는 산성 에칭용액은 물 1000ml/L에 대하여 100~1000ml/L의 빙초산과 30~60ml/L의 질산나트륨을 포함하고 있다.The impurity oxide film removal step (S10) is a step of removing the impurity oxide film formed on the surface of the
상기 에칭용액을 사용하여 대기온도에서 30~300초 동안 표면 처리하면 상기 마그네슘 부재(10)의 표면 에칭 두께를 0.05~4um내외로 균일하게 화학적인 에칭을 할 수 있다.When the surface treatment is performed for 30 to 300 seconds at an atmospheric temperature using the etching solution, the chemical etching of the surface of the
한편, 상기 산성 에칭용액 대신에 알칼리 에칭용액이 사용될 수도 있는데, 상기 알칼리 에칭용액은 트리에탄올아민 20~80중량%, 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA) 5내지 40중량% 및 수산화나트륨 20내지 40중량%을 포함할 수 있다.On the other hand, an alkali etching solution may be used instead of the acidic etching solution, wherein the alkali etching solution comprises 20 to 80% by weight of triethanolamine, 5 to 40% by weight of ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) and 20 to 40% by weight of sodium hydroxide. It can contain.
상기 알칼리 에칭용액을 사용할 경우에는, 9 내지 10.5의 pH 범위, 대기 온도에서 2~8분 동안 침적 처리하는 것이 바람직하다.When using the alkali etching solution, it is preferable to deposit for 2 to 8 minutes at a pH range of 9 to 10.5 and atmospheric temperature.
상기 산성 에칭용액을 사용할 경우, 표면에너지를 균일하게 하는 특징이 있으며, 화학 반응 시 마그네슘 부재(10)를 안정화시키는 역할도 한다. 이러한 산성 에칭용액을 사용함으로써, 후술할 PEO산화막층(20) 형성시에 균일한 화학 반응을 일으킬 수 있어, 상대적으로 치밀한 PEO산화막층(20)을 얻을 수 있다. (불순 산화막 제거 단계; S10)When using the acidic etching solution, it has a feature of uniformizing the surface energy, and also serves to stabilize the
상기 제1 세정 단계(S20)는, 상기 불순 산화막 제거 단계(S10)를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 단계이다.The first cleaning step (S20) is a step of removing impurities remaining on the surface of the
상기 제1 세정 단계(S20)는, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 잔존하는 에칭용액을 제거하기 위한 것이 주목적이다. 본 실시예에서는 상기 불순물을 제거하기 위하여 증류수를 사용하며, 상기 증류수의 전도도는 0.065~0.045㎲/㎝, 저항17~19㏁/㎝D의 특성을 가진다. (제1 세정 단계; S20)The first cleaning step (S20), the main purpose is to remove the etching solution remaining on the surface of the
상기 PEO산화막층 형성 단계(S30)는, 상기 제1 세정 단계(S20)를 수행한 후 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 PEO산화막층(20)을 형성하는 단계이다. 본 실시예에서 상기 PEO산화막층(20)을 형성하기 위하여 플라즈마 전해산화 공법(PEO; Plasma Electrolytic Oxidation)이 사용되고 있다.The PEO oxide layer forming step (S30) is a step of forming the
상기 플라즈마 전해산화 공법(이하 "PEO공법"이라 함)은, 일반적으로 수용성 전해액에서 300~600V의 고전압 펄스를 인가하여 PEO산화막층을 형성하게 되는데, 고전압으로 인하여 금속표면에서 발생하는 마이크로아크 플라즈마에 의해 용융된 금속이 산화되면서 표면코팅이 되는 것이 보통이다.The plasma electrolytic oxidation method (hereinafter referred to as “PEO method”) generally forms a PEO oxide layer by applying a high voltage pulse of 300 to 600 V in a water-soluble electrolyte solution, and is applied to a micro arc plasma generated on a metal surface due to high voltage. It is normal for the molten metal to be oxidized to become a surface coating.
본 실시예에서는, 상기 전해액은, 순수물 1000g에 대하여, 수산화칼륨(KOH) 0.4~2g, 인산나트륨(Na3PO4) 1~15g, 수산화나트륨(NaOH) 200~300g, 알루미늄 파우더 1~3g을 포함하고 있다.In this embodiment, the electrolyte is, for 1000 g of pure water, potassium hydroxide (KOH) 0.4 to 2 g, sodium phosphate (Na 3 PO 4 ) 1 to 15 g, sodium hydroxide (NaOH) 200 to 300 g, aluminum powder 1 to 3 g It contains.
한편 본 실시예에서는, 300~600V의 고전압 대신에, 50~70V의 저전압을 사용하고 있으며, 전류는 대략 30~40A이고, 전류를 가하는 시간은 3~5분이다.On the other hand, in this embodiment, instead of a high voltage of 300 to 600 V, a low voltage of 50 to 70 V is used, the current is approximately 30 to 40 A, and the time for applying the current is 3 to 5 minutes.
본 실시예에서는, 상기 PEO산화막층(20)은 두께가 5 내지 15㎛인 다공성층으로 형성된다.In this embodiment, the
상기 PEO공법을 사용하면, 복잡한 형상을 가진 표면에도 균일한 PEO산화막층(20)을 형성할 수 있으며, 형성된 PEO산화막층(20)과 모재인 마그네슘 부재(10)와의 우수한 접착특성을 유지할 수 있으며, 상기 PEO산화막층(20)의 내부식성, 내마모성, 전기절연성 등이 우수하며, 후가공에 의한 도장 또는 페인트의 부착성이 향상될 수 있다. (PEO산화막층 형성 단계; S30)When the PEO method is used, a uniform PEO
상기 제2 세정 단계(S40)는, 상기 PEO산화막 형성 단계(S30)를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 PEO산화막층(20)의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 단계이다.The second cleaning step (S40) is a step of removing the impurities remaining on the surface of the
상기 제2 세정 단계(S40)는, 상기 PEO산화막층(20)의 표면에 잔존하는 전해액을 제거하기 위한 것이 주목적이다. 본 실시예에서는 상기 불순물을 제거하기 위하여 증류수를 사용하며, 상기 증류수의 전도도는 0.065~0.045㎲/㎝, 저항17~19㏁/㎝D의 특성을 가진다. (제2 세정 단계; S40)The second cleaning step (S40), the main purpose is to remove the electrolyte solution remaining on the surface of the
상기 프라이머층 형성 단계(S50)는, 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 미리 정한 두께를 가지는 프라이머층(30)을 형성하는 단계이다.The primer layer forming step (S50) is a step of forming a
상기 프라이머층(30)은, 알키드수지, 프탈산 수지, 아크릴수지, 에폭시수지, 폴리 우레탄 수지, 염화비닐수지, 실리콘 수지, 불소 수지, 멜라민 수지, 이소시아네이트 수지, 쿠로만 수지, 석유수지, 로진, 코빠루수지, 세락 수지, 오일알키드, 염화고무 래커수지, 실리케이트 수지, 불포화폴리에스테르 수지, 아미노 알키드, 폴리에스테르, 요소, 불소, 초산비닐, 염화비닐, 아크릴합성고무, 에폭시로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 본 실시예에서는 상기 프라이머층(30)이 폴리 우레탄 수지를 포함하고 있으며, 두께는 8~25㎛이다. (프라이머층 형성 단계; S50)The
상기 건조 단계(S60)는, 상기 프라이머층 형성 단계(S50)를 수행한 후, 잔류하는 수분을 제거하여 상기 프라이머층(30)의 표면을 건조시키는 단계이다. 본 실시예에서는 5~15분간 자연 건조 시킨 후, 85~90℃ 온도의 열풍을 사용하여 60분정도 건조시킨다. (건조 단계; S60)The drying step (S60) is a step of drying the surface of the
상기 그라데이션층 형성 단계(S70)는, 상기 프라이머층(30)의 상면에 미리 정한 두께를 가지는 그라데이션층(gradation layer)(40)을 형성하는 단계이다.The gradation layer forming step (S70) is a step of forming a
상기 그라데이션층(40)은, 도 5 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 피도물(M)인 상기 마그네슘 부재(10)의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 층이다.The
본 실시예에서는 상기 그라데이션층(40)이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 형성된다. 상기 DC 스퍼터링 공법은, 스퍼터링(Sputtering) 공법의 일종으로서, 집적회로 생산라인 공정에서 많이 쓰이는 진공 증착법이다.In this embodiment, the
일반적으로 스퍼터링(Sputtering) 공법은, 비교적 낮은 진공도에서 플라즈마를 이온화된 아르곤 등의 가스를 가속하여 증착 물질(T)인 타겟에 충돌시키고, 원자를 분출시켜 웨이퍼나 유리 같은 피도물(M)인 기판상에 막을 만드는 방법을 뜻한다. 여기서 스퍼터링 장비에서의 타겟쪽을 음극(Cathode)로 하고 기판쪽을 양극(Anode)로 한다.In general, sputtering (sputtering) method, the plasma at a relatively low vacuum to accelerate the gas, such as ionized argon, to collide with a target that is a deposition material (T), and eject atoms to form a substrate (M), such as a wafer or glass. It means how to make a membrane. Here, the target side in the sputtering equipment is set as a cathode, and the substrate side is set as an anode.
상기 스퍼터링(Sputtering)의 과정은 챔버내에 공급되는 가스에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작되는데, 그 과정을 보면 진공챔버 내에 아르곤가스와 같은 불활성기체를 넣고, 음극에 전압을 가하면 음극에서부터 방출된 전자들이 아르곤 기체원자와 충돌하여, 아르곤을 이온화시킨다. 이렇게 아르곤이 들뜬상태가 되면서 전자를 방출하면 에너지가 방출되며, 이때 글로우방전이 발생하여 이온과 전자가 공존하는 보라색의 플라즈마를 보이게 된다. 플라즈마내의 아르곤의 +이온은 큰 전위차에 의해 음극인 타겟쪽으로 가속되어 타겟의 표면과 충돌하면, 중성의 타겟원자들이 튀어나와 기판에 박막을 형성한다.The process of sputtering starts from a collision between electrons generated from gas supplied into the chamber. Looking at the process, an inert gas such as argon gas is put into a vacuum chamber, and electrons emitted from the cathode are applied when a voltage is applied to the cathode. They collide with argon gas atoms, ionizing argon. In this way, when the argon is excited and emits electrons, energy is released, and at this time, a glow discharge occurs to show a purple plasma in which ions and electrons coexist. The + ions of argon in the plasma are accelerated toward the target, which is the cathode by a large potential difference, and when colliding with the surface of the target, neutral target atoms pop out to form a thin film on the substrate.
스퍼터링(Sputtering) 공법은, 생성된 박막 두께의 균일성이 우수하고, 큰 면적의 타겟을 이용할 수 있으며, 박막의 밀착력이 우수하다는 장점을 가진다. 이러한 스퍼터링(Sputtering) 공법의 종류로는, DC 스퍼터링(DC Sputtering) 공법과 RF 스퍼터링(RF Sputtering) 공법이 있다.Sputtering (Sputtering) method has the advantage of excellent uniformity of the resulting thin film thickness, can use a target of a large area, excellent adhesion of the thin film. Examples of the sputtering method include a DC sputtering method and an RF sputtering method.
본 실시예에서 사용되는 DC 스퍼터링(DC Sputtering) 공법은, 직류전원을 이용한 스퍼터링(Sputtering) 공법으로서, 구조가 간단하며,성막 속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하며, 전류량과 박막 두께가 거의 정비례하므로 두께 조절이 쉽고, RF 스퍼터링(RF Sputtering) 공법에 비해 성막속도가 크며, 박막의 균일도가 크고, 높은 에너지의 공정이므로 밀착강도가 높다는 장점이 있다.The DC sputtering method used in this embodiment is a sputtering method using a DC power source, the structure is simple, the film formation rate is almost constant for various types of metals, and the current amount and the thickness of the thin film are almost Since it is directly proportional, it is easy to control the thickness, and has a great advantage in that the film formation speed is large, the uniformity of the thin film is high, and the adhesion strength is high because it is a high energy process.
다만 상기 DC 스퍼터링(DC Sputtering) 공법은 타겟이 산화물이나 절연체일 경우 스퍼터링이 되지 않는 단점이 있으며, 이러한 단점을 보완하기 위하여 13.56MHz의 고주파 전원을 사용하는 상기 RF 스퍼터링(RF Sputtering) 공법이 사용되기도 한다. 그러나 상기 RF 스퍼터링(RF Sputtering) 공법은, 성막 속도가 비교적 낮고 성막 면적이 비교적 작다는 단점이 있다.However, the DC sputtering (DC Sputtering) method has a disadvantage in that the target is an oxide or an insulator, and the RF sputtering method using a high frequency power of 13.56 MHz is used to compensate for this disadvantage. do. However, the RF sputtering (RF Sputtering) method has a disadvantage that the deposition rate is relatively low and the deposition area is relatively small.
본 실시예에서는 상기 DC 스퍼터링 공법을 시행하기 전에, 먼저 상기 프라이머층(30)을 플라즈마(Plasma) 전처리 공법에 의하여 표면을 개질한다. 이때, 전원은 2.5~5kw, 진공도는 8×10-5 torr, 가스량은 400sccm, 클리닝 시간은 대략 160초 정도이다.In this embodiment, before the DC sputtering method is performed, the surface of the
이어서, 진공도 5~7×10-5 torr의 조건에서, 10~17kw의 전력을 40~120초 정도 인가하여 증착 물질(T)을 기화시키고, 기화된 증착 물질(T)이 상기 프라이머층(30)의 상면에 증착되도록 한다.Subsequently, under the condition of a vacuum degree of 5 to 7 × 10 -5 torr, a power of 10 to 17 kw is applied for about 40 to 120 seconds to vaporize the deposition material T, and the vaporized deposition material T is the primer layer 30 ).
이때 증착 물질(T)로 사용될 수 있는 금속(target)은, 알루미늄(Al). 써스(SUS). 주석(Sn). 동(Cu). 티타늄(Ti). 은(Ag). 크롬(Cr). 니켈(Ni). 몰리브덴(Mo)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함한다.At this time, the metal (target) that can be used as the deposition material (T) is aluminum (Al). SUS. Tin (Sn). Copper (Cu). Titanium (Ti). Silver (Ag). Chromium (Cr). Nickel (Ni). And at least one selected from the group consisting of molybdenum (Mo).
본 실시예에서는, 상기 그라데이션층 형성 단계(S70)에서, 증착 물질(T)의 표면에 이동 가능하게 배치되어 있는 차폐물(C)이 상기 증착 물질(T)의 일부분을 가린 상태에서 증착이 이루어짐으로써, 도 5 내지 도 7에 도시된 바와 같이 상기 그라데이션층(40)이 증착부(D)와 미증착부(ND)를 구비하게 된다. 여기서 상기 미증착부(ND)는 증착이 전혀 없는 곳만을 의미하는 것은 아니며, 비교적 증착이 덜 이루어진 부분을 의미할 수도 있다.In this embodiment, in the step of forming the gradient layer (S70), deposition is performed in a state in which a shield (C) that is movably disposed on the surface of the deposition material (T) covers a part of the deposition material (T). , As illustrated in FIGS. 5 to 7, the
예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이 차폐물(C)이 증착 물질(T)의 중간부에 위치하고, 피도물(M)인 상기 마그네슘 부재(10)도 상기 증착 물질(T)의 중간부에 배치하는 경우에는, 피도물(M)인 상기 마그네슘 부재(10)의 중간부에 미증착부(ND)가 형성되고 피도물(M)의 상단부 및 하단부에 증착부(D)가 형성된다.For example, as shown in FIG. 5, when the shield C is located in the middle of the deposition material T, and the
만약, 도 6에 도시된 바와 같이 차폐물(C)이 증착 물질(T)의 상단부에 위치하고, 피도물(M)인 상기 마그네슘 부재(10)도 상기 증착 물질(T)의 상단부에 배치하는 경우에는, 피도물(M)인 마그네슘 부재(10)의 상단부에 미증착부(ND)가 형성된다.If, as shown in Figure 6, the shield (C) is located on the upper end of the evaporation material (T), and the magnesium member (10), which is the object (M), is also disposed on the upper end of the evaporation material (T), An undeposited portion ND is formed at an upper end portion of the
반대로, 도 7에 도시된 바와 같이 차폐물(C)이 증착 물질(T)의 하단부에 위치하고, 피도물(M)인 상기 마그네슘 부재(10)도 상기 증착 물질(T)의 하단부에 배치하는 경우에 피도물(M)의 하단부에 미증착부(ND)가 형성된다. (그라데이션층 형성 단계; S70)Conversely, as illustrated in FIG. 7, when the shield C is located at the lower end of the deposition material T, and the
상기 보호층 형성 단계(S80)는, 상기 그라데이션층 형성 단계(S70)를 수행한 후, 상기 그라데이션층(40)의 보호를 위한 보호층(50)을 형성하는 단계이다.The protective layer forming step (S80) is a step of forming the
상기 보호층(50)은, 알키드수지, 프탈산 수지, 아크릴수지, 에폭시수지, 폴리 우레탄 수지, 염화비닐수지, 실리콘 수지, 불소 수지, 멜라민 수지, 이소시아네이트 수지, 쿠로만 수지, 석유수지, 로진, 코빠루수지, 세락 수지, 오일알키드, 염화고무 래커수지, 실리케이트 수지. 불포화폴리에스테르 수지, 아미노 알키드, 폴리에스테르, 요소, 불소, 초산비닐, 염화비닐, 아크릴합성고무, 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 상기 그라데이션층(40)의 상면 도포함으로써 형성된다.The
상기 보호층(50)은, 유광, 반광, 무광 등의 상태로 형성되거나, 투명 또는 반투명 상태로 형성될 수도 있으며, 미리 정한 색상의 컬러 도료 내지 스테인 도료를 포함하도록 형성될 수 있다. The
여기서 상기 컬러 도료 내지 스테인 도료는, 착색안료(아연황, 티탄백, 황연, 카본블랙), 금속분안료(은분, 금분, 알루미늄, 합금무기물), 체질안료(탄산칼슘, 탈크, 유산바륨, 실리카), 시온안료로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나가 사용될 수 있다.Here, the color paint to the stain paint, coloring pigments (zinc, titanium, yellow, carbon black), metal powder (silver powder, gold powder, aluminum, alloy minerals), sieving pigment (calcium carbonate, talc, barium sulfate, silica) , Zion pigment may be used at least one selected from the group consisting of.
이렇게 상기 그라데이션층(40) 위에 보호층(50)이 형성됨으로써 마그네슘 가공품(100)이 완성된다. (보호층 형성 단계; S80)Thus, the
상술한 마그네슘 부재의 그라데이션 방법을 사용하면, 도 2에 도시된 바와 같이, 마그네슘 부재(10), 플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 형성된 PEO산화막층(20), 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 형성된 프라이머층(30), 상기 프라이머층(30)의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 형성된 그라데이션층(40), 상기 그라데이션층(40)의 상면에 형성된 보호층(50)을 가지는 마그네슘 가공품(100)을 제조할 수 있게 된다.When using the above-described gradient method of the magnesium member, as shown in FIG. 2, the
상술한 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 마그네슘을 포함하는 마그네슘 부재(10)를 마련하는 마그네슘 부재 마련 단계; 플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 PEO산화막층(20)을 형성하는 PEO산화막층 형성 단계(S30); 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재(10)의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층(40)을 형성하는 그라데이션층 형성 단계(S70);를 포함하므로, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면이 복잡한 형상을 가지더라도 내부식성, 내마모성, 전기절연성이 우수한 상기 PEO산화막층(20)을 균일하게 형성할 수 있으며, 상기 PEO산화막층(20)과 상기 마그네슘 부재(10) 및 그라데이션층(40)과의 접착특성이 매우 우수하다는 장점이 있다.The above-described method for gradation of a magnesium member includes a magnesium member provision step of providing a
그리고 상기 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 상기 그라데이션층 형성 단계(S70)에서, 상기 그라데이션층(40)이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 형성되므로, 직류전원을 이용한 스퍼터링(Sputtering) 공법으로서, 구조가 간단하며, 성막 속도가 여러 종류의 금속 증착 물질(T)에 대해 거의 일정하며, 전류량과 박막 두께가 거의 정비례하므로 두께 조절이 쉽고, RF 스퍼터링(RF Sputtering) 공법에 비해 성막속도가 크며, 박막의 균일도가 크고, 높은 에너지의 공정이므로 밀착강도가 높다는 장점이 있다.In addition, in the gradation method of the magnesium member, in the gradation layer formation step (S70), the
또한 상기 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 상기 그라데이션층 형성 단계(S70)에서, 증착 물질(T)의 표면에 이동 가능하게 배치되어 있는 차폐물(C)이 상기 증착 물질(T)의 일부분을 가린 상태에서 증착이 이루어짐으로써, 증착부(D)와 미증착부(ND)를 구비하는 그라데이션층(40)이 형성되므로, 도 5 내지 7에 도시된 바와 같이 증착부(D) 및 미증착부(ND)의 위치를 인위적으로 조절하기 용이하다는 장점이 있다.In addition, in the method of gradation of the magnesium member, in the step of forming the gradient layer (S70), a shield C movably disposed on the surface of the deposition material T covers a part of the deposition material T. As the deposition is performed, a
그리고 상기 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 상기 마그네슘 부재 마련 단계가, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 형성된 불순 산화막을 제거하는 불순 산화막 제거 단계(S10); 상기 불순 산화막 제거 단계(S10)를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 제1 세정 단계(S20);를 포함하므로, 상기 불순 산화막에 의하여 상기 마그네슘 부재(10)와 상기 PEO산화막층(20) 간의 부착성이 저하되지 않고, 막결함이 유발되지 않아 표면 품질이 향상되는 장점이 있다.In addition, the method of gradation of the magnesium member may include the step of providing the magnesium member, removing the impurity oxide film formed on the surface of the magnesium member 10 (S10); After performing the impurity oxide film removal step (S10), a first cleaning step (S20) of removing impurities remaining on the surface of the
또한 상기 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 상기 PEO산화막 형성 단계(S30)를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 PEO산화막층(20)의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 제2 세정 단계(S40); 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 미리 정한 두께를 가지는 프라이머층(30)을 형성하는 프라이머층 형성 단계(S50); 상기 프라이머층 형성 단계(S50)를 수행한 후, 잔류하는 수분을 제거하여 상기 프라이머층(30)의 표면을 건조시키는 건조 단계(S60);를 더 포함하므로, 상기 PEO산화막층(20)의 표면 평활성이 낮아 매끈하지 않은 경우에도, 상기 프라이머층(20)의 상면 평활성을 상승시킬 수 있어, 상기 그라데이션층(40)을 매끈하게 형성시킬 수 있으며, 상기 프라이머층(30)에 의하여 상기 그라데이션층(40)이 상기 PEO산화막층(20)에 더욱 견고히 부착될 수 있는 장점이 있다.In addition, the gradient method of the magnesium member, after performing the PEO oxide film forming step (S30), a second cleaning step (S40) of removing impurities remaining on the surface of the
그리고 상기 마그네슘 부재의 그라데이션 방법은, 상기 그라데이션층 형성 단계(S70)를 수행한 후, 상기 그라데이션층(40)의 보호를 위한 보호층(50)을 형성하는 보호층 형성 단계(S80);를 더 포함하므로, 외부 충격에 의하여 상기 그라데이션층(40)이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 상기 보호층(50)에 의한 장식 효과를 발생시킬 수 있는 장점이 있다.And the gradient method of the magnesium member, after performing the gradient layer forming step (S70), forming a
상술한 마그네슘 가공품(100)은, 마그네슘 부재(10); 플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면에 형성된 PEO산화막층(20); 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재(10)의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층(40);을 포함하므로, 상기 마그네슘 부재(10)의 표면이 복잡한 형상을 가지더라도 내부식성, 내마모성, 전기절연성이 우수한 상기 PEO산화막층(20)을 균일하게 형성할 수 있으며, 상기 PEO산화막층(20)과 상기 마그네슘 부재(10) 및 그라데이션층(40)과의 접착특성이 매우 우수하다는 장점이 있다.The above-described magnesium processed
그리고 상기 마그네슘 가공품(100)은, 상기 PEO산화막층(20)이 두께가 5 내지 15㎛인 다공성층으로 형성되며, 상기 그라데이션층(40)이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 형성되어 있으며, 상기 PEO산화막층(20)의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 형성된 프라이머층(30); 상기 그라데이션층(40)의 상면에 형성된 보호층(50);을 더 포함하므로, 상기 프라이머층(20)의 상면 평활성을 상승시킬 수 있어, 상기 그라데이션층(40)을 매끈하게 형성시킬 수 있으며, 외부 충격에 의하여 상기 그라데이션층(40)이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 상기 보호층(50)에 의한 장식 효과를 발생시킬 수 있는 장점이 있다.And the magnesium processed
이상으로 본 발명을 설명하였는데, 본 발명의 기술적 범위는 상술한 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것은 아니며, 해당 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 수정 또는 변경된 등가의 구성은 본 발명의 기술적 사상의 범위를 벗어나지 않는 것임은 명백하다.The present invention has been described above, but the technical scope of the present invention is not limited to the contents described in the above-described embodiments, and the equivalent configuration modified or changed by a person having ordinary knowledge in the relevant technical field is technical of the present invention. It is clear that it is within the scope of thought.
* 도면의 주요부위에 대한 부호의 설명 *
100 : 마그네슘 가공품
10 : 마그네슘 부재
20 : PEO산화막층
30 : 프라이머층
40 : 그라데이션층
50 : 보호층
C : 차폐물
D : 증착부
ND : 미증착부
M : 피도물
T : 증착 물질* Explanation of codes for the main parts of the drawing *
100: magnesium processed product
10: absence of magnesium
20: PEO oxide layer
30: primer layer
40: gradient layer
50: protective layer
C: Shield
D: Deposition part
ND: Non-deposition part
M: Object
T: Deposition material
Claims (8)
플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재의 표면에 PEO산화막층을 형성하는 PEO산화막층 형성 단계;
상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층을 형성하는 그라데이션층 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네슘 부재의 그라데이션 방법A magnesium member preparation step of preparing a magnesium member including magnesium;
Forming a PEO oxide layer on the surface of the magnesium member by plasma electrolytic oxidation;
Forming a gradient layer to form a gradient layer that is deposited and formed to have a predetermined thickness on the upper surface of the PEO oxide layer, and gradually increases or decreases the thickness of the deposition from one point to another point of the magnesium member; Gradient method of the absence of magnesium, characterized in that
상기 그라데이션층 형성 단계에서는,
상기 그라데이션층이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 상기 PEO산화막층의 상면에 형성되는 것을 특징으로 하는 마그네슘 부재의 그라데이션 방법According to claim 1,
In the step of forming the gradient layer,
Gradient method of the magnesium member, characterized in that the gradient layer is formed on the top surface of the PEO oxide layer by DC sputtering method
상기 그라데이션층 형성 단계에서는,
증착 물질의 표면에 이동 가능하게 배치되어 있는 차폐물이 상기 증착 물질의 일부분을 가린 상태에서 증착이 이루어짐으로써, 증착부와 미증착부를 구비하는 그라데이션층이 형성되는 것을 특징으로 하는 마그네슘 부재의 그라데이션 방법According to claim 1,
In the step of forming the gradient layer,
Gradient method of the magnesium member, characterized in that a gradation layer having a deposition portion and an undeposited portion is formed by depositing a shield which is movably disposed on the surface of the deposition material while covering a portion of the deposition material.
상기 마그네슘 부재 마련 단계는,
상기 마그네슘 부재의 표면에 형성된 불순 산화막을 제거하는 불순 산화막 제거 단계;
상기 불순 산화막 제거 단계를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 마그네슘 부재의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 제1 세정 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네슘 부재의 그라데이션 방법According to claim 1,
The magnesium member preparation step,
An impurity oxide film removing step of removing the impurity oxide film formed on the surface of the magnesium member;
After performing the step of removing the impurity oxide film, a first cleaning step of removing impurities remaining on the surface of the magnesium member using a cleaning solution; Gradient method of the magnesium member comprising a
상기 PEO산화막 형성 단계를 수행한 후, 세정액을 사용하여 상기 PEO산화막층의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 제2 세정 단계;
상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지는 프라이머층을 형성하는 프라이머층 형성 단계;
상기 프라이머층 형성 단계를 수행한 후, 잔류하는 수분을 제거하여 상기 프라이머층의 표면을 건조시키는 건조 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네슘 부재의 그라데이션 방법According to claim 1,
After performing the PEO oxide film forming step, a second cleaning step of removing impurities remaining on the surface of the PEO oxide layer using a cleaning solution;
A primer layer forming step of forming a primer layer having a predetermined thickness on the top surface of the PEO oxide layer;
After performing the primer layer forming step, the drying step of removing the residual moisture to dry the surface of the primer layer; Gradient method of the magnesium member further comprising a
상기 그라데이션층 형성 단계를 수행한 후, 상기 그라데이션층의 보호를 위한 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마그네슘 부재의 그라데이션 방법According to claim 1,
After performing the step of forming the gradient layer, forming a protective layer for forming a protective layer for the protection of the gradient layer; Gradient method of the magnesium member further comprising a
플라즈마 전해산화 기법에 의하여, 상기 마그네슘 부재의 표면에 형성된 PEO산화막층;
상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 증착되어 형성되며, 상기 마그네슘 부재의 일 지점에서 타 지점으로 갈수록 증착 두께가 점점 얇아지거나 점점 두꺼워지는 그라데이션층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 그라데이션층을 구비한 마그네슘 가공품Absence of magnesium;
A PEO oxide layer formed on the surface of the magnesium member by a plasma electrolytic oxidation technique;
It is formed by depositing a predetermined thickness on the upper surface of the PEO oxide layer, and the gradient layer becomes thinner or thicker as the deposition thickness increases from one point to another point of the magnesium member. Magnesium processed products
상기 PEO산화막층은 두께가 5 내지 15㎛인 다공성층으로 형성되며,
상기 그라데이션층이 DC 스퍼터링 공법에 의하여 상기 PEO산화막층의 상면에 형성되어 있으며,
상기 PEO산화막층의 상면에 미리 정한 두께를 가지도록 형성된 프라이머층;
상기 그라데이션층의 상면에 형성된 보호층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그라데이션층을 구비한 마그네슘 가공품
The method of claim 7,
The PEO oxide layer is formed of a porous layer having a thickness of 5 to 15㎛,
The gradient layer is formed on the top surface of the PEO oxide layer by DC sputtering,
A primer layer formed to have a predetermined thickness on the top surface of the PEO oxide layer;
Magnesium processed product having a gradient layer characterized in that it further comprises a; protective layer formed on the upper surface of the gradient layer
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180140660A KR20200056689A (en) | 2018-11-15 | 2018-11-15 | Gradation Method of Magnesium member and Magnesium Product with a Gradation Layer |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2021230484A1 (en) | 2020-05-12 | 2021-11-18 | 피에스에스 주식회사 | Gas sensing device including housing having connection passage |
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
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